CN207425393U - 一种纳米银导电膜 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种纳米银导电膜，其包含基材层、硬化层、纳米银线层以及OC胶层，所述基材层具有第一光学面和第二光学面，所述第一光学面和所述第二光学面上设有硬化层，所述硬化层包含第一硬化层和第二硬化层，所述第一光学面上依次叠设有第一硬化层、纳米银线层和OC胶层。该纳米银导电膜消影效果好、透过率高、阻值低，满足了市场对大触控显示屏的需求。

Description

一种纳米银导电膜

技术领域：

本实用新型涉及光学膜领域，具体涉及纳米银导电膜。

背景技术：

近年来，科研工作者提出了采用基于导电高分子、碳纳米管、石墨烯、电纺纳米铜丝、印刷金属网格、纳米银线等导电填料来制备透明电极的方法，而这其中，采用基于银纳米线材料制备的透明电极被证实是这其中性能最为优异的，其在具有90％透光率的同时还可以保持10-100ohm/sq的电学性能。

现有技术的生产工艺存在多个方面缺点，第一，生产难度非常较大，生产成本较高，它无法很好地控制纳米银线的均匀度和平整度，第二，通过转印和热压工艺将纳米银线层粘固在透明膜基材，纳米银线层易分离和剥落，纳米银线层和透明膜基材之间易分层，第三，通过转印和热压工艺将纳米银线层粘固在透明膜基材，其结合面形成一个光学界面，它会大幅度降低导电膜的透光率。

实用新型内容：

本实用新型的目的提供一种纳米银导电膜，通过解决IM(index match)膜的挺性得到提高，大大提高了IM膜表面溅射二氧化硅或ITO的平整度，另一方面，选用合适的保护膜有效解决了贴合凹凸点的产生以及保证了后期溅射表面的平整度。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案为：

一种纳米银导电膜，其包含基材层、硬化层、纳米银线层以及OC胶层，所述基材层具有第一光学面和第二光学面，所述第一光学面和所述第二光学面上设有硬化层，所述硬化层包含第一硬化层和第二硬化层，所述第一光学面上依次叠设有第一硬化层、纳米银线层和OC胶层。

进一步地，所述纳米银线层的透光率大于92％，雾度不超过5％，厚度为80nm-160nm，折射率为1.4-1.6。

进一步地，所述硬化层折射率范围为1.4-1.52。

进一步地，所述第一硬化层和第二硬化层的厚度范围分别为25-35nm。

进一步地，所述基材层的厚度为30-80μm。

进一步地，所述OC胶层的折射率范围为1.48-1.52。

进一步地，所述OC胶层，厚度范围为50-150nm。

进一步地，所述纳米银线层原料选用的是纳米银线的乙醇溶液。

进一步地，所述OC胶层的为折射率为1.50的丙烯酸酯低聚物。

有益效果：

本发明设计出了纳米银导电膜消影效果好、透过率高、阻值低，满足了市场满足市场对大触控显示屏的需求，采用合理的层间结构和厚度的设计以及选用合适的折射率材料进行匹配，以及在纳米银线层涂布一定厚度的OC胶，防止了纳米银线与基材的脱离，同时控制纳米银线的均匀度和平整度，选用合理折射率及厚度的HC层能解决折射率匹配问题的同时可防止COP(Cyclo-olefin polymer)基材断裂，提高基材的柔韧性，以及提高纳米银线层和基材之间的附着力，防止纳米银层与基材的剥离。

附图说明：

下面结合图1和图2及实施例对本发明进一步说明。

图1示出了本发明实施例1或2提供的一种纳米银导电膜的结构示意图。

图2示出了本发明实施例3提供的一种纳米银导电膜的结构示意图。

具体实施方式：

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

实施例1

图1为一种纳米银导电膜100，基材层10为厚度50μm COP基材，所述基材层10包含第一光学面和第二光学面，在所述第一光学面和第二光学面涂布折射率为1.50的硬化胶水，固化后分别形成厚度为2μm第一硬化层11和第二硬化层14，在所述第一硬化层11表面涂布纳米银线的乙醇溶液，固化形成厚度为100nm纳米银线层12，在纳米银线层12表面涂布折射率为1.50的丙烯酸酯低聚物，固化后形成厚度为100nm的OC胶层13。制得纳米导电膜100。

实施例2

图1为一种纳米银导电膜100，基材层10为厚度50μm PET基材，所述基材层10包含第一光学面和第二光学面，在所述第一光学面和第二光学面涂布折射率为1.65的硬化胶水，固化后分别形成厚度为2μm第一硬化层11和第二硬化层14，在所述第一硬化层11表面涂布纳米银线的乙醇溶液，固化形成厚度为80nm纳米银线层12，在纳米银线层12表面涂布折射率为1.50的丙烯酸酯低聚物，固化后形成厚度为120nm的OC胶层13。制得纳米导电膜100。

实施例3

图2为一种纳米银导电膜100，基材层10为厚度50μm COP基材，所述基材层10包含第一光学面和第二光学面，在所述第一光学面和第二光学面涂布折射率为1.50的硬化胶水，固化后分别形成HC厚度为2μm第一硬化层11和第二硬化层14，在所述第一硬化层11和第二硬化层14表面涂布纳米银线的乙醇溶液，固化分别形成厚度为100nm第一纳米银线层12和厚度为120nm的第二纳米银线层15，在所述第一纳米银线层12和第二纳米银线层15表面涂布折射率为1.50的丙烯酸酯低聚物，固化后分别形成厚度为100nm的第一OC胶层13和厚度为100nm的第二OC胶层16。制得纳米导电膜100。

下表为实施例1-3制得的导电膜的测试结果

	实施例1	实施例2	实施例3
				挺性	优	优	优
透射率％	94	94	92
				雾度	1％	2％	2％

以上所述仅为实用新型的较佳实施例，并不限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。企图据以对本实用新型作任何形式上之限制，是以，凡有在相同之实用新型精神下所作有关本实用新型之任何修饰或变更，皆仍应包括在本实用新型意图保护之范畴。

Claims (9)

1.一种纳米银导电膜(100)，其包含基材层(10)、硬化层(20)、纳米银线层(12)以及OC胶层(13)，所述基材层(10)具有第一光学面和第二光学面，其特征在于，所述第一光学面和所述第二光学面上设有硬化层(20)，所述硬化层(20)包含第一硬化层(11)和第二硬化层(14)，所述第一光学面上依次叠设有第一硬化层(11)、纳米银线层(12)和OC胶层(13)。

2.根据权利要求1所述的纳米银导电膜(100)，其特征在于，所述纳米银线层(12)的透光率大于92％，雾度不超过5％，厚度为80nm-160nm，折射率为1.4-1.6。

3.根据权利要求1所述纳米银导电膜(100)，其特征在于，所述硬化层(20)折射率范围为1.4-1.52。

4.根据权利要求1所述纳米银导电膜(100)，其特征在于，所述第一硬化层(11)和第二硬化层(14)的厚度范围分别为25-35nm。

5.根据权利要求1所述纳米银导电膜(100)，其特征在于，所述基材层(10)的厚度为30-80μm。

6.根据权利要求1所述纳米银导电膜(100)，其特征在于，所述OC胶层(13)的折射率范围为1.48-1.52。

7.根据权利要求1所述纳米银导电膜(100)，其特征在于，所述OC胶层(13)，厚度范围为50-150nm。

8.根据权利要求1所述纳米银导电膜(100)，其特征在于，所述纳米银线层(12)选用的是纳米银线的乙醇溶液。

9.根据权利要求1所述纳米银导电膜(100)，其特征在于，所述OC胶层(13) 的为折射率为1.50的丙烯酸酯低聚物。