CN102955382A - 电荷输送膜、光电转换器件、电子照相感光体、处理盒和图像形成设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及电荷输送膜、光电转换器件、电子照片感光体、处理盒和图像形成设备。所述电荷输送膜包含由式(I)表示的化合物的聚合物：(Ra)n-Fa-Xa-Fa’-(Ra’)n’(I)其中，Fa和Fa’独立地表示包含芳香环的电荷输送子单元，Ra和Ra’独立地表示与所述电荷输送子单元的芳香环直接结合的-CH＝CH2或由式(a)表示的基团，，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，n和n’独立地表示0以上的整数(其中，n和n’不同时为0)，L表示与所述电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
Description
技术领域
本发明涉及电荷输送膜、光电转换器件、电子照片感光体、处理盒和图像形成设备。
背景技术
近年来，一直在积极地进行利用有机化合物的电荷输送膜的开发，其用于如电子照相感光体、有机EL器件、有机晶体管和有机太阳能电池等电子器件。
特别是，电荷输送膜在电子照相感光体的领域中是非常重要的要素。下面给出了电荷输送膜用作电子照相感光体的最外表面层的实例。JP-A-2000-019749(专利文献1)公开了由有机-无机杂合材料形成的最外表面层。JP-A-2005-234546(专利文献2)公开了由链式聚合性材料形成的最外表面层。JP-A-2000-066424(专利文献3)公开了由丙烯酰基类材料形成的最外表面层。JP-A-2004-240079(专利文献4)公开了由放射交联剂和电荷输送性物质形成的并进行放射交联的最外表面层。
日本专利号3287678(专利文献5)公开了电子照相感光体的最外表面层的另一实例，其中导电性粉末分散在酚醛树脂中。
发明内容
本发明的目的是提供电荷输送性的环境依赖性减小的电荷输送膜。
根据本发明的第一方面，提供一种电荷输送膜，所述电荷输送膜包含：
由式(I)表示的化合物的聚合物：
(Ra)n-Fa-Xa-Fa’-(Ra’)n’ (I)
其中，Fa和Fa’独立地表示包含芳香环的电荷输送子单元，Ra和Ra’独立地表示与分别由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环直接结合的-CH＝CH2或由式(a)表示的基团，
Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，n和n’独立地表示0以上的整数(其中，n和n’不同时为0)，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
本发明的第二方面提供第一方面的电荷输送膜，其中，由式(I)表示的化合物中的n+n’是2以上的整数。
本发明的第三方面提供第一方面的电荷输送膜，其中，由式(I)表示的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
根据本发明的第四方面，提供一种光电转换器件，所述光电转换器件包含第一方面的电荷输送膜。
本发明的第五方面提供第四方面的光电转换器件，其中，由式(I)表示的所述电荷输送膜的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
根据本发明的第六方面，提供一种电子照相感光体，所述电子照相感光体包括第一方面的电荷输送膜。
本发明的第七方面提供第六方面的电子照相感光体，其中，由式(I)表示的化合物中的n+n’是2以上的整数。
本发明的第八方面提供第六方面的电子照相感光体，其中，由式(I)表示的所述电荷输送膜的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
本发明的第九方面提供第六方面的电子照相感光体，其中，所述电子照相感光体包括所述电荷输送膜作为最外表面层。
本发明的第十方面提供第六方面的电子照相感光体，其中，所述电荷输送膜还包含热自由基引发剂或其衍生物。
本发明的第十一方面提供第九方面的电子照相感光体，其中，由式(I)表示的所述电荷输送膜的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
本发明的第十二方面提供第九方面的电子照相感光体，其中，所述电荷输送膜还包含热自由基引发剂或其衍生物。
根据本发明的第十三方面，提供一种处理盒，所述处理盒包括第六方面的电子照相感光体。
本发明的第十四方面提供第十三方面的处理盒，其中，由式(I)表示的所述电子照 相感光体的电荷输送膜的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
本发明的第十五方面提供第十三方面的处理盒，其中，所述电子照相感光体的电荷输送膜还包含热自由基引发剂或其衍生物。
根据本发明的第十六方面，提供一种图像形成设备，所述图像形成设备包括：充电单元，所述充电单元对第六方面的电子照相感光体充电；潜像形成单元，所述潜像形成单元在经充电的电子照相感光体上形成静电潜像；显影单元，所述显影单元使用显影剂将形成在所述电子照相感光体上的静电潜像显影以形成色调剂图像；和转印单元，所述转印单元将已显影的色调剂图像转印至转印介质。
本发明的第十七方面提供第十六方面的图像形成设备，其中，由式(I)表示的所述电子照相感光体的电荷输送膜的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
本发明的第十八方面提供第十六方面的图像形成设备，其中，所述电子照相感光体的电荷输送膜还包含热自由基引发剂或其衍生物。
根据本发明的第一方面，与不包含由式(I)表示的化合物的聚合物的情况相比，可以获得其电荷输送性的环境依赖性减小的电荷输送膜。
根据本发明的第二方面，与式(I)中的n+n’不是2以上的情况相比，可以获得具有改进的交联密度的电荷输送膜。
根据本发明的第三方面，与不使用由式(III)表示的化合物的情况相比，可以获得具有优异的电荷输送性的电荷输送膜。
根据本发明的第四方面，与不包含具有由式(I)表示的化合物的聚合物的电荷输送膜的情况相比，可以获得能够抑制因环境变化导致的电气特性劣化的光电转换器件。
根据本发明的第五方面，与不使用由式(III)表示的化合物的情况相比，可以获得具有优异的电荷输送性的光电转换器件。
根据本发明的第六方面，与不包含具有由式(I)表示的化合物的聚合物的电荷输送膜的情况相比，可以获得能够抑制因环境变化导致的电气特性劣化的电子照相感光体。
根据本发明的第七方面，与电荷输送膜中的式(I)中的n+n’不是2以上的情况相比，可以获得具有改进的交联密度的电子照相感光体。
根据本发明的第八方面和第十一方面，与电荷输送膜不包含由式(III)表示的化合物的情况相比，可以获得具有优异的电荷输送性的电子照相感光体。
根据本发明的第九方面，与包含由式(I)表示的化合物的聚合物的电荷输送膜不是最外表面层的情况相比，可以获得即使长期反复使用时也能够抑制电气特性劣化的电子照相感光体。
根据本发明的第十方面和第十二方面，与不包含热自由基引发剂或其衍生物的情 况相比，可以获得即使长期反复使用时也能够抑制电气特性劣化的电子照相感光体。
根据本发明的第十三方面和第十六方面，与不使用包含具有由式(I)表示的化合物的聚合物的电荷输送膜的电子照相感光体的情况相比，可以获得能够抑制因环境变化导致的电气特性劣化的处理盒和图像形成设备。
根据本发明的第十四方面和第十七方面，与电荷输送膜不包含由式(III)表示的化合物的情况相比，可以获得具有优异的电荷输送性的处理盒和图像形成设备。
根据本发明的第十五方面和第十八方面，与不包含热自由基引发剂或其衍生物的情况相比，可以获得即使长期反复使用时也能够抑制电气特性劣化的处理盒和图像形成设备。
附图说明
将基于以下附图来详细说明本发明的示例性实施方式，其中：
图1是显示本发明的一个示例性实施方式的电子照相感光体的示意性部分截面图；
图2是显示本发明的另一示例性实施方式的电子照相感光体的示意性部分截面图；
图3是显示本发明的另一示例性实施方式的电子照相感光体的示意性部分截面图；
图4是显示本发明的一个示例性实施方式的图像形成设备的示意图；
图5是显示本发明的另一示例性实施方式的图像形成设备的示意图；和
图6A～6C是图示重影评估标准的图。
具体实施方式
电荷输送膜
本发明的示例性实施方式的电荷输送膜包含由式(I)表示的化合物的聚合物：
(Ra)n-Fa-Xa-Fa’-(Ra’)n’(I)
式(I)中，Fa和Fa’独立地表示包含芳香环的电荷输送子单元，Ra和Ra’独立地表示与分别由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环直接结合的-CH＝CH2或由式(a)表示的基团，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，n和n’独立地表示0以上的整数(其中，n和n’不同时为0)，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
传统上常用的具有(甲基)丙烯酸基团的电荷输送性化合物具有(甲基)丙烯酸基团的强亲水性，因此据认为它们在聚合时显示电荷输送性的骨架部位能够形成某些层分离状态，从而阻碍了漂移电导。因此，据认为包含具有(甲基)丙烯酸基团的电荷输送性化合物的聚合物的电荷输送膜的电荷输送效率不良，而且环境稳定性因水分的部分吸附等所致而劣化。
相反，用在本示例性实施方式中的由式(I)表示的化合物具有亲水性不高的乙烯基类的链式聚合性基团，并且在一个分子中具有多个表现电荷输送性的骨架，而且该骨架相互之间与芳香环或不具有共轭键(如共轭双键)的柔性连接基团连结。由于具有该结构，据认为可以实现有效的电荷输送性并增大强度，而且可以抑制聚合时的层分离状态的形成。结果，据认为包含由式(I)表示的化合物的聚合物的电荷输送膜同时具有优异的电荷输送性和机械强度，而且可以减小电荷输送性的环境依赖性(温度和湿度依赖性)。
由式(I)中的Fa和Fa’表示的包含芳香环的电荷输送子单元可以是源自包含芳香环的电子输送性化合物或空穴输送性化合物的子单元，并优选使用三芳基胺，因为其具有优异的电荷移动性和氧化稳定性等。
式(I)中的Ra和Ra’的取代数目(即n+n’)等于或大于1，而从层积膜的形成性和强度考虑，n+n’的值优选为等于或大于2。就材料稳定性而言n+n’的上限优选为8。在代表Ra和Ra’的式(a)中，L可以在任意位置被取代，且其中可以混有异构体。
由式(I)表示的化合物优选为由式(III)表示的化合物，原因是其具有优异的电荷移动性和氧化稳定性等。
式(III)中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6 独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
式(III)中的Ar1～Ar4表示的具有取代基或不具有取代基的芳基可以彼此相同或不同。
此处，具有取代基的芳基中的取代基的实例除了“D”之外还包括碳数为1～4的烷基、碳数为1～4的烷氧基、具有碳数为1～4的烷氧基取代基的苯基、不具有取代基的苯基、碳数为7～10的芳烷基和卤素原子。
Ar1～Ar4优选为结构式(1)～(7)中的任一式。结构式(1)～(7)连同可连结至Ar1～Ar4的“-(D)C”一起表示。此处，“-(D)C”具有与式(III)中的“-(D)C1”、“-(D)C2”、“-(D)C3”和“-(D)C4”相同的定义，并且其优选例是相同的。
在结构式(1)中，R9表示选自由氢原子、碳数为1～4的烷基、具有碳数为1～4的烷基取代基或碳数为1～4的烷氧基取代基的苯基、不具有取代基的苯基和碳数为 7～10的芳烷基组成的组的基团。
在结构式(2)和(3)中，R10～R12独立地表示选自由氢原子、碳数为1～4的烷基、碳数为1～4的烷氧基、具有碳数为1～4的烷氧基取代基的苯基、不具有取代基的苯基、碳数为7～10的芳烷基和卤素原子组成的组的基团。此处，t表示1～3的整数。
在结构式(7)中，Ar表示具有取代基的或不具有取代基的亚芳基。
此处，在结构式(7)中，Ar优选由结构式(8)或(9)表示。
在结构式(8)和(9)中，R13和R14独立地表示选自由氢原子、碳数为1～4的烷基、碳数为1～4的烷氧基、具有碳数为1～4的烷氧基取代基的苯基、不具有取代基的苯基、碳数为7～10的芳烷基和卤素原子组成的组的基团。此处，t表示1～3的整数。
在结构式(7)中，Z’表示二价有机连接基团，其优选由结构式(10)～(17)中的任-式表示。另外，s表示0或1。
在结构式(10)～(17)中，R15和R16独立地表示选自由氢原子、碳数为1～4的烷基、碳数为1～4的烷氧基、具有碳数为1～4的烷氧基取代基的苯基、不具有取代基的苯基、碳数为7～10的芳烷基和卤素原子组成的组的基团。W表示二价基团，q和r独立地表示1～10的整数，t表示1～3的整数。
在结构式(16)和(17)中，W优选是由结构式(18)～(26)所表示的二价基团中的任一 个。在结构式(25)中，u表示0～3的整数。
关于式(III)中的Ar5和Ar6表示的具有取代基或不具有取代基的亚芳基，所述亚芳基的一个实例是通过由Ar1～Ar4的描述中所例示的芳基的预定位置移除一个氢原子而获得的亚芳基。
具有取代基的亚芳基中的取代基的实例与Ar1～Ar4的描述中所例示的具有取代基的芳基的取代基(除“D”外)的实例相同。
以下将描述式(III)中的Xa。
Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，其是不包含芳香环或共轭键(如共轭双键)的连接基团。
具体而言，Xa可以是碳数为1～10的亚烷基，或碳数为1～10的亚烷基与选自-O-、-S-、-O-C(＝O)-和-C(＝O)-O-的基团组合的二价基团。
Xa是亚烷基时，所述亚烷基可具有烷基、烷氧基和卤素等取代基，或者两个此类取代基可以相互结合以形成由式(26)表示的二价基团(如W的具体实例所描述)的结构。
式(III)中的D的总数等于或大于2，考虑到层积膜的形成性和强度，其优选等于或大于3。就材料稳定性而言D的总数的上限值为8。
以下描述了由式(III)表示的化合物的具体实例。由式(III)表示的化合物并不限于这些实例。
此处，化合物ii-1～ii-34是式(III)中D的总数为2的化合物的具体实例，化合物iii-1～iii-9是式(III)中D的总数为3的化合物的具体实例，化合物iv-1～iv-17是式(III)中D的总数为4的化合物的具体实例。
合成方法
由式ii-30表示的化合物的合成路径
由式ii-2表示的化合物的合成路径
关于本示例性实施方式中使用的由式(I)表示的化合物，通过组合使用具有不同的链式聚合性官能团的官能数，即不同的n+n’值，可以在不会导致电荷输送性劣化的同时调节硬化物的强度。
具体而言，作为式(III)表示的化合物，可以将D的总数为4以上的化合物与D的总数为1～3的化合物组合使用来调整硬化物的强度，而不会导致电荷输送性劣化。
当两种化合物组合使用时，D的总数为4以上的化合物的含量可以设定为相对于由式(III)表示的化合物的总含量为5质量％～95质量％(优选为20质量％～90质量％)。
本示例性实施方式的电荷输送膜至少包含由式(I)表示的化合物的聚合物。
通过使用热能、光能、电子束能等来聚合由式(I)表示的化合物，可以获得该聚合物。
包含该聚合物的电荷输送膜可以通过制备包含由式(I)表示的化合物和必要时的其他成分的组合物并通过使用热能、光能、电子束能等来聚合(硬化)该组合物而获得。
此处，用于形成电荷输送膜的其他成分可以根据电荷输送膜的用途而适当地选择，其实例包括不具有电荷输送性的化合物、与式(I)表示的化合物不同的具有电荷输送性的化合物、不具有聚合性的电荷输送性化合物和用于下文描述的电荷输送层中的作为与硬化和聚合有关的化合物的粘合剂树脂或表面活性剂。
本示例性实施方式中由式(I)表示的化合物的聚合物的含量可根据电荷输送膜的用途基于电荷输送性来设定，并且通常可以设定为电荷输送膜的10质量％～100质量％(优选为20质量％～100质量％)。
本示例性实施方式的电荷输送膜除了包含由式(I)表示的化合物的聚合物之外还可包含由式(I)表示的化合物本身(未反应的状态)。
光电转换器件
本示例性实施方式的光电转换器件包括本示例性实施方式的电荷输送膜。
如上所述，由于本示例性实施方式的电荷输送膜同时具有优异的机械强度和电荷输送性，而且减小了电荷输送性的环境依赖性，因此即使在环境变化时也能够抑制电气特性的劣化。
本示例性实施方式的光电转换器件的实例包括电子照相感光体、有机EL器件、有机薄膜晶体管和有机太阳能电池。
具体而言，例如，有机EL器件包括一对电极，其中的至少一个电极是透明的或半透明的，并且在电极之间插入有一个或多个有机化合物层。本示例性实施方式的电荷输送膜可以用作所述有机化合物层的至少一层，而且对层结构没有具体限制。具体而言，本示例性实施方式的电荷输送膜可以用作发光层、空穴输送层和空穴注入层。
例如，有机薄膜晶体管包括与彼此相对设置的源电极和漏电极均接触的有机半导体层、与源电极和漏电极均隔开的门电极以及设置在有机半导体层和门电极之间的绝缘层。本示例性实施方式的电荷输送膜可以用作有机半导体层中的至少一层，而且对层结构没有具体限制。
电子照相感光体
下面将描述本示例性实施方式的电子照相感光体。
本示例性实施方式的电子照相感光体包括本示例性实施方式的电荷输送膜。
如上所述，由于本示例性实施方式的电荷输送膜同时具有优异的机械强度和电荷输送性，而且减小了电荷输送性的环境依赖性，因此即使在环境变化时也能够抑制使用该电荷输送膜的电子照相感光体中的电气特性的劣化。结果，获得了稳定的图像。
特别是，当所述电荷输送膜用作电子照相感光体的最外表面层时，其机械强度得以增强，因此即使在长期反复使用时也能够抑制电气特性的劣化。结果，可以连续地获得稳定的图像。
本示例性实施方式的电子照相感光体包括本示例性实施方式的电荷输送膜，所述电荷输送膜可以用作最外表面层和除了最外表面层之外的层中的任何层，不过优选用作最外表面层，如上所述原因在于其同时具有优异的的机械强度和电荷输送性，而且减小了电荷输送性的环境依赖性。
此处，最外表面层构成了电子照相感光体本身的顶表面，并优选设置为保护层或电荷输送层。
当最外表面层是保护层时，例如，电子照相感光体包括导电性基体上的感光层和作为最外表面层的保护层，所述保护层由电荷输送膜形成。
另一方面，当最外表面层是电荷输送层时，例如，电子照相感光体包括导电性基体上的电荷产生层和作为最外表面层的电荷输送层，所述电荷输送层由电荷输送膜形成。
当电荷输送膜构成最外表面层之外的其他层时，电子照相感光体包括具有电荷产生层的感光层和最外表面层，并且额外还包括感光层上的作为最外表面层的保护层，所述电荷输送层由电荷输送膜形成。
下面将参考附图详细描述本示例性实施方式的电子照相感光体，此时电荷输送膜是作为最外表面层的保护层。在附图中，相同的或相应的要素将被赋予相同的符号， 将省略重复的说明。
图1是显示本发明的一个示例性实施方式的电子照相感光体的示意性部分截面图。
图2和3显示本发明的另一示例性实施方式的电子照相感光体的示意性部分截面图。
图1中所示的电子照相感光体7A是所谓的功能分离型感光体(或多层型感光体)，并且具有下述结构：在导电性基体4上形成底涂层1，并在其上依次形成电荷产生层2、电荷输送层3和保护层5。在电子照相感光体7A中，感光层由电荷产生层2和电荷输送层3构成。
与图1中所示的电子照相感光体7A相同，图2中所示的电子照相感光体7B是功能分离为电荷产生层2和电荷输送层3的功能分离型感光体。图3中所示的电子照相感光体7C在同一层(单层型感光层6(电荷产生/电荷输送层))中包含电荷产生材料和电荷输送材料。
图2中所示的电子照相感光体7B具有下述结构：在导电性基体4上形成底涂层1，并在其上依次形成电荷输送层3、电荷产生层2和保护层5。在电子照相感光体7B中，感光层由电荷输送层3和电荷产生层2构成。
图3中所示的电子照相感光体7C具有下述结构：在导电性基体4上形成底涂层1，并在其上依次形成单层型感光层6和保护层5。
在图1～3中所示的电子照相感光体7A～7C中，保护层5是设置在导电性基体4最远侧的最外表面层，该最外表面层由电荷输送膜形成。
图1～3中所示的电子照相感光体可以设置有底涂层1，也可不设置该底涂层1。
下面将描述作为图1中代表例所示的电子照相感光体7A的各要素。
导电性基体
传统上使用的任何导电性基体都可以用作所述导电性基体。其实例包括其上设置有薄膜(如铝、镍、铬和不锈钢等金属；和铝、钛、镍、铬、不锈钢、金、钒、氧化锡、氧化铟和氧化铟锡(ITO)的膜)的塑料膜；涂布有或浸渍有导电性赋予剂的纸张；涂布有或浸渍有导电性赋予剂的塑料膜。基体的形状不局限于圆筒状，并且可以为片状或板状。
导电性基体优选具有例如体积电阻率为小于107Ω·cm的电导率。
当金属管用作导电性基体时，其表面可以为原管状态，也可以预先通过镜面切削、刻蚀、阳极氧化、粗切削、无心磨削、喷砂和湿式珩磨等进行处理。
底涂层
出于防止导电性基体表面处的光反射和防止从导电性基体向感光层引入不必要的载流子等目的，必要时设置底涂层。
底涂层例如包含粘合剂树脂和必要时的其他添加剂。
底涂层中包含的粘合剂树脂的实例包括已知树脂化合物，例如，聚乙烯醇缩丁醛树脂等缩醛树脂、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅树脂、有机硅-醇酸树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂和氨基甲酸酯树脂；具有电荷输送性基团的电荷输送性树脂；和聚苯胺等导电性树脂。其中，优选使用不溶于用于上层的涂布溶剂中的树脂，特别是优选使用酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂和环氧树脂。
底涂层可包含硅化合物、有机锆化合物、有机钛化合物和有机铝化合物等金属化合物。
对金属化合物与粘合剂树脂的比率不做具体限定，而可以设定为获得所需的电子照相感光体特性。
底涂层中可添加有树脂颗粒以调节表面粗糙度。树脂颗粒的实例包括有机硅树脂颗粒和交联的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)树脂颗粒。为调节表面粗糙度，可以形成底涂层，然后可以对表面抛光。软皮抛光、喷砂处理、湿式珩磨、研磨处理等用作抛光方法。
此处，底涂层可具有至少包含粘合剂树脂和导电性颗粒的构造。导电性颗粒优选具有例如体积电阻率为107Ω·cm的电导率。
导电性颗粒的实例包括金属颗粒(铝、铜、镍或银等的颗粒)；导电性金属氧化物颗粒(氧化锑、氧化铟、氧化锡或氧化锌等的颗粒)；和导电性物质颗粒(碳纤维、炭黑和石墨粉末的颗粒)。其中，优选使用导电性金属氧化物颗粒。两种以上的导电性颗粒可以混合使用。
可以用疏水剂(例如偶联剂)处理导电性颗粒的表面以调节其电阻以备使用。
导电性颗粒的含量例如相对于粘合剂树脂优选为10质量％～80质量％，更优选为40质量％～80质量％。
将上述成分添加至溶剂中的底涂层形成用涂布液用来形成底涂层。
如球磨机、振动球磨机、磨光器和砂磨机等介质分散机；或如搅拌机、超声分散机、辊磨机和高压均质器等无介质分散机可以用来使颗粒分散在底涂层形成用涂布液中。此处，高压均质器的实例包括在高压状态下通过使用液-液碰撞或液-壁碰撞制备分散液的碰撞体系，和高压状态下通过贯通微细流路来制备分散液的贯通体系。
以底涂层形成用涂布液涂布导电性基体的方法的实例包括浸涂法、顶出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮涂法、气刀涂布法和幕涂法。
底涂层的厚度优选等于或大于15μm，更优选为20μm～50μm。
此处，尽管附图中未示出，但在底涂层和感光层之间可以设置中间层。用于中间层的粘合剂树脂的实例除如缩醛树脂(例如聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅树脂、有机硅-醇酸树脂、酚醛树脂和三聚氰胺树脂等聚合物树脂化合物以外，还包括含有锆、钛、铝、锰和硅原子等的有机金属化合物。这些化合物可以单独使用，或者以多种化合物的混合物或缩聚物使用。其中，可优选使用包含锆或硅的有机金属化合物，因为它们具有较低的残余电势、由环境变化导致的电势的变化较小并且因反复使用导致的电势的变化较小。
使用中间层形成用涂布液来形成中间层，在所述涂布液中，在溶剂中添加了上述成分。
诸如浸涂法、顶出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮涂法、气刀涂布法和幕涂法等常规方法用作形成中间层的涂布法。
除了改善上层的涂布性以外，中间层还发挥电气阻挡层的作用。不过，如果其厚度过大，则电气屏蔽变得过强，可能引起由于减敏(desensitization)或重复使用所致的电势上升。因此，形成中间层时，其厚度优选为0.1μm～3μm。在该情况中，中间层可以用作底涂层。
电荷产生层
电荷产生层含有例如电荷产生材料和粘合树脂。电荷产生材料的实例包括酞菁颜 料，如不含金属的酞菁、氯镓酞菁、羟基镓酞菁、二氯化锡酞菁和钛氧基酞菁。特别是，优选使用对于CuKα特征X射线至少在7.4°、16.6°、25.5°和28.3°的布拉格角(2θ±0.2°)处具有强衍射峰的氯镓酞菁晶体；对于CuKα特征X射线至少在7.7°、9.3°、16.9°、17.5°、22.4°和28.8°的布拉格角(2θ±0.2°)处具有强衍射峰的不含金属的酞菁晶体；相对于CuKα特征X射线至少在7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°的布拉格角(2θ±0.2°)处具有强衍射峰的羟基镓酞菁晶体；和相对于CuKα特征X射线至少在9.6°、24.1°和27.2°的布拉格角(2θ±0.2°)处具有强衍射峰的钛氧基酞菁晶体。电荷产生材料的其他实例包括醌颜料、苝颜料、靛蓝颜料、二苯并咪唑颜料、蒽酮颜料和喹吖啶酮颜料。这些电荷产生材料可以单独使用，或两种以上组合使用。
构成电荷产生层的粘合剂树脂的实例包括双酚A型或双酚Z型聚碳酸酯树脂、丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、多芳基化物树脂、聚酯树脂、聚氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物树脂、丙烯腈-丁二烯共聚物、聚乙酸乙烯酯树脂、聚乙烯醇缩甲醛树脂、聚砜树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物树脂、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅树脂、酚醛树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚酰胺树脂和聚-N-乙烯基咔唑树脂。这些粘合树脂可以单独使用或以两种以上组合使用。
电荷产生材料与粘合树脂的混合比优选为10∶1～1∶10。
使用电荷产生层形成用涂布液来形成电荷产生层，在所述涂布液中，在溶剂中添加了上述成分。
如球磨机、振动球磨机、磨光器、砂磨机和卧式砂磨机等介质分散机；或如搅拌机、超声分散机、辊磨机和高压均质器等无介质分散机可以用来使颗粒(例如，电荷产生材料)分散在电荷产生层形成用涂布液中。高压均质器的实例包括在高压状态下通过使用液-液碰撞或液-壁碰撞制备分散液的碰撞体系，和高压状态下通过贯通微细流路来制备分散液的贯通体系。
以电荷产生层形成用涂布液涂布底涂层的方法的实例包括浸涂法、顶出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮涂法、气刀涂布法和幕涂法。
电荷产生层的厚度优选为0.01μm～5μm，更优选为0.05μm～2.0μm。
电荷输送层
电荷输送层包含电荷输送材料和必要时的粘合剂树脂。
电荷输送材料的实例包括空穴输送材料和电子输送材料，所述空穴输送材料例如为：2，5-双(对二乙基氨基苯基)-1，3，4-噁二唑等噁二唑衍生物；1，3，5-三苯基吡唑啉和1-[吡啶基-(2)]-3-(对二乙基氨基苯乙烯基)-5-(对二乙基氨基苯乙烯基)吡唑啉等吡唑啉衍生物；三苯胺、N，N′-双(3，4-二甲基苯基)联苯-4-胺、三(对甲基苯基)氨基-4-胺和二苄基苯胺等芳香族叔氨基化合物；N，N’-双(3-甲基苯基)-N，N’-二苯基联苯胺等芳香族二叔氨基化合物；3-(4′-二甲基氨基苯基)-5，6-二(4’-甲氧基苯基)-1，2，4-三嗪等1，2，4-三嗪衍生物；4-二乙基氨基苯甲醛-1，1-二苯基腙等腙衍生物；2-苯基-4-苯乙烯基喹唑啉等喹唑啉衍生物；6-羟基-2，3-二(对甲氧基苯基)苯并呋喃等苯并呋喃衍生物；对(2，2-二苯基乙烯基)-N，N′-二苯基苯胺等α-芪衍生物；烯胺衍生物；N-乙基咔唑等咔唑衍生物；聚-N-乙烯基咔唑及其衍生物；所述电子输送材料例如为：氯醌和溴蒽醌等醌类化合物；四氰基喹啉并二甲烷类化合物；2，4，7-三硝基芴酮和2，4，5，7-四硝基-9-芴酮等芴酮类化合物；氧杂蒽酮类化合物；和噻吩类化合物；以及在主链或侧链中具有包含上述化合物的基团的聚合物。这些电荷输送材料可以单独使用或以两种以上组合使用。
构成电荷输送层的粘合剂树脂的实例包括双酚A型或双酚Z型聚碳酸酯树脂、丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、多芳基化物树脂、聚酯树脂、聚氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物树脂、丙烯腈-丁二烯共聚物树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、聚乙烯醇缩甲醛树脂、聚砜树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物树脂、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅树脂、酚醛树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚酰胺树脂和氯化橡胶以及有机光电导性聚合物如聚乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽和聚乙烯基芘。这些粘合树脂可以单独使用或以两种以上组合使用。
电荷输送材料与粘合树脂的混合比优选为10∶1～1∶5。
使用电荷输送层形成用涂布液来形成电荷输送层，在所述涂布液中，在溶剂中添加了上述成分。
如球磨机、振动球磨机、磨光器、砂磨机和卧式砂磨机等介质分散机；或如搅拌机、超声分散机、辊磨机和高压均质器等无介质分散机可以用来使颗粒(例如，氟树脂颗粒)分散在电荷输送层形成用涂布液中。高压均质器的实例包括在高压状态下通过使用液-液碰撞或液-壁碰撞制备分散液的碰撞体系，和高压状态下通过贯通微细流路来制备分散液的贯通体系。
诸如浸涂法、顶出涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮涂法、气刀涂布法和幕涂法等常规方法可以用来以电荷输送层形成用涂布液涂布电荷产生层。
电荷输送层的厚度优选为5μm～50μm，更优选为10μm～40μm。
保护层
保护层使用上述的电荷输送膜，并包含由通式(I)表示的化合物的聚合物。
包含由式(I)表示的化合物的电荷输送性组合物用来形成保护层，不过，相对于电荷输送性组合物(除去溶剂后的全部固形物的总质量)，由式(I)表示的化合物的总含量优选大于或等于40质量％，更优选大于或等于50质量％，进而更优选大于或等于60质量％。
通过设定该范围，电气特性优异。而且增大了硬化膜的厚度。
在本示例性实施方式中，由式(I)表示的化合物和不具有反应性基团的已知的电荷输送材料可以组合使用。由于不具有反应性基团的已知的电荷输送材料不具有输送电荷的功能，因此使得电荷输送材料的成分浓度增大，由此进一步改善了电气特性，这是有效的。
构成电荷输送层的电荷输送材料的上述实例可以用作已知的电荷输送材料。
下面将描述用于形成保护层的电荷输送性组合物的其他成分。
从改善成膜性的角度考虑，用于形成保护层的电荷输送性组合物可包含以下的表面活性剂。
表面活性剂的实例包括在分子中含有(A)通过聚合具有氟原子的丙烯酰单体而形成的结构、(B)具有碳碳双键和氟原子的结构、(C)氧化烯的结构以及(D)具有碳碳三键和羟基的结构中的一种或多种结构种类的表面活性剂。
这些表面活性剂可以在分子内含有结构(A)～(D)中的一种以上，也可以含有其两种以上。
下面将描述结构(A)～(D)和具有这些结构的表面活性剂。
(A)通过聚合具有氟原子的丙烯酰类单体而形成的结构
对通过聚合具有氟原子的丙烯酰类单体而形成的结构(A)不做具体限定，不过可优选使用通过聚合具有氟烷基的丙烯酰类单体而形成的结构，更优选使用通过聚合具有全氟烷基的丙烯酰类单体而形成的结构。
具有结构(A)的表面活性剂的具体实例包括Poly-flow KL-600(由Kyoeisha Chemical Co.，Ltd制造)和Eftop EF-351、Eftop EF-352、Eftop EF-801、Eftop EF-802和Eftop EF-601(由JEMCO Inc.制造)。
(B)具有碳碳双键和氟原子的结构
对具有碳碳双键和氟原子的结构(B)不做具体限定，不过可优选使用由结构式(B1)和(B2)中的至少一个表示的基团。
作为具有结构(B)的表面活性剂，可优选使用在丙烯酰类聚合物的侧链具有由结构式(B1)和(B2)中的至少一个表示的基团的化合物或由结构式(B3)～(B5)中的至少一个表示的化合物。
在丙烯酰类聚合物的侧链具有由结构式(B1)和(B2)中的至少一个表示的基团的化合物用作具有结构(B)的表面活性剂时，丙烯酸基结构具有与组合物中的其他成分友好共处的性质，由此形成了均一的最外表面层。
由结构式(B3)～(B5)中的至少一个表示的化合物用作具有结构(B)的表面活性剂时，倾向于防止涂布时的飞溅，由此抑制了涂膜缺陷。
在结构式(B3)～(B5)中，v和w独立地表示1以上的整数，R’表示氢原子或一价有机基团，Rf独立地表示由结构式(B1)或(B2)表示的基团。
在结构式(B3)～(B5)中，由R’表示的一价有机基团的实例包含碳数为1～30的烷基和碳数为1～30的羟基烷基。
具有结构(B)的表面活性剂的市售产品的实例包括以下实例。
由结构式(B3)～(B5)中任一个表示的化合物的实例包括FTERGENT 100、FTERGENT 100C、FTERGENT 110、FTERGENT 140A、FTERGENT 150、FTERGENT150CH、FTERGENT A-K、FTERGENT 501、FTERGENT 250、FTERGENT 251、FTERGENT 222F、FTX-218、FTERGENT 300、FTERGENT 310、FTERGENT 400SW、FTERGENT 212M、FTERGENT 245M、FTERGENT 290M、FTX-207S、FTX-211S、FTX-220S、FTX-230S、FTX-209F、FTX-213F、FTX-222F、FTX-233F、FTX-245F、FTX-208G、FTX-218G、FTX-230G、FTX-240G、FTX-204D、FTX-280D、FTX-212D、FTX-216D、FTX-218D、FTX-220D和FTX-222D(由Neos Co.，Ltd.制造)。
在丙烯酰类聚合物的侧链具有由结构式(B1)和(B2)中的至少一个表示的基团的化合物的实例包括KB-L82、KB-L85、KB-L97、KB-L109、KB-L110、KB-F2L、KB-F2M、KB-F2S、KB-F3M和KB-FaM(由Neos Co.，Ltd.制造)。
(C)氧化烯的结构
氧化烯的结构(C)的实例包括氧化烯和聚氧化烯。氧化烯的具体实例包括氧化乙烯和氧化丙烯，可以使用氧化烯的重复数为2～10000的聚氧化烯。
具有氧化烯的结构(C)的表面活性剂的实例包括聚乙二醇、聚醚的消泡剂和聚醚变性的硅油。
聚乙二醇的平均分子量优选为小于或等于2000。平均分子量小于或等于2000的聚乙二醇的实例包括聚乙二醇2000(平均分子量为2000)、聚乙二醇600(平均分子量为600)、聚乙二醇400(平均分子量为400)和聚乙二醇200(平均分子量为200)。
诸如PE-M和PE-L(由Wako Pure Chemical Industries Ltd.制造)、1号消泡剂和5号消泡剂(由Kao Corporation制造)等聚醚消泡剂可以用作合适的实例。
在其分子中除了氧化烯的结构(C)之外还包含氟原子的表面活性剂的实例包括具有氟原子的聚合物侧链具有氧化烯或聚氧化烯的表面活性剂，和氧化烯或聚氧化烯的末端由具有氟原子的取代基取代的表面活性剂。
在其分子中除了氧化烯的结构(C)之外还包含氟原子的表面活性剂的实例包括MEGAFACE F-443、MEGAFACE F-444、MEGAFACE F-445和MEGAFACE F-446(由DIC Corporation制造)；FTERGENT 250、FTERGENT 251和FTERGENT 222F(由Neos Co.，Ltd.制造)；和POLYFOX PF636、POLYFOX PF6320、POLYFOX PF6520和POLYFOX PF656(由Kitamura Chemicals Co.，Ltd.制造)。
在其分子中除了氧化烯的结构(C)之外还包含有机硅结构的表面活性剂的具体实例包括KF351(A)、KF352(A)、KF353(A)、KF354(A)、KF355(A)、KF615(A)、KF618、KF945(A)和KF6004(由信越化学社制造)；TSF4440、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4452、TSF4453和TSF4460(由GE Toshiba Silicones Co.，Ltd.制造)；BYK-300、BYK-302、BYK-306、BYK-307、BYK-310、BYK-315、BYK-320、BYK-322、BYK-323、BYK-325、BYK-330、BYK-331、BYK-333、BYK-337、BYK-341、BYK-344、BYK-345、BYK-346、BYK-347、BYK-348、BYK-370、BYK-375、BYK-377、BYK-378、BYK-UV3500、BYK-UV3510和BYK-UV3570(由BYK-Chemie Japan K.K.制造)。
(D)具有碳碳三键和羟基的结构
对具有碳碳三键和羟基的结构(D)不做具体限定，具有该结构的表面活性剂的实例包括以下实例。
具有碳碳三键和羟基的结构(D)的表面活性剂的实例是在分子内具有三键和羟基的化合物，其具体实例包括2-丙炔-1-醇、1-丁炔-3-醇、2-丁炔-1-醇、3-丁炔-1-醇、1-戊炔-3-醇、2-戊炔-1-醇、3-戊炔-1-醇、4-戊炔-1-醇、4-戊炔-2-醇、1-己炔-3-醇、2-己炔-1-醇、3-己炔-1-醇、5-己炔-1-醇、5-己炔-3-醇、1-庚炔-3-醇、2-庚炔-1-醇、3-庚炔-1-醇、4-庚炔-2-醇、5-庚炔-3-醇、1-辛炔-3-醇、3-辛炔-1-醇、3-壬炔-1-醇、2-癸炔-1-醇、3-癸炔-1-醇、10-十一碳炔-1-醇、3-甲基-1-丁炔-3-醇、3-甲基-1-戊烯-4-炔-3-醇、3-甲基-1-戊炔-3-醇、5-甲基-1-己炔-3-醇、3-乙基-1-戊炔-3-醇、3-乙基-1-庚炔-3-醇、4-乙基-1-辛炔-3-醇、3，4-二甲基-1-戊炔-3-醇、3，5-二甲基-1-己炔-3-醇、3，6-二甲基-1-庚炔-3-醇、2，2，8，8-四甲基-3，6-壬二炔-5-醇、4，6-十九碳二炔-1-醇、10，12-二十五碳二炔-1-醇、2-丁炔-1，4-二醇、3-己炔-2，5-二醇、2，4-己二炔-1，6-二醇、2，5-二甲基-3-己炔-2，5-二醇、3，6-二甲基-4-辛炔-3，6-二醇、2，4，7，9-四甲基-5-癸炔-4，7-二醇、(+)-1，6-二(2-氯苯基)-1，6-二苯基-2，4-己二炔-1，6-二醇、(-)-1，6-二(2-氯苯基)-1，6-二苯基-2，4-己二炔-1，6-二醇、2-丁炔-1，4-二醇二(2-羟基乙基)、1，4-二乙酰氧基-2-丁炔、4-二乙基氨基-2-丁炔-1-醇、1，1-二苯基-2-丙炔-1-醇、1-乙炔基-1-环己醇、9-乙炔基-9-芴醇、2，4-己二炔二醇-1，6-二(4-苯基偶氮苯磺酸酯)、2-羟基-3-丁炔酸乙酯、2-甲基-4-苯基-3-丁炔-2-醇、甲基炔丙基醚、5-苯基-4-戊炔-1-醇、1-苯基-1-丙炔-3-醇、1-苯基-2-丙炔-1-醇、4-三甲基甲硅烷基-3-丁炔-2-醇和3-三甲基甲硅烷基-2-丙炔-1-醇。
其他实例包括将诸如氧化乙烯等氧化烯加成至上述化合物的部分或全部羟基中 而得到的化合物(例如SURFYNOL 400系列，由信越化学社制造)。
由式(D1)和(D2)中任一个表示的化合物可优选用作具有结构(D)(其具有碳碳三键和羟基)的表面活性剂。
在式(D1)和(D2)中，Ra、Rb、Rc和Rd独立地表示一价有机基团，x、y和z表示1以上的整数。
在由式(D1)和(D2)表示的化合物中，优选Ra、Rb、Rc和Rd为烷基。更优选的是，Ra和Rb中的至少一个以及Rc和Rd中的至少一个是支化的烷基。另外，z优选为大于或等于1且小于或等于10，x和y优选为大于或等于1且小于或等于500。
由式(D1)或(D2)表示的化合物的市售产品的实例包括SURFYNOL 400系列(由信越化学社制造)。
上述的具有结构(A)～(D)的表面活性剂可以单独使用或以两种以上组合使用。当两种以上的表面活性剂组合使用时，在不损害效果的范围内，可以将结构与具有结构(A)～(D)的表面活性剂的结构不同的表面活性剂组合使用。
可以组合使用的表面活性剂的实例包括下述的具有氟原子的表面活性剂和具有有机硅结构的表面活性剂。
也就是，可以与具有结构(A)～(D)的表面活性剂组合使用的具有氟原子的表面活性剂的实例包括全氟烷基磺酸酯(例如，全氟丁烷磺酸酯和全氟辛烷磺酸酯)、全氟烷基甲酸酯(例如，全氟丁烷甲酸酯和全氟辛烷甲酸酯)以及包含全氟烷基的磷酸酯。全氟烷基磺酸酯和全氟烷基甲酸酯可以是其盐和酰胺变性化合物。
全氟烷基磺酸酯的市售产品的实例包括MEGAFACE F-114(由DIC Corporation制造)；Eftop EF-101、Eftop EF102、Eftop EF-103、Eftop EF-104、Eftop EF-105、Eftop EF-112、Eftop EF-121、Eftop EF-122A、Eftop EF-122B、Eftop EF-122C和Eftop EF-123A(由JEMCO Inc.制造)；和FTERGENT 100、FTERGENT 100C、FTERGENT 110、FTERGENT 140A、FTERGENT 150、FTERGENT 150CH、FTERGENT A-K和 FTERGENT 501(由Neos Co.，Ltd.制造)。
全氟烷基甲酸酯的市售产品的实例包括MEGAFACE F-410(由DIC Corporation制造)；Eftop EF-201和Eftop EF-204(由JEMCO Inc.制造)。
含有全氟烷基的磷酸酯的市售产品的实例包括MEGAFACE F-493和MEGAFACE F-494(由DIC Corporation制造)；Eftop EF-123A、Eftop EF-123B、Eftop EF-125M和Eftop EF-132(由JEMCO Inc.制造)。
可以与具有结构(A)～(D)的表面活性剂组合使用的具有氟原子的表面活性剂不限于上述实例，而可以适当地使用具有包含氟原子的甜菜碱结构的化合物(例如FTERGENT 400SW，由Neos Co.，Ltd.制造)和具有偶极离子基团的表面活性剂(例如，FTERGENT SW，由Neos Co.，Ltd.)制造)。
可以与具有结构(A)～(D)的表面活性剂组合使用的具有有机硅结构的表面活性剂包可以已知的硅油，如二甲基有机硅、甲基苯基有机硅、二苯基有机硅及其衍生物。
相对于电荷输送性组合物(除去溶剂后的全部固形物的总质量)，表面活性剂的含量优选为0.01质量％～1质量％，更优选为0.02质量％～5质量％。表面活性剂的含量低于0.01质量％时，涂膜缺陷的抑制效果可能不能令人满意。表面活性剂的含量超过1质量％时，所得的硬化膜的强度会因表面活性剂与硬化成分(例如，由式(I)表示的化合物或其他单体和低聚物)相互的分离而降低。
具有结构(A)～(D)的表面活性剂的含量相对于全部表面活性剂优选为大于或等于1质量％，更优选为大于或等于10质量％。
可以将不具有电荷输送性的自由基聚合性单体或低聚物添加至用于形成保护层的电荷输送性组合物中，其目的在于控制所述组合物的粘度、膜强度、柔性、平滑性和清洁性等。
单官能的自由基聚合性单体的实例包括丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸硬脂基酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己基酯、丙烯酸-2-甲氧基乙酯、丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、丙烯酸-2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢糠基酯、丙烯酸苯甲酯、丙烯酸乙基卡必醇酯、丙烯酸苯氧基乙酯、2-羟基丙烯酸酯、丙烯酸-2-羟基丙酯、丙烯酸-4-羟基丁酯、丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、甲基丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯、丙烯酸羟乙基邻苯基苯酚酯和丙烯酸邻苯基苯酚缩水甘油醚酯。
双官能的自由基聚合性单体的实例包括1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、1，9-壬二醇二丙烯酸酯、2-正丁基-2-乙基-1，3-丙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、二氧杂环己烷二醇二丙烯酸酯、聚四甲撑二醇二丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二(甲基丙烯酸酯)、三环癸烷甲醇二丙烯酸酯和三环癸烷甲醇二(甲基丙烯酸酯)。
三官能以上的自由基聚合性单体的实例包括三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基丙烯酸酯)、季戊四醇丙烯酸酯、三羟甲基丙烷EO加合物三丙烯酸酯、甘油PO加合物三丙烯酸酯、磷酸三丙烯酰氧基乙酯、季戊四醇四丙烯酸酯和乙氧基化异氰脲酸三丙烯酸酯。
自由基聚合性低聚物的实例包括乙氧基丙烯酸酯类低聚物、聚氨酯丙烯酸酯类低聚物和聚酯丙烯酸酯类低聚物。
相对于电荷输送性组合物(除去溶剂后的全部固形物的总质量)，不具有电荷输送性的自由基聚合性单体或低聚物的含量优选为0质量％～50质量％，更优选为0质量％～40质量％，进而更优选为0质量％～30质量％。
优选将热自由基引发剂或其衍生物添加至用来形成保护层的电荷输送性组合物中。也就是，保护层中优选包含热自由基引发剂或其衍生物。
此处，“热自由基引发剂的衍生物”是指热自由基引发剂产生自由基之后的产物或热自由基与聚合位点的末端结合的产物。
此处，通过使用利用热、光、电子束等的各种方法来硬化包含上述成分的电荷输送性组合物，可以获得构成保护层的硬化膜(交联膜)，不过热硬化优选用来平衡诸如硬化膜的电气特性和机械特性等特性。通常，优选使用无需使用催化剂就能够进行硬化的电子束和能够在短时间内进行硬化的光聚合来硬化一般的丙烯酰类涂料。不过，在电子照相感光体中，具有最外表面层表面的感光层包含感光材料，因此可优选使用能够进行温和硬化的热硬化来抑制感光材料的损坏，并提高所得的硬化膜的表面特性和状态。
因此，可以进行热硬化而无需使用催化剂，不过优选将热自由基引发剂或其衍生物用作催化剂。因此，易于抑制因重复使用导致的重影的发生。
对热自由基引发剂或其衍生物不做具体限定，不过10小时半衰期温度优选为40℃～110℃，从而抑制保护层形成时感光层中的感光材料的损坏。
热自由基引发剂的市售产品的实例包括偶氮类引发剂，如V-30(10小时半衰期温度为104℃)、V-40(10小时半衰期温度为88℃)、V-59(10小时半衰期温度为67℃)、V-601(10小时半衰期温度为66℃)、V-65(10小时半衰期温度为51℃)、V-70(10小时半衰期温度为30℃)、VF-096(10小时半衰期温度为96℃)、Vam-110(10小时半衰期温度为111℃)、Vam-111(10小时半衰期温度为111℃)和VE-073(10小时半衰期温度为73℃)(由Waco Pure Chemical Industries Inc.制造)、OTAZO-15(10小时半衰期温度为61℃)、OTAZO-30(10小时半衰期温度为57℃)、AIBN(10小时半衰期温度为65℃)、AMBN(10小时半衰期温度为67℃)、ADVN(10小时半衰期温度为52℃)和ACVA(10小时半衰期温度为68℃)(由Otsuka Chemical Co.，Ltd.制造)；PERTETRA A、PERHEXA HC、PERHEXA C、PERHEXA V、PERHEXA 22、PERHEXA MC、PERBUTYL H、PERCUMYL H、PERCUMYL P、PERMENTA H、PEROCTA H、PERBUTYL C、PERBUTYL D、PERHEXYL D、PERLOYL IB、PERLOYL 355、PERLOYL L、PERLOYL SA、NYPER BW、NYPER BMP-K40/M、PERLOYLIPP、PERLOYL NPP、PERLOYL TCP、PERLOYL OPP、PERLOYL SBP、PERCUMYL ND、PEROCTA ND、PERHEXYL ND、PERBUTYL ND、PERBUTYL NHP、PERHEXYL PV、PERBUTYL PV、PERHEXA 250、PEROCTA O、PERHEXYL O、PERBUTYL O、PERBUTYL L、PERBUTYL 355、PERHEXYL I、PERBUTYL I、PERBUTYL E、PERHEXA 25Z、PERBUTYL A、PERHEXYL Z、PERBUTYL ZT和PERBUTYL Z(扫NOF Corporation制造)、KAYAKETAL AM-C55、TRIGONOX 36-C75、LAUROX、PARCADOX L-W75、PARCADOX CH-50L、TRIGONOX TMBH、KAYACUMEN H、KAYABUTYL H-70、PERKADOX BC-FF、KAYAHEXA AD、PERKADOX 14、KAYABUTYL C、KAYABUTYL D、KAYAHEXA YD-E85、PERKADOX 12-XL25、PERKADOX 12-EB20、TRIGONOX 22-N70、TRIGONOX 22-70E、TRIGONOX D-T50、TRIGONOX 423-C70、KAYAESTER CND-C70、KAYAESTER CND-W50、TRIGONOX23-C70、TRIGONOX 23-W50N、TRIGONOX 257-C70、KAYAESTER P-70、KAYAESTER TMPO-70、TRIGONOX 121、KAYAESTER O、KAYAESTER HTP-65W、KAYAESTER AN、TRIGONOX 42、TRIGONOX F-C50、KAYABUTYL B、KAYACARBON EH-C70、KAYACARBON EH-W60、KAYACARBON I-20、 KAYACARBON BIC-75、TRIGONOX 117、KAYALENE 6-70(由Kayaku Akzo Co.，Ltd.制造)、LUPEROX LP(10小时半衰期温度为64℃)、LUPEROX 610(10小时半衰期温度为37℃)、LUPEROX 188(10小时半衰期温度为38℃)、LUPEROX844(10小时半衰期温度为44℃)、LUPEROX 259(10小时半衰期温度为46℃)、LUPEROX 10(10小时半衰期温度为48℃)、LUPEROX 701(10小时半衰期温度为53℃)，LUPEROX 11(10小时半衰期温度为58℃)、LUPEROX26(10小时半衰期温度为77℃)、LUPEROX 80(10小时半衰期温度为82℃)、LUPEROX 7(10小时半衰期温度为102℃)、LUPEROX 270(10小时半衰期温度为102℃)、LUPEROX P(10小时半衰期温度为104℃)、LUPEROX546(10小时半衰期温度为46℃)、LUPEROX 554(10小时半衰期温度为55℃)、LUPEROX 575(10小时半衰期温度为75℃)、LUPEROX TANPO(10小时半衰期的温度为96℃)、LUPEROX 555(10小时半衰期温度为100℃)、LUPEROX 570(10小时半衰期温度为96℃)、LUPEROX TAP(10小时半衰期温度为100℃)、LUPEROX TBIC(10小时半衰期温度为99℃)、LUPEROX TBEC(10小时半衰期温度为100℃)、LUPEROX JW(10小时半衰期温度为100℃)、LUPEROX TAIC(10小时半衰期温度为96℃)、LUPEROX TAEC(10小时半衰期温度为99℃)、LUPEROX DC(10小时半衰期温度为117℃)、LUPEROX 101(10小时半衰期温度为120℃)、LUPEROX F(10小时半衰期温度为116℃)、LUPEROX DI(10小时半衰期温度为129℃)、LUPEROX 130(10小时半衰期温度为131℃)、LUPEROX 220(10小时半衰期温度为107℃)、LUPEROX 230(10小时半衰期温度为109℃)、LUPEROX 233(10小时半衰期温度为114℃)和LUPEROX 531(10小时半衰期温度为93℃)(由Arkema Yoshitomi，Ltd.制造)。
相对于在电荷输送性组合物中的反应性化合物(由式(I)表示的化合物+其他反应性化合物)，热自由基引发剂或其衍生物的含量优选为0.001质量％～10质量％，更优选为0.01质量％～5质量％，进而更优选为0.1质量％～3质量％。
为了有效地抑制因放电产生的气体导致的氧化，可以将诸如酚树脂、三聚氰胺树脂和苯代三聚氰胺等其他热塑性素树脂添加至用于形成保护层的电荷输送性组合物中。
为了调节膜的成膜性、柔性、润滑性和粘附性，可以将偶联剂、硬涂布剂和含氟化合物添加至用于形成保护层的电荷输送性组合物中。具体而言，各种硅烷偶联剂和市售的有机硅类硬涂布剂可以用作添加剂。
硅烷偶联剂的实例包括乙烯基三氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷和二甲基二甲氧基硅烷。
市售的硬涂布剂的实例包括KP-85、X-40-9740和X-8239等试剂(均由信越化学社制造)和AY42-440、AY42-441和AY49-208等试剂(均由Dow Corning Toray Co.，Ltd.制造)。
为赋予防水性，可以向其中加入含氟化合物，如(十三氟-1，1，2，2-四氢辛基)三乙氧基硅烷、(3，3，3-三氟丙基)三甲氧基硅烷、3-(七氟异丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟烷基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟癸基三乙氧基硅烷和1H，1H，2H，2H-全氟辛基三乙氧基硅烷。
硅烷偶联剂可以以任意量使用，不过含氟化合物的含量优选小于或等于不含氟化合物的质量的0.25倍。当含量大于该量时，交联膜的成膜能力可能出现问题。
为实现放电气体耐受性、机械强度、抗刮擦性、扭矩降低、磨耗量控制、有效期的延长、颗粒分散性和粘度的控制等，可以将热塑性树脂添加至用于形成保护层的电荷输送性组合物中。
其实例包括聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚乙烯醇缩甲醛树脂、聚乙烯醇缩乙醛树脂(诸如其部分丁缩醛被甲缩醛或乙酰乙缩醛等改性的部分缩醛化的聚乙烯醇缩乙醛树脂)(例如，S-REC B和S-REC K，由Sekisui Chemical Co.，Ltd.制造)、聚酰胺树脂、纤维素树脂和聚乙烯基酚树脂。特别是，考虑到电气特性，可以优选使用聚乙烯醇缩乙醛树脂和聚乙烯基酚树脂。树脂的重均分子量优选为2,000～100,000，更优选为5,000～50,000。树脂的分子量小于2,000时，添加树脂的有利效果不能令人满意。分子量超过100,000时，溶解度可能降低从而导致添加量受限，由此在涂布时会导致成膜缺陷。树脂的添加量优选为1质量％～40质量％，更优选为1质量％～30质量％，进而更优选为5质量％～20质量％。树脂的添加量小于1质量％时，添加树脂的有利 效果不能令人满意。当树脂的添加量超过40质量％时，可能在高温高湿环境下(例如，在28℃和85％RH)易于出现图像模糊。
为防止保护层的充电装置中产生的臭氧等氧化气体导致的劣化，优选在用于形成保护层的电荷输送性组合物中加入抗氧化剂。当感光体的表面的机械强度得到提高并因此感光体的寿命延长时，感光体与氧化气体长时间接触，因此，可能需要更强的抗氧化性。
受阻酚或受阻胺优选用作抗氧化剂，可以使用诸如有机硫类抗氧化剂、膦酸盐类抗氧化剂、二硫代氨基甲酸盐类抗氧化剂、硫脲类抗氧化剂和苯并咪唑类抗氧化剂等已知的抗氧化剂。抗氧化剂的添加量优选小于或等于20质量％，更优选小于或等于10质量％。
受阻酚类抗氧化剂的实例包括2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2，5-二叔丁基对苯二酚、N，N′-六亚甲基双(3，5-二叔丁基-4-羟基氢肉桂酰胺)、3，5-二叔丁基-4-羟基苯甲基膦酸二乙酯、2，4-双[(辛基硫代)甲基]邻甲酚、2，6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2，2′-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2′-亚甲基双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4，4′-亚丁基双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，5-二叔戊基对苯二酚、2-叔丁基-6-(3-丁基-2-羟基-5-甲基苯甲基)-4-甲基苯基丙烯酸酯和4，4′-亚丁基双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)。
为了降低保护层的残余电势并增加其强度，可以将各种颗粒添加至用于形成保护层的电荷输送性组合物中。
含硅颗粒可以用作所述颗粒。含硅颗粒是包含硅作为构成元素的颗粒，其具体实例包括胶体二氧化硅和有机硅颗粒。用作含硅颗粒的胶体二氧化硅颗粒选自下述颗粒：平均粒径为1nm～100nm且优选的平均粒径为10nm～30nm的二氧化硅颗粒分散在酸性或碱性水性分散液、醇、酮和酯等有机溶剂中，也可以使用市售品。对保护层中的胶体二氧化硅的固体含量不做具体限定，从成膜性、电气特性和强度考虑，相对于电荷输送性组合物(除去溶剂后的固体的总质量)，该含量优选为0.1质量％～50质量％，更优选为0.1质量％～30质量％。
用作含硅颗粒的有机硅颗粒选自有机硅树脂颗粒、有机硅橡胶颗粒和表面用有机硅处理过的二氧化硅颗粒，也可以使用市售品。这些有机硅颗粒是球形的，其平均粒径优选为1nm～500nm，更优选为10nm～100nm。由于有机硅颗粒是小粒径的化学惰性颗粒并在树脂中具有优异的分散性，而且用于获得足够特性所需的有机硅颗粒的 含量很低，因此能够改善电子照相感光体的表面性质和状态而不会妨碍交联反应。即，当处于被引入牢固的交联结构而不产生非均匀性的状态时，电子照相感光体表面的润滑性和阻水性得到改善，由此可以长期维持优异的耐磨性和耐污染物附着性。
相对于电荷输送性组合物(除去溶剂后的固体的总质量)，保护层中的有机硅颗粒的含量优选为0.1质量％～30质量％，更优选为0.5质量％～10质量％。
颗粒的其他实例包括四氟乙烯、三氟乙烯、六氟丙烯、氟乙烯、偏二氟乙烯等含氟颗粒；由通过使氟树脂与具有羟基的单体共聚得到的树脂构成的颗粒，如第八届高分子材料论坛预印本(Preprints of the 8th Forum of Polymer Materials)的第89页中所述；和诸如ZnO-Al2O3、SnO2-Sb2O3、In2O3-SnO2、ZnO2-TiO2、ZnO-TiO2、MgO-Al2O3、FeO-TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO和MgO等半导电性金属氧化物。出于同一目的，还可以向其中添加硅油等油。硅油的实例包括硅油，如二甲基聚硅氧烷、二苯基聚硅氧烷和苯基甲基硅氧烷；反应性硅油，如氨基变性聚硅氧烷、环氧基变性聚硅氧烷、羧基变性聚硅氧烷、卡必醇变性聚硅氧烷、甲基丙烯酰基变性聚硅氧烷、巯基变性聚硅氧烷和苯酚变性聚硅氧烷；环状二甲基环硅氧烷，如六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷和十二甲基环六硅氧烷；环状甲基苯基环硅氧烷，如1，3，5-三甲基-1，3，5-三苯基环三硅氧烷、1，3，5，7-四甲基-1，3，5，7-四苯基环四硅氧烷和1，3，5，7，9-五甲基-1，3，5，7，9-五苯基环五硅氧烷；环状苯基环硅氧烷，如六苯基环三硅氧烷；含氟环硅氧烷，如(3，3，3-三氟丙基)甲基环三硅氧烷；含氢甲硅烷基的环硅氧烷，如甲基氢硅氧烷混合物、五甲基环五硅氧烷和苯基氢环硅氧烷；和含乙烯基的环硅氧烷，如五乙烯基五甲基环五硅氧烷。
可以将金属、金属氧化物、炭黑等添加至用于形成保护层的电荷输送性组合物中。金属的实例包括铝、锌、铜、铬、镍、银、不锈钢以及表面涂覆有金属的塑料颗粒。金属氧化物的实例包括氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化锑、氧化铟、氧化铋、掺杂锡的氧化铟、掺杂锑或钽的氧化锡和掺杂锑的氧化锆。这些物质可以单独使用或以两种以上组合使用。当组合使用两种以上氧化物时，它们可以简单地彼此混合，也可以被制成固溶体或熔融体的形式。从保护层的透明性方面考虑，所述导电性颗粒的平均粒径优选小于或等于0.3μm，更优选小于或等于0.1μm。
优选将用于形成保护层的电荷输送性组合物制备为保护层形成用涂布液，保护层形成用涂布液可以不包含溶剂，也可以包含溶剂，诸如醇(如甲醇、乙醇、丙醇、丁 醇、环戊醇、和环己醇)；酮(如丙酮和甲基乙基酮)；和醚(如四氢呋喃、二乙基醚和二氧六环)。
这些溶剂可以单独使用或者两种以上组合使用。其沸点优选小于或等于100℃。特别是，优选将具有至少一个羟基的溶剂(如醇)用作所述溶剂。
通过如刮涂法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法和幕涂法等已知涂布方法，用保护层形成用涂布液(其包含用于形成保护层的电荷输送性组合物)涂布电荷输送层，然后在例如100℃～170℃的温度加热所得物以使所得物聚合(硬化)，由此获得膜。结果，可以获得由所述膜形成的保护层。
保护层形成用涂布液聚合(硬化)期间的氧浓度优选小于或等于1％，更优选小于或等于1000ppm，进而更优选小于或等于500ppm。
以上已经描述了功能分离型的电子照相感光体的一个实例。图3中所示的单层型感光层6(电荷产生/电荷输送层)中的电荷产生材料的含量为10质量％～85质量％，优选为20质量％～50质量％。电荷输送材料的含量优选为5质量％～50质量％。单层型感光层6(电荷产生/电荷输送层)的形成方法与电荷产生层或电荷输送层的形成方法类似。单层型感光层6(电荷产生/电荷输送层)的厚度优选为5μm～50μm，更优选为10μm～40μm。
尽管在本示例性实施方式中已经说明，由上述的电荷输送膜形成的最外表面层是保护层，不过在不具有保护层的层结构中电荷输送层则位于最外表面，而且电荷输送膜可以用于最外表面层。
即使设置了保护层，上述的电荷输送膜也可以用作保护层下方的电荷输送层。
图像形成设备/处理盒
本示例性实施方式的图像形成设备包括本示例性实施方式的电子照相感光体充电的充电单元；在经充电的电子照相感光体上形成静电潜像的潜像形成单元；使用显影剂将形成在所述电子照相感光体上的静电潜像显影以形成色调剂图像的显影单元；和将已显影的色调剂图像转印至转印介质的转印单元。
图4是显示一个示例性实施方式的图像形成设备100的结构示意图。
图4中所示的图像形成设备100包括配备有电子照相感光体7的处理盒300、曝光装置(静电潜像形成单元)9、转印装置(转印单元)40和中间转印介质50。在图像形成设备100中，曝光装置9被设置成通过处理盒300的开口使电子照相感光体7曝光， 转印装置40被设置成与电子照相感光体7相对且中间转印部件50介于两者之间，并且中间转印部件50被设置成其一部分与电子照相感光体7接触。
此处，上述的本示例性实施方式的电子照相感光体用作电子照相感光体7。由于本示例性实施方式的电子照相感光体如前所述即使在环境变化时也能够抑制电气特性的劣化，因此具有该电子照相感光体的处理盒和图像形成设备能够提供因环境变换导致的劣化受到抑制并且长期稳定的图像。
在图4所示的处理盒300中，将电子照相感光体7、充电装置(充电单元)8、显影装置(显影单元)11和清洁装置13一体化地承载于壳体中。清洁装置13包括清洁刮刀(清洁部件)，清洁刮刀131被设置成与电子照相感光体7的表面接触。
对处理盒300的构成不做具体限定，只要其包括电子照相感光体7并且可由图像形成设备拆装即可，而且可以具有下述构成：必要时将除了电子照相感光体7之外的装置(例如，选自充电装置(充电单元)8、显影装置(显影单元)11和清洁装置13的一个装置)与电子照相感光体7一体化承载。
图4显示了包括向感光体7的表面上提供润滑剂14的纤维状部件132(辊形)和用于辅助清洁过程的纤维状部件133(平刷形)的作为清洁装置13的实例，不过这些部件仅在必要时使用。
例如，使用导电性或半导电性充电辊、充电刷、充电膜、充电橡胶刮刀、充电管等的接触型充电器用作充电装置8。另外，还可以使用诸如非接触型辊充电器、利用电晕放电的格栅电晕管或电晕管充电器等已知的充电器。
尽管在附图中未示出，但是为提高图像的稳定性，可以在电子照相感光体7的周围设置感光体加热部件以升高感光体7的温度，从而降低相对温度。
曝光装置9的一个实例是用半导体激光束、LED光束或液晶光阀光束等光使感光体7的表面曝光为所需图像的光学仪器。光的波长在感光体的光谱敏感区内。主要将在780nm附近具有振荡波长的近红外区用作半导体激光的波长。不过，激光并不限于该波长，还可以使用振荡波长为约600nm的激光束或作为蓝色激光的振荡波长为大约400nm～450nm的激光。能够输出多光束的该类型的面发射型激光源可有效地用于形成彩色图像。
例如，作为显影装置11，可以使用通过使用磁性或非磁性单成分显影剂或者双成分显影剂以接触或不接触的方式进行显影过程的已知显影装置。对显影装置不做具 体限定，只要其具有上述的功能即可，而且可以根据其用途选择。其实例包括具有利用刷或辊等将单成分显影剂或双成分显影剂附着在感光体7上的功能的已知显影装置。其中，可优选使用包含表面上保持有显影剂的显影辊的显影装置。
作为转印装置40，可以使用已知的转印充电器，例如使用带、辊、膜或橡胶刮刀等的接触型转印充电器，和利用电晕放电的格栅电晕管转印充电器和电晕管转印充电器。
作为中间转印部件50，可以使用聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、多芳基化合物、聚酯和橡胶等的带形部件(中间转印带)。除了带形，中间转印体50还可以采用鼓形。
除上述装置之外，图像形成设备100还可以包含去除感光体7的电荷的光学除电装置。
图5是显示另一示例性实施方式的图像形成设备120的示意性截面图。
图5所示图像形成设备120是安装有四个处理盒300的串联式彩色图像形成设备。
图像形成设备120具有下述构成：其中四个处理盒300平行设置在中间转印部件50上，并且每种颜色使用一个电子照相感光体。除了图像形成设备120是串联式之外，其具有与图像形成设备100相似的构成。
本示例性实施方式的图像形成设备不限于上述的构成，可以使用其他已知类型的图像形成设备。
实施例
下面将参考实施例更加详细地说明本发明，但是，本发明不限于这些实施例。
实施例A1
制备玻璃基板上具有ITO膜的ITO玻璃基板，然后将ITO膜蚀刻为宽度为2mm的条状，以形成ITO电极(正电极)。该ITO玻璃基板用异丙醇(电子工业用，由Kanto Chemical Co.，Inc.制造)超声处理，然后用旋涂仪干燥。
通过在真空下在其上形成有ITO电极的ITO玻璃基板的表面上沉积经升华精制的铜酞菁，形成厚度为0.015μm的薄膜。
随后，使2质量份的由式(III)表示的化合物(化合物iv-9)溶解在100质量份的不含稳定剂的四氢呋喃(THF)中，并在其中再溶解0.3质量份的引发剂V-601(由Waco Pure Chemical Industries Inc.制造)，由此获得保护层形成用涂布液。用该涂布液涂布电荷输送层，然后在氧浓度为约80ppm的氛围下于150℃加热40分钟，由此形成厚度为0.050μm的薄膜。
其后，通过在空穴输送层上沉积作为发光材料的由下式表示的化合物(Alq3)，形成厚度为0.060μm的发光层。
通过共沉积使Mg-Ag合金沉积在该发光层上，以形成宽度为2mm和厚度为0.13μm的条纹状Mg-Ag电极(负电极)，由此获得有机电致发光元件。使ITO电极和Mg-Ag电极形成来相互垂直地延伸。所得有机电致发光元件的有效面积为0.04cm2。
于真空(0.133Pa)中在正的ITO电极(正电极)和负的Mg-Ag电极(负电极)之间施加直流电来发光。此时的最大亮度为820cd/m2，驱动电流为8.4mA/cm2，元件寿命为35小时。
由该结构可以清楚看出，本示例性实施方式的有机电致发光元件可以实现优异的电气特性，并能够在不改变形态时形成长寿命的元件。
实施例1
电子照相感光体的制造
-底涂层的形成-
使100质量份氧化锌(平均粒径为70nm，比表面积为15m2/g，由Tayca Corporation制造)与500质量份甲苯搅拌混合，然后向其中加入1.3质量份硅烷偶联剂(KBM 503，由信越化学社制造)，使所得物搅拌2小时。之后，通过减压蒸馏蒸出甲苯，所得物在120℃焙烧3小时，由此获得表面由硅烷偶联剂处理的氧化锌。
使110质量份表面经处理的氧化锌与500质量份四氢呋喃搅拌混合，向其中添加在50质量份四氢呋喃中溶解有0.6质量份茜素的溶液，所得物在50℃搅拌5小时。之后，附着有茜素的氧化锌通过减压过滤滤出，所得物在减压下于60℃干燥，由此获得附着有茜素的氧化锌。
使60质量份附着有茜素的氧化锌、13.5质量份硬化剂(封闭型异氰酸酯SUMIDUR 3175，由Sumitomo Bayer Urethane Co.，Ltd.制造)和15质量份丁缩醛树脂(S-REC BM-1，由Sekisui Chemical Co.，Ltd.制造)与85质量份甲基乙基酮混合以形成溶液，使38质量份所得溶液与25质量份甲基乙基酮混合，使用采用直径为1mmφ的玻璃珠的砂磨机对所得物分散2小时，由此获得分散液。将作为催化剂的0.005质量份二月桂酸二辛基锡和40质量份有机硅树脂颗粒(TOSPEARL 145，由GE Toshiba Silicones Co.，Ltd.制造)添加到如此获得的分散液中，由此获得了底涂层形成用涂布液。通过浸涂法将该涂布液涂布在铝基板上，并将涂布液在170℃干燥固化40分钟，由此获得了厚度为20μm的底涂层。
-电荷产生层的形成-
将作为电荷产生材料的15质量份的羟基镓酞菁(其在通过使用CuKα特征X射线获得的X射线衍射谱中至少在7.3°、16.0°、24.9°和28.0°的布拉格角(2θ±0.2°)处具有衍射峰)、作为粘合树脂的10质量份的氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH，由Nippon Unicar Co.，Ltd.制造)与200质量份乙酸正丁酯的混合物使用采用直径为1mmφ的玻璃珠的砂磨机分散4小时。向所获分散液中添加175质量份乙酸正丁酯和180质量份甲基乙基酮，并对混合物进行搅拌，由此获得了电荷产生层形成用涂布液。通过使用浸涂以该电荷产生层形成用涂布液涂布底涂层，并在常温(25℃)干燥涂布液，由此形成厚度为0.2μm的电荷产生层。
-电荷输送层的形成-
将48质量份N，N’-二苯基-N，N’-双(3-甲基苯基)-[1，1’]联苯基-4，4’-二胺(以下称为“TPD”)和52质量份双酚Z型聚碳酸酯树脂(以下称为“PCZ 500”，粘均分子量为50,000)添加并溶解在800质量份氯苯中，由此获得电荷输送层形成用涂布液。以所获涂布液涂布电荷产生层，并在130℃将所得物干燥45分钟，由此形成厚度为20μm的电荷输送层。
-保护层的形成-
使20质量份由式(III)表示的化合物(化合物iv-4)溶解在100质量份不包含稳定剂的四氢呋喃(THF)中，另外在其中再溶解3.5质量份的引发剂V-601(由Waco Pure Chemical Industries Inc.制造)(热自由基引发剂)，由此获得保护层形成用涂布液。以所获涂布液涂布电荷输送层，在氧浓度为80ppm的氛围中于150℃将所得物加热40分 钟，由此形成厚度为7μm的保护层。
由此获得了电子照相感光体。该感光体被限定为电子照相感光体1。
评估
(1)带电电势(表面电势)和残留电势的测量
将得到的电子照相感光体在高温高湿(28℃，65％RH)提供给步骤(A)～(C)。
步骤(A)：使用板栅施加电压为-700V的格栅电晕管充电器对电子照相感光体进行充电的步骤
步骤(B)：在步骤(A)后的1秒钟使用波长为780nm的半导体激光器以10.0erg/cm2的激光束照射电子照相感光体的曝光步骤
步骤(C)：在步骤(A)后的3秒钟以50.0erg/cm2的红色LED光束照射电子照相感光体的除电步骤
此时，使用由激光打印机改造的扫描仪(由由富士施乐株式会社制造的XP-15改造)使上述步骤重复100,000次循环。
在首次和100,000次循环后测定VH(步骤(A)中充电后的感光体的表面电势)、VL(步骤(B)中曝光后的感光体的表面电势)和VRP(步骤(C)中除电后的感光体的表面电势(残留电势))，以获得初始的VH、VL和VPR以及相对于初始的变化量ΔVH、ΔVL和ΔVRP。
表面静电计MODEL 344(由Trek Japan Co.，Ltd.制造)用来测定表面电势(残留电势)。
评估指标如下。
(VL的评估指标)
A：大于或等于-240V
B：大于或等于-280V且小于-240V
C：大于或等于-300V且小于-280V
D：小于-300V
(VRP的评估指标)
A：大于或等于-130V
B：大于或等于-150V且小于-130V
C：大于或等于-170V且小于-150V
D：小于-170V
(ΔVH、ΔVL和ΔVRP的评估指标)
A：小于或等于10V
B：大于10V且小于或等于20V
C：大于20V且小于或等于30V
D：大于30V
结果如表2所示。
(2)重影测试
在根据(1)评估由此获得的电子照相感光体之后将其安装在富士施乐株式会社制造的“Apeos Port-III C4400”上，在28.5℃和65％RH的环境下进行重影的评估。之后，在28.5℃和65％RH的环境下在10000页纸上进行15％半色调的打印测试，然后如下进行重影测试。
在该测试中使用由富士施乐株式会社制造的P纸(A4大小，进纸方向为横向)。
-重影测试
关于重影，打印包括如图6A中所示的G和黑色区域的图案的图表，目视评价在黑色区域中出现的字母G的状态。
A：图像良好或重影微弱，如图6A所示。
B：重影略微可见，如图6B所示。
C：重影清晰可见，如图6C所示。
(3)表面观察
将获得的电子照相感光体安装在富士施乐株式会社制造的“Apeos Port-III C4400”上，在28.5℃和65％RH的环境下在10000页纸上进行15％半色调的打印测试之前和之后观察电子照相感光体的表面，表面观察(测试1)如下进行。
在该测试中使用由富士施乐株式会社制造的P纸(A4大小，进纸方向为横向)。
-表面观察
观察电子照相感光体的表面并进行如下评估。
A：放大20倍时仍未观察到刮痕和附着，良好。
B：放大20倍时观察到附着。
C：放大20倍时观察到轻微刮痕。
D：肉眼即可观察到轻微刮痕或附着。
实施例2～26和比较例2和3
电子照相感光体的制造
进行与实施例1中相同的步骤，至形成电荷输送层为止，然后如表1中所示改变用于形成保护层的材料的组成，由此获得保护层形成用涂布液。用该涂布液涂布电荷输送层，在氧浓度为约80ppm的氛围下于145℃将所得物加热40分钟，由此形成厚度为7μm的保护层。
由此获得电子照相感光体。这些感光体被限定为感光体2～26和比较用感光体2。
此处，在比较例2中用作具有电荷输送性的化合物的RefCT-1描述如下。
在比较例3中用作具有电荷输送性的化合物的Ref CT-2描述如下。
评估
对得到的感光体进行与实施例1中相同的评估。结果显示在表2中。
实施例27
电子照相感光体的制造
进行与实施例1中相同的步骤，至形成电荷输送层为止，然后如表1中所示改变用于形成保护层的材料的组成，由此获得保护层形成用涂布液。用该涂布液涂布电荷输送层，在氧浓度为约80ppm时使用金属卤化物灯(由Ushio Inc.制造)以700mW/cm2(基于365nm)的亮度和120秒的照射时间对所得物进行紫外线照射。将所得物于 150℃加热40分钟以形成厚度为7μm的保护层。
由此获得了电子照相感光体。该感光体被限定为感光体27。
评估
对得到的感光体进行与实施例1中相同的评估。结果显示在表2中。
实施例28
电子照相感光体28的制造
进行与实施例1中相同的步骤，至形成电荷产生层为止，然后如表1中所示改变用于形成保护层的材料的组成，并将溶剂的用量变为250质量份，由此获得电荷输送层形成用涂布液。用该涂布液涂布电荷产生层，在氧浓度为约80ppm的氛围下于145℃加热该涂布液40分钟，由此形成厚度为20μm的电荷输送层。
由此获得了电子照相感光体。该感光体被定义为感光体28。
评估
对得到的感光体进行与实施例1中相同的评估。结果显示在表2中。
比较例1
电子照相感光体的制造
至形成电荷产生层为止进行与实施例1中相同的步骤，以与实施例1中相同的步骤形成厚度为25μm的电荷输送层。
由此获得了电子照相感光体。该感光体被定义为比较例1。
由这些结果可以看出，与比较例相比，实施例在高温高湿环境下的重影和表面观察的结果优异。
还可以看出实施例中的残留电势小于比较例2中的残留电势。
表1中描述的缩写如下所示。
不具有电荷输送性的单体
-SR351：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(由Sartomer Company Inc.制造)
-SR399：季戊四醇五丙烯酸酯(由Sartomer Company Inc.制造)
-SR348：乙氧基化(2)双酚A型二(甲基丙烯酸酯)(由Sartomer Company，Inc.制造)
热塑性树脂
-PCZ-400：双酚Z型聚碳酸酯树脂(粘均分子量为40,000)，由Mitsubishi Gas Chemical Company，Inc.制造
提供本发明的示例性实施方式的前述描述是为了说明和描述的目的。并非试图穷尽本发明限制于所披露的确切形式或将本发明限制于所披露的确切形式。显然，许多改进和变化对于本领域技术人员是显而易见的。选择并描述所述示例性实施方式是为了能够最好地解释本发明的原理及其实际应用，由此使得本领域的其他技术人员能够理解适用于预计的特定用途的本发明的各种实施方式和各种改进方案。本发明的范围由所附权利要求及其等同方式所限定。
Claims (18)
1.一种电荷输送膜，所述电荷输送膜包含：
由式(I)表示的化合物的聚合物：
(Ra)n-Fa-Xa-Fa’-(Ra’)n’(I)
其中，Fa和Fa’独立地表示包含芳香环的电荷输送子单元，Ra和Ra’独立地表示与分别由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环直接结合的-CH＝CH2或由式(a)表示的基团，
Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，n和n’独立地表示0以上的整数，其中n和n’不同时为0，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
2.如权利要求1所述的电荷输送膜，其中，由式(I)表示的化合物中的n+n’是2以上的整数。
3.如权利要求1所述的电荷输送膜，其中，由式(I)表示的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
4.一种光电转换器件，所述光电转换器件包含权利要求1所述的电荷输送膜。
5.如权利要求4所述的光电转换器件，其中，由式(I)表示的所述电荷输送膜的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
6.一种电子照相感光体，所述电子照相感光体包括权利要求1所述的电荷输送膜。
7.如权利要求6所述的电子照相感光体，其中，由式(I)表示的化合物中的n+n’是2以上的整数。
8.如权利要求6所述的电子照相感光体，其中，由式(I)表示的所述电荷输送膜的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
9.如权利要求6所述的电子照相感光体，其中，所述电子照相感光体包括所述电荷输送膜作为最外表面层。
10.如权利要求6所述的电子照相感光体，其中，所述电荷输送膜还包含热自由基引发剂或其衍生物。
11.如权利要求9所述的电子照相感光体，其中，由式(I)表示的所述电荷输送膜的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
12.如权利要求9所述的电子照相感光体，其中，所述电荷输送膜还包含热自由基引发剂或其衍生物。
13.一种处理盒，所述处理盒包括权利要求6所述的电子照相感光体。
14.如权利要求13所述的处理盒，其中，由式(I)表示的所述电子照相感光体的电荷输送膜的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
15.如权利要求13所述的处理盒，其中，所述电子照相感光体的电荷输送膜还包含热自由基引发剂或其衍生物。
16.一种图像形成设备，所述图像形成设备包括：
充电单元，所述充电单元对权利要求6所述的电子照相感光体充电；
潜像形成单元，所述潜像形成单元在经充电的电子照相感光体上形成静电潜像；
显影单元，所述显影单元使用显影剂将形成在所述电子照相感光体上的静电潜像显影以形成色调剂图像；和
转印单元，所述转印单元将已显影的色调剂图像转印至转印介质。
17.如权利要求16所述的图像形成设备，其中，由式(I)表示的所述电子照相感光体的电荷输送膜的化合物是由式(III)表示的化合物：
其中，Ar1～Ar4独立地表示具有取代基或不具有取代基的芳基，Ar5和Ar6独立地表示具有取代基或不具有取代基的亚芳基，Xa表示亚烷基或其中亚烷基与选自-O-、-S-和酯基的基团组合的二价基团，D表示-CH＝CH2或由式(a′)表示的基团，
c1～c4各自独立地表示0或1，D的总数为2以上，L表示与由Fa和Fa’表示的电荷输送子单元的芳香环结合的由*-(CH2)n”-O-CH2-表示的连接基团，其中，n”为1或2，所述连接基团在*处与所述电荷输送子单元的芳香环结合。
18.如权利要求16所述的图像形成设备，其中，所述电子照相感光体的电荷输送膜还包含热自由基引发剂或其衍生物。
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