KR20130111023A - 크산텐계 자색 염료 화합물, 이를 포함하는 컬러필터용 착색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 - Google Patents

크산텐계 자색 염료 화합물, 이를 포함하는 컬러필터용 착색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 Download PDF

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Abstract

본 발명은 컬러필터용 자색염료 화합물 및 이를 포함하는 컬러필터용착색 수지 조성물에 관한 것으로서, 하기 [화학식 1]로 표시되는 크산텐 자색 염료 화합물과, 이를 단량체로 하여 얻어지는 폴리머 염료 화합물을 염료로 포함하는 것을 특징으로 하며, 본 발명에 따른 염료 화합물 또는 그 폴리머 화합물은 유기 용제에 대해서 우수한 내용제성 및 안료와의 우수한 혼합성을 가지며, 또한 호모폴리머 구조에 의해서 내열성, 내화학성, 내광성 및 휘도가 우수하여 이를 포함하는 착색 수지 조성물은 합성수지 및 합성섬유 소재용 염료, 고분자 소재용 착색제, LCD, PDP 등에 사용되는 컬러필터 등 다양한 분야에 활용할 수 있다.
[화학식 1]

Description

크산텐계 자색 염료 화합물, 이를 포함하는 컬러필터용 착색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터{Xanthene dye compounds, colored resin composition comprising the same for color filter and color filter using the same}
본 발명은 컬러필터용 자색염료 화합물 및 이를 포함하는 컬러필터용 착색 수지 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 유기 용매에 대한 개선된 용해도, 높은 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 신규한 크산텐계 자색 염료 화합물 또는 이의 폴리머, 이를 포함하는 컬러필터용 착색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터에 관한 것이다.
액정표시장치는 액정 물질의 광학적, 전기적 성질을 이용하여 이미지를 표시한다. 액정표시장치는 CRT, 플라즈마 디스플레이 패널 등과 비교하여, 경량, 저전력, 낮은 구동 전압 등의 장점을 갖는다. 액정표시장치는 유리 기판들 사이에 위치한 액정층을 포함한다. 광원으로부터 발생된 광은 상기 액정층을 통과하고, 액정층은 광의 투과율을 조절한다. 액정을 통과한 광은 컬러필터층을 통과하고, 컬러필터층을 통과한 광을 이용하여 가법 혼색에 의하여 풀 컬러 화면을 구현한다.
일반적으로 액정표시소자에 사용되는 컬러필터의 제조방법으로서, 염색법, 인쇄법, 전착법, 및 안료 분산법이 알려져 있으며 과거부터 염료를 사용하는 방법들이 검토는 되어 왔으나 염료를 사용한 경우 내열성, 내광성, 내화학성 등이 안료에 비해 낮은 문제가 있어 적용이 어려울 뿐 아니라 염색법의 경우 복잡한 공정으로 경제성이 없어 현재는 안료분산법이 일반적으로 적용되고 있다. 안료는 염료에 비해 투명성은 떨어지지만 안료의 미세화 및 분산기술의 진보에 의해 극복되어 왔다. 안료분산법으로 제작된 컬러필터는 안료를 사용하기 때문에, 빛, 열, 용제 등에 대해 안정하며 포토리소그래피법에 의해 패터닝할 경우 대화면 및 고정밀 컬러 디스플레이용 컬러필터를 제작하기 용이하여 현재 가장 광범위하게 사용되고 있다.
안료분산형 컬러레지스트에 사용되는 안료는 RGB 컬러필터를 형성할 경우 적색, 녹색 및 청색 안료를 각각 포함하며, 일반적으로 색상을 더 효과적으로 표현하기 위해, 황색 안료, 보라색 안료 등을 더 포함할 수 있다. 안료 분산법에 의해 컬러필터를 제작하는 방법은 우선 스핀코터로 컬러레지스트 용액을 기판 상에 도포하고, 건조시켜 도포막을 형성시킨다. 이어서, 도포막의 패턴 노광 및 현상에 의해 착색 화소를 얻고 고온에서 가열처리하여 첫 번째 색상의 패턴을 얻고, 색상수에 상응하여 이 조작을 반복함으로써, 컬러필터를 제작한다. 컬러레지스트의 성능을 좌우하는 가장 중요한 요소는 착색제로 사용되는 안료의 특성 및 그 분산성, 분산 상태이다. 최근 LCD의 대형화, 고정세화에 동반하여 착색층의 고투과율화, 고명암비화, 블랙매트릭스 폭의 협소화, 고신뢰성화 등 컬러필터의 요구특성은 매년 증가하고 있다. 이러한 요구조건을 만족시키기 위한 수단으로 현재까지는 안료를 최대한 미세화함으로써 휘도와 명암비 등의 색특성을 만족시켜 왔다.
그러나, 안료분산액의 경우 안료가 입자상태로 존재하여 빛을 산란시킬 뿐만 아니라 안료의 미세화로 인해 안료 표면적이 급격하게 증가하게 되고 이로 인한 분산안정성의 악화로 인한 불균일한 안료입자의 생성 등으로 인하여 최근 요구되고 있는 고휘도, 고명암비, 고정세화 등의 높은 품질요구조건을 만족시키기 어려운 한계점에 도달한 것으로 인식되고 있다. 또한, 안료분산액을 제조하기 위해서는 안정한 분산상태 및 미세화를 용이하게 위해 합성에 의해 얻어진 안료 분말을 그대로 사용할 수 없으며, 솔트밀링 등 안료화 공정이 필요하며 이러한 후처리 공정은 환경보호 측면에서도 바람직하지 않을 뿐 아니라 분산 상태를 안정하게 하기 위해 분산제, 안료유도체 등 수많은 첨가제가 필요하며, 매우 까다롭고 번거로운 제조공정을 거쳐야만 생산이 가능하다. 그리고, 안료분산액은 최적의 품질상태를 유지하기 위해 까다로운 보관, 운송조건을 필요로 한다.
이와 같은 문제점을 해결하고 고휘도, 고명암비 및 고해상도를 달성하기 위해서 최근 착색제로 안료 대신 염료를 사용하는 것이 검토되어 왔다. 그 중 크산텐 염료의 경우 청색 컬러필터의 조색용으로 많이 검토가 되어져 왔다.(특허 공개 2002-0002317, 특허 공개 2006-0095475) 크산텐 염료의 경우 몰 흡광계수가 높기 때문에 다량의 염료를 첨가하지 않아도 된다. 이로 인해 착색 경화성 조성물 중의 모노머나 바인더, 광중합 개시제들의 다른 성분들에 대한 투입량에 제약을 받지 않는 이점이 있다. 그러나, 내용제성이 떨어지는 문제점으로 인해 사용에 제약이 있으며, 이를 개선하고자 이온성 물질, 설폰아미드로의 변환된 작용기를 도입한 염료의 경우에서도 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트이 외에 다른 용매를 사용하여야만 하는 문제점이 있어 개선이 요망되고 있다.(특허 공개 2004-0038817, 특허 공개 2007-0024344) 특히, 염료 용해 목적으로 사용되고 있는 시클로핵사논의 경우 환경유해물질로 사용에 제약이 있어 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트에 대한 용해도가 더욱더 필요한 실정이다.
따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 유기 용매, 특히 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트에 대해서 용해도가 뛰어나며, 내열성, 내광성, 내화학성 및 고휘도를 갖는 신규의 크산텐계 자색 염료 화합물과 이를 포함하는 컬러필터용 착색 수지 조성물을 제공하는 것이다.
또한, 상기 착색 수지 조성물을 이용한 컬러 필터를 제공하는 것이다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여,
중합 가능한 단량체인 하기 [화학식 1]로 표시되는 크산텐계 자색 염료 화합물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 [화학식 1]에서,
상기 X-는 할론겐 음이온, 과할로겐산 음이온, 플루오르 착음이온, 알킬설페이트 음이온, 설폰산염 음이온 및 설폰 이미드 음이온 중에서 선택되고,
상기 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 48의 알케닐기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 10의 방향족 탄화수소 중에서 선택되며,
상기 R5는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 포화 탄화수소이고,
상기 R6은 수소 또는 메틸기이다.
또한, 본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여,
하기 [화학식 2]로 표시되는 크산텐계 화합물을 단량체로 하여 얻어지는 자색 염료 폴리머 화합물을 제공한다.
[화학식 2]
Figure pat00002
상기 [화학식 2]에서,
상기 X-는 할론겐 음이온, 과할로겐산 음이온, 플루오르 착음이온, 알킬설페이트 음이온, 설폰산염 음이온 및 설폰 이미드 음이온 중에서 선택되고,
상기 R7, R8, R9 및 R10은 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 48의 알케닐기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 10의 방향족 탄화수소 중에서 선택되며,
상기 R11은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 포화 탄화수소이고,
상기 R12는 수소 또는 메틸기이며,
상기 폴리머 화합물은 중량평균분자량(Mw)이 2,000-150,000일 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여,
자색 염료 화합물; 청색 안료; 바인더 수지; 반응성 불포화 화합물; 중합 개시제; 유기용제; 및 첨가제;를 포함하고,
상기 자색 염료 화합물은 상기 [화학식 1]로 표시되는 자색 염료 화합물; 또는 상기 [화학식 2]로 표시되는 화합물을 단량체로 하여 얻어지는 자색 염료 폴리머 화합물;인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 착색 수지 조성물을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 자색 염료 화합물은 상기 착색 수지 조성물 총중량에 대하여 0.01 중량% 내지 50 중량%일 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 의하면, 상기 청색 안료는 구리프탈로시아닌계 청색 안료일 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 의하면, 상기 청색 안료와 상기 자색 염료 화합물의 중량비가 99 : 1 - 50 : 50일 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 의하면, 상기 반응성 불포화 화합물은 열경화성 단량체나 올리고머; 광경화성 단량체나 올리고머; 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 의하면, 상기 중합 개시제는 열중합 개시제, 광중합 개시제 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여,
상기 컬러필터용 착색 수지 조성물을 이용하여 제조된 것을 특징으로 하는 컬러필터를 제공한다.
본 발명에 따른 염료 화합물 또는 그 폴리머 화합물은 유기 용제에 대해서 우수한 내용제성 및 안료와의 우수한 혼합성을 가지며, 또한 폴리머 구조에 의해서 내열성, 내화학성, 내광성 및 휘도가 우수하여 이를 이용하여 내열성, 내화학성, 내광성 및 휘도가 우수한 컬러필터의 제조가 가능하다.
이하, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
종래의 크산텐 염료의 경우 컬러필터에 적용하기에는 내용제성이 떨어져 투입량이 적거나, 적용이 힘든 문제점이 있었다. 본 발명은 크산텐 염료에 고용해성을 갖는 음이온을 도입하여 내용제성을 개선한 것을 특징으로 하며, 분자 내 중합 가능한, 즉 고분자화가 가능한 작용기를 포함하고 있어폴리머화할 수 있으며, 이를 포함하는 착색 조성물은 내열성이 우수하며, 색변이 적고, 색특성이 우수한 컬러필터를 구현할 수 있다.
상기 본 발명에 따른 자색 염료 화합물은 중합 가능한 단량체로서, 하기 [화학식 1]로 표시되는 크산텐계 자색 염료 화합물일 수 있다.
[화학식 1]
Figure pat00003
상기 [화학식 1]에서,
상기 X-는 할론겐 음이온, 과할로겐산 음이온, 플루오르 착음이온, 알킬설페이트 음이온, 설폰산염 음이온 및 설폰 이미드 음이온 중에서 선택되고, 바람직하게는 트리플루오르메탄설폰산 또는 비스트리플루오르메탄설폰이미드 음이온일 수 있다.
상기 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 바람직하게는 치환 또는 비치환된 1 내지 10의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 48의 알케닐기, 바람직하게는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 10의 알케닐기; 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 10의 방향족 탄화수소 중에서 선택되는 것일 수 있다.
상기 R5는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 포화 탄화수소일 수 있으며, 상기 R6은 수소 또는 메틸기일 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 상기 자색 염료 화합물은 하기 [화학식 2]로 표시되는 크산텐계 화합물을 단량체로 하여 얻어지는 자색 염료 폴리머 화합물일 수 있다.
[화학식 2]
Figure pat00004
상기 [화학식 2]에서,
상기 X-는 할론겐 음이온, 과할로겐산 음이온, 플루오르 착음이온, 알킬설페이트 음이온, 설폰산염 음이온 및 설폰이미드 음이온 중에서 선택되고, 바람직하게는 트리플루오르메탄설폰산 또는 비스트리플루오르메탄설폰이미드 음이온일 수 있다.
상기 R7, R8, R9 및 R10은 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 바람직하게는 치환 또는 비치환된 1 내지 10의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 48의 알케닐기, 바람직하게는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 10의 알케닐기; 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 10의 방향족 탄화수소 중에서 선택되는 것일 수 있다.
상기 R11은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 포화 탄화수소일 수 있으며, 상기 R12는 수소 또는 메틸기일 수 있다.
상기 폴리머 화합물은 중량평균분자량(Mw)이 2,000-150,000, 바람직하게는 2,000-30,000일 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따른 컬러필터용 착색 수지 조성물은 상기의 자색 염료 화합물과 함께 청색 안료, 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 중합 개시제, 유기용제 및 첨가제를 포함한다.
상기 자색 염료 화합물은 [화학식 1]에 따른 단량체 화합물 또는 상기 [화학식 2]에 따른 폴리머 화합물이며, 상기 착색 수지 조성물 총중량에 대하여 0.01 중량% 내지 50 중량%로 포함되어 있을 수 있다. 상기 자색 염료 화합물이 상기 범위에 포함되는 경우에 용제에 대한 용해성이 우수하고, 고휘도를 가지며, 내열성 및 내광성이 우수하다.
상기 자색 염료 화합물인 [화학식 1]에 따른 단량체 화합물 또는 상기 [화학식 2]에 따른 폴리머 화합물은 1종 이상의 청색 안료와 함께 사용할 수 있고, 상기 청색 안료는 종래의 컬러필터용 착색 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 청색 안료들 중 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있으며, 그 중에서 구리프탈로시아닌계 청색 안료를 포함할 수 있다. 청색 안료의 예로는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있다. 구체적인 예로는 C.I. 청색 안료(Color Index Pigment Blue) 1, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 60 등을 들 수 있다. 청색 안료와 자색 염료 화합물의 중량비는 99 : 1 - 50 : 50일 수 있다.
상기 바인더 수지는 결착력을 나타낼 수 있는 수지이면 특별히 제한되지 않으며, 특히 공지되어 있는 필름형성 수지가 유용하다.
예를 들어, 셀룰로오스 수지, 특히 카르복시메틸히드록시에틸 셀룰로오스 및 히드록시에틸 셀룰로오스, 아크릴산 수지, 알키드 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리아미드, 폴리아미드-이민, 폴리이미드 등의 바인더 등이 유용하다.
또한, 유용한 바인더 수지에는 광중합성 불포화 결합을 갖는 수지가 포함되며, 예를 들어, 아크릴산 수지일 수 있다. 특히, 중합성 단량체의 단독중합체 및 공중합체, 예를 들어 메틸메타아크릴레이트, 에틸메타아크릴레이트, 프로필메타아크릴레이드, 부틸메타아크릴레이트, 스티렌 및 스티렌 유도체, 메타아크릴산, 이타콘산, 말레산, 말레 무수물, 모노알킬 말레에이트과 같은 카르복시기를 함유한 중합성 단량체 및 메타아크릴산, 스티렌 및 스티렌 유도체와 같은 중합성 단량체들 간의 공중합체가 유용하다.
그러한 예로는 옥시란 고리와 에틸렌계 불포화 화합물을 각각 함유하는 화합물, 예를 들어, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 아크릴로일 글리시딜 에테르 및 모노알킬글리시딜 이타코네이트 등과 카르복실-함유 중합 화합물의 반응 생성물, 또한 히드록실기와 에틸렌계 불포화 화합물(불포화 알코올)을 각각 함유하는 화합물, 예를 들어, 알릴 알코올, 2-부텐-4-올, 올레일 알코올, 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, N-메틸올아크릴아미드 등과 카르복실-함유 중합 화합물의 반응 생성물이 있으며, 이러한 바인더는 이소시아네이트기가 없는 불포화 화합물을 함유할 수도 있다.
상기 바인더의 불포화도의 당량(불포화 화합물 당 바인더의 분자량)은 적당한 광중합성 뿐만 아니라 필름 경도를 제공하기 위해 일반적으로 200 내지 3,000이고, 바람직하게는 230 내지 1,000 범위일 수 있다. 필름 노광 후 충분한 알칼리 현상성을 제공하기 위해 산가는 일반적으로 20 내지 300이며, 바람직하게는 40 내지 200일 수 있다. 바인더의 평균분자량은 1,500 내지 200,000, 특히 10,000 내지 50,000 g/mol이 바람직하다.
상기 반응성 불포화 화합물은 열경화성 단량체나 올리고머, 광경화성 단량체나 올리고머 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있고, 바람직하게는 상기 광경화성 단량체일 수 있으며, 분자 내에 하나 이상의 반응성 이중결합 및 추가 반응성기를 함유하는 것일 수 있다.
이와 관련하여 유용한 광경화성 단량체는 특히 반응성 용매 또는 반응성 희석제, 예를들어 모노-, 디-, 트리- 및 다관능성 아크릴레이트 및 메타크릴레이트, 비닐 에테르, 그리시딜 에테르 등이다. 추가 반응성기에는 아릴, 히드록실, 포스페이트, 우레탄, 2차 아민, N-알콕시메틸기 등이 포함된다.
이런 종류의 단량체들은 당업계에 공지되어 있으며, 예를들어 문헌 [Roempp, Lexikon, Lacke und Druckfarben, Dr. Ulrich Zorll, Thimem Verlag Stuttgart-New York, 1998, p 491/492]에 언급되어 있다. 단량체의 선택은 특히 사용되는 조사의 종류 및 강도, 광개시제에 의한 목적 반응 및 필름 특성에 좌우된다. 이들 광경화성 단량체는 단독으로 또는 단량체의 조합으로 사용하는 것도 가능하다.
상기 중합 개시제는 열경화 개시제, 광경화 개시제 또는 이들의 조합일 수 있으며, 바람직하게는 광경화 개시제일 수 있고, 이러한 광경화 개시제는, 가시광선 또는 좌외선의 흡수결과, 예를 들어 상기 단량체 및/또는 바인더의 중합 반응을 유도할 수 있는 반응 중간체를 형성하는 화합물이다. 광경화 개시제 또는 당업계에 공지되어 있으며, 예를들어 문헌 [ Roempp, Lexikon, Lacke und Druckfarben, Dr. Ulrich Zorll, Thimem Verlag Stuttgart-New York, 1998, p 445/446]으로 부터 알 수 있다.
상기의 유기 용제는 예를 들어, 케톤, 알킬렌 글리콜 에테르, 알코올 및 방향족 화합물이다. 케톤 군에는 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 시클로헥사논 등이 있고, 알킬렌 글리콜 에테르 군에는 메틸셀로솔브(에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르), 부틸셀로솔브(에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르), 메틸솔로솔브 아세테이트, 에틸셀로솔베 아세테이트, 부틸셀로솔브 아세테이트, 에틸렌 글리콜 모노프로필 에테르, 에틸렌 글리콜 모노헥실 에테르, 에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 에틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노프로필 에테르, 프로필렌 글리콜 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 디에틸렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 프로필 에테르 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 이소프로필 에테르 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트, 디에틸렌 글리콜 t-부틸 에테르 아세테이트, 트리에틸렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 트리에틸렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 트리에틸렌 글리콜 프로필 에테르 아세테이트, 트리에틸렌 글리콜 이소프로필 에테르 아세테이트, 트리에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트, 트리에틸렌 글리콜 t-부틸 에테르 아세테이트 등이 있고, 알코올 군에는 메틸 알코올, 에틸 알코올, 이소프로필 알코올, n-부틸 알코올, 3-메틸-3-메톡시 부탄올 등이 있고, 방향족 화합물 군에는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, N-메틸-2-피롤리돈, 에틸 N-히드록시메틸피롤리돈-2 아세테이트 등이 있다. 추가의 다른 용제로는 1,2-프로판디올 디아세테이트, 3-메틸-3-메틸-3메톡시부틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 테트라하이드로푸란 등이 있다. 상기의 유기 용제들은 단독으로 또는 혼합물로 사용할 수 있다.
상기 첨가제는 각각의 목적에 부합하는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있을 것이며, 바람직한 예로 표면질감을 향상시키기 위해서, 지방산, 지방아민, 알코올류, Bean oil, 왁스, 로진, 레진류, 벤조트리아졸 유도체 등이 사용될 수 있고, 더욱 바람직하게는 상기 지방산으로는 Stearic acid 또는 Behenic acid 등이 사용될 수 있고, 지방 아민으로는 Stearylamine 등이 사용될 수 있다.
이하, 바람직한 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 이들 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이에 의하여 제한되지 않고, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 것이다.
<실시예>
합성예 1. [화학식 3]의 합성
(1) 반응기에 무수프탈산 15.7 g와 3-(N,N-디메틸아미노)페놀 15 g을 1,2-디클로로벤젠 56.7 g에 첨가한 후, 175 ℃로 승온하여 1 시간 동안 교반하였다. 1 시간 후 3-디메틸아미노페놀 10 g을 삼등분해서 투입하였고, 투입 완료 후 175 ℃에서 12 시간 반응 교반하였다. 반응 완료 후 25 ℃ 이하로 냉각 후 3% 수산화나트륨 수용액 100 g을 투입한 후 30 분 동안 교반하였다. 유기층을 분리한 후 4.5% 황산 330 g을 투입한 후 30 분 동안 교반하였다. 물층을 분리한 후 35% 염산 30 g과 염화나트륨 15 g를 투입한 후 60 ℃에서 1 시간 동안 교반하였다. 실온으로 냉각 후 결정체를 여과하였으며, 2% 염산 300 g 을 투입하여 수세한 후 80 ℃에서 건조하여 하기 [화학식 A]의 화합물 30g을 얻었다.
[화학식 A]
Figure pat00005
(2) 상기 1-(1)에서 수득한 [화학식 A] 15.0 g을 디클로로메탄 210.0 g에 투입한 후 25 ℃ 이하에서 교반하였다. 염화티오닐 12.9 g를 25 ℃ 이하에서 30 분 동안 적가하였다. 투입 완료 후 N,N-디메틸포름아미드 1.3 g를 25 ℃ 이하에서 30 분 동안 적가하였다. 적가 완료 후 반응온도를 40 ℃로 승온하였다. 같은 온도에서 1 시간 동안 교반 유지하고, 반응 완료 후 25 ℃ 이하로 냉각한 후 반응액을 빙수 300 g에 투입하였다. 투입 완료 후 유기층을 분리한 후 0 ℃이하로 냉각하였다. 2-히드록시에틸메타아크릴레이트와 트리에틸아민을 혼합한 후 5 ℃ 이하에서 천천히 적가하였다. 완료 후 5 ℃ 이하에서 2 시간 동안 교반한 후 물 200 g과 염산 10 g을 투입하였다. 층분리 후 유기층을 농축한 후 건조하여 하기 [화학식 B]의 화합물 10.0 g을 얻었다.
[화학식 B]
Figure pat00006

(3) 상기 1-(2)에서 수득한 [화학식 B] 10.0 g을 디클로로메탄 100 g에 투입하여 25 ℃에서 용해시켰다. 별도의 반응기에 리튬 비스트리플루오르메탄술폰이미드 11.3 g를 물 200 g에 녹인 후 [화학식 B] 용해액에 30 분 동안 적가한 후에 약 1 시간 동안 교반하였다. 반응 완료 후 유기층을 분리한 후 용매를 증류하여 제거한 후, 메탄올 50 g을 투입하여 1 시간 동안 교반하였다. 이 혼합물을 물 200 g에 약 1 시간 동안 적가하여 결정을 석출시켰다. 결정을 여과한 후 물 200g로 세정한 후 30 ℃에서 감압 건조하여 하기 [화학식 C] 화합물 9.0 g을 얻었다.
[화학식 C]
Figure pat00007

(4) 질소 대기 하에서 반응기에 메틸에틸케톤 22.8 g을 투입 후 70 ℃까지 승온하였다. 별도의 반응기에 얻어진 [화학식 C] 96.0 g, 메틸에틸케톤 91.1 g, 2,2'-아조비스이소부틸로니트릴 0.3 g을 투입 후 25 ℃에서 용해시켰다. 이렇게 준비된 용해액을 상기 준비된 메틸에틸케톤액에 3 시간 동안 70 ℃에서 투입하였다. 투입 완료 후 70 ℃에서 12 시간 동안 유지하였다. 반응 완료 후 메틸에틸케톤을 3/2 농축 후 핵산 150 g에 투입하여 결정화 후 여과를 진행하였다. 결정을 건조함으로써 [화학식 3]의 화합물 5.0 g을 얻었다.
수평균 분자량 Mn=4250, 중량 평균 분자량 6018, 분산도 PD=3.4
합성예 2. [화학식 4]의 합성
(1) 반응기에 무수프탈산 15.7 g와 3-(N,N-디에틸아미노)페놀 18.0 g을 1,2-디클로로벤젠 57.0 g에 첨가한 후, 175 ℃로 승온하여 1 시간 동안 교반하였다. 1시간 후 3-(N,N-디에틸아미노)페놀 12.1 g를 삼등분해서 투입하였다. 투입 완료 후 175 ℃에서 12 시간 반응 교반하였다. 반응 완료 후 25 ℃ 이하로 냉각 후 3% 수산화나트륨 수용액 100 g을 투입한 후 30 분 동안 교반하였다. 유기층을 분리한 후 4.5% 황산 330 g을 투입한 후 30 분 동안 교반하였다. 물층을 분리한 후 35% 염산 30 g과 염화나트륨 15 g를 투입한 후 60 ℃에서 1 시간 동안 교반하였다. 실온으로 냉각 후 결정체를 여과하였다. 2% 염산 300 g을 투입하여 수세한 후 80 ℃에서 건조하여 하기 [화학식 D]의 화합물 35 g을 얻었다.
[화학식 D]
Figure pat00008

(2) 상기 2-(1)에서 수득한 [화학식 D] 17.0 g을 디클로로메탄 238.0 g에 투입한 후 25 ℃ 이하에서 교반시켰다. 염화티오닐 12.9 g를 25 ℃ 이하에서 30 분 동안 적가하였다. 투입 완료 후 N,N-디메틸포름아미드 1.3 g를 25 ℃ 이하에서 30 분 동안 적가하였다. 적가 완료 후 반응온도를 40 ℃로 승온하였다. 같은 온도에서 1 시간 동안 교반을 유지하였다. 반응 완료 후 25 ℃ 이하로 냉각한 후 반응액을 빙수 300 g에 투입하였다. 투입 완료 후 유기층을 분리한 후 0 ℃ 이하로 냉각하였다. 2-히드록시에틸 메타아크릴레이트와 트리에틸아민을 혼합한 후 5 ℃ 이하에서 천천히 적가하였다. 완료 후 5 ℃ 이하에서 2 시간 교반 후 물 200.0 g와 염산 10.0 g을 투입하였다. 층분리 후 유기층을 농축 후 건조하여 [화학식 E] 11.0 g을 얻었다.
[화학식 E]
Figure pat00009

(3) 상기 2-(2)에서 수득한 [화학식 E] 11.0 g를 디클로로메탄 100 g에 투입하여 실온에서 용해하였다. 리튬 비스트리플루오르메탄술폰이미드 13.3 g을 물 200 g에 녹인 후 디클로로메탄 용해액에 30 분 동안 적가한 후 약 1 시간 동안 교반하였다. 반응 완료 후 유기층을 분리한 후 용매를 증류하여 제거한 후, 메탄올 50 g을 투입하여 1 시간 동안 교반하였다. 이 혼합물을 물 200 g에 약 1 시간 동안 적가하여 결정을 석출시켰다. 석출한 염료를 여과한 후 물 200 g으로 세정한 후 30 ℃에서 감압 건조하여 [화학식 F]의 화합물 9.50 g을 얻었다.
[화학식 F]
Figure pat00010

(4) 질소 대기 하에서 반응기에 메틸에틸케톤 25.5 g을 투입 후 70 ℃까지 승온하였다. 별도의 반응기에 얻어진 [화학식 F] 6.4 g을 메틸에틸케톤 97.8 g, 2,2'-아조비스이소부틸로니트릴 0.3 g에 투입 후 25 ℃에서 용해시켰다. 이렇게 준비된 용해액을 상기 준비된 메틸에틸케톤액에 3 시간 동안 70 ℃에서 투입하였다. 투입 완료 후 70 ℃에서 12 시간 유지하였다. 반응 완료 후 메틸에틸케톤을 3/2 농축 후 핵산 150g에 투입하여 결정화 후 여과를 진행하였다. 결정을 건조함으로써 [화학식 4]의 화합물 5.4 g을 얻었다.
수평균 분자량 Mn=4184, 중량 평균 분자량 5386, 분산도 PD=3.02
합성예 3. [화학식 5]의 합성
(1) 상기 합성예 1에서 합성된 [화학식 B] 10 g을 디클로로메탄 100 g 에 투입하여 25 ℃에서 용해하였다. 별도의 반응기에 나트륨 트리플루오르메탄술폰산 6.8 g을 물 20 0g을에 녹인 후 [화학식 B] 용해액에 30 분 동안 적가한 후 약 1 시간 동안 교반하였다. 반응 완료 후 유기층을 분리한 후 용매를 증류하여 제거한 후, 메탄올 50 g을 투입하여 1 시간 동안 교반하였다. 이 혼합물을 물 200 g에 약 1 시간 동안 적가하여 결정을 석출시켰다. 물 200 g으로 세정한 후 30 ℃에서 감압 건조하여 [화학식 G]의 화합물 7.5 g을 얻었다.
[화학식 G]
Figure pat00011

(2) 질소 대기하에서 반응기에 메틸에틸케톤 19.1 g 투입 후 70 ℃까지 승온하였다. 별도의 반응기에 얻어진 [화학식 G] 135.0 g을 메틸에틸케톤 76.3 g, 2,2'-아조비스이소부틸로니트릴 0.3 g에 투입 후 70 ℃에서 용해시켰다. 이렇게 준비된 용해액을 상기 준비된 메틸에틸케톤액에 3 시간 동안 70 ℃에서 투입하였다. 투입 완료 후 70 ℃에서 12 시간 유지하였다. 반응 완료 후 메틸에틸케톤을 3/2 농축 후 핵산 100 g에 투입하여 결정화 후 여과를 진행하였다. 결정을 건조함으로써 [화학식 5]의 화합물 4.1 g을 얻었다.
수평균 분자량 Mn=4832, 중량 평균 분자량 5703, 분산도 PD=3.10
합성예 4. [화학식 6]의 합성
(1) 상기 합성예 2에서 얻어진 [화학식 E] 11 g을 디클로로 메탄 100 g에 투입하여 실온에서 용해하였다. 나트륨 트리플루오르메탄술폰산 6.8 g을 물 200 g에 녹인 후 디클로로메탄 용해액에 30 분 동안 적가한 후 약 1 시간 동안 교반하였다. 반응 완료 후 유기층을 분리한 후 용매를 증류하여 제거한 후, 메탄올 50 g을 투입하여 1 시간 동안 교반하였다. 이 혼합물을 물 200 g에 약 1 시간 동안 적가하여 결정을 석출시켰다. 석출한 염료를 여과 한 후 물 200 g로 세정한 후 30 ℃에서 감압 건조하여 [화학식 H]의 화합물 8.0 g을 얻었다.
[화학식 H]
Figure pat00012

(2) 질소 대기 하에서 반응기에 메틸에틸케톤 20.8 g을 투입 후 70 ℃까지 승온하였다. 별도의 반응기에 얻어진 [화학식 H] 5.4 g을 메틸에틸케톤 83.0 g, 2,2'-아조비스이소부틸로니트릴 0.3 g에 투입 후 70 ℃에서 용해시켰다. 이렇게 준비된 용해액을 상기 준비된 메틸에틸케톤액에 3 시간 동안 70 ℃에서 투입하였다. 투입 완료 후 70 ℃에서 12 시간 유지하였다. 반응 완료 후 메틸에틸케톤을 3/2 농축 후 핵산 100 g에 투입하여 결정화 후 여과를 진행하였다. 결정을 건조함으로써 [화학식 6]의 화합물 4.6 g을 얻었다.
수평균 분자량 Mn=4713, 중량 평균 분자량 5376, 분산도 PD=3.05
비교예 1. [Rhodamine B]
Figure pat00013

비교예 2. [Basic Violet 11]
Figure pat00014

비교예 3. [일본 공개특허 6-230210, 일본 공개특허 7-242651]
Figure pat00015

실험예 1. 용해도 평가
합성예 1 내지 4, 비교예 1 내지 3에 따른 염료 화합물에 대하여 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 시클로헥사논에 각각 용해하여 용해도를 확인하였고, 그 결과를 하기 [표 1]에 나타내었다.
용매 합성예 1 합성예 2 합성예 3 합성예 4 비교예 1 비교예 2 비교예 3
PGMEA >10% >10% 0.6% 0.8% < 0.1% < 0.1% 0.4%
PGME >10% >10% 6.5% 7.2% 1.2% 1.4% 4.5%
시클로헥사논 >10% >10% >10% >10% 0.4% 0.5% 6.3%
PGMEA : 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트
PGME : 프로필렌글리콜 모노메틸에테르
상기 [표 1]에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 합성예 1 내지 4의 염료 화합물들은 다양한 용매들에서 높은 용해도를 나타낸다. 특히, 합성예 1, 2의 화합물은 모든 용매에서 매우 높은 용해도를 나타내는 것을 알 수 있다.
실험예 2. 내열성 평가
상기 합성예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3의 염료 화합물 1 g, PGME 15 g, N,N-디메틸포름아미드 3 g 및 아크릴계 바인더 수지 17 g으로 내열성 평가를 위한 조성물을 제조하였다.
두께 1 ㎜의 유리기판 상에 2 ㎛의 두께로 상기 감광성 수지 조성물을 각각 도포하고, 80 ℃의 핫플레이트 상에서 90 초 동안 건조시켜 도포막을 형성하였다. 유리 기판을 230 ℃ 열풍 건조기에 투입한 후 30 분, 1 시간, 2 시간 동안 방치한 후 UV/VIS Spectrophotometer:Agilent 8453(Agilent 사)를 이용하여 최대흡수파장에서의 흡광도 변화율을 측정하였고, 그 결과를 하기 [표 2]에 나타내었다.
온도(℃) 평가 합성예1 합성예2 합성예3 합성예4 비교예1 비교예2 비교예3
80 초기 0.7023 0.6322 0.6394 0.7610 0.7821 0.7314 0.6058
230 30분 0.6789 0.6178 0.6049 0.5747 0.6212 0.6012 0.5498
변화율 96.7% 97.7% 94.6% 94.4% 79.4% 82.2% 90.8%
60분 0.6571 0.5947 0.5829 0.5642 0.4712 0.4481 0.5198
변화율 93.6% 94.1% 91.2% 92.7% 60.2% 61.3% 85.8%
120분 0.6210 0.5690 0.5392 0.5186 0.3461 0.3661 0.4598
변화율 88.4% 90.0% 84.3% 85.2% 44.3% 50.1% 75.9%
상기 [표 2]에서 보는 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 4 코팅 필름은 고온에서 시간 변화에 따른 변화율이 작아 내열성 및 내구성이 우수한 것을 알 수 있다.
실시예 1 내지 4. 컬러필터용 착색 수지 조성물의 제조
다음과 같은 조성으로 감광성 청색 수지 조성물을 제조하였다.
(a) 바인더수지 : 벤질메타아크릴레이트/메타아크릴산(60 : 40 질량비)의 공중합체 Mw=20000) 13 g
(b) 다광능 아크릴 모노머 : 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 7 g
(c) 안료 분산액 : 피그먼트 블루 15:6 10 g
(d) 합성예 1 내지 4의 염료 화합물 0.7 g
(e) 광중합개시제 : BASF사의 Irgaeure OXE-01 2 g
(f) 용제 : 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 5.3 g, 사이클로헥사논 62 g
비교예 1 내지 3.
상기 실시예 1 내지 4의 조성과 동일하게 착색 수지 조성물을 제조하였으며, 다만 합성예 1 내지 4의 화합물 대신에 상기 비교예 1 내지 3의 화합물을 첨가하여 제조하였다.
실험예 3. 색특성 평가
색특성 평가를 위해 유리기판 위에 상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3의 착색 조성물을 스핀 코팅법으로 도포한 후, 90 ℃의 핫플레이트에서 3 분 동안 프리베이크를 수행한 후, 상온에서 1 분 동안 냉각하였다. 이를 노광기를 이용하여 100 mJ/㎠의 노광량(365 ㎚ 기준)으로 노광하였다. 그런 다음, 230 ℃의 컨벡션 오븐에서 30 분 동안 포스트베이크를 수행한 후, 광특성을 측정하기 위해 분광광도계인 Otsuka electronic사의 MCPD3000를 사용하여 색좌표 및 휘도를 측정하였으며, 그 결과를 하기 [표 3]에 나타냈다.
구분 색좌표(x) 색좌표(y) 휘도(Y)
실시예1 0.1350 0.113 13.59
실시예2 0.1360 0.113 13.61
실시예3 0.1359 0.113 13.57
실시예4 0.1364 0.113 13.65
비교예3 0.1365 0.113 13.36
비교예 1, 2의 경우 용해도가 낮아 석출되어 평가를 하지 못했으며, 상기 [표 3]에서 보는 바와 같이, 본 발명에 따른 실시에 1 내지 4의 컬러필터용 착색 조색물이 비교예 3의 착색 조성물 보다 우수한 분광 특성을 나타내는 것을 확인할 수 있다.

Claims (12)

  1. 중합 가능한 단량체인 하기 [화학식 1]로 표시되는 크산텐계 자색 염료 화합물:
    [화학식 1]
    Figure pat00016

    상기 [화학식 1]에서,
    상기 X-는 할론겐 음이온, 과할로겐산 음이온, 플루오르 착음이온, 알킬설페이트 음이온, 설폰산염 음이온 및 설폰 이미드 음이온 중에서 선택되고,
    상기 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 48의 알케닐기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 10의 방향족 탄화수소 중에서 선택되며,
    상기 R5는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 포화 탄화수소이고,
    상기 R6은 수소 또는 메틸기이다.
  2. 하기 [화학식 2]로 표시되는 크산텐계 화합물을 단량체로 하여 얻어지는 자색 염료 폴리머 화합물:
    [화학식 2]
    Figure pat00017

    상기 [화학식 2]에서,
    상기 X-는 할론겐 음이온, 과할로겐산 음이온, 플루오르 착음이온, 알킬설페이트 음이온, 설폰산염 음이온 및 설폰 이미드 음이온 중에서 선택되고,
    상기 R7, R8, R9 및 R10은 각각 독립적으로 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 48의 알케닐기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 10의 방향족 탄화수소 중에서 선택되며,
    상기 R11은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 포화 탄화수소이고,
    상기 R12는 수소 또는 메틸기이다.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 폴리머 화합물은 중량평균분자량(Mw)이 2,000-150,000인 것을 특징으로 하는 자색 염료 폴리머 화합물.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 [화학식 1]은 하기 [화학식 3] 내지 [화학식 6]으로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 크산텐계 자색 염료 화합물:
    [화학식 3]
    Figure pat00018

    [화학식 4]
    Figure pat00019

    [화학식 5]
    Figure pat00020

    [화학식 6]
    Figure pat00021
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 [화학식 2]는 하기 [화학식 3] 내지 [화학식 6]으로 표시되는 화합물을 단량체로 하여 얻어지는 자색 염료 폴리머 화합물:
    [화학식 3]
    Figure pat00022

    [화학식 4]
    Figure pat00023

    [화학식 5]
    Figure pat00024

    [화학식 6]
    Figure pat00025
  6. 자색 염료 화합물; 청색 안료; 바인더 수지; 반응성 불포화 화합물; 중합 개시제; 유기용제; 및 첨가제;를 포함하고,
    상기 자색 염료 화합물은 제 1 항에 따른 상기 [화학식 1]로 표시되는 자색 염료 화합물; 또는 제 2 항에 따른 상기 [화학식 2]로 표시되는 화합물을 단량체로 하여 얻어지는 자색 염료 폴리머 화합물;인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 착색 수지 조성물.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 자색 염료 화합물은 상기 착색 수지 조성물 총중량에 대하여 0.01 중량% 내지 50 중량%인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 착색 수지 조성물.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 청색 안료는 구리프탈로시아닌계 청색 안료인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 착색 수지 조성물.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 청색 안료와 상기 자색 염료 화합물의 중량비가 99 : 1 - 50 : 50인 것을 특징으로 하는 컬러필터용 착색 수지 조성물.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 반응성 불포화 화합물은 열경화성 단량체나 올리고머; 광경화성 단량체나 올리고머; 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 컬러필터용 착색 수지 조성물.
  11. 제 6 항에 있어서,
    상기 중합 개시제는 열중합 개시제, 광중합 개시제 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 컬러필터용 착색 수지 조성물.
  12. 제 6 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 컬러필터용 착색 수지 조성물을 이용하여 제조된 것을 특징으로 하는 컬러필터.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101525542B1 (ko) * 2013-11-14 2015-06-03 (주)경인양행 크산텐 염료 화합물 및 이의 제조방법
WO2015178668A1 (ko) * 2014-05-21 2015-11-26 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
WO2016208866A1 (ko) * 2015-06-23 2016-12-29 (주)경인양행 크산텐계 고분자 화합물, 이를 포함하는 컬러필터용 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20190061688A (ko) * 2017-11-28 2019-06-05 주식회사 엘지화학 착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치
KR20190061684A (ko) * 2017-11-28 2019-06-05 주식회사 엘지화학 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치
WO2019164122A1 (ko) * 2018-02-23 2019-08-29 주식회사 엘지화학 잔텐계 화합물, 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터 및 디스플레이 장치
WO2021112552A1 (ko) * 2019-12-02 2021-06-10 주식회사 엘지화학 착색제 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터 및 액정 표시 장치

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105073801B (zh) * 2013-02-15 2017-03-08 和光纯药工业株式会社 着色组合物
JP6349629B2 (ja) * 2013-06-12 2018-07-04 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物及びカラーフィルタ
JP6054824B2 (ja) * 2013-08-01 2016-12-27 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
WO2015101339A1 (zh) * 2013-12-31 2015-07-09 中国科学院上海生命科学研究院 新型温敏荧光化合物及其应用
JP6159309B2 (ja) * 2014-01-31 2017-07-05 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
JP6251067B2 (ja) * 2014-01-31 2017-12-20 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
JP6350335B2 (ja) * 2014-02-27 2018-07-04 Jsr株式会社 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子
EP3124551B1 (en) * 2014-03-28 2017-12-13 Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Rhodamine-based coloring composition
KR20160103277A (ko) 2015-02-24 2016-09-01 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이로부터 제조된 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치
CN106125508A (zh) * 2015-05-06 2016-11-16 奇美实业股份有限公司 彩色滤光片用感光性树脂组成物及其应用
KR102219053B1 (ko) * 2017-12-26 2021-02-22 삼성에스디아이 주식회사 폴리머, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 장치
KR102269200B1 (ko) * 2018-02-23 2021-06-25 주식회사 엘지화학 잔텐계 화합물, 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터 및 디스플레이 장치
BR112020023733A2 (pt) * 2018-06-26 2021-02-09 Unilever Nv polímero, composição de cuidado oral, processo para preparar um polímero, kit de peças, dispositivo para clarear dentes, método de clareamento de dentes e uso de uma composição
CN109876742B (zh) * 2019-01-30 2021-01-19 西安交通大学 一种用于电子墨水显示的红色荧光微胶囊及其制备方法
GB2623090A (en) 2022-10-04 2024-04-10 Sublino Ltd Method of colouring

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5136005A (en) * 1989-10-13 1992-08-04 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Composition and method of preparation of solid state dye laser rods
US5772894A (en) * 1996-07-17 1998-06-30 Nalco Chemical Company Derivatized rhodamine dye and its copolymers
JP3736221B2 (ja) * 1998-08-28 2006-01-18 凸版印刷株式会社 カラーフィルターおよびこれを備えた液晶表示装置
JP4937742B2 (ja) * 2003-08-21 2012-05-23 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング シアノホウ酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルホウ酸塩またはイミド染料
TWI454754B (zh) * 2008-07-22 2014-10-01 Toyo Ink Mfg Co 彩色濾光片用藍色著色組成物、彩色濾光片及彩色顯示裝置
TWI444441B (zh) * 2009-09-25 2014-07-11 Toyo Ink Mfg Co 著色組成物及彩色濾光片
JP5469489B2 (ja) 2010-03-12 2014-04-16 保土谷化学工業株式会社 染毛料組成物
KR20130048129A (ko) 2010-06-15 2013-05-09 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 착색 수지 조성물, 착색 경화막, 컬러 필터, 표시 장치 및 고체 촬상 소자
WO2011158794A1 (ja) * 2010-06-15 2011-12-22 日本化薬株式会社 着色樹脂組成物、着色硬化膜、カラーフィルター、表示装置及び固体撮像素子
JPWO2013011687A1 (ja) * 2011-07-19 2015-02-23 日本化薬株式会社 カラーフィルター用着色樹脂組成物
JP5482878B2 (ja) * 2012-01-30 2014-05-07 Ｊｓｒ株式会社 着色剤、着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101525542B1 (ko) * 2013-11-14 2015-06-03 (주)경인양행 크산텐 염료 화합물 및 이의 제조방법
WO2015178668A1 (ko) * 2014-05-21 2015-11-26 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
WO2016208866A1 (ko) * 2015-06-23 2016-12-29 (주)경인양행 크산텐계 고분자 화합물, 이를 포함하는 컬러필터용 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20190061688A (ko) * 2017-11-28 2019-06-05 주식회사 엘지화학 착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치
KR20190061684A (ko) * 2017-11-28 2019-06-05 주식회사 엘지화학 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치
WO2019107685A1 (ko) * 2017-11-28 2019-06-06 주식회사 엘지화학 착색제 조성물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치
WO2019107687A1 (ko) * 2017-11-28 2019-06-06 주식회사 엘지화학 착색제 조성물, 착색제 분산액, 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 액정 표시 장치
US11091644B2 (en) 2017-11-28 2021-08-17 Lg Chem, Ltd. Method for producing colorant composition, and colorant composition, colorant dispersion, photosensitive resin composition, color filter, liquid crystal display device produced using same
WO2019164122A1 (ko) * 2018-02-23 2019-08-29 주식회사 엘지화학 잔텐계 화합물, 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터 및 디스플레이 장치
WO2021112552A1 (ko) * 2019-12-02 2021-06-10 주식회사 엘지화학 착색제 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터 및 액정 표시 장치

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