CN101762995B - 电子照相感光体、处理盒和成像设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种电子照相感光体、处理盒和成像设备，该电子照相感光体至少具有导电性基体和形成在该导电性基体上的感光层，其中，该电子照相感光体的最外表面层由以下组合物的固化物构成，该组合物包含至少一种由式(I)表示的化合物和表面活性剂，所述表面活性剂在其分子中具有选自以下结构中的至少一种结构：(A)通过将具有氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构；(B)具有碳碳双键和氟原子的结构；(C)氧化亚烷基结构；和(D)具有碳碳三键和羟基的结构。在式(I)中，Q为n价的具有空穴输送性的有机基团；R是氢原子或烷基；L是二价有机基团；n大于或等于1；并且j是0或1。
Figure D2009101409842A00011

Description

电子照相感光体、处理盒和成像设备
技术领域
本发明涉及电子照相感光体、处理盒和成像设备。
背景技术
通常，电子照相方式的成像设备具有以下结构和步骤。具体地说，充电单元通过对电子照相感光体的表面进行充电而赋予该表面以所需的极性和电位；通过以成像的方式对经充电的该电子照相感光体表面进行曝光以便有选择地除电，从而在该表面上形成静电潜像；通过显影单元使调色剂附着于该潜像，从而将该潜像显影，以形成调色剂图像；通过转印单元将该调色剂图像转印到图像接受介质上，从而获得成像物。
近年来，电子照相感光体因为具有可提供高速高品质印刷的优势，所以在复印机、激光印刷机等领域得到了更多的应用。
作为用于这些成像设备的电子照相感光体，使用例如硒、硒碲合金、硒砷合金和硫化镉等常规的无机光导电材料的电子照相感光体(无机感光体)是已经公知的。近年来，由于使用有机光导电材料的电子照相感光体(有机感光体)在低成本制造性和废弃性方面具有良好的优势，因此已经成为主流。
使用电晕放电器的电晕充电法以往已用作充电方法。然而，近年来，接触充电法由于具有诸如抑制臭氧生成量和耗电量等优势，因此已投入实际应用，并被积极使用。在接触充电法中，通过将起到充电部件作用的导电性部件与电子照相感光体的表面接触，或者通过将该导电性部件靠近电子照相感光体的表面，然后向该充电部件施加电压，从而使电子照相感光体的表面带电。作为向充电部件施加电压的方法，存在直流法和交流叠加法，直流法中，仅施加直流电压，而在交流叠加法中，在施加直流电压的同时，在直流电压上叠加交流电压。接触充电法具有诸如使设备小型化和抑制诸如臭氧等有害气体的产生等优点。
作为转印方法，经由中间转印部件将调色剂图像转印到记录纸上的方法适用于各种各样的记录纸，所以已取代将调色剂图像直接转印到记录纸上的以往常用的方法而得到广泛的应用。
在上述相关技术中，已存在的问题有，由于使用接触充电法而导致的感光体的劣化和磨损以及由于使用接触充电法和中间转印部件所导致的异物对感光体的刮擦和戳刺。为了防止这些问题，已提出在电子照相感光体的表面上形成保护层以提高其强度。
作为用于形成保护层的材料，已经提出以下方案。
即，例如，日本特许3287678号公报提出在酚醛树脂中分散有导电性粉末的一种材料。日本特开2000-019749号公报提出一种有机-无机杂化材料。日本特开2005-234546号公报提出一种链式聚合性材料。日本特开2000-66424号公报提出一种丙烯酸类材料。
此外，日本特开2004-240079号公报提出一种由放射线交联剂和电荷输送物质构成的由放射线交联的材料。
发明内容
本发明所要解决的问题
本发明的一个目的是要提供一种电子照相感光体，该电子照相感光体的特征在于，抑制了其最外表面层中的褶皱和不平整度，其最外表面层还具有高机械强度，并抑制了长期反复使用时的电特性和图像特性的劣化，可提供稳定的图像。
此外，本发明的另一个目的是提供包含所述电子照相感光体的处理盒和包含所述电子照相感光体的成像设备。
鉴于上述情况而完成了本发明，本发明提供了一种电子照相感光体、处理盒和成像设备。
本发明的第一方案提供：
一种电子照相感光体，所述电子照相感光体至少具有导电性基体和形成在该导电性基体上的感光层，所述电子照相感光体的最外表面层由以下组合物的固化物构成，所述组合物包含至少一种由下式(I)表示的化合物和表面活性剂，所述表面活性剂在其分子中具有选自以下结构中的至少一种结构：(A)通过将具有氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构；(B)具有碳碳双键和氟原子的结构；(C)氧化亚烷基结构；和(D)具有碳碳三键和羟基的结构。
Figure G2009101409842D00031
其中，在式(I)中，Q为n价的具有空穴输送性的有机基团；R是氢原子或烷基；L是二价有机基团；n是大于或等于1的整数；并且j是0或1。
(1)一种电子照相感光体，所述电子照相感光体至少具有导电性基体和形成在该导电性基体上的感光层，所述电子照相感光体具有的最外表面层由以下组合物的固化物构成，所述组合物包含至少一种由下式(I)表示的化合物和表面活性剂，所述表面活性剂在其分子中具有选自以下结构中的至少一种结构：(A)通过将具有氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构；(B)具有碳碳双键和氟原子的结构；(C)氧化亚烷基结构；和(D)具有碳碳三键和羟基的结构。
其中，在式(I)中，Q为n价的具有空穴输送性的有机基团；R是氢原子或烷基；L是二价有机基团；n是大于或等于1的整数；并且j是0或1。
(2)如(1)中所述的电子照相感光体，其中，所述组合物还包含热自由基产生剂。
(3)如(2)中所述的电子照相感光体，其中，所述热自由基产生剂的10小时半衰期温度是40℃～110℃。
(4)如(1)中所述的电子照相感光体，其中，式(I)中的R是甲基。
(5)如(1)中所述的电子照相感光体，其中，式(I)中的n是大于或等于2的整数。
(6)如(1)中所述的电子照相感光体，其中，式(I)中的L是包含具有大于或等于2个碳原子的亚烷基的二价有机基团，并且j是1。
(7)如(1)中所述的电子照相感光体，其中，式(I)中的n是大于或等于4的整数。
(8)如(1)中所述的电子照相感光体，其中，相对于形成所述最外表面层时所用的所述组合物，由式(I)表示的所述化合物的总量为大于或等于40重量％。
(9)如(1)中所述的电子照相感光体，其中，相对于形成所述最外表面层时所用的所述组合物，所述表面活性剂的总量为0.01重量％～1重量％。
(10)如(1)中所述的电子照相感光体，其中，由式(I)表示的所述化合物是由下式(II)表示的化合物，
Figure G2009101409842D00041
其中，在式(II)中，Ar1～Ar4各自独立地是具有取代基的或不具有取代基的芳基；Ar5是具有取代基的或不具有取代基的芳基，或具有取代基的或不具有取代基的亚芳基；D是-(L)j-O-CO-C(R)＝CH2；j是0或1；五个c各自独立地是0或1；k是0或1；D的总数是大于或等于1；而且R是氢原子，或者直链的或支链的具有1～5个碳原子的烷基。
(11)如(10)中所述的电子照相感光体，其中，式(II)中的D的总数是大于或等于4。
(12)如(10)中所述的电子照相感光体，其中，式(II)中的R是甲基。
(13)如(10)中所述的电子照相感光体，其中，式(II)中的L是包含具有大于或等于2个碳原子的亚烷基的二价有机基团，并且j是1。
(14)一种处理盒，所述处理盒包含：(1)～(13)中任一项所述的电子照相感光体；选自以下单元中的至少一种单元：充电单元，该充电单元对所述电子照相感光体进行充电；显影单元，该显影单元用调色剂将形成在所述电子照相感光体上的静电潜像显影；以及调色剂除去单元，该调色剂除去单元将残留在所述电子照相感光体的表面上的调色剂除去。
(15)一种成像设备，所述成像设备包含：(1)～(13)中任一项所述的电子照相感光体；充电单元，该充电单元对所述电子照相感光体进行充电；静电潜像形成单元，该静电潜像形成单元在经充电的所述电子照相感光体上形成静电潜像；显影单元，该显影单元用调色剂将形成在所述电子照相感光体上的所述静电潜像显影，从而形成调色剂图像；以及转印单元，该转印单元将所述调色剂图像转印至转印体。
本发明的效果
根据本发明的第一方案，可以抑制最外表面层的褶皱和不平整度，可使该最外表面层具有高机械强度，可抑制由长期反复使用所导致的电特性和图像特性的劣化，由此提供了产生稳定图像的电子照相感光体。
根据本发明的第二方案，可以更有效地抑制最外表面层的褶皱和不平整度，由此提供了具有良好的电特性和图像特性的电子照相感光体。
根据本发明的第三方案，可以抑制感光层中所含的感光材料的损伤，更有效地抑制最外表面层的褶皱和不平整度，由此提供了具有良好的电特性和图像特性的电子照相感光体。
根据本发明的第四方案，可以更有效地抑制最外表面层的褶皱和不平整度，由此提供了具有良好的电特性和图像特性的电子照相感光体。
根据本发明的第五方案，提供了拥有具有高交联密度和更高的机械强度的最外表面层的电子照相感光体。
根据本发明的第六方案，提供了具有更出色的电特性和图像特性的电子照相感光体。
根据本发明的第七方案，提供了拥有具有高交联密度和进一步更高的机械强度的最外表面层的电子照相感光体。
根据本发明的第八方案，可以更有效地抑制最外表面层的褶皱和不平整度，由此提供了具有良好的电特性和图像特性的电子照相感光体。
根据本发明的第九方案，可以更有效地抑制最外表面层的褶皱和不平整度，由此提供了具有良好的电特性和图像特性的电子照相感光体。
根据本发明的第十方案，提供了拥有具有高交联密度和进一步更高的机械强度的最外表面层的电子照相感光体。
根据本发明的第十一方案，提供了拥有具有高交联密度和进一步更高的机械强度的最外表面层的电子照相感光体。
根据本发明的第十二方案，可以更有效地抑制最外表面层的褶皱和不平整度，由此提供了具有良好的电特性和图像特性的电子照相感光体。
根据本发明的第十三方案，提供了具有更出色的电特性和图像特性的电子照相感光体。
根据本发明的第十四方案，提供了可长期产生稳定图像的处理盒。
根据本发明的第十五方案，提供了可长期产生稳定图像的成像设备。
附图说明
基于以下附图，本文将对本发明的示例性实施方式进行详细的描述，其中，
图1是显示本发明的一个示例性实施方式的电子照相感光体的局部横截面的示意图；
图2是显示本发明的另一个示例性实施方式的电子照相感光体的局部横截面的示意图；
图3是显示本发明的又一个示例性实施方式的电子照相感光体的局部横截面的示意图；
图4是显示本发明的一个示例性实施方式的成像设备的示意图；
图5是显示本发明的另一个示例性实施方式的成像设备的示意图；和
图6A至图6C是显示用于评估重影的标准的说明图。
具体实施方式
电子照相感光体
本发明的该示例性实施方式的电子照相感光体至少具有导电性基体和形成在该导电性基体上的感光层，所述电子照相感光体具有最外表面层，该最外表面层由以下组合物的固化物构成，所述组合物包含至少一种由下述的式(I)表示的化合物和表面活性剂。所述表面活性剂在其分子中具有选自以下结构中的至少一种结构：(A)通过将具有氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构；(B)具有碳碳双键和氟原子的结构；(C)氧化亚烷基结构；和(D)具有碳碳三键和羟基的结构。
在本发明的该示例性实施方式的电子照相感光体中，由于具有上述构成，抑制了最外表面层的褶皱和不平整度，使该最外表面层具有高机械强度，抑制了由长期反复使用所导致的电特性和图像特性的劣化，由此提供了稳定图像。
其原因并不清楚，但据推测如下。
在将聚合性化合物以膜状固化的过程中，该聚合性化合物的例如润湿性或表面张力等液体物理性质显著变化。由此，发生部分凝聚，而且经常出现褶皱、不平整等。在本发明的示例性实施方式中，可以认为，通过使用作为由式(I)表示的具有聚合性官能团的化合物和具有上述(A)～(D)的结构的表面活性剂的组合的组合物，在形成该组合物的固化物的固化过程中，可在防止液体物理性质发生变化的同时，获得保持电特性的固化物。
结果，在包含所述组合物的固化物的最外表面层中，抑制了褶皱和不平整度，使该层具有高机械强度，抑制了由长期反复使用所导致的电特性和图像特性的劣化。此外，具有上述最外表面层的电子照相感光体也因此可提供稳定的图像。
如上所述，本发明的该示例性实施方式的电子照相感光体具有的最外表面层包含以下组合物的固化物，所述组合物包含由式(I)表示的化合物和具有特定的部分结构的表面活性剂，不过，该最外表面层优选用来形成该电子照相感光体本身的顶面，特别优选用作具有保护层功能的层或具有电荷输送层功能的层。
当该最外表面层用作具有保护层功能的层时，可以举出以下构造：导电性基体具有感光层和作为最外表面层而形成在该感光层上的保护层，而且所述保护层包含含有由式(I)表示的化合物和具有特定的部分结构的所述表面活性剂的组合物的固化物。
另一方面，当最外表面层用作具有电荷输送层功能的层时，可以举出以下构成：导电性基体具有电荷产生层和作为最外表面层而形成在该电荷产生层上的电荷输送层，而且所述电荷输送层包含含有由式(I)表示的化合物和具有特定的部分结构的所述表面活性剂的组合物的固化物。
下文中，对于最外表面层用作保护层的情况，将参考附图对本发明的示例性实施方式的电子照相感光体进行详细的描述。需要注意的是，在图中，相同或相当的部分由相同的标记来指代，重复的说明将予以省略。
图1是显示本发明的示例性实施方式的电子照相感光体的一个优选实施方式的横截面的示意图。图2和图3各自为显示其他示例性实施方式的电子照相感光体的横截面的示意图。
图1中所示的电子照相感光体7A是所谓的功能分离型感光体(或多层型感光体)，其结构为：在导电性基体4上形成有底涂层1，然后在底涂层1上相继形成有电荷产生层2、电荷输送层3和保护层5。在电子照相感光体7A中，感光层由电荷产生层2和电荷输送层3构成。
图2中所示的电子照相感光体7B也是一种功能分离型感光体，其中，与图1中所示的电子照相感光体7A类似，功能分离至电荷产生层2和电荷输送层3。此外，图3中所示的电子照相感光体7C在同一层(单层型感光层6(电荷产生与电荷输送层))中含有电荷产生材料和电荷输送材料。
图2中所示的电子照相感光体7B的结构为：在导电性基体4上形成有底涂层1，然后在底涂层1上相继形成有电荷输送层3、电荷产生层2和保护层5。在电子照相感光体7B中，感光层由电荷输送层3和电荷产生层2构成。
图3中所示的电子照相感光体7C的结构为：在导电性基体4上形成有底涂层1，然后在底涂层1上相继形成有单层型感光层6和保护层5。
在图1～3中所示的电子照相感光体7A～7C中，保护层5用作在离导电性基体4最远侧形成的最外表面层，该最外表面层的构成描述如下。
需要注意的是，在图1～3中所示的电子照相感光体7A～7C中，可以形成有或未形成有底涂层1。
下文中，将以图1中所示的电子照相感光体7A为典型实例，描述各构成要素。
<导电性基体>
导电性基体4所用的材料的实例包括：使用例如铝、铜、锌、不锈钢、铬、镍、钼、钒、铟、金、铂等金属或其合金的金属板、金属鼓和金属带；以及涂布、淀积或层压有例如导电性聚合物或氧化铟等导电性化合物或例如铝、钯或金等金属或其合金的纸、塑料膜和带。此处的术语“导电性”是指体积电阻率小于1013Ωcm。
当电子照相感光体7A用于激光印刷机时，优选对导电性基体4的表面进行粗糙化，以使其中心线平均粗糙度(Ra)是0.04μm至0.5μm，以便抑制在用激光束照射时形成的干涉条纹。当Ra小于0.04μm时，该电子照相感光体的表面处于接近镜面的状态，可能无法表现出满意的抑制干涉的效果。当Ra大于0.5μm时，即使形成膜，图像品质也倾向于变得粗糙。当将非相干光用作光源时，不必需要为了抑制干涉条纹而进行表面粗糙化，因此，可以防止出现由于导电性基体4的表面不平整而导致的缺陷，对于获得更长的操作寿命而言，这是优选的。
表面粗糙化方法的优选实例包括：湿式珩磨，其中，将通过在水中包含研磨剂而制备的悬浮液喷洒在基体上；无心研磨，其中，通过将基体压在旋转的磨石上而对该基体进行连续的研磨；以及阳极氧化法。
表面粗糙化的其他优选方法包括在导电性基体4上由其中分散有导电性或半导电性粉末的树脂形成具有粗糙表面的层的方法，也即，在不进行粗糙化处理的情况下获得导电性基体的粗糙表面的方法。
在采用阳极氧化法的表面粗糙化处理中，使用铝作为阳极，通过电解液中的阳极氧化而在该铝的表面上形成氧化膜。电解液的实例包括硫酸溶液和草酸溶液。不过，由于由阳极氧化法形成的多孔性阳极氧化膜在不作任何改性的情况下是化学活泼的，因此该膜易于被污染，其电阻随环境条件的波动较大。因此，优选进行封孔处理，其中，通过由加压水蒸汽或沸水(可在其中加入例如镍盐等金属盐)中的水合反应所致的体积膨胀，将阳极氧化物转化为更稳定的水合氧化物，从而将该阳极氧化膜中的微孔封闭。
所述阳极氧化膜的厚度优选是0.3μm～15μm。当阳极氧化膜的厚度小于0.3μm时，抵抗注入的阻隔性能可能不够，可能无法实现足够的效果。当阳极氧化膜的厚度大于15μm时，可能因反复使用而导致残余电势上升。
可以对导电性基体4进行酸性水溶液处理或勃姆石处理。可通过制备含有磷酸、铬酸和氢氟酸的酸性处理液并使用该酸性处理液以形成涂布层，从而进行使用该酸性处理液的处理。该酸性处理液中磷酸、铬酸和氢氟酸的组成比例优选是：10重量％～11重量％的磷酸；3重量％～5重量％的铬酸；以及0.5重量％～2重量％的氢氟酸。酸组分的总浓度优选是13.5重量％～18重量％。
处理温度优选是42℃～48℃。通过保持较高的处理温度，与处理温度低于以上范围的情况相比，可以以更高的速度获得更厚的膜。该膜的厚度优选是0.3μm至15μm。当该膜的厚度小于0.3μm时，抵抗注入的阻隔性能可能不够，可能无法实现足够的效果。当该膜的厚度大于15μm时，可能因反复使用而导致残余电势上升。
勃姆石处理可通过将基体在90℃～100℃的纯水中浸渍5分钟至60分钟，或将基体与90℃～120℃的加热水蒸汽接触5分钟至60分钟来进行。膜厚优选是0.1μm～5μm。还可以进一步使用例如己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐或柠檬酸盐的溶液等与其他化学物种相比不易溶解该膜的电解质溶液对该膜进行阳极氧化处理。
<底涂层>
底涂层1包括例如含有无机颗粒的粘合剂树脂。
无机颗粒优选具有102Ω·cm～1011Ω·cm的粉末电阻(体积电阻率)，以便底涂层1可以获得足够的电阻，从而实现足够的耐漏电性和载流子阻隔性能。当无机颗粒的电阻值低于102Ω·cm时，可能无法达到足够的耐漏电性，而高于1011Ω·cm时，可能导致残留电势的上升。
其中，作为具有前述电阻值的无机颗粒，可以优选使用例如氧化锡、氧化钛、氧化锌或氧化锆的颗粒等无机颗粒(导电性金属氧化物)，特别优选使用氧化锌颗粒。
可以对无机颗粒进行表面处理。可以将经过不同的表面处理的或者具有不同的粒径的两种以上的颗粒组合使用。无机颗粒的体积平均粒径优选是50nm～2000nm，更优选是60nm～1000nm。
无机颗粒优选具有10m2/g以上的比表面积(以BET法测得)。当其比表面积低于10m2/g时，往往发生带电性降低，可能无法获得有利的电子照相特性。
通过包含无机颗粒和受体化合物，可以获得电特性的长期稳定性优异且载流子阻隔性能优异的底涂层。可以使用能够获得所需特性的任何受体化合物，但其优选实例包括电子输送性物质，例如醌类化合物，如氯醌和溴醌；四氰基苯醌二甲烷类化合物；芴酮类化合物，如2，4，7-三硝基芴酮和2，4，5，7-四硝基-9-芴酮；噁二唑类化合物，如2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、2，5-双(4-萘基)-1，3，4-噁二唑和2，5-双(4-二乙基氨基苯基)-1，3，4-噁二唑；呫吨类化合物；噻吩化合物；和联苯醌化合物，如3，3’，5，5’-四叔丁基联苯醌。其中，具有蒽醌结构的化合物是优选的。更优选的实例是具有蒽醌结构的受体化合物，例如羟基蒽醌类化合物、氨基蒽醌类化合物和氨基羟基蒽醌类化合物，其具体实例包括蒽醌、茜素、醌茜、蒽绛酚和红紫素。
受体化合物的含量可以在能够实现所需特性的范围内适当地确定，但鉴于防止电荷积聚和无机颗粒的凝集，优选相对于无机颗粒的含量为0.01重量％～20重量％，更优选相对于无机颗粒的含量为0.05重量％～10重量％。无机颗粒的凝集可能导致导电通路的不规则形成、反复使用时例如残余电势上升等维持性的劣化以及例如黑点等图像缺陷。
受体化合物可以简单地添加到底涂层形成用溶液中，也可以预先附着于无机颗粒的表面。作为将受体化合物附着于无机颗粒的表面的方法，可以举出干法和湿法。
当根据干法进行表面处理时，在用具有高剪切力的混合机等搅拌无机颗粒的同时，通过将受体化合物直接或以溶解在有机溶剂中的状态滴加到无机颗粒中，或用干燥空气或氮气将受体化合物的液滴喷洒到无机颗粒上，由此可避免受体化合物的不规则分布。所述添加或喷洒优选在低于溶剂沸点的温度下进行。如果喷洒在不低于溶剂沸点的温度下进行，则该溶剂可能在无机颗粒得到均匀的搅拌之前蒸发，受体化合物可能局部地凝结，这使得难以进行均匀的处理，这是不优选的。在添加或喷洒受体化合物之后，还可以在100℃以上的温度对无机颗粒进行焙烤处理。该焙烤可以在能够获得所需的电子照相特性的温度和时间内适当地进行。
当根据湿法进行表面处理时，可通过搅拌机、超声波、砂磨机、磨碎机或球磨机等设备将无机颗粒分散在溶剂中。之后，将受体化合物加入到无机颗粒中，进一步将混合物搅拌或分散，然后除去溶剂。这样，该处理可在不造成差异的情况下进行。该溶剂可通过过滤或蒸发而除去。在除去溶剂之后，可在100℃以上的温度对颗粒进行焙烤处理。该焙烤可以在能够获得所需的电子照相特性的温度和时间内进行。在湿法中，可以在添加表面处理剂之前除去无机颗粒中所含的水分。所述的水分可通过例如在用于表面处理的溶剂中搅拌和加热颗粒而除去，或者通过进行与该溶剂的共沸而除去。
可在添加受体化合物之前对无机颗粒进行表面处理。该表面处理剂可以是能够用于获得所需特性的任何试剂，可选自公知的物质。其实例包括硅烷偶联剂、钛酸酯类偶联剂、铝类偶联剂和表面活性剂。其中，鉴于可提供有利的电子照相特性，硅烷偶联剂是优选使用的。此外，鉴于可将有利的阻隔性能赋予底涂层1，具有氨基的硅烷偶联剂是优选使用的。
作为具有氨基的硅烷偶联剂，可以使用能够获得所需的电子照相特性的任何试剂。其具体实例包括γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷和N，N-双(β-羟基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷，但并不局限于此。
硅烷偶联剂可以单独使用或将其中两种以上组合使用。可以与上述具有氨基的硅烷偶联剂组合使用的硅烷偶联剂的实例包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N，N-双(β-羟基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷，但本发明不限于此。
任何公知的方法都可用于使用这些表面处理剂的表面处理方法，但干法或湿法是优选使用的。受体化合物的添加与使用例如偶联剂等表面处理剂的表面处理可以同时进行。
硅烷偶联剂相对于底涂层1中所含的无机颗粒的量可以在能够实现所需特性的范围内适当地确定，但从改善分散性的角度考虑，该用量优选相对于无机颗粒是0.5重量％～10重量％。
可以在底涂层1中包含粘合剂树脂。
作为包含在底涂层1中的粘合剂树脂，可使用能够形成良好的膜并能够获得所需特性的任何公知树脂。其实例包括：公知的高分子树脂化合物，例如缩醛树脂，如聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅树脂、硅酮-醇酸树脂、酚醛树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂和氨基甲酸酯树脂；具有电荷输送性基团的电荷输送性树脂；以及例如聚苯胺等导电性树脂。其中，在用于上层的涂布溶剂中不溶的树脂是特别优选使用的，其实例包括酚醛树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂等。当这些树脂两种以上组合使用时，可根据情况适当地确定混合比。
在底涂层形成用涂布液中，可以在能够实现所需的电子照相感光体特性的范围内适当地确定表面添加有受体化合物的无机颗粒(被赋予了受体性质的金属氧化物)相对于粘合剂树脂的比率，或者无机颗粒相对于粘合剂树脂的比率。
此外，在底涂层中，可使用各种添加剂以改善电特性、环境稳定性和图像品质。
作为添加剂，可使用公知物质，例如多环稠合类或偶氮类电子输送性颜料、锆螯合物化合物、钛螯合物化合物、铝螯合物化合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物或硅烷偶联剂。尽管硅烷偶联剂已用于如上所述的无机颗粒的表面处理，但还可以进一步作为添加剂添加到底涂层形成用涂布液中。
用作添加剂的硅烷偶联剂的具体实例包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N，N-双(β-羟基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷。
锆螯合物化合物的实例包括锆丁醇盐、乙酰乙酸乙酯锆、三乙醇胺锆、乙酰丙酮锆丁醇盐、乙酰乙酸乙酯锆丁醇盐、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸锆丁醇盐、硬脂酸锆丁醇盐和异硬脂酸锆丁醇盐。
钛螯合物化合物的实例包括钛酸四异丙基酯、钛酸四正丁基酯、钛酸丁基酯二聚物、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮钛、聚乙酰丙酮钛、亚辛基乙醇酸钛(titanium octylene glycolate)、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸乙酯钛、三乙醇胺合钛和多羟基硬脂酸钛。
铝螯合物化合物的实例包括铝异丙醇盐、单丁氧基铝二异丙醇盐、铝丁醇盐、乙酰乙酸乙酯铝二异丙醇盐和三(乙酰乙酸乙酯)铝。
这些化合物可单独使用，或者以其中两种以上化合物构成的混合物或缩聚物进行使用。
用于制备底涂层形成用涂布液的溶剂可以适当地选自公知的有机溶剂，例如醇类、芳香族、卤化烃类、酮类、酮醇类、醚类和酯类溶剂。其实例包括普通有机溶剂，例如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。
这些溶剂可单独使用或作为由其中两种以上构成的混合溶剂进行使用。任何溶剂都可用于制备所述混合溶剂，只要所得的混合溶剂能够溶解所述粘合剂树脂即可。
当制备底涂层形成用涂布液时，作为无机颗粒的分散方法，可使用利用辊磨机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨或涂料混合机等的公知方法。
作为用于形成底涂层的涂布方法，可使用例如刮刀涂布法、绕线棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、刮槽涂布法(bead coating)、气刀涂布法或幕涂法。
通过使用由此制备的底涂层形成用涂布液在导电性基体上形成底涂层1。
该底涂层1的维氏硬度优选为35以上。底涂层1的厚度可以任意确定，只要能够获得所需特性即可，但优选为15μm以上，更优选为15μm～50μm。
当底涂层1的厚度小于15μm时，可能得不到足够的耐漏电性能，而当底涂层1的厚度大于50μm时，在长期操作中往往会留下残留电势，从而导致图像浓度上的缺陷。
底涂层1的表面粗糙度(十点平均粗糙度)可调节至1/4×n×λ至1/2×λ(λ表示曝光用激光的波长，n表示上层的折射率)，以便防止形成波纹图像。还可以将树脂等的颗粒添加到底涂层中，用于调节表面粗糙度。树脂颗粒的实例包括硅树脂颗粒和经交联的聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒。
此处，底涂层1含有粘合剂树脂和作为无机颗粒的导电性金属氧化物，厚度为20μm时，相对于波长950nm的光，具有40％以下(优选为10％～35％，更优选为15％～30％)的光透射率。
底涂层的光透射率可以根据以下方法进行测定。将底涂层形成用涂布液涂布到玻璃板上，以便在干燥后得到20μm的厚度。干燥后，使用分光光度计(U-2000，商品名，由日立社制造)测定对波长950nm的光的光透射率。
在制备底涂层形成用涂布液时，用辊磨机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨或涂料混合机等分散无机颗粒时，可通过调节分散时间来控制底涂层的光透射率。分散时间不受特别限制，但适宜的时间优选是5分钟至1000小时，更优选是30分钟至10小时。当分散时间变长时，光透射率倾向于降低。
此外，可以对底涂层进行研磨，以调节其表面粗糙度。研磨方法包括软皮(buff)研磨、喷砂处理、湿式珩磨、磨削处理等。
可通过将涂布在导电性基体4上的底涂层形成用涂布液干燥而获得底涂层1，干燥通常在可蒸发溶剂且可以形成膜的温度进行。
<电荷产生层>
电荷产生层2是含有电荷产生材料和粘合剂树脂的层。
电荷产生材料可包括：偶氮颜料，例如双偶氮或三偶氮颜料；稠环芳香族颜料，例如二溴蒽嵌蒽醌(dibromoantanthrone)；苝颜料；吡咯并吡咯颜料；酞菁颜料；氧化锌；或三方硒。其中，为了提供与具有近红外区的波长的激光束曝光的相容性，优选将金属酞菁颜料和无金属酞菁颜料用作电荷产生材料，特别是，更优选使用日本特开平5-263007号公报和特开平5-279591号公报所披露的羟基镓酞菁、日本特开平5-98181号公报所披露的氯镓酞菁、日本特开平5-140472号公报和5-140473号公报所披露的二氯锡酞菁以及日本特开平4-189873号公报所披露的钛氧基酞菁。此外，为了提供与具有近紫外区的波长的激光束曝光的相容性，更优选将例如二溴蒽嵌蒽醌等稠环芳香族颜料、硫靛颜料、紫菜嗪化合物、氧化锌、三方硒等用作电荷产生材料。
作为电荷产生材料，为了提供与使用曝光波长在380nm～500nm范围内的光源的情况的相容性，无机材料是优选的。为了提供与使用曝光波长在700nm～800nm范围内的光源的情况的相容性，金属酞菁颜料和无金属酞菁颜料是优选的。
此外，作为电荷产生材料，优选使用在600nm～900nm波长范围的分光吸收光谱中在810nm～839nm的范围内具有最大峰波长的羟基镓酞菁颜料。该羟基镓酞菁颜料不同于以往的V型羟基镓酞菁颜料，而且是优选的，因为它可获得更出色的分散性。这样，与以往的V型羟基镓酞菁颜料相比，通过将分子吸收光谱的最大峰波长向短波长侧偏移，获得了其颜料颗粒具有优选地控制的晶体排列的微细羟基镓酞菁颜料，由此在用作电子照相感光体材料时可提供出色的分散性、足够的感光度、带电性和暗衰减特性。
在810nm～839nm的范围内具有最大峰波长的羟基镓酞菁颜料优选具有特定范围的平均粒径和BET比表面积。具体地说，平均粒径优选是0.20μm以下，更优选是0.01μm～0.15μm。BET比表面积优选为45m2/g以上，更优选为50m2/g以上，特别优选为55m2/g～120m2/g。此处的平均粒径是由激光衍射/散射型粒径分布测试仪(LA700，商品名，由堀场制作所社制造)测定的体积平均粒径(d50平均粒径)，BET比表面积是使用BET比表面积分析仪(FLOWSORB II 2300，商品名，由岛津制作所制造)通过氮置换法测得。
当平均粒径大于0.20μm或BET比表面积小于45m2/g时，据认为，颜料颗粒可能变得粗大，或者可能形成凝集体。在这种情况下，易于出现分散性、感光度、带电性和暗衰减特性方面的缺陷，形成图像缺陷的可能性增大。
所述羟基镓酞菁颜料的最大粒径(最大一次粒径)优选为1.2μm以下，更优选为1.0μm以下，特别优选为0.3μm以下。当最大粒径大于上述范围时，往往产生小黑点。
此外，从更可靠地抑制因为电子照相感光体暴露于荧光灯等所导致的浓度不均匀性的角度考虑，所述羟基镓酞菁颜料优选平均粒径为0.2μm以下，最大粒径为1.2μm以下，比表面积为45m2/g以上。
此外，该羟基镓酞菁颜料优选在使用CuKα特性X射线的X射线衍射谱中在布拉格角(2θ±0.2°)7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有衍射峰。
当温度从25℃升至400℃时，该羟基镓酞菁颜料优选的热解重量减少率为2.0％～4.0％，更优选为2.5％～3.8％。该热解重量减少率由热天平等测得。当热解重量减少率超过4.0％时，羟基镓酞菁颜料中所含的杂质可能影响电子照相感光体，导致感光度特性、反复使用时的电势稳定性或图像品质受损。另一方面，当热解重量减少率小于2.0％时，可能出现感光度下降。据认为，这是因为，羟基镓酞菁颜料通过与颜料晶体中少量存在的溶剂分子相互作用而发挥增感作用。
从改善图像品质特性的角度考虑，特别优选将满足上述特征的羟基镓酞菁颜料用作电荷产生材料，该羟基镓酞菁颜料能够将最佳的感光度和优异的光电特性赋予电子照相感光体，而且在感光层所含的粘合剂树脂中具有极好的分散性。
目前已知的是，通过规定该羟基镓酞菁颜料的平均粒径和BET比表面积，可抑制初期的雾浊或黑点的产生，但问题在于，长期使用时仍然会产生雾浊或黑点。有关这个问题，可通过在该组合中加入后述的预定的最外表面层(包含下述组合物的固化物的最外表面层，该组合物含有由式(I)表示的化合物与具有特定的部分结构的表面活性剂)来抑制在保护层与电荷产生层的已知组合中仍然存在的在长期使用时产生雾浊或黑点等问题。这是因为，可通过使用最外表面层来抑制由长期使用所致的膜磨损和带电性下降。还可以成功地抑制雾浊或黑点，而在以往的感光体中，即使在减少电荷输送层的厚度以获得改善电特性(降低残留电势)的效果时，也会产生雾浊或黑点。
电荷产生层2中所用的粘合剂树脂可选自广泛的绝缘性树脂，也可选自有机光导电性聚合物，例如聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘和聚硅烷。粘合剂树脂的优选实例包括聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚芳酯树脂(双酚和芳香族二元羧酸的缩聚物等)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧基树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺树脂、丙烯酸类树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯基吡啶树脂、纤维素树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯醇树脂和聚乙烯基吡咯烷酮树脂。这些粘合剂树脂可单独使用或其中两种以上组合使用。电荷产生材料与粘合剂树脂的混合比率按重量比计优选为10/1至1/10。
此处的术语“绝缘性”是指该树脂的体积电阻率为1013Ωcm以上。
电荷产生层2可通过使用电荷产生层形成用涂布液来形成，该涂布液中，上述的电荷产生材料与粘合剂树脂分散在预定的溶剂中。
用于分散的溶剂的实例包括甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。这些溶剂可单独使用或其中两种以上组合使用。
在溶剂中分散电荷产生材料和粘合剂树脂的方法可以是任何普通方法，例如球磨机分散法、磨碎机分散法或砂磨机分散法。通过使用这些分散方法，可抑制由分散过程所致的电荷产生材料的晶型的变化。所要分散的电荷产生材料的平均粒径优选为0.5μm以下，更优选为0.3μm以下，进一步优选为0.15μm以下。
电荷产生层2的形成方法可以是任何常规的方法，例如刮刀涂布法、Meyer棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、刮槽涂布法、气刀涂布法或幕涂法。
由上述方法获得的电荷产生层2的膜厚优选是0.1μm～5.0μm，更优选是0.2μm～2.0μm。
<电荷输送层>
电荷输送层3包含电荷输送材料和粘合剂树脂，或包含高分子电荷输送材料。
电荷输送材料的实例包括：电子输送性化合物，例如醌类化合物，如对苯醌、氯醌、溴醌和蒽醌、四氰基苯醌二甲烷类化合物；芴酮化合物，如2，4，7-三硝基芴酮；呫吨酮类化合物、二苯甲酮类化合物、氰基乙烯基类化合物和乙烯类化合物；和空穴输送性化合物，如三芳基胺类化合物、联苯胺类化合物、芳基烷烃类化合物、芳基取代的乙烯类化合物、茋类化合物、蒽类化合物和腙类化合物。这些电荷输送材料可以单独使用，或者可以将其中两种以上组合使用，但并不限于此。
作为电荷输送材料，从电荷迁移率的角度考虑，由下式(a-1)表示的三芳基胺衍生物和由下式(a-2)表示的联苯胺衍生物是优选的。
Figure G2009101409842D00201
在式(a-1)中，R1是氢原子或甲基；a1是1或2；Ar01和Ar02各自独立地是具有取代基的或不具有取代基的芳基、-C6H4-C(R2)＝C(R3)(R4)或-C6H4-CH＝CH-CH＝C(R5)(R6)；R2～R6各自独立地是氢原子、具有取代基的或不具有取代基的烷基或者具有取代基的或不具有取代基的芳基。
此处，各基团的取代基可包括卤原子、具有1～5个碳原子的烷基、具有1～5个碳原子的烷氧基和取代有具有1～3个碳原子的烷基的取代氨基。
Figure G2009101409842D00202
在式(a-2)中，R7和R7’各自独立地是氢原子、卤原子、具有1～5个碳原子的烷基、具有1～5个碳原子的烷氧基；R8、R8’、R9和R9’各自独立地是氢原子、卤原子、具有1～5个碳原子的烷基、具有1～5个碳原子的烷氧基、取代有具有1个或2个碳原子的烷基的氨基、具有取代基的或不具有取代基的芳基、-C(R10)＝C(R11)(R12)或-CH＝CH-CH＝C(R13)(R14)；R10～R14各自独立地是氢原子、具有取代基的或不具有取代基的烷基或者具有取代基的或不具有取代基的芳基；a2和a3各自独立地是0～2的整数。
此处，在由式(a-1)表示的三芳基胺衍生物和由式(a-2)表示的联苯胺衍生物中，考虑到电荷迁移率、对保护层的粘附性和由在前图像的历史的持续存在所产生的残像(下文也称为“重影”)，具有-C6H4-CH＝CH--CH＝C(R5)(R6)的三芳基胺衍生物和具有-CH＝CH-CH＝C(R13)(R14)的联苯胺衍生物是特别优选的。
电荷输送层3中所用的粘合剂树脂的实例包括聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、硅树脂、硅酮-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-N-乙烯基咔唑和聚硅烷。这些粘合剂树脂可单独使用或其中两种以上组合使用。电荷输送材料与粘合剂树脂的混合比率按重量比计优选是10/1至1/5。
粘合剂树脂不受特别限制，但从形成良好的膜的角度考虑，优选包含选自粘度平均分子量为50000～80000的聚碳酸酯树脂，或粘度平均分子量为50000～80000的聚芳酯树脂中的至少一种树脂。
此外，作为电荷输送材料，可以使用高分子电荷输送材料。作为高分子电荷输送材料，可使用具有电荷输送性的公知材料，例如聚-N-乙烯基咔唑或聚硅烷。特别是，与其他种类的高分子电荷输送材料相比，日本特开平8-176293号公报中披露的聚酯类高分子电荷输送材料具有较高的电荷输送性，所以是特别优选的。高分子电荷输送材料是可以自身成膜的，但也可以在成膜时与前述粘合剂树脂混合。
可以使用含有上述材料的涂布液形成电荷输送层3。用于电荷输送层形成用涂布液的溶剂的实例包括普通有机溶剂，例如，如苯、甲苯、二甲苯和氯苯等芳香烃；如丙酮和2-丁酮等酮类；如二氯甲烷、氯仿和氯化乙烯等脂肪烃卤化物；以及如四氢呋喃和乙醚等环式或直链的醚类。这些溶剂可单独使用或其中两种以上组合使用。作为分散上述材料的方法，可以使用公知方法。
作为将电荷输送层形成用涂布液涂布在电荷产生层2上的方法，可使用例如刮刀涂布法、Meyer棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、刮槽涂布法、气刀涂布法和幕涂法等普通方法。
电荷输送层3的膜厚优选是5μm～50μm，更优选是10μm～30μm。
<保护层>
保护层5是用作电子照相感光体7A的最外表面层的层，形成保护层5可提供对磨损、刮擦等的耐受性，并可提高调色剂转印效率。
保护层5用作最外表面层，这样，该保护层5由下述组合物的固化物构成，该组合物包含至少一种由下式(I)表示的化合物和表面活性剂，所述表面活性剂在其分子中具有选自以下结构中的至少一种结构：(A)通过将具有氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构；(B)具有碳碳双键和氟原子的结构；(C)氧化亚烷基结构；和(D)具有碳碳三键和羟基的结构。
在式(I)中，Q为n价的具有空穴输送性的有机基团；R是氢原子或烷基；L是二价有机基团；n是大于或等于1的整数；并且j是0或1。
由式(I)表示的化合物
首先描述由式(I)表示的化合物。
式(I)中的Q为n价的具有空穴输送性的有机基团。该有机基团可以包括衍生自芳基胺衍生物的有机基团，也即，通过从芳基胺衍生物中脱去n个氢原子而得到的有机基团。优选为n价的衍生自如三苯基胺衍生物或四苯基联苯胺衍生物等芳基胺衍生物的有机基团。
式(I)中的n表示大于或等于1的整数，但从增加交联密度和获得具有更高强度的交联膜的角度考虑，n优选为大于或等于2，更优选为大于或等于4。此外，作为n的上限，考虑到涂布液的稳定性和电特性，优选为20，更优选为10。
通过在上述优选范围内选择n，特别是，当使用刮刀清洁器时可减少电子照相感光体的旋转扭矩，由此抑制对刮刀的损伤和电子照相感光体的磨损。其原因的具体情况尚不清楚，但通过增加反应性官能团的数目，可获得具有高交联密度的固化膜，而通过抑制电子照相感光体的最外表面层中的分子运动，可削弱刮刀材料的表面分子与电子照相感光体的表面分子之间的相互作用。
此外，式(I)中的R表示氢原子或烷基。作为烷基，具有1～5个碳原子的直链或支链的烷基是优选的。
其中，R优选是甲基。也即，在由式(I)表示的化合物中，括号中的取代基的端基优选是甲基丙烯酰氧基。其原因尚不清楚，但本发明人推测如下。
通常，高反应性的丙烯酰基经常用于固化反应，但当将高反应性的丙烯酰基用作例如由式(I)表示的化合物等大体积电荷输送性材料的取代基时，往往发生不均一的固化反应，据认为容易形成微观(或宏观)的海岛结构。在除了电子以外的其他领域，这样的海岛结构几乎不会带来特别的问题，但对于电子照相感光体而言，可能会发生例如其最外表面层的褶皱和不平整或图像的不平整等问题。因此，R优选是甲基。
需要注意的是，据认为，当多个官能团连接在一个电荷输送骨架(式(I)中的Q)上时，海岛结构的形成特别显著。
此外，式(I)中的L代表二价有机基团。作为二价有机基团，包含具有大于或等于2个碳原子的亚烷基的有机基团是优选的。此外，从电特性和机械强度考虑，j优选是1。优选该结构的原因尚不清楚，但本发明人推测如下。
据推测，当自由基聚合性取代基发生聚合时，在如由式(I)所表示的化合物(其中所产生的自由基容易移动至电荷输送骨架(式(I)中的Q))中所见到的结构中，所产生的自由基使电荷输送功能劣化，由此导致电特性变差。有关机械强度，据推测，当在刚性构型中大体积电荷输送骨架所在的位置靠近聚合性部位时，聚合性部位将变得难以相互移动，反应机会显著下降。基于这些原因，L包含具有大于或等于2个碳原子的亚烷基并且j是1，可能是优选的。
此处，当L是包含具有大于或等于2个碳原子的亚烷基的有机基团时，该有机基团可以仅由具有大于或等于2个碳原子的亚烷基构成，或者可以是具有大于或等于2个碳原子的亚烷基与例如亚烯基、亚炔基、醚、硫醚、酯或亚芳基(例如亚苯基)等二价基团的组合。从强度的角度考虑，所述亚烷基的碳原子数的上限优选是20，更优选是10。
由式(I)表示的化合物优选是由下式(II)表示的化合物。由式(II)表示的化合物特别表现出极好的电荷迁移率或对氧化的稳定性。
Figure G2009101409842D00241
在式(II)中，Ar1～Ar4各自独立地是具有取代基的或不具有取代基的芳基；Ar5是具有取代基的或不具有取代基的芳基，或具有取代基的或不具有取代基的亚芳基；D是-(L)j-O-CO-C(R)＝CH2；j是0或1；五个c各自独立地是0或1；k是0或1；D的总数是1以上；而且R是氢原子，或者直链的或支链的具有1～5个碳原子的烷基。
式(II)中的D的总数对应于式(I)中的n，从提高交联密度和获得具有更高的强度的交联膜(固化物)的角度考虑，D的总数优选是大于或等于2，更优选是大于或等于4。
此外，如上所述，R优选是甲基。
在式(II)中，Ar1～Ar4各自独立地是具有取代基的或不具有取代基的芳基。Ar1～Ar4可以相同，或彼此不同。
此处，除了D：-(L)j-O-CO-C(R)＝CH2之外，所述具有取代基的芳基中的取代基可以包括具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、取代有具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基和卤原子。
作为Ar1～Ar4，以下式(1)～(7)中的任一种都是优选的。需要注意的是，下式(1)～(7)是与“-(D)C”一起显示的，而“-(D)C”可以与各Ar1～Ar4连接。此处“-(D)C”具有与式(II)中的“-(D)C”相同的含义，并包括类似的优选实例。
Figure G2009101409842D00251
-Ar-(Z′)p-Ar-(D)c
(7)
在式(1)中，R01是选自由以下基团组成的组中的基团：氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、取代有具有1～4个碳原子的烷基或具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基和具有7～10个碳原子的芳烷基。
在式(2)和(3)中，R02～R04各自独立地是氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、取代有具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基或卤原子。m是1～3的整数。
在式(7)中，Ar是具有取代基或不具有取代基的亚芳基。
此处，作为式(7)中的Ar，由以下式(8)或(9)表示的基团是优选的。
Figure G2009101409842D00261
在式(8)和(9)中，R05和R06是各自独立地选自由以下基团组成的组中的基团：氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、取代有具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基和卤原子；q是1～3的整数。
在式(7)中，Z’是二价有机连接基团，并且优选是由以下式(10)～(17)中任一通式表示的基团。此外，p是0或1。
-(CH2)r-    -(CH2CH2O)s-
Figure G2009101409842D00262
(10)        (11)              (12)
Figure G2009101409842D00263
在式(10)～(17)中，R07和R08是各自独立地选自由以下基团组成的组中的基团：氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、取代有具有1～4个碳原子的烷基或具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基和卤原子；W是二价基团；r和s各自独立地是1～10的整数；t是1～3的整数。
在式(16)和(17)中，W优选是由式(18)～(26)中任一通式表示的二价基团。在式(25)中，u表示0～3的整数。
-CH2-  -C(CH3)2-  -O-     -S-
(18)    (19)      (20)    (21)
-C(CF3)2-  -Si(CH3)2-
Figure G2009101409842D00271
(22)       (23)            (24)
在式(II)中，当k为0时，Ar5是具有取代基或不具有取代基的芳基。该芳基可包括在Ar1～Ar4的说明中列举的相似的芳基。此外，当k为1时，Ar5是具有取代基或不具有取代基的亚芳基。该亚芳基可包括通过将在Ar1～Ar4的说明中列举的芳基中的预定位置上的一个氢原子脱去而获得的亚芳基。
由式(I)表示的化合物的具体实例显示如下。需要注意的是，由式(I)表示的化合物不局限于这些实例。
首先，对选择4作为式(I)中的n而获得的化合物的具体实例(化合物iv-1～iv-18)、选择5作为式(I)中的n而获得的化合物的具体实例(化合物v-1)和选择6作为式(I)中的n而获得的化合物的具体实例(化合物vi-1和vi-2)进行描述。
Figure G2009101409842D00281
Figure G2009101409842D00291
Figure G2009101409842D00301
Figure G2009101409842D00311
Figure G2009101409842D00321
(以上“No.”表示编号，“Me”均为甲基，以下同)
通过选择4以上的数作为式(I)中的n而获得的化合物可通过与下述的化合物A-4和化合物A-17的合成路线相似的方法合成。
作为实例，以下描述化合物A-4的合成路线和化合物A-17的合成路线。
Figure G2009101409842D00331
Figure G2009101409842D00341
接着，将对选择1作为式(I)中的n而获得的化合物的具体实例(化合物i-1～i-13)进行描述，但它们是非限制性的。
Figure G2009101409842D00351
Figure G2009101409842D00361
以下将对选择2作为式(I)中的n而获得的化合物的具体实例(化合物ii-1～ii-23)进行描述，但它们是非限制性的。
Figure G2009101409842D00381
Figure G2009101409842D00391
Figure G2009101409842D00401
Figure G2009101409842D00421
接着，将对选择3作为式(I)中的n而获得的化合物的具体实例(化合物iii-1～iii-11)进行描述，但它们是非限制性的。
Figure G2009101409842D00431
Figure G2009101409842D00451
在本发明的示例性实施方式中，作为由式(I)表示的化合物，如上所述，优选使用选择2以上的整数作为n而获得的化合物，更优选使用选择4以上的整数作为n而获得的化合物。
此外，作为由式(I)表示的化合物，可以将选择4以上的整数作为n而获得的化合物与选择1～3作为n而获得的化合物组合使用。通过使用这种组合，可以在不降低其电荷输送性能的情况下调整固化物的强度。
当将选择4以上的整数作为n而获得的化合物与选择1～3作为n而获得的化合物组合用作由式(I)表示的化合物时，相对于由式(I)表示的化合物的总含量，选择4以上的整数作为n而获得的化合物优选为5重量％以上，更优选为20重量％以上。
相对于形成保护层5时所用的组合物，由式(I)表示的化合物的总含量优选为40重量％以上，更优选为50重量％以上，再优选为60重量％以上。
在此范围内，可获得优异的电特性，并可使固化物形成厚膜。
此外，在本发明的示例性实施方式中，可以将由式(I)表示的化合物与不具有反应性基团的已知电荷输送材料组合使用。因为不具有反应性基团的已知电荷输送材料没有起电荷输送作用的反应性基团，所以可实质性地提高电荷输送材料的成分浓度，并可有效地改善电特性。
已知电荷输送材料可包括构成电荷输送层3的电荷输送材料所包括的物质。
接着，将对用于本发明的示例性实施方式的特定的表面活性剂进行描述。
用于本发明的示例性实施方式的表面活性剂在其分子中具有选自以下结构中的至少一种结构：(A)通过将具有氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构；(B)具有碳碳双键和氟原子的结构；(C)氧化亚烷基结构；和(D)具有碳碳三键和羟基的结构。
所述表面活性剂可在其分子中具有选自结构(A)～(D)中的至少一种结构，也可具有两种以上的所述结构。
下文中，将对结构(A)～(D)和具有这些结构的表面活性剂进行描述。
(A)通过将具有氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构
通过将具有氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构(A)不受特别限制，但优选是通过将具有氟烷基的丙烯酸类单体聚合而获得的结构，更优选是通过将具有全氟烷基的丙烯酸类单体聚合而获得的结构。
具有结构(A)的表面活性剂的具体实例可包括POLYFLOW-KL-600(商品名，由共荣社化学社制造)、EFTOP EF-351、EF-352、EF-801、EF-802和EF-601(商品名，由Mitsubishi Materials Electronic ChemicalsCo.，Ltd.制造)。
(B)具有碳碳双键和氟原子的结构
具有碳碳双键和氟原子的结构(B)不受特别限制，但优选是由以下式(B1)或(B2)表示的基团中的任一种。
Figure G2009101409842D00471
具有结构(B)的表面活性剂优选是在丙烯酸类聚合物的侧链上至少具有由式(B1)或(B2)中任一通式表示的基团的化合物或由以下式(B3)～(B5)中任一通式表示的化合物。
当具有结构(B)的表面活性剂是在丙烯酸类聚合物的侧链上至少具有由式(B1)或(B2)中任一通式表示的基团的化合物时，因为丙烯酸类结构对该组合物中的其他成分具有良好的亲和性，所以可形成均匀的最外表面层。
此外，当具有结构(B)的表面活性剂是由以下式(B3)～(B5)中任一通式表示的化合物时，因为可能抑制涂布时的排斥，所以可以减少膜缺陷。
在式(B3)～(B5)中，v和w各自独立地为大于或等于1的整数；R’是氢原子或单价有机基团；Rf各自独立地选自由式(B1)或(B2)表示的基团。
在式(B3)～(B5)中，由R’表示的单价基团可以包括例如具有1～30个碳原子的烷基和具有1～30个碳原子的羟基烷基。
具有结构(B)的表面活性剂的市售产品可包括以下产品。
由式(B3)～(B5)中任一通式表示的化合物的实例可包括FTERGENT100、100C、110、140A、150、150CH、A-K、501、250、251、222F、FTX-218、300、310、400SW、212M、245M、290M、FTX-207S、FTX-211S、FTX-220S、FTX-230S、FTX-209F、FTX-213F、FTX-222F、FTX-233F、FTX-245F、FTX-208G、FTX-218G、FTX-230G、FTX-240G、FTX-204D、FTX-280D、FTX-212D、FTX-216D、FTX-218D、FTX-220D和FTX-222D(商品名，由NEOS COMPANY LIMITED.制造)。
此外，在丙烯酸类聚合物的侧链上至少具有由式(B1)或(B2)中任一通式表示的基团的化合物的实例可包括KB-L82、KB-L85、KB-L97、KB-L109、KB-L110、KB-F2L、KB-F2M、KB-F2S、KB-F3M和KB-FaM(商品名，由NEOS COMPANY LIMITED.制造)。
(C)氧化亚烷基结构
氧化亚烷基结构(C)包括氧化亚烷基和聚氧化亚烷基。氧化亚烷基的具体实例可包括氧化亚乙基和氧化亚丙基。还可包括具有2～10000个这些氧化亚烷基重复单元的聚氧化亚烷基。
具有氧化亚烷基结构(C)的表面活性剂可包括聚乙二醇、聚醚消泡剂和聚醚改性硅油。
重均分子量为2000以下的聚乙二醇是优选的。重均分子量为2000以下的聚乙二醇的实例可包括聚乙二醇2000(重均分子量为2000)、聚乙二醇600(重均分子量为600)、聚乙二醇400(重均分子量为400)和聚乙二醇200(重均分子量为200)。
此外，优选实例还可包括聚醚消泡剂，如PE-M、PE-L(商品名，由和光纯药工业社制造)、消泡剂No.1或消泡剂No.5(商品名，由花王社制造)。
作为除了在分子内具有氧化亚烷基结构(C)以外还在分子内具有氟原子的表面活性剂，还可以包括在具有氟原子的聚合物的侧链上具有氧化亚烷基或聚氧化亚烷基的表面活性剂以及其特征在于在氧化亚烷基或聚氧化亚烷基的末端取代有具有氟原子的取代基的表面活性剂。
在分子内除了具有氧化亚烷基结构(C)以外还具有氟原子的表面活性剂的具体实例可包括MEGAFAC F-443、F-444、F-445和F-446(商品名，由大日本油墨化学工业株式会社制造)；FTERGENT 250、251和222F(商品名，由NEOS COMPANY LIMITED.制造)；和POLY FOX PF636、PF6320、PF6520和PF656(商品名，由北村化学社制造)。
除了在分子内具有氧化亚烷基结构(C)之外还在分子内具有硅酮结构的表面活性剂的具体实例可包括KF351(A)、KF352(A)、KF353(A)、KF354(A)、KF355(A)、KF615(A)、KF618、KF945(A)和KF6004(商品名，由信越化学工业社制造)；TSF4440、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4452、TSF4453和TSF4460(商品名，由GE Toshiba Silicone Corp.制造)；以及BYK-300、302、306、307、310、315、320、322、323、325、330、331、333、337、341、344、345、346、347、348、370、375、377、378、UV3500、UV3520和UV3570(商品名，由Bigchemi Japan Corp.制造)。
(D)具有碳碳三键和羟基的结构
具有碳碳三键和羟基的结构(D)不受特别限制。具有该结构的表面活性剂可包括以下化合物。
包含具有碳碳三键和羟基的结构(D)的表面活性剂可包括在其分子内具有三键和羟基的化合物。其具体实例可包括：2-丙炔-1-醇、1-丁炔-3-醇、2-丁炔-1-醇、3-丁炔-1-醇、1-戊炔-3-醇、2-戊炔-1-醇、3-戊炔-1-醇、4-戊炔-1-醇、4-戊炔-2-醇、1-己炔-3-醇、2-己炔-1-醇、3-己炔-1-醇、5-己炔-1-醇、5-己炔-3-醇、1-庚炔-3-醇、2-庚炔-1-醇、3-庚炔-1-醇、4-庚炔-2-醇、5-庚炔-3-醇、1-辛炔-3-醇、1-辛炔-3-醇、3-辛炔-1-醇、3-壬炔-1-醇、2-癸炔-1-醇、3-癸炔-1-醇、10-十一碳炔-1-醇、3-甲基-1-丁炔-3-醇、3-甲基-1-戊烯-4-炔-3-醇、3-甲基-1-戊炔-3-醇、5-甲基-1-己炔-3-醇、3-乙基-1-戊炔-3-醇、3-乙基-1-庚炔-3-醇、4-乙基-1-辛炔-3-醇、3，4-二甲基-1-戊炔-3-醇、3，5-二甲基-1-己炔-3-醇、3，6-二甲基-1-庚炔-3-醇、2，2，8，8-四甲基-3，6-壬二炔-5-醇、4，6-十九碳二炔-1-醇、10，12-二十五碳二炔-1-醇、2-丁炔-1，4-二醇、3-己炔-2，5-二醇、2，4-己二炔-1，6-二醇、2，5-二甲基-3-己炔-2，5-二醇、3，6-二甲基-4-辛炔-3，6-二醇、2，4，7，9-四甲基-5-癸炔-4，7-二醇、(+)-1，6-双(2-氯苯基)-1，6-二苯基-2，4-己二炔-1，6-二醇、(-)-1，6-双(2-氯苯基)-1，6-二苯基-2，4-己二炔-1，6-二醇、2-丁炔-1，4-二醇双(2-羟基乙基)、1，4-二乙酰氧基-2-丁炔、4-二乙氨基-2-丁炔-1-醇、1，1-二苯基-2-丙炔-1-醇、1-乙炔基-1-环己醇、9-乙炔基-9-芴醇、2，4-己二炔二基-1，6-双(4-苯基偶氮苯磺酸酯)、2-羟基-3-丁炔酸、2-羟基-3-丁炔酸乙酯、2-甲基-4-苯基-3-丁炔-2-醇、甲基炔丙基醚、5-苯基-4-戊炔-1-醇、1-苯基-1-丙炔-3-醇、1-苯基-2-丙炔-1-醇、4-三甲基甲硅烷基-3-丁炔-2-醇和3-三甲基甲硅烷基-2-丙炔-1-醇。
此外，还可以包括通过在以上化合物的部分或全部羟基上加成例如氧化亚乙基等氧化亚烷基而获得的化合物(例如，SURFYNOL 400系列(商品名，由信越化学工业社制造))。
包含具有碳碳三键和羟基的结构(D)的表面活性剂优选是由下式(D1)或(D2)中任一通式表示的化合物。
Figure G2009101409842D00501
在式(D1)和(D2)中，Ra、Rb、Rc和Rd各自独立地为单价有机基团；x、y和z各自独立地是大于或等于1的整数。
在由式(D1)或(D2)表示的化合物中，通过选择烷基作为Ra、Rb、Rc和Rd而获得的化合物是优选的。此外，通过选择支链烷基作为Ra和Rb至少之一以及Rc和Rd至少之一而获得的化合物是优选的。x和y均优选为1～500。
由式(D1)或(D2)表示的化合物的市售产品可包括SURFINOL 400系列(商品名，由信越化学工业社制造)。
具有结构(A)～(D)的表面活性剂可单独使用或以多种表面活性剂构成的混合物进行使用。当使用多种构成的混合物时，可组合使用其结构与具有结构(A)～(D)的表面活性剂不同的表面活性剂，只要不损害效果即可。
可组合使用的表面活性剂可包括下述的具有氟原子的表面活性剂或具有硅酮结构的表面活性剂。
也即，可与具有结构(A)～(D)的表面活性剂组合使用的表面活性剂可优选包括全氟烷基磺酸(例如全氟丁烷磺酸或全氟辛烷磺酸等)、全氟烷基羧酸(例如全氟丁烷羧酸或全氟辛烷羧酸等)和含全氟烷基的磷酸酯。全氟烷基磺酸和全氟烷基羧酸可包括它们的盐和酰胺改性体。
全氟烷基磺酸的市售产品实例可包括MEGAFAC F-114(商品名，由大日本油墨化学株式会社制造)；EFTOP EF-101、EF-102、EF-103、EF-104、EF-105、EF-112、EF-121、EF-122A、EF-122B、EF-122C和EF-123A(商品名，由Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co.，Ltd.制造)；以及FTERGENT 100、100C、110、140A、150、150CH、A-K和501(商品名，由NEOS COMPANY LIMITED.制造)。
全氟烷基羧酸的市售产品实例可包括MEGAFAC-410(商品名，由大日本油墨化学株式会社制造)和EFTOP EF-201和EF-204(商品名，由Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co.，Ltd.制造)。
含全氟烷基的磷酸酯的市售产品实例可包括MEGAFAC F-493和F494(商品名，由大日本油墨化学株式会社制造)；和EFTOP EF-123A、EF-123B、EF-125M和EF-132(商品名，由Mitsubishi Materials ElectronicChemicals Co.，Ltd.制造)。
需要注意的是，可与具有结构(A)～(D)的表面活性剂组合使用的表面活性剂并不限于上述的化合物，还可以优选使用含氟原子的甜菜碱结构化合物(例如FTARGENT 400SW(商品名，由NEOS COMPANYLIMITED.制造))和具有两性基团的表面活性剂(例如FTARGENT SW(商品名，由NEOS COMPANY LIMITED.制造))。
具有硅酮结构并且可与具有结构(A)～(D)的表面活性剂组合使用的表面活性剂可包括常规的硅油，例如二甲基硅酮、甲基苯基硅酮、二苯基硅酮或其衍生物。
相对于保护层(最外表面层)5的总固体含量，表面活性剂的含量优选是0.01重量％(或约0.01重量％)～1重量％(或约1重量％)，更优选是0.02重量％～0.5重量％。当该表面活性剂的含量小于约0.01重量％时，防止涂膜出现缺陷的效果往往变得不足。当表面活性剂的含量超过约1重量％时，因为特定表面活性剂与固化成分(例如由式(I)表示的化合物或其他单体或低聚物)发生分离，所得固化物的强度往往下降。
此外，相对于表面活性剂的总含量，具有结构(A)～(D)的表面活性剂的含量优选是1重量％以上，更优选是10重量％以上。
以下，将对构成用于形成保护层5的组合物的其他组分进行描述。
除了由式(I)表示的化合物和所述特定的表面活性剂以外，还可在该组合物中加入不具有电荷输送性的自由基聚合性单体、低聚物等，以控制该组合物的粘度、所得膜的强度、柔性、平滑性和可清洁性。
单官能自由基聚合性单体的实例可包括丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸硬脂基酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸-2-甲氧基乙酯、丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、丙烯酸-2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢糠基酯、丙烯酸苯甲酯、丙烯酸乙基卡必醇酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸-2-羟基乙基酯、丙烯酸-2-羟基丙酯、丙烯酸-4-羟基丁酯、丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、丙烯酸羟乙基-邻苯基苯酚酯和丙烯酸邻苯基苯酚缩水甘油醚酯。
双官能自由基聚合性单体的实例可包括二丙烯酸-1，4-丁二醇酯、二丙烯酸-1，6-己二醇酯、二丙烯酸-1，9-壬二醇酯、二丙烯酸-2-正丁基-2-乙基-1，3-丙二醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯、二丙烯酸四乙二醇酯、二丙烯酸二氧己环二醇酯、二丙烯酸聚四亚甲基二醇酯、乙氧基化双酚A二丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯、二丙烯酸三环癸烷甲醇酯和二甲基丙烯酸三环癸烷甲醇酯。
三官能或更多官能的自由基聚合性单体的实例可包括三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、丙烯酸季戊四醇酯、EO加成三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、PO加成丙三醇三丙烯酸酯、磷酸三丙烯酰氧基乙基酯、四丙烯酸季戊四醇酯和乙氧基化异氰脲酸三丙烯酸酯。
此外，自由基聚合性低聚物的实例可包括环氧-丙烯酸酯、氨基甲酸酯-丙烯酸酯和聚酯-丙烯酸酯低聚物。
相对于该组合物的总固体含量，不具有电荷输送性的自由基聚合性单体和低聚物的含量优选是0～50重量％，更优选是0～40重量％，再优选是0～30重量％。
在本发明的示例性实施方式中，构成最外表面层的固化物(交联膜)是通过用热、光、电子束或其他各种方法将含有由式(I)表示的化合物和特定的表面活性剂的组合物固化而获得的，但从兼得固化物的各种性能(包括电特性和机械强度)的角度考虑，热固化是优选的。通常，当将常规的丙烯酸类涂料等固化时，优选使用可在不用催化剂的条件下进行固化的电子束和可短时间固化的光聚合。然而，经过本发明人的深入研究，结果发现，因为电子照相感光体中其上形成有最外表面层的感光层含有感光材料，为了减少对感光材料造成的损伤并增强所得固化物的表面性质，可进行温和反应的热固化是优选的。
热固化可在不采用催化剂的条件下进行，但如下所述，优选使用热自由基引发剂作为催化剂。
也即，优选将热自由基引发剂加入到用于形成保护层5的组合物中。
热自由基引发剂不受特别限制，但优选的10小时半衰期温度为40℃(或约40℃)～110℃(或约110℃)，以便在形成保护层5时防止包含在感光层中的感光材料的损伤。
市售热自由基引发剂可包括：偶氮类引发剂，例如V-30(10小时半衰期温度(10HLT)：104℃)、V-40(10HLT：88℃)、V-59(10HLT：67℃)、V-601(10HLT：66℃)、V-65(10HLT：51℃)、V-70(10HLT：30℃)、VF-096(10HLT：96℃)、Vam-110(10HLT：111℃)和Vam-111(10HLT：111℃)(均为商品名，由和光纯药工业社制造)；OTAZO-15(10HLT：61℃)、OTAZO-30、AIBM(10HLT：65℃)、AMBN(10HLT：67℃)、ADVN(10HLT：52℃)和ACVA(10HLT：68℃)(均为商品名，由大塚化学社制造)；
PERTETRA A、PERHEXA HC、PERHEXA C、PERHEXA V、PERHEXA 22、PERHEXA MC、PERBUTYL H、PERCUMYL H、PERCUMYL P、PERMENTA H、HPEROCTA H、PERBUTYL C、PERBUTYL D、PERHEXYL D、PEROYL IB、PEROYL 355、PEROYL L、PEROYL SA、NYPER BW、NYPER BMT-K40/M、PEROYL IPP、PEROYLNPP、PEROYL TCP、PEROYL OPP、PEROYL SBP、PERCUMYL ND、PEROCTA ND、PERHEXYL ND、PERBUTYL ND、PERBUTYL NHP、PERHEXYL PV、PERBUTYL PV、PERHEXA 250、PEROCTA O、PERHEXYL O、PERBUTYL O、PERBUTYL L、PERBUTYL 355、PERHEXYL I、PERBUTYL I、PERBUTYL E、PERHEXA 25Z、PERBUTYL A、PERHEXYL Z、PERBUTYL ZT和PERBUTYL Z(均为商品名，由日油化学社制造)；
KAYAKETALAM-C55、TRIGONOX 36-C75、LAUROX、PERKADOXL-W75、PERKADOX CH-50L、TRIGONOX TMBH、KAYACUMENE H、KAYABUTYL H-70、PERKADOX BC-FF、KAYAHEXA AD、PERKADOX14、KAYABUTYL C、KAYABUTYL D、KAYAHEXA YD-E85、PERKADOX12-XL25、PERKADOX 12-EB20、TRIGONOX 22-N70、TRIGONOX22-70E、TRIGONOX D-T50、TRIGONOX 423-C70、KAYAESTERCND-C70、KAYAESTER CND-W50、TRIGONOX 23-C70、TRIGONOX23-W50N、TRIGONOX 257-C70、KAYAESTER P-70、KAYAESTERTMPO-70、TRIGONOX 121、KAYAESTER O、KAYAESTER HTP-65W、KAYAESTER AN、TRIGONOX 42、TRIGONOX F-C50、KAYABUTYL B、KAYACARBON EH-C70、KAYACARBON EH-W60、KAYACARBONI-20、KAYACARBON BIC-75、TRIGONOX 117和KAYARENE 6-70(均为商品名，由KAYAKU AKZO CO.，LTD.制造)；和
LUPEROX LP(10HLT：64℃)、LUPEROX 610(10HLT：37℃)、LUPEROX 188(10HLT：38℃)、LUPEROX 844(10HLT：44℃)、LUPEROX259(10HLT：46℃)、LUPEROX 10(10HLT：48℃)、LUPEROX 701(10HLT：53℃)、LUPEROX 11(10HLT：58℃)、LUPEROX 26(10HLT：77℃)、LUPEROX 80(10HLT：82℃)、LUPEROX 7(10HLT：102℃)、LUPEROX270(10HLT：102℃)、LUPEROX P(10HLT：104℃)、LUPEROX 546(10HLT：46℃)、LUPEROX 554(10HLT：55℃)、LUPEROX 575(10HLT：75℃)、LUPEROX TANPO(10HLT：96℃)、LUPEROX 555(10HLT：100℃)、LUPEROX 570(10HLT：96℃)、LUPEROX TAP(10HLT：100℃)、LUPEROX TBIC(10HLT：99℃)、LUPEROX TBEC(10HLT：100℃)、LUPEROX JW(10HLT：100℃)、LUPEROX TAIC(10HLT：96℃)、LUPEROX TAEC(10HLT：99℃)、LUPEROX DC(10HLT：117℃)、LUPEROX 101(10HLT：120℃)、LUPEROX F(10HLT：116℃)、LUPEROXDI(10HLT：129℃)、LUPEROX 130(10HLT：131℃)、LUPEROX 220(10HLT：107℃)、LUPEROX 230(10HLT：109℃)、LUPEROX 233(10HLT：114℃)和LUPEROX 531(10HLT：93℃)(均为商品名，由ARKEMA YOSHITOMI，LTD.制造)。
相对于组合物中所含的反应性化合物，热自由基引发剂的含量优选为0.001重量％～10重量％，更优选为0.01重量％～5重量％，再优选为0.1重量％～3重量％。
此外，还可以向用于形成保护层5的组合物中添加例如酚树脂、三聚氰胺树脂或苯胍胺树脂等其他热固性树脂，以防止放电产物气体的过量吸收，并有效抑制由放电产物气体所导致的氧化。
此外，出于控制所得膜的成膜性、柔性、润滑性和粘附性等的目的，还可以进一步向用于形成保护层5的组合物中添加偶联剂、硬涂布剂或含氟化合物。作为这些添加剂，具体而言，可使用各种硅烷偶联剂和市售的硅酮类硬涂布剂。
硅烷偶联剂可包括乙烯基三氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷和二甲基二甲氧基硅烷。
市售硬涂布剂可包括KP-85、X-40-9740和X-8239(商品名，由Shin-Etsu Silicones制造)；和AY42-440、AY42-441和AY49-208(商品名，由Dow Corning Toray Co.，Ltd.制造)。
此外，为了提供斥水性等，可添加含氟化合物，其可以包括(十三氟-1，1，2，2-四氢辛基)三乙氧基硅烷、(3，3，3-三氟丙基)三甲氧基硅烷、3-(七氟-异丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟烷基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟癸基三乙氧基硅烷和1H，1H，2H，2H-全氟辛基三乙氧基硅烷。
硅烷偶联剂可以以任意量使用，但含氟化合物的量优选是不含氟的化合物的重量的0.25倍以下。当用量大于该值时，可能会给交联膜的成膜性带来问题。
此外，出于向保护层提供对放电产物气体的耐受性、机械强度、耐刮擦性、减少扭矩和控制磨损量的目的以及延长贮存寿命和控制颗粒分散性和粘度的目的，可向用于形成保护层5的组合物中添加热塑性树脂。
该热塑性树脂可包括聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚乙烯醇缩甲醛树脂、例如部分乙酰化的聚乙烯醇缩乙醛树脂等聚乙烯醇缩乙醛树脂(例如S-LEC B或K等(商品名，由积水化学社制造))、聚酰胺树脂、纤维素树脂和聚乙烯基苯酚树脂。特别是，考虑到电特性，聚乙烯醇缩乙醛树脂和聚乙烯基苯酚树脂是优选的。该树脂的重均分子量优选是2000～100000，更优选是5000～50000。当该树脂的重均分子量小于2000时，树脂添加效果倾向于不足。当超过100000时，溶解度下降，由此添加量受限，而且很可能在涂布时出现成膜不良。该树脂的添加量优选是1重量％～40重量％，更优选是1重量％～30重量％，再优选是5重量％～20重量％。当树脂添加量小于1重量％时，树脂添加效果倾向于不足。当超过40重量％时，在高温高湿条件(例如28℃和85％RH(相对湿度))下图像容易模糊。
出于防止由充电装置中产生的例如臭氧等氧化性气体所导致的劣化的目的，优选向用于形成保护层5的组合物中添加抗氧化剂。当增加感光体表面的机械强度和改善感光体的耐用性时，由于该感光体要长期暴露于氧化性气体，所以需要比以往更强的耐氧化性。
作为抗氧化剂，受阻酚抗氧化剂或受阻胺抗氧化剂是优选的。也可以使用例如有机硫类抗氧化剂、亚磷酸盐(酯)类抗氧化剂、二硫代氨基甲酸盐类抗氧化剂、硫脲类抗氧化剂或苯并咪唑类抗氧化剂等已知的抗氧化剂。抗氧化剂的添加量优选为20重量％以下，更优选为10重量％以下。
受阻酚类抗氧化剂的实例包括2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2，5-二叔丁基对苯二酚、N，N’-六亚甲基双(3，5-二叔丁基-4-羟基氢化肉桂酰胺)、3，5-二叔丁基-4-羟基-苯甲基膦酸二乙酯、2，4-双[(辛基硫代)甲基]-邻甲酚、2，6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2，2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2’-亚甲基双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4，4’-亚丁基双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，5-二叔戊基对苯二酚、2-叔丁基-6-(3-丁基-2-羟基-5-甲基苯甲基)-4-甲基苯基丙烯酸酯和4，4’-亚丁基双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)。
为了降低残留电势或改善强度，用于形成保护层5的组合物可包含各种颗粒。所述颗粒的一个实例是含硅的颗粒。含硅的颗粒包含硅作为构成元素，其具体实例包括胶态二氧化硅和硅酮颗粒。用作含硅颗粒的胶态二氧化硅是其中将平均粒径为1nm～100nm(优选为10nm～30nm)的二氧化硅颗粒分散在酸性或碱性水性溶剂或例如醇、酮或酯等有机溶剂中而形成的分散液。胶态二氧化硅可以是市售产品。胶态二氧化硅在保护层5中的固体含量不受特别限制，但考虑到成膜性、电特性和强度，优选相对于保护层5的总固体含量为0.1重量％～50重量％，更优选为0.1重量％～30重量％。
用作含硅颗粒的硅酮颗粒选自硅酮树脂颗粒、硅橡胶颗粒和经硅酮表面处理的二氧化硅颗粒，可使用市场上一般可购得的硅酮颗粒。这些硅酮颗粒为球形，平均粒径优选为1nm～500nm，更优选为10nm～100nm。这些硅酮颗粒呈化学惰性，是在树脂中具有优异的分散性的小粒径颗粒。此外，提供足够的特性所需的硅酮颗粒的含量很低，因此可以在不阻碍交联反应的情况下改善电子照相感光体的表面性质。也即，掺加硅酮颗粒时可在不导致强交联结构中出现任何不均匀性的同时，改善电子照相感光体的表面润滑性和斥水性，由此可长期保持良好的耐磨损性和耐污染物附着性。
基于保护层5的总固体含量，保护层5中的硅酮颗粒的含量优选是0.1重量％～30重量％，更优选是0.5重量％～10重量％。
所述颗粒的其他实例包括：氟颗粒，例如四氟乙烯、三氟乙烯、六氟丙烯、氟乙烯和偏二氟乙烯；通过将氟树脂与具有羟基的单体共聚而获得的树脂的颗粒，例如“第八届高分子材料论坛讲演予稿集”第89页中所述的树脂颗粒；例如ZnO-Al2O3、SnO2-Sb2O3、In2O3-SnO2、ZnO2-TiO2、ZnO-TiO2、MgO-Al2O3、FeO-TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO和MgO等半导电性金属氧化物的颗粒。出于相似的目的，可添加例如硅油等油类。硅油的实例包括：硅油，例如二甲基聚硅氧烷、二苯基聚硅氧烷和苯基甲基硅氧烷；反应性硅油，例如氨基改性聚硅氧烷、环氧改性聚硅氧烷、羧基改性聚硅氧烷、卡必醇改性聚硅氧烷、甲基丙烯酰基改性聚硅氧烷、巯基改性聚硅氧烷和苯酚改性聚硅氧烷；环式二甲基环硅氧烷，例如六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷和十二甲基环六硅氧烷；环式甲基苯基环硅氧烷，例如1，3，5-三甲基-1，3，5-三苯基环三硅氧烷、1，3，5，7-四甲基-1，3，5，7-四苯基环四硅氧烷、1，3，5，7，9-五甲基-1，3，5，7，9-五苯基环五硅氧烷；环式苯基环硅氧烷，例如六苯基环三硅氧烷；含氟的环硅氧烷，例如(3，3，3-三氟丙基)甲基环三硅氧烷；含氢甲硅烷基的环硅氧烷，例如甲基氢硅氧烷混合物、五甲基环五硅氧烷和苯基氢环硅氧烷；和含乙烯基的环硅氧烷，例如五乙烯基五甲基环五硅氧烷。
用于形成保护层5的组合物可进一步包含金属、金属氧化物、炭黑等。金属的实例包括铝、锌、铜、铬、镍、银和不锈钢；以及汽相淀积有例如以上的金属的塑料颗粒。金属氧化物的实例包括氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化锑、氧化铟、氧化铋、掺杂锡的氧化铟、掺杂锑的或掺杂钽的氧化锡和掺杂锑的氧化锆。这些金属、金属氧化物和炭黑可单独使用，或者其中两种以上组合使用。当它们中的两种以上组合使用时，可以将其简单地混合，或制成固溶体或熔融物。考虑到保护层的透明性，这些导电性颗粒的平均粒径优选是0.3μm以下，特别优选是0.1μm以下。
用于形成保护层5的组合物优选制成保护层形成用涂布液的形式。该保护层形成用涂布液可不含溶剂，或者在必要时可以包含溶剂，例如醇类，其包括甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、环戊醇和环己醇；酮类，其包括丙酮和甲基乙基酮；或醚类，其包括四氢呋喃、乙醚和二噁烷。
溶剂可单独使用或以其中两种以上的溶剂构成的混合物进行使用，但溶剂的沸点优选在100℃以下。作为溶剂，特别优选使用具有至少一个羟基的溶剂(例如醇类)。
采用例如刮刀涂布法、绕线棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、刮槽涂布法、气刀涂布法或幕涂法等常规方法将由用于形成保护层5的组合物构成的涂布液涂布在电荷输送层3上，然后在必要时通过将所得涂层例如在100℃～170℃的温度加热而进行固化。这样，获得了固化物。结果，获得了由该固化物构成的保护层(最外表面层)5。
需要注意的是，在保护层形成用涂布液固化期间的氧气浓度优选是1重量％以下，更优选是1000ppm以下，再优选是500ppm以下。
除了感光体之外，保护层形成用涂布液还可用于例如荧光涂料、用于玻璃表面或塑料表面等的抗静电膜等。通过使用该涂布液，可形成对底涂层具有极好的粘附性的膜，由此可防止因长期反复使用所致的性能劣化。
以上描述了功能分离型电子照相感光体的一个实例，但如图4所示的单层型感光层6(电荷产生和输送层)中的电荷产生材料的含量为10重量％～85重量％，优选为20重量％～50重量％。电荷输送材料的含量优选是5重量％～50重量％。用于形成单层型感光层6(电荷产生和输送层)的方法与用于形成电荷产生层2或电荷输送层3的方法类似。单层型感光层(电荷产生和输送层)6的厚度优选是5μm～50μm，更优选是10μm～40μm。
在上述的示例性实施方式中，描述了其中最外表面层用作保护层5的实施方式，该最外表面层由包含由式(I)表示的化合物和特定的表面活性剂的组合物的固化物构成。对不包含保护层5的层构成的情况，在该层构成中位于最外表面的电荷输送层用作最外表面层。
成像设备和处理盒
图4是显示本发明的一个示例性实施方式的成像设备的示意图。
图4中所示的成像设备100配备了处理盒300，该处理盒300具有电子照相感光体7、曝光装置(静电潜像形成装置)9、转印装置(转印单元)40和中间转印体50。需要注意的是，在成像设备100中，曝光装置9配置在可通过处理盒300的开口对电子照相感光体7进行曝光的位置，转印装置40配置在隔着中间转印体50而面向电子照相感光体7的位置，中间转印体50以一部分的中间转印体50与电子照相感光体7接触的方式配置。
图4的处理盒300在其壳体中承载并集成了电子照相感光体7、充电装置(充电单元)8、显影装置(显影单元)11和清洁装置13。清洁装置13具有清洁刮刀(清洁部件)。清洁刮刀131以与电子照相感光体7的表面接触的方式配置。
图4显示了清洁装置13的一个实例，其中，配备了将润滑材料供给到感光体7的表面的纤维状部件132(辊状)和协助清洁的另一纤维状部件133(平刷状)，但这些部件是必要时可使用的。
作为充电装置8，例如，可使用采用导电性或半导电性充电辊、充电刷、充电膜、充电橡胶刮刀或充电管等的接触型充电装置。也可以使用已知的非接触型充电装置，例如非接触型辊充电装置、利用电晕放电的栅格式电晕管(scorotron)或电晕管充电装置等。
尽管图中没有显示，但也可在电子照相感光体7的四周配置加热部件，以便提高电子照相感光体7的温度，从而降低其相对温度，由此提高图像的稳定性。
曝光装置9的实例包括用半导体激光、LED、液晶光闸等的光以所需图像的图案对电子照相感光体7的表面进行曝光的光学仪器。所用光源的波长处于该电子照相感光体的分光感光度区域内。对于半导体激光束，主要使用在780nm附近具有振动波长的近红外光。不过，该光源的波长并不限于以上范围，也可以使用具有约600nm的振动波长的激光和具有400nm～450nm左右的振动波长的蓝色激光。能够进行多光束输出的面发射型激光束光源对于形成彩色图像也是有效的。
作为显影装置11，例如，可使用通过将磁性或非磁性的单组分或双组分显影剂进行接触或不接触而进行显影的普通显影装置。该显影装置不受特别限制，只要它具有上述功能即可，并可根据优选用途进行适当的选择。其实例包括通过使用刷或辊将单组分或双组分显影剂附着于电子照相感光体7而进行显影的已知显影装置。
以下，将描述用于显影装置11的调色剂。
该调色剂的平均形状系数(ML2/A×π/4×100，其中ML是一个调色剂颗粒的最大长度，A是该调色剂颗粒的投影面积)优选为100～150，更优选是100～140。此外，该调色剂的体积平均粒径优选是2μm～12μm，更优选是3μm～12μm，再优选是3μm～9μm。通过使用满足上述平均形状系数和体积平均粒径的调色剂，与其他调色剂相比，可获得更高的显影和转印性能和更高品质的图像。
制造调色剂的方法不受特别限制，只要所得的调色剂颗粒可满足上述平均形状系数和体积平均粒径即可。这些方法的实例包括：捏合粉碎法，其中，将粘合剂树脂、着色剂、防粘剂以及可选的电荷控制剂等混合并捏合、粉碎和分级；使用机械冲击或热能来改变由捏合粉碎法获得的颗粒的形状的方法；乳化聚合凝集法，其中，将通过乳化和聚合粘合剂树脂的聚合性单体而获得的分散液与含有着色剂、防粘剂和可选的电荷控制剂等试剂的分散液混合，然后使该混合物发生凝集，将其加热融合而获得调色剂颗粒；悬浮聚合法，其中，将用于获得粘合剂树脂的聚合性单体与含有着色剂、防粘剂和可选的电荷控制剂等试剂的溶液悬浮在水性介质中，使该悬浮液发生聚合；以及溶解-悬浮法，其中，将粘合剂树脂与含有着色剂、防粘剂和可选的电荷控制剂等试剂的溶液悬浮在水性介质中，以形成颗粒。
此外，还可以使用公知方法，例如制造具有核-壳结构的调色剂颗粒的方法，其中，将凝集颗粒进一步附着于由通过上述方法获得的调色剂颗粒形成的核上，然后进行加热融合。作为制造调色剂颗粒的方法，从控制调色剂颗粒的形状和粒度分布的角度考虑，如悬浮聚合法、乳化聚合凝集法和溶解悬浮法等在水性介质中制造调色剂的方法是优选的，乳化聚合凝集法是最优选的。
调色剂母颗粒由粘合剂树脂、着色剂和防粘剂以及可选的二氧化硅或电荷控制剂形成。
用于调色剂母颗粒的粘合剂树脂的实例包括以下单体的均聚物和共聚物：苯乙烯类，例如苯乙烯和氯苯乙烯；单烯烃类，例如乙烯、丙烯和丁烯；二烯类，例如异戊二烯；乙烯基酯类，例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、丁酸乙烯酯；α-亚甲基脂肪族单羧酸酯类，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸十二烷基酯；乙烯基醚类，例如乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚和乙烯基丁基醚；以及乙烯基酮类，例如乙烯基甲基酮、乙烯基己基酮和乙烯基异丙烯基酮；以及通过将二羧酸与二醇共聚而合成的聚酯树脂。
典型的粘合剂树脂的实例包括聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯酸烷基酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸烷基酯共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、聚乙烯、聚丙烯和聚酯树脂。其他实例包括聚氨酯、环氧树脂、硅树脂、聚酰胺、改性松香和固体石蜡。
典型的着色剂的实例包括磁性粉末，例如磁铁矿和铁氧体、炭黑、苯胺蓝、Calco Oil蓝、铬黄、群青蓝、杜邦油红、喹啉黄、亚甲基蓝氯化物、酞菁蓝、孔雀石绿草酸盐、灯黑、玫瑰红、C.I.颜料红48:1、C.I.颜料红122、C.I.颜料红57:1、C.I.颜料黄97、C.I.颜料黄17、C.I.颜料蓝15:1和C.I.颜料蓝15:3。
典型的防粘剂的实例包括低分子量聚乙烯、低分子量聚丙烯、费托合成蜡、褐煤蜡、巴西棕榈蜡、米糠蜡和小烛树蜡。
作为电荷控制剂，可以使用公知的试剂，例如偶氮金属络合物化合物、水杨酸金属络合物化合物和具有极性基团的树脂型电荷控制剂。当通过湿法制造调色剂颗粒时，从控制离子强度和减少废水污染量的角度考虑，优选使用不易溶解于水的材料。该调色剂可以是含有磁性材料的磁性调色剂或不含磁性材料的非磁性调色剂。
用于显影装置11的调色剂可通过使用亨舍尔混合机或V型搅拌机将调色剂母颗粒与外部添加剂混合而制得。当调色剂母颗粒用湿法制得时，该外部添加剂也可以用湿法混合。
可以将润滑剂颗粒加入到用于显影装置11的调色剂中。润滑剂颗粒的实例包括固体润滑剂，例如石墨、二硫化钼、滑石、脂肪酸和脂肪酸金属盐、如聚丙烯、聚乙烯和聚丁烯等低分子量聚烯烃；具有加热软化点的硅酮；脂肪酸酰胺，例如油酸酰胺、芥子酸酰胺、蓖麻油酸酰胺和硬脂酸酰胺；植物蜡，例如巴西棕榈蜡、米糠蜡、小烛树蜡、日本蜡和霍霍巴油；动物蜡，例如蜂蜡；矿物蜡和石油蜡，例如褐煤蜡、地蜡、纯地蜡、固体石蜡、微晶蜡和费托合成蜡以及它们的改性产物。这些可单独使用或其中两种以上组合使用。润滑剂颗粒的体积平均粒径优选是0.1μm～10μm，具有上述化学结构的物质可粉碎成具有相同粒径的颗粒。调色剂中该颗粒的含量优选是0.05重量％～2.0重量％，更优选是0.1重量％～1.5重量％。
出于从电子照相感光体的表面除去附着物或劣化物的目的，可将无机颗粒、有机颗粒或其中无机颗粒附着于有机颗粒的复合颗粒等加入到用于显影装置11的调色剂颗粒中。
合适的无机颗粒的实例包括各种无机氧化物、氮化物和硼化物，例如二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、钛酸钡、钛酸铝、钛酸锶、钛酸镁、氧化锌、氧化铬、氧化铈、氧化锑、氧化钨、氧化锡、氧化碲、氧化锰、氧化硼、碳化硅、碳化硼、碳化钛、氮化硅、氮化钛和氮化硼。
可用钛偶联剂或硅烷偶联剂对上述无机颗粒进行处理。
钛偶联剂的实例包括钛酸四丁基酯、钛酸四辛基酯、异丙基三异硬脂酰基钛酸酯、异丙基十三烷基苯磺酰基钛酸酯和双(二辛基焦磷酸酯)氧乙酸酯钛酸酯。硅烷偶联剂的实例包括γ-(2-氨基乙基)氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-(2-氨基乙基)氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(N-乙烯基苯甲基氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷盐酸盐、六甲基二硅氮烷、甲基三甲氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、邻甲基苯基三甲氧基硅烷和对甲基苯基三甲氧基硅烷。
可用硅油或例如硬脂酸铝、硬脂酸锌和硬脂酸钙等高级脂肪酸金属盐对上述无机颗粒进行疏水化处理。
有机颗粒的实例包括苯乙烯树脂颗粒、苯乙烯丙烯酸类树脂颗粒、聚酯树脂颗粒和聚氨酯树脂颗粒。
以体积平均粒径计，上述颗粒的粒径优选是5nm～1000nm，更优选是5nm～800nm，进一步优选是5nm～700nm。当体积平均粒径小于下限时，该颗粒可能不具有足够的研磨能力。另一方面，当体积平均粒径大于上限时，该颗粒可能在电子照相感光体的表面上形成刮痕。上述颗粒和润滑剂颗粒的总含量优选是0.6重量％以上。
作为添加到调色剂中的其他无机氧化物，考虑到颗粒的流动性、电荷控制等，使用一次粒径为40nm以下的小粒径无机氧化物。此外，考虑到降低附着力或电荷控制，优选添加粒径比该小粒径颗粒大的无机氧化物。作为这些无机氧化物的颗粒，可使用公知的颗粒，但为了精密地控制电荷，优选组合使用二氧化硅和氧化钛。有关小粒径无机氧化物的颗粒，表面处理可提供更高的分散性和更好的提高颗粒流动性的效果。还优选添加例如碳酸钙或碳酸镁等碳酸盐或例如水滑石等无机矿物质，以除去放电产物。
电子照相用彩色调色剂可通过与载体混合而进行使用。作为载体，可使用铁粉、玻璃珠、铁氧体粉末、镍粉或在前述粉末或珠的表面上具有表面树脂涂层的载体。有关彩色调色剂与载体的混合比可任意选择。
转印装置40的实例包括已知的转印充电装置，例如使用带、辊、膜、橡胶刮刀的接触型转印充电装置，或利用电晕放电的栅格式电晕管转印充电装置和电晕管转印充电装置。
作为中间转印体50，可使用被赋予了半导电性的由聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯或橡胶等制成的带(中间转印带)。中间转印体50也可以是鼓形。
除了上述装置之外，成像设备100还可以具有例如用于对电子照相感光体7进行光除电的光除电装置。
图5是本发明的另一示例性实施方式的成像设备120的横截面的示意图。如图5中所示，成像设备120是包含四个处理盒300的串联型全色成像设备。在成像设备120中，四个处理盒300彼此平行配置在中间转印体50上，而且每种颜色使用一个电子照相感光体。成像设备120除了是串联型设备之外，具有与成像设备100相似的构造。
当本发明的电子照相感光体用于串联型成像设备时，四个电子照相感光体的电特性可得到稳定化，使得能够更长期以优异的色平衡获得高图像品质。
在本发明的示例性实施方式的成像设备(处理盒)中，显影装置(显影单元)优选具有用作显影剂保持体的显影辊，该显影辊的移动方向与电子照相感光体的移动方向(旋转方向)相反。该显影辊具有将显影剂保持在其表面的圆筒状显影剂套筒。该显影装置可具有包含限制性部件的构造，该限制性部件用于调整供给至显影剂套筒的显影剂的量。通过该显影装置的显影辊朝着与电子照相感光体的旋转方向相反的方向移动(旋转)，停留在显影辊与电子照相感光体之间的调色剂将摩擦该电子照相感光体的表面。此外，在清洁残留在电子照相感光体上的调色剂时，例如，为了增强对具有准球形的调色剂的清洁能力，需增加刮刀等的挤压力以便强有力地擦拭电子照相感光体的表面。
由于这些擦拭运动，目前已知的常规电子照相感光体受到了严重的损伤，容易产生磨损、刮痕或调色剂成膜，由此导致图像劣化。然而，用本发明的示例性实施方式的特定的电荷输送性材料(特别是，该材料提供了具有高交联密度的交联膜，其中，反应性官能团的数量得到增加，并以高浓度混入)的交联物加固电子照相感光体，并由于其电特性优异而在电子照相感光体的表面上形成厚膜，由此可长期保持高图像品质。据认为，可长期显著地抑制放电产物的堆积。
在本发明的示例性实施方式的成像设备中，从更长时间地抑制放电产物的堆积的角度考虑，所选择的显影剂套筒与感光体之间的间距优选为200μm～600μm，更优选为300μm～500μm。出于相似考虑，所选择的显影剂套筒与限制性刮刀(即以上所述的用于调整显影剂量的限制性部件)之间的间距优选为300μm～1000μm，更优选为400μm～750μm。
此外，从更长时间地抑制放电产物的堆积的角度考虑，所选择的显影辊表面的移动速度的绝对值优选为感光体表面的移动速度(处理速度)的绝对值的1.5倍～2.5倍，更优选为1.7倍～2.0倍。
在本发明的示例性实施方式的成像设备(处理盒)中，显影装置(显影单元)包含了具有磁性体的显影剂保持体，用显影剂(优选是含有磁性载体和调色剂的双组分显影剂)使静电潜像显影。在这种情况下，与使用单组分显影剂特别是非磁性单组分显影剂的情况相比，可形成具有更高品质的彩色图像，可达到更长的操作寿命。
实施例
下文，将参考实施例对本发明进行更详细的描述，但本发明决不仅限于这些实施例。
实施例1
底涂层的制备
将100重量份的氧化锌(平均粒径为70nm，比表面积为15m2/g，由TAYCA Corp.制造)和500重量份的四氢呋喃混合；添加1.3重量份的硅烷偶联剂(KBM503，商品名，由信越化学社制造)；然后将所得混合物搅拌2小时。之后，通过减压蒸馏除去四氢呋喃，然后在120℃焙烤3小时，获得用硅烷偶联剂表面处理过的氧化锌。
将110重量份经表面处理的该氧化锌和500重量份的四氢呋喃混合；添加在50重量份的四氢呋喃中溶解有0.6重量份茜素的溶液；然后将所得混合物在50℃搅拌5小时。之后，通过减压过滤滤出施用有茜素的氧化锌，在60℃在减压下进一步干燥，以获得施用有茜素的氧化锌。
通过将60重量份的施用有茜素的氧化锌、13.5重量份的固化剂(封端异氰酸酯，SUMIDULE 3175，商品名，由Sumitomo Bayer Urethane Co.，Ltd.制造)、15重量份的缩丁醛树脂(S-LEC BM-1，商品名，由积水化学社制造)和85重量份的甲基乙基酮混合而制备成溶液，将39重量份的该溶液与25重量份的甲基乙基酮混合；然后使用含平均粒径为1mm的玻璃珠的砂磨机将所得混合物分散2小时，以获得分散液。
向所得的分散液中，添加用作催化剂的0.005重量份二月桂酸二辛基锡和40重量份的硅树脂颗粒(TOSPEARL 145，商品名，由GE ToshibaSilicone Corp.制造)，以获得底涂层形成用涂布液。通过浸渍涂布将该涂布液涂布在340mm长、1mm厚的铝基体上，然后在170℃干燥和固化40分钟，以获得19μm厚的底涂层。
电荷产生层的制备
使用含平均粒径为1mm的玻璃珠的砂磨机将由用作电荷产生材料的15重量份的羟基镓酞菁(在CuKα特性X射线衍射谱中至少在布拉格角(2θ±0.2°)7.3°、16.0°、24.9°和28.0°处具有衍射峰)、用作粘合剂树脂的10重量份氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH，商品名，由NipponUnicar Co.，Ltd.制造)和200重量份的乙酸正丁酯构成的混合物分散4小时。将175重量份的乙酸正丁酯和180重量份的甲基乙基酮加入到所得的分散液中，然后进行搅拌以获得电荷产生层形成用涂布液。通过浸渍涂布将该电荷产生层形成用涂布液涂布在底涂层上，在常温(25℃)干燥以形成0.2μm厚的电荷产生层。
电荷输送层的制备
将45重量份的N，N’-二苯基-N，N’-双(3-甲基苯基)-[1，1’]联苯基-4，4’-二胺和55重量份的双酚Z聚碳酸酯树脂(粘度平均分子量：50000)加入并溶解在800重量份的氯苯中，以制备电荷输送层形成用涂布液。将该涂布液涂布在电荷产生层上，在135℃干燥45分钟，以获得15μm厚的电荷输送层。
保护层的制备
将132重量份的由式(I)表示的化合物(化合物ii-18)和33重量份的作为不具有电荷输送性的单体的乙氧基化双酚A二丙烯酸酯(ABE-300，商品名，由新中村化学工业社制造)溶解在60重量份的异丙醇(IPA)和50重量份的四氢呋喃(THF)中；进一步溶解3重量份的热自由基产生剂(AIBN(2，2’-偶氮二异丁腈)，10小时半衰期温度：65℃，由大塚化学社制造)和1重量份的具有通过将含氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构(A)的表面活性剂(KL-600，商品名，由共荣社化学社制造)，以获得保护层形成用涂布液。将该涂布液涂布在电荷输送层上，在含约200ppm氧气的气氛中在150℃加热45分钟，以获得5μm厚的保护层。
这样，获得了电子照相感光体。该感光体称为感光体1。
评估
图像品质评估
将如上所述制得的电子照相感光体装在“700 Digital Color Press”(商品名，由富士施乐株式会社制造)上，并在10℃和15％RH的条件下印刷10000页5％半色调图像。在同一环境下对在初始阶段印刷的图像进行图像评估测试(1)。
在印刷10000页图像后，在同一环境下进行图像评估测试(2)。进一步地，在图像评估测试(2)之后，将该成像设备在27℃和80％RH下放置24小时，在同一环境下进行图像评估测试(3)。需要注意的是，在图像评估测试(2)中，对印刷了10000页之后的初始阶段的图像进行评估，而在图像评估测试(3)中，则对放置了24小时之后的初始阶段的图像进行评估。
此处，在图像评估测试(1)中，在图像评估测试(2)中，以及在图像评估测试(3)中，对浓度不均匀性、划痕、图像劣化和重影进行评估。
对于成像测试，使用由Fuji Xerox Office Supply Co.，Ltd.制造的P纸(商品名，A4尺寸，横送(cross-feed))。
评估结果显示在表5中。
浓度不均匀性评估：
使用5％半色调样品，通过目视来评估浓度不均匀性。
A：良好，
B：发现部分不均匀，以及
C：发现导致图像品质问题的不均匀。
划痕评估：
使用5％半色调样品，通过目视来评估划痕。
A：良好，
B：发现部分划痕，以及
C：发现导致图像品质问题的划痕。
图像劣化评估：
进一步地，与以上评估一起，如下进行图像劣化评估。
使用5％半色调样品，通过目视来评估图像劣化。
A：良好，
B：在连续印刷测试过程中未发现问题，但在放置24小时后发现问题，以及
C：甚至在连续印刷测试过程中也发现了问题。
重影评估：
通过印刷如图6A中所示的具有字母“G”和黑色区域的图表并通过目视检查字母“G”出现在黑色区域的程度来评估重影。
A：如图6A中所示，良好或者轻微，
B：如图6B中所示，有点明显，
C：如图6C中所示，清晰可见。
表面观察：
在图像品质测试(2)和图像品质测试(3)中评估了电子照相感光体之后，观察电子照相感光体的表面，并按如下方式进行评估。
A：良好，即使在放大20倍时也未发现伤痕和附着物，
B：在放大20倍时，仅发现少量伤痕和附着物，以及
C：即使用肉眼也能发现伤痕和附着物。
实施例2～27，比较例1和2
除了根据以下表1～4改变各种材料和混合量之外，按照与实施例1相似的方式制作感光体2～27、C1和C2并进行评估。结果显示于表5～8。
需要注意的是，在实施例21中，在将保护层形成用涂布液涂布在电荷输送层上之后，使用金属卤化物灯(由USHIO Inc.制造)，以照度为700mW/cm2(基准波长为365nm)的紫外光对所得涂层照射60秒。之后，将涂层在150℃加热45分钟，以形成5μm厚的保护层。这样，获得了电子照相感光体。
在表中，也显示了实施例和比较例中所用的各种材料及其混合量。
Figure G2009101409842D00711
Figure G2009101409842D00721
Figure G2009101409842D00731
Figure G2009101409842D00741
表1～4中的缩写说明如下。
ABE-300：不具有电荷输送性的单体，商品名，由新中村化学工业社制造，
THE-300：不具有电荷输送性的单体，商品名，由日本化药社制造，
IPA：异丙醇，
THF：四氢呋喃，
AIBN：热自由基产生剂，商品名，由大塚化学社制造，
LUPEROX 188：热自由基产生剂，商品名，由ARKEMA YOSHITOMI，LTD.制造，
LUPEROX 844：热自由基产生剂，商品名，由ARKEMA YOSHITOMI，LTD.制造，
V-65：热自由基产生剂，商品名，由和光纯药工业制造，
OTAZO-15：热自由基产生剂，商品名，由大塚化学社制造，
V-601：热自由基产生剂，商品名，由和光纯药工业制造，
LUPEROX 26：热自由基产生剂，商品名，由ARKEMA YOSHITOMI，LTD.制造，
LUPEROX 7：热自由基产生剂，商品名，由ARKEMA YOSHITOMI，LTD.制造，
LUPEROX 101：热自由基产生剂，商品名，由ARKEMA YOSHITOMI，LTD.制造，
Vam-110：热自由基产生剂，商品名，由和光纯药工业制造，
Irganox 819：光自由基产生剂，商品名，由Ciba Specialty Chemicals制造，
FTERGENT：具有结构(B)的表面活性剂，由NEOS COMPANYLIMITED.制造，
KB-F2M：具有结构(B)的表面活性剂，由NEOS COMPANYLIMITED.制造，
SURFINOL 420：具有结构(D)的表面活性剂，由信越化学社制造，
PolyFlo-KL-600：具有结构(A)的表面活性剂，由共荣社化学社制造，以及
聚乙二醇(Mw：200)：具有结构(C)的表面活性剂，由Aldrich Corp.制造。
实施例28
按照与实施例1相似的方式进行制备，直到制备电荷产生层的步骤为止。
将132重量份的由式(I)表示的化合物(化合物ii-18)和33重量份的作为丙烯酸类单体的乙氧基化双酚A二丙烯酸酯(ABE-300，商品名，由新中村化学工业社制造)溶解在由60重量份的异丙醇(IPA)和50重量份的四氢呋喃(THF)组成的混合溶剂中；进一步溶解3重量份的热自由基产生剂(AIBN，商品名，10小时半衰期温度：65℃，由大塚化学社制造)和1重量份的具有通过将含氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构(A)的表面活性剂(KL-600，商品名，由共荣社化学社制造)，以获得电荷输送层形成用涂布液。将该涂布液涂布在电荷产生层上，在含约200ppm氧气的气氛中在150℃加热45分钟，以获得15μm厚的电荷输送层(最外表面层)。
这样，获得了电子照相感光体。该感光体称为感光体28。
按照与实施例1相似的方式对该感光体进行评估。结果显示在表8中。
实施例29
按照与实施例1相似的方式进行制备，直到制备电荷产生层的步骤为止。
将132重量份的由式(I)表示的化合物(化合物iv-17)溶解在100重量份的单氯苯中；进一步溶解3重量份的热自由基产生剂(AIBN，商品名，10小时半衰期温度：65℃，由大塚化学社制造)和1重量份的具有通过将含氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构(A)的表面活性剂(KL-600，商品名，由共荣社化学社制造)，以获得电荷输送层形成用涂布液。将该涂布液涂布在电荷产生层上，在含约200ppm氧气的气氛中在150℃加热45分钟，以获得15μm厚的电荷输送层(最外表面层)。
这样，获得了电子照相感光体。该感光体称为感光体29。
按照与实施例1相似的方式对该感光体进行评估。结果显示在表8中。
Figure G2009101409842D00781
Figure G2009101409842D00801
Figure G2009101409842D00811
如表5～8中所示，在实施例中，与比较例相比，在浓度不均匀性、划痕、图像劣化和重影方面都取得了更好的结果。此外，已证实实施例的感光体具有与比较例相比更出色的表面性质。
浓度不均匀性和划痕的评估与感光体是否存在褶皱有关，浓度不均匀性和重影的评估与感光体是否不平整有关，因此，根据表5～8中所示的结果，已证实实施例的感光体的最外表面层没有会影响电特性和图像特性的褶皱和不平整。
此外，划痕的评估与源于机械强度的耐刮擦性有关，因此，已证实实施例的感光体在其最外表面层中具有优异的机械强度。

Claims (9)

1.一种电子照相感光体，所述电子照相感光体至少包含：
导电性基体，
形成在该导电性基体上的感光层，和
由以下组合物的固化物构成的所述电子照相感光体的最外表面层，所述组合物包含：
至少一种由下式(II)表示的化合物，和
表面活性剂，所述表面活性剂在其分子中具有选自以下结构中的至少一种结构：(A)通过将具有氟原子的丙烯酸类单体聚合而获得的结构；(B)具有碳碳双键和氟原子的结构；(C)氧化亚烷基结构；和(D)具有碳碳三键和羟基的结构，
Figure FDA00002133707100011
其中，在式(II)中，Ar1～Ar4各自独立地是由下式(3)表示的芳基；Ar5是由下式(7)表示的亚芳基；D是-(L)j-O-CO-C(R)=CH2，L是包含具有2～20个碳原子的亚烷基的二价有机基团，j是1，并且R是氢原子，或者直链的或支链的具有1～5个碳原子的烷基；五个c各自独立地是0或1；k是1；D的总数是大于或等于2；
Figure FDA00002133707100012
其中，式(3)和(7)是与可以与各Ar1～Ar4连接的“-(D)C”一起显示的，此处“-(D)C”具有与式(II)中的“-(D)C”相同的含义；
其中，在式(3)中，R04是氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、取代有具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基或卤原子，m是1～3的整数；
其中，在式(7)中，Ar是由以下式(8)表示的亚芳基，Z’是二价有机连接基团，p是0；
Figure FDA00002133707100021
其中，在式(8)中，R05是选自由以下基团组成的组中的基团：氢原子、具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的烷氧基、取代有具有1～4个碳原子的烷氧基的苯基、不具有取代基的苯基、具有7～10个碳原子的芳烷基和卤原子；q是1～3的整数。
2.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中，所述组合物还包含热自由基产生剂。
3.如权利要求2所述的电子照相感光体，其中，所述热自由基产生剂的10小时半衰期温度是40℃～110℃。
4.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中，相对于形成所述最外表面层时所用的所述组合物，由式(II)表示的所述化合物的总含量为大于或等于40重量%。
5.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中，相对于形成所述最外表面层时所用的所述组合物，所述表面活性剂的总含量为0.01重量%～1重量%。
6.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中，式(II)中的D的总数是大于或等于4。
7.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中，式(II)中的R是甲基。
8.一种处理盒，所述处理盒包含：
权利要求1～7中任一项所述的电子照相感光体；
选自以下单元中的至少一种单元：充电单元，该充电单元对所述电子照相感光体进行充电；显影单元，该显影单元用调色剂将形成在所述电子照相感光体上的静电潜像显影；以及调色剂除去单元，该调色剂除去单元将残留在所述电子照相感光体的表面上的调色剂除去。
9.一种成像设备，所述成像设备包含：
权利要求1～7中任一项所述的电子照相感光体；
充电单元，该充电单元对所述电子照相感光体进行充电；
静电潜像形成单元，该静电潜像形成单元在经充电的所述电子照相感光体上形成静电潜像；
显影单元，该显影单元用调色剂将形成在所述电子照相感光体上的所述静电潜像显影，从而形成调色剂图像；和
转印单元，该转印单元将所述调色剂图像转印至转印体。
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