CH627790A5 - Electron beam evaporator and container for holding evaporable material - Google Patents

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CH627790A5
CH627790A5 CH743777A CH743777A CH627790A5 CH 627790 A5 CH627790 A5 CH 627790A5 CH 743777 A CH743777 A CH 743777A CH 743777 A CH743777 A CH 743777A CH 627790 A5 CH627790 A5 CH 627790A5
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CH
Switzerland
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electron beam
container
impact plate
impact
evaporation
Prior art date
Application number
CH743777A
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German (de)
English (en)
Inventor
Karl-Georg Redel
Walter Zueltzke
Original Assignee
Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
    • H01J37/3053Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching

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CH743777A 1976-06-26 1977-06-17 Electron beam evaporator and container for holding evaporable material CH627790A5 (en)

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DE19762628765 DE2628765C3 (de) 1976-06-26 1976-06-26 Vorrichtung zum Aufdampfen insbesondere sublimierbarer Stoffe im Vakuum mittels einer Elektronenstrahlquelle

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Publication Number Publication Date
CH627790A5 true CH627790A5 (en) 1982-01-29

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CH743777A CH627790A5 (en) 1976-06-26 1977-06-17 Electron beam evaporator and container for holding evaporable material

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CH (1) CH627790A5 (fr)
DE (1) DE2628765C3 (fr)
FR (1) FR2356268A1 (fr)
GB (1) GB1540944A (fr)
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DE2628765C3 (de) 1979-01-11
GB1540944A (en) 1979-02-21
FR2356268A1 (fr) 1978-01-20
DE2628765A1 (de) 1977-12-29
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FR2356268B1 (fr) 1982-04-16
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IT1079238B (it) 1985-05-08
SE7707216L (sv) 1977-12-27

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