JP2007150323A - 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 - Google Patents
電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007150323A JP2007150323A JP2006330515A JP2006330515A JP2007150323A JP 2007150323 A JP2007150323 A JP 2007150323A JP 2006330515 A JP2006330515 A JP 2006330515A JP 2006330515 A JP2006330515 A JP 2006330515A JP 2007150323 A JP2007150323 A JP 2007150323A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electromagnetic wave
- wave shielding
- refractive index
- layer
- oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】透明な基材(2)上に電磁波遮蔽膜(100)が設けられた電磁波遮蔽積層体(1)であって、前記電磁波遮蔽膜(100)が、前記基材(2)側から順に、屈折率が2.0以上である物質からなる第1の高屈折率層(31)、酸化亜鉛を主成分とする第1の酸化物層(32)、銀を主成分とする導電層(33)および屈折率が2.0以上である物質からなる第2の高屈折率層(35)を有することを特徴とする電磁波遮蔽積層体。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の実施の形態に係る電磁波遮蔽積層体の例を図面に示し、詳細に説明する。
図1に、本発明の第1の実施形態に係る電磁波遮蔽積層体1を示す。なお、図1における各寸法比は、説明の便宜上実際と異なるものとなっている。この電磁波遮蔽積層体1は、透明な基材2上に電磁波遮蔽膜100、・、・、・が設けられている。
本実施形態では、電磁波遮蔽膜100が4積層された構成となっている。
基材2の材質としては、平滑透明で、可視光線を透過し得るものであればよい。例えば、プラスチック、ガラス等が挙げられる。
プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート等を挙げることができる。
基材2の厚さは用途に応じて適宜選定される。例えば、フィルムでもよいし、板状でもよい。また、基材2は、単一の層で構成してもよいし、複数層の積層体としてもよい。
基材2は、別のガラス板、プラスチック板等に粘着剤等で貼り付けて使用してもよい。例えば、薄いフィルム状のプラスチックの基材2を別のプラスチック板、ガラス板等に貼り付けてもよいし、ガラス板の基材2を別のガラス板、プラスチック板等に貼り付けてもよい。
基材2の上に設けられる電磁波遮蔽膜100、・、・、・は、各々第1の高屈折率層31と、第1の高屈折率層31上に設けた第1の酸化物層32と、第1の酸化物層32上に設けた導電層33と、導電層33上に設けた第2の高屈折率層35とから基本的に構成されている。本実施形態では、さらに導電層33と第2の高屈折率層35との間に、第2の酸化物層34が設けられ、各々第1の高屈折率層31と、第1の酸化物層32と、導電層33と、第2の酸化物層34と、第2の高屈折率層35とから電磁波遮蔽膜100、・、・、・が構成されている。
第1の高屈折率層31、・、・、・と第2の高屈折率層35、・、・、・は、屈折率が2.0以上である物質によって構成されている。該屈折率は、2.0以上、2.7以下であることが好ましい。第1の高屈折率層31、・、・、・または第2の高屈折率層35、・、・、・の屈折率を2.0以上とすることにより、電磁波遮蔽膜100、・、・、・の積層数を増やしても可視光透過率を高く維持することができる。
なお、本明細書における屈折率(n)とは、波長550nmにおける屈折率をいう。
<第1の酸化物層>
第1の酸化物層32、・、・、・は、酸化亜鉛を主成分とする物質によって構成されている。酸化亜鉛を主成分とする物質は、その結晶構造が、導電層33、・、・、・を構成する銀の結晶構造と近い。従って、酸化亜鉛を主成分とする材料からなる酸化物層の上に銀を積層すると結晶性の良い銀が得られる。結晶性の良い銀はマイグレーションの発生が低減できると考えられる。以上から、第1の酸化物層32、・、・、・を酸化亜鉛を主成分とする材料にすることにより、銀のマイグレーションが抑制され、第1の酸化物層32、・、・、・と導電層33、・、・、・との密着性を維持することができる。密着性を維持できることにより、界面への水分の侵入を抑えることができ、銀の耐湿性が良好になる。本発明における電磁波遮蔽膜100、・、・、・が(酸化亜鉛を主成分とする材料からなる)第2の酸化物層を含む場合、結晶性の良い銀からなる導電層33、・、・、・と(酸化亜鉛を主成分とする材料からなる)第2の酸化物層34、・、・、・との界面でも、同様に密着性を維持することができ、耐湿性がさらに良好になる。
第2の酸化物層34、・、・、・は、金属酸化物を主成分とする物質によって構成されている。金属酸化物としては、酸化亜鉛を主成分とする物質、酸化チタンを主成分とする物質、酸化インジウムを主成分とする物質等が好ましく挙げられる。酸化亜鉛を主成分とする物質を第2の酸化物層34、・、・、・に用いた場合、第1の酸化物層と銀からなる導電層33、・、・、・との界面の場合と同様に、結晶性の良い銀からなる導電層33、・、・、・と酸化亜鉛を主成分とする材料からなる第2の酸化物層34、・、・、・との界面では、密着性を維持することができ、耐湿性がさらに良好になるので好ましい。
導電層33、・、・、・は、銀を主成分とする物質によって構成されている。ここで、銀を主成分とする物質とは、該物質に含まれる全金属に対して、銀の含有量が99.8原子%以上であることを意味する。銀を主成分とする物質としては、銀単体、銀にパラジウム、白金、金、イリジウム、ロジウム、銅およびビスマスから選ばれる少なくとも一種の金属が混入されている合金が挙げられる。銀の含有量が99.8原子%以上であることにより、導電層33、・、・、・の膜厚を薄くしても電磁波遮蔽積層体1の抵抗値を低くすることができる。さらに、電磁波遮蔽膜100、・、・、・の積層数が少なくても抵抗値を低くできるため、抵抗値が低く、かつ、可視光透過率が高い電磁波遮蔽積層体1を得ることができる。
導電層33、・、・、・の幾何学的膜厚は5〜20nmが好ましい。各導電層33の幾何学的膜厚は同じであっても異なっていてもよい。
導電層33、・、・、・の形成は、スパッタリング法、蒸着法等の各種の方法にしたがって行うことができる。特に、成膜速度が速く、かつ大面積に均一な厚さで均一な質の層を形成することができる点から、直流スパッタリング法によって形成するのが好ましい。
以下、本発明の実施の形態に係るディスプレイ装置について、詳細に説明する。
本発明の第2の実施形態に係るディスプレイ装置は、画像を表示するためのディスプレイ画面と、ディスプレイ画面の視認側に設けられた電磁波遮蔽積層体とを備えている。
ディスプレイ装置としては、プラズマディスプレイパネル(PDP)、液晶表示装置(LCD)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)等が挙げられる。
本発明の第3の実施形態に係るディスプレイ装置は、画像を表示するためのディスプレイ画面と、ディスプレイ画面の視認側の面上に設けられた電磁波遮蔽膜とから構成されている。
(1)電磁波遮蔽膜が、ディスプレイ画面の視認側の面上から順に、屈折率が2.0以上である物質からなる第1の高屈折率層、酸化亜鉛を主成分とする第1の酸化物層、銀を主成分とする導電層および屈折率が2.0以上である物質からなる第2の高屈折率層を有するディスプレイ装置や、
(2)該電磁波遮蔽膜が、導電層と第2の高屈折率層との間に、第2の酸化物層を有するディスプレイ装置や、
(3)該電磁波遮蔽膜の第1または第2の高屈折率層が酸化ニオブを主成分とする層であるディスプレイ装置や、
(4)該電磁波遮蔽膜の導電層における銀の含有量が99.8原子%以上であるディスプレイ装置や、
(5)該電磁波遮蔽膜が、基材側から3以上積層されたディスプレイ装置などが挙げられる。
この場合、ディスプレイ画面の視認側は、一般に、ガラス基板、プラスチック基板等の透明基板で構成されている。
電磁波遮蔽膜は、蒸着法、スパッタリング法などにより、直接ディスプレイ画面の視認側表面上に形成することができる。
透明基材として、高透過の光学用途向けフィルムであるポリエチレンテレフタレートフィルム(以下、PETという。厚さ100μm)を使用した。
スパッタ成膜には、Web coater成膜装置(平野光音(株)社)を用いた。ターゲットのサイズは50mm×195mmで、基材の搬送は長巻のフィルム基材を送り出し、ガイドロールを介し、キャンロール位置でスパッタして、ガイドロールを介し再び巻き取るロール・ツー・ロール方式で行った。スパッタ電源は、DC放電(AE社MDX−10K、ENI社RPG−100)で成膜を行った。
(1)可視光透過率
得られた電磁波遮蔽積層体の可視光透過率は、朝日分光社製のModel304型透過率計を用いて測定した。可視光透過率の測定結果を下記表2に示す。
(2)抵抗値
得られた電磁波遮蔽積層体の抵抗値は、DELCOM社製717conductance monitorを用いて測定した。抵抗値の測定結果を下記表2に示す。
(3)耐湿性
耐湿性評価にはNaCl試験を用いた。まず、2質量%NaCl水溶液1μリットルを電磁波遮蔽積層体の電磁波遮蔽膜上に滴下した後、乾燥させた。その後、電磁波遮蔽膜上に粘着材(ポラテクノ社製ADC2または有沢製作所社製PTR2500、厚さ25μm)付きPETフィルム(厚さ100μm)を張り合わせ、温度60℃相対湿度95%の恒温恒湿槽に100時間保存した後、取り出してPETフィルムを剥した。劣化して剥離した部分の面積をノギスで測定した。劣化面積の測定結果を下記表2に示す。
高屈折率層(1)の上に酸化物層(1)を形成させることなく、高屈折率層(1)の上に直接導電層を実施例1と同様の成膜条件で形成させた。それ以外は、実施例1と同様にして電磁波遮蔽積層体を作製した。
得られた電磁波遮蔽積層体について、実施例1と同様の方法で、可視光透過率、抵抗値、耐湿性の評価を行った。可視光透過率、抵抗値、耐湿性の測定結果を下記表2に示す。
酸化物層(1)および酸化物層(2)を形成させることなく、高屈折率層(1)と高屈折率層(2)との間に直接導電層を実施例1と同様の成膜条件で形成させた。それ以外は、実施例1と同様にして電磁波遮蔽積層体を作製した。
得られた電磁波遮蔽積層体について、実施例1と同様の方法で、可視光透過率、抵抗値、耐湿性の評価を行った。可視光透過率、抵抗値、耐湿性の測定結果を下記表2に示す。
成膜条件を表3に示す条件とする以外は、実施例1と同様にして電磁波遮蔽積層体を作製した。
得られた電磁波遮蔽積層体について、実施例1と同様の方法で、耐湿性の評価を行った。耐湿性の測定結果を表6に示す。
成膜条件を表4に示す条件とする以外は、実施例1と同様にして電磁波遮蔽積層体を作製した。
高屈折率層(1)および(2)は、還元型酸化チタン(TXO)ターゲット(旭硝子セラミックス社製)を用いDC放電で成膜した。
得られた電磁波遮蔽積層体について、実施例1と同様の方法で、耐湿性の評価を行った。耐湿性の測定結果を表6に示す。
成膜条件を表5に示す条件とし、高屈折率層(1)および(2)に代えてAZO層(屈折率:1.93)(1)および(2)とする以外は、実施例1と同様にして電磁波遮蔽積層体を作成した。
AZO層(1)および(2)は、酸化亜鉛に酸化アルミニウムを3質量%添加したもの(旭硝子セラミックス社製)をターゲットとしてDC放電で成膜した。
なお、得られた電磁波遮蔽積層体の酸化物層中の亜鉛とアルミニウムの含有率は、ターゲット中に含まれる亜鉛とアルミニウムの含有率とほぼ同じとなる。
得られた電磁波遮蔽積層体について、実施例1と同様の方法で、耐湿性の評価を行った。耐湿性の測定結果を表6に示す。
2 基材
31 第1の高屈折率層
32 第1の酸化物層
33 導電層
34 第2の酸化物層
35 第2の高屈折率層
100 電磁波遮蔽膜
200 一括して成膜した高屈折率層
Claims (10)
- 透明な基材上に電磁波遮蔽膜が設けられた電磁波遮蔽積層体であって、
前記電磁波遮蔽膜が、前記基材側から順に、屈折率が2.0以上である物質からなる第1の高屈折率層、
酸化亜鉛を主成分とする第1の酸化物層、
銀を主成分とする導電層
および屈折率が2.0以上である物質からなる第2の高屈折率層を有することを特徴とする電磁波遮蔽積層体。 - 前記電磁波遮蔽膜が、前記導電層と前記第2の高屈折率層との間に、
第2の酸化物層を有する請求項1に記載の電磁波遮蔽積層体。 - 前記第1または第2の高屈折率層が酸化ニオブを主成分とする層である請求項1または2に記載の電磁波遮蔽積層体。
- 前記導電層における銀の含有量が99.8原子%以上である請求項1、2または3に記載の電磁波遮蔽積層体。
- 前記第2の酸化物層が酸化亜鉛を主成分とする酸化物層である請求項2〜4いずれか一項に記載の電磁波遮蔽積層体。
- 前記電磁波遮蔽膜が、前記基材側から3以上積層された請求項1〜5のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽積層体。
- 透明な基材上に電磁波遮蔽膜が2以上積層された電磁波遮蔽積層体であって、
前記電磁波遮蔽膜が、前記基材側から順に、屈折率が2.0以上である物質からなる第1の高屈折率層、
酸化亜鉛を主成分とする第1の酸化物層、
銀を主成分とする導電層
および屈折率が2.0以上である物質からなる第2の高屈折率層
を有し、前記電磁波遮蔽膜間で直接接する前記第1の高屈折率層と前記第2の高屈折率層が一括して成膜された1つの層からなることを特徴とする電磁波遮蔽積層体。 - 前記各電磁波遮蔽膜が、前記導電層と前記第2の高屈折率層との間に、
第2の酸化物層を有する請求項7に記載の電磁波遮蔽積層体。 - 前記第1または第2の高屈折率層が酸化ニオブを主成分とする層である請求項7または8に記載の電磁波遮蔽積層体。
- 画像を表示するためのディスプレイ画面と、
該ディスプレイ画面の視認側に設けられた請求項1〜9のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽積層体とを備えることを特徴とするディスプレイ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006330515A JP4820738B2 (ja) | 2003-08-25 | 2006-12-07 | 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003208674 | 2003-08-25 | ||
JP2003208674 | 2003-08-25 | ||
JP2006330515A JP4820738B2 (ja) | 2003-08-25 | 2006-12-07 | 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005513310A Division JPWO2005020655A1 (ja) | 2003-08-25 | 2004-08-20 | 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009251970A Division JP2010034577A (ja) | 2003-08-25 | 2009-11-02 | 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007150323A true JP2007150323A (ja) | 2007-06-14 |
JP4820738B2 JP4820738B2 (ja) | 2011-11-24 |
Family
ID=38211254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006330515A Expired - Fee Related JP4820738B2 (ja) | 2003-08-25 | 2006-12-07 | 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4820738B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7406315B2 (ja) | 2019-07-03 | 2023-12-27 | デクセリアルズ株式会社 | 導電性積層体及びこれを用いた光学装置、導電性積層体の製造方法 |
JP2021137993A (ja) | 2020-03-03 | 2021-09-16 | デクセリアルズ株式会社 | 導電性積層体及びこれを用いた光学装置、導電性積層体の製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998013850A1 (fr) * | 1996-09-26 | 1998-04-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Plaque de protection d'ecran a plasma et son procede de fabrication |
JP2000059082A (ja) * | 1998-08-06 | 2000-02-25 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 電磁波フィルタ |
JP2000294980A (ja) * | 1999-04-06 | 2000-10-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 透光性電磁波フィルタおよびその製造方法 |
JP2002006106A (ja) * | 2000-06-22 | 2002-01-09 | Nitto Denko Corp | プラズマデイスプレイパネル用フイルタおよびプラズマデイスプレイパネル表示装置 |
JP2002535713A (ja) * | 1999-01-21 | 2002-10-22 | ヴィラテック・シン・フィルムズ・インコーポレーテッド | ディスプレイパネルフィルタ及びその製造方法 |
JP2004207383A (ja) * | 2002-12-24 | 2004-07-22 | Central Glass Co Ltd | 電磁遮蔽膜 |
-
2006
- 2006-12-07 JP JP2006330515A patent/JP4820738B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998013850A1 (fr) * | 1996-09-26 | 1998-04-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Plaque de protection d'ecran a plasma et son procede de fabrication |
JP2000059082A (ja) * | 1998-08-06 | 2000-02-25 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 電磁波フィルタ |
JP2002535713A (ja) * | 1999-01-21 | 2002-10-22 | ヴィラテック・シン・フィルムズ・インコーポレーテッド | ディスプレイパネルフィルタ及びその製造方法 |
JP2000294980A (ja) * | 1999-04-06 | 2000-10-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 透光性電磁波フィルタおよびその製造方法 |
JP2002006106A (ja) * | 2000-06-22 | 2002-01-09 | Nitto Denko Corp | プラズマデイスプレイパネル用フイルタおよびプラズマデイスプレイパネル表示装置 |
JP2004207383A (ja) * | 2002-12-24 | 2004-07-22 | Central Glass Co Ltd | 電磁遮蔽膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4820738B2 (ja) | 2011-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010034577A (ja) | 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 | |
JP4961786B2 (ja) | 透明導電膜、およびこれを用いた透明導電性フィルム | |
US7740946B2 (en) | Electroconductive laminate, and electromagnetic wave shielding film for plasma display and protective plate for plasma display | |
JPWO2006090798A1 (ja) | 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 | |
US20080118762A1 (en) | Electromagnetic wave shielding film and protective plate for plasma display panel | |
TWI671663B (zh) | 觸控面板用導電性基板、觸控面板用導電性基板之製造方法 | |
WO2013099736A1 (ja) | 反射電極用Ag合金膜および反射電極 | |
JP2013177667A (ja) | 反射膜および/または透過膜、もしくは電気配線および/または電極に用いられるAg合金膜、並びにAg合金スパッタリングターゲットおよびAg合金フィラー | |
WO2003037056A1 (fr) | Substrat dote d'un film de protection electromagnetique | |
US20160224151A1 (en) | Electrode to be used in input device and method for producing same | |
TWI712506B (zh) | 積層體基板、積層體基板之製造方法、導電性基板、及導電性基板之製造方法 | |
US9947429B2 (en) | Ag alloy film for reflecting electrode or wiring electrode, reflecting electrode or wiring electrode, and Ag alloy sputtering target | |
JP4168689B2 (ja) | 薄膜積層体 | |
JP4820738B2 (ja) | 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置 | |
JP2005093441A (ja) | 積層型透明導電膜 | |
JP2001052529A (ja) | 透明導電性薄膜積層体 | |
JP2005047178A (ja) | 導電性を有する多層膜付透明基板 | |
JPH11262968A (ja) | 透明導電膜 | |
KR20170141674A (ko) | 도전성 기판 및 액정 터치 패널 | |
EP4116084A1 (en) | Electroconductive laminate, optical device in which same is used, and method for producing electroconductive laminate | |
JP2005242264A (ja) | 透明導電性薄膜積層体およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用光学フィルター | |
JP2002117735A (ja) | 透明積層体の製造方法 | |
WO2021095550A1 (ja) | 積層構造体 | |
WO2015133007A1 (ja) | 透明導電体の製造方法 | |
JP2001001441A (ja) | 透明導電積層体及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070809 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070810 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090901 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091102 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20091104 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20091102 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091215 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100216 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100330 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100630 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100701 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100823 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100820 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100915 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20101029 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110627 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110905 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140909 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |