CN101441280B - 超低残留反射的低应力透镜涂层 - Google Patents

Abstract

本发明给出一种用防反射(anti-reflection，AR)涂层对光学透镜和其他光学制品涂覆的方法。透镜有低的反射率，提供基本上白色的光反射，并有低应力AR涂层，且理想地适合用于模制工艺制作的光学透镜，该种模制工艺给出低应力的透镜基片。一方面，本方法使用专门的涂层成分，其中之一是高折射率成分，另一种是低折射率成分。另一方面，还公开一种光学监控器与常规汽相淀积设备结合使用的方法，按照该方法，使用光学参考透镜，并测量反射光中特定的光学频率，然后用该测量来确定何时获得需要的光学涂层。再一方面，本方法最好还用反射光中蓝光对绿光对红光的专门比例，计算每一层的光学厚度。必要时，还通过调整每一层的光学厚度，控制AR膜的应力，使低/高折射率层之间的拉应力和压应力的差最小。

Description

超低残留反射的低应力透镜涂层

本申请是基于申请号为200480014127.3、申请日为2004年5月18日、发明名称为“超低残留反射的低应力透镜涂层”的专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及用于透镜的低应力低残留反射的多层防反射涂层，更具体说，是涉及一种形成高折射率防反射涂层的成分和一种形成低折射率防反射涂层的成分、最好使用该成分制作光学透镜的方法，其中包括使用装配有光学监控器的真空淀积室，该光学监控器用于控制防反射涂层的光学性质。

背景技术

光学领域中众所周知，光从玻璃和其他表面的反射是不希望的，或产生视觉上的不舒服。除了这种不希望的作用外，反射光还令用户觉得晕眩，或产生模糊的像。对受特别关注的光学透镜，已经为降低从光学透镜表面的反射而研制成分及方法。

为确保残留反射在整个可见光谱范围保持在相对小的值，现有技术已经提出了相当大量的防反射(AR)涂层。单层或双层的涂层，已经给出显著的改进，但残留反射仍然比希望的大，为改进AR的性质，现有技术已经求助于有三层或更多层的AR涂层。

通常是控制每一淀积的AR层的光学厚度，使AR作用优化或最大化，而且众所周知，光学厚度是真正(几何)厚度和相应层的折射率的乘积。光学厚度一般以使用该涂层的指定参考光线波长的分数描述。设计波长常常在约510纳米(nm)到550nm。相应AR层的光学厚度，可用如下的一般公式定义，其中的N是折射率，d是层的几何厚度，而λ是参考波长：

N_ad_a＝xλ

这里x是一数，通常是分数，指示波长的百分比，而a是代表层的整数，这些层以更接近眼镜透镜的最低数涂覆。通常x取0.25，代表四分一波长的光学厚度。

今天，本领域已众所周知，调整个别层的光学厚度，可以在不同折射率的基片上获得相同结果。

在每一AR层的形成中，已淀积层对每一厚度测量的四分一光波长，即λ/4，呈现干涉极大值。因此，在光学AR层的形成中，利用光学厚度是0.25倍数这一干涉极大现象，可以方便地控制AR层的厚度。

虽然下面的说明为方便起见，针对的是聚碳酸酯透镜，但本领域熟练人员应当明白，本发明可用于其他透镜材料，如聚氨基甲酸乙酯、丙烯酸玻璃、CR-39、等等。聚碳酸酯透镜中的应力，导致双折射和光学畸变。虽然在普通环境下看不到，但当把聚碳酸酯放在两个起偏丝之间时，双折射和光学畸变是明显的，正是这个原因使聚碳酸酯透镜在光学上比不上例如玻璃、CR-39、及其他类似材料的透镜。由Optima研制，商标名是

的新聚碳酸酯透镜，没有这种应力和双折射，因此，提供AR涂层的当前处理工艺和AR涂层的固有应力，现在成为这种透镜制造商更值得关注的问题。

此外，AR涂层的目前状态，有残留的绿色反射，在0.75％到1.5％的残留反射之间变化。这种绿色在外观上是令人不愉快的，并起绿色滤波器的作用，降低人眼感觉到的绿光的量。在涂层性能和它的外观表现两方面，都希望有不带滤波效应的更低的残留反射。最好只有白光被反射。

在当前的工业中，已经充分掌握AR涂层目前的设计和生产，且通常为了使制作简单得多和便宜得多，在设计中留下残留颜色。目前的技术使用Quartz Crystal Monitor(石英晶体监控器)，控制生产AR涂层要求的个别层的物理厚度。目前的涂层标准，需要4层HLHL涂层，这里H代表因其特有的折射率而被选择的高折射率电介质材料，而L代表同样因其折射率而被选择的低折射率电介质材料。每一层通常由所选高或低折射率材料的光学四分一波长构成。低折射率材料包括SiO₂和MgF₂。高折射率材料包括如下材料的氧化物亚类：Zr、Hf、Ta、Ti、Sb、Y、Ce、和Yb。虽然没有包括全部，但这些材料是当前最广泛使用的。

当前生产的许多AR涂层，还包括粘附层、缓冲层、耐磨层、和疏水性外层。从消费者的观点看，这些层用于增强涂层的性能，但对AR涂层的光学质量，只有很小影响。

在制作AR涂层中另一个关注的问题是，高折射率材料和低折射率材料在AR涂层膜中引起压应力和拉应力。但是，防反射(AR)涂层的目前技术，没有考虑涂层自身固有应力的量。这是因为目前当前市场上生产的透镜，例如聚碳酸酯透镜，已经有太多的应力，以致AR涂层引起应力的附加量，被认为是不重要的。这是为什么目前的生产技术试图限制使用的层数的一个原因。一般地说，低折射率材料，如二氧化硅产生的拉应力，约为高折射率材料产生的压应力的5倍。如果涂层因附加层而变得太厚，低折射率材料和高折射率材料引起应力中的差，能够导致AR膜分开并从透镜脱落，也导致有害的光学效应。

目前生产技术限制层数的另一个原因是，石英晶体监控器只能测量涂布材料的物理厚度。但是，AR涂层是围绕光学质量设计的，光学质量与使用的材料的折射率非常有关系。这些折射率将随涂覆条件，诸如可购得的O2、涂覆速率、和淀积温度的变化而偏移。涂层中留下的绿光反射，确实是掩盖正常生产过程中这些缺陷的良好成果，且在非常广阔的绿色可见光谱中高峰值的反射，能够在正常生产过程中偏移，除训练有素的专业人员外，不会引起所有人的注意。

为了使形成的AR涂层没有残留颜色，即AR涂层是白色的，且有低的整个残留反射，制造商通常必须添加若干附加的AR层。这些层产生的附加厚度，导致应力的增加和可能的AR涂层剥离，而这些需要权衡的问题，必须由透镜制造商解决。

出于对现有技术这些问题和缺陷的关注，本发明的一个目的，是提供一种在光学透镜或其他光学制品上，制作高折射率AR涂层的成分。

本发明的另一个目的，是提供一种在光学透镜或其他光学制品上，制作低折射率AR涂层的成分。

本发明的再一个目的，是提供一种用上述成分，制作有AR涂层的光学透镜或其他光学制品的方法。

本发明的又再一个目的，是提供一种制作有AR涂层的光学透镜的方法，该方法用光学监控器，在光学透镜或其他光学制品上提供需要的AR光学涂层。

本发明还有一个目的，是提供一种以AR涂层涂覆光学透镜或其他光学制品的方法，该AR涂层有低的残留反射，反射光基本上是白光，且AR涂层有低的应力。

本发明还有一个目的，是提供用本发明的方法制作的光学透镜和其他光学制品。

本发明还有的其他目的和优点，在本说明书中部分是显而易见的，部分是明明白白的。

发明内容

本发明获得的上述及其他目的和优点，对本领域熟练人员是显而易见的，本发明的第一方面，是针对一种在光学透镜上制作高折射率AR涂层的成分，该成分包括铈和钛氧化物的混合物，其中的氧化铈按该成分重量计，约小于25％。

在本发明的再一个方面中，是提供一种在光学透镜上制作低折射率AR涂层的成分，该成分包括硅和铝氧化物的混合物，其中的氧化铝按该成分重量计，约小于10％。

在本发明的又一个方面中，是提供一种方法，用于制作有防反射(AR)涂层的光学透镜，该方法包括的步骤有：

提供一个或多个光学透镜和一个光学参考透镜；

在真空淀积室中，把透镜和光学参考透镜定位在同一涂覆平面，该真空淀积室中有与光学参考透镜通信的光学监控器；

在该室中提供至少一种高折射率AR涂层成分的源，和至少一种低折射率AR涂层成分；

在透镜上涂以高折射率成分层，直到按光学监控器确定，获得需要的光学厚度的涂层为止；

在透镜上涂以低折射率成分层，直到按光学监控器确定，获得需要的光学厚度的涂层为止；和

重复上述AR涂布步骤，直到涂上需要的AR涂层为止；

其中的光学监控器包括一种装置，用于引导通/断的光束进入该室，落在光学参考透镜上；用于在特定的波长上测量参考透镜的反射光；和用于利用该测量，确定何时获得需要的光学涂层厚度。

在本发明的另一方面中，是提供一种方法，用于制作有防反射(AR)涂层的光学透镜，该方法包括的步骤有：

提供光学透镜；

把透镜在真空淀积设备的真空淀积室中定位；

在真空室中提供至少一种高折射率AR成分和至少一种低折射率AR成分的源，其中的高折射率材料之一包括铈和钛氧化物的混合物，而低折射率材料之一包括SiO₂；

在透镜上涂以高折射率材料层，直到涂上需要的光学厚度的涂层为止；

在透镜上涂以低折射率材料层，直到涂上需要的光学厚度的涂层为止；和

重复上述涂布步骤，直到涂上需要的防反射涂层为止。

在本发明的另一方面中，是提供一种方法，用于制作有防反射(AR)涂层的光学透镜，该方法包括的步骤有：

提供光学透镜；

把透镜在真空淀积设备的真空淀积室中定位；

在真空室中提供至少一种高折射率AR成分和至少一种低折射率AR成分的源；

在透镜上涂以高折射率材料层，直到涂上需要的光学厚度的涂层为止；

在透镜上涂以低折射率材料层，直到涂上需要的光学厚度的涂层为止；和

重复上述涂布步骤，直到涂上需要的防反射涂层为止；

但须控制防反射涂层的反射光，使蓝光对绿光对红光的比例，可以给出基本上白色的反射光。

在本发明的再一方面中，如有必要，调整AR涂层的光学厚度，使相邻层中拉应力和压应力的差最小。

在本发明的另一方面中，是提供用上述方法制作的光学透镜或其他光学物品。

附图说明

相信是新颖的本发明部件和本发明的单元特征，在附于后面的权利要求书中详细阐明。附图仅用于说明的目的，也没有按比例画出。但是，既作为组织，也作为操作方法的本发明本身，通过参考下面结合附图的说明可以得到最好的了解，附图中：

图1是示意说明图，说明用于把涂层淀积在基片上的常规真空室，和与真空室结合使用的本发明的光学监控器。

图2是透镜的说明，该透镜包含用本发明的成分和方法制作的防反射涂层。

图3是曲线，对照常规的防反射涂层与用本发明制作的防反射涂层，画出作为波长函数的反射率(百分比)。

具体实施方式

在说明本发明的优选实施例中，将参考附图的图1-3，图中相同的数字表示本发明相同的部件。本发明的部件不一定按比例在图中画出。

申请人已经发明在低的和高的折射率范围中的AR涂层成分，这些成分能实现AR涂层在残留反射和产生的涂层应力两方面的控制。这样，如有必要，可以显著增加使用的AR层的数目，获得需要的透镜。申请人还使用光学监控器，控制光学厚度和材料的涂覆速率。该光学监控器使用专门的测试玻璃，该测试玻璃与透镜同时接受涂层材料。通过对涂层现场的光学测量，人们能够自动地校正任何折射率中较小的变化，并在要求的准确光学厚度上，停止层的涂覆。这一点极其重要，因为在一层中引起的任何误差，能够导致每一后续层的失配。就这方面而言，光学监控器除了光学上的校正外，如有必要，还能在后续层中作较小的校正。

申请人发明的最终结果，是外观上使人愉悦的涂层，具有低残留的不需要的颜色、低的反射率、和低的应力。

虽然已经参考特定实施例说明本发明，但本领域熟练人员将认识到，可以对之作出改变，而不偏离本发明在后附权利要求书中阐明的范围和精神。虽然AR涂层是专门对聚碳酸酯透镜透镜研发的，但说明的技术可以用于任何透镜材料，有机的或无机的，包括玻璃、CR-39、和折射率在1.40到>1.90的透镜。

现在参考图1，图上画出一般以10表示的常规真空室，用于把防反射涂层淀积在透镜上，图上还画出一般以数字30表示的光学监控器。

任何常规的真空涂覆设备都可以使用，例子如美国专利No.3,695,910、5,026,469、和5,124,019中说明的设备，本文引用这些专利，供参考。

真空室包括室11，在该室的顶部有透明的部分18。在真空室内放置容器12a、12b、12c、和12d，分别盛有涂层材料13a、13b、13c、和13d。本领域熟练人员显然了解，容器数和涂层材料数，将随需要涂覆在透镜基片上的防反射涂层而变化。

图上画出电子枪14，用于提供引向各个容器的电子，使容器中的材料挥发。与要挥发的材料有关，可以把容器放在适当位置，把电子枪的电子引向容器和材料。材料被汽化，并弥漫在整个室中，如图上的箭头所示。图上画出弯曲的基片夹持器15(通常是圆盖)，于是汽化的材料均匀地涂覆在所有基片的表面。通常用分配挡板来均匀地涂布挥发的材料。图上画出4块基片16a-16d。在圆盖上通常可以放置75-140块基片。参考基片17放在基片夹持器15的中心，并且它如基片夹持器15上其他基片16一样，同样被挥发的材料以相同速率和相同成分涂覆。输入32通常供气体如O₂使用，以便为某些AR层形成氧化物。

操作时，需要的容器和涂层材料被移至真空室中适当位置，然后起动电子枪，把电子引向容器，使涂层材料挥发。涂层材料将被汽化，汽化的蒸气涂覆基片夹持器15夹持的每一基片16。参考基片17同样被涂覆。如上述专利所示，本领域众所周知，这样的涂覆过程和真空室是惯用的。真空淀积是可取的，但其他方法也可以使用，如溅射法。

在涂覆过程中，最好使用光学监控器并从光源19投射高强度的光束20。高强度光束20通过光斩波器21，该光斩波器21使光束通和断，给出通/断的光束22。通/断光的顺序与监控器末端的光检测器29同步。这一点是重要的，因为在光束的断开周期，光检测器29仍然接收大量的环境光。因为已经对断开周期中接收的噪声光编程，从光束接通时接收的光量中减去该噪声光。这样可以保证，只有假定要测量的光才实际上被测量。

被斩波的光22还通过聚焦透镜21a，然后引向高反射率的反射镜23。该反射镜23把光束转向，成为向着该室中透明开孔18的反射光束24，落在置于该室内的参考基片17上。如上面所指出，参考基片17定位在与要涂覆的基片16相同曲线的平面内。这样保证在AR涂层的实际处理过程中，参考基片17与被涂覆的每一基片，接受AR材料相同的涂覆。

当反射光束24到达参考基片17时，光的大部分通过参考基片。约5％的光从后表面反射，和约5％的光从前表面反射。最好是，光束以小的入射角射进该室内，使从监控器玻璃的前后表面反射的光束，以稍为不同的角度返回。这一点是重要的，因为只有从参考基片前表面反射的光才被测量。从前表面反射的光束在图上以第二反射光束25表示。从后表面反射的光束没有画出。

从前表面反射的原先光的5％，作为光束25，现在通过透明部分18从该室出射，落在第二反射镜26上，并向光检测器29偏转。在到达检测器29前，光束25通过光滤波器27，这是个频率特异滤波器，它只让光的一种频率通过。该特定频率的光在图上以光束28表示，然后该光束进入光检测器29。

本发明的方法提供一种光学涂层，它在特殊需要的光频上是准确的。由于这一点，为了设计并形成光学涂层，需要的AR涂层厚度，必须通过特定的光频设计。当设计AR涂层时，要选择光滤波器27，使它只让设计者选择的光频通过。通常，该频率是480至530nm。

然后，对继续进入光检测器29的特定频率的光，测量接收的光量，检测器还把光放大到更高精度的可读的强度。通过使用高分辨率A/D变换器和微处理器，检测器能检测小至0.01％的变化。光检测器29把光强度数据发送至汽化控制系统31，该系统使用该信息，确定被涂布材料每一层的光学厚度，和确定当透镜上涂覆了需要的光学厚度时，停止涂布材料的汽化过程。应当指出，正是因为光学监控器在涂覆过程中，与透镜表面光学性能实际变化的同时，读出该光学性能的变化，才使监控器如此准确。监控器30还能在涂覆过程中，使系统对折射率的偏移作较小的校正。显然，监控器30严格依赖于涂层的光学性能，而不是基片表面上涂覆材料的物理厚度。

还能按照上面的讨论，改变设计的AR涂层的光学厚度，控制AR涂层的应力，使层中拉力和压力间的差最小。光学厚度一般以0.5λ的步长变化，因为该步长对光学性能没有显著影响。

图2代表透镜基片上本发明的AR涂层。全部涂层从基片开始，并在设计和制作时按顺序向外涂覆。图上的基片是无应力聚碳酸酯透镜。该透镜是用美国专利No.6,042,754所示专利处理过程制作的，上述专利授予本主题发明的受让人。虽然说明的处理过程是针对该特定透镜的，但修改AR层厚度，对不同透镜材料进行补偿，也可以用于折射率1.40到1.90，或更高的任何透镜材料。所有厚度的测量都按Quarter Wave Optical Thickness(四分之一波长的厚度，QWOT)(0.25λ)进行。在实际生产过程中，用于设计配方和使用的光频率，在470nm到580nm之间。从涂覆的光学透镜反射的光中，如本文讨论那样，通过控制蓝光量对绿光量对红光量的比例，计算AR涂层。蓝色控制在37.16％，绿色控制在28.57％，和红色控制在34.27％。显然，可以在某种程度上改变计算的光学厚度，以便适应制造的要求。

图2所示透镜50的细节如下：

基片51-折射率约1.59的聚碳酸酯透镜。

底层涂料52-把底层涂料涂在透镜上，以便更容易粘附最后的硬涂层。厚度约为.5到1.0微米。1.50的折射率。

硬涂层53-基于聚硅氧烷的热固化材料，厚度在3.5到5.0微米之间。1.49的折射率。

L1 54-低折射率材料，如SiO₂。厚度约1.70-1.9 QWOT。折射率约1.45-1.5。

H1 55-本发明设计的、有较低应力并增加折射率的高折射率材料。厚度约.10-.25QWOT。折射率约2.04-2.30。

L2 56-与L1的材料相同。厚度约.10-.25QWOT。

H2 57-与H1的材料相同。厚度约1.00-1.25QWOT。

L3 58-与L1的材料相同。厚度约.01-.1QWOT。

H3 59-与H1的材料相同。厚度约1.25-1.50QWOT。

M1 60-中等折射率材料，用于帮助增加粘附力和改进耐磨擦性。厚度约.01-.1QWOT。

L4 61-与L1的材料相同。厚度约1.75-2.00 QWOT。

Hydro 62-涂在外表面的聚硅氧烷材料，以便形成光滑的修光表面。它改进透镜的可清洁性。厚度约.01-.25QWOT。折射率约1.40-1.50。

已经发现，透镜有低的应力、低的反射、和低的残留颜色，即反射光基本是白色的。最后的透镜有类似于图3曲线71的曲线。

图3以曲线画出本发明的AR涂层和当前市场上可购得的典型透镜之间的差别。该曲线只表明该涂层的光学优势，而不表明该涂层降低应力的能力。曲线70代表在目前市场生产的AR涂层上得到的残留反射，并画出峰值70a，该峰值在绿色光谱中且产生常规透镜的残留绿色反射。还应当指出，极小点70b和70c分别表示蓝光和绿光的反射。

如前面所作的讨论，常规透镜是商业上可接受的，因此掩盖了生产过程中涂层厚度的起伏。通过把整个曲线向右或向左移动，能够调整峰值反射70a(曲线上的最高点)，使之向右移或向左移。结果是使绿的残留颜色变得看起来更蓝或更黄。此外，AR涂层公司可以旋转该曲线，使曲线右侧的极小升至约0.75％的反射。后果是残留反射总量非常显著地上升。其他的后果是，残留的颜色表现明显的黄绿色。

曲线71表示图2所示本发明透镜的AR涂层。这里指出，总的残留反射比常规的曲线70低得多。还要指出，曲线还向可见光谱中红外和紫外区两侧扩展(更宽)。这是颇有意义的因素，因为所有透镜上的AR涂层，当入射光角度(光落在表面的角度)逐渐偏离直射时，都有改变颜色的趋势。这种颜色上表现的变化，是因入射角增加时，曲线向左移产生的。整个曲线更窄，它颜色的改变更快。因为绿色突然变成黄色、橙色、或红色，所以十分明显。曲线71有宽得多的宽度，又无颜色。随着入射角的增加，曲线开始向左移，但颜色仍然不变，直到该角度极其大，例如达45°为止。

申请人的发明，在一个方面，是针对如数字70所示常规曲线的修改，使之成为如数字71所示的白光曲线。白光曲线71的颜色组合，产生白光反射，没有常规曲线70呈现的占优势的绿色反射。

申请人已经公开了调整防反射涂层反射光中蓝光、绿光、和红光相互间的比例，可以产生如数字71所示的曲线，该曲线产生基本白色的光。众所周知，使用计算机软件，通过指定一些光学参数，可以计算薄膜的厚度，该计算机软件将用这些参数，计算AR涂层并给出薄膜的厚度。仅仅指定例如蓝色、绿色、和红色的浓度相同，不能产生白色的光，而是给出如曲线70的曲线，该曲线有绿色的峰值和残留的绿色反射。

申请人发明的重要特征是，控制反射光中蓝色峰值、绿色峰值、和红色峰值的比例，产生白色光的反射。三种颜色被控制在特定的比例之内，以产生白色光的反射。一般说来，按颜色峰值的百分比，蓝色峰值约在34到40％的范围，最好是36-38％，例如37％，绿色约在24到32％，例如29％，而红色约在30到38％，最好是32-36％，例如34％。当把这些比例连同其他光学性质，例如使用的材料的折射率，以及光学厚度一定范围上的折射率表，提供给计算机软件时，该软件将计算产生指定蓝色、绿色、和红色峰值所需的AR层。一种典型的计算机软件程序，名为“Essential MacLeod”，Optical CoatingDesign Program，Copyright Thin Film Center，Inc.1995-2003，Version V 8.6，该程序由Thin Film Center，Inc.发行。可以用其他熟知的软件程序来计算满足上述比例的薄膜厚度。同样显然的是，本领域已熟知，满足上述比例必须的光学厚度，也可以手工计算。典型的计算方法在美国专利No.4,609,267中说明，本文引用该专利，供参考，但也可以使用其他熟知的计算光学厚度的方法。

在本发明的其他方面中，AR涂层具有低的应力是重要的，因为高应力导致光学畸变，且AR涂层可能剥离。已经发现，高折射率材料和低折射率材料，当形成薄膜时有不同的应力，而本发明的一个特征，是使层中应力差最小，产生有低应力的AR涂层。

例如，已经发现，典型的低折射率材料二氧化硅，在涂覆时产生拉应力。相反，高折射率材料在涂覆时产生压应力。但是已经发现，压应力常常比低折射率材料的拉应力小。因此，涂覆时产生这种层间拉应力与压应力的差，可以导致剥离及光学畸变。

因此，申请人发明的一个重要特征，是在必要时调整光学涂层的每一相邻层，使拉应力与压应力平衡。这是通过如上所述，首先指定蓝光、绿光、和红光需要的反射峰值(比例)，计算各层的光学厚度。一旦计算机的计算确定了光学厚度和AR层数，可以按0.5λ的步长修改每一层的光学厚度，以平衡(均衡)层间的应力。例如，如果低折射率层的光学厚度为0.25λ并给出5的拉应力，而光学厚度亦为0.25λ的相邻高折射率层只产生1的压应力，那么最好增加高折射率层的光学厚度来增加压力，以平衡或使前述低折射率层的较高拉应力最小。在本例中，应当把高折射率层的光学厚度，调整到0.75λ甚至1.25λ，以便把压应力增加到更接近低折射率层的拉应力。增加一层相对于相邻层的光学厚度，对被涂覆透镜的白光反射没有显著影响，因为光学厚度通常按0.5λ的步长增加。

虽然已经结合特定优选实施例，具体地说明本发明，但是显然，本领域熟练人员清楚，借助前面的说明，许多改变、修改、和变化是显而易见的。因此，可以认为，附于后的权利要求书，将包含本发明真正范围和精神内的任何这种改变、修改、和变化。

Claims (3)

1.一种制作具有防反射涂层的光学透镜的方法，包括下述步骤：

提供光学透镜和光学参考透镜；

把光学透镜和光学参考透镜定位在真空淀积设备的真空室中，所述真空室有与所述光学参考透镜通信的光学监控器；

在真空室中提供至少一种低折射率防反射成分和至少一种高折射率防反射成分的源，其中，高折射率材料之一包括氧化铈和氧化钛的混合物，而低折射率材料之一包括SiO₂；

在透镜上涂布高折射率材料层，直到涂布了需要的光学厚度的涂层为止；

在透镜上涂布低折射率材料层，直到涂布了需要的光学厚度的涂层为止；和

重复上述涂布步骤，直到涂布了需要的防反射涂层为止；

其中所述光学监控器包括一种装置，该装置用于：

引导通/断的光束进入该真空室，落在光学参考透镜上以及落在光学监控器末端的光检测器上，其被编程为使得在光束断开周期中接收的光束是从光束接通时接收的光束中减去的噪声，其中只有要测量的光才被测量且环境光不被测量；

在特定的频率上测量参考透镜的反射光；以及

利用该测量，确定何时获得需要的光学涂层厚度。

2.按照权利要求1的方法，其中，氧化铈按该成分重量计，小于25％。

3.按照权利要求2的方法，其中，存在于低折射率材料中的氧化铝，其量按该成分重量计，小于10％。

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