JPS61277432A - 反射防止膜を有する高分子成形品 - Google Patents
反射防止膜を有する高分子成形品Info
- Publication number
- JPS61277432A JPS61277432A JP60119943A JP11994385A JPS61277432A JP S61277432 A JPS61277432 A JP S61277432A JP 60119943 A JP60119943 A JP 60119943A JP 11994385 A JP11994385 A JP 11994385A JP S61277432 A JPS61277432 A JP S61277432A
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- Japan
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- antireflection film
- film
- polymer molded
- molded product
- layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は反射防止膜を形成した高分子成形品に関する。
詳しくは基材と反射防止膜との間に有機系硬化処理層を
設けることにより二次転移点の低い高分子に充分強い密
着性を有する反射防止膜を形成した高分子成形品に関す
る。
設けることにより二次転移点の低い高分子に充分強い密
着性を有する反射防止膜を形成した高分子成形品に関す
る。
反射防止膜はレンズ類、ディスプレイ素子等の反射防止
に広く用いられている。
に広く用いられている。
これらの多くはガラスを基材にしたものや、二次転移点
の高い耐熱性高分子材料上に無機透明薄膜を形成し反射
防止機能を付与しているものである。
の高い耐熱性高分子材料上に無機透明薄膜を形成し反射
防止機能を付与しているものである。
ところがガラスを基材としたものは、重いのみならず、
割れるという多大なる欠点を有している。又、二次転移
点の高いポリマーは透明性に劣る、複屈折率が大きい、
加工が難しい等の問題を有している。
割れるという多大なる欠点を有している。又、二次転移
点の高いポリマーは透明性に劣る、複屈折率が大きい、
加工が難しい等の問題を有している。
又、従来密着性の強い反射防止膜を形成するためには、
基材を加熱することが不可欠であったため、１００℃以
下の低い二次転移点を有する多くの高分子材料に充分な
密着性のある反射防止膜の形成はできなかった。
基材を加熱することが不可欠であったため、１００℃以
下の低い二次転移点を有する多くの高分子材料に充分な
密着性のある反射防止膜の形成はできなかった。
本発明者らはかかる問題点を解決するため°、鋭意検討
を行なった結果、本発明に到達したものである。
を行なった結果、本発明に到達したものである。
即ち、本発明は反射防止膜と二次転移点が１００℃以下
の高分子成形品の間に有機系硬化処理層を設けたことを
特徴とする反射防止膜を有する高分子成形品にある。
の高分子成形品の間に有機系硬化処理層を設けたことを
特徴とする反射防止膜を有する高分子成形品にある。
本発明に用いられる反射防止膜としては、従来ガラス等
の反射防止に用いられている無機化合物の単層膜や多層
膜等を使用することができ、基材となる高分子成形品の
屈折率に応じて選択すればよい。又、反射防止膜は第１
〜３図に示すように、基材の片面、両面のいずれにも形
成させてよい。該反射防止膜の具体例としては、フッ化
マグネシウム、７フ化ネオジウム等のフッ化化合物、酸
化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム等の金属酸化
物、硫化亜鉛、硫化カドミウム等の硫化物等の薄膜が挙
げられる。
の反射防止に用いられている無機化合物の単層膜や多層
膜等を使用することができ、基材となる高分子成形品の
屈折率に応じて選択すればよい。又、反射防止膜は第１
〜３図に示すように、基材の片面、両面のいずれにも形
成させてよい。該反射防止膜の具体例としては、フッ化
マグネシウム、７フ化ネオジウム等のフッ化化合物、酸
化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム等の金属酸化
物、硫化亜鉛、硫化カドミウム等の硫化物等の薄膜が挙
げられる。
本発明におい℃は、反射防止膜の成膜方法は特に制限さ
れるものではないが、低温で容易に薄膜が形成できるイ
オンブレーティング、スパッタリング、蒸着等の方法が
好ましい。又、製膜時の条件により反射防止膜の屈折率
が若干変化するため製膜中に膜の反射率を直接監視し、
制御する方法が好ましい。
れるものではないが、低温で容易に薄膜が形成できるイ
オンブレーティング、スパッタリング、蒸着等の方法が
好ましい。又、製膜時の条件により反射防止膜の屈折率
が若干変化するため製膜中に膜の反射率を直接監視し、
制御する方法が好ましい。
本発明の最も特徴的なことは、反射防止膜と高分子成形
品の間に有機系硬化処理層を設けることにある。無機系
硬化処理を高分子成形品上に施し、反射防止膜を形成す
ると、硬化処理層と高分子成形品の界面における密着性
に劣り好ましくない。
品の間に有機系硬化処理層を設けることにある。無機系
硬化処理を高分子成形品上に施し、反射防止膜を形成す
ると、硬化処理層と高分子成形品の界面における密着性
に劣り好ましくない。
有機系硬化処理層の代表例としてはメラミン残基、アク
リロイル基やビニル基を有する重合体が挙げられる。具
体的には特公昭５０−１１９３７号、同５０−３５１１
２号及び同５０−１１９３９号各公報に開示されている
如きメラミン樹脂硬化物、特公昭３７−９８２７号、同
４３−３０２８号、同４９−２２９５１号、特開昭４９
−３０４６６号、同５３−２５６７号、同５３−１０２
９３６号各公報に開示されている如き多官能アクリレー
ト、多官能メタクリレート、多官能アリル樹脂硬化物が
挙げられる。
リロイル基やビニル基を有する重合体が挙げられる。具
体的には特公昭５０−１１９３７号、同５０−３５１１
２号及び同５０−１１９３９号各公報に開示されている
如きメラミン樹脂硬化物、特公昭３７−９８２７号、同
４３−３０２８号、同４９−２２９５１号、特開昭４９
−３０４６６号、同５３−２５６７号、同５３−１０２
９３６号各公報に開示されている如き多官能アクリレー
ト、多官能メタクリレート、多官能アリル樹脂硬化物が
挙げられる。
好ましくは１分子中に少なくとも２個以上のアクリロイ
ル基及び／又はメタアクリロイル基を有する多官能単量
体を架橋硬化したものである。
ル基及び／又はメタアクリロイル基を有する多官能単量
体を架橋硬化したものである。
上記有機系硬化処理層を構成する単量体としては、例え
ば Ｘ、１−ＯＡ−ＯＸ、。
ば Ｘ、１−ＯＡ−ＯＸ、。
等が挙げられる。
有機系硬化処理層の形成方法は特に制限されるものでは
ないが、表面の平滑性、膜の均一性の面から浸漬法、ス
プレー法又はあらかじめ部分重合したシートを樹脂基材
上に貼り付ける方法が好ましい。
ないが、表面の平滑性、膜の均一性の面から浸漬法、ス
プレー法又はあらかじめ部分重合したシートを樹脂基材
上に貼り付ける方法が好ましい。
本発明で用いられる、基材となる高分子成形品は、二次
転移点が１００℃以下であれば特に制限されるものでは
ないが、透明性、複屈折“率、加工性の点からアクリル
系樹脂成形品を用いるのが好ましい。
転移点が１００℃以下であれば特に制限されるものでは
ないが、透明性、複屈折“率、加工性の点からアクリル
系樹脂成形品を用いるのが好ましい。
高分子成形品の形態としては、平面、曲面等いずれの形
態も可能であるが、特に凹凸の少ないものや、曲率があ
まり小さくないものを使用する場合に、反射防止膜と高
分子成形品の密着性の良好な反射防止膜を有する高分子
成形品を得ることができる。
態も可能であるが、特に凹凸の少ないものや、曲率があ
まり小さくないものを使用する場合に、反射防止膜と高
分子成形品の密着性の良好な反射防止膜を有する高分子
成形品を得ることができる。
以下、本発明の詳細を実施例にて示す。なお実施例中の
評価は以下の方法で実施した。
評価は以下の方法で実施した。
（１） 表面硬度
ＪＩＳ Ｋ５６５１−１９６６に準じた鉛線硬度
（２） 密着性
反射防止膜に対するクロスカット粘着テープ剥離テスト
；１ｃｍ” を１ｍ角１００個にクロスカット後、そ
の上に粘着テープを貼りつけ急激にはかす。この粘着テ
ープの操作を同一ケ所で３回くり返し、剥離したテープ
数により５段階表示した。
；１ｃｍ” を１ｍ角１００個にクロスカット後、そ
の上に粘着テープを貼りつけ急激にはかす。この粘着テ
ープの操作を同一ケ所で３回くり返し、剥離したテープ
数により５段階表示した。
５級：剥離 ０個
４級：剥離 １個〜 ２５個
３級：剥離２６個〜 ５０個
２級：剥離５１個〜 ７５個
１級゛：剥離７６個〜１００個
（３）全光線透過率、全光線反射率
村上色彩技術研究新製、反射・透過率計ＨＲ−１００屋
にて測定。
にて測定。
実施例１
ペンタエリスリトールテトラアクリレート８重量部、ト
リメチロールプロパントリアクリレート２０重量部、１
，４−ブタンジオールジアクリレート１２重量部をイソ
プロピルアルコール６０重量部に溶かした単量体混合物
溶液１００重量部に対し、２重量部のベンゾインイソブ
チルエーテルを加えた後、厚さ２Ｂのメタクリル樹脂を
浸漬し、０．５ ｃｍ／ ｓｅｃ の速度でゆっくり
引き上げ、該単量体混合物の皮膜を形成せしめた。これ
を４０℃に保ち３分間保持した後、そのままの状態で塗
布成形板の両面２０ｃＩＬの距離から高圧水銀灯（１０
０Ｗ）の光線を１０分間照射して成形品の表面に架橋皮
膜を形成せしめた。膜厚は６μｍで平滑性、均−性共に
良好で表面硬度は７Ｈであった。該架橋硬化層の屈折率
は１．５２であった。この表面架橋硬化処理層を有する
メタクリル樹脂の片面にフッ化マグネシウム（屈折率１
．３８）を１０Ｔｏｒｒの真空中で約１４００＾蒸着し
た。得られた樹脂成形品の全光線透過率は９５．９％、
全光線反射率２．９％で、反射防止膜の密着性は５級で
あった。
リメチロールプロパントリアクリレート２０重量部、１
，４−ブタンジオールジアクリレート１２重量部をイソ
プロピルアルコール６０重量部に溶かした単量体混合物
溶液１００重量部に対し、２重量部のベンゾインイソブ
チルエーテルを加えた後、厚さ２Ｂのメタクリル樹脂を
浸漬し、０．５ ｃｍ／ ｓｅｃ の速度でゆっくり
引き上げ、該単量体混合物の皮膜を形成せしめた。これ
を４０℃に保ち３分間保持した後、そのままの状態で塗
布成形板の両面２０ｃＩＬの距離から高圧水銀灯（１０
０Ｗ）の光線を１０分間照射して成形品の表面に架橋皮
膜を形成せしめた。膜厚は６μｍで平滑性、均−性共に
良好で表面硬度は７Ｈであった。該架橋硬化層の屈折率
は１．５２であった。この表面架橋硬化処理層を有する
メタクリル樹脂の片面にフッ化マグネシウム（屈折率１
．３８）を１０Ｔｏｒｒの真空中で約１４００＾蒸着し
た。得られた樹脂成形品の全光線透過率は９５．９％、
全光線反射率２．９％で、反射防止膜の密着性は５級で
あった。
実施例２
実施例１と同様に作製した表面硬化処理層を有するメタ
クリル樹脂の片面に第一層として酸化ネオジウム（屈折
率２．０）を約１４０ＯＡ。
クリル樹脂の片面に第一層として酸化ネオジウム（屈折
率２．０）を約１４０ＯＡ。
第二層として二酸化ケイ素（屈折率１．４６）を９５Ｏ
Ａ、１０ Ｔｏｒｒの真空中で蒸着した。得られた樹
脂成形品の全光線透過率は９８．７％、全光線反射率は
１．０％で、反射防止膜の密着性は５級であった。
Ａ、１０ Ｔｏｒｒの真空中で蒸着した。得られた樹
脂成形品の全光線透過率は９８．７％、全光線反射率は
１．０％で、反射防止膜の密着性は５級であった。
比較例１
厚さ２ｍ１ｌＩのメタクリル樹脂板（屈折率１．４９）
の片面に直接フッ化マグネシウムを１０ Ｔｏｒｒの
真空中で蒸着した。得られた樹脂の全光線透過率は９５
．８％、全光線反射率は２．９％であったが、反射防止
膜の密着性は１級であった。
の片面に直接フッ化マグネシウムを１０ Ｔｏｒｒの
真空中で蒸着した。得られた樹脂の全光線透過率は９５
．８％、全光線反射率は２．９％であったが、反射防止
膜の密着性は１級であった。
実施例３
ペンタエリスリトールテトラアクリレート１２重量部、
トリメチロールプロパントリアクリレート１６重量部、
１，６−ヘキサンシオールジアクリＬ／−）１２重量部
をイソプロピルアルコール４５重量部、キシレン１５重
量部の混合溶媒に溶かした。該単量体混合物溶液１００
重量部に対し、２重量部のベンゾインイソブチルエーテ
ルを加え、厚さ１．５認、曲率半径６００ｍ、１００ｘ
φのメタクリル樹脂にスプレー塗布し、 ゛塗布皮膜
の平均膜厚が２５μｍ程度になる様な皮膜を形成せしめ
た。これを４０℃に保ち３分間保持した後、塗布面的３
０ｃｍの距離から高圧水銀灯（Ｉ ＫＷ ）の光線を１
分間照射して表゛面に平均膜厚１０μｍの架橋硬化皮膜
を形成せしめた。架橋硬化皮膜は平滑性、均−性共に良
好で、表面硬度は７Ｈ，屈折率は１．５２であった。
トリメチロールプロパントリアクリレート１６重量部、
１，６−ヘキサンシオールジアクリＬ／−）１２重量部
をイソプロピルアルコール４５重量部、キシレン１５重
量部の混合溶媒に溶かした。該単量体混合物溶液１００
重量部に対し、２重量部のベンゾインイソブチルエーテ
ルを加え、厚さ１．５認、曲率半径６００ｍ、１００ｘ
φのメタクリル樹脂にスプレー塗布し、 ゛塗布皮膜
の平均膜厚が２５μｍ程度になる様な皮膜を形成せしめ
た。これを４０℃に保ち３分間保持した後、塗布面的３
０ｃｍの距離から高圧水銀灯（Ｉ ＫＷ ）の光線を１
分間照射して表゛面に平均膜厚１０μｍの架橋硬化皮膜
を形成せしめた。架橋硬化皮膜は平滑性、均−性共に良
好で、表面硬度は７Ｈ，屈折率は１．５２であった。
この表面硬化処理層を有するメタクリル樹脂の片面に第
一層として酸化ネオジウムを約１４０ＯＡ、第二層とし
て二酸化ケイ素を約９５ＯＡ、１０ Ｔｏｒｒの真空
中で蒸着した。得られた樹脂成形品の全光線透過率は９
７．６％、全光線反射率は１．８％で、反射防止膜の密
着性は５級であった。
一層として酸化ネオジウムを約１４０ＯＡ、第二層とし
て二酸化ケイ素を約９５ＯＡ、１０ Ｔｏｒｒの真空
中で蒸着した。得られた樹脂成形品の全光線透過率は９
７．６％、全光線反射率は１．８％で、反射防止膜の密
着性は５級であった。
比較例２
表面架橋処理層を形成させないで実施例３と同様に反射
防止膜を形成した。得られた樹脂成形品の全光線透過率
は９７．５％、全光線反射率は１．８％で、反射防止膜
の密着性は１級であった。
防止膜を形成した。得られた樹脂成形品の全光線透過率
は９７．５％、全光線反射率は１．８％で、反射防止膜
の密着性は１級であった。
実施例４
実施例１と同様に作製した表面硬化処理層を有するメタ
クリル樹脂の両面に第一層として酸化ケイ素（屈哲率１
．８５）を約１１００Ｘ、第二層としてフッ化マグネシ
ウムを約７５ ＯＡ。
クリル樹脂の両面に第一層として酸化ケイ素（屈哲率１
．８５）を約１１００Ｘ、第二層としてフッ化マグネシ
ウムを約７５ ＯＡ。
ｌ Ｑ Ｔｏｒｒの真空中で蒸着した。得られた樹脂
成形品の全光線透過率は９８．９％、全光線反射以上述
べたように、本発明で得られる反射防止膜を有する高分
子成形品は、二次転移点の低い高分子成形品を基材に用
いても反射防止膜との密着性に優れ、かつ透明性の良好
なものである。
成形品の全光線透過率は９８．９％、全光線反射以上述
べたように、本発明で得られる反射防止膜を有する高分
子成形品は、二次転移点の低い高分子成形品を基材に用
いても反射防止膜との密着性に優れ、かつ透明性の良好
なものである。
第１〜３図は本発明による高分子成形品の断面図を示し
たものである。 第１図は両面に有機系硬化処理層を有し、片面に反射防
止膜を形成したもの。第２図は両面に有機系硬化処理層
を有し、両面に反射防止膜を形成したもの。第３図は片
面に有機系硬化処理層を有し、その上に反射防止膜を形
成したものである。 １・・・・・反射防止膜 ２・・・・・有機系硬化処理層 ３・・・・・高分子成形品 うせ３ 日
たものである。 第１図は両面に有機系硬化処理層を有し、片面に反射防
止膜を形成したもの。第２図は両面に有機系硬化処理層
を有し、両面に反射防止膜を形成したもの。第３図は片
面に有機系硬化処理層を有し、その上に反射防止膜を形
成したものである。 １・・・・・反射防止膜 ２・・・・・有機系硬化処理層 ３・・・・・高分子成形品 うせ３ 日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、反射防止膜と二次転移点が１００℃以下の高分子成
形品の間に有機系硬化処理層を設けたことを特徴とする
反射防止膜を有する高分子成形品。 ２、有機系硬化処理層が、１分子中に少なくとも２個以
上のアクリロイル基及び／又はメタクリロイル基を有す
る多官能単量体を架橋硬化したものである特許請求の範
囲第１項記載の反射防止膜を有する高分子成形品。 ３、高分子成形品が、アクリル系樹脂成形品である特許
請求の範囲第１項、第２項記載の反射防止膜を有する高
分子成形品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60119943A JPS61277432A (ja) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | 反射防止膜を有する高分子成形品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60119943A JPS61277432A (ja) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | 反射防止膜を有する高分子成形品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61277432A true JPS61277432A (ja) | 1986-12-08 |
Family
ID=14774011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60119943A Pending JPS61277432A (ja) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | 反射防止膜を有する高分子成形品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61277432A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63247784A (ja) * | 1987-04-02 | 1988-10-14 | Toppan Printing Co Ltd | 表面にホログラムを有する成形品 |
-
1985
- 1985-06-03 JP JP60119943A patent/JPS61277432A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63247784A (ja) * | 1987-04-02 | 1988-10-14 | Toppan Printing Co Ltd | 表面にホログラムを有する成形品 |
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