CN101107692B - Pdp滤光片及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明披露了一种PDP滤光片，所述PDP滤光片具有透明导电膜型电磁波屏蔽层和一层或多层功能层的层压结构，其中与功能层接触的透明导电膜型电磁波屏蔽层表面的至少两个边缘部分不暴露在PDP滤光片层压结构的外部。

Description

PDP滤光片及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种PDP滤光片及其制备方法。更具体而言，本发明涉及一种使用透明导电膜型电磁波屏蔽层的PDP滤光片及制备该PDP滤光片的方法，其中与其它功能层接触的透明导电膜型电磁波屏幕层的表面的至少两个边缘部分不暴露于PDP滤光片的层压结构外部。此外，本发明涉及一种在不需要暴露透明导电膜型电磁波屏蔽层的基础上形成的，包括具有电磁波屏蔽功能、近红外吸收功能以及抗反射功能的单一光学膜的PDP滤光片，以及制备这种PDP滤光片的方法。
背景技术
一般而言，等离子体显示面板(PDP)是一种通过使用包括He+Xe、Ne+Xe或He+Ne+Xe等的惰性气体混合物的放电发出的147nm的UV光激发磷光体显示包括字符或图形的图像的器件。具体而言，PDP是一种在具有扫描电极和维持电极的上基板和具有寻址电极的下基板之间以基质形状形成的放电元件中由放电现象而引起自发光的器件。
PDP的优点在于，它可使用自发光产生天然色，可保证160°或更大的宽视角，以及可具有大屏幕，并且根据最近的显示器件降低厚度和重量的趋势，与LCD一起作为典型的平面显示器件受到关注。然而，PDP的不利之处在于，它需要比常规CRT显示器件更高的功率消耗，因而从PDP组件发出的电磁波和近红外噪声信号比CRT显示器中发出的更强。
需要将影响人体或其它电子装置的电磁波限制在预定的或更低的水平。此外，由PDP发生的近红外噪声信号可负面影响无线电话或远程控制器的操作。因此，PDP需要不同于CRT显示器件的屏蔽结构作为用于屏蔽电磁波或噪声信号的结构，其实现是最重要的技术任务。
为了有效地屏蔽来自PDP的这种电磁波和近红外噪声信号，如图1所示的横截面结构，将PDP滤光片20装在PDP 100的PDP模块50的整个表面上。如图2～7所示的横截面结构，通过在由丙烯酰基或加强玻璃制成的透明基板22或PDP模块的上表面或下表面设置和粘附一层或多层功能层形成PDP滤光片20。图2～7的粗线显示了银印刷(silver printed)或粘附导电带的部分。
作为组成PDP滤光片20的功能层，至少一种膜选自包括抗反射层21、电磁波屏蔽层23、颜色控制层24以及近红外屏蔽层(未显示)的组。因为由这些功能层组成的PDP滤光片20装在PDP 100的前表面，所以其应是透明的。
为了展示各层的固有功能，如果需要，组成PDP滤光片20的功能层被层压时，对层压顺序进行多种变化。各层的功能如下。抗反射层21的功能是防止外部入射光反射到外部以增强PDP 100的对比度。电磁波屏蔽层23的功能是屏蔽PDP模块50中发生的电磁干扰(EMI)，然后将所述的电磁干扰接地到PDP 100的后盖用于随后的放电。近红外屏蔽层(未显示)的功能是屏蔽从PDP模块50发出的约800～1000nm的近红外线，以防止发射预定水平或更高的近红外线，从而使如使用约947nm的红外线控制的远程控制信号的信号正常传输。颜色控制层24的功能是使用包括红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)的染料控制特定颜色。此外，由于电磁波屏蔽层23和近红外屏蔽层(未显示)基于相似的屏蔽原理，可形成两层之中的任一层从而同时显示两种功能。
通过将一层或多层功能层切割为预定尺寸，然后如果需要将其互相粘附而制备由各功能层组成的PDP滤光片。如图2～7的横截面结构所示，由于存在电磁波屏蔽层23，所以常规PDP滤光片的功能层的横截面宽度不等。
下文具体描述一般包含在PDP滤光片中的电磁波屏蔽层。根据使用的膜的种类可以将电磁波屏蔽层分为金属网型和透明导电膜型。尽管具有网型电磁波屏蔽层的PDP滤光片表现优异的电磁波屏蔽效果，但其降低了透明度并引起图像失真。而且，由于网自身昂贵，无奈地提高了产品价格。
因此，为了替代网型，已经广泛使用具有如ITO层的透明导电膜型电磁波屏蔽层的PDP滤光片。透明导电膜型电磁波屏蔽层是多层薄膜形式，其中金属薄膜和高折射透明薄膜交替使用，优选交替使用三次或更多次，并且进一步使用高折射透明薄膜作为最上层。金属薄膜由银(Ag)或主要由银组成的合金形成，并且具有3Ω或更低的表面电阻和50％或更高的可见光透射比。
包括常规透明导电膜型电磁波屏蔽膜的PDP滤光片的结构示于图8。常规透明导电膜型电磁波屏蔽膜70表面的边缘部分具有暴露部分71用于电接地。暴露部分71可以为银印刷或粘附导电带以防止由氧化引起的电阻增加。暴露部分71通过与地针170接触与滤光片支架30连接以实现后盖的电接地，或可将PDP的相应表面直接接地，从而使电磁波接地。
即，因为作为PDP滤光片20的一个组分的透明导电膜型电磁波屏蔽膜70应具有暴露部分71用于接地，所以应将与电磁波屏蔽膜70的上表面粘附的其它功能层切割成比电磁波屏蔽膜70小，从而使电磁波屏蔽膜70的暴露部分71暴露在PDP滤光片的层压结构外部。因此，如图2～7所示，常规PDP滤光片的局限性在于功能层的横截面宽度不能完全彼此相等。
结果，由于上述的PDP膜的横截面结构，所以通过一层接一层设置和粘附比透明导电膜型电磁波屏蔽膜的尺寸小的各功能膜而制备各PDP滤光片。然而这种手工工艺使制备工艺复杂化，并且不能实现卷带式工艺(roll-to-roll process)(连续制备工艺)，因此不可实现大量生产，导致生产力下降。
通过在透明基板上形成高折射透明薄膜和低折射透明薄膜可以制备抗反射膜。即，在抗反射膜的结构中，低折射透明薄膜应位于最上层，并且高折射透明薄膜应位于其下。
在相关技术中为了制备轻和薄的PDP，进行了多种尝试以通过使用共同的基板将透明导电膜型电磁波屏蔽膜和抗反射膜整合成多层结构制备PDP滤光片。例如，日本专利公开号平11-74683披露了一种制备PDP滤光片的方法，所述方法包括在两个透明基板之间插入电磁波屏蔽膜、在制得的基板的一个表面上粘附抗反射膜以及在制得的基板的另一表面顺序层压近红外屏蔽膜和抗反射膜。此外，日本专利公开号平13-134198披露了一种制备PDP滤光片的方法，所述方法包括在透明基板的一个表面顺序粘附电磁波屏蔽膜和抗反射膜，然后在透明基板的另一表面粘附近红外屏蔽膜。
上述常规方法可实现相对轻重量和薄度。然而，即使使用共同的透明基板形成层压结构，常规方法的缺点也在于，仍应在透明基板上单独形成电磁波屏蔽层或抗反射层制备各功能膜。此外，要强加限制以进一步降低分别制备各功能膜的工艺的数目或层压层的数目。
发明内容
技术问题
为提出本发明，本发明人不断进行了常规电磁波屏蔽膜和使用该电磁波屏蔽膜的PDP滤光片的电磁波屏蔽效果的实验和研究，结果发现透明导电膜型电磁波屏蔽膜是否暴露或接地，不会影响电磁波屏蔽效果。因此，本发明的一个目的是提供一种可形成多种层压结构并且可使用卷带式制备工艺大量制备的PDP滤光片，以及一种制备这种PDP滤光片的方法。
本发明的另一个目的是在透明导电膜型电磁波屏蔽膜上层压其它功能层时利用透明导电膜型电磁波屏蔽膜的导电表面不需要暴露的性质，通过使功能性重叠层数目最小化，提供一种具有简单结构的多功能PDP滤光片，以及一种制备这种PDP滤光片的方法。
技术方案
为了达到上述目的，本发明提供了一种PDP滤光片，所述PDP滤光片具有包括透明导电膜型电磁波屏蔽层和一层或多层其它功能层的层压结构，其中与功能层接触的透明导电膜型电磁波屏蔽层表面的至少两个边缘部分不暴露在PDP滤光片层压结构的外部。
另外，本发明提供了一种制备PDP滤光片的方法，所述方法包括将透明导电膜型电磁波屏蔽膜缠绕成一个卷，然后将该透明导电膜型电磁波屏蔽膜的卷装到第一进料辊上；将除透明导电膜型电磁波屏蔽膜外的功能膜缠绕成卷，然后装到与第一进料辊隔开的第二进料辊上；在与第一进料辊和第二进料辊隔开的位置，提供彼此紧密面对的第一压缩辊和第二压缩辊，然后使来自第一进料辊的透明导电膜型电磁波屏蔽膜和来自第二进料辊的功能膜在第一压缩辊和第二压缩辊之间通过，从而制得通过热或压力整合的膜；以及切割该整合的膜使得与功能膜接触的透明导电膜型电磁波屏蔽膜表面的至少两个边缘部分不被暴露。
另外，本发明提供了一种制备PDP滤光片的方法，所述方法包括使用涂敷过程在透明导电膜型电磁波屏蔽层的上表面、下表面或两个表面形成一层或多层其它功能层，其中进行涂敷过程以使透明导电膜型电磁波屏蔽膜的上表面、下表面或两个表面的至少两个边缘部分不被暴露。
另外，本发明提供了一种PDP滤光片，所述滤光片包括透明基板、包括在透明基板上交替层压的高折射透明薄膜层和金属薄膜层的透明导电膜型电磁波屏蔽层和在交替层压层最上表面上提供的高折射透明薄膜层以及在高折射透明薄膜层的最高层上形成的低折射透明薄膜层，其中与低折射透明薄膜层接触的透明导电膜型电磁波屏蔽层的表面的至少两个边缘部分不被暴露。
另外，本发明提供了一种制备PDP滤光片的方法，所述方法包括在透明基板上交替层压高折射透明薄膜层和金属薄膜层以及在交替层压层的最上表面提供高折射透明薄膜层，从而形成透明导电膜型电磁波屏蔽层；以及在高折射透明薄膜层的最高层上形成低折射透明薄膜层，其中与低折射透明薄膜层接触的透明导电膜型电磁波屏蔽层表面的至少两个边缘部分不被暴露。
另外，本发明提供了一种包括上述PDP滤光片的PDP。在根据本发明的PDP中，PDP滤光片的透明导电膜型电磁波屏蔽层可以不被电接地。
有益效果
在本发明的PDP滤光片中，即使作为其一种组分的透明导电膜型电磁波屏蔽层表面边缘部分不被暴露和不接地，也可以表现出与常规PDP滤光片相当的电磁波屏蔽功能，从而实现PDP滤光片的多种层压结构。此外，因为PDP滤光片可形成上述层压结构，可以使用如卷带式工艺的连续制备工艺制备所述PDP滤光片，从而实现PDP滤光片的大量生产和高生产力。另外，由于不需要暴露透明导电膜型电磁波屏蔽层，需要与透明导电膜型电磁波屏蔽层结构的部分在功能上相同的结构的功能层可形成简单的结构，从而易于制备多功能PDP滤光片。
附图说明
图1为示意显示常规PDP一侧的横截面图；
图2～7为显示常规PDP滤光片的横截面图；
图8为显示常规电磁波屏蔽膜接地部分(暴露部分)的部分透视图；
图9为显示根据本发明第一实施方式的PDP滤光片的平面结构的平面图；
图10为显示根据本发明第一实施方式的PDP滤光片的横截面结构的横截面图；
图11为显示用于制备本发明的PDP滤光片中的辊的排列的视图；
图12为显示制备本发明的PDP滤光片的工艺的流程图；
图13为显示根据本发明第二实施方式的PDP滤光片的横截面结构的横截面图；
图14为同时显示根据本发明第二实施方式的PDP滤光片的平面结构和横截面结构的透视图；
图15为显示根据本发明第三实施方式的PDP滤光片的横截面结构的横截面图；
图16为显示根据本发明第四实施方式的PDP滤光片的横截面结构的横截面图；
图17为显示根据本发明第五实施方式的PDP滤光片的横截面结构的横截面图；
图18为显示根据本发明第六实施方式的PDP滤光片的横截面结构的横截面图；
图19为显示根据本发明第七实施方式的PDP滤光片的横截面结构的横截面图；
图20为显示根据本发明，屏蔽垂直于没有接地部分的PDP滤光片的前表面的电磁波的实验结果(实施例1)的曲线图；
图21为根据本发明，显示屏蔽平行于没有接地部分的PDP滤光片的前表面的电磁波实验结果(实施例1)的曲线图；
图22为显示用于屏蔽垂直于通过银印刷提供接地部分的常规PDP滤光片的电磁波的实验结果(对比例1)的曲线图；
图23为显示用于屏蔽平行于通过银印刷提供接地部分的常规PDP滤光片的电磁波的实验结果(对比例1)的曲线图；
图24为显示用于屏蔽垂直于使用导电带提供接地部分的常规电磁波屏蔽层的实验结果(对比例2)的曲线图；以及
图25为显示用于屏蔽平行于使用导电带提供接地部分的常规电磁波屏蔽层的实验结果(对比例2)的曲线图。
<附图中的符号说明>
10：前盖
20：PDP滤光片
21：抗反射层
22：透明基板
23：电磁波屏蔽层
24：颜色控制层
30：滤光片支架
50：PDP模块
60：驱动电路
70：电磁波屏蔽膜
71：电磁波屏蔽膜暴露部分
72：其它功能膜的层压区域
100：PDP
170：地针
200、300、400、500、600、700、800：PDP滤光片
210、310、410、510、610、710、810：透明导电膜型电磁波屏蔽膜
220、320：抗反射膜
213、216、311、321、411、511、611、711、811、850：透明基板
214、312、412、512：透明导电膜型电磁波屏蔽层
215、330、730、830：粘合剂层(PSA)
217、322、422、522、622、722、822：抗反射层
230、240：缠绕卷
250：第一进料辊
260：第二进料辊
270：第一压缩辊
280：第二压缩辊
290：PDP滤光片
621、622、623、624、721、722、723、724、821、822、823、824：高折射透明薄膜层
631、632、633、731、732、733、831、832、833：金属薄膜层
640、740、840：低折射透明薄膜层
750：颜色控制层
660、760、860：硬涂层
具体实施方式
下文，将对本发明作详细说明。
在本发明中，术语“膜”表示独立的实体，术语“层”表示独立的实体的部分。然而，对于作为PDP滤光片的一个组分包括功能膜的情况下，其起到功能层的作用，因此上述术语可互换使用，并且本发明的范围不限于此。
本发明的PDP滤光片的特征在于，具有包括透明导电膜型电磁波屏蔽层和一层或多层其它功能层的层压结构，其中与其它功能层接触的透明导电膜型电磁波屏蔽层表面的至少两个边缘部分不被暴露在PDP滤光片的层压结构外部。
一般地，已知当在透明导电膜型电磁波屏蔽膜上存在其它功能层时，必需暴露透明导电膜型电磁波屏蔽膜的导电表面的所有边缘部分以形成用于电接地的接地部分，所述接地部分应用银印刷或用导电带粘附以降低接地部分的表面电阻，并且如此实现的接地部分只有在与PDP的地针接触的情况时才表现电磁波屏蔽效果。
然而，本发明人已经证实，即使在PDP不接地时，透明导电膜型电磁波屏蔽膜也可通过反射表现电磁波屏蔽效果，并且即使不形成透明导电膜型电磁波屏蔽层的暴露部分以及透明导电膜型电磁波屏蔽层不接地，本发明的PDP滤光片也可表现出与常规PDP滤光片相似的电磁波屏蔽效果。因此，在本发明的PDP滤光片中，不需要形成用于电接地的透明导电膜型电磁波屏蔽层的暴露部分，并且由于不存在暴露部分，所以也不需要使用银印刷或导电带。
在本发明中，因为与其它功能层接触的透明导电膜型电磁波屏蔽层表面的至少两个边缘部分不被暴露于PDP滤光片的层压结构外部，所以可以形成多种PDP滤光片的层压结构。因此，使用卷带式工艺可以制备具有层压结构而不需暴露透明导电膜型电磁波屏蔽膜表面的边缘部分的PDP滤光片，从而实现大量生产。另外，在使用涂敷过程制备具有层压结构的PDP滤光片的情况下，可在透明导电膜型电磁波屏蔽膜的整个表面上可形成没有暴露部分的其它功能层，从而简化了制备工艺。
在本发明中，通过交替层压一层或多层高折射透明薄膜层和一层或多层金属薄膜层，并且提供高折射透明薄层作为最上层形成透明导电膜型电磁波屏蔽层。使用本领域已知的方法和材料可以形成透明导电膜型电磁波屏蔽层。
高折射透明薄膜层一般具有如本领域已知的1.5或更高，以及优选1.5～2的折射率，但是本发明不限于此。高折射透明薄膜层用作隔离层用于防止金属薄膜层通过由金属薄膜层的溅射中形成的氧等离子体引起的金属薄膜层氧化，并且该高折射透明薄膜层可由各具有相对高电阻的如ITO、IZO、ATO、ZnO、ZnO-Al、TiO2、Nb2O3或SnO的氧化物，或铟、钛、锆、锡、锌、锑、钽、铈、钍、镁或钾的氧化物形成。此外，为了防止在氧化物形成过程中通过氧等离子体对金属薄膜层的损伤，可提供如Si3N4的氮化物作为隔离层。
金属薄膜层可由至少一种具有相对低电阻，并且优选具有3×10-6Ω·cm或更低的电阻率的金属形成。具体而言，金属薄膜层使用至少一种如金、银、铜、镍和铝的金属形成。
即使通过溅射法可形成高折射透明薄膜层和金属薄膜层，但本发明不限于此，并且可以使用本领域已知的任何方法。以两层或更多层膜重复层压或两层或更多层膜彼此粘附的方式可以制备具有这种多层薄膜结构的电磁波屏蔽膜210，从而改善电磁波屏蔽效果。
在本发明中，功能层可以为选自包括抗反射膜、近红外吸收膜和颜色控制膜的组的膜，或可以为能表现上述膜的功能中两种或更多种功能的膜。在本发明的PDP滤光片中，透明导电膜型电磁波屏蔽层具有近红外吸收功能以及电磁波屏蔽作用。然而，本发明的PDP滤光片可进一步包括近红外吸收层以达到优异的近红外吸收功能。可以使用本领域已知的方法和材料形成近红外吸收层。通过在聚合物粘合剂中溶解或分散能吸收近红外线的染料和/或无机颜料以制得溶液，然后将该溶液涂敷在透明基板上，或将其加入制备粘合剂的工艺中，可以制备近红外吸收层。
作为形成透明导电膜型电磁波屏蔽层或其它功能层需要的基板，使用透明基板。透明基板的例子包括加强或半加强玻璃或由聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、氟树脂、三醋酸树脂或其混合物形成的塑料膜。即使优选使用PET(聚对苯二甲酸乙二酯)或TAC(三乙酰纤维素)，本发明也不限于此。透明基板约30-150μm厚，更优选70-120μm厚，但本发明不限于此。
通过膜粘附工艺可以进行透明导电膜型电磁波屏蔽层和一层或多层其它功能层的层压。可以使用外部加热或压力或使用粘合剂进行粘附工艺。粘合剂的例子包括橡胶、丙烯酰基、硅氧烷等。尤其是具有多种应用性质使其适合用于制备具有高功能性的粘合剂组合物的丙烯酸粘合剂具有烷基作为官能团，从而防止了由电磁波屏蔽膜的金属薄膜层在高温和高湿度条件下氧化引起的颜色变化。
进一步，膜可以使用热熔树脂通过热粘合。此外，通过使用薄膜形成法，例如湿涂法或沉积的涂敷法在一层膜上形成另一功能层可以形成多层结构的单一膜。
对于使用粘合剂的情况，可以向粘合剂层加入用于颜色控制的有机或无机颜料和/或有机或无机染料以提供颜色控制功能。用于颜色控制的有机或无机颜料和/或有机或无机染料的例子包括二氧化钛(金红石型)、二氧化钛(锐钛矿型)、镉黄、铬黄、钼橘红、镉红、氧化铁、铜酞菁绿、铜酞菁蓝、炭黑、钴蓝、钴生物红(cobalt bio red)、矿物生物红(mineral bio red)、三氧化二铬、还原天蓝(thren blue)、镉红(cadmired)、碳1、碳2、镉黄(cadmi yellow)、酞菁蓝、苯胺黑、偶氮颜料、偶氮染料、偶氮化合物、偶氮碱性氧化物、碱性颜料、金属配位盐、偶氮次甲基颜料、包含金属和金属氧化物的颜料、苯胺甲醛树脂、芳基、芳基化物树脂等。金属和金属氧化物的例子包括Nd2O3、基于Nd的Fe和氧化铁、Ag和氧化银、Ni和氧化镍、Cr和三氧化二铬、其它金属及其氧化物。
在PDP滤光片中，透明导电膜型电磁波屏蔽层的宽度和在透明导电膜型电磁波屏蔽层上层压的其它功能膜的宽度可在不暴露透明导电膜型电磁波屏蔽层的至少两个边缘部分的范围内不同地选择。例如，其它功能膜的横向和纵向宽度可大于透明导电膜型电磁波屏蔽层的横向或纵向宽度。此外，其它功能膜的横向或纵向宽度可等于或小于透明导电膜型电磁波屏蔽层的横向或纵向宽度。
优选地，本发明的PDP膜可具有在透明基板上层压透明导电膜型电磁波屏蔽层和抗反射层的结构。具体而言，PDP膜可通过在透明基板上层压透明导电膜型电磁波屏蔽层，然后在透明导电膜型电磁波屏蔽层上层压抗反射层形成。此外，PDP膜可具有在透明基板的各表面层压透明导电膜型电磁波屏蔽层和抗反射层的结构。优选抗反射层沉积在向PDP应用PDP滤光片时应用外部光的外表面。抗反射膜或抗反射层位于PDP滤光片的最前表面以防止外部入射光的反射，从而增加对比度。
根据本发明优选的实施方式，在具有包括透明导电膜型电磁波屏蔽层和一层或多层其它功能层的层压结构的PDP滤光片中，与其它功能层接触的透明导电膜型电磁波屏蔽层表面的四个边缘部分不被暴露。
而且，本发明提供了一种制备PDP滤光片的方法，包括将透明导电膜型电磁波屏蔽膜缠绕成卷，然后将该透明导电膜型电磁波屏蔽膜的卷装在第一进料辊上；将除透明导电膜型电磁波屏蔽膜外的功能膜缠绕成卷，然后将该功能膜的卷装在于第一进料辊隔开的第二进料辊上；以及在位于第一进料辊和第二进料辊隔开的位置提供彼此紧密面对的第一压缩辊和第二压缩辊，然后将来自第一进料辊的透明导电膜型电磁波屏蔽膜和来自第二进料辊的功能膜在第一压缩辊和第二压缩辊之间通过，从而制得通过热或压力整合的膜；以及切割整合的膜使得与功能膜接触的透明导电膜型电磁波屏蔽膜表面的至少两个边缘部分不被外部暴露。
在通过上述方法制备的PDP滤光片中，将通过卷带式工艺制得的卷膜切割成需要的尺寸，因此，在透明导电膜型电磁波屏蔽层表面的四个边缘部分中，对应于切割部分的两个边缘部分不被暴露在PDP滤光片的层压结构外。
根据电磁波屏蔽膜上层压的其它功能膜的位置，透明导电膜型电磁波屏蔽膜表面的边缘部分可暴露或不暴露。因此，功能膜的宽度不特别受到限制。在本发明中，透明导电膜型电磁波屏蔽膜的宽度等于或大于功能膜的宽度。
此外，本发明提供了一种PDP滤光片，所述PDP滤光片包括透明基板、包括在透明基板上交替层压的高折射透明薄膜层和金属薄膜层以及在交替层压层的最上表面提供了高折射透明薄膜层的透明导电膜型电磁波屏蔽层，和位于高折射透明薄膜层的最上面的低折射透明薄膜层，其中与低折射透明薄膜层接触的透明导电膜型电磁波屏蔽层表面的至少两个边缘部分不被外部暴露，以及提供了一种制备这种PDP滤光片的方法。
在本发明中，基于即使其不被暴露或不接地也能使透明导电膜型电磁波屏蔽层表现电磁波屏蔽作用的性质，在透明导电膜型电磁波屏蔽层上形成低折射透明薄膜层。低折射透明薄膜层与透明导电膜型电磁波屏蔽层的最上面的高折射透明薄膜层一起可作为抗反射层。因此，在透明导电膜型电磁波屏蔽层可只形成低折射透明薄膜层而不使用额外的抗反射层，从而表现出抗反射功能以及电磁波屏蔽功能和近红外吸收功能。因此，可将本发明的PDP滤光片制备的轻和薄，并且其制备方法可进一步简化。
如本领域已知，低折射透明薄膜层一般具有低于1.45，并且优选1.2～1.45的折射率，但本发明不限于此。通过溅射或真空淀积如SiO2或MgF2的低折射无机层或通过使用如微照相凹板涂敷(microgravurecoating)或浸涂的湿涂法涂敷氟化高聚物膜或包括基于氟的低折射单体和具有优良涂敷性的丙烯酸单体的共聚物形成低折射透明薄膜层。
在本发明中，PDP滤光片在透明基板和高折射透明薄膜层的最下层之间可进一步包括硬涂层以增加耐划性和表面硬度。一般以辐射固化型或甲硅烷型形成硬涂层。具体而言，优选辐射固化型涂层，以及更优选UV固化型硬涂层。用于形成硬涂层的UV固化型组合物包括由聚氨酯-丙烯酸酯、环氧-丙烯酸酯、聚酯-丙烯酸酯等形成的UV可固化组合物。
通过在透明基板上涂敷用于硬涂层的组合物，然后通过热或辐射(例如，UV光)固化组合物可以形成硬涂层，但是本发明不限于此，并且可以使用本领域已知的一般方法。硬涂层的厚度不受到特别限制但是优选约1-5μm。
在本发明中，PDP滤光片可在形成有电磁波屏蔽层的透明基板的另一表面上进一步包括颜色控制层。通过使用卷带式工艺整合分别制备的颜色控制膜与电磁波屏蔽膜可以形成颜色控制层。可以使用粘合剂进行整合工艺。可选择地，当在形成有电磁波屏蔽层的透明基板的另一表面形成粘合剂层时，可以向粘合剂层加入用于颜色控制的有机或无机颜料和/或有机或无机染料，从而形成颜色控制层。
即使本发明的PDP滤光片在厚度上不受限制，当包括加强玻璃时其也可具有约3mm的厚度。
本发明提供了一种包含PDP滤光片的PDP。即使PDP滤光片的透明导电膜型电磁波屏蔽层不接地，本发明的PDP也可表现电磁波屏蔽功能。
下文，参考附图说明本发明优选的实施方式，但是下述附图和说明意在说明本发明，并且不意味着限定本发明的范围。
图9为显示根据本发明第一实施方式的PDP滤光片的平面结构的平面图，以及图10为显示图9的PDP滤光片的横截面结构的横截面图。
根据图9所示的本发明的第一实施方式，提供了膜型PDP滤光片200。可将膜型PDP滤光片粘附在由如用于PDP的玻璃的透明材料形成的透明基板22上，或可以直接粘附在用于PDP的PDP模块50上。组成图9的PDP滤光片200的一部分的透明导电膜型电磁波屏蔽膜210以其表面的左和右边缘部分被暴露，以及其上和下边缘部分覆盖其上沉积的抗反射膜220，从而不被暴露的方式为其结构。由于上述结构，所以可通过卷带式工艺制备根据第一实施方式的PDP滤光片200。
如图10的横截面结构中，将电磁波屏蔽层214置于约100μm厚的如PET膜的透明聚合物树脂膜213上。这样，将透明导电膜型电磁波屏蔽层214和透明聚合物树脂膜213称为透明导电膜型电磁波屏蔽膜210。透明导电膜型电磁波屏蔽层214为包含一层或多层高折射透明薄膜层和交替层压的一层或多层金属薄膜层的多层薄膜结构。使用溅射法可形成这种多层薄膜。
图9或10的透明导电膜型电磁波屏蔽膜210不需暴露在PDP滤光片外，因此其不需要常规的银印刷工艺或使用导电带。对于本发明的透明导电膜型电磁波屏蔽膜210，未暴露表面的整个区域可形成有效的屏幕部分。
图9和10的PDP滤光片具有设置在最接近使用者观看PDP，即在应用外部光的滤光片的最外表面的位置的抗反射膜200。
对于图9和10的PDP滤光片200，可通过卷带式工艺额外粘附颜色控制膜(未显示)。在使用PSA(压敏粘合剂)层215作为粘合剂层彼此粘附抗反射膜220和电磁波屏蔽膜210的情况下，向粘附层加入R、G、B颜色控制染料使得粘附层可作为颜色控制层。然而，颜色控制层不仅仅可在图中所示的位置形成，如果需要可在任何位置形成。
如此制备的PDP滤光片可以粘附在玻璃上从而制备成玻璃型滤光片，或可直接粘附在PDP模块上用作膜型PDP滤光片。
通过图11辊的排列和图12的流程图说明了制备图9和10的PDP滤光片200的方法。
将透明导电膜型电磁波屏蔽膜210缠绕成卷，然后将缠绕卷230装到第一进料辊250上(步骤S1)。分别地，将功能膜，例如，抗反射膜220缠绕成卷，然后将这个缠绕卷240装到与第一进料辊250隔开的第二进料辊260上(步骤S2)。这样，优选功能膜的宽度等于或小于透明导电膜型电磁波屏蔽膜210的宽度。在根据第一实施方式的PDP滤光片中，透明导电膜型电磁波屏蔽膜的宽度大于抗反射膜的宽度，并且将抗反射膜置于电磁波屏蔽膜的中央，使得电磁波屏蔽膜的两个边缘部分被暴露。
然后，在第一进料辊250和第二进料辊260隔开的位置，安装彼此紧密面对的第一压缩辊270和第二压缩辊280。随后，将来自第一进料辊250的透明导电膜型电磁波屏蔽膜210和来自第二进料辊260的抗反射膜220在第一压缩辊270和第二压缩辊280之间通过，以通过热或压力整合它们，从而制备膜(步骤S3)。将通过步骤S1至S3整合的PDP滤光片290制备成一个缠绕卷，然后将PDP滤光片290切割成预定尺寸，从而在将其粘附在玻璃或PDP模块(步骤S4)前完成膜型PDP滤光片。在这种情况下，用如抗反射膜的功能膜覆盖对应于切割膜部分的透明导电膜型电磁波屏蔽膜，因而不被外部暴露。
在包括上述步骤的卷带式工艺中，使用通过第一压缩辊270和第二压缩辊280的外部加热或通过第一压缩辊270和第二压缩辊280的压力通过融合可以实现两层膜210、220的整合。通过第一压缩辊和第二压缩辊的至少一个可以施加外部加热。
此外，将压敏粘合剂预先涂敷到第一和第二压缩辊270、280的两层膜210、220的内表面，然后通过第一压缩辊270和第二压缩辊280施加压力，从而整合两层膜210、220。这样，当使用压敏粘合剂时，如图10所示形成粘合剂层215。
此外，使用热熔树脂可以实现两层膜的整合。具体地，将热熔树脂预先涂敷到功能膜彼此接触的部分。当将功能膜加到压缩辊时，通过第一压缩辊270和第二压缩辊280的至少一个施加热，从而在热熔树脂熔化时整合膜。这种热熔树脂一般以EVA(乙烯乙酸乙烯酯)树脂为例，但是本发明不限于此。作为热熔树脂，只要其可保持包括透明导电膜型电磁波屏蔽膜的各功能膜的稳定的粘合状态，可以使用任何聚合物树脂。为了使用热熔树脂，在热压缩时，优选第一压缩辊270和第二压缩辊280的至少一个的温度保持在100～200℃。
图13为显示优选的第二实施方式的PDP滤光片200的横截面结构的横截面图，以及图14为同时显示根据本发明第二实施方式的PDP滤光片的平面结构和侧面结构的透视图。
如图13和14所示，根据第二实施方式的PDP滤光片300的特征在于，构成PDP滤光片300的功能膜的尺寸具有相同尺寸，并且与其它功能膜接触的透明导电膜型电磁波屏蔽膜310表面的四个边缘部分都不被暴露。根据本发明透明导电膜型电磁波屏蔽膜的至少两个边缘部分不被暴露在PDP膜层压结构的外部的观点，在第二实施方式中电磁波屏蔽膜最低限度地暴露。
如图13和14所示，根据本发明的第二实施方式，透明导电膜型电磁波屏蔽膜310和抗反射膜320形成为正好相同的尺寸，因此其整个表面可作为有效屏幕部分。与图9和10所示的第一实施方式相同，第二实施方式的PDP滤光片300由包括约100μm厚的PET 321和其上应用的AR(抗反射)层的抗反射膜320、包括约100μm厚的PET 311和其上设置的透明导电膜型电磁波屏蔽层312的透明导电膜型电磁波屏蔽膜310以及其间形成的作为粘合剂层的PSA层330组成。通过溅射法可形成透明导电膜型电磁波屏蔽层312。
如第一实施方式所述，在第二实施方式中，通过热熔树脂的热融合代替使用对预定压力敏感以实现粘合的PSA层，可以整合两层膜。
而且，与图9和10的第一实施方式相同，在图13和14的第二实施方式中，通过额外地粘附颜色控制膜，或通过向用于粘附两层膜的PSA层330加入R、G、B染料可形成颜色控制层。
除了电磁波屏蔽层的宽度等于抗反射层的宽度从而不暴露电磁波屏蔽膜表面的边缘部分外，如第一实施方式，使用卷带式工艺可以制备第二实施方式的PDP滤光片。
图15为显示根据本发明的第三实施方式的PDP滤光片的横截面图。在第一和第二实施方式中，使用卷带式工艺粘附抗反射膜和透明导电膜型电磁波屏蔽膜以制备PDP滤光片，而在第三实施方式中，在透明导电膜型电磁波屏蔽膜的最上表面涂敷抗反射层，从而制备单一膜型PDP滤光片。
使用溅射或真空淀积法，通过交替层压如ITO(氧化铟锡)、TiO2或ZrO2层的高折射无机层和如SiO2或MgF2层的低折射无机层，优选层压至4层或更多层，或通过湿涂法形成低折射氟化聚合物膜，从而形成抗反射层而形成根据第三实施方式的抗反射层，此外，通过真空淀积或溅射在基板上涂敷主要由ITO组成的高折射材料，然后通过湿涂将主要由基于氟的树脂组成的低折射材料涂敷在高折射材料层上，从而形成抗反射层。然而，本发明不限于形成抗反射层的上述方法。在湿涂时，可以使用向涂敷组合物中加入颗粒的方法以通过分散光改善抗反射功能。
在本发明中，不需要暴露透明导电膜型电磁波屏蔽膜的边缘部分。因此，对于在如在第三实施方式中通过涂敷法在透明导电膜型电磁波屏蔽膜410上形成抗反射层的情况，无论哪个部分，都可均匀地涂敷电磁波屏蔽膜410的整个上表面。本发明中可采用上述方法，因此，与常规技术相比，在透明导电膜型电磁波屏蔽膜410上形成抗反射层422的工艺可更容易和简单地实行。此外，工艺的数目可大大降低。
图16为显示根据本发明第四实施方式的PDP滤光片的横截面图。虽然通过涂敷方法在透明导电膜型电磁波屏蔽膜410上形成抗反射层422制备了根据第三实施方式的PDP滤光片，但是在第四实施方式中，使用共同的单一透明基板511，并且分别在基板的上表面和下表面形成抗反射层522和透明导电膜型电磁波屏蔽层512。
分别在透明基板511的上和下表面通过形成抗反射层522和透明导电膜型电磁波屏蔽层512可以制备第四实施方式的PDP滤光片。即，第四实施方式的PDP滤光片以下述方式制备，在透明基板511上形成透明导电膜型电磁波屏蔽层512以制备透明导电膜型电磁波屏蔽膜510，然后将透明导电膜型电磁波屏蔽膜翻转并将抗反射层522涂敷在透明基板的另一表面。在第四实施方式中，用于透明基板的材料、用于透明导电膜型电磁波屏蔽膜和抗反射层的材料、其形成工艺以及加入颜色控制功能与上述实施方式相同。
在本发明中，不需要暴露透明导电膜型电磁波屏蔽膜的边缘部分。因此，如第三实施方式，在第四实施方式中，将透明导电膜型电磁波屏蔽膜510的无论哪一部分的整个表面均匀涂敷抗反射层522。从而，可以容易地进行用于形成抗反射层522的涂敷过程。此外，使用这种涂敷法使得PDP滤光片500的结构简单、其制备方法更简单、缩短了制备时间和降低了制备成本。
图17为显示根据本发明第五实施方式的PDP滤光片的横截面图。图17显示了低折射透明薄膜层640进一步层压在透明导电膜型电磁波屏蔽膜610的最上高折射透明薄膜层624上的结构。
在根据第五实施方式的透明导电膜型电磁波屏蔽膜610中，在透明基板611上首先形成硬涂层660以改善耐划性和表面硬度。
在透明基板611上形成的硬涂层660上，交替层压由ITO、SnO等形成的高折射透明薄膜层621、622、623和由具有相对低折射率的如金、银、铜、镍或铝的金属形成的金属薄膜层631、632、633，然后进一步层压高折射透明薄膜层624作为最上层。
作为透明基板611，使用具有30～150μm，且优选70～120μm的厚度的塑料基板。塑料基板中使用的膜由聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、基于氟的树脂、三醋酸酯树脂或其混合物形成。特别地，当透明基板粘附在如玻璃板的面板上时，可以优选使用聚对苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二醇酯。
通过使用银或银合金作为主要靶、氩(真空0.3pa)作为溅射气体以及氧作为反应气体，其中氩的量为约200sccm以及氧的量为约120sccm可以形成金属薄膜层631、632、633。对于各金属薄膜层631、632、633沉积为比9nm薄的情况，其可由银颗粒的聚沉而引起断裂，因此，优选形成具有9nm或更大，以及优选约10～20nm的厚度。
层压高折射透明薄膜层621、622、623、624以用作隔离层用于防止各金属薄膜层通过金属薄膜层631、632、633溅射产生的氧等离子体的氧化。高折射透明薄膜层由如ITO、IZO、ATO、ZnO、ZnO-Al、TiO2、Nb2O3或SnO的氧化物，或铟、钛、锆、锡、锌、锑、钽、铈、钍、镁或钾的氧化物形成。在形成氧化物的过程中，为了防止由氧等离子体对金属薄膜层的损伤，可提供如Si3N4的氮化物作为隔离层。
根据图17中所示的第五实施方式，除了透明基板611和硬涂层660外，高折射透明薄膜层和金属薄膜层的数目为7。然而，只要PDP滤光片具有满足所有国家中要求作为工业安全标准的A类(2.5Ω或更低的表面电阻)或作为民用安全标准的B类(1.5Ω或更低的表面电阻)要求的表面电阻，高折射透明薄膜层和金属薄膜层的数目不限于7，且可以小于7或大于7。
在组成透明导电膜型电磁波屏蔽膜610的层压结构的最上表面，必需沉积高折射透明薄膜层624作为隔离层以防止金属薄膜层的氧化。这是因为最上高折射透明薄膜层624与其上层压的低折射透明薄膜层640组成了抗反射层622。
通过溅射或真空淀积由SiO2、MgF2等制成的低折射无机层或通过使用如微照相凹板涂敷或浸涂的湿涂法通过涂敷氟化聚合物膜或包含基于氟的低折射单体和具有优良涂敷性的丙烯酸单体的共聚物可形成低折射透明薄膜层640。
对于低折射透明薄膜层640的湿涂，下文举例说明了合成基于氟的低折射单体的方法。
向1.0～1.2mol甲基丙烯酸缩水甘油酯中加入1.0～1.5mol如六氟丙醇或六氟丁醇的含氟化合物和四氢呋喃溶剂，在氟化四丁铵(TBAF)催化剂存在下于预定温度回流预定时间，然后倾倒到甲醇中以回收单体。所得到的反应产量一般为90％。
因为单独使用基于氟的低折射单体具有如低粘合性、在有机溶剂中的低溶解性和较差的涂敷性能的缺点，优选其与具有涂覆性的丙烯酸单体共聚。丙烯酸单体的例子包括典型的丙烯酸单体，例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁基甲酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、羟基丙烯酸酯、丙烯酰胺或羟甲基丙烯酸酯。基于氟的低折射单体与丙烯酸单体的共聚比优选为9∶1～7∶3。
如果共聚比超过9∶1，则基于氟的低折射单体的量增加，因此共聚物的折射率非常低并且涂敷性能劣化。另一方面，如果该比值小于7∶3，因为丙烯酸单体的高比例，所以涂敷性、硬度和溶剂中的溶解性良好，但是由于1.45或更高的折射率，所以不能获得需要的抗反射效果。
通过一般的自由基聚合，并且优选通过使用四氢呋喃作为溶剂的热聚合实现基于氟的低折射单体和丙烯酸单体的聚合。基于100重量份的可聚合单体，优选以1～10重量份的量使用引发剂。所得到的聚合物的折射率一般为1.40或更低。所得到的低折射透明薄膜层的厚度为200nm或更低，并且优选70～150nm以保证透光性。
可以用一般的有机溶剂如甲苯、二甲苯、甲基·乙基酮、甲基异丁基酮等稀释用于形成低折射透明薄膜层的涂敷溶液。稀释的溶液优选具有10％或更低的固含量，并且更优选0.1～5％的固含量。如果固含量低于0.1％，不可能形成自身涂敷膜，从而难于形成涂敷层。另一方面，如果固体含量超过5％，使用本领域已知的任何涂敷方法，都难于形成几百nm厚度的涂敷膜。
如此形成的低折射透明薄膜层640与其下形成的高折射透明薄膜层624一起可作为抗反射层622。即，通过只粘附一层而不是功能上重叠的层，且不需要额外粘附抗反射膜，本发明的PDP滤光片600可表现抗反射功能，以及电磁波屏蔽功能。因此，形成的PDP层压结构更轻和更薄，并且其制备方法可进一步简化。
使用卷带式工艺可以将根据本发明第五实施方式的PDP滤光片与额外的功能层整合。
图18为显示根据本发明第六实施方式的PDP滤光片的横截面图。使用卷带式工艺，通过在图17的根据本发明的第五实施方式的PDP滤光片610的下表面粘附颜色控制膜750形成图18的PDP滤光片，从而从上侧以如下顺序功能性地包括抗反射层722、透明导电膜型电磁波屏蔽膜710以及颜色控制膜750。此外，在电磁波屏蔽膜710和颜色控制膜750之间设置粘合剂层730用于粘附两层膜。
通过在透明基板(未显示)上以膜的形式层压包含具有颜色控制功能的有机或无机颜料和/或有机或无机染料的聚合物材料，或使用涂敷材料可以形成颜色控制膜750。
用预先涂敷在两层膜710、750的内表面的粘合剂形成粘合剂层730从而在卷带式工艺中将两层膜710、750整合时通过外部压力或加热粘合在一起。这样，粘合剂的例子一般包括橡胶、丙烯酰基、硅氧烷等。特别是，在具有使其适合用于制备具有高功能性的粘合剂组合物的多种用途性质的丙烯酸粘合剂中，使用烷基作为其官能团，从而防止了由电磁波屏蔽膜的金属薄膜层在高温和高湿度条件下氧化引起的颜色的变化。
具体而言，丙烯酸粘合剂包括100重量份的丙烯酸共聚物以及0.01～10重量份的基于多官能团异氰酸酯的交联剂，所述丙烯酸共聚物包含90～99.9重量份的具有C1～C12烷基的(甲基)丙烯酸酯单体、0.1～10重量份的具有羟基的乙烯单体。基于100重量份的丙烯酸共聚物，当以低于90重量份的量使用具有C1～C12烷基的(甲基)丙烯酸酯单体时，其不利之处在于最初的粘合性能劣化并且成本增加。优选地，以94～99.9重量份的量使用上述单体。
根据图18的第六实施方式，在最简单的整合膜结构上可以卷带式层压颜色控制膜750以表现抗反射功能和电磁波屏蔽功能。如此制备的PDP滤光片为膜型，并且可以无玻璃的半成品卷形式制备，并且一旦将半成品制品层压在玻璃上即成为成品。
图19为显示根据本发明第七实施方式的PDP滤光片的横截面图。在图19的PDP滤光片中，不额外使用颜色控制膜，使用粘合剂将包含具有颜色控制功能的有机或无机颜料和/或有机或无机染料的聚合物材料加入到粘合剂层830中，需要在如玻璃基板或模块的透明基板850的整个表面上将粘合剂层830整合粘附到能表现抗反射功能和电磁波屏蔽功能的单一膜上，从而形成颜色控制层。
当采用如此结构的PDP滤光片时，降低了PDP滤光片的层压层和制备工艺的数目。
实施方式
通过下述用于说明的的实施例能够更好地理解本发明，但其不解释为对本发明的限制。
实施例1
使用压敏粘合剂，在从Bekaert购得的透明导电膜型电磁波屏蔽膜[可见光透射比：60-65％，表面电阻＜1.8Ω/□]上粘附从日本的NOF公司购得的抗反射膜(商品名：7702UV)。将如此制备的整合膜切割成97cm×56cm的大尺寸，从而制备电磁波屏蔽层表面的边缘部分不被暴露的PDP滤光片。
对比例1
使用压敏粘合剂，在从Bekaert购得的尺寸为100cm×60cm的透明导电膜型电磁波屏蔽膜[可见光透射比：60-65％，表面电阻＜1.8Ω/□]的中心上粘附从日本的NOF公司购得的具有92cm×52cm尺寸的抗反射膜(商品名：7702UV)。在如此制备的PDP滤光片中，使用屏幕印刷法(从Acheson购得的银膏：479SS)，将电磁波屏蔽膜的所有暴露的边缘部分银印刷至2cm的宽度。
对比例2
除了电磁波屏蔽膜的所有暴露的边缘部分粘附2cm宽的导电带(从AMIC购得的DK-102)代替使用银印刷法外，与对比例1相同的方式制备PDP滤光片。
[电磁波屏蔽试验]
进行了用于确定垂直于或平行于实施例1和对比例1和2制备的各PDP滤光片的前表面的电磁波屏蔽的试验。图20和21给出了实施例1的结果，图22和23给出了对比例1的结果，以及图24和25给出了对比例2的结果。
作为参考，当频率降低时，电磁波通过如电源线或信号线的导体强烈地导电，而当频率升高时，其强烈地辐射到空间。因此测试了具有30MHz或更高范围的PDP电磁波的电磁波噪声辐射的抑制水平。
在除底部表面的所有墙表面由波吸收材料和金属板制备的半无回声室内进行电磁波的测试。在一般的场强计中，场强计使用了用于测试电磁波的偶极天线、LISN(线路阻抗稳定网络)电路或吸收钳。
这样，因为场强计可用与作为用于测定脉冲噪声的短波滤波器的高斯滤波器相比，具有降低了6dB的峰值振幅的短波滤波器等同替代，所以在带宽设定在减小6dB或更低的峰值振幅的状态下在频带30MHz～1GHz测定场强。
在这种情况下，使用具有准峰值的验波器。根据用于如PDP的数字装置的关于电磁波的FCC国际标准的B类的测定标准，在与PDP滤光片隔开3m的位置使用场强计测定电磁波。
图20～25中代表B类的粗实线表示由FCC国际标准设定的从数字装置发出的电磁波的最大指标。
如图20和21所示，具有电磁波屏蔽膜而没有接地部分的实施例1的PDP滤光片没有超过从PDP实际发出的电磁波中的B类指标，从而满足了国际标准。
比较图20和21与图22～25，可以看到实施例1的具有电磁波屏蔽膜而没有接地部分的PDP滤光片显示出与对比例1和2的具有接地部分的电磁波屏蔽膜的常规PDP滤光片非常相似的场强波形式。
结果，对于使用形成具有电磁波屏蔽层而没有接地部分的PDP滤光片的方法的情况下，与使用具有接地部分的电磁波屏蔽膜的常规技术相比，可更容易地和简单地制备所述PDP滤光片。而且，可以达到与常规PDP滤光片等同的电磁波屏蔽效果。
工业实用性
根据本发明，可不同地形成PDP滤光片的层压结构，以及在制备PDP滤光片时，可以应用如卷带式工艺的连续制备工艺，从而实现PDP滤光片的大量生产和高生产力。另外，可以将需要透明导电膜型电磁波屏蔽层的结构的部分功能相同的结构的功能层形成为单一结构，从而能简单制备多功能PDP滤光片。

Claims (31)

1.一种PDP滤光片，具有包含透明导电膜型电磁波屏蔽层和一层或多层其它功能层的层压结构，其中与功能层接触的透明导电膜型电磁波屏蔽层表面的四个边缘部分都不暴露在所述PDP滤光片的层压结构的外部。
2.根据权利要求1所述的PDP滤光片，其中，所述的其它功能层为选自抗反射层、近红外吸收层和颜色控制层中的层，或为能表现出所述层的功能中的两个或更多个功能的层。
3.根据权利要求1所述的PDP滤光片，其中，所述的其它功能层为抗反射层。
4.根据权利要求3所述的PDP滤光片，其中，所述的抗反射层置于施加外部光的层压结构的最上表面。
5.根据权利要求1所述的PDP滤光片，其中，接触电磁波屏蔽层的其它功能层的一个宽度等于电磁波屏蔽层对应的宽度。
6.根据权利要求1所述的PDP滤光片，其中，所述的透明导电膜型电磁波屏蔽层包括交替层压的一层或多层高折射透明薄膜层和一层或多层金属薄膜层，并且在交替层压层的最上表面提供高折射透明薄膜层。
7.根据权利要求6所述的PDP滤光片，其中，所述的高折射透明薄膜层由选自ITO、IZO、ATO、ZnO-Al、Nb2O3、氧化铟、氧化钛、氧化锆、氧化锡、氧化锌、氧化锑、氧化钽、氧化铈、氧化钍、氧化镁、氧化钾和Si3N4中的至少一种形成。
8.根据权利要求6所述的PDP滤光片，其中，所述的金属薄膜层由选自金、银、铜、镍和铝中的至少一种形成。
9.根据权利要求1所述的PDP滤光片，其中，所述的电磁波屏蔽层和其它功能层通过使用卷带式工艺的粘合进行层压。
10.根据权利要求9所述的PDP滤光片，在所述的电磁波屏蔽层和与电磁波屏蔽层接触的其它功能层之间，进一步包含压敏粘合剂层或热熔树脂层。
11.根据权利要求1所述的PDP滤光片，其中，通过使用涂敷法在电磁波屏蔽层上形成其它功能层。
12.根据权利要求1所述的PDP滤光片，进一步包含颜色控制层。
13.根据权利要求12所述的PDP滤光片，其中，通过向内层粘合剂层加入颜料或染料形成颜色控制层。
14.根据权利要求12所述的PDP滤光片，其中，使用卷带式工艺将颜色控制层粘附在PDP滤光片上形成颜色控制层。
15.一种制备PDP滤光片的方法，包括：
将透明导电膜型电磁波屏蔽膜缠绕成一个卷，然后将该透明导电膜型电磁波屏蔽膜的卷装到第一进料辊上；
将除透明导电膜型电磁波屏蔽膜外的功能膜缠绕成卷，然后将该功能膜的卷装到与第一进料辊隔开的第二进料辊上；
在与第一进料辊和第二进料辊隔开的位置，提供彼此紧密面对的第一压缩辊和第二压缩辊，然后将来自第一进料辊的透明导电膜型电磁波屏蔽膜和来自第二进料辊的功能膜在第一压缩辊和第二压缩辊之间通过，从而制得通过热或压力整合的膜；以及
切割该整合的膜使得与功能膜接触的透明导电膜型电磁波屏蔽膜表面的至少两个边缘部分不暴露。
16.根据权利要求15所述的方法，其中，所述电磁波屏蔽膜的宽度等于或大于功能膜的宽度。
17.一种制备PDP滤光片的方法，包括使用涂敷过程在透明导电膜型电磁波屏蔽层的上表面、下表面或两个表面形成一层或多层其它功能层，其中，在电磁波屏蔽膜的涂敷表面的整个表面进行涂敷过程从而使电磁波屏蔽膜表面的所有边缘部分不被暴露。
18.一种PDP滤光片，包括透明基板、包括在透明基板上交替层压的高折射透明薄膜层和金属薄膜层并且在交替层压层最上表面上提供高折射透明薄膜层的透明导电膜型电磁波屏蔽层，以及在高折射透明薄膜层的最上层形成的低折射透明薄膜层，其中与低折射透明薄膜层接触的透明导电膜型电磁波屏蔽层表面的至少两个边缘部分不暴露。
19.根据权利要求18所述的PDP滤光片，其中，所述的高折射透明薄膜层由选自ITO、IZO、ATO、ZnO-Al、Nb2O3、氧化铟、氧化钛、氧化锆、氧化锡、氧化锌、氧化锑、氧化钽、氧化铈、氧化钍、氧化镁、氧化钾和Si3N4中的至少一种形成。
20.根据权利要求18所述的PDP滤光片，其中，所述的金属薄膜层由选自金、银、铜、镍和铝中的至少一种形成。
21.根据权利要求18所述的PDP滤光片，其中，所述的低折射透明薄膜层通过溅射或真空淀积低折射无机层形成。
22.根据权利要求18所述的PDP滤光片，其中，低折射透明薄膜层通过微照相凹板涂敷或湿涂包括基于氟的低折射单体和丙烯酸单体的共聚物或氟化聚合物形成。
23.根据权利要求18所述的PDP滤光片，在透明基板和透明导电膜型电磁波屏蔽层的最低高折射透明薄膜层之间进一步包括硬涂层。
24.根据权利要求23所述的PDP滤光片，其中，所述的硬涂层由包括聚氨酯-丙烯酸酯、环氧-丙烯酸酯或聚酯-丙烯酸酯的UV固化组合物形成。
25.根据权利要求18所述的PDP滤光片，进一步包括颜色控制层。
26.根据权利要求25所述的PDP滤光片，其中，颜色控制层通过向内层粘合剂层加入颜料或染料形成。
27.根据权利要求25所述的PDP滤光片，其中，颜色控制层通过使用卷带式工艺向PDP滤光片粘附颜色控制膜形成。
28.一种制备PDP滤光片的方法，包括
在透明基板上交替层压高折射透明薄膜层和金属薄膜层，以及在交替层压层的最上表面提供高折射透明薄膜层，从而形成透明导电膜型电磁波屏蔽层；以及
在高折射透明薄膜层的最上层形成低折射透明薄膜层，其中与低折射透明薄膜层接触的透明导电膜型电磁波屏蔽层表面的至少两个边缘部分不被暴露。
29.一种PDP，包括权利要求1～14和权利要求18～27任一项所述的PDP滤光片。
30.根据权利要求29所述的PDP，其中，所述的PDP滤光片通过玻璃基板粘附到PDP上。
31.根据权利要求29所述的PDP，其中，所述的PDP滤光片的透明导电膜型电磁波屏蔽层不电接地。
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