JP4994151B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents

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Description

本発明は、試料室に収納した試料に電子線を照射し、試料像の観察、または、分析を行う透過型電子顕微鏡(TEM)等の荷電粒子線装置に関し、特に、試料をガス雰囲気内において該試料と該ガスとの反応の過程を観察することができる荷電粒子線装置に関する。
透過型電子顕微鏡(TEM)等の荷電粒子線装置においては、試料を雰囲気ガス中に置き、その場で動的に観察すること、いわゆる「その場観察」が要求されることがある。例えば、触媒研究の分野では、触媒粒子が触媒反応ガスと反応して変化していく過程を動的に観察することは触媒の改良に大きな役割を果たす。また、ある材料がガスによってどのように変化していくかを動的に観察することは、例えば、公害ガスによる当該材料の腐食の研究及び材料の改良に役立つものと期待されている。また、生物試料の観察においては、試料を真空中に置くと乾燥してしまうため、所定の雰囲気ガス中に置くことが必要である。
従来、試料をガス雰囲気中に置いて電子顕微鏡により動的に観察しようとする場合には、特許文献1に記載されているように、電子顕微鏡の試料室自体がガス雰囲気チャンバとなされた特殊な構成の電子顕微鏡を用いている。
図6は、荷電粒子線装置の1つである従来の透過形電子顕微鏡(TEM)の鏡筒部分の構成を示す縦断面図である。
鏡筒101は、図6に示すように、略円筒形の外筒102により構成されている。外筒102の内部は必要に応じて隔壁で仕切られており、いわば竹のような構造となっている。鏡筒101の中心軸付近は、電子線103の飛行経路105にあたる部分が、軸方向に連続した空間となっており、真空に排気されている。
鏡筒101の内部には電子源104が設置されている。電子源104からは、電子線103が発せられる。また、鏡筒101内には、磁場、または、電場を利用して電子線103を拡散、収束させる電子レンズである収束レンズ106、対物レンズ107等が内蔵されている。さらに、鏡筒101内には、不要電子の除去や電子線103を成形するための絞り108、絞り108の位置調整をする絞り駆動装置109、観察及び分析の対象となる試料110を載せる台である試料ホルダ111、試料ホルダ111の位置を調整する試料ホルダ駆動装置112などが取り付けられている。
試料ホルダ111の先端側は、鏡筒101内の試料室113中に設置されている。試料室113は、試料110を導入し、観察、分析を行う空間である。この試料室113は、通常は対物レンズ107内に設けられる。
図7は、従来の透過形電子顕微鏡(TEM)の対物レンズ107の構成を示す縦断面図である。
対物レンズ107は、図7に示すように、外筒102内において、ヨーク114、励磁コイル115及び対物レンズポールピース116により構成されている。ヨーク114は、高透磁性材料により形成され、2重の円筒体の上下端を閉蓋するとともに、内側円筒体の上方部分を切り取った形状となっている。ヨーク114の中央には、電子線103が通過するための電子線通過孔117が上下方向に貫通して設けられている。ヨーク114の2重の円筒体の間には、励磁コイル115が収納されている。励磁コイル115は、銅線などの絶縁被覆付き金属線材を円筒状に多数回巻いたものである。
対物レンズポールピース116は、高透磁性材料により、略円筒状に形成されている。この対物レンズポールピース116は、上磁極118及び下磁極119と銅合金などの非磁性材料からなるスペーサー120とを組み合わせて構成されている。上磁極118及び下磁極119は、それぞれ円錐形の頂部を切り落とした形状の突起部分を有している。上磁極118及び下磁極119は、それぞれの突起部分を所定の距離を隔てて対向させている。また、上磁極118及び下磁極119には、それぞれ電子線103が通過するための電子線通過孔121,122が上下方向に貫通している。スペーサー120は、上磁極118及び下磁極119を所定の間隔を隔てて接続させている。対物レンズポールピース116は、ヨーク114の内側円筒体の上方の切り取り部分に嵌合されて設置されている。
透過形電子顕微鏡では、対向する上磁極118と下磁極119との間の試料室113内に、試料110を入れて観察、分析を行う。試料110が設置される位置を試料観察位置123と呼ぶことができる。ヨーク114内において、試料室113の側方位置には、非磁性材料で形成された試料ステージ124が設置されている。試料ステージ124は、外筒102及びヨーク114を貫通して放射状に設置されている。試料ステージ124の外方端側には、接続フランジ125が設けられている。この接続フランジ125には、試料ホルダ駆動装置112や真空排気用配管(図示せず)等が固定されるようになっている。
試料ステージ124には、試料観察位置123に向かって貫通孔126が設けられている。この貫通孔126を介して、試料ホルダ111を導入して試料110を試料観察位置123に持ち込んだり、あるいは、試料観察位置123を真空に排気したりすることができるようになっている。スペーサー120の側面部にも、必要に応じて、試料ホルダ111等のための貫通孔127が設けられている。
なお、対物レンズ107の各構成部品の接続部は、必要な部分がOリング128,129,130,131,132,133によって気密シールされ、試料観察位置123を含む周辺の空間は真空に保持される。この試料観察位置123を含む真空に保持された空間を試料室113という。
この対物レンズ107においては、試料ステージ124の貫通孔126を介して試料室113が真空排気され、また、対物レンズポールピース116上方及び下方の空間も別の真空排気用配管(図示せず)によって真空排気される。この場合の真空配管は、どれも同じ1本の配管から枝分かれしたものである。また、上磁極118及び下磁極119に設けられた電子線通過孔121,122が充分に大きいので、どの部分の真空度もほぼ同じとなる。
図8は、従来の透過形電子顕微鏡(TEM)の対物レンズ107の要部の構成を示す縦断面図である。
さらに、対物レンズ107においては、図8に示すように、上磁極118及び下磁極119の電子線通過孔121,122のそれぞれの上部と下部(試料110に近い位置と遠い位置)に、非磁性金属製円盤の中心に小さな孔をあけた絞り(オリフィス)135,136,137,138を取り付ける場合がある。試料110に近い方の絞りをそれぞれ上第1絞り135及び下第1絞り136、遠い方の絞りを上第2絞り137及び下第2絞り138という。各絞りは、上磁極118及び下磁極119にできるだけ接続部が気密となるように取り付けられており、例えば、導電性接着剤で接着されている。
この場合、上第1絞り135と上第2絞り137との間に形成される空間を上中間室139、下第1絞り136と下第2絞り138との間に形成される空間を下中間室140という。上中間室139は、対物レンズポールピース116より上方の真空空間及び試料室113へは、上第2絞り137及び上第1絞り135に設けられた小さな絞り孔141のみを介してつながっている。同様に、下中間室140は、対物レンズポールピース116より下方の真空空間及び試料室113へは、下第2絞り138及び下第1絞り136に設けられた小さな絞り孔141のみを介してつながっている。
また、上中間室139と下中間室140のそれぞれには、外筒102、ヨーク114、試料ステージ124及びスペーサー120を貫通して、上差動排気管142及び下差動排気管143が接続されている。なお、必要な部分は、Oリング144により気密が保たれている。
この対物レンズ107においては、試料室113を真空引きする排気系は、上中間室139及び下中間室140をそれぞれ真空引きする上差動排気管142及び下差動排気管143とは別系統となっている。さらに、試料室113を真空引きする排気系は、対物レンズポールピース116の上方及び下方の空間を真空引きする排気系とも別系統となっている。また、試料室113、上中間室139、下中間室140及び対物レンズポールピース116上方及び下方の空間との間には、それぞれ絞り孔141があり、気体の出入りが制限されるため、各空間の真空度に圧力差をもたせることができる。したがって、この対物レンズ107では、対物レンズポールピース116の上方及び下方の空間の真空度にほとんど影響を与えることなく、試料室113内へ、試料ステージ124を通じて任意の気体を微量導入することができ、任意の気体環境下で試料110の観察、分析を行うことができる。
特開2003−187735公報
ところで、前述のような荷電粒子線装置においては、上第1絞り135及び下第1絞り136の交換が困難であるという問題がある。すなわち、上第1絞り135及び下第1絞り136は、絞り孔141の口径変更や、荷電粒子線により汚れた場合には、交換する必要がある。しかし、上第1絞り135及び下第1絞り136は、それぞれ上磁極118及び下磁極119の試料室113側に接着等の方法によって固定されているため、鏡筒101を分解するなどして対物レンズポールピース116を取り出さなければ、交換することができない。そのため、交換が困難であるのみならず、検鏡中の上第1絞り135及び下第1絞り136の位置調整及び孔径変更ができないという問題もある。
また、前述の荷電粒子線装置においては、上第1絞り135及び下第1絞り136の取り付け位置の精度を維持することが困難であるという問題がある。すなわち、上第1絞り135及び下第1絞り136は、それぞれ対物レンズポールピース116を鏡筒101から取り出した状態で固定するため、鏡筒101に組み込んだ状態での位置を予め確認して位置決めすることが困難である。
さらに、この荷電粒子線装置においては、上第1絞り135及び下第1絞り136は、常時電子線103通路上に設置されているため、これら絞り135,136を用いない方法での装置使用が困難であるという問題がある。すなわち、上第1絞り135及び下第1絞り136を取り外す必要がある場合には、鏡筒101を分解するなどして対物レンズポールピース116を取り出さなければならない。
そこで、本発明は、前述の実情に鑑みて提案されるものであり、本発明の目的は、透過型電子顕微鏡(TEM)等の荷電粒子線装置において、試料室の上下(電子線の入射側及び出射側)に設置される絞り(オリフィス)の口径変更、交換、着脱が容易に行えるようになされた荷電粒子線装置を提供することにある。
本発明に係る荷電粒子線装置は、鏡筒内に構成された試料室内の差動排気を行い該試料室に収納した試料に電子線を照射し、試料像の観察、または、分析を行う荷電粒子線装置であって、上述の課題を解決するため、試料室の電子線入射側及び電子線出射側に配置されそれぞれ電子線通過孔を有し試料室を構成する上下磁極と、複数の孔を有する金属箔、または、金属板からなり料室の電子線射側に配置された磁極の電子線通過孔の試料室内に臨む開口端を覆って配置された絞りと、絞りを磁極に対して押圧させて支持するとともに鏡筒の外部における操作により絞りの磁極に対する押圧を解除する押圧機構と、鏡筒の外部における操作により絞りを電子線の行路に対する直交方向にスライド操作する絞り操作機構と、複数の孔を有する金属箔、または、金属板からなり試料室の電子線出射側に配置された下磁極の電子線通過孔の試料室内に臨む開口端を覆って配置された下絞りと、下絞りを下磁極に対して押圧させて支持するとともに鏡筒の外部における操作により下絞りの下磁極に対する押圧を解除する押圧機構と、鏡筒の外部における操作により下絞りを電子線の行路に対する直交方向にスライド操作する下絞り操作機構と、上磁極の電子線通過孔に配置された上第2絞りと、下磁極の電子線通過孔に配置された下第2絞りと、上絞りと上第2絞りとの間を排気する手段と、下絞りと下第2絞りとの間を排気する手段と、試料室を排気する手段と、試料室にガスを供給する手段とを備えたことを特徴とするものである。
本発明に係る荷電粒子線装置においては、複数の孔を有する金属箔、または、金属板からなり料室の電子線射側に配置された磁極の電子線通過孔の試料室内に臨む開口端を覆って配置された絞り、及び、複数の孔を有する金属箔、または、金属板からなり試料室の電子線出射側に配置された下磁極の電子線通過孔の試料室内に臨む開口端を覆って配置された下絞りは、鏡筒の外部における操作により、押圧機構による磁極に対する押圧を解除され、絞り操作機構及び下絞り操作機構により電子線の行路に対する直交方向にスライド操作されるので、試料室内の真空を破ることなく、電子線通過孔を絞る状態と開放する状態とを選択することができる。すなわち、試料室内を真空とする状態と、試料室内を所定の気体雰囲気とする状態とを、鏡筒の外部における操作により切替えることができる。
また、この荷電粒子線装置においては、鏡筒の外部における操作により、絞り及び下絞りにおける複数の孔を選択し、差動排気時のコンダクタンス調整が行えるとともに、絞り及び下絞りが汚れた場合の交換(孔の切換え)も行うことができる。さらに、この荷電粒子線装置においては、鏡筒の外部における操作により、絞り及び下絞りの位置調整を高精度に行うことができる。
また、この荷電粒子線装置においては、絞り及び下絞りが絞り操作機構及び下絞り操作機構によって支持されているため、鏡筒を分解することなく、絞り及び下絞りを鏡筒外へ取り出すことができる。
すなわち、本発明は、透過型電子顕微鏡(TEM)等の荷電粒子線装置において、試料室の上下(電子線の入射側及び出射側)に設置される絞り及び下絞り(オリフィス)の口径変更、交換、着脱が容易に行えるようになされた荷電粒子線装置を提供することができるものである。
以下、図面を参照しながら本発明の最良の実施の形態について説明する。
〔第1の実施の形態〕
本発明に係る荷電粒子線装置は、透過型電子顕微鏡(TEM)等として構成され、試料室内を差動排気することにより、試料を所定の雰囲気ガス中に置き、その場で動的に試料像を観察することが可能な装置である。この実施の形態は、本発明に係る荷電粒子線装置を、透過型電子顕微鏡(TEM)として構成したものである。
この荷電粒子線装置は、前述の図6に示した従来の荷電粒子線装置と同様に、鏡筒101を有している。この鏡筒101は、図6に示すように、略円筒形の外筒102により構成されている。外筒102の内部は必要に応じて隔壁で仕切られており、いわば竹のような構造となっている。鏡筒101の中心軸付近は、電子線103の飛行経路105にあたる部分が、軸方向に連続した空間となっており、真空に排気される。
鏡筒101の内部には電子源104が設置されている。電子源104からは、電子線103が発せられる。また、鏡筒101内には、磁場、または、電場を利用して電子線103を拡散、収束させる電子レンズである収束レンズ106及び対物レンズ107が内蔵されている。さらに、鏡筒101内には、不要電子の除去や電子線103を成形するための絞り108、絞り108の位置調整をする絞り駆動装置109、観察及び分析の対象となる試料110を載せる台である試料ホルダ111が取り付けられている。
試料ホルダ111の先端側は、鏡筒101内の試料室113中に設置されている。試料室113は、試料110を導入し、観察、分析を行う空間である。この試料室113は、対物レンズ107内に設けられる。
図1は、本発明に係る荷電粒子線装置の要部の構成を示す縦断面図である。
対物レンズ107は、図1に示すように、外筒102内において、ヨーク14、励磁コイル15及び対物レンズポールピース16により構成されている。ヨーク14は、高透磁性材料により形成され、2重の円筒体の上下端を閉蓋するとともに、内側円筒体の上方部分を切り取った形状となっている。ヨーク14の中央には、電子線103が通過するための電子線通過孔17が上下方向に貫通して設けられている。ヨーク14の2重の円筒体の間には、励磁コイル15が収納されている。励磁コイル15は、銅線などの絶縁被覆付き金属線材を円筒状に多数回巻いたものである。
対物レンズポールピース16は、高透磁性材料により、略円筒状に形成されている。この対物レンズポールピース16は、上磁極18及び下磁極19と銅合金などの非磁性材料からなるスペーサー20とを組み合わせて構成されている。上磁極18及び下磁極19は、それぞれ円錐形の頂部を切り落とした形状の突起部分を有している。上磁極18及び下磁極19は、それぞれの突起部分を所定の距離を隔てて対向させている。また、上磁極18及び下磁極19には、それぞれ電子線103が通過するための電子線通過孔21,22が上下方向に貫通している。スペーサー20は、上磁極18及び下磁極19を所定の間隔を隔てて接続させている。対物レンズポールピース16は、ヨーク14の内側円筒体の上方の切り取り部分に嵌合されて設置されている。
透過形電子顕微鏡では、対向する上磁極18と下磁極19との間の試料室113内に、試料110を入れて観察、分析を行う。ヨーク14内において、試料室113の側方位置には、非磁性材料で形成された試料ステージ24が設置されている。試料ステージ24は、外筒102及びヨーク14を貫通して放射状に設置されている。試料ステージ24の外方端側には、接続フランジ25が設けられている。この接続フランジ25には、試料ホルダ駆動装置112や真空排気用配管(図示せず)等が固定されるようになっている。
試料ステージ24には、試料室113に向かって貫通孔26が設けられている。この貫通孔26を介して、試料ホルダ111を導入して試料110を試料室113内に導入したり、また、試料室113内を真空に排気したりすることができるようになっている。スペーサー20の側面部にも、試料ホルダ111のための貫通孔27が設けられている。
なお、対物レンズ107の各構成部品の接続部は、必要な部分がOリングによって気密シールされ、試料室113を含む周辺の空間は真空に保持される。
この対物レンズ107においては、試料ステージ24の貫通孔26を介して試料室113が真空排気され、また、対物レンズポールピース16上方及び下方の空間も、後述する別の真空排気用配管によって真空排気される。この場合の真空配管は、どれも同じ1本の配管から枝分かれしたものである。また、上磁極18及び下磁極19に設けられた電子線通過孔21,22が充分に大きいので、どの部分の真空度もほぼ同じとなる。
図2は、本発明に係る荷電粒子線装置の試料室の構成を示す縦断面図である。
この対物レンズ107において、図2に示すように、対物レンズポールピース16の上磁極18及び下磁極19の試料110に対向する側の平面部を、それぞれ上磁極頂面45及び下磁極頂面46という。上磁極頂面45には、押圧機構を構成する上絞り押圧板48が密着して配設されている。この上絞り押圧板48は、非磁性金属材料により、平板状に形成されている。この上絞り押圧板48には、上磁極18の電子線通過孔21に相当する部分に、電子線通過孔47が設けられている。上絞り押圧板48の電子線通過孔47は、透過形電子顕微鏡を通常使用する場合に支障がない十分な大きさとなっている。上絞り押圧板48の上磁極頂面45に密着する平面より外側には、上方に延びる一対の取っ手状部49が形成されており、その側面には、上第1絞り35が挿入されるための横長摺り割(スリット)状の上第1絞り挿入穴50が開口されている。
上絞り押圧板48の取っ手状部49は、押圧機構を構成する2対の引っ張りばね51を介して、上磁極18上部付近でスペーサー20に接続されている。上絞り押圧板48は、引っ張りばね51の引張り力により、上磁極頂面45に押圧、密着されている。
また、上絞り押圧板48の取っ手状部49とスペーサー20との間には、動作中であっても電場や磁場をほとんど発生しないように、例えば、圧電素子を応用した押圧機構を構成する1対の駆動体(アクチュエータ)52が設置されている。上絞り押圧板48は、駆動体52の非動作時には、上磁極頂面45に押圧、密着された状態を維持しており、駆動体52動作時には、駆動体52の一端が取っ手状部49を押し下げることにより、上磁極頂面45への押圧、密着状態から開放され、上磁極頂面45との間にわずかな隙間を形成するようになっている。なお、駆動体52の動作は、前記と逆方向とすることもできる。引っ張りばね51や駆動体52を構成する材料は、対物レンズ107によって形成される磁界や電子線103に影響を与えない程度の弱磁性材、または、非磁性材で、かつ、導電材であることが好ましい。
下磁極19についても、上磁極18と同様の構成が、試料110を挟んで対称に構成されている。すなわち、下磁極19の下磁極頂面46にも、下絞り押圧板48が密着して配設されている。
図3は、本発明に係る荷電粒子線装置における第1絞りの構成を示す平面図である。
そして、上磁極頂面45と上絞り押圧板48との間には、上第1絞り35が挟持され、下磁極頂面46と下絞り押圧板48との間には、下第1絞り36が挟持されている。これら上下第1絞り35,36は、図3に示すように、それぞれ複数の絞り孔41を有して短冊状に形成され、上第1絞り挿入穴50から、上下磁極頂面45,46と上下絞り押圧板48との間に挿入されている。上下第1絞り35,36は、非磁性金属箔、または、金属板で形成されている。これら上下第1絞り35,36の複数の絞り孔41は、長手方向中心線に沿って形成されている。複数の絞り孔41のうちの1個は、上下絞り押圧板48の電子線通過孔47と同程度の大きさとしておき、開放孔として使用する。残りの絞り孔41の大きさは任意であり、上下絞り押圧板48の電子線通過孔47よりも小径の孔となっている。これら絞り孔41は、所望の条件に合わせて、数種類の孔径を選定し、加工しておくことができる。
なお、引っ張りばね51、駆動体52及び上下第1絞り35,36は、試料ホルダ111がその軸回りに回転して傾く動作を妨げないように、試料ホルダ111の軸線上になるべく接近させて配置することが好ましい。
上下第1絞り35,36は、図1に示すように、一端側が絞り操作機構となる上下第1絞り位置調整装置54に接続されている。上下第1絞り位置調整装置54は、例えば、ベローズ55のように、気密を保ちながら変形できる部材を介して接続軸56を真空内に導入させており、その先端部が上下第1絞り35,36に接続されている。上下第1絞り位置調整装置54は、接続フランジ25に対して、気密を維持した状態で固定されている。
この荷電粒子線装置においては、上下第1絞り位置調整装置54を筐体101の外方側から操作することにより、図3中矢印Aで示すように、上下第1絞り35,36を電子線103の行路に直交する方向に移動操作し、位置調整を行うことができる。
また、この荷電粒子線装置には、図2に示すように、上下第2絞り37,38が設けられている。上下第2絞り37,38は、円筒状(先端側が開放された管状)に形成された部材であり、上下差動排気管42に挿入されて、上下磁極18,19内に挿入されて設置されている。すなわち、上下差動排気管42は、先端部が閉塞された管状部材であり、上下磁極18,19の側面を貫通して形成された上下磁極排気穴57に挿入されている。これら上下磁極排気穴57は、上下磁極18,19の電子線通過孔21、22と交差している。これら上下差動排気管42と上下磁極18,19との間は、Oリングにより気密が保持されている。上下第2絞り37,38は、これら上下差動排気管42内に挿入されている。
上下差動排気管42の電子線通過孔21,22内となる部分には、透過形電子顕微鏡を通常使用する場合に支障がない十分な大きさの上下差動排気管孔61,62が開口されている。なお、試料室113側となる差動排気管孔62は、なるべく大きな孔とすることが好ましい。
上下第2絞り37,38は、上下磁極18,19内に挿入された先端側が開放され、他端側が閉塞されている。これら上下第2絞り37,38の外径は、上下差動排気管42の内径に最小隙間をもって嵌合され、かつ、上下差動排気管42内で摺動できるように構成されている。上下第2絞り37,38には、上下差動排気管上孔61側(試料室113の反対側)に、絞り孔41が形成されている。また、上下第2絞り37,38には、試料室113側に、上下中間室排気孔63が開口されている。これら上下中間室排気孔63は、なるべく大きな孔とすることが好ましい。
上下第2絞り37,38の閉塞された他端側は、図1に示すように、対物レンズ107の外方側に引き出されており、上下第2絞り位置調整装置64に接続されている。この上下第2絞り位置調整装置64を操作することにより、上下第2絞り37,38の絞り孔41の位置調整が可能となっている。上下第2絞り位置調整装置64は、上下差動排気管42に設けられた接続口65に対し、Oリング66により気密を保持した状態で接続されている。
また、上下差動排気管42の接続口65の近傍は、真空配管68に連続している。上下第2絞り37,38の他端側の側面部には、真空配管68内に開放された排気孔67が設けられている。
なお、上下第2絞り37,38及び上下差動排気管42は、対物レンズ107によって形成される磁界や電子線103に影響を与えない程度の弱磁性材料、または、非磁性材料で、かつ、導電材料で構成することが望ましい。
この荷電粒子線装置を透過形電子顕微鏡として使用する場合には、駆動体52を駆動させ、上下絞り押圧板48を上下磁極頂面45,46から数十μm乃至数百μm程度離間させ、上下第1絞り35,36を開放して移動可能な状態とする。そして、上下第1絞り位置調整装置54を操作して、上下第1絞り35,36の開放孔を上下磁極18,19の電子線通過孔21,22に位置合わせする。この位置合わせの完了後 駆動体52の駆動を解除し、上下絞り押圧板48によって、再び上下第1絞り35,36を上下磁極頂面45,46に固定する。
また、上下第2絞り37,38については、上下第2絞り位置調整装置64を操作して、上下差動排気管42内において、対物レンズ107の外方側に抜ける方向にスライドさせ、先端部が上下磁極18,19の電子線通過孔21,22の外径付近となるまで移動させる。
以上の操作により、上磁極18、下磁極19ともに、電子線通過孔21,22が充分な大きさに開放され、透過形電子顕微鏡としての通常の検鏡方法で使用できるようになる。この場合、上下第1絞り35,36のいずれかを前述と同様の手順により移動操作し、絞り孔41を電子線103の飛行経路105上に移動させれば、この絞り孔41は、電子線103の一部をカットしたり成形したりする通常の絞りの役割を果たすことができる。
次に、気体雰囲気下で試料110を観察、分析する場合には、前述と同様の手順により上下第1絞り35,36を移動操作し、任意の小さな絞り孔41をそれぞれ電子線通過孔21,22上に位置合わせする。このとき、上下第1絞り35,36は、それぞれ上下磁極頂面45,46に対し、絞り押圧板48の平面部によって押圧され密着されるため、大きな排気抵抗(コンダクタンス)をもつことができる。
また、上下第2絞り37,38については、上下第2絞り位置調整装置64を操作して、上下差動排気管42内において、対物レンズ107の内方側に挿入する方向にスライドさせ、絞り孔41が上下磁極18,19の電子線通過孔21,22の中心と合うように位置調整する。
以上の操作により、鏡筒101内の真空部は、図2に示すように、試料室113、上中間室(上第1絞り35と上第2絞り37との間)39、下中間室(下第1絞り36と下第2絞り38との間)40、対物レンズポールピース16より上方の真空室及び下方の真空室に分割され、それぞれが絞り孔41を介して、大きな排気抵抗をもってつながった状態となる。したがって、それぞれの真空室の排気速度を調整することにより、試料室113に微量の任意気体を導入しても、対物レンズポールピース16より上方の真空室及び下方の真空室の真空度をほとんど悪化させることなく、試料110を任意気体雰囲気中で観察、分析することができる。
〔第2の実施の形態〕
本発明に係る荷電粒子線装置においては、上第1絞り35及び下第1絞り36には、柔らかい金属、例えば、金等をメッキするようにしてもよい。この場合には、上第1絞り35及び下第1絞り36と、上磁極頂面45及び下磁極頂面46とのそれぞれの密着性を向上させることができる。
〔第3の実施の形態〕
本発明に係る荷電粒子線装置においては、上第1絞り35及び下第1絞り36に形成される複数の絞り孔41は、全て同径の孔としてもよい。この場合には、導入気体の影響等により、検鏡中に使用していた絞り孔41が汚れてしまった場合には、前述した手順により、次々と絞り孔41を交換(切換え)することができる。
〔第4の実施の形態〕
図4は、本発明に係る荷電粒子線装置の第4の実施の形態における要部の構成を示す縦断面図である。
本発明に係る荷電粒子線装置は、図4に示すように、駆動体52に代えて、駆動軸70を鏡筒101内に斜め上方から導入し、この駆動軸70を介して、ねじ71及びギヤ72によって絞り押圧板48を操作するようにしてもよい。ギヤ72は、鏡筒101の外方側に配置したモータ73等により駆動する。モータ73は、電子線103に影響を与えない程度の距離に鏡筒101から離すことが望ましい。
この場合には、モータ73によりギヤ72を回し、駆動軸70を回転させるとねじ71により駆動軸70が絞り押圧板48を移動操作する。この動作により、絞り押圧板48と磁極頂面45,46との間に隙間が形成され、第1絞り35,36が解放される。逆に、駆動軸70によって絞り押圧板48を磁極頂面45,46側に移動させ、第1絞り35,36を固定することが可能である。
〔第5の実施の形態〕
図5は、本発明に係る荷電粒子線装置の第5の実施の形態における要部の構成を示す縦断面図である。
本発明に係る荷電粒子線装置は、図5に示すように、第2絞り37を対物レンズ107の上方に、鏡筒101外から斜めに導入するようにしてもよい。この場合には、鏡筒101外に設置され第2絞り37を支持している第2絞り位置調整装置64を操作して、第2絞り37を移動させ、この第2絞り37が電子線通過孔21,22上にある状態と、電子線通過孔21,22から外れた状態とを切替えることができる。
本発明に係る荷電粒子線装置の要部の構成を示す縦断面図である。 本発明に係る荷電粒子線装置の試料室の構成を示す縦断面図である。 本発明に係る荷電粒子線装置における第1絞りの構成を示す平面図である。 本発明に係る荷電粒子線装置の第4の実施の形態における要部の構成を示す縦断面図である。 本発明に係る荷電粒子線装置の第5の実施の形態における要部の構成を示す縦断面図である。 従来の透過形電子顕微鏡(TEM)の鏡筒部分の構成を示す縦断面図である。 従来の透過形電子顕微鏡(TEM)の対物レンズの構成を示す縦断面図である。 従来の透過形電子顕微鏡(TEM)の対物レンズの要部の構成を示す縦断面図である。
符号の説明
14 ヨーク
15 励磁コイル
16 対物レンズポールピース
17 電子線通過孔
18 上磁極
19 下磁極
20 スペーサー
21 電子線通過孔
22 電子線通過孔
24 試料ステージ
25 接続フランジ
26 貫通孔
27 貫通孔
35 上第1絞り
36 下第1絞り
37 上第2絞り
38 下第2絞り
39 上中間室
40 下中間室
41 絞り孔
42 上下差動排気管
45 上磁極頂面
46 下磁極頂面
47 電子線通過孔
48 上絞り押圧板
49 取っ手状部
50 上下第1絞り挿入穴
51 引っ張りばね
52 駆動体
54 上下第1絞り位置調整装置
55 ベローズ
56 接続軸
57 上下磁極排気穴
61 上下差動排気管上孔
62 上下差動排気管下孔
63 上中間室排気孔
64 上第2絞り位置調整装置
65 接続口
67 排気孔
101 鏡筒
102 外筒
103 電子線
104 電子源
105 飛行経路
107 対物レンズ
110 試料
111 試料ホルダ
112 試料ホルダ駆動装置
113 試料室

Claims (1)

  1. 鏡筒内に構成された試料室内の差動排気を行い、該試料室に収納した試料に電子線を照射し、試料像の観察、または、分析を行う荷電粒子線装置であって、
    前記試料室の電子線入射側及び電子線出射側に配置され、それぞれ電子線通過孔を有し、前記試料室を構成する上下磁極と、
    複数の孔を有する金属箔、または、金属板からなり、前記試料室の電子線射側に配置された磁極の前記電子線通過孔の前記試料室内に臨む開口端を覆って配置された絞りと、
    前記絞りを前記磁極に対して押圧させて支持するとともに、前記鏡筒の外部における操作により、前記絞りの前記磁極に対する押圧を解除する押圧機構と、
    前記鏡筒の外部における操作により、前記絞りを前記電子線の行路に対する直交方向にスライド操作する絞り操作機構と
    複数の孔を有する金属箔、または、金属板からなり、前記試料室の電子線出射側に配置された下磁極の前記電子線通過孔の前記試料室内に臨む開口端を覆って配置された下絞りと、
    前記下絞りを前記下磁極に対して押圧させて支持するとともに、前記鏡筒の外部における操作により、前記下絞りの前記下磁極に対する押圧を解除する押圧機構と、
    前記鏡筒の外部における操作により、前記下絞りを前記電子線の行路に対する直交方向にスライド操作する下絞り操作機構と、
    前記上磁極の電子線通過孔に配置された上第2絞りと、
    前記下磁極の電子線通過孔に配置された下第2絞りと、
    前記上絞りと前記上第2絞りとの間を排気する手段と、
    前記下絞りと前記下第2絞りとの間を排気する手段と、
    前記試料室を排気する手段と、
    前記試料室にガスを供給する手段と
    を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1798751A1 (en) * 2005-12-13 2007-06-20 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Protecting aperture for charged particle emitter
JP2009152087A (ja) * 2007-12-21 2009-07-09 Jeol Ltd 透過電子顕微鏡
JP5530664B2 (ja) * 2009-06-19 2014-06-25 日本電子株式会社 電子顕微鏡
JP2013020918A (ja) * 2011-07-14 2013-01-31 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置
DE112015006453B4 (de) 2015-04-14 2023-02-23 Hitachi High-Tech Corporation Vorrichtung mit einem Strahl geladener Teilchen und Probenbeobachtungsverfahren
JP6957998B2 (ja) * 2017-06-07 2021-11-02 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム調整方法
US11164716B2 (en) * 2018-03-29 2021-11-02 Hitachi High-Tech Corporation Charged particle beam device
IT201800007349A1 (it) 2018-07-19 2020-01-19 Apparecchio multistadio per vuoto con separazione degli stadi controllata da un attuatore in lega a memoria di forma

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51131267A (en) * 1975-05-10 1976-11-15 Hitachi Ltd The exhaustion system of the electronic microscope
JPS6059644A (ja) * 1983-09-09 1985-04-06 Hitachi Ltd 電子顕微鏡用差動排気絞り装置
JPS6086748A (ja) * 1983-10-19 1985-05-16 Hitachi Ltd 電子顕微鏡用雰囲気試料室
JPH0447890Y2 (ja) * 1985-07-12 1992-11-11
JP2003187735A (ja) 2001-12-18 2003-07-04 Jeol Ltd 試料ホルダ
US7253408B2 (en) * 2004-08-31 2007-08-07 West Paul E Environmental cell for a scanning probe microscope
US20060169897A1 (en) * 2005-01-31 2006-08-03 Cascade Microtech, Inc. Microscope system for testing semiconductors
JP4708854B2 (ja) * 2005-05-13 2011-06-22 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
EP2270833A3 (en) * 2005-09-06 2011-01-26 Carl Zeiss SMT AG Particle-optical component
EP1801838B1 (en) * 2005-12-20 2012-05-09 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Charged particle beam emitting device and method for operating a charged particle beam emitting device

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