DE3844630C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3844630C2 DE3844630C2 DE19883844630 DE3844630A DE3844630C2 DE 3844630 C2 DE3844630 C2 DE 3844630C2 DE 19883844630 DE19883844630 DE 19883844630 DE 3844630 A DE3844630 A DE 3844630A DE 3844630 C2 DE3844630 C2 DE 3844630C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- ozone
- substrate
- generator
- oxygen
- vacuum vessel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/221—Ion beam deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/087—Oxides of copper or solid solutions thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und deren Verwendung
zum Aufdampfen von Dünnschichten.
Es ist eine Vorrichtung zum Erzeugen von SiO₂-Schichten auf
einem Substrat bekannt, bei der in einem Vakuumgefäß verdampftes
Si ionisiert und unter Zufuhr von O₂ im Ionenclusterstrahl-
Verfahren auf das Substrat aufgedampft wird
(US-PS 46 25 895).
Ferner ist eine Vorrichtung der eingangs erwähnten Gattung
aus JP-GM 4920/1983 bekannt.
Beim Ausbilden z. B. einer supraleitenden Oxid-Dünnschicht
unter Benutzung der bekannten Aufdampfvorrichtung befindet
sich das Gas im Vakuum im molekularen Zustand
und hat geringe Aktivität; die Schichtdichte ist deshalb
gering und schafft Probleme insofern, als die
Supraleitfähigkeit nicht erzielt werden kann, wenn
doch, nicht zufriedenstellend ist oder nicht dauerhaft
ist usw. Zur Überwindung dieser Schwierigkeiten ist
durch Behandeln der aufgedampften Dünnschicht mit Sauerstoffplasma
versucht worden, die Supraleitfähigkeit zu
verbessern und haltbar zu machen. Weil jedoch die Wirkung
dieser Maßnahmen auf die Oberfläche der Dünnschicht
begrenzt ist, ist eine vollständige Lösung noch
nicht erreicht worden. Außerdem, wenngleich es ein Verfahren
zum Ionisieren und Beschleunigen der reaktionsfähigen
Gase nach der Aufdampfung und zum Aufstrahlen
auf die Substratoberfläche gab, wird, weil die Energie
je einzelnes Atom der reaktionsfähigen Gasionen hoch
ist, die Substratoberfläche beschädigt und dadurch
möglicherweise die Supraleitfähigkeit der Dünnschicht
herabgesetzt oder aufgehoben.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die vorstehend
beschriebenen Schwierigkeiten zu überwinden und eine Vorrichtung
sowie deren Verwendung zum Herstellen von Dünnschichten
großer Schichtdicke und hoher Güte, insbesondere
von supraleitenden Oxidschichten, anzugeben.
Eine Vorrichtung nach der Erfindung ist im Anspruch 1 angegeben.
Eine Verwendung der erfindungsgemäßen Vorrichtung
ist in Anspruch 5 angegeben.
Weitere Merkmale und vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung
ergeben sich aus den Ansprüchen 2 bis 4.
Mehrere Ausführungsbeispiele der Erfindung werden im
folgenden anhand schematischer Zeichnungen näher erläutert.
Es zeigt:
Fig. 1 eine Darstellung des Aufbaus einer Vorrichtung
zum Herstellen von Dünnschichten nach dem Herstellungsverfahren
für Oxid-Dünnschichten in
einer zweiten Ausführungsform,
Fig. 2 eine Darstellung in größerem Maßstab des Aufbaus
in der Umgebung des Substrates bei einer
weiteren Ausführungsform,
Fig. 3 eine Darstellung des Aufbaus einer Vorrichtung
zum Ausbilden von Dünnschichten nach dem Herstellungsverfahren
gemäß einer anderen Ausführungsform.
Fig. 4 ein Blockschaltbild mit einer Darstellung des
Aufbaus einer Ausführungsform eines nach dem
Adsorptionsprinzip arbeitenden Ozongenerators
für die Vorrichtung zum Ausbilden von Dünnschichten,
Fig. 5 ein Blockschaltbild mit einer Darstellung des
Aufbaus eines nach dem Adsorptionsprinzip arbeitenden
Ozongenerators für eine andere Ausführungsform
der Vorrichtung,
Fig. 6 ein Blockschaltbild mit einer Darstellung des
Aufbaus eines nach dem Verflüssigungsprinzip
arbeitenden Ozongenerators gemäß einer weiteren
Ausführungsform,
Fig. 7 eine Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform
einer Einrichtung zur Ozonzersetzung
für die Vorrichtung zum Ausbilden von Dünnschichten,
Fig. 8 eine Schrägansicht einer Zersetzungskammer,
gemäß einer Ausführungsform,
Fig. 9 eine Darstellung des Aufbaus von einem Teil
einer Einrichtung zur Ozonzersetzung für eine
noch andere Ausführungsform,
Fig. 10 eine Ansicht einer Einrichtung zur Oxidationsbehandlung
für eine weitere Ausführungsform
der Vorrichtung zum Ausbilden von Oxid-Dünnschichten
nach dem erfindungsgemäßen Verfahren.
Die in Fig. 1 dargestellte Vorrichtung zur Herstellung von
Oxid-Dünnschichten wird im Zusammenhang mit der Herstellung
von z. B. bei hohen Temperaturen supraleitenden
Dünnschichten aus der Y-Ba-Cu-O-Serie mittels einer mit
Mehrstoff-Ionenclusterstrahl arbeitenden Vorrichtung
beschrieben. Beim gezeigten Beispiel umfaßt die Vorrichtung
ein Vakuumgefäß 31, das sich mittels einer
Pumpe 31 a evakuieren läßt, einen Tiegel 32 zum Erwärmen
von Yttrium (Y), Barium (Ba) und Kupfer (Cu), die als
aufdampfbares Material 33 in den Tiegel 32 aufgegeben
werden, eine Düse 32 a am Tiegel 32, einen Heizdraht 34
zum Erwärmen des Tiegels 32, blockähnliche Atomanhäufungen
(Cluster) 36, die durch die adiabatische Entspannung
der von der Düse 32 a ausgestrahlten Dämpfe des
aufdampfbaren Materials 33 entstanden sind, einen Ionisationsdraht
37 zur Abgabe von Elektronen für die Ionisierung
der Cluster 36, ein Substrat 38, auf dem Dünnschichten
ausgebildet werden, Beschleunigungselektroden
39 zum Beschleunigen der Ionencluster, und einen mit
einer nicht dargestellten Anzeige verbundenen Monitor
40 zur Überwachung der Geschwindigkeit, mit der jedes
Aufdampfmaterial 33 auf das Substrat 38 aufgedampft
wird. Ferner sind vorgesehen eine Einrichtung 41 zur
Ozoneinleitung, eine Heizvorrichtung 42 zum Erwärmen
des Substrats 38 auf eine hohe Temperatur mit, z. B.
einem Heizdraht, sowie eine Ionenclusterstrahl-Quelle
43 und einen mit elektrischer Hochdruckentladung arbeitenden
Ozongenerator 44. Weil bei diesem Beispiel
drei Arten von Aufdampfmaterial 33 benutzt werden, sind
drei Ionenclusterstrahl-Quellen 43 vorgesehen.
Die Arbeitsweise ist folgende: Metallisches Yttrium
(Y), Barium (Ba) und Kupfer (Cu) als Aufdampfmaterial
33 sind jeweils in einen der Tiegel 32 aufgegeben, die
aus einem Werkstoff mit hohem Schmelzpunkt oder Graphit
usw. hergestellt und im Vakuumgefäß 31 angeordnet sind,
welches unter einem Unterdruck von weniger als 1,33×10-5 mbar
gehalten wird. Der Tiegel 32 wird durch Strahlungswärme
oder durch die Energie der vom auf eine Temperatur
von etwa 1000 bis 2500°C gebrachten Heizdraht
34 emittierten Elektronen auf eine Temperatur von etwa
900 bis 2000°C erwärmt. Yttrium, Barium und Kupfer,
als die erwärmten Aufdampfmaterialien 33, werden bei
einem Druck von etwa 0,13 bis 13,3 mbar im Tiegel 32 verdampft.
Die unter diesem Druck stehenden Dämpfe werden
von der Düse 32 a im Tiegel 32 in den Innenraum des Vakuumgefäßes
31 in Richtung auf das Substrat 38 gerichtet.
Beim gezeigten Beispiel bilden die Dämpfe von jedem
der Aufdampfmaterialien 33 infolge der adiabatischen
Entspannung blockähnliche Atomanhäufungen (Cluster)
36. Dadurch daß man vom Ionisationsdraht 37 emittierte
Elektronen auf die so gebildeten Cluster 36 jedes
der Aufdampfmaterialien 33 auftreffen läßt, wird
ein Teil der Cluster 36 ionisiert. Diese jeweiligen
ionisierten Cluster 36 werden von der Beschleunigungselektrode
39 mit einer Energie unter 10 kV beschleunigt
und erreichen zusammen mit den nichtionisierten neutralen
Cluster 36 das Substrat 38. Die Aufdampfgeschwindigkeit
jedes der Aufdampfmaterialien 33, welches das
Substrat 38 erreicht und auf des aufgedampft wird, wird
mit einem jeweils einem Element zugeordneten Monitor 40
überwacht.
Beim gezeigten Beispiel wird vom Ozongenerator 44 erzeugtes
Ozon aus der Ozon-Einleitungseinrichtung 41 direkt
auf das Substrat 38 gestrahlt, um in dessen Nähe
eine Ozonatmosphäre hoher Konzentration zu schaffen.
Das Substrat 38 wird von seiner Heizvorrichtung 42 auf
einer hohen Temperatur, etwa zwischen 150 und 900°C,
gehalten. Innerhalb dieses Temperaturbereiches wird das
Ozon am Substrat 38 rasch in molekularen und atomaren
Sauerstoff zerlegt. Die Sauerstoffatome sind reaktionsfreudiger
als Ozon oder auch als molekularer Sauerstoff
und gehen somit rasch in Reaktion mit Yttrium, Barium
und Kupfer als den aufdampfbaren Materialien 33, derart,
daß bei hoher Temperatur supraleitende
YBa₂Cu₃O₇-x-Schichten mit Perowskit-Struktur auf dem
Substrat 38 entstehen. Der Druck auf der Außenseite des
Substrats 38 wird im Falle von Ozoneinleitung höher gehalten,
wogegen die Außenseite des Tiegels 32 im Vakuumgefäß
31 auf einem niedrigen Druck von weniger als
4×10-4 mbar gehalten wird.
In der nachstehenden Tabelle 1 sind für die bei hohen
Temperaturen supraleitenden Dünnschichten aus der
Y-Ba-Cu-O-Serie, wie sie nach dem Verfahren zur Herstellung
von Oxid-Dünnschichten gemäß der beschriebenen
Ausführungsform hergestellt wurden, Meßergebnisse angegeben
für den elektrischen Widerstand, für die Temperatur,
bei welcher der elektrische Widerstand in den
supraleitenden Zustand übergeht, für den Fall der Einleitung
von Sauerstoff statt Ozon unter Benutzung der
beschriebenen Vorrichtung (zum Vergleich), sowie für
nach herkömmlichen Verfahren hergestellte Dünnschichten.
Weil gemäß vorstehender Tabelle 1 beim gezeigten Beispiel
das Oxid jedes Einzelelementes, z. B. Y₂O₃, BaO,
CuO, weniger in dem Raum gebildet wird, der von der
Bewegungsbahn der gegen das Substrat 38 gerichteten
Aufdampfmaterialien 33 durchkreuzt wird, die Oxidationsreaktion
aber mit hohem Wirkungsgrad und hoher
Reaktionsgeschwindigkeit auf dem Substrat 38 stattfindet,
lassen sich bei hoher Temperatur supraleitende
Dünnschichten von ausgezeichneten Eigenschaften erzielen.
Bei dem vorstehend beschriebenen Versuch wurden
bei der Untersuchtung von Fremdstoffen in den so ausgebildeten
Dünnschichten mittels der Auger-elektronen
photospektrometrischen Methode Oxide des Wolfram als
dem Werkstoff des Heizdrahtes 34 und des Ionisationsdrahtes
37 nur in den Dünnschichten festgestellt, die
durch Ozoneinleitung nach dem herkömmlichen Verfahren
hergestellt wurden.
Weil bei der beschriebenen Ausführungsform das Aufdampfen
in einer Ozonatmosphäre hoher Konzentration in der
Nähe des Substrates 38 durchgeführt wird und das Substrat
38 erwärmt wird, findet auf dem Substrat 38 eine
Oxidationsreaktion mit hohem Wirkungsgrad und großer
Geschwindigkeit statt, derart, daß Oxid-Dünnschichten
mit hoher Geschwindigkeit hergestellt werden können.
Weil ferner Ozon- oder Sauerstoffatome in der Nähe des
Substrats 38 erzeugt werden, kann eine im herkömmlichen
Fall innerhalb der Ionenclusterstrahl-Quelle 43 verursachte
Reaktion verhindert werden. Weil ferner der Unterdruck
im Hochtemperaturteil, z. B. am Verdampfer usw.
im Vakuumgefäß 31 niedrig gehalten werden kann, ist es
möglich, das Entstehen von Fremdstoffoxiden durch die
Reaktion solcher Hochtemperatur-Teile mit Sauerstoff
oder Ozon zu unterdrücken, um die Ausbildung von
Oxid-Dünnschichten hoher Reinheit zu ermöglichen. Weil
auch der Unterdruck in dem Raum, in dem das Aufdampfmaterial
33 im Vakuumgefäß 31 das Substrat 38 erreicht,
niedrig gehalten werden kann, verursacht das aufdampfbare
Material 33 vor Erreichen des Substrats 38 kaum
eine Oxidationsreaktion, und das Oxid jedes der Elemente
vermengt sich während der Ausbildung der Mehrstoff-
Oxid-Dünnschichten mit den Schichten nicht und folglich
lassen sich Mehrelement- bzw. Mehrstoff-Oxid-Dünnschichten
mit ausgezeichneten Eigenschaften erzielen.
Bei der vorstehend beschriebenen Ausführungsform wird
das Substrat 38 mittels seiner Heizvorrichtung 42 auf
einer hohen Temperatur gehalten. Es ist auch möglich,
Oxid-Dünnschichten von hoher, mit der im beschriebenen
Beispiel erzielten Güte vergleichbarer Güte herzustellen,
ohne daß das Substrat 38 mit der Heizvorrichtung
42 erwärmt wird, weil im Vergleich mit molekularem
Sauerstoff stärker reaktionsfähiges Ozon, wenngleich
von geringer Aktivität als atomarer Sauerstoff, auf
dem Substrat 38 eine direkte Reaktion mit jedem der
Aufdampfmaterialien 33 hervorruft. Ferner ist die Ausführung
der Heizvorrichtung nicht auf einen Draht beschränkt,
sondern kann eine Lampe o. dgl. sein. Wenngleich
bei der vorstehend beschriebenen Ausführungsform
als Ozongenerator 44 ein elektrisches Hochdruck-Entladungssystem
verwendet wird, können als Ozongenerator
44 auch andere Systeme benutzt werden. Beim gezeigten
Beispiel wird als Ozon-Einleitungseinrichtung 41 nur
ein gegen das Substrat 38 gerichtetes kleines Rohr benutzt;
gemäß Fig. 3, welche die Umgebung des Substrats
38 in größerem Maßstab zeigt, kann auch ein das Substrat
38 umgebendes ringförmiges Rohr mit einer Vielzahl
von Düsen 41 a verwendet werden. Ferner ist beim
gezeigten Beispiel die Ionenclusterstrahl-Quelle 43 im
Vakuumgefäß 31 angeordnet; eine Reaktion zwischen den
Bauteilen der Ionenclusterstrahl-Quelle 43 und den eingeleiteten
Gasen kann geringer gehalten werden, wenn
gemäß Fig. 4 am Unterteil des Vakuumgefäßes 31 eine
kleine Kammer 45 zur Aufnahme der Ionenclusterstrahl-
Quelle 43 vorgesehen wird, derart, daß die Außenseite
der Ionenclusterstrahl-Quelle 43 durch die zwischen den
Pumpen 31 a und 43 a differentielle bzw. unterschiedliche
Evakuierung auf einem höheren Vakuum gehalten wird.
Bei der vorstehend beschriebenen Ausführungsform ist
die Einrichtung 41 zur Ozoneinleitung der Ionenclusterstrahl-
Quelle 43 gegenüber angeordnet; es können andere
Vorrichtungen zur Ausbildung von Dünnschichten vorgesehen
sein, z. B. eine Vakuum-Aufdampfvorrichtung oder ein
Ionenstrahl-Zerstäuber usw., mit denen sich die gleichen
Wirkungen wie mit dem gezeigten Beispiel erzielen
lassen.
Die vorstehend beschriebene Ausführungsform wird bei
der Ausbildung von bei hohen Temperaturen supraleitenden
Dünnschichten der Y-Ba-Cu-O-Serie als Mehrstoff-
Oxidschicht verwendet; sie ist auch anwendbar auf die
Herstellung anderer Mehrstoffoxide und Einelementoxide,
wodurch ähnliche Wirkungen wie beim gezeigten Beispiel
erzielt werden.
Weil bei der vorstehend beschriebenen Ausführungsform
die Aufdampfung in einem Zustand durchgeführt wird, in
dem die Ozonatmosphäre in der Nähe des Substrats durch
direktes Einpressen von Ozon gegen das Substrat beibehalten
wird, ist die Durchführung einer Oxidationsreaktion
am Substrat mit hohem Wirkungsgrad und großer Geschwindigkeit
möglich, wodurch das Entstehen von Fremdstoffoxid
relativ verhindert werden kann und ein Verfahren
ermöglicht wird, mit dem sich Oxid-Dünnschichten
von hoher Güte mit großer Geschwindigkeit herstellen
lassen.
Die vorstehend beschriebenen Wirkungen können weiter
verbessert werden, wenn Ozon direkt in Richtung auf das
Substrat ausgestrahlt wird, wodurch die Nachbarschaft
des Substrats in einer Ozonatmosphäre gehalten wird,
und wenn das Aufdampfen an einem erwärmten Substrat
vorgenommen wird.
Bei der in Fig. 1 und 3 dargestellten abgewandelten
Ausführungsform erzeugt der Ozongenerator 44 eine hohe
Ozonkonzentration, wofür eine nach dem Adsorptionsprinip
arbeitende Einrichtung verwendet wird. Weil der
übrige Aufbau bei den Ausführungsformen gemäß Fig. 1
und 3 gleich ist, wird auf seine Beschreibung verzichtet.
Das Blockschaltbild der Fig. 4 zeigt den Aufbau eines
nach dem Adsorptionsprinzip arbeitenden Ozongenerators.
Bei diesem Beispiel ist eine Ozonadsorptionssäule 141
mit einem Ozonadsorptionsmittel, z. B. Kieselgel, gefüllt
und durch ein Kühlaggregat 142 auf eine Temperatur
von z. B. tiefer als -20°C gekühlt. Als Ozongenerator
143 wird ein bekannter Ozongenerator, wie er bei
der herkömmlichen Vorrichtung verwendet wird, benutzt.
Es sind ferner vorgesehen ein Sauerstoffzylinder 144,
Elektromagnetventile 145, 146 und 147 und ein Nadelventil
148.
Die Arbeitsweise des Adsorptions-Ozongenerators 143 ist
folgende: Der Generator 44 zum Erzeugen von Ozon hoher
Konzentration wird vor Ausbildung von Dünnschichten betätigt.
Bei dem in Fig. 4 gezeigten Beispiel wird das
Kieselgel usw. in der Adsorptionssäule 141 mittels des
Kühlaggregates 142 bis zu dem Grade gekühlt, daß es
Ozon rasch adsorbiert, wobei das Elektromagnetventil
147 geschlossen und die Elektromagnetventile 145 und
146 geöffnet sind. Sodann wird vom Sauerstoffzylinder
144 bei oder über atmosphärischem Druck abgegebener
Sauerstoff durch den Ozongenerator 143 zum Teil in Ozon
umgewandelt. Die mit dem Ozongenerator 143 erreichte
Ozonkonzentration beträgt üblicherweise etwa 50 mg/l.
Wenn der Ozon enthaltende Sauerstoff in die Adsorptionssäule
141 eingeleitet wird, wird dort Ozon adsorbiert,
wogegen der Sauerstoff über das Elektromagnetventil
145 ausgeleitet wird. Dieser Vorgang wird fortgesetzt,
bis die Abgabe von Ozon aus der Adsorptionssäule
141 beginnt, und nach ausreichender Ansammlung
von Ozon in der Adsorptionssäule 141 werden die Elektromagnetventile
145 und 146 geschlossen und der Betrieb
des Ozongenerators 143 unterbrochen. Die Einrichtung
zum Erzeugen von Ozon hoher Konzentration ist
damit betriebsbereit.
Die Arbeitsweise der gesamten Vorrichtung zum Ausbilden
von Dünnschichten gemäß dieser Ausführungsform ist die
gleiche wie bei Fig. 1 und 3.
Gleichzeitig mit der weiter oben beschriebenen Ionisierung
der Cluster wird der Ozon hoher Konzentration erzeugende
Generator 44, welcher zuvor ausreichend Ozon
adsorbiert hat, so betrieben, daß Ozon aus der Einleitungs
einrichtung 41 in das Vakuumgefäß 31 eingeleitet
wird. Dabei wird gemäß Fig. 4 bei richtiger Einstellung
des Nadelventils 148 und geöffnetem Elektromagnetventil
147 in der Adsorptionssäule 144 adsorbiertes Ozon durch
die Druckdifferenz zwischen der Adsorptionssäule 141
und dem Vakuumgefäß 31 desorbiert und in hoher Konzentration
vom Einleitungsrohr eingespeist. Weil bei dieser
Ausführungsform Ozon durch Adsorption konzentriert
wird, läßt sich eine um eine Stelle höhere Ozonkonzentration
als mit herkömmlichen Ozonerzeugern erreichen.
In Tabelle 2 sind Meßergebnisse angegeben für den elektrischen
Widerstand von bei hoher Temperatur supraleitenden
Dünnschichten der Y-Ba-Cu-O-Serie, welche mit
einer Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung
zum Herstellen von Dünnschichten ausgebildet wurden,
sowie für die Temperatur, bei welcher der elektrische
Widerstand in den supraleitenden Zustand übergeht.
Weil, wie die Ergebnisse in Tabelle 2 zeigen, mit der
Vorrichtung eine außergewöhnlich hohe Ozonkonzentration
von 1000 bis 1500 mg/l erzielt wird, findet die Oxidationsreaktion
mit einem höheren Wirkungsgrad und mit
größerer Geschwindigkeit statt als bei der Herstellung
von Dünnschichten mit der herkömmlichen Vorrichtung bei
einer Ozonkonzentration von etwa 50 mg/l, wodurch
bei hohen Temperaturen supraleitende Dünnschichten von
herkömmlichen Dünnschichten überlegenen ausgezeichneten
Eigenschaften erzielt werden können. Weil außerdem Ozon
mit hoher Konzentration erhalten werden kann, kann die
Menge an ozonisiertem Sauerstoff, die zur Herbeiführung
einer bestimmten Anteils an der Oxidationsreaktion zugeführt
wird, herabgesetzt werden, und folglich läßt
sich der Vorteil schaffen, daß die Evakuierungsleistung
der an das Vakuumgefäß 31 angeschlossenen Vakuumpumpe
reduziert werden kann. Wird z. B. die Ozonkonzentration
um das Zehnfache erhöht, kann die Leistung der Absaugpumpe
auf 1/10 herabgesetzt werden, wodurch eine
Verkleinerung der Vorrichtung und eine Senkung ihrer
Kosten möglich sind.
Fig. 4 zeigt ein System zur Ableitung nach außen von
nicht umgesetztem Sauerstoff, der im Ozongenerator 143
nicht in Ozon umgewandelt worden ist (etwa 90%). In
Fig. 5 ist ein sogenanntes Sauerstoff-Recycling-System
dargestellt, das nicht umgesetzten Sauerstoff dem Ozongenerator
143 zur Wiederverwendung wieder zuführt. Das
System gemäß Fig. 5 umfaßt ein Gebläse 149. Bei diesem
Typ eines nach dem Adsorptionsprinzip arbeitenden Erzeugers
von Ozon hoher Konzentration lassen sich die
Kosten für den Ausgangssauerstoff senken, wodurch
die Betriebskosten dank der Wiederverwendung des nicht
umgesetzten Sauerstoffs verringerbar sind, wenngleich
das System etwas komplizierter aufgebaut ist als die
Ausführungsform gemäß Fig. 4.
Bei einer anderen Ausführungsform eines Erzeugers hoher
Ozonkonzentration wird flüssiges Ozon verwendet. Weil
die Bauteile der Vorrichtung zum Ausbilden von Dünnschichten
die gleichen wie die in Fig. 1 oder 3 dargestellten
sind, wird auf ihre Beschreibung verzichtet.
Das Blockschaltbild in Fig. 6 zeigt den Aufbau des nach
dem Verflüssigungsprinzip arbeitenden Ozongenerators,
bei dem ein Tank 140 auf eine Temperatur unter -114°C,
der Verflüssigungstemperatur von Ozon, gekühlt wird.
Die Vorgehensweise ist die gleiche wie weiter oben beschrieben;
der einzige Unterschied besteht darin, daß
vom Generator 143 erzeugtes Ozon verflüssigt und im
Tank 140 aufgefangen wird, und daß flüssiges Ozon durch
Verbinden mit dem Innenraum des Vakuumgefäßes wieder
verdampft wird. Wenngleich bei diesem System die Kühltemperatur
für den Tank 140 auf weniger als -114°C gesenkt
werden muß und somit als Kühlmittel flüssiger
Sauerstoff oder flüssiger Stickstoff erforderlich wird,
kann, weil Ozon mit einer Reinheit von nahezu 100% erzielt
und eine große Menge Ozon aufgefangen werden
kann, das System als in hohem Maße wirkungsvoll und
schnell und für die Ausbildung großer Mengen Dünnschichten
geeignet betrachtet werden.
Als nach dem Verflüssigungsprinzip arbeitender Erzeuger
hoher Ozonkonzentrationen kann zusätzlich zu dem in
Fig. 6 dargestellten Generator auch eine mit Sauerstoff-
Recycling arbeitende Ausführungsform in Betracht
gezogen werden, bei der nicht umgesetzter Sauerstoff,
der aus dem Tank 40 abgegeben wurde, mittels eines Gebläses
dem Ozongenerator 143 wiederzugeführt wird.
Wenngleich sich die vorstehende Beschreibung auf supraleitende
Dünnschichten bezieht, kann die beschriebene
Ausführungsform auf andere Aufdampf- oder Zerstäubervorrichtungen
angewendet werden.
Mit den vorstehend beschriebenen Ausführungsformen, nämlich
dem nach dem Adsorptionsprinzip arbeitenden Ozongenerator
mit einem Ozonadsorptionsteil, der vom Generator
erzeugtes Ozon von Adsorptionsmitteln adsorbieren
läßt, oder dem nach dem Verflüssigungsprinzip arbeitenden
Ozongenerator mit einem Verflüssigungsteil zum Verflüssigen
von vom Generator erzeugtem Ozon, bei denen
der Adsorptions- bzw. der Verflüssigungsteil mit dem
Innenraum des Vakuumgefäßes so verbunden ist, daß adsorbiertes
oder flüssiges Ozon durch Desorption oder
Verdampfung in den Innenraum des Vakuumgefäßes zugeführt
wird, können vorteilhafte Wirkungen erzielt werden,
mit denen sich Dünnschichten mit hohem Wirkungsgrad
und rasch herstellen lassen, ebenso Hochleistungs-
Dünnschichten, und weil mit hoher Konzentration
erhalten werden kann, kann die Leistung der Vakuumpumpe
reduziert werden, wodurch sich die Vorrichtung
gegenüber üblichen Vorrichtungen verkleinern und ihre
Kosten senken lassen.
Bei der in Fig. 1 oder 3 dargestellten Ausführungsform
ist gemäß Fig. 7 und 8 an der Öffnung für Ozon-Einleitungs
einrichtung 41 eine Ozon-Zersetzungseinrichtung
befestigt. Weil dabei andere Bauteile der Vorrichtung
zum Herstellen von Dünnschichten, an der eine solche
Ozon-Zersetzungseinrichtung angeordnet ist, mit den in
Fig. 1 oder 3 dargestellten gleich sind, wird auf eine
entsprechende Beschreibung verzichtet.
Gemäß Fig. 7 ist zum Erwärmen von zersetzungsfähigem
Ozon, das von der Einleitungseinrichtung 41 gegen das
Substrat 38′ gestrahlt wird, eine Zersetzungskammer 55
vorgesehen, um die zu ihrer Erwärmung eine Heizvorrichtung
56 angeordnet ist. Die Zersetzungskammer 55 und
die Heizvorrichtung 56 bilden eine Einrichtung 57 zum
Zersetzen von aus der Einleitungseinrichtung 41 ausgestrahltem
Ozon in atomaren und molekularen Sauerstoff.
Die Arbeitsweise dieser Ausführungsform ist folgende:
Weil die Cluster auf gleiche Weise wie bei der herkömmlichen
Vorrichtung erzeugt werden, wird bei gezeigten
Beispiel der Wirkungsgrad der Oxidationsreaktion für
das aufdampfbare Material 33 auf dem Substrat 38 bei
Verwendung der Ozon-Zersetzungseinrichtung 57 erläutert.
Gemäß Fig. 7 umfaßt die Ozon-Zersetzungseinrichtung 57
die Zersetzungskammer 55, welche durch die Heizvorrichtung
56 auf eine hohe Temperatur zwischen 150 und 800°C
erwärmt wird. Von der Einleitungseinrichtung 41 ausgestrahltes
und durch die Zersetzungskammer 55 hindurchgeleitetes
Ozon wird aufgrund seiner Kollision mit
den Wänden der erwärmten Zersetzungskammer 55 oder
durch die Strahlung von den Kammerwänden erwärmt, in
molekularen und atomaren Sauerstoff zerlegt, der reaktionsfreudiger
als Ozon ist, und dann gegen das Substrat
38 gestrahlt. Somit können auch dann, wenn die
Substrattemperatur nur etwa 150°C oder weniger beträgt,
bei der also Ozon nicht ohne weiteres auf dem
Substrat 38 zersetzt werden kann, Yttrium, Barium und
Kupfer als Aufdampfmaterial 33 mit dem in hohem Maße
reaktionsfähigen atomaren Sauerstoff zur Reaktion gebracht
werden. Bei gleicher Menge des mit der Einrichtung
41 eingeleiteten Ozons findet bei Verwendung der
Ozon-Zersetzungseinrichtung 57 eine wirkungsvollere
Oxidation statt, wodurch bei hoher Temperatur
supraleitende Dünnschichten mit der Perowskit-Struktur
in der Zusammensetzung YBa₂Cu₃O7-x mit hoher Qualität
und rasch auf dem Substrat 38 entstehen.
Es ist für die Zersetzung bzw. Zerlegung von Ozon nützlich,
wenn die Zersetzungskammer 55 gemäß Fig. 8 aufgebaut
ist, wonach der Kammerinnenraum durch Wände
stark unterteilt oder mit Gittern versehen ist, um
durch Vergrößern der Wandoberfläche die Kollisionsmöglichkeiten
zwischen dem Ozon und den Wänden zu vergrößern
und die Aufnahmee von Strahlungswärme von den Wänden
zu verbessern.
Wenngleich beim gezeigten Beispiel die Heizvorrichtungg
56 zur Bildung der Ozon-Zersetzungseinrichtung 57 um
die Zersetzungskammer 55 angeordnet ist, ist eine Anpassung
in der Weise möglich, daß die Heizvorrichtung
56 gemäß Fig. 10 direkt auf der Außenfläche der Ozon-
Einleitungseinrichtung 41 angeordnet ist.
Beim gezeigten Beispiel wird Ozon unter Ausnutzung von
Wärme zersetzt. Die Zersetzung von Ozon kann auch dadurch
erreicht werden, daß Elektroden in der Zersetzungskammer
55 angeordnet werden, an die zur Ozonzerlegung
eine Spannung angelegt und dadurch eine elektrische
Entladung in der Ozonatmosphäre ausgelöst wird.
Dies kann eine ähnliche Wirkung schaffen wie bei der
zuvor beschriebenen Ausführungsform. Die Temperatur des
Substrates 38 beträgt bis herunter zu etwa 150°C oder
weniger; sie kann auch bis zwischen 150 und 900°C betragen,
bei der von der Zersetzungseinrichtung 57 nicht
zersetztes Ozon am Substrat 38 in molekularen und atomaren
Sauerstoff aufgespalten wird, der reaktionsfreudiger
als Ozon ist, derart, daß mehr Sauerstoffatome
gebildet werden als bei der gerade beschriebenen Ausführungsform.
Weil das Aufdampfmaterial 33 zu einem
höheren Wirkungsgrad der Oxidationsreaktion auf dem
Substrat 38 führt, können, verglichen mit der vorstehend
beschriebenen Ausführungsform, bei hoher Temperatur
supraleitende Dünnschichten mit gleicher oder höherer
Güte bei hoher Geschwindigkeit ausgebildet werden.
Die Ozon-Zersetzungseinrichtung 57 ist bei der vorstehend
beschriebenen Ausführungsform mit der Ionenclusterstrahl-
Quelle vorgesehen. Es können andere Vorrichtungen
zum Ausbilden von Dünnschichten vorgesehen sein,
z. B. solche, die mit Vakuumbedampfung oder Ionenstrahlzerstäubung
arbeiten, mit denen ähnliche Wirkungen wie
mit der vorstehend beschriebenen Ausführungsform erzielt
werden können.
Wenngleich die vorstehend beschriebene Ausführungsform
eine Anwendung auf die Ausbildung von bei hoher Temperatur
supraleitenden Dünnschichten der Y-Ba-Cu-O-Serie
als dem Mehrelement-Oxid ist, ist sich auch auf andere
Mehrelement-Oxide und Einelement-Oxide anwendbar, wodurch
ähnliche Wirkungen wie beim oben gezeigten Beispiel
erzielt werden können.
Das zersetzte Ozon wird bei der beschriebenen Ausführungsform
in Richtung auf das Substrat ausgestrahlt; es
kann auch in den Innenraum des Vakuumgefäßes eingeleitet
werden und dadurch eine Ozonatmosphäre bilden.
Die Ozon-Zersetzungseinrichtung 57 ist am Ozon-Ausstrahlteil
der Einleitungseinrichtung 41 im Vakuumgefäß
31 angeordnet. Eine Anordnung außerhalb des Vakuumgefäßes
31 zur Zersetzung des vom Ozongenerator 44 erzeugten
Ozons ist ebenfalls möglich. Das zersetzte Ozon
wird dann über die Einleitungseinrichtung 41 in den
Innenraum des Vakuumgefäßes 31 eingeleitet.
Wie bei den vorstehenden Beispielen beschrieben, kann
das aufdampfbare Material 33 mit atomarem Sauerstoff
direkt zur Reaktion gebracht werden; es entstehen dann
Dünnschichten von hoher Güte, auch dann, wenn Ozon
nicht auf dem Substrat zersetzt wird. Außerdem kann
eine vorteilhafte Wirkung geschaffen werden, die eine
Oxidationsreaktion mit höherer Rate zu rascheren Ausbildung
von Dünnschichten auch bei gleicher Menge des
eingeleiteten Ozons ermöglicht.
Es läßt sich ferner eine vorteilhafte Wirkung erzielen,
welche die Herstellung von Oxid-Dünnschichten hoher
Güte ermöglicht, ohne daß in den Fällen, in denen Dünnschichten
durch Erwärmen des Substrats nicht ausgebildet
werden können, eine Erwärmung des Substrats erforderlich
ist.
In Fig. 10 ist zur Vorrichtung für die Dünnschicht-Herstellung
gemäß Fig. 1 oder 3 eine Vorrichtung zur Oxidationsbehandlung
von auf das Substrat aufgedampften
Dünnschichten vorgesehen. Von supraleitendem Material
der Y-Ba-Cu-O-Serie ist allgemein bekannt, daß aus der
Perowskit-Struktur Sauerstoff mit dem Absenken der
Sprungtemperatur (Tc) der Supraleitung entfernt wird,
wenn die Temperatur für die Atmosphäre ansteigt oder
der Sauerstoffdruck in der Atmosphäre gesenkt wird.
Weil die Dünnschichten nach dem Aufdampfen Sauerstoffmangel
und eine niedrige Sprungtemperatur Tc haben, ist
ein Oxidationsschritt zur nachträglichen Einbettung von
Sauerstoff notwendig.
Bei dieser Oxidationsbehandlung kann auch bei Temperaturen
im Bereich unter 500°C, in dem das Substrat aus
z. B. SiO₂ und Dünnschichten nicht zur Reaktion kommen,
oxidierendes Gas, das im angeregten Zustand hohe Aktivität
besitzt, an Dünnschichten gebunden werden. Als oxidierendes
Gas kann Ozon oder atomarer Sauerstoff, der
durch Zersetzung von Ozon erzeugt wurde, verwendet werden.
In diesem Falle umfaßt die in Fig. 10 dargestellte Ausführungsform
eine Ozon-Zersetzungseinrichtung und eine
Oxidationseinrichtung 410. Dabei wird Ozon während der
Oxidationsbehandlung aus einem Einleitungsrohr 41 für
reaktionsfähiges Gas eingeleitet, auf die Innenseite
einer Heizvorrichtung 420 zur Ozonzersetzung gerichtet,
thermisch in molekularen und atomaren Sauerstoff zerlegt
und dann auf das Substrat 38 geblasen.
Weil atomarer Sauerstoff eine größere Oxidationswirkung
hat als Ozon, kann die Oxidationsbehandlung zeitlich
verkürzt werden.
Es wird nun die Oxidationsbehandlung mit Ozon gemäß der
Erfindung mit der herkömmlichen Oxidationsbehandlung
mit gasförmigem Sauerstoff verglichen.
In der nachstehenden Tabelle 3 ist die Sprungtemperatur
(Tc) der Supraleitung für den Fall angegeben, daß supraleitende
Oxid-Dünnschichten auf einem MgO-Substrat
und einem SiO₂-Substrat einer Oxidationsbehandlung bei
etwa 400°C in einer Ozon- und Sauerstoffgas-Atmosphäre
unterworfen werden.
Gemäß der vorstehenden Tabelle 3 ist bei einer Oxidationsbehandlung
mit Ozon Tc anscheinend höher als bei
Verwendung von gasförmigen Sauerstoff, was anzeigt, daß
sich die Oxidation fortsetzt. Wird andererseits für die
Oxidation eine höhere Temperatur als 500°C gewählt,
wenngleich Tc bei etwa 80 K im Falle eines MgO-Substrats
auch für die Oxidationsbehandlung mit gasförmigem
Sauerstoff zufriedenstellend ist, findet eine Reaktion
zwischen dem Substrat und der Dünnschicht statt,
wobei es im Falle des SiO₂-Substrats nicht zum Sprung
kommt. Wenn also ein solches Substrat verwendet wird,
das bei hoher Temperatur mit Dünnschichten reagiert,
muß die Oxidationsbehandlung bei niedriger Temperatur
durchgeführt werden, und es wird als außergewöhnlich
nützlich angesehen, hierbei ein angeregtes hochaktives
oxidierendes Gas zu verwenden, z. B. Ozon oder durch die
Zersetzung von Ozon gewonnener atomarer Sauerstoff.
Bei der vorstehend beschriebenen Ausführungsform handelt
es sich um supraleitende Oxid-Dünnschichten; diese
Ausführungsform ist auch auf Dünnschichen aus anderen
Materialien anwendbar, insbesondere auf die Verwendung
von Dünnschicht- und Substratmaterialien, bei denen
unter dem Einfluß hoher Temperatur im Verlaufe der Oxidation
Nachteile entstehen.
Das Verfahren zum Ausbilden von Dünnschichten wird gemäß
vorstehender Beschreibung mit einer Ionenclusterstrahl-
Quelle durchgeführt; es ist auch auf jene Fälle
anwendbar, in denen verdampfbares Material oder ein
Target in einem Gefäß, das in einem dichtverschlossenen
Vakuumgefäß unter Vakuum oder einer zweckentsprechenden
Atmosphäre angeordnet ist, unter der Einwirkung von
Wärme oder Ionenstrahlen usw. verdampft oder zerstäubt
wird und Dünnschichten auf dem im dichtverschlossenen
Gefäß angeordneten Substrat ausgebildet werden, wobei
die Oxidation nach der Schichtausbildung ungenügend ist
und eine nachträgliche Oxidationsbehandlung notwendig
wird.
Aus dem Vorstehenden ergibt sich, daß bei der erfindungsgemäßen
Ausführungsform in einem Schritt Dünnschichten
auf das Substrat im dichtverschlossenen Gefäß
aufgedampft werden und in einem anderen Schritt die so
entstandenen Dünnschichten in der Atmosphäre eines angeregten
hochaktiven oxidierenden Gases oxidiert werden;
aus diesem Grunde können vorteilhafte Wirkungen
geschaffen werden, welche die Anwendung der Oxidationsbehandlung
auf aufgedampfte Dünnschichten bei relativ
niedriger Temperatur und folglich auch auf billige Substrate
ermöglichen.
Claims (5)
1. Vorrichtung zum Aufdampfen von Dünnschichten,
gekennzeichnet durch ein Vakuumgefäß
(31), einen im Vakuumgefäß (31) angeordneten Verdampfer
(43) zum Verdampfen von Ausgangsmaterial (33), einen
Generator (44; 143) zum Erzeugen von Ozon, und einer
Einrichtung (41; 41 a) zum Einleiten von vom Generator
(44; 143) erzeugtem Ozon zu einem im Vakuumgefäß (31)
angeordneten Substrat (38).
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß ein Ozon-Adsorptionsteil (141)
zum Adsorbieren von durch den Generator (143) erzeugtem
Ozon an ein Adsorptionsmittel vorgesehen und mit dem
Innenraum des Vakuumgefäßes (31) über die Einleitungseinrichtung
(41; 41 a) verbunden ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß ein Verflüssigungsteil
(140) zum Verflüssigen von durch den Generator (143)
erzeugtem Ozon vorgesehen und mit dem Innenraum des
Vakuumgefäßes (31) über die Einleitungseinrichtung
(41; 41 a) verbunden ist.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Einleitungseinrichtung
eine Einrichtung zum Zersetzen von durch den
Generator (143) erzeugtem Ozon und dann Einleiten
derselben in den Innenraum des Vakuumgefäßes (31) umfaßt.
5. Verwendung der Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 4 zur reaktiven Aufdampfung von Oxid-Dünnschichten,
insbesondere von supraleitenden Oxidschichten.
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29815387A JPH01139758A (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 薄膜蒸着方法および薄膜蒸着装置 |
JP11876288A JPH01290758A (ja) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | 酸化物薄膜の製造方法 |
JP16185088A JPH0211752A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 酸化物薄膜形成方法 |
JP63168475A JP2623715B2 (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 薄膜形成装置 |
JP63174032A JP2569739B2 (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | 酸素原子発生方法および装置 |
JP18882788A JPH0238561A (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3844630C2 true DE3844630C2 (de) | 1990-11-22 |
Family
ID=27552534
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19883839903 Granted DE3839903A1 (de) | 1987-11-25 | 1988-11-25 | Verfahren und vorrichtung zum aufdampfen von duennschichten |
DE19883844630 Expired - Lifetime DE3844630C2 (de) | 1987-11-25 | 1988-11-25 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19883839903 Granted DE3839903A1 (de) | 1987-11-25 | 1988-11-25 | Verfahren und vorrichtung zum aufdampfen von duennschichten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (2) | DE3839903A1 (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0365502A (ja) * | 1989-07-31 | 1991-03-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超電導薄膜の作製方法 |
US4987102A (en) * | 1989-12-04 | 1991-01-22 | Motorola, Inc. | Process for forming high purity thin films |
JPH06101020A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜形成方法 |
JP3169151B2 (ja) * | 1992-10-26 | 2001-05-21 | 三菱電機株式会社 | 薄膜形成装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4624859A (en) * | 1984-05-28 | 1986-11-25 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of producing silicon dioxide films |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE949315C (de) * | 1940-11-17 | 1956-09-20 | Dr Georg Hass | Verfahren zur Herstellung von wischfesten, gegen Temperaturen und chemische Einfluesse weitgehend bestaendigen Oberflaechenspiegeln |
JPS5941510B2 (ja) * | 1979-07-24 | 1984-10-08 | 双葉電子工業株式会社 | 酸化ベリリウム膜とその形成方法 |
JPS60221566A (ja) * | 1984-04-18 | 1985-11-06 | Agency Of Ind Science & Technol | 薄膜形成装置 |
DE3726016A1 (de) * | 1987-08-05 | 1989-02-16 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung eines schichtartigen aufbaus aus einem oxidkeramischen supralteitermaterial |
-
1988
- 1988-11-25 DE DE19883839903 patent/DE3839903A1/de active Granted
- 1988-11-25 DE DE19883844630 patent/DE3844630C2/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4624859A (en) * | 1984-05-28 | 1986-11-25 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of producing silicon dioxide films |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3839903C2 (de) | 1990-05-23 |
DE3839903A1 (de) | 1989-06-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69825138T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von dünnen Schichten einer Metallverbindung | |
DE68915012T2 (de) | Anlage zur Erzeugung von Dünnschichten und Ionenquelle unter Anwendung von Plasmazerstäubung. | |
DE3726006C2 (de) | ||
EP0306612B1 (de) | Verfahren zur Aufbringung von Schichten auf Substraten | |
DE2807803C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von aus Verbindungen bestehenden Dünnschichten | |
DE4217450C2 (de) | Ionenbedampfungsverfahren und -vorrichtung | |
DE4404931A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Direktverbinden von zwei Körpern | |
DE2547552A1 (de) | Schichtaufdampfeinrichtung und -verfahren | |
DE4025396A1 (de) | Einrichtung fuer die herstellung eines plasmas | |
DE3627151C2 (de) | ||
DE69009078T2 (de) | System und Methode zur Ablagerung von dünnen Filmen im Vakuum. | |
DE2552783A1 (de) | Verfahren und anordnung zur erzeugung von ionen | |
DE3877405T2 (de) | Verfahren zur herstellung einer supraleitenden duennen schicht und anordnung zu seiner durchfuehrung. | |
DE3844630C2 (de) | ||
DE3334830A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines verbindungshalbleiterfilms | |
DE3914722A1 (de) | Verfahren zum auftragen von keramischen material | |
DE1539130A1 (de) | Elektronische Vakuumpumpe | |
EP0361265A1 (de) | Herstellung von dünnen Schichten eines Hochtemperatur-Supraleiters (HTSL) durch ein plasmaaktiviertes PVD-Verfahren | |
DE4006457C1 (en) | Appts. for vapour deposition of material under high vacuum - has incandescent cathode and electrode to maintain arc discharge | |
DE3208086C2 (de) | Verwendung einer Plasmakanone | |
DE3851030T2 (de) | Herstellungsverfahren für Entladungslampen mit verdampftem Metall und Gerät dafür. | |
CH625911A5 (de) | ||
WO1998000363A1 (de) | VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON STABILEN ENDOHEDRALEN FULLERENEN DER STRUKTUR Z@Cx MIT x ≥ 60 | |
DE3704328A1 (de) | Schichtwerkstoff oder schichtwerkstueck sowie verfahren zu dessen herstellung | |
DE4421045C2 (de) | Einrichtung zur plamagestützten Beschichtung von Substraten, insbesondere mit elektrisch isolierendem Material |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
Q172 | Divided out of (supplement): |
Ref country code: DE Ref document number: 3839903 |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
AC | Divided out of |
Ref country code: DE Ref document number: 3839903 Format of ref document f/p: P |
|
AC | Divided out of |
Ref country code: DE Ref document number: 3839903 Format of ref document f/p: P |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licenses declared (paragraph 23) |