CH668196A5 - Verfahren und einrichtung zum abkuehlen und entstauben von gasen. - Google Patents
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Description
BESCHREIBUNG Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Einrichtung zum Kühlen und Entstauben von Gasen, welche vorteilhaft zum Kühlen und Reinigen von Gasen eingesetzt werden kann, wie sie in der metallurgischen Industrie beispielsweise bei der Reduktion von Metalloxiden durch Rezirkula-tion verwendet werden und/oder welche bei derartigen Verfahren ausgestossen werden und grosse Mengen Stau sowie oftmals auch Wasserdampf enthalten. Derartige Gase sind gewöhnlich ausserdem heiss.
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Um Verstopfungen und Verschleiss in den Rohrleitungen, den Gebläsen und andren Bauteilen infolge des staub-haltigen Gases und durch Kondensation in derartigen Gasreinigungseinrichtungen zu vermeiden, werden hohe Anforderungen an derartige Reinigungs- und Kühlanlagen für derartige Verfahren gestellt. Diese Anforderungen sind sogar noch strenger geworden aufgrund der Gesetzgebung zum Umweltschutz, welche bekanntlich die Emission derartiger Gase seitens der Industrie in die Atmosphäre weitgehend beschränkt.
Bei den bisher angewandten Reinigungsverfahren wird oftmals mit hohen Geschwindigkeiten in Düsen und anderen Bauteilen gearbeitet, um den Staubanteil in den Gasen mit Wasser zu vermischen, wobei weiteres Wasser zugesetzt wird, um den Staub vom Gas zu trennen. Da der Staub im allgemeinen stark schmirgelnd oder schleifend wirkt, ist der Verschleiss in den Bauteilen der bisher bekannten Reinigungsanlagen sehr erheblich und der Energieverbrauch hoch. Ausserdem sind die bisher eingesetzten Verfahren bei der Entfernung von submikronischen Teilchen mit einer Körnchengrösse von weniger als '/iooo mm aus dem Gas nicht sehr effizient. Wie allgemein bekannt, sind aber derartige Teilchen oftmals in diesen Gasen vorhanden.
Ausserdem erfolgt das Reinigen und Kühlen des Gases im allgemeinen in getrennten Stufen, was. den Verbrauch von riesigen Wassermengen mit sich bringt, die infolge des Kontaktes mit dem Staub im Gas verschmutzt werden. Derart grosse Wassermengen erzeugen auch im Abwasser eine niedrige Temperatur, wodurch die Wärmerückgewinnung schwierig wird und ausserdem den nachfolgenden Einsatz von komplizierten Einrichtungen zur Entfernung des im Wasser des Gaswäschers angesammelten Staubes erfordert.
Die Erfindung hat sich die Aufgabe gestellt, ein Verfahren zu verwirklichen, wodurch in einer integrierten Einrichtung derartige Gase gereinigt und gekühlt werden können, während möglichst wenig Wasser verwendet wird und mit niedrigen Gas- und Wassergeschwindigkeiten gearbeitet wird, um den Verschleiss und den vorgenannten Energieverbrauch zu verringern. Der verringerte Wasserverbrauch führt auch zu einer höheren Temperatur im Abwasser, wodurch eine Wärmerückgewinnung ermöglicht oder zumindest erleichtert wird, wobei gleichzeitig kleinere und infolgedessen kostengünstigere Einrichtungen verwendet werden können, um anschliessend den Staub vom Wasser zu trennen.
Ein erfindungsgemässes Verfahren zum Kühlen und Entstauben von Gasen ist im wesentlichen dadurch gekennzeichnet, dass in einer ersten Stufe nach Sättigung des Gases mit Wasserdampf das Gas beschleunigt wird, wobei gleichzeitig zusätzliches Wasser den Staubteilchen im Gas derart zugesetzt wird, dass zwischen den Staubteilchen und den Wassertropfen eine hohe Relativgeschwindigkeit erzielt wird und die Wassertemperatur und die Gastemperatur gesenkt wird, sodass der Wasserdampf auf den Wassertropfen zur Kondensation gebracht wird und die gewünschte Abschei-dung submikronischer Teilchen erreicht wird, dass anschliessend das so beladene Gas über die Wasseroberfläche in einen ersten Absetzbehälter geleitet wird, in welchem sich der Hauptteil des Staubanteils im Sumpf absetzt, woraufhin in einer zweiten Stufe das Gas durch direkten Kontakt mit Wasser endgültig gereinigt und gekühlt wird und das in der zweiten Stufe verwendete Wasser zweckmässigerweise über einen zweiten Absetzbehälter insgesamt oder teilweise der ersten Stufe wieder zugeführt wird.
Auf diese Weise wird bei dem erfindungsgemässen Verfahren das heisse Gas in einer ersten Stufe durch Zusatz von Wasser klimatisiert, woraufhin das Gas im allgemeinen auf etwa 100 °C abgekühlt und mit Wasserdampf gesättigt wird,
der auf diese Weise erzeugt wird. Das derartig klimatisierte Gas wird dann zweckmässigerweise in einem Venturirohr beschleunigt, während es gleichzeitig im Hinblick auf seinen Staubgehalt durch Zusatz von Wasser mit einer Temperatur von unter der des Gases beladen wird. Diese Beladung erfolgt teilweise infolge der Kollision zwischen den Staubteilchen und Wassertröpfchen, die durch die hohe Relativgeschwindigkeit zwischen den axial im Gas strömenden Staubteilchen und den radial eingespritzten Wassertropfen erreicht wird, und teilweise infolge der Kondensation von Wasserdampf im Gas auf den kühleren Wassertröpfchen, woraufhin submikronische Teilchen durch die Wassertröpfchen angezogen und absorbiert werden.
Auf diese Weise wird erfindungsgemäss eine wesentliche Verringerung der zum Reinigen und Kühlen benötigten Wassermenge erreicht, und gleichzeitig eine höhere Temperatur im Abwasser vom ersten Absetzbehälter als bei den bisher üblichen Reinigungsverfahren. Eine Wärmerückgewinnung wird auf diese Weise ermöglicht oder zumindest beträchtlich erleichtert. Diese Wirkung lässt sich noch durch Rezirkulation des Wassers vom zweiten Absetzbehälter verbessern, wie dies erfindungsgemäss vorgeschlagen wird.
Nach einem besonderen Vorschlag der Erfindung erfolgt die Gasbeschleunigung in der ersten Reinigungsstufe in einem Venturirohr, wobei das Wasser radial in die Verengung des Venturirohres eingespritzt wird.
Die Temperatur des über den Oberflächenauslass im ersten Absetzbehälter abgezogenen Wassers wird zweckmässigerweise über einen Temperaturregler gesteuert, der im Wassersumpf des ersten Absetzbehälters angeordnet ist, wobei durch diesen Regler der Wasserumlauf im zweiten Absetzbehälter und der extern dem zweiten Absetzbèhâlter zugeleitete Wasserstrom gesteuert werden.
Nach einem weiteren Vorschlag der Erfindung wird das staubhaltige Wasser im ersten Absetzbehälter bzw. des Sumpfes desselben vom reineren Wasser im zweiten Absetzbehältersumpf dadurch getrennt, dass der Wasserspiegel im zweiten Absetzbehälter höher liegt als der Wasserspiegel des ersten Absetzbehälters.
Zweckmässigerweise wird eine Überfüllung des zweiten Absetzbehälters durch einen Überlauf in den ersten Absetzbehälter verhindert, wobei gleichzeitig an der Wasseroberfläche schwimmende Teilchen in den ersten Absetzbehälter zurückgeschwemmt werden.
Des weiteren schlägt die Erfindung vor, das abgekühlte und gereinigte Gas durch einen im zweiten Absetzbehälter angeordneten Zyklon hindurchzuleiten und dabei zu entfeuchten, wobei das abgeschiedene Wasser direkt in den Sumpf des zweiten Absetzbehälters geleitet wird.
Eine erfindungsgemässe Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens ist im wesentlichen dadurch gekennzeichnet, dass sie aus einem im wesentlichen geschlossenen Aggregat besteht, welches einen Gaseinlass, einen Gasauslass und einen Gasdurchfluss zwischen beiden aufweist, dass unter dem Gaseinlass ein teilweise mit Wasser gefüllter erster Absetzbehälter vorgesehen ist und diesem ein ebenfalls teilweise mit Wasser gefüllter zweiter Absetzbehälter nachgeschaltet ist.
Erfindungsgemäss weist der Gaseinlass ein Venturirohr zur Beschleunigung des Gasstromes auf, während eine Wasserzufuhr vorgesehen ist, welche in den Gaseinlass derart einmündet, dass sie Wassertröpfchen radial in den Gasstrom über den Querschnitt des Venturibereichs einspritzt.
Um weiterhin Verstopfungen im Venturibereich zu verhindern, können erfindungsgemäss eine oder mehrere Wassersprühdüsen derart angeordnet sein, dass sie eine im wesentlichen tangentiale Wasserzufuhr längs der Innenwandung des Venturieinlasses erzielen.
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Zweckmässigerweise verengen sich der erste und der zweite Absetzbehälter konisch zu einem Bodenauslass hin.
Erfindungsgemäss liegt der Wasserspiegel im zweiten Absetzbehälter über dem im ersten Absetzbehälter, und zwischen beiden ist ein Überlauf vorgesehen, welcher zweckmässigerweise durch eine Trennwand vom Gasdurchfluss getrennt ist.
Erfindungsgemäss sind in Verbindung mit der zweiten. Reinigungsstufe am Gasauslass auch Gaswäscher vorgesehen. Für diesen Zweck kann ein Sprühturm verwendet werden, welcher beispielsweise eine Anzahl von Düsen aufweist, um dem Gasstrom Wasser zuzuführen, oder es kann im wesentlichen über dem zweiten Absetzbehälter ein Kühlbett angeordnet werden, welches feste Füllkörper enthält und mit Wassersprühdüsen über dem Kühlbett zusammenwirkt. Vorzugsweise ist in Strömungsrichtung des Gases hinter dem Kühlbett eine Wirbelzone ausgebildet.
Der untere Teil des Gasauslasses setzt sich erfindungsgemäss in einen sich konisch verengenden Ansatz mit unter dem Wasserspiegel des zweiten Absetzbehälters mündender Öffnung fort, durch welchen Kühlwasser in den zweiten Absetzbehälter ableitbar ist. Dieser Ansatz dient gleichzeitig als Wassersperre und kann zweckmässigerweise mit einem konischen Einsatz versehen sein.
Weitere Merkmale und Besonderheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung eines Ausführungsbeispiels anhand der beiliegenden einzigen Zeichnung.
Die in der Figur dargestellte Einrichtung besteht im Prinzip aus einem im wesentlichen geschlossenen Behandlungsaggregat A mit wenigstens zwei im wesentlichen senkrechten zylindrischen Behältern, und zwar einem ersten Absetzbehälter 1 und einem zweiten Absetzbehälter 2. Diese beiden Absetzbehälter 1 und 2 sind durch einen Gasdurchfluss 3 miteinander verbunden. Die Behälter sind ausserdem teilweise mit Wasser gefüllt. Die beiden Absetzbehälter 1 und 2 sind derart zueinander aufgebaut, dass der Wasserspiegel im ersten Absetzbehälter 1 während der normalen Betriebsbedingungen stets unter dem Wasserspiegel im zweiten Absetzbehälter 2 liegt, sodass der Gasdurchfluss 3 in einer Höhe mit dem Wasserspiegel im zweiten Absetzbehälter 2 liegt.
Über dem ersten Absetzbehälter 1 ist im Gasdurchfluss 3 ein Gaseinlass 4 vorgesehen, welcher unmittelbar vor dem Eingang zum Gasdurchfluss 3 einen Venturibereich 5 aufweist. Über diesem Venturibereich sprühen eine oder mehrere Düsen 6 Wasser in den Gaseinlass 4, wobei der Wasserzu-fluss durch einen Temperaturregler 7 geregelt wird. Eine oder mehrere Düsen 8 liefern Wasser in den Venturibereich 5 in Form von Wassertröpfchen, welche radial quer zum Querschnitt der Venturiverengung eingespritzt werden. Zweck dieser Massnahme ist es, den grösstmöglichen Geschwindigkeitsunterschied zwischen den axial strömenden Staubteilchen im Gas und den radial eingespritzten Wassertröpfchen zu erreichen. Ausser den genannten Massnahmen sprühen eine ödere mehrere Düsen 9 Wasser tangential längs der Innenwandung des Venturieinlasses.
Die beiden Absetzbehälter 1 und 2 verengen sich konisch zu einem Bodenauslass 10. Der erste Absetzbehälter hat ausserdem einen Überlauf 11. In der Verlängerung des Durchflussraumes, d.h. über dem zweiten Absetzbehälter 2, befindet sich ein Gasauslass 18. Bevor das endgültig abgekühlte und gereinigte Gas den Gasauslass 18 erreicht, muss es ein mit Festkörpern gepacktes Bett 12 passieren, wobei Kühlwasser diesem Bett von oben her zugeführt wird, d.h. im Gegenstrom zur Gasströmung, zu welchem Zweck eine oder mehrere Düsen 13 vorgesehen sind. Das Kühlwasser kann dem Bett allerdings auch von unten her über Düsen 14 zugeführt werden, wobei das erforderliche Wasser zweckmässigerweise über eine Pumpe 15 vom Boden des zweiten Absetzbehälters 2 abgepumpt wird. Diese Pumpe arbeitet mit einem Niveauregler 16 zusammen. Die Temperatur des durch die Düsen 13 und 14 zugeführten Wassers kann über eine Temperatursteuerung 17 geregelt werden, welche durch das Oberflächenwasser im Sumpf des ersten Absetzbehälters erregt wird.
Mit dem Gasauslass 18 ist ein Zyklon verbunden, in welchem das gekühlte und gereinigte Gas endgültig entfeuchtet wird. In diesem Zyklon wird das Gas durch schrägliegende Schaufeln 19 in Rotation versetzt. Das hier aufgefangene Wasser wird zweckmässigerweise dem Wassersumpf des zweiten Absetzbehälters über eine Verlängerung oder einen Ansatz 20 zugeführt, der sich konisch in die Wasseroberfläche im Behälter 2 verengt. Um die Tropfentrennung noch weiter zu verbessern, kann dieser Ansatz mit einem Einsatz 22 versehen werden. Der Ansatz 20 bildet ausserdem eine Gas- oder Wassersperre.
Um unerwünschte Beeinflussungen auf dem Überlauf vom zweiten Absetzbehälter 2 zum ersten Absetzbehälter 1 zu verhindern, ist über diesem Überlauf ein Schutzblech 21 angeordnet.
Die dargestellte Einrichtung arbeitet im Prinzip folgen-dermassen:
Das zu reinigende und zu kühlende heisse Gas wird durch den Gaseinlass 4 in Richtung des Pfeiles B eingebracht. In den heissen Gasstrom wird durch Düsen 6 Wasser eingespritzt, wobei ein Teil des Wassers durch Kontakt mit dem heissen Gas verdampft, sodass dieses heisse Gas mit Wasserdampf bei der gewünschten Temperatur von normalerweise unter 100 °C gesättigt wird. Die durch die Düsen 6 zugeführte Wassermenge wird durch den Temperaturregler 7 gesteuert und das vom Boden des zweiten Absetzbehälters 2 abgesaugte Wasser wird vorzugsweise für diesen Zweck verwendet. Das derart mit Wasserdampf gesättigte Gas strömt dann durch den Venturibereich 5, in welchem weiteres Wasser durch eine oder mehrere Düsen 8 zugeführt wird. Das Wasser wird hier in Tropfenform zugeführt, welche radial über den Querschnitt der Venturiverengung eingespritzt werden, wodurch sich der grösstmögliche Unterschied in der Geschwindigkeit zwischen den in axialer Richtung strömenden Staubteilchen im Gas und den radial eingespritzten Wassertropfen ergibt. Auch hier wird vom unteren Teil des Absetzbehälters 2 abgesaugtes Wasser verwendet.
Um eine Verstopfung der Venturizone 5 zu verhindern, wird Wasser ausserdem tangential längs der inneren Wandung des Venturieinlasses durch eine oder mehrere Düsen 9 eingespritzt, welche ebenfalls mit Wasser vom Boden des zweiten Absetzbehälters 2 gespeist werden können.
Am Ausgang des Venturibereiches 5 und am Eingang in den Gasdurchfluss 3 wird das Gas gegen die Oberfläche des Sumpfwassers im ersten Absetzbehälter 2 abgelenkt und strömt dann nach oben in Richtung der Pfeile C längs der Wandungen des ersten Absetzbehälters und weiter durch den Gasdurchfluss 3 zum Auslass 18. Die schwereren Staubteilchen im Gas, deren Masse durch Kontakt mit Wasser im Venturibereich vergrössert wurde, kommen mit der Wasseroberfläche im ersten Absetzbehälter 1 in Kontakt und der grösste Teil von ihnen sinkt auf den Boden des Wassersumpfes im ersten Absetzbehälter.
Auf diese Weise verlässt der Hauptteil des Staubes im Gasstrom zusammen mit einer geringen Wassermenge den Absetzbehälter 1 durch den Auslass 10, welcher am Boden des Behälters ausgebildet ist, während der Hauptteil des Wassers, der eine geringe Menge von staubartigen Teilchen enthält, den Behälter 1 durch das Überlaufrohr 11 verlässt. Bei einem niedrigen Gasdruck im Behälter 1 kann dieses Rohr zweckmässigerweise die Form einer Wassersperre ha-
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ben, um den Behälter 1 gegen Überdruck zu schützen, während bei einem hohen Gasdruck dieser Schutz durch ein Sicherheitsventil erreicht werden kann und beispielsweise eine niveaugeregelte Pumpe zum Abzapfen verwendet wird. Der Überlauf 11 ist vorzugsweise derart angeordnet, dass jegliche auf der Wasseroberfläche schwimmenden Teilchen durch das strömende Gas zum Überlauf hin geschwemmt werden.
Das in einer ersten Stufe gereinigte Gas strömt nun zu einer zweiten Reinigungsstufe und muss hier vom Gasdurchfluss 3 durch das Bett 12 nach oben hindurchströmen, welches mit Festkörpern vollgepackt ist, wo das Gas der endgültigen Abkühlung und Reinigung durch direkten Kontakt mit Wasser unterworfen wird. Dieses Kühlwasser wird hauptsächlich dem Bett von oben her über eine oder mehrere Düsen 13 zugeführt.
Kühlwasser kann allerdings auch durch Umlauf vom Sumpf am Boden des Behälters 2 von oben und/oder von unten durch eine oder mehrere Düsen 14 erfolgen.
Das hier verwendete Kühlwasser fliesst zusammen mit Kondensationswasser vom endgültig abgekühlten Gas nach unten in den Sumpf am Boden des Behälters 2, sodass das hier aufgefangene Wasser nur einen geringen Anteil an Staubteilchen enthält. Es kann daher mittels einer Pumpe 15 erneut in Umlauf gebracht und im Verfahren wieder verwendet werden. Um eine konstante Höhe des Wasserspiegels im zweiten Absetzbehälter 2 zu erreichen, ist ein Niveauregler vorgesehen, welcher mit den Düsen 14 und/oder 6, 8 und 9 zusammenwirkt.
Erforderlichenfalls kann die Wassertemperatur im Behälter 2 dadurch erhöht werden, dass sie zum Kühlbett erneut in Umlauf gebracht wird.
Zur Wärmerückgewinnung im Oberflächenwasser im ersten Absetzbehälter wird die Temperatur des Ablaufwassers vorzugsweise durch einen Temperaturregler 19 gesteuert, welcher die Umlaufmenge im zweiten Behälter steuert. Der Temperaturregler 17 sitzt zweckmässigerweise im Sumpf des ersten Behälters 1 und verhindert, dass die eingestellte Wassertemperatur durch übermässigen Zusatz von externem Kühlwasser über die Düsen 13 überschritten wird.
Ein geringer Teil des Oberflächenwassers im Sumpf des Behälters 2 strömt längs der unteren Begrenzung des Durchflussraumes 2 zum Behälter 1, wobei dieser Wasserstrom vorzugsweise vom Gasstrom durch eine Trennwand 21 abgeschottet ist. Diese Anordnung schützt den Gaswäscher vor Überfüllung und entfernt jegliche an der Wasseroberfläche schwimmenden Teilchen.
Das gekühlte und gereinigte Gas wird anschliessend durch den Auslass 18 nach aussen gedrückt. Erforderlichenfalls wird es weiter entfeuchtet, indem es in einem mit dem Auslass 18 verbundenen Zyklon in Drehung versetzt wird. Hierzu werden Schrägschaufeln 19 verwendet. Um die Trennung des Wassers vom Zyklon zu erleichtern, kann das Unterteil desselben mit einem konischen Blech 22 versehen werden, welches Durchbrüche oder Schlitze aufweist.
Der Taupunkt des die Einrichtung verlassenden Gases kann erforderlichenfalls im allgemeinen innerhalb eines Bereiches von 10—50 °C durch Steuerung der Temperatur des Wassers geregelt werden, welches durch die Düsen 13 eingespritzt wird.
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1 Blatt Zeichnungen
Claims (24)
1. Verfahren zum Kühlen und Entstauben von Gasen, dadurch gekennzeichnet, dass in einer ersten Stufe nach Sättigung des Gases mit Wasserdampf das Gas beschleunigt wird, wobei gleichzeitig zusätzliches Wasser den Staubteilchen im Gas derart zugesetzt wird, dass zwischen den Staubteilchen und den Wassertropfen eine hohe Relativgeschwindigkeit erzielt wird und die Wassertemperatur und die Gastemperatur gesenkt wird, sodass der Wasserdampf auf den Wassertropfen zur Kondensation gebracht wird und die gewünschte Abscheidung submikronischer Teilchen erreicht wird, dass abschliessend das so beladene Gas über die Wasseroberfläche in einen ersten Absetzbehälter (1) geleitet wird, in welchem sich der Hauptteil des Staubanteils im Sumpf absetzt, woraufhin in einer zweiten Stufe das Gas durch direkten Kontakt mit Wasser endgültig gereinigt und gekühlt wird und das in der zweiten Stufe verwendete Wasser insgesamt oder teilweise der ersten Stufe wieder zugeführt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das in der zweiten Stufe verwendete Wasser der ersten Stufe über einen zweiten Absetzbehälter (2) zugeleitet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass in der ersten Stufe das Gas in einem Venturi-Rohr (5) beschleunigt wird, wobei das Wasser radial in die Verengung am Venturirohr eingespritzt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Temperatur des über einen Oberflä-chen-Auslass (11) im ersten Absetzbehälter (1) entnommenen Wassers durch einen Temperaturregler (17) gesteuert wird, der im Wassersumpf des ersten Absetzbehälters angeordnet ist und den Wasser-Umlauf im zweiten Absetzbehälter (2) sowie den externen Wasserzufluss zum zweiten Absetzbehälter steuert.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das staubhaltige Wasser im Sumpf des ersten Absetzbehälters (1) vom weniger staubhaltigen Wasser im Sumpf des zweiten Absetzbehälters (2) getrennt wird und der Wasserspiegel des zweiten Absetzbehälters höher liegt als der des ersten Absetzbehälters.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass eine Überfüllung des zweiten Absetzbehälters (2) dadurch verhindert wird, dass ein Teil des Oberflächenwassers durch einen Überlauf in den ersten Absetzbehälter (1) abgeleitet wird und dass dabei gleichzeitig an der Wasseroberfläche schwimmende Teilchen in den ersten Absetzbehälter geschwemmt werden.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass an der Wasseroberfläche des ersten Absetzbehälters (1) schwimmende Teilchen durch den auftreffenden Gasstrom zum Oberflächenauslass (11) getrieben werden.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das abgekühlte und gereinigte Gas durch einen im zweiten Absetzbehälter (2) angeordneten Zyklon hindurchgeleitet und dabei entfeuchtet wird, wobei das abgeschiedene Wasser direkt in den Sumpf am Boden des zweiten Absetzbehälters (2) geleitet wird.
9. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie aus einem im wesentlichen geschlossenen Aggregat (A) besteht, welches einen Gaseinlass (4), einen Gasauslass (18) und einen Gas-durchfhiss (3) zwischen beiden aufweist, dass unter dem Gaseinlass ein teilweise mit Wasser gefüllter erster Absetzbehälter (1) vorgesehen ist und diesem ein ebenfalls teilweise gefüllter zweiter Absetzbehälter (2) nachgeschaltet ist.
10. Einrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Gaseinlass (4) ein Venturirohr (8) zur Beschleunigung des Gasstromes aufweist.
11. Einrichtung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass eine in den Gaseinlass (4) einmündende Wasserzufuhr (6) vorgesehen ist.
12. Einrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass eine in die Verengung des Ventu-rirohres (5) einmündende Wasserzufuhr (8) vorgesehen ist, welche Wassertropfen in radialer Richtung in den die Verengung durchströmenden Gasstrom einspritzt.
13. Einrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass eine oder mehrere Wassersprühdüsen (9) vorgesehen sind, durch welche eine im wesentlichen tangentiale Wasserzufuhr längs der Innenwandung des Venturieinlasses erzielbar ist.
14. Einrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Absetzbehälter (1) aus einem sich konisch zu einem Bodenauslass (10) verengenden Behälter besteht.
15. Einrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass der Wasserspiegel im zweiten Absetzbehälter (2) über dem im ersten Absetzbehälter (1) liegt und zwischen beiden ein Überlauf vorgesehen ist.
16. Einrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Überlauf durch eine Trennwand (21) vom Gasdurchfluss (3) getrennt ist.
17. Einrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass im Gasauslass (18) Gaswäscher angeordnet sind.
18. Einrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass der Gaswäscher aus einem Sprühturm mit einer Anzahl von dem Gasstrom Wasser zuführenden Sprühdüsen (13,14) besteht.
19. Einrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass ein Kühlbett (12) im wesentlichen über dem zweiten Absetzbehälter (2) vorgesehen ist.
20. Einrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass das Kühlbett (12) feste Füllkörper enthält und über denselben Wassersprühdüsen (13) angeordnet sind.
21. Einrichtung nach Anspruch 19 oder 20, dadurch gekennzeichnet, dass in Strömungsrichtung des Gases hinter dem Kühlbett (12) eine Wirbelzone ausgebildet ist.
22. Einrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 21, dadurch gekennzeichnet, dass der untere Teil des Gasauslasses (18) sich in einen sich konisch verengenden Ansatz (20) mit unter dem Wasserspiegel des zweiten Absetzbehälters (2) mündender Öffnung fortsetzt, durch welchen Kühlwasser in den zweiten Absetzbehälter ableitbar ist.
23. Einrichtung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass der gleichzeitig als Wassersperre dienende Ansatz (20) einen konischen Einsatz (22) enthält.
24. Einrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass Steuer- und Regeleinrichtungen zur Rückführung von im ersten bzw. zweiten Absetzbehälter aufgefangenem Wasser zur ersten bzw. zweiten Behandlungsstufe vorgesehen ist.
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