WO2019107685A1 - 착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치 - Google Patents

착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치 Download PDF

Info

Publication number
WO2019107685A1
WO2019107685A1 PCT/KR2018/006383 KR2018006383W WO2019107685A1 WO 2019107685 A1 WO2019107685 A1 WO 2019107685A1 KR 2018006383 W KR2018006383 W KR 2018006383W WO 2019107685 A1 WO2019107685 A1 WO 2019107685A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
substituted
dye
colorant
xanthene
Prior art date
Application number
PCT/KR2018/006383
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
박종호
이다미
최상아
양승진
박상균
김재준
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to CN201880007052.8A priority Critical patent/CN110337467B/zh
Priority to JP2019537291A priority patent/JP7070934B2/ja
Priority to US16/485,093 priority patent/US11091644B2/en
Publication of WO2019107685A1 publication Critical patent/WO2019107685A1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/04Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
    • C09B11/10Amino derivatives of triarylmethanes
    • C09B11/24Phthaleins containing amino groups ; Phthalanes; Fluoranes; Phthalides; Rhodamine dyes; Phthaleins having heterocyclic aryl rings; Lactone or lactame forms of triarylmethane dyes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0071Process features in the making of dyestuff preparations; Dehydrating agents; Dispersing agents; Dustfree compositions
    • C09B67/008Preparations of disperse dyes or solvent dyes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/28Pyronines ; Xanthon, thioxanthon, selenoxanthan, telluroxanthon dyes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0033Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0033Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
    • C09B67/0034Mixtures of two or more pigments or dyes of the same type
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0071Process features in the making of dyestuff preparations; Dehydrating agents; Dispersing agents; Dustfree compositions
    • C09B67/0084Dispersions of dyes
    • C09B67/0085Non common dispersing agents
    • C09B67/009Non common dispersing agents polymeric dispersing agent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0096Purification; Precipitation; Filtration
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/542Dye sensitized solar cells

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a colorant composition, a colorant composition prepared using the same, a colorant dispersion, a photosensitive resin composition, a color filter, and a liquid crystal display device.
  • LEDs or OLED devices which do not drive liquid crystal but perform self-luminescence instead of conventional CCFL have been widely used as a light source of a liquid crystal display (LCD).
  • LCD liquid crystal display
  • a pigment dispersion method using a pigment as a colorant is generally applied to realize a color filter.
  • the pigment is present in the form of particles to scatter light, and the surface area of the pigment is rapidly increased due to the fineness of the pigment, and the dispersion stability is deteriorated due to the uneven pigment particle. Therefore, in order to achieve the high brightness, high contrast ratio, and high resolution required recently, it has been investigated to use a dye as a coloring agent instead of a pigment.
  • the dye since the dye has a low solubility, the dye is not well dispersed and the brightness of the color filter can not be sufficiently satisfied.
  • the present invention provides a method for producing a colorant composition, a colorant composition, a colorant dispersion, and a photosensitive resin composition using the same, which can provide a colorant dispersion having a small diameter of a dye particle by dissolving dye particles in a solvent and precipitating I want to.
  • the present invention also provides a color filter manufactured using the above-mentioned photosensitive resin composition and a liquid crystal display device including the same.
  • a method for producing a color filter comprising: dissolving a first xanthene dye having the same number of positive charges and negative charges and a second xanthene dye having a number of negative charges greater than 1 of the number of positive charges in a first solvent; And precipitating the dissolved first xanthene dye and the second xanthene dye in a second solvent.
  • Another embodiment of the present invention provides a colorant composition prepared from the above production method.
  • Another embodiment of the present invention relates to the colorant composition; Dispersing agent; Acrylic resin; And a colorant dispersion comprising a solvent.
  • Another embodiment of the present invention relates to the above-mentioned colorant dispersion; Blue colorant dispersion; Acrylic resin; Multifunctional monomers; Surfactants; Initiator; And a solvent.
  • Another embodiment of the present invention provides a color filter comprising a transparent substrate and a colored layer provided on the transparent substrate, wherein the colored layer includes a cured product of the photosensitive resin composition.
  • Another embodiment of the present invention provides a liquid crystal display device including the color filter.
  • a colorant composition comprising a dye particle having a small diameter and a dispersion of a colorant, thereby obtaining a color reproducibility excellent in heat resistance, stability and tinting power
  • a photosensitive resin composition can be obtained.
  • a method for producing a color filter comprising: dissolving a first xanthene dye having the same number of positive charges and negative charges and a second xanthene dye having a number of negative charges greater than 1 of the number of positive charges in a first solvent; And precipitating the dissolved first xanthene dye and the second xanthene dye in a second solvent.
  • both the first xanthene dye and the second xanthene dye are dissolved, solvation of the first dye and the second dye proceeds sufficiently by the solvent, Tensile dyes and second xanthene dyes behave monomolecularly.
  • both the first xanthene dye and the second xanthene dye have a similar structure as a xanthene dye. By having such a similar structure, the first xanthene dye and the second xanthene dye can achieve pi-pi interaction in a solvent.
  • the first xanthene dye of the present invention is neutralized because it has the same number of positive and negative charges, and the second xanthene dye has an anion of more than 1 number of negative charges than the number of positive charges.
  • a cationic dispersant can be ionically bonded to a second xanthene dye having an anion to form a complex.
  • the neutralized first xanthene dye may be bound to the composite.
  • a dye having a small particle diameter and a large surface area can be obtained, and light can be absorbed effectively, thereby increasing coloring power.
  • the first xanthene dye when only the first xanthene dye is refined without being dissolved in a solvent to prepare a dispersion, since the first xanthene dye has the same number of positive and negative charges, it is neutralized and is hardly ion-bonded to a cationic dispersant . Accordingly, when only the first xanthene dye is present, the dye is hardly dispersed in the solvent, and the diameter of the dye particle is increased.
  • the dye may be lost in the process of finishing the second xanthene dye and washing with water.
  • the second xanthene dye has an anion of more than 1 number of negative charges more than the number of positive charges, and the anionic group may be a sulfonic acid base. Color materials containing sulfonic acid bases are easily ionized and dissolved in water. As a result, color materials may be lost.
  • a colorant composition, a coloring agent dispersion, or a photosensitive resin composition is prepared by making the first xanthene dye and the second xanthene dye finer without dissolving in the solvent, the first xanthene dye and the second xanthene dye are dissolved in a solvent Can not achieve the pi-pi interaction sufficiently.
  • a dispersant containing a monomolecule or a polymer containing an amine structure or an ammonium structure is obtained by precipitating the first xanthene dye and the second xanthene dye in a second solvent .
  • the step of precipitating the dye can more uniformly assist the interaction of the first xanthene dye and the second xanthene dye.
  • the first dye and the second dye are added to the first solvent, Lt; 0 > C for 10 to 30 hours, preferably 22 to 26 hours.
  • the solution prepared by the stirring step can lower the temperature after production. If necessary, the temperature can be lowered to room temperature.
  • the step of precipitating the dissolved first xanthene-based dye and the second xanthene-based dye in a second solvent is characterized in that the first and second dyes are dissolved in a first solvent and a second solvent Should be sufficiently solvated in the solvent, and may include stirring for 10 minutes to 3 hours, preferably 15 minutes to 45 minutes.
  • the step of preparing the colorant composition including the precipitated first xanthene dye and the second xanthene dye may include a step of filtering the precipitated first xanthene dye and the second xanthene dye under reduced pressure and washing .
  • the drying may be carried out in a vacuum oven at 50 to 70 DEG C, preferably 55 to 65 DEG C for 10 to 30 hours, preferably 22 to 26 hours for the first solvent and the second solvent.
  • the first xanthene dye has a maximum absorption wavelength between 500 and 580 nm, and the maximum absorption wavelength of the first xanthene dye and the maximum absorption of the second xanthene dye
  • the wavelength difference is more than 0 and 100 nm or less. More preferably in the range of more than 0 and 50 nm or less, and most preferably in the range of more than 0 and 20 nm or less.
  • the first xanthene-based dye can be described as a first dye
  • the second xanthene-based dye can be described as a second dye
  • the first xanthene dye includes a dye having the same number of positive charges and negative charges as represented by the following formula (1)
  • the second xanthene dye is represented by the following formula And includes dyes having one or more negative charges greater than the number of positive charges.
  • R 1 to R 4 are the same or different and are each independently hydrogen; heavy hydrogen; Anionic group; A hydroxy group; A sulfonamide group; Sulfonic acid base; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; A substituted or unsubstituted heteroaryl group; And a dianhydride comprising a nitrogen atom,
  • R 5 to R 9 are the same or different and each independently hydrogen; heavy hydrogen; Anionic group; A hydroxy group; A sulfonamide group; Sulfonic acid base; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; And a substituted or unsubstituted heteroaryl group, provided that at least one of R 5 to R 9 is an anionic group; Sulfonic acid base; Or a sulfonamide group,
  • R 10 and R 11 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A halogen group; A nitro group; Or a substituted or unsubstituted alkyl group, r 10 and r 11 are integers of 0 to 3, and when r 10 and r 11 are each 2 or more, the structures in parentheses are the same or different from each other.
  • R 21 to R 24 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; Anionic group; A hydroxy group; A sulfonamide group; Sulfonic acid base; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; A substituted or unsubstituted heteroaryl group; And a dianhydride including a nitrogen atom, and at least one of R 21 to R 24 is an alkyl group substituted or unsubstituted with an anionic group, a sulfonic acid group, or a sulfonamide group; An aryl group substituted with an anionic group, a sulfonic acid group, or a sulfonamide group; Or a heteroaryl group substituted by an anionic group, a sulfonic acid group, or a sulfonamide group,
  • R 25 to R 29 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; Anionic group; A hydroxy group; A sulfonamide group; Sulfonic acid base; A substituted or unsubstituted, straight or branched chain alkyl group having 1 to 30 carbon atoms; A substituted or unsubstituted aryl group; And substituted or unsubstituted heteroaryl groups, provided that at least one of R 25 to R 29 is an anionic group; Sulfonic acid base; Or a sulfonamide group,
  • R 30 and R 31 are the same or different and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A halogen group; A nitro group; Or a substituted or unsubstituted alkyl group, r 30 and r 31 are integers of 0 to 3, and when r 30 and r 31 are each 2 or more, the structures in parentheses are the same or different from each other.
  • R 1 to R 4 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; And a dianhydride comprising a nitrogen atom, wherein R 21 to R 24 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; And a dianhydride comprising a nitrogen atom, with the remaining substituents being as defined above.
  • R 1 to R 4 are the same or different and each independently hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a dianhydride group containing a nitrogen atom.
  • R 1 to R 4 represent hydrogen; An aryl group substituted with an anionic group or an alkyl group; Or an alkyl group substituted or unsubstituted with an imino group containing a nitrogen atom.
  • R 1 to R 4 represent hydrogen; A phenyl group substituted with a methyl group; A phenyl group substituted by at least one member selected from the group consisting of a methyl group and an anionic group; An ethyl group; Propyl group; Or a propyl group substituted with an imino group containing a nitrogen atom.
  • R 5 to R 9 are the same or different and each independently hydrogen; Or an anionic group.
  • R 5 to R 9 are the same or different and each independently hydrogen; Or SO 3 - .
  • R 10 and R 11 are the same or different and each independently hydrogen; Or a deuterium, r 10 and r 11 is an integer from 0 to 3, when the r 10 and r 11 each 2 or more, the structure in the parentheses is the same as or different from each other.
  • R 21 to R 24 are the same or different and each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a dianhydride group containing a nitrogen atom.
  • R 21 to R 24 are the same or different and each independently represents an alkyl group substituted or unsubstituted with a heterocyclic group; Or an aryl group substituted by at least one selected from the group consisting of an alkyl group, a sulfonic acid group and an anionic group.
  • R 21 to R 24 are the same or different from each other, and each independently represents an ethyl group; Propyl group; A propyl group substituted with an imino group containing a nitrogen atom; A phenyl group substituted with a methyl group; Or a phenyl group substituted by at least one selected from the group consisting of a methyl group, a sulfonic acid group and an anionic group.
  • the first xanthene dye comprises a dye having the same number of positive charges and negative charges as represented by the following formula (1-1), wherein the second xanthene dye is represented by the following formula And includes dyes having one or more negative charges greater than the number of positive charges.
  • Y is an anion
  • a is the number of negative charges greater than positive.
  • an anion is an anion of a compound containing oxygen and at least one element selected from the group consisting of tungsten, molybdenum, silicon and phosphorus; Anions including borates; Anions including imides; Or a carbon anion, but are not limited thereto.
  • a number of positive charges included in the second xanthene dye is 1, a is 2 or more, and if the number of positive charges is 2, a may be 3 or more.
  • substituted or unsubstituted A halogen group; An alkyl group; An alkenyl group; An alkoxy group; A cycloalkyl group; An arylalkenyl group; An aryl group; An aryloxy group; Arylalkyl groups; An arylalkenyl group; An alkylamine group; An aralkylamine group; An arylamine group; A heteroaryl group; A hydroxy group; Cyano; A heterocyclic group containing at least one of N, O, S or P atoms; A dianhydride containing a nitrogen atom; Sulfonic acid base; Substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a sulfonamido group and an anionic group, or has no substituent group.
  • the alkyl group may be linear or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 1 to 30. Specific examples include, but are not limited to, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, pentyl, hexyl and heptyl.
  • the alkenyl group may be linear or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 2 to 30. Specific examples thereof include, but are not limited to, an alkenyl group substituted with an aryl group such as a stilbenyl group or a styrenyl group.
  • the alkoxy group may be linear or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 1 to 30.
  • the alkenyloxy group may be straight-chain or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 2 to 30.
  • the cycloalkyl group is not particularly limited, but preferably has 3 to 20 carbon atoms, and particularly preferably a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
  • examples of the halogen group include fluorine, chlorine, bromine or iodine.
  • the arylalkyl group is specifically an aryl moiety having 6 to 30 carbon atoms and an alkyl moiety having 1 to 30 carbon atoms.
  • Specific examples include benzyl, p-methylbenzyl, m-methylbenzyl, p-ethylbenzyl, m-ethylbenzyl, 3,5-dimethylbenzyl, Group, an?,?
  • -benzyloxybenzyl group naphthylmethyl group, naphthylethyl group, naphthylisopropyl group, pyrrolylmethyl group, but are not limited to, an ethyl group, an aminobenzyl group, a nitrobenzyl group, a cyanobenzyl group, a 1-hydroxy-2-phenylisopropyl group, a 1-chloro-2-phenylisopropyl group and the like.
  • the aryl moiety of the arylalkenyl group may be an explanation of the aryl moiety described below, and the alkenyl moiety may be an explanation of the alkenyl moiety mentioned above.
  • the aryl group may be a monocyclic aryl group or a polycyclic aryl group.
  • the aryl group is a monocyclic aryl group
  • the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 6 to 30 carbon atoms.
  • Specific examples of the monocyclic aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a terphenyl group, and the like, but are not limited thereto.
  • the aryl group is a polycyclic aryl group
  • the number of carbon atoms is not particularly limited. And preferably 10 to 30 carbon atoms.
  • Specific examples of the polycyclic aryl group include, but are not limited to, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, a perylenyl group, a klycenyl group and a fluorenyl group.
  • the fluorenyl group may have a substituent, and the substituents may combine to form a spiro structure.
  • the heterocyclic group is a heterocyclic group and is a heterocyclic group containing O, N or S, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but preferably 2 to 30 carbon atoms.
  • the heterocyclic group include a thiophene group, a furane group, a furyl group, an imidazole group, a thiazole group, an oxazole group, an oxadiazole group, a triazole group, a pyridyl group, a bipyridyl group, a triazine group, , A quinolinyl group, an isoquinoline group, an indole group, a carbazole group, a benzoxazole group, a benzoimidazole group, a benzothiazole group, a benzocarbazole group, a benzothiophene group, a dibenzothiophene group, a benzofuranyl group, And the
  • the number of carbon atoms of the dianhydride group containing a nitrogen atom is not particularly limited, but is preferably 4 to 20.
  • isoindoline-1,3-dione isoindoline-1,3-dione.
  • the alkylene group means that there are two bonding sites in the alkane.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the number of carbon atoms of the alkylene group is not particularly limited, but is, for example, 1 to 30 carbon atoms.
  • the sulfonic acid group may be represented as -SO 3 X 'and X' may be hydrogen or a Group 1 element.
  • the sulfonic acid base is -SO 3 H, -SO 3 Li, -SO 3 K or -SO 3 Na.
  • the sulfonamide group may be expressed as: -SO 2 NRxRy, for example, Rx and Ry are the same as or different from each other, each independently represent a substituted or unsubstituted carbon atoms of 1 to 30 linear or branched alkyl group ; A substituted or unsubstituted monocyclic or polycyclic aryl group having 6 to 30 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted monocyclic or polycyclic heteroaryl group having 2 to 30 carbon atoms.
  • the anionic group has a chemical bond with the structure of the formula (1), and the anionic group is not particularly limited and includes, for example, those described in U.S. Patent No. 7,939,644, Japanese Patent Publication No. 2006-003080, Japanese Patent Publication No. 2006-001917, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-159926, Japanese Unexamined Patent Application No. 2007-7028897, Japanese Unexamined Patent Application No. 2005-071680, Korean Unexamined Patent Publication No. 2007-7000693, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-111696, Japanese Unexamined Patent Publication No.
  • the anions described in Specification < RTI ID 0.0 > 2014-199436 < / RTI >
  • Specific examples of the anionic group include a trifluoromethanesulfonic acid anion, a bis (trifluoromethylsulfonyl) amide anion, a bistrifluoromethanesulfonimide anion, a bisperfluoroethylsulfonimide anion, a tetraphenylborate anion, SO 3 - , CO 2 - , SO 2 N - SO 2 CF 3 , SO 2 N (tetrafluoroborate), tetrakis (pentafluorophenyl) borate, - SO 2 CF 2 CF 3, but include a halogen group such as fluorine group, an iodo group, a chlorine group, it is not limited thereto.
  • the anionic group may have an anion per se, or may exist in the form of a complex with other cations.
  • the total charge of the compound molecules of the present invention may vary. Since the amine group of the compound of the present invention has a cation, the sum of the total charges of the molecule may have an anion value of 0 minus one in the number of substituted anionic groups.
  • the monomer is a repeating unit constituting the polymer, and the monomer can be contained in the main chain in the polymer to form a polymer.
  • unit means a repeating structure in which a monomer is contained in a polymer, and a monomer is bonded to the polymer by a polymer.
  • the first xanthene dye includes a dye having the same number of positive charges and negative charges as represented by the following formula (3)
  • the second xanthene dye is represented by the following formula And includes dyes having one or more negative charges greater than the number of positive charges.
  • R 12 , R 13 , R 32 and R 33 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A halogen group; A nitro group; R 12 and r 13 are integers of 0 to 5, r 32 is an integer of 0 to 5, r 33 is an integer of 0 to 4, and r 12 , r 13 and r 32 And r 33 are each 2, the structures in parentheses are the same or different from each other,
  • R 61 and R 62 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; Or a dianhydride comprising a nitrogen atom,
  • X is an anionic group; Sulfonic acid base; Or a sulfonamide group,
  • R 61 and R 62 may each be hydrogen.
  • the first xanthene dye includes a dye having the same number of positive charges and negative charges as represented by the following formula (3-1), and the second xanthene dye is represented by the following formula 4-1, and may include dyes having one or more negative charges greater than the number of positive charges.
  • R 12 , R 13 , R 32 and R 33 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A halogen group; A nitro group; A substituted or unsubstituted alkyl group; Anionic group; Sulfonic acid base; Or a sulfonamide group and, r 12 and r 13 is an integer of 0 to 5, r 32 is an integer from 0 to 5, r 33 is an integer from 0 to 4, r 12, r 13, r 32 and r 33 Are two or more, the structures in parentheses are the same or different from each other,
  • X is an anionic group; Sulfonic acid base; Or a sulfonamide group,
  • R 61 and R 62 may each be hydrogen.
  • the colorant composition may further include a dye of Formula 4-2 below.
  • R 50 to R 53 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A halogen group; A nitro group; Or a substituted or unsubstituted alkyl group, r 50 and r 51 are integers of 0 to 4, r 52 and r 53 are integers of 0 to 3, and r 50 to r 53 are each 2 or more, the structure in parentheses is Are the same or different,
  • Xa and Xb are the same or different from each other and each independently an anionic group; Sulfonic acid base; Or a sulfonamide group,
  • R 45 to R 49 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; Anionic group; A hydroxy group; A sulfonamide group; Sulfonic acid base; A substituted or unsubstituted, straight or branched chain alkyl group having 1 to 30 carbon atoms; A substituted or unsubstituted aryl group; And substituted or unsubstituted heteroaryl groups, provided that at least one of R 45 to R 59 is an anionic group; Sulfonic acid base; Or a sulfonamide group.
  • the first xanthene dye is represented by the following formula (5) and includes the same number of positive and negative dyes
  • the second xanthene dye is represented by the following formula And includes a dye having a number of negative charges larger than that of positive charges by one or more.
  • R 14 to R 17 , and R 34 to R 37 are the same or different and are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group
  • R 61 and R 62 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; Or a dianhydride comprising a nitrogen atom,
  • X1 to X3 are the same or different and each independently an anionic group; Sulfonic acid base; Or a sulfonamide group.
  • R 14 to R 17 , and R 34 to R 37 may be methyl groups.
  • R 61 and R 62 may each be hydrogen.
  • the first xanthene dye includes a dye having the same number of positive charges and negative charges as represented by the following formula 5-1
  • the second xanthene dye is represented by the following formula 6-1, and may include dyes having one or more negative charges greater than the number of positive charges.
  • Y is an anion
  • a is the number of negative charges greater than positive
  • R 61 and R 62 may each be hydrogen.
  • the colorant composition may further include a dye of Formula 6-2.
  • R 38 to R 41 are the same or different and are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group
  • X4 to X6 are the same or different from each other and each independently an anionic group; Sulfonic acid base; Or a sulfonamide group.
  • the first xanthene dye may be any of the following structures.
  • the formula (1) may be represented by the following structures, and the following structures represent the isomers of the formula (1), and the formula (1) represents a representative structure.
  • Isomers are molecules with the same molecular formula but different physical / chemical properties.
  • the second xanthene dye may be any of the following structures.
  • the first solvent may dissolve both the first xanthene dye and the second xanthene dye, and the first solvent may dissolve the first xanthene dye and the second xanthene dye And the solubility of the second solvent in the first xanthene-based dye and the second xanthene-based dye may be 0.000001 to 0.02 mass%.
  • the first xanthene dye may be 10 g and the second xanthene dye may be 1 g, and the sum of the weights of the first solvent and the second solvent may be 100 g.
  • the first solvent may include a sulfoxide compound or an amide compound.
  • the sulfoxide compound may be, for example, dimethyl sulfoxide, diethyl sulfoxide, hexamethylene sulfoxide or sulfolane.
  • the amide compound may be, for example, N-dimethylformamide, 1-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidinone, , Formamide, N-methylformamide, acetamide, N-methylacetoamide, N, N-dimethylacetoamide, N-methylpropanamide or hexamethylphosphoric triamide.
  • the first solvent may be N-methylpyrrolidone or dimethylformamide.
  • the second solvent may be at least one selected from the group consisting of water, hydrochloric acid, sodium hydroxide, alcohol compounds, ketone compounds, ether compounds, aromatic compounds, carbon disulfide, aliphatic compounds, nitrile compounds, halogen compounds, ester compounds, 1 < / RTI > or more.
  • the alcohol compound may be, for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-propyl alcohol or 1-methoxy-2-propanol, but is not limited thereto.
  • the ketone compound may be, for example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, or cyclohexanone, but is not limited thereto.
  • the ether compound may be, for example, dimethyl ether, diethyl ether or tetrahydrofuran, but is not limited thereto.
  • the aromatic compound may be, for example, benzene or toluene, but is not limited thereto.
  • the aliphatic compound may be, for example, hexane, but is not limited thereto.
  • the nitrile compound may be, but is not limited to, acetonitrile.
  • the halogen compound may be, for example, dichloromethane or trichlorethylene, but is not limited thereto.
  • the ester compound may be, for example, dimethyl ether, diethyl ether, or tetrahydrofuran, but is not limited thereto.
  • the ionic liquid may be, but is not limited to, salts of 1-butyl-3-methylimidazolium and hexafluorophosphate (PF6 < - >).
  • the second solvent is selected from the group consisting of acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, Propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, Cyclohexane, benzene, toluene, xylene, methanol, ethanol, isopropanol, propanol, butanol, t-butanol, t-butanol, Butanol, 2-ethoxypropanol, 2-methoxypropanol, 3-methoxybutanol,
  • the second solvent may be ethyl acetate or diethyl ether.
  • the weight of the second dye may be 0.001 to 99.999%, preferably 0.05 to 1.0%, based on the weight of the first dye.
  • the total weight of the solvent including the first solvent and the second solvent may be 1 to 100 times, preferably 5 to 15 times the total weight of the first and second dyes.
  • Another embodiment of the present disclosure relates to the aforementioned colorant composition; Dispersing agent; Acrylic resin; And a colorant dispersion comprising a solvent.
  • the colorant dispersions herein may be replaced by the term millbase.
  • the colorant composition contained in the colorant dispersion means a state in which the solvent is removed. If a salt is used in the colorant composition, it is removed by washing with a salinity solvent and then incorporated into the colorant dispersion.
  • the colorant dispersion may further comprise beads.
  • the beads having a particle size of 0.05 to 1.5 mm can be used.
  • beads having particle diameters of 0.1 mm, 0.3 mm, 0.5 mm, 0.8 mm, and / or 1 mm can be used.
  • the material of the beads at least one of aluminum oxide, aluminum silicate, zirconium oxide, and / or silicon nitride may be used.
  • the amount of beads to be used is not particularly limited, but may be 10 to 40 times the total weight of the complexing agent composition and the dispersing agent. Such beads may serve to disperse the constituents of the compositions contained in the colorant dispersion.
  • the colorant dispersion described above may further comprise at least one of a dye and a pigment.
  • the colorant dispersion may further comprise a phthalocyanine pigment, for example, PB15: 6.
  • the method for producing a colorant composition may further comprise a step of micronizing the precipitated first xanthene-based dye and the second xanthene-based dye.
  • the step of micronization refers to the process of micronizing the colorant composition by applying a physical force.
  • the dispersed particle diameter of the colorant composition by the micronization process is 40 nm to 100 nm in diameter.
  • the diameter means the maximum length of the dispersed particles (the major axis of the particle + the minor axis of the particle) / 2.
  • the diameter of the particles after micronization can be measured by SEM or TEM equipment.
  • a specific example using the SEM measurement method is as follows. First, 0.01 g of the colorant dispersion containing micronized particles is added to a chloroform solvent, and treated with medium intensity for 10 minutes by using an ultrasonic equipment JAC-5020 manufactured by KODO Corporation, thereby dropping the particles and the particles well. Then drop a drop on the glass and heat it on a 50 degree hot plate for 5 minutes to remove the solvent. The particles are coated with a Pt layer having a thickness of about 100 to 200 ⁇ , and the particle diameter is observed with an SEM.
  • PGEMA solvent was added to 1 cm X 5 cm Cell at about 1/4 Add two drops of the colorant dispersion.
  • particle size was measured with a Melvern particle size analyzer. The particle size distribution is measured by measuring the angle change according to the intensity of scattered light while passing through the particle sample in which the laser beam is dispersed.
  • the range of 40 to 100 nm, more preferably 40 to 80 nm is suitable.
  • the step of micronization may include a step of adding a salt and a solvent into a stirrer and stirring if necessary.
  • the stirring may be carried out at 40 to 60 DEG C, preferably 45 to 55 DEG C for 4 to 8 hours, preferably 5 to 7 hours.
  • the filtration and washing may be repeated, and the remaining salt and solvent may be removed.
  • drying at 70 to 90 DEG C for 10 to 30 hours after removal of the salt and the solvent.
  • the salt may serve to refine the dispersed particles in the finer step.
  • the salt can be removed by washing with a solvent such as distilled water, and is not particularly limited as long as it is a component capable of helping micronization.
  • a material such as NaCl may be used.
  • its amount to be used may be determined as necessary, and may be used, for example, about 2 to 8 times, preferably about 3 to 5 times, based on the total weight of the first and second xanthene dyes .
  • the salt may be removed by washing as described above, in which case the solvent may also be removed. The washing may be carried out once or twice or more times as necessary.
  • the solvent used in the micronization process, the solvent used in the colorant dispersion, and the solvent used in the photosensitive resin composition may be the same or different from those exemplified in the first or second solvent, respectively. If it is the same as that exemplified in the first solvent or the second solvent, a side-effect generated by the residual solvent during the production of the photosensitive resin composition is not likely to occur. If the solvent is different from that exemplified in the first solvent or the second solvent, it may be necessary to minimize the residual solvent since the residual solvent may affect the photosensitive resin composition.
  • the first xanthene dye binds to the pi-phi interaction with the second xanthene dye, and the second xanthene dye binds to the dispersant and the ion Can be combined.
  • the first xanthene dye binds to the pi-phi interaction with the second xanthene dye
  • the second xanthene dye binds to the dispersant and the ion Can be combined.
  • the viscosity of the dispersed particles of the colorant composition may be between 2.5 and 6.5 cP.
  • the second xanthene dye may further include a counter cation.
  • the colorant composition according to one embodiment of the present invention may further include counter cations in a number corresponding to the number of negative charges in the second xanthene-based dye than in the positive charge.
  • the counter cation may be a hydrogen ion, a sodium ion or a cationic group, and these may include, for example, 1 to 7 per molecule of the second xanthene dye.
  • the dispersant may further include a counter anion.
  • Counter anion may be an anion of an inorganic or organic, in particular Cl - may be a halogen, such as a date.
  • the dispersant may include counter anions in a number corresponding to the positive charge number of the dispersant.
  • the colorant composition according to one embodiment of the present invention can be cleaned as described below wherein the counter cation or counter anion is removed and the cationic structure contained in the dispersant is counter cationic of the second xanthene dye can do.
  • compound type, nonionic, anionic or cationic dispersing agent can be used, and examples thereof include fluorine, ester, cationic, anionic, nonionic, amphoteric surfactants and the like. These may be used individually or in combination of two or more.
  • the dispersing agent may include an amine structure or an ammonium structure.
  • the amine structure may be a primary amine, a secondary amine or a tertiary amine.
  • the dispersing agent is selected from the group consisting of polyalkylene glycols and esters thereof, polyoxyalkylene polyhydric alcohols, ester alkylene oxide adducts, alcohol alkylene oxide adducts, sulfonic acid esters, sulfonates, carboxylic acid esters, Alkyl amide alkylene oxide adducts, and alkyl amines, but is not limited thereto.
  • the dispersant may be BYK LPN-21116, but is not limited thereto.
  • SOLSPERS-24000 SOLSPERS-24000
  • the dispersant may be represented by the following general formula (7).
  • Ra to Rd are the same or different from each other and each independently hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted alkenyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; A substituted or unsubstituted arylalkyl group; -L-NHCO-R; Or -L-OCO-R, or two of Ra to Rd may be bonded to each other to form a substituted or unsubstituted ring,
  • R is hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a substituted or unsubstituted arylalkyl group,
  • L is a substituted or unsubstituted alkylene group.
  • specific examples of the dispersant containing an ammonium structure include tetramethylammonium chloride (molecular weight of cation portion is 74), tetraethylammonium chloride (molecular weight of cation portion is 122), monostearyltrimethylammonium (Molecular weight of cation portion is 312), distearyldimethylammonium chloride (molecular weight of cation portion is 550), tristearylmonomethylammonium chloride (molecular weight of cation portion is 788), cetyltrimethylammonium chloride (molecular weight of cation portion (Molecular weight of cation portion is 368), dioctyldimethylammonium chloride (molecular weight of cation portion is 270), monolauryltrimethylammonium chloride (molecular weight of cation portion is 228), triaryldimethylsilyl chloride Ammonium chloride (molecular weight of the tetramethylammonium
  • Products include Quaternium 24P, Quaternary 86P Cone, Quaternary 60W, Quaternary 86W, Quaternium D86P, Sanizol C, Sanizol B-50; 2O-75I, 2HT-75, 2HT flakes, 2O-75I, 2HP-75 or 2HP flakes manufactured by Lion Corporation, Quadamin D86P (distearyldimethylammonium chloride) 2HT-75 (dialkyl (C14-C18) dimethylammonium chloride) is preferably used.
  • the dispersant may include a unit represented by the following formula (8).
  • Rb to Rd are the same or different from each other, and each independently hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted alkenyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a substituted or unsubstituted arylalkyl group, or two of Rb to Rd are bonded to each other to form a substituted or unsubstituted ring,
  • Z is an alkylene group; An arylene group; -L-NHCO-; Or -L-OCO-, L is an alkylene group,
  • Re to Rg are the same or different from each other and each independently represents hydrogen; Or an alkyl group.
  • the dispersant has a weight average molecular weight of 1,000 to 10,000. Preferably 3,000 to 8,000, and more preferably 5,000 to 7,000.
  • the end of the dispersant is hydrogen, a halogen group or an alkyl group.
  • the dispersant further includes at least one of the following formulas (9) to (12) in addition to the unit of the formula (8).
  • R 1, R 2, R 3, R 4, R 5 and R 6 are the same or different and each independently represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
  • Rk and Rs are the same or different and each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms
  • Ro is an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms
  • Rw and Rx are the same or different and each independently represents hydrogen, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms,
  • L 1 and L 2 are the same or different and each independently represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms; and m is an integer of 1 to 6.
  • the dispersant may comprise the following units, the rightmost unit of which is essential.
  • the acrylic resin is not particularly limited as long as it can exhibit physical properties such as strength and developability of a film made of a resin composition.
  • the acrylic resin may be a copolymer resin of a monomer having a polyfunctional monomer to impart mechanical strength and a monomer capable of imparting alkali solubility, and may further include a binder generally used in the art.
  • the multifunctional monomer which imparts the mechanical strength of the film is an unsaturated carboxylic acid ester; Aromatic vinyls; Unsaturated ethers; Unsaturated imides; And acid anhydrides.
  • unsaturated carboxylic acid esters include benzyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, isobutyl (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, ethylhexyl Hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (Meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, CDI ethylene glycol (Meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytri
  • aromatic vinyl monomers include aromatic vinyl monomers such as styrene,? -Methylstyrene, (o, m, p) -vinyltoluene, (o, Styrene, but are not limited thereto.
  • unsaturated ethers include, but are not limited to, vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, and allyl glycidyl ether.
  • unsaturated imide are selected from the group consisting of N-phenylmaleimide, N- (4-chlorophenyl) maleimide, N- (4-hydroxyphenyl) maleimide and N-cyclohexylmaleimide But is not limited to these.
  • Examples of the acid anhydride include maleic anhydride, methylmaleic anhydride, and tetrahydrophthalic anhydride, but are not limited thereto.
  • the alkali-solubilizing monomer is not particularly limited as long as it contains an acid group, and examples thereof include (meth) acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, monomethyl maleic acid, 5-norbornene- (Meth) acryloyloxy) ethyl phthalate, mono-2 - ((meth) acryloyloxy) ethyl succinate, omega -carboxypolycaprolactone mono But it is not limited to these.
  • the acid value of the acrylic resin is 50 to 130 KOH mg / g and the weight average molecular weight is 1,000 to 50,000.
  • the acrylic resin is selected from the group consisting of benzyl (meth) acrylate, styrene, N-phenylmaleimide, (meth) acrylic acid, and a chain transfer agent 3-mercaptopropionic acid, Ethoxy-ester. ≪ / RTI >
  • the acrylic resin is a mixture of benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, 3-mercaptopropionic acid as a chain transfer agent, and acetic acid 3-methoxyester followeded by further mixing tetrabutylammonium bromide and glycidyl (meth) acrylate.
  • the content of the colorant composition comprising the first and second xanthene dyes in the colorant dispersion may be from 5 to 20% by weight.
  • the acrylic resin may be 1-60 wt%
  • the dispersing agent may be 1-40 wt%
  • the solvent may be 10-90 wt% in the colorant dispersion.
  • One embodiment of the present disclosure relates to the above-described colorant dispersions; Blue colorant dispersion; Acrylic resin; Multifunctional monomers; Surfactants; Initiator; And a solvent. ≪ IMAGE >
  • the blue colorant dispersion was PB 15: 6 (BASF); Dispersing agent; Acrylic resin; menstruum; And beads. Further, a triarylmethane dye may be used instead of PB 15: 6 as the blue colorant dispersion.
  • the above-described colorant composition may further comprise at least one of a dye and a pigment.
  • a dye and a pigment examples of further included dyes and pigments are the same as those of dyes and pigments further included in the above-described colorant dispersions.
  • One of the dyes and pigments contained in the colorant composition may be contained in an amount of 1 to 50 parts by weight, preferably 10 to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the colorant composition.
  • acrylic resin the solvent and the bead, those exemplified in the colorant dispersion described above may be used.
  • the multifunctional monomer is a monomer that functions to form a photoresist phase by light.
  • Specific examples thereof include propylene glycol methacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol acrylate, neopentyl glycol di Acrylate, 6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol acrylate, tetraethylene glycol methacrylate, bisphenoxy ethyl alcohol diacrylate, trishydroxy ethylisocyanurate trimethacrylate, trimethyl 1, 2 or 3 groups selected from the group consisting of propane trimethacrylate, diphenyl pentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate and dipentaerythritol hexa methacrylate.
  • the initiator is not particularly limited as long as it is an initiator that generates radicals by light to induce crosslinking.
  • the initiator is selected from the group consisting of an acetophenone compound, a nonimidazole compound, a triazine compound, and an oxime compound Or more.
  • the acetophenone compound may be at least one selected from the group consisting of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) (2-hydroxyethoxy) -phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, Butyl ether, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-methyl- (4-methylthio) phenyl- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, or 2- (4-bromo-benzyl-2-dimethylamino- 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, and the like.
  • biimidazole-based compounds examples include 2,2-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis , 4 ', 5,5'-tetrakis (3,4,5-trimethoxyphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) 4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4,5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and the like , But is not limited thereto.
  • the triazine-based compound may be at least one selected from the group consisting of 3- ⁇ 4- [2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazin-6-yl] phenylthio ⁇ propionic acid, 1,1,1,3,3,3- (Trichloromethyl) -s-triazine-6-yl] phenylthio ⁇ propionate, ethyl 2- ⁇ 4- [2,4 Bis (trichloromethyl) -s-triazin-6-yl] phenylthio ⁇ acetate, 2- epoxyethyl-2- ⁇ 4- [ Yl] phenylthio ⁇ acetate, benzyl-2- ⁇ 4- [2- (4-fluorophenyl) (Trichloromethyl) -s-triazine-6-yl] phenylthio ⁇ acetate, 3- ⁇ chloro-4- [ (Phenylthio) propionic acid, 2,4- bis (trichloro
  • the oxime-based compound may be at least one selected from the group consisting of 1,2-octadione, -1- (4-phenylthio) phenyl, 2- (o-benzoyloxime) (Ciba Geigy, Shisei 124), ethanone, -Ethyl) -6- (2-methylbenzoyl-3-yl) -, 1- (O-acetyloxime) (Cajoo 242), N-1919 (Adeca), and the like.
  • the initial viscosity of the photosensitive resin composition and the change in viscosity measured after storage for 7 days at 40 ° C in a thermostat are 2 to 2.5%, and the average diameter of the dispersed particles is 40 nm to 100 nm.
  • the content of the acrylic resin is from 1 to 20% by weight
  • the content of the surfactant is from 0.1 to 20% by weight, and preferably from 0.1 to 20% by weight, based on the total weight of solid components in the photosensitive resin composition.
  • the content of the initiator is 0.1 to 20% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight
  • the content of the polyfunctional monomer is 0.1 to 30% by weight, preferably 1 to 15% by weight.
  • the content of the solvent may be 10 to 85% by weight, preferably 35 to 65% by weight, based on the total weight of the composition.
  • the colorant dispersion may be contained in an amount of 1 to 20% by weight, preferably 1 to 10% by weight based on the total weight of the composition, and the blue colorant dispersion may be contained in an amount of 1 to 50% by weight based on the total weight of the composition.
  • the content of the first and second xanthene dyes and the dispersant in the colorant dispersion may be 5 to 20% by weight.
  • the total weight of the solid content means the sum of the total weight of the components excluding the solvent in the resin composition.
  • the standard of weight percentage based on solid content and solid content of each component can be measured by general analytical means used in the art such as liquid chromatography or gas chromatography.
  • the above-mentioned photosensitive resin composition may further include at least one of a dye and a pigment.
  • a dye and a pigment examples of further included dyes and pigments are the same as those of dyes and pigments further included in the above-described colorant dispersions.
  • the resin composition may further comprise an antioxidant.
  • the content of the antioxidant may be 0.1% by weight to 20% by weight based on the total weight of the solid content of the resin composition.
  • the photosensitive resin composition may further include a surface additive.
  • a surface additive a hardening accelerator, an adhesion promoter, a surfactant, a thermal polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, a dispersing agent, a leveling agent, an antioxidant, and a multi-thiol photocrosslinking sensitizer may be used.
  • the surface additive may be contained in an amount of 0.1 to 5% by weight, preferably 0.5 to 1% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition.
  • the content of the surface additive may be 0.1% by weight to 20% by weight based on the total weight of the solid components in the photosensitive resin composition.
  • the photo-crosslinking sensitizer may be at least one selected from the group consisting of benzophenone, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylaminobenzophenone, Benzoate compounds such as benzoate, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, and 3,3,4,4-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone; Fluorene-based compounds such as 9-fluorenone, 2-chloro-9-proprenone and 2-methyl-9-fluorenone; Thioxanthone systems such as thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-chloro-4-propyloxytioxanthone, isopropylthioxanthone and diisopropylthioxanthone compound; Xanthone compounds
  • curing accelerator curing and mechanical strength are used, and specifically, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2- mercaptobenzoxazole, 2,5-dimercapto-1,3 , 4-thiadiazole, 2-mercapto-4,6-dimethylaminopyridine, pentaerythritol-tetrakis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol-tris (3-mercaptopropionate) (2-mercaptoacetate), trimethylolpropane-tris (2-mercaptoacetate), and trimethylolpropane-tris (3-mercaptopropionate) Nate) may be used.
  • adhesion promoter used in the present invention examples include methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, methacryloyloxypropyldimethoxysilane, methacryloyloxypropyltriethoxysilane, methacryloyloxypropyldimethoxysilane , And at least one selected from the group consisting of octyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane and the like as the alkyltrimethoxysilane can be used. You can choose to use it.
  • the surfactant is a silicone surfactant or a fluorine surfactant.
  • silicone surfactants include DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA and SH8400 from Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. as a commercial product; There are TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460 or TSF-4452 of GE Toshiba Silicones.
  • the above fluorinated surfactants are commercially available products of DIC F-470, F-471, F-475, F-482, or F-489.
  • KP Korean Nodetsugaku Kagaku Kogyo Co., Ltd.
  • POLYFLOW Kelvin Nodetsine Chemical Co., Ltd.
  • EFTOP manufactured by TOKEM PRODUCTS CO., LTD.
  • MEGAFAC Asoui guard Surflon (available from Asahi Glass Co., Ltd.)
  • SOLSPERSE Librisol
  • Flourad Suditomo 3M Co., Ltd.
  • EFKA EFKA Chemical
  • PB 821 Ajinomoto
  • Disperbyk-series BYK-chemi
  • the antioxidant may be at least one selected from the group consisting of a hindered phenol antioxidant, an amine antioxidant, a thio antioxidant, and a phosphine antioxidant, but is not limited thereto.
  • antioxidants include phosphoric acid type heat stabilizers such as phosphoric acid, trimethyl phosphate or triethyl phosphate; Butyl-p-cresol, octadecyl-3- (4-hydroxy-3,5-di-t- butylphenyl) propionate, tetrabis [methylene- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di- 4-hydroxybenzylphosphite diethyl ester, 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-g, (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-thiobis (3-methyl- (4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl) butanoic acid] glycol ester (Bis [3,3- Hindered phenol-based primary antioxidants such as esters; Amines such as phenyl-?
  • UV absorber 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chloro-benzotriazole and alkoxybenzophenone may be used. Anything that is commonly used can be used.
  • thermal polymerization inhibitor examples include p-anisole, hydroquinone, pyrocatechol, t-butyl catechol, N-nitrosophenylhydroxyamine ammonium salt, N-nitrosophenylhydroxy (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2-dimethyl-2-pyrrolidone, But are not limited to, methylene bis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptoimidazole, and phenothiazine, And may include those generally known in the art.
  • the leveling agent may be polymeric or non-polymeric.
  • Specific examples of the polymeric leveling agent include polyethyleneimine, polyamide amine, reaction products of amine and epoxide, and specific examples of the non-polymeric leveling agent include non-polymer sulfur-containing and non-polymer nitrogen- But are not limited to, compounds commonly used in the art may all be used.
  • An embodiment of the present invention provides a color filter comprising a transparent substrate and a colored layer provided on the transparent substrate, wherein the colored layer includes a cured product of the photosensitive resin composition.
  • the color filter can be produced using the resin composition.
  • the resin composition is coated on a substrate to form a coating film, and the coating film is exposed, developed, and cured to form a color filter.
  • the coating method is not particularly limited, but a spray method, a roll coating method, a spin coating method, or the like can be used, and generally, a spin coating method is widely used. After the coating film is formed, a part of the residual solvent may be removed under reduced pressure as occasion demands.
  • Examples of the light source for curing the resin composition according to the present invention include, but are not limited to, a mercury vapor arc, a carbon arc, and an Xe arc that emits light having a wavelength of 250 nm to 450 nm.
  • the resin composition according to one embodiment of the present invention can provide a color filter having a high color reproducibility and a high luminance and a high contrast ratio even when the color filter is cured during the production of the color filter due to its excellent heat resistance, have.
  • the substrate may be a glass plate, a silicon wafer, a plate of a plastic substrate such as polyethersulfone (PES), polycarbonate (PC), or the like, and the kind thereof is not particularly limited.
  • a plastic substrate such as polyethersulfone (PES), polycarbonate (PC), or the like, and the kind thereof is not particularly limited.
  • the color filter may include a red pattern, a green pattern, a blue pattern, and a black matrix.
  • the color filter may further include an overcoat layer.
  • a lattice-shaped black pattern called a black matrix can be arranged for the purpose of improving the contrast.
  • chromium can be used as the material of the black matrix.
  • a method of depositing chromium on the entire glass substrate and forming a pattern by an etching process can be used.
  • a resin black matrix by a pigment dispersion method capable of fine processing can be used.
  • the black matrix according to one embodiment of the present invention can use a black pigment or a black dye as a coloring material.
  • a black pigment or a black dye as a coloring material.
  • carbon black may be used alone, or a mixture of carbon black and a color pigment may be used.
  • the color pigment having insufficient light shielding property is mixed, the strength of the film or the adhesion to the substrate is lowered There is an advantage not to be.
  • the thickness of the colored layer of the color filter is 0 to 5 ⁇ ⁇ . Preferably 2.23 to 2.33 [mu] m.
  • a liquid crystal display including the color filter according to the present invention is provided.
  • the liquid crystal display may have a configuration known in the art, except that it includes the color filter described above.
  • the color change (DELTA Eab) value of the liquid crystal display device is 2.5 to 2.8.
  • Colorant composition comprising micronized colorant through micronization process
  • the first xanthene dye (Compound 1)
  • a first xanthene dye (Compound 1) represented by the following formula and 1 g of a second xanthene dye (Compound 3) represented by the following formula were placed in 100 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) Stir for 24 hours. Thereafter, the stirred solution was cooled to room temperature. Then, 1000 g of ethyl acetate was further added, and the mixture was further stirred for 30 minutes. Then, the precipitate was subjected to filtration and washing with water under reduced pressure. Thereafter, it was dried in a vacuum oven at 60 ⁇ for 24 hours to prepare a coloring material 4.
  • NMP N-methyl-2-pyrrolidone
  • the first xanthene dye (Compound 1)
  • the second xanthene dye (Compound 3)
  • the colorant composition 6 was prepared in the same manner as the colorant composition 5 except that the second xanthene dye (Compound 3) of the colorant composition 5 was changed to a second xanthene dye (Compound 4) having the following structure.
  • the second xanthene dye (Compound 4)
  • the colorant composition 7 was prepared in the same manner as the colorant composition 5 except that the second xanthene dye (compound 3) of the colorant composition 5 was changed to a second xanthene dye (compound 5) having the following structure.
  • the second xanthene dye (Compound 5)
  • methyl methacrylate 45.8 parts by weight of methyl methacrylate, 14.8 parts by weight of n-butyl methacrylate, 7.8 parts by weight of 2-ethylhexyl methacrylate, and 5.0 parts by weight of benzyl methacrylate, based on 100 parts by weight of the monomer or polymerization initiator, , 3.0 parts by weight of triethylene glycol methyl ether methacrylate, 18.9 parts by weight of 2-dimethylaminoethyl methacrylate, and 4.7 parts by weight of benzyl chloride salt were uniformly added, and the mixture was added to a dropping funnel. And the mixture was added dropwise to the flask over 2 hours.
  • Dispersion Resin 1 After 2 hours from the completion of the dropwise addition, it was confirmed from the solid content that the polymerization yield was 98.7% or more and the weight average molecular weight (Mw) was 5,500. Thereafter, 10.0 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether was added based on 100 parts by weight of the total weight of the dispersant including the resin having a cationic group in the side chain to prepare Dispersion Resin 1.
  • Colorant dispersion 5 was prepared using zirconia beads.
  • a colorant dispersion 6 was prepared in the same manner except that the colorant composition 4 was used instead of the colorant composition 3 in the colorant dispersion 5.
  • Colorant Dispersion 7 was prepared in the same manner except that Colorant Composition 5 was used instead of Colorant Composition 3 in Colorant Dispersion 5.
  • Colorant Dispersion 8 was prepared in the same manner except that Colorant Composition 6 was used instead of Colorant Composition 3 in Colorant Dispersion 5.
  • a colorant dispersion 9 was prepared in the same manner as in the colorant dispersion 5 except that the colorant composition 7 was used instead of the colorant composition 3
  • DIC F-475 0.8% by weight of a surfactant (DIC F-475), 10% by weight of a colorant dispersing agent 1, 6% by weight of the above blue colorant dispersion, 31.4% by weight of an acrylic resin 2, 8% by weight of a polyfunctional monomer BASF I-369) and 44.4% by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate were stirred to obtain Photosensitive Resin Composition 1.
  • DIC F-475 0.8% by weight of a surfactant (DIC F-475), 8% by weight of a colorant dispersing agent 5, 31.4% by weight of a blue colorant dispersion, 8% by weight of an acrylic resin 2, 8% by weight of a polyfunctional monomer BASF I-369) and 44.4% by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate were stirred to obtain a photosensitive resin composition 5.
  • a photosensitive resin composition 6 was prepared in the same manner except that the colorant dispersion 6 was used instead of the colorant dispersion 4 in the photosensitive resin composition 4.
  • a photosensitive resin composition 7 was prepared in the same manner except that the colorant dispersion 7 was used instead of the colorant dispersion 4 in the photosensitive resin composition 4.
  • a photosensitive resin composition 8 was prepared in the same manner except that the colorant dispersion 8 was used instead of the colorant dispersion 4 in the photosensitive resin composition 4.
  • a photosensitive resin composition 9 was prepared in the same manner except that the colorant dispersion 9 was used instead of the colorant dispersion 4 in the photosensitive resin composition 4.
  • the initial viscosity (A) at 25 ° C on the day when the photosensitive resin composition 1 was prepared was measured, and the viscosity after preservation in convection oven at 40 ° C for 7 days was measured using a viscometer (Toki Sangyo Viscometer TV-25) Respectively.
  • the rate of change in viscosity with time was calculated based on the following formula.
  • the storage stability was evaluated based on the following criteria. The evaluation results are shown in Table 1 below.
  • a 1 cm X 5 cm quartz cell was filled with about 1/4 of PGMEA, and about 1 to 2 drops of the prepared colorant dispersion was dropped.
  • a particle size analyzer Mervern Zetasizer nano-ZS90. The results of the particle size measurement are shown in Table 1 below.
  • the photosensitive resin composition 1 was spin-coated on glass (5 x 5 cm) and pre-baked at 100 ° C for 100 seconds to form a film.
  • the distance between the substrate on which the film was formed and the photo mask was set at 250 mu m and the entire surface of the substrate was irradiated with an exposure dose of 40 mJ / cm < 2 >
  • the exposed substrate was developed in a developing solution (KOH, 0.05%) for 60 seconds and post baked at 230 ⁇ for 20 minutes to obtain a color pattern.
  • KOH developing solution
  • the color pattern was measured with a spectrophotometer (MCPD) to obtain the transmittances of Examples 1-2 and 1-3.
  • the substrate was further heat treated in a convection oven at 230 ° C for 5 hours and 30 minutes, And the value of? Eab was confirmed.
  • the thickness of the color filter film made of the photosensitive resin composition 1 was measured using a thin film thickness measuring apparatus (Alpha step) and is shown in Table 2 below.
  • Viscosity change rate (%) Storage stability evaluation result Dispersed colorant particle size measurement result (nm) Example 1 -2 ⁇ 49 Example 2 -2.5 ⁇ 46 Comparative Example 1 -7 ⁇ 60 Comparative Example 2 Can not measure (Gel) X 55 Comparative Example 3 -6 ⁇ 58
  • the diameters of the dispersed colorant particles of Examples 1 and 2 were smaller than those of Comparative Examples 1 to 3, indicating that the dispersibility of the dye was improved.
  • Example 3 was carried out in the same manner as in Example 1 except that the photosensitive resin composition 1 was used instead of the photosensitive resin composition 1
  • Example 4 was the same as Example 1 except that the photosensitive resin composition 1 was replaced with the photosensitive resin
  • Example 5 was carried out in the same manner except that the photosensitive resin composition 8 was used in place of the photosensitive resin composition 1 in Example 1
  • Example 6 was carried out in the same manner as in Example 1 except that the photosensitive resin composition 9 was used instead of the photosensitive resin composition 1 described above.
  • the rate of change in viscosity was smaller than those in Comparative Examples 1 to 3, and as a result of evaluation of storage stability, results were shown as? In the same manner as in Examples 1 and 2, And it was confirmed that it is excellent.
  • the heat resistance ( ⁇ Eab) in Table 2 means that the smaller the ⁇ Eab value, the better the heat resistance. According to the results of Table 2, it can be seen that the transmittances of Examples 1 and 2 are improved as compared with Comparative Examples 1 to 3. In addition, the ⁇ Eab values in Examples 1 and 2 are smaller than those in Comparative Examples 1 to 3, confirming that the heat resistance is excellent. In addition, it was confirmed that the measured film thicknesses of Examples 1 and 2 were smaller than those of Comparative Examples 1 to 3, and a high color reproduction ratio could be obtained with a relatively small amount of color material.
  • Examples 3 to 6 further have high transmittance and low film thickness as compared with Comparative Examples 1 to 3.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 명세서는 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 제1 크산텐계 염료 및 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 제2 크산텐계 염료를 제1 용매에 용해시키는 단계; 및 용해된 상기 제1 크산텐계 염료 및 상기 제2 크산텐계 염료를 제2 용매 중에서 석출하는 단계를 포함하는 착색제 조성물 제조방법, 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치에 관한 것이다.

Description

착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치
본 출원은 2017년 11월 28일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제10-2017-0160329호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.
본 발명은 착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치에 관한 것이다.
최근 액정 디스플레이(LCD)의 광원으로 기존의 CCFL을 대신하여, 구동도 액정도 아닌 자체 발광을 하는 LED 또는 OLED 소자가 많이 이용되고 있다. LED 또는 OLED를 광원으로 이용하게 되면 자체로 적색, 녹색, 청색의 광이 나오기 때문에 별도의 컬러필터를 필요로 하지 않는다.
그러나, 일반적으로 LED 또는 OLED 광원으로부터 나오는 광을 이용하여, 요구되는 색좌표를 맞추거나, 조절하기는 쉽지 않다.
한편, 현재 컬러필터를 구현하기 위하여 안료를 착색제로 사용한 안료 분산법이 일반적으로 적용되고 있다. 그러나, 안료 분산액의 경우 안료가 입자상태로 존재하여 빛을 산란시킬 뿐만 아니라 안료의 미세화로 인해 안료 표면적이 급격하게 증가하게 되고, 이로 인한 분산 안정성의 악화로 불균일한 안료입자가 생성되게 된다. 따라서, 최근 요구되고 있는 고휘도, 고명암비 및 고해상도를 달성하기 위하여 착색제로 안료 대신 염료를 사용하는 것이 검토되어 왔다.
그러나, 일반적으로 염료는 용해도가 낮기 때문에 분산이 잘 되지 않아, 컬러필터의 명도를 충분히 만족시킬 수 없었다.
본 발명은 염료 입자를 용매에 용해하여 석출시키는 과정을 거침으로써 염료 입자의 직경이 작은 착색제 분산액을 제공할 수 있는 착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액 및 감광성 수지 조성물을 제공하고자 한다. 또한, 본 발명은 상기와 같은 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터 및 이를 포함하는 액정 표시 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시상태는 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 제1 크산텐계 염료 및 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 제2 크산텐계 염료를 제1 용매에 용해시키는 단계; 및 용해된 상기 제1 크산텐계 염료 및 상기 제2 크산텐계 염료를 제2 용매 중에서 석출하는 단계를 포함하는 착색제 조성물 제조방법을 제공한다.
본 발명의 또 하나의 일 실시상태는 상기 제조방법으로부터 제조된 착색제 조성물을 제공한다.
본 발명의 또 하나의 일 실시상태는 상기 착색제 조성물; 분산제; 아크릴 수지; 및 용매를 포함하는 착색제 분산액을 제공한다.
본 발명의 또 하나의 일 실시상태는 상기 착색제 분산액; 청색 착색제 분산액; 아크릴 수지; 다관능성 모노머; 계면활성제; 개시제; 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
본 발명의 또 하나의 일 실시상태는 투명 기판과 상기 투명 기판 위에 구비된 착색층을 구비하는 컬러필터로서, 상기 착색층은 상기 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 것인 컬러필터를 제공한다.
본 발명의 또 하나의 일 실시상태는 상기 컬러필터를 포함하는 액정 표시 장치를 제공한다.
본 발명의 실시상태들에 따르면, 직경이 작은 염료 입자를 포함하는 착색제 조성물 및 착색제 분산액을 얻을 수 있으며, 이에 따라 내열성, 안정성 및 착색력이 우수하고, 적은 양의 색재로 높은 색재현율을 얻을 수 있는 감광성 수지 조성물을 얻을 수 있다.
본 발명의 일 실시상태는 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 제1 크산텐계 염료 및 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 제2 크산텐계 염료를 제1 용매에 용해시키는 단계; 및 용해된 상기 제1 크산텐계 염료 및 상기 제2 크산텐계 염료를 제2 용매 중에서 석출하는 단계를 포함하는 착색제 조성물 제조방법을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 제1 크산텐계 염료와 제2 크산텐계 염료를 모두 용해시키는 용매에서, 제1 염료와 제2 염료가 용매에 의해 충분히 용매화(solvation)가 진행되어 제1 크산텐계 염료와 제2 크산텐계 염료가 단분자 거동을 한다. 구체적으로, 제1 크산텐계 염료와 제2 크산텐계 염료는 모두 크산텐계 염료로서 유사한 구조를 가진다. 이와 같이 유사한 구조를 가짐으로써, 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료는 용매 내에서 파이-파이 상호작용(π-π interaction)을 이룰 수 있다.
본 발명의 제1 크산텐계 염료는 동일한 수의 양전하와 음전하를 가지므로 중성화되어 있고, 제2 크산텐계 염료는 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많아 음이온성을 띠게 된다. 음이온성을 띠는 제2 크산텐계 염료에 양이온성을 갖는 분산제가 이온 결합하여 복합체를 형성할 수 있다. 상기 복합체에 중성화된 제1 크산텐계 염료가 결합할 수 있다.
이로 인해, 제1 크산텐계 염료 간 또는 제2 크산텐계 염료 간의 응집을 막을 수 있어, 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료의 분산성이 향상된다. 이에 따라, 입자의 직경이 작고 표면적이 넓은 염료를 얻을 수 있고, 효과적으로 빛을 흡수할 수 있게 되어 착색력을 높일 수 있다.
그러나, 제1 크산텐계 염료만을 용매에 용해하지 않고 미세화하여 분산액을 제조하는 경우, 상기 제1 크산텐계 염료는 동일한 수의 양전하와 음전하를 가지므로 중성화 되어 있어 양이온성을 갖는 분산제와 이온 결합하기 어렵다. 따라서, 제1 크산텐계 염료만 존재하는 경우 염료가 용매 내에 분산되기 어려워 염료 입자의 직경이 증가한다.
또한, 제2 크산텐계 염료만을 용매에 용해하지 않고 미세화하여 분산액을 제조하는 경우, 제2 크산텐계 염료를 미세화한 후 물을 이용하여 수세 과정을 거치는 과정에서 염료가 소실 될 수 있다. 구체적으로, 상기 제2 크산텐계 염료는 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많아 음이온성을 띠며, 상기 음이온성기가 술폰산염기일 수 있다. 술폰산염기를 포함하는 색재는 물에 쉽게 이온화되어 녹게 된다. 이로 인해, 색재가 소실될 수 있다.
그리고, 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료를 용매에 용해하지 않고 미세화하여 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물을 제조하는 경우, 상기 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료가 용매 내에서 파이-파이 상호작용(π-π interaction)을 충분히 이룰 수 없다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 필요에 따라 아민 구조 또는 암모늄 구조를 포함하는 단분자 또는 고분자를 포함하는 분산제는 상기 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료를 제2 용매 중에서 석출하는 단계에 더 포함할 수 있다. 아민 구조 또는 암모늄 구조를 포함하는 단분자 또는 고분자를 포함하는 분산제를 더 포함하는 경우, 염료를 석출하는 단계에서 보다 균일하게 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료의 상호 작용을 도울 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 필요에 따라 상기 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료를 제1 용매에 용해시키는 단계는 제1 염료 및 제2 염료를 제1 용매에 넣고 -5 내지 200℃에서 10 내지 30시간 동안, 바람직하게는 22 내지 26시간동안 교반하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 교반하는 단계에 의해 제조된 용액은 제조 이후 온도를 낮출 수 있다. 필요에 따라 온도는 상온까지 낮출 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 필요에 따라 상기 용해된 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료를 제2 용매 중에서 석출하는 단계는 상기 제1 염료 및 제2 염료가 제 1 용매및 제 2용매에 충분히 용매화(solvation)되어야 하며, 10분 내지 3시간 동안, 바람직하게는 15분 내지 45분 동안 교반하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 석출된 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료를 포함하여 착색제 조성물을 제조하는 단계는 상기 석출된 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료를 감압하에서 여과 및 수세 과정을 거치는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 여과 및 수세 과정을 거치는 단계를 거친 후, 건조하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 건조하는 단계는 제1 용매와 제2 용매를 50 내지 70℃, 바람직하게는 55 내지 65℃의 진공 오븐에서, 10 내지 30시간 동안, 바람직하게는 22 내지 26시간 동안 이루어질 수 있다.
본 발명의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 제1 크산텐계 염료는 500 내지 580 nm 사이에 최대 흡수 파장을 갖고, 상기 제1 크산텐계 염료의 최대 흡수 파장과 상기 제2 크산텐계 염료의 최대 흡수 파장의 차이는 0 초과 100nm 이하이다. 0 초과 50nm 이하가 바람직하며, 0 초과 20nm 이하가 가장 바람직하다. 상기 실시상태에 따르면, 제1 크산텐계 염료만 존재하는 경우 분산안정성이 좋지 않지만, 화학 구조 및 흡수 특성이 유사한 제2 크산텐계 염료를 혼합하여 사용함으로써, 원래 제1 크산텐계 염료로 구현하고자 하는 색상을 구현하면서도, 분산안정성을 크게 개선할 수 있다.
본 명세서에 있어서, 제1 크산텐계 염료는 제1 염료로, 제2 크산텐계 염료는 제2 염료로 서술될 수 있다.
본 명세서의 또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 크산텐계 염료는 하기 화학식 1로 표시되고, 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 염료를 포함하고, 상기 제2 크산텐계 염료는 하기 화학식 2로 표시되고, 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 염료를 포함한다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000001
상기 화학식 1에 있어서,
R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 음이온성기; 히드록시기; 술폰아미드기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 및 질소 원자를 포함하는 이무수물기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
R5 내지 R9는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 음이온성기; 히드록시기; 술폰아미드기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되며, 단 상기 R5 내지 R9 중 적어도 하나는 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이고,
R10 및 R11는 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트로기; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이고, r10 및 r11은 0 내지 3의 정수이며, 상기 r10 및 r11이 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하다.
[화학식 2]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000002
상기 화학식 2에 있어서,
R21 내지 R24는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 음이온성기; 히드록시기; 술폰아미드기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 및 질소 원자를 포함하는 이무수물기로 이루어진 군으로부터 선택되며, R21 내지 R24 중 적어도 하나는 음이온성기, 술폰산염기, 또는 술폰아미드기로 치환 또는 비치환된 알킬기; 음이온성기, 술폰산염기, 또는 술폰아미드기로 치환된 아릴기; 또는 음이온성기, 술폰산염기, 또는 술폰아미드기로 치환된 헤테로아릴기이고,
R25 내지 R29는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 음이온성기; 히드록시기; 술폰아미드기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되며, 단 상기 R25 내지 R29 중 적어도 하나는 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이고,
R30 및 R31는 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트로기; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이고, r30 및 r31은 0 내지 3의 정수이며, 상기 r30 및 r31가 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 질소 원자를 포함하는 이무수물기로 이루어진 군으로부터 선택되며, 상기 R21 내지 R24는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 질소 원자를 포함하는 이무수물기로 이루어진 군으로부터 선택되고, 나머지 치환기들은 앞에서 정의한 바와 같다.
본 명세서의 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 질소 원자를 포함하는 이무수물기이다.
본 명세서의 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R4는 수소; 음이온성기 또는 알킬기로 치환된 아릴기; 또는 질소 원자를 포함하는 이무수물기로 치환 또는 비치환된 알킬기이다.
본 명세서의 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R4는 수소; 메틸기로 치환된 페닐기; 메틸기 및 음이온성기로 이루어진 군에서 하나 이상 선택된 것으로 치환된 페닐기; 에틸기; 프로필기; 또는 질소 원자를 포함하는 이무수물기로 치환된 프로필기이다.
본 명세서의 상기 화학식 1에 있어서, R5 내지 R9는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 음이온성기이다.
본 명세서의 상기 화학식 1에 있어서, R5 내지 R9는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 SO3 -이다.
본 명세서의 상기 화학식 1에 있어서, R10 및 R11는 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 또는 중수소이고, r10 및 r11은 0 내지 3의 정수이며, 상기 r10 및 r11이 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 상기 화학식 2에 있어서, R21 내지 R24는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 질소 원자를 포함하는 이무수물기이다.
본 명세서의 상기 화학식 2에 있어서, R21 내지 R24는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 헤테로고리기로 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 알킬기, 술폰산염기 및 음이온성기로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것으로 치환된 아릴기이다.
본 명세서의 상기 화학식 2에 있어서, R21 내지 R24는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 에틸기; 프로필기; 질소 원자를 포함하는 이무수물기로 치환된 프로필기; 메틸기로 치환된 페닐기; 또는 메틸기, 술폰산염기 및 음이온성기로 이루어진 군에서 하나 이상 선택된 것으로 치환된 페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 크산텐계 염료는 하기 화학식 1-1로 표시되고, 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 염료를 포함하고, 상기 제2 크산텐계 염료는 하기 화학식 2-1로 표시되고, 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 염료를 포함한다.
[화학식 1-1]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000003
[화학식 2-1]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000004
상기 화학식 1-1 및 2-1에 있어서,
Y는 음이온이고,
a는 양전하보다 많은 음전하의 수이다.
나머지 치환기들은 앞에서 정의한 바와 같다.
본 명세서에 있어서, 음이온이란 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 원소 및 산소를 포함하는 화합물의 음이온; 보레이트를 포함하는 음이온; 이미드를 포함하는 음이온; 또는 탄소음이온일 수 있으나, 이들에 한정되지 않는다.
상기 a에 대해 정의한 양전하보다 많은 음전하의 수란, 예컨대, 제2 크산텐계 염료에 포함된 양전하의 수가 1 이면, a는 2이상이며, 양전하의 수가 2이면, a는 3이상일 수 있다.
본 명세서에서 "치환 또는 비치환된" 이라는 용어는 중수소; 할로겐기; 알킬기; 알케닐기; 알콕시기; 시클로알킬기; 아릴알케닐기; 아릴기; 아릴옥시기; 아릴알킬기; 아릴알케닐기; 알킬아민기; 아랄킬아민기; 아릴아민기; 헤테로아릴기; 히드록시기; 시아노기; N, O, S 또는 P 원자 중 1개 이상을 포함하는 헤테로 고리기; 질소 원자를 포함하는 이무수물기; 술폰산염기; 술폰아미드기 및 음이온성기를 포함하는 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환되었거나 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다.
본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 헵틸기 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 알케닐기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 2 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 스틸베닐기(stylbenyl), 스티레닐기(styrenyl)기 등의 아릴기가 치환된 알케닐기가 바람직하나 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 알콕시기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 30인 것이 바람직하다.
본 명세서에 있어서, 상기 알케닐옥시기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 2 내지 30인 것이 바람직하다.
본 명세서에 있어서, 시클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 3 내지 20인 것이 바람직하며, 특히 시클로펜틸기, 시클로헥실기가 바람직하다.
본 명세서에 있어서, 할로겐기의 예로는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드가 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 아릴알킬기는 구체적으로 아릴부분은 탄소수 6 내지 30이고, 알킬 부분은 탄소수 1 내지 30이다. 구체적인 예로는 벤질기, p-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-에틸벤질기, m-에틸벤질기, 3,5-디메틸벤질기, α-메틸벤질기, α,α-디메틸벤질기, α,α-메틸페닐벤질기, 1-나프틸벤질기, 2-나프틸벤질기, p-플루오르벤질기, 3,5-디플루오르벤질기, α,α-디트리플루오로메틸벤질기, p-메톡시벤질기, m-메톡시벤질기, α-페녹시벤질기, α-벤질기옥시벤질기, 나프틸메틸기, 나프틸에틸기, 나프틸이소프로필기, 피롤릴메틸기, 피롤렐에틸기, 아미노벤질기, 니트로벤질기, 시아노벤질기, 1-히드록시-2-페닐이소프로필기, 1-클로로-2-페닐이소프로필기 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 아릴알케닐기의 아릴부분은 후술하는 아릴에 관한 설명이 적용될 수 있고, 알케닐 부분은 전술한 알케닐기에 관한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 아릴기는 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다.
상기 아릴기가 단환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 6 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적으로 단환식 아릴기로는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 아릴기가 다환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나. 탄소수 10 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적으로 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 플루오레닐기는 치환기를 가질 수 있으며, 치환기들이 결합하여 스피로 구조를 형성할 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 헤테로고리기는 이종원자로 O, N 또는 S를 포함하는 헤테로 고리기로서, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 2 내지 30인 것이 바람직하다. 헤테로 고리기의 예로는 티오펜기, 퓨란기, 피롤기, 이미다졸기, 티아졸기, 옥사졸기, 옥사디아졸기, 트리아졸기, 피리딜기, 비피리딜기, 트리아진기, 아크리딜기, 피리다진기, 퀴놀리닐기, 이소퀴놀린기, 인돌기, 카바졸기, 벤조옥사졸기, 벤조이미다졸기, 벤조티아졸기, 벤조카바졸기, 벤조티오펜기, 디벤조티오펜기, 벤조퓨라닐기, 디벤조퓨란기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 질소 원자를 포함하는 이무수물기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 4 내지 20인 것이 바람직하다. 예컨대, 이소인돌린-1,3-다이온일 수 있다.
본 명세서에서 알킬렌기는 알칸(alkane)에 결합위치가 두 개 있는 것을 의미한다. 상기 알킬렌기는 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄일 수 있다. 알킬렌기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 예컨대 탄소수 1 내지 30이다.
본 명세서에 있어서, 술폰산염기는 -SO3X'와 같이 표현될 수 있으며, X'는 수소 또는 1족 원소일 수 있다. 예컨대, 술폰산염기는 -SO3H, -SO3Li, -SO3K 또는 -SO3Na가 있다.
본 명세서에 있어서, 술폰아미드기는 -SO2NRxRy와 같이 표현될 수 있으며, 예컨대, Rx 및 Ry는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 단환 또는 다환의 헤테로아릴기이다.
본 명세서에서 음이온성기는 화학식 1의 구조와 화학적인 결합을 가지며, 상기 음이온성기는, 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 미국 특허 제7,939,644호, 일본 특개 제2006-003080호, 일본 특개 제2006-001917호, 일본 특개 제2005-159926호, 일본 특개 제2007-7028897호, 일본 특개 제2005-071680호, 한국 출원 공개 제2007-7000693호, 일본 특개 제2005-111696호, 일본 특개 제2008-249663호, 일본 특개 제2014-199436에 기재되어 있는 음이온들이 적용될 수 있다. 상기 음이온성기의 구체적인 예로는, 트리플루오르메탄설폰산 음이온, 비스(트리플루오로메틸술포닐)아미드 음이온, 비스트리플루오르메탄설폰이미드 음이온, 비스퍼플루오르에틸설폰이미드 음이온, 테트라페닐보레이트 음이온, 테트라키스(4-플루오로페닐)보레이트, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리스트리플루오로메탄설포닐메티드, SO3 -, CO2 -, SO2N-SO2CF3, SO2N-SO2CF2CF3, 할로겐기, 예컨대 불소기, 요오드기, 염소기 등이 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 음이온성기는 그 자체로 음이온을 가질 수 있으며, 또는 다른 양이온과 함께 착화합물 형태로 존재할 수 있다. 따라서 치환된 음이온성기의 개수에 따라서 본 발명의 화합물 분자 전체 전하의 합이 변할 수 있다. 본 발명의 화합물의 아민기 하나에 양이온을 갖고 있기 때문에 분자 전체 전하의 합은 치환된 음이온성기의 개수에서 1을 뺀 값만큼의 음이온부터 0까지의 값을 가질 수 있다.
본 명세서에 있어서, 단량체란 중합체를 구성하는 반복 단위로서, 상기 단량체는 중합체 내 주쇄에 포함되어 중합체를 구성할 수 있다.
본 명세서에 있어서, 단위란 단량체가 중합체에 포함되는 반복 구조로서, 단량체가 중합체에 의하여 중합체 내에 결합된 구조를 의미한다.
본 명세서의 또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 크산텐계 염료는 하기 화학식 3으로 표시되고, 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 염료를 포함하고, 상기 제2 크산텐계 염료는 하기 화학식 4로 표시되고, 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 염료를 포함한다.
[화학식 3]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000005
[화학식 4]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000006
화학식 3 및 4에 있어서,
R12, R13, R32 및 R33은 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트로기; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이고, r12 및 r13은 0 내지 5의 정수이고, r32는 0 내지 5의 정수이며, r33는 0 내지 4의 정수이고, r12, r13, r32 및 r33이 각각 2인 경우, 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하고,
R61 및 R62는 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 질소 원자를 포함하는 이무수물기이고,
X는 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이며,
나머지 치환기들은 앞에서 정의한 바와 같다.
일 예에 따르면, R61 및 R62는 각각 수소일 수 있다.
본 명세서의 또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 크산텐계 염료는 하기 화학식 3-1으로 표시되고, 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 염료를 포함하고, 상기 제2 크산텐계 염료는 하기 화학식 4-1로 표시되고, 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 염료를 포함할 수 있다.
[화학식 3-1]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000007
[화학식 4-1]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000008
화학식 3-1 및 4-1에 있어서,
R12, R13, R32 및 R33은 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트로기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이고, r12 및 r13은 0 내지 5의 정수이고, r32 는 0 내지 5의 정수이며, r33는 0 내지 4의 정수이고, r12, r13, r32 및 r33이 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하고,
X는 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이며,
나머지 치환기들은 앞에서 정의한 바와 같다.
일 예에 따르면, R61 및 R62는 각각 수소일 수 있다.
상기 화학식 4의 염료를 포함하는 제2 크산텐계 염료를 이용하는 경우, 상기 착색제 조성물은 하기 화학식 4-2의 염료를 더 포함할 수 있다.
[화학식 4-2]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000009
화학식 4-2에 있어서,
R50 내지 R53은 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트로기; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이고, r50 및 r51은 0 내지 4의 정수이고, r52 및 r53은 0 내지 3의 정수이며, r50 내지 r53이 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하고,
Xa 및 Xb는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이고,
R45 내지 R49는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 음이온성기; 히드록시기; 술폰아미드기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되며, 단 상기 R45 내지 R59 중 적어도 하나는 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이다.
본 발명의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 제1 크산텐계 염료는 하기 화학식 5로 표시되고, 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 염료를 포함하고, 상기 제2 크산텐계 염료는 하기 화학식 6으로 표시되고, 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 염료를 포함한다.
[화학식 5]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000010
[화학식 6]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000011
화학식 5 및 6에 있어서,
R14 내지 R17, 및 R34 내지 R37은 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 알킬기이고,
R61 및 R62는 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 질소 원자를 포함하는 이무수물기이며,
X1 내지 X3은 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이다.
일 예에 따르면, R14 내지 R17, 및 R34 내지 R37은 메틸기일 수 있다.
일 예에 따르면, R61 및 R62는 각각 수소일 수 있다.
본 명세서의 또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 크산텐계 염료는 하기 화학식 5-1로 표시되고, 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 염료를 포함하고, 상기 제2 크산텐계 염료는 하기 화학식 6-1으로 표시되고, 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 염료를 포함할 수 있다.
[화학식 5-1]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000012
[화학식 6-1]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000013
화학식 5-1 및 6-1에 있어서,
Y는 음이온이고,
a는 양전하보다 많은 음전하의 수이며,
나머지 치환기들은 앞에서 정의한 바와 같다.
일 예에 따르면, R61 및 R62는 각각 수소일 수 있다.
일 예에 따르면, 상기 화학식 6의 염료를 포함하는 제2 크산텐계 염료를 사용하는 경우, 상기 착색제 조성물은 하기 화학식 6-2의 염료를 더 포함할 수 있다.
[화학식 6-2]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000014
화학식 6-2에 있어서,
R38 내지 R41은 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 알킬기이고,
X4 내지 X6은 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 제1 크산텐계 염료는 하기 구조들 중 어느 하나일 수 있다.
Figure PCTKR2018006383-appb-I000015
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 구조들로 표시될 수 있으며, 하기 구조들은 상기 화학식 1의 이성질체를 나타내는 것이고, 상기 화학식 1이 대표 구조를 나타낸다. 이성질체란, 분자식은 같으나 서로 다른 물리/화학적 성질을 갖는 분자들을 의미한다.
Figure PCTKR2018006383-appb-I000016
상기 이성질체에 대한 설명은 본 명세서에 기재된 크산텐계 염료 구조 모두에 적용될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 제2 크산텐계 염료는 하기 구조들 중 어느 하나일 수 있다.
Figure PCTKR2018006383-appb-I000017
Figure PCTKR2018006383-appb-I000018
본 발명에 있어서, 상기 제1 용매는 상기 제1 크산텐계 염료와 상기 제2 크산텐계 염료를 모두 용해시킬 수 있는 것으로서, 상기 제1 용매의 상기 제1 크산텐계 염료 및 상기 제2 크산텐계 염료에 대한 용해도는 0.2 내지 50질량%이고, 제2 용매의 상기 제1 크산텐계 염료 및 상기 제2 크산텐계 염료에 대한 용해도는 0.000001 내지 0.02질량% 일 수 있다.
또 하나의 일 실시상태에서 있어서, 상기 제1 크산텐계 염료는 10g, 제2 크산텐계 염료는 1g일 수 있고, 상기 제1 용매 및 제2 용매의 중량의 합은 100g일 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 제1 용매는 술폭시드 화합물 또는 아미드 화합물을 포함할 수 있다. 상기 술폭시드 화합물은 예컨대 디메틸술폭시드, 디에틸술폭시드, 헥사메틸렌 술폭시드 또는 술포란일 수 있다. 상기 아미드 화합물은 예컨대 N-디메틸포름아미드, 1-메틸-2-피롤리돈, 2-피롤리디논, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 2-피롤리디논, ε-카프로락탐, 포름아미드, N-메틸포름아미드, 아세토아미드, N-메틸아세토아미드, N,N-디메틸아세토아미드, N-메틸프로판아미드 또는 헥사메틸포스포릭 트리아미드일 수 있다.
구체적으로 상기 제1 용매는 N-메틸피롤리돈 또는 디메틸포름아마이드일 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제2 용매는 물, 염산, 수산화나트륨, 알코올 화합물, 케톤 화합물, 에테르 화합물, 방향족 화합물, 이황화탄소, 지방족 화합물, 니트릴 화합물, 할로겐 화합물, 에스테르 화합물 및 이온성 액체로 이루어진 군에서 1 또는 2 이상을 포함할 수 있다.
상기 알코올 화합물은 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로필알콜, n-프로필 알코올 또는 1-메톡시-2-프로판올 일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 케톤 화합물은 예컨대 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
상기 에테르 화합물은 예컨대 디메틸에테르, 디에틸에테르 또는 테트라히드로퓨란일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
상기 방향족 화합물은 예컨대 벤젠 또는 톨루엔 일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
상기 지방족 화합물은 예컨대 헥산일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
상기 니트릴 화합물은 얘컨대 아세토니트릴일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
상기 할로겐 화합물은 예컨대 디클로로메탄 또는 트리클로로에틸렌일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
상기 에스테르 화합물은 예컨대 디메틸에테르, 디에틸에테르, 테트라히드로퓨란 일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
상기 이온성 액체는 1-부틸-3-메틸이미다졸륨과 헥사플루오로포스페이트(PF6-)의 염일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
구체적으로 상기 제2 용매는 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸 에틸 에테르, 클로로포름, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에텐, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 프로판올, 부탄올, t-부탄올, 2-에톡시 프로판올, 2-메톡시 프로판올, 3-메톡시 부탄올, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로펠렌글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 셀로솔브아세테이트, 메틸 셀로솔브아세테이트, 부틸 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 제2 용매는 에틸아세테이트 또는 디에틸에테르일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 염료의 중량은 제1 염료 중량 대비 0.001 내지 99.999%, 바람직하게는 0.05 내지 1.0%일 수 있다. 또한, 상기 제1 용매 및 제2 용매를 포함하는 용매 전체 중량은 제1 염료 및 제2 염료의 전체 중량 대비 1 내지 100배, 바람직하게는 5 내지 15배 일 수 있다.
본 명세서의 또 하나의 일 실시상태는 전술한 착색제 조성물; 분산제; 아크릴수지; 및 용매를 포함하는 착색제 분산액을 제공한다. 본 명세서에서 착색제 분산액은 용어 밀베이스(millbase)로 대체될 수 있다. 여기서, 착색제 분산액에 포함되는 착색제 조성물은 용매가 제거된 상태를 의미한다. 착색제 조성물에 염이 사용된 경우, 염도 용매와 함께 세척에 의하여 제거된 후 착색제 분산액에 포함된다.
일 실시상태에 따르면, 상기 착색제 분산액은 비드를 더 포함할 수 있다. 비드는 입경이 0.05 내지 1.5 mm의 것을 사용할 수 있다. 구체적인 예로서, 입경이 0.1mm, 0.3mm, 0.5mm, 0.8mm, 및/또는 1mm인 비드를 사용할 수 있다. 비드의 재료는알루미늄 옥사이드, 알루미늄 실리케이트, 지르코늄 옥사이드, 및/또는 실리콘 나이트라이드 중 1종 이상이 사용될 수 있다. 비드의 사용량은 특별히 한정되지 않으나, 착섹제 조성물 및 분산제의 합계 중량 대비 10배 내지 40배로 사용될 수 있다. 이와 같은 비드는 착색제 분산액에 포함된 조성들을 조성 성분들을 분산시키는 역할을 할 수 있다.
본 발명의 또 하나의 실시상태에 따르면, 전술한 착색제 분산액은 추가로 염료 및 안료 중 1종 이상을 더 포함할 수 있다. 일 예로서, 상기 착색제 분산액은 프탈로시아닌 안료를 더 포함할 수 있으며, 예컨대 PB15:6을 포함할 수 있다. 또한, 금속비치환 프탈로시아닌계(Metal-free phthalocyanine) 안료 또는 염료, 금속 치환프탈로시아닌계(Metal phthalocyanine) 안료 또는 염료, 트리아릴메탄계(Triarylmethane) 안료 또는 염료, 퀴노프탈론계(Quinophthalone) 안료 또는 염료, 아이소인돌린계(Isoindoline) 안료 또는 염료, 아조계(Azo) 안료 또는 염료, 금속 착물 아조계(Azo-metal complex) 안료 또는 염료, 퍼릴렌계(Perylene) 안료 또는 염료, 디케토피롤로피롤계(Diketopyrrolo-pyrrole) 안료 또는 염료, 안트라퀴논계(Anthraquinone) 안료 또는 염료, 다이피롤로 메탄계(Dipyrromethene) 안료 또는 염료, 포피린계(Porphyrin) 안료 또는 염료, 테트라아자포피린(Tetra aza porphyrin) 안료 또는 염료, 로다민계(Rhodamine) 안료 또는 염료, 및 크산텐계(Xanthene) 안료 또는 염료로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 안료 또는 염료가 더 포함될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 착색제 조성물 제조방법은 상기 석출된 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료를 미세화하는 단계를 더 포함할 수 있다. 미세화하는 단계는 물리적인 힘을 가하여 착색제 조성물을 미세화하는 공정을 의미한다. 일 예에 따르면, 상기 미세화 공정에 의하여 상기 착색제 조성물의 분산된 입자 직경은 직경은 40 nm 내지 100 nm이다. 여기서, 직경이란, 분산된 입자의 최대 길이로서, (입자의 장축+입자의 단축)/2를 의미한다.
미세화 후 입자의 직경은 SEM 또는 TEM 장비로 측정할 수 있다. SEM 측정 방법을 이용한 구체적인 예는 다음과 같다. 먼저, 미세화한 입자를 포함하는 착색제 분산액 0.01g을 클로로포름 용매에 넣고 KODO社 초음파 장비 JAC-5020을 이용 중간 세기로 10분간 처리하여 입자와 입자간 잘 떨어뜨린다. 그 후 Glass 위에 한 방울 정도 떨어뜨린 후 50도 Hot plate위에서 5분간 열처리를 하여 용매를 제거한다. 입자 위를 Pt 두께가 약 100~200Å 되도록 코팅한 후 입자 직경을 SEM으로 관찰한다.
착색제 분산액을 제조한 후, 1 cm X 5 cm Cell에 PGEMA 용매를 1/4정도 넣고 여기에 착색제 분산액을 한, 두 방울 정도 떨어뜨린다. 용매에 잘 희석한 후 Melvern 입도 측정기로 입도를 측정하였다. 레이저 빔이 분산된 미립자 시료를 관통하면서 산란되는 광의 강도에 따른 각도 변화를 측정함으로써 입도 분포를 측정한다.
착색제 분산액 내에서 분산된 입자들의 직경이 100 nm를 초과할 경우, 빛의 산란으로 인해 명암비(Contrast Ratio)가 떨어지는 문제가 있고, 분산된 입자 크기가 너무 작을 경우 서로 재응집에 의해 명암비(Contrast Ratio) 및 분산액(Millbase)의 안정성이 떨어지므로, 40 내지 100 nm, 더욱 바람직하게는 40 내지 80nm의 범위가 적합하다.
상기 미세화하는 단계는 필요에 따라 염(Salt) 및 용매를 교반기에 넣고 교반하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 교반하는 단계는 40 내지 60℃, 바람직하게는 45 내지 55℃에서 4 내지 8시간, 바람직하게는 5 내지 7시간 동안 교반할 수 있다. 이 후, 60 내지 80℃, 바람직하게는 65 내지 75℃의 온수를 투입하고 30분 내지 2 시간, 바람직하게는 1시간 동안 교반하는 단계를 더 포함할 수 있다. 여과 및 수세과정을 반복하고, 잔류하는 염(Salt) 및 용매를 제거할 수 있다. 상기 염(Salt) 및 용매의 제거 후, 70 내지 90℃에서 10 내지 30시간 동안 건조하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 염은 상기 미세화하는 단계에서 분산입자를 미세화하는 역할을 할 수 있다. 상기 염은 증류수와 같은 용매를 이용한 세척에 의하여 제거될 수 있고, 미세화에 도움을 줄 수 있는 성분이라면 특별히 제한되지 않는다. 예컨대 NaCl과 같은 재료가 사용될 수 있다. 염이 사용되는 경우, 그 사용량은 필요에 따라 결정될 수 있으며, 예컨대, 상기 제1 및 제2 크산텐계 염료의 합계 중량에 대하여 2배 내지 8배, 바람직하게는 3배 내지 5배 정도 사용될 수 있다. 상기 염은 전술한 바와 같이 세척에 의하여 제거될 수 있는데, 이 경우 용매도 함께 제거될 수 있다. 상기 세척은 필요에 따라 1회 또는 2회 이상 수회 진행될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 미세화 공정에 사용되는 용매, 착색제 분산액에 사용되는 용매 및 감광성 수지 조성물에 사용되는 용매는 각각 전술한 제1 용매 또는 제2 용매에서 예시한 것과 동일하거나 상이할 수 있다. 제1 용매 또는 제2 용매에서 예시한 것과 동일한 경우, 감광성 수지 조성물 제조시 잔류 용매에 의해 발생되는 부작용(side-effect)이 발생할 염려가 없다. 상기 용매가 제1 용매 또는 제2 용매에서 예시한 것과 상이한 경우, 잔류 용매가 감광성 수지 조성물에 영향을 줄 수 있으므로 잔류 용매를 최소화하는 방안이 더 필요할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 크산텐계 염료는 상기 제2 크산텐계 염료와 파이-파이 상호작용(π-π interaction)에 결합을 하고, 상기 제2 크산텐계 염료는 상기 분산제와 이온 결합을 할 수 있다. 이로써, 제1 크산텐계 염료 간 또는 제2 크산텐계 염료 간 응집하는 것을 막아줄 수 있어 염료 입자의 직경을 줄일 수 있으며, 염료의 분산도가 향상될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 착색제 조성물의 분산된 입자 의 점도는 2.5 내지 6.5 cP 일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제2 크산텐계 염료는 카운터 양이온을 더 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시상태에 따른 착색제 조성물은, 상기 제2 크산텐계 염료 중 양전하보다 많은 음전하의 수에 대응하는 수의 카운터 양이온을 더 포함할 수 있다. 카운터 양이온은 수소 이온, 나트륨 이온 또는 양이온성기일 수 있으며, 이들은 제2 크산텐계 염료 1 분자당 예컨대 1 내지 7개 포함될 수 있다.
본 발명의 또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 분산제는 카운터 음이온을 더 포함할 수 있다. 카운터 음이온은 무기 또는 유기의 음이온일 수 있으며, 구체적으로 Cl-와 같은 할로겐기일 수 있다. 분산제에는 카운터 음이온은 분산제의 양전하 수에 대응하는 개수만큼 포함될 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 착색제 조성물은 후술하는 바와 같이 세정될 수 있으며, 이 경우 상기 카운터 양이온 또는 카운터 음이온이 제거되고, 분산제에 포함된 양이온성 구조가 상기 제2 크산텐계 염료의 카운터 양이온 역할을 할 수 있다.
상기 분산제로는 화합물형, 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 분산제를 사용할 수 있으며, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양쪽성 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.
또한, 본 명세서에 있어서 분산제는 아민 구조 또는 암모늄 구조를 포함할 수 있다. 상기 아민 구조는 1차 아민, 2차 아민 또는 3차 아민일 수 있다.
구체적으로 상기 분산제는 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌 다가 알코올, 에스테르알킬렌옥사이드 부가물, 알코올알킬렌옥사이드 부가물, 설폰산 에스테르, 설폰산염, 카르복실산에스테르, 카르복실산염, 알킬아미드알킬렌옥사이드 부가물 및 알킬아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 분산제는 BYK사 LPN-21116일 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 분산제는 BYK(빅) 케미사의 DISPERBYK-2001, DISPERBYK-2000, BYK-LPN6919, BYK-LPN21116, BYK-LPN22102, DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162, DISPER BYK-163, DISPER BYK-164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-182, DISPER BYK-184; BASF사의 EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48, EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA-4330, EFKA-4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800; Lubirzol사의 SOLSPERS-24000, SOLSPERS-32550, NBZ-420410; 카와켄 파인 케미컬사의 히노액트(HINOACT) T-6000, 히노액트 T-7000, 히노액트 T-8000; 아지노모토사의 아지스퍼(AJISPUR) PB-821, 아지스퍼 PB-822, 아지스퍼 PB-823; 또는 쿄에이샤 화학사의 플로렌 (FLORENE) DOPA-17HF, 플로렌 DOPA-15BHF, 플로렌 DOPA-33, 플로렌 DOPA-44 일 수 있다. 상기한 아크릴 분산제 이외에 다른 수지 타입의 분산제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 아크릴 분산와 병용하여 사용할 수도 있다.
본 명세서의 또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 분산제는 하기 화학식 7로 표시될 수 있다.
[화학식 7]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000019
상기 화학식 7에 있어서,
Ra 내지 Rd는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 아릴알킬기; -L-NHCO-R; 또는 -L-OCO-R이거나, Ra 내지 Rd 중 2개가 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성하고,
R은 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴알킬기이며,
L은 치환 또는 비치환된 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 암모늄 구조를 포함하는 분산제의 구체적인 예로는 테트라메틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 74), 테트라에틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 122), 모노스테아릴트리메틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 312), 디스테아릴디메틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 550), 트리스테아릴모노메틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 788), 세틸트리메틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 284), 트리옥틸메틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 368), 디옥틸디메틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 270), 모노라우릴트리메틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 228), 디라우릴디메틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 382), 트리라우릴메틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 536), 트리아밀벤질암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 318), 트리헥실벤질암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 360), 트리옥틸벤질암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 444), 트리라우릴벤질암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 612), 벤질디메틸스테아릴암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 388), 벤질디메틸옥틸암모늄클로라이드(양이온 부분의 분자량이 248), 및 디알킬(알킬이 C14~C18)디메틸암모늄클로라이드(경화 우지)(양이온 부분의 분자량이 438~550)로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. 또한, 제품으로는 카오사제의 쿼타민 24P, 쿼타민 86P 콘크, 쿼타민 60W, 쿼타민 86W, 쿼타민 D86P, 사니졸 C, 사니졸 B-50; 라이온사제의 아쿼드 210-80E, 2C-75, 2HT-75, 2HT 플레이크, 2O-75I, 2HP-75, 또는 2HP 플레이크 등이 있으며, 쿼타민 D86P(디스테아릴디메틸암모늄클로라이드), 또는 아쿼드 2HT-75(디알킬(알킬이 C14~C18)디메틸암모늄클로라이드)이 사용되는 것이 바람직하다.
본 명세서의 또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 분산제는 하기 화학식 8의 단위를 포함할 수 있다.
[화학식 8]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000020
상기 화학식 8에 있어서,
Rb 내지 Rd는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴알킬기이거나, Rb 내지 Rd 중 2개가 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성하고,
Z는 알킬렌기; 아릴렌기; -L-NHCO-; 또는 -L-OCO-이며, L은 알킬렌기이고,
Re 내지 Rg는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 알킬기이다.
본 발명의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 분산제는 중량평균분자량이 1,000 내지 10,000이다. 바람직하게는 3,000 내지 8,000이며, 더 바람직하게는 5,000 내지 7,000이다.
일 예에 따르면, 상기 분산제의 말단은 수소, 할로겐기 또는 알킬기이다.
본 발명의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 분산제는 상기 화학식 8의 단위 외에 하기 화학식 9 내지 12 중 적어도 하나를 더 포함한다.
[화학식 9]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000021
[화학식 10]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000022
[화학식 11]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000023
[화학식 12]
Figure PCTKR2018006383-appb-I000024
화학식 9 내지 12에 있어서,
Rh, Ri, Rj, Rl, Rm, Rn, Rp, Rq, Rr, Rt, Ru 및 Rv는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기이고,
Rk 및 Rs는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 20의 알킬기이며,
Ro는 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기이고,
Rw 및 Rx는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기이며,
L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기이고, m은 1 내지 6의 정수이다.
구체적인 예로서, 상기 분산제는 하기의 단위들을 포함할 수 있으며, 이 중 최우측 단위는 필수적으로 포함한다.
Figure PCTKR2018006383-appb-I000025
상기 구조에 있어서, a 내지 g는 분산제를 구성하는 반복단위 전체를 기준으로 한 몰%이며, a : 40-50 mol%, b : 10-20 mol%, c : 5-10 mol%, d : 3-6 mol%, e : 1-5 mol%, f : 15-20 mol%, g : 2-6 mol%일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 아크릴 수지는 수지 조성물로 제조된 막의 강도, 현상성 등의 물성을 나타낼 수 있다면, 특별히 한정하지 않는다.
상기 아크릴 수지는 기계적 강도를 부여하는 다관능성 모노머와 알칼리 용해성을 부여하는 모노머의 공중합 수지를 이용할 수 있으며, 당 기술분야에서 일반적으로 사용하는 바인더를 더 포함할 수 있다.
상기 막의 기계적 강도를 부여하는 다관능성 모노머는 불포화 카르복시산 에스테류; 방향족 비닐류; 불포화 에테르류; 불포화 이미드류; 및 산 무수물 중 어느 하나 이상일 수 있다.
상기 불포화 카르복시산 에스테르류의 구체적인 예로는, 벤질(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메틸에테르(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필 (메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸 아크릴레이트 및 부틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 방향족 비닐 단량체류의 구체적인 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌, (o,m,p)-비닐 톨루엔, (o,m,p)-메톡시 스티렌, 및 (o,m,p)-클로로 스티렌으로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 불포화 에테르류의 구체적인 예로는, 비닐 메틸 에테르, 비닐 에틸 에테르, 및 알릴 글리시딜 에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 불포화 이미드류의 구체적인 예로는, N-페닐 말레이미드, N-(4-클로로페닐) 말레이미드, N-(4-히드록시페닐) 말레이미드, 및 N-시클로헥실 말레이미드로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 산 무수물로는 무수 말레인산, 무수 메틸 말레인산, 테트라하이드로 프탈산 무수물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 알칼리 용해성을 부여하는 모노머는 산기를 포함한다면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, (메타)아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 모노메틸 말레인산, 5-노보넨-2-카복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 숙시네이트, ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상을 사용하는 것이 바람직하나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 아크릴 수지의 산가는 50 내지 130 KOH mg/g이고, 중량 평균 분자량은 1,000 내지 50,000이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 아크릴 수지는 벤질(메타)아크릴레이트, 스티렌, N-페닐 말레이미드, (메타)아크릴산을 및 사슬 이동제인 3-메르캅토프로피온산, 및 용매인 아세트산 3-메톡시 에스테르를 혼합한 것으로 제조할 수 있다.
본 명세서의 또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 아크릴 수지는 벤질(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, 사슬 이동제인 3-메르캅토프로피온산, 및 용매인 아세트산 3-메톡시 에스테르를 혼합한 이 후, 테트라부틸암모늄 브로마이드 및 글리시딜(메타)아크릴레이트를 더 혼합한 것으로 제조할 수 있다.
상기 착색제 분산액 중 제1 및 제2 크산텐계 염료를 포함하는 착색제 조성물의 함량은 5 내지 20 중량% 일 수 있다. 상기 착색제 분산액 중 아크릴 수지는 1-60 중량%, 분산제는 1 내지 40 중량%, 용매는 10 내지 90 중량%일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태는 전술한 착색제 분산액; 청색 착색제 분산액; 아크릴 수지; 다관능성 모노머; 계면활성제; 개시제; 및 용매를 더 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
상기 청색 착색제 분산액은 PB 15:6(BASF社); 분산제; 아크릴 수지; 용매; 및 비드를 이용하여 제조된다. 또한, 상기 청색 착색제 분산액은 PB 15:6 대신 트리아릴메탄 염료가 사용될 수 있다.
본 발명의 또 하나의 실시상태에 따르면, 전술한 착색제 조성물은 추가로 염료 및 안료 중 1종 이상을 더 포함할 수 있다. 추가로 포함되는 염료 및 안료의 예시는 전술한 착색제 분산액에 추가로 포함되는 염료 및 안료의 예시와 동일하다. 착색제 조성물에 추가로 포함되는 염료 및 안료 중 1종은 착색제 조성물 100 중량부를 기준으로 1 내지 50중량부, 바람직하게는 10 내지 40중량부로 포함될 수 있다.
상기 아크릴 수지, 용매 및 비드는 전술한 착색제 분산액에서 예시한 것들이 사용될 수 있다.
상기 다관능성 모노머는 광에 의해 포토레지스트상을 형성하는 역할을 하는 모노머로서, 구체적으로는 프로필렌글리콜 메타크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트, 6-헥산디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 아크릴레이트 테트라에틸렌글리콜 메타크릴레이트, 비스페녹시 에틸알콜 디아크릴레이트, 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸프로판 트리메타크릴레이트, 디페닐펜타에리스톨리톨 헥사아크릴레이트, 펜타에리 쓰리톨 트리메타 크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라메타크릴레이트 및 디펜타에리쓰리톨 헥사메타 크릴레이트로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물일 수 있다.
상기 개시제는 빛에 의해 라디칼을 발생시켜 가교를 촉발하는 개시제이면, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 및 옥심계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
상기 아세토페논계 화합물은 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)-페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조인메틸 에테르, 벤조인에틸 에테르, 벤조인이소부틸 에테르, 벤조인부틸 에테르, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오)페닐-2-몰폴리노-1-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-(4-브로모-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온 또는 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-온 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다.
상기 비이미다졸계 화합물로는 2,2-비스(2-클로로페닐)-4,4', 5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(3,4,5-트리메톡시페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4,5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다.
상기 트리아진계 화합물은 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오닉산, 1,1,1,3,3,3-헥사플로로이소프로필-3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오네이트, 에틸-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 2-에폭시에틸-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 시클로헥실-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 벤질-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 3-{클로로-4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오닉산, 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피온아미드, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(1-p-디메틸아미노페닐)-1,3,-부타디에닐-s-트리아진, 2-트리클로로메틸-4-아미노-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다.
상기 옥심계 화합물은 1,2-옥타디온,-1-(4-페닐치오)페닐,-2-(o-벤조일옥심)(시바가이기사, 시지아이124), 에타논,-1-(9-에틸)-6-(2-메틸벤조일-3-일)-,1-(O-아세틸옥심)(씨지아이242), N-1919(아데카사) 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물의 초기 점도와 40℃ 항온기에서 7일간 보관 후 측정한 점도의 변화는 2 내지 2.5% 이며, 분산된 평균 입자의 직경은 40 nm 내지 100nm 이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광성 수지 조성물 중 고형분의 총 중량을 기준으로, 상기 아크릴 수지의 함량은 1 내지 20 중량%이고, 상기 계면활성제 함량은 0.1 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%이고, 상기 개시제의 함량은 0.1 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%이며, 상기 다관능성 모노머의 함량은 0.1 내지 30 중량%, 바람직하게는 1 내지 15중량%이다. 용매의 함량은 조성물 전체 중량을 기준으로 10 내지 85 중량%, 바람직하게는 35 내지 65중량% 포함될 수 있다. 상기 착색제 분산액은 조성물 전체 중량을 기준으로 1 내지 20 중량%, 바람직하게는 1 내지 10 중량% 포함될 수 있고, 상기 청색 착색제 분산액은 조성물 전체 중량을 기준으로 1 내지 50 중량% 포함될 수 있다. 상기 착색제 분산액 중 제1 및 제2 크산텐계 염료 및 분산제의 함량은 5 내지 20 중량%로 포함될 수 있다.
상기 고형분의 총 중량이란, 수지 조성물에서 용매를 제외한 성분 총 중량의 합을 의미한다. 고형분 및 각 성분의 고형분을 기준으로 한 중량%의 기준은 액체크로마토그래피 또는 가스크로마토그래피 등의 당업계에서 쓰이는 일반적인 분석 수단으로 측정할 수 있다.
본 발명의 또 하나의 실시상태에 따르면, 전술한 감광성 수지 조성물은 추가로 염료 및 안료 중 1종 이상을 더 포함할 수 있다. 추가로 포함되는 염료 및 안료의 예시는 전술한 착색제 분산액에 추가로 포함되는 염료 및 안료의 예시와 동일하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 수지 조성물은 산화방지제를 더 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 산화방지제의 함량은 상기 수지 조성물 중 고형분의 총 중량을 기준으로 0.1 중량% 내지 20 중량%일 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 표면 첨가제를 더 포함할 수 있다. 표면 첨가제로는 경화촉진제, 밀착촉진제, 계면활성제, 열중합방지제, 자외선흡수제, 분산제, 레벨링제, 산화방지제, 광가교증감제 멀티티올제(multi-thiol) 등이 사용될 수 있다. 상기 표면 첨가제는 감광성 수지 조성물의 총량을 기준으로 0.1~5 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 1 중량% 정도 함유될 수 있다. 상기 표면 첨가제의 함량은 상기 감광성 수지 조성물 중 고형분의 총 중량을 기준으로 0.1 중량% 내지 20 중량% 일 수 있다.
상기 광가교증감제는 벤조페논, 4,4-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2,4,6-트리메틸아미노벤조페논, 메틸-o-벤조일벤조에이트, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 3,3,4,4-테트라(t-부틸퍼옥시카보닐)벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 9-플로레논, 2-크로로-9-프로레논, 2-메틸-9-플로레논 등의 플로레논계 화합물; 티옥산톤, 2,4-디에틸 티옥산톤, 2-클로로 티옥산톤, 1-클로로-4-프로필옥시 티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 디이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤계 화합물; 크산톤, 2-메틸크산톤 등의 크산톤계 화합물; 안트라퀴논, 2-메틸 안트라퀴논, 2-에틸 안트라퀴논, t-부틸 안트라퀴논, 2,6-디클로로-9,10- 안트라퀴논 등의 안트라퀴논계 화합물; 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐펜탄), 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판 등의 아크리딘계 화합물; 벤질, 1,7,7-트리메틸-비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디온, 9,10-펜안트렌퀴논 등의 디카보닐 화합물; 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 옥사이드 등의 포스핀 옥사이드계 화합물; 메틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-n-부톡시에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트 등의 벤조에이트계 화합물; 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로펜타논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)-4-메틸-시클로펜타논 등의 아미노 시너지스트; 3,3-카본닐비닐-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-(2-벤조티아졸일)-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시-쿠마린, 10,10-카르보닐비스[1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라히드로-1H,5H,11H-C1]-벤조피라노[6,7,8-ij]-퀴놀리진-11-온 등의 쿠마린계 화합물; 4-디에틸아미노 칼콘, 4-아지드벤잘아세토페논 등의 칼콘 화합물; 2-벤조일메틸렌, 3-메틸-b-나프토티아졸린으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다.
상기 경화촉진제로는 경화 및 기계적 강도를 높이기 사용되며, 구체적으로 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캅토-4,6-디메틸아미노피리딘, 펜타에리스리톨-테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨-트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨-테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리스리톨-트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판-트리스(2-머캅토아세테이트), 및 트리메틸올프로판-트리스(3-머캅토프로피오네이트)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 밀착촉진제로는 메타아크릴로일옥시 프로필트리메톡시 실란, 메타아크릴로일옥시 프로필디메톡시 실란, 메타아크릴로일옥시 프로필트리에톡시 실란, 메타아크릴로일옥시 프로필디메톡시실란 등의 메타 아크릴로일 실란 커플링제 중 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있고, 알킬 트리메톡시 실란으로서 옥틸트리메톡시 실란, 도데실트리메톡시 실란, 옥타데실트리메톡시 실란 등에서 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있다.
상기 계면활성제는 실리콘계 계면활성제 또는 불소계 계면활성제이며, 구체적으로 실리콘계 계면활성제는 시판품으로서 다우코닝 도레이 실리콘사의 DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA 및 SH8400; GE 도시바 실리콘사의 TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, 또는 TSF-4452이 있다. 상기 불소계 계면활성제는 시판품으로서 DIC사 F-470, F-471, F-475, F-482, 또는 F-489이 있다. 또한, 그 외에 사용 가능한 시판품으로는 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(Lubrisol), EFKA(EFKA 케미칼스사), PB 821(아지노모또㈜), 또는 Disperbyk-series(BYK-chemi)을 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 산화 방지제로는 힌더드 페놀계(Hindered phenol) 산화 방지제, 아민계 산화 방지제, 티오계 산화 방지제 및 포스핀계 산화 방지제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 산화 방지제의 구체적인 예로는, 인산, 트리메틸포스페이트 또는 트리에틸포스페이트와 같은 인산계 열안정제; 2,6-디-t-부틸-p-크레졸, 옥타데실-3-(4-하이드록시-3,5-디-t-부틸페닐)프로피오네이트, 테트라비스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠, 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스파이트 디에틸에스테르, 2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-g,t-부틸페놀 4,4'-부틸리덴-비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀) 또는 비스[3,3-비스-(4'-히드록시-3'-터트-부틸페닐)부탄산]글리콜 에스테르 (Bis[3,3-bis-(4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl)butanoicacid]glycol ester)와 같은 힌더드 페놀(Hindered phenol)계 1차 산화방지제; 페닐-α-나프틸아민, 페닐-β-나프틸아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민 또는 N,N'-디-β-나프틸-p-페닐렌디아민과 같은 아민계 2차 산화방지제; 디라우릴디설파이드, 디라우릴티오프로피오네이트, 디스테아릴티오프로피오네이트, 머캡토벤조티아졸 또는 테트라메틸티우람디설파이드 테트라비스[메틸렌-3-(라우릴티오)프로피오네이트]메탄 등의 Thio계 2차 산화방지제; 또는 트리페닐 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리이소데실포스파이트, 비스(2,4-디부틸페닐) 펜타에리스톨 디포스파이트(Bis (2,4-ditbutylphenyl)Pentaerythritol Diphosphite 또는 (1,1'-비페닐)-4,4'-디일비스포스포노산 테트라키스 [2,4-비스(1,1-디메틸에틸)페닐]에스테르((1,1'-Biphenyl)-4,4'-Diylbisphosphonous acid tetrakis[2,4-bis(1,1-dimethylethyl)phenyl] ester)와 같은 포스파이트계 2차 산화방지제를 들 수 있다.
상기 자외선 흡수제로는 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 알콕시 벤조페논 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않고, 당업계에서 일반적으로 쓰이는 것들이 모두 사용될 수 있다.
상기 열중합방지제로는 예컨대 p-아니솔, 히드로퀴논, 피로카테콜(pyrocatechol), t-부틸카테콜(t-butyl catechol), N-니트로소페닐히드록시아민 암모늄염, N-니트로소페닐히드록시아민 알루미늄염, p-메톡시페놀, 디-t-부틸-p-크레졸, 피로가롤, 벤조퀴논, 4,4-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2-머캅토이미다졸 및 페노티아진(phenothiazine)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상을 포함할 수 있으나, 이들로만 한정되는 것은 아니며 당 기술분야에 일반적으로 알려져 있는 것들을 포함할 수 있다.
상기 레벨링제로는 폴리머성이거나 비폴리머성일 수 있다. 폴리머성의 레벨링제의 구체적인 예로는 폴리에틸렌이민, 폴리아미드아민, 아민과 에폭사이드의 반응 생성물을 예로 들 수 있고, 비폴리머성의 레벨링제의 구체적인 예로는 비-폴리머 황-함유 및 비-폴리머 질소-함유 화합물을 포함하지만, 이에 한정되지는 않으며, 당업계에서 일반적으로 쓰이는 것들이 모두 사용될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태는 투명 기판과 상기 투명 기판 위에 구비된 착색층을 구비하는 컬러필터로서, 상기 착색층은 상기 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 것인 컬러필터를 제공한다.
상기 컬러필터는 상기 수지 조성물을 이용하여, 제조될 수 있다. 상기 수지 조성물을 기판상에 도포하여 코팅막을 형성하고, 상기 코팅막을 노광, 현상 및 경화를 함으로써 컬러필터를 형성할 수 있다.
상기 도포 방법으로는 특별히 제한되지는 않지만 스프레이 법, 롤 코팅법, 스핀 코팅법 등을 사용할 수 있으며, 일반적으로 스핀 코팅법을 널리 사용한다. 또한, 도포막을 형성한 후 경우에 따라서 감압 하에 잔류 용매를 일부 제거할 수 있다.
본 명세서에 따른 수지 조성물을 경화시키기 위한 광원으로는, 예컨대 파장이 250 nm 내지 450 ㎚의 광을 발산하는 수은 증기 아크(arc), 탄소 아크, Xe 아크 등이 있으나 반드시 이에 국한되지는 않는다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 수지 조성물은 내열성이 우수하여, 열처리에 의한 색의 변화가 적어, 컬러 필터의 제조시 경화 과정에 의해서도 색재현율이 높고, 휘도 및 명암비가 높은 컬러필터를 제공할 수 있다.
상기 기판은 유리판, 실리콘 웨이퍼 및 폴리에테르설폰(Polyethersulfone, PES), 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC) 등의 플라스틱 기재의 판 등일 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니다.
상기 컬러필터는 적색 패턴, 녹색 패턴, 청색 패턴, 블랙 매트릭스를 포함할 수 있다.
또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 컬러필터는 오버코트층를 더 포함할 수 있다.
컬러필터의 컬러픽셀 사이에는 콘트라스트를 향상시킬 목적으로 블랙 매트릭스라고 불리는 격자 상의 흑색패턴을 배치할 수 있다. 블랙 매트릭스의 재료로서 크롬을 사용할 수 있다. 이 경우, 크롬을 유리기판 전체에 증착시키고 에칭 처리에 의해 패턴을 형성하는 방식을 이용할 수 있다. 그러나, 공정상의 고비용, 크롬의 고반사율, 크롬 폐액에 의한 환경오염을 고려하여, 미세가공이 가능한 안료분산법에 의한 레진 블랙 매트릭스를 사용할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 블랙 매트릭스는 색재로서 블랙안료 또는 블랙 염료를 사용할 수 있다. 예컨대, 카본블랙을 단독으로 사용하거나, 카본블랙과 착색안료를 혼합하여 사용할 수 있으며, 이때 차광성이 부족한 착색안료를 혼합하기 때문에 상대적으로 색재의 양이 증가하더라도 막의 강도 또는 기판에 대한 밀착성이 저하되지 않는 장점이 있다.
상기 컬러필터의 상기 착색층의 두께는 0 내지 5 μm이다. 바람직하게는 2.23 내지 2.33 μm이다.
본 명세서에 따른 컬러필터를 포함하는 액정 표시 장치를 제공한다. 액정 표시 장치는 전술한 컬러필터를 포함하는 것을 제외하고는 당기술분야에 알려진 구성을 가질 수 있다.
상기 액정 표시 장치의 색변화(△Eab) 값은 2.5 내지 2.8이다. 상기 색변화(△Eab) 값이 작을수록 색 내열성이 우수하다는 것을 의미한다.
이하, 본 명세서를 실시예를 들어 상세하게 설명한다. 하기 실시예는 본 명세서를 설명하기 위한 것으로, 본 명세서의 범위는 하기의 특허청구범위에 기재된 범위 및 그 치환 및 변경을 포함하며, 실시예의 범위로 한정되지 않는다.
제조예.
1. 미세화 공정을 통한 미세화된 색재를 포함하는 착색제 조성물
(1) 착색제 조성물 1
하기 화학식으로 표시되는 제1 크산텐계 염료(화합물 1) 10g, 하기 화학식으로 표시되는 제2 크산텐계 염료(화합물 2) 1g을 N-methyl-2-pyrrolidone(NMP) 100g에 넣고 100℃로 승온하여 24시간 동안 교반하였다. 이 후, 교반한 용액을 상온까지 식혔다. 그 다음, 에틸아세테이트 1000g을 더 넣고 30분간 더 교반한 후, 석출물을 감압하에서 여과 및 수세 과정을 거쳤다. 이 후, 60℃ 진공 오븐에서 24시간 건조시켜 색재 1을 제조하였다. 제1 및 제2 크산텐계 염료로는 하기 구조를 사용하였다.
Figure PCTKR2018006383-appb-I000026
제1 크산텐계 염료(화합물 1)
Figure PCTKR2018006383-appb-I000027
제2 크산텐계 염료(화합물 2)
상기 색재 1 10g, 염화나트륨(NaCl) 120g, 디에틸렌글리콜 12g을 교반기(니더)에 넣고, 50℃에서 6시간 동안 교반하였다. 교반한 혼합물을 1 L, 70℃ 온수에 넣고 1시간 동안 교반하였다. 이 후, 여과 및 수세를 반복하여 남아있는 염화나트륨(NaCl)과 디에틸렌글리콜을 제거하고, 80℃에서 24시간 건조하여, 미세화된 색재를 포함하는 착색제 조성물 1을 9.5g 얻었다.
(2) 착색제 조성물 2
상기 화학식으로 표시되는 크산텐계 염료(화합물 1) 10g, 상기 화학식으로 표시되는 제2 크산텐계 염료(화합물 2) 1g을 Dimethylformamide(DMF) 100g에 넣고 100℃로 승온하여 24시간 동안 교반하였다. 그 다음, 교반한 용액을 상온까지 식혔다. 이후, 디에틸에테르 1000g을 더 넣고 30분간 더 교반한 후, 석출물을 감압하에서 여과 및 수세 과정을 거쳤다. 이 후, 60℃ 진공 오븐에서 24시간 건조시켜 색재 2을 제조하였다.
상기 색재 2 10g, 염화나트륨(NaCl) 120g, 디에틸렌글리콜 12g을 교반기(니더)에 넣고, 50℃에서 6시간 동안 교반하였다. 교반한 혼합물을 1 L, 70℃ 온수에 넣고 1시간 동안 교반하였다. 이 후, 여과 및 수세를 반복하여 남아있는 염화나트륨(NaCl)과 디에틸렌글리콜을 제거하고, 80℃에서 24시간 건조하여, 미세화된 색재를 포함하는 착색제 조성물 2를 9.5g 얻었다.
(3) 용매 처리하지 않은 착색제 조성물 3
상기 화학식로 표시되는 제1 크산텐계 염료(화합물 1) 10g, 염화나트륨(NaCl) 120g, 디에틸렌글리콜 12g을 교반기(니더)에 넣고, 50℃에서 6시간 동안 교반하였다. 교반한 혼합물을 1 L, 70℃ 온수에 넣고 1시간 동안 더 교반하였다. 이 후, 여과 및 수세를 반복하여 남아있는 염화나트륨(NaCl)과 디에틸렌글리콜을 제거하고, 80℃에서 24시간 건조하여, 미세화된 색재를 포함하는 착색제 조성물 3을 9.5g 얻었다.
(4) 착색제 조성물 4
하기 화학식으로 표시되는 제1 크산텐계 염료(화합물 1) 10g, 하기 화학식으로 표시되는 제2 크산텐계 염료(화합물 3) 1g을 N-methyl-2-pyrrolidone(NMP) 100g에 넣고 100℃로 승온하여 24 시간 동안 교반하였다. 이 후, 교반한 용액을 상온까지 식혔다. 그 다음, 에틸아세테이트 1000g을 더 넣고 30분간 더 교반한 후, 석출물을 감압하에서 여과 및 수세 과정을 거쳤다. 이 후, 60℃ 진공 오븐에서 24시간 건조시켜 색재 4를 제조하였다. 색재 4에 포함되는 제1 및 제2 크산텐계 염료로는 하기 구조를 사용하였다.
Figure PCTKR2018006383-appb-I000028
제1 크산텐계 염료(화합물 1)
Figure PCTKR2018006383-appb-I000029
제2 크산텐계 염료(화합물 3)
상기 색재 4 10g, 염화나트륨(NaCl) 120g, 디에틸렌글리콜 12g을 교반기(니더)에 넣고, 50℃에서 6시간 동안 교반하였다. 교반한 혼합물을 1 L, 70℃ 온수에 넣고 1시간 동안 교반하였다. 이 후, 여과 및 수세를 반복하여 남아있는 염화나트륨(NaCl)과 디에틸렌글리콜을 제거하고, 80℃에서 24시간 건조하여, 미세화된 색재를 포함하는 착색제 조성물 4를 9.2g 얻었다.
(5) 착색제 조성물 5
상기 화학식으로 표시되는 크산텐계 염료(화합물 1) 10g, 상기 화학식으로 표시되는 제2 크산텐계 염료(화합물 3) 1g을 Dimethylformamide(DMF) 100g에 넣고 100℃로 승온하여 24시간 동안 교반하였다. 그 다음, 교반한 용액을 상온까지 식혔다. 이 후, 디에틸에테르 1000g을 더 넣고 30분간 더 교반한 후, 석출물을 감압하에서 여과 및 수세 과정을 거쳤다. 이 후, 60℃ 진공 오븐에서 24시간 건조시켜 색재 5를 제조하였다.
상기 색재 5 10g, 염화나트륨(NaCl) 120g, 디에틸렌글리콜 12g을 교반기(니더)에 넣고, 50℃에서 6시간 동안 교반하였다. 교반한 혼합물을 1 L, 70℃ 온수에 넣고 1시간 동안 교반하였다. 이 후, 여과 및 수세를 반복하여 남아있는 염화나트륨(NaCl)과 디에틸렌글리콜을 제거하고, 80℃에서 24시간 건조하여, 미세화된 색재를 포함하는 착색제 조성물 5를 9.1g 얻었다.
(6) 착색제 조성물 6
상기 착색제 조성물 5의 제2 크산텐계 염료(화합물 3)을 하기 구조를 갖는 제 2 크산텐계 염료(화합물 4)로 변경하고, 상기 착색제 조성물 5와 동일한 방법으로 착색제 조성물 6을 제조하였다.
Figure PCTKR2018006383-appb-I000030
제2 크산텐계 염료(화합물 4)
(7) 착색제 조성물 7
상기 착색제 조성물 5의 제2 크산텐계 염료(화합물 3)을 하기 구조를 갖는 제 2 크산텐계 염료(화합물 5)로 변경하고, 상기 착색제 조성물 5와 동일한 방법으로 착색제 조성물 7을 제조하였다.
Figure PCTKR2018006383-appb-I000031
제2 크산텐계 염료(화합물 5)
2. 아크릴 수지 제조
(1) 아크릴 수지 1
벤질(메타)아크릴레이트 28g, N-phenylmaleimide 5g, 스티렌 3g, 메타아크릴산 7g, 사슬 이동제인 3-머캡토프로 피온산 0.3g, 용매인 아세트산 3-메톡시 에스테르 137g을 기계적 교반기(mechanical stirrer)로 질소 분위기 하에서 30분 간 혼합하였다.
질소 분위기 하에서 반응기의 온도를 70℃로 높이고 혼합물의 온도가 70℃가 되었을 때, 열중합 개시제인 AIBN 1.3g을 넣고 15시간 동안 교반하여 아크릴 수지 1을 제조하였다(Mw: 15,000 g/mol, Av: 100 mgKOH/g).
(2) 아크릴 수지 2
벤질(메타)아크릴레이트 31g, 메타아크릴산 18g, 사슬 이동제인 3-메르캅토프로피온산 0.3g, 용매인 아세트산 3-메톡시 에스테르 137g을 기계적 교반기(mechanical stirrer)로 질소 분위기 하에서 30분간 혼합하였다.
질소 분위기 하에서 반응기의 온도를 70℃로 높이고 혼합물의 온도가 70℃가 되었을 때 열중합 개시제인 AIBN 1.3g을넣고, 15시간 동안 교반하였다. 상기 고분자를 중합한 반응기의 온도를 80℃로 높이고, 테트라부틸암모늄 브로마이드 0.1g과 열중합 금지제인 MEHQ 0.05g을 넣고 30분간 교반한 후, 고분자 용액에 10g의 글리시딜(메타)아크릴레이트를 넣고 120℃에서 12시간 추가로 교반하여 아크릴 수지 2를 제조하였다(Mw: 17,000 g/mol, Av: 70mgKOH/g).
3. 분산수지 1 의 제조
온도계, 교반기, 증류관, 냉각기를 구비한 4구 분리 가능한 플라스크에 측쇄에 양이온성 기를 가지는 수지를 포함하는 분산제의 총 중량 100 중량부를 기준으로 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에테르 아세테이트 56.7 중량부를 넣고, 질소 기류하에서 75℃로 승온했다. 별도로 첨가되는 모노머 또는 중합 개시제 총 중량 100 중량부를 기준으로 메틸메타크릴레이트 45.8 중량부, n-부틸 메타크릴레이트14.8 중량부, 2-에틸헥실메타크릴레이트 7.8 중량부, 벤질메타크릴레이트 5.0 중량부, 트리에틸렌 글라이콜 메틸에테르 메타크릴레이트 3.0 중량부, 2-다이메틸아미노에틸메타크릴레이트 18.9 중량부, 벤질클로라이드염 4.7 중량부를 균일하게 한 후, 적하 깔때기에 투입한 후, 4구 분리 가능한 플라스크에 부착하여 2시간에 걸쳐 적하했다. 적하 종료 2시간 후, 고형분으로부터 중합 수율이 98.7% 이상이며, 중량 평균 분자량(Mw)이 5,500인 것을 확인하고 50℃로 냉각했다. 그 후, 측쇄에 양이온성 기를 가지는 수지를 포함하는 분산제의 총 중량 100중량부를 기준으로 프로필렌글라이콜 모노메틸 에테르를 10.0중량부를 가하여 분산수지 1을 제조하였다.
4. 착색제 분산액 제조
(1) 착색제 분산액 1
상기 착색제 조성물 1 7.6 중량%, 분산수지 1 4 중량%, 아크릴 수지 1 3 중량%, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 85.4 중량%를 교반시키고, 지르코니아 비드를 이용하여 착색제 분산액 1을 제조하였다.
(2) 착색제 분산액 2
상기 착색제 조성물 2 7.6 중량%, 분산수지 1 4 중량%, 아크릴 수지 1 3 중량%, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 85.4 중량%를 교반시키고, 지르코니아 비드를 이용하여 착색제 분산액 2를 제조하였다.
(3) 착색제 분산액 3
상기 착색제 조성물 3 7.6 중량%, 분산수지 1 4 중량%, 아크릴 수지 1 3 중량%, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 85.4 중량%를 교반시키고, 지르코니아 비드를 이용하여 착색제 분산액 3을 제조하였다.
(4) 착색제 분산액 4
상기 화학식 2로 표시되는 제2 크산텐계 색재 6.93 중량%, 분산수지 1 4 중량%, 아크릴 수지 1 3 중량%, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 85.4 중량%를 교반시키고, 지르코니아 비드를 이용하여 착색제 분산액 4를 제조하였다.
(5) 착색제 분산액 5
상기 착색제 조성물 3 6.93 중량%, 상기 화학식 2로 표시되는 제2 크산텐계 색재 0.676 중량%, 분산수지 1 4 중량%, 아크릴 수지 1 3 중량%, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 85.4 중량%를 교반시키고, 지르코니아 비드를 이용하여 착색제 분산액 5를 제조하였다.
(6) 착색제 분산액 6
착색제 분산액 5에서 착색제 조성물 3 대신 착색제 조성물 4를 적용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 착색제 분산액 6을 제조하였다.
(7) 착색제 분산액 7
착색제 분산액 5에서 착색제 조성물 3 대신 착색제 조성물 5를 적용한 것 이외에는 동일한 방법으로 착색제 분산액 7을 제조하였다.
(8) 착색제 분산액 8
착색제 분산액 5에서 착색제 조성물 3 대신 착색제 조성물 6를 적용한 것 이외에는 동일한 방법으로 착색제 분산액 8을 제조하였다.
(9) 착색제 분산액 9
착색제 분산액 5에서 착색제 조성물 3 대신 착색제 조성물 7를 적용한 것 이외에는 동일한 방법으로 착색제 분산액 9을 제조하였다
(10) 청색 착색제 분산액
PB 15:6(BASF社) 10 중량%, 분산수지 1 5 중량%, 아크릴 수지 1 4 중량%, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 81 중량%를 교반시키고, 지르코니아 비드를 이용하여 청색 착색제 분산액을 제조하였다.
5. 감광성 수지 조성물 제조
(1) 감광성 수지 조성물 1
상기 착색제 분산액 1 6 중량%, 상기 청색 착색제 분산액 31.4 중량%, 아크릴 수지 2 8 중량%, 다관능성 모노머(일본화약 DPHA) 8 중량%, 계면활성제(DIC사 F-475) 0.8% 중량, 개시제(BASF I-369) 1.4% 중량, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이드 44.4% 중량을 교반하여 감광성 수지 조성물 1을 얻었다.
(2) 감광성 수지 조성물 2
상기 착색제 분산액 2 6 중량%, 상기 청색 착색제 분산액 31.4 중량%, 아크릴 수지 2 8 중량%, 다관능성 모노머(일본화약 DPHA) 8 중량%, 계면활성제 (DIC사 F-475) 0.8% 중량, 개시제(BASF I-369) 1.4% 중량, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이드 44.4% 중량을 교반하여 감광성 수지 조성물 2를 얻었다.
(3) 감광성 수지 조성물 3
상기 착색제 분산액 3 6 중량%, 상기 청색 착색제 분산액 31.4 중량%, 아크릴 수지 2 8 중량%, 다관능성 모노머(일본화약 DPHA) 8 중량%, 계면활성제 (DIC사 F-475) 0.8% 중량, 개시제(BASF I-369) 1.4% 중량, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이드 44.4% 중량을 교반하여 감광성 수지 조성물 3을 얻었다.
(4) 감광성 수지 조성물 4
상기 착색제 분산액 4 6 중량%, 상기 청색 착색제 분산액 31.4 중량%, 아크릴 수지 2 8 중량%, 다관능성 모노머(일본화약 DPHA) 8 중량%, 계면활성제 (DIC사 F-475) 0.8% 중량, 개시제(BASF I-369) 1.4% 중량, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이드 44.4% 중량을 교반하여 감광성 수지 조성물 4를 얻었다.
(5) 감광성 수지 조성물 5
상기 착색제 분산액 5 6 중량%, 상기 청색 착색제 분산액 31.4 중량%, 아크릴 수지 2 8 중량%, 다관능성 모노머(일본화약 DPHA) 8 중량%, 계면활성제 (DIC사 F-475) 0.8% 중량, 개시제(BASF I-369) 1.4% 중량, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이드 44.4% 중량을 교반하여 감광성 수지 조성물 5를 얻었다.
(6) 감광성 수지 조성물 6
감광성 수지 조성물 4에서 착색제 분산액 4 대신 착색제 분산액 6을 적용한 것 이외에는 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물 6을 제조하였다.
(7) 감광성 수지 조성물 7
감광성 수지 조성물 4에서 착색제 분산액 4 대신 착색제 분산액 7을 적용한 것 이외에는 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물 7을 제조하였다.
(8) 감광성 수지 조성물 8
감광성 수지 조성물 4에서 착색제 분산액 4 대신 착색제 분산액 8을 적용한 것 이외에는 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물 8을 제조하였다.
(9) 감광성 수지 조성물 9
감광성 수지 조성물 4에서 착색제 분산액 4 대신 착색제 분산액 9를 적용한 것 이외에는 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물 9을 제조하였다.
실시예 1.
1. 저장 안정성 평가 방법
감광성 수지 조성물 1을 제조한 당일의 25℃에서의 초기 점도(A)를 측정하고, 40℃ convection oven에서 7일간 보존한 후의 점도를 점도계 (Toki Sangyo Viscometer TV-25)를 사용하여 회전수 100rpm으로 측정하였다. 아래 식에 기초하여 측정한 점도로 경시 점도 변화율을 산출하였다. 산출된 경시 점도 변화율에 기초하여 저장안정성을 하기의 기준으로 평가하였다. 평가 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
(경시점도변화율) = [{(초기점도)-(경시점도)}/(초기점도)]X100
◎: 5% 미만, △: 5~10% 미만, X : 10% 이상
2. 분산된 색재의 입도 측정
1 cm X 5 cm 석영 Cell에 PGMEA를 약 1/4를 채운 후, 제조한 착색제 분산액을 약 1~2방울 떨어뜨렸다. 입도측정기(Malvern사 Zetasizer nano-ZS90)을 사용하여 측정하였다. 입도 측정 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
3. 투과도 평가 방법
감광성 수지 조성물 1을 유리(5×5cm) 위에 스핀코팅(spin coating)하고 100℃에서 100초간 전열처리(prebake)를 실시하여 필름을 형성시켰다.
필름을 형성시킨 기판과 포토마스크(photo mask) 사이의 간격을 250㎛로 하고, 노광기를 이용하여 기판 전면에 40mJ/cm2 노광량을 조사하였다.
노광된 기판을 현상액(KOH, 0.05%)에 60초간 현상하고, 230℃로 20분간 후열 처리(post bake)를 시켜 컬러 패턴을 얻었다.
컬러패턴을 분광광도계(MCPD)로 측정하여, 실시예 1-2, 비교예 1-3의 투과도를 얻었다. 투과도 값은 By=0.050일 때를 비교한 값이다.
4. 내열성 평가 방법
230℃ 20분 후열처리(Post-bake)를 진행하고 분광광도계를 사용하여 색 특성을 확인한 기판을, 230℃ convection oven에서 5시간 30분 동안 추가로 열처리를 진행한 후, 다시 분광광도계로 색 특성을 확인하여 △Eab 값을 확인하였다.
Figure PCTKR2018006383-appb-I000032
투과도 및 내열성 평가 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
5. 컬러필터 필름의 두께 측정
박막 두께 측정장비(Alpha step)을 이용하여, 감광성 수지 조성물 1로 제조된 컬러필터 필름의 두께를 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.
실시예 2.
상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물 1 대신 감광성 수지 조성물 2을 이용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다.
비교예 1.
상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물 1 대신 감광성 수지 조성물 3을 이용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다.
비교예 2.
상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물 1 대신 감광성 수지 조성물 4을 이용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다.
비교예 3.
상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물 1 대신 감광성 수지 조성물 5을 이용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다.
점도 변화율(%) 저장 안정성 평가결과 분산된 색재 입도 측정 결과(nm)
실시예 1 -2 49
실시예 2 -2.5 46
비교예 1 -7 60
비교예 2 측정불가(Gel화) X 55
비교예 3 -6 58
상기 표 1에서 Gel화란 액체가 반고체가 되는 것으로, 가교결합에 의하여 고분자가 그물구조를 형성함에 따라 용매에 녹지 않는 현상을 의미한다.상기 표 1의 결과에 따르면, 실시예 1 및 2의 감광성 수지 조성물의 점도 변화는 2% 내지 2.5%로서, 비교예 1 내지 3의 감광성 수지 조성물보다 점도변화의 절대값이 작아, 저장 안정성이 우수함을 알 수 있다.
또한, 실시예 1 및 2의 분산된 색재 입자의 직경은 비교예 1 내지 3 보다 작아, 염료의 분산성이 향상되었음을 알 수 있다.
추가로 실시한 실시예 3은 상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물 1 대신 감광성 수지 조성물 6을 이용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하였고, 실시예 4는 상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물 1 대신 감광성 수지 조성물 7을 이용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하였으며, 실시예 5는 상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물 1 대신 감광성 수지 조성물 8을 이용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하였고, 실시예 6은 상기 실시예 1에서 상기 감광성 수지 조성물 1 대신 감광성 수지 조성물 9을 이용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다. 그 결과 실시예 3 내지 6은 비교예 1 내지 3 대비 점도 변화율이 작아 저장 안정성 평가결과에서 실시예 1 및 2와 동일하게 ◎로 표시되는 결과를 얻었으며, 이는 비교예 1 내지 3 보다 저장 안정성이 우수함을 확인할 수 있었다.
색좌표 투과도 내열성(ΔEab) 필름 두께(㎛)
Bx By
실시예 1 0.1471 0.050 4.98 2.8 2.33
실시예 2 0.1475 0.050 5.00 2.5 2.23
비교예 1 0.1469 0.050 4.92 3.2 2.35
비교예 2 0.1467 0.050 4.77 4.1 2.39
비교예 3 0.1470 0.050 4.95 3.7 2.41
상기 표 2의 내열성(ΔEab)은 ΔEab 값이 작을수록 내열성이 우수함을 의미한다. 상기 표 2의 결과에 따르면, 실시예 1 및 2의 투과도는 비교예 1 내지 3보다 향상됨을 알 수 있다. 또한, 실시예 1 및 2의 ΔEab 값은 비교예 1 내지 3보다 작아 내열성이 우수함을 확인할 수 있다. 뿐만 아니라, 실시예 1 및 2의 측정된 필름 두께는 비교예 1 내지 3보다 작아, 상대적으로 적은 양의 색재로 높은 색재현율을 얻을 수 있음을 확인할 수 있었다.
또한 추가로 실시한 실시예 3 내지 6은 비교예 1 내지 3 대비 높은 투과도 및 낮은 필름두께를 가지는 것을 확인하였다.
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 발명의 범주에 속한다.

Claims (21)

  1. 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 제1 크산텐계 염료 및 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 제2 크산텐계 염료를 제1 용매에 용해시키는 단계; 및
    용해된 상기 제1 크산텐계 염료 및 상기 제2 크산텐계 염료를 제2 용매 중에서 석출하는 단계
    를 포함하는 착색제 조성물 제조방법.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 착색제 조성물 제조방법은 상기 석출된 제1 크산텐계 염료 및 제2 크산텐계 염료를 미세화하는 단계를 더 포함하는 것인 착색제 조성물 제조방법.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 크산텐계 염료는 500 내지 580 nm 사이에 최대 흡수 파장을 갖고, 상기 제1 크산텐계 염료의 최대 흡수 파장과 상기 제2 크산텐계 염료의 최대 흡수 파장의 차이는 100nm 이하인 것인 착색제 조성물 제조방법.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 크산텐계 염료는 하기 화학식 1로 표시되고, 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 염료를 포함하고, 상기 제2 크산텐계 염료는 하기 화학식 2로 표시되고, 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 염료를 포함하는 것인 착색제 조성물 제조방법:
    [화학식 1]
    Figure PCTKR2018006383-appb-I000033
    상기 화학식 1에 있어서,
    R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 음이온성기; 히드록시기; 술폰아미드기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 및 질소 원자를 포함하는 이무수물기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
    R5 내지 R9는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 음이온성기; 히드록시기; 술폰아미드기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되며, 단 상기 R5 내지 R9 중 적어도 하나는 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이고,
    R10 및 R11는 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트로기; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이고, r10 및 r11은 0 내지 3의 정수이며, 상기 r10 및 r11이 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하고,
    [화학식 2]
    Figure PCTKR2018006383-appb-I000034
    상기 화학식 2에 있어서,
    R21 내지 R24는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 음이온성기; 히드록시기; 술폰아미드기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 및 질소 원자를 포함하는 이무수물기로 이루어진 군으로부터 선택되며, R21 내지 R24 중 적어도 하나는 음이온성기, 술폰산염기, 또는 술폰아미드기로 치환 또는 비치환된 알킬기; 음이온성기, 술폰산염기, 또는 술폰아미드기로 치환된 아릴기; 또는 음이온성기, 술폰산염기, 또는 술폰아미드기로 치환된 헤테로아릴기이고,
    R25 내지 R29는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 음이온성기; 히드록시기; 술폰아미드기; 술폰산염기; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되며, 단 상기 R25 내지 R29 중 적어도 하나는 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이고,
    R30 및 R31는 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트로기; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이고, r30 및 r31은 0 내지 3의 정수이며, 상기 r30 및 r31가 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하다.
  5. 청구항 4에 있어서, 상기 R1 내지 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 질소 원자를 포함하는 이무수물기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
    상기 R21 내지 R24는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 질소 원자를 포함하는 이무수물기로 이루어진 군으로부터 선택되고,
    나머지 치환기들은 청구항 4에서 정의한 바와 같은 착색제 조성물 제조방법.
  6. 청구항 4에 있어서, 상기 제1 크산텐계 염료는 하기 화학식 3으로 표시되고, 동일한 수의 양전하와 음전하를 갖는 염료를 포함하고, 상기 제2 크산텐계 염료는 하기 화학식 4로 표시되고, 양전하의 수보다 음전하의 수가 1 이상 많은 염료를 포함하는 것인 착색제 조성물 제조방법:
    [화학식 3]
    Figure PCTKR2018006383-appb-I000035
    [화학식 4]
    Figure PCTKR2018006383-appb-I000036
    화학식 3 및 4에 있어서,
    R12, R13, R32 및 R33은 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트로기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이고, r12 및 r13은 0 내지 5의 정수이고, r32 는 0 내지 5이며, r33은 0 내지 4의 정수이고, r12, r13, r32 및 r33이 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하고,
    R61 및 R62는 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 질소 원자를 포함하는 이무수물기이고,
    X는 음이온성기; 술폰산염기; 또는 술폰아미드기이며,
    나머지 치환기들은 청구항 4에서 정의한 바와 같다.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 용매의 상기 제1 크산텐계 염료 및 상기 제2 크산텐계 염료에 대한 용해도는 0.2 내지 50질량%이고, 제2 용매의 상기 제1 크산텐계 염료 및 상기 제2 크산텐계 염료에 대한 용해도는 0.000001 내지 0.02질량% 인 것인 착색제 조성물 제조방법.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 용매는 술폭시드 화합물 또는 아미드 화합물을 포함하는 것인 것인 착색제 조성물 제조방법.
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 제2 용매는 물, 염산, 수산화나트륨, 알코올 화합물, 케톤 화합물, 에테르 화합물, 방향족 화합물, 이황화탄소, 지방족 화합물, 니트릴 화합물, 할로겐 화합물, 에스테르 화합물 및 이온성 액체로 이루어진 군에서 1 또는 2 이상을 포함하는 것인 착색제 조성물 제조방법.
  10. 청구항 1에 있어서, 상기 석출하는 단계는 아민 구조 또는 암모늄 구조를 포함하는 단분자 또는 고분자를 포함하는 분산제를 더 포함하는 것인 착색제 조성물 제조방법.
  11. 청구항 1에 있어서, 상기 제2 크산텐계 염료는 카운터 양이온을 더 포함하는 것인 착색제 조성물 제조방법.
  12. 청구항 10에 있어서, 상기 분산제는 카운터 음이온을 더 포함하는 것인 착색제 조성물 제조방법.
  13. 청구항 1 내지 12 중 어느 한 항의 제조방법으로부터 제조된 착색제 조성물.
  14. 청구항 13에 따른 착색제 조성물; 분산제; 아크릴 수지; 및 용매를 포함하는 착색제 분산액.
  15. 청구항 14에 있어서, 상기 제1 크산텐계 염료는 상기 제2 크산텐계 염료와 파이-파이 상호작용(π-π interaction)결합을 하고, 상기 제2 크산텐계 염료는 상기 분산제와 이온 결합을 하는 것인 착색제 분산액.
  16. 청구항 14에 있어서, 상기 착색제 조성물의 분산된 입자의 직경은 40 nm 내지 80 nm이고, 상기 착색제 분산액의 점도가 2.5 내지 6.5 cP인 것인 착색제 분산액.
  17. 청구항 14에 따른 상기 착색제 분산액; 청색 착색제 분산액; 아크릴 수지; 다관능성 모노머; 계면활성제; 개시제; 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물.
  18. 청구항 17에 있어서, 프탈로시아닌계 안료 또는 염료, 트리아릴메탄계 안료 또는 염료, 퀴노프탈론계 안료 또는 염료, 아이소인돌린계 안료 또는 염료, 및 아조계 안료 또는 염료로 이루어진 군에서 하나 이상의 안료 또는 염료를 더 포함하는 것인 감광성 수지 조성물.
  19. 청구항 17에 따른 감광성 수지 조성물의 초기 점도와 40℃ 항온기에서 7일간 보관 후 측정한 점도의 변화는 2 내지 2.5%이며, 분산된 평균 입자의 직경은 100nm 이하 것인 감광성 수지 조성물.
  20. 투명 기판과 상기 투명 기판 위에 구비된 착색층을 구비하는 컬러필터로서, 상기 착색층은 청구항 17에 기재된 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 것인 컬러필터.
  21. 청구항 20에 기재된 컬러필터를 포함하는 액정 표시 장치.
PCT/KR2018/006383 2017-11-28 2018-06-05 착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치 WO2019107685A1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201880007052.8A CN110337467B (zh) 2017-11-28 2018-06-05 用于制备着色剂组合物的方法以及其制备的着色剂组合物
JP2019537291A JP7070934B2 (ja) 2017-11-28 2018-06-05 着色剤組成物の製造方法、これを用いて製造された着色剤組成物、着色剤分散液、感光性樹脂組成物、カラーフィルタおよび液晶表示装置
US16/485,093 US11091644B2 (en) 2017-11-28 2018-06-05 Method for producing colorant composition, and colorant composition, colorant dispersion, photosensitive resin composition, color filter, liquid crystal display device produced using same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170160329A KR102025478B1 (ko) 2017-11-28 2017-11-28 착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치
KR10-2017-0160329 2017-11-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019107685A1 true WO2019107685A1 (ko) 2019-06-06

Family

ID=66665634

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2018/006383 WO2019107685A1 (ko) 2017-11-28 2018-06-05 착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11091644B2 (ko)
JP (1) JP7070934B2 (ko)
KR (1) KR102025478B1 (ko)
CN (1) CN110337467B (ko)
TW (1) TWI673326B (ko)
WO (1) WO2019107685A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021014493A (ja) * 2019-07-10 2021-02-12 サカタインクス株式会社 カラーフィルター用染料分散組成物及びカラーフィルター用染料分散レジスト組成物

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021095561A (ja) * 2019-12-17 2021-06-24 保土谷化学工業株式会社 キサンテン色素、該色素を含有する着色組成物、カラーフィルター用着色剤およびカラーフィルター、ならびに該色素の製造方法
CN113075862A (zh) * 2021-03-03 2021-07-06 长春人造树脂厂股份有限公司 抗蚀刻组合物

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130094746A (ko) * 2012-02-16 2013-08-26 제이에스알 가부시끼가이샤 착색제, 컬러 필터용 착색 조성물, 컬러 필터 및 표시 소자
KR20130111023A (ko) * 2012-03-30 2013-10-10 (주)경인양행 크산텐계 자색 염료 화합물, 이를 포함하는 컬러필터용 착색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20140082764A (ko) * 2011-10-06 2014-07-02 솔베이(소시에떼아노님) 컬러필터에 적용되는 염, 상기 염의 제조 방법, 및 상기 염을 포함한 착색제
KR20150116441A (ko) * 2013-02-08 2015-10-15 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 착색제 분산액, 착색제 분산액의 제조 방법, 컬러 필터용 착색 수지 조성물, 컬러 필터, 액정 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치
KR20170129744A (ko) * 2015-03-24 2017-11-27 호도가야 가가쿠 고교 가부시키가이샤 크산텐계 염료를 함유하는 청색계 착색 조성물, 컬러 필터용 착색제 및 컬러 필터

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2018168C3 (de) * 1970-04-16 1974-05-22 Farbwerke Hoechst Ag, Vormals Meister Lucius & Bruening, 6000 Frankfurt Pigmentpräparationen und Verfahren zu deren Herstellung
US7939644B2 (en) 2003-08-21 2011-05-10 Merck Patent Gmbh Cyanoborate, fluoroalkylphosphate, fluoroalkylborate or imide dyes
JP2005111696A (ja) 2003-10-03 2005-04-28 Funai Electric Co Ltd インクジェットプリンタおよびインク飛散防止構造
JP2005335662A (ja) 2004-05-27 2005-12-08 Kotobukiya Fronte Co Ltd 自動車用上敷きマット
US20080048155A1 (en) 2004-07-12 2008-02-28 Toshitaka Toriniwa Filter and Cyanine Compound
JP4657768B2 (ja) 2005-03-14 2011-03-23 山本化成株式会社 トリメチン系化合物及びこれを用いた光記録媒体
JP2006003080A (ja) 2005-08-12 2006-01-05 Sanyo Electric Co Ltd 冷凍冷蔵庫の製氷装置
JP2007182507A (ja) 2006-01-06 2007-07-19 Mitsui Chemicals Inc トリメチン二量体化合物及びこれを用いた光記録媒体
KR20100072248A (ko) * 2007-10-25 2010-06-30 후지필름 가부시키가이샤 유기 안료 미립자와 그 제조 방법, 그것을 함유하는 안료 분산 조성물, 광경화성 조성물, 잉크젯 잉크, 및 그들을 사용한 컬러 필터와 그 제조 방법
JP5251329B2 (ja) * 2008-07-22 2013-07-31 東洋インキScホールディングス株式会社 カラーフィルタ用青色着色組成物、カラーフィルタおよびカラー表示装置
JP2010079142A (ja) 2008-09-29 2010-04-08 Nippon Kayaku Co Ltd 光学フィルタ用フィルム及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ
JP2010174143A (ja) 2009-01-29 2010-08-12 Fujifilm Corp 色素物質および色素物質分散物
CN102472849B (zh) * 2009-08-12 2014-12-03 住友化学株式会社 显示装置
EP2644658B1 (en) 2010-11-24 2018-11-28 M Technique Co., Ltd. Solid solution pigment nanoparticles and method for producing solid solution pigment nanoparticles having controlled solid solution ratio
JP6094050B2 (ja) * 2011-04-15 2017-03-15 住友化学株式会社 着色感光性樹脂組成物
JP4911253B1 (ja) * 2011-04-28 2012-04-04 大日本印刷株式会社 染料分散液、カラーフィルター用感光性樹脂組成物、カラーフィルター、液晶表示装置及び、有機発光表示装置
JP5712166B2 (ja) * 2011-07-29 2015-05-07 富士フイルム株式会社 アゾ顔料を含む分散物、着色組成物及びインクジェット記録用インク並びに分散物の製造方法
KR102021024B1 (ko) * 2011-12-26 2019-09-11 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 염료용 화합물
JP2013213161A (ja) * 2012-04-03 2013-10-17 Dainippon Printing Co Ltd 染料分散液の製造方法、及びカラーフィルター用感光性樹脂組成物の製造方法
KR102058339B1 (ko) * 2012-05-14 2019-12-23 메르크 파텐트 게엠베하 전기영동 디스플레이용 입자
JP5646663B2 (ja) * 2013-02-08 2014-12-24 株式会社Dnpファインケミカル カラーフィルタ用着色樹脂組成物、色材分散液、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機発光表示装置
JP6008891B2 (ja) 2013-03-15 2016-10-19 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子及び液晶表示装置
JP6162084B2 (ja) * 2013-09-06 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素
KR101768312B1 (ko) 2014-05-15 2017-08-16 주식회사 엘지화학 헤테로환 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자
JP6601037B2 (ja) * 2014-07-29 2019-11-06 住友化学株式会社 着色硬化性樹脂組成物
JP6396166B2 (ja) 2014-10-08 2018-09-26 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
KR102402498B1 (ko) * 2014-10-30 2022-05-27 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 착색 경화성 수지 조성물

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140082764A (ko) * 2011-10-06 2014-07-02 솔베이(소시에떼아노님) 컬러필터에 적용되는 염, 상기 염의 제조 방법, 및 상기 염을 포함한 착색제
KR20130094746A (ko) * 2012-02-16 2013-08-26 제이에스알 가부시끼가이샤 착색제, 컬러 필터용 착색 조성물, 컬러 필터 및 표시 소자
KR20130111023A (ko) * 2012-03-30 2013-10-10 (주)경인양행 크산텐계 자색 염료 화합물, 이를 포함하는 컬러필터용 착색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20150116441A (ko) * 2013-02-08 2015-10-15 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 착색제 분산액, 착색제 분산액의 제조 방법, 컬러 필터용 착색 수지 조성물, 컬러 필터, 액정 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치
KR20170129744A (ko) * 2015-03-24 2017-11-27 호도가야 가가쿠 고교 가부시키가이샤 크산텐계 염료를 함유하는 청색계 착색 조성물, 컬러 필터용 착색제 및 컬러 필터

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021014493A (ja) * 2019-07-10 2021-02-12 サカタインクス株式会社 カラーフィルター用染料分散組成物及びカラーフィルター用染料分散レジスト組成物
JP7440016B2 (ja) 2019-07-10 2024-02-28 サカタインクス株式会社 カラーフィルター用染料分散組成物及びカラーフィルター用染料分散レジスト組成物

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190061688A (ko) 2019-06-05
TW201925362A (zh) 2019-07-01
JP7070934B2 (ja) 2022-05-18
US20200040188A1 (en) 2020-02-06
CN110337467B (zh) 2021-08-27
KR102025478B1 (ko) 2019-09-25
CN110337467A (zh) 2019-10-15
TWI673326B (zh) 2019-10-01
US11091644B2 (en) 2021-08-17
JP2020507637A (ja) 2020-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2022145685A1 (ko) 수지, 수지 조성물 및 이를 이용한 표시장치
WO2016126070A1 (ko) 신규한 옥심에스테르 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
WO2017052351A1 (ko) 내열안정성이 우수한 옥심 에스테르 화합물, 그것을 포함하는 광중합 개시제 및 감광성 수지 조성물
WO2016204570A1 (ko) 잔텐계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
WO2017023067A2 (ko) 플루오렌 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
WO2020050590A1 (ko) 화합물, 착색제 조성물, 감광재, 컬러필터 및 디스플레이 장치
WO2014035203A1 (ko) 스티릴계 화합물, 상기 스티릴계 화합물을 포함하는 색재, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 상기 감광성 수지 조성물로 제조된 감광재, 상기 감광재를 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치
WO2019194402A1 (ko) 카도계 바인더 수지, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 블랙 매트릭스, 컬러필터 및 디스플레이 장치
WO2021172787A1 (ko) 코어-쉘 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 컬러필터 및 cmos 이미지 센서
WO2019107685A1 (ko) 착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치
WO2018182136A9 (ko) 청색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치
WO2021045466A1 (ko) 화합물, 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
WO2022039356A1 (ko) 저반사율의 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
WO2019132138A1 (ko) 잔텐계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
WO2019182315A1 (ko) 착색 경화성 수지 조성물, 컬러 필터 및 표시 장치
WO2019107687A1 (ko) 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치
WO2019164157A1 (ko) 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물
WO2020022670A1 (ko) 바인더 수지, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터 및 디스플레이 장치
WO2021221304A1 (ko) 화합물, 이를 포함하는 반사방지 필름 및 디스플레이 장치
WO2019194384A1 (ko) 잔텐계 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치
WO2019194381A1 (ko) 퀴노프탈론계 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치
WO2016122160A1 (ko) 신규한 디옥심에스테르 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
WO2020032652A1 (ko) 착색 경화성 수지 조성물, 컬러 필터 및 표시장치
WO2019142956A1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 또는 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치
WO2021091222A1 (ko) 화합물, 바인더 수지, 네가티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 블랙뱅크를 포함하는 디스플레이 장치

Legal Events

Date Code Title Description
ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2019537291

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 18882337

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 18882337

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1