JP5644133B2 - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、電荷輸送性組成物、及び電荷輸送性硬化膜 - Google Patents
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Description
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置、電荷輸送性組成物及び電荷輸送性硬化膜に関するものである。
従来、電荷輸送性組成物は、熱や光によって誘起された結果、正孔または電子を輸送する組成物であって、電子写真感光体や有機エレクトロルミネッセンス素子等の有機デバイスとして利用されている。
ここで、電子写真感光体は、いわゆるゼログラフィー方式の画像形成装置において、電子写真感光体表面を帯電手段で帯電させ、帯電後の電子写真感光体表面を、像露光により選択的に除電することにより静電潜像を形成させるための部材として用いられており、現在では、有機電子写真感光体が主流となっている。
例えば、架橋構造を有し、かつ電荷輸送能を有する保護層を備える感光体（特許文献１）や同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物を含有することを特徴とする電子写真感光体（特許文献２）が提案されている。
ところで、アクリル、メタクリル基等の連鎖重合性反応基の重合反応に着目すると、触媒である重合開始剤、および必要に応じて反応率、重合度等を制御するための連鎖移動剤を添加することが提案されている（例えば非特許文献１や特許文献３、４）。
ラジカル重合ハンドブック 基礎から新展開まで 責任表示： 蒲池幹治,遠藤剛 監修 ／ 相田卓三 他編 出版地 ： 東京 出版者 ： エヌ・ティ-・エス 出版年 ：１９９９．８
本発明の課題は、最表面層の材料として、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と、付加開裂型連鎖移動剤と、を組み合わせない場合に比べ、電荷輸送性に優れた最表面層を持つ電子写真感光体を提供することである。
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を少なくとも有し、
最表面層が、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と、炭素炭素二重結合の開裂により、ラジカル種を発生する付加開裂型連鎖移動剤と、を含有する組成物の硬化膜からなる層である電子写真感光体。
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を少なくとも有し、
最表面層が、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と、炭素炭素二重結合の開裂により、ラジカル種を発生する付加開裂型連鎖移動剤と、を含有する組成物の硬化膜からなる層である電子写真感光体。
請求項２に係る発明は、
前記連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物が、同一分子内に前記連鎖重合性官能基を２つ以上持つ化合物である請求項１に記載の電子写真感光体。
前記連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物が、同一分子内に前記連鎖重合性官能基を２つ以上持つ化合物である請求項１に記載の電子写真感光体。
請求項３に係る発明は、
前記連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物が、下記一般式（Ａ）で表される化合物である請求項１に記載の電子写真感光体。
前記連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物が、下記一般式（Ａ）で表される化合物である請求項１に記載の電子写真感光体。
（一般式（Ａ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは、末端に、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びスチリル基、及びそれらの誘導体からなる群より選択される少なくとも１つを含有する基を表し、ｃ１乃至ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は１以上である。）
請求項４に係る発明は、
一般式（Ａ）で表される化合物が、Ｄが−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２（但し、Ｒ’は水素原子、又は−ＣＨ３を表し、ｄは１以上５以下の整数、eは０または１を表す）を表し、Ｄの総数が４以上を表す化合物である請求項３に記載の電子写真感光体。
一般式（Ａ）で表される化合物が、Ｄが−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２（但し、Ｒ’は水素原子、又は−ＣＨ３を表し、ｄは１以上５以下の整数、eは０または１を表す）を表し、Ｄの総数が４以上を表す化合物である請求項３に記載の電子写真感光体。
請求項５に係る発明は、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像する現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するトナー除去手段からなる群より選ばれる少なくとも一種の手段と、
を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像する現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するトナー除去手段からなる群より選ばれる少なくとも一種の手段と、
を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
請求項６に係る発明は、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
請求項１、２、３、４に係る発明によれば、最表面層の材料として、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と、付加開裂型連鎖移動剤と、を組み合わせない場合に比べ、電荷輸送性に優れた最表面層を持つ電子写真感光体が提供される。
請求項５、６に係る発明によれば、最表面層の材料として、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と、付加開裂型連鎖移動剤と、を組み合わせない電子写真感光体を適用した場合に比べ、電子写真感光体における最表面層の電荷輸送性低下に起因する画像欠陥を抑制した画像が得られるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置が提供される。
請求項５、６に係る発明によれば、最表面層の材料として、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と、付加開裂型連鎖移動剤と、を組み合わせない電子写真感光体を適用した場合に比べ、電子写真感光体における最表面層の電荷輸送性低下に起因する画像欠陥を抑制した画像が得られるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置が提供される。
〔電子写真感光体〕
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を少なくとも有する。そしで、最表面層が、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と、付加開裂型連鎖移動剤と、を含有する組成物の硬化膜からなる層で構成される。ただし、付加開裂型連鎖移動剤としては、炭素炭素二重結合の開裂により、ラジカル種を発生する付加開裂型連鎖移動剤が適用される。
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を少なくとも有する。そしで、最表面層が、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と、付加開裂型連鎖移動剤と、を含有する組成物の硬化膜からなる層で構成される。ただし、付加開裂型連鎖移動剤としては、炭素炭素二重結合の開裂により、ラジカル種を発生する付加開裂型連鎖移動剤が適用される。
ここで、連鎖移動剤としては、水素引き抜き反応によって連鎖重合を停止させる化合物や、連鎖末端が付加することによって連鎖重合を停止させる付加開裂型連鎖移動剤などが知られている。これら連鎖移動剤は、従来、分子量を調整する目的で使用されるのが一般的である上、電子写真感光体やその他有機デバイスの電荷輸送層や保護層等を形成するための硬化膜については何ら検討されていないのが現状である。
これに対して、本実施形態に係る電子写真感光体では、上記構成とすることで、電荷輸送性に優れた最表面層を持つものとなる。加えて、この最表面層は、電荷輸送性と共に機械的強度にも優れたものとなる。この理由は定かではないが、以下に示す理由によるものと推察される。
連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と共に、付加開裂型連鎖移動剤を併用すると、過剰な触媒の使用を抑えて硬化反応（連鎖重合反応）が実現され、その結果、得られる硬化膜において不純物となりうる触媒等の残渣が少ないことが考えられる。
また、連鎖重合性官能基におけるラジカル反応特有の副反応によって、電荷輸送性骨格を持つ化合物の当該電荷輸送性骨格の劣化を抑えつつも、硬化に寄与する連鎖重合性反応基が反応するためであると考えられる。
また、一般に、連鎖重合性官能基を持つ化合物は、その保存時においも徐々に連鎖重合硬化反応（連鎖重合反応）が進行してしまうことがあるが、付加開裂型連鎖移動剤を併用することで、溶媒等に溶解させた状態であっても、連鎖重合硬化反応（連鎖重合反応）が進行し難く化学的に安定であると考えられる。
以上から、本実施形態に係る電子写真感光体では、上記構成とすることで、電荷輸送性に優れた最表面層を持つものになると考えられる。加えて、この最表面層は、電荷輸送性と共に機械的強度にも優れたものとなると考えられる。
そして、本実施形態に係る電子写真装置を備える画像形成装置、及びプロセスカートリッジは、電子写真感光体における最表面層の電荷輸送性低下に起因する画像欠陥を抑制した画像（例えば、濃度ムラ、スジ、画像流れが抑制された画像）が得られる。
また、連鎖重合性官能基におけるラジカル反応特有の副反応によって、電荷輸送性骨格を持つ化合物の当該電荷輸送性骨格の劣化を抑えつつも、硬化に寄与する連鎖重合性反応基が反応するためであると考えられる。
また、一般に、連鎖重合性官能基を持つ化合物は、その保存時においも徐々に連鎖重合硬化反応（連鎖重合反応）が進行してしまうことがあるが、付加開裂型連鎖移動剤を併用することで、溶媒等に溶解させた状態であっても、連鎖重合硬化反応（連鎖重合反応）が進行し難く化学的に安定であると考えられる。
以上から、本実施形態に係る電子写真感光体では、上記構成とすることで、電荷輸送性に優れた最表面層を持つものになると考えられる。加えて、この最表面層は、電荷輸送性と共に機械的強度にも優れたものとなると考えられる。
そして、本実施形態に係る電子写真装置を備える画像形成装置、及びプロセスカートリッジは、電子写真感光体における最表面層の電荷輸送性低下に起因する画像欠陥を抑制した画像（例えば、濃度ムラ、スジ、画像流れが抑制された画像）が得られる。
本実施形態に係る電子写真感光体では、前述の通り、上記特定の組成物の硬化膜からなる最表面層を有するものであるが、当該最表面層は電子写真感光体自体の最上面を形成しているものが望ましく、特に保護層として機能する層、又は、電荷輸送層として機能する層として設けられることが望ましい。
最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、及び最表面層として保護層を有し、該保護層が上記特定の組成物の硬化膜で構成される形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が上記特定の組成物の硬化膜で構成される形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が上記特定の組成物の硬化膜で構成される形態が挙げられる。
以下、最表面層が保護層として機能する層の場合の、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
図１は、実施形態に係る電子写真用感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図２乃至図４はそれぞれ他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
図１は、実施形態に係る電子写真用感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図２乃至図４はそれぞれ他の実施形態に係る電子写真感光体を示す模式断面図である。
図１に示す電子写真感光体７Ａは、いわゆる機能分離型感光体（又は積層型感光体）であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、及び電荷輸送層３が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ａにおいては、電荷発生層２及び電荷輸送層３により感光層が構成されている。
図２に示す電子写真感光体７Ｂは、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６が形成された構造を有するものである。つまり、図２に示す電子写真感光体７Ｃは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層（単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層））に含有するものである。
図３に示す電子写真感光体７Ｃは、図１に示す電子写真感光体７Ａに保護層５を設けたもの、つまり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、電荷輸送層３、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。
図４に示す電子写真感光体７Ｄは、図２に示す電子写真感光体７Ｂに保護層５を設けたもの、つまり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。
そして、上記図１に示す電子写真感光体７Ａにおいては、電荷輸送層３が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記特定の組成物の硬化膜で構成された構成となっている。
上記図２に示す電子写真感光体７Ｂにおいては、単層型感光層６が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記特定の組成物の硬化膜で構成された構成となっている。
上記図３乃至図４に示す電子写真感光体７Ｃ乃至７Ｄにおいては、保護層５が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記特定の組成物の硬化膜で構成された構成となっている。
なお、図１乃至図４に示す電子写真感光体において、下引層１は設けてもよいし、設けなくてもよい。
上記図２に示す電子写真感光体７Ｂにおいては、単層型感光層６が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記特定の組成物の硬化膜で構成された構成となっている。
上記図３乃至図４に示す電子写真感光体７Ｃ乃至７Ｄにおいては、保護層５が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記特定の組成物の硬化膜で構成された構成となっている。
なお、図１乃至図４に示す電子写真感光体において、下引層１は設けてもよいし、設けなくてもよい。
以下、代表例として図１に示す電子写真感光体７Ａに基づいて、各要素について説明する。
−導電性基体−
導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜（例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等の膜）を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
なお、導電性基体粒子は、例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満の導電性を有するものがよい。
導電性基体としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、薄膜（例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等の膜）を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、導電性付与剤を塗布又は含浸させたプラスチックフィルム等が挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
なお、導電性基体粒子は、例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満の導電性を有するものがよい。
導電性基体として金属パイプを用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。
−下引層−
下引層は、導電性基体表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。
下引層は、導電性基体表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。
下引層は、例えば、結着樹脂と、必要に応じてその他添加物とを含んで構成される。
下引層に含まれる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが望ましく用いられる。
下引層に含まれる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが望ましく用いられる。
下引層には、珪素化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物等の金属化合物等を含有してもよい。
金属化合物と結着樹脂との比率は、特に制限されず、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で設定される。
下引層には、表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂粒子等が挙げられる。なお、表面粗さ調整のために下引層を形成後、その表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等が用いられる。
ここで、下引層の構成として、結着樹脂と導電性粒子とを少なくとも含有する構成が挙げられる。なお、導電性粒子は、例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満の導電性を有するものがよい。
導電性粒子としては、例えば、金属粒子（アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの粒子）、導電性金属酸化物粒子（酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの粒子）、導電性物質粒子（カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末の粒子）等が挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物粒子が好適である。導電性粒子は、２種以上混合して用いてもよい。
また、導電性粒子は、疎水化処理剤（例えばカップリング剤）等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。
導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが望ましく、より望ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
また、導電性粒子は、疎水化処理剤（例えばカップリング剤）等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。
導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが望ましく、より望ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
下引層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた下引層形成用塗布液が使用される。
また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
下引層の膜厚は、１５μｍ以上が望ましく、２０μｍ以上５０μｍ以下がより望ましい。
ここで、図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素原子などを含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独にあるいは複数の化合物の混合物あるいは重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウムもしくはケイ素を含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなど点から好適である。
中間層の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液が使用される。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
なお、中間層は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロッキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こすことがある。したがって、中間層を形成する場合には、０．１μｍ以上３μｍ以下の膜厚範囲に設定することがよい。また、この場合の中間層を下引層として使用してもよい。
−電荷発生層−
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。かかる電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．７゜、９．３゜、１６．９゜、１７．５゜、２２．４゜及び２８．８゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９゜、１２．５゜、１６．３゜、１８．６゜、２５．１゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも９．６゜、２４．１゜及び２７．２゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は２種以上を混合して用いてもよい。
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。かかる電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．７゜、９．３゜、１６．９゜、１７．５゜、２２．４゜及び２８．８゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９゜、１２．５゜、１６．３゜、１８．６゜、２５．１゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも９．６゜、２４．１゜及び２７．２゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は２種以上を混合して用いてもよい。
電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡタイプあるいはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば１０：１乃至１：１０の範囲が望ましい。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば１０：１乃至１：１０の範囲が望ましい。
電荷発生層の形成の際には、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
電荷発生層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
電荷発生層の膜厚は、望ましくは０．０１μｍ以上５μｍ以下、より望ましくは０．０５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲に設定される。
−電荷輸送層−
電荷輸送層は、鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と、付加開裂型連鎖移動剤と、を含有する組成物の硬化膜からなる層である。
電荷輸送層は、鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と、付加開裂型連鎖移動剤と、を含有する組成物の硬化膜からなる層である。
まず、付加開裂型連鎖移動剤について説明する。
付加開裂型連鎖移動剤とは、一の化合物内において、熱等の外部エネルギーを加えることにより、水素ラジカルまたはハロゲンラジカルの発生がほとんど無視できるほどになく、かつ水素原子またはハロゲン原子の少なくとも一つを含む化学結合以外の化学結合の開裂により、水素ラジカルまたはハロゲンラジカルを含まないラジカル種が発生する化合物をいう。
付加開裂型連鎖移動剤とは、一の化合物内において、熱等の外部エネルギーを加えることにより、水素ラジカルまたはハロゲンラジカルの発生がほとんど無視できるほどになく、かつ水素原子またはハロゲン原子の少なくとも一つを含む化学結合以外の化学結合の開裂により、水素ラジカルまたはハロゲンラジカルを含まないラジカル種が発生する化合物をいう。
付加開裂型連鎖移動剤としては、公知のものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ラジカル重合ハンドブック 基礎から新展開まで 責任表示： 蒲池幹治,遠藤剛 監修 ／ 相田卓三 他編 出版地 ： 東京 出版者 ： エヌ・ティ-・エス 出版年 ：１９９９．８に開示されたものが挙げられる。
付加開裂型連鎖移動剤として具体的には、例えば、α―フェノキシメチルスチレン、α―（ｔ−ブチルチオメチル）スチレン、α―アルキルチオメチルスチレン、α―ｔ―ブチルペルオキシメチルスチレン、メチルーα―フェノキシメチルアクリレート、メチルーα―ブチルペルオキシメチルアクリレート、メチルーα―ベンジルペルオキシメチルアクリレート、α―ベンジルオキシスチレン、２，４―ジフェニルー４―メチルー１―ペンテン、メチルメタクリレートダイマー、メタクリロニトリルダイマー、メチルメタクルレートダイマー、メタクリロニトリルトリマー、ベンジルジチオベンゾエート、１−フェニルエチルジチオベンゾエート、２−フェニル−２−プロピニルジチオベンゾエート、１−アセトキシエチルジチオベンゾエート、ベンジルジチオアセテート、ｔ−ブチルジチオベンゾエート、２−シアノ−２−プロピニルジチオベンゾエート、クミルジチオベンゾエート、ジチオ脂肪酸エステルジフェニルジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、ジエチルジチオカルバミン酸ベンジルが挙げられ、望ましくは２，４―ジフェニルー４―メチルー１―ペンテン、メチルメタクリレートダイマー、メタクリロニトリルダイマーであり、より望ましくは２，４―ジフェニルー４―メチルー１―ペンテンである。
付加開裂型連鎖移動剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
付加開裂型連鎖移動剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
付加開裂型連鎖移動剤の含有量は、特に限定されるものではないが、連鎖重合反応が進行し、硬化後の膜の機械的強度に優れ、かつ膜の電気特性（電荷輸送性）に優れるといった観点から、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物１００質量部に対して、０．０１質量部以上１０質量部以下が望ましく、より望ましくは０．０５質量部以上８質量部以下、最も望ましくは０．１質量部以上５質量部以下である。
次に、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物（以下、特定の電荷輸送性材料と称する場合がある）について説明する。
ここで、電荷輸送性骨格としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が電荷輸送性骨格が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が望ましい。
一方、連鎖重合性官能基としては、不飽和二重結合を含有する基が挙げられ、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチレン基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基等が挙げられる。
ここで、電荷輸送性骨格としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が電荷輸送性骨格が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が望ましい。
一方、連鎖重合性官能基としては、不飽和二重結合を含有する基が挙げられ、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチレン基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基等が挙げられる。
特定の電荷輸送性材料としては、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜（硬化膜）が得られるといった観点から、同一分子内に連鎖重合性官能基を２つ以上（望ましくは４以上）持つ化合物であることがよい。この連鎖重合性官能基の数は、塗布液の安定性、電気特性の点から、２０が望ましく、１０がより望ましい。
特定の電荷輸送性材料として具体的には、例えば、電気特性及び膜強度の観点から、下記一般式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。
一般式（Ａ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは、末端に、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びスチリル基、及びそれらの誘導体からなる群より選択される少なくとも１つを含有する基を表し、ｃ１乃至ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は１以上である。
ここで、一般式（Ａ）で表される化合物としては、特に、電気特性及び膜強度の観点から、Ｄが−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２（但し、Ｒ’は水素原子、又は−ＣＨ３を表し、ｄは１以上５以下の整数、eは０または１を表す）を表し、Ｄの総数が４以上が表す化合物である。
ここで、Ｄが表す基の末端は、メタクリロイル基（上記Ｒ’が−ＣＨ３を表す）であることが望ましい。この理由は必ずしも明らかになっていないが、以下のように考えている。
通常、硬化反応には反応性の高いアクリル基が用いられることが多いが、一般式（Ａ）で示される化合物のように、かさ高い電荷輸送材料の置換基として反応性の高いアクリル基を用いた場合、不均一な硬化反応がおきやすくなりミクロ（若しくはマクロ）的な海島構造ができやすくなると考えられる。この海島構造は電子分野以外では特に問題となることは少ないが、電子写真感光体として用いた場合には、最表面層のムラ・シワ、画像ムラなどの問題を生じる。そのため、Ｄが表す基の末端はメタクリロイル基であることが望ましい。
なお、この海島構造の形成は一つの電荷輸送性骨格に複数の官能基がついている場合は、特に顕著になると考えられる。
通常、硬化反応には反応性の高いアクリル基が用いられることが多いが、一般式（Ａ）で示される化合物のように、かさ高い電荷輸送材料の置換基として反応性の高いアクリル基を用いた場合、不均一な硬化反応がおきやすくなりミクロ（若しくはマクロ）的な海島構造ができやすくなると考えられる。この海島構造は電子分野以外では特に問題となることは少ないが、電子写真感光体として用いた場合には、最表面層のムラ・シワ、画像ムラなどの問題を生じる。そのため、Ｄが表す基の末端はメタクリロイル基であることが望ましい。
なお、この海島構造の形成は一つの電荷輸送性骨格に複数の官能基がついている場合は、特に顕著になると考えられる。
一般式（Ａ）において、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、Ｄが表す基以外のものとして、炭素数１乃至４のアルキル基若しくはアルコキシ基、炭素数６乃至１０の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。
Ａｒ１乃至Ａｒ４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、Ａｒ１乃至Ａｒ４の各々に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ１」乃至「−（Ｄ）Ｃ４」を総括的に示した「−（Ｄ）Ｃ」と共に示す。
ここで、置換アリール基における置換基としては、Ｄが表す基以外のものとして、炭素数１乃至４のアルキル基若しくはアルコキシ基、炭素数６乃至１０の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。
Ａｒ１乃至Ａｒ４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、Ａｒ１乃至Ａｒ４の各々に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ１」乃至「−（Ｄ）Ｃ４」を総括的に示した「−（Ｄ）Ｃ」と共に示す。
上記式（１）乃至（７）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ２乃至Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｄは一般式（Ａ）と同様の基を表し、ｃは１又は２を表し、ｓは０又は１を表し、ｔは０以上３以下の整数を表す。
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記構造式（８）又は（９）で表されるものが望ましい。
上記式（８）及び（９）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔ’はそれぞれ０以上３以下の整数を表す。
また、前記式（７）中、Ｚ’は２価の有機連結基を示すが、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。また、ｓはそれぞれ０又は１を表す。
上記式（１０）乃至（１７）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ独立に１以上１０以下の整数を表し、ｔ”はそれぞれ０以上３以下の整数を表す。
前記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
また、一般式（Ａ）中、Ａｒ５は、ｋが０の時は置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基と同様のものが挙げられる。また、Ａｒ５は、ｋが１の時は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ａｒ１乃至Ａｒ４の説明で例示されたアリール基から所定の位置の水素原子を１つ除いたアリーレン基が挙げられる。
以下、特定の電荷輸送性材料の具体例を示す。なお、特定の電荷輸送性材料は、これらにより何ら限定されるものではない。
まず、１つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
以下に、２つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
次に、３つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
以下、４つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示すが、これに限定されるわけではない。
以下、５つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料の具体例を示す、これに限定されるわけではない。
以下、６つの連鎖重合性官能基を持つ特定の電荷輸送性材料を示すが、これに限定されるわけではない。
特定の電荷輸送性材料は、例えば、以下のようにして合成される。
即ち、特定の電荷輸送性材料は、前駆体であるアルコールを、対応するメタクリル酸、或いはメタクリル酸ハロゲン化物と縮合させるか、前駆体であるアルコールがベンジルアルコール構造の場合には、ヒドロキシエチルメタクリレートのような水酸基を有するメタクリル酸誘導体との脱水エーテル化などにより合成できる。
即ち、特定の電荷輸送性材料は、前駆体であるアルコールを、対応するメタクリル酸、或いはメタクリル酸ハロゲン化物と縮合させるか、前駆体であるアルコールがベンジルアルコール構造の場合には、ヒドロキシエチルメタクリレートのような水酸基を有するメタクリル酸誘導体との脱水エーテル化などにより合成できる。
本実施形態で用いる化合物ｉｖ−４及び化合物ｉｖ−１７の合成経路を一例として以下に示す。
他の特定の電荷輸送性材料は、例えば、上述した化合物ｉｖ−４の合成経路、及び化合物ｉｖ−１７合成経路と同様にして合成される。
本実施形態において、特定の電荷輸送性材料としては、前述のように、連鎖重合性官能基を２つ以上含む化合物が用いられることが望ましく、４つ以上含む化合物が用いられることがより望ましい。
また、特定の電荷輸送性材料として、連鎖重合性官能基を４つ以上である化合物と、連鎖重合性官能基を１乃至３つ含む化合物と、を併用してもよい。この併用により、電荷輸送性能の低下を抑制しつつ、硬化膜の強度を調整しうる。
特定の電荷輸送性材料として、連鎖重合性官能基を４つ以上である化合物と、連鎖重合性官能基を１乃至３つ含む化合物と、を併用する場合、特定の電荷輸送性材料の総含有量に対して、連鎖重合性官能基を４つ以上である化合物が５質量％以上とすることが望ましく、２０質量％以上とすることがより望ましい。
また、特定の電荷輸送性材料として、連鎖重合性官能基を４つ以上である化合物と、連鎖重合性官能基を１乃至３つ含む化合物と、を併用してもよい。この併用により、電荷輸送性能の低下を抑制しつつ、硬化膜の強度を調整しうる。
特定の電荷輸送性材料として、連鎖重合性官能基を４つ以上である化合物と、連鎖重合性官能基を１乃至３つ含む化合物と、を併用する場合、特定の電荷輸送性材料の総含有量に対して、連鎖重合性官能基を４つ以上である化合物が５質量％以上とすることが望ましく、２０質量％以上とすることがより望ましい。
特定の電荷輸送性材料の総含有量は、硬化膜からなる層を形成する際に用いられる組成物に対して３０質量％以上１００質量％以下が望ましく、より望ましくは３０質量％以上９９質量％以下、更に望ましくは３０質量％以上９５質量％以下である。
次に、電荷輸送層を形成するために用いる組成物の他の添加剤について説明する。
電荷輸送層を形成するために用いる組成物には、硬化膜の電気特性及び機械的強度を調整する目的で、連鎖重合性反応基を持たず且つ電荷輸送性骨格を持つ化合物、連鎖重合性反応基を持ち且つ電荷輸送性骨格を持たない化合物、及びバインダー樹脂から選択される少なくとも１種を含んでいてもよい。
電荷輸送層を形成するために用いる組成物には、硬化膜の電気特性及び機械的強度を調整する目的で、連鎖重合性反応基を持たず且つ電荷輸送性骨格を持つ化合物、連鎖重合性反応基を持ち且つ電荷輸送性骨格を持たない化合物、及びバインダー樹脂から選択される少なくとも１種を含んでいてもよい。
連鎖重合性反応基を持たず且つ電荷輸送性骨格を持つ化合物としては、公知のものであれば特に限定されるものではない。当該化合物としては、例えば、ｐ-ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７-トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物など公知の正孔輸送性化合物が挙げられる。
連鎖重合性反応基を持たず且つ電荷輸送性骨格を持つ化合物として望ましくは、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が望ましい。
上記構造式（ａ−１）中、Ｒ９は、水素原子又はメチル基を示す。ｌは１又は２を示す。Ａｒ６及びＡｒ７は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ１０）＝Ｃ（Ｒ１１）（Ｒ１２）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１３）（Ｒ１４）を示し、Ｒ１０乃至Ｒ１４は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。
ここで、上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、又は炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
ここで、上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、又は炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
上記構造式（ａ−２）中、Ｒ１５及びＲ１５’は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。Ｒ１６、Ｒ１６’、Ｒ１７、及びＲ１７’は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ２１）（Ｒ２２）を示し、Ｒ１８乃至Ｒ２２は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ及びｎは各々独立に０以上２以下の整数を示す。
ここで、前記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ１３）（Ｒ１４）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ２１）（Ｒ２２）」を有するベンジジン誘導体が望ましい。
また、連鎖重合性反応基を持たず且つ電荷輸送性骨格を持つ化合物としては、反応性を有さない公知の非架橋型高分子電荷輸送材料（例えばポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等）も挙げられる。この公知の非架橋型高分子電荷輸送材料の中でも、特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材料は、高い電荷輸送性を有しており、特に望ましいものである。高分子電荷輸送材料はそれだけでも成膜が実現されるが、後述するバインダー樹脂と混合して成膜してもよい。
連鎖重合性反応基を持たず且つ電荷輸送性骨格を持つ化合物は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
連鎖重合性反応基を持たず且つ電荷輸送性骨格を持つ化合物の含有量は、特に限定されるものではないが、硬化後の膜の機械的強度に優れ、かつ膜の電気特性（電荷輸送性）により優れるといった観点から、特定の電荷輸送性材料１００質量部に対して０．１質量部以上１００質量部以下が望ましく、より望ましくは１質量部以上５０質量部以下であり、最も望ましくは３質量部以上３０質量部以下である。
連鎖重合性反応基を持たず且つ電荷輸送性骨格を持つ化合物の含有量は、特に限定されるものではないが、硬化後の膜の機械的強度に優れ、かつ膜の電気特性（電荷輸送性）により優れるといった観点から、特定の電荷輸送性材料１００質量部に対して０．１質量部以上１００質量部以下が望ましく、より望ましくは１質量部以上５０質量部以下であり、最も望ましくは３質量部以上３０質量部以下である。
連鎖重合性反応基を持ち且つ電荷輸送性骨格を持たない化合物としては、炭素不飽和結合を有し、連鎖重合性があるものであり、かつ電荷輸送性骨格を有しない有機化合物が挙げられる。当該化合物としては、例えば、スチレン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、ブタジエン等の汎用プラスチックスの原料として用いられるものが挙げられる。
その他、連鎖重合性反応基を持ち且つ電荷輸送性骨格を持たない化合物としては、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等の一官能の化合物；、
例えば、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３‐プロパンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート、トリシクロデカンメタノールジメタクリレート等の二官能の化合物；、
例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ付加トリアクリレート、グリセリンＰＯ付加トリアクリレート、トリスアクロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレート等の三官能の化合物；が挙げられる。
その他、連鎖重合性反応基を持ち且つ電荷輸送性骨格を持たない化合物としては、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等の一官能の化合物；、
例えば、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３‐プロパンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート、トリシクロデカンメタノールジメタクリレート等の二官能の化合物；、
例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ付加トリアクリレート、グリセリンＰＯ付加トリアクリレート、トリスアクロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレート等の三官能の化合物；が挙げられる。
連鎖重合性反応基を持ち且つ電荷輸送性骨格を持たない化合物としては。例えば、イソシアヌル酸骨格を有する多官能アクリレートとしては、トリス（2-ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、トリス（2-ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリメタクリレート、ビス（2-ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、ビス（2-ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリメタクリレート、ビス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性アクリレート、ビス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性メタクリレート、ビス（メタアクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性アクリレート、ビス（メタアクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性メタアクリレートも挙げられる。
連鎖重合性反応基を持ち且つ電荷輸送性骨格を持たない化合物は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
連鎖重合性反応基を持ち且つ電荷輸送性骨格を持たない化合物の含有量は、特に限定されるものではないが、硬化後の膜の機械的強度に特に優れるといった観点から、特定の電荷輸送性材料１００質量部に対して０．０１質量部以上１００質量部以下が望ましく、より望ましくは０．１質量部以上５０質量部以下であり、最も望ましくは１質量部以上３０質量部以下である。
連鎖重合性反応基を持ち且つ電荷輸送性骨格を持たない化合物の含有量は、特に限定されるものではないが、硬化後の膜の機械的強度に特に優れるといった観点から、特定の電荷輸送性材料１００質量部に対して０．０１質量部以上１００質量部以下が望ましく、より望ましくは０．１質量部以上５０質量部以下であり、最も望ましくは１質量部以上３０質量部以下である。
バインダー樹脂としては、公知のバインダー樹脂が挙げられる。バインダー樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。
バインダー樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
バインダー樹脂の含有量は、溶液の粘度の安定性、塗膜等の加工性の向上、得られる膜の機械的強度の向上の観点から、特定の電荷輸送性材料１００質量部に対して１質量部以上１０００質量部以下が望ましく、より望ましくは５質量部以上５００質量部以下であり、最も望ましくは１０質量部以上１００質量部以下である。
バインダー樹脂の含有量は、溶液の粘度の安定性、塗膜等の加工性の向上、得られる膜の機械的強度の向上の観点から、特定の電荷輸送性材料１００質量部に対して１質量部以上１０００質量部以下が望ましく、より望ましくは５質量部以上５００質量部以下であり、最も望ましくは１０質量部以上１００質量部以下である。
また、電荷輸送層を形成するために用いる組成物には、より連鎖重合反応基の反応の効率を上げるために、公知のラジカルを発生させる重合開始剤を添加してもよい。つまり、重合開始剤を付加開裂型連鎖移動剤と併用してもよい。その際、ラジカルを発生させる方法としては、熱、電子線、光等の方法が挙げられるが、いずれの場合であってもその方法に適した重合開始剤を選ぶことができる。
熱によってラジカルを発生させる重合開始剤としては、例えば、Ｖ−３０（１０時間半減期温度：１０４℃）、Ｖ−４０（同：８８℃）、Ｖ−５９（同：６７℃）、Ｖ−６０１（同：６６℃）、Ｖ−６５（同：５１℃）、Ｖ−７０（同：３０℃）、ＶＦ−０９６（同：９６℃）、Ｖａｍ−１１０（同：１１１℃）、Ｖａｍ−１１１（同：１１１℃）（以上、和光純薬工業（株）製）、ＯＴａｚｏ−１５（同：６１℃）、ＯＴａｚｏ−３０、ＡＩＢＭ（同：６５℃）、ＡＭＢＮ（同：６７℃）、ＡＤＶＮ（同：５２℃）、ＡＣＶＡ（同：６８℃）（以上、大塚化学（株）製）等のアゾ系開始剤；、
パーテトラＡ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーヘキサＶ、パーヘキサ２２、パーヘキサＭＣ、パーブチルＨ，パークミルＨ、パークミルＰ、パーメンタＨ、パーオクタＨ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーヘキシルＤ、パーロイル ＩＢ、パーロイル ３５５、パーロイル Ｌ、パーロイル ＳＡ、ナイパー ＢＷ、ナイパー ＢＭＴ−Ｋ４０／Ｍ、パーロイル ＩＰＰ、パーロイル ＮＰＰ、パーロイル ＴＣＰ、パーロイル ＯＰＰ、パーロイル ＳＢＰ、パークミル ＮＤ、パーオクタ ＮＤ、パーヘキシル ＮＤ、パーブチル ＮＤ、パーブチル ＮＨＰ、パーヘキシル ＰＶ、パーブチル ＰＶ、パーヘキサ ２５０、パーオクタ Ｏ、パーヘキシル Ｏ、パーブチル Ｏ、パーブチル Ｌ、パーブチル ３５５、パーヘキシル Ｉ、パーブチル Ｉ、パーブチル Ｅ、パーヘキサ ２５Ｚ、パーブチル Ａ、パーへヘキシル Ｚ、パーブチル ＺＴ、パーブチル Ｚ（以上、日油化学（株）製）、カヤケタール ＡＭ−Ｃ５５、トリゴノックス ３６−Ｃ７５、ラウロックス、パーカドックス Ｌ−Ｗ７５、パーカドックス ＣＨ−５０Ｌ、トリゴノックス ＴＭＢＨ、カヤクメン Ｈ、カヤブチル Ｈ−７０、ペルカドックス ＢＣ−ＦＦ、カヤヘキサ ＡＤ、パーカドックス １４、カヤブチル Ｃ、カヤブチル Ｄ、カヤヘキサ ＹＤ−Ｅ８５、パーカドックス １２−ＸＬ２５、パーカドックス １２−ＥＢ２０、トリゴノックス ２２−Ｎ７０、トリゴノックス ２２−７０Ｅ、トリゴノックス Ｄ−Ｔ５０、トリゴノックス ４２３−Ｃ７０、カヤエステル ＣＮＤ−Ｃ７０、カヤエステル ＣＮＤ−Ｗ５０、トリゴノックス ２３−Ｃ７０、トリゴノックス ２３−Ｗ５０Ｎ、トリゴノックス ２５７−Ｃ７０、カヤエステル Ｐ−７０、カヤエステル ＴＭＰＯ−７０、トリゴノックス １２１、カヤエステル Ｏ、カヤエステル ＨＴＰ−６５Ｗ、カヤエステル ＡＮ、トリゴノックス ４２、トリゴノックス Ｆ−Ｃ５０、カヤブチル Ｂ、カヤカルボン ＥＨ−Ｃ７０、カヤカルボン ＥＨ−Ｗ６０、カヤカルボン Ｉ−２０、カヤカルボン ＢＩＣ−７５、トリゴノックス １１７、カヤレン ６−７０（以上、化薬アクゾ（株）製）、ルペロックスＬＰ（同：６４℃）、ルペロックス６１０（同：３７℃）、ルペロックス１８８（同：３８℃）、ルペロックス８４４（同：４４℃）、ルペロックス２５９（同：４６℃）、ルペロックス１０（同：４８℃）、ルペロックス７０１（同：５３℃）、ルペロックス１１（同：５８℃）、ルペロックス２６（同：７７℃）、ルペロックス８０（同：８２℃）、ルペロックス７（同：１０２℃）、ルペロックス２７０（同：１０２℃）、ルペロックスＰ（同：１０４℃）、ルペロックス５４６（同：４６℃）、ルペロックス５５４（同：５５℃）、ルペロックス５７５（同：７５℃）、ルペロックスＴＡＮＰＯ（同：９６℃）、ルペロックス５５５（同：１００℃）、ルペロックス５７０（同：９６℃）、ルペロックスＴＡＰ（同：１００℃）、ルペロックスＴＢＩＣ（同：９９℃）、ルペロックスＴＢＥＣ（同：１００℃）、ルペロックスＪＷ（同：１００℃）、ルペロックスＴＡＩＣ（同：９６℃）、ルペロックスＴＡＥＣ（同：９９℃）、ルペロックスＤＣ（同：１１７℃）、ルペロックス１０１（同：１２０℃）、ルペロックスＦ（同：１１６℃）、ルペロックスＤＩ（同：１２９℃）、ルペロックス１３０（同：１３１℃）、ルペロックス２２０（同：１０７℃）、ルペロックス２３０（同：１０９℃）、ルペロックス２３３（同：１１４℃）、ルペロックス５３１（同：９３℃）（以上、アルケマ吉富（株）製）等が挙げられる。
パーテトラＡ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーヘキサＶ、パーヘキサ２２、パーヘキサＭＣ、パーブチルＨ，パークミルＨ、パークミルＰ、パーメンタＨ、パーオクタＨ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーヘキシルＤ、パーロイル ＩＢ、パーロイル ３５５、パーロイル Ｌ、パーロイル ＳＡ、ナイパー ＢＷ、ナイパー ＢＭＴ−Ｋ４０／Ｍ、パーロイル ＩＰＰ、パーロイル ＮＰＰ、パーロイル ＴＣＰ、パーロイル ＯＰＰ、パーロイル ＳＢＰ、パークミル ＮＤ、パーオクタ ＮＤ、パーヘキシル ＮＤ、パーブチル ＮＤ、パーブチル ＮＨＰ、パーヘキシル ＰＶ、パーブチル ＰＶ、パーヘキサ ２５０、パーオクタ Ｏ、パーヘキシル Ｏ、パーブチル Ｏ、パーブチル Ｌ、パーブチル ３５５、パーヘキシル Ｉ、パーブチル Ｉ、パーブチル Ｅ、パーヘキサ ２５Ｚ、パーブチル Ａ、パーへヘキシル Ｚ、パーブチル ＺＴ、パーブチル Ｚ（以上、日油化学（株）製）、カヤケタール ＡＭ−Ｃ５５、トリゴノックス ３６−Ｃ７５、ラウロックス、パーカドックス Ｌ−Ｗ７５、パーカドックス ＣＨ−５０Ｌ、トリゴノックス ＴＭＢＨ、カヤクメン Ｈ、カヤブチル Ｈ−７０、ペルカドックス ＢＣ−ＦＦ、カヤヘキサ ＡＤ、パーカドックス １４、カヤブチル Ｃ、カヤブチル Ｄ、カヤヘキサ ＹＤ−Ｅ８５、パーカドックス １２−ＸＬ２５、パーカドックス １２−ＥＢ２０、トリゴノックス ２２−Ｎ７０、トリゴノックス ２２−７０Ｅ、トリゴノックス Ｄ−Ｔ５０、トリゴノックス ４２３−Ｃ７０、カヤエステル ＣＮＤ−Ｃ７０、カヤエステル ＣＮＤ−Ｗ５０、トリゴノックス ２３−Ｃ７０、トリゴノックス ２３−Ｗ５０Ｎ、トリゴノックス ２５７−Ｃ７０、カヤエステル Ｐ−７０、カヤエステル ＴＭＰＯ−７０、トリゴノックス １２１、カヤエステル Ｏ、カヤエステル ＨＴＰ−６５Ｗ、カヤエステル ＡＮ、トリゴノックス ４２、トリゴノックス Ｆ−Ｃ５０、カヤブチル Ｂ、カヤカルボン ＥＨ−Ｃ７０、カヤカルボン ＥＨ−Ｗ６０、カヤカルボン Ｉ−２０、カヤカルボン ＢＩＣ−７５、トリゴノックス １１７、カヤレン ６−７０（以上、化薬アクゾ（株）製）、ルペロックスＬＰ（同：６４℃）、ルペロックス６１０（同：３７℃）、ルペロックス１８８（同：３８℃）、ルペロックス８４４（同：４４℃）、ルペロックス２５９（同：４６℃）、ルペロックス１０（同：４８℃）、ルペロックス７０１（同：５３℃）、ルペロックス１１（同：５８℃）、ルペロックス２６（同：７７℃）、ルペロックス８０（同：８２℃）、ルペロックス７（同：１０２℃）、ルペロックス２７０（同：１０２℃）、ルペロックスＰ（同：１０４℃）、ルペロックス５４６（同：４６℃）、ルペロックス５５４（同：５５℃）、ルペロックス５７５（同：７５℃）、ルペロックスＴＡＮＰＯ（同：９６℃）、ルペロックス５５５（同：１００℃）、ルペロックス５７０（同：９６℃）、ルペロックスＴＡＰ（同：１００℃）、ルペロックスＴＢＩＣ（同：９９℃）、ルペロックスＴＢＥＣ（同：１００℃）、ルペロックスＪＷ（同：１００℃）、ルペロックスＴＡＩＣ（同：９６℃）、ルペロックスＴＡＥＣ（同：９９℃）、ルペロックスＤＣ（同：１１７℃）、ルペロックス１０１（同：１２０℃）、ルペロックスＦ（同：１１６℃）、ルペロックスＤＩ（同：１２９℃）、ルペロックス１３０（同：１３１℃）、ルペロックス２２０（同：１０７℃）、ルペロックス２３０（同：１０９℃）、ルペロックス２３３（同：１１４℃）、ルペロックス５３１（同：９３℃）（以上、アルケマ吉富（株）製）等が挙げられる。
光によってラジカルを発生させる重合開始剤としては、例えば、分子内開裂型、水素引抜型などが挙げられる。
分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系が挙げられる。具体的には、ベンジルケタール系としては、２,２-ジメトキシ-１,２-ジフェニルエタン-１-オンが挙げられる。アルキルフェノン系としては、１-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、２-ヒドロキシ-２-メチル-１-フェニル-プロパン-１-オン、１-[４-(２-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]- ２-ヒドロキシ-２-メチル-１-プロパン-１-オン、２-ヒロドキシ-１-{４-[４-(２-ヒドロキシ-２-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-２-メチル-プロパン-１-オン、アセトフェノン、２-フェニル-２-(ｐ-トルエンスルホニルオキシ)アセトフェノンが挙げられる。アミノアルキルフェノン系としては、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)- ２-モルフォリノプロパン-１-オン、２-ベンジル-２-ジメチルアミノ-１-（４-モルフォリノフェニル）-ブタノン-１、２-(ジメチルアミノ)- ２-[(４-メチルフェニル)メチル]- １-[４-(４-モルホリニル)フェニル]- １-ブタノンなどが挙げられる。ホスフィンオキサイド系としては、２,４,６-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド、ビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。チタノセン系としては、ビス(η５-２,４-シクロペンタジエン-１-イル)-ビス(２, ６-ジフルオロ-３-(１Ｈ-ピロール-１-イル)-フェニル)チタニウムなどが挙げられる。オキシム系としては、１， ２-オクタンジオン, １-[４-(フェニルチオ)-, ２-(０-ベンゾイルオキシム)]、エタノン,１-[９-エチル-６-(２-メチルベンゾイル)-９Ｈ-カルバゾール-３-イル]-, １-(０-アセチルオキシム)などが挙げられる。
水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。具体的には、ベンゾフェノン系としては、２-ベンゾイル安息香酸、２-クロロベンゾフェノン、４,４'-ジクロロベンゾフェノン、４-ベンゾイル ４'-メチルジフェニル スルフィド、ｐ，ｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。チオキサントン系としては、２,４-ジエチルチオキサンテン-９-オン、２-クロロチオキサントン、２-イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。ベンジル系としては、ベンジル、(±)-カンファーキノン、p-アニシルなどが挙げられる。
分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系が挙げられる。具体的には、ベンジルケタール系としては、２,２-ジメトキシ-１,２-ジフェニルエタン-１-オンが挙げられる。アルキルフェノン系としては、１-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、２-ヒドロキシ-２-メチル-１-フェニル-プロパン-１-オン、１-[４-(２-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]- ２-ヒドロキシ-２-メチル-１-プロパン-１-オン、２-ヒロドキシ-１-{４-[４-(２-ヒドロキシ-２-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-２-メチル-プロパン-１-オン、アセトフェノン、２-フェニル-２-(ｐ-トルエンスルホニルオキシ)アセトフェノンが挙げられる。アミノアルキルフェノン系としては、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)- ２-モルフォリノプロパン-１-オン、２-ベンジル-２-ジメチルアミノ-１-（４-モルフォリノフェニル）-ブタノン-１、２-(ジメチルアミノ)- ２-[(４-メチルフェニル)メチル]- １-[４-(４-モルホリニル)フェニル]- １-ブタノンなどが挙げられる。ホスフィンオキサイド系としては、２,４,６-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド、ビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。チタノセン系としては、ビス(η５-２,４-シクロペンタジエン-１-イル)-ビス(２, ６-ジフルオロ-３-(１Ｈ-ピロール-１-イル)-フェニル)チタニウムなどが挙げられる。オキシム系としては、１， ２-オクタンジオン, １-[４-(フェニルチオ)-, ２-(０-ベンゾイルオキシム)]、エタノン,１-[９-エチル-６-(２-メチルベンゾイル)-９Ｈ-カルバゾール-３-イル]-, １-(０-アセチルオキシム)などが挙げられる。
水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。具体的には、ベンゾフェノン系としては、２-ベンゾイル安息香酸、２-クロロベンゾフェノン、４,４'-ジクロロベンゾフェノン、４-ベンゾイル ４'-メチルジフェニル スルフィド、ｐ，ｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。チオキサントン系としては、２,４-ジエチルチオキサンテン-９-オン、２-クロロチオキサントン、２-イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。ベンジル系としては、ベンジル、(±)-カンファーキノン、p-アニシルなどが挙げられる。
重合開始剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
重合開始剤の含有量は、連鎖重合反応が進行し、硬化後の膜の機械的強度に優れるといった観点から、特定の電荷輸送性材料１００質量部に対して、０．０１質量部以上１０質量部以下が望ましく、より好ましくは０．０５質量部以上８質量部以下であり、最も好ましくは０．１質量部以上５質量部以下である。
重合開始剤の含有量は、連鎖重合反応が進行し、硬化後の膜の機械的強度に優れるといった観点から、特定の電荷輸送性材料１００質量部に対して、０．０１質量部以上１０質量部以下が望ましく、より好ましくは０．０５質量部以上８質量部以下であり、最も好ましくは０．１質量部以上５質量部以下である。
また、電荷輸送層を形成するために用いる組成物には、更に、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、カップリング剤、ハードコート剤、含フッ素化合物を添加してもよい。これらの添加剤として具体的には、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が用いられる。
また、市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が用いられる。
更に、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の含フッ素化合物を加えてもよい。更に、特開２００１−１６６５１０号公報などに開示されている反応性の含フッ素化合物などを混合してもよい。
シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。この使用量を超えると、架橋膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が用いられる。
また、市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が用いられる。
更に、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の含フッ素化合物を加えてもよい。更に、特開２００１−１６６５１０号公報などに開示されている反応性の含フッ素化合物などを混合してもよい。
シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。この使用量を超えると、架橋膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
また、また、電荷輸送層を形成するために用いる組成物には、膜の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などや、粒子分散性、粘度コントロールの目的で、アルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。
また、電荷輸送層を形成するために用いる組成物には、電荷輸送層の帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止剤を添加することが望ましい。感光体表面の機械的強度を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガスに長い時間接触することになるため、従来より強い酸化耐性が要求される。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては、保護層形成のための塗布液（組成物）中の全固形分に対して、２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては、保護層形成のための塗布液（組成物）中の全固形分に対して、２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、「イルガノックス１０７６」、「イルガノックス１０１０」、「イルガノックス１０９８」、「イルガノックス２４５」、「イルガノックス１３３０」、「イルガノックス３１１４」、「イルガノックス１０７６」以上、チバ・ジャパン社製、「３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシビフェニル」等が挙げられる。
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」以上三共ライフテック社製、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」以上、チバ・ジャパン社製、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」以上アデカ社製が挙げられ、チオエーテル系として「スミライザ−ＴＰＳ」、「スミライザーＴＰ−Ｄ」以上住友化学社製が挙げられ、ホスファイト系として「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ−８」、「マークＰＥＰ−２４Ｇ」、「マークＰＥＰ−３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ−１０」以上アデカ社製等が挙げられる。
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」以上三共ライフテック社製、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」以上、チバ・ジャパン社製、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」以上アデカ社製が挙げられ、チオエーテル系として「スミライザ−ＴＰＳ」、「スミライザーＴＰ−Ｄ」以上住友化学社製が挙げられ、ホスファイト系として「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ−８」、「マークＰＥＰ−２４Ｇ」、「マークＰＥＰ−３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ−１０」以上アデカ社製等が挙げられる。
更に、また、電荷輸送層を形成するために用いる組成物には、該電荷輸送層の残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。
粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、望ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、又はエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
保護層５中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、保護層５の全固形分全量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。
粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、望ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、又はエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
保護層５中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、保護層５の全固形分全量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より望ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、更に十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状が改善される。すなわち、強固な架橋構造中にバラツキが生じることなくに取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。
保護層５中のシリコーン粒子の含有量は、保護層５の全固形分全量を基準として、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。
保護層５中のシリコーン粒子の含有量は、保護層５の全固形分全量を基準として、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。
また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集 ｐ８９-９０”に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ２−ＴＩＯ２、ＺｎＯ−ＴＩＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴＩＯ２、ＴＩＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。
また、同様な目的で、また、電荷輸送層を形成するために用いる組成物には、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
また、また、電荷輸送層を形成するために用いる組成物には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の点で０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が望ましい。
次に、電荷輸送層の形成方法について説明する。
まず、上記組成物からなる電荷輸送層形成用塗布液を、電荷発生層の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布する。
次に、塗膜を、硬化させる。この硬化方法としては、連鎖重合性反応基が反応する公知の条件であれば特に限定されるものではなく、熱、電子線、光の外部エネルギーその他これらの併用によって反応が進行し、結果的に塗膜が硬化する。
ここで、硬化の際の設備的容易さや、副反応を制御しやすいといった観点から望ましい硬化方法としては熱による硬化方法である。
まず、上記組成物からなる電荷輸送層形成用塗布液を、電荷発生層の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布する。
次に、塗膜を、硬化させる。この硬化方法としては、連鎖重合性反応基が反応する公知の条件であれば特に限定されるものではなく、熱、電子線、光の外部エネルギーその他これらの併用によって反応が進行し、結果的に塗膜が硬化する。
ここで、硬化の際の設備的容易さや、副反応を制御しやすいといった観点から望ましい硬化方法としては熱による硬化方法である。
熱による硬化において、製造の効率、副反応の制御、組成物の劣化抑制の観点から、望ましい反応温度としては３０℃以上１８０℃以下であり、さらに望ましい８０℃以上１７０℃以下であり、最も好ましくは１００℃以上１６０℃以下である。
また、反応時間としては、反応温度によって選択されるが、好ましくは５分以上１０００分以下であり、より好ましくは１５分以上５００分以下であり、最も好ましくは３０分以上１２０分以下である。
なお、熱による硬化は、重合開始剤から発生したラジカルが失活することなく、連鎖重合性官能基の重合反応（連鎖重合反応）に寄与させるため、真空又は不活性ガス雰囲気下（例えば酸素濃度が１ｐｐｍ以上５％以下であり、さらに好ましくは５ｐｐｍ以上３％以下であり、最も好ましくは１０ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下の雰囲気下）で行うことがよい。
また、反応時間としては、反応温度によって選択されるが、好ましくは５分以上１０００分以下であり、より好ましくは１５分以上５００分以下であり、最も好ましくは３０分以上１２０分以下である。
なお、熱による硬化は、重合開始剤から発生したラジカルが失活することなく、連鎖重合性官能基の重合反応（連鎖重合反応）に寄与させるため、真空又は不活性ガス雰囲気下（例えば酸素濃度が１ｐｐｍ以上５％以下であり、さらに好ましくは５ｐｐｍ以上３％以下であり、最も好ましくは１０ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下の雰囲気下）で行うことがよい。
電荷輸送層の膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲に設定される。
以上、電子写真感光体として機能分離型の例を説明したが、図２に示す電子写真感光体の層構成の場合、その層構成において最表面に位置する単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）が該最表面層となり、この単層型感光層に上記特定の組成物の硬化膜からなる層が適用される。この場合、上記特定の組成物には、電荷発生材料が含まれ、その含有量は、１０質量％以上８５質量％以下程度、望ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）の膜厚は５μｍ以上５０μｍ以下程度が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下とするのが更に望ましい。
また、本実施形態では、上記特定の組成物の硬化膜からなる最表面層が電荷輸送層である形態を説明したが、図３及び図４に示す電子写真感光体の如く保護層を有する層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する保護層が該最表面層となり、この保護層に上記特定の組成物の硬化膜からなる層が適用される。保護層の膜厚は、望ましくは１μｍ以上１５μｍ以下、より望ましくは３μｍ以上１０μｍ以下の範囲に設定される。
なお、保護層を有する場合の電荷輸送層、単層型感光層の構成は、周知の構成が採用される。
なお、保護層を有する場合の電荷輸送層、単層型感光層の構成は、周知の構成が採用される。
〔画像形成装置／プロセスカートリッジ〕
図５は、実施形態に係る画像形成装置１００を示す概略構成図である。
図５に示される画像形成装置１００は、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置（静電潜像形成手段）９と、転写装置（転写手段）４０と、中間転写体５０と、を備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光可能な位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。
図５は、実施形態に係る画像形成装置１００を示す概略構成図である。
図５に示される画像形成装置１００は、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置（静電潜像形成手段）９と、転写装置（転写手段）４０と、中間転写体５０と、を備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光可能な位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。
図５におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置（帯電手段）８、現像装置（現像手段）１１、及びクリーニング装置１３を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材）を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。
また、図５では、クリーニング装置１３として、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）を備え、また、クリーニングをアシストする繊維状部材１３３（平ブラシ状）を用いた例を示してあるが、これらは必要に応じて使用される。
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
なお、図示しないが、画像の安定性を高める目的で、電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。
露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビーム出力が可能なタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
現像装置１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。
以下、現像装置１１に使用されるトナーについて説明する。
現像剤は、トナーからなる一成分現像剤であってもよいし、トナーとキャリアを含む二成分系現像剤であってもよい。
現像剤は、トナーからなる一成分現像剤であってもよいし、トナーとキャリアを含む二成分系現像剤であってもよい。
トナーは、例えば、結着樹脂、着色剤、及び必要に応じて離型剤等の他の添加剤を含むトナー粒子と、必要に応じて外添剤と、を含んで構成される。
トナー粒子は、平均形状係数（形状係数＝（ＭＬ２／Ａ）×（π／４）×１００で示される形状係数の個数平均、ここでＭＬは粒子の最大長を表し、Ａは粒子の投影面積を表す）が１００以上１５０以下であることが望ましく、１０５以上１４５以下であることがより望ましく、１１０以上１４０以下であることがさらに望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が３μｍ以上１２μｍ以下であることが望ましく、３．５μｍ以上１０μｍ以下であることがより望ましく、４μｍ以上９μｍ以下であることがさらに望ましい。
トナー粒子は、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナー粒子が使用される。
また上記方法で得られたトナー粒子をコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。
そして、トナーは、上記トナー粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はＶブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。
また、トナーは、２成分現像剤として用いられる場合、キャリアとの混合割合は、周知の割合で設定する。なお、キャリアとしては、特に制限はないが、例えば、キャリアとしては、磁性粒子の表面に樹脂コーティングを施したものが好適に挙げられる。
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いられる。
画像形成装置１００は、上述した各装置の他に、例えば、感光体７に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。
図６は、他の実施形態に係る画像形成装置１２０を示す概略断面図である。
図６に示される画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式のカラー画像形成装置である。
画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
図６に示される画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式のカラー画像形成装置である。
画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
本実施形態に係る画像形成装置は、上記構成に限られず、他の周知の方式の画像形成装置を適用してもよい。
なお、以上説明した本実施形態では、電子写真感光体の最表面層として、上記特定の組成物の硬化膜（電荷輸送性組成物の硬化膜）を適用した形態を説明したが、これに限定されるものではなく、上記特定の組成物の硬化膜（電荷輸送性組成物の硬化膜）は、例えば、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパー等ディスプレイ材料、太陽電池用に用いられる有機デバイス、その他メモリー素子、波長変換素子等に適用される。
そして、上記特定の組成物の硬化膜（電荷輸送性組成物の硬化膜）は、電荷輸送性に優れた膜（また、電荷輸送性と共に機械的強度にも優れる膜）であり、上記用途に有用となる。
そして、上記特定の組成物の硬化膜（電荷輸送性組成物の硬化膜）は、電荷輸送性に優れた膜（また、電荷輸送性と共に機械的強度にも優れる膜）であり、上記用途に有用となる。
以下実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。ただし、実施例３５〜３９は参考例に該当する。
［実施例１］
（電子写真感光体の作製）
−下引層の作製−
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ2/ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学社製）１.３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間）焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と硬化剤 （ブロック化イソシアネート スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製) ：１３.５質量部とブチラール樹脂 （エスレックＢＭ−１ 、積水化学社製) １５質量部をメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部とメチルエチルケトン ：２５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０.００５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）：４０質量部を添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて円筒状（直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍ）および板状（縦７０ｍｍ、横３０ｍｍ、肉厚０．５ｍｍ）のアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ１８μmの下引層を得た。
（電子写真感光体の作製）
−下引層の作製−
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ2/ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学社製）１.３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間）焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と硬化剤 （ブロック化イソシアネート スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製) ：１３.５質量部とブチラール樹脂 （エスレックＢＭ−１ 、積水化学社製) １５質量部をメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部とメチルエチルケトン ：２５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０.００５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）：４０質量部を添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて円筒状（直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍ）および板状（縦７０ｍｍ、横３０ｍｍ、肉厚０．５ｍｍ）のアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ１８μmの下引層を得た。
−電荷発生層の作製−
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５質量部、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層用の塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を先に作製した円筒状アルミニウム基板および板状アルミニウム基板に作製した下引層上に浸漬塗布し、常温で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５質量部、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層用の塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を先に作製した円筒状アルミニウム基板および板状アルミニウム基板に作製した下引層上に浸漬塗布し、常温で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
−電荷輸送性組成物の作製−
連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物として上記（ｉ−１１）で表される化合物１００質量部に対して、付加開裂型連鎖移動剤である２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン（東京化成工業（株）製）２質量部を、テトラヒドロフラン（安定剤なし。東京化成（株）製）とトルエン（関東化学（株）製）の質量比５０：５０の混合溶媒１８９質量部に溶解させ、電荷輸送組成物を作製した。このとき、（ｉ―１１）で示される化合物および２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン総量の濃度は３５質量％であった。
連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物として上記（ｉ−１１）で表される化合物１００質量部に対して、付加開裂型連鎖移動剤である２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン（東京化成工業（株）製）２質量部を、テトラヒドロフラン（安定剤なし。東京化成（株）製）とトルエン（関東化学（株）製）の質量比５０：５０の混合溶媒１８９質量部に溶解させ、電荷輸送組成物を作製した。このとき、（ｉ―１１）で示される化合物および２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン総量の濃度は３５質量％であった。
−電荷輸送層の作製−
先に作製した円筒状アルミニウム基板上に、下引層、電荷発生層を積層した膜に対して、上記電荷輸送性組成物をリングコート法によって、突き上げ速度１５０ｍｍ／ｍｉｎで製膜した。その後、その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の状態で、温度１５０℃、時間６０分硬化反応を実施し、電荷輸送層（電荷輸送性硬化膜）を形成した。このとき膜厚は１２μｍであった。
同様に、先に作製した板状アルミニウム基板上に、下引層、電荷発生層を積層した膜に対して、上記電荷輸送性組成物をブレードコーティング法を用いて滴下し、ブレードと板状アルミニウム基板上に下引層及び電荷発生層を積層した膜との隙間が０．１ｍｍとなるよう調整して製膜した。その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の状態で、温度１５０℃、時間６０分硬化反応を実施し、電荷輸送層（電荷輸送性硬化膜）を形成した。このとき膜厚は１６μｍであった。
先に作製した円筒状アルミニウム基板上に、下引層、電荷発生層を積層した膜に対して、上記電荷輸送性組成物をリングコート法によって、突き上げ速度１５０ｍｍ／ｍｉｎで製膜した。その後、その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の状態で、温度１５０℃、時間６０分硬化反応を実施し、電荷輸送層（電荷輸送性硬化膜）を形成した。このとき膜厚は１２μｍであった。
同様に、先に作製した板状アルミニウム基板上に、下引層、電荷発生層を積層した膜に対して、上記電荷輸送性組成物をブレードコーティング法を用いて滴下し、ブレードと板状アルミニウム基板上に下引層及び電荷発生層を積層した膜との隙間が０．１ｍｍとなるよう調整して製膜した。その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の状態で、温度１５０℃、時間６０分硬化反応を実施し、電荷輸送層（電荷輸送性硬化膜）を形成した。このとき膜厚は１６μｍであった。
以上のようにして、下記評価１向けの円筒状電子写真感光体および評価２向けの板状電子写真感光体を作製した。
［実施例２〜４、３５，３６］
実施例１と同様にアルミニウム基材に下引層、電荷発生層を塗布した。その後、表１に従って電荷輸送性組成物を変更したものを用いた以外は実施例１と同様にして、電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製した。
実施例１と同様にアルミニウム基材に下引層、電荷発生層を塗布した。その後、表１に従って電荷輸送性組成物を変更したものを用いた以外は実施例１と同様にして、電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製した。
［実施例５］
−下地層および電荷発生層の作製−
実施例１と同様にアルミニウム基材に下引層、電荷発生層を形成した。
−下地層および電荷発生層の作製−
実施例１と同様にアルミニウム基材に下引層、電荷発生層を形成した。
−電荷輸送性組成物の作製−
連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物として、上記（ｉ−１１）で示される化合物１００質量部に対して、付加開裂型連鎖移動剤である２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン（東京化成工業（株）製）５質量部、バインダー樹脂であるＰＣＺ−４００（ビスフェノール（Ｚ）ポリカーボネート、三菱ガス化学（株）製）２５質量部を、テトラヒドロフラン（安定剤なし。東京化成（株）製）とトルエン（関東化学（株）製）の質量比５０：５０の混合溶媒２３６質量部に溶解させ、電荷輸送組成物を作製した。このとき、Ｉ−１１および、２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン、ＰＣＺ−４００総量の濃度は３５質量％であった。
連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物として、上記（ｉ−１１）で示される化合物１００質量部に対して、付加開裂型連鎖移動剤である２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン（東京化成工業（株）製）５質量部、バインダー樹脂であるＰＣＺ−４００（ビスフェノール（Ｚ）ポリカーボネート、三菱ガス化学（株）製）２５質量部を、テトラヒドロフラン（安定剤なし。東京化成（株）製）とトルエン（関東化学（株）製）の質量比５０：５０の混合溶媒２３６質量部に溶解させ、電荷輸送組成物を作製した。このとき、Ｉ−１１および、２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン、ＰＣＺ−４００総量の濃度は３５質量％であった。
−電荷輸送層の作製−
先に作製した円筒状アルミニウム基板上に、下引層、電荷発生層を積層した膜に対して、上記電荷輸送性組成物をリングコート法によって、突き上げ速度１５０ｍｍ／ｍｉｎで製膜した。その後、その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の状態で、温度１５０℃、時間６０分硬化反応を実施し、電荷輸送層（電荷輸送性硬化膜）を形成した。このとき膜厚は１６μｍであった。
同様に、先に作製した板状アルミニウム基板上に、下引層、電荷発生層を積層した膜に対して、上記電荷輸送性組成物をブレードコーティング法を用いて滴下し、ブレードと板状アルミニウム基板上に下引層及び電荷発生層を積層した膜との隙間が０．１ｍｍとなるよう調整して製膜した。その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の状態で、温度１５０℃、時間６０分硬化反応を実施し、電荷輸送層（電荷輸送性硬化膜）を形成した。このとき膜厚は３３μｍであった。
。
先に作製した円筒状アルミニウム基板上に、下引層、電荷発生層を積層した膜に対して、上記電荷輸送性組成物をリングコート法によって、突き上げ速度１５０ｍｍ／ｍｉｎで製膜した。その後、その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の状態で、温度１５０℃、時間６０分硬化反応を実施し、電荷輸送層（電荷輸送性硬化膜）を形成した。このとき膜厚は１６μｍであった。
同様に、先に作製した板状アルミニウム基板上に、下引層、電荷発生層を積層した膜に対して、上記電荷輸送性組成物をブレードコーティング法を用いて滴下し、ブレードと板状アルミニウム基板上に下引層及び電荷発生層を積層した膜との隙間が０．１ｍｍとなるよう調整して製膜した。その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の状態で、温度１５０℃、時間６０分硬化反応を実施し、電荷輸送層（電荷輸送性硬化膜）を形成した。このとき膜厚は３３μｍであった。
。
［実施例６〜３４、３７〜３９、比較例１〜７］
実施例１と同様にアルミニウム基材に下引層、電荷発生層を形成した。その後、表１に従って組成を変更した電荷輸送性組成物を用いた以外は、実施例５と同様にして電荷輸送層を形成し、円筒状および板状電子写真感光体を作製した。
実施例１と同様にアルミニウム基材に下引層、電荷発生層を形成した。その後、表１に従って組成を変更した電荷輸送性組成物を用いた以外は、実施例５と同様にして電荷輸送層を形成し、円筒状および板状電子写真感光体を作製した。
［評価１］
各例で得られた円筒状電子写真感光体を、富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃｏｌｏｒ ａ４５０に装着し、１０℃、１５％ＲＨの環境下において、２０％ハーフトーン画像を連続して１０００枚印刷した。
１０００枚印刷後、同環境下で、下記画像評価テストを行った。
なお、画像形成テストには、富士ゼロックス製Ｐ紙（Ａ４サイズ、横送り）を用いた。
評価結果は、表２に示す。
各例で得られた円筒状電子写真感光体を、富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃｏｌｏｒ ａ４５０に装着し、１０℃、１５％ＲＨの環境下において、２０％ハーフトーン画像を連続して１０００枚印刷した。
１０００枚印刷後、同環境下で、下記画像評価テストを行った。
なお、画像形成テストには、富士ゼロックス製Ｐ紙（Ａ４サイズ、横送り）を用いた。
評価結果は、表２に示す。
−濃度ムラ評価−
濃度ムラ評価は２０％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：部分的にムラの発生あり。
Ｃ：画質上問題となるムラ発生。
濃度ムラ評価は２０％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：部分的にムラの発生あり。
Ｃ：画質上問題となるムラ発生。
−スジ評価−
スジ評価は２０％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：部分的にスジの発生あり。
Ｃ：画質上問題となるスジ発生。
スジ評価は２０％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：部分的にスジの発生あり。
Ｃ：画質上問題となるスジ発生。
−画像流れの評価−
また、上記テストとともに画像流れの評価も以下のような要領で行った。
画像流れは２０％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：連続的にプリントテストしている時は問題ないが、２４時間放置後に発生。
Ｃ：連続的にプリントテストしている時にも発生。
また、上記テストとともに画像流れの評価も以下のような要領で行った。
画像流れは２０％ハーフトーンサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：連続的にプリントテストしている時は問題ないが、２４時間放置後に発生。
Ｃ：連続的にプリントテストしている時にも発生。
［評価２］
各例で得られた板状電子写真感光体における電荷輸送層（電荷輸送性硬化膜）について、以下の評価を行った。結果を表３示す。
各例で得られた板状電子写真感光体における電荷輸送層（電荷輸送性硬化膜）について、以下の評価を行った。結果を表３示す。
−電機輸送性−
２０ｍｍφの小面積マスクを使用し、２５±３℃、５０±１０％ＲＨの環境下において、静電複写紙試験装置（ＥＰＡ８２００、川口電機社製）を用いて光減衰率を測定した。 条件は以下で評価した。そして、各Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３を求めた。
・初期表面電位＝−５５０．０（Ｖ）
・帯電直後から露光までの暗減衰時間＝１．０ｓ、そのときの表面電位をＶ１（Ｖ）
・露光後、０．２ｓ後の表面電位をＶ２（Ｖ）
・光減衰率＝（Ｖ１−Ｖ２）／Ｖ１ ×１００ （％）
・露光後、１．０ｓ後の残留表面電位をＶ３
なお、電気特性としては、Ｖ１の電位が高いほど、Ｖ２の電位が低いほど、光減衰率が大きいほど、Ｖ３の電位が低いほど感光体としての応答性に優れることを示す。
２０ｍｍφの小面積マスクを使用し、２５±３℃、５０±１０％ＲＨの環境下において、静電複写紙試験装置（ＥＰＡ８２００、川口電機社製）を用いて光減衰率を測定した。 条件は以下で評価した。そして、各Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３を求めた。
・初期表面電位＝−５５０．０（Ｖ）
・帯電直後から露光までの暗減衰時間＝１．０ｓ、そのときの表面電位をＶ１（Ｖ）
・露光後、０．２ｓ後の表面電位をＶ２（Ｖ）
・光減衰率＝（Ｖ１−Ｖ２）／Ｖ１ ×１００ （％）
・露光後、１．０ｓ後の残留表面電位をＶ３
なお、電気特性としては、Ｖ１の電位が高いほど、Ｖ２の電位が低いほど、光減衰率が大きいほど、Ｖ３の電位が低いほど感光体としての応答性に優れることを示す。
−耐傷付性試験−
２５±３℃、５０±１０％ＲＨの環境下にて、ＪＩＳ規格Ｋ５４００に準じて鉛筆硬度を測定した。
２５±３℃、５０±１０％ＲＨの環境下にて、ＪＩＳ規格Ｋ５４００に準じて鉛筆硬度を測定した。
−膜厚測定−
(株)フィッシャー・インストルメンツ製フィッシャースコープＭＭＳを用いて膜厚を測定した。
(株)フィッシャー・インストルメンツ製フィッシャースコープＭＭＳを用いて膜厚を測定した。
上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、濃度ムラ、スジ、画像流れについて良好な結果が得られたことがわかる。
また、本実施例では、比較例に比べ、電荷輸送性、及び機械的強度に優れた電荷輸送性硬化膜が得られることがわかる。
また、本実施例では、比較例に比べ、電荷輸送性、及び機械的強度に優れた電荷輸送性硬化膜が得られることがわかる。
以下、表中に示す各材料の詳細について示す。
［連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物］
（ａ−１）：（ｉ−１１）で示される化合物
（ａ−２）：（ｉｉ−１８）で示される化合物
（ａ−３）：（ｉｉ−１９）で示される化合物
（ａ−４）：（ｉｖ−１６）で示される化合物
［付加開裂型連鎖移動剤］
（ｗ−１）：２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン（東京化成工業（株）製）
（ｗ−２）：ジフェニルジスルフィド（東京化成工業（株）製）
（ｗ−３）：テトラエチルチウラムジスルフィド（東京化成工業（株）製）
（ｗ−４）：ジエチルジチオカルバミン酸ベンジル（東京化成工業（株）製）
［鎖重合性反応基を持たず且つ電荷輸送性骨格を持つ化合物］
（ｂ−１）：Ｎ，Ｎ’−ジフェニル-Ｎ，Ｎ’−ビス（３-メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン
［連鎖重合性反応基を持ち且つ電荷輸送性骨格を持たない化合物］
（ｃ−１）：ＩＢＡ（イソブチルアクリレート、和光純薬（株）製）
（ｃ−２）：ＡＢＥ−３００（エトキシ化ビスフェノールジアクリレート、新中村化学工業（株）製）
（ｃ−３）：ＴＨＥ３３０（トリメチロールプロパントリアクリレート、日本化薬（株）製）
［バインダー樹脂］
（ｅ−１）：ＰＣＺ−４００（ビスフェノール（Ｚ）ポリカーボネート、三菱ガス化学（株）製）
「重合開始剤」
（ｄ−１）：Ｖ−６５（１０時間半減期温度５１℃、和光純薬工業（株）製）
（ｄ−２）：Ｖ−６０１（１０時間半減期温度６６℃、和光純薬工業（株）製）
（ｄ−３）：ＶＥ−７０（１０時間半減期温度７３℃、和光純薬工業（株）製）
（ｄ−４）：ＶＲ−１１０（１０時間半減期温度１１０℃、和光純薬工業（株）製）
（ｄ−５）：パーヘキシルＯ（１０時間半減期温度７０℃、日油（株）製）
［連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物］
（ａ−１）：（ｉ−１１）で示される化合物
（ａ−２）：（ｉｉ−１８）で示される化合物
（ａ−３）：（ｉｉ−１９）で示される化合物
（ａ−４）：（ｉｖ−１６）で示される化合物
［付加開裂型連鎖移動剤］
（ｗ−１）：２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン（東京化成工業（株）製）
（ｗ−２）：ジフェニルジスルフィド（東京化成工業（株）製）
（ｗ−３）：テトラエチルチウラムジスルフィド（東京化成工業（株）製）
（ｗ−４）：ジエチルジチオカルバミン酸ベンジル（東京化成工業（株）製）
［鎖重合性反応基を持たず且つ電荷輸送性骨格を持つ化合物］
（ｂ−１）：Ｎ，Ｎ’−ジフェニル-Ｎ，Ｎ’−ビス（３-メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン
［連鎖重合性反応基を持ち且つ電荷輸送性骨格を持たない化合物］
（ｃ−１）：ＩＢＡ（イソブチルアクリレート、和光純薬（株）製）
（ｃ−２）：ＡＢＥ−３００（エトキシ化ビスフェノールジアクリレート、新中村化学工業（株）製）
（ｃ−３）：ＴＨＥ３３０（トリメチロールプロパントリアクリレート、日本化薬（株）製）
［バインダー樹脂］
（ｅ−１）：ＰＣＺ−４００（ビスフェノール（Ｚ）ポリカーボネート、三菱ガス化学（株）製）
「重合開始剤」
（ｄ−１）：Ｖ−６５（１０時間半減期温度５１℃、和光純薬工業（株）製）
（ｄ−２）：Ｖ−６０１（１０時間半減期温度６６℃、和光純薬工業（株）製）
（ｄ−３）：ＶＥ−７０（１０時間半減期温度７３℃、和光純薬工業（株）製）
（ｄ−４）：ＶＲ−１１０（１０時間半減期温度１１０℃、和光純薬工業（株）製）
（ｄ−５）：パーヘキシルＯ（１０時間半減期温度７０℃、日油（株）製）
１ 下引層
２ 電荷発生層
３ 電荷輸送層
４ 導電性基体
５ 保護層
６ 単層型感光層
７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、７ 電子写真感光体
８ 帯電装置
９ 露光装置
１１ 現像装置
１３ クリーニング装置
１４ 潤滑材
４０ 転写装置
５０ 中間転写体
１００ 画像形成装置
１２０ 画像形成装置
３００ プロセスカートリッジ
２ 電荷発生層
３ 電荷輸送層
４ 導電性基体
５ 保護層
６ 単層型感光層
７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、７ 電子写真感光体
８ 帯電装置
９ 露光装置
１１ 現像装置
１３ クリーニング装置
１４ 潤滑材
４０ 転写装置
５０ 中間転写体
１００ 画像形成装置
１２０ 画像形成装置
３００ プロセスカートリッジ
Claims (6)
- 導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、を少なくとも有し、
最表面層が、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物の少なくとも１種と、炭素炭素二重結合の開裂により、ラジカル種を発生する付加開裂型連鎖移動剤と、を含有する組成物の硬化膜からなる層である電子写真感光体。 - 前記連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物が、同一分子内に前記連鎖重合性官能基を２つ以上持つ化合物である請求項１に記載の電子写真感光体。
- 前記連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物が、下記一般式（Ａ）で表される化合物である請求項１に記載の電子写真感光体。
（一般式（Ａ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは、末端に、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びスチリル基、及びそれらの誘導体からなる群より選択される少なくとも１つを含有する基を表し、ｃ１乃至ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は１以上である。） - 一般式（Ａ）で表される化合物が、Ｄが−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２（但し、Ｒ’は水素原子、又は−ＣＨ３を表し、ｄは１以上５以下の整数、eは０または１を表す）を表し、Ｄの総数が４以上を表す化合物である請求項３に記載の電子写真感光体。
- 請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像する現像手段、及び、前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去するトナー除去手段からなる群より選ばれる少なくとも一種の手段と、
を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。 - 請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
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