JP2001134198A

JP2001134198A - 電磁波シールド性光透過窓材及び表示装置

Info

Publication number: JP2001134198A
Application number: JP31699999A
Authority: JP
Inventors: Shinji Saito; 伸二斉藤; Tetsuo Kitano; 徹夫喜多野
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 1999-11-08
Filing date: 1999-11-08
Publication date: 2001-05-18

Abstract

(57)【要約】【課題】軽量で薄く、割れにくく、万一割れても飛散
しにくい、ＰＤＰ用電磁波シールドフィルター等として
好適な、良好な電磁波シールド性能と近赤外線カット性
能を有し、かつ光透過性で鮮明な画像を得ることができ
る電磁波シールド性光透過窓材を提供する。【解決手段】１枚の透明基板２と、反射防止フィルム
８と、導電性メッシュ３と、近赤外線カットフィルム５
を接着用中間膜４Ａ，４Ｂ及び粘着剤４Ｃで一体化した
電磁波シールド性光透過窓材１。近赤外線カットフィル
ム５は、２層以上の近赤外線カット層を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光
透過窓材に係り、特に、良好な電磁波シールド性と近赤
外線カット性とを備え、かつ光透過性で、ＰＤＰ（プラ
ズマディスプレーパネル）の前面フィルタ等として有用
な電磁波シールド性光透過窓材に関する。また、本発明
は、この電磁波シールド性光透過窓材を備えたＰＤＰ等
の表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。

【０００３】そこで、従来、ＯＡ機器のＰＤＰの前面フ
ィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性
の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓
材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護する
ために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材とし
ても利用されている。

【０００４】従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主
に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の
透明基板の間に介在させて一体化した構成とされてい
る。

【０００５】本出願人は、このような従来の電磁波シー
ルド性光透過窓材の特性や施工性を改善するものとし
て、２枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させ
て、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド
性光透過窓材を提案した（特開平１１−７４６８３号公
報）。

【０００６】この電磁波シールド性光透過窓材であれ
ば、良好な電磁波シールド性を有し、かつ光透過性で鮮
明な画像を得ることができ、また、導電性メッシュが介
在することにより破損時の透明基板の飛散も防止され
る。

【０００７】また、上記従来の電磁波シールド性光透過
窓材では電磁波シールド性を良好なものとするために、
電磁波シールド材、例えば導電性メッシュをＰＤＰ本体
に接地（アース）する必要がある。そのためには、２枚
の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出さ
せ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地す
るか、２枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触す
るように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。通常
透明基板は２〜３ｍｍのガラスが用いられ、大画面用の
フィルタではこれらのガラスは重量があり、積層工程に
おける上記作業が大変であるばかりか、確実に積層作業
をすることが難しい。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】２枚の透明基板を用い
た電磁波シールド性光透過窓材は、厚み及び重量がそれ
ぞれだけ大きいので、薄型化及び軽量化が望まれてい
る。

【０００９】また、このような電磁波シールド性光透過
窓材にあっては、リモコンの誤作動等を防止する目的で
近赤外線カット性能が重要な要求特性とされている。特
に、最近では、ＰＤＰの輝度の向上に伴って、近赤外線
の発生量も多くなっていることから、より一層高度な近
赤外線カット性能が必要とされている。

【００１０】なお、電磁波シールド性光透過窓材の透明
基板として、アクリル樹脂板を用いる場合には、基板材
料のアクリル樹脂中に銅系材料を配合させておくこと
で、近赤外線カット性能を付与することができるが、ア
クリル樹脂は耐熱性の面で問題があり、熱に弱く、熱変
形の恐れがあることから、電磁波シールド性光透過窓材
の透明基板として好ましくない。このため透明基板とし
て耐熱性に優れたガラス基板を用い、良好な近赤外線カ
ット性を有する電磁波シールド性光透過窓材を実現する
ことが望まれる。また、アクリル樹脂板を用いた場合に
あっても、より一層の近赤外線カット性の向上が望まれ
る。

【００１１】本発明は上記従来の問題点を解決し、軽量
で薄く、耐久性も良好であり、ＰＤＰ用電磁波シールド
フィルター等として好適な、良好な電磁波シールド性能
と近赤外線カット性能とを有し、かつ光透過性で鮮明な
画像を得ることができる電磁波シールド性光透過窓材
と、これを用いた表示装置を提供するものである。

【００１２】また、本発明は、フィルタ構成部品の積層
作業が容易で良好な電磁波シールド性能を有し、耐衝撃
性を有する（割れにくい）電磁波シールド性光透過窓材
と、これを用いた表示装置を提供するものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の電磁波シールド
性光透過窓材は、１枚の透明基板と、電磁波シールド材
と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィ
ルムとが、積層一体化されてなるものである。

【００１４】本発明の電磁波シールド性光透過窓材で
は、透明基板を１枚だけ用いており、薄く軽量である。
また、最表層に反射防止フィルムが配置され、最裏層に
近赤外線カットフィルムが配置される場合には、透明基
板の表裏両側にこれらのフィルムが配置されることにな
り、透明基板の耐久性がよく、また、万一割れても飛散
が防止される。本発明の電磁波シールド性光透過窓材に
よると、前述の電磁波シールド材のＰＤＰへの接地構成
を形成する工程が容易になると共に、この工程を作業ミ
ス等なしに確実に実施できる。

【００１５】本発明において、電磁波シールド材として
は、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなるメッ
シュを好適に用いることができ、このような導電性メッ
シュを用いたものであれば、破損時の飛散防止効果が得
られ、安全性が高い。

【００１６】本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、
具体的には、透明基板、各フィルム及び電磁波シールド
材を透明接着剤で接合一体化するのが好ましい。この透
明接着剤として透明弾性接着剤を用いることにより、衝
撃等で窓材が破損した場合の破片の飛散をより確実に防
止することができる。

【００１７】この透明接着剤に紫外線吸収剤を含有させ
ることにより、電磁波シールド性光透過窓材が一段と優
れた紫外線カット性も有するものとなる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明す
る。

【００１９】図１は本発明の電磁波シールド性光透過窓
材の実施の形態を示す模式的な断面図であり、図２
（ａ）〜（ｄ）は本発明に係る近赤外線カット層の実施
の形態を示す模式的な断面図である。

【００２０】図１の電磁波シールド性光透過窓材１は、
最表層の反射防止フィルム８、導電性メッシュ３、透明
基板２及び最裏層の近赤外線カットフィルム５が、接着
剤となる接着用中間膜４Ａ，４Ｂ及び粘着剤（粘着膜）
４Ｃを用いて積層させて一体化したものである。なお、
この実施の形態にあっては、この積層体の端面とそれに
近接する表裏の縁部とを導電性粘着テープ７で覆ってい
る。

【００２１】本発明において、透明基板２の構成材料と
しては、ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
メチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポ
リカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテー
トフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、
ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋
エチレン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セ
ロファン等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭ
ＭＡが挙げられる。

【００２２】透明基板２の厚さは得られる窓材の用途に
よる要求特性（例えば、強度、軽量性）等によって適宜
決定されるが、通常の場合、０．１〜１０ｍｍの範囲好
ましくは１〜４ｍｍとされる。

【００２３】なお、透明基板２の周縁部にアクリル樹脂
等をベースとする黒枠塗装が設けられてもよい。

【００２４】透明基板２には、金属薄膜又は透明導電性
膜等の熱線反射コート等を施して機能性を高めるように
してもよい。

【００２５】反射防止膜８としては、ＰＥＴ，ＰＣ，Ｐ
ＭＭＡ等のベースフィルム（厚さは例えば２５〜２５０
μｍ程度）上に下記（１）の単層膜や、高屈折率透明膜
と低屈折率透明膜との積層膜、例えば、下記（２）〜
（５）のような積層構造の積層膜を形成したものが挙げ
られる。（１）透明基板よりも屈折率の低い透明膜を一層積層
したもの（２）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を１層ずつ合
計２層に積層したもの（３）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を２層ずつ交
互に合計４層積層したもの（４）中屈折率透明膜／高屈折率透明膜／低屈折率透
明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層したもの（５）高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各層を
交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの高屈折率透明膜としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化
物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ_２、
ＳｎＯ_２、ＺｒＯ等の屈折率１．６以上の薄膜、好まし
くは透明導電性の薄膜を形成することができる。高屈折
率透明膜は、これらの微粒子をアクリルやポリエステル
のバインダーに分散させた薄膜でもよい。また、低屈折
率透明膜としてはＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２、Ａｌ_２Ｏ_３等の
屈折率が１．６以下の低屈折率材料よりなる薄膜を形成
することができる。低屈折率透明膜としては、シリコン
系、フッ素系の有機材料からなる薄膜も好適である。こ
れらの膜厚は光の干渉で可視光領域での反射率を下げる
ため、膜構成、膜種、中心波長により異なってくるが４
層構造の場合、透明基板側の第１層（高屈折率透明膜）
が５〜５０ｎｍ、第２層（低屈折率透明膜）が５〜５０
ｎｍ、第３層（高屈折率透明膜）が５０〜１００ｎｍ、
第４層（低屈折率透明膜）が５０〜１５０ｎｍ程度の膜
厚で形成される。

【００２６】また、このような反射防止膜８の上に更に
汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高めるように
してもよい。この場合、汚染防止膜としては、フッ素系
薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚１〜１００ｎｍ程
度の薄膜が好ましい。

【００２７】本発明の電磁波シールド性光透過窓材で
は、近赤外線カットフィルムは、ベースフィルムと、２
層以上の近赤外線カット層との組み合わせによって構成
されていることが好ましい。

【００２８】かかる電磁波シールド性光透過窓材は、電
磁波シールド材と近赤外線カット層とを有するため、良
好な電磁波シールド性能と近赤外線カット性能を得るこ
とができる。しかも、この近赤外線カット層として２層
以上の近赤外線カット層、好ましくは２種以上の近赤外
線カット材料の層で構成した場合には、近赤外の幅広い
波長域において著しく良好な近赤外線吸収性能を得るこ
とができる。

【００２９】本発明において、この近赤外線カット層
は、次のような構成とすることができる。ベースフィルムに第１の近赤外線カット材料のコー
ティング層を設けた第１の近赤外線カットフィルムと、
ベースフィルムに該第１の近赤外線カット材料とは異な
る第２の近赤外線カット材料のコーティング層を設けた
第２の近赤外線カットフィルムとの組み合せベースフィルムの一方の面に第１の近赤外線カット
材料のコーティング層を設けると共に、他方の面に該第
１の近赤外線カット材料とは異なる第２の近赤外線カッ
ト材料のコーティング層を設けた近赤外線カットフィル
ムベースフィルムに第１の近赤外線カット材料のコー
ティング層と該第１の近赤外線カット材料とは異なる第
２の近赤外線カット材料のコーティング層とを積層して
設けた近赤外線カットフィルム近赤外線カットフィルム５としては、ベースフィルム上
に、銅系、フタロシアン系、酸化亜鉛、銀、ＩＴＯ（酸
化インジウム錫）等の透明導電性材料、ニッケル錯体
系、ジイモニウム系等の近赤外線カット材料のコーティ
ング層を設けたものを用いることができる。このベース
フィルムとしては、好ましくは、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭ
Ａ等よりなるフィルムを用いることができる。このフィ
ルムは、得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚さを
過度に厚くすることなく、取り扱い性、耐久性を確保す
る上で１０μｍ〜１ｍｍ程度とするのが好ましい。ま
た、このベースフィルム上に形成される近赤外線カット
コーティング層の厚さは、通常の場合、０．５〜５０μ
ｍ程度である。

【００３０】本発明においては、上記近赤外線カット材
料のうちの好ましくは２種以上の材料を用いた近赤外線
カット層を設けても良く、２種以上のコーティング層を
混合したり、積層したり、ベースフィルムの両面に分け
てコーティングしたり、２種以上の近赤外線カットフィ
ルムを積層しても良い。

【００３１】近赤外線カットフィルム５としては、例え
ば図２（ａ）〜（ｄ）で示すものを用いることができ
る。なお、次の図２（ａ）〜（ｄ）のうちでも、フィル
ムが１枚であり、且つコーティング層が外面に露出しな
いところから図２（ｃ）又は（ｄ）のものが好適であ
る。

【００３２】図２（ａ）の近赤外線カット層フィルム
は、ベースフィルム１０に近赤外線カット材料１１のコ
ーティング層を形成した近赤外線カットフィルム５Ａ
と、ベースフィルム１０に近赤外線カット材料１１とは
異なる近赤外線カット材料１２のコーティング層を形成
したフィルム５Ｂとを併用したものである。

【００３３】図２（ｂ）の近赤外線カット層フィルム５
Ｃは、ベースフィルム１０の一方の面に近赤外線カット
材料１１のコーティング層を形成し、他方の面に近赤外
線カット材料１１とは異なる近赤外線カット材料１２の
コーティング層を形成したものである。

【００３４】図２（ｃ）に示す近赤外線カット層フィル
ム５Ｄは、ベースフィルム１０の一方の面に近赤外線カ
ット材料１１のコーティング層と近赤外線カット１２の
コーティング層とを積層形成したものである。

【００３５】なお、近赤外線カット材料は、３種以上用
いてもよく、また、図２（ａ）〜（ｃ）に示す近赤外線
カットフィルムを複数個組み合わせて用いてもよい。

【００３６】図２（ｄ）に示す近赤外線カット層フィル
ム５Ｅはベースフィルム１０の一方の面に近赤外線カッ
ト材料１３のコーティング層を形成したものであり、好
ましくは２種以上の近赤外線カット材料を混合してコー
ティング層を形成する。

【００３７】特に、本発明では、近赤外線カット材料と
して、次のような近赤外線カットタイプの異なる２種以
上の近赤外線カット材料を組み合わせて用いるのが、透
明性を損なうことなく、良好な近赤外線カット性能（例
えば８５０〜１２５０ｎｍなど近赤外の幅広い波長域に
おいて、近赤外線を十分に吸収する性能）を得る上で好
ましい。（ａ）厚さ１００〜５０００ÅのＩＴＯのコーティン
グ層（ｂ）厚さ１００〜１００００ÅのＩＴＯと銀の交互
積層体によるコーティング層（ｃ）厚さ０．５〜５０ミクロンのニッケル錯体系と
イモニウム系の混合材料を適当な透明バインダーを用い
て膜としたコーティング層（ｄ）厚さ１０〜１００００ミクロンの２価の銅イオ
ンを含む銅化合物を適当な透明バインダーを用いて膜と
したコーティング層（ｅ）厚さ０．５〜５０ミクロンの有機色素系コーテ
ィング層が好適であるが、何らこれらに限定されるものではな
い。

【００３８】本発明においては、例えば近赤外線カット
フィルムと共に、更に透明導電性フィルムを積層しても
よい。この透明導電性フィルムとしては、導電性粒子を
分散させた樹脂フィルム、又はベースフィルムに透明導
電性層を形成したものを用いることができる。

【００３９】透明基板２と反射防止フィルム８との間に
介在させる導電性メッシュ３としては、金属繊維及び／
又は金属被覆有機繊維よりなるものを用いるが、本発明
では、光透過性の向上、モアレ現象の防止を図る上で、
例えば、線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のも
のが好ましい。この導電性メッシュにおいて、線径が１
ｍｍを超えると開口率が下がるか、電磁波シールド性が
下がり、両立させることができない。１μｍ未満ではメ
ッシュとしての強度が下がり、取り扱いが非常に難しく
なる。また、開口率は９５％を超えるとメッシュとして
形状を維持することが難しく、４０％未満では光透過性
が低く、ディスプレイからの光線量が低減されてしま
う。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５
０〜９０％である。

【００４０】導電性メッシュの開口率とは、当該導電性
メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合
を言う。

【００４１】導電性メッシュ３を構成する金属繊維及び
金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、ア
ルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、
鉛、鉄、銀、クロム、炭素或いはこれらの合金、好まし
くは銅、ニッケル、ステンレス、アルミニウムが用いら
れる。

【００４２】金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポ
リエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビ
ニロン、セルロース等が用いられる。

【００４３】本発明においては、特に、上記開口率及び
線径を維持する上で、メッシュ形状の維持特性に優れた
金属被覆有機繊維よりなる導電性メッシュを用いるのが
好ましい。

【００４４】電磁波シールド材料としては、上記の導電
性メッシュの代わりに、エッチングメッシュ又は導電印
刷メッシュを用いることもできる。

【００４５】エッチングメッシュとしては、金属膜をフ
ォトリソグラフィーの手法で格子状やパンチングメタル
状などの任意の形状にエッチング加工したものを用いる
ことができる。この金属膜としては、ＰＥＴ、ＰＣ、Ｐ
ＭＭＡなどの透明基板上に、銅、アルミ、ステンレス、
クロムなどの金属膜を、蒸着やスパッタリングにより形
成したもの、又はこれらの金属箔を接着剤によって透明
基板に貼り合わせたものを用いることができる。この接
着剤としては、エポキシ系、ウレタン系、ＥＶＡ系など
が好ましい。

【００４６】これらの金属膜は予め、片面又は両面に黒
色の印刷を施しておくことが好ましい。フォトリソグラ
フィーの手法を用いることで、導電部分の形状や線径な
どを自由に設計することができるため、前記導電メッシ
ュに比較して開口率を高くすることができる。

【００４７】導電印刷メッシュとしては、銀、銅、アル
ミ、ニッケル等の金属粒子又はカーボン等の非金属導電
粒子を、エポキシ系、ウレタン系、ＥＶＡ系、メラニン
系、セルロース系、アクリル系等のバインダーに混合し
たものを、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン
印刷などにより、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等の透明基板
上に格子状等のパターンで印刷したものを用いることが
できる。

【００４８】更に、電磁波シールド材料としては透明導
電膜をコートした透明導電フィルムを用いることもでき
る。

【００４９】フィルム中に分散させる導電性粒子として
は、導電性を有するものであればよく特に制限はない
が、例えば、次のようなものが挙げられる。 (I) カーボン粒子ないし粉末 (ii) ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウ
ム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、アルミ、銅、チ
タン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはこれらの導
電性酸化物の粒子ないし粉末 (iii) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチック
粒子の表面に上記(i),(ii)の導電性材料のコーティング
層を形成したもの (iv) ＩＴＯと銀の交互積層体これらの導電性粒子の粒径は、過度に大きいと光透過性
や透明導電性フィルムの厚さに影響を及ぼすことから、
０．５ｍｍ以下であることが好ましい。好ましい導電性
粒子の粒径は０．０１〜０．５ｍｍである。

【００５０】また、透明導電性フィルム中の導電性粒子
の混合割合は、過度に多いと光透過性が損なわれ、過度
に少ないと電磁波シールド性が不足するため、透明導電
性フィルムの樹脂に対する重量割合で０．１〜５０重量
％、特に０．１〜２０重量％、とりわけ０．５〜２０重
量％程度とするのが好ましい。

【００５１】導電性粒子の色、光沢は、目的に応じ適宜
選択されるが、表示パネルのフィルタとしての用途か
ら、黒、茶等の暗色で無光沢のものが好ましい。この場
合は、導電性粒子がフィルタの光線透過率を適度に調整
することで、画面が見やすくなるという効果もある。

【００５２】ベースフィルムに透明導電性層を形成した
ものとしては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、ＣＶＤ等により、スズインジウム酸化物、亜鉛
アルミ酸化物等の透明導電層を形成したものが挙げられ
る。この場合、透明導電層の厚さが０．０１μｍ未満で
は、電磁波シールドのための導電性層の厚さが薄過ぎ、
十分な電磁波シールド性を得ることができず、５μｍを
超えると光透過性が損なわれる恐れがある。

【００５３】なお、透明導電性フィルムのマトリックス
樹脂又はベースフィルムの樹脂としては、ポリエステ
ル、ＰＥＴ、ポリブチレンテレフタレート、ＰＭＭＡ、
アクリル板、ＰＣ、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙げられ
る。

【００５４】このような透明導電性フィルムの厚さは、
通常の場合、１μｍ〜５ｍｍ程度とされる。

【００５５】導電性メッシュ３としては、縁部が透明基
板２の縁部からはみ出て、透明基板２の縁部に沿って折
り返すことができるように、透明基板２よりも面積の大
きいものを用いてもよい。

【００５６】反射防止フィルム８、導電性メッシュ３及
び透明基板２を接着する接着用中間膜４Ａ，４Ｂを構成
する接着樹脂としては、透明で弾性のあるもの、例え
ば、通常、合せガラス用接着剤として用いられているも
のが好ましい。特に、透明基板２よりも前面側に配置さ
れる接着用中間膜４Ａ，４Ｂとして、飛散防止能の高い
弾性膜を用いると効果的である。

【００５７】このような弾性を有した膜の樹脂として
は、具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチ
レン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）
アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エ
チル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共
重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸
共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カ
ルボキシルエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−
（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン
−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチ
レン系共重合体が挙げられる（なお、「（メタ）アクリ
ル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その
他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポ
リエステル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができる
が、性能面で最もバランスがとれ、使い易いのはエチレ
ン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）である。また、耐衝
撃性、耐貫通性、接着性、透明性等の点から自動車用合
せガラスで用いられているＰＶＢ樹脂も好適である。

【００５８】接着用中間膜４Ａ，４Ｂの厚さは、例えば
１０〜１０００μｍ程度が好ましい。また、近赤外線カ
ットフィルム５は粘着剤を用いて透明基板２に積層する
のが好ましい。近赤外線カットフィルム５は熱に弱く加
熱架橋温度（１３０〜１５０℃）に耐えられないためで
ある。尚、低温架橋型ＥＶＡ（架橋温度７０〜１３０℃
程度）であればこの近赤外線カットフィルム５の透明基
板２への接着に使用することができる。

【００５９】なお、接着用中間膜４Ａ，４Ｂ，粘着剤４
Ｃは、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止
剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、また、フィ
ルター自体の色合いを調整するために染料、顔料などの
着色剤、カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシ
ウム等の充填剤を適量配合してもよい。

【００６０】また、接着性改良の手段として、シート化
された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズ
マ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効であ
る。

【００６１】この接着用中間膜は、接着樹脂と上述の添
加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後カレン
ダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜
法により所定の形状にシート成形することにより製造さ
れる。成膜に際してはブロッキング防止、透明基板との
圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。

【００６２】このようなＥＶＡ樹脂以外にも、前記の通
りＰＶＢ樹脂も好適に用いることができる。このＰＶＢ
樹脂は、ポリビニルアセタール単位が７０〜９５重量
％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５重量％で、平均重合
度が２００〜３０００、好ましくは３００〜２５００で
あるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可塑剤を含む樹脂組
成物として使用される。

【００６３】その他の透明接着剤として、粘着剤（感圧
接着剤）も好適に使用され、アクリル系、ＳＢＳ、ＳＥ
ＢＳ等の熱可塑性エラストマー系などが好適に用いられ
る。これらの粘着剤には、タッキファイヤー、紫外線吸
収剤、着色顔料、着色染料、老化防止剤、接着付与剤等
を適宜添加することができる。粘着剤は予め、反射防止
フィルムや近赤外線カットフィルムの接着面に５〜１０
０ミクロンの厚みでコーティング又は貼り合わせてお
き、それを透明基板や他のフィルムに貼り合わせること
ができる（ＥＶＡが熱に弱いため）。

【００６４】本実施の形態において、導電性粘着テープ
７は、２枚重ね状に用いられている。外側のテープ７
は、透明基板２、導電性メッシュ３及び近赤外線カット
フィルム５の積層体の全周において、端面の全体に付着
すると共に、この積層体の表裏の角縁を回り込み、反射
防止フィルム８の端縁部と近赤外線カット層フィルム５
の端縁部の双方にも付着している。内側のテープ７は、
この導電性メッシュ３の端縁部と、近赤外線カットフィ
ルム５の端縁部と、これらの間の積層体側周面とにそれ
ぞれ付着している。

【００６５】導電性粘着テープ７としては、図示の如
く、金属箔７Ａの一方の面に、導電性粒子を分散させた
粘着層７Ｂを設けたものであって、この粘着層７Ｂに
は、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキ
シ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用い
ることができる。

【００６６】粘着層７Ｂに分散させる導電性粒子として
は、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを使
用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金
属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミッ
ク粉体等を使用することができる。また、その形状につ
いても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレ
ット状等の任意の形状をとることができる。

【００６７】この導電性粒子の配合量は、粘着層７Ｂを
構成するポリマーに対し０．１〜１５容量％であること
が好ましく、また、その平均粒径は０．１〜１００μｍ
であることが好ましい。このように、配合量及び粒径を
規定することにより、導電性粒子の凝縮を防止して、良
好な導電性を得ることができるようになる。

【００６８】導電性粘着テープ７の基材となる金属箔７
Ａとしては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステン
レス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場
合、１〜１００μｍ程度とされる。

【００６９】粘着層７Ｂは、この金属箔７Ａに、前記粘
着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合したもの
をロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マ
イカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター
等により塗工することにより容易に形成することができ
る。

【００７０】この粘着層７Ｂの厚さは通常の場合５〜１
００μｍ程度とされる。

【００７１】図１に示す電磁波シールド性光透過窓材１
を製造するには、反射防止膜８と、導電性メッシュ３
と、透明基板２と、近赤外線カットフィルム５と、接着
用中間膜４Ａ，４Ｂ，粘着剤４Ｃ及び導電性粘着テープ
７を準備し、反射防止フィルム８、導電性メッシュ３、
透明基板２を各々の間に接着用中間膜４Ａ，４Ｂを介在
させて積層し、接着用中間膜４Ａ，４Ｂの硬化条件で加
圧下、加熱又は光照射して一体化する。次いで、粘着剤
４Ｃにより近赤外線カットフィルム５を貼り合わせる。
必要に応じ導電性メッシュ３の周縁のはみ出し部分を折
り返し、その後、導電性粘着テープ７を積層体の周囲に
周回させて留め付け、用いた導電性粘着テープ７の硬化
方法等に従って、加熱圧着するなどして接着固定する。

【００７２】なお、接着用中間膜４Ａ，４Ｂの一部又は
全部の代わりに、粘着剤を用いても良い。

【００７３】導電性粘着テープ７に架橋型導電性粘着テ
ープを用いる場合、その貼り付けに際しては、その粘着
層７Ｂの粘着性を利用して積層体に貼り付け（この仮り
止めは、必要に応じて、貼り直しが可能である。）、そ
の後、必要に応じて圧力をかけながら加熱又は紫外線照
射する。この紫外線照射時には併せて加熱を行ってもよ
い。なお、この加熱又は光照射を局部的に行うことで、
架橋型導電性粘着テープの一部分のみを接着させるよう
にすることもできる。

【００７４】加熱接着は、一般的なヒートシーラーで容
易に行うことができ、また、加圧加熱方法としては、架
橋型導電性粘着テープを貼り付けた積層体を真空袋中に
入れ脱気後加熱する方法でもよく、接着はきわめて容易
に行える。

【００７５】この接着条件としては、熱架橋の場合は、
用いる架橋剤（有機過酸化物）の種類に依存するが、通
常７０〜１５０℃、好ましくは７０〜１３０℃で、通常
１０秒〜１２０分、好ましくは２０秒〜６０分である。

【００７６】また、光架橋の場合、光源としては紫外〜
可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高
圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンラン
プ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カ
ーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等が挙げられる。
照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概に
は決められないが、通常数十秒〜数十分程度である。架
橋促進のために、予め４０〜１２０℃に加熱した後、こ
れに紫外線を照射してもよい。

【００７７】また、接着時の加圧力についても適宜選定
され、通常５〜５０ｋｇ／ｃｍ^２、特に１０〜３０ｋｇ
／ｃｍ^２の加圧力とすることが好ましい。

【００７８】このようにして導電性粘着テープ７を取り
付けた電磁波シールド性光透過窓材１は、筐体に単には
め込むのみで極めて簡便かつ容易に筐体に組み込むこと
ができる。また、導電性メッシュ３の縁部をはみ出させ
て折り返した場合には、導電性粘着テープ７を介して導
電性メッシュ３と筐体との良好な導通をその周縁部にお
いて均一にとることができる。このため、良好な電磁波
シールド効果が得られると共に、近赤外線カットフィル
ム５の存在下で、良好な近赤外線カット性能が得られ
る。さらに、透明基板２が１枚のみ用いられているか
ら、薄く軽量である。また、この透明基板の両側をフィ
ルム８，５で被装しているから、透明基板の割れが防止
されると共に、万一割れたときの透明基板の飛散が防止
される。

【００７９】なお、図１に示す電磁波シールド性光透過
窓材は本発明の電磁波シールド性光透過窓材の一例であ
って、本発明は図示のものに限定されるものではない。
例えば、近赤外線カットフィルムと共に透明導電性フィ
ルムを設けたものであってもよい。また、透明基板２の
板面に直接透明導電性膜が形成されていてもよい。

【００８０】このような本発明の電磁波シールド性光透
過窓材は、ＰＤＰの前面フィルタとして、或いは、病院
や研究室等の精密機器設置場所の窓材等としてきわめて
好適である。

【００８１】

【実施例】＜実施例１，２＞透明基板として、厚さ２．
５ｍｍ（実施例１）及び３ｍｍ（実施例２）のガラスを
用いて以下の構成の電磁波シールド性光透過窓材を作製
した。

【００８２】近赤外線カットフィルムとして、１００ミ
クロン厚のＰＥＴをベースフィルムとし、ジイモニウム
系の近赤外線カット材料をアクリル樹脂をバインダーと
して５ミクロン厚にコーティングし、さらにこのフィル
ムに２５ミクロン厚にブチルアクリレート系粘着剤をコ
ーティングしたものを用いた。

【００８３】導電性メッシュとしては、線径３０ミクロ
ンの繊維を、１インチ当り１３５本の密度で縦横に編ん
だメッシュを、無電解めっき法でニッケル及び銅めっき
したものを用いた。

【００８４】反射防止フィルムとしては、１８８ミクロ
ンのＰＥＴ上に、紫外線硬化型アクリル樹脂を６ミクロ
ン厚にコーティング・硬化したものの上に、マグネトロ
ンスパッタリング法で、酸化インジウム錫と二酸化シリ
コンの交互積層体を計４層したものを用いた。

【００８５】接着性中間膜として、厚さ０．２５ｍｍの
ＥＶＡ系中間膜を２枚使用した。導電メッシュを反射防
止フィルムとガラスにてはさみ込み、層間にはＥＶＡ系
中間膜を積層した。

【００８６】これを真空熱プレス器にて、１４０℃で２
０分間加熱圧着し積層体とした。次に、ガラスの外側に
近赤外線カットフィルムを粘着剤にて積層した。

【００８７】この構造体を、３０ｃｍ角の大きさで各１
０枚作製し、型枠に固定し、耐衝撃破壊試験を行った。
試験方法は、３．３８ｋｇで直径６０ｍｍの鋼球を３０
ｃｍ高さから落下させ、鋼球に取り付けたロードセルに
よって瞬間最大衝撃荷重を測定する方法によった。この
とき、実施例１の場合、最大衝撃荷重２．２ｋＮ（キロ
ニュートン）で、実施例２の場合は２．４ｋＮであっ
た。いずれの場合も、実用上問題ない耐衝撃性を備えて
いることがわかった。

【００８８】また、破壊後の表面を観察したところ、表
面の反射防止フィルム及び接着性中間膜には、亀裂等は
全く見られず、ガラスの破片やささくれが表面に露出す
ることはなかった。従って、万一、使用中に破壊して
も、安全性の高いものであることが確認された。

【００８９】＜実施例３＞実施例１の構成で大きさが９
５０ｍｍ×５９０ｍｍの構造体を作製した（実施例
３）。この構造体の重量は約４．２ｋｇであり、非常に
取り扱いの容易な軽量窓材であることが確認された。次
に、この構造体を市販のプラズマディスプレーの前面に
通常の前面板の代わりに設置し、ディスプレーをつけ
た。その結果、明るく、コントラストの良い画像が確認
できた。

【００９０】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、薄
く軽量であり、また割れにくく、万一割れても飛散しに
くく、ＰＤＰ用電磁波シールドフィルター等として好適
な、良好な電磁波シールド性能と近赤外線カット性能と
を有し、かつ光透過性で鮮明な画像を得ることができる
電磁波シールド性光透過窓材と、これを用いたＰＤＰ等
の表示装置が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電磁波シールド性光透過窓材の実施の
形態を示す模式的な断面図である。

【図２】本発明に係る近赤外線カット層の実施の形態を
示す模式的な断面図である。

【符号の説明】

１電磁波シールド性光透過窓材２透明基板３導電性メッシュ４Ａ，４Ｂ接着用中間膜４Ｃ粘着剤５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄ近赤外線カットフィルム７導電性粘着テープ７Ａ金属箔７Ｂ粘着層８反射防止膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】１枚の透明基板と、電磁波シールド材
と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィ
ルムとが積層一体化されてなる電磁波シールド性光透過
窓材。
【請求項２】請求項１において、該近赤外線カットフ
ィルムが最裏層に配置されていることを特徴とする電磁
波シールド性光透過窓材。
【請求項３】請求項１又は２において、該電磁波シー
ルド材が金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維のメッシ
ュよりなることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓
材。
【請求項４】請求項１ないし３のいずれか１項におい
て、該電磁波シールド材が該透明基板と該反射防止フィ
ルムとの間に介在されていることを特徴とする電磁波シ
ールド性光透過窓材。
【請求項５】請求項１ないし４のいずれか１項におい
て、透明接着剤によって積層一体化されていることを特
徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項６】請求項５において、少なくとも透明基板
よりも前面側の該透明接着剤が透明弾性接着剤であるこ
とを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項７】請求項５又は６において、前記透明接着
剤が紫外線吸収剤を含有することを特徴とする電磁波シ
ールド性光透過窓材。
【請求項８】表示面の前面に請求項１ないし７のいず
れか１項の電磁波シールド性光透過窓材を備えた表示装
置。