JP2005129576A - 電磁波シールド部材及びpdpフィルタ - Google Patents
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Abstract
【課題】周縁部の欠陥を黒枠部に隠蔽することができ、これにより製造時の歩留りが向上する電磁波シールド部材を提供する。
【解決手段】透明基板5と、透明基板5の一方の面に設けられた電磁波シールド層3と、最表面に設けられたフィルム2とを備え、周縁に沿って黒枠部9が設けられている電磁波シールド部材1。黒枠部9は、最表面の反射防止フィルム2又は防眩フィルムの裏側面に印刷によって形成されている。
【選択図】図1
【解決手段】透明基板5と、透明基板5の一方の面に設けられた電磁波シールド層3と、最表面に設けられたフィルム2とを備え、周縁に沿って黒枠部9が設けられている電磁波シールド部材1。黒枠部9は、最表面の反射防止フィルム2又は防眩フィルムの裏側面に印刷によって形成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、PDP(プラズマディスプレイパネル)の前面フィルタの導電層形成用フィルムとして好適な電磁波シールド部材と、この電磁波シールド部材を備えるPDPフィルタに関する。
PDPの漏洩電磁波を遮断するために、ガラス基板に導電層を形成して電磁波シールド機能を付与したPDPフィルタが用いられている。PDPフィルタは一般にその平面視形状が長方形状であり、従来のPDPフィルタにあっては、ガラス基板の周縁部に、ディスプレイの有効画面サイズを決定するための黒枠塗装が施されている(例えば、特開2002−57489号公報)。
図2は同号公報の電磁波シールド部材を示す模式的な断面図であり、この電磁波シールド部材11は、2枚の透明基板12A,12B間に、接着剤となる接着用中間膜14A,14B及び電磁波シールド性熱線カットフィルム13を積層させて一体化したものであり、裏面側となる透明基板12Bの周縁部にアクリル樹脂をベースとする黒枠塗装16が設けられている。
この電磁波シールド部材11は、反射防止フィルム15を形成した透明基板12Aと、黒枠塗装16を設けた透明基板12Bと、電磁波シールド性熱線カットフィルム13と接着用中間膜14A,14Bを準備し、透明基板12Aと透明基板12Bとの間に、電磁波シールド性熱線カットフィルム13を接着用中間膜14A,14Bの間に挟んだものを積層し、接着用中間膜14A,14Bの硬化条件で加圧下、加熱又は光照射して一体化することにより製造される。
特開2002−57489号公報
上記特開2002−57489号公報のように最裏面側の透明基板2Bに黒枠塗装6を施した電磁波シールド部材1にあっては、それよりも前面側の層の周縁部に傷や周端部からの異物混入等といった欠陥が存在した場合、この欠陥が表面側から見えることになり、従って、この欠陥を有した電磁波シールド部材は不良品ということになる。このため、製造歩留りが悪い。
本発明は、周縁部の欠陥を黒枠部に隠蔽することができ、これにより製造時の歩留りが向上する電磁波シールド部材と、この電磁波シールド部材を備えたPDPフィルタを提供することを目的とする。
本発明の電磁波シールド部材は、基材と、該基材の一方の面に設けられた電磁波シールド層と、最表面に設けられたフィルムとを備え、周縁に沿って黒枠部が設けられている電磁波シールド部材において、該黒枠部が該最表面のフィルムに設けられていることを特徴とする。
この最表面のフィルムは反射防止フィルム又は防眩フィルムであることが好ましく、黒枠部は、最表面のフィルムの裏側面に、印刷によって形成されていることが好ましい。
電磁波シールド層は、パターンエッチングされた金属薄膜よりなることが好ましく、本発明の電磁波シールド部材は、更に、近赤外線吸収フィルム、色調補正フィルム、及び衝撃吸収フィルムよりなる群から選ばれる1種又は2種以上を備えていても良い。
本発明のPDPフィルタは、このような本発明の電磁波シールド部材を含むことを特徴とする。
本発明の電磁波シールド部材は、黒枠部が最表面のフィルムに設けられているため、仮に端部から異物が混入しても最表面に設けられたフィルムの黒枠部の下側に入り込むだけであり、黒枠部により異物や傷等の欠陥が隠蔽される。従って、最表面に設けられるフィルム以外の下側層の構成フィルムが仮に不良品であっても、製品とすることができ、歩留まりが向上する。
以下に図面を参照して本発明の電磁波シールド部材及びPDPフィルタの実施の形態を詳細に説明する。
図1は実施の形態に係る電磁波シールド部材1の断面図である。なお、図1には、電磁波シールド部材の積層構造を明確にするために、各層を離隔して示してあるが、これらはすべて積層一体化されている。
この電磁波シールド部材1は、最表面に反射防止フィルム2を有し、反射防止フィルム2、電磁波シールド層3、透明基板5及び近赤外線カットフィルム4が接着剤層7A,7B,7Cにより積層接着され、最裏面側に粘着剤層8が設けられ、離型紙6が取り付けられたものであり、最表面の反射防止フィルム2の裏面側の周縁部に黒枠部9が形成されている。
反射防止フィルム2としては、PET(ポリエチレンテレフタレート),PC(ポリカーボネート),PMMA(ポリメチルメタアクリレート)等の透明ベースフィルム(厚さは例えば25〜250μm程度)上に下記(1)の単層膜や、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜、例えば、下記(2)〜(5)のような積層構造の積層膜を形成したものが挙げられる。
(1) 電磁波シールド性光透過積層フィルムを貼着するパネルの構成材料よりも屈折率の低い透明膜を一層積層したもの
(2) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を1層ずつ合計2層に積層したもの
(3) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を2層ずつ交互に合計4層積層したもの
(4) 中屈折率透明膜/高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で1層ずつ、合計3層に積層したもの
(5) 高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で各層を交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの
(1) 電磁波シールド性光透過積層フィルムを貼着するパネルの構成材料よりも屈折率の低い透明膜を一層積層したもの
(2) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を1層ずつ合計2層に積層したもの
(3) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を2層ずつ交互に合計4層積層したもの
(4) 中屈折率透明膜/高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で1層ずつ、合計3層に積層したもの
(5) 高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で各層を交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの
高屈折率透明膜としては、ITO(スズインジウム酸化物)又はZnO、AlをドープしたZnO、TiO2、SnO2、ZrO等の屈折率1.6以上の薄膜、好ましくは透明導電性の薄膜を形成することができる。高屈折率透明膜は、これらの微粒子をアクリルやポリエステルのバインダーに分散させた薄膜でもよい。また、低屈折率透明膜としてはSiO2、MgF2、Al2O3等の屈折率が1.6以下の低屈折率材料よりなる薄膜を形成することができる。低屈折率透明膜としては、シリコン系、フッ素系の有機材料からなる薄膜も好適である。これらの膜厚は光の干渉で可視光領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心波長により異なってくるが4層構造の場合、パネル貼着側の第1層(高屈折率透明膜)が5〜50nm、第2層(低屈折率透明膜)が5〜50nm、第3層(高屈折率透明膜)が50〜100nm、第4層(低屈折率透明膜)が50〜150nm程度の膜厚で形成される。
また、このような反射防止フィルム2の上に更に汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高めるようにしてもよい。この場合、汚染防止膜としては、フッ素系薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚1〜100nm程度の薄膜が好ましい。また、このような反射防止フィルム2の上にハードコート処理を施しても良い。
このような反射防止フィルム2に黒枠部9を形成する方法としては特に制限はないが、連続してフィルムに塗工できる点から印刷法、特にロール印刷法が好ましく、とりわけグラビア印刷により、黒枠部9を形成することが好ましい。
この黒枠部9の幅は、電磁波シールド部材の大きさによっても異なるが、通常の場合、5〜100mmに形成される。
このように、最表面の反射防止フィルム2の裏面に黒枠部9を形成することにより、その下層の電磁波シールド層3、透明基板5及び近赤外線カットフィルム4の周縁部に傷や、端面から侵入した異物等の欠陥が存在していても、この欠陥は黒枠部9により隠蔽され、表面側から見えることはない。
電磁波シールド層3としては、導電性メッシュ、エッチングメッシュ、導電印刷メッシュ、透明導電性フィルム等を用いることができる。
導電性メッシュとしては、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維よりなるものを用いるが、本発明では、光透過性の向上、モアレ現象の防止を図る上で、例えば、線径1μm〜1mm、開口率40〜95%のものが好ましい。この導電性メッシュにおいて、線径が1mmを超えると開口率が下がるか、電磁波シールド性が下がり、両立させることができない。1μm未満ではメッシュとしての強度が下がり、取り扱いが非常に難しくなる。また、開口率は95%を超えるとメッシュとして形状を維持することが難しく、40%未満では光透過性が低く、ディスプレイからの光線量が低減されてしまう。より好ましい線径は10〜500μm、開口率は50〜90%である。
導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
導電性メッシュを構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、クロム、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ニッケル、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
本発明においては、特に、上記開口率及び線径を維持する上で、メッシュ形状の維持特性に優れた金属被覆有機繊維よりなる導電性メッシュを用いるのが好ましい。
エッチングメッシュとしては、金属膜をフォトリソグラフィーの手法で格子状やパンチングメタル状などの任意の形状にエッチング加工したものを用いることができる。この金属膜としては、PET、PC、PMMAなどの透明ベースフィルム上に、銅、アルミ、ステンレス、クロムなどの金属膜を、蒸着やスパッタリングにより形成したもの、又はこれらの金属箔を接着剤によって透明ベースフィルムに貼り合わせたものを用いることができる。この接着剤としては、エポキシ系、ウレタン系、EVA系などが好ましい。
これらの金属膜は予め、片面又は両面に黒色の印刷を施しておくことが好ましい。フォトリソグラフィーの手法を用いることで、導電部分の形状や線径などを自由に設計することができるため、前記導電メッシュに比較して開口率を高くすることができる。
導電印刷メッシュとしては、銀、銅、アルミ、ニッケル等の金属粒子又はカーボン等の非金属導電粒子を、エポキシ系、ウレタン系、EVA系、メラニン系、セルロース系、アクリル系等のバインダーに混合したものを、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷などにより、PET、PC、PMMA等の透明ベースフィルム上に格子状等のパターンで印刷したものを用いることができる。
透明導電性フィルムとしては、導電性粒子を分散させた樹脂フィルム、又はベースフィルムに透明導電性層を形成したものを用いることができる。
フィルム中に分散させる導電性粒子としては、導電性を有するものであればよく特に制限はないが、例えば、次のようなものが挙げられる。
(i) カーボン粒子ないし粉末
(ii) ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、アルミ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはこれらの導電性酸化物の粒子ないし粉末
(iii) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチック粒子の表面に上記(i),(ii)の導電性材料のコーティング層を形成したもの
(iv) ITOと銀の交互積層体
(i) カーボン粒子ないし粉末
(ii) ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、アルミ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはこれらの導電性酸化物の粒子ないし粉末
(iii) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチック粒子の表面に上記(i),(ii)の導電性材料のコーティング層を形成したもの
(iv) ITOと銀の交互積層体
これらの導電性粒子の粒径は、過度に大きいと光透過性や透明導電性フィルムの厚さに影響を及ぼすことから、0.5mm以下であることが好ましい。好ましい導電性粒子の粒径は0.01〜0.5mmである。
また、透明導電性フィルム中の導電性粒子の混合割合は、過度に多いと光透過性が損なわれ、過度に少ないと電磁波シールド性が不足するため、透明導電性フィルムの樹脂に対する重量割合で0.1〜50重量%、特に0.1〜20重量%、とりわけ0.5〜20重量%程度とするのが好ましい。
導電性粒子の色、光沢は、目的に応じ適宜選択されるが、PDPフィルタとしての用途からは、黒、茶等の暗色で無光沢のものが好ましい。この場合は、導電性粒子がフィルタの光線透過率を適度に調整することで、画面が見やすくなるという効果もある。
ベースフィルムに透明導電性層を形成したものとしては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVD等により、スズインジウム酸化物、亜鉛アルミ酸化物等の透明導電層を形成したものが挙げられる。この場合、透明導電層の厚さが0.01μm未満では、電磁波シールドのための導電性層の厚さが薄過ぎ、十分な電磁波シールド性を得ることができず、5μmを超えると光透過性が損なわれる恐れがある。
なお、透明導電性フィルムのマトリックス樹脂又はベースフィルムの樹脂としては、ポリエステル、PET、ポリブチレンテレフタレート、PMMA、アクリル板、PC、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくは、PET、PC、PMMAが挙げられる。
このような透明導電性フィルムの厚さは、通常の場合、1μm〜5mm程度とされる。
近赤外線カットフィルム4としては、透明ベースフィルムと、近赤外線カット層として2層以上の近赤外線カット層、好ましくは2種以上の近赤外線カット材料の層との組み合せにより構成されたものが、近赤外の幅広い波長域において著しく良好な近赤外線吸収性能を得ることができる点で好ましい。
本発明において、この近赤外線カット層は、次のような構成とすることができる。
(1) ベースフィルムに第1の近赤外線カット材料のコーティング層を設けた第1の近赤外線カットフィルムと、ベースフィルムに該第1の近赤外線カット材料とは異なる第2の近赤外線カット材料のコーティング層を設けた第2の近赤外線カットフィルムとの組み合せ
(2) ベースフィルムの一方の面に第1の近赤外線カット材料のコーティング層を設けると共に、他方の面に該第1の近赤外線カット材料とは異なる第2の近赤外線カット材料のコーティング層を設けた近赤外線カットフィルム
(3) ベースフィルムに第1の近赤外線カット材料のコーティング層と該第1の近赤外線カット材料とは異なる第2の近赤外線カット材料のコーティング層とを積層して設けた近赤外線カットフィルム
(1) ベースフィルムに第1の近赤外線カット材料のコーティング層を設けた第1の近赤外線カットフィルムと、ベースフィルムに該第1の近赤外線カット材料とは異なる第2の近赤外線カット材料のコーティング層を設けた第2の近赤外線カットフィルムとの組み合せ
(2) ベースフィルムの一方の面に第1の近赤外線カット材料のコーティング層を設けると共に、他方の面に該第1の近赤外線カット材料とは異なる第2の近赤外線カット材料のコーティング層を設けた近赤外線カットフィルム
(3) ベースフィルムに第1の近赤外線カット材料のコーティング層と該第1の近赤外線カット材料とは異なる第2の近赤外線カット材料のコーティング層とを積層して設けた近赤外線カットフィルム
近赤外線カットフィルム4としては、ベースフィルム上に、銅系、フタロシアン系、酸化亜鉛、銀、ITO(酸化インジウム錫)等の透明導電性材料、ニッケル錯体系、ジイモニウム系等の近赤外線カット材料のコーティング層を設けたものを用いることができる。このベースフィルムとしては、好ましくは、PET、PC、PMMA等よりなるフィルムを用いることができる。このフィルムは、得られる電磁波シールド性光透過積層フィルムの厚さを過度に厚くすることなく、取り扱い性、耐久性を確保する上で10μm〜1mm程度とするのが好ましい。また、このベースフィルム上に形成される近赤外線カットコーティング層の厚さは、通常の場合、0.5〜50μm程度である。
本発明においては、上記近赤外線カット材料のうちの好ましくは2種以上の材料を用いた近赤外線カット層を設けても良く、2種以上のコーティング層を混合したり、積層したり、ベースフィルムの両面に分けてコーティングしたり、2種以上の近赤外線カットフィルムを積層しても良い。
特に、本発明では、近赤外線カット材料として、次のような近赤外線カットタイプの異なる2種以上の近赤外線カット材料を組み合わせて用いるのが、透明性を損なうことなく、良好な近赤外線カット性能(例えば850〜1250nmなど近赤外の幅広い波長域において、近赤外線を十分に吸収する性能)を得る上で好ましい。
(a) 厚さ100〜5000ÅのITOのコーティング層
(b) 厚さ100〜10000ÅのITOと銀の交互積層体によるコーティング層
(c) 厚さ0.5〜50ミクロンのニッケル錯体系とイモニウム系の混合材料を適当な透明バインダーを用いて膜としたコーティング層
(d) 厚さ10〜10000ミクロンの2価の銅イオンを含む銅化合物を適当な透明バインダーを用いて膜としたコーティング層
(e) 厚さ0.5〜50ミクロンの有機色素系コーティング層
が好適であるが、何らこれらに限定されるものではない。
(a) 厚さ100〜5000ÅのITOのコーティング層
(b) 厚さ100〜10000ÅのITOと銀の交互積層体によるコーティング層
(c) 厚さ0.5〜50ミクロンのニッケル錯体系とイモニウム系の混合材料を適当な透明バインダーを用いて膜としたコーティング層
(d) 厚さ10〜10000ミクロンの2価の銅イオンを含む銅化合物を適当な透明バインダーを用いて膜としたコーティング層
(e) 厚さ0.5〜50ミクロンの有機色素系コーティング層
が好適であるが、何らこれらに限定されるものではない。
本発明においては、例えば近赤外線カットフィルムと共に、更に前述の透明導電性フィルムを積層してもよい。
透明基板5の構成材料としては、ガラス、ポリエステル、PET、ポリブチレンテレフタレート、PMMA、アクリル板、PC、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくは、ガラス、PET、PC、PMMAが挙げられる。PET、PC、PMMAはフィルムであっても良い。
透明基板5の厚さは得られる電磁波シールド部材の用途による要求特性(例えば、強度、軽量性)等によって適宜決定されるが、通常の場合、0.05〜1mm程度のフィルム又は0.5〜5mm程度の板材とされる。
透明基板5には、金属薄膜又は透明導電性膜等の熱線反射コート等を施して機能性を高めるようにしてもよい。
接着剤層7A,7B,7Cを構成する接着樹脂としては、透明で弾性のあるもの、例えば、通常、合せガラス用接着剤として用いられているものが好ましい。
このような弾性を有した樹脂としては、具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシルエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−(メタ)アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられる(なお、「(メタ)アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。)。その他、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができる。
接着剤層7A,7B,7Cの厚さは、例えば10〜1000μm程度が好ましい。
なお、接着剤層7A,7B,7Cは、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤を少量含んでいてもよく、また、フィルター自体の色合いを調整するために染料、顔料などの着色剤、カーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を適量配合してもよい。
この接着剤層7A,7B,7Cを形成する接着用シートは、接着樹脂と上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。成膜に際してはブロッキング防止、圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。接着性改良の手段として、接着用シートへのコロナ放電処理、低温プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効である。
粘着剤層8の粘着剤(感圧接着剤)としては、アクリル系、SBS、SEBS等の熱可塑性エラストマー系などが好適に用いられる。これらの粘着剤には、タッキファイヤー、紫外線吸収剤、着色顔料、着色染料、老化防止剤、接着付与剤等を適宜添加することができる。この粘着剤層8の厚みは10〜1000μm程度が良い。この粘着剤層8には、図1に示す如く適当な剥離紙(フィルム)6を装着しておく。
なお、図1は本発明の電磁波シールド部材の実施の形態の一例を示す図であり、本発明はその要旨を超えない限り、何ら図示のものに限定されるものではない。
本発明の電磁波シールド部材1は、最表面のフィルムに黒枠部が形成されていれば良く、電磁波シールド部材を構成するフィルム等には特に制限はなく、更に色調補正フィルム、衝撃吸収フィルム等を設けても良い。また、近赤外線カットフィルムと電磁波シールド層とを兼ねた電磁波シールド性近赤外線カットフィルムを設けても良い。更に、反射防止フィルムの代りに、ベースフィルム上に、前述の近赤外線カット層を形成し、更にこの上に前述の反射防止層を積層形成した反射防止/近赤外線カットフィルムを設けても良い。
最表層のフィルムについても反射防止フィルムに限らず、透明ベースフィルム上に、シリカを含有する樹脂塗料を塗布して光拡散性層を形成した防眩フィルムであっても良い。防眩フィルムとしては、凝集性シリカ等の粒子の凝集によって光拡散性層の表面に凹凸を付与したもの、塗膜の厚みよりも大きな粒径の樹脂ビーズを添加して表面に凹凸を付与したもの、表面に凹凸を持った賦型フィルムを使用し、固化していない塗膜表面にラミネートして凹凸形状を転移させた後、賦型フィルムを剥がして得たもの等がある。
本発明の電磁波シールド部材は、特に、透明基板5として樹脂フィルムを用い、電磁波シールド層3としてエッチングメッシュを用いた薄膜の直貼りタイプの電磁波シールド部材であることが好ましく、このような電磁波シールド部材であれば、PDP本体の前面板に直接貼り合わせて使用することができる。
なお、黒枠部は、最表面のフィルムの前面側(表面側)に形成することも可能であるが、この場合には、黒枠部が剥れ易くなるため、好ましくは最表面のフィルムの裏面側に形成する。
1 電磁波シールド部材
2 反射防止フィルム
3 電磁波シールド層
4 近赤外線カットフィルム
5 透明基板
6 離型紙
7A,7B,7C 接着剤層
8 粘着剤層
9 黒枠部
2 反射防止フィルム
3 電磁波シールド層
4 近赤外線カットフィルム
5 透明基板
6 離型紙
7A,7B,7C 接着剤層
8 粘着剤層
9 黒枠部
Claims (7)
- 基材と、該基材の一方の面に設けられた電磁波シールド層と、最表面に設けられたフィルムとを備え、周縁に沿って黒枠部が設けられている電磁波シールド部材において、
該黒枠部が該最表面のフィルムに設けられていることを特徴とする電磁波シールド部材。 - 請求項1において、該最表面のフィルムが反射防止フィルム又は防眩フィルムであることを特徴とする電磁波シールド部材。
- 請求項1又は2において、該黒枠部は、該最表面のフィルムの裏側面に設けられていることを特徴とする電磁波シールド部材。
- 請求項3において、該黒枠部は印刷によって形成されていることを特徴とする電磁波シールド部材。
- 請求項1ないし4のいずれか1項において、該電磁波シールド層は、パターンエッチングされた金属薄膜よりなることを特徴とする電磁波シールド部材。
- 請求項1ないし5のいずれか1項において、更に、近赤外線吸収フィルム、色調補正フィルム、及び衝撃吸収フィルムよりなる群から選ばれる1種又は2種以上を備えることを特徴とする電磁波シールド部材。
- 請求項1ないし6のいずれか1項に記載の電磁波シールド部材を含むことを特徴とするPDPフィルタ。
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