WO2021001914A1 - 半導体レーザ装置 - Google Patents

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WO2021001914A1
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stem
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chip
laser device
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尚希 小坂
歩 淵田
島田　征明
剛 境野
禎 高瀬
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三菱電機株式会社
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Definitions

  • the present application relates to a semiconductor laser device.
  • a laser diode (Laser Diode: hereinafter abbreviated as LD) chip is mounted on a heat sink of a protrusion vertically protruding from the metal base of the stem (see, for example, Patent Document 1).
  • a semiconductor laser device (see, for example, Patent Document 2) provided with a semiconductor laser element in which laser light is emitted in parallel on a stem and a submount is known.
  • a DC (Direct Current) bias for driving the LD chip and a modulation signal are input.
  • the modulated signal is input to the LD chip via leads, gold wires and submounts, and the LD chip turns the laser beam on and off to follow the on and off of the rectangular modulated signal.
  • the signal input to the LD chip is an ideal square wave
  • the impedance mismatch becomes large due to the parasitic inductance of the lead and wire
  • the modulated optical waveform of the laser beam obtained from the LD chip becomes large.
  • the rise time and fall time become long, and the waveform deteriorates.
  • the degree of optical modulation increases at the frequency fr due to the influence of the relaxation vibration of the semiconductor laser chip, but the degree of optical modulation decreases at a higher modulation frequency.
  • the frequency when the degree of optical modulation is 1.5 dB lower than that at the time of low frequency modulation is fc, the time it takes for the modulated optical waveform to rise from 10% to 90% is tr, and the time it takes for the modulated optical waveform to fall from 90% to 10%.
  • Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-342882 (paragraph 0026, FIG. 1)
  • Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-198934 (paragraph 0022, FIG. 1)
  • the present application discloses a technique for solving the above-mentioned problems, and provides a semiconductor laser device that reduces the use of wires, obtains a good modulated optical waveform, and facilitates chip mounting.
  • the purpose is.
  • a stem as a base, a submount having electrodes provided on the surface thereof and joined to the stem, a semiconductor laser element joined to the electrodes, and the electrodes are connected to each other.
  • a lead fixed by a sealing member is provided in a hole provided in the stem, and a groove is provided around the sealing member or the lead of the submount on the joint surface side between the stem and the submount. It is characterized by being done.
  • the parasitic inductance be reduced and a good modulated optical waveform can be obtained, but also the chip can be easily mounted.
  • FIG. It is a top view which shows the structure of the semiconductor laser apparatus according to Embodiment 1.
  • FIG. It is sectional drawing which shows the structure of the semiconductor laser apparatus according to Embodiment 1.
  • FIG. It is sectional drawing which shows the structure of the semiconductor laser apparatus according to Embodiment 1.
  • FIG. It is a figure for demonstrating the process of mounting the submount used for the semiconductor laser apparatus according to Embodiment 1.
  • FIG. It is a top view which shows the structure of the semiconductor laser apparatus by Embodiment 2.
  • FIG. It is sectional drawing which shows the structure of the semiconductor laser apparatus by Embodiment 2.
  • Embodiment 3. It is a top view which shows the structure of the semiconductor laser apparatus by Embodiment 3.
  • FIG. It is sectional drawing which shows the structure of the semiconductor laser apparatus by Embodiment 3.
  • FIG. It is sectional drawing which shows the structure of the semiconductor laser apparatus by Embodiment 3.
  • FIG. It is a top view which shows the structure of the semiconductor laser apparatus by Embodiment 4.
  • FIG. It is sectional drawing which shows the structure of the semiconductor laser apparatus by Embodiment 4.
  • FIG. It is a top view which shows the structure of the semiconductor laser apparatus according to Embodiment 5.
  • FIG. 1 is a top view showing the configuration of the semiconductor laser device 101 according to the first embodiment of the present application.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.
  • the semiconductor laser device 101 is fixed to the stem 1 as a base material, the LD submount 2 provided on the surface of the stem 1, and the holes 1a and 1b formed in the stem 1, respectively.
  • LD chip 4 which is a semiconductor laser element bonded to the surface of the surface electrode 20a of the above, a gold wire 5 connecting the surface electrode of the LD chip 4 and the surface electrode 20b of the LD submount 2, and a laser emitted from the LD chip 4. It is composed of a mirror 6 that reflects light.
  • the stem 1 is a base material of the semiconductor laser device 101, and holes 1a and 1b for passing the leads 3a and 3b are formed, and the leads 3a and 3b are sealed members 10a such as glass inside the holes 1a and 1b. Fix with 10b.
  • the LD submount 2 is mounted on the stem 1 using solder, the LD chip 4 is mounted on the surface electrode 20a, and the surface electrode of the LD chip 4 and the surface electrode 20b are connected by a gold wire 5. ..
  • the front surface electrodes 20a and 20b of the LD submount 2 are connected to the back surface electrodes 22a and 22b via the embedded layers 21a and 21b of the hearing holes 2c and 2d, respectively.
  • the leads 3a and 3b are fixed to the inside of the holes 1a and 1b of the stem 1 by using sealing members 10a and 10b such as glass, respectively.
  • the upper end surfaces of the leads 3a and 3b are flush with the upper surface of the stem 1, and the back surface electrodes 22a and 22b of the LD submount 2 and the surface electrodes 20a and 20b via the embedded layers 21a and 21b using solder are used, respectively. Is connected to.
  • the LD chip 4 is bonded to the front electrode 20a of the LD submount 2 via the back electrode of the LD chip 4 by using solder or the like.
  • the surface electrode of the LD chip 4 is connected to the surface electrode 20b of the LD submount 2 by a gold wire 5.
  • the mirror 6 is mounted on the upper surface of the stem 1 and reflects the laser beam emitted from the LD chip 4 to take out the mirror 6 in the direction perpendicular to the upper surface of the stem 1.
  • the mirror may be an optical component such as a prism, or a photodiode (Photodiode: hereinafter abbreviated as PD) chip having a highly reflective film formed therein.
  • PD photodiode
  • the front surface electrodes 20a and 20b of the LD submount 2 connected to the LD chip 4 and the back surface electrodes 22a and 22b are electrically connected to each other via the embedded layers 21a and 21b of the via holes 2c and 2d, respectively.
  • the stem 1 is provided with counterbore portions 1az and 1bz on the opposite sides to the LD submount 2, respectively.
  • groove portions 10ad and 10bd are provided around the leads 3a and 3b on the facing surface of the sealing members 10a and 10b at 1az and 1bz with the LD submount 2. Further, the back surface electrodes 22, 22a and 22b are not formed in the regions 2a and 2b of the LD submount 2 facing the sealing members 10a and 10b.
  • FIG. 4 is a bottom view (FIG. 4A) showing the configuration of the LD submount 2 used in the semiconductor laser device 101 according to the first embodiment, and a cross-sectional view of the stem 1 to which the leads 3a and 3b are fixed (FIG. 4B). )).
  • the leads 3a and 3b and the back electrode 22a and 22b, respectively, and the stem 1 and the back electrode 22 are joined by using solder.
  • the stem 1 as a base material and the LD submount 2 provided with the surface electrodes 20a and 20b and bonded to the surface of the stem 1 , Electrically connected to the surface electrodes 20a and 20b via the LD chip 4 bonded to the surface electrode 20a and connected to the surface electrode 20b and the embedded layers 21a and 21b in the via holes 2c and 2d provided in the LD submount 2.
  • the holes 1a and 1b provided in the stem 1 are provided with leads 3a and 3b fixed by sealing members 10a and 10b, and the sealing member on the joint surface side between the stem 1 and the LD submount 2 is provided.
  • the grooves 10ad and 10bd are provided around the connection between the leads 3a and 3b of the 10a and 10b or the LD submount 2 and the embedded layers 21a and 21b, a long lead having a large parasitic inductance like a conventional semiconductor laser device is provided. By reducing the use of wires, it is possible to improve the modulated optical waveform and obtain a good modulated optical waveform. Moreover, the chip can be easily mounted.
  • Embodiment 2 In the first embodiment, the surface electrodes 20a and 20b and the leads 3a and 3b are connected via the embedded layers 21a and 21b in the via holes 2c and 2d, but in the second embodiment, the leads are connected to the surface electrodes 20a and 20b. A case where 3a and 3b are directly contacted and connected will be described.
  • FIG. 5 is a top view showing the configuration of the semiconductor laser device 102 according to the second embodiment of the present application.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.
  • the leads 3a and 3b protrude from the surface of the stem 1, and the LD sub with the two corners of the LD submount 2 used in the first embodiment cut off.
  • the surface electrodes 70a and 70b of the mount 7 are in direct contact with each other and electrically connected with solder without passing through the embedded layer of the hearing hole.
  • the upper ends of the leads 70a and 70b may be widened or thinned as necessary to facilitate soldering.
  • a gold wire or a gold tape may be used instead of the solder.
  • a groove is provided around the sealing members 10a and 10b on the joint surface side between the stem 1 and the LD submount 7 or the leads 3a and 3b of the LD submount 7.
  • the stem 1 as a base material and the LD submount 7 provided with the surface electrodes 70a and 70b and bonded to the surface of the stem 1
  • the LD chip 4 arranged on the surface electrode 70a and connected to the surface electrode 70b is electrically joined in contact with the surface electrodes 70a and 70b
  • the sealing member 10a is formed in the holes 1a and 1b provided in the stem 1.
  • Leads 3a and 3b fixed by 10b are provided, and grooves 10ad are provided around the leads 3a and 3b of the sealing members 10a and 10b or the LD submount 7 on the joint surface side between the stem 1 and the LD submount 7.
  • the modulated light waveform can be improved and a good modulated light waveform can be obtained by reducing the use of a wire having a large parasitic inductance as in a conventional semiconductor laser device. Moreover, the chip can be easily mounted.
  • FIG. 7 is a top view showing another configuration of the semiconductor laser device 102 according to the second embodiment of the present application.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. In this case as well, the same effect as that of the second embodiment can be obtained.
  • Embodiment 3 In the third embodiment, a case where a PD chip for monitoring the output of the laser beam emitted from the LD chip 4 is mounted will be described.
  • FIG. 9 is a top view showing the configuration of the semiconductor laser device 103 according to the third embodiment of the present application.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.
  • the LD chip is installed so as to emit laser light in the direction perpendicular to the stem without using a mirror, and as a method of monitoring the light output, the LD chip is installed in the direction perpendicular to the LD chip (with the stem). Light leaking from the back surface of the LD chip is incident on the PD chip mounted in the parallel direction).
  • the PD chip 9 and the PD submount 8 which are photodiode elements are installed on the rear side of the mirror 6, and the LD chip 4 which has passed through the mirror 6 is used.
  • a part of the emitted laser light is received by the PD chip 9.
  • an electric signal is passed through the gold wire 13, the surface electrode 11 of the relay board 12, the gold wire 14, and the routing pattern 20c that is the surface electrode of the LD submount 2, and the lead 3c. Will be sent to.
  • Other configurations of the semiconductor laser device 103 according to the third embodiment are the same as those of the semiconductor laser device 101 of the first embodiment, and the corresponding parts are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.
  • the PD chip 9 is installed behind the mirror 6 and receives the laser light transmitted through the mirror 6, and the PD chip 9 is an LD sub. It is electrically connected to the lead 3c via the front surface electrode 20c of the mount 2 and the embedded layer 21c and the back surface electrode 22c of the via hole 2e, and the sealing member 10c or LD on the joint surface side of the stem 1 and the LD submount 2 Since the groove portion 10cd is provided around the connection portion between the lead 3c of the submount 2 and the embedded layer 21c, the laser beam emitted from the LD chip is detected by the PD chip and the output of the laser beam of the LD chip is monitored.
  • the modulated optical waveform can be improved and a good modulated optical waveform can be obtained. it can. Moreover, the chip can be easily mounted.
  • the surface electrode 11 of the relay substrate 12 and the routing pattern 20c are connected by a gold wire 14, but the present invention is not limited to this.
  • the relay board and the LD submount may be integrated to form a routing pattern with the surface electrodes of the relay board. In this case as well, the same effect as that of the third embodiment can be obtained.

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Abstract

ベース材としてのステム（１）と、表面電極（２０ａ、２０ｂ）が設けられ、ステム（１）の表面に接合されたＬＤサブマウント（２）と、表面電極（２０ａ）に配置され、表面電極（２０ｂ）に接続されたＬＤチップ（４）と、ＬＤサブマウント（２）に設けられたビアホール（２ｃ、２ｄ）内の埋め込み層（２１ａ、２１ｂ）を介して表面電極（２０ａ、２０ｂ）に電気的に接続され、ステム（１）に設けられた穴（１ａ、１ｂ）に封着部材（１０ａ、１０ｂ）により固定されたリード（３ａ、３ｂ）とを備え、ステム（１）とＬＤサブマウント（２）との接合面側の、封着部（１０ａ、１０ｂ）またはＬＤサブマウント（２）のリード（３ａ、３ｂ）と埋め込み層（２１ａ、２１ｂ）の接続部の周囲に溝部（１０ａｄ、１０ｂｄ）を設け、良好な変調光波形を得る。

Description

半導体レーザ装置
　本願は、半導体レーザ装置に関するものである。
　従来の半導体レーザ装置においては、レーザダイオード（Laser Diode：以下ＬＤと略す）チップはステムの金属ベースに垂直に突出した突起部のヒートシンクに実装されている（例えば、特許文献１参照）。また、ステム上にレーザ光が平行に放射する半導体レーザ素子とサブマウントが備えられている半導体レーザ装置（例えば、特許文献２参照）などが知られている。
　従来の半導体レーザ装置は、ＬＤチップを駆動させるためのＤＣ（Direct Current）バイアスと、変調信号が入力される。変調信号はリード、金ワイヤおよびサブマウントを介してＬＤチップに入力され、ＬＤチップは矩形の変調信号のオンオフに追随するようにレーザ光をオンオフする。この時、ＬＤチップに入力される信号は理想的な矩形波であってもリードおよびワイヤの寄生インダクタンスが原因でインピーダンス不整合が大きくなってしまい、ＬＤチップから得られるレーザ光の変調光波形は立ち上がり時間および立ち下り時間が長くなり波形は劣化してしまう。波形の劣化がひどいと受信側で光信号のオンオフの区別がつかなくなり信号の復調が困難になる。特に、変調周波数が高くなるほどインピーダンス不整合の影響は大きくなり光波形は大きく劣化する。一方、光変調度は半導体レーザチップの緩和振動の影響を受けて周波数ｆｒで大きくなるが、それより高い変調周波数で光変調度は小さくなっていく。光変調度が低周波変調時より１．５ｄＢ低下したときの周波数をｆｃ、変調光波形が１０％から９０％まで立ち上がるのにかかる時間をｔｒ、９０％から１０％まで立ち下がるのにかかる時間をｔｆとすると、ｆｃ、ｔｒおよびｔｆの関係はｔｒ＝ｔｆ＝０．３５／ｆｃで与えられるため、ｆｃが大きいほどｔｒ、ｔｆは小さくなり良好な変調光波形が得られるようになる。変調光波形を改善するためには、寄生インダクタンスを低減してインピーダンス不整合を抑制し、ｆｃを向上することが有効である。
特開２００４－３４２８８２号公報（段落００２６、図１） 特開２００８－１９８９３４号公報（段落００２２、図１）
　寄生インダクタンスを低減するためにはリードおよび金ワイヤの短縮が有効であるが、特許文献１および特許文献２に示すような従来構造では、チップ位置までリードおよびワイヤを伸ばす必要があり、長いリードおよび金ワイヤが変調光波形を劣化させてしまうという問題があった。また、ＬＤチップの位置をステム上面に近づければリードおよびワイヤが短縮化できるが、一般的な半導体レーザ装置の組立装置を用いた場合にはチップ実装時にチップ吸着用コレットとステムが干渉してしまうため実現性に乏しいという問題があった。
　本願は、上記のような課題を解決するための技術を開示するものであり、ワイヤの使用を低減し、良好な変調光波形を得るとともに、チップの実装が容易である半導体レーザ装置を提供することを目的とする。
　本願に開示される半導体レーザ装置は、ベースとしてのステムと、表面に電極が設けられ、前記ステムに接合されたサブマウントと、前記電極に接合された半導体レーザ素子と、前記電極に接続され、前記ステムに設けられた穴に封着部材により固定されたリードとを備え、前記ステムと前記サブマウントとの接合面側の、前記封着部材または前記サブマウントの前記リードの周囲に溝部が設けられたことを特徴とする。
　本願によれば、ワイヤの使用を低減することで、寄生インダクタンスを低減し、良好な変調光波形を得ることができるだけでなく、容易にチップを実装することができる。
実施の形態１による半導体レーザ装置の構成を示す上面図である。 実施の形態１による半導体レーザ装置の構成を示す断面図である。 実施の形態１による半導体レーザ装置の構成を示す断面図である。 実施の形態１による半導体レーザ装置に用いるサブマウントを実装する工程を説明するための図である。 実施の形態２による半導体レーザ装置の構成を示す上面図である。 実施の形態２による半導体レーザ装置の構成を示す断面図である。 実施の形態３による半導体レーザ装置の構成を示す上面図である。 実施の形態３による半導体レーザ装置の構成を示す断面図である。 実施の形態４による半導体レーザ装置の構成を示す上面図である。 実施の形態４による半導体レーザ装置の構成を示す断面図である。 実施の形態５による半導体レーザ装置の構成を示す上面図である。 実施の形態５による半導体レーザ装置の構成を示す断面図である。
　実施の形態１．
　図１は、本願の実施の形態１に係る半導体レーザ装置１０１の構成を示す上面図である。図２は、図１のＡＡ矢視断面図であり、図３は、図１のＢＢ断面図である。図１から図３に示すように、半導体レーザ装置１０１は、ベース材となるステム１、ステム１の表面に設けられたＬＤサブマウント２、ステム１に開けられた穴１ａ、１ｂにそれぞれ固定され、ＬＤサブマウント２の表面電極２０ａ、２０ｂとビアホール２ｃ、２ｄの導電層である埋め込み層２１ａ、２１ｂおよび裏面電極２２ａ、２２ｂをそれぞれ介して電気的に接続するリード３ａ、３ｂ、ＬＤサブマウント２の表面電極２０ａの表面に接合された半導体レーザ素子であるＬＤチップ４、ＬＤチップ４の表電極とＬＤサブマウント２の表面電極２０ｂとを接続する金ワイヤ５、ＬＤチップ４から出射されたレーザ光を反射するミラー６とから構成される。
　ステム１は、半導体レーザ装置１０１のベース材であり、リード３ａ、３ｂをそれぞれ通すための穴１ａ、１ｂが開けられ、リード３ａ、３ｂを穴１ａ、１ｂの内部にガラスなどの封着部材１０ａ、１０ｂを用いて固定する。
　ＬＤサブマウント２は、ステム１上にはんだを用いて実装され、表面電極２０ａの上にはＬＤチップ４を搭載し、ＬＤチップ４の表面電極と表面電極２０ｂが金ワイヤ５により接続されている。ＬＤサブマウント２の表面電極２０ａ、２０ｂは、それぞれヒアホール２ｃ、２ｄの埋め込み層２１ａ、２１ｂを介して裏面電極２２ａ、２２ｂに接続されている。
　リード３ａ、３ｂは、それぞれステム１の穴１ａ、１ｂの内部にガラスなどの封着部材１０ａ、１０ｂを用いて固定されている。リード３ａ、３ｂの上端面は、ステム１の上面と面一であり、それぞれＬＤサブマウント２の裏面電極２２ａ、２２ｂと、はんだを用いて、埋め込み層２１ａ、２１ｂを介して表面電極２０ａ、２０ｂと接続されている。
　ＬＤチップ４は、ＬＤチップ４の裏面電極を介してＬＤサブマウント２の表面電極２０ａ上に、はんだ等を用いて接合されている。ＬＤチップ４の表面電極は、金ワイヤ５によりＬＤサブマウント２の表面電極２０ｂと接続されている。
　ミラー６は、ステム１の上面に搭載され、ＬＤチップ４から出射されたレーザ光を反射することでステム１上面に垂直方向に取り出す。ミラーは、プリズムなどの光学部品でも良いし、高反射膜を形成したフォトダイオード（Photodiode：以下ＰＤと略す）チップでも良い。
　ここで、本願の半導体レーザ装置１０１の構造上の特徴を説明する。半導体レーザ装置１０１では、ＬＤチップ４と接続するＬＤサブマウント２の表面電極２０ａ、２０ｂと裏面電極２２ａ、２２ｂとをそれぞれビアホール２ｃ、２ｄの埋め込み層２１ａ、２１ｂを介して電気的に接続するとともに、裏面電極２２ａ、２２ｂと接続するリード３ａ、３ｂを固定するステム１の穴１ａ、１ｂにおいて、ステム１にはＬＤサブマウント２との対向側にそれぞれザグリ部１ａｚ、１ｂｚが設けられ、ザグリ部１ａｚ、１ｂｚにおける封着部材１０ａ、１０ｂのＬＤサブマウント２との対向面で、リード３ａ、３ｂの周りに溝部１０ａｄ、１０ｂｄが設けられていることを特徴とする。また、封着部材１０ａ、１０ｂに対向するＬＤサブマウント２の領域２ａ、２ｂには、裏面電極２２、２２ａ、２２ｂは形成されていない。
　図４は、実施の形態１による半導体レーザ装置１０１に用いるＬＤサブマウント２の構成を示す底面図（図４（ａ））およびリード３ａ、３ｂを固定したステム１の断面図(図４（ｂ）)である。ＬＤサブマウント２をステム１に実装する製造工程において、リード３ａ、３ｂとそれぞれ裏面電極２２ａ、２２ｂ、およびステム１と裏面電極２２とは、はんだを用いて接合する。
　このとき、裏面電極２２ａ、２２ｂとリード３ａ、３ｂの位置ずれ、および接合のためのはんだの量が多くなってしまうとはんだが大きく拡がりステム１に接触しショート不良となる。このような不良を防ぐためには裏面電極２２ａ、２２ｂとリード３ａ、３ｂの位置合わせおよびはんだの量を厳密にコントロールする必要があり製造が困難である。本願ではこのようなショート不良を生じることなく製造を容易にする構造として、リード３ａ、３ｂの周りの封着部材１０ａ、１０ｂに溝部１０ａｄ、１０ｂｄが設けられている。
　この構成により、ＬＤサブマウント２をステム１に接合したときに拡がったはんだがステム１に接触する不良を低減できる。なお、ＬＤサブマウント２の裏面側に、リードと接続する裏面電極２２ａ、２２ｂの周りに溝部を設けることで、はんだの拡がりを抑えても良い。また、リード上端部はステム１上面と面一でなく、ステム上面よりはんだの厚み分だけ下がっていても良い。
　以上のように、本実施の形態１に係る半導体レーザ装置１０１によれば、ベース材としてのステム１と、表面電極２０ａ、２０ｂが設けられ、ステム１の表面に接合されたＬＤサブマウント２と、表面電極２０ａに接合され、表面電極２０ｂに接続されたＬＤチップ４と、ＬＤサブマウント２に設けられたビアホール２ｃ、２ｄ内の埋め込み層２１ａ、２１ｂを介して表面電極２０ａ、２０ｂに電気的に接続され、ステム１に設けられた穴１ａ、１ｂに封着部材１０ａ、１０ｂにより固定されたリード３ａ、３ｂとを備え、ステム１とＬＤサブマウント２との接合面側の、封着部材１０ａ、１０ｂまたはＬＤサブマウント２のリード３ａ、３ｂと埋め込み層２１ａ、２１ｂの接続部の周囲に溝部１０ａｄ、１０ｂｄを設けるようにしたので、従来の半導体レーザ装置のように寄生インダクタンスの大きな長いリード等を用いる必要がなく、ワイヤの使用を低減することで、変調光波形を改善でき、良好な変調光波形を得ることができる。また、容易にチップを実装することができる。
　実施の形態２．
　実施の形態１では、表面電極２０ａ、２０ｂとリード３ａ、３ｂとを、ビアホール２ｃ、２ｄ内の埋め込み層２１ａ、２１ｂを介して接続したが、実施の形態２では、表面電極２０ａ、２０ｂにリード３ａ、３ｂを直接接触させて接続した場合について説明する。
　図５は、本願の実施の形態２に係る半導体レーザ装置１０２の構成を示す上面図である。図６は、図５のＡＡ矢視断面図である。図５および図６に示すように、半導体レーザ装置１０２は、リード３ａ、３ｂがステム１の表面より突出し、実施の形態１で用いたＬＤサブマウント２の２箇所の角部を削ったＬＤサブマウント７の表面電極７０ａ、７０ｂに、ヒアホールの埋め込み層を介すことなく、それぞれ直接接触してはんだで電気的に接続されている。リード７０ａ、７０ｂの上端部は、はんだがつけやすいように必要に応じて広げたり細くしたりしても良い。なお、はんだの代わりに、金ワイヤまたは金テープを用いても良い。
　また、ステム１とＬＤサブマウント７との接合面側の封着部材１０ａ、１０ｂまたはＬＤサブマウント７のリード３ａ、３ｂの周囲に溝部が設けられている。実施の形態２に係る半導体レーザ装置１０２のその他の構成については、実施の形態１の半導体レーザ装置１０１と同様であり、対応する部分には同符号を付してその説明を省略する。
　以上のように、本実施の形態２に係る半導体レーザ装置１０２によれば、ベース材としてのステム１と、表面電極７０ａ、７０ｂが設けられ、ステム１の表面に接合されたＬＤサブマウント７と、表面電極７０ａに配置され、表面電極７０ｂに接続されたＬＤチップ４と、表面電極７０ａ、７０ｂと接触して電気的に接合され、ステム１に設けられた穴１ａ、１ｂに封着部材１０ａ、１０ｂにより固定されたリード３ａ、３ｂとを備え、ステム１とＬＤサブマウント７との接合面側の、封着部材１０ａ、１０ｂまたはＬＤサブマウント７のリード３ａ、３ｂの周囲に溝部１０ａｄ、１０ｂｄを設けるようにしたので、従来の半導体レーザ装置のように寄生インダクタンスの大きなワイヤの使用を低減することで、変調光波形を改善でき、良好な変調光波形を得ることができる。また、容易にチップを実装することができる。
　なお、本実施の形態２に係る半導体レーザ装置１０２のＬＤサブマウント７の形状はこれに限るものではなく、２箇所の短辺を削ったＬＤサブマウント７を用いても良い。図７は、本願の実施の形態２に係る半導体レーザ装置１０２の他の構成を示す上面図である。図８は、図７のＡＡ矢視断面図である。この場合も、上記実施の形態２と同様の効果を得ることができる。
　実施の形態３．
　実施の形態３では、ＬＤチップ４から出射されたレーザ光の出力をモニターするためのＰＤチップを搭載する場合について説明する。
　図９は、本願の実施の形態３に係る半導体レーザ装置１０３の構成を示す上面図である。図１０は、図９のＢＢ矢視断面図である。
　一般の半導体レーザ装置では、ＬＤチップはミラーを用いずにステムに対して垂直方向にレーザ光を出射するように設置され、光出力をモニターする方法として、ＬＤチップに対して垂直方向（ステムと並行方向）に実装したＰＤチップにＬＤチップの背面から漏れる光を入射させる。しかし、実施の形態１ではＬＤチップ４の背面側にＰＤチップを垂直に設置するスペースを設けることが困難である。
　そこで、図９および図１０に示すように、半導体レーザ装置１０３では、フォトダイオード素子であるＰＤチップ９とＰＤサブマウント８をミラー６の後方側に設置し、ミラー６を透過したＬＤチップ４から出射されたレーザ光の一部をＰＤチップ９で受け取るようにした。レーザ光の一部を受け取ったＰＤチップ９からは電気信号が金ワイヤ１３、中継基板１２の表面電極１１、金ワイヤ１４およびＬＤサブマウント２の表面電極である引き回しパターン２０ｃを経由してリード３ｃへ送られる。実施の形態３に係る半導体レーザ装置１０３のその他の構成については、実施の形態１の半導体レーザ装置１０１と同様であり、対応する部分には同符号を付してその説明を省略する。
　以上のように、本実施の形態３に係る半導体レーザ装置１０３によれば、ミラー６の後方に設置され、ミラー６を透過したレーザ光を受け取るＰＤチップ９とを備え、ＰＤチップ９をＬＤサブマウント２の表面電極２０ｃを経由し、ビアホール２ｅの埋め込み層２１ｃおよび裏面電極２２ｃを介してリード３ｃに電気的に接続し、ステム１とＬＤサブマウント２の接合面側の封着部材１０ｃまたはＬＤサブマウント２のリード３ｃと埋め込み層２１ｃの接続部の周囲に溝部１０ｃｄを設けるようにしたので、ＬＤチップから出射されたレーザ光をＰＤチップで検知し、ＬＤチップのレーザ光の出力をモニターする際にも、従来の半導体レーザ装置のように寄生インダクタンスの大きな長いリード等を用いる必要がなく、ワイヤの使用を低減することで、変調光波形を改善でき、良好な変調光波形を得ることができる。また、容易にチップを実装することができる。
　なお、本実施の形態３に係る半導体レーザ装置１０３では、中継基板１２の表面電極１１と引き回しパターン２０ｃを金ワイヤ１４で接続したが、これに限るものではない。中継基板とＬＤサブマウントを一体として、中継基板の表面電極と引き回しパターンを形成しても良い。この場合も、上記実施の形態３と同様の効果を得ることができる。
　本願は、様々な例示的な実施の形態及び実施例が記載されているが、１つ、または複数の実施の形態に記載された様々な特徴、態様、及び機能は特定の実施の形態の適用に限られるのではなく、単独で、または様々な組み合わせで実施の形態に適用可能である。従って、例示されていない無数の変形例が、本願明細書に開示される技術の範囲内において想定される。例えば、少なくとも１つの構成要素を変形する場合、追加する場合または省略する場合、さらには、少なくとも１つの構成要素を抽出し、他の実施の形態の構成要素と組み合わせる場合が含まれるものとする。
　１　ステム、１ａ、１ｂ　穴、２、７　ＬＤサブマウント、２ｃ、２ｄ　ビアホール、３ａ、３ｂ　リード、４　ＬＤチップ、１０ａ、１０ｂ　封着部材、１０ａｄ、１０ｂｄ　溝部、２０ａ、２０ｂ　表面電極、２１ａ、２１ｂ　埋め込み層、２２ａ、２２ｂ　裏面電極、７０ａ、７０ｂ　表面電極、１０１、１０２、１０３　半導体レーザ装置。

Claims (4)

  1. 　ベースとしてのステムと、
    　表面に電極が設けられ、前記ステムに接合されたサブマウントと、
    　前記電極に接合された半導体レーザ素子と、
    　前記電極に接続され、前記ステムに設けられた穴に封着部材により固定されたリードとを備え、
    　前記ステムと前記サブマウントとの接合面側の、前記封着部材または前記サブマウントの前記リードの周囲に溝部が設けられたことを特徴とする半導体レーザ装置。
  2. 　前記リードは、前記サブマウントに設けられたホール内の金属製の埋め込み層を介して電気的に接続されたことを特徴とする請求項１に記載の半導体レーザ装置。
  3. 　前記リードは、前記電極と接触して電気的に接続されたことを特徴とする請求項１に記載の半導体レーザ装置。
  4. 　前記半導体レーザ素子から出射されたレーザ光を反射するミラーと、
    　前記ミラーの後方に設置され、前記ミラーを透過した前記レーザ光を受け取るフォトダイオード素子とを備え、
    　前記フォトダイオード素子は、前記電極を介して前記リードに接続されたことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の半導体レーザ装置。
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