JP2006313918A - プラズマディスプレイ用保護板とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】前記保護板は、ガラス板からなる基体1上に、酸化物と金属の多層膜からなる電磁波遮蔽のための導電膜2前記導電膜2に電気的に接続された電極3、飛散防止用の樹脂フィルム5及び近赤外吸収樹脂フィルム6を形成してなる。
【選択図】図1
Description
また、人体に有害な電磁波や、様々な電気機器のリモコンの誤動作をまねく近赤外線が、PDPから発生するため、これらの電磁波の遮蔽性能を保護板に付加する必要が生じてきた。
前述したようにPDP用保護板は、PDPから放出される電磁波を遮蔽する性能(したがって、高い導電性、すなわち低いシート抵抗値を有すること)、PDPから放出される近赤外線を遮蔽する性能、さらに、高い透過率、反射防止等の性能を満たす必要がある。電磁波遮蔽性能を付与するためには、基体に直接導電膜をスパッタリング等の方法で形成する、樹脂フィルム上に導電膜を形成した導電性フィルムを基体に貼り合わせる、導電性のメッシュからなる導電膜を基体に埋め込む、等の方法が可能である。
図18は図17の保護板の製造過程を示す模式的概略断面図であり、(a)基体31に隣接する導電層32と他の板(ガラス等)41との間に近赤外線吸収性アクリル樹脂40を流し込み、(b)かかるアクリル樹脂が固まって、近赤外線吸収基体38となった後、他の板41を除去し、(c)外側に反射防止フィルム35を設ける、という方法で、図17の保護板を製造できる。導電層32としては、上述の導電層32の他に、導電性メッシュ32c(例えば、スパッタリングによりCuを形成したポリエステルメッシュ等)が挙げられる。この場合の導電性メッシュ32cのメッシュ間隔は、電磁波遮蔽性能を確保するために、300μm以下であることが好ましい。また、導電性メッシュ32cは、PDPの表示機能を妨げないものが好ましい。
図1を参照しながら、本実施例を説明する。
ガラス板(基体1)を必要な大きさに切断、面取りした後、洗浄し、着色セラミック層4用のインクを図3のようにガラス板周辺全体にスクリーン印刷で印刷し、充分に乾燥した。その後、その上に電極3用の銀ペーストを、図3のようにガラス板周辺全体にスクリーン印刷し、乾燥した。次いで、インクおよびペーストの焼成とガラスの強化処理を目的として、このガラスを660℃まで加熱し、その後風冷強化を施した。こうして作製したガラス板の電極3が形成されている面上に、透明導電膜(導電膜2)を以下の方法により形成した(第1工程)。
また、近赤外線の透過率は、800〜850nmにおいては5%未満、850〜1100nmにおいては10%未満であり、それぞれ充分な遮蔽性能を示した。
2枚のガラス板を必要な大きさに切断後、端面の面取り加工を行い、そのうちの1枚(基体7)には電極を接地するための端子を形成する場所を確保するための切り欠きを作った。他方のガラス板(基体1)は、例1と同様にして、洗浄し、着色セラミック層用のインクを図3のようにガラス板周辺全体にスクリーン印刷で印刷し、充分に乾燥した。その後、その上に電極用の銀ペーストを、図3のようにガラス板周辺全体にスクリーン印刷し、乾燥した。次いで、インクおよびペーストの焼成のため、ガラス温度を600℃まで加熱し、その後室温まで徐冷した。こうして作製したガラス板の電極が形成されている面上に、例1と同様の透明導電膜(導電膜)をスパッタリングにより形成した。
また、近赤外線の遮蔽率は、例1よりも若干劣るものの、充分な遮蔽性能を示した。
2枚のガラス板を必要な大きさに切断後、端面の面取り加工を行い、そのうちの1枚(基体1)は、例1と同様にして、洗浄し、着色セラミック層用のインクを図3のようにガラス板周辺全体にスクリーン印刷で印刷し、充分に乾燥した。その後、その上に電極用の銀ペーストを、図3のようにガラス板周辺全体にスクリーン印刷し、乾燥した。他方のガラス板(基体7)には、基体1と同様にして、電極用の銀ペーストを、ガラス板周辺全体にスクリーン印刷し、乾燥した。着色セラミック層は形成しなかった。
表2に示す透明導電膜を形成したことを除いては、例1と同様にして透明導電膜付きガラス板を作成した。それぞれの膜の成膜条件は表1のとおりである。なお、表1において、5Al−ZnOとは、AlをAlとZnとの総量に対し5原子%含有するZnOの意であり、ZrSixNyとは、ZrとSiとの複合窒化物(Zr:Si=1:2)の意である。また、表2において、「G」はガラス板の意であり、()内の数字は幾何学的膜厚(nm)である。この多層導電膜のシート抵抗および可視光線透過率の測定結果を表3に示す。
表2に示す透明導電膜を形成したことを除いては例1と同様にして透明導電膜付きガラス板を作成した。それぞれの膜の成膜条件は表1のとおりである。なお、表1において、GZSOとはGa2O3、SiO2とZnOの総量に対してGa2O3を5.4重量%、SiO2を0.1重量%、ZnOを94重量%含むものであり、酸化バリア層として用いた。この多層導電膜のシート抵抗および可視光線透過率の測定結果を表3に示す。次いで、近赤外線遮蔽樹脂フィルム6を用いなかったことを除いては例1と同様にして本発明の保護板を作製した。得られた保護板について例1と同様に評価した結果を表3に示す。また、近赤外線樹脂フィルム6を有さない構成であるが、優れた近赤外遮蔽性能を示した。
例1と同様にして透明電導膜付ガラスを作製した。次いで、反射防止層付き特定フッ素フィルムの離型フィルムを剥離し、アクリル系粘着テープを介して防湿フィルム33(12μm厚のポリエステルフィルム上にポリ塩化ビニリデンをコーティングしたフィルム(商品名セネシ、ダイセル化学社製)を貼り付けた。次いで、前記防湿フィルム33上に前述同様の離型フィルム付きのアクリル系粘着テープ(粘着剤の厚さ約20μm)を積層した後、離型フィルムを剥離し、ゴム硬度70のシリコーンゴムローラで、上記の導電膜付きガラスのコート面に、貼り付けた。
表2に示す透明導電膜を形成したことを除いては、例1と同様にして透明導電膜付きガラス板を作成した。それぞれの膜の成膜条件は表1のとおりである。この多層導電膜のシート抵抗および可視光線透過率の測定結果を表3に示す。次いで、例1と同様にして本発明の保護板を作成した。得られた保護板について例1と同様に評価した結果を表3に示す。また、電磁波遮蔽性能は、図6に示すように良好であった。また、近赤外線の透過率は、800〜850nmにおいては5%未満、850〜1100nmにおいては10%未満であり、それぞれ充分な遮蔽性能を示した。
表2に示す透明導電膜を形成したことを除いては例7と同様にして透明導電膜付きガラス板を作成した。それぞれの膜の成膜条件は表1のとおりである。この多層導電膜のシート抵抗および可視光線透過率の測定結果を表3に示す。次いで、近赤外線遮蔽樹脂フィルム6を用いなかったことを除いては例7と同様にして本発明の保護板を作製した。得られた保護板について例1と同様に評価した結果を表3に示す。また、近赤外線樹脂フィルム6を有さない構成であるが、優れた近赤外遮蔽性能を示した。
表2に示す透明導電膜を形成したことを除いては例7と同様にして透明導電膜付きガラス板を作成した。それぞれの膜の成膜条件は表1のとおりである。この多層導電膜のシート抵抗および可視光線透過率の測定結果を表3に示す。次いで、近赤外線遮蔽樹脂フィルム6を用いなかったことを除いては例7と同様にして本発明の保護板を作製した。得られた保護板について例1と同様に評価した結果を表3に示す。また、近赤外線樹脂フィルム6を有さない構成であるが、優れた近赤外遮蔽性能を示した。
表2に示す透明導電膜を形成したことを除いては例7と同様にして透明導電膜付きガラス板を作成した。それぞれの膜の成膜条件は表1のとおりである。この多層導電膜のシート抵抗および可視光線透過率の測定結果を表3に示す。次いで、近赤外線遮蔽樹脂フィルム6を用いなかったことを除いては例1と同様にして本発明の保護板を作製した。得られた保護板について例1と同様に評価した結果を表3に示す。また、近赤外線樹脂フィルム6を有さない構成であるが、優れた近赤外遮蔽性能を示した。
表2に示す透明導電膜を形成したことを除いては例7と同様にして透明導電膜付きガラス板を作成した。それぞれの膜の成膜条件は表1のとおりである。この多層導電膜のシート抵抗および可視光線透過率の測定結果を表3に示す。次いで、近赤外線遮蔽樹脂フィルム6を用いなかったことを除いては例1と同様にして本発明の保護板を作製した。得られた保護板について例1と同様に評価した結果を表3に示す。また、近赤外線樹脂フィルム6を有さない構成であるが、優れた近赤外遮蔽性能を示した。また、低反射が保たれる波長幅は例9や10よりも広かった。
表2に示す透明導電膜を形成したことを除いては例7と同様にして透明導電膜付きガラス板を作成した。それぞれの膜の成膜条件は表1のとおりである。次いで、近赤外線遮蔽樹脂フィルム6に代えて、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(200μm厚)を用いた以外は例7と同様にして本発明の保護板を作製した。得られた保護板について例1と同様に評価した結果、シート抵抗は2.5Ω/□であり、その可視光線透過率は60%であった。
表2に示す透明導電膜を形成したことを除いては例6と同様にして透明導電膜付きガラス板を作成した後、さらに例6と同様にして本発明の保護板を作製した(保護板の両側の最表面は、ARCTOPの反射防止層となっている)。得られた保護板について例1と同様に評価した結果を表3に示す。また、近赤外線の透過率は、800〜850nmにおいては5%未満、850〜1100nmにおいては10%未満であり、それぞれ充分な遮蔽性能を示した。
2:導電膜
3:電極
4:着色セラミック層
5:飛散防止および反射防止樹脂フィルム
6:近赤外線遮蔽樹脂フィルム
7:別の基体
8:中間膜
9:導電膜
10:電極
11:着色セラミック層
21、24、27、30:酸化物層
22、25、28:金属層
23、26、29:酸化バリア層
31:基体
32:導電層
33:防湿フィルム
34:近赤外線遮蔽樹脂フィルム
35:反射防止フィルム
36:反射防止フィルムまたは反射防止処理
37:近赤外線遮蔽反射防止フィルム
38:近赤外線吸収基体
39:近赤外線吸収剤を添加した粘着剤
40:近赤外線吸収性アクリル樹脂
41:他の板
Claims (22)
- プラズマディスプレイを保護するための導電性基体と、導電性基体に電気的に接している電極とを有するプラズマディスプレイ用保護板。
- プラズマディスプレイを保護するための導電性基体が、基体と基体上に形成された導電膜とからなる請求項1記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 基体がガラス板である請求項2記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 基体の前面および/または裏面に、保護板の飛散防止用の樹脂フィルムを設けるか、または、基体を樹脂製中間膜を介して別の基体と積層することにより、飛散防止性能を付加してなる請求項2または3記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 基体の前面および/または裏面に、低屈折率の樹脂フィルムを設けるか、または、低屈折率の薄膜を形成することにより、反射防止性能を付加してなる請求項2、3または4記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計(2n+1)層(nは1以上の整数)積層された多層の導電膜である請求項2、3、4または5記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 酸化物層がZnOを主成分とする酸化物層であり、金属層がAgを主成分とする金属層である請求項6記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- ZnOを主成分とする酸化物層が、1種以上の金属を含有するZnOからなる酸化物層である請求項7記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- ZnOに含有される1種以上の金属の合量の含有割合が、該金属の合量とZnとの総量に対して1〜10原子%である請求項8記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- ZnOに含有される金属が、Sn、Al、Cr、Ti、Si、B、MgおよびGaからなる群から選ばれる1種以上の金属である請求項9記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 金属層が、Agを主成分とする金属層である請求項6、7、8、9または10記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- Agを主成分とする金属層が、Pdおよび/またはAuを含有するAgからなる金属層である請求項11記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- Pdおよび/またはAuの合量の含有割合が、Pdおよび/またはAuの合量とAgとの総量に対して0.3〜10原子%である請求項12記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 酸化物層と金属層とが交互に7層積層された多層の導電膜である請求項6〜13のいずれか記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 前記7層の導電膜の、2層目の金属層、4層目の金属層、6層目の金属層における4層目の金属層の膜厚が、2層目の金属層の膜厚よりも大きくかつ6層目の金属層の膜厚よりも大きい請求項14記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 導電膜の湿気による劣化を防ぐための防湿フィルムが設けられている請求項1〜15のいずれか記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 近赤外線吸収機能を有するフィルムが設けられている請求項1〜16のいずれか記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 低屈折率の樹脂フィルムが有色のフィルムである請求項5記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 防湿フィルムが有色のフィルムである請求項16記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 近赤外線吸収機能を有するフィルムが有色のフィルムである請求項17記載のプラズマディスプレイ用保護板。
- 基体周辺全体に電極を形成し、前記電極を覆うように導電膜を形成するプラズマディスプレイ用保護板の製造方法。
- 基体が強化ガラス板である請求項2記載のプラズマディスプレイ用保護板。
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