CN101512419B - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示装置。在该显示装置中,遮光膜由树脂构成,沿着一基板的端边无间断地连续形成在一基板的靠近另一基板侧的表面上,并且从显示区域的外缘形成到一基板的端边。所形成的一基板比另一基板薄。而且,表面高度一定的区域沿着一基板的端边形成在一基板的靠近另一基板侧的表面上。

Description

显示装置
技术领域
本发明涉及一种显示装置,特别是涉及一种具有遮光膜及背面照明部的显示装置。
背景技术
近年来,液晶显示装置所代表的平面型显示装置得到实际应用,并且被搭载在各种电子设备中。
图19是用来说明用于液晶显示装置的液晶盒的立体图。图18是将图19的一部分放大后所得到的放大立体图。
液晶盒100具有下述结构,即:元件侧基板102和相对侧基板101夹持着由密封部件(图示省略)密封起来的液晶层(图示省略)而粘合在一起。在元件侧基板102的靠近液晶层一侧的表面上,设置有行控制电路103、列控制电路104、布线组105以及像素等,而构成了单片。在相对侧基板101的靠近液晶层一侧的表面上,形成有遮光膜(黑矩阵:多称作“BM”)113以及彩色滤光片(图示省略)等。还有,在元件侧基板102的所谓端子区域安装有FPC(柔性印刷电路板)106。在液晶盒100的外侧表面粘贴有偏光片及移相片等光学膜107。
在本说明书中,将形成有遮光膜113的基板(相对侧基板101)称作一基板101,将贴合在该一基板101上的基板(元件侧基板102)称作另一基板102。
一般来说,一基板101的外侧表面成为显示面,并且在另一基板102的背面设置有背光源111,该背光源111具有冷阴极管及LED(发光二极管)等光源108和导光部件109,由此构成所谓的透过型液晶显示装置110。
遮光膜113形成在像素之间的间隙区域以及像素组所构成的整个显示区域的周围。这样一来,由于遮光膜113遮挡住来自背面的背光源111的无用光,因而实现了高对比度,同时还发挥了作为用来保持显示装置额缘(bezel)美观的所谓“分型线(break line member)”的作用。
所述液晶盒100通常是从大型母体玻璃115、116上切割下来制成的。图20是表示从母体玻璃115、116上切割下液晶盒100的工序的立体图。
一般来说,在将一基板101的母体玻璃115、和另一基板102的母体玻璃116贴合起来以后,再按照规定的大小沿着成为液晶盒100的外形切割这些母体玻璃115、116。切割是利用例如所谓的“划线折断法”进行的。也就是说,如图20所示,用旋转刀片(划线轮)117事先在各个母体玻璃115、116的表面形成了呈平行线形状的槽(划线槽)118后,再施加外力。由此,便切割出多个液晶盒100。
此外,将一基板101的厚度及另一基板102的厚度规定为例如0.5mm左右的同一厚度。还有,虽然有时用“割断”、“分割”或“切断”等词语来替代“切割”这个词,但是它们所表示的意思在本质上并没有差别,这只是同行业人员所使用的不同称谓而已。
当进行所述切割时,有时利用已事先形成在母体玻璃115、116上的标记,进行切割位置的对准以及切割位置完成情况的确认。如图18所示,标记可以形成在一基板101的靠近另一基板102侧的表面上(标记A),也可以形成在另一基板102的靠近一基板101侧的表面上(标记B)。有时还用已形成在另一基板102上的标记C对一基板101的切割位置进行确认。
一基板101上的标记A由遮光膜形成,该遮光膜是由金属或黑色树脂形成的。若显示装置是例如有源矩阵型显示装置,则另一基板102上的标记B及标记C由构成布线的金属薄膜形成。
例如像在专利文献1及专利文献2中所公开的那样,在利用所述切割而形成的显示装置中一般采用下述结构,即:形成遮光膜时,在外侧范围并没有形成遮光膜,该外侧范围是从切割位置开始到一定距离为止的范围。
专利文献1:日本国公开特许公报特开平9-5731号公报
专利文献2:日本国公开特许公报特开平5-224196号公报
专利文献3:日本国公开特许公报特开2004-46115号公报
发明所要解决的技术问题
然而,为了缩小显示装置的外形并实现显示装置的轻量化,近年来减小显示区域周围的额缘区域的趋势正日趋明显。而且还希望遮光膜在额缘中所占的比例不要减小。因此,如所述专利文献1及专利文献2所示,在液晶盒的外侧区域没有形成遮光膜的这一结构并不理想。
于是,能够想到在母体玻璃上事先形成比液晶盒的外形更宽的遮光膜,由此在将液晶盒切割下来时,到液晶盒的外形线端部为止便总会形成有遮光膜。但是,此时存在下述问题。
图21是液晶盒的平面图,图22是将液晶盒的侧端放大后得到的放大平面图。如图22所示,通过所述方法形成的切割面并不平滑,有时在切割面产生起伏或毛边121、或者还产生裂缝或裂纹122。还有,当遮光膜为金属时,还会出现该遮光膜被腐蚀等问题。其结果是,所述遮光膜的不良断面导致来自背光源的光漏出,并且还破坏外形的美观。近年来,显示装置的大视角化及高亮度化得到推进,因此要求能更加确实地进行遮挡,使来自背光源的光不会漏出来。
此外,像在例如专利文献3中公开的那样,迄今为止提出了多个削减一基板及另一基板的厚度的方案。但是,在液晶盒的外侧范围仍然没有形成遮光膜,其必然结果是液晶盒的额缘部仍不具有充分的遮光性。
发明内容
本发明是鉴于所述问题的发明,其目的在于:尽管使遮光膜形成到基板的端部切割面所在的位置为止,但能够通过使该端部切割面成为平滑的切割面,来尽可能地提高遮光性。
-解决问题的技术方案-
为了达到所述目的,本发明所涉及的显示装置,包括:形成有遮光膜的一基板、与所述一基板相向设置的另一基板以及设置在所述另一基板的与所述一基板相反的一侧的背面照明部,其特征在于:在所述一基板的中央形成有起显示作用的显示区域,所述遮光膜由树脂构成,沿着所述一基板的端边无间断地连续形成在所述一基板的靠近所述另一基板侧的表面上,并且从所述显示区域的外缘形成到所述一基板的端边,所形成的所述一基板比所述另一基板薄,表面高度一定的区域沿着所述一基板的端边形成在所述一基板的靠近所述另一基板侧的表面上。
还有,本发明所涉及的显示装置,包括:形成有遮光膜的一基板、与所述一基板相向设置的另一基板以及设置在所述另一基板的与所述一基板相反的一侧的背面照明部,其特征在于:在所述一基板的中央形成有起显示作用的显示区域,所述遮光膜由树脂构成,沿着所述一基板的端边无间断地连续形成在所述一基板的靠近所述另一基板侧的表面上,并且从所述显示区域的外缘形成到所述一基板的端边,所形成的所述一基板的厚度在0.07mm以上且0.3mm以下,表面高度一定的区域沿着所述一基板的端边形成在所述一基板的靠近所述另一基板侧的表面上。
优选在所述另一基板上形成有标记,该标记是至少用来切割所述一基板的记号。
优选所述标记由透明导电膜构成。
优选在所述一基板的与所述另一基板相反的一侧的表面上,贴有比所述一基板厚的膜。
优选在所述一基板和所述另一基板之间设有液晶层,来构成液晶显示装置。
-作用-
下面,就本发明的作用进行说明。
所述显示装置使背面照明部的光透过另一基板及一基板的显示区域来进行显示。例如,当在一基板和另一基板之间设有液晶层时,该显示装置构成为液晶显示装置。
在显示装置中,因为遮光膜沿着一基板的端边无间断地连续形成在该一基板的靠近另一基板侧的表面上,并且从显示区域的外缘形成到一基板的端边,所以一基板的显示区域的外侧区域整个被遮光膜覆盖。因此,从背面照明部射出的光中没有用于显示的多余的光都确实地被所述遮光膜遮挡住。
通过将贴合基板母材切割成独立的贴合基板,而形成了所述显示装置,该贴合基板母材是使集合有多个一基板的基板母材和集合有多个另一基板的基板母材彼此贴合起来而形成的。
此时,假设像以往那样用金属薄膜形成所述遮光膜时,由于该金属薄膜所产生的膜应力,而有可能使断面产生扭曲或者有可能产生毛边。与此相对,在本发明所涉及的显示装置中,因为遮光膜由树脂构成,所以上述膜应力降低,能够抑制断面产生扭曲变形。还有,由于在该断面露出的是树脂,所以不会像金属那样被腐蚀。而且还由于遮光膜形成在一基板的靠近另一基板侧的表面上,所以在切割时该遮光膜很难直接被损坏。
而且,因为所形成的一基板比另一基板薄,所以在切割贴合基板母材时,能够抑制在一基板形成的断面产生扩展偏移(progressdivergence)。由此,一基板的端边将由高精度的切割面构成。当使一基板的厚度在0.07mm以上且0.3mm以下时,也能获得与此相同的效果。此外,若一基板的厚度小于0.07mm,则很难维持基板的机械强度,所以并不理想。特别是当一基板非常薄时,就会产生下述问题,即:在用手指等按压成为显示面的一基板时将产生波纹状的显示斑点,即使当手指离开显示面以后,显示斑点也不会立即消失。由此,可以说当所形成的一基板的厚度非常薄时并不理想。
另外,在此,所谓的“一基板的表面高度一定”是指例如当着眼于一基板的一端边时,在沿着该一边的任意位置上,利用已知的成膜方法在一基板的表面形成的膜的种类相同。一般来说,因为一种膜是在一次工序中形成为规定膜厚的,所以在沿着一边的任意位置将膜的种类统一起来必然意味着将沿着一边的基板膜面的表面高度统一起来。能够列举出的有机材料的薄膜形成方法之示例有旋转涂布法、辊涂布法、狭缝涂布法(slit coating method)、凸版印刷、橡皮版印刷、喷墨法等。还有,能够列举出的无机材料的薄膜形成方法之示例有溅射法、CVD法、真空蒸镀法等。还有,也可以在一基板的整个表面上形成膜以后,再对该膜的表面进行研磨,从而确实地使表面高度一致。
而且,因为表面高度一定的区域沿着一基板的端边形成在一基板上,所以在切割贴合基板母材时,一基板将难以产生不均匀的弯曲。由此,当切割时在一基板上将难以产生裂缝,所以在一基板的端边能够形成准确的断面。
还有,如果在另一基板上形成标记,则在切割贴合基板母材时该标记成为至少用来切割一基板时的记号,因此能够使切割变得容易且准确。此时,还优选由透明导电膜构成标记。当由透明导电膜构成的例如像素电极等形成在另一基板上时,则能够利用该透明导电膜形成标记,并且能够使该标记的厚度变得非常薄。因此,在切割贴合基板母材时,能够进一步抑制一基板产生不均匀的弯曲。
在此,因为以往用来控制切割一基板的标记形成在一基板上,而用来控制切割另一基板的标记形成在另一基板上,所以无法避免由于标记结构(材料及膜厚)产生的裂缝。与此相对,在本发明中,并不是像以往那样在选择应作为标记的材料时只注重标记的可见度,而是有意识地选择凹凸更少的膜构成标记,这与以往结构存在很大差异。
还有,如果在一基板的与另一基板相反的一侧的表面上粘贴比一基板厚的膜时,即使将一基板做得非常薄,也能利用该膜来确保一基板的机械强度。也就是说,能够使一基板进一步实现薄型化。
-发明的效果-
根据本发明,首先,能够利用从一基板的显示区域的外缘形成到一基板端边的遮光膜,将从背面照明部射出的光中没有用于显示的多余的光确实地遮挡起来。而且,因为用树脂构成了遮光膜,所以能够使所形成的一基板端边的精度提高,并且能够防止遮光膜被腐蚀。而且,还因为所形成的一基板比另一基板薄,所以能够抑制断面产生扩展偏移,从而能够用高精度的断面构成一基板的端边。并且还因为使表面高度一定的区域沿着一基板的端边形成在该一基板上,所以在切割时一基板将难以产生不均匀的弯曲,因而能够抑制在一基板的端边产生裂缝。
附图说明
图1是将图2的一部分放大后得到的立体图。
图2是表示实施方式一的液晶显示装置的立体图。
图3是表示用空心图案(void pattem)形成的标记的平面示意图。
图4是表示图3的IV-IV线剖面的剖面图。
图5是表示形成在另一基板上的标记的平面示意图。
图6是表示图5的VI-VI线剖面的剖面图。
图7是表示用L字型的空心图案形成的标记的平面示意图。
图8是表示图7的VIII-VIII线剖面的剖面图。
图9是表示形成在一基板上的标记的平面示意图。
图10是表示图9的X-X线剖面的剖面图。
图11是表示形成了扭曲断面的一基板的立体图。
图12是表示断面产生扩展偏移的立体图。
图13是对产生了裂缝的具有标记的一基板进行表示的立体图。
图14是在另一基板上形成了标记时对产生了裂缝的一基板进行表示的立体图。
图15是表示在试验中所测量的液晶盒宽度的立体图。
图16是表示试验结果的图表。
图17是表示试验结果的曲线图。
图18是将图19的一部分放大后得到的放大立体图。
图19是用来说明以往液晶盒的立体图。
图20是对将液晶盒从母体玻璃上切割下来的工序进行表示的立体图。
图21是以往液晶盒的平面图。
图22是将以往液晶盒的侧端放大后得到的平面图。
(符号说明)
A’、B’、C’标记
X            切割线
1         液晶显示装置
10        液晶盒
11        一基板
12        另一基板
13        遮光膜
14        划线槽
15        断面
16        划线轮(scribing wheel)
17、18    裂缝
20        液晶盒
21        行控制电路
22        列控制电路
23        布线组
25        光学膜
26        组装区域
27        FPC
28        显示区域
29        额缘区域
30        背光源
35        端边
36        区域
38        第二薄膜
具体实施方式
在对实施方式进行说明之前,先在下文中就如何想到本发明的经过加以说明,这样做的原因是认为下述说明将有助于理解本发明。
为了解决所述问题,本申请发明人在得出本发明之前反复进行了液晶盒的切割试验,并反复对切割的完成情况进行了观察。其结果是,在基板切割方面取得了重大发现,同时还转变了克服所述问题的思考角度。
也就是说,在通常情况下,为了在切割基板时实现平稳且笔直的切割,而将注意力放在成为显示装置的基板在平面方向的加工精度(例如,划线轮的位置控制及搬运控制等加工侧的精度)上,与此相对,本申请发明人则将注意力放在被加工侧即基板的垂直方向上,也就是基板的剖面结构(膜材料的种类、膜厚及分布等)上。
图11~图14是用来对影响基板切割后的完成情况的要素进行说明的立体图。还有,图16及图17表示的是在切割出各种液晶盒后实际测量所述液晶盒的成品尺寸所得到的结果。
如立体图即图15所示,用于试验的各个液晶盒10具有夹持着液晶层彼此粘贴在一起的一基板11及另一基板12。在另一基板12的表面设置有由低温多晶硅形成的驱动电路。用无碱玻璃(康宁公司制作的#1737或其等同品)作为构成一基板11及另一基板12的母体玻璃。还有,为了避免在划线时直接伤害到遮光膜,而将遮光膜形成在一基板11的靠近另一基板12侧的表面上。
还有,在液晶盒10的试验中,首先,使构成一基板11和另一基板12的一定厚度(0.7mm)的母体玻璃夹持着密封材彼此贴合起来构成盒,所形成的盒厚度约为3~5μm。接着,对所述母体玻璃进行薄型化加工处理,使该母体玻璃达到规定厚度。然后,利用划线折断法,切割成单个的液晶盒10。接着,按照图15所示的那样,分别对所形成的各个液晶盒10的宽度H进行了测量。
由所述试验的结果得出了下述四个有关分割完成情况的见解。
(第一个见解)
如立体图即图11所示,当用金属膜作遮光膜13时,由于该膜应力的原因,断面15从一基板11的形成有划线槽14的表面朝着形成有遮光膜13的相反侧表面产生变形。
已获知当金属膜没有覆盖整个面时或在局部集中起来时(例如由金属薄膜形成的定位标记(alignment marking)呈岛状设置在分割预定线上时等)也会产生该现象。而且,因为金属膜露出在已截断的端面上,所以无法避免金属膜被腐蚀。由此可知优选树脂作为遮光膜13的材料。
(第二个见解)
如立体图即图12所示,断面15从一基板11的形成有划线槽14的表面朝着其相反侧的表面扩展开,并且在与一基板11的表面平行的方向上产生了偏移d。可以认为这一现象的原因在于:对一基板11的切割是通过使裂纹从划线槽14自然地(自行地)扩展开才得以实现的。
于是,本申请发明人将注意力放到一基板11的厚度t上。也就是说,得出了下述结论,即:事先通过加工使所要切割的一基板11的厚度变薄以后,再对该基板进行切割。这样一来,即使在切割过程中出现意想不到的情况,最终也能使偏移d缩小。
此外,能够列举出的可谓相类似的已知示例有例如“JIS B0410:1991金属板剪切加工品的一般公差”。在这一规格下,公差随着板材厚度的减小而进一步变小。但是,当板厚在1.6mm以下时,公差则保持一定。
因此,可以认为:尽管有必要考虑板材为玻璃时的差异,但是根据所述已知示例,能够推断出当玻璃板的厚度是能用于液晶盒10的这一范围的厚度(0.7mm或0.5mm)时,即使进一步削减板厚,也几乎不会对切割完成精度产生影响。
在此,图16及图17表示的是对本申请发明人进行试验的液晶盒10的规定尺寸进行测量后得到的结果,该液晶盒10是通过切割由各种厚度的玻璃基板构成的母体玻璃而制成的。
在试验中,准备了十种样品(S1~S10)。也就是说,将玻璃基板即一基板11及另一基板12的厚度分别设定在0.7mm到0.07mm,再将所述厚度的基板组合起来,切割出液晶盒10。还有,利用加工能力指数(Cpk)对上述所切割的尺寸精度进行了评价。Cpk表示的是Cpk的值越大就越能在已设定的公差内稳定地完成加工。在此,图16表示的是测量尺寸的具体情况,图17表示的是将公差设为±0.2mm时的Cpk。
不管所述已知示例如何,如图16及图17所示,根据试验结果,也没有发现稳定的尺寸精度一定单纯地与玻璃基板的厚度减小成正比。这能够从下述情况中看出,即:例如在样品S1、S2、S3、S4及S5中,并不存在能称为显著差异的那种明显的变化。
但是,已经看出:若基板的厚度降低到一定程度,则尺寸精度得到提高。也就是说,当一基板11及另一基板12的厚度总和在0.6mm以下(在样品6之后的样品中)时,呈现出所述趋势。
此外,尽管总厚度在0.6mm以下,但样品8的尺寸精度仍然出现劣化,可以认为这是由于另一基板12过厚(0.5mm),从而液晶盒的尺寸精度在很大程度上受到切割精度差的另一基板12的尺寸精度的影响所致。
由此可知:若液晶盒10的总厚度在0.6mm以下且一个基板的厚度在0.3mm以下(样品S6、S7、S9、S10),液晶盒10的尺寸就具有高精度,并且很容易地就能够实现本发明的目标,即:很容易地就能够获得具有平滑断面的带遮光膜的一基板11。
在此,补充说明一下,虽然在图16及图17中没有图示出来,但本申请发明人还进行了下述尝试,即:将一基板的厚度制成0.05mm。这时产生了下述问题,即:用手指等按压显示面时产生了波纹状的显示斑点,并且该显示斑点不容易消失。因此,要是不采取能够使显示斑点消失的新对策的话,所述制品便不适合作为液晶显示装置。根据这一结果,当一基板的厚度在0.07mm以下时,由于无法消除显示上的问题,所以并不理想。
特别是在成为常黑的垂直取向方式的液晶模式时容易出现显示斑点。还有,即便是要求盒厚度要薄的反射型显示的液晶盒,也无法忽视由于一基板11的变形所引起的取向紊乱。
能够列举出的作为垂直取向方式的液晶模式有例如CPA取向及垂直TN取向。因为所述液晶模式能够获得1000左右这一非常高的对比度,所以能够提高背光源的亮度,并能够显示出高对比度且高亮度的优美画面。因此,使液晶盒周围实现充分遮光的必要性必然非常重要。根据本发明的构成,能够获得外形美观且具有高亮度及高对比度的显示装置,并且该显示装置的外形更加小巧,且来自背光源的光的泄漏少,而且还由于成为显示面的一基板11的厚度适中,所以还能够获得无显示干扰的显示装置。
换言之,本发明所涉及的显示装置的一基板11具有一个厚度上限(0.3mm)及一个厚度下限(0.07mm),将能够获得平滑断面的厚度作为该一基板11的厚度上限,并且将能够实现无干扰显示的厚度作为该一基板11的厚度下限,所述干扰是由于变形而引起的。
此外,当液晶盒10的尺寸精度在现有技术下的尺寸精度范围内即可时,不管总厚度如何,只要单纯地将形成有遮光膜的一基板11的厚度设定在0.3mm以下即可。此时,虽然液晶盒10的外形精度维持在以往的水平上,但是因为形成有遮光膜的一基板11的厚度很薄,所以能够使该断面即遮光膜的断面变得平滑。
还有,虽然削减基板厚度的想法本身是以往一直所期望实现的,但是想到通过“基板的薄膜化”来实现“将遮光膜形成到液晶盒的切割面为止”的这一构思是至今尚未公开的。
换言之,尽管“基板的薄膜化”作为降低液晶显示装置厚度的方法或者作为实现液晶显示装置轻量化的方法始终受到关注,但并没有由此而想到:通过使遮光膜形成到基板端部,并使该遮光膜的端面形成为平滑的直线状,来确保遮光容限,以缩小液晶显示装置的平面外形。
(第三个见解)
而且,如立体图即图13所示,已经看出:当在一基板11的与形成有划线槽14的表面相反的表面上形成有标记A,且该标记A成为用来形成划线槽14的记号时,容易以该标记A为起点在一基板11上产生裂缝17。
也就是说,虽然如上述第一个见解所述的那样,当标记A由岛状金属膜形成时产生了上述问题,但即使用树脂膜形成标记A,也同样出现了该问题。
一般认为这是由于标记A具有其膜应力虽小却无法忽视的厚度(例如1~2μm),所以在用划线轮16划线时,一基板11产生不均匀的弯曲所导致的。
也就是说,可以认为:在用划线轮16在一基板11上划线的瞬间,由于一基板11产生弯曲,致使一基板11与另一基板12夹持着具有厚度的标记A而彼此接触。
不仅在标记A为图13所示的岛状时出现了产生该裂缝17的问题,即使如平面图即图3以及图3的IV-IV线剖面图即图4所示,当标记A为所谓的空心图案时,也同样出现了该问题。此外,图3中的虚线表示一基板11的切割线X。
也可以说:当一基板11及另一基板12的间隔(盒间隙)小且一基板11和另一基板12彼此相靠近地贴合起来时(例如,在垂直取向型液晶模式及单一偏光片式反射型液晶模式时,需要3μm左右的盒间隙),更容易出现所述问题。由于上述理由,很难正常地对一基板11进行划线。
因此,若考虑到所述第一个见解和第三个见解,则可以说无论标记的材料是金属还是树脂,都不优选在一基板11的预定切割区域的附近形成所述标记。
(第四个见解)
还有,如立体图即图14所示,已经看出:当在另一基板12的靠近一基板11侧的表面形成了标记C的状态下,用划线轮16在一基板11的表面形成划线槽14时,则容易在该一基板11上产生裂缝18。
例如,在有源矩阵型显示装置中,标记C由布线材料即厚度约为数千
Figure G2007800334890D00131
(埃)的金属薄膜形成。因此,容易以所述金属薄膜形成的标记C为起点产生所述裂缝18。还有,即便不存在标记C而在另一基板12的靠近一基板11侧的表面存在大约数μm的凹凸,则在切割一基板11时该凹凸也会成为裂缝的起点。
可以认为:这与所述第三个见解相同,是由于在划线时一基板11弯曲变形,使得一基板11与另一基板12上的标记C或凹凸部分相接触,因而无法正常地进行划线所致。
根据本申请发明人的试验,当由形成栅电极的厚度为4000
Figure G2007800334890D00132
的金属薄膜形成标记C时,在该标记C附近产生了裂缝18,因此可以判断出此时的样品不合格,另一方面,当由形成像素电极的厚度为1000
Figure G2007800334890D00133
的透明导电膜形成标记C时,在该标记C附近没有产生裂缝18,因此可以判断出此时的样品合格。
如上所述,从防止裂缝18产生的观点来看,适合标记C的材料优选透明导电膜(例如厚度约为1000
Figure G2007800334890D00141
的ITO(氧化铟锡)及IZO(掺铟氧化锌)等),而不优选像形成在有源矩阵型显示装置中的栅极母线及源极母线那样的布线用材料,即厚度约为数千
Figure G2007800334890D00142
的金属薄膜。
下面,根据附图来详细说明本发明的实施方式。此外,本发明并不限于下述实施方式。
《发明的实施方式一》
图1、图2、图5~图10表示本发明的实施方式一。在本实施方式一中,将就显示装置之一例即所谓的透过型液晶显示装置1进行说明。
图2是用来说明用于液晶显示装置1的液晶盒20的立体图。图1是将图2的一部分放大后得到的放大立体图。
如图2所示,液晶显示装置1包括:液晶盒20以及设置在液晶盒20的背面一侧(即与观察者相反一侧)的背面光源部即背光源30。背光源30具有与液晶盒20相向设置的板状导光部件31、和设置在导光部件31侧面的多个光源32。能够用冷阴极管或LED(发光二极管)作光源32。
液晶盒20包括相对侧基板即一基板11、与一基板11相向设置的元件侧基板即另一基板12以及设置在一基板11和另一基板12之间的液晶层(图示省略)。所述液晶层在一基板11和另一基板12之间被框状密封部件(图示省略)包围并密封起来。能够将例如紫外线固化树脂及热固化树脂等用作所述密封部件。
一基板11由矩形薄板状的玻璃基板形成,其厚度在0.07mm以上且0.3mm以下。如图1所示,在一基板11的靠近液晶层一侧的表面上形成有黑矩阵即遮光膜13、彩色滤光片(图示省略)以及共用电极(图示省略)等。能够用例如ITO等透明导电膜形成共用电极。在一基板11的与另一基板12相反的一侧的表面上,粘贴有偏光片及移相片等光学膜25。所形成的光学膜25比一基板11厚。
实现光学膜25厚膜化的方法有例如有意识地增加以三乙酸纤维素为主体的树脂层的厚度,该树脂层成为偏光片的支撑层。还有增加用来将光学膜25接合在一基板上的接合层的厚度的方法。而且,作为实现光学膜25厚膜化的其它方法,还能够想到将适用于反射型或反射透过兼用型液晶显示装置的例如成为1/4波片的移相片和偏光片叠层起来。
还有,除了利用所述叠层物((1)移相片和偏光片的叠层物)能够实现光学膜25的厚膜化以外,利用(2)视角扩大膜和偏光片的叠层物、(3)用来在反射型显示时产生散射光的散射膜和偏光片的叠层物、(4)用来降低刺眼强光的防眩膜或反射防止膜与偏光片的叠层物的结构中的任一种或者三种以上的组合,也能够很容易地实现光学膜25的厚膜化。也就是说,光学膜25优选第一膜即偏光片和其它的第二膜的叠层物,更优选该第二膜是起显示作用的膜,因为如果该第二膜是起显示作用的膜,便不会导致成本提高。
特别是由于在所述(1)~(4)的构成中相当于第二膜的膜是贴合在显示面侧的基板即经薄型化处理的一基板11上的膜,所以上述构成非常理想。之所以这样说的原因在于:散射膜及防眩/反射防止膜对于另一基板12的非显示面来说没有任何用处。因此,使非显示面侧的另一基板12的厚度小于一基板11的厚度,并将无助于显示仅起增强作用的单纯的透明膜粘贴在另一基板12上的做法将导致制造成本提高,所以优选的是像本发明那样使显示面侧的一基板11的厚度降低。
还有,光学膜25形成为比一基板11小一圈的矩形薄膜状。还有,为了保护已变薄的一基板11,可以在液晶显示装置1的使用者一侧的表面上设置丙烯酸树脂及玻璃等保护膜。
在一基板11的中央部形成有起显示作用的显示区域28。显示区域28形成为矩形形状,比该显示区域28的外缘还靠外的外侧区域成为不起显示作用的额缘区域29,该额缘区域29呈矩形框状。也就是说,一基板11上的区域由显示区域28和额缘区域29构成。
而且,所形成的一基板11比另一基板12薄,表面高度一定的区域36沿着一基板11的端边35形成在一基板11的靠近另一基板12侧的表面上。换言之,平坦的区域36沿着一基板11的端边35形成在一基板的靠近另一基板12侧的表面上。
在此,一基板11的端边35指的是从一基板11的法线方向所看到的四条边,构成了一基板11的侧壁面。还有,端边35构成从母基板上将一基板11切割下来时所形成的切割线(通过切断而形成的侧面)。
另一基板12由矩形薄板状的玻璃基板形成,所形成的另一基板12及一基板11的厚度总和在0.6mm以下。因为所形成的一基板11的厚度比另一基板12薄,所以不仅能够使液晶盒20整体保持规定的厚度以确保该液晶盒20的强度,还能将形成有遮光膜13的一基板11的厚度设定在0.3mm以下。
如图2所示,当另一基板12贴合在一基板11上时,在该另一基板12中只有一条边比一基板11更向侧面突出。向该侧面突出的区域成为组装区域26。在组装区域26上安装有用来控制液晶盒20的FPC(柔性印刷电路板)27。
因为当要安装FPC等部件的另一基板12的厚度比较厚时,不会使组装作业的难度提高,所以优选厚度较厚的另一基板12。特别是当进行COG(chip on glass:将芯片直接固定在玻璃上)组装时,因为有必要搭载驱动器IC,所以组装区域26要比一基板11长例如3~5mm左右。这样一来,若另一基板12变薄,就有可能损坏组装区域26,而容易出现不良现象。
此外,当不要求基板自身的强度时,则可以使一基板11及另一基板12的厚度都在0.3mm以下。例如,在仅安装上端子数很少的FPC而不是进行COG组装时,组装区域26的突出长度可以在2mm以下。因此,即使另一基板12的厚度变薄,也难于出现上述不良现象。而且,此时能够使形成有遮光膜13的一基板11的厚度比另一基板12厚。
还有,在另一基板12的靠近液晶层一侧的表面上,设置有行控制电路21、列控制电路22、布线组23以及像素(图示省略)等,而构成了单片。所述像素排列成矩阵状,在每个像素形成有开关元件即TFT(薄膜晶体管,图示省略)。所述布线组23将各个TFT与行控制电路21及列控制电路22连接起来。并且,在另一基板12的与一基板11相反的一侧设置有所述背光源30。
并且,遮光膜13分别形成在所述像素之间的区域、和所述像素组形成的显示区域28的外侧周围区域(即额缘区域29)中。这样一来,由于遮光膜13遮挡住从背光源30射出的无用光,因而实现了高对比度,同时还发挥了作为用来保持液晶显示装置1的额缘美观的所谓“分型线”的作用。
遮光膜13由树脂构成。还有,遮光膜13沿着一基板11的端边35无间断地连续形成在一基板11的靠近另一基板12侧的表面上,并且从显示区域28的外缘形成到一基板11的端边35。也就是说,在所述平坦区域36形成有遮光膜13,同时还在整个额缘区域29中布满遮光膜13。
并且,如图1所示,在另一基板12上形成有标记A’、B’、C’,该标记A’、B’、C’是至少用来切割一基板11的记号。换言之,在切割一基板11、或者切割一基板11及另一基板12时,标记A’、B’、C’成为表示切割位置的标记。
从基板的法线方向来看,标记A’、B’、C’沿着一基板11或另一基板12的切割线即端边35呈带状延伸。并且,标记A’和标记C’由透明导电膜构成。
当在另一基板12的靠近一基板11侧的表面上形成标记A’及标记C’时,优选用形成在另一基板12上的最薄的薄膜材料形成标记A’及标记C’。例如,图5及图5的VI-VI线剖面图即图6所示,在另一基板12的靠近一基板11侧的表面上形成有标记A’和标记C’。也就是说,在另一基板12上,为每个像素形成了由透明导电膜构成的像素电极。就用于像素电极的透明导电膜来说,所重视的是确保该透明导电膜的透过率,而且并没有将该透明导电膜用作长布线等,所以通常能使该透明导电膜形成得非常薄。因此,作为在切割一基板11时不使其产生裂缝的标记A’和标记C’的材料,优选所述薄透明导电膜。
如上所述,遮光膜13沿着一基板11的切割线(通过切断而形成的侧面)无间断地形成在一基板11的靠近另一基板12侧的表面上,标记A’形成在另一基板12的靠近一基板11侧的表面上,而并没有形成在一基板11的靠近另一基板12侧的表面上。
还有,在与一基板11的切割线(即端边35)的附近区域相对的另一基板12的靠近一基板11侧的表面上,不存在用构成TFT及TED(薄膜二极管)等的金属薄膜图案化而成的标记。由此,在另一基板12的靠近一基板11侧的表面上,该表面高度的高低差异减小。
在本实施方式一中,在另一基板12的靠近一基板11侧的表面的、与一基板11的切割线附近区域相对的区域中,设置有标记A’及标记C’,该标记A’和标记C’不是由金属薄膜构成,而是像上文所述的那样是由比该金属薄膜更薄的透明导电膜构成。
此外,在使用金属薄膜的有源矩阵型液晶显示装置中,一般来说,另一基板12的表面比较容易形成凹凸起伏。于是,还能通过例如形成平坦化膜等,使该另一基板12的表面在显示区域及切割预定区域整体上实现均匀的平坦化。
但是,在液晶显示装置中,像素电极有可能包括具有散射性的凹凸反射面,并且通过改变另一基板12的表面高度而使液晶层厚度变化的多间隙(multi-gap)区域有可能形成在显示区域28中。因此,在这种情况下,很难使另一基板12变得平坦。
由此,优选使任意的凹凸起伏形成在另一基板12的显示区域(即:与一基板11的显示区域28相向的区域),而不在位于该显示区域的周围且与一基板11的端边35附近相向的区域形成由金属薄膜构成的岛状图案,以便统一剖面方向的膜结构,避免在该区域形成凹凸起伏。
另一方面,也可以在另一基板12的靠近一基板11侧的表面的、不与一基板11的切割线即端边35相向的区域,设置由金属薄膜形成的标记B’,以便能够确认另一基板12的切割位置。并且,由于能够提高标记B’的可视性,所以很容易地就能够完成另一基板12的切割作业。而且,即使用比较厚的金属薄膜形成标记B’,也由于该标记B’远离一基板11的端边35,因而在切割基板形成端边35时并没有产生裂缝。
此外,毋庸置疑的是当用标记A’就足以能够确认切割位置时,标记B’就不是必需的了。还有,如果能利用在母体玻璃上的液晶盒周围的废弃基板区域设置的其它标记确认切割位置,则可以不设置标记A’、B’、C’中的任一个,甚至还可以不设置所述任一标记。
这样一来,在本实施方式一中,并没有用相同的材料统一形成表示切割位置的标记A’、B’、C’,而是根据切割的完成情况,适当地使这些标记的结构发生变化,这也是本实施方式的特征所在。换言之,在与一基板11的端边35相向的区域及不与一基板11的端边35相向的区域中,标记的材质不同。
此外,还能够想到:有时由于不得已的原因要将标记设置在一基板11的靠近另一基板12侧的表面上。此时,如平面图即图7以及图7的VIII-VIII线剖面图即图8所示,能够使所设置的标记A’与切割线X相距规定的距离a。例如在考虑到划线轮的机械位置精度时,则将距离a设定在50μm以上。能够利用将遮光膜13的一部分切除后留下的空心图案形成标记A’。
还有,如平面图即图9以及图9的X-X线剖面图即图10所示,还能够向通过切除而形成的遮光膜13的开口部填充具有同等膜厚的第二薄膜38,从而利用该第二薄膜38构成标记A’。此时,将标记A’设置成为:从基板的法线方向看去使该标记A’与切割线X相重叠。
而且,若要求不能有明显的背面光从开口部漏出,则优选用可见度低的彩色滤光片例如蓝色的着色树脂作第二薄膜38。
还有,优选由第二薄膜38构成的标记A’形成为例如L字型,并且使该L字型的边沿着从基板的法线方向来看彼此相交叉的两条切割线X延伸。由此,因为能够使开口部更加靠近切割线X,所以能够更好地抑制光从标记A’的外缘漏出。还有,也可以使标记A’成为简单的长方形,并使其一边沿着切割线X延伸。
-制造方法-
下面,对所述液晶显示装置1的制造方法进行说明。
液晶显示装置1是通过从大型贴合基板母材上将多个液晶盒20切割下来而制成的。也就是说,首先,通过使集合有多个一基板11的一基板母材(图示省略)和集合有多个另一基板12的另一基板母材(图示省略)夹持着为每个液晶盒设置的密封部件彼此贴合起来,由此便形成了贴合基板母材。
在一基板母材上,形成有彩色滤光片等,并且还形成有遮光膜13。在相邻的显示区域28之间布满遮光膜13。在另一基板母材上,形成有TFT、像素电极及布线等,并且还分别形成有标记A’、B’、C’。标记A’、C’由透明导电膜形成,并且在同一工序中形成了标记A’、C’和像素电极。另一方面,标记B’由金属薄膜形成,并且在同一工序中形成了标记B’和例如布线等。
接着,用划线轮在贴合基板母材上形成网格状的划线槽。此时,用标记A’、B’、C’作记号决定划线轮的位置。并且,通过向贴合基板母材施加压力,而使裂纹从划线槽开始扩展开。其结果是贴合基板母材被切断,形成了多个液晶盒20。然后,用例如真空注入法向各个液晶盒20填充液晶,并密封起来。或者还能利用在使基板母材彼此贴合起来时填充液晶的所谓滴下注入法。
然后,在液晶盒20的组装区域26安装上FPC27等,并且在液晶盒20的背面一侧安装上背光源30。由此便制造出液晶显示装置1。
-实施方式一的效果-
由此,根据该实施方式一,由于用树脂形成了遮光膜13,所以能够抑制在切割基板时形成多余的毛边,并且由于在与形成有划线槽的切割侧表面相反的一侧形成了遮光膜13,所以遮光膜13并没有随着划线槽的形成而直接受到损坏。而且,因为形成有划线槽的表面和形成有遮光膜13的表面之间的距离很近,所以在切割贴合基板母材时,能够使从形成有划线槽的表面朝着形成有遮光膜13的表面自然扩展开的裂缝的偏移缩小。因此,即使遮光膜13一直形成到一基板11的端边35,也能够获得下述液晶显示装置1,即:在该液晶显示装置1中,其端边35的断面为平滑的断面。还有,即使一基板11及另一基板12的总厚度为通常厚度,也能够实现使遮光膜13的断面成为平滑断面的液晶显示装置1。而且,即使设置有标记A’、B’、C’也不会产生裂缝,因而切割基板时的制造管理变得容易。
也就是说,因为遮光膜13沿着一基板11的端边35无间断地连续形成在该一基板11的靠近另一基板12侧的表面上,并且从显示区域28的外缘形成到一基板11的端边35,所以能够用遮光膜13覆盖住一基板11的位于显示区域28外侧的整个区域。因此,即使在显示区域28的外侧,从背光源30射出的光中没有用于显示的多余的光也确实能够被遮光膜13遮挡住。
此外,假设沿着一基板11的切割线(端边35)形成的遮光膜13像以往那样由金属薄膜形成,则由于该金属薄膜所产生的膜应力,而有可能使端边35的断面产生扭曲或者有可能产生毛边。与此相对,在本实施方式一中,因为遮光膜13由树脂构成,所以上述膜应力降低,能够抑制断面产生扭曲变形。也就是说,能够用高精度的平滑断面构成一基板11的端边35。
而且,由于在断面露出的遮光膜13为树脂膜,所以不会像金属那样被腐蚀。还由于遮光膜13形成在一基板11的靠近另一基板12侧的表面上,所以在切割时划线轮很难直接损伤到遮光膜13。
在此基础上,因为使一基板11的厚度在0.07mm以上且0.3mm以下,并且使一基板11的厚度小于另一基板12的厚度,所以在切割贴合基板母材时,能够使从划线槽扩展开的裂纹在与一基板11平行的方向上产生的偏移量减小,从而能够抑制断面产生扩展偏移。由此,能够由精度更高的切割面构成一基板11的端边35。
在此,若一基板11的厚度小于0.07mm,因为很难维持一基板11的机械强度,所以并不理想。而且,此时,若用手指等按压加工得很薄的一基板11,则产生很明显的波纹状显示斑点,这种情况非常不理想。还有,当一基板11的厚度比0.3mm大时,因为所述断面的扩展偏移十分明显,所以这种情况并不理想。
而且,因为沿着一基板11的端边35形成有表面高度一定的区域36,所以在切割贴合基板母材时,能够使一基板11难以产生不均匀的弯曲。由此,在切割一基板11时则难以产生裂缝。
还有,当事先在一基板11的靠近另一基板12侧的表面上从显示区域28的周围到至少越过切割线的外侧区域为止均匀地形成遮光膜13时,也能利用划线折断法获得具有平滑断面的一基板11。
并且,在另一基板12上形成了标记A’、B’、C’,而在切割贴合基板母材时这些标记至少成为切割一基板11的记号,因此能够使切割变得容易且准确。而且,因为用透明导电膜构成了标记A’、C’,所以能够利用构成另一基板12上的例如像素电极的透明导电膜形成所述标记A’、C’,并且能够在同一工序中形成像素电极和标记A’、C’,从而并没有使工序增加。还有,能够使该标记A’、C’的厚度非常薄,就像像素电极那样。因此,在切割贴合基板母材时,能够进一步抑制一基板产生不均匀的弯曲。
而且,因为在一基板11的与另一基板12相反的一侧的表面上,粘贴有比一基板11厚的光学膜25,所以即使将一基板11做得非常薄时,也能利用该光学膜25来确保一基板11的机械强度。也就是说,能够使一基板11进一步实现薄型化。还有,当用手指等按压一基板11的显示面(即显示区域28的表面)时,能够抑制该一基板11的变形,所以能够使显示斑点减少。
并且,若将所述液晶盒20与背光源30一起镶嵌在框体上,则能够用遮光膜13更大限度地进行遮光。因此,能够消除光从液晶盒20周围漏出的现象,从而能够制造出外形小巧且不影响美观的液晶显示装置1。
《其它的实施方式》
在所述实施方式一中,对用齿轮刀具形成划线槽后再切割贴合基板母材的所谓划线折断法进行了说明,但是本发明并不限于此。除此以外,还可以采用下述加工方法,即:在利用例如用激光局部生成的热应力形成切割的起点后,再使裂纹从该起点扩展开。这是因为所述第一个见解及第二个见解对于采用激光的加工方法来说也同样有效。
还有,虽然在所述实施方式一中,就作为显示装置之一例的透过型液晶显示装置1进行了说明,但是本发明并不限于此,对于包括具有遮光膜的一基板、另一基板以及背面照明部的其它显示装置来说,本发明也同样适用。还有,本发明并不限于透过型液晶显示装置,在透过及反射两用型液晶显示装置中也同样适用。
-产业实用性-
综上所述,本发明对于具有遮光膜及背面照明部的显示装置来说是有用的,还特别适合下述情况,即:尽管使遮光膜形成到基板的端部切割面所在的位置为止,但能通过使该端部切割面成为平滑的切割面,来提高遮光性。

Claims (5)

1.一种显示装置,包括:形成有遮光膜的一基板、与所述一基板相向设置的另一基板以及设置在所述另一基板的与所述一基板相反的一侧的背面照明部,其特征在于:
在所述一基板的中央,形成有起显示作用的显示区域,
所述遮光膜,由树脂构成,沿着所述一基板的端边无间断地连续形成在所述一基板的靠近所述另一基板侧的表面上,并且从所述显示区域的外缘形成到所述一基板的端边,
所形成的所述一基板比所述另一基板薄,
表面高度一定的区域沿着所述一基板的端边形成在所述一基板的靠近所述另一基板侧的表面上,
在所述另一基板形成有表示基板的切割位置的标记,
在与所述一基板的端边相向的区域和不与所述一基板的端边相向的区域中,所述标记的材质不同。
2.一种显示装置,包括:形成有遮光膜的一基板、与所述一基板相向设置的另一基板以及设置在所述另一基板的与所述一基板相反的一侧的背面照明部,其特征在于:
在所述一基板的中央,形成有起显示作用的显示区域,
所述遮光膜,由树脂构成,沿着所述一基板的端边无间断地连续形成在所述一基板的靠近所述另一基板侧的表面上,并且从所述显示区域的外缘形成到所述一基板的端边,
所形成的所述一基板的厚度在0.07mm以上且0.3mm以下,
表面高度一定的区域沿着所述一基板的端边形成在所述一基板的靠近所述另一基板侧的表面上,
在所述另一基板形成有表示基板的切割位置的标记,
在与所述一基板的端边相向的区域和不与所述一基板的端边相向的区域中,所述标记的材质不同。
3.根据权利要求1或2所述的显示装置,其特征在于:
在与所述一基板的端边相向的区域形成的标记由透明导电膜构成,
在不与所述一基板的端边相向的区域形成的标记由金属薄膜构成。
4.根据权利要求1或2所述的显示装置,其特征在于:
在所述一基板的与所述另一基板相反的一侧的表面上,贴有比所述一基板厚的膜。
5.根据权利要求1或2所述的显示装置,其特征在于:
在所述一基板和所述另一基板之间设有液晶层,以构成液晶显示装置。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011055635A1 (ja) * 2009-11-09 2011-05-12 シャープ株式会社 光源ユニット用母材、照明装置、表示装置、及びテレビ受信装置
JP4616410B1 (ja) * 2010-03-23 2011-01-19 株式会社コムラテック 大形樹脂凸版の製法およびそれによって得られた大形樹脂凸版
JP5808542B2 (ja) 2011-01-20 2015-11-10 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置用基板、表示装置及び表示装置用基板の製造方法
CN102608811A (zh) * 2012-03-22 2012-07-25 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示装置及其制造方法
JP2013225033A (ja) * 2012-04-23 2013-10-31 Japan Display Inc 表示装置及びその製造方法
CN102910809B (zh) * 2012-10-24 2015-04-15 深圳市华星光电技术有限公司 一种基板及其切裂方法
KR102324543B1 (ko) * 2014-12-11 2021-11-11 엘지디스플레이 주식회사 표시장치 및 표시패널
KR20160092150A (ko) * 2015-01-26 2016-08-04 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 표시장치의 구동 방법
GB2543101B (en) * 2015-10-09 2022-09-14 Flexenable Ltd Lamination technique for producing electronic devices
EP3678367B1 (en) * 2017-08-28 2023-12-13 LG Electronics Inc. Display device
CN109192078B (zh) * 2018-11-12 2021-01-26 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性面板及其制备方法和显示装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63180932A (ja) * 1987-01-22 1988-07-26 Asahi Glass Co Ltd 液晶表示装置
US5155612A (en) * 1989-06-09 1992-10-13 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device with light shield
JP2905498B2 (ja) 1989-06-09 1999-06-14 シャープ株式会社 液晶表示装置
JPH05224196A (ja) 1992-02-17 1993-09-03 Hitachi Ltd 液晶表示装置とその製造方法
JP2678325B2 (ja) * 1992-03-06 1997-11-17 カシオ計算機株式会社 液晶表示素子の製造方法
JPH06230356A (ja) * 1993-01-29 1994-08-19 Rohm Co Ltd 液晶表示装置
JPH08254692A (ja) 1995-03-17 1996-10-01 Citizen Watch Co Ltd 液晶表示パネルおよびその製造方法
JP2663937B2 (ja) 1996-05-27 1997-10-15 セイコーエプソン株式会社 液晶表示体の製造方法
JPH1091101A (ja) * 1996-09-19 1998-04-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd カラーフィルタ基板およびそれを用いたカラー液晶表示パネル
KR100235308B1 (ko) 1997-06-30 1999-12-15 윤종용 2중 굴곡된 타이바와 소형 다이패드를 갖는 반도체 칩 패키지
JPH11311776A (ja) * 1998-04-30 1999-11-09 Hitachi Ltd アライメントマーク付き液晶表示素子用基板
US7992163B1 (en) * 1999-06-11 2011-08-02 Jerding Dean F Video-on-demand navigational system
US7010801B1 (en) * 1999-06-11 2006-03-07 Scientific-Atlanta, Inc. Video on demand system with parameter-controlled bandwidth deallocation
JP4337190B2 (ja) * 1999-11-18 2009-09-30 東レ株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP2003029302A (ja) 2001-07-18 2003-01-29 Sony Corp 調光装置及び撮像装置
JP4104489B2 (ja) * 2002-05-17 2008-06-18 東芝松下ディスプレイテクノロジー株式会社 表示装置及びその製造方法
US7050131B2 (en) * 2002-10-17 2006-05-23 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device having black seal pattern and external resin pattern, and method of fabricating the same
JP4491773B2 (ja) 2003-09-26 2010-06-30 三菱マテリアル株式会社 液晶パネルの製造方法
JP4342428B2 (ja) * 2004-07-15 2009-10-14 シャープ株式会社 液晶表示パネルおよびその製造方法
JP4603310B2 (ja) 2004-07-15 2010-12-22 オプトレックス株式会社 液晶表示素子
KR100636497B1 (ko) * 2005-05-02 2006-10-18 삼성에스디아이 주식회사 발광표시장치 및 그 제조방법
US8621540B2 (en) * 2007-01-24 2013-12-31 Time Warner Cable Enterprises Llc Apparatus and methods for provisioning in a download-enabled system

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP特开平11-311776A 1999.11.09

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Publication number Publication date
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US8199285B2 (en) 2012-06-12
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CN101512419A (zh) 2009-08-19
EP2051131A4 (en) 2011-01-19

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