JP2003098310A

JP2003098310A - 光学部品

Info

Publication number: JP2003098310A
Application number: JP2001291271A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Fujinawa; 淳藤縄; Junji Nakada; 純司中田
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-09-25
Filing date: 2001-09-25
Publication date: 2003-04-03

Abstract

(57)【要約】【課題】プラスチックを基板とし、真空蒸着によって多
層反射防止膜などの複数の膜を形成してなる光学部品で
あって、膜の密着力が高く、良好な耐久性を有する光学
部品を提供する。【解決手段】樹脂材料製の基板と、真空成膜によって形
成される複数の膜を有し、かつ、隣り合わせる膜の内部
応力の方向が、互いに異なることにより、前記課題を解
決する。

Description

【発明の詳細な説明】【０００１】【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ等の光学部
品の技術分野に属し、詳しくは、密着力の強い多層反射
防止膜等を有する、耐久性に優れる光学部品に関する。【０００２】【従来の技術】レンズ等の光学部品の材料としては、従
来より、ガラスが利用されている。一方で、軽量で低コ
スト、さらには生産性に優れることから、近年では、ポ
リメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）等からなる、プ
ラスチック製の光学部品も汎用されている。これらの光
学部品に広く要求される特性のひとつに、光反射防止性
が高いこと（低光反射性）があり、光学部品の表面に
は、（光）反射防止膜が形成される場合が多い。【０００３】光学部品の表面に形成される反射防止膜と
しては、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ₂）等の低屈折率
材料を用いて成膜される単層の膜が汎用されているが、
より光反射防止性が高い反射防止膜として、低屈折率材
料からなる層と高屈折率材料からなる層とを、交互に、
少なくとも一層ずつ形成してなる、多層反射防止膜（マ
ルチコート反射防止膜）が知られている。ところが、多
層反射防止膜を有するプラスチック製の光学部品は、基
板（すなわちプラスチック製の光学部品）と多層反射防
止膜との密着性が低く、すなわち、耐久性が不十分であ
るという問題点がある。【０００４】【発明が解決しようとする課題】多層反射防止膜は、一
般的に、真空蒸着等の気相成膜法で形成される。気相成
膜法では、基板加熱を行わなくても、基板の温度は上昇
し、基板が膨張する。特に、多層反射防止膜では、生産
性等を考慮して複数層の成膜を連続的に行い、かつ、高
屈折材料の成膜は高めのエネルギで行うのが通常である
ため、基板温度は高くなり、基板は、少なからず膨張す
る。従って、多層反射防止膜の成膜を終了した基板を大
気中に取り出すと、基板は急激に冷却されて、収縮す
る。【０００５】ところが、プラスチック製の基板、特に、
ＰＭＭＡを代表とするアクリル系材料からなる基板と、
基板に成膜された多層反射防止膜とでは、熱膨張係数が
異なり、基板に成膜された多層反射防止膜の熱膨張係数
は、基板よりも小さい。そのため、成膜を終了して大気
中に取り出された際に、基板の収縮による変形に、多層
反射防止膜が追随することができず、多層反射防止膜が
ダメージを受け、かつ、大きな歪みを持ってしまう。そ
の結果、多層反射防止膜の密着力が低下し、しかも、密
着力は経時と共に、漸次、低下してしまい、これによ
り、多層反射防止膜を有する光学部品の耐久性が大幅に
低下してしまう。【０００６】本発明の目的は、前記従来技術の問題点を
解決することにあり、軽量、低コスト、生産性等に優れ
たプラスチックを基板とし、真空蒸着によって多層反射
防止膜などの複数の膜を形成してなる光学部品であっ
て、膜の密着力が高く、良好な耐久性を有する光学部品
を提供することにある。【０００７】【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の光学部品は、樹脂材料製の基板と、真空成
膜によって形成される複数の膜を有し、かつ、隣り合わ
せる膜の内部応力の方向が、互いに異なることを特徴と
する光学部品を提供する。【０００８】【発明の実施の形態】以下、本発明の光学部品につい
て、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説
明する。【０００９】図１に、本発明の光学部品の一例の概念図
を示す。本発明の光学部品１０は、基板となる光学部品
１２（以下、基板１２とする）と、この基板１２の表面
に形成される酸化硅素膜１４と、酸化硅素膜１４の上に
形成される多層反射防止膜１６（以下、反射防止膜１６
とする）とから構成される。なお、図示例において、反
射防止膜１６は、高屈折率材料からなる高屈折率層１８
（１８ａおよび１８ｂ）と、低屈折率材料からなる低屈
折率層２０（２０ａおよび２０ｂ）とを、交互に２層ず
つ積層してなる、４層構成を有する。【００１０】本発明において、基板１２（すなわち、本
発明の光学部品１０）には特に限定はなく、公知の光学
部品が、各種利用可能である。具体的には、各種のレン
ズ、各種のフィルタ、各種のスクリーン、高分子フィル
ム、基板等が例示される。また、基板１２の形成材料に
も特に限定はなく、光学部品に利用されるプラスチック
（樹脂材料）が、全て利用可能である。具体的には、Ｐ
ＭＭＡ（ポリメチルメタアクリレート）、ＰＣ（ポリカ
ーボネート）、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル，ポリ
スチレン等が好適に例示される。なお、高分子フィルム
は、上記材料以外にも、ポリエステルフィルム、ポリエ
ーテルイミドフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリ
エーテルサルフィンフィルム等も好適である。中でも、
後述する酸化硅素膜１４による密着力の向上効果等の点
で、アクリル系材料、特に、ＰＭＭＡ製の基板１２が好
適である。【００１１】図示例の光学部品１０は、このような基板
１２の上に密着層として作用する酸化硅素膜１４を有
し、その上に、高屈折率層１８ａ、低屈折率層２０ａ、
高屈折率層１８ｂおよび低屈折率層２０ｂの４層からな
る反射防止膜１６を有する。ここで、本発明にかかる光
学部品１０においては、これらの各層（膜）は、互いに
隣合わせるもの同士で、異なる方向の応力を有する。図
示例においては、これを実現する一例として、酸化硅素
膜１４はＳｉＯを成膜材料とし、高屈折率層１８はＺｒ
Ｏ₂とＴｉＯ₂の混合物（オプトロン社製ＯＨ−５）
を成膜材料とし、さらに低屈折率層２０はＳｉＯ₂を成
膜材料ととして、それぞれ真空蒸着によって成膜された
ものである。【００１２】前述のように、プラスチック製の基板、特
にＰＭＭＡ等のアクリル系材料からなる基板に多層反射
防止膜を形成した際には、主として両者の熱膨張係数の
違いにより、成膜終了後に大気開放した際の冷却による
基板の大きな収縮／変形に、多層反射防止膜が追随する
ことができず、多層反射防止膜がダメージを受け、か
つ、歪みを持ってしまう。このような問題は、真空蒸着
による成膜を行うプラスチック製の光学部品では、不可
避的に生じるが、多層反射防止膜では、複数層の成膜を
連続で行うので、より顕著になる。その結果、膜の密着
力が低下し、かつ、この密着力は、経時と共にさらに低
下するため、特に、多層反射防止膜を有する光学部品
は、耐久性という点で要求される特性を満たしていな
い。【００１３】この問題点を解決するために、本発明者ら
は、鋭意検討を重ねた結果、反射防止膜の密着力を低下
させている原因の一つとして、各層が有する応力が相乗
して、密着力を低下させていることを見いだした。真空
蒸着のような気相成膜法で成膜された薄膜には、成膜に
よる材料の構造変化等に起因して、薄膜内部に応力を有
する（いわゆる、薄膜の内部応力）。この応力は、成膜
された基板を曲げる力となって生じるが、膜の中心が基
板から離れるように曲がる（基板を内側にして曲が
る）、いわゆる圧縮応力と、膜の端部が基板から離れる
方向に曲がる（基板を外側にして曲がる）、いわゆる引
っ張り応力との、異なる方向に力を発生する２種の応力
がある。【００１４】このような応力は、当然、膜が剥がれよう
とする力となり、密着力低下の一因となるが、多層反射
防止膜を有する光学部品において、各層の応力の方向が
一致してしまうと、膜が剥がれようとする方向が各層で
一致してしまうため、それぞれの相乗効果によって、密
着力が大幅に低下してしまい、その結果、多層反射防止
膜の密着力が弱い、耐久性の不十分な光学部品となって
しまう。これに対し、隣り合わせる層（膜）の応力の方
向が互いに異なる本発明の光学部品１０では、隣り合わ
せる層同士で応力を相殺するので、基板に成膜される膜
全体で見れば、膜の応力をほぼ無くすことができ、膜の
応力に起因する反射防止膜１６の密着力の低下を大幅に
低減して、耐久性に優れる光学部品１０を得ることがで
きる。【００１５】このような膜の応力は、一例として、基板
に薄膜を成膜し、その反り量を測定することにより、下
記式で算出することができる。なお、下記式において、
ｋ１は膜の単位膜厚当たりの応力［Ｎ／ｍ²]、ｋ２は基
板の厚さ［ｍ］、ｋ３は基板の長さ［ｍ］、ｋ４は基板
のヤング率［Ｐａ］、ｋ５は基板のポアゾン比、ｋ６は
基板の反り量［ｍ］、ｋ７は膜の厚さ［ｍ］である。ｋ１＝［ｋ４×（ｋ２)²×ｋ６］／［３×（１−ｋ５）
×ｋ７×（ｋ３)²］このｋ１がプラスであれば引っ張り応力を有する膜であ
り、逆に、ｋ１がマイナスであれば圧縮応力を有する膜
である。【００１６】図２に、基板としてポリイミド製のフィル
ムを用い、成膜材料として、ＯＨ−５、ＳｉＯ₂および
ＭｇＦ₂を用いて、真空蒸着で成膜した膜の応力を示
す。図２に示されるように、ＯＨ−５およびＭｇＦ₂を
成膜材料として成膜された膜は引っ張り応力を有し、Ｓ
ｉＯ₂を成膜材料として成膜された膜は圧縮応力を有す
る。また、後述する成膜中の酸素導入の有無に関わら
ず、ＳｉＯを成膜材料として真空蒸着で成膜された膜
も、圧縮応力を有する。従って、酸化硅素膜１４の成膜
材料としてＳｉＯを、反射防止膜１６の高屈折率層１８
の成膜材料としてＯＨ−５を、低屈折率層２０の成膜材
料としてＳｉＯ ₂を用いる、上記構成を有する図示例の
光学部品１０は、各層の応力を好適に相殺して、これに
起因する反射防止膜１６の密着力低下を大幅に低減し
た、耐久性に優れたものであることが分かる。【００１７】前述のように、図示例の光学部品１０にお
いて、基板１２の表面には、酸化硅素膜１４が形成され
る。酸化硅素膜１４は、好ましい態様として設けられ
る、基板１２と反射防止膜１６との密着力を向上するた
めの密着層として作用する膜で、前述のように、ＳｉＯ
（一酸化硅素）を成膜材料とする真空蒸着で成膜される
膜である。また、図示例においては、好ましい態様とし
て、この酸化硅素膜１４は、成膜中に、成膜系内に酸素
を導入することにより、膜に柔軟性を有する弾性を付与
してなるものである。なお、この点以外は、酸化硅素膜
１４の成膜は、通常の真空蒸着と同様でよい。【００１８】ＳｉＯを成膜材料として真空蒸着で形成さ
れた酸化硅素膜１４は、プラスチック、特に、ＰＭＭＡ
との密着性に優れる。また、この酸化硅素膜１４は、成
膜中に、系内に酸素を導入することにより、膜をポーラ
ス（多孔性）にでき、酸素の導入量に応じて、柔軟性を
有する弾性を付与することができ、しかも、成膜中の酸
素導入により、応力（薄膜の内部応力）も低減すること
ができる。従って、このような酸化硅素膜１４を有する
ことにより、真空蒸着による反射防止膜１６の成膜にお
ける基板１２の変形（膨張／収縮）を吸収して、この変
形による反射防止膜１６のダメージおよび歪みを防ぎ、
これ起因する反射防止膜１６の密着力の低下を防止し
て、耐久性に優れた光学部品１０を実現できる。【００１９】光学部品１０において、酸化硅素膜１４の
膜厚には特に限定は無い。しかしながら、この膜厚が薄
過ぎると、基板１２の変形を吸収する効果を十分に得る
ことができないため、目的とする反射防止膜１６の密着
性向上効果を得ることができず、逆に厚過ぎると、光学
部品１０の光学特性、生産性、基板温度上昇の増加によ
るダメージ等の点で、不利になる。従って、酸化硅素膜
１４の厚さは、以上の点を考慮して、目的とする耐久
性、光学特性、生産性等に応じて、適宜決定すれがよい
が、本発明者らの検討によれば、１００ｎｍ〜８００ｎ
ｍ、特に、３５０ｎｍ〜６００ｎｍが好ましい。【００２０】光学部品１０において、このような密着層
として作用する、圧縮応力を有する酸化硅素膜１４の上
には、（多層）反射防止膜１６が形成される。前述のよ
うに、反射防止膜１６は、高屈折率材料であるＯＨ−５
からなる高屈折率層１８（１８ａおよび１８ｂ）と、低
屈折率材料であるＳｉＯ₂からなる低屈折率層２０（２
０ａおよび２０ｂ）とを、交互に２層ずつ積層してな
る、４層構成を有するもので、図２に示されるように、
高屈折率層１８は引っ張り応力を有し、低屈折率層２０
は圧縮応力を有する。従って、図示例の光学部品１０
は、隣合わせる層の応力の方向が異なり、応力が互いに
相殺され、すなわち、膜の応力に起因する反射防止膜１
６の密着力低下の無い、耐久性に優れたものである。【００２１】なお、反射防止膜１６は、これに限定はさ
れず、隣り合わせる層の応力の方向さえ異なっていれ
ば、高屈折率層１８と低屈折率層２０とを、交互に、少
なくとも１層ずつ形成してなる、公知の多層（マルチコ
ート）の反射防止膜が各種利用可能である。例えば、高
屈折率層１８と低屈折率層２０とを１層ずつ有する反射
防止膜であってもよく、３層以上ずつの高屈折率層１８
と低屈折率層２０を有する反射防止膜でもよい。【００２２】従って、高屈折率層１８および低屈折率層
２０の形成材料にも、限定はなく、各種の多層反射防止
膜に利用されるものが、全て利用可能である。例えば、
高屈折率層１８としては、ＺｒＯ₂を成膜材料とする
層、ＴｉＯ₂を成膜材料とする層、Ｙ₂Ｏ₃を成膜材料
とする層、ＣｅＯ₂を成膜材料とする層、Ｔａ₂Ｏ₅を
成膜材料とする層、等が例示される。また、低屈折率層
２０としては、ＭｇＦ₂を成膜材料とする層、ＣａＦ₂
を成膜材料とする層、等が例示される。これらは、予
め、応力の方向、あるいはさらにその大きさを測定して
おき、隣合わせる層の応力の方向が異なり、より好まし
くは、互いの応力を好適に相殺できる応力を有するもの
を、適宜、選択すればよい。【００２３】また、反射防止膜１６を構成する各層の厚
さにも特に限定はなく、形成材料、層構成、要求される
光学特性等に応じて、適宜、決定すればよい。なお、膜
の応力は、膜が厚くなれば大きくなる。従って、光学特
性を満足できるものであれば、各層（酸化硅素膜１４も
含む）の膜厚は、互いの応力の相殺を考慮して設定して
もよい。【００２４】なお、本発明は、このような多層反射防止
膜を有する光学部品に限定はされず、プラスチック製の
基板で、かつ、複数の膜を有するものであれば、単層の
反射防止膜を有するものでもよく、また、反射防止膜を
有さなくてもよく、各種の構成の光学部品が利用可能で
あり、さらに、密着層も、必ずしも必要ではない。【００２５】本発明の光学部品１０は、基本的に、通常
の真空蒸着で作製できる。すなわち、図示例の光学部品
１０において、酸化硅素膜１４および反射防止膜１６の
成膜は、前述のように酸化硅素膜１４の成膜を酸素の導
入を伴う真空蒸着で行う以外は、公知の真空蒸着で行え
ばよい。また、成膜は、抵抗加熱を利用しても、電子ビ
ーム加熱を利用してもよいが、酸化硅素膜１４の成膜
は、抵抗加熱を利用して、比較的低速の成膜速度で、緩
やかに行うのが好ましい。また、この際の加熱エネルギ
は、４００Ａ以下とするのが好ましい。これにより、酸
化硅素膜１４に、より好適な柔軟性を有する弾性を付与
でき、さらに、比較的、厚膜である酸化硅素膜１４の成
膜における基板の温度上昇も低減できる。【００２６】ところで、真空蒸着による成膜では、成膜
材料の特性等に起因して、成膜中に成膜材料が突沸す
る、いわゆるスプラッシュ等が生じる場合があり、これ
に起因して、膜の性状の悪化等が発生し、得率が低下す
る。このような不都合を防止するため、突沸し易い成膜
材料を利用する場合には、成膜に先立ち、ハース内の成
膜材料を一度溶融する、いわゆる溶かし込みが行われ
る。特に、高屈折率層１８の成膜材料は、溶かし込みが
必要な場合が多い。通常、溶かし込みは、成膜に先立っ
て行われるが、本発明者らの検討によれば、成膜材料の
溶かし込みを行うと、基板１２に材料が付着してしま
い、これが密着層すなわち酸化硅素膜１４の密着性低下
の一因となっている。従って、本発明の光学部品１０を
製造する際には、酸化硅素膜１４を成膜した後に、成膜
材料の溶かし込みを行うのが好ましい。【００２７】以上、本発明の光学部品について詳細に説
明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本発明の
要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行
ってもよいのは、もちろんである。例えば、以上の例
は、成膜を真空蒸着で行っているが、本発明は、真空成
膜によって膜を形成する光学部品全てに利用可能であ
り、例えば、スパッタリングやＣＶＤ（Chemical Vapor
Deposition)で成膜を行って作成した光学部品であって
もよい。【００２８】【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をより詳細に説明する。【００２９】［実施例］図３に模式的に示されるよう
な、市販されている真空蒸着装置５０（以下、蒸着装置
５０とする）に酸素導入手段を付加した装置を用いて、
図１に示される光学部品１０を作成した。なお、この蒸
着装置５０は、蒸発材料の加熱手段として、電子ビーム
による加熱を行う電子銃蒸発源２８と、抵抗加熱による
加熱を行う抵抗加熱蒸発源３０とを有する。【００３０】まず、蒸着装置５０（真空チャンバ２２）
内の回転ドーム２４に、ＰＭＭＡ（三菱レイヨン社製、
ＶＨ００１）製のレンズを基板１２としてセットした。
なお、この回転ドーム２４は、回転手段２６によって所
定速度で回転される。次いで、酸化硅素膜１４の成膜材
料として、ＳｉＯを抵抗加熱蒸発源３０の所定位置（ハ
ース）にセットした。さらに、高屈折率層１８の成膜材
料としてＯＨ−５（ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の混合物オプ
トロン社製）を、低屈折率層２０の成膜材料としてＳｉ
Ｏ₂を、それぞれ、電子銃蒸発源２８の所定位置（ハー
ス）にセットした。【００３１】真空チャンバ２２（以下、チャンバ２２と
する）を閉塞した後、排気を行い、チャンバ２２内の圧
力が８×１０^-4Ｐａとなった時点で、チャンバ内に酸素
を導入して圧力を０．０５Ｐａに調整し、次いで、シャ
ッタ３２を開放して、抵抗加熱蒸発源３０の抵抗加熱手
段を駆動して、ＳｉＯを充填したハースを加熱し、０．
０５Ｐａの成膜圧力で、厚さ約４００ｎｍの酸化硅素膜
１４を成膜した。なお、抵抗加熱蒸発源３０における抵
抗加熱手段は、６ｋＷの抵抗加熱電極を有するものであ
り、３５０Ａの電力を供給して、ＳｉＯを抵抗加熱し
て、成膜を行った。【００３２】酸化硅素膜１４の成膜後、シャッタ３２を
閉塞して、チャンバ２２内の圧力が１×１０^-3Ｐａとな
った時点で、電子銃蒸発源２８において、２５０ｍＡの
出力で電子銃を駆動して、ＯＨ−５を収容するハースに
電子ビームを照射、スキャニングして、ＯＨ−５の溶か
し込みを行った。溶かし込み終了後、溶かし込みによっ
て上昇したチャンバ２２内の圧力が１×１０^-3Ｐａとな
った時点で、シャッタ３２を開放し、電子銃蒸発源２８
において、電子銃の出力２３０ｍＡでハース内のＯＨ−
５に電子ビームを照射して、酸化硅素膜１４の上に、厚
さ約２０ｎｍの高屈折率層１８ａを成膜した。なお、成
膜圧力は、８×１０^-3Ｐａとした。【００３３】高屈折率層１８の成膜終了後、成膜で上昇
したチャンバ２２内の圧力が１×１０^-3Ｐａとなった時
点で、電子銃蒸発源２８において、ハースを切り換え、
電子銃の出力８５ｍＡでハース内のＳｉＯ₂に電子ビー
ムを照射して、高屈折率層１８ａの上に、厚さ約３０ｎ
ｍの低屈折率層２０ａを成膜した。なお、成膜圧力は、
１×１０^-3Ｐａとした。【００３４】低屈折率層２０ａの成膜終了後、成膜で上
昇したチャンバ２２内の圧力が１×１０^-3Ｐａとなった
時点で、電子銃蒸発源２８において、ハースを切り換
え、電子銃の出力２３０ｍＡでハース内のＯＨ−５に電
子ビームを照射して、低屈折率層２０ａの上に、厚さ約
１００ｎｍの高屈折率層１８ｂを成膜した。なお、成膜
圧力は、８×１０^-3Ｐａとした。【００３５】高屈折率層２０の成膜終了後、成膜によっ
て上昇したチャンバ２２内の圧力が１×１０^-3Ｐａとな
った時点で、電子銃蒸発源２８において、ハースを切り
換え、電子銃の出力８５ｍＡでハース内のＳｉＯ₂に電
子ビームを照射して、高屈折率層１８ｂの上に、厚さ約
９０ｎｍの低屈折率層２０ｂを成膜し、反射防止膜１６
を有する本発明の光学部品１０を作製した。なお、低屈
折率層２０ｂの成膜圧力は、先と同様に、１×１０^-3Ｐ
ａとした。【００３６】酸化硅素膜１４の成膜開始から反射防止膜
１６（低屈折率層２０ｂ）の成膜終了まで、基板１２の
温度は室温〜８０℃の範囲であった。なお、酸素を導入
したのは、酸化硅素膜１４の成膜時のみである。各膜厚
は、光学シュミレーションソフトウエアによる設計値を
用いて、希望の光学特性を得られるように設定したもの
である。また、各膜（層）の膜厚は、予め行った成膜の
シュミレーションに基づいて、成膜時間で制御した。【００３７】［比較例］低屈折率層を形成する成膜材料
として、ＭｇＦ₂を用いた以外は、全く同様にして光学
部品を作成した。なお、ＭｇＦ₂の溶かし込みは、８×
１０^-4Ｐａの真空度で電子銃の出力９ｍＡの条件で行
い、ＭｇＦ₂の成膜は、８×１０^-4Ｐａの成膜圧力で電
子銃の出力５．５ｍＡの条件で行った。低屈折率層の膜
厚は実施例と同じである。【００３８】このようにして得られた実施例の光学部品
１０、および、比較例の光学部品について、反射防止膜
１６の密着性を検査した。なお、光学的な特性は、両者
共に良好であった。密着試験は、作製した１バッチ（６
００個）の光学部品から３０個を無作為に選択し、その
表面にセロハンテープ（ニチバン社製Ｎｏ．４０５）
を強く貼り、膜面に対して垂直方向にテープを瞬時に引
き剥がした際の膜剥離を、目視で確認することで行っ
た。【００３９】全ての光学部品において膜剥離が全く認め
れられなかったサンプルを○、一部が膜剥離した光学部
品が１つでも発生したサンプルを△、ほぼ完全に膜剥離
した光学部品が１つでも発生したサンプルを×と評価し
た。なお、同じ試験を１０回繰り返した後でも、全ての
光学部品で全く膜剥離が認められなかったサンプルは、
特に、◎と評価した。その結果、本発明の光学部品１０
の評価は◎、比較例の光学部品の評価は×であった。し
かも、比較例の光学部品では、３０個のサンプル全てに
おいて、膜が全面剥離した。以上の結果より、本発明の
効果は明らかである。【００４０】【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、基板に、真空蒸着によって多層反射防止膜等を
形成した光学部品において、基板表面に形成される膜
（層）の密着力が高く、従って、耐久性に優れた光学部
品を実現することができる。

【図面の簡単な説明】【図１】本発明の光学部品の一例の概念図である。【図２】各種の真空蒸着膜の応力を示すグラフであ
る。【図３】真空蒸着装置の一例の概念図である。【符号の説明】１０光学部品１２基板１４酸化硅素膜１６（多層）反射防止膜１８高屈折率層２０低屈折率層２２（真空）チャンバ２４回転ドーム２６回転手段２８電子銃蒸発源３０抵抗加熱蒸発源３２シャッタ５０真空蒸着装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2K009 AA07 AA15 BB13 BB14 BB24 CC03 CC06 CC42 DD03 EE00 4K029 AA11 AA21 BA46 BA50 BB02 BC00 BC07 BD00 CA01 DB14

Claims

【特許請求の範囲】【請求項１】樹脂材料製の基板と、真空成膜によって形
成される複数の膜を有し、かつ、隣り合わせる膜の内部応力の方向が、互いに異な
ることを特徴とする光学部品。