ATE503265T1 - Teilchenoptische anordnung mit teilchenoptischer komponente - Google Patents

Teilchenoptische anordnung mit teilchenoptischer komponente

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ATE503265T1
ATE503265T1 AT06805659T AT06805659T ATE503265T1 AT E503265 T1 ATE503265 T1 AT E503265T1 AT 06805659 T AT06805659 T AT 06805659T AT 06805659 T AT06805659 T AT 06805659T AT E503265 T1 ATE503265 T1 AT E503265T1
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optical arrangement
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Thomas Kemen
Thomas Bayer
Georg Fritz
Johann Greschner
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Families Citing this family (214)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1668662B1 (de) * 2003-09-05 2012-10-31 Carl Zeiss SMT GmbH Optische partikelsysteme und anordnungen und optische partikelkomponenten für solche systeme und anordnungen
EP1941528B9 (de) 2005-09-06 2011-09-28 Carl Zeiss SMT GmbH Teilchenoptische Anordnung mit teilchenoptischer Komponente
EP2050118A1 (de) * 2006-07-25 2009-04-22 Mapper Lithography IP B.V. Optisches system mit mehreren strahlengeladenen teilchen
US8134135B2 (en) 2006-07-25 2012-03-13 Mapper Lithography Ip B.V. Multiple beam charged particle optical system
DE102006051550B4 (de) * 2006-10-30 2012-02-02 Fhr Anlagenbau Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Strukturieren von Bauteilen unter Verwendung eines Werkstoffs auf der Basis von Siliziumoxid
JP4994151B2 (ja) * 2007-08-14 2012-08-08 日本電子株式会社 荷電粒子線装置
JP2009152087A (ja) * 2007-12-21 2009-07-09 Jeol Ltd 透過電子顕微鏡
JP5250350B2 (ja) * 2008-09-12 2013-07-31 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線応用装置
US8908995B2 (en) 2009-01-12 2014-12-09 Intermec Ip Corp. Semi-automatic dimensioning with imager on a portable device
EP2433295A2 (de) * 2009-05-20 2012-03-28 Mapper Lithography IP B.V. Beidseitiges scannen
US20120213319A1 (en) * 2009-08-14 2012-08-23 The Regents Of The University Of California Fast Pulsed Neutron Generator
KR101041369B1 (ko) * 2009-11-19 2011-06-15 한국기초과학지원연구원 초고속 대량 시료 분석을 위한 장치 및 방법
WO2011124352A1 (en) 2010-04-09 2011-10-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Charged particle detection system and multi-beamlet inspection system
DE102010026169B4 (de) * 2010-07-06 2014-09-04 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Partikelstrahlsystem
US9384938B2 (en) 2010-09-28 2016-07-05 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Particle-optical systems and arrangements and particle-optical components for such systems and arrangements
WO2012062854A1 (en) 2010-11-13 2012-05-18 Mapper Lithography Ip B.V. Lithography system and method of refracting
JP5988570B2 (ja) * 2010-12-31 2016-09-07 エフ・イ−・アイ・カンパニー 選択可能な複数の粒子放出器を備える荷電粒子源
JP2012195096A (ja) * 2011-03-15 2012-10-11 Canon Inc 荷電粒子線レンズおよびそれを用いた露光装置
WO2012151288A1 (en) 2011-05-03 2012-11-08 Applied Materials Israel, Ltd. Multi-spot collection optics
US8698094B1 (en) 2011-07-20 2014-04-15 Kla-Tencor Corporation Permanent magnet lens array
JP2013120660A (ja) * 2011-12-06 2013-06-17 Canon Inc 貫通孔基板の製造方法
US8859961B2 (en) * 2012-01-06 2014-10-14 Agilent Technologies, Inc. Radio frequency (RF) ion guide for improved performance in mass spectrometers
KR101357940B1 (ko) * 2012-01-27 2014-02-05 선문대학교 산학협력단 편심 어퍼쳐를 가진 전극층을 포함하는 멀티 입자 빔 칼럼
JP2013165234A (ja) * 2012-02-13 2013-08-22 Canon Inc 荷電粒子光学系、荷電粒子線装置、および物品の製造方法
JP2013168396A (ja) * 2012-02-14 2013-08-29 Canon Inc 静電型の荷電粒子線レンズ及び荷電粒子線装置
EP2654068B1 (de) * 2012-04-16 2017-05-17 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Umschaltbarer Mehrperspektivendetektor, Optik dafür und Betriebsverfahren dafür
JP6002428B2 (ja) * 2012-04-24 2016-10-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
US9779546B2 (en) 2012-05-04 2017-10-03 Intermec Ip Corp. Volume dimensioning systems and methods
US11348756B2 (en) * 2012-05-14 2022-05-31 Asml Netherlands B.V. Aberration correction in charged particle system
US10007858B2 (en) 2012-05-15 2018-06-26 Honeywell International Inc. Terminals and methods for dimensioning objects
JP6053919B2 (ja) * 2012-05-31 2016-12-27 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフトＳｉｅｍｅｎｓ Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ 荷電粒子を偏向させる偏向板および偏向装置
NL2009053C2 (en) * 2012-06-22 2013-12-24 Univ Delft Tech Apparatus and method for inspecting a surface of a sample.
US10321127B2 (en) 2012-08-20 2019-06-11 Intermec Ip Corp. Volume dimensioning system calibration systems and methods
US9132436B2 (en) 2012-09-21 2015-09-15 Applied Materials, Inc. Chemical control features in wafer process equipment
US20140104413A1 (en) 2012-10-16 2014-04-17 Hand Held Products, Inc. Integrated dimensioning and weighing system
NL2009696C2 (en) * 2012-10-25 2014-04-29 Univ Delft Tech Apparatus and method for inspecting a surface of a sample.
JP5576458B2 (ja) * 2012-11-09 2014-08-20 株式会社アドバンテスト 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法
JP2014116518A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Canon Inc 描画装置及び物品の製造方法
EP2757571B1 (de) * 2013-01-17 2017-09-20 IMS Nanofabrication AG Hochspannungsisolationsvorrichtung für eine optische Vorrichtung mit geladenen Partikeln
US8890092B2 (en) 2013-01-28 2014-11-18 Industry—University Cooperation Foundation Sunmoon University Multi-particle beam column having an electrode layer including an eccentric aperture
US10256079B2 (en) 2013-02-08 2019-04-09 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing systems having multiple plasma configurations
US10228452B2 (en) 2013-06-07 2019-03-12 Hand Held Products, Inc. Method of error correction for 3D imaging device
JP2015023286A (ja) * 2013-07-17 2015-02-02 アイエムエス ナノファブリケーション アーゲー 複数のブランキングアレイを有するパターン画定装置
EP2830083B1 (de) 2013-07-25 2016-05-04 IMS Nanofabrication AG Verfahren zur Ladungsteilchen-Mehrstrahlbelichtung
DE102013014976A1 (de) 2013-09-09 2015-03-12 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenoptisches System
DE102013016113B4 (de) 2013-09-26 2018-11-29 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Detektieren von Elektronen, Elektronendetektor und Inspektionssystem
US9263233B2 (en) 2013-09-29 2016-02-16 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Charged particle multi-beam inspection system and method of operating the same
EP3053183B1 (de) 2013-09-30 2018-11-07 Carl Zeiss Microscopy GmbH Geladenes teilchenstrahlsystem und verfahren zum betrieb davon
US9269542B2 (en) * 2013-11-01 2016-02-23 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Plasma cathode charged particle lithography system
US9466462B2 (en) * 2014-01-13 2016-10-11 Applied Materials Israel Ltd. Inspection of regions of interest using an electron beam system
US9847209B2 (en) 2014-01-13 2017-12-19 Applied Materials Israel Ltd. Inspection of regions of interest using an electron beam system
EP2913838B1 (de) 2014-02-28 2018-09-19 IMS Nanofabrication GmbH Kompensation defekter Beamlets in einem Ladungsträger-Mehrstrahlbelichtungswerkzeug
JP6262024B2 (ja) 2014-03-04 2018-01-17 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム描画装置
SG10201807071TA (en) * 2014-03-13 2018-09-27 Nat Univ Singapore An optical interference device
EP2937889B1 (de) 2014-04-25 2017-02-15 IMS Nanofabrication AG Mehrstrahliges werkzeug zum schneiden von mustern
NL2012780B1 (en) 2014-05-08 2016-02-23 Univ Delft Tech Apparatus and method for inspecting a sample using a plurality of charged particle beams.
US10903042B2 (en) 2014-05-08 2021-01-26 Technische Universiteit Delft Apparatus and method for inspecting a sample using a plurality of charged particle beams
DE102014008083B9 (de) 2014-05-30 2018-03-22 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlsystem
EP3358599B1 (de) 2014-05-30 2021-01-27 IMS Nanofabrication GmbH Kompensation von dosisinhomogenität mittels zeilenkalibrierung
DE102014008105B4 (de) 2014-05-30 2021-11-11 Carl Zeiss Multisem Gmbh Mehrstrahl-Teilchenmikroskop
DE102014008383B9 (de) * 2014-06-06 2018-03-22 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben einer Teilchenoptik
JP6892214B2 (ja) 2014-07-10 2021-06-23 アイエムエス ナノファブリケーション ゲーエムベーハー 畳み込みカーネルを使用する粒子ビーム描画機のカスタマイズ化
US9823059B2 (en) 2014-08-06 2017-11-21 Hand Held Products, Inc. Dimensioning system with guided alignment
US9406535B2 (en) * 2014-08-29 2016-08-02 Lam Research Corporation Ion injector and lens system for ion beam milling
TWI578364B (zh) 2014-09-03 2017-04-11 Nuflare Technology Inc Inspection method of masking device with multiple charged particle beam
NL2013411B1 (en) * 2014-09-04 2016-09-27 Univ Delft Tech Multi electron beam inspection apparatus.
EP2993682A1 (de) * 2014-09-04 2016-03-09 Fei Company Verfahren zur Spektroskopiedurchführung in einem Transmissions-Ladungsträger-Mikroskop
US9568907B2 (en) 2014-09-05 2017-02-14 Ims Nanofabrication Ag Correction of short-range dislocations in a multi-beam writer
US9779276B2 (en) 2014-10-10 2017-10-03 Hand Held Products, Inc. Depth sensor based auto-focus system for an indicia scanner
US10775165B2 (en) 2014-10-10 2020-09-15 Hand Held Products, Inc. Methods for improving the accuracy of dimensioning-system measurements
US10810715B2 (en) 2014-10-10 2020-10-20 Hand Held Products, Inc System and method for picking validation
EP3010031B1 (de) * 2014-10-16 2017-03-22 Fei Company Geladenes Teilchenmikroskop mit spezieller Aperturplatte
US9897434B2 (en) 2014-10-21 2018-02-20 Hand Held Products, Inc. Handheld dimensioning system with measurement-conformance feedback
US9752864B2 (en) 2014-10-21 2017-09-05 Hand Held Products, Inc. Handheld dimensioning system with feedback
US11637002B2 (en) 2014-11-26 2023-04-25 Applied Materials, Inc. Methods and systems to enhance process uniformity
US20160225652A1 (en) 2015-02-03 2016-08-04 Applied Materials, Inc. Low temperature chuck for plasma processing systems
DE102015202172B4 (de) 2015-02-06 2017-01-19 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlsystem und Verfahren zur teilchenoptischen Untersuchung eines Objekts
US9691588B2 (en) * 2015-03-10 2017-06-27 Hermes Microvision, Inc. Apparatus of plural charged-particle beams
US9653263B2 (en) 2015-03-17 2017-05-16 Ims Nanofabrication Ag Multi-beam writing of pattern areas of relaxed critical dimension
EP3096342B1 (de) 2015-03-18 2017-09-20 IMS Nanofabrication AG Bidirektionales mehrstrahliges schreiben mit doppeldurchgang
US10410831B2 (en) 2015-05-12 2019-09-10 Ims Nanofabrication Gmbh Multi-beam writing using inclined exposure stripes
US9786101B2 (en) 2015-05-19 2017-10-10 Hand Held Products, Inc. Evaluating image values
KR102441581B1 (ko) 2015-06-03 2022-09-07 삼성전자주식회사 표면 검사 방법 및 이를 이용한 포토 마스크의 검사 방법
US20160377414A1 (en) * 2015-06-23 2016-12-29 Hand Held Products, Inc. Optical pattern projector
US9835486B2 (en) 2015-07-07 2017-12-05 Hand Held Products, Inc. Mobile dimensioner apparatus for use in commerce
US10541104B2 (en) 2015-07-09 2020-01-21 Applied Materials Israel Ltd. System and method for scanning an object with an electron beam using overlapping scans and electron beam counter-deflection
US20170017301A1 (en) 2015-07-16 2017-01-19 Hand Held Products, Inc. Adjusting dimensioning results using augmented reality
US9741593B2 (en) 2015-08-06 2017-08-22 Applied Materials, Inc. Thermal management systems and methods for wafer processing systems
US10504700B2 (en) 2015-08-27 2019-12-10 Applied Materials, Inc. Plasma etching systems and methods with secondary plasma injection
US10192716B2 (en) 2015-09-21 2019-01-29 Kla-Tencor Corporation Multi-beam dark field imaging
US10366862B2 (en) * 2015-09-21 2019-07-30 KLA-Tencor Corporaton Method and system for noise mitigation in a multi-beam scanning electron microscopy system
US10460905B2 (en) * 2015-09-23 2019-10-29 Kla-Tencor Corporation Backscattered electrons (BSE) imaging using multi-beam tools
DE102015013698B9 (de) 2015-10-22 2017-12-21 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops
US10249030B2 (en) 2015-10-30 2019-04-02 Hand Held Products, Inc. Image transformation for indicia reading
US10225544B2 (en) 2015-11-19 2019-03-05 Hand Held Products, Inc. High resolution dot pattern
US9881764B2 (en) * 2016-01-09 2018-01-30 Kla-Tencor Corporation Heat-spreading blanking system for high throughput electron beam apparatus
US9746415B2 (en) * 2016-01-12 2017-08-29 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of Commerce Sample holder, detector mask, and scope system
US10074513B2 (en) * 2016-01-25 2018-09-11 Applied Materials Israel Ltd. Multi mode systems with retractable detectors
US9818577B2 (en) 2016-01-25 2017-11-14 Applied Materials Israel Ltd. Multi mode system with a dispersion X-ray detector
US10025314B2 (en) 2016-01-27 2018-07-17 Hand Held Products, Inc. Vehicle positioning and object avoidance
SG11201806100PA (en) * 2016-01-27 2018-08-30 Hermes Microvision Inc Apparatus of plural charged-particle beams
JP2017151159A (ja) * 2016-02-22 2017-08-31 株式会社ニューフレアテクノロジー 検査装置及び検査方法
WO2017171796A1 (en) * 2016-03-31 2017-10-05 Intel Corporation Aperture size modulation to enhance ebeam patterning resolution
US10054551B2 (en) 2016-04-20 2018-08-21 Applied Materials Israel Ltd. Inspection system and method for inspecting a sample by using a plurality of spaced apart beams
US10504754B2 (en) 2016-05-19 2019-12-10 Applied Materials, Inc. Systems and methods for improved semiconductor etching and component protection
US10339352B2 (en) 2016-06-03 2019-07-02 Hand Held Products, Inc. Wearable metrological apparatus
US10325756B2 (en) 2016-06-13 2019-06-18 Ims Nanofabrication Gmbh Method for compensating pattern placement errors caused by variation of pattern exposure density in a multi-beam writer
US10163216B2 (en) 2016-06-15 2018-12-25 Hand Held Products, Inc. Automatic mode switching in a volume dimensioner
US9865484B1 (en) 2016-06-29 2018-01-09 Applied Materials, Inc. Selective etch using material modification and RF pulsing
JP6781582B2 (ja) * 2016-07-25 2020-11-04 株式会社ニューフレアテクノロジー 電子ビーム検査装置及び電子ビーム検査方法
US10546729B2 (en) 2016-10-04 2020-01-28 Applied Materials, Inc. Dual-channel showerhead with improved profile
JP6721486B2 (ja) * 2016-10-18 2020-07-15 東京エレクトロン株式会社 イオンビーム照射装置及び基板処理装置
US9922796B1 (en) * 2016-12-01 2018-03-20 Applied Materials Israel Ltd. Method for inspecting a specimen and charged particle multi-beam device
US10909708B2 (en) 2016-12-09 2021-02-02 Hand Held Products, Inc. Calibrating a dimensioner using ratios of measurable parameters of optic ally-perceptible geometric elements
US10242839B2 (en) * 2017-05-05 2019-03-26 Kla-Tencor Corporation Reduced Coulomb interactions in a multi-beam column
US10325757B2 (en) 2017-01-27 2019-06-18 Ims Nanofabrication Gmbh Advanced dose-level quantization of multibeam-writers
US10347460B2 (en) 2017-03-01 2019-07-09 Dongfang Jingyuan Electron Limited Patterned substrate imaging using multiple electron beams
KR102520386B1 (ko) 2017-03-20 2023-04-11 칼 짜이스 마이크로스카피 게엠베하 하전 입자 빔 시스템 및 방법
US11047672B2 (en) 2017-03-28 2021-06-29 Hand Held Products, Inc. System for optically dimensioning
US11276590B2 (en) 2017-05-17 2022-03-15 Applied Materials, Inc. Multi-zone semiconductor substrate supports
US11276559B2 (en) 2017-05-17 2022-03-15 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing chamber for multiple precursor flow
AU2018273352B2 (en) 2017-05-22 2023-07-27 Howmedica Osteonics Corp. Device for in-situ fabrication process monitoring and feedback control of an electron beam additive manufacturing process
US10733748B2 (en) 2017-07-24 2020-08-04 Hand Held Products, Inc. Dual-pattern optical 3D dimensioning
US10297458B2 (en) 2017-08-07 2019-05-21 Applied Materials, Inc. Process window widening using coated parts in plasma etch processes
JP6819509B2 (ja) * 2017-08-10 2021-01-27 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム描画装置
US10522329B2 (en) 2017-08-25 2019-12-31 Ims Nanofabrication Gmbh Dose-related feature reshaping in an exposure pattern to be exposed in a multi beam writing apparatus
WO2019038917A1 (ja) * 2017-08-25 2019-02-28 株式会社日立ハイテクノロジーズ 較正用試料、それを用いた電子ビーム調整方法及び電子ビーム装置
US20190066972A1 (en) * 2017-08-29 2019-02-28 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Charged particle beam device, aperture arrangement for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device
US11569064B2 (en) 2017-09-18 2023-01-31 Ims Nanofabrication Gmbh Method for irradiating a target using restricted placement grids
US11328909B2 (en) 2017-12-22 2022-05-10 Applied Materials, Inc. Chamber conditioning and removal processes
JP6966319B2 (ja) * 2017-12-22 2021-11-17 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチビーム画像取得装置及びマルチビーム画像取得方法
US10651010B2 (en) 2018-01-09 2020-05-12 Ims Nanofabrication Gmbh Non-linear dose- and blur-dependent edge placement correction
US10338013B1 (en) * 2018-01-25 2019-07-02 Kla-Tencor Corporation Position feedback for multi-beam particle detector
US10840054B2 (en) 2018-01-30 2020-11-17 Ims Nanofabrication Gmbh Charged-particle source and method for cleaning a charged-particle source using back-sputtering
US10964512B2 (en) 2018-02-15 2021-03-30 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing chamber multistage mixing apparatus and methods
DE102018202428B3 (de) 2018-02-16 2019-05-09 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vielstrahl-Teilchenmikroskop
DE102018202421B3 (de) 2018-02-16 2019-07-11 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem
WO2019166331A2 (en) 2018-02-27 2019-09-06 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Charged particle beam system and method
US10319600B1 (en) 2018-03-12 2019-06-11 Applied Materials, Inc. Thermal silicon etch
US10699879B2 (en) 2018-04-17 2020-06-30 Applied Materials, Inc. Two piece electrode assembly with gap for plasma control
US10584962B2 (en) 2018-05-01 2020-03-10 Hand Held Products, Inc System and method for validating physical-item security
US10811215B2 (en) 2018-05-21 2020-10-20 Carl Zeiss Multisem Gmbh Charged particle beam system
DE102018115012A1 (de) * 2018-06-21 2019-12-24 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlsystem
US11117195B2 (en) 2018-07-19 2021-09-14 The University Of Liverpool System and process for in-process electron beam profile and location analyses
EP3834222A1 (de) 2018-08-09 2021-06-16 ASML Netherlands B.V. Vorrichtung für mehrere ladungsteilchenstrahlen
EP3624167A1 (de) * 2018-09-14 2020-03-18 FEI Company Bildgebungsvorrichtung mit multi-elektronen-strahl mit verbesserter leistung
US11049755B2 (en) 2018-09-14 2021-06-29 Applied Materials, Inc. Semiconductor substrate supports with embedded RF shield
US11062887B2 (en) 2018-09-17 2021-07-13 Applied Materials, Inc. High temperature RF heater pedestals
US11417534B2 (en) 2018-09-21 2022-08-16 Applied Materials, Inc. Selective material removal
DE102018007455B4 (de) 2018-09-21 2020-07-09 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren zum Detektorabgleich bei der Abbildung von Objekten mittels eines Mehrstrahl-Teilchenmikroskops, System sowie Computerprogrammprodukt
DE102018007652B4 (de) 2018-09-27 2021-03-25 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenstrahl-System sowie Verfahren zur Stromregulierung von Einzel-Teilchenstrahlen
DE102018124044B3 (de) 2018-09-28 2020-02-06 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenstrahlmikroskops und Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem
DE102018124219A1 (de) 2018-10-01 2020-04-02 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben eines solchen
US11682560B2 (en) 2018-10-11 2023-06-20 Applied Materials, Inc. Systems and methods for hafnium-containing film removal
US11373838B2 (en) * 2018-10-17 2022-06-28 Kla Corporation Multi-beam electron characterization tool with telecentric illumination
US10784070B2 (en) * 2018-10-19 2020-09-22 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Charged particle beam device, field curvature corrector, and methods of operating a charged particle beam device
US11121002B2 (en) 2018-10-24 2021-09-14 Applied Materials, Inc. Systems and methods for etching metals and metal derivatives
US11437242B2 (en) 2018-11-27 2022-09-06 Applied Materials, Inc. Selective removal of silicon-containing materials
US11804355B2 (en) 2018-12-28 2023-10-31 Asml Netherlands B.V. Apparatus for multiple charged-particle beams
DE102018133703B4 (de) 2018-12-29 2020-08-06 Carl Zeiss Multisem Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung einer Vielzahl von Teilchenstrahlen und Vielstrahl-Teilchenstrahlsysteme
KR102596926B1 (ko) * 2018-12-31 2023-11-01 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 다중 빔 검사 장치
CN111477530B (zh) 2019-01-24 2023-05-05 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司 利用多束粒子显微镜对3d样本成像的方法
TWI743626B (zh) 2019-01-24 2021-10-21 德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司 包含多束粒子顯微鏡的系統、對3d樣本逐層成像之方法及電腦程式產品
US10741355B1 (en) 2019-02-04 2020-08-11 Carl Zeiss Multisem Gmbh Multi-beam charged particle system
JP2022522419A (ja) 2019-02-28 2022-04-19 ラム リサーチ コーポレーション 側壁洗浄によるイオンビームエッチング
JP7175798B2 (ja) 2019-03-01 2022-11-21 株式会社荏原製作所 荷電粒子マルチビーム装置
US11410830B1 (en) 2019-03-23 2022-08-09 Kla Corporation Defect inspection and review using transmissive current image of charged particle beam system
WO2020200745A1 (en) 2019-03-29 2020-10-08 Asml Netherlands B.V. Multi-beam inspection apparatus with single-beam mode
US11099482B2 (en) 2019-05-03 2021-08-24 Ims Nanofabrication Gmbh Adapting the duration of exposure slots in multi-beam writers
DE102019004124B4 (de) 2019-06-13 2024-03-21 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenstrahl-System zur azimutalen Ablenkung von Einzel-Teilchenstrahlen sowie seine Verwendung und Verfahren zur Azimut-Korrektur bei einem Teilchenstrahl-System
GB201910880D0 (en) * 2019-07-30 2019-09-11 Vg Systems Ltd A spectroscopy and imaging system
DE102019005362A1 (de) 2019-07-31 2021-02-04 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Vielzahl-Teilchenstrahlsystems unter Veränderung der numerischen Apertur, zugehöriges Computerprogrammprodukt und Vielzahl-Teilchenstrahlsystem
DE102019005364B3 (de) 2019-07-31 2020-10-08 Carl Zeiss Multisem Gmbh System-Kombination eines Teilchenstrahlsystem und eines lichtoptischen Systems mit kollinearer Strahlführung sowie Verwendung der System-Kombination
US11639846B2 (en) 2019-09-27 2023-05-02 Honeywell International Inc. Dual-pattern optical 3D dimensioning
US10923313B1 (en) * 2019-10-17 2021-02-16 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Charged particle beam device and method of operating a charged particle beam device
WO2021078352A1 (en) * 2019-10-21 2021-04-29 Applied Materials Israel Ltd. Method for inspecting a specimen and charged particle beam device
DE102019008249B3 (de) * 2019-11-27 2020-11-19 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenstrahl-System mit einer Multistrahl-Ablenkeinrichtung und einem Strahlfänger, Verfahren zum Betreiben des Teilchenstrahl-Systems und zugehöriges Computerprogrammprodukt
US11120965B2 (en) * 2019-12-04 2021-09-14 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Beam blanking device for a multi-beamlet charged particle beam apparatus
CA3163655A1 (en) 2020-01-06 2021-07-15 Marco Jan-Jaco Wieland Charged particle assessment tool, inspection method
US10903044B1 (en) * 2020-02-12 2021-01-26 Applied Materials Israel Ltd. Filling empty structures with deposition under high-energy SEM for uniform DE layering
JP7423804B2 (ja) * 2020-03-05 2024-01-29 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． マルチビーム検査システム用のビーム・アレイ・ジオメトリ最適化装置
DE102020107738B3 (de) 2020-03-20 2021-01-14 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenstrahl-System mit einer Multipol-Linsen-Sequenz zur unabhängigen Fokussierung einer Vielzahl von Einzel-Teilchenstrahlen, seine Verwendung und zugehöriges Verfahren
KR20210132599A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 아이엠에스 나노패브릭케이션 게엠베하 대전 입자 소스
DE102020115183A1 (de) 2020-06-08 2021-12-09 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenstrahlsystem mit Multiquellensystem
DE102020121132B3 (de) 2020-08-11 2021-09-23 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Vielzahl-Teilchenstrahlsystems mit einem Spiegel-Betriebsmodus und zugehöriges Computerprogrammprodukt
DE102020123567A1 (de) 2020-09-09 2022-03-10 Carl Zeiss Multisem Gmbh Vielzahl-Teilchenstrahl-System mit Kontrast-Korrektur-Linsen-System
DE102021105201A1 (de) 2021-03-04 2022-09-08 Carl Zeiss Multisem Gmbh Vielzahl-Teilchenstrahlmikroskop und zugehöriges Verfahren mit schnellem Autofokus mit speziellen Ausführungen
DE102020125534B3 (de) 2020-09-30 2021-12-02 Carl Zeiss Multisem Gmbh Vielzahl-Teilchenstrahlmikroskop und zugehöriges Verfahren mit schnellem Autofokus um einen einstellbaren Arbeitsabstand
TW202220012A (zh) 2020-09-30 2022-05-16 德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司 在可調工作距離附近具快速自動對焦之多重粒子束顯微鏡及相關方法
DE102021200799B3 (de) 2021-01-29 2022-03-31 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren mit verbesserter Fokuseinstellung unter Berücksichtigung eines Bildebenenkipps in einem Vielzahl-Teilchenstrahlmikroskop
EP4095882A1 (de) 2021-05-25 2022-11-30 IMS Nanofabrication GmbH Musterdatenverarbeitung für programmierbare direktschreibgeräte
DE102021205394B4 (de) 2021-05-27 2022-12-08 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren zum Betrieb eines Vielstrahlmikroskops mit an eine Inspektionsstelle angepassten Einstellungen
TW202312205A (zh) 2021-05-27 2023-03-16 德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司 多重射束帶電粒子系統與在多重射束帶電粒子系統中控制工作距離的方法
EP4356413A1 (de) 2021-06-16 2024-04-24 Carl Zeiss MultiSEM GmbH Verzerrungsoptimiertes mehrstrahliges abtastsystem
DE102021116969B3 (de) 2021-07-01 2022-09-22 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren zur bereichsweisen Probeninspektion mittels eines Vielstrahl-Teilchenmikroskopes, Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop zur Halbleiterprobeninspektion
DE102021118561B4 (de) 2021-07-19 2023-03-30 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskopes mit schneller Strahlstromregelung, Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop
DE102021118684A1 (de) 2021-07-20 2023-01-26 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren zur Analyse von Störeinflüssen bei einem Vielstrahl-Teilchenmikroskop, zugehöriges Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop
DE102021119008A1 (de) 2021-07-30 2023-02-02 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren zur Defekterkennung in einer Halbleiterprobe bei Probenbildern mit Verzeichnung
DE102021124099B4 (de) 2021-09-17 2023-09-28 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops in einem Kontrast-Betriebsmodus mit defokussierter Strahlführung, Computerprogramprodukt und Vielstrahlteilchenmikroskop
DE102022104535B4 (de) 2022-02-25 2024-03-21 Carl Zeiss Multisem Gmbh Vielstrahl-Teilchenmikroskop zur Reduktion von Teilchenstrahl-induzierten Spuren auf einer Probe
WO2023197125A1 (zh) * 2022-04-12 2023-10-19 华为技术有限公司 用于减小散焦距离defocus的静电透镜
DE102022114098A1 (de) 2022-06-03 2023-12-14 Carl Zeiss Multisem Gmbh Vielstrahl-Teilchenmikroskop mit verbesserter Justage und Verfahren zum Justieren des Vielstrahl-Teilchenmikroskops sowie Computerprogrammprodukt
WO2023237225A1 (en) 2022-06-10 2023-12-14 Carl Zeiss Multisem Gmbh Multi-beam charged particle imaging system with improved imaging of secondary electron beamlets on a detector
DE102022114923A1 (de) 2022-06-14 2023-12-14 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenmikroskops, Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop
WO2023247067A1 (en) 2022-06-23 2023-12-28 Carl Zeiss Multisem Gmbh Multi-beam system and multi-beam forming unit with reduced sensitivity to secondary radiation
WO2024013145A1 (en) * 2022-07-15 2024-01-18 Asml Netherlands B.V. Method and system for fine focusing secondary beam spots on detector for multi-beam inspection apparatus
DE102022120496A1 (de) 2022-08-12 2024-02-15 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenoptische Anordnung, insbesondere Vielstrahl-Teilchenmikroskop, mit einer Magnetanordnung zum Separieren eines primären und eines sekundären teilchenoptischen Strahlenganges
DE102022124933A1 (de) 2022-09-28 2024-03-28 Carl Zeiss Multisem Gmbh Vielstrahl-Teilchenmikroskop mit verbessertem Strahlrohr
WO2024099587A1 (en) 2022-11-10 2024-05-16 Carl Zeiss Multisem Gmbh Multi-beam charged particle imaging system with reduced charging effects
DE102022131862A1 (de) 2022-12-01 2024-06-06 Carl Zeiss Multisem Gmbh Vielstrahl-Teilchenmikroskop umfassend eine Aberrationskorrektureinheit mit Geometrie-basierten Korrekturelektroden und Verfahren zum Einstellen der Aberrationskorrektur sowie Computerprogrammprodukt
WO2024153792A1 (en) 2023-01-19 2024-07-25 Carl Zeiss Multisem Gmbh Fast closed-loop control of multi-beam charged particle system
WO2024156469A1 (en) 2023-01-25 2024-08-02 Carl Zeiss Multisem Gmbh Multi-beam particle microscope with improved multi-beam generator for field curvature correction and multi-beam generator
DE102023101774A1 (de) 2023-01-25 2024-07-25 Carl Zeiss Multisem Gmbh Verfahren zum Auslegen eines Vielstrahl-Teilchenstrahlsystems mit monolithischen Bahnverlaufskorrekturplatten, Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem
CN116435163A (zh) * 2023-06-12 2023-07-14 广东省科学院半导体研究所 多电子束场曲校正模块及电子束光柱体

Family Cites Families (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3800176A (en) * 1972-01-14 1974-03-26 Rca Corp Self-converging color image display system
BE793992A (fr) * 1972-01-14 1973-05-02 Rca Corp Tube a rayons cathodiques
GB1420803A (en) * 1973-06-28 1976-01-14 Ass Elect Ind Electron microscopes
JPS5553853A (en) * 1978-10-17 1980-04-19 Toshiba Corp Electron gun structure
JPS57118357A (en) * 1981-01-14 1982-07-23 Jeol Ltd Objective lens for scan type electron microscope
JPH01102930A (ja) * 1987-10-16 1989-04-20 Hitachi Ltd 電子線描画装置
US5369282A (en) 1992-08-03 1994-11-29 Fujitsu Limited Electron beam exposure method and system for exposing a pattern on a substrate with an improved accuracy and throughput
JP3206143B2 (ja) 1992-10-20 2001-09-04 富士通株式会社 荷電粒子ビーム露光方法
EP0630037B1 (de) * 1992-11-06 1999-02-10 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Bildwiedergabeanordnung
JP3586286B2 (ja) * 1993-12-14 2004-11-10 株式会社東芝 カラー受像管
DE69501144T2 (de) * 1994-04-12 1998-06-04 Philips Electronics Nv Teilchenoptisches gerät mit einem sekondärelektronen detektor
US5483074A (en) * 1995-01-11 1996-01-09 Litton Systems, Inc. Flood beam electron gun
JP2914264B2 (ja) * 1996-01-16 1999-06-28 日本電気株式会社 電子ビーム描画方法
US5830612A (en) * 1996-01-24 1998-11-03 Fujitsu Limited Method of detecting a deficiency in a charged-particle-beam exposure mask
US5892224A (en) * 1996-05-13 1999-04-06 Nikon Corporation Apparatus and methods for inspecting wafers and masks using multiple charged-particle beams
DE19738070A1 (de) * 1997-09-01 1999-03-04 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Energiefilter, insbesondere für ein Elektronenmikroskop
JP2000064100A (ja) * 1998-08-24 2000-02-29 Hitachi Ltd 鋼帯の脱スケ−ル装置及び鋼帯の製造装置
US6252412B1 (en) * 1999-01-08 2001-06-26 Schlumberger Technologies, Inc. Method of detecting defects in patterned substrates
EP1091383A3 (de) * 1999-10-07 2005-01-19 Lucent Technologies Inc. Elektronenstrahl-Abbildungsgerät
JP4947842B2 (ja) * 2000-03-31 2012-06-06 キヤノン株式会社 荷電粒子線露光装置
EP1150327B1 (de) * 2000-04-27 2018-02-14 ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Mehrstrahl Ladungsträgerstrahlvorrichtung
JP3728217B2 (ja) * 2000-04-27 2005-12-21 キヤノン株式会社 荷電粒子線露光装置およびデバイス製造方法
EP1296351A4 (de) * 2000-06-27 2009-09-23 Ebara Corp Untersuchungsvorrichtung für geladene teilchenstrahlen und verfahren zur herstellung eines bauelements mit dieser untersuchungsvorrichtung
EP2365512A3 (de) * 2000-06-27 2012-01-04 Ebara Corporation Untersuchungsvorrichtung mit geladenen teilchenstrahlen
JP3993094B2 (ja) * 2000-07-27 2007-10-17 株式会社荏原製作所 シートビーム式検査装置
US6593152B2 (en) * 2000-11-02 2003-07-15 Ebara Corporation Electron beam apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the apparatus
EP1271606A1 (de) * 2000-11-02 2003-01-02 Ebara Corporation Elektronenstrahlgerät und verfahren zur herstellung von bauteilen mittels solchem gerät
WO2002040980A1 (fr) * 2000-11-17 2002-05-23 Ebara Corporation Procede et instrument d'inspection de tranches, et appareil a faisceau electronique
US7095022B2 (en) * 2000-12-12 2006-08-22 Ebara Corporation Electron beam apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the apparatus
US6799971B2 (en) 2001-01-23 2004-10-05 Fritz W. Healy Laser frequency modulation tactical training system
JP4647820B2 (ja) * 2001-04-23 2011-03-09 キヤノン株式会社 荷電粒子線描画装置、および、デバイスの製造方法
TW579536B (en) * 2001-07-02 2004-03-11 Zeiss Carl Semiconductor Mfg Examining system for the particle-optical imaging of an object, deflector for charged particles as well as method for the operation of the same
US20030132382A1 (en) 2001-12-18 2003-07-17 Sogard Michael R. System and method for inspecting a mask
US6853143B2 (en) * 2002-01-09 2005-02-08 Ebara Corporation Electron beam system and method of manufacturing devices using the system
US6768125B2 (en) * 2002-01-17 2004-07-27 Ims Nanofabrication, Gmbh Maskless particle-beam system for exposing a pattern on a substrate
US6856081B2 (en) * 2002-07-09 2005-02-15 Communications & Power Industries, Inc. Method and apparatus for magnetic focusing of off-axis electron beam
DE10230929A1 (de) * 2002-07-09 2004-01-29 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Verfahren zum elektronenmikroskopischen Beobachten einer Halbleiteranordnung und Vorrichtung hierfür
DE10237135A1 (de) * 2002-08-13 2004-02-26 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Teilchenoptische Vorrichtung und Verfahren zum Betrieb derselben
JP5053514B2 (ja) * 2002-10-30 2012-10-17 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． 電子ビーム露光システム
JP2004207385A (ja) * 2002-12-24 2004-07-22 Rohm Co Ltd マスク、その製造方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法
WO2004081910A2 (en) 2003-03-10 2004-09-23 Mapper Lithography Ip B.V. Apparatus for generating a plurality of beamlets
EP1463087B1 (de) * 2003-03-24 2010-06-02 ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik Mbh Ladungsträgerstrahlvorrichtung
DE10317894B9 (de) * 2003-04-17 2007-03-22 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Fokussiersystem für geladene Teilchen, Elektronenmikroskopiesystem und Elektronenmikroskopieverfahren
US7012251B2 (en) * 2003-05-22 2006-03-14 Ebara Corporation Electron beam apparatus, a pattern evaluation method and a device manufacturing method using the electron beam apparatus or pattern evaluation method
CN100543920C (zh) * 2003-05-28 2009-09-23 迈普尔平版印刷Ip有限公司 带电粒子小射束曝光系统
JP4459568B2 (ja) * 2003-08-06 2010-04-28 キヤノン株式会社 マルチ荷電ビームレンズおよびそれを用いた荷電ビーム露光装置
EP1668662B1 (de) 2003-09-05 2012-10-31 Carl Zeiss SMT GmbH Optische partikelsysteme und anordnungen und optische partikelkomponenten für solche systeme und anordnungen
GB2408383B (en) * 2003-10-28 2006-05-10 Ims Nanofabrication Gmbh Pattern-definition device for maskless particle-beam exposure apparatus
US7425703B2 (en) * 2004-02-20 2008-09-16 Ebara Corporation Electron beam apparatus, a device manufacturing method using the same apparatus, a pattern evaluation method, a device manufacturing method using the same method, and a resist pattern or processed wafer evaluation method
US7420164B2 (en) * 2004-05-26 2008-09-02 Ebara Corporation Objective lens, electron beam system and method of inspecting defect
US7491941B2 (en) * 2005-08-04 2009-02-17 Neurophysics Corporation Scanning focal point apparatus
EP1941528B9 (de) 2005-09-06 2011-09-28 Carl Zeiss SMT GmbH Teilchenoptische Anordnung mit teilchenoptischer Komponente
DE602005013134D1 (de) * 2005-10-28 2009-04-16 Zeiss Carl Sms Gmbh Belichtungssystem mit einem geladenen teilchenstrahl

Also Published As

Publication number Publication date
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