CN106354305A - 一种触控显示模组、其制作方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种触控显示模组、其制作方法及显示装置。该触控显示模组，包括显示面板和贴附在显示面板上的触控显示模组；该触控模组分为具有触控电极的触控区域和具有黑矩阵的边框区域，该触控模组包括衬底基板，在衬底基板靠近显示面板的一侧，包括第一消影层和第二消影层；其中：第一消影层位于触控电极和衬底基板之间；第二消影层位于触控电极远离衬底基板的一侧；第二消影层的厚度大于第一消影层的厚度，且第一消影层的厚度与第二消影层的厚度满足条件：在暗态显示模式下，触控区域和边框区域的色差小于预设值。与现有技术相比，可以大大降低触控区域与边框区域的色差，提高一体黑效果。

Description

一种触控显示模组、其制作方法及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控显示模组、其制作方法及显示装置。

背景技术

现有技术中，大部分触控显示产品在触控模组和显示面板贴合后，在触控区域和边框区域会出现明显的色差，为了提高视觉效果，需要尽可能的减小触控区域和边框区域的色差，达到一体黑的效果。针对一体化(OGS，One Glass Solution)触控模组，现有的一种方案是改变边框区域的黑矩阵材料，但是效果并不理想。

可见，现有技术中存在一体黑效果差的问题。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种触控显示模组、其制作方法及显示装置，用于解决现有技术中存在的一体黑效果差的问题。

本发明实施例的目的是通过以下技术方案实现的：

一种触控显示模组，包括显示面板和贴附在所述显示面板上的触控显示模组；该触控模组分为具有触控电极的触控区域和具有黑矩阵的边框区域，该触控模组包括衬底基板，在所述衬底基板靠近所述显示面板的一侧，包括第一消影层和第二消影层；其中：

所述第一消影层位于所述触控电极和所述衬底基板之间；所述第二消影层位于所述触控电极远离所述衬底基板的一侧；

所述第二消影层的厚度大于所述第一消影层的厚度，且所述第一消影层的厚度与所述第二消影层的厚度满足条件：在暗态显示模式下，所述触控区域和所述边框区域的色差小于预设值。

较佳地，在暗态显示模式下，所述触控区域和所述边框区域在Lab色彩模式下的色差ΔE小于1。

较佳地，所述第一消影层为最靠近所述衬底基板的膜层。

较佳地，所述触控电极包括完整的第一触控电极和与所述第一触控电极绝缘设置的具有多个子电极的第二触控电极；

所述触控模组还包括：具有桥点图案的导电层，其中，所述导电层中的桥点图案用于连接所述第二触控电极的子电极；以及位于所述导电层与所述第一触控电极之间且露出桥点的两端的第一绝缘层。

较佳地，在所述边框区域还包括与所述触控电极电连接的柔性线路板FPC连接部；

所述第二消影层暴露出所述FPC连接部所在区域。

较佳地，所述触控模组还包括位于所述第二消影层与所述触控电极、所述第一绝缘层和所述黑矩阵之间的第二绝缘层。

较佳地，所述第一消影层为五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层组成的复合膜层。

较佳地，所述第二消影层为五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层组成的复合膜层；或者，所述第二消影层为氮氧化硅膜层。

较佳地，所述触控电极和所述导电层的材料为氧化铟锡ITO。

较佳地，所述触控电极的厚度为时，所述第一消影层中的五氧化二铌膜层的厚度范围是二氧化硅膜层的厚度范围是所述第二消影层中的五氧化二铌膜层的厚度范围是二氧化硅膜层的厚度范围是所述第二消影层中的氮氧化硅膜层的厚度范围是

较佳地，所述第一消影层中的五氧化二铌膜层的厚度是二氧化硅膜层的厚度是所述第二消影层中的氮氧化硅膜层的厚度是

较佳地，所述第一消影层中的五氧化二铌膜层的厚度是二氧化硅膜层的厚度是所述第二消影层中的五氧化二膜层的厚度是二氧化硅膜层的厚度是

一种如以上任一项所述的触控显示模组的制作方法，该方法包括：

在衬底基板上形成第一消影层；

在所述衬底基板形成有所述第一消影层的一侧形成触控电极；

在所述衬底基板形成有所述触控电极的一侧形成第二消影层，以形成触控模组；

将所述衬底基板形成有所述第一消影层和所述第二消影层的一侧贴附在显示面板上；

其中：所述第二消影层的厚度大于所述第一消影层的厚度，且所述第一消影层的厚度与所述第二消影层的厚度满足条件：在暗态显示模式下，所述触控区域和所述边框区域的色差小于预设值。

较佳地，在所述衬底基板形成有所述第一消影层的一侧形成触控电极之后，在所述衬底基板形成有所述触控电极的一侧形成第二消影层之前，该方法还包括：

在所述边框区域形成与所述触控电极电连接的柔性线路板FPC连接部；

在所述衬底基板形成有所述触控电极的一侧形成第二消影层，包括：

利用掩膜版遮挡所述FPC连接部所在区域，在所述衬底基板形成有所述触控电极的一侧形成第二消影层；或者，在所述衬底基板形成有所述触控电极的一侧形成一整层第二消影层薄膜之后，利用刻蚀膏去除覆盖所述FPC连接部所在区域的第二消影层薄膜，以形成所述第二消影层。

一种显示装置，包括如以上任一项所述的触控显示模组。

本发明实施例的有益效果如下：

本发明实施例提供的触控显示模组、其制作方法及显示装置中，在触控显示模组中设置有第一消影层和第二消影层，第二消影层不仅可以实现对触控电极的消影，并且该第二消影层在第一消影层的配合下，还可以使得在暗态显示模式下触控区域与边框区域的色差非常小，与现有技术相比，大大降低了触控区域与边框区域的色差，提高了一体黑效果。另外，第二消影层还可以起到对触控模组的保护作用，降低在制作工艺中的刮伤不良率。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种触控模组的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种触控模组的制作方法流程图；

图3a～图3g为本发明实施例提供的一种触控模组的制作过程中的每个步骤对应的结构示意图；

图3f’为本发明实施例提供的制作FPC连接部时的部分结构的俯视示意图。

具体实施方式

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供一种，包括显示面板和贴附在显示面板上的触控模组；该触控模组分为具有触控电极的触控区域和具有黑矩阵的边框区域，该触控模组包括衬底基板，在衬底基板靠近显示面板的一侧，包括第一消影层和第二消影层；其中：

第一消影层位于触控电极和衬底基板之间；第二消影层位于触控电极远离衬底基板的一侧；

第二消影层的厚度大于第一消影层的厚度，且第一消影层的厚度与第二消影层的厚度满足条件：在暗态显示模式下，触控区域和边框区域的色差小于预设值。

其中，第二消影层可以使得触控电极所在区域的光学折射率等于其它区域的光学折射率；一般，在制作工艺中，触控电极所在区域的光学折射率与其它区域的光学折射率无限接近，即误差在预设范围内，都认为触控电极所在区域的光学折射率与其它区域的光学折射率相等。这样，可以达到对触控电极进行消影的目的。

其中，由于第二消影层还要对触控电极进行消影，因而第二消影层的厚度要比第一消影层厚。本发明实施例中，第一消影层和第二消影层在预定厚度下，能够使得在暗态显示模式下，触控区域和边框区域的色差小于预设值，该预设值为达到所需一体黑效果的最大色差值。例如，触控区域和边框区域在Lab色彩模式下的色差ΔE小于1时，给观看者的视觉感受就是两个区域的颜色一致，本发明的方案就可以实现色差ΔE小于1；其中，在Lab色彩模式中，L表示亮度值，a表示红绿色值，b表示黄蓝色值，两个颜色的色差其中，ΔL表示两个颜色的亮度值的差值，Δa表示两个颜色的红绿色值的差值，Δb表示两个颜色的黄蓝色值的差值。

本发明实施例中，在触控显示模组中设置有第一消影层和第二消影层，第二消影层不仅可以实现对触控电极的消影，并且该第二消影层在第一消影层的配合下，还可以使得在暗态显示模式下触控区域与边框区域的色差非常小，与现有技术相比，大大降低了触控区域与边框区域的色差，提高了一体黑效果。另外，第二消影层还可以起到对触控模组的保护作用，降低在制作工艺中的刮伤不良率。

下面结合附图和实施例对本发明的方案进行更详细地说明。

具体实施时，在一种可能的触控显示模组中，触控模组的具体结构如图1所示，该触控模组分为具有触控电极001的触控区域和具有黑矩阵002的边框区域，该触控模组包括衬底基板003，在衬底基板003靠近显示面板的一侧，在触控区域和边框区域包括第一消影层004和第二消影层005；其中：

第一消影层004位于触控电极001和衬底基板003之间；第二消影层位于触控电极远离衬底基板的一侧；

第二消影层005的厚度大于第一消影层004的厚度，且第一消影层004的厚度与第二消影层005的厚度满足条件：在暗态显示模式下，触控区域和边框区域在Lab色彩模式下的色差ΔE小于1。

具体实施时，第一消影层的膜层位置对一体黑效果有一定的影响，为了进一步提高一体黑效果，具体实施时，较佳地，如图1所示，第一消影层004为最靠近衬底基板003的膜层。本实施例中，第一消影层为最靠近衬底基板的膜层，第二消影层为最远离衬底基板的膜层，能够达到较佳的一体黑效果。

一般，触控显示模组中包括分别沿行方向和列方向设置的触控电极，其中一个作为驱动电极，另一个作为感应电极。在一种可能的实施例中，沿行方向设置的触控电极和沿列方向设置的触控电极都是一条完整的电极。在另一种可能的实施例中，其中一个方向的为一条完整的电极，另一个方向分为多个子电极。如图1所示的触控电极001包括完整的第一触控电极001a和与第一触控电极绝缘设置的具有多个子电极的第二触控电极001b；该触控模组还包括：具有桥点图案的导电层006，其中，导电层006中的桥点图案用于连接第二触控电极001b的子电极；以及位于导电层006与第一触控电极001a之间且露出桥点的两端的第一绝缘层007。第一绝缘层007主要起到对第一触控电极和第二触控电极绝缘的作用，导电层中的桥点的两端无第一绝缘层覆盖，以保证第二触控电极001b的子电极能够与桥点的两端进行电连接。较佳地，如图1所示，第一绝缘层007还位于黑矩阵002所在区域，这样可以起到抗静电的作用。

由于触控电极需要与柔性线路板(Flexible Printed Circuit，FPC)连接，具体实施时，较佳地，如图1所示，在边框区域还包括与触控电极电连接的FPC连接部008；第二消影层005暴露出FPC连接部008所在区域。本实施例中，在FPC连接部所在区域没有第二消影层的遮挡以确保电性。

具体实施时，较佳地，如图1所示的触控显示模组还包括位于第二消影层005与触控电极001、第一绝缘层007和黑矩阵002之间的第二绝缘层009。

具体实施时，较佳地，第一消影层为五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层组成的复合膜层。

具体实施时，较佳地，第二消影层为五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层组成的复合膜层；或者，第二消影层为氮氧化硅膜层。

具体实施时，较佳地，触控电极和导电层的材料为氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)。基于此，为了达到较好的一体黑效果，触控电极的厚度为时，第一消影层中的五氧化二铌膜层的厚度范围是二氧化硅膜层的厚度范围是第二消影层中的五氧化二铌膜层的厚度范围是二氧化硅膜层的厚度范围是第二消影层中的氮氧化硅膜层的厚度范围是

为了进一步达到较好的一体黑效果，较佳地，第一消影层中的五氧化二铌膜层的厚度是二氧化硅膜层的厚度是第二消影层中的氮氧化硅膜层的厚度是

为了进一步达到较好的一体黑效果，较佳地，第一消影层中的五氧化二铌膜层的厚度是二氧化硅膜层的厚度是第二消影层中的五氧化二膜层的厚度是二氧化硅膜层的厚度是

以上仅是以的ITO触控电极为例，列举的较好的一体黑效果的厚度参数。具体实施时，如果ITO触控电极为其它的厚度，可以根据触控电极的厚度，确定需要的达到消影的第二消影层的厚度，再确定第一消影层的厚度，进而使得第一消影层的厚度与第二消影层的厚度满足条件：触控区域和边框区域在Lab色彩模式下的色差ΔE小于1。

基于同样的发明构思，本发明实施例还提供一种如以上任意实施例的触控显示模组的制作方法，如图2所示，该方法至少包括如下步骤：

步骤210、在衬底基板上形成第一消影层；

步骤220、在衬底基板形成有第一消影层的一侧形成触控电极；

步骤230、在衬底基板形成有触控电极的一侧形成第二消影层，以形成触控模组；

步骤240、将衬底基板形成有第一消影层和第二消影层的一侧贴附在显示面板上；其中，第二消影层的厚度大于第一消影层的厚度，且第一消影层的厚度与第二消影层的厚度满足条件：在暗态显示模式下，触控区域和边框区域的色差小于预设值。

其中，第二消影层可以使得触控电极所在区域的光学折射率等于其它区域的光学折射率；一般，在制作工艺中，触控电极所在区域的光学折射率与其它区域的光学折射率无限接近，即误差在预设范围内，都认为触控电极所在区域的光学折射率与其它区域的光学折射率相等。这样，可以达到对触控电极进行消影的目的。

其中，由于第二消影层还要对触控电极进行消影，因而第二消影层的厚度要比第一消影层厚。本发明实施例中，第一消影层和第二消影层在预定厚度下，能够使得在暗态显示模式下，触控区域和边框区域的色差小于预设值，该预设值为达到所需一体黑效果的最大色差值。例如，触控区域和边框区域在Lab色彩模式下的色差ΔE小于1时，给观看者的视觉感受就是两个区域的颜色一致，本发明的方案可以实现色差ΔE小于1；其中，在Lab色彩模式中，L表示亮度值，a表示红绿色值，b表示黄蓝色值；两个颜色的色差其中，ΔL表示两个颜色的亮度值的差值，Δa表示两个颜色的红绿色值的差值，Δb表示两个颜色的黄蓝色值的差值。

本发明实施例中，在触控显示模组中设置有第一消影层和第二消影层，第二消影层不仅可以实现对触控电极的消影，并且该第二消影层在第一消影层的配合下，还可以使得在暗态显示模式下触控区域与边框区域的色差非常小，与现有技术相比，大大降低了触控区域与边框区域的色差，提高了一体黑效果。另外，第二消影层还可以起到对触控模组的保护作用，降低在制作工艺中的刮伤不良率。

具体实施例时，较佳地，在衬底基板形成有第一消影层的一侧形成触控电极之后，在衬底基板形成有触控电极的一侧形成第二消影层之前，本发明实施例提供的制作方法还包括：在边框区域形成与触控电极电连接的FPC连接部。相应的，在衬底基板形成有触控电极的一侧形成第二消影层，包括：

利用掩膜版遮挡FPC连接部所在区域，在衬底基板形成有触控电极的一侧形成第二消影层；或者，在衬底基板形成有触控电极的一侧形成一整层第二消影层薄膜之后，利用刻蚀膏去除覆盖FPC连接部所在区域的第二消影层薄膜，以形成第二消影层。

本实施例中，在FPC连接部没有覆盖第二消影层，不会影响其电性。

下面以触控电极为的ITO为例，对本发明实施例提供的触控显示模组的制作方法进行更加详细地说明。

本实施例中的触控模组为OGS触控模组，该触控模组的具体的制作步骤如下：

步骤一、如图3a所示，在衬底基板003上形成第一消影层004。

其中，衬底基板003为玻璃基板。

该步骤中的第一消影层004包括依次层叠的五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层，且厚度分别为和

该步骤中，第一消影层是溅镀(Sputter)工艺形成的，稳定性更好。

步骤二、如图3b所示，在衬底基板003形成有第一消影层004的一侧的边框区域形成黑矩阵002。

该步骤中，具体的，可以先在第一消影层上覆盖一整层的黑矩阵，然后经过光刻蚀工艺，仅保留边框区域的黑矩阵。

步骤三、如图3c所示，在衬底基板003形成有黑矩阵002的一侧形成具有桥点图案的导电层006。

步骤四、如图3d所示，在衬底基板003形成有导电层006的一侧形成第一绝缘层007，该第一绝缘层007位于黑矩阵002和导电层006上且露出桥点的两端。

步骤五、如图3e所示，在衬底基板003形成有第一绝缘层007的的一侧形成第一触控电极001a和第二触控电极001b，该第二触控电极001b的子电极通过桥点电连接。

步骤六、如图3f所示，在衬底基板003形成有第一触控电极001a和第二触控电极001b的一侧形成与各第一触控电极001a和第二触控电极001b电连接的FPC连接部008，可参见如图3f’所示的部分结构的俯视图。

步骤七、如图3g所示，在衬底基板003形成有FPC连接部008的一侧形成覆盖黑矩阵002、第一触控电极001a、第二触控电极001b和第一绝缘层007的第二绝缘层009。

从图3g中可以看出，FPC连接部008没有被第二绝缘层009覆盖，而是暴露出来，以保证其电性，另外，在具体实施时，一些粗的接地(Ground，GND)线(图中未示出)的最大块会暴露出来。

步骤八、利用掩膜版遮挡住FPC连接部008所在区域/或整面Sputter后采用刻蚀膏刻蚀的方式，在衬底基板003形成有第二绝缘层009的一侧形成第二消影层005。该步骤中得到的结构可以参见图1。

该步骤中，第二消影层为氮氧化硅膜层且厚度是或者，第二消影层为依次层叠的五氧化二膜层和二氧化硅膜层，且厚度分别为和

该步骤中，第二消影层是采用Sputter技术形成的，稳定性更好。

按照以上步骤制作得到的触控模组后，将上述衬底基板003形成有第一消影层和第二消影层的一侧全贴合在显示面板上，即制作得到触控显示模组。本实施例的制作方法得到的触控显示模组，能够实现在暗态显示模式下，触控区域和边框区域在Lab色彩模式下的色差ΔE小于1，一体黑效果大大提高了。

基于同样的发明构思，本发明实施例还提供一种显示装置，包括如以上任意实施例的触控显示模组。

本发明实施例提供的触控显示模组、其制作方法及显示装置中，在触控显示模组中设置有第一消影层和第二消影层，第二消影层不仅可以实现对触控电极的消影，并且该第二消影层在第一消影层的配合下，还可以使得在暗态显示模式下触控区域与边框区域的色差非常小，与现有技术相比，大大降低了触控区域与边框区域的色差，提高了一体黑效果。另外，第二消影层还可以起到对触控模组的保护作用，降低在制作工艺中的刮伤不良率。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (15)

1.一种触控显示模组，包括显示面板和贴附在所述显示面板上的触控显示模组；该触控模组分为具有触控电极的触控区域和具有黑矩阵的边框区域，该触控模组包括衬底基板，其特征在于：在所述衬底基板靠近所述显示面板的一侧，包括第一消影层和第二消影层；其中：

所述第一消影层位于所述触控电极和所述衬底基板之间；所述第二消影层位于所述触控电极远离所述衬底基板的一侧；

所述第二消影层的厚度大于所述第一消影层的厚度，且所述第一消影层的厚度与所述第二消影层的厚度满足条件：在暗态显示模式下，所述触控区域和所述边框区域的色差小于预设值。

2.根据权利要求1所述的触控显示模组，其特征在于，在暗态显示模式下，所述触控区域和所述边框区域在Lab色彩模式下的色差ΔE小于1。

3.根据权利要求1所述的触控显示模组，其特征在于，所述第一消影层为最靠近所述衬底基板的膜层。

4.根据权利要求3所述的触控显示模组，其特征在于，所述触控电极包括完整的第一触控电极和与所述第一触控电极绝缘设置的具有多个子电极的第二触控电极；

所述触控模组还包括：具有桥点图案的导电层，其中，所述导电层中的桥点图案用于连接所述第二触控电极的子电极；以及位于所述导电层与所述第一触控电极之间且露出桥点的两端的第一绝缘层。

5.根据权利要求4所述的触控显示模组，其特征在于，在所述边框区域还包括与所述触控电极电连接的柔性线路板FPC连接部；

所述第二消影层暴露出所述FPC连接部所在区域。

6.根据权利要求5所述的触控显示模组，其特征在于，所述触控模组还包括位于所述第二消影层与所述触控电极、所述第一绝缘层和所述黑矩阵之间的第二绝缘层。

7.根据权利要求6所述的触控显示模组，其特征在于，所述第一消影层为五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层组成的复合膜层。

8.根据权利要求7所述的触控显示模组，其特征在于，所述第二消影层为五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层组成的复合膜层；或者，所述第二消影层为氮氧化硅膜层。

9.根据权利要求8所述的触控显示模组，其特征在于，所述触控电极和所述导电层的材料为氧化铟锡ITO。

10.根据权利要求9所述的触控显示模组，其特征在于，所述触控电极的厚度为时，所述第一消影层中的五氧化二铌膜层的厚度范围是二氧化硅膜层的厚度范围是所述第二消影层中的五氧化二铌膜层的厚度范围是二氧化硅膜层的厚度范围是所述第二消影层中的氮氧化硅膜层的厚度范围是

11.根据权利要求10所述的触控显示模组，其特征在于，所述第一消影层中的五氧化二铌膜层的厚度是二氧化硅膜层的厚度是所述第二消影层中的氮氧化硅膜层的厚度是

12.根据权利要求11所述的触控显示模组，其特征在于，所述第一消影层中的五氧化二铌膜层的厚度是二氧化硅膜层的厚度是所述第二消影层中的五氧化二膜层的厚度是二氧化硅膜层的厚度是

13.一种如权利要求1～12任一项所述的触控显示模组的制作方法，其特征在于，该方法包括：

在衬底基板上形成第一消影层；

在所述衬底基板形成有所述第一消影层的一侧形成触控电极；

在所述衬底基板形成有所述触控电极的一侧形成第二消影层，以形成触控模组；

将所述衬底基板形成有所述第一消影层和所述第二消影层的一侧贴附在显示面板上；

其中：所述第二消影层的厚度大于所述第一消影层的厚度，且所述第一消影层的厚度与所述第二消影层的厚度满足条件：在暗态显示模式下，所述触控区域和所述边框区域的色差小于预设值。

14.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于，在所述衬底基板形成有所述第一消影层的一侧形成触控电极之后，在所述衬底基板形成有所述触控电极的一侧形成第二消影层之前，该方法还包括：

在所述边框区域形成与所述触控电极电连接的柔性线路板FPC连接部；

在所述衬底基板形成有所述触控电极的一侧形成第二消影层，包括：

利用掩膜版遮挡所述FPC连接部所在区域，在所述衬底基板形成有所述触控电极的一侧形成第二消影层；或者，在所述衬底基板形成有所述触控电极的一侧形成一整层第二消影层薄膜之后，利用刻蚀膏去除覆盖所述FPC连接部所在区域的第二消影层薄膜，以形成所述第二消影层。

15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～12任一项所述的触控显示模组。