TWI280420B - PDP, PDP filter and manufacturing method thereof - Google Patents

Description

1280420 電磁波影響人體或豆#帝 制在預定範圍内。再者' ^將=子衣置，而且需要限 對於無線電話或遠5 的近紅外線雜訊 遮蔽電磁波或雜訊的結需要—遮蔽層當作 訊，示1的電磁波與近紅外線雜 溫：局！放大圖’電聚顯示器濾光片2〇係安

1 -: t頌不态1〇〇的電漿顯示器模組50上。電f S^光巧藉由對準-或多個功能層以及貼合 品水頦不為杈組50的透明基板22的上表面或下表 成，—如顯不於第2A圖至第2F圖。第2A圖至第 回的貝線區域係顯示塗佈銀或者貼合導電膠帶。 一广^力能層組成電漿顯示器濾光片2〇,因此至少有 一薄膜由一群包含抗反射層電磁波遮蔽層23、 顏色控制層24、以及近紅外線遮蔽層或近紅外線吸 ^層f5/斤選出。因為電漿顯示器濾光片20係設置於 %漿頒示态100的前表面，所以包含該功能層的電漿 顯示器濾光片20應該是透明的。 組成電漿顯示器濾光片20的功能層係層狀結 構，如有需要改變疊層順序以便顯示個別層的固有功 能。個別層的固有功能如下所述。抗反射層21用於 防止外部入射光線反射出外部，以便增強電漿顯示器 100的對比值（contrast)。電磁波遮蔽層23係用於遮 蔽產生於電漿顯示器模组5〇的電磁波干擾（EMI)，而 且針對後續的放電隨即將電漿顯示器100的後蓋接 地。近紅外線遮蔽層係用於遮蔽來自電漿顯示器模組 50的大約800至l〇〇〇nm之近紅外線以防止近紅外線 7 1280420 白2放射里在預定範圍内，以便例如 卜線控制的遠端控制訊號可正常 = =遮蔽原理，所以可能產生遮蔽料 一包含個別功能層的電漿顯示器濾光片係由切割 ，夕個功能層至預定尺寸而且隨後相互貼合而掣 成的。如顯示於第二A圖至第二F圖的截面結: =知電漿顯示器濾光片由於電磁波遮蔽層23的存 在’所以具有不同的功能層之截面寬度。 …電漿顯示器濾光片的電磁波遮蔽層係在下文明 確描述。電磁波遮蔽層係依照使用的薄膜種類，可分 類為金屬篩網類型（metal mesh)以及透明導電薄膜二 巧。雖然具有金屬網類型的電磁波遮蔽層之電漿顯示 為j光片顯示出優越的電磁波遮蔽效應，但是電磁波 遮蔽層卻降低透明度而且引起影像扭曲。再者，因為 金屬篩網昂貴，所以產品價格太高。 … 一 為取代金屬篩網，廣泛使用具有透明導電薄膜 類型的電磁波遮蔽層例如氧化銦錫（ΙΤ〇)層之電漿顯 示器。透明導電薄膜類型的電磁波遮蔽層在多層膜類 型’其中金屬薄膜與高反射透明層係替換使用，而且 較佳地可使用超過三次，而且高反射透明層進一步作 為最頂層膜。金屬薄膜由銀(Ag)或銀的合金所形成， 而且金屬薄膜具有3歐姆（Ω)或更少的表面電阻值以 及多於50%的穿透量（transmittance)。 第三圖係顯示具有習知電磁波遮蔽層的電漿顯 不為遽光片。具有習知電磁波遮叙層7 0的表面邊緣 部份具有用於接地的暴露部分71。暴露部分71顯示 !28〇42〇 ，佈銀，者貼合導電膠帶，以便防止氧化作用產生的 電阻升而。暴露部分71係經由一接地柱17〇連接一 ，，巧，標座30，將該後蓋完成接地，或直接與電 漿頦示裔的相對表面實施接地，因此將電磁波接地。 e 一 ％也就是說，因為習知電磁波遮蔽層7〇係為電漿 ，不器濾光片20之一元件，應該具有用於接地的暴 路，分71 ’非電磁波遮蔽之功能層係貼合至電磁波 遮，層70的頂部表面，而且應談切割至小於電磁波 ，蔽層川之尺寸，以致於電磁波遮蔽層7〇的暴露部 分71係恭露於電漿顯示器濾光片的層狀結構。因 ί^第二A圖至第二F圖所顯示，習知電漿顯示 裔濾光片具有一限制，在於功能層的截面寬度不完全 相等。 因此，由於上述的電漿顯示器濾光片之截面結 構，每個電漿顯示器濾光片係藉由相互對準與相互貼 合功能層而產生，每個電漿顯示器濾光片的尺寸小於 電磁波遮敝層70的尺寸。然而，手動過程使得製造 程序複雜化，而且無法實施連續製造程序。因此，無 法實施大量製造，導致生產量下降。 抗反射層可藉由形成高反射性透明層以及低反 射性透明層在透明基板上而產生。也就是說，在抗反 射層的結構中，低反射性透明層應該作為最頂部層， 並且南反射性透明層應該設置於低反射性透明層與 透明基板間。 ’、 藉由相關技術製造質輕且薄的電漿顯示器之技 術，將電磁波遮蔽層與抗反射層整合至使用透^基板 的多層結構，不同嘗試可用於製造電漿顯示器濾光 片。例如，日本專利公開號H11-74683係揭示一^製 造電漿痛示為濾光片之方法，包含將電磁波遮蔽層插 !28〇42〇 入兩層透明基板間，將一抗反射層貼合至基板的— 面，以及依序將一近紅外線遮蔽層與抗 ^ 形成在基板的另一表面。#纟，日公= ^係t示—種製造電漿顯示器濾光片之方U / ’匕έ依序將電磁波遮蔽層與抗反射層人一 面，而且隨後將一近紅外線遮=貼ί 至β亥透明基板的另一表面。 〇〇缺上述習知方法可實施相當質輕且薄的電漿顯示 ，。Λ、、'而，即使層狀結構係使用透明基板而產生， ί ”仍需要藉由分別形成電磁波遮蔽層與 t i f 透明基板上，因此習知方法是具有區點 & ，此限制係防止進一步減少分別製造個別功 月匕層的步驟數目或層狀結構的層數目。 【發明内容】 技術問顯 崩-的料人料f知f錢輕層與電漿 頌不益濾光片的電磁波遮蔽效應做持續 旦電：ί遮蔽層，電表面是否暴露或者以這= 以曰电磁波遮蔽效果。因此，本發明的一 器濾、光片’這可形成不同的層狀結i而且 I ΐ f Ϊ(祕如·1*。11)製程以及製造電漿顯示器濾 光月的方法。 夕明的另一個目的係提供一具有簡單結構的 此电水顯示器濾光片，而且當非電磁波遮蔽之功 U層狀形式形成在電磁波遮蔽層，可將功能性重 =^，數目降至最低，這係使用電磁波遮蔽層之導電 ί f是ΐ需要暴露的特性。而且本發明也提供製造電 水綠員示器濾光片的方法。 1280420 解決方法 .為達成上述目的，本發明係提供一種旦有# Oammate#結構的電漿顯示器 及:^ -電磁波遮蔽層以及一或多個非電月：舞^含 層，並φ恭讲、士、产# A人’ 升包磁及遮敝之功能 觸功r/而曰X Λ的至少兩個表面邊緣部份係接 構外。b 不恭路於電漿顯示㈣光片的層狀結 片之方再去者盆Π係提供一種製造電漿顯示器濾光 '"中匕έ將電磁波遮蔽層纏繞成一捲箇， 隨後將電磁波遮蔽層的捲筒安裝在一第一供應 將電磁波遮蔽層除外之功能層纏繞成一捲筒二 ^後將^能層安裝在第二供應滾輪，而且第二供應滾 二ΐ與，二供應滾輪相隔離；提供一第一壓縮捲ϋ 一弟二壓縮捲筒，這兩者係相互緊密設置在與第二^共 ，滾輪以^第一供應滾輪相間隔的位置，而且隨後將 包磁波遮蔽層由第一供應滾輪以及將功能層由第二 供應滾輪，送通過第一壓縮捲筒與一第二壓縮捲^ 間，因此藉由加熱或加壓結合數層材料；以及切割該 ，合層，電磁波遮蔽層的至少兩個表面邊緣部份未暴 路’其中該電磁波遮蔽層係接觸該功能層。 、再者，本發明係提供一製造電漿顯示器濾光片 之方法，包含使用塗佈製程（c〇ating pr〇cess)將一或多 個非電磁波遮蔽之功能層形成在電磁波遮蔽層的上 ί Ξ、、下表面或兩個表面，其中實施塗佈製程以便不 恭露電磁波遮蔽層的上表面、下表面或兩個表面的至 少兩邊緣部份。 本發明係提供一電漿顯示器濾光片，包含一透 明基板、一電磁波遮蔽層以及一低反射透明層。電磁 波遮蔽層係包含高反射透明層與金屬薄膜，而且這兩 11 1280420 ~ 薄膜交互層疊(laminated)在透明基板。高反射透明層 係形成在該交互層疊層的頂部表面，而且低反射透明 層係形成在該高反射透明層的頂部表面。其中電磁波 遮蔽層的至少兩個表面邊緣部份不暴露而且不接觸 ^ 該低反射透明層。 ^ 本發明係提供一製造電漿顯示器濾光片之方 _ 法，包含將高反射透明層與金屬薄膜交互層疊 (laminate)在一透明基板，而且將一高反射透明層形 成在該交互層疊層的頂部表面，因此產生一電磁波遮 蔽層；以及將低反射透明層係形成在該高反射透明層 • 的頂部表面。其中，電磁波遮蔽層的至少兩個表面邊 緣部份係暴露的而且不接觸該低反射透明層。 再者，本發明提供一包含電漿顯示器濾光片之 電漿顯示器。根據本發明，電漿顯示器濾光片的電磁 ， 波遮薇層係不接地的（electrically grounded)。 【實施方式】 發明效果 根據本發明，即使電磁波遮蔽層的表面邊緣部 φ 份是不暴露的而且不接地，電磁波遮蔽層可顯示與習 知電漿顯示器濾光片相同的功能，因此可實現電漿顯 示器濾光片的不同層狀結構。再者，因為電漿顯示器 濾光片具有上述層狀結構，連續製程（roll-to-roll process)可應用於電漿顯示器濾光片的製造，因此達 成電漿顯示器濾光片的大量製造與高產量。再者，因 ' 為電磁波遮蔽層是不需暴露的，所以功能層可能形成 一簡單結構而且結構部分與電磁波遮蔽層相同，因此 容易製造一多功能電漿顯示器濾光片。 此後，本發明的内容將在下文中詳述。 12 1280420 本發明的電漿顯示器濾光片的特徵在於，具有 一層狀結構，這包含一電磁波遮蔽層以及一或多個非 電磁波遮蔽之功能層，其中電磁波遮蔽層的至少兩個 表面邊緣部份係接觸功能層而且不暴露於電漿顯示 器濾光片的層狀結構外。 '' / ' 已知當非電磁波遮蔽之功能層出現在電磁波遮 蔽層時，電磁波遮蔽層的導電表面之所有邊緣部份必 須暴露，以形成用於接地的接地部分，該接地部分應 該塗佈銀或者貼合導電膠帶以減少該接地部分的^ 面電阻，以及接地表面僅接觸電漿顯示器外殼的接^ 柱而顯示電磁波遮蔽效應。 然而，發明人證實電磁波遮蔽層可經由反射顯 示電磁波遮蔽效應，甚至電漿顯示器不需接地，而且 即使不產生電漿顯示器濾光片的暴露部分而且電磁 波遮蔽層不接地，電漿顯示器濾光片也可顯示類似於 習知電漿顯示器濾光片的電磁波遮蔽效應。因此， 發明的電漿顯示器濾光片不需要形成該暴露部分，將 電磁波遮蔽層接地，而且由於缺少該暴露部分，也 需要塗佈銀或使用導電膠帶。 因為電磁波遮蔽層的至少兩個表面邊緣部份 接觸功能層而且不暴露於電漿顯示器濾光片的層狀 結構外，所以電漿顯示器濾光片可由不同方法製成。 層狀結構的電漿顯示器濾光片不需要電磁波 ，敝層^且可以使用連續（r〇1l_t〇_r〇11)製程加以製 k丄而可貫施大量製造。再者，電漿顯示器濾光片係 構而且使用塗佈製程製造，非電磁波遮蔽 要暴露部分，而且簡化製程。 丨衣命而不而 13 1280420 、根據本發明，電磁波遮蔽層係藉由交互層疊一 或多個高反射透明層以及一或多個金屬薄膜層而產 生，而且提供一高反射透明層當作最頂部層。電磁波 遮蔽層可藉由習知技術中熟知的製程與材料而產生。 ； 高反射透明層通常具有L5或者更高的反射係 數，而且習知技術中熟知的是L5〜2，但是本發明不 侷限於此。高反射透明層係當作一阻障層（barrier layer)用於防止氧氣電漿產生在金屬薄膜層的濺鍍導 致金屬薄膜層的氧化，而且可由氧化物形成例如氧化 銦錫（ITO)、銦鋅氧化物（IZO)、氧化銻錫（ΑΤΟ)、氧 • 化鋅（ΖηΟ)、氧化鋅-鋁（ΖηΟ-Al)、二氧化鈦（Ti02)、 三氧化二鈮（Nb203)或氧化錫（SnO)，以及可由銦 (indium)、鈦（titanium)、錯（zirconium)、鋅（zinc)、録 (antimony) ^ la (tantalum) ^ (cerium) ^ (thorium) ^ ， 鎂（magnesium)或舒（卩(^353丨11111)的氧化物而產生，這些 具有高電阻。 再者，在氧化物的形成過程中，為防止氧氣電 漿對於金屬薄膜層的表面造成傷害，氮化物例如氮化 矽（Si3N4)可為阻障層。 0 金屬薄膜層可由至少一具有相當低電阻值的金 屬所形成，而且較佳地具有3 X10_6 Ω · cm或者更低 的特定電阻值所形成。該金屬薄膜層較佳地使用至少 一金屬例如金、銀、銅、鎳與紹之一而形成。 雖然高反射透明層與金屬薄膜層經由一濺鍍製 程形成，但是本發明不侷限於此，而且任何在習知技 • 術中熟知的製程皆可。電磁波遮蔽層210具有多層薄 膜結構，而且可以兩或3層重複層疊（laminated)或者 兩或3層相互貼合的方式而形成，因此改善電磁波遮 蔽效應。 14 1280420 、 根據本發明，功能層可能是一種薄膜，這由一 組包含抗反射層、近紅外線吸收層以及顏色控制層選 ' 出，或者功能層也可能是一種薄膜，可實施上述層其 中的兩個或更多功能。在本發明的電漿顯示器律光片 ， 中，電磁波遮蔽層具有一近紅外線吸收功能以及電磁 波遮蔽效應。然而，本發明的電漿顯示器濾光片進一 步包含近紅外線吸收層以達成良好的近紅外線吸收 功能。近紅外線吸收層可使用習知技術已知的製程與 材料而形成。近紅外線吸收層藉由分解或攪散顏料及 /或無機染料以獲得使用在透明基板的解決方法，而 Φ 且顏料及/或無機染料能吸收聚合物黏著劑的近紅外 光線，或者增加至準備黏著劑的製程中。 基板對於電磁波遮蔽層或非電磁波遮蔽之功能 層的產生是必須的，所以使用透明基板。透明基板的 - 類型包含強化或半強化玻璃或塑性薄膜，這謝係由聚 酯樹月旨、丙烯酸酯（methacrylate resin)、氣化樹脂 (fluorine resin)、醋酸三酉旨樹月旨（triacetate resin)或者 前項混合物。雖然使用聚乙烯對苯二曱酸酯（PET)或 三醋酸纖維（TAC)是較佳的，但是本發明不偈限於 φ 此。透明基板具有3 0〜15 0 // m的厚度，而且較佳地 是70〜120// m的厚度，但是本發明不侷限於此。 電磁波遮蔽層以及一或多個非電磁波遮蔽之功 能層的疊層結構可經由薄膜黏著製程（adhesion process)而實施。黏著製程可使用外部熱量或加壓或 者使用黏著劑而實施。黏著劑的類型包含橡膠、丙烯 酸或梦酮（silicone)等。特別地是，丙稀酸黏著劑具有 不同使用特性可使用於準備具有高度功能性的黏著 劑組合物，而且丙烯酸黏著劑具有烷基當作官能基， 因此防止電磁波遮蔽層的金屬薄膜層在高溫高溼度 15 1280420 •條件下的氧化作用所導致的顏色改變。 : 再者’薄膜係使用熱少各樹脂（hot-melt resin)加以 黏著。多層結構藉由使用薄膜形成製程例如塗佈製程 • (coating Pr〇cess)例如濕塗佈製程或沉積製程，將非電 •磁波遮蔽之功能層形成在一層上，多層結構可成為單 一薄膜。 - 在使用黏著劑的情形中，有機或無機顏料及/ 或有機或無機染料係用於顏色控制而且可增加至黏 著劑層以提供顏色控制功能。用於顏色控制的有機或 無機顏料及/或有機或無機染料的類型包含二氧化鈦 私 （金紅石）、二氧化鈦（銳鈦礦）、編黃（cadmium yellow)、鉻黃（chrome yellow)、鉬橘黃（molybdate orange)、鎘紅（cadmium red)、氧化鐵、銅酞綠（COpper phthalocyanine green)、銅酞藍（copper phthalocyanine blue)、碳黑（carbon black)、鈷藍（c〇balt blue)、cobalt bio red、mineral bio red、氧化鉻（chromium oxide)、 thren blue、編紅（cadmi red)、石炭 1 (carbon 1)、碳 2(carbon 2)、編黃（cadmi yellow)、苯二甲素藍 (phthalocyanine blue)、苯胺墨（aniline black)、偶氮顏 I 料（azo pigments)、偶氮染料（azo dyes)、偶氮化合物 (azo compounds)、偶氮驗式氧化物（azo basic oxide)、 驗基顏料（basic pigments)、金屬錯鹽（metal complex salts)、次甲基胺顏料（azo methine pigments)以及含有 金屬、金屬氧化物、苯胺曱駿樹脂（aniline formaldehyde resin)與丙嫦酸樹脂等的顏料。金屬與 • 金屬氧化物的類型包含氧化鈦（Nd203)、歛基鐵與氧 • 化鐵、銀與氧化鎳、鉻與氧化鉻、非電磁波遮蔽之金 屬以及氧化物等。 16 1280420 、/ e a在$電漿顯不器濾光片中，電磁波遮蔽層的寬度 ^ r· g ί在電磁波遮蔽層的非電磁波遮蔽之功能性 思之見度可由一範圍内選取，這不暴露電磁波遮蔽 二广至兩個邊緣部份。例如，非電磁波遮蔽之功能 溥^的検向與縱向寬度可大於電磁波遮蔽層的寬 者，非電磁波遮蔽之功能性薄膜的橫向或縱向 見度係相等或小於電磁波遮蔽層的寬度。 j： + 2發明的電漿顯示器薄膜較佳地具有一結構， ::^磁波‘蔽層與抗反射層係層疊（laminated)在 、，二板上。電漿顯示器薄膜特別藉由將電磁波遮蔽 二豐在透明基板上而形成，而且隨後將抗反射層疊在 =磁^皮遮蔽層上。再者，電漿顯示器薄膜具有一結 構’/、中電磁波遮蔽層與抗反射層係層疊在在透明基 板的個別表面。抗反射層係較佳地設置於外部光線可 f ί顯不态濾光片之外表面上。抗反射薄膜或抗 反射層係設置於電漿顯示器濾光片的最前方表面，以 更防止反射外部入射光線，因此增加對比（contrast)。 蔣w -根^康本發明的較佳實施例，具有層狀結構的電 水頌不器濾光片係包含一電磁波遮蔽層與一或多個 功能層，接觸非電磁波遮蔽之功能層的電磁波遮蔽層 之四個表面邊緣部份並未暴露。 再者，本發明提供一製造電漿顯示器濾光片之 法，步驟包含將電磁波遮蔽層纏繞成-捲筒而且隨 後將電磁波遮蔽層的捲筒設置在第一供應滾輪；將電 f波遮蔽，外的功能層纏繞至一捲筒而且隨後將功 能層^捲筒設置在第二供應滾輪，而且第二供應滾輪 ΐ與ΐ一供，滾輪相隔一段距離；而且提供一i一壓 縮，筒與一第二壓縮捲筒，這兩者係相互緊密設置^ 與第二供應滾輪以及第一供應滾輪相間隔的位置，而 1280420 f隨彳^將電磁波遮蔽層由第一供應滾輪以及將功能 运、由，一供應滾輪傳送通過第一壓縮捲筒與一第二 壓縮捲筒間，因此藉由加熱或加壓結合數/材料· ^ 及切割該結合層，電磁波遮蔽層的至少==邊; 部份未暴露，其中該電磁波遮蔽層係接觸該功能層。 一、由;11述方法製造的電漿顯示器濾光片，該捲筒 經由連續製程（r〇ll-to-roll process)切割至預期尺寸， 而且因此相對於切割部分的電磁波遮蔽層之至少兩 ^表面邊緣部份未暴露在電漿顯示器濾光片的層狀 結構外。

^ 〃電磁波遮蔽層的表面邊緣部份可暴露或不暴 路，係依照非電磁波遮蔽之功能層疊在電磁波遮蔽層 ^位，而定。因此，功能層的寬度不特別加以限制。 較佳貫施例中，電磁波遮蔽層的寬度係等於或者大於 該功能層的寬度。 人一、再者，本發明提供一電漿顯示器濾光片，這包 δ透明基板、一電磁波遮蔽層以及一低反射透明 層1電磁/皮遮蔽層係包含高反射透明層與金屬層，而 且這兩薄膜交互層疊（laminated)在透明基板。高反射 透明層係形成在該交互層疊層的頂部表面，而且低反 射透明層係形成在該高反射透明層的頂部表面。其中 電磁波遮蔽層的至少兩個表面邊緣部份不暴露而且 不接觸該低反射透明層。而且本發明提供一種製造 漿顯示器濾光片之方法。 ^ 在本發明中，低反射透明層係形成在電磁波遮 敝層^，即使電磁波遮蔽層不接地而且不暴露，這基 ^使侍電磁波遮蔽層表現出電磁波遮蔽效應的性 貝。低反射透明層當作抗反射層，而且與電磁波遮蔽 層的最頂部的高反射透明層一起。因此，低反射透明 18 1280420 • 層僅形成在電磁波遮蔽層，而不需使用附加的抗反射 薄膜，因此顯示出抗反射功能以及電磁波遮蔽功能與 近紅外線吸收功能。結果，本發明的電漿顯示器濾& 片可為輕且薄，而且製程可近一步簡化。 低反射透明層通常具有少於1 ·45的反射係數， 而且較佳地具有習知技術中熟知的1·2〜1·45的反射 係數’然而本發明不侷限於此。低反射透明層係藉由 減:鍍（sputtering)或真空沉積一低反射無機層例如二 氧化石夕（Si〇2)〇r氟化鎂（MgF2)而形成，或者使用濕塗 佈法例如凹板塗佈法(micro gravure coating)或浸沾 1 式塗佈法（dip coating)，施加一包含氯基低反射單體 ^丙烯酸單體的氯化聚合物薄膜或共聚物而形成，該 單體具有良好塗佈性（coatability)。 在本發明中，電漿顯示器濾光片進一步包含一 介於透明基板與最，底層的高反射透明層間的硬塗佈 層’以便增加抗刮性（scratch resistance)與表面硬度。 硬塗佈層通常為輻射修整型（radiation curing type)或 石夕烧型（silane)。輻射修整型的硬塗佈層係較佳的，而 且紫外線(UV)修整型的硬塗佈層是更佳的。用於產生 | 硬塗佈層的紫外光修整化合物包含UV可修整化合 物’這係由聚氨醋丙烯酸醋（urethane-acrylate)、環氧 丙烯酸酯（epoxy acrylate)或聚酯丙浠酸酯 (P〇lyester_acrylate)等形成。 硬塗佈層可藉由使用一用於硬塗佈層的化合物 在透明基板上，而且隨後透過熱量或者輻射（例如， UV光）修整該化合物，但是本發明佈偈限於此並且可 使用習知技術中熟知的一般製程。硬塗佈層不特別加 以限制但是較佳的是大約1〜5//m。 19 1280420 在本發明中，電漿顯示器濾光片係包含一設置 於透明基板的另一表面之顏色控制層，而且電磁波遮 蔽層係形成在透明基板上。顏色控制層係使用連續製 程（roll-to-roll process)而且將個別準備的顏色控制薄 膜與電磁波遮蔽層整合而產生。該整合製程係使用一 黏著劑而實施。可替換地，當黏著層係形成在透明基 板的另一表面之顏色控制層，而且電磁波遮蔽層係形 成在透明基板上，用於顏色控制的有機或無機顏料及

/或有機或無機染料可增加至黏著層，因此形成該顏 色控制層。 雖然本發明的電漿顯示器濾光片的寬度不受限 制但疋g包含加強玻璃時（reinf〇rced giass)，寬度 大約為3mm。 甘一本發明係提供一包含電漿顯示器濾光片的電漿 頒不器。即使在電磁波遮蔽層不接地的情形下，本發 明的電漿顧示器係顯示電磁波遮蔽效應。 下文中’本發明的較佳實施例係相關附屬圖式 述，但是以下圖式與描述係用於說明本發明而 疋用於限制本發明之範疇。 第四圖係本發明的第一實施例的電漿顯示器濾 的面圖，而且第五圖係一截面圖，顯示第四i 的電漿顯示器濾光片的截面結構。 α 根j 康顯示於第四圖的本發明的第一實施例，提 電漿ίΐΐϊ'ϊΠ顯示器濾光片200。薄膜類型的 且該透明ΚΪΛΛ0係附接於透明基板22上，而 的破璃而月?材料：如使用電漿顯示器 接至用於電將顧 頦不器濾光片200係直接附 遮龄® ;二水不裔的電漿顯示器模組50。電磁波 ‘蚊層⑽為第四圖的電漿顯示器濾光片 20 1280420 件’而且電磁波遮蔽層210的表面之左側邊緣與右侧 邊緣211，212係暴露的，以及抗反射層220的表面之 頂部邊緣與底部邊緣係設置於電磁波遮蔽層210但 不暴露的。第一實施例的薄膜類型電漿顯示器濾光片 200由於上數結構，可經由連續製程（r〇ii-t〇-r〇11 process)加以製造。

如第五圖的截面結構，電磁波遮蔽層214係設 置於厚度大約100 // m的透明聚酯樹脂膜213上，例 如聚酯膜（PET)。電磁波遮蔽層214與透明聚酯樹脂 膜213係關於電磁波遮蔽層210。電磁波遮蔽層214 係多層膜結構，這包含一或多個高反射透明層以及一 或多個交互層疊的金屬薄膜層。這類多層薄膜經由濺 鍍製程（sputtering process)而產生。 第四圖或第五圖的電磁波遮蔽層210不需暴露 在電漿顯示器濾光片外，而且因此不需要習知的銀塗 佈製程（silver printing process)或者使用導電膠帶。關 於本發明的電磁波遮蔽層210，未暴露的整體區域可 形成一有效篩選部分（screen portion)。 第四圖或第五圖的電漿顯示器濾光片2〇〇具有 抗反射層220，這係設置於最接近使用者觀察一電漿 顯示器的侧邊，也就是外部光線照射在濾光片的 部表面0 對於第四圖與第五圖的電漿顯示器據光 200，顏色控制層（未圖示）係經由連續製程附加地 合。在抗反射層220與電磁波遮蔽層21〇使用感壓 導電膠帶（PSA)215當作黏著層相互貼合的情形下 紅（R)、綠（G)、黑（B)顏色控制染料係增加至黏 以至於黏著層可當作顏色控制層。然而，顏色控J 不僅形成在圖式中的位置，而且如有需要也可形成 21 1280420 任何位置。 電漿減示态濾光片可貼附至玻璃，而且產生一 玻璃類型遽光片’或者直接貼附至電漿顯示器模組以 作為薄膜類型電漿顯示器濾光片。 第四圖與第五圖顯示薄膜類型電漿顯示器濾光 片200之製造方法，而且經由第六圖的滚輪排列以及 第七圖的流程圖加以描述。 電磁波遮蔽層210係纏繞成一捲筒而且一纏繞 捲筒230係設置於第一供應滾輪250(步驟S1)。功能 層例如抗反射層220係缠繞成一捲筒而且一纏繞捲 1 筒240係設置於第二供應滾輪260，並且第二供應滾 輪260係與第一供應滾輪250分隔設置（步驟S2)。功 月&層的覓度係較佳地相等於或小於電磁波遮蔽層21 〇 的尽度。根據弟一貫施例的電漿顯示器濾光片，電磁 波遮蔽層210的厚度係大於抗反射層的厚度，而且抗 反射層係設置於電磁波遮蔽層的中心，以至於電磁波 遮蔽層的兩個邊緣部份係暴露的。 隨後’一第一壓縮滾輪270與一第二壓縮滾輪 280係緊密相對設置，而且安裝在與第二供應滾輪 • 260係以及第一供應滾輪250相間隔的位置。因此， 來自第一供應滚輪250的電磁波遮蔽層210以及來自 弟一供應滾輪260的抗反射層220係傳送通過第一壓 縮滚輪270與第二壓縮滾輪280間，以便藉由熱量或 者壓力加以貼合。因此產生一薄膜（步驟S3)。經由步 驟S1至S3貼合的電漿顯示器濾光片290而形成一纏 繞捲筒，而且在電漿顯示器濾光片290係切割至預定 尺寸’因此在電漿顯示器濾光片290貼合至玻璃或電 漿顯示器模組前，完成一薄膜類型的電漿顯示器濾光 片（步驟S4)。在此情形中，相對應於切割薄膜部分的 22 1280420 蔽層係覆蓋-功能層例如抗反射層，並且未 21〇盘述步驟的連續製程中，電磁波遮蔽層 270^2-茂二歹。的貼合過程係使用第一磨縮滾輪 由奋t 8〇的外部熱量而融合，或者藉 人δ f Ϊ ί ί 27B〇與第二堡、缩滾輪280的壓力而融 ° <、，'二弟一壓縮滾輪270與第二壓縮滾輪280 之一而施加外部熱量。 t ’/壓型導電膠帶係先前使用在電磁波遮 射層/220的表面，而且電磁波遮蔽層 一 抗反射層220係供應至第一壓縮滾輪270與第 一，巧滾輪280 ’在壓力透過第一壓縮滾輪27〇與第 了壓縮滾輪280施加後，因此貼合電磁波遮蔽層21〇 與，反射層220。以此方式，當使用感壓型導電膠帶， 黏著劑層215係如同第五圖所顯示。 再者，電磁波遮蔽層210與抗反射層22〇的貼 合過程可使用熱熔樹脂（hot_melt resin)而達成。明確 地說，熱熔樹脂係先前使用在功能層相互接觸的部 分。當功能層供應至第一壓縮滾輪27〇與第二壓縮滾 輪280，熱量係經由第一壓縮滾輪27〇與第二壓縮g 輪280之一而施加，因此當熔化該熱熔樹脂時，貼合 電磁波遮蔽層210與抗反射層220。這類的熱炫樹脂 通常是乙烯醋酸乙酯（EVA)樹脂，但是本發日月'不侷^ 於此]如同熱熔樹脂，當可維持相對功能層的穩定^ 者狀悲日守’可使用任何聚醋樹脂，而且功能層包含電 磁波遮蔽層。為使用熱熔樹脂，在熱壓合過程中，第 一壓縮滾輪270或第二壓縮滾輪28〇的溫度較佳為 100〜200 C 〇 23 l28〇42〇 200的弟第1圖，顯示電漿顯示器濾光片 圖，同日’而且第九圖係一立體 平面結構與側構化慮先片2〇0的第二實施例之 人圖與第九®1所顯示，第二實施例的電漿 ί ί能3 i。並的且四不個又面邊緣部份係接觸非電ί i 波ί蔽；的由本發明的觀點來看，電磁 薄膜的，狀社‘ 緣部份不暴露在電漿顯示器 例具有卜露而且電磁波遮蔽層在第二實施 Φ 笛士同根據本發明的第二實施例，如顯示於第八圖盥 電磁波遮蔽層310與抗反射層32(w系以完^ =尺相—成’而且隨後整體表面可當作有效的筛網 弟二貫施例的電漿顯示器濾光片300係包含抗 反射層320、電磁波遮蔽層312以及pSA層33〇。抗 反射層320包含一厚度為大約1〇〇#m的聚乙 二甲酸醋0^1)32〗，而且電磁波遮蔽層312係包含厚 度大約為100 // m的的聚乙烯對苯二甲酸 (PET)3U/PSA層330係當作一黏著層。電磁波遮蔽 層312經由一濺渡製程（sputteringpr〇cess)而產生。

在第二實施例中，抗反射層32〇與電磁波遮蔽 層312經由熱熔樹脂的熱融合過程而貼合，而不是第〆 一實施例所敘述的經由預定壓力使得PSA層33〇產 生貼合現象。 S

再者’在第八圖與第九圖的第二實施例中，顏 色控制層藉由附加貼合顏色控制薄膜而產生，或者^ 由紅（R)、綠（G)、黑（B)顏色控制染料係增加至psA 24 1280420 . 層330用於黏著抗反射層320與電磁波遮蔽層312， 這類似第四圖與第五圖的第一實施例。 ” 第二實施例的電漿顯示器濾光片如同第一實施 . 例，使用連續製程而製造，除電磁波遮蔽層的尺寸等 - 於抗反射層的尺寸外，以至於電磁波遮蔽層的表面邊 . 緣部份不暴露出來。 第十圖係一截面圖，顯示本發明的第三實施例 之電漿顯示器濾光片。在第一與第二實施例中，抗反 射層與電磁波遮蔽層係使用連續製程加以貼合以製 造電漿顯示器濾光片，而且在第三實施例中，電磁波 鲁 遮蔽層的最頂部表面係塗佈該抗反射層，因此製造一 單一薄膜類型的電漿顯示器濾光片。 第三實施例的抗反射層係使用濺渡製程或真空 沉積製程，以交互層疊（laminating)高反射無機層例如 - 氧化銦錫（ITO)、二氧化鈦（Ti02)或氧化錘（Zr02)層與 低反射無機層例如二氧化矽（Si02)or氟化鎂（MgF2)形 * 成四層結構，或者經由濕塗佈製程產生低反射氟化聚 合物膜，因此產生一抗反射層。再者，主要包含氧化 銦錫（ITO)的高反射材料係經由真空沉積製程或濺渡 0 製程形成在基板上，在主要包括含氟樹脂 (fluorine_based resin)的低反射材料經由濕塗佈製程 形成在高反射材料層上，因此形成該抗反射層。然 而，本發明不侷限於上述形成抗反射層的製程。當使 用濕塗佈製程時，可使用增加微粒（particles)至塗佈 組成物以改善散射光線的抗反射功能。 • 根據本發明，電磁波遮蔽層的邊緣部份不需要 • 暴露。因此’在抗反射層經由第三實施例所述的塗佈 製程形成在電磁波遮蔽層410上的情形中，電磁波遮 蔽層410的整體頂部表面不論哪一個部分都均勻受 25 !28〇42〇 v =佈：上述製程可應用在本發明，而且因此相較於 . =:技術，僅需要實施形成抗反射層422在電磁波遮 敝層4丄〇的製程/再者，製程數目將明顯減少。 、 η 第十一圖係一截面圖，顯示本發明的第四實施 : 電漿顯示器濾光片。雖然第三實施例的電粟顯示 ' =濾光片係透過該塗佈製程將抗反射層422形成在 %磁波遮蔽層410而產生，單一的透明基板511係共 同使用，而且抗反射層522與電磁波遮蔽層512係個 別形成在基板的頂部表面與底部表面。 第四貫施例的電漿顯示器濾光片係將抗反射層 22與電磁波遮蔽層512分別形成在透明基板5ιι的 頂部表面與底部表面上而產生。也就是說，第四實施 例的電漿顯示器濾光片，在反轉電磁波遮蔽層後而且 抗反f層522係使用在透明基板的另一表面後，電磁 - ^遮蔽層512形成在透明基板512上以準備電磁波遮 蔽層jlO。在第四實施例中，透明基板的材料、電磁 波遮蔽層與抗反射層的材料，形成製程以及顏色控制 功能的加入仍然與前述實施例的内容相同。 工 曰。在本發明中，電磁波遮蔽層的邊緣部份係不需 春 要恭露。因此，在第四實施例中，電磁波遮蔽層51〇 的整體表面不論哪一個部分都均勻受到塗佈，如同第 士實，例。所以，形成抗反射層522的塗佈製程是报 容易實施的。再者，使用這類塗佈製程將導致電漿^ 示器濾、光片500具有簡化的結構，而且具有較簡化制' 程、較短的製造時間以及低製造成本。 衣 弟十一圖係一截面圖，顯示本發明的第五實 例之電漿顯示器濾光片。而且，第十二圖係顯示一 ^ 構，其中電磁波遮蔽層640進一步層疊在電磁波遮 層610的最頂部高反射透明層624上。 、、、敗 26 1280420 在，、五貝化例的電磁波遮蔽層61 〇中，硬塗佈 層660係首先形成在〜透明基板611以改善抗刮性 (scratch resistance)與表面硬度。 在、局反射透明層624係進一步層疊為最頂部 層，形成在透明基板61丨的硬塗佈層660、形成在氧 化姻錫（ιτο)或氧化錫（Sn〇)等的高反射透明層621, 622，623以及藉由具有相當低反射係數的金屬例如 金、銀、銅、鎳或鋁形成的金屬薄膜層631，632,633 係相互層疊。 如同透明基板611，使用一具有厚度為 30〜150μιη的塑膠基板，而且較佳地是 用在塑膠基板的薄膜係由聚酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂 (methacrylate resin)、氟化樹脂（fiuorine_based resin)、二醋酸樹脂（triacetate resin)或者混合物所形 成。特別地是，當透明基板係貼合至一面板例如玻璃 板時’使用聚乙烯對苯二曱酸酯（polyethylene terephthalate)或聚對苯二曱酸乙二酯（p〇iyethylene naphthalate)是較佳的。 金屬薄膜層631，632, 633係藉叙使用銀或銀合 金當作主要把材（main target)、氬氣（真空度0.3Pa)作 為濺鍍氣體以及氧氣作為反應氣體而形成，其中氬氣 的流量大約為200 seem，而且氧氣的流量大約為 120sccm。在每個金屬薄膜層631，632, 633係沉積薄 於9nm的情形下，由於銀為例的凝結使得金屬薄膜 層斷裂，而且因此金屬薄膜層必須具有9nm或更多 的厚度，並且較佳厚度大約為10〜20 nm。 高反射逸明層621，622, 623, 624係層疊作為阻 障層用於防止個別金屬薄膜層的氧化，而且高反射透 明層係由氧氣電漿在金屬薄膜層631，632，633實施 27 1280420 • 濺鍍製程而得。高反射透明層係由氧化物例如氧化銦 ‘ 錫（ITO)、銦鋅氧化物（IZO)、氧化銻錫（ΑΤΟ)、氧化 • 鋅（ΖηΟ)、氧化鋅-鋁（ΖηΟ-Al)、二氧化鈦（Ti02)、三 _ 氧化二鈮（Nb203)或氧化錫（SnO)，以及可由銦 ， (indium)、鈦（titanium)、錯（zirconium)、鋅（zinc)、銻 ^ (antimony)、组（tantalum)、鈽（cerium)、钍（thorium)、 鎂（magnesium)或鉀（potassium)的氧化物形成。在形成 氧化物的過程中，氮化物例如氮化矽（Si3N4)可當作阻 障層，以便防止破壞氧氣電漿產生的金屬薄膜層。 根據第十二圖的第五實施例，除透明基板611 Φ 與硬塗佈層660外，高反射透明層與金屬薄膜層的數 目為7。然而，高反射透明層與金屬薄膜層的數目不 侷限於7，而且只要電漿顯示器濾光片具有一表面電 阻值，可滿足Class A的要求（表面電阻值為2·5Ω或 - 更少）當作工業安全標準’或Class β的要求（表面電 阻值為1·5Ω或更少）當作家用安全榡準，高反射透明 ^ 層與金屬薄膜層的數目可少於7或者多於7。 在組成電磁波遮蔽層610的層狀結構的最頂部 表面’高反射透明層024必須沉積作為阻障層，以防 • 止金屬薄膜層的氧化。也就是說，這是因為高反射透 明層624組成抗反射層622以及低反射透明層64〇。 減射侧640可藉由機鍍製程或真空沉積 -低反射無機層例如二氧切（Si〇2)Gr氟化鎂（MgF2) 而形成’或者使用濕塗佈法例如凹板塗佈法（micr〇 gravure coating)或浸沾式塗佈法（dip⑺此叩），施加一 • 包含氣化低反射單體與丙烯酸單體的氯化聚合物薄 - 膜或共聚物而形成’該單體戽有良好塗佈性 28 1280420 . 對於低反射透明層640的濕塗佈，合成氟化低 * 反射單體的製程簡述如下。 1 ·0〜1 ·2莫耳的曱基丙稀酸環氧丙月旨（glycidyl . methacrylate)係增加至1·0〜1 ·5莫耳的含氟化合物例 如六氟丙醇（hexafluoropropanol)或六氟丁醇 (hexafluorobutanol)以及四氫 口夫喃（tetrahydrofuran)溶 ' 液，在氟化四丁月安（TBAF)催化劑存在的情形下， 以預定溫度持續預定期間流出，並且隨後倒入曱醇以 回復單體。最終反應產生通常為90%。 因為僅使用氟化低反射單體有其缺點，例如低 # 附著性（adhesion)、在有機溶液中的低溶解度以及不 良塗佈性質，所以較佳與丙浠酸單體（acrylic monomers)產生共聚合為塗佈性（coatability)。丙烯酸 單體類型包含典型的丙烯酸單體，例如曱基丙烯酸曱 • 酯（methyl methacrylate)甲基丙浠酸乙酯（ethyl methacrylate)、曱基丙烯酸異丁酯（isobutyl methacrylate)、甲基丙烯酸正丁酯（n-butyl methacrylate)、n-butylmethyl methacrylate、丙稀酸 (acrylic acid)、甲基丙烯酸（methacrylic acid)、 φ hydroxyacrylate 、丙烯醯胺（acrylamide)或 methylolacrylate。氟化低反射單體與丙烯酸單體的共 聚合（copolymerization)比率較佳為 9:1 〜7:3。 假如共聚合比率超過9:1，則氟化低反射單體的 數量將增加’而且因此共聚合物（copolymer)的反射係 數是非常低的而且塗佈性質是惡化的。另一方面，假 如共聚合比率低於7:3，藉由丙烯酸單體的高比率， ， 塗佈性、硬度以及在溶劑中的溶解度皆良好，但是由 於反射係數為1·45或者更多，無法獲得預期反射效 應0 29 1280420 氟化低反射單體與丙烯酸單體的聚合作用 (polymerization)藉由一般劇烈聚合作用而達成，而且 較佳地藉由使用四氫咬喃（tetrahydrofuran)作為溶劑 的熱聚合作用而達成。基於共聚合單體的重量百分^ 為100%，引發劑（initiator)係較佳使用數量為 1〜10%。最終聚合物的反射係數通常為M或更少: 最終低反射透明層的厚度為200 nm或更少，而且厚 度較佳為70〜150 nm間以確保光穿透性質。 予 形成低反射透明層的塗佈溶液可以一般有機溶 劑例如甲苯、二曱苯（Xylene)、甲基乙基酮 (methylethylketone)、甲基異 丁基酮 (methylisobutylketone)等加以稀釋。已稀釋溶^佳 地具有大約10%或更少的固體部分，而且更佳地 有0.1〜5%間的固體部分。假如固體部分二 0 1%’則無法形成塗佈層而且形成均句塗佈層是困難 的。另一方面，假如固體部分超過5%，使用 知技術無法產生厚度具有數百奈米的塗佈層。 低反射透明層640可當作抗反射層/22以及 射透明層624。也就是說，藉由僅 而不疋功能性的重疊層不需要額外貼附抗 ： J明的電漿顯示器濾光“〇〇顯示抗‘射功身‘以J 电磁波遮蔽功能。然而，電漿顯示 構係較輕的且較薄，並且製程進片的層豐結 根據本發明的第五實施例，電漿 可使用績製程與附加的功能層相整合了、…思 第十三圖是截面圖，係顯示 與 例之電漿顯示器濾光片。第十三圖的電=哭 用連續製程將顏色控制層750 第1光 圖的弟五實施例的電漿顯示器濾光片的底部表面； 30 1280420 二包ί二射二遮蔽層-〇與顏 〆 攸唄邛依此次序組合。再者，黏荖屛 間，波遮蔽層71。與顏色控制層75。 柢而U控制層750可藉由將聚合物層疊在透明基 /itrt 合物層係包含有機或無機顏料及 的海务料，並且顏料或染料具有薄膜形式 巧員J‘制功肊，或者顏色控制層750使用塗 rfq形成。 層730係與先前貼附在電磁波遮蔽層710 it制層I50的内表面之黏著劑而形成，以便在 y ί衣程期間藉由施加外部壓力或熱量在電磁波遮 Ζ、ϊ ί顏色控制層750以相互黏著。黏著劑的範 Jlk吊，έ橡膠、丙烯酸或矽酮⑻licone)等。特別地 疋一丙烯k黏著劑具有不同使用特性可使用於專備具 有=度功能性的黏著劑組合物，而且丙烯酸黏著劑具 ^烷基^作官能基，因此防止電磁波遮蔽層的金屬薄 膜層在鬲溫咼溼度條件下的氧化作用所導致的顏色 改變。 明確來說，丙烯酸黏著劑包含100%重量百分比 的丙烯酸共聚物，其包含C1〜C12烷基而且重量百分 比，90〜99.9%的（甲基）丙烯酸酯單體、具有羥基而且 重里百分比〇·1〜10%的乙稀基（vinylic)單體，以及重 1百分比0·01〜10%的多功能的異氰酸交聯試劑 (crosslinking agent)。基於重量百分比loo%的丙烯酸 共，物’具有C1〜C12烷基的（曱基）丙烯酸酯單體的 重量百分比是少於90%，而且因為起初黏著性質惡化 而且成本增加，（甲基）丙烯酸酯單體不受歡迎。較佳 地’上述單體的重量百分比為94〜99.9%。 31 1280420 岸7 Λ二圖弟六實施例，可能將顏色控制 二層豐在最簡單整合薄膜，以顯示抗反射功 月匕/、电磁波遮蔽功能。電漿顯示器濾光片是—薄膜形 式而且可以半連續形式且不需要玻璃進行製造，、▲ 且半成―品可以僅疊在玻璃一次而且隨後完成製造。 第十四圖係一截面圖，顯示本發明的第七施 顯示HL。在第十四圖的電漿顯示器遽 j片中，不需要附加的顏色控制層，聚合材料係包含 一具有顏色控制功能的有機或無機顏料及/ 無機染=，並且增加至黏著層830，這需要用於整合 一層至單一層而且可顯示透明基板85〇的表面^ & 反射功能與電磁波遮蔽功能，例如玻璃基板或模组， 使用黏著劑以形成一顏色控制層。 、' 一 „、當使用本發明的電漿顯示器濾光片時，電漿顯 示為濾光片的層疊數目與製程皆減少。 發明貫施例 _ 透過以下實施例更瞭解本發明内容，而且這些 實施例係用於說明，但不用於侷限本發明的範备。一 範例1 ^ 來自Bekaert的電磁波遮蔽層[可見光穿透度· 60〜65%，表面電阻值<;L8Q]。來自日本的N〇FC〇^p 公司的抗反射層（品名·· 7702UV)使用感壓型黏著劑附 貼至電磁波遮蔽層。整合後的薄膜係切割至97 x 56 cm的尺寸，因此電漿顯示器濾光片的表面邊緣部 份係不暴露的。 比較範例1 來自Bekaert的電磁波遮蔽層[可見光穿透度: 60〜65%，表面電阻值〈oq]具有i〇〇cmx6〇cm^ 32 1280420 尺寸。來自日本的NOF Corp公司的抗反射層 =UV)具有92 cm X 52 cm的尺寸而且使;“型 A者劑附貼至電磁波遮蔽層。在電漿顯示器壤主 中’電磁波遮蔽層的所有暴露邊緣部份係使& ^版^ 刷程序（screen printing process)塗佈寬产） r h 又4^ CEQ的雜 (銀黏膠：來自Acheson而且品名為479SS)。 比較範例2

除電磁波遮蔽層的所有暴露邊緣部份係貼 ★ 度2 cm的導電膠帶（來自AMIC而且編號為DK_1〇見 而不使用銀列印製程之外，電漿顯示器濾^片係_ = 比較範例1的相同方式而製造。 ’、又照 [電磁波遮敝層] 實施實驗用於決定電磁波垂直於或者平行於〜 例1與比較範例1以及比較範例2的電漿顯示器遽3 片的前表面。範例1的結果係顯示於第十五圖 六圖，比較範例1的結果係顯示於第十七圖與第十八 圖’而且比較範例2的結果係顯示於第十九圖與第一 十圖。 當頻率降低時’電磁波由導體例如電源線或訊 號線而以電氣控制’其中當頻率增加時，該電磁波即 韓射進入空間中。然而，可量測電漿顯示器的電磁波 雜訊的輻射抑制位準（level of inhibition)而且電漿顯 示器具有30 MHz或更大的電磁波範圍。 量測電磁波係在半電波暗室（semi-anechoic chamber)中實施，其所有壁表面除底部表面外係由電 磁波吸收材質與金屬板由製成。在一般電場強度儀之 間，偶極天線（dipole antenna)、線路阻抗穩定網路 (Line Impedance Stabilized Network)電路或者吸收夾 33 1280420 鉗係使用於電磁波的量測。使用電場強度儀。 哭μΛΙ強度儀可以短錢波11取代，而且該濾波 對於高斯濾波器的振幅減少6dB，短波滹 突波雜訊（impulse noise)非常有效，^ 間的頻帶量測，而且頻 f見度0又疋在振幅減少6 dB或更少。 、^、Λ此t形中，使用具有準峰值（quasi-peak)的電 ^偵測态。電磁波使用電場強度儀而量測，而且電 J度據Class B的量測標準，擺放在距離 公尺的位置。這是用於數位裝置例如 电名顯不盗濾光片相對於電磁波之聯邦通信委 國際標準（FCC international standard)。 、曰 n ^第十五圖至第二十圖的粗實線代表Class B而 22位裝置的電磁波之最A數值，這是由聯邦通 尨委貝雷國際標準設定。 s 一如顯示於第十五圖與第十六圖，範例1的電漿 頰不器濾光片係具有電磁波遮蔽層而沒有接地部 t，亚且電漿顯示器濾光片並未超過實際由電漿顯示 裔發射出的電磁波範圍的Class B之數值，以及電 顯示器濾光片符合標準設定。 比較第十五圖與第十六圖以及第十七圖至第二 =圖，範例1的電漿顯示器濾光片係具有電磁波遮蔽 i而且沒有接地部分，並且電漿顯示器濾光片顯示一 龟％強度波型，這非常相似於比較範例1與2的習知 電漿顯不器具有電磁波遮蔽層以及具有接地部分。 因此，在使用具有電磁波遮蔽層而且不具有接 地部分的電漿顯示器濾光片的情形中，相較於使用電 f波遮蔽層並具有接地部分的習知技術來說，電漿顯 示為濾、光片係更谷易而且更簡單加以製造。再者，可 34 a28〇42〇 $司相等於習知電漿顯示器濾光片的電磁波遮蔽效 葬 根/康本發明，電漿顯示器濾光片的層疊結構可 ί多方式形成’而且連續製造程序可適用於電漿 濾光片的製造，因此達成電漿顯示器濾光片的 =衣迄與鬲產量。再者，功能層需要與電磁波遮蔽 1j結構相同之結構可形成一簡單結構，因此使得容 易衣造多功能性的電漿顯示器濾光片。 【圖式簡單說明】 第圖係截面圖，概略顯示習知電漿顯示器之 一侧邊； ^ = A圖係第一圖之a部分之局部放大圖； 嗆# 至第二F圖係一顯示習知電漿顯示器 /慮光片之截面圖； 弟一圖係邛为立體圖，顯示習知 的接地部分（暴露部分）； 私磁波返敝層 第四圖係一平面圖，顯示本發明 與 電漿顯示器濾光片之平面結構； 弟貝訑例的 第五圖係截面圖，顯示本發明 每 漿顯示器濾光片之截面結構； 貝轭例的電 第六圖係一視圖，顯示用於萝 顯示器濾光片之滾輪排列；、& °本务明的電水 第七圖係一顯示本發明的製造 押 片的製程之流程圖； 水”、、頁不為慮先 第八圖係一截面圖，顧太 電漿顯示器濾光片之截面結構μ;"罘二實施例的 第九圖係-立體圖，同時顯示本發明第二實施 35 j28〇42〇 例的光丄之，結構與截面結構； ^ n 固係截面圖，顯示本發明第二與浐如沾 電衆顯示器渡光片之截面結構广x ^―胃知例的 第十一圖係一截面圖， 四 的電漿顯示器濾光片之截面結構广知月弟四貝把例 弟十二圖係一截面圖， 的電漿，示器濾、光片之截面結構料^五貝施例 A炎將=5十·三圖係一截面圖，顯示本發明第六實施例 的私氷頒不器濾光片之截面結構； 、

沾恭將弟強十·四圖係一截面圖，顯示本發明第七實施例 的电水顯不器濾光片之截面結構； 、 μ五圖係—圖表’顯示本發明（範例丨）的遮蔽 結果其電磁波係垂直於電漿顯示器遽 光片的則表面而且電漿顯示器濾光片不具有接地部 分， w Λ六圖係一圖表’顯示本發明（範例1)的遮蔽 廷磁波^貫驗結果，其電磁波係平行於電漿顯示哭濾 ^片的前表面而且電漿顯示器濾光片不具有接二^ 分， 、+第十七圖係一圖表，顯示（比較範例1)遮蔽電磁 波的貝驗結果’其電磁波係垂直於習知電漿顯示哭淚 光片而且電漿顯示器濾光片係經由銀塗佈製程而且 有接地部分； 第十八圖係一圖表，顯示（比較範例〇遮蔽電磁 波的貝1¾結果’其電磁波係平行於習知電聚顯示哭濟 光片而且電漿顯示器濾光片係經由銀塗佈製程^ 有接地部分； 第十九圖係一圖表，顯示（比較範例1)遮蔽電磁 波的實驗結果，其電磁波係垂直於習知電漿顯示器淚 36 1280420 光片而且電漿顯示器濾光片係經由導電膠帶而具有 接地部分；以及 第二十圖係一圖表，顯示（比較範例1)遮蔽電磁 波的實驗結果’其電磁波係平行於習知電聚顯不器滤 光片而且電漿顯示器濾光片係經由導電膠帶而具有 接地部分。

【主要元件符號說明】 10 前蓋 21 抗反射層 23 電磁波遮蔽層 25 近紅外線吸收層 30 濾光片支撐座 60 驅動電路 71 電磁波遮蔽層的暴 露部分 100 電漿顯示器 200 電漿顯示器濾光片 213 透明基板 215 感壓型導電膠帶 217 抗反射層 230 纏繞捲筒 250 第一供應滾輪 270 第一壓縮滾輪 290 電漿顯示器濾光片 310 電磁波遮蔽層 312 電磁波遮蔽層 321 透明基板 330 感壓型導電膠帶 410 電磁波遮蔽層 20 電漿顯示器濾光片 22 透明基板 24 顏色控制層 50 電漿顯示器模組 70 電磁波遮蔽層 72 功能層的層狀結構 170接地柱 210電磁波遮蔽層 214電磁波遮蔽層 216透明基板 220抗反射層 240纏繞捲筒 260第二供應滾輪 280第二壓縮滚輪 300電漿顯示器濾光片 311透明基板 320抗反射層 322抗反射層 400電漿顯示器濾光片 411透明基板 37 1280420

412 電磁波遮敝層 422 抗反射層 500 電漿顯示器濾光片 510 電磁波遮蔽層 511 透明基板 512 電磁波遮蔽層 522 抗反射層 600 電漿顯示器濾光片 610 電磁波遮蔽層 611 透明基板 621 高反射透明層 622 抗反射層 623 高反射透明層 624 高反射透明層 631 金屬薄膜層 632 金屬薄膜層 633 金屬薄膜層 640 低反射薄膜層 660 硬塗佈層 700 電漿顯示器濾光片 710 電磁波遮蔽層 711 透明基板 721 高反射透明層 722 抗反射層 723 高反射透明層 724 高反射透明層 730 感壓型導電膠帶 731 金屬薄膜層 732 金屬薄膜層 733 金屬薄膜層 740 低反射薄膜層 750 顏色控制層 760 硬塗佈層 800 電漿顯示器濾光片 810 電磁波遮蔽層 811 透明基板 821 高反射透明層 822 抗反射層 823 高反射透明層 824 高反射透明層 830 感壓型導電膠帶 831 金屬薄膜層 832 金屬薄膜層 833 金屬薄膜層 840 低反射薄膜層 850 透明基板 860 硬塗佈層 38

Claims (1)

1280420 十、申請專利範圍： • 1 ·種具有層狀結構之電漿顯示器濾光片，包 含： 私磁波遮蔽層以及一或多個非電磁波遮蔽之 • 層]其中該電磁波遮蔽層的至少兩個表面侧 • · =部分係接觸該功能層而且不暴露於電漿顯示器 濾、光片的層狀結構外。 2·如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示器濾光 巧’其中該電磁波遮蔽層的四個表面邊緣部份 係不接觸功能層 而且不暴露的。 3·如申請專利範圍第4項所述之電漿顯示器濾光 片’其中非電磁波遮蔽之功能層係一由一組包 ^抗反射層、近紅外線吸收層以及顏色控制層 選出的層，或者該功能層是一種顯示上述兩種 -或以上功能之層。 4·如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示器濾光 片’其中該非電磁波遮蔽之功能層是一抗反射 層。 5·如申請專利範圍第4項所述之電漿顯示器濾光 • ^ ’其中該抗反射層係設置在外部光線可及之 該層狀結構的最頂部表面。 6·如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示器濾光 片’其中接觸該電磁波遮蔽層的非電磁波遮蔽 之功能層之寬度係等於或者小於電磁波遮蔽層 之相對應寬度。 7·如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示器濾光 片’其中電磁波遮蔽層係包含一或多個高反射 ，明層與一或多個金屬薄膜層，這些薄膜層係 父互層疊的，而且高反射透明層係設置於該交 39 1280420

互層疊結構的最頂部。 8.如申請專利範圍第7項所述之電漿顯示器濾光 片’其中高反射透明層係由一組氧化物選出而 形成，而且該組氧化物包含氧化銦錫（IT〇)、銦 鋅氧化物（ΙΖΟ)、氧化銻錫（ΑΤΟ)、氧化鋅 (fiiO)、氧化鋅 4g(Zn〇-A1)、二氧化鈦（Ti〇2)、 二氧化二鈮(Nb2〇3)或氧化錫（SnO)以及包含銦 (lndlum)、鈦（titanium)、锆（zirconium)、辞 (zmc)、銻（antim〇ny)、鈕（tantalum)、鈽 (cerium)、敍（thorium)、鎂（magnesium)或 _ (potassium)的氧化物以及氮化矽（Si3N4)。 9·如申請專利範圍第7項所述之電漿顯示器濾光 片’其中金屬薄膜層係由一組包含金、銀、銅、 鎳以及鋁等選出而形成。 •申請專利範圍第7項所述之電漿顯示器濾光 =，其中該電磁波遮蔽層與非電磁波遮蔽之功 能層係使用連續製程藉由黏著劑而層疊形成。 睛專利範圍第10項所述之電漿顯示器濾 丄進一步包含一感壓型黏著劑或熱熔樹脂 =糸」I於電磁波遮蔽層與非電磁波遮蔽之功能 層，，且與電磁波遮蔽層相接觸。 12t申ft利範圍第1項所述之電漿顯示器濾光 =护i非電磁波遮蔽之功能層係使用塗佈 衣％而形成在電磁波遮蔽層。 13·ί申C圍第1項所述之電漿顯示器濾光 片進一步包含一顏色控制層。 “!圍，13項所述之電漿顯示器濾 4至；二f?色控制層係藉由增加-顏料或 木针至層間黏著劑層而形成。 1280420 圍第13項所述之電漿顯示器遽 6 =薄膜貼附至電漿顯示器遽光片而形成：、 ·;種衣U電漿顯示器濾、光片之方法，步驟包 將電磁波遮蔽層纏繞成一捲筒，而 將· 磁波遮蔽層的捲筒安裝在一第一 ^浐％ 將電磁波遮蔽層除外之功能層纏繞成n 隨後將功能層安裝在第二供應滾輪，而且第 :供3滾輪係與第一供應滾輪相隔離； i:f:ί縮捲筒與一第二壓縮捲筒，這兩 設置在與第二供應滾輪以及第 ϊίίίί!間隔的位置，而且隨後將電磁 ，供應滾輪傳送通過第-壓縮捲筒巧弟 材料；以及 合㈣ 切電磁波遮蔽層的至少兩個表面 恭露’其中該電磁波遮蔽層不接 17. :ri 以6等項二述者其中該電 寬度。 見没係寺於或者大於該功能層的 18· 含 種製造電漿顯示器濾光片之方法，步驟包 ΐ:ΐ:ΐϊί:或多個非電磁波遮蔽之功能 苎遮蔽層的上表面、下表面或兩 ΐυι貫施塗佈製程以便不暴露電磁波 遮敝層的上表面、下表面或兩個表面的至少兩 41 1280420 邊緣部份。 專利範圍第18項所述之方法，其中該塗 係實施在電磁波遮蔽層的塗佈表面的整 ^ 以便不恭露電磁波遮蔽層的所有表面 逯緣部份。

20·—電漿^示器濾光片，包含一透明基板、一電 磁波遮蔽層以及一低反射透明層，電磁波遮蔽 $含高反射透明層與金屬薄膜，而且這兩 薄膜父互層疊（laminated)在透明基板，高反射 透明層係形成在該交互層疊層的頂部表面，而 且低反射透明層係形成在該高反射透明層的頂 部表面’其中電磁波遮蔽層的至少兩個表面邊 緣部份不暴露而且不接觸該低反射透明層。

21·如申請專利範圍第2〇項所述之電漿顯示器濾 光片’其中該高反射透明層係由一組化學成分 選出而形成，而且該組化學成分包含氧化銦錫 (ITO)、！因辞氧化物（IZO)、IU匕#弟錫（ΛΤΟ)、氧 化鋅（ZnO)、氧化鋅-鋁（ZnO-Al)、二氧化鈦 (Ti02)、三氧化二鈮（Nb203)或氧化錫（SnO)以及 包含銦（indium)、鈦（titanium)、錯（zirconium)、 鋅（zinc)、銻（antimony)、纽（tantalum)、飾 (cerium)、钍（thorium)、鎂（magnesium)或 _ (potassium)的氧化物以及氮化石夕（Si3N4)。 22·如申請專利範圍第20項所述之電漿顯示器濾 光片，其中該金屬薄膜層係由一組包含金、銀、 銅、鎳以及鋁等選出而形成。 23·如申請專利範圍第20項所述之電漿顯示器濾 光片，其中該低反射透明層係藉由濺鍍製程或 者真空沉積一低反射無機層而形成。 42 1280420 - •如申請專利範圍第20項所述之電漿顯示器濾 • 光片，其中該低反射透明層可使用凹板塗佈製 程（micro gravure coating)或濕塗佈製程在一共 ，物而形成，而且該共聚物係包括含氟低反射 - 單體與丙烯酸單體或含氟聚合物。 25·如申請專利範圍第2〇項所述之電漿顯示器濾 光片，進一步包含一硬塗佈層係介於透明基板 與電磁波遮蔽層的最底部的高反射透明層。 26·如申請專利範圍第25項所述之電漿顯示器濾 • ^片，其中該硬塗佈層係由包含聚氨酯丙烯酸 酯（urethane-acrylate)、環氧丙烯酸酯（ep〇xy acrylate)或聚醋丙烯酸醋（p〇iyester_acryiate)的 紫外光修整化合物所形成。 27·如申請專利範圍第2〇項所述之電漿顯示器濾 光片，進一歩包含一顏色控制層。 • 28·如申請專利範圍第27項所述之電漿顯示器濾 光片，其中該顏色控制層係將一顏料或一染料 &加至一層間黏著劑而形成。 29·如申請專利範圍第27項所述之電漿顯示器濾 • 光片，其中該顏色控制層係使用連續製程將顏 色控制層附接至電漿顯示器濾光片。 3〇· —種製造電漿顯示器濾光片之方法，步驟 含： 將高反射透明層與金屬薄膜交互層疊（laminate) 在^，明基板，而且將一高反射透明層形成 在該交互層疊層的頂部表面，因此產生一電 磁波遮蔽層；以及 將低反射透明層係形成在該高反射透明層的頂 4表面’其中該電磁波遮蔽層的至少兩個表 43 !28〇42〇 面邊緣部份不果霞而n 層。1切+恭路而且接觸該低反射透明 31.—電漿顯示器，包含申士主 15項以及第2〇項至第乾圍第1項至第 示器濾、光片。弟9項中任一項之電漿顯 中言t 第31項所述之電漿顯示器’其 “ΐϊΐί】濾光片係透過-玻璃基板而貼 33.ί:ΐ!,範圍第31項所述之電漿顯示器，其 r _示器濾、光片係直接地附接至電漿顯 不态杈組。 4 $7 if利範圍第31項所述之電漿顯示器，其 t該電漿顯示器濾光片之電磁波遮蔽層係不電 氣接地。 兒