JP2002535713A - ディスプレイパネルフィルタ及びその製造方法 - Google Patents

ディスプレイパネルフィルタ及びその製造方法

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ウッドラフ，ダニエル・ピー
カーター，チャド・ジェイ
チャヴィス，ジョセフ・ダブリュー
クルーマン，ブルース・イー
ココシュク，ジェフリー・エル
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ヴィラテック・シン・フィルムズ・インコーポレーテッド
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、プラズマディスプレイパネル１０と共に使用可能であり、ディスプレイ１１の前面に付与され、また、組み立てた後、反射を許容可能なレベルまで少なくし、明暗向上比を増大させ、ＥＭＩ放出を消費者の安全性又はその他の政府或いはその他の規則又は基準に適合するレベルまで低くし、更に、ＩＲ遠隔制御操作を妨害しないレベルまで８００ｎｍ乃至１０００ｎｍの範囲の赤外線透過率を減少させる働きをするフィルタ１４の形態をした装置を提供するものである。本発明は、また、プラズマディスプレイパネルフィルタ及び装置のようなものを製造する方法にも関するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の分野】
本発明は、全体として、ディスプレイパネルフィルタ、より具体的には、プラ
ズマディスプレイパネル又はフラットパネルディスプレイと共に使用される特定
の用途を有するフィルタに関する。本発明は、また、ディスプレイパネル等にて
使用される基板に付与されるＩＲ／ＥＭＩフィルタフィルム、及びかかるフィル
ム及びディスプレイパネルフィルタを製造する方法に関する。本発明は、また、
ディスプレイパネルフィルタをディスプレイパネルに直接付与すること、及び一
方がＰＥＴ又はその他の光学フィルムのような薄いプラスチックフィルムである
、一対の基板間にて光学フィルムを積層することに関する。
【０００２】
【従来技術の説明】
一般にプラズマディスプレイパネル又はフラットパネルディスプレイとして既
知の視覚的ディスプレイパネルは、視覚的像又は情報を比較的大きい平坦なスク
リーン上にディスプレイする目的のために最近、登場している。プラズマディス
プレイパネル技術は、陰極線管（ＣＲＴ）スクリーン上に蛍光体を衝突させる電
子ビームと同様に、ディスプレイスクリーン上に衝突した蛍光体に対し選択的に
励起させたガスイオンを利用する。プラズマディスプレイパネルは、双方共、入
力信号から情報又は像を視覚的にディスプレイする手段を提供する点にてＣＲＴ
ディスプレイと同様である。しかし、重要な相違点が存する。第一に、ＣＲＴデ
ィスプレイは、電子ビームを発生させ且つ偏向させるため全体として漏斗状の形
状の後方部分を受け入れるべく、そのディスプレイスクリーンの寸法に比して相
当な厚さ寸法を必要とする。第二に、殆どのＣＲＴスクリーンは湾曲型である。
これに反して、プラズマディスプレイ技術を使用してディスプレイパネル内にて
イオンを励起させることは、ディスプレイスクリーンに隣接する比較的薄い真空
チャンバ内にて行われ、その結果、平坦な視野面を有する比較的薄いディスプレ
イパネルとなる。このように、プラズマディスプレイパネルは、現在、主として
、ＣＲＴが実用的でなく又は著しく薄い厚さのディスプレイパネルが必要又は望
まれる、比較的大型のディスプレイパネルに使用されている。
【０００３】 プラズマディスプレイパネルは、薄い厚さのパネルにて比較的大きい視覚的デ
ィスプレイを容易にし且つその他、従来のＣＲＴディスプレイの使用を妨げるス
ペース上の制約のある環境にてディスプレイパネルの使用を容易にすることによ
り顕著な利点及び改良をもたらすが、新たな問題点が生じている。これらの問題
点は、視覚的ディスプレイの品質、赤外線（ＩＲ）及び電磁干渉（ＥＭＩ）放出
の増加、低明暗化、及び消費者の安全性の問題に関する。例えば、多くのプラズ
マディスプレイパネルからの明所視反射は、１５％以上である。このことは、デ
ィスプレイの品質に悪影響を与える。更に、プラズマディスプレイパネルの作動
は、幾つかの場合、パネル又は赤外線信号を利用するその他の装置の遠隔制御を
妨害する可能性のある赤外線（ＩＲ）放出を発生させ又は発生させる可能性があ
る。更に、プラズマディスプレイパネルの作動の結果、電磁干渉（ＥＭＩ）が発
生し且つ放出されることになる。従って、多くのプラズマパネルディスプレイは
、ＥＭＩ放出に関する政府のＴＣＯ及びＦＣＣ基準、及び色々な軍事、航空機、
及びその他の用途に関するより厳格な基準に適合することができない。上述の問
題点は、必然的に、プラズマディスプレイパネルを使用する適用可能性及び望ま
しさを制限することになる。
【０００４】 従って、上述の問題点及び制約を課題とし且つそれらを解決すべくプラズマデ
ィスプレイパネルと共に使用可能である、装置又はフィルタ、特に、多層のフィ
ルタフィルムが極めて必要とされている。また、かかる装置、フィルタ又はフィ
ルムを製造する方法の需要も存在する。
【０００５】
【発明の概要】
当該技術分野における需要を満足させるため、本発明は、プラズマディスプレ
イパネル又はその他の用途と共に使用可能であり、また、組立て後、許容可能な
程度まで反射を少なくし、明暗の向上を増し、透過の完全さを保ち、消費者の安
全規則に適合するのみならず、好ましくは、色々なより厳格な基準にも適合する
レベルまでＥＭＩ放出を少なくするのに役立ち、また、遠隔制御の操作を妨害し
ないレベルまで８００ｎｍ乃至１０００ｎｍの範囲内の赤外線放出を減少させる
作用を果たす単一のフィルタの形態をした装置を提供するものである。
【０００６】 全体として、本発明は、ディスプレイパネルフィルタ内にて使用するために付
与されたフィルタフィルム（好ましくは、光学ＩＲ／ＥＭＩ光学フィルム）を有
する基板を備えている。本発明によるフィルタ装置の１つの実施の形態は、基板
に付与された１つ又は２つ以上の導電層と、１つ又は２つ以上の誘電層とから成
るフィルタフィルムを有し、次に、この基板は、第二の基板に積層される。この
第二の基板は、透明なガラス、プラスチック又はその他の材料片と、ＰＥＴ又は
その他の光学的に透明なフィルムのような薄い可撓性のフィルムと又はディスプ
レイ装置自体の前面とを備えることができる。導電層及び誘電層の組合せ体は、
所望のＥＭＩ及びＩＲ遮蔽効果を提供する機能を果たし且つ反射を少なくし、ま
た、明暗の向上を増大させるのに役立つ。この層の組合せは、導電層及び誘電層
の双方を保持する単一のフィルムとして提供することができる。基板の積層は、
当然に、接着剤又はその他の結合剤を使用することを必要とし且つそれを光学フ
ィルム又はフィルタの少なくとも１つの面に露出することが必要であるから、所
望であるならば、フィルタの外層と接着剤との反応の適合性を向上させ且つ／又
はその反応を制限するため、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）又はその他の材料の層を
フィルタ又はフィルムに付与することができる。また、一方又は両方の基板の外
面は、反射防止（ＡＲ）被覆であることも好ましい。フィルタは、ＥＭＩ／ＩＲ
光学フィルム内にて導電層に電気的に接続された電気的接続部材を更に有してい
る。また、電気的接続部材を接地端子に電気的に接続するため電線等の形態をし
た接地手段も提供される。しかし、その他の手段も利用できる。
【０００７】 遮蔽膜の好ましい実施の形態は、導電性材料から成る１つ又は２つ以上の層と
、これと交番的に配置される誘電材の１つ又は２つ以上の層とを備えている。導
電性材料は、銀材料が好ましいが、特に、銀、銅、金及びインジウムスズ酸化物
のような、色々な導電性金属又はその他の材料を含むことができる。誘電材は、
ニオブ五酸化物が好ましいが、特に、ニオブ五酸化物、二酸化チタン、スズ酸化
物のような色々な材料を含むことができる。更に、フィルム等を形成する間、導
電層の望ましくない酸化又はその他の劣化を解消し又は制限するため隣接する導
電層／誘電層の間に薄い保護層が設けられる。導電層が酸化又は劣化及び／又は
フィルムが高温度にさらされる結果となるその他の製造状態にさらされるとき、
かかる保護層は望ましい。スパッタリング又は特に、２つ以上の導電材料層の多
層のフィルムのような色々な薄膜蒸着技術を使用してフィルムが製造されるとき
、かかる状態が存在する。幾つかの場合、保護層は、２つ以上の異なる材料の層
から成っている。
【０００８】 好ましい実施の形態において、透明な基板は、像表示側基板及びパネル側基板
から成っており、パネル側基板は、ディスプレイスクリーンに最も近く又は該デ
ィスプレイスクリーンに隣接している。同様に、基板の各々は、ディスプレイス
クリーンから反対方向を向く像表示側部と、ディスプレイスクリーンから反対方
向を向くパネル側部とを有している。１つの実施の形態において、ＥＭＩ／ＩＲ
光学フィルム又はフィルタは、基板の１つの一側部に直接、取り付けられ、次に
、光学フィルムがその間に配置された状態でウレタン又はその他の接着剤により
第二の基板に積層される。次に、この積層した基板は、ディスプレイの前面に取
り付けられ、第一の基板は、ディスプレイに隣接することが好ましい。この実施
の形態は、ＥＭＩ／ＩＲ遮蔽層内の導電層に対する環境劣化バリアを更に含む。
このバリアは、積層したフィルタの端縁の周りを伸び且つ導電性材料で作られて
いる。このバリアは、電気的接続部材又はバスバー及び接地端子の双方と電気的
に接続されている。
【０００９】 更なる実施の形態において、ＥＭＩ／ＩＲ光学フィルム又はフィルタは、像表
示側基板（ディスプレイから最も遠い基板）の前面側に付与される。その後、フ
ィルムが付与された、かかる基板は、ディスプレイの前面に積層され又はその他
の方法で直接、付与され、その間に光学フィルムが配置されている。
【００１０】 更なる実施の形態において、光学フィルムは第一の基板に付与され、非限定的
に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のような、薄い透明なプラスチック
膜の形態をした第二の基板が第一の基板に積層され、その厚さは、約１．５２４
ｍｍ（約０．０６インチ（６０ミル））以下であることが好ましい。その後、積
層構造体は、ディスプレイ装置の前面に直接、付与され又は前面の前方で付与さ
れる。
【００１１】 本発明の１つの特徴は、プラズマディスプレイパネルと共に使用するため上述
した型式のフィルム又はフィルタを製造する方法に関する。かかる方法は、全体
として、透明な基板を提供することと、ＥＭＩ／ＩＲ光学フィルム又はフィルタ
をかかる基板に付与することと、次に、かかる基板を第二の基板に積層すること
とを備えている。この方法の更なる特徴は、フィルムが付与されたかかる基板を
フラットパネル又はその他のディスプレイの前面に直接、付与することである。
この方法の更なる特徴は、ＰＥＴのようなプラスチックフィルムから成る第二の
基板に被覆した基板を積層し、次に、その基板をディスプレイ装置の前面に付与
し又はその前面の前方にて付与することである。
【００１２】 従って、本発明の１つの目的は、プラズマディスプレイパネルと共に使用する
フィルム又はフィルタを提供することである。 本発明の別の目的は、反射防止のＥＭＩ遮蔽、明暗の向上、及び赤外線遮蔽能
力を提供し且つ消費者の安全性の基準にも適合する、プラズマディスプレイパネ
ルフィルタを提供することである。
【００１３】 本発明の更に別の目的は、１つ又は２つ以上の導電層と、その後、第二の基板
に積層するため透明な基板上に形成された１つ又は２つ以上の誘電層とを有する
プラズマディスプレイパネルフィルタを提供することである。
【００１４】 本発明の更なる目的は、ＥＭＩ及びＩＲ遮蔽能力の双方を提供する改良された
フィルムを有するプラズマディスプレイパネルフィルタを提供することである。 本発明の更なる目的は、ＥＭＩ遮蔽層を接地端子に電気的に接続する改良され
た手段を有するプラズマディスプレイパネルフィルタを提供することである。
【００１５】 本発明の更なる目的は、ＥＭＩ遮蔽層の環境劣化を防止し且つかかる層のＥＭ
Ｉ遮蔽効果を最大にすべくフィルタの端縁の周りに導電性材料を有するプラズマ
ディスプレイパネルフィルタを提供することである。
【００１６】 本発明の更に別の目的は、積層用接着剤と光学フィルムとの間の反応を防止し
又は最小にし且つ／又は接着剤との適合性を向上させ、また、接着剤の強度を向
上させる層を含む、上述したプラズマディスプレイパネルを提供することである
。
【００１７】 本発明の別の目的は、ディスプレイ又はディスプレイパネルの前面に直接、付
与された光学ＥＭＩ／ＩＲ光学フィルムを有する基板を提供することである。 本発明の更に別の目的は、ＰＥＴのようなプラスチックフィルムから成る第一
の基板と第二の基板との間に積層された光学フィルムから成る光学フィルタを提
供することである。
【００１８】 本発明の別の目的は、上述した型式のフィルム及びプラズマディスプレイパネ
ルフィルタを製造する方法を提供することである。 本発明の更に別の目的は、上述したように、ＥＭＩ／ＩＲ光学フィルムを有す
る基板を製造し且つ該基板をディスプレイの前面に直接、付与する方法を提供す
ることである。
【００１９】 本発明の上記及びその他の目的は、図面、好ましい実施の形態の説明及び方法
並びに特許請求の範囲の記載を参照することにより明らかになるであろう。
【００２０】
【好ましい実施の形態及び方法の説明】
本発明は、ＥＭＩ及びＩＲ遮蔽能力を提供する機能を果たす、その内部で使用
されるプラズマディスプレイパネルフィルタ又は光学フィルムに関する。好まし
くは、該フィルタは、また、反射防止（ＡＲ）能力をも提供するものとする。本
発明の色々な特徴は、ディスプレイパネルフィルタ以外の用途が可能である。し
かし、好ましい実施の形態の説明は、プラズマディスプレイパネルフィルタにて
使用するためのものである。
【００２１】 先ず、本発明によるプラズマディスプレイパネル１０及び関係したフィルタ１
４の等角図的な分解図を示す図１に関して説明する。好ましい実施の形態による
、図１に示したディスプレイパネル１０は、前面像表示スクリーンすなわちディ
スプレイスクリーン１１と、ディスプレイパネルフィルタ１４を受ける凹状の領
域１２とを有する全体として矩形の形態の装置である。しかし、本発明によるプ
ラズマディスプレイパネルとフィルタとの間の可能な関係は、図１に開示した実
施の形態に限定されるものではないことを理解すべきである。所望であるならば
、ディスプレイパネル１０は、フィルタ１４がパネル１０の一体部分と成るよう
にして組み立てることができる。これと代替的に、パネル１０及びフィルタ１４
は、別個に購入される別の単独の物品とすることができる。かかる場合、フィル
タ１４をパネル１０の一部分から懸垂し又はフィルタ１４をパネル１０に接続し
、フィルタ１４がディスプレイスクリーン１１の真正面にあり且つ実質的にディ
スプレイスクリーン１１に隣接するようにするための手段を設けることができる
。また、フィルタは所望であるならば、ディスプレイスクリーン１１に接着し又
は該ディスプレイスクリーン１１に直接、積層することも考えられる。
【００２２】 図１を更に参照すると、好ましい実施の形態のフィルタ１４は、ディスプレイ
スクリーン１１から反対方向を向く像表示側部１６と、ディスプレイスクリーン
１１を向く反対側のパネル側部１７とを有する全体として平坦な平面状フィルタ
積層体１５を有している。該フィルタ１４は、フィルタ積層体１５の周端縁に付
与された導電性材料ストリップの形態をした導電性要素１８を更に有している。
図１に図示するように、好ましい実施の形態の導電性材料１８は、積層体１５の
周縁の周りで且つ像表示側部１６及びパネル側部１７の双方にて制限された距離
だけ内方に伸びている。以下に更に詳細に説明するように、導電性要素１８は、
積層体１５内にて導電性層と協働して作用し、フィルタに対しＥＭＩ及びその他
の遮蔽能力を提供する。１つ又は２つ以上の接地チップ１９から成り、電気導線
２０又はその他の手段を有する接地手段が導体１８と電気的に共通に接続され、
導体１８を接地端子２１に電気的に接続する。
【００２３】 次に、図１の断面線２−２に沿って見たときのフィルタ積層体１５の部分断面
図である図２に関して説明する。全体として、フィルタ積層体１５は、一対の透
明な基板２２、２４を含んでいる。好ましい実施の形態において、基板２２は像
表示側基板であり、基板２４はパネル側基板である。基板２２、２４の各々には
、それぞれ反射防止被覆２５、２６が設けられ、これら反射被覆は、基板の外面
に、すなわち、像表示側パネルの後側に且つパネル側パネルのパネル側に付与さ
れる。誘電層及び導電層の組合せ体から成るＥＭＩ／ＩＲ遮蔽膜２７は、パネル
側基板２４の像表示側に且つ基板２２、２４の間に付与されて、ＥＭＩ放出を少
なくし且つ制限すると共に、赤外線遮蔽効果及び明暗の向上効果を提供する。こ
のように、フィルム２７は、スパッタリングにより基板２４に付与された後、接
着剤又は積層層３０を介して基板２２、２４の間にて積層される。
【００２４】 好ましい実施の形態において、透明な基板２２、２４は、全体として平坦な平
面状のガラスシートから成っている。しかし、透明な基板２２、２４は、所望で
あるならば、透明なプラスチック又はその他の合成材料又は複合的ガラス／合成
材料から成るものとすることも可能であると考えられる。基板２２、２４の厚さ
は、必要で且つ望ましい安全性及び強度の特徴を提供するのに十分に厚い一方、
可能な限り薄いように選ぶ必要がある。好ましい実施の形態において、基板の厚
さは、約０．１８６ｍ2（約２平方フィート）乃至０．９２９ｍ2（１０平方フィ
ート）の像表示表面積を有するフィルタに対し約１．０ｍｍ乃至６．０ｍｍ又は
それ以下の範囲にあることが好ましい。しかしながら、基板２２、２４の少なく
とも一方は、０．２５４ｍｍ（．０１０インチ）程度の厚さのポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）のような薄い膜の合成材料とすることも考えられるが、そ
の他のフィルムの厚さでも同様に機能する。基板の１つは、フィルムが設けられ
た１つの基板がディスプレイ装置に直接積層されるならば、該ディスプレイ装置
の前面とすることも可能であろう。
【００２５】 基板２２の像表示側に付与された反射防止被覆２５は、基板２４のパネル側に
付与された反射防止被覆２６と同様であり、当該技術分野で既知の任意の反射防
止被覆とすることができる。好ましくは、本発明による反射防止被覆２５、２６
は、当該技術分野で既知の方法に従って、スパッタリング又は反応性スパッタリ
ングを介して基板２２、２４のそれぞれの面に付与された複数の個別の層から成
っている。これら反射防止被覆の特定の成分は、フィルタ１５の像表示側１６及
びパネル側１７からの明所視反射を許容可能な程度まで減少させる効果がある。
本発明のフィルタを内蔵する構造体において、ディスプレイスクリーン１１（図
１）により通常、提供される明所視反射は、幾つかの実施の形態において、１５
％以上の反射から約４又は５％乃至１．０％又はそれ以下の反射まで１０以上の
係数だけ、顕著に減少する。
【００２６】 反射防止被覆２５、２６の特別な構造は、その内容を参考として引用し本明細
書に含めた、米国特許第５，３７２，８７４号に記載されており且つ現在、ミネ
ソタ州、ファリバウルトのヴィラテック・シン・フィルムズ・インコーポレーテ
ッド（Ｖｉｒａｔｅｃ Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍｓ， Ｉｎｃ．）によりＣＤＡＲと
いう商標名で販売されている。しかし、その他の反射防止被覆も使用可能である
。
【００２７】 フィルム２７は、誘電層及び導電層の組合せ体から成っており、フィルタを通
じての可視光の透過に対する悪影響を最小にすると同時に、主としてＥＭＩ及び
ＩＲ放出を許容可能なレベルまで減少させ得る設計とされている。フィルム２７
は、透明であり且つその誘電層及び導電層の各々が透明である。好ましい実施の
形態において、フィルム２７は、スパッタリング又は反応型スパッタリングによ
りパネル基板２４の像表示側に付与され、また、該フィルム２７は、導電性材料
層により分離された一連の誘電層から成っている。具体的には、フィルム２７は
、４つの誘電層５０、５４、５８、６１と、互いに挿置した３つの導電層５１、
５５、５９とを有している。
【００２８】 図３を参照すると、層５０、５４、５８、６１は、少なくとも１．７、好まし
くは約２．２乃至２．８の屈折率を有する比較的高屈折率の誘電材である。層５
１、５５、５９は、導電性金属のような導電性材料層である。幾つかのフィルム
２７の構造体において、更なる金属又はその他の材料の層５２、５６、６０は、
誘電層５４、５８、６１を蒸着する間に、導電層の酸化を防止するため導電層５
１、５５、５９に隣接して追加される。
【００２９】 導電層５１、５５、５９は、主として、プラズマディスプレイパネル内で発生
されるＩＲ及びＥＭＩ放出を減少させる働きをする。好ましくは、ＥＭＩ放出は
、色々な政府、又はその他の規則又は基準に適合するレベルまで減少する。全体
として、導電層５１、５５、５９が厚ければ厚い程、これらの層がＩＲ及びＥＭ
Ｉの発生を減少させる効果はより大きくなる。しかし、導電層５１、５５、５９
の厚さを増すことは、また、可視光の透過量を少なくすることにもなる。このた
め、所望の遮蔽能力を得るためには、２つ以上、好ましくは３つの厚さが制限さ
れた導電層であることが好ましい。好ましい実施の形態において、導電性材料層
５１、５５、５９は銀である。しかし、特に、銅、銀及びインジウムスズ酸化物
のような材料を含む色々なその他の導電性材料も使用可能である。好ましくは、
層５１、５５、５９の各々は、約５ｎｍ乃至２０ｎｍの範囲の厚さを有し、より
好ましくは、約１０ｎｍ乃至１５ｎｍの範囲の厚さを有するようにする。より好
ましくは、層５１、５５、５９の厚さは、それぞれ、１２ｎｍ、１３ｎｍ、１２
ｎｍである。導電層は、スパッタリング、反応型スパッタリング又はその他の薄
膜蒸着技術により付与されることが好ましい。
【００３０】 誘電層５０、５４、５８、６１は、高屈折率の材料であり、主として、反射率
を小さくし、これにより、約３８０ｎｍ乃至８００ｎｍの範囲内の可視光の透過
率を向上させる機能を果たす。好ましい実施の形態において、層５０、５４、５
８、６１の誘電性材料は、特に、ニオブ五酸化物（Ｎｂ2Ｏ5）、二酸化チタン（
ＴｉＯ2）及びスズ酸化物（ＳｎＯ2）のような材料を含むことができる。しかし
、好ましくは、誘電性材料は、ニオブ五酸化物（Ｎｂ2Ｏ5）であるようにする。
【００３１】 外側誘電層５０、６１は、約４５０ｎｍ乃至６５０ｎｍの波長にて約０．４乃
至０．８の範囲の好ましい光学厚さを有する一方、内側誘電層５４、５８は、約
４５０ｎｍ乃至６５０ｎｍの波長にて約０．７乃至１．５の範囲の光学厚さを有
する。上述し且つこの出願の全体を通じて、「光学厚さ」という語は、当該技術
分野で既知であるように、「四分波光学厚さ」すなわちＱＷＯＴを意味するもの
とする。好ましくは、外側層５０、６１の物理的厚さは、約２０ｎｍ乃至５０ｎ
ｍであり、最も好ましくは、約３０ｎｍ乃至４０ｎｍである。内側誘電層５４、
５８の物理的厚さは、約５０ｎｍ乃至９０ｎｍであることが好ましく、約６０ｎ
ｍ乃至７０ｎｍであることが最も好ましい。
【００３２】 フィルム２７がスパッタリング又は反応型スパッタリングにより形成される幾
つかの構造体において、色々なフィルム層及び導電性材料は、隣接する層を構成
する１つ又は２つ以上の材料に対して反応性である。かかる場合、誘電層の反応
性材料に対するその酸化又はその他の反応を防止すべく導電性材料層に隣接して
薄い保護層すなわち犠牲材料層を提供することが必要である。図３の実施の形態
において、層５２、５６、６０は、かかる機能を果たす。図３の好ましい構造体
において、スパッタリング又は反応型スパッタリングによりＮｂ2Ｏ5又はその他
の誘電性材料が付与されたとき、酸素が導電層５１、５５、５９ではなくて、チ
タン層５２、５６、６０をＴｉＯ2に酸化するように、チタン又はその他の犠牲
材料の薄い層が導電性材料に隣接して付与される。次に、酸化したチタン層は、
隣接する誘電層の一部を形成する。好ましい実施の形態において、保護層５２、
５６、６０の厚さは、約０．５ｎｍ乃至５ｎｍであり、最も好ましくは、約３ｎ
ｍ乃至５ｎｍとする。
【００３３】 フィルム２７の好ましい実施の形態は、３つの導電性材料層及び４つの誘電性
材料層から成る７層のフィルムである。しかし、層の総数が異なるフィルムも利
用可能であると考えられる。しかし、好ましくは、誘電層の数は、導電層の数よ
りも１つだけ多いようにする必要がある。このように、ｎを導電層の数とするな
らば、誘電層の数はｎ＋１であることが好ましい。
【００３４】 従って、図２のフィルム２７は、一対の端部誘電層と、その間に交番的に配置
される導電層及び内側誘電層とを含む、複数の導電層及び誘電層を備えている。
端部誘電層は、約４５０ｎｍ乃至６５０ｎｍの波長にて約０．４乃至０．８の範
囲、好ましくは０．６の光学厚さを有し、内側誘電層は、約４５０ｎｍ乃至６５
０ｎｍの波長にて約０．７乃至１．５の光学厚さを有し、導電層は、約５ｎｍ乃
至１５ｎｍの物理的厚さを有するようにする。
【００３５】 図２の実施の形態において、色々なフィルム層をパネル側の像表示側部すなわ
ちフィルムを担持する基板２４にスパッタリングすることによりフィルム２７が
付与される。すなわち層５０を最初にスパッタリングし、次に、層５１、５２を
スパッタリングし、順次に、層５４、５５、５６、５８、５９、６０、６１をス
パッタリングする。次に、フィルム担持基板２４を接着剤又は積層層３０を介し
て基板２２に積層し、フィルム２７が基板２２の方を向くようにする。好ましい
実施の形態における積層材料３０は、ポリウレタン接着剤のシートから成ってい
る。図示するように、接着剤シート３０は、フィルム２７と基板２２のパネル側
部との間に配置されている。勿論、ＰＶＢ、アクリル系及び／又はその他のよう
な多くの接着剤又は積層体を使用して、基板２２、２４を共に接続することがで
きる。しかし、選んだ特定の接着剤及び積層材料は、積層の完了時、実質的に透
明な性質を呈すことができるものでなければならない。接着剤は、また、所望で
あるならば、着色し、又はその他の方法でＩＲ遮蔽能力を付与することもできる
。本発明によれば、層３０は、図示するように、基板２２、２４の間に配置され
、次に、これらの層を共に積層するため、約３乃至４時間、適当な熱及び圧力状
態下にてオートクレーブ内に入れる。
【００３６】 本発明によるフィルタの更なる実施の形態が、図６に図示されている。図６は
、改変したフィルム２７´を示す点を除いて、図３の実施の形態と同様である。
図６のフィルム２７´は、２つの点にて図３のフィルム２７と相違する。第一に
、フィルム２７´は、それぞれ層５２、５６、６０に隣接する追加的な保護層す
なわち犠牲層５３ａ、５３ｂ、５３ｃを有し、基板が共に積層されたとき、層５
７が誘電層６１と接着剤３０との間に配置されるように第二の層である、追加的
な層５７が外側誘電層６１の上に付与される。
【００３７】 図３の実施の形態に関して上述したように、保護層すなわち犠牲層５２、５６
、６０はチタンであることが好ましい。その理由として考えられるものは、チタ
ンは酸化され易く、また酸化したとき、形成される酸化チタンは透明となること
である。また、図３の実施の形態に関して上記に開示したように、誘電層５０、
５４、５８、６１は、ニオブ五酸化物（Ｎｂ2Ｏ5）であることが好ましい。その
理由として考えられるものは、ニオブ五酸化物は高スパッタリング速度を有し且
つ光の分散程度が小さいことである。犠牲層及び誘電層として、チタン及びニオ
ブ五酸化物を使用することには明確な利点があるにも拘らず、これらの層が互い
に隣接して使用されるとき又は導電性材料は極めて反応性であり、多数の層が必
要とされるとき、特定の不利益な点又は制約が存在する。これらの不利益な点は
、２つの主要な原因に起因すると考えられる。第一に、比較的高プラズマエネル
ギ及びニオブ五酸化物の高蒸着温度はチタンの保護能力に悪影響を与える。この
ため、好ましい実施の形態におけるように、ニオブ五酸化物及びチタンの双方が
使用されるとき、ニオブ五酸化物を付与する間酸化され又はその他の損傷を受け
ないように下側の導電層（５１、５５又は５９）を完全に保護し得るよう犠牲チ
タン層の厚さを増すことが必要である。第二に、チタン金属の酸化は発熱性反応
である。ニオブ五酸化物の存在下にて酸化されるときにより保護効果のあるチタ
ンが必要とされるため、発熱反応に起因する熱レベルは顕著に増大する。余剰な
熱により銀は凝集するから、過剰なチタンの酸化によりその下方の銀保護層が損
傷される可能性がある。
【００３８】 上述したようにチタン及びニオブ五酸化物の隣接する層と関係する不利益な点
を防止し又は少なくとも最小にし、これにより、本発明のフィルタにてチタン及
びニオブ五酸化物の双方を使用することを容易にするため、更なる保護材料５３
ａ、５３ｂ、５３ｃの薄い層が図６の実施の形態に示すように、チタン層５２、
５６、６０に付与される。好ましくは、これらの層５３ａ、５３ｂ、５３ｃは、
チタン及びその下方の銀よりもより耐久性があり且つニオブ五酸化物に比して、
プラズマエネルギのレベル及び蒸着温度の差が著しく小さいスズ酸化物であるこ
とが好ましい。特に、ＺｎＯ2、ＳｉＯ2のようなその他の材料は、チタンよりも
耐久性があり且つニオブ五酸化物と比べてプラズマエネルギレベル及び蒸着温度
が低い限り、これら材料も使用可能である。図６の実施の形態において、層５２
、５６、６０は、厚さが約０．５ｎｍ乃至１５ｎｍであることが好ましく、約３
ｎｍ乃至５ｎｍの厚さであることが最も好ましい一方、層５３ａ、５３ｂ、５３
ｃは厚さが約５ｎｍ乃至４０であることが好ましく、約１０ｎｍ乃至３０ｎｍの
厚さであることが最も好ましい。
【００３９】 上述したのと同一の理由のため、ニオブ五酸化物は、外側誘電層６１を含む、
層５０、５４、５８、６１に対する好ましい誘電材である。しかし、ニオブ五酸
化物であることが好ましいにも拘らず、ニオブ五酸化物の外側層６１と多くの接
着剤との間の接着強度は所望の値よりも小さい。これらの難点を解消するため、
基板２２、２４が接着剤３０により共に積層されたとき、層６１と接着剤３０と
の間に層５７が配置されるように、図６の実施の形態は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ 2 ）の薄い層５７又はその他の接着剤適合層を外側誘電層６１の外面に提供する
。
【００４０】 この追加的な層５７は、被覆した基板２４と基板２２との間の接着剤結合を向
上させ、このため、接着促進剤として機能すると共に、誘電材と接着剤との間の
可能な反応の全てを制限する働きをする。好ましくは、この層は、二酸化ケイ素
又は何らかのその他のケイ素系組成物であるようにする。しかし、その他の材料
又は組成物も同様に作用する。層５７は、約２ｎｍ乃至５０ｎｍの厚さであるこ
とが好ましく、約１０ｎｍ乃至３０ｎｍの厚さであることがより好ましい。
【００４１】 図２及び図４のフィルム２７及び図６のフィルム２７´の双方は、ＥＭＩ放出
を許容可能なレベルまで少なくするのに十分なシート抵抗性を提供する。好まし
くは、フィルム２７、２７´は、５Ω／平方、より好ましくは１．５Ω／平方以
下のシート抵抗性を提供する作用を果たすようにする。また、フィルム２７、２
７´は、ＩＲ放出を遮断し、これにより、ＩＲ放出を許容可能なレベルまで少な
くし、第二の基板を積層するのに使用される接着剤と光学的に適合し、反射を軽
減し且つ明暗の向上を増すことにより、全体として所望の光学的性能を提供し得
るような設計とされている。
【００４２】 フィルタ積層体１５を組み立てる間、バスバー３２は基板２４の外周端縁部分
に付与する。好ましくは、このバスバーは、フィルム２７と電気的に接触し且つ
基板２４の外周端縁から内方に伸びる第一の脚部３４と、反射防止被覆２６の上
に付与され且つ基板２４の外周端縁から内方に伸びる第二の脚部３６と、脚部３
４、３６と電気的に接続され且つ基板２４の全周端縁を亙って実質的に伸びる第
三の脚部３５とを有するようにする。所望であるならば、脚部３５、３６は図４
に示すように省略してもよい。
【００４３】 好ましい実施の形態において、脚部３４、３６は、少なくとも１．０ｍｍの距
離、好ましくは、約２．０ｍｍ以上の距離に亙って基板２４の周端縁から内方に
伸びている。更に、本発明によるバスバー３２は、基板２４の、従ってフィルム
２７の全周の周りを伸びることが好ましい。バスバー３２は多岐に亙る方法で付
与すことが可能であると考えられる。しかし、好ましい実施の形態において、バ
スバー３２は、超音波はんだ付けを介して付与された、はんだ系の導電性材料で
ある。
【００４４】 バスバー３２を基板２４の周端縁部分に付与した後、電磁遮蔽テープの形態に
て、導電性環境劣化バリア部材３８をバスバー３２の脚部分３５の上に付与する
。部材３８はかかる被覆２６の外周端縁に沿って反射防止被覆２６の外側部又は
パネル側部に付与される。部材３８は、被覆２６の最外方の周端縁から制限され
た距離だけ内方に伸びる。この制限された距離は、５ｎｍ以上であり、好ましく
は、約９ｎｍに等しく又はそれ以上であるようにする。所望であるならば、バリ
ア部材３８は、バスバー３２の３つの脚部３４、３５、３６の全てに付与するこ
とができる。部材３８は、導電性接着剤によりバスバー３２の脚部３５に付与し
且つ該脚部３５に接続されることが好ましい。従って、部材３８は、導電性接着
剤を介してバスバー３２との電気的接続を為すという主たる機能を果たす。
【００４５】 また、部材３８、従ってバスバー３２及び導電性層５１、５５、５９を接地端
子２１に電気的に接続する接地手段も提供される。図１、図２、図４及び図５に
図示した１つの実施の形態において、この手段は、部材３８に係合する第一の脚
部４２と、基板２２の被覆２５と電気的に接触するばね接触部材４６とを有する
第二の脚部４５と、及び脚部４２、４５を接続する第三の脚部４４とを有する接
地クリップ１９の形態をしている。電気導線２０は、コネクタクリップ１９に接
続された一端と、接地端子２１に接続された第二の端部とを有している。勿論、
この電気的接地接続を為すために、その他の手段も提供することができる。
【００４６】 図４には、バスバー３２をフィルム２７に接続し且つ部材又はテープ３８をバ
スバー３２に接続する１つの代替的な実施の形態が図示されている。図４に図示
するように、バスバーは、脚部３４のみを有し、脚部３５、３６は省略されてい
る。この実施の形態において、テープ３８の脚部４１は、バスバー脚部３４の上
に直接設けられ、テープ３８の脚部４０、３９は基板２４のそれぞれの面の端部
及び一部分を覆う。この実施の形態において、バスバー及びテープの双方は、基
板２２に積層する前に基板２４に付与されよう。
【００４７】 図７には、本発明による更なる実施の形態が図示されている。図７の実施の形
態において、ＥＭＩ／ＩＲフィルムが付与された基板は、フラットなパネル又は
その他のディスプレイの前面に接着又はその他の方法で直接付与される。このこ
とは幾つかの有利な点がある。第一に、このことは、追加的な基板層、従ってか
かる層からの表面反射を解消する。従って、このことはディスプレイの光学的性
能を向上させることになる。第二に、被覆した基板をディスプレイの前面に直接
、接着することは、図１に図示したような別異のフィルタに対する取付け機構を
不要にすることになる。第三に、被覆した基板をディスプレイの前面に付与する
結果、より軽量で且つより複雑でないディスプレイ装置となる。
【００４８】 図７を参照すると、ディスプレイが全体として参照番号６５で示されており、
該ディスプレイは、外側フレーム６６と、前面基板６８とを備えている。前面基
板６８に付与すべき被覆した基板は、ガラス又は透明なプラスチックで出来てい
ることが好ましい基板６９を有する。この基板６９は、図７の実施の形態におい
て、像表示側基板と考えられる一方、ディスプレイ６５の基板６８はパネル側基
板と考えられる。図７の実施の形態において、光学フィルム７０は、像表示側基
板６９のパネル側に付与される。好ましい実施の形態において、このフィルム７
０は、上述したように図３のフィルム２７又は図６のフィルム２７´を備えてい
る。所望であるならば、ＡＲ被覆７１は、また、像表示側基板６９の像表示側に
付与してもよい。フィルム７０及び被覆７１が付与された（所望であるならば）
基板６９は、ディスプレイ基板６８の前面に積層され又はその他の方法で接着さ
れる。このことを容易にするため、被覆した基板６９と前面基板６８との間に接
着剤シート７２が配置されて基板を共に接着する。接着剤シート７２は、ポリウ
レタン接着剤、ＰＶＢ、アクリル系又はかかる用途にて一般に接着剤として使用
されるその他の任意の材料から成るものとすることができる。
【００４９】 図８には、本発明による更なる実施の形態が図示されている。図８の実施の形
態において、光学ＥＭＩ／ＩＲ光学フィルム７０が付与された基板６９を厚さが
約１．５２４ｍｍ（約０．０６インチ（６０ミル））、より好ましくは０．６３
５ｍｍ（約０．０２５インチ（２５ミル））以下、最も好ましくは０．３８１ｍ
ｍ（約０．０１５インチ（１５ミル））以下のＰＥＴのような薄いプラスチック
フィルムから成る第二の基板７３に積層されている。好ましいフィルム基板７３
はＰＥＴであるが、ポリカーボネート、アクリル系及びその他のような他のフィ
ルムも使用可能である。フィルム基板７３として使用するのに適した材料は、光
の透過率に悪影響を与えないように光学的に透明であることが好ましい。このフ
ィルタ構造体の全体を次に、図１に図示するように、ディスプレイ装置の前面に
取り付け又はフラットパネル又はその他のディスプレイの前面に接続し又はその
他の方法で直接、付与する。
【００５０】 図８を特に参照すると、ディスプレイは、全体として参照番号６５で示されて
おり、外側フレーム６６と、前面基板６８とを備えている。被覆した基板６９は
、ガラス又は透明なプラスチックで出来ていることが好ましく、図８の実施の形
態において、像表示側基板と考えられる。図８の実施の形態において、光学フィ
ルム７０がスパッタリング等を介して像表示側基板６９のパネル側に付与されて
いる。上述したようにＰＥＴのような薄いプラスチックフィルムの形態による第
二の 基板７３は、次に光学フィルム７０がその間に配置された状態で基板６９に積層
され又はその他の方法で付与される。
【００５１】 １つの実施の形態において、基板６９、７３から成り、その間にフィルム７０
が配置されたこのフィルタ構造体を次に、図１に図示するように、ディスプレイ
６５、及びディスプレイ基板６８の前方に取り付ける。この実施の形態において
、反射防止（ＡＲ）被覆７１を基板６９の像表示側に付与し、図８に図示するよ
うに、ＡＲ被覆７４を基板７３のパネル側に付与することができる。スパッタリ
ングのような技術によりＡＲ被覆をフィルム基板７３に付与するならば、最初に
、スパッタリングしたＡＲ被覆の粘着を促進し得るよう耐磨耗性被覆又は硬い被
覆を基板７３に付与することが好ましい。かかる耐磨耗性被覆は、当該技術分野
で既知であり、特に、熱硬化したシロキサン系被覆及び紫外線被覆したアクリル
系被覆を含むことができる。
【００５２】 更なる実施の形態において、基板６９、７３から成り、その間にフィルム７０
が配置されたフィルタは、ディスプレイ基板６８の前面に接着又はその他の方法
で直接、付与することができる。この接着は、所望であるならば、図示するよう
に、ＰＥＴ基板７３と前面基板６８との間に配置された接着剤シート７２を使用
して行うことができる。この更なる実施の形態において、ＡＲ被覆７４は省略し
てもよい。
【００５３】 フィルタフィルムを第一の基板の上に形成し、その後、該第一の基板を第二の
基板に積層する方法を含む、本発明の方法の特徴は次のように理解することがで
きる。第一に、ガラス又はプラスチックであることが好ましい透明な基板を提供
する。所望であるならば、かかる基板の非被覆側面には、スパッタリング又はそ
の他の蒸着技術により反射防止被覆を付与することができる。幾つかの場合、こ
のことは最終的に、像表示側とする一方、その他の場合には、最終的にパネル側
とすることができる。
【００５４】 これに続いて、複数の誘電層及び導電層から成るフィルム２７（図３）又はフ
ィルム２７´（図６）を反射防止被覆と反対側の基板の側に付与する。反射防止
被覆が何ら付与されていないならば、フィルム２７又は２７´を何れかの面に付
与することができる。好ましくは、フィルム２７又は２７´及びその個別の層は
、上述したようにスパッタリングにより付与する。好ましい実施の形態は基板の
表面に直接、付与されたフィルム２７又は２７´を示すが、フィルムを付与する
前に、更なる材料の１つ又は２つ以上の中間層を基板に付与することもできる。
次に、図２の実施の形態の場合、バスバー３２は、フィルム被覆基板２４の周端
縁の全体に付与される。好ましくは、バスバーの脚部は、段階的に付与する、す
なわち、最初に、脚部３４をフィルム２７又は２７´の外端縁に付与し、脚部３
５を基板２４の外周端縁に付与する。図４の実施の形態において、バスバーを脚
部３４の形態においてのみ付与し、次に、テープ又は部材３８を基板に付与する
。
【００５５】 次に、フィルム被覆した基板を第二の基板２２に積層することが好ましく、こ
の第二の基板には、その積層前又は積層後の何れかにてＡＲ被覆を付与すること
もできる。この積層は、ＡＲ被覆２５の反対側の基板２２の側とフィルム２７又
は２７´を保持する基板２４の側との間に接着剤シート３０を配置することによ
り行われることが好ましい。次に、積層レイアップ部分の全体をそのレイアップ
部分と共に積層するため、適宜な高温及び圧力状態下にてオートクレーブ内に入
れる。好ましい方法において、積層レイアップ部は、約３時間、約１０４．４４
℃（２２０°Ｆ）の温度及び約２７５．７９ｋＰａ（４０ｐｓｉ）の圧力に曝す
。これと代替的に、フィルム被覆した基板２４は、ＰＥＴフィルムのようなプラ
スチックフィルムに付与し又はディスプレイ装置の前面に直接、付与することが
できる。
【００５６】 積層が完了したとき、導電性部材、又はテープ３８は、図２に図示するように
、フィルタ１５の外周端縁部分に付与する。次に、図示するように、接地クリッ
プ又はその他の接地手段１９を部材３８に付与する。
【００５７】 図５の実施の形態において、ＥＭＩ／ＩＲフィルタは層２８、２９により提供
される。具体的には、ＥＭＩ放出を少なくし且つ制限するため、基板２２のパネ
ル又は内側部に導電性ＥＭＩ遮蔽材料層２８を付与し、基板２２、２４の間に接
着剤又は積層層３３、３１を介して赤外線吸収層２９を積層する。
【００５８】 図５の実施の形態において、導電性材料層２８は、図示するように基板２２の
パネル側に付与する。この層２８は、多岐に亙る材料にて形成することが可能で
あるが、この層は許容可能な可視光線透過率を保ちつつ、十分な導電率、従って
十分に低い電気抵抗を提供する導電性構成要素又は層を含むことが好ましい。好
ましくは、導電層２８は、５Ω／平方以下、より好ましくは１．５Ω／平方以下
のシート抵抗を示すようにする。層２８は、電磁干渉（ＥＭＩ）遮蔽効果を提供
し且つ消費者の安全及びその他の規則並びに基準に適合するレベルまでＥＭＩ放
出を減少させることを助ける。この層２８は、また、ＩＲ遮蔽効果を提供し且つ
赤外線の放射量を許容可能なレベルまで減少させるのを助ける。好ましくは、導
電層２８は、基板２２のパネル側の全体に亙って伸びるようにする。この層２８
は、所望であるならば、銀又はインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）のような単一の
導電性材料の層を備え、また、導電性で且つ誘電性であるその他の金属及び材料
並びに導電性でない材料のような追加的な層及び材料を備えることも可能である
。かかる追加的な層及び材料は、赤外線の遮蔽効果及び反射を減少させるのを助
け且つフィルタに対し明暗の向上効果を提供するために設けることができる。こ
のことは、被覆内に色又は着色を導入することで行うことができる。
【００５９】 本発明の層２８は、任意の既知の手段により基板２２に付与することができる
。しかし、好ましくは、導電性材料層２８を形成する１つ又は２つ以上の層は、
銀、金又は銅のような１つ又は２つ以上の金属をスパッタリングし又は反応型ス
パッタリングすることにより付与される。層２８の厚さは、２５００Å以下の範
囲とすることが好ましく、２０００乃至２５００Åの範囲とすることが最も好ま
しい。
【００６０】 層２９は、別個の独立的なフィルムである赤外線吸収フィルムを備え且つ積層
材料３３、３１により基板２２、２４の間に挟持され且つこれらの基板に積層さ
れる。赤外線光学フィルム２９は、着色ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
又は着色ポリウレタンのような近赤外線吸収能力を提供する働きをする任意のフ
ィルムを備えることができる。好ましい実施の形態において、フィルムの厚さ範
囲は、５乃至１０ミルの範囲であり、明暗向上能力を更に含む。このフィルム２
９は、８００ｎｍ乃至１０００ｎｍの範囲の赤外線透過率を好ましくは２０％の
レベルまで減少させる効果がある。これら減少したレベルにおいて、当該パネル
ディスプレイ又はその他の遠隔制御装置の何れかに対する赤外線遠隔制御トラン
スミッタとの干渉は解消される。
【００６１】 好ましい実施の形態における積層材料３３、３１は、ポリウレタン接着剤のシ
ートを備えている。図示するように、１つの接着剤シート３３がフィルム２９と
被覆２８との間に配置される一方、その他のポリウレタン接着剤シート３１はフ
ィルム２９と基板２４の像表示側との間に配置される。ＰＶＢ、アクリル系及び
その他のもののような多数の接着剤又は積層材を使用して、フィルム２９を被覆
した基板２２、２４の間に積層することができるのは勿論である。しかし、選ば
れた特定の接着剤又は積層材は、積層が完了したとき、透明な性質を呈し得るも
のでなければならない。また接着剤を着色し、その他、ＩＲ吸収又は遮蔽能力を
持つようにすることができる。好ましくは、図示するように、層２９、３３、３
１を基板２２、２４の間に配置し、また、これらの層を共に積層するため、約４
時間、適当な温度及び圧力状態下にてオートクレーブに入れる。
【００６２】 層２９を付与する代替的な方法を利用することもできる。例えば、最近登場し
た技術は、被覆した基板２２、２４を隔たった関係に位置決めし且つその隔たっ
た基板の間に赤外線遮蔽又は吸収性材料を受け入れるためのキャビティを形成し
得るように端縁を密封することを伴う。赤外線吸収性材料が内部に組み込まれる
アクリル系のような液体又は流動可能な材料を次に、その基板の間の空間内に導
入し、その材料が基板の全面に亙って流れるようにする。次に、その材料が紫外
線の露光により硬化し又はその他、赤外線吸収層を形成することを許容する。
【００６３】 プラズマディスプレイパネルフィルタを製造する方法を含む、図５の実施の形
態に関する本発明の方法の特徴は、次のように理解することができる。第一に、
ガラス又はプラスチックのような一対の透明な基板を提供する。これら基板の１
つは、最終的に、フィルタの像表示側に配置された像表示側基板２２を形成する
一方、その他の基板は、最終的に、パネル側基板２４を形成する。これらの基板
２２、２４の双方には、それぞれ、スパッタリングにより反射防止被覆２５、２
６が設けられる。
【００６４】 これに続いて、導電性被覆２８の形態によるＥＭＩ遮蔽層を基板２２のパネル
側に付与する。好ましくは、この被覆もまた、スパッタリングにより付与される
。次に、バスバー３２を基板２２の周端縁部分の全体に付与する。好ましくは、
バスバーの脚部は、段階的に付与する、すなわち先ず、脚部３４を被覆２８の外
端縁に付与し、脚部３５を基板２２の外周端縁に付与する。
【００６５】 次に、フィルム２９と基板２２の導電性被覆２８との間に１つの接着剤シート
３３を配置し且つフィルム２９の反対側部と基板２４の像表示側との間に第二の
接着剤積層シート３１を配置することにより、赤外線フィルム２９を被覆した基
板２２、２４の間にて積層する。次に、積層レイアップ部分の全体をそのレイア
ップ部分を共に積層するため適当な高温度及び圧力状態下にてオートクレーブに
入れる。１つの方法において、積層レイアップ部分は、約４時間、約１０４．４
℃（２２０°Ｆ）の温度及び約１．０３４ＭＰａ（１５０ｐ．ｓ．ｉ．）の圧力
に曝す。
【００６６】 積層が完了したとき、脚部３９、４０、４１から成る導電性部材３８は、図５
に図示するように、フィルタ１５の外周端縁部分に付与する。次に、接地チップ
１９を図示するように、部材３８に付与する。
【００６７】 図７の実施の形態に関して、先ず、光学フィルム７０を基板６９の一側部に付
与する。所望であるならば、ＡＲ被覆７１を基板６９の反対側部にも付与する。
付与したならば、被覆７１は、共に、基板６９に対し反射防止特性を付与する複
数の個別の層から成ることが好ましい。次に、基板６９を接着剤シート７２又は
その他の何らかの他の接着手段によりディスプレイ基板６８の前面に接着する。
最後に、その他の実施の形態に関して上述したのと同様の方法にて電気的接続及
び／又は接地接続が為される。
【００６８】 図８の実施の形態を参照すると、この方法は、光学フィルム７０を第一の基板
６９の一側部に付与することを含む。所望であるならば、ＡＲ被覆７１を基板６
９の反対側部に付与することができる。次に、ＰＥＴ又はその他の光学的に透明
なフィルムのような薄いプラスチックフィルムの形態とした第二の基板７３は、
その間に、光学フィルム７０が配置された状態にて第一の基板６９に積層する。
次に、図１に図示するように、フィルタ構造体の全体をディスプレイ６５の前側
に取り付け、又は、接着剤シート７２又はその他の何らかの接着技術によりディ
スプレイ基板６８の前面に直接、接着する。ＡＲ被覆７４をフィルム基板７３に
付与すべきであるならば、最初に、耐磨耗性被覆を付与することが好ましい。
【００６９】 好ましい実施の形態及び方法の説明は、極めて特定的ではあるが、本発明の精
神から逸脱せずに、色々な改変例が具体化可能であると考えられる。例えば、プ
ラズマディスプレイ装置に関して好ましい実施の形態を説明したが、特定の特徴
は、より広い適用例が可能である。例えば、銀又はその他の導電性材料用の追加
的な保護層は、ディスプレイ装置以外の用途が可能である。全体として、導電層
の酸化又はその他の劣化が問題となる任意の用途は、本発明のこの特徴を使用す
ることができる。従って、本発明の範囲は、好ましい実施の形態及び方法の説明
ではなくて、特許請求の範囲により判断されるべきであると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明によるプラズマディスプレイパネル及び関係したフィルタの等角図的な
分解図である。
【図２】 図１の線２−２に沿って見たときのプラズマディスプレイパネルフィルタの１
つの実施の形態の部分断面図とした拡大図である。
【図３】 本発明によるＥＭＩ／ＩＲ光学フィルムの概略図的な断面図である。
【図４】 更なるプラズマディスプレイパネルフィルタの図２と同様の図である。
【図５】 プラズマディスプレイパネルフィルタの別の実施の形態の図２と同様の部分断
面図とした拡大図である。
【図６】 本発明による遮蔽フィルタの更なる実施の形態の概略図的な断面図である。
【図７】 ディスプレイの前面に直接、被覆した基板を付与する状態を示す図である。
【図８】 プラスチックマフィルムから成る第二の基板に被覆した基板を積層する状態を
示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 5/72 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ， ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，Ｃ Ｚ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ， ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，Ｌ Ｒ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ， ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，Ｔ Ｒ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 カーター，チャド・ジェイ アメリカ合衆国ミネソタ州55021，ファリ ボー，ワンハンドレッドアンドエイティ ス・ストリート・ウエスト 8915 (72)発明者 チャヴィス，ジョセフ・ダブリュー アメリカ合衆国ミネソタ州55021，ファリ ボー，ノース・ウエスト・セカンド・アベ ニュー 1230 (72)発明者 クルーマン，ブルース・イー アメリカ合衆国カリフォルニア州95405， サンタ・ロサ，ユルパ・サークル 178 (72)発明者 ココシュク，ジェフリー・エル アメリカ合衆国ミネソタ州55021，ファリ ボー，プレーリー・アベニュー 908 Ｆターム(参考） 2H048 CA04 CA12 CA19 2K009 AA02 AA15 BB24 CC03 CC12 DD04 EE03 5C058 DA03 DA08 5G435 AA02 AA17 BB06 FF14 GG11 GG33 GG34 HH01 HH03 HH12 HH16 KK07

Claims (71)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光学フィルタにおいて、 第一の側部及び第二の側部を有する透明な基板と、 該第一及び第二の側部の一方に付与された多層フィルムであって、少なくとも
    １つの導電層と、ニオブ五酸化物から成る少なくとも１つの誘電層と、該誘電層
    及び導電層の間に配置された保護層とを備え、該保護層が、酸化チタンから成る
    第一の層と、ニオブ五酸化物以下のプラズマエネルギレベルを有する材料の第二
    の層とから成る前記多層フィルムとを備える、光学フィルタ。
  2. 【請求項２】 請求項１の光学フィルタにおいて、前記第二の層がスズ酸化
    物である、光学フィルタ。
  3. 【請求項３】 請求項２の光学フィルタにおいて、前記酸化チタンが前記導
    電層に隣接し、前記スズ酸化物が前記誘電層に隣接する、光学フィルタ。
  4. 【請求項４】 請求項３の光学フィルタにおいて、前記導電層が銀である、
    光学フィルタ。
  5. 【請求項５】 請求項４の光学フィルタにおいて、複数の導電層と、該導電
    層と交番的に配置される複数の誘電層とを含む、光学フィルタ。
  6. 【請求項６】 請求項１の光学フィルタにおいて、複数の導電層と、該導電
    層と交番的に配置される複数の誘電層とを含む、光学フィルタ。
  7. 【請求項７】 基板に直接又は間接的に付与される多層光学フィルムにおい
    て、 各々が基板に面する面と、基板から反対方向を向く面とを有する複数の誘電層
    と、 該誘電層の各々の隣接するものどうしの間における導電材料層であって、基板
    に面する面と、該基板から反対方向を向く面とを有する前記導電材料層と、 基板から反対方向を向く前記導電材料層の面と、それに隣接する基板に面する
    誘電材料層の面との間に付与された第一及び第二の保護材料層とを備える、多層
    光学フィルム。
  8. 【請求項８】 請求項７の光学フィルムにおいて、前記誘電材料層の少なく
    とも１つがニオブ五酸化物である、光学フィルム。
  9. 【請求項９】 請求項７の光学フィルムにおいて、前記第一の保護材料が酸
    化チタンであり且つ前記導電材料層に隣接する、光学フィルム。
  10. 【請求項１０】 請求項９の光学フィルムにおいて、前記第二の保護材料層
    がスズ酸化物（ＳｎＯ2）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ2）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ2
    ）の１つ又は２つ以上である、光学フィルム。
  11. 【請求項１１】 請求項９の光学フィルムにおいて、前記酸化チタンが前記
    導電層に隣接し、前記第二の保護材料が前記誘電層に隣接するスズ酸化物である
    、光学フィルム。
  12. 【請求項１２】 請求項１１の光学フィルムにおいて、前記導電性材料層が
    銀である、光学フィルム。
  13. 【請求項１３】 請求項１２の光学フィルムにおいて、複数の導電層と、該
    導電層と交番的に配置される複数の誘電層とを含む、光学フィルム。
  14. 【請求項１４】 請求項７の光学フィルムにおいて、 前記基板に付与された第一の誘電層と、 前記第一の誘電層よりも前記基板から更に離れた位置に配置された１つ又は２
    つ以上の第二の誘電層と、 前記基板から最も離れた位置に配置された第三の誘電層と、 前記１つ又は２つ以上の誘電材の間、前記第一の誘電層及び第二の誘電層の間
    、前記第三の誘電層及び第二の誘電層の間における導電性材料層とを備える、光
    学フィルム。
  15. 【請求項１５】 請求項１４の光学フィルムにおいて、前記第一及び第三の
    誘電層が約４５０ｎｍ乃至６５０ｎｍの波長にて約０．４乃至０．８の範囲の光
    学厚さを有し、前記１つ又は２つ以上の第二の誘電層の各々が約４５０ｎｍ乃至
    ６５０ｎｍの波長にて約０．７乃至１．５の範囲の光学厚さを有し、前記導電性
    材料層の各々が約５ｎｍ乃至２０ｎｍの範囲の厚さを有する、光学フィルム。
  16. 【請求項１６】 光学フィルタの製造方法において、 第一の側部及び第二の側部を有する透明な基板を提供するステップと、 多層フィルムを前記透明な基板の前記第一及び第二の側部の一方に付与するス
    テップとを備え、前記フィルムが、少なくとも１つの導電層と、少なくとも１つ
    の誘電層と、該導電層及び該誘電層の間の第一及び第二の層から成る少なくとも
    １つの保護層とを備え、 前記付与ステップが、導電層を前記第一の透明な基板又は誘電層の前記一方の
    側部に付与することを含むことと、前記第一の層を前記導電層に付与することと
    、前記第二の層を前記第一の層に付与することと、前記誘電層を前記第二の層に
    付与することとを含む、方法。
  17. 【請求項１７】 請求項１６の方法において、前記誘電層がニオブ五酸化物
    であり、前記第一の層がチタンである、方法。
  18. 【請求項１８】 請求項１７の方法において、前記第二の層がニオブ五酸化
    物以下のプラズマエネルギレベルを有する材料である、方法。
  19. 【請求項１９】 請求項１８の方法において、前記導電層が銀である、方法
    。
  20. 【請求項２０】 請求項１６の方法において、前記透明な基板の前記第二の
    側部に反射防止被覆を付与することを含む、方法。
  21. 【請求項２１】 請求項１６の方法において、前記透明な基板が第一の基板
    であり、該第一の基板を第二の透明な基板に積層することを含む、方法。
  22. 【請求項２２】 請求項１６の方法において、前記透明な基板が第一の基板
    であり、 第一の側部及び第二の側部を有する第二の透明な基板を提供することと、 前記フィルムの外面を画成し得るように接着剤適合層を前記誘電層に付与する
    ことと、 前記第一の透明な基板の前記一側部が前記第二の透明な基板の前記第一の側部
    に面し且つ前記接着剤が前記第二の透明な基板と前記接着剤適合層との間に配置
    された状態で前記第一及び第二の透明な基板を共に積層することとを更に含む、
    方法。
  23. 【請求項２３】 請求項２２の方法において、前記接着剤適合層がケイ素系
    組成物である、方法。
  24. 【請求項２４】 請求項２３の方法において、前記誘電層がニオブ五酸化物
    であり、前記接着剤適合層が二酸化ケイ素である、方法。
  25. 【請求項２５】 請求項１６の方法において、前記フィルムがスパッタリン
    グにより付与される、方法。
  26. 【請求項２６】 光学フィルムの製造方法において、 第一の側部及び第二の側部を有する基板を提供するステップと、 スパッタリングにより導電性材料層を前記基板の一側部に付与し又は前記基板
    に付与された誘電材に付与するステップと、 スパッタリングにより第一の保護層を前記導電性材料に付与するステップと、 スパッタリングにより第二の保護層を前記第一の保護層に付与するステップと
    、 スパッタリングにより誘電層を前記第二の保護層に付与するステップとを備え
    る、方法。
  27. 【請求項２７】 請求項２６の方法において、前記誘電材がニオブ五酸化物
    であり、前記第一の保護層がチタンである、方法。
  28. 【請求項２８】 請求項２７の方法において、前記第二の保護層がスズ酸化
    物、亜鉛酸化物及び二酸化ケイ素の１つである、方法。
  29. 【請求項２９】 請求項２８の方法において、前記導電性材料層が銀である
    、方法。
  30. 【請求項３０】 請求項２６の方法において、前記基板の前記一側部が誘電
    層を備える、方法。
  31. 【請求項３１】 光学フィルムの構成要素において、 導電性材料層と、 該導電性材料層に付与された酸化チタン層と、 該酸化チタン層に付与されたスズ酸化物、亜鉛酸化物及び二酸化ケイ素の層と
    、 前記スズ酸化物、亜鉛酸化物及び二酸化ケイ素の１つの前記層に付与された誘
    電性材料層とから成る、光学フィルムの構成要素。
  32. 【請求項３２】 光学ディスプレイにおいて、 第一の側部及び第二の側部を有する透明な第一の基板と、 前記第一及び第二の側部の一方に付与された多層の光学フィルムであって、少
    なくとも１つの導電層と、少なくとも１つの誘電層と、該誘電層及び該導電層の
    間に配置された保護層とを備える前記多層の光学フィルムと、 前記ディスプレイの前面から成る第二の基板であって、前記第一の基板が直接
    接着され、前記光学フィルムがその間に配置された前記第二の基板とを備える、
    光学ディスプレイ。
  33. 【請求項３３】 請求項３２のディスプレイにおいて、前記保護層が第一及
    び第二の保護材料層から成る、ディスプレイ。
  34. 【請求項３４】 請求項３３のディスプレイにおいて、前記絶縁材料がニオ
    ブ五酸化物から成る、ディスプレイ。
  35. 【請求項３５】 請求項３４のディスプレイにおいて、前記第一の保護層が
    酸化チタンであり、前記第二の層がニオブ五酸化物以下のプラズマエネルギレベ
    ルを有する材料から成る、ディスプレイ。
  36. 【請求項３６】 請求項３５の光学フィルタにおいて、前記第二の層がスズ
    酸化物である、光学フィルタ。
  37. 【請求項３７】 請求項３６の光学フィルタにおいて、前記酸化チタンが前
    記導電層に隣接し、前記スズ酸化物が前記誘電層に隣接する、光学フィルタ。
  38. 【請求項３８】 請求項３７の光学フィルタにおいて、前記導電層が銀であ
    る、光学フィルタ。
  39. 【請求項３９】 請求項３８の光学フィルタにおいて、複数の導電層と、該
    導電層と交番的に配置される複数の誘電層とを含む、光学フィルタ。
  40. 【請求項４０】 請求項３２の光学フィルタにおいて、複数の導電層と、該
    導電層と交番的に配置される複数の誘電層とを含む、光学フィルタ。
  41. 【請求項４１】 請求項３５の光学フィルムにおいて、前記第二の保護材料
    層がスズ酸化物（ＳｎＯ2）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ2）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ 2 ）の１つ又は２つ以上である、光学フィルム。
  42. 【請求項４２】 請求項４１の光学フィルムにおいて、前記酸化チタンが前
    記導電層に隣接し、前記第二の保護材料が前記誘電層に隣接する、光学フィルム
    。
  43. 【請求項４３】 請求項４２の光学フィルムにおいて、前記導電性材料層が
    銀である、光学フィルム。
  44. 【請求項４４】 請求項４３の光学フィルムにおいて、複数の導電層と、該
    導電層と交番的に配置される複数の誘電層とを含む、光学フィルム。
  45. 【請求項４５】 光学フィルタを有するディスプレイの製造方法において、 第一の側部及び第二の側部を有する透明な基板を提供することと、 該透明な基板の前記第一及び第二の側部の一方に多層光学フィルムを付与し、
    該光学フィルムが少なくとも１つの導電層と、少なくとも１つの誘電層と、該導
    電層及び該誘電層の間の少なくとも１つの保護層とを備えるようにすることと、 その前面を形成する第二の基板を有するディスプレイを提供することと、 前記第一の基板をその間に前記光学フィルムが配置された状態にて前記第二の
    基板に直接取り付けることとを備える、製造方法。
  46. 【請求項４６】 請求項４５の方法において、前記保護層が第一及び第二の
    層から成る、方法。
  47. 【請求項４７】 請求項４６の方法において、前記付与するステップが、導
    電層を前記第一の透明な基板の前記一側部に付与し又は前記第一の基板に付与さ
    れた誘電層に付与することと、前記第一の層を前記導電層に付与することと、前
    記第二の層を前記第一の層に付与することと、前記誘電層を前記第二の層に付与
    することとを含む、方法。
  48. 【請求項４８】 請求項４７の方法において、前記誘電層がニオブ五酸化物
    であり、前記第一の層がチタンである、方法。
  49. 【請求項４９】 請求項４８の方法において、前記第二の層がニオブ五酸化
    物以下のプラズマエネルギレベルを有する材料である、方法。
  50. 【請求項５０】 請求項４９の方法において、前記導電層が銀である、方法
    。
  51. 【請求項５１】 請求項５０の方法において、前記第二の層がスズ酸化物（
    ＳｎＯ2）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ2）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）の１つ又は２
    つ以上である、方法。
  52. 【請求項５２】 光学ディスプレイにおいて、 第一及び第二の側部を有する透明な第一の基板と、 前記第一及び第二の側部の一方に付与された多層の光学フィルムであって、少
    なくとも１つの導電層と、少なくとも１つの誘電層と、該誘電層及び該導電層の
    間に配置された保護層とから成る前記多層の光学フィルムと、 前記光学フィルムがその間に配置された状態で前記第一の基板に積層された約
    ０．１５２４ｃｍ（０．０６インチ）以下の厚さを有する薄いプラスチックフィ
    ルムから成る第二の基板とを備える、光学ディスプレイ。
  53. 【請求項５３】 請求項５２のディスプレイにおいて、前記プラスチックフ
    ィルムがＰＥＴである、ディスプレイ。
  54. 【請求項５４】 請求項５３のディスプレイにおいて、前記保護層が第一及
    び第二の保護材料層から成る、ディスプレイ。
  55. 【請求項５５】 請求項５４のディスプレイにおいて、前記誘電材がニオブ
    五酸化物から成る、ディスプレイ。
  56. 【請求項５６】 請求項５５のディスプレイにおいて、前記第一の保護層が
    酸化チタンであり、前記第二の層がニオブ五酸化物以下のプラズマエネルギレベ
    ルを有する材料から成る、ディスプレイ。
  57. 【請求項５７】 請求項５６の光学フィルタにおいて、前記第二の層がスズ
    酸化物である、光学フィルタ。
  58. 【請求項５８】 請求項５７の光学フィルタにおいて、前記酸化チタンが前
    記導電層に隣接し、前記スズ酸化物が前記誘電層に隣接する、光学フィルタ。
  59. 【請求項５９】 請求項５８の光学フィルタにおいて、前記導電層が銀であ
    る、光学フィルタ。
  60. 【請求項６０】 請求項５２の光学フィルタにおいて、前記第二の基板が約
    ０．０６３５ｃｍ（０．０２５インチ）以下の厚さを有する、光学フィルタ。
  61. 【請求項６１】 請求項５６の光学フィルムにおいて、前記第二の保護材料
    層がスズ酸化物（ＳｎＯ2）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ2）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ 2 ）の１つ又は２つ以上である、光学フィルム。
  62. 【請求項６２】 請求項６１の光学フィルムにおいて、前記酸化チタンが前
    記導電層に隣接し、前記第二の保護材料が前記誘電層に隣接する、光学フィルム
    。
  63. 【請求項６３】 請求項６２の光学フィルムにおいて、前記導電性材料層が
    銀である、光学フィルム。
  64. 【請求項６４】 請求項６３の光学フィルムにおいて、複数の導電層と、該
    導電層と交番的に配置される複数の誘電層とを含む、光学フィルム。
  65. 【請求項６５】 光学フィルタの製造方法において、 第一の側部及び第二の側部を有する透明な基板を提供することと、 該透明な基板の前記第一及び第二の側部の一方に多層光学フィルムを付与し、
    該光学フィルムが少なくとも１つの導電層と、少なくとも１つの誘電層と、該導
    電層及び該誘電層の間の少なくとも１つの保護層とを備えるようにすることと、 その間に前記光学フィルムが配置された状態にて第二の基板を前記第一の基板
    に積層し、前記第二の基板が０．１５２４ｃｍ（０．０６インチ）以下の厚さを
    有する薄いプラスチックフィルムから成るようにすることとを備える、製造方法
    。
  66. 【請求項６６】 請求項６５の方法において、前記プラスチックフィルムが
    ＰＥＴである、方法。
  67. 【請求項６７】 請求項６６の方法において、前記保護層が第一及び第二の
    層から成る、方法。
  68. 【請求項６８】 請求項６７の方法において、前記付与するステップが、導
    電層を前記第一の透明な基板の前記一側部に付与し又は前記第一の基板に付与さ
    れた誘電層に付与することと、前記第一の層を前記導電層に付与することと、前
    記第二の層を前記第一の層に付与することと、前記誘電層を前記第二の層に付与
    することとを含む、方法。
  69. 【請求項６９】 請求項６８の方法において、前記誘電層がニオブ五酸化物
    であり、前記第一の層がチタンであり、前記第二の層がニオブ五酸化物以下のプ
    ラズマエネルギレベルを有する材料である、方法。
  70. 【請求項７０】 請求項６９の方法において、前記導電層が銀であり、前記
    第二の層がスズ酸化物（ＳｎＯ2）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ2）及び二酸化ケイ素（
    ＳｉＯ2）の１つ又は２つ以上である、方法。
  71. 【請求項７１】 請求項６５の方法において、光学フィルタをディスプレイ
    の前面に付与することを含む、方法
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