CN105204673B - 触控面板 - Google Patents

Abstract

本发明涉及触控技术领域，特别涉及一种触控面板。该触控面板包括：盖板，包括第一表面和第二表面，所述第一表面为触控面；一第一电极层及一第二电极层；所述第一电极层位于第二表面与第二电极层之间，所述第一电极层与所述第二电极层用于检测多点触控，所述第二电极层为纳米银线电极层，所述第一电极层为氧化铟锡电极层；一第一电极基材，粘贴在所述盖板的第二表面，所述第一电极层嵌入或埋入所述第一电极基材，所述第一电极基材为柔性材料；一基板，所述第二电极层嵌入或埋入所述基板。

Description

触控面板

【技术领域】

本发明涉及触控技术领域，特别涉及一种触控面板。

【背景技术】

触控设备因其便于操作、呈像效果好、功能多元化等优点逐渐受到电子通讯行业的青睐，并广泛应用于资讯系统设备、家电设备、通讯设备、个人便携设备等产品上。

伴随近年来触控面板在通讯行业的迅速崛起，特别是在手机通讯行业的蓬勃发展，触控面板一举取代实体键盘成为现今手机人机交互首选产品。使用率最高的触控面板主要是电阻式触控面板和电容式触控面板，但是使用者出于可控性，易用性和表面外观的考虑，大多会选用电容式触控面板作为其最佳首选设备。

在传统智能手机，如iphone等的电容式触控面板中，触控电极的材料通常为氧化铟锡(简称为ITO)。ITO的透光率很高，导电性能较好。但随着触控面板尺寸的逐步增大，特别是应用于15寸以上的面板时，ITO的缺陷越来越突出，其中最明显的缺陷就是ITO的面电阻过大，价格昂贵，无法保证大尺寸触控面板良好的导电性能与足够的灵敏度，也无法适用于电子产品不断低价化的发展趋势。

另外，在制造方法上，原来的ITO需要真空腔、较高的沉积温度和/或高退火温度以获得高传导性，造成ITO的整体制作成本非常昂贵。而且，ITO薄膜非常脆弱，即使在遇到较小物理应力的弯曲也非常容易被破坏，因此在可穿戴设备逐渐崛起的新兴产品市场的浪潮下，ITO材料作为导电材料已无法不能应付市场的需求而逐渐被淘汰。

正因如此，产业界一直在致力于开发ITO的替代材料。

纳米银线是诸多ITO替代材料目前最为成熟的一种。纳米银线具有银优良的导电性，同时由于其纳米级别的尺寸效应，使得其具有优异的透光性与耐曲挠性，因此可用作为优选地替代ITO作为触控电极的材料。

然而，由于纳米银线的反光率较高，采用纳米银线导电膜作为触控电极时，触控面板在视觉上会出现白雾现象，纳米银线离人眼越近，反光越明显，雾度问题也就越突出。特别是在双层电极结构中，当两层电极材料均为SNW时，这种雾度问题会更为严重。

总地来说，如何可以更直接的使用纳米银线替代掉ITO材料作为导电层，而又无需太多的生产成本的投入，太多制作设备的更新换代；同时又可以解决纳米银线用作导电层时难以克服的雾度问题是现阶段触控厂商眼下急需摆脱的难题。

【发明内容】

为克服现有纳米银线替代ITO作为新的导电材料的诸多难题，本发明提供了一种新式触控面板。

本发明解决技术问题的方案是提供一种触控面板，其包括一盖板，该盖板包括第一表面和第二表面，所述第一表面为触控面；一第一电极层及一第二电极层；所述第一电极层位于第二表面与第二电极层之间，所述第一电极层与所述第二电极层用于检测多点触控，所述第二电极层为纳米银线电极层，所述第一电极层为氧化铟锡电极层；一第一电极基材，粘贴在所述盖板的第二表面，所述第一电极层嵌入或埋入所述第一电极基材，所述第一电极基材为柔性材料；一基板，所述第二电极层嵌入或埋入所述基板。所述纳米银线电极层的透光率至少为90％，雾度不超过5％，厚度为50nm—200nm，折射率为1.35—1.8，所述纳米银线电极层包括一基质及分布于所述基质中的多条纳米银线，所述多条纳米银线相互搭接形成导电网络，每条纳米银线的线长介于20-50μm，线径小于50nm，长宽比大于400。在第一电极层和纳米银线电极层之间设置有高折射率层，所述高折射率层的折射率为1.52—1.79。

优选地，所述高折射率层的涂覆面积在第一电极层或第二电极层的涂覆率不低于50％。

优选地，所述纳米银线电极层设置于所述基板的任一表面上；所述第一电极层设置于所述第一电极基材的任一表面上。

优选地，还包括一增粘层，设置于所述纳米银线电极层上，所述增粘层的膨胀系数小于所述基板的膨胀系数。

优选地，还包括一平整层，设置于纳米银线电极层上，纳米银线电极层在厚度方向上有部分嵌入平整层中。

优选地，还包括光学匹配层，设置于所述纳米银线导电层之上,第一电极层之下，其折射率为1.1—1.6。

与现有技术相比，本发明的触控面板在上层靠近触控面采用ITO的第一电极层，远离触控面采用纳米银线电极层。如此可以更好的将导电效果更佳，外观视觉效果更好的纳米银线更新换代到目前的触摸技术领域中。

将ITO的第一电极层在上层靠近触控面，纳米银线做在下层远离触控面，是因为纳米银线远离触控面后会在一定程度上解决纳米银线的雾度问题。如此一层ITO，一层纳米银线，一上一下，有效的解决纳米银线在使用时的雾度难题。

为了进一步解决纳米银线电极层的雾度问题，本发明选用高折射率层—OCA胶来粘接上层的第一电极层和下层的纳米银线电极层，高折射率层位于纳米银线电极层之上，可以有效降低纳米银线电极层的反射，解决纳米银线雾度明显的问题。同时，用高折射率的OCA胶无需额外增加高折射率叠层，也有利于降低触控叠层结构的厚度，取得轻薄化的效果。

本发明还提供了多种叠层结构的变形，当选用一层ITO，一层纳米银线，一上一下设置后，再结合G1F或GFF结构，更加有利于降低触控面板的厚度。

【附图说明】

图1是本发明纳米银线薄膜的截面结构示意图。

图2是本发明纳米银线薄膜的平面示意图。

图3是本发明触控面板第一实施例的结构示意图。

图4是本发明触控面板中网格导电电路的平面结构示意图。

图5是本发明触控面板第一实施例的爆炸结构图。

图6是网格导电电路中第二电极和第一电极正交组合形成的平面示意图。

图7是本发明第二实施例触控面板的制作方法流程图。

图8是本发明第三实施例触控面板构的制作方法流程图。

图9是本发明触控面板第四实施例的爆炸结构图，在基板与纳米银线电极层之间增加一增粘层。

图10是本发明触控面板叠层结构第五实施例的爆炸结构图，在基板与纳米银线电极层之间增加一增粘层，在纳米银线电极层与高折射率层之间增加一平整层。

图11是本发明触控面板第六实施例的爆炸结构图，在基板与纳米银线电极层之间增加一增粘层，在纳米银线电极层与高折射率层之间增加一平整层，在纳米银线电极层与高折射率层之间增加一光学匹配层。

图12是本发明触控面板第七实施例的爆炸结构图。

图13是本发明触控面板第七实施例的一种变形爆炸结构图。

图14是本发明触控面板第八实施例的爆炸结构图。

【具体实施方式】

为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

请参阅图1与图2，系纳米银线导电薄膜800的剖切结构示意图，透明导电层805一般制作在衬底807上，包括嵌入在基质803中的多根纳米银线801，纳米银线801排布在基质803中相互搭接形成导电网络。纳米银线801(silver nano wires，简称SNW)的线长为10-300μm，优选20-100μm，最好其长度为20-50μm，纳米银线801的线径(或线宽)小于500nm或小于200nm，100nm，优选为小于50nm，且其长宽比(线长与线径之比)大于10，优选大于50，更优选大于100，大于400。

衬底807一般为透明绝缘材料，可以是玻璃、聚酰亚胺(Polyimide，PI)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等，但并不以此为限。

银在一般状态下为银白色金属，且为不透明材料，导电性极佳。而当银制成纳米银线801时，纳米银线801具有良好的透光率与极佳的导电性，能够很好的运用于触摸屏的触控电极。

基质803是指含纳米银线801的溶液在经过涂布等方法设置在衬底807上，经过加热烘干使得易挥发的物质挥发后，留在衬底807上的非纳米银线801物质。纳米银线801散布或嵌入其中，形成导电网络，部分纳米银线801从基质803材料中突出。纳米银线801依靠基质803形成透明导电层805，基质803可以保护纳米银线801免受腐蚀、磨损等外界环境的影响。

透明导电层805的厚度约为10nm—5μm，优选为20nm—1μm，更优为50nm—200nm。在一些实施例中，透明导电层805的折射率为1.3—2.5，更优为1.35—1.8。

含纳米银线801的溶液是指，纳米银线801分散在特定的溶剂里而形成的悬浮溶液，该溶剂可以是水、水溶液、离子溶液、含盐溶液、超临界流体、油或其混合物等。该溶剂里还可含有其它添加剂，如分散剂、表面活性剂、交联剂、稳定剂、润湿剂或增稠剂，但不以此为限。

此外，可通过选择适当的基质803材料来调整透明导电层805的光学特性，特别是解决雾度问题。例如，可以将基质803调整为具有期望的折射率、组成元素和一定的厚度，都可以有效地减少反射损耗、眩光影响、雾度。

雾度是指由于透明导电层805中的纳米银线801表面光漫射造成的云雾状或混浊的外观。屏幕的雾度问题会导致在室外场景光线照射的情况下，屏幕反射光强烈，严重的时候会使得用户看不清屏幕。

透明导电层805的透光率或清晰度可由以下参数定量的限定：透光率和雾度。透光率是指通过介质传输的入射光的百分比，透明导电层805的透光率至少为90％，甚至可以高达95％-97％。雾度是光漫射的指数，雾度是指入射光中分离出来并在传输的过程中散射的光的数量百分比。在本实用新型的实施例中雾度不会超过5％，甚至可以达到不超过3％—1.5％。

请参阅图3，本发明的第一实施例的触控面板10包括基板101，纳米银线电极层103，高折射率层105，第一电极层107和盖板109，其中盖板109与触摸物体(手指或触控笔)接触。盖板109包括盖板上表面1091和盖板下表面1093(此处及后述的“上”或“下”为相对位置，并非绝对定义，同时可以理解为上表面颠倒时也即成为下表面)，盖板上表面1091为触摸物体接触面，盖板下表面1093可作为附着面直接成形第一电极层107。基板101包括基板上表面1011和基板下表面1013，本实施例中，基板上表面1011可作为附着面直接成形纳米银线电极层103。基板下表面1013用于依附显示模组。不可置疑地，作为一种变形，纳米银线电极层103也可以直接成形在基板下表面1013上。

所述高折射率层105用于将第一电极层107和纳米银线电极层103粘合为一体，当所述的第一电极层107和纳米银线电极层103之间除高折射率层105之外无其他绝缘层状结构时，高折射率层105还具有介电性，将第一电极层107和纳米银线电极层103进行绝缘设置。高折射率层105可以选用OCA(光学透明胶，Optical Clear Adhesive)或LOCA(液态光学透明胶，Liquid Optical Clear Adhesive)。

在电容式触控面板中，第一电极层107一般靠近触摸面，纳米银线电极层103则相对远离触摸面。纳米银线电极层103与第一电极层107检测触摸面板10被触碰时的电容变化，以感应触摸区域或触控位置。

第一电极层107和纳米银线电极层103之间形成互电容。当触控面板10表面发生触摸动作时，触碰中心区域的互电容值会发生变化，所述触碰动作转化为电信号，经过对电容值变化区域数据的处理就可以获得触碰动作中心位置的坐标数据。

请参阅图4，第一电极层107上有多个相互独立的第一电极1071在第一轴向(X轴)平行且等间距的设置；纳米银线电极层103上有多个相互独立设置的第二电极1031在第二轴向(Y轴)平行且等间距的设置。其中第一电极1071和第二电极1031均为菱形状结构，相互垂直交错排布形成网格导电电路108，网格导电电路108为均匀布置的规则图形，网格线间距相等一方面可以使触控面板10透光均匀，另一方面网格导电电路108的方块电阻(简称方阻)分布均匀，电阻偏差小，无需用补正电阻偏差的设定，使成像均匀。第一电极1071和第二电极1031的形状可以为规则图形，例如三角形、菱形或正多边形，也可以为不规则几何图形。

在本实施例中，第一电极层107与纳米银线电极层103采用不同方式、不同材料及不同工艺制作而成。

具体来说，请参阅图5，第一电极层107采用氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)、氧化锡锑(Antimony Doped Tin Oxide，ATO)、氧化铟锌(IndiumZinc Oxide，IZO)、氧化锌铝(Aluminum Zinc Oxide，AZO)、石墨烯、金属网格或者碳纳米管中的任意一种材料制成。

在本实施例中，第一电极层107成型在第一电极基材1073上，第一电极基材1073粘贴在盖板109的下表面上，盖板109为刚性材料制成，如强化玻璃或强化塑胶板。其中所述强化玻璃包括具有防眩、硬化、增透或雾化功能的功能层。其中，具有防眩或雾化功能的功能层，由具有防眩或雾化功能的涂料涂敷形成，涂料包括金属氧化物颗粒；具有硬化功能的功能层由具有硬化功能的高分子涂料涂敷形成或直接通过化学或物理方法硬化；具有增透功能的功能层为二氧化钛镀层、氟化镁镀层或氟化钙镀层。可以理解，采用透光率良好的塑胶板也可如上述强化玻璃方式进行处理制成本发明所述的刚性盖板109。

作为变形，第一电极基材1073可以为柔性材料制成，如选用可挠性柔性材料制成，是指在工业上具有一定强度并具有一定可挠性的基材。包括PI(聚酰亚胺)，PC(聚碳酸酯),聚醚砜(PES),聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、压克力、聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚酰胺(PA)、聚苯并咪唑聚丁烯(PB)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚酯(PE)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚醚酰亚胺、聚乙烯(PE)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯乙烯(PS)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)之任意一种。

有必要说明的是，由于所述第一电极基材1073为柔性材料制成，因此在移动或者搬运过程中，柔性材料不可避免发生形变或弯曲，因此采用嵌入或埋入的第一电极层107更加可靠。

在本实施例中，第一电极层107优选为ITO材料。因为，现阶段ITO材料已非常成熟的应用在触控面板领域，同时其制作工艺也已非常完善，采用蚀刻、光刻、黄光工艺将ITO的第一电极层107在柔性材料上更易形成导电图案。

纳米银线电极层103采用纳米银线801材料制成。纳米银线电极层103为图1，图2所示的透明导电层805时，纳米银线801嵌入或埋入在基板101中上，基板101可以为图1，图2所示的衬底807材料。

在纳米银线电极层103形成导电图案的方式有多种。其中一种优选的方式就是先将含有纳米银线801的溶液涂布在基板101上，或直接利用已涂布好纳米银线801的透明导电层805，利用光刻、蚀刻、黄光制程、压印等工艺将透明导电层805上切割成第一轴向(Y方向)的导电图案。又或者通过蚀刻、黄光制程在第一电极层107上形成第二轴向(X方向)的导电图案，第一轴向的导电图案与第二轴向的导电图案交叉排布，形成图4所示的网格导电电路108。在本实施例中，由于设置了第一电极层107与纳米银线电极层103两层电极结构，只需在第一电极层107与纳米银线电极层103上各布设一个方向(X或Y)的导电图案即可。

基板101由于要涂刷、涂布而嵌入微细的纳米银线801，所以优选为柔性的基材，如前面所述的各种可挠性柔性材料制成。

请参阅图6，本发明所的网格导电电路108的图案。网格导电电路108的第一电极1071包括多个第一电极串1082，该第一电极串1082在第一方向上(以下简称X方向)等间距阵列设置。为了克服现有的触控面板容易因为第一电极串1082局部线路的断裂而造成触控面板报废的缺点，本实施例中第一电极串1082包括两条第一感应子电极串1083，两条第一感应子电极串1083之间平行设置并在两条第一感应子电极串1083至少一端形成电性连接端。至此，即便是第一电极串1082的其中一条第一感应子电极串1083出现线路断裂的状况时，也不影响网格导电电路108的正常工作。第一感应子电极串1083包括多个第一感应单元1084，第一感应单元1084为菱形，第一感应单元1084之间通过多个第一导接线1085实现串联，在两两相邻的第一感应单元1082之间包括一第一镂空区1086。

第二电极1031同样的包括多个第二第一电极串1062，该第二第一电极串1062在第二方向上(以下简称Y方向)等间距阵列设置，该第二第一电极串1062的包括两条第二感应子电极串1063，两条第二感应子电极串1063之间平行设置并在两条第二感应子电极串1063一端形成电性连接端。第二感应子电极串1063包括多个第二感应单元1064，第二感应单元1064为菱形，第二感应单元1064之间通过多个第二导接线1065实现串联，在两两相邻的第二感应单元1064之间包括一第二镂空区1066。

从网格导电电路108的正面看过去，第一电极1081上的第一感应单元1084与第二电极1061上的第二感应单元1064无重叠区域，也就是说，第一感应单元1084设置在第二镂空区域1066内，第二感应单元1064的位置刚好位于第一镂空区域1086内，最佳地，第一电极1081上的第一感应单元1084与第二电极1061上的第二感应单元1064之间互补。当然，第一感应单元1084与第二感应单元之间1064也可以设置为成包括重叠区域的情况。X与Y方向可以任意选择，本实施例中的最佳优选方式为X与Y方向正交。

请参阅图7，本发明第二实施例提供了一种触控面板10的制造方法，该方法包括以下步骤：

S11：提供一透明绝缘的基板101。所述的基板101采用可挠性柔性材料制成，是指在工业上具有一定强度并具有一定可挠性的基材。基板101远离人体对触控面板10的触控面。

S12：在所述基板101的其中一表面上形成纳米银线电极层103。

S13：提供一第一电极基材1073，所述的第一电极基材1073采用可挠性柔性材料制成，是指在工业上具有一定强度并具有一定可挠性的基材。

S14：在所述的第一电极基材1073上形成ITO材料的第一电极层107。

S15：将所述的基板101与所述第一电极基材1073通过高折射率层105粘贴在一起。高折射率层105采用OCA胶进行涂覆，在涂覆时，可以涂在纳米银线电极层103或第一电极层107表面，涂覆时为全面涂覆，有别于现有只需边框涂覆的方式。OCA胶的涂覆面积为第一电极层107表面面积或纳米银线电极层103的100％，或80％-90％，最低不低于50％，此处涂覆面积以纳米银线电极层103表面面积为基准，即当第一电极层107小于等于纳米银线电极层103时，涂覆面积为纳米银线电极层103的100％，或80％-90％，最低不低于50％；当第一电极层107大于纳米银线电极层103时，为了实现第一电极层107的粘贴固定，OCA胶的涂覆面积为第一电极层107的100％，或80％-90％，最低不低于50％。涂覆表面面积选取的原因在于，当纳米银线电极层103位于基板101上时，纳米银线801本身材料会有雾度问题而影响视觉效果。所以，在此处将OCA胶层涂覆成高折射率层105，该高折射率层105的折射率为1.52—1.79，以使涂覆在纳米银线电极层103上后可以将雾度降低到5％以下，最佳可以降低到3％，2％，1.5％。

由于OCA胶在一般常用作为粘结作用时，其折射率为1.52左右，如将其提升为具有更高折射率的OCA胶需要在工艺上做特殊处理，以致折射率越高，工艺难度越大，制作成本越高。

高折射率层105的折射率为1.52—1.79，优选为1.7。选取时，首先会根据OCA胶的制作工艺考虑，1.52时是普通OCA胶的折射率，在制作成本上最低。如果进一步提升其折射率，难度会逐渐加大，当提高至1.79时，继续往上提高其难度将会非常大，所以综合制作难度与投入成本，1.79即为极限大的范围。

优选为1.7时，除了与制作工艺难度及成本相关外，还会根据纳米银线电极层103上纳米银线801的密度相关，当纳米银线801密度大时，高折射率层105的折射率最佳值就越大，最低不小于1.52。

此外，还会与基板101的材料相关，当玻璃基材的基板101具有高反射特性时，高折射率层105的折射率最佳值就越大，最低不小于1.52。

上述步骤中，S11—S12和步骤S13—S14并无先后顺序。即可以先完成第一电极基材1073上形成第一电极层107，也可以先完成在基板101上形成纳米银线电极层103，或者二者同时进行。

S16：提供一透明绝缘的盖板109。覆盖位于其下的第一电极基材1073及第一电极基材1073上的第一电极层107、基板101及基板101上的纳米银线电极层103。所述的盖板109采用刚性透明绝缘材料，其中刚性透明绝缘材料可采用强化玻璃和可挠性透明面板。更具体地说，所述刚性材料采用的经过强化处理过的玻璃或透明塑胶板，简称强化玻璃或强化塑胶板。其中所述强化玻璃包括具有防眩、硬化、增透或雾化功能的功能层。其中，具有防眩或雾化功能的功能层，由具有防眩或雾化功能的涂料涂敷形成，涂料包括金属氧化物颗粒；具有硬化功能的功能层由具有硬化功能的高分子涂料涂敷形成或直接通过化学或物理方法硬化；具有增透功能的功能层为二氧化钛镀层、氟化镁镀层或氟化钙镀层。可以理解，采用透光率良好的塑胶板也可如上述强化玻璃方式进行处理制成本发明所述的刚性透明绝缘衬底。盖板上表面1093与人体触控介质接触。

请参阅图8，本发明第三实施例提供了触控面板10的又一制造方法，包括以下步骤：

S21：提供一透明绝缘的基板101。所述的基板101采用可饶性柔性材料制成，是指在工业上具有一定强度并具有一定可挠性的基板101。具体材料与前述相同。基板101远离触控介质与触控面板10接触的触控面。

S22：提供一透明绝缘的盖板109。所述的盖板109采用刚性透明绝缘材料，其中刚性透明绝缘材料与前述相同。盖板上表面1093与人体触控介质接触。

S23：在所述的基板上表面1011形成ITO材料的第一电极层107。

S24：在所述基板下表面1013上形成纳米银线电极层103。

S25：将所述的基板101与所述盖板109通过高折射率层105粘贴在一起。高折射率层105的OCA胶特性及特性选择原因同上述实施例基本相同。

请参阅图9，本发明第四实施例的触控面板20，纳米银线电极层203贴附在基板201上，且基板201为可饶性柔性基板，基板201由于受热或温度变化时产生形变而让纳米银线电极层203无法良好的全面的覆盖在基板201的其中一表面上，特别会在纳米银线电极层203与基板201之间涂覆一层增粘层202，增粘层202的涂覆面积为纳米银线电极层203表面面积的100％，或80％-90％，最低不低于50％，此处涂覆面积以纳米银线801成形的纳米银线电极层203表面面积为基准，即当纳米银线电极层203大于、小于或等于基板201表面面积时，涂覆面积均为纳米银线电极层203表面面积的100％，或80％-90％，最低不低于50％。

所述增粘层202的膨胀系数小于可挠性基板201的膨胀系数。由于成膜制造工艺中常伴随着温度的变化，而当基板201为可挠性基板时拥有较大的膨胀系数，升温、降温的过程中常会有显著的体积变化，从而使可挠性基板201产生第二弯曲方向的翘曲或变形，进而造成曝光或是聚焦不良的问题，所述增粘层202的存在，能够很好的解决上述问题。

所述增粘层202的材料可以选自高分子聚合物、绝缘材料、树脂、透明光学胶、氧化物，类光阻等，包括但不限于：聚乙炔、聚苯胺、聚芳撑、聚噻吩、石墨烯、并五苯、聚苯撑醚(PPE)、聚对苯撑乙炔(PPV)、聚3，4-亚乙基二氧吩(PEDOT)、聚苯乙烯磺酸(PSS)、聚3-己基噻吩(P3HT)、聚3-辛基噻吩(P3OT)、聚芳醚砜、聚C-61-丁酸-甲酯(PCBM)、聚[2-甲氧基-5-(2-乙基-己氧基)-1，4-苯撑乙烯](MEH-PPV)、氮化硅、二氧化硅等物质或它们的任意组合。

所述增粘层202以流体的形式涂覆在基板201上方，所述流体可以是：水、水溶液、离子溶液、超临界流体、等离子体、油或者它们的任意组合。包括但不限于：水、丙酮、乙酸乙酯、乙醇、乙酸丁酯、戊醇、酚醛树脂、醇酸树脂、氢氧化钠、异丙醚(i-丙醚)、异丙醇、甲基乙基酮(或者MEK)、甲酸甲酯、甲基正丁酸酯、正丁醇、辛烷、石油醚、丙醇或者它们的任意组合。表面活性剂、分散剂、稳定剂或粘合剂也可以包括在流体中。

所述增粘层202流体涂覆在基板201上方的方法包括：溅镀、静电喷涂、逆转辊涂布、凹槽式涂布、夹缝式涂布、压印、热转印、迈耶棒(meyer rod)涂覆、旋涂、丝网印刷、照相凹版印刷、平板印刷、胶版印刷、喷墨印刷、凹版印刷，或者它们的任意组合。

在具体的实施涂覆时，首先布置好基板201后，在上方涂覆增粘层202，调节温度，烘干增粘层202，待增粘层202半固化后将纳米银线801溶液涂覆到增粘层202上表面，放置60-80s后调节温度至140℃，至纳米银线电极层203烘干，并用辊筒对以上所得薄膜进行滚压，然后冷却。

在另一个实施方式中，增粘层202的材料本身是固体薄膜的形式。增粘层202则可以通过对固体薄膜加热滚压的形式直接覆盖于基板201上方，这时增粘层202的材料包括但不限于：聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)、玻璃纸等。

如此一来，第四实施例的触控显示模组20从上至下的叠层结构依次包括，盖板209，第一电极基材2073，第一电极层207，高折射率的层205，纳米银线电极层203，增粘层202和基板201。

纳米银线801之间仅仅凭借分子间作用力搭接在一起，容易在曲挠作用下发生滑移，提供增粘层202使得纳米银线电极层203和基板201之间的附着力良好。通常纳米银线801与基板201的附着越牢，纳米银线801之间的搭接则越为良好，从而提供良好的导电率。一般而言，成膜制造工艺在进行时，常会伴随温度的变化，而可挠性基板101具有较大的膨胀系数，在升温降温的过程当中常会有显著的体积变化，成膜制造工艺时，常因为粘着于硬质基材上的可挠性基板201的膨胀或收缩而使可挠性基板201产生第二弯曲方向的翘曲或变形，进而造成曝光或是焦聚不良等问题，通过增粘层202解决了因可挠性基板201的膨胀或收缩而引起的一系列问题。

请参阅图10，本发明第五实施例的触控面板30包括基板301，纳米银线电极层303和平整层304，所述平整层304位于纳米银线电极层303上面，或优选的，纳米银线电极层303在厚度方向上有部分嵌入平整层304中。纳米银线电极层303涂布在基板上表面3011后，纳米银线801没办法均匀地平铺并比较较好的搭接，使得平整度差，同时由于纳米银线801之间彼此搭接不良影响纳米银线801向上翘起的现象。通过在纳米银线电极层303上涂覆平整层304，并经过一定的工艺处理后，能够使纳米银线801之间的搭接面积增大从而提高纳米银线电极层303的导电率和达到良好的表面平整度。

所述平整层304的材料可以选自高分子聚合物、绝缘材料、树脂、透明光学胶、氧化物，类光阻等，包括但不限于：聚乙炔、聚苯胺、聚芳撑、聚噻吩、石墨烯、并五苯、聚苯撑乙炔(PPE)、聚苯撑乙烯(PPV)、聚3，4-亚乙基二氧吩(PEDOT)、聚苯乙烯磺酸(PSS)、聚3-己基噻吩，(P3HT)、聚3-辛基噻吩(P3OT)、聚(芳醚砜)、聚C-61-丁酸-甲酯(PCBM)、聚[2-甲氧基-5-(2-乙基-己氧基)-1，4-苯撑乙烯](MEH-PPV)、氮化硅、二氧化硅、等物质或它们的任意组合。

所述平整层304可通过流体的形式涂覆在纳米银线电极层303上方，所述流体可以包括：水、水溶液、离子溶液、超临界流体、等离子体、油或者它们的任意组合。包括但不限于：水、丙酮、乙酸乙酯、乙醇、乙酸丁酯、戊醇、酚醛树脂、醇酸树脂、氢氧化钠、异丙醚(i-丙醚)、异丙醇、甲基乙基酮(或者MEK)、甲酸甲酯、甲基正丁酸酯、正丁醇、辛烷、石油醚、丙醇或者它们的任意组合。表面活性剂、分散剂、稳定剂或粘合剂也可以包括在流体中。所述平整层304以流体形式涂覆在纳米银线电极层303上方的方法与增粘层302基本相同。

在具体实施时，布置好基板301后，在基板301上涂覆纳米银线电极层303放置60-80s后，用溅镀的方法将平整层304材料涂覆在湿的纳米银线电极层303上，调节温度至140℃，至纳米银线电极层303薄膜烘干，并用辊筒对以上所得薄膜进行滚压，最后将纳米银线电极层303和平整层304的薄膜冷却。

在另一个变形实施方式中，平整层304的材料本身是通过固体薄膜的形式。平整层304则可以通过对固体薄膜加热滚压的形式直接覆盖于纳米银线电极层303上方，这时平整层304的材料包括但不限于：聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)、玻璃纸等。

本实施例的触控面板30还包括增粘层302。其中，所述基板301和纳米银线电极层303与第一实施例的基板101和纳米银线电极层103相同，所述增粘层302与第二实施例的增粘层202相同，所述平整层304为上述的平整层304。所述增粘层302涂覆于基板301上方，再于增粘层302上涂覆纳米银线电极层303，然后于纳米银线电极层303上方涂覆平整层304，形成基板301、增粘层302、纳米银线电极层303和平整层304的层状结构。理想状态下，使得纳米银线电极层303下方在厚度方向上部分嵌入增粘层302中，上方在厚度方向上部分嵌入平整层304中。在平整层304上方还分别设置有高折射率层305和盖板309及设置在第一电极基材3073上的第一电极层307。

用纳米银线801作为导电电极材料后，纳米银线801向上翘起对触控面板300表面平整度产生影响，纳米银线801之间仅凭借分子间作用力实现搭接，会有搭接不良从而影响导电率的问题，通过提供平整层304并进行一定的工艺处理，使得纳米银线801之间的搭接变得良好，从而使导电率得到有效保证，并使触控面板30的表面平整度得到极大提升。

请参阅图11，本发明第六实施例的触控面板40包括基板401，纳米银线电极层403和光学匹配层406，所述光学匹配层406为一层低折射率的光学膜，所述光学匹配层406位于纳米银线电极层403上，第一电极层407之下。

所述基板401的水滴角为0-30度，优选的小于10度。

所述低折射率为折射率小于1.6，优选的为1.1～1.6。光学匹配层406可以为有机物或无机物，或有机-无机混合涂层。例如硅氧化物，氯氟化物，氟化镁，二氧化硅，氟化锂，氟化钠，氧化镁，硅酸盐，聚氨酯，PMMA，PVA，PVP，有机硅，氟聚合物，丙烯酸树脂，丙烯酸树脂+矽石纳米颗粒。优选的折射率为1.1，1.25，1.32，1.38，1.46，1.50，1.52。

所述光学匹配层406的光学膜厚度为小于或等于1/4波长奇数倍。

所述光学匹配层406的形成方式可以为物理沉积，化学沉积，真空镀膜，印刷，喷涂，柔印，纳米压印，丝网印刷，刮刀涂布，旋转涂布，棒状涂布，滚筒涂布，线棒涂布，浸渍涂布等任一种方式。

由于纳米银线电极层403雾度问题需要克服，因此在本实施方式中增加一光学匹配层406后，所述纳米银线电极层403的雾度可降低至5％左右，优选地小于3％，2％，1.5％。

在另一个实施方式中，光学层匹配层406和纳米银线电极层403位置可以互换。当光学匹配层406在纳米银线电极层403上方时，同时可以作为保护层，防止纳米银线801氧化，腐蚀等直接暴露在外的一系列问题。

本实施例还包括增粘层402和平整层404，光学匹配层406可以在基板401与增粘层402之间、增粘层402与纳米银线电极层403之间、纳米银线电极层403与平整层404之间、平整层404与高折射率层405之间、高折射率层405与第一电极层407之间，第一电极层407与盖板409之间任意排布，此外增粘层402和/或平整层404也可以是光学匹配层406，具有光学匹配层406的特性及效果。

通过光学匹配层406实现对触控面板40雾度的调节，而且对于光学匹配层406的位置要求灵活多变，灵活有效的实现对纳米银线801雾度的降低。

请参阅图12，第七变形实施例的触控面板50在结构上与第一实施例的触控面板10的不同之处在于：图示的第一电极基材5073的一面贴附在盖板下表面5093上后，在第一电极基材5073的同一面成形所述的ITO第一电极层507，制作网格导电电路，即在盖板下表面5093与第一电极基材5073之间设置第一电极层507，且第一电极层507成型在第一电极基材5073上。而所述的纳米银线电极层503成形于柔性的基板501上。之后，基板501与盖板509通过高折射率层505粘贴固定成形触控面板50。在制程上与图7或图8所示的制程大体相同。

请参阅图13，如果纳米银线电极层503不是完全嵌入至基板501内，在基板501上形成纳米银线电极层503的步骤中可分两种变形：纳米银线电极层503位于基板501上方，及，纳米银线电极层503位于基板501下方。

通过上述变形实施方式的组合可以得出四种变形结构，第一种变形自上往下依次为盖板509，第一电极基材5073，ITO材料的第一电极层507，OCA胶的高折射率层505，纳米银线电极层503和基板501。

第二种变形自上往下依次为盖板509，ITO材料的第一电极层507，第一电极基材5073，OCA胶的高折射率层505，纳米银线电极层503和基板501。

第三种变形自上往下依次为盖板509，第一电极基材5073，ITO材料的第一电极层507，OCA胶的高折射率层505，基板501和纳米银线电极层503。

第四种变形自上往下依次为盖板509，ITO材料的第一电极层507，第一电极基材5073，OCA胶的高折射率层505，纳米银线电极层503和基板501。

请参阅图14，本发明第八实施例的触控面板60在结构上与第一实施例所示触控面板10的不同之处在于：图示的第一电极层607直接成型于盖板609上，无需再增加实施例一所示的第一电极基材1073，如此触控面板60可以减少一层的厚度，产品更加轻薄。而所述的纳米银线电极层603仍然成形于柔性的基板601上。之后，基板601与盖板609通过高折射率层605粘贴固定成形触控面板60。在制程上，先提供一盖板609，然后ITO的第一电极层607可以采用黄光制程、蚀刻、光刻等工艺成形于盖板609上。之后按照图7、图8所述的步骤将纳米银线电极层603成形于基板601上，基板601与盖板609通过高折射率层605粘合在一起。

如果纳米银线电极层603不是完全嵌入至基板601内，在基板601上形成纳米银线电极层603的步骤中可分两种变形：纳米银线电极层603位于基板601上方，及，纳米银线电极层603位于基板601下方。

与现有技术相比，本发明的触控面板10在上层靠近触控面采用ITO的第一电极层107，远离触控面采用纳米银线电极层103。如此可以更好的将导电效果更佳，外观视觉效果更好的纳米银线801更新换代到目前的触摸技术领域中。

将ITO的第一电极层107在上层靠近触控面，纳米银线801做在下层远离触控面，是因为纳米银线801远离触控面后会在一定程度上解决纳米银线801的雾度问题。如此一层ITO，一层纳米银线801，一上一下，有效的解决纳米银线801在使用时的雾度难题。

为了进一步解决纳米银线电极层103的雾度问题，本发明选用高折射率层105—OCA胶来粘接上层的第一电极层107和下层的纳米银线电极层103，高折射率层105位于纳米银线电极层103之上，可以有效降低纳米银线电极层103的反射，解决纳米银线801雾度明显的问题。同时，用高折射率的OCA胶无需额外增加高折射率叠层，也有利于降低触控叠层结构的厚度，取得轻薄化的效果。

本发明还提供了多种叠层结构的变形，当选用一层ITO，一层纳米银线801，一上一下设置后，再结合G1F或GFF结构，更加有利于降低触控面板10的厚度。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种触控面板，其特征在于，包括：

盖板，包括第一表面和第二表面，所述第一表面为触控面；

一第一电极层及一第二电极层；

所述第一电极层位于第二表面与第二电极层之间，所述第一电极层与所述第二电极层用于检测多点触控，所述第二电极层为纳米银线电极层，所述第一电极层为氧化铟锡电极层；

一第一电极基材，粘贴在所述盖板的第二表面，所述第一电极层嵌入或埋入所述第一电极基材，所述第一电极基材为柔性材料；

一基板，所述第二电极层嵌入或埋入所述基板；

所述纳米银线电极层的透光率至少为90％，雾度不超过5％，厚度为50nm—200nm，折射率为1.35—1.8，所述纳米银线电极层包括一基质及分布于所述基质中的多条纳米银线，所述多条纳米银线相互搭接形成导电网络，每条纳米银线的线长介于20-50μm，线径小于50nm，长宽比大于400，在第一电极层和纳米银线电极层之间设置有高折射率层，所述高折射率层的折射率为1.52—1.79。

2.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：所述高折射率层的涂覆面积在第一电极层或第二电极层的涂覆率不低于50％。

3.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，还包括：

所述纳米银线电极层设置于所述基板的任一表面上；

所述第一电极层设置于所述第一电极基材的任一表面上。

4.如权利要求3所述的触控面板，其特征在于：还包括一增粘层，设置于所述纳米银线电极层上，所述增粘层的膨胀系数小于所述基板的膨胀系数。

5.如权利要求3所述的触控面板，其特征在于：还包括一平整层，设置于纳米银线电极层上，纳米银线电极层在厚度方向上有部分嵌入平整层中。

6.如权利要求3所述的触控面板，其特征在于：还包括光学匹配层，设置于所述纳米银线导电层之上,第一电极层之下，其折射率为1.1—1.6。