CN110442268A - 柔性触控屏及其制造方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种柔性触控屏及其制造方法、显示装置。柔性触控屏包括：衬底基板，具有相对的第一表面和第二表面；第一导电层，设于所述衬底基板的第一表面上；第二导电层，设于所述衬底基板的第二表面上；第一增透膜层，设于所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧；以及第二增透膜层，设于所述第二导电层的远离所述衬底基板的一侧。在柔性触控屏的第一表面和第二表面分别设置第一增透膜层和第二增透膜层，其中的二氧化硅膜层或二氧化钛膜层与五氧化二铌膜层对光的相消性干涉可以增加柔性触控屏的光的通过率，从而减小柔性触控屏的雾度，进而增强显示装置的显示效果。

Description

柔性触控屏及其制造方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示领域，特别是涉及一种柔性触控屏及其制造方法、显示装置。

背景技术

随着技术的发展，电子触控产品越来越多的得到使用者的青睐，如手机、数码相机、笔记本电脑和平板电脑等。

一般地，柔性触控屏包括衬底基板、设于衬底基板上的导电层以及设于导电层的远离衬底基板的一侧的保护层。传统地，纳米银线因其优良的导电性、纳米级别的尺寸效应、优异的透光性和可挠性被广泛地用于形成导电层。然而，由于纳米银线的线性较强，在灯光等强光的照射下均能看到起颗粒外形，并形成反光。若仍采用传统的保护层，传统的保护层虽然具有透射效果，但其透射效果较差，从而使得柔性触控屏的雾度较大。

发明内容

基于此，有必要提供一种可以减小雾度的柔性触控屏。

一种柔性触控屏，包括：

衬底基板，具有相对的第一表面和第二表面；

第一导电层，设于所述衬底基板的第一表面上；

第二导电层，设于所述衬底基板的第二表面上；

第一增透膜层，设于所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧；所述第一增透膜层包括设于所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧的第一二氧化硅膜层、以及设于所述第一二氧化硅膜层的远离所述第一导电层的一侧的第一五氧化二铌膜层；或所述第一增透膜层包括设于所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧的第一二氧化钛膜层、以及设于所述第一二氧化钛膜层的远离所述第一导电层的一侧的第一五氧化二铌膜层；

以及第二增透膜层，设于所述第二导电层的远离所述衬底基板的一侧；所述第二增透膜层包括设于所述第二导电层的远离所述衬底基板的一侧的第二二氧化硅膜层、以及设于所述第二二氧化硅膜层的远离所述第二导电层的一侧第二五氧化二铌膜层；或所述第二增透膜层包括设于所述第二导电层的远离所述衬底基板的一侧的第二二氧化钛膜层、以及设于所述第二二氧化钛膜层的远离所述第二导电层的一侧的第二五氧化二铌膜层。

上述柔性触控屏，在柔性触控屏的第一表面和第二表面分别设置第一增透膜层和第二增透膜层，其中的二氧化硅膜层或二氧化钛膜层与五氧化二铌膜层对光的相消性干涉可以增加柔性触控屏的光的通过率，从而减小柔性触控屏的雾度，进而增强显示装置的显示效果。

在其中一个实施例中，所述第一增透膜层还包括设于所述第一五氧化二铌膜层的远离所述第一导电层的一侧的第三二氧化硅膜层或第三二氧化钛膜层，且/或所述第二增透膜层还包括设于所述第二五氧化二铌膜层的远离所述第二导电层的一侧的第四二氧化硅膜层或第四二氧化钛膜层。

在其中一个实施例中，所述第一二氧化硅膜层和所述第二二氧化硅膜层的厚度为66nm～72nm；所述第一二氧化钛膜层和所述第二二氧化钛膜层的厚度为66nm～72nm；所述第一五氧化二铌膜层和所述第二五氧化二铌膜层的厚度为5nm～10nm。

在其中一个实施例中，所述衬底基板为柔性衬底基板。

在其中一个实施例中，所述衬底基板的第一表面和第二表面均具有刻痕。

在其中一个实施例中，所述衬底基板的第一表面和第二表面的粗糙度为0.03μm～0.04μm。

在其中一个实施例中，所述第一导电层和所述第二导电层包括按照体积份数的如下组份：

石墨烯 10份～20份；

以及纳米银分散液 80份～90份。

本发明还提供一种显示装置。

一种显示装置，包括本发明提供的柔性触控屏。

上述显示装置，包括本发明提供的柔性触控屏，在柔性触控屏的第一表面和第二表面分别设置第一增透膜层和第二增透膜层，其中的二氧化硅膜层或二氧化钛膜层与五氧化二铌膜层对光的相消性干涉可以增加柔性触控屏的光的通过率，从而减小柔性触控屏的雾度，进而增强显示装置的显示效果。

本发明还提供一种柔性触控屏的制造方法。

一种柔性触控屏的制造方法，包括步骤：

清洁衬底基板；

对衬底基板的第一表面和第二表面进行图案化处理，以增加第一表面和第二表面的粗糙度；

在衬底基板的第一表面和第二表面上分别形成第一导电层和第二导电层；

在第一导电层和第二导电层上分别溅镀形成第一增透膜层和第二增透膜层。

上述柔性触控屏的制造方法制得的柔性触控屏，在柔性触控屏的第一表面和第二表面分别设置第一增透膜层和第二增透膜层，其中的二氧化硅膜层或二氧化钛膜层与五氧化二铌膜层对光的相消性干涉可以增加柔性触控屏的光的通过率，从而减小柔性触控屏的雾度，进而增强显示装置的显示效果。

在其中一个实施例中，在衬底基板的第一表面和第二表面上分别形成第一导电层和第二导电层的步骤的操作为：

在衬底基板的第一表面和第二表面分别涂覆一层导电膜；

采用激光干刻的方式将两层导电膜图案化，以分别形成第一导电层和第二导电层。

附图说明

图1为本发明一实施例提供的柔性触控屏的截面示意图。

图2为本发明另一实施例提供的柔性触控屏的截面示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

如图1所示，本发明一实施例提供的柔性触控屏100，其包括具有相对的第一表面111和第二表面113的衬底基板110、设于衬底基板110的第一表面111上的第一导电层130、设于衬底基板110的第二表面113上的第二导电层150、设于第一导电层130的远离衬底基板110的一侧的第一增透膜层170以及设于第二导电层150的远离衬底基板110的一侧第二增透膜层190。

其中，本实施例中，第一增透膜层170包括设于第一导电层130的远离衬底基板110的一侧的第一二氧化硅膜层171、以及设于第一二氧化硅膜层171的远离第一导电层130的一侧的第一五氧化二铌膜层173。第二增透膜层190包括设于第二导电层150的远离衬底基板110的一侧的第二二氧化硅膜层191、以及设于第二二氧化硅膜层191的远离第二导电层150的一侧第二五氧化二铌膜层193。

换言之，第一增透膜层170和第二增透膜层190均包括层叠设置的二氧化硅膜层和五氧化二铌膜层，且五氧化二铌膜层设于二氧化膜层的远离衬底基板110的一侧。

二氧化硅膜层与五氧化二铌膜层对光的相消性干涉可以可以减小柔性触控屏的光的反射率，即可以增加柔性触控屏100的光的通过率，从而减小柔性触控屏100的雾度，进而增强显示装置的显示效果。

另外，二氧化钛膜层与五氧化二铌膜层对光的相消性干涉也可以减小柔性触控屏的光的反射率，即可以增加柔性触控屏的光的通过率，从而减小柔性触控屏的雾度，进而增强显示装置的显示效果。因此，可以将柔性触控屏100中的二氧化硅膜层替换成二氧化钛膜层。

具体地，在另外的实施例中，第一增透膜层包括设于第一导电层的远离衬底基板的一侧的第一二氧化钛膜层、以及设于第一二氧化钛膜层的远离第一导电层的一侧的第一五氧化二铌膜层。同样地，第二增透膜层包括设于第二导电层的远离衬底基板的一侧的第二二氧化钛膜层、以及设于第二二氧化钛膜层的远离第二导电层的一侧的第二五氧化二铌膜层。

本实施例中，第一二氧化硅膜层171和第二二氧化硅膜层191的厚度为66nm～72nm，第一五氧化二铌膜层173和第二五氧化二铌膜层193的厚度为5nm～10nm，以在不过度增加柔性触控屏100厚度的情况下，尽可能多的增加柔性触控屏100的光的透过率，即尽可能少的减少柔性触控屏100的雾度。具体地，本实施例中，第一增透膜层170和第二增透膜层190的设置，可使柔性触控屏100的光的反射率控制在2％以下，柔性触控屏100的光的透过率达到95％，柔性触控屏100的雾度减小至0.5。

可以理解的是，在另外的实施例中，若将二氧化硅膜层替换为二氧化钛膜层，也可以达到相同的效果。即在另外的实施例中，第一二氧化钛膜层和第二二氧化钛膜层的厚度为30nm～40nm，第一五氧化二铌膜层和第二五氧化二铌膜层的厚度为5nm～10nm时，也能将柔性触控屏的雾度减小至0.5。

另外，二氧化硅膜层或二氧化钛膜层和五氧化二铌膜层层叠设置得到的增透膜层的硬度超过8H，进而有效防止柔性触控屏因受外力作用而被划伤，有效增加柔性触控屏的使用寿命。

本实施例中，衬底基板110为柔性衬底基板，例如PET(PolyethyleneTerephthalate，聚对苯二甲酸类塑料)基板、TAC(Triacetyl Cellulose，三醋酸纤维素)基板、PC(Polycarbonate，聚碳酸酯)基板、COP(Coefficient Of Performance，制热能效比)基板或PI(Polyimide，聚酰亚胺)基板等。可选地，衬底基板的厚度为400μm～500μm，既能有效避免衬底基板100太薄而强度不够，也能有效避免衬底基板100太厚而柔性不足。

当然，可以理解的是，在另外的实施例中，衬底基板不限于柔性衬底基板，还可以是玻璃基板等非柔性衬底基板。

需要说明的是，衬底基板110为柔性衬底基板，柔性衬底基板的表面光滑，从而大大降低了第一导电层130和第二导电层150在衬底基板110上的附着力，因此很容易导致第一导电层130和第二导电层150与衬底基板110之间出现开裂的现象，严重的导致第一导电层130和第二导电层150从衬底基板110上滑脱。

为解决上述问题，本实施例中，衬底基板110的第一表面111和第二表面113均具有刻痕，即增加衬底基板110的第一表面111和第二表面113的粗糙度，从而增加第一导电层130和第二导电层150在衬底基板110上的附着力，从而有效防止第一导电层130和第二导电层150与衬底基板110之间出现开裂的现象，进而有效防止第一导电层130和第二导电层150从衬底基板110上滑脱。进一步地，衬底基板110的第一表面111和第二表面113的粗糙度为0.03μm～0.04μm，即不损坏基板，也不会过多的影响衬底基板的强度，还能较大地提高第一导电层130和第二导电层150在衬底基板110上的附着力。

可选地，衬底基板110的第一表面111和第二表面113的粗糙度为0.035μm，可使得第一导电层130和第二导电层150分别在第一表面111和第二表面113上的附着力提高至原来的3倍。

可选地，第一导电层130和第二导电层150包括按照体积份数的如下组分：

石墨烯 10份～20份；

以及纳米银分散液 80份～90份。

石墨烯中的碳原子面可弯曲，从而使得碳原子不必重新排列即可适应外力，从而保持石墨烯结构的稳定性。将石墨烯加入纳米银分散液，利用石墨烯本身的韧性、高导电性等优点，通过石墨烯表面和边缘引入官能团，为纳米银粒子的附着提供了位置，可以使得石墨烯和纳米银粒子相互促进分散。即石墨烯的加入可以增加第一导电层130和第二导电层150的耐弯折性能，还能减小第一导电层130和第二导电层150在弯曲是的电阻变化率，从而提高第一导电层130和第二导电层150的寿命。

另外地，石墨烯的加入还能提高导电层的导电性。

具体地，本实施例中，石墨烯和纳米银分散液的按照质量份数的组分分别为15份和85份。

可以理解的是，第一导电层130和第二导电层150分别为用以接收信号的接收层和用以发射信号的发射层。

需要说明的是，第一增透膜层和第二增透膜层不限于仅包含一层二氧化硅膜层或二氧化钛膜层和一层五氧化二铌膜层。

例如，如图2所示，本发明另一实施例提供的柔性触控屏200，其与柔性触控屏100不同的是，第一增透膜层270还包括设于第一五氧化二铌膜层273的远离第一导电层230的一侧的第三二氧化硅膜层275，第二增透膜，290还包括设于第二五氧化二铌膜层293的远离第二导电层250的一侧的第四二氧化硅膜层295。

换言之，第一增透膜层270和第二增透膜层290的外侧均增加了一层二氧化硅膜层，即第一增透膜层270和第二增透膜层290均包括依次设置的二氧化硅膜层、五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层。二氧化硅膜层、五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层对光的相消性干涉可以更好地增加柔性触控屏200的光的通过率，从而减小柔性触控屏200的雾度。

当然，在另外的实施例中，还可以再在第一增透膜层和第二增透膜层的外侧增加一层五氧化二铌膜层，依此类推。换言之，第一增透膜层和第二增透膜层包括若干层间隔层叠设置的二氧化硅膜层和五氧化二铌膜层。

当然，在另外的实施例中，也可以将第三二氧化硅膜层275和第四二氧化硅膜层295中的一层或全部替换成二氧化钛膜层。例如，在另外的实施例中，第一增透膜层还包括设于第一五氧化二铌膜层的远离第一导电层的一侧的第三二氧化钛膜层，第二增透膜层还包括设于第二五氧化二铌膜层的远离第二导电层的一侧的第四二氧化钛膜层。

本实施例中，第一增透膜层270和第二增透膜层290的层结构完全相同。可以理解的是，在另外的实施例中，第一增透膜层270和第二增透膜层290的层结构也可以不同。

本发明一实施例还提供一种显示装置，其包括本发明提供的柔性触控屏。当然，显示装置还包括显示面板和显示盖板等。

具体地，显示装置可以是手机、数码相机、笔记本电脑和平板电脑等。

上述显示装置，包括本发明提供的柔性触控屏，在柔性触控屏的第一表面和第二表面分别设置第一增透膜层和第二增透膜层，其中的二氧化硅膜层或二氧化钛膜层与五氧化二铌膜层对光的相消性干涉可以增加柔性触控屏的光的通过率，从而减小柔性触控屏的雾度，进而增强显示装置的显示效果。

本发明一实施例还提供一种柔性触控屏的制造方法，其包括步骤：

S01、清洁衬底基板。

具体地，本实施例中，步骤S01的操作为：先对衬底基板进行擦洗，然后放入超声波中进行离子水超洗、纯酒精中超洗，最后将衬底基板放在酒精蒸汽中进行干燥。当衬底基板由蒸汽中取出时，凝结在衬底基板表面的蒸汽蒸发，得以快速干燥。

当然，在另外的实施例中，衬底基板还可以采用其它方式进行清洗。

S02、对衬底基板的第一表面和第二表面进行图案化处理，以增加衬底基板表面的粗糙度。

具体地，本实施例中，步骤S02的操作可以为：可以将衬底基板放入连接射频电源、且功率在75W左右的氧气的气体分为中，持续3min至10min，以增加衬底基板的第一表面和第二表面的粗糙度。

S03、在衬底基板的第一表面和第二表面上分别形成第一导电层和第二导电层。

具体地，本实施例中，步骤S03的操作为：

S031、在衬底基板的第一表面和第二表面分别涂覆一层导电膜。

一般地，导电膜的厚度控制在85nm～100nm，既能有效保证导电膜的强度，还能保证其柔软性，还能保证其光的透过率大于95％。

另外，本实施例中，导电膜是石墨烯和纳米银分散液，在常温下搅拌形成的。可选地，石墨烯和纳米银分散液的按照质量份数的组分分别为15份和85份。

S032、采用激光干刻的方式将两层导电膜图案化，以分别形成第一导电层和第二导电层。

S04、在第一导电层上溅镀形成第一增透膜层；在第二导电层上溅镀形成第二增透膜层。

上述柔性触控屏的制造方法制得的柔性触控屏，在柔性触控屏的第一表面和第二表面分别设置第一增透膜层和第二增透膜层，其中的二氧化硅膜层或二氧化钛膜层与五氧化二铌膜层对光的相消性干涉可以增加柔性触控屏的光的通过率，从而减小柔性触控屏的雾度，进而增强显示装置的显示效果。

上述柔性触控屏，在柔性触控屏的第一表面和第二表面分别设置第一增透膜层和第二增透膜层，其中的二氧化硅膜层或二氧化钛膜层与五氧化二铌膜层对光的相消性干涉可以增加柔性触控屏的光的通过率，从而减小柔性触控屏的雾度，进而增强显示装置的显示效果。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种柔性触控屏，其特征在于，包括：

衬底基板，具有相对的第一表面和第二表面；

第一导电层，设于所述衬底基板的第一表面上；

第二导电层，设于所述衬底基板的第二表面上；

第一增透膜层，设于所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧；所述第一增透膜层包括设于所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧的第一二氧化硅膜层、以及设于所述第一二氧化硅膜层的远离所述第一导电层的一侧的第一五氧化二铌膜层；或所述第一增透膜层包括设于所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧的第一二氧化钛膜层、以及设于所述第一二氧化钛膜层的远离所述第一导电层的一侧的第一五氧化二铌膜层；

以及第二增透膜层，设于所述第二导电层的远离所述衬底基板的一侧；所述第二增透膜层包括设于所述第二导电层的远离所述衬底基板的一侧的第二二氧化硅膜层、以及设于所述第二二氧化硅膜层的远离所述第二导电层的一侧第二五氧化二铌膜层；或所述第二增透膜层包括设于所述第二导电层的远离所述衬底基板的一侧的第二二氧化钛膜层、以及设于所述第二二氧化钛膜层的远离所述第二导电层的一侧的第二五氧化二铌膜层。

2.根据权利要求1所述的柔性触控屏，其特征在于，所述第一增透膜层还包括设于所述第一五氧化二铌膜层的远离所述第一导电层的一侧的第三二氧化硅膜层或第三二氧化钛膜层，且/或所述第二增透膜层还包括设于所述第二五氧化二铌膜层的远离所述第二导电层的一侧的第四二氧化硅膜层或第四二氧化钛膜层。

3.根据权利要求1所述的柔性触控屏，其特征在于，所述第一二氧化硅膜层和所述第二二氧化硅膜层的厚度为66nm～72nm；所述第一二氧化钛膜层和所述第二二氧化钛膜层的厚度为66nm～72nm；所述第一五氧化二铌膜层和所述第二五氧化二铌膜层的厚度为5nm～10nm。

4.根据权利要求1所述的柔性触控屏，其特征在于，所述衬底基板为柔性衬底基板。

5.根据权利要求4所述的柔性触控屏，其特征在于，所述衬底基板的第一表面和第二表面均具有刻痕。

6.根据权利要求5所述的柔性触控屏，其特征在于，所述衬底基板的第一表面和第二表面的粗糙度为0.03μm～0.04μm。

7.根据权利要求1所述的柔性触控屏，其特征在于，所述第一导电层和所述第二导电层包括按照体积份数的如下组份：

石墨烯 10份～20份；

以及纳米银分散液 80份～90份。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至7任一项所述的柔性触控屏。

9.一种柔性触控屏的制造方法，其特征在于，包括步骤：

清洁衬底基板；

对衬底基板的第一表面和第二表面进行图案化处理，以增加第一表面和第二表面的粗糙度；

在衬底基板的第一表面和第二表面上分别形成第一导电层和第二导电层；

在第一导电层和第二导电层上分别溅镀形成第一增透膜层和第二增透膜层。

10.根据权利要求9所述的柔性触控屏的制造方法，其特征在于，在衬底基板的第一表面和第二表面上分别形成第一导电层和第二导电层的步骤的操作为：

在衬底基板的第一表面和第二表面分别涂覆一层导电膜；

采用激光干刻的方式将两层导电膜图案化，以分别形成第一导电层和第二导电层。