DE3627151A1

DE3627151A1 - Verfahren und vorrichtung zum reaktiven aufdampfen von metallverbindungen

Info

Publication number: DE3627151A1
Application number: DE19863627151
Authority: DE
Inventors: Volker Bauer; Albert Dr Feuerstein; Klaus Dr Hartig; Gerhard Dr Kienel; Helmuth Laemmermann; Wolfgang Zirkel
Original assignee: Leybold Heraeus GmbH
Current assignee: Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Priority date: 1986-08-11
Filing date: 1986-08-11
Publication date: 1988-02-18
Also published as: US4828872A; JPH0543787B2; JPS6345365A; DE3627151C2

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum reaktiven Aufdampfen von Metallverbindungen auf Substrate durch Verdampfen mindestens eines Metalls mittels eines Elektronenstrahls in einer aus dem Reaktionsgas bestehenden Atmosphäre bei Drücken von höchstens 10^-1 mbar, wobei im Bereich des Dampfstroms zum Substrat eine gegenüber Masse positiv vorgespannte Elektrode angeordnet ist.

Bei den Metallen handelt es sich vorzugsweise um solche, die zu sogenannten Hartstoffen führen, wie beispielsweise Titan, Zirkonium, Tantal, Vanadium und Hafnium. Bei den Hartstoffen handelt es sich um Verbindungen mindestens eines dieser Metalle mit Stickstoff (Nitride), Kohlen stoff (Karbide) sowie gleichzeitig mit Kohlenstoff und Stickstoff (sogenannte Karbonitride). Das Ver fahren ist aber auch für das reaktive Verdampfen anderer Metalle geeignet, die beispielhaft mit Sauer stoff zu Oxiden umgesetzt werden.

Ein Verfahren der eingangs beschriebenen Gattung ist durch den Aufsatz von Bunshah und Raghuram "Activated Reactive Evaporation Process for High Rate Deposition of Compounds", veröffentlicht in J. Vac. Sci. Technol., Band 9, Nr. 6, November-Dezember 1972, Seiten 1385 bis 1388, bekannt. Bei dem dort beschriebenen Verfahren wird das Metall mittels eines Elektronenstrahls verhältnis mäßig niedriger Beschleunigungsspannung (10 kV) un mittelbar in der Vakuumkammer verdampft. Gleichfalls unmittelbar im Dampfstrom befindet sich eine draht förmige Elektrode, die gegenüber Masse positiv Vorge spannt ist, beispielhaft auf eine Spannung zwischen 80 und 200 V. Beim Betrieb dieser Vorrichtung dient der Elektronenstrahl nicht nur zum Verdampfen des Metalls, sondern auch als Elektronenlieferant, während die positive Elektrode negative Ladungsträger anzieht, dadurch die Ionisationswahrscheinlichkeit erhöht, und unmittelbar von einer Glimmentladung umgeben ist. Das bekannte Verfahren bzw. die Vorrichtung sind jedoch über die Anwendung im Labormaßstab nicht hinausgekommen, da die Verdampfungsrate sich für großtechnische Prozesse nicht in gewünschtem Maße erhöhen ließ. Alle Versuche, die Verdampfungsrate durch Erhöhung des Strahlstromes und damit der Strahlleistung zu erhöhen, scheiterten daran, daß die Reaktion nicht mehr stöchiometrisch ablief, obwohl eine Düse für die Zuleitung des Reaktionsgases unmittelbar oberhalb der Ver dampfungszone mündet. Die Niederschlagsraten lagen zwar örtlich zwischen 4 und 9, 7 µm/min liessen sich jedoch nicht über eine größere Fläche verteilen, und die niedergeschlagenen Schichten enthielten in erheblichem Umfange nicht an der Reaktion beteiligte Metallanteile.

Man hat daher bei der Beschichtung von Werkstoffen mit Hartstoffschichten in großtechnischem Maßstabe nahezu ausschließlich das Verfahren der Katodenzer stäubung mit Magnetfeldunterstützung angewandt, ist hierbei jedoch nicht oder zumindest nicht wesentlich über Niederschlagsraten von etwa 1 bis 1,5 µm/min hinausgekommen.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs beschriebenen Gattung dahin gehend zu verbessern, daß auch bei hohen Nieder schlagsraten Schichten mit stöchiometrisch umge setzten Reaktionskomponenten aus Metallen und Gasen erhalten werden, wobei das Verfahren in groß technischem Maßstabe bei stabilen Betriebsbedingungen durchgeführt werden kann.

Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei dem eingangs beschriebenen Verfahren erfindungsgemäß dadurch, daß

a) der Metalldampf in einer den Verdampfer umgebenen Innenkammer erzeugt wird, die gegenüber dem Substrat eine Blendenöffnung aufweist,
b) das Reaktionsgas in die Innenkammer eingeleitet wird,
c) Metalldampf und Reaktionsgas durch die Blendenöffnung in Richtung auf das Substrat geleitet werden,
d) der Elektronenstrahl in der Innenkammer mit dem Metalldampf und dem Reaktionsgas zu Ionisations zwecken in Wechselwirkung gebracht wird, wobei eine Beschleunigungsspannung von mindestens 20 kV gewählt wird, und daß
e) die in der Innenkammer gebildeten bzw. in diese ein geschossenen negativen Ladungsträger durch die jenseits der Blende und außerhalb des Dampfstroms liegende gegenüber Masse positiv vorgespannte Elektrode durch die Blendenöffnung hindurch abgesaugt werden, wobei eine intensive, im Bereich von Blendenöffnung und Elektrode brennende Glimmentladung erzeugt wird.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren durchdringen und fördern sich alle Merkmale a) bis e) gegenseitig. Es kann angenommen werden, daß durch den Stau von Dampf und Reaktionsgas und zumindest teilweise auch von den Reaktionsprodukten aus Metalldampf und Reaktionsgas in der Innenkammer in Verbindung mit dem in die Innen kammer eingeschossenen Elektronenstrahl eine außer ordentlich hohe Ionisation erzeugt wird, die zur Freisetzung weiterer Elektronen führt. Durch die gegen über dem Stand der Technik höhere Beschleunigungs spannung des Elektronenstrahls von 20 kV und darüber, vorzugsweise von etwa 30 bis 40 kV, entsteht ein außerordentlich "steifer" Elektronenstrahl, der durch das Magnetfeld des Anodenstroms nicht abgelenkt wird und daher stabil bleibt. Durch das Absaugen der negativen Ladungsträger durch die den Dampf- bzw. Gas strom einschnürende Blende wird im Bereich von Blende und Elektrode erneut die Ionisationswahrscheinlichkeit erhöht. Bei einem Verfahren, das mit den weiter unten noch näher angegebenen Betriebsparametern durchgeführt wurde, ließ sich auf diese Weise ein weißglühendes, im sichtbaren Bereich stark strahlendes Plasma er zeugen, durch das auch die gewünschte vollständige Umsetzung zwischen großen zugeführten Gasmengen und dem Metalldampf ermöglicht wurde. Auf die angegebene Weise liessen sich ohne weiteres Niederschlagsraten von 5,0 µm/min erzeugen, wobei aber noch kein Ende der Steigerungsmöglichkeiten abzusehen ist.

Dadurch, daß die positiv vorgespannte Elektrode außer halb des Dampfstroms liegt, wird sie zumindest nicht unmittelbar vom Dampfstrom getroffen, so daß sie auch aus diesem Grunde ihre Betriebsfähigkeit über lange Zeit behält. Die Bedingung "außerhalb des Dampfstroms" wird im wesentlichen dadurch erfüllt, daß die be treffende Elektrode - in der Projektion gesehen - nicht in die Blendenöffnung hineinragt, sondern allenfalls mit dem Rand der Blendenöffnung kongruent angeordnet ist.

Es ist dabei von Vorteil, wenn die Innenkammer und der Verdampfertiegel auf gleichem Potential, vorzugsweise auf Massepotential, angeordnet sind. Dies geschieht beispielhaft durch eine elektrisch gut leitende metallische Verbindung der beiden Teile.

Es ist weiterhin von Vorteil, wenn die jenseits der Blende liegende Elektrode auf eine Vorspannung von +5 bis +100 V, vorzugsweise von +20 bis +40V, gelegt wird.

Während das Substrat grundsätzlich auch auf Massepotential gehalten werden kann, ist es vorteilhaft, an das Substrat eine Spannung von -50 bis -2000 V anzulegen, um hierdurch eine Art Ionen-Implantation positiver Ladungsträger zu erreichen.

Die Erfindung betrifft außerdem eine Vorrichtung zur Durchführung des eingangs beschriebenen Verfahrens mit einer äußeren Vakuumkammer, einem Verdampfer tiegel mit einer Elektronenkanone zum Beschuß des im Verdampfertiegels befindlichen Verdampfungsguts mit einem Elektronenstrahl, mit einer zwischen Ver dampfertiegel und Substrat angeordneten, an eine gegen über Masse auf positives Potential legbaren Elektrode.

Zur Lösung im wesentlichen der gleichen Aufgabe ist eine solche Vorrichtung erfindungsgemäß dadurch gekenn zeichnet, daß

a) der Raum über dem Verdampfertiegel von einer Innen kammer umgeben ist, die eine Eintrittsöffnung für den Elektronenstrahl und in Richtung auf das Substrat eine Blendenöffnung aufweist,
b) die Innenkammer mit einer Zuführeinrichtung für ein Reaktionsgas versehen ist,
c) jenseits der Blendenöffnung eine nicht in der Projektionsfläche der Blendenöffnung liegende Elektrode isoliert angeordnet ist, die mit einer Spannungsquelle mit einer gegenüber Masse positiven Ausgangsspannung verbunden ist.

Es ist dabei ganz besonders vorteilhaft, wenn die Innen kammer quaderförmig ausgebildet ist und mit ihrer offenen Unterseite auf den Verfampfertiegel aufge setzt ist, wenn eine der vier senkrechten Seiten wände der Innenkammer die Eintrittsöffnung für den Elektronenstrahl aufweist, wenn in der oberen waag rechten Wand der Innenkammer die Blendenöffnung ange ordnet ist und wenn auf der oberen waagrechten Wand isoliert die Elektrode befestigt ist.

Auf die angegebene Weise entsteht eine sehr kompakte Bauweise, bei der die Innenkammer gleichzeitig der Träger der Elektrode gegenüber den Substraten ist.

Wegen der hohen Entladungsleistung speziell im Bereich von Blendenöffnung und Elektrode ist es ganz be sonders zweckmäßig, wenn die rahmenförmig ausgebildete Elektrode einen Kühlkanal aufweist.

Weiterhin ist es vorteilhaft, wenn beiderseits der Innenkammer Polflächen eines Ablenkmagnetsystems ange ordnet sind, und wenn der Elektronenstrahl zumindest in seiner mittleren Stelllung in der Symmetrieebene zwischen den beiden Polflächen verläuft.

Unter der "mittleren Stellung" des Elektronenstrahls wird diejenige Stellung verstanden, von der die beiden Endstellungen des periodisch bzw. oszillierend ausge lenkten Elektronenstrahls gleich weit entfernt sind. Die Oszillation des Elektronenstrahls ist besonders des wegen zweckmäßig, um damit eine größere Fläche des Ver dampfungsguts bestreichen zu können.

Ein Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes wird nachfolgend anhand der Fig. 1 bis 4 näher er läutert.

Es zeigen:

Fig. 1 eine Prinzipdarstellung einer erfindungs gemäßen Vorrichtung,

Fig. 2 einen Vertikalschnitt durch eine praktisch ausgeführte Vorrichtung,

Fig. 3 eine Draufsicht auf die Innenkammer mit darüber angeordneter Elektrode und

Fig. 4 einen Blick auf den unteren Teil der Innen kammer mit darin angeordneter Zuführein richtung für das Reaktionsgas.

In Fig. 1 ist eine Vakuumkammer 1 dargestellt, die über einen Saugstutzen 2 von einem nicht dargestellten Pumpsatz evakuiert wird. In der äußeren Vakuumkammer 1 befindet sich eine Innenkammer 3, die einen waagrechten Boden 4, vier senkrechte Seitenwände 5 und eine wieder um waagrechte obere Wand 6 besitzt. Auf dem Boden 4 ruht ein Verdampfertiegel 7, in dem das schmelzflüssige Verdampfungsgut 8 untergebracht ist, und der von einer Kühlschlange 9 umgeben ist. In der linken Seitenwand 5 befindet sich eine Eintrittsöffnung 10 für einen Elektronenstrahl 11, der auf einer bogenförmigen Bahn auf die Oberfläche des Verdampfungsgutes 8 abgelenkt wird.

Die Mittel für die Stahlablenkung werden anhand von Fig. 2 noch näher erläutert. Hinter der Eintrittsöffnung 10 befindet sich eine Elektronenkanone 12 mit einem Ablenksystem 13, durch das der Elektronenstrahl 11 nach einem vorgegebenenen und von einem Programmgeber ge steuerten Ablenkmuster auf der Oberfläche des Verdampfungsgutes 8 periodisch abgelenkt wird.

Die obere Wand 6 ist als Blende ausgebildet, d.h. sie besitzt eine Blendenöffnung 14, die gegenüber dem Gesamtquerschnitt der Innenkammer 3 einen merklich kleineren Querschnitt aufweist. In dem unteren Teil der Innenkammer 3 befindet sich eine Zuführein richtung 15, die aus zwei perforierten geraden Rohren besteht, die senkrecht zur Zeichenebene verlaufen und zur Zufuhr des Reaktionsgases dienen. Der durch die Wirkung des Elektronenstrahls 11 gebildete Dampf des Verdampfungs gutes 8 und das durch die Zuführeinrichtung 15 zuge führte Gas werden durch die Blendenöffnung 14 hindurch auf ein Substrat 16 geleitet, das sich stationär oder beweglich oberhalb der Blendenöffnung 14 befindet. Im vorliegenden Fall ist das Substrat 16 stationär darge stellt.

Jenseits der Blendenöffnung 14, d.h. zwischen der oberen Wand 6 und dem Substrat 16 befindet sich eine nicht in der Projektionsfläche der Blendenöffnung 14 liegende Elektrode 17, die sich mittels Isolatoren 18 auf der oberen Wand 6 abstützt. Die Innenkanten 14 a der Blenden öffnung 14 bilden ein Rechteck; das gleiche gilt auch für die Innenkanten 17 a der Elektrode 17, die in folgedessen einen rechteckigen Rahmen bildet. Die Anordnung ist dabei so getroffen, daß die Innen kanten 14 a und 17 a im wesentlichen miteinander fluchten, wobei allerdings geringfügige Ab weichungen von der Fluchtstellung nicht weiter kritisch sind. Die Elektrode 17 ist an ihren Außen kanten von einem Kühlkanal 19 umgeben, der zur Durchleitung von Kühlwasser dient.

Während die Innenkammer 3 ebenso wie die äußere Vakuumkammer 1 und der Verdampfertiegel 7 an Masse gelegt ist, ist die Elektrode 17 über eine Leitung 20 und eine Isolierdurchführung 21 mit einer Spannungs quelle 22 verbunden, durch die sie auf ein gegenüber Masse positives Potential gelegt ist. Während es möglich ist, das Substrat 16 gleichfalls auf Masse potential zu legen, kann es , wie in Fig. 1 darge stellt, auch über eine Leitung 23 und eine Isolierdurch führung 24 an eine Gleichspannungsquelle 25 gelegt werden. Durch die angegebene Potentialdifferenz zwischen der Elektrode 17 und der Innenkammer 3 im Bereich der Blendenöffnung 14 wird eine äußerst intensive Glimmentladung erzeugt, deren obere und seitliche Begrenzung in etwa durch die gestrichelte Linie 26 angedeutet werden kann.

Beispielhaft beträgt der Abstand zwischen der Ober seite der oberen Wand 6 und der Oberseite der- Elektrode 17 31 mm, und der Abstand zwischen der Oberseite der Elektrode 17 und der Unterseite des Substrats 16 beträgt 34 mm.

In Fig. 2 sind gleiche Teile wie in Fig. 1 oder Teile mit gleicher Funktion mit gleichen Bezugszeichen versehen. Zusätzlich ist folgendes dargestellt:

Mehrere Substrate 16 sind in einem fahrbaren Substrat halter 27 befestigt, der mittels einer Rollen- und Schienenführung 28 senkrecht zur Zeichenebene ober halb der Blendenöffnung verfahrbar ist. Zum An trieb (periodisch hin- und hergehend) dienen ein Getriebemotor 29, ein Zahnritzel 30 und eine Zahn stange 31. Die gegenüberliegende Seite des Substrat halters 27 stützt sich über eine Rolle 32 auf einer Laufschiene 33 ab. Oberhalb der Substrate 16 be findet sich eine aus Graphitstäben bestehende Heiz einrichtung 34 für die Beheizung der Substrate 16, eine Wärmedämmung 35 und eine Kabel-Schleppein richtung 36, für die Zufuhr des Heizstroms und (falls erforderlich) der negativen Vorspannung für die Substrate 16.

Es ist weiterhin erkennbar, daß die Innenkammer 3 einen nach unten offenen Boden 37 aufweist, der sich auf Auslegern 38 im unteren Teil der Vakuumkammer 1 ab stützt. Unmittelbar darunter bzw. in den Boden 37 eingesetzt, befindet sich der Verdampfertiegel 7.

Beiderseits der Innenkammer 3 befinden sich - teilweise gestrichelt dargestellt - Polflächen 39, die von den Innenseiten der Schenkel eines U-förmigen Ablenkmagnet systems 40 gebildet wird. Die beiden Schenkel sind durch ein Joch 41 miteinander verbunden, auf dem sich - hier nicht dargestellt - eine Magnetwicklung be findet. Durch das Ablenkmagnetsystem wird der Elektronenstrahl 11 in der in den Fig. 1 und 2 dargestellten gekrümmten Bahn abgelenkt und gezielt auf das Verdampfungsgut 8 gerichtet.

Fig. 2 zeigt noch eine zweite Zuführeinrichtung 42 für ein weiteres Reaktionsgas, falls dieses benötigt wird.

Fig. 3 zeigt eine Draufsicht auf die aus Kupfer be stehende Elektrode 17 mit dem sie auf drei Seiten umgebenden Kühlkanal 19. Zum Anschluß der Stromver sorgung dienen Kontaktschrauben 43. Die lichten Ab messungen der Elektrode 17, gegeben durch den Abstand der paarweise zueinander parallel verlaufenden Innen kanten 17 a betragen 90×135 mm². Den Anblick von Fig. 3 hat man, wenn man sich in Fig. 2 den Substrat halter 27 und alle anderen Bauteile abgenommen denkt.

Fig. 4 zeigt eine Draufsicht auf den Verdampfertiegel 7 mit dem Verdampfungsgut 8. Beiderseits der Tiegel öffnung, die durch die Innenkanten 7 a vorgegeben ist, verläuft die aus perforierten Rohrabschnitten be stehende Zufuhreinrichtung 15 für das Reaktionsgas. Den Anblick gemäß Fig. 4 hat man, wenn man sich die Innen kammer 3 und alle darüberliegenden Bauteile abgenommen denkt.

Beispiel

In einer Vorrichtung mit den Einzelheiten nach den Fig. 2 bis 4 wurden aus Edelstahl bestehende Blech streifen als Substrate 16 angeordnet. Das Verdampfungs gut bestand aus Titan. Der Druck in der äußeren Vakuumkammer 1 wurde durch dosierten Einlaß von Stick stoff (N₂) auf etwa 10^-2 mbar eingestellt. Durch Be schuß des Verdampfungsgutes 8 mit einem Elektronenstrahl 11 mit einer Beschleunigungsspannung von 35 kV bei einem Strahlstrom von 1,7 A wurde der reaktive Verdampfungsprozeß eingeleitet. Die Spannung an der Elektrode 17 betrug +30V, wobei sich an der Elektrode ein Anodenstrom von 200 A einstellte. Die negative Vorspannung an den Substraten betrug -100 V. Der Beschichtungsprozeß wurde bei mehr maligen Hin- und Herfahren der Substrate für die Dauer von 50 Sekunden fortgesetzt. Die sich hieraus er rechnende Beschichtungsrate betrugt 5,0 µm/min. Die aufgebrachte, goldfarbene Schicht besaß eine Härte von HV=1200 kp/mm² bei einer ausgezeichneten Haft festigkeit, die sich auch nicht durch scharfkantiges Biegen der Edelstahlbleche beseitigen ließ.

Durch Raster-Elektronenmikroskop-Aufnahmen wurde festge stellt, daß die Schicht äußerst kompakt und frei von Stengelwachstum war, und zwar im Gegensatz zu Unter suchungsergebnissen, wie sie beim Verfahren nach dem Stand der Technik zu beobachten sind.

Claims

1. Verfahren zum reaktiven Aufdampfen von Metallver bindungen auf Substrate durch Verdampfen mindestens eines Metalls mittels eines Elektronenstrahls in einer aus dem Reaktionsgas bestehenden Atmosphäre bei Drücken von höchstens 10^-1 mbar, wobei im Bereich des Dampfstroms zum Substrat eine gegen über Masse positiv vorgespannte Elektrode angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß

a) der Metalldampf in einer den Verdampfer um gebenden Innenkammer erzeugt wird, die gegen über dem Substrat eine Blendenöffnung auf weist,
b) das Reaktionsgas in die Innenkammer eingeleitet wird,
c) Metalldampf und Reaktionsgas durch die Blenden öffnung in Richtung auf das Substrat geleitet werden,
d) der Elektronenstrahl in der Innenkammer mit dem Metalldampf und dem Reaktionsgas zu Ionisations zwecken in Wechselwirkung gebracht wird, wobei eine Beschleunigungsspannung von mindestens 20 kV ge wählt wird, und daß
e) die in der Innenkammer gebildeten bzw. in diese eingeschossenen negativen Ladungsträger durch die jenseits der Blendenöffnung und außerhalb des Dampfstroms liegende, gegenüber Masse positiv vorgespannte Elektrode durch die Blenden öffnung hindurch abgesaugt werden, wobei eine intensive, im Bereich von Blendenöffnung und Elektrode brennende Glimmentladung erzeugt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die jenseits der Blende liegende Elektrode auf eine Vorspannung von +5 bis +100 V, vorzugsweise von +20 bis +40 V, gelegt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat an eine Spannung von -50 bis -2000 V gelegt wird.

4. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 mit einer äußeren Vakuumkammer, einem Verdampfertiegel mit einer Elektronenkanone zum Beschuß des im Verdampfertiegel befindlichen Ver dampfungsguts mit einem Elektronenstrahl, mit einer zwischen Verdampfertiegel und Substrat ange ordneten, an eine gegenüber Masse auf positives Potential legbaren Elektrode, dadurch gekennzeichnet, daß

a) der Raum über dem Verdampfertiegel (7) von einer Innenkammer (3) umgeben ist, die eine Eintritts öffnung (10) für den Elektronenstrahl (11) und in Richtung auf das Substrat (16) eine Blendenöffnung (14) aufweist,
b) die Innenkammer (3) mit einer Zuführein richtung (15) für ein Reaktionsgas versehen ist, und
c) jenseits der Blendenöffnung (14) eine nicht in der Projektionsfläche der Blendenöffnung (14) liegende Elektrode (17) isoliert angeordnet ist, die mit einer Gleichspannungsquelle (22) mit einer gegenüber Masse positiven Ausgangsspannung ver bunden ist.

5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Innenkammer (3) quaderförmig ausgebildet ist, und mit ihrer offenen Unterseite auf den Verdampfer tiegel (7) aufgesetzt ist, daß eine der vier senkrechten Seitenwände (5) der Innenkammer die Eintritts öffnung (10) für den Elektronenstrahl (11) aufweist, daß in der oberen waagrechten Wand (6) der Innen kammer die Blendenöffnung (14) angeordnet ist, und daß auf der oberen waagrechten Wand (6) isoliert die Elektrode (17) befestigt ist.

6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Blendenöffnung (14) rechteckig ausgebildet und die Elektrode (17) als rechteckiger Rahmen ausgebildet ist, dessen Innenkanten (17 a) im wesent lichen mit den Innenkanten (14 a) der Blenden öffnung (14) fluchten.

7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die rahmenförmige Elektrode (17) einen Kühl kanal (19) aufweist.

8. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß beiderseits der Innenkammer (3) Polflächen (39) eines Ablenkmagnetsystems (40) angeordnet sind und daß der Elektronenstrahl zumindest in seiner mittleren Stellung in der Symmetrieebene zwischen den beiden Polflächen (39) verläuft.