WO2018116663A1 - ガスセンサモジュール及びその製造方法 - Google Patents

ガスセンサモジュール及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2018116663A1
WO2018116663A1 PCT/JP2017/039870 JP2017039870W WO2018116663A1 WO 2018116663 A1 WO2018116663 A1 WO 2018116663A1 JP 2017039870 W JP2017039870 W JP 2017039870W WO 2018116663 A1 WO2018116663 A1 WO 2018116663A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
gas sensor
side wall
sensor module
lid
semiconductor chip
Prior art date
Application number
PCT/JP2017/039870
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
木村　哲平
弘明 鈴木
Original Assignee
Ｎｉｓｓｈａ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ｎｉｓｓｈａ株式会社 filed Critical Ｎｉｓｓｈａ株式会社
Priority to EP17884495.7A priority Critical patent/EP3540421A4/en
Priority to US16/472,134 priority patent/US11415536B2/en
Priority to KR1020197011719A priority patent/KR102350203B1/ko
Priority to CN201780074674.8A priority patent/CN110073204A/zh
Publication of WO2018116663A1 publication Critical patent/WO2018116663A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
    • G01N27/12—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
    • G01N27/128—Microapparatus
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
    • G01N27/12—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814—Conductive parts
    • H01L21/4817—Conductive parts for containers, e.g. caps
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/52—Mounting semiconductor bodies in containers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • H01L21/782—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, each consisting of a single circuit element
    • H01L21/784—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, each consisting of a single circuit element the substrate being a semiconductor body
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02—Containers; Seals
    • H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
    • H01L23/053—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having an insulating or insulated base as a mounting for the semiconductor body
    • H01L23/055—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having an insulating or insulated base as a mounting for the semiconductor body the leads having a passage through the base
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/93—Batch processes
    • H01L24/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L24/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/08—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805—Shape
    • H01L2224/4809—Loop shape
    • H01L2224/48091—Arched
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481—Disposition
    • H01L2224/48105—Connecting bonding areas at different heights
    • H01L2224/48106—Connecting bonding areas at different heights the connector being orthogonal to a side surface of the semiconductor or solid-state body, e.g. parallel layout
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481—Disposition
    • H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93—Batch processes
    • H01L2224/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/95001—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips involving a temporary auxiliary member not forming part of the bonding apparatus, e.g. removable or sacrificial coating, film or substrate

Definitions

  • the present invention relates to a gas sensor module and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a gas sensor module including a semiconductor chip on which gas sensor elements are integrated and a manufacturing method thereof.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2014-813657 discloses a gas sensor module including a gas sensor element in which a heater and a sensitive film are formed by a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) structure, and a case that houses the gas sensor element. Is disclosed.
  • MEMS Micro Electro Mechanical Systems
  • the gas sensor module described in Patent Document 1 has a flat outer shape whose length in the direction perpendicular to the semiconductor chip is shorter than the direction parallel to the semiconductor chip in which the gas sensor element is formed.
  • the gas sensor module miniaturized as in Patent Document 1 is incorporated in a small space of various devices. When the space of the device in which the gas sensor module is incorporated becomes substantially the same as the height of the gas sensor module, it becomes difficult for gas to flow through the opening formed in the upper surface of the gas sensor module. If it becomes difficult for gas to flow through the opening, detection by the gas sensor module becomes difficult.
  • An object of the present invention is to provide a gas sensor module that can easily detect a gas even when it is attached to a mounting space having a short length in a direction perpendicular to a semiconductor chip on which a gas sensor element is formed.
  • a gas sensor module includes a semiconductor chip on which a gas sensor element is formed, a substrate to which the semiconductor chip is electrically connected and fixed, a side wall fixed to the substrate, and a side wall. And a flat package having a detection space in which gas flows around the semiconductor chip, the length in the direction parallel to the semiconductor chip being longer than the length in the direction perpendicular to the semiconductor chip, A plurality of openings that communicate with the detection space are provided on the side wall and / or between the side wall and the lid.
  • the gas can flow into the detection space from the outside through some of the plurality of openings communicating with the detection space, and the gas can flow out through the remaining openings.
  • the plurality of openings are not blocked by the casing even when the casing that houses the gas sensor module is in contact with the upper surface of the gas sensor module. Therefore, the gas sensor module can easily detect the gas even when the gas sensor module is attached to the mounting space of the casing whose length in the direction perpendicular to the semiconductor chip is short.
  • the package may have a plurality of openings that communicate with the detection space at least between the side wall and the lid, and the lid may have a thickness of 0.01 mm to 2 mm. .
  • the lid since the lid has a thickness of 0.01 mm or more, even if the gas sensor module is mounted in a narrow mounting space where the casing is in contact with the upper surface of the lid, a plurality of openings are provided. It can be led to the detection space through the part.
  • the thickness of the lid is 2 mm or less, for example, a dicing tape can be attached at the time of package dicing, and foreign matter can be prevented from entering along with cooling water or the like from the opening.
  • the gas sensor module can improve the reliability of gas introduction into the detection space and improve the quality of the gas sensor module when mounted in a mounting space whose length in the direction perpendicular to the semiconductor chip is short. .
  • a gas sensor module includes a semiconductor chip on which a gas sensor element is formed, a substrate to which the semiconductor chip is electrically connected and fixed, a side wall fixed to the substrate, and a side wall. And a flat package having a detection space through which gas flows around the semiconductor chip and having a length in a direction parallel to the semiconductor chip longer than a length in a direction perpendicular to the semiconductor chip.
  • the lid has a plurality of openings communicating with the detection space and a protrusion for forming a passage for guiding gas to the plurality of openings.
  • the gas can flow into the detection space from the outside through a part of the plurality of openings communicating with the detection space, and the gas can flow out through the remaining openings.
  • the plurality of openings are not blocked by the casing even if, for example, the casing housing the gas sensor module contacts the upper portion of the gas sensor module due to the presence of the protrusions. Therefore, the gas sensor module can easily detect the gas even when the gas sensor module is attached to a mounting space whose length in the direction perpendicular to the semiconductor chip is short.
  • the package may be configured such that the height of the protrusion is 0.01 mm or more and 2 mm or less.
  • the protrusion since the protrusion has a height of 0.01 mm or more, even if the gas sensor module is mounted in a narrow mounting space where the housing is in contact with the upper portion of the lid, a plurality of gases are supplied.
  • the detection space can be guided through the opening.
  • the height of the protrusion is 2 mm or less, for example, a dicing tape can be applied at the time of package dicing, and foreign matter can be prevented from entering along with cooling water or the like from the opening.
  • the gas sensor module can improve the reliability of gas introduction into the detection space and improve the quality of the gas sensor module when mounted in a mounting space whose length in the direction perpendicular to the semiconductor chip is short. .
  • a method for manufacturing a gas sensor module includes a side wall forming member having a plurality of depressions corresponding to one chip arrangement space, one collective substrate or one piece so as to surround the plurality of chip arrangement spaces.
  • a plurality of semiconductor chips formed by injection molding on the lid forming member and fixed to a plurality of regions of the collective substrate corresponding to a plurality of chip arrangement spaces by die bonding and terminals of the collective substrate by wire bonding
  • the gas sensor module is assembled by bonding the side wall forming member to the lid, the lid forming member or the collective substrate, and at least the side wall forming member so that the recesses at a plurality of positions become openings communicating with the chip arrangement space.
  • gas sensor module formed on one collective substrate by dicing the collective substrate To separate, it is intended.
  • the gas sensor module manufacturing method since the depression is formed in the sidewall forming member by injection molding, even if the module length in the direction perpendicular to the semiconductor chip is smaller than 3 mm, for example, the sidewall is formed on the sidewall. The opening can be easily formed.
  • a side wall forming member surrounding a plurality of chip arrangement spaces is formed by injection molding on one collective substrate or one lid forming member to form a gas sensor element.
  • a plurality of semiconductor chips are fixed to a plurality of regions of the collective substrate corresponding to the plurality of chip placement spaces by die bonding and electrically connected to terminals of the collective substrate by wire bonding, and a lid corresponding to each of the chip placement spaces;
  • Assemble a plurality of gas sensor modules by bonding the side wall forming member so that a plurality of openings communicating with the chip arrangement space are formed between the side wall forming member and affixing dicing tape so as to close the plurality of openings Apply at least the side wall forming member and the collective substrate to the dicing blade while applying the cooling liquid to the dicing blade.
  • dicing Ri separating a plurality of gas sensor module formed on a single collective substrate, those.
  • the gap is formed between the side wall forming member and the lid, even if the module length in the direction perpendicular to the semiconductor chip is smaller than 3 mm, for example.
  • An opening can be easily formed between the side wall and the lid.
  • the dicing tape can prevent the cooling liquid from entering the chip arrangement space.
  • the gas sensor module of the present invention can easily detect gas even when it is mounted in a mounting space having a short length in a direction perpendicular to the semiconductor chip on which the gas sensor element is formed. Moreover, provision of such a gas sensor module is implement
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a device having a wide space between the mounting surface and the housing in which the gas sensor module according to the first embodiment is incorporated.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a device having a narrow space between the mounting surface and the housing in which the gas sensor module according to the first embodiment is incorporated.
  • the top view of the gas sensor element formed in the semiconductor chip. Sectional drawing of the gas sensor element cut
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a device having a wide space between the mounting surface and the housing in which the gas sensor module according to the first embodiment is incorporated.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a device having a narrow space between the mounting surface and the housing in which the gas
  • FIG. 9 is a cross-sectional view of the collective substrate cut along line II-II in FIG. 8.
  • the typical sectional view showing the state where the semiconductor chip was die-bonded to the collective substrate.
  • the typical top view which shows the collective board by which wire bonding was carried out.
  • the typical sectional view showing the collective substrate by which wire bonding was carried out.
  • the top view for demonstrating the assembly process which adheres a lid
  • FIG. 4C is a plan view for explaining an assembly process for fixing the lid to the side wall forming member
  • FIG. 4D is a schematic cross-sectional view of the collective substrate for explaining package dicing.
  • A) A plan view showing a state in which side wall forming members are formed on the collective substrate in the manufacturing method according to Modification 1B, (b) a cross section of the collective substrate cut along line IV-IV in FIG. 18 (a) FIG.
  • FIG. 4C is a schematic plan view showing a state in which the semiconductor chip is die-bonded to the collective substrate.
  • FIG. 4D is a schematic cross-sectional view showing the state in which the semiconductor chip is die-bonded.
  • FIG. The top view which shows a cover,
  • (A) A plan view showing a state in which side wall forming members are formed on the collective substrate in the manufacturing method according to Modification 1C, (b) a cross section of the collective substrate cut along line VV in FIG. 19
  • FIG. 4C is a plan view showing a lid fixed to the side wall forming member, and
  • FIG. 4D is a schematic cross-sectional view of a collective substrate for explaining package dicing.
  • FIG. 21 is a schematic cross-sectional view of the gas sensor module cut along line VI-VI in FIG. 20.
  • (c) Still another example of the gas sensor module according to Modification 2A The top view which shows an example.
  • FIG. 27 is a schematic cross-sectional view of the gas sensor module cut along the line VII-VII in FIG. 26.
  • FIG. 1 schematically shows a cross-sectional shape of the gas sensor module 10 according to the first embodiment.
  • the gas sensor module 10 according to the first embodiment includes a semiconductor chip 20 and a package 30.
  • a gas sensor element 40 is formed on the semiconductor chip 20.
  • the package 30 includes a substrate 31, a side wall 32, and a lid 33.
  • the package 30 is, for example, a rectangular shape having a planar shape of 5 mm ⁇ 5 mm or less and a height of 3 mm or less.
  • a side wall 32 is fixed to the substrate 31.
  • the side wall 32 can be fixed to the substrate 31 by, for example, injection molding the side wall 32 on the substrate 31 as described later. Further, as another fixing method, for example, there is a method of bonding the side wall 32 to the substrate 31 with an adhesive.
  • the semiconductor chip 20 is fixed to the substrate 31 with an adhesive, for example.
  • a lid 33 is fixed to the side wall 32.
  • the lid 33 can be fixed to the side wall 32 by, for example, bonding the lid 33 to the side wall 32 with an adhesive.
  • Terminals 34 are provided on the bottom side of the package 30.
  • the package 30 is a non-lead package.
  • the package 30 has a flat shape in which the length in the direction D1 horizontal to the semiconductor chip 20 is longer than the length in the direction D2 perpendicular to the semiconductor chip 20.
  • the package 30 has a detection space S1 in which a gas flows around the semiconductor chip 20 inside.
  • the package 30 has two openings 32a in the side wall 32 communicating with the detection space S1.
  • the package 30 has two openings 33a in the lid 33 that communicate with the detection space S1.
  • the size of the opening 33a for example, the length in the horizontal direction D1 is 0.1 mm to 0.5 mm.
  • the area of each of the openings 32a and 33a is, for example, 0.001 mm 2 to 0.2 mm 2 .
  • FIG. 2 shows a cross-sectional shape of a device 60 in which the gas sensor module 10 is incorporated.
  • the device 60 includes a printed wiring board 61 and a housing 62.
  • the gas sensor module 10 is mounted on the printed wiring board 61 together with the small solid-state devices 71 and 72.
  • the printed wiring board 61 is an example of a mounting place for the gas sensor module 10.
  • small solid-state devices include chip resistors, chip capacitors, integrated circuits, wireless modules, and MEMS devices.
  • the solid state devices 71 and 72 and the gas sensor module 10 are mounted on the printed wiring board 61 by, for example, soldering.
  • the distance IN1 between the mounting surface 63 of the printed wiring board 61 and the housing 62 of the device 60 shown in FIG. 2 is the lid of the gas sensor module 10 even if the height H1 of the gas sensor module 10 from the mounting surface 63 is subtracted.
  • An interval IN2 sufficient for the gas to flow is left between the upper surface of 33 and the housing 62.
  • a specific type of gas to be detected can be introduced into the detection space S1 through the opening 33a of the lid 33 of the gas sensor module 10 and the opening 32a of the side wall 32.
  • the interval IN3 between the mounting surface 63 of the printed wiring board 61 and the housing 62 is substantially the same as the height H1 of the gas sensor module 10 from the mounting surface 63. It is. Therefore, in the device 65, there is a high possibility that the opening 33a of the lid 33 is blocked by the housing 62.
  • a specific type of the device 65 is provided through the opening 32a of the side wall 32. The gas can be introduced into the detection space S1.
  • FIG. 4 shows an enlarged view of the semiconductor chip 20 of the gas sensor module 10.
  • a plurality of semiconductor chips 20 are formed on one semiconductor wafer 100 shown in FIG.
  • the semiconductor chip 20 has a rectangular shape with one side being, for example, 2 mm or less.
  • a gas sensor element 40 is formed in the central portion of the semiconductor chip 20.
  • the gas sensor element 40 has a planar length of, for example, 0.1 mm or less.
  • An electrode wiring pattern 28 extends from the gas sensor element 40 toward the end of the semiconductor chip 20.
  • a wire 29 is bonded to the electrode wiring pattern 28. By this wire 29, the electrode wiring pattern 28 of the semiconductor chip 20 and the terminal 34 are electrically connected.
  • FIG. 5 shows an enlarged portion of the gas sensor element 40
  • FIG. 6 shows a cross section taken along line II of FIG.
  • a cavity 21 a having an opening on the surface of the base 21 is formed.
  • the cavity 21a is formed, for example, by etching the semiconductor wafer 100.
  • An oxide film 22 is formed on the surface of the base 21.
  • the oxide film 22 is a silicon oxide film.
  • An insulating film 23 is formed on the oxide film 22.
  • a heater electrode 24 is formed on the insulating film 23. By energizing the heater electrode 24, the gas sensitive body 27 can be heated. In order to heat the gas sensitive body 27, a DC voltage is applied to the heater electrodes 24a and 24b in FIG.
  • An insulating film 25 is formed on the heater electrode 24.
  • Sensor electrodes 26 a and 26 b and a gas sensitive body 27 are formed on the insulating film 25, and the sensor electrodes 26 a and 26 b are electrically connected via the gas sensitive body 27.
  • the gas sensitive body 27 is exposed to a specific type of gas, the resistance value of the gas sensitive body 27 changes and the resistance value between the sensor electrodes 26a and 26b changes.
  • the sensor electrodes 26a and 26b are included in the sensor electrode 26 shown in FIG.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG.
  • FR4 Flume Retardant Type 4
  • GPY Polyimide resin or a modified polyimide resin
  • the side wall forming member 120 is formed integrally with the collective substrate 110 by, for example, injection molding.
  • an epoxy resin (with filler), a liquid crystal polymer, a phenol resin, or polyester can be used.
  • a plurality of chip arrangement spaces 130 surrounded by the side wall forming member 120 are formed.
  • two recesses 121 are formed for each chip arrangement space 130.
  • the collective substrate 110 is also called a depression.
  • one or a predetermined number of semiconductor chips 20 are allocated to each of the plurality of chip arrangement spaces 130, and the plurality of semiconductor chips 20 are die-bonded to the collective substrate 110.
  • the position where the semiconductor chip 20 is attached is, for example, a position where the gas sensitive body 27 is disposed on a straight line LN1 connecting the recesses 121 as shown in FIG.
  • the wire 29 is connected to the terminal 34 of the collective substrate 110 and the semiconductor chip 20 by wire bonding of the semiconductor chip 20. Therefore, a part of the terminal 34 is exposed to the chip arrangement space 130 of the collective substrate 110.
  • the gas sensor module 10 is assembled by bonding the plurality of lids 33 to the side wall forming member 120. The plurality of chip arrangement spaces 130 are covered with the lid 33 and become the detection space S1 of the gas sensor module 10.
  • Each lid 33 is formed with two openings 33a.
  • a gas sensitive body 27 is disposed below the straight line LN2 connecting the two openings 33a.
  • the lids 33 adjacent to each other are bonded by an adhesive applied to the upper surface of the side wall forming member 120 so that a gap is formed between them.
  • the adhesive is applied to the upper surface of the sidewall forming member 120, the recess 121 is applied so as not to be blocked by the adhesive.
  • the adhesive is applied only to the upper surface of the sidewall forming member 120 while avoiding the depression 121 by screen printing.
  • the gas sensor module 10 is assembled by covering each chip arrangement space 130 with each lid 33.
  • the lid 33 for example, metal, ceramic, or glass can be used. Examples of the metal used for the lid 33 include kovar, stainless steel, and nickel.
  • the lid 33 is bonded to the side wall forming member 120, the lid 33 is affixed to the dicing tape 151 as shown in FIGS. Then, the gas sensor module 10 formed on one collective substrate 110 is separated by package dicing using the blade 152. The location indicated by the arrow Ar1 in FIG. At this time, the terminal 34 is also cut by the blade 152. Here, the case where the terminal 34 is cut by the blade 152 is described. However, by forming the terminal 34 separately for each gas sensor module 10 from the beginning, a manufacturing method that does not cut the terminal 34 by the blade 152 is used.
  • the side wall forming member 120 and the collective substrate 110 are diced by the blade 152 together with the dicing tape 151 so that the two recesses 121 become the opening portions 32 a communicating with the chip arrangement space 130.
  • the blade 152 cuts the central portion of the sidewall forming member 120 along the direction in which the sidewall forming member 120 extends.
  • cooling water is applied to the blade 152.
  • the opening 33 a of the lid 33 that becomes the bottom during dicing is blocked by the dicing tape 151, it is difficult for the cooling water to enter the chip placement space 130.
  • the gas sensor module 10 is dried.
  • FIGS. 18A and 18B show a cross section of the lid forming member 140 cut along the line IV-IV in FIG.
  • the side wall forming member 120 is formed integrally with the lid forming member 140 by insert molding, for example.
  • two recesses 121 are formed in each chip arrangement space 130.
  • two openings 33 a are formed in the lid forming member 140 with respect to each chip arrangement space 130.
  • the semiconductor chip 20 is attached to the collective substrate 110 by die bonding and wire bonding.
  • 18E and 18F the semiconductor chip 20 is arranged in the chip arrangement space 130, and the lid forming member 140 and the side wall forming member 120 are attached to the collective substrate 110.
  • Glued The application of the adhesive at this time is also performed so that the adhesive does not enter the recess 121 as in the manufacturing method of the gas sensor module 10 of the first embodiment.
  • the lid forming member 140 is placed on the collective substrate 110 so that the gas sensitive body 27 is disposed under the straight line LN2 passing through the opening 33a and the recess 121, as in the modification 1A.
  • Modification 1B as shown in FIG. 18 (f)
  • when package dicing is performed not only the collective substrate 110 and the side wall forming member 120 cut by the blade 152 in the first embodiment, but also lid formation.
  • the member 140 is also cut by the blade 152.
  • the recess 121 may be formed shallower than the gas sensor module 10 of Modification 1B.
  • 19A and 19B show a recess 121 that is shallower than the recess 121 shown in FIGS. 18A and 18B.
  • FIG. 19B shows a cross section of the lid forming member 140 cut along the line VV in FIG. 19A.
  • the opening 32a of the side wall 32 reaches the substrate 31 but does not reach the lid 33. Is done.
  • the gas is mainly discharged from the higher opening 32a and the gas is mainly sucked from the lower method opening 32a by the rising air flow generated by heating the gas sensitive body 27. In this way, the gas can be exchanged.
  • FIG. 20 schematically shows a planar shape of the gas sensor module 10A according to the second embodiment
  • FIG. 21 shows an end face that can be cut along the line VI-VI in FIG.
  • the shape of is schematically shown.
  • a gas sensor module 10A according to the second embodiment includes a semiconductor chip 20 and a package 30A.
  • the gas sensor element 40 is formed on the semiconductor chip 20 of the gas sensor module 10A according to the second embodiment.
  • the package 30A includes a substrate 31, a side wall 32A, and a lid 33A.
  • a side wall 32 ⁇ / b> A is fixed to the substrate 31.
  • the side wall 32 of the first embodiment is different from the side wall 32A of the second embodiment in that an opening 32a like the side wall 32 is not formed in the side wall 32A. Further, the opening 33a formed in the lid 33 of the first embodiment is not formed in the lid 33A of the second embodiment.
  • the lid 33A has two recessed portions 33b.
  • the lid 33A has a portion that enters the inside of the side wall 32A when bonded to the side wall 32A, thereby forming an opening 30a between the side wall 32A.
  • the portion that enters the inside is the recess 33 b.
  • the fixing of the side wall 32A to the substrate 31 and the fixing of the lid 33A to the side wall 32A in the second embodiment are performed in the same manner as the fixing of the side wall 32 to the substrate 31 and the fixing of the lid 33 to the side wall 32 of the first embodiment. Is called.
  • the semiconductor chip 20 and the terminal 34 are connected by the bonded wire 29.
  • the package 30 ⁇ / b> A also has a flat shape in which the length in the direction D ⁇ b> 1 horizontal to the semiconductor chip 20 is longer than the length in the direction D ⁇ b> 2 perpendicular to the semiconductor chip 20.
  • the two openings 30a of the gas sensor module 10A communicate with each other so as to connect the outside of the package 30A and the detection space S1 in order to introduce gas around the semiconductor chip 20 into the detection space S1 inside the package 30A. ing.
  • FIG. 22 shows a cross-sectional shape of the device 65 in which the gas sensor module 10A is incorporated.
  • An interval IN4 between the mounting surface 63 of the printed wiring board 61 and the housing 62 of the device 65 shown in FIG. 22 is substantially equal to the height H1 of the gas sensor module 10A from the mounting surface 63.
  • the height H2 from the mounting surface 63 of the printed wiring board 61 to the upper surface 32u of the side wall 32A is smaller than the height H1 of the gas sensor module 10A. That is, H1> H2.
  • a gap G1 is formed between the housing 62 and the upper surface 32u of the side wall 32A by the difference in height (H1-H2), and a passage through which a gas flows is ensured.
  • the distance IN4 between the mounting surface 63 of the printed wiring board 61 and the housing 62 and the height H1 of the gas sensor module 10A from the mounting surface 63 are substantially the same, there is a gap G1 as a gas passage.
  • Gas can be introduced into the detection space S1 from the outside through the opening 30a.
  • the size of the opening 30a for example, the length of one side in the horizontal direction D1 is shorter than the length of one side of the gas sensor module 10A, and the length of the other side is 0.1 mm to 0.4 mm.
  • the area of each opening 30a is, for example, 0.01 mm 2 to 2 mm 2 .
  • the step between the upper surface 32u of the side wall 32A and the upper surface 33u (see FIG. 21) of the lid 33A is large.
  • it is preferably 0.01 mm or more.
  • cover 33A is 0.025 mm or more.
  • the step between the side wall 32A and the lid 33A is substantially equal to the thickness of the lid 33A.
  • the sidewall forming member 125 can be made of the same material as the sidewall forming member 120, and the lid 33A can be made of the same material as the lid 33.
  • the dicing tape 151 is attached to the lid 33A and the side wall forming member 125 as shown in FIG.
  • the step between the side wall forming member 125 (side wall 32A) and the lid 33A is small, for example, 2 mm or less. Furthermore, in order to block the opening 30a and make it difficult to peel off, it is preferably 0.5 mm or less.
  • the side wall forming member 125 and the collective substrate 110 are diced by the blade 152 together with the dicing tape 151.
  • the blade 152 cuts the central portion of the sidewall forming member 125 along the direction in which the sidewall forming member 125 extends. During the timing, cooling water is applied to the blade 152.
  • the opening 33a of the lid 33A that becomes the bottom during dicing is blocked by the dicing tape 151, it is possible to prevent the cooling water from entering the chip arrangement space 130. After the dicing, the gas sensor module 10A is dried.
  • the opening 30a may be formed by a shape other than the recess 33b.
  • the opening 30a may be formed by making the width W1 of the lid 33A smaller than the width W2 of the chip arrangement space 130, for example.
  • openings 30a may be formed at the four corners of the lid 33A by providing, for example, notches 33c at the four corners of the lid 33A.
  • the opening 30a may be formed by rotating the lid 33A shown in FIG. 25 (b) 45 degrees and overlapping the side wall 32A.
  • the gas sensor module 10A that detects a specific type of gas using the gas sensitive body 27 has been described.
  • the gas sensor module of the present invention is not limited to the one that detects a specific type of gas.
  • the present invention can be applied to, for example, a gas sensor module in which the gas sensor element 40 detects a gas flow rate.
  • FIG. 26 schematically shows a planar shape of the gas sensor module 10B according to the third embodiment
  • FIG. 27 shows a cross-sectional shape cut along the line VII-VII in FIG. It is shown schematically.
  • a gas sensor module 10B according to the third embodiment includes a semiconductor chip 20 and a package 30B.
  • the gas sensor element 40 is formed on the semiconductor chip 20 of the gas sensor module 10B according to the third embodiment.
  • the package 30B includes a substrate 31, side walls 32A, and a lid 33B.
  • a side wall 32 ⁇ / b> A is fixed to the substrate 31.
  • the side wall 32A of the third embodiment is the same as the side wall 32A of the second embodiment.
  • Three openings 33a are formed in the lid 33B of the third embodiment.
  • the lid 33B has projections 33d, one at each of the four corners on the top surface. Note that the same material as the lid 33 can be used for the lid 33B.
  • the fixing of the side wall 32A to the substrate 31 and the fixing of the lid 33B to the side wall 32A in the third embodiment are performed in the same manner as the fixing of the side wall 32 to the substrate 31 and the fixing of the lid 33 to the side wall 32 of the first embodiment. Is called. Further, the semiconductor chip 20 and the terminal 34 are connected by the bonded wire 29.
  • the package 30 ⁇ / b> B also has a flat shape in which the length in the direction D ⁇ b> 1 horizontal to the semiconductor chip 20 is longer than the length in the direction D ⁇ b> 2 perpendicular to the semiconductor chip 20.
  • FIG. 28 shows a cross-sectional shape of a device 65 in which the gas sensor module 10B is incorporated.
  • the interval IN5 between the mounting surface 63 of the printed wiring board 61 and the housing 62 of the device 65 shown in FIG. 28 is substantially equal to the height H3 of the gas sensor module 10B from the mounting surface 63.
  • the height H4 from the mounting surface 63 of the printed wiring board 61 to the upper surface 33u (see FIG. 27) of the lid 33B is smaller than the height H3 of the gas sensor module 10B. That is, H3> H4. Due to the difference in height (H3 ⁇ H4), a gap G2 is formed between the housing 62 and the upper surface 33u (see FIG.
  • the side wall 32A Even if the distance IN5 between the mounting surface 63 of the printed wiring board 61 and the housing 62 and the height H3 of the gas sensor module 10B from the mounting surface 63 are substantially the same, there is a gap G2 as a gas passage. Gas can be introduced into the detection space S1 from the outside through the opening 33a.
  • the area of each of the openings 33a is, for example, 0.01 mm 2 to 0.2 mm 2 .
  • the projection 33d is preferably higher, for example, 0.01 mm or more.
  • the height of the protrusion 33d is preferably 0.025 mm or more.
  • the height of the protrusion 33d is preferably 0.5 mm or less.
  • the side wall forming member 125 and the collective substrate 110 are diced by the blade 152 together with the dicing tape 151.
  • the blade 152 cuts the central portion of the sidewall forming member 125 along the direction in which the sidewall forming member 125 extends.
  • cooling water is applied to the blade 152.
  • the opening 33a of the lid 33B that becomes the bottom during dicing is blocked by the dicing tape 151, it is possible to prevent the cooling water from entering the chip arrangement space 130.
  • the gas sensor module 10B is dried.
  • the gas sensor module 10B having the protrusion 33d of the third embodiment may be configured to further form both the opening 32a described in the first embodiment and the opening 30a described in the second embodiment. Good. (13-4) Modification 3D
  • the gas sensor module 10B that detects a specific type of gas using the gas sensitive body 27 has been described.
  • the gas sensor module of the present invention is not limited to that that detects a specific type of gas.
  • the present invention can be applied to, for example, a gas sensor module in which the gas sensor element 40 detects a gas flow rate.
  • the package 30B of the gas sensor module 10 of the first embodiment and the package 30B of the gas sensor module 10B of Modification 3A have a plurality of openings 32a communicating with the detection space S1 on the side wall 32.
  • the package 30A of the gas sensor module 10A of the second embodiment and the package 30B of the gas sensor module 10B described in Modification 3B have a plurality of openings 30a communicating with the detection space S1 between the side wall 32A and the lid 33A. Have.
  • the package 30A of the gas sensor module 10A described in the modified example 2B and the package 30B of the gas sensor module 10B described in the modified example 3C include a plurality of sidewalls 32, a plurality of spaces communicating with the detection space S1 between the sidewall 32A and the lid 33A. Openings 32a and 30a are provided. Gas flows from the outside into the detection space S1 through some of the openings 30a, 32a among the plurality of openings 30a, 32a communicating with the detection space S1, and flows out through the remaining openings 30a, 32a. it can.
  • the plurality of openings 30a and 32a are not blocked by the casing 62 even when the casing 62 is in contact with the upper surfaces of the gas sensor modules 10, 10A, and 10B. Therefore, the gas sensor modules 10, 10 ⁇ / b> A, and 10 ⁇ / b> B described above can easily detect gas even when attached to a mounting space having a short length in the direction perpendicular to the semiconductor chip 20.
  • the gas sensor module 10A having a plurality of openings 30a communicating with the detection space S1 at least between the side wall 32A and the lids 33A and 33B.
  • the thickness of the lids 33A, 33B is preferably 0.01 mm or more and 2 mm or less. Since the lids 33A and 33B have a thickness of 0.01 mm or more, even if the gas sensor modules 10A and 10B are mounted in a narrow mounting space in which the housing 62 is in contact with the upper surfaces of the lids 33A and 33B, the gas is supplied to the plurality of openings.
  • the gas sensor modules 10 ⁇ / b> A and 10 ⁇ / b> B are intended to improve the reliability and quality of gas introduction into the detection space S ⁇ b> 1 when mounted in a mounting space whose length in the direction perpendicular to the semiconductor chip 20 is short. Can do.
  • the package 30B of the gas sensor module 10B of the third embodiment and the modified examples 3A to 3C is for forming a plurality of openings 33a communicating with the detection space S1 and a passage for guiding gas to the plurality of openings 33a in the lid 33B. 33d.
  • Gas can flow into the detection space S1 from the outside through a part of the openings 33a among the plurality of openings 33a communicating with the detection space S1, and the gas can flow out through the remaining openings 33a.
  • the plurality of openings 33a are not blocked by the casing 62 even when the casing 62 is in contact with the upper portion of the gas sensor module 10B due to the presence of the protrusions 33d. Therefore, the gas sensor module 10B described above can easily detect a gas even when attached to a mounting space having a short length in a direction perpendicular to the semiconductor chip 20.
  • the protrusion formed on the upper surface of the cover 33B is 0.01 mm or more and 2 mm or less. Since the height of the protrusion 33d is 0.01 mm or more, even if the gas sensor module 10B is mounted in a narrow mounting space where the casing 62 is in contact with the upper portion of the lid 33B, the gas is detected through the plurality of openings 33a. Can lead to.
  • the gas sensor modules 10 ⁇ / b> A and 10 ⁇ / b> B are intended to improve the reliability and quality of gas introduction into the detection space S ⁇ b> 1 when mounted in a mounting space whose length in the direction perpendicular to the semiconductor chip 20 is short. Can do.
  • the lid 33 is bonded to the side wall forming member 120, and the plurality of chip arrangement spaces 130 are covered with the lid 33, thereby the gas sensor module. 10 is assembled. Then, at least the side wall forming member 120 and the collective substrate 110 are diced so that the plurality of depressions 121 become openings 32 a communicating with the chip arrangement space 130, thereby forming the gas sensor module 10 formed on one collective substrate 110. Isolate. Or in the manufacturing method of the gas sensor module 10 which concerns on the modifications 1B and 1C of 1st Embodiment, it demonstrates using Fig.18 (a) and FIG.18 (b) or FIG.19 (a) and FIG.19 (b).
  • the side wall forming member 120 having a plurality of recesses 121 corresponding to one chip arrangement space 130 is injection-molded with one lid forming member 140 arranged so as to surround the plurality of chip arrangement spaces 130. It is formed by.
  • the plurality of semiconductor chips 20 on which the gas sensor elements 40 are formed are placed in the plurality of regions of the collective substrate 110 corresponding to the plurality of chip arrangement spaces 130.
  • the wires 29 are electrically connected to the terminals 34 of the collective substrate 110 by wire bonding. As described with reference to FIGS. 18E and 18F or FIGS.
  • the side wall forming member 120 is bonded to the collective substrate 110 to assemble a plurality of gas sensor modules 10. . Then, the collective substrate 110, the side wall forming member 120, and the lid forming member 140 are diced so that the recesses 121 at a plurality of locations become openings 32a that communicate with the chip arrangement space 130, and are formed on one collective substrate 110. The gas sensor module 10 is separated. A coolant other than water can be used.
  • the depression 121 is formed in the side wall forming member 120 by injection molding, and thus the direction perpendicular to the semiconductor chip 20 is formed. Even if the length of the gas sensor module 10 is smaller than 3 mm, for example, the opening 32 a can be easily formed in the side wall 32.
  • the side wall forming member 120 surrounding the plurality of chip placement spaces 130 is formed by injection molding on one collective substrate 110 or one lid forming member 140.
  • the plurality of semiconductor chips 20 on which the gas sensor elements 40 are formed correspond to the plurality of chip arrangement spaces 130. It fixes to the several area
  • a plurality of openings 30a communicating with the chip arrangement space 130 are formed between the lid 33A corresponding to each of the chip arrangement spaces 130 and the side wall forming member 125.
  • a plurality of gas sensor modules 10A are assembled by adhering the side wall forming member 125, and a dicing tape 151 is attached so as to close the plurality of openings 30a.
  • the side wall forming member 125 is formed on the collective substrate 110, the side wall forming member 125 and the collective substrate 110 are diced by the dicing blade 152 while a cooling liquid is being applied to the dicing blade 152, and the side wall forming member 125 is also covered.
  • the collective substrate 110, the side wall forming member 125, and the lid forming member 140 are diced by the dicing blade 152 while applying a cooling liquid to the dicing blade 152.
  • the plurality of gas sensor modules 10A are separated.
  • a coolant other than water can be used.
  • the gas sensor module 10 in the direction perpendicular to the semiconductor chip 20 is formed. Even if the length is smaller than 3 mm, for example, the opening 30a can be easily formed between the side wall 32A and the lid 33A. Further, the dicing tape 151 can prevent the coolant from entering the chip arrangement space 130.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)

Abstract

【課題】ガスセンサ素子の形成されている半導体チップに対する垂直な方向の長さが短い実装スペースに取り付けられたときでもガスに関する検出を容易に行えるガスセンサモジュールを提供する。 【解決手段】半導体チップ２０に平行な方向Ｄ１の長さが半導体チップ２０に垂直な方向Ｄ２の長さよりも長い扁平なパッケージ３０は、半導体チップ２０が電気的に接続され且つ固定されている基板３１、基板３１に固着されている側壁３２及び側壁３２に固着されている蓋３３を含んでいる。パッケージ３０は、半導体チップ２０の周囲にガスが流れる検出空間Ｓ１を有し、側壁３２に及び／または側壁３２と蓋３３との間に、検出空間Ｓ１に連通する複数の開口部３２ａを有する。

Description

ガスセンサモジュール及びその製造方法
　本発明は、ガスセンサモジュール及びその製造方法に関し、特にガスセンサ素子が集積されている半導体チップを備えるガスセンサモジュール及びその製造方法に関する。
　従来から、ガスに関する検出を行うために、半導体基板上に、立体形状をエッチングプロセスなどにより形成した集積化デバイスとしてガスセンサモジュールが提案されている。例えば、特許文献１（特開２０１４－８１３６７号公報）には、ヒータと感応膜とがＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）構造により形成されたガスセンサ素子と、ガスセンサ素子を収納するケースとを備えるガスセンサモジュールが開示されている。
特開２０１４－８１３６７号公報
　特許文献１に記載されているガスセンサモジュールは、ガスセンサ素子の形成されている半導体チップに平行な方向よりも半導体チップに垂直な方向の長さが短い扁平な外形を有している。特許文献１のように小型化されたガスセンサモジュールは、様々な機器の小さなスペースに組み込まれることになる。ガスセンサモジュールが組み込まれる機器のスペースがガスセンサモジュールの高さとほぼ同じになると、ガスセンサモジュールの上面に形成されている開口部を通してガスが流通し難くなる。開口部を通してガスが流通し難くなるとガスセンサモジュールによる検出が難しくなる。
　本発明の課題は、ガスセンサ素子の形成されている半導体チップに対する垂直な方向の長さが短い実装スペースに取り付けられたときでもガスに関する検出を容易に行えるガスセンサモジュールを提供することにある。
　以下に、課題を解決するための手段として複数の態様を説明する。これら態様は、必要に応じて任意に組み合せることができる。
　本発明の一見地に係るガスセンサモジュールは、ガスセンサ素子の形成されている半導体チップと、半導体チップが電気的に接続され且つ固定されている基板、基板に固着されている側壁及び側壁に固着されている蓋を含み、半導体チップの周囲にガスが流れる検出空間を有し、半導体チップに平行な方向の長さが半導体チップに垂直な方向の長さよりも長い扁平なパッケージとを備え、パッケージは、側壁に及び／または側壁と蓋との間に、検出空間に連通する複数の開口部を有する。
　一見地に係るガスセンサモジュールでは、検出空間に連通する複数の開口部のうちの一部の開口部を通して外部から検出空間にガスが流入して残りの開口部を通してガスを流出させることができる。そして、これら複数の開口部は、例えばガスセンサモジュールを収納する筐体がガスセンサモジュールの上面に接しても筐体によって塞がれない。従って、ガスセンサモジュールは、半導体チップに対する垂直な方向の長さが短い筐体の実装スペースに取り付けられたときでもガスに関する検出を容易に行える。
　上述のガスセンサモジュールにおいて、パッケージは、少なくとも側壁と蓋との間に、検出空間に連通する複数の開口部を有し、蓋の厚みが０．０１ｍｍ以上２ｍｍ以下になるように構成されてもよい。このように構成されたガスセンサモジュールでは、蓋の厚みが０．０１ｍｍ以上あることによって、蓋の上面に例えば筐体が接するような狭い実装スペースにガスセンサモジュールが実装されても、ガスを複数の開口部を通して検出空間に導くことができる。また、蓋の厚みが２ｍｍ以下であることによって、例えばパッケージダイシング時にダイシングテープを貼り付けて開口部から冷却水などとともに異物が侵入するのを防止することができる。それらの結果、ガスセンサモジュールは、半導体チップに対する垂直な方向の長さが短い実装スペースに実装されたときの検出空間へのガス導入の確実性と、ガスセンサモジュールの品質の向上とを図ることができる。
　本発明の他の見地に係るガスセンサモジュールは、ガスセンサ素子の形成されている半導体チップと、半導体チップが電気的に接続され且つ固定されている基板、基板に固着されている側壁及び側壁に固着されている蓋からなり、半導体チップの周囲にガスが流れる検出空間を有し、半導体チップに平行な方向の長さが半導体チップに垂直な方向の長さよりも長い扁平なパッケージとを備え、パッケージは、蓋に、検出空間に連通する複数の開口部と、複数の開口部にガスを導く通路を形成するための突起とを有する。
　他の見地に係るガスセンサモジュールでは、検出空間に連通する複数の開口部のうちの一部の開口部を通して外部から検出空間にガスが流入して残りの開口部を通してガスを流出させることができる。そして、これら複数の開口部は、突起が存在することによって、例えばガスセンサモジュールを収納する筐体がガスセンサモジュールの上部に接しても筐体によって塞がれない。従って、このガスセンサモジュールは、半導体チップに対する垂直な方向の長さが短い実装スペースに取り付けられたときでもガスに関する検出を容易に行える。
　他の見地のガスセンサモジュールにおいて、パッケージは、突起の高さが０．０１ｍｍ以上２ｍｍ以下になるように構成されてもよい。このように構成されたガスセンサモジュールでは、突起の高さが０．０１ｍｍ以上あることによって、蓋の上部に例えば筐体が接するような狭い実装スペースにガスセンサモジュールが実装されても、ガスを複数の開口部を通して検出空間に導くことができる。また、突起の高さが２ｍｍ以下であることによって、例えばパッケージダイシング時にダイシングテープを貼り付けて開口部から冷却水などとともに異物が侵入するのを防止することができる。それらの結果、ガスセンサモジュールは、半導体チップに対する垂直な方向の長さが短い実装スペースに実装されたときの検出空間へのガス導入の確実性と、ガスセンサモジュールの品質の向上とを図ることができる。
　本発明の一見地に係るガスセンサモジュールの製造方法は、１つのチップ配置空間に対応して複数箇所の窪みを持つ側壁形成部材を、複数のチップ配置空間を囲むように１つの集合基板または１つの蓋形成部材に射出成形により形成し、ガスセンサ素子が形成されている複数の半導体チップを複数のチップ配置空間に対応する集合基板の複数の領域にダイボンディングにより固定するとともにワイヤボンディングにより集合基板の端子に電気的に接続し、側壁形成部材を、蓋、蓋形成部材または集合基板に接着してガスセンサモジュールを組み立て、複数箇所の窪みがチップ配置空間に連通する開口部になるように少なくとも側壁形成部材及び集合基板をダイシングすることによって、１つの集合基板に形成されているガスセンサモジュールを分離する、ものである。
　一見地に係るガスセンサモジュールの製造方法では、射出成形によって側壁形成部材に窪みを形成しているので、半導体チップに対して垂直な方向のモジュール長さが例えば３ｍｍよりも小さくなっても、側壁に開口部を容易に形成することができる。
　本発明の他の見地に係るガスセンサモジュールの製造方法は、１つの集合基板または１つの蓋形成部材に複数のチップ配置空間を囲む側壁形成部材を射出成形により形成し、ガスセンサ素子が形成されている複数の半導体チップを複数のチップ配置空間に対応する集合基板の複数の領域にダイボンディングにより固定するとともにワイヤボンディングにより集合基板の端子に電気的に接続し、チップ配置空間の各々に対応する蓋と側壁形成部材との間にチップ配置空間に連通する複数の開口部が形成されるように側壁形成部材を接着して複数のガスセンサモジュールを組み立て、複数の開口部を塞ぐようにダイシングテープを貼り付け、ダイシングブレードに冷却液を掛けながら少なくとも側壁形成部材及び集合基板をダイシングブレードによりダイシングすることによって、１つの集合基板に形成されている複数のガスセンサモジュールを分離する、ものである。
　他の見地に係るガスセンサモジュールの製造方法では、側壁形成部材と蓋との間に隙間を形成しているので、半導体チップに対して垂直な方向のモジュール長さが例えば３ｍｍよりも小さくなっても、側壁と蓋との間に開口部を容易に形成することができる。また、ダイシングテープにより、冷却液がチップ配置空間の中に侵入するのを防ぐことができる。
　本発明のガスセンサモジュールは、ガスセンサ素子の形成されている半導体チップに対する垂直な方向の長さが短い実装スペースに取り付けられたときでもガスに関する検出を容易に行える。また、本発明のガスセンサモジュールの製造方法により、このようなガスセンサモジュールの提供が実現される。
第１実施形態に係るガスセンサモジュールの模式的な断面図。 第１実施形態のガスセンサモジュールが組み込まれた実装面と筐体の間隔の広い機器の模式的な断面図。 第１実施形態のガスセンサモジュールが組み込まれた実装面と筐体の間隔の狭い機器の模式的な断面図。 ガスセンサモジュール内の半導体チップの平面図。 半導体チップに形成されたガスセンサ素子の平面図。 図５のＩ－Ｉ線に沿って切断したガスセンサ素子の断面図。 半導体ウェーハのダイシングを示す模式的な斜視図。 側壁形成部材が射出成形された集合基板の平面図。 図８のＩＩ－ＩＩ線に沿って切断した集合基板の断面図。 半導体チップが集合基板にダイボンディングされた状態を示す模式的な断面図。 ワイヤボンディングされた集合基板を示す模式的な平面図。 ワイヤボンディングされた集合基板を示す模式的な断面図。 側壁形成部材に蓋を固着する組立工程を説明するための平面図。 側壁形成部材に蓋を固着する組立工程を説明するための模式的な断面図。 パッケージダイシングを示す模式的な斜視図。 パッケージダイシングを説明するための集合基板の模式的な断面図。 （ａ）変形例１Ａに係る製造方法において集合基板に側壁形成部材が形成された状態を示す平面図、（ｂ）図１７（ａ）のＩＩＩ－ＩＩＩ線に沿って切断された集合基板の断面図、（ｃ）側壁形成部材に蓋を固着する組立工程を説明するための平面図、（ｄ）パッケージダイシングを説明するための集合基板の模式的な断面図。 （ａ）変形例１Ｂに係る製造方法において集合基板に側壁形成部材が形成された状態を示す平面図、（ｂ）図１８（ａ）のＩＶ－ＩＶ線に沿って切断された集合基板の断面図、（ｃ）半導体チップが集合基板にダイボンディングされた状態を示す模式的な平面図、（ｄ）ダイボンディングされた状態を示す模式的な断面図、（ｅ）側壁形成部材に固着された蓋を示す平面図、（ｆ）パッケージダイシングを説明するための集合基板の模式的な断面図。 （ａ）変形例１Ｃに係る製造方法において集合基板に側壁形成部材が形成された状態を示す平面図、（ｂ）図１９（ａ）のＶ－Ｖ線に沿って切断された集合基板の断面図、（ｃ）側壁形成部材に固着された蓋を示す平面図、（ｄ）パッケージダイシングを説明するための集合基板の模式的な断面図。 第２実施形態係るガスセンサモジュールの平面図。 図２０のＶＩ－ＶＩ線に沿って切断したガスセンサモジュールの模式的な断面図。 第２実施形態のガスセンサモジュールが組み込まれた実装面と筐体の間隔の狭い機器の模式的な断面図。 側壁形成部材に蓋が固着された状態を示す平面図。 蓋と蓋に貼り付けられたダイシングテープを示す模式的な断面図。 （ａ）変形例２Ａに係るガスセンサモジュールの一例を示す平面図、（ｂ）変形例２Ａに係るガスセンサモジュールの他の例を示す平面図、（ｃ）変形例２Ａに係るガスセンサモジュールのさらに他の例を示す平面図。 第３実施形態に係るガスセンサモジュールを示す平面図。 図２６のＶＩＩ－ＶＩＩ線に沿って切断したガスセンサモジュールの模式的な断面図。 第３実施形態のガスセンサモジュールが組み込まれた実装面と筐体の間隔の狭い機器の模式的な断面図。 蓋と蓋に貼り付けられたダイシングテープを示す模式的な断面図。
〈第１実施形態〉
　本発明の第１実施形態に係るガスセンサモジュールについて図１乃至図１９を用いて説明する。
（１）ガスセンサモジュールの構成
　図１には、第１実施形態に係るガスセンサモジュール１０の断面形状が模式的に示されている。第１実施形態に係るガスセンサモジュール１０は、半導体チップ２０とパッケージ３０とを備えている。
　半導体チップ２０には、ガスセンサ素子４０が形成されている。
　パッケージ３０は、基板３１と側壁３２と蓋３３とを含んでいる。パッケージ３０は、例えば、平面形状が５ｍｍ×５ｍｍ以下の矩形であり、高さが３ｍｍ以下である。基板３１には、側壁３２が固着されている。基板３１への側壁３２の固着は、例えば後述するように基板３１に側壁３２を射出成形することによって行うことができる。また、他の固着方法としては、例えば、接着剤により基板３１に側壁３２を接着する方法がある。
　基板３１には、半導体チップ２０が例えば接着剤によって固定されている。側壁３２には、蓋３３が固着されている。この側壁３２への蓋３３の固着は、例えば接着剤により側壁３２に蓋３３を接着することにより行うことができる。また、他の固着方法としては、例えば、蓋３３に側壁３２を射出成形する方法がある。
　パッケージ３０の底部側には、端子３４が設けられている。パッケージ３０は、ノンリードパッケージである。この端子３４を外部回路に接続することによって、ガスセンサモジュール１０と外部回路との電気的接続が行われる。例えばボンディングされたワイヤ２９によって、端子３４と半導体チップ２０とが電気的に接続されている。
　パッケージ３０は、半導体チップ２０に水平な方向Ｄ１の長さが、半導体チップ２０に垂直な方向Ｄ２の長さよりも長い扁平な形状を呈する。パッケージ３０は、その内部に、半導体チップ２０の周囲にガスが流れる検出空間Ｓ１を有する。パッケージ３０は、検出空間Ｓ１に連通する２つの開口部３２ａを側壁３２に有している。さらに、パッケージ３０は、検出空間Ｓ１に連通する２つの開口部３３ａを蓋３３に有している。開口部３３ａの大きさは、例えば水平方向Ｄ１の長さが０．１ｍｍ～０．５ｍｍである。これら開口部３２ａ，３３ａの各々の面積は、例えば０．００１ｍｍ２～０．２ｍｍ２である。
（２）ガスセンサモジュールの使用形態
　図１に示されているガスセンサモジュール１０は、例えば特定種類のガスを検知するガスセンサ素子４０を有する場合には、検出空間Ｓ１に流入するガスの中に特定種類のガスが存在するか否かの検出を行う。このようなガスセンサモジュール１０が組み込まれる機器には、例えばガス警報器、アルコールチェッカー、自動車、医療機器、空気調和機及び各種測定器などがある。
　図２には、ガスセンサモジュール１０が組み込まれた機器６０の断面形状が示されている。機器６０は、プリント配線板６１と筐体６２とを備えている。プリント配線板６１には、小型の固体デバイス７１，７２とともにガスセンサモジュール１０が実装されている。言い換えると、プリント配線板６１は、ガスセンサモジュール１０にとっての実装場所の一例である。小型の固体デバイスとしては、例えばチップ抵抗、チップコンデンサ、集積回路、無線モジュール及びＭＥＭＳデバイスなどがある。プリント配線板６１への固体デバイス７１，７２及びガスセンサモジュール１０の実装は、例えば半田付けにより行われる。
　図２に示されている機器６０のプリント配線板６１の実装面６３と筐体６２との間隔ＩＮ１は、実装面６３からのガスセンサモジュール１０の高さＨ１を差し引いても、ガスセンサモジュール１０の蓋３３の上面と筐体６２との間に、ガスが流れるのに十分な間隔ＩＮ２が残る。このような場合には、ガスセンサモジュール１０の蓋３３の開口部３３ａと側壁３２の開口部３２ａとを通して検出対象の特定種類のガスを検出空間Ｓ１に導入することができる。それに対して、図３に示されている機器６５は、プリント配線板６１の実装面６３と筐体６２との間隔ＩＮ３が、実装面６３からのガスセンサモジュール１０の高さＨ１と実質的に同じである。そのため、機器６５においては筐体６２によって蓋３３の開口部３３ａが塞がる可能性が高いが、そのような機器６５にガスセンサモジュール１０が実装されても、側壁３２の開口部３２ａを通じて、特定種類のガスを検出空間Ｓ１に導入することができるように構成されている。
（３）ガスセンサモジュールの詳細構成
　図４には、ガスセンサモジュール１０の半導体チップ２０が拡大して示されている。半導体チップ２０は、後ほど説明する図７に示されている１つの半導体ウェーハ１００に、複数形成される。半導体ウェーハ１００としては、例えばシリコンウェーハが用いられる。半導体チップ２０は、１辺が例えば２ｍｍ以下の矩形形状を呈する。半導体チップ２０の中央部分にはガスセンサ素子４０が形成されている。ガスセンサ素子４０は、平面方向の長さが例えば０．１ｍｍ以下である。このガスセンサ素子４０から半導体チップ２０の端部に向かって電極配線パターン２８が延びている。電極配線パターン２８には、ワイヤ２９がボンディングされている。このワイヤ２９によって、半導体チップ２０の電極配線パターン２８と端子３４とが電気的に接続されている。
　図５には、ガスセンサ素子４０の部分が拡大して示されており、図６には、図５のＩ－Ｉ線断面が示されている。シリコンからなるベース２１には、ベース２１の表面に開口部を有する空洞部２１ａが形成されている。空洞部２１ａは、例えば半導体ウェーハ１００がエッチングされることで形成される。ベース２１の表面には酸化膜２２が形成されている。ベース２１がシリコンからなる場合には、酸化膜２２はシリコン酸化膜になる。酸化膜２２の上に絶縁膜２３が形成されている。絶縁膜２３の上にヒータ電極２４が形成されている。ヒータ電極２４に通電することにより、感ガス体２７に対する加熱を行うことができる。感ガス体２７を加熱するために、図５のヒータ電極２４ａ，２４ｂに直流電圧が印加される。ヒータ電極２４の上には絶縁膜２５が形成されている。この絶縁膜２５の上にセンサ電極２６ａ，２６ｂと感ガス体２７が形成され、センサ電極２６ａ、２６ｂは感ガス体２７を介して電気的に接続されている。感ガス体２７が特定種類のガスに曝されることにより感ガス体２７の抵抗値が変化し、センサ電極２６ａ，２６ｂ間の抵抗値が変化する。なお、センサ電極２６ａ，２６ｂは、図６に示されているセンサ電極２６に含まれるものである。
（４）ガスセンサモジュールの製造方法
　第１実施形態に係るガスセンサモジュール１０の製造方法について図７乃至図１６を用いて説明する。図７に示されている半導体ウェーハ１００には、図４に示されている半導体チップ２０が多数形成されている。半導体ウェーハ１００は、ダイシングテープ１０１に貼り付けられている。ダイシングテープ１０１に貼り付けられた状態で半導体ウェーハ１００がブレード１０２によりダイシングされることにより、複数の半導体チップ２０が半導体ウェーハ１００から切り出される。
　また、複数の半導体チップ２０が準備されるのと並行して、図８及び図９に示されている集合基板１１０に側壁形成部材１２０が形成される。図９は、図８のＩＩ－ＩＩ線に沿って切断した断面図である。集合基板１１０には、例えばガラスクロスにエポキシ樹脂をしみ込ませて硬化処理されたＦＲ４（Flame Retardant Type 4）又はガラスクロスにポリイミド樹脂又は変性ポリイミド樹脂をしみ込ませて硬化処理されたＧＰＹを主材として用いることができる。側壁形成部材１２０は、例えば射出成形により集合基板１１０に一体に形成される。側壁形成部材１２０には、例えば、エポキシ系樹脂（フィラー入り）、液晶ポリマー、フェノール樹脂、又はポリエステルを用いることができる。側壁形成部材１２０に囲まれた複数のチップ配置空間１３０が形成されている。側壁形成部材１２０には、各チップ配置空間１３０に対して２箇所の窪み１２１が形成されている。なお、本明細書では集合基板１１０に達するものも窪みと呼ぶ。図１０に示されているように、複数のチップ配置空間１３０の各々に半導体チップ２０が一つまたは所定の個数ずつ割り当てられ、集合基板１１０に複数の半導体チップ２０がダイボンディングされる。半導体チップ２０が取り付けられる位置は、例えば、図１１に示されているように感ガス体２７が窪み１２１を結ぶ直線ＬＮ１上に配置される位置である。
　図１１及び図１２に示されているように、半導体チップ２０のワイヤボンディングにより、ワイヤ２９が集合基板１１０の端子３４と半導体チップ２０に接続される。そのために、端子３４の一部は、集合基板１１０のチップ配置空間１３０に対して露出している。
　図１３及び図１４に示されているように、複数の蓋３３が側壁形成部材１２０に接着されてガスセンサモジュール１０が組み立てられる。複数のチップ配置空間１３０は、蓋３３によって覆われてガスセンサモジュール１０の検出空間Ｓ１になる。各蓋３３には、２つの開口部３３ａが形成されている。２つの開口部３３ａを結ぶ直線ＬＮ２の下には、感ガス体２７が配置されている。互いに隣接する蓋３３は、それらの間に隙間ができるように側壁形成部材１２０の上面に塗布された接着剤により接着される。側壁形成部材１２０の上面に接着剤を塗布するときは、窪み１２１を接着剤で塞がないように塗布する。例えば、スクリーン印刷によって窪み１２１の部分を避けて側壁形成部材１２０の上面にのみ接着剤を塗布する。このように、各チップ配置空間１３０を各蓋３３で覆ってガスセンサモジュール１０が組み立てられる。蓋３３には、例えば金属、セラミック又はガラスを用いることができる。蓋３３に用いられる金属としては、例えばコバール、ステンレス及びニッケルがある。
　側壁形成部材１２０に蓋３３が接着された後、図１５及び図１６に示されているように、蓋３３をダイシングテープ１５１に貼り付ける。そして、ブレード１５２を用いたパッケージダイシングにより、１つの集合基板１１０に形成されているガスセンサモジュール１０が分離される。図１６の矢印Ａｒ１の箇所が切断された箇所である。このとき、端子３４もブレード１５２によって切断される。なお、ここでは端子３４がブレード１５２によって切断される場合について説明しているが、端子３４を始めからガスセンサモジュール１０ごとに分離して形成することで、ブレード１５２により端子３４を切断しない製造方法にすることもできる。このパッケージダイシングでは、２箇所の窪み１２１がチップ配置空間１３０に連通する開口部３２ａになるように、ダイシングテープ１５１とともに側壁形成部材１２０と集合基板１１０がブレード１５２によりダイシングされる。ブレード１５２は、側壁形成部材１２０が延びる方向に沿って側壁形成部材１２０の中央部を切断する。タイシング時には、ブレード１５２には、冷却水が掛けられる。しかしながら、ダイシング時に底になる蓋３３の開口部３３ａがダイシングテープ１５１によって塞がれるので冷却水がチップ配置空間１３０の中には入り難くなる。ダイシング後には、ガスセンサモジュール１０の乾燥が行われる。
（５）変形例
（５－１）変形例１Ａ
　上記第１実施形態のガスセンサモジュール１０の製造方法では、側壁形成部材１２０に設けられている窪み１２１が集合基板１１０にまで達している。しかし、窪み１２１の深さは、図１７（ａ）及び図１７（ｂ）に示されているように浅く形成することもできる。図１７（ｂ）には図１７（ａ）のＩＩＩ－ＩＩＩ線に沿って切断した集合基板１１０の断面が示されている。変形例１Ａで説明しているガスセンサモジュール１０は、図１７（ｃ）に示されているようにダイボンディングとワイヤボンディングの後に蓋３３を側壁形成部材１２０に接着し、その後に図１７（ｄ）に示されているようにパッケージダイシングすることにより得られる。窪み１２１の深さが浅いことから、側壁３２の開口部３２ａが基板３１よりも上に配置される。なお、第１実施形態と同様の箇所には同様の符号を付している。
（５－２）変形例１Ｂ
　上記第１実施形態及び変形例１Ａのガスセンサモジュール１０の製造方法では、集合基板１１０に側壁形成部材１２０を形成する場合について説明した。しかし、側壁形成部材１２０は、例えば図１８（ａ）及び図１８（ｂ）に示されているように、蓋形成部材１４０に側壁形成部材１２０が形成されてもよい。図１８（ｂ）には図１８（ａ）のＩＶ－ＩＶ線に沿って切断した蓋形成部材１４０の断面が示されている。側壁形成部材１２０は、例えばインサートモールド成形により蓋形成部材１４０と一体に成形される。側壁形成部材１２０には、各チップ配置空間１３０に２つの窪み１２１が形成されている。また、蓋形成部材１４０には、各チップ配置空間１３０に対して、２つの開口部３３ａが形成されている。図１８（ｃ）及び図１８（ｄ）に示されているように、半導体チップ２０は、ダイボンディング及びワイヤボンディングにより、集合基板１１０に取り付けられる。そして、図１８（ｅ）及び図１８（ｆ）に示されているように、チップ配置空間１３０の中に半導体チップ２０が配置されて、蓋形成部材１４０及び側壁形成部材１２０が集合基板１１０に接着される。このときの接着剤の塗布も、第１実施形態のガスセンサモジュール１０の製造方法と同様に、窪み１２１に接着剤が入り込まないように行われる。開口部３３ａ及び窪み１２１を通る直線ＬＮ２の下に感ガス体２７が配置されるように、蓋形成部材１４０が集合基板１１０に被せられるのは、変形例１Ａと同様である。図１８（ｆ）に示されているように変形例１Ｂの場合には、パッケージダイシングのときには、第１実施形態においてブレード１５２によって切断された集合基板１１０と側壁形成部材１２０だけでなく、蓋形成部材１４０もブレード１５２によって切断される。
（５－３）変形例１Ｃ 
　第１実施形態と変形例１Ａのガスセンサモジュール１０の関係のように、変形例１Ｂのガスセンサモジュール１０よりも窪み１２１を浅く形成してもよい。図１９（ａ）及び図１９（ｂ）には、図１８（ａ）及び図１８（ｂ）に示されている窪み１２１よりも浅い窪み１２１が示されている。図１９（ｂ）には、図１９（ａ）のＶ－Ｖ線に沿って切断した蓋形成部材１４０の断面が示されている。変形例１Ｃのガスセンサモジュール１０においては、図１９（ｃ）及び図１９（ｄ）に示されているように、側壁３２の開口部３２ａが基板３１に達するが蓋３３には達しないように形成される。
（５－４）変形例１Ｄ
　第１実施形態のガスセンサモジュール１０には、側壁３２だけでなく、蓋３３にも開口部３３ａが形成されているが、本発明のガスセンサモジュールは、側壁３２のみに開口部３２ａが形成されている構成を採ることもできる。
（５－５）変形例１Ｅ
　上記第１実施形態では、感ガス体２７によって特定種類のガスを検知するガスセンサモジュール１０について説明したが、本発明のガスセンサモジュールは、特定種類のガスを検知するものに限られない。本発明は、例えば、ガスセンサ素子４０がガスの流量を検出するガスセンサモジュールに適用することもできる。
（５－６）変形例１Ｆ
　上記第１実施形態では、複数の蓋３３を側壁形成部材１２０に接着する態様を説明したが、複数の蓋３３を接着する替わりに、例えば図１８（ａ）又は図１９（ａ）に示されている複数のチップ配置空間１３０を覆う大きさの蓋形成部材１４０（側壁形成部材１２０が射出成形されていないもの）を１つ用いることもできる。
（５－７）変形例１Ｇ
　上記第１実施形態及び各変形例においては、窪み１２１の深さを同じにしているが、窪み１２１の深さを変えることで、ガスセンサモジュール１０の側壁３２に複数形成される開口部３２ａの高さを互いに異ならせてもよい。開口部３２ａの高さを異ならせることで、感ガス体２７の加熱によって生じる上昇気流により、高い方の開口部３２ａから気体が主に排出され、低い方法開口部３２ａから気体が主に吸入されるようにして、気体を入れ換えることができる。
〈第２実施形態〉
　本発明の第２実施形態に係るガスセンサモジュールについて図２０乃至図２５を用いて説明する。
（６）ガスセンサモジュールの構成
　図２０には第２実施形態に係るガスセンサモジュール１０Ａの平面形状が模式的に示され、図２１には、図２０のＶＩ－ＶＩ線に沿って切断してできる端面の形状が模式的に示されている。第２実施形態に係るガスセンサモジュール１０Ａは、半導体チップ２０とパッケージ３０Ａとを備えている。
　第２実施形態に係るガスセンサモジュール１０Ａの半導体チップ２０には、第１実施形態に係るガスセンサモジュール１０と同様に、ガスセンサ素子４０が形成されている。
　パッケージ３０Ａは、基板３１と側壁３２Ａと蓋３３Ａとを含んでいる。基板３１には、側壁３２Ａが固着されている。第１実施形態の側壁３２と第２実施形態の側壁３２Ａが異なるのは、側壁３２Ａには側壁３２のような開口部３２ａが形成されていない点である。また、第２実施形態の蓋３３Ａにも、第１実施形態の蓋３３に形成されていた開口部３３ａが形成されていない。蓋３３Ａには、２箇所に凹み部３３ｂが形成されている。蓋３３Ａは、側壁３２Ａに接着されたときに側壁３２Ａよりも内側に入り込む部分を有していることにより、側壁３２Ａとの間に開口部３０ａを形成する。図２０と図２１に示されているガスセンサモジュール１０Ａでは、この内側に入り込む部分が凹み部３３ｂである。
　第２実施形態における基板３１への側壁３２Ａの固着と側壁３２Ａへの蓋３３Ａの固着は、第１実施形態の基板３１への側壁３２の固着と側壁３２への蓋３３の固着と同様に行われる。また、半導体チップ２０と端子３４の接続もボンディングされたワイヤ２９によって行われる。
　パッケージ３０Ａも、パッケージ３０と同様に、半導体チップ２０に水平な方向Ｄ１の長さが、半導体チップ２０に垂直な方向Ｄ２の長さよりも長い扁平な形状を呈する。そして、ガスセンサモジュール１０Ａの２つの開口部３０ａは、パッケージ３０Ａの内部の検出空間Ｓ１に半導体チップ２０の周囲にガスを導入するため、パッケージ３０Ａの外部と検出空間Ｓ１とを繋ぐようにそれぞれ連通している。
（７）ガスセンサモジュールの使用形態
　図２２には、ガスセンサモジュール１０Ａが組み込まれた機器６５の断面形状が示されている。図２２に示されている機器６５のプリント配線板６１の実装面６３と筐体６２との間隔ＩＮ４は、実装面６３からのガスセンサモジュール１０Ａの高さＨ１と実質的に等しい。しかし、プリント配線板６１の実装面６３から側壁３２Ａの上面３２ｕまでの高さＨ２は、ガスセンサモジュール１０Ａの高さＨ１より小さくなっている。つまり、Ｈ１＞Ｈ２である。これらの高さの差（Ｈ１－Ｈ２）によって筐体６２と側壁３２Ａの上面３２ｕとの間に隙間Ｇ１が形成されて、ガスの流れる通路が確保される。プリント配線板６１の実装面６３と筐体６２との間隔ＩＮ４と実装面６３からのガスセンサモジュール１０Ａの高さＨ１が実質的に同じになっても、ガスの通路としての隙間Ｇ１があるので、開口部３０ａを通して外部からガスを検出空間Ｓ１に導き入れることができる。この開口部３０ａの大きさは、例えば水平方向Ｄ１の一辺の長さがガスセンサモジュール１０Ａの一辺の長さより短く、他辺の長さが０．１ｍｍ～０．４ｍｍである。これら開口部３０ａの各々の面積は、例えば０．０１ｍｍ２～２ｍｍ２である。
　開口部３０ａを通して外部からガスを検出空間Ｓ１に導き入れるための隙間Ｇ１を確保するためには、側壁３２Ａの上面３２ｕと蓋３３Ａの上面３３ｕ（図２１参照）との段差が大きい方が好ましく、例えば０．０１ｍｍ以上であることが好ましい。また、良好な通気性を確保するには、側壁３２Ａと蓋３３Ａの段差が０．０２５ｍｍ以上であることが好ましい。第２実施形態では、側壁３２Ａと蓋３３Ａの段差は、実質的には蓋３３Ａの厚みに等しい。
（８）ガスセンサモジュールの製造方法
　第２実施形態に係るガスセンサモジュール１０Ａの製造方法について図２３及び図２４を用いて説明する。図２３に示されている側壁形成部材１２５に蓋３３Ａを接着する工程までは第１実施形態のガスセンサモジュール１０と同様に行えるので、次のパッケージダイシングの工程について説明する。なお、側壁形成部材１２５には、側壁形成部材１２０と同じ材料を用いることができ、蓋３３Ａには、蓋３３と同じ材料を用いることができる。
　パッケージダイシングにおいて、ブレード１５２（図１５参照）により切断する前に、図２４に示されているように、ダイシングテープ１５１が蓋３３Ａと側壁形成部材１２５に貼り付けられる。ダイシングテープ１５１で開口部３０ａを塞ぐために、側壁形成部材１２５（側壁３２Ａ）と蓋３３Ａの段差が小さい方が好ましく、例えば２ｍｍ以下であることが好ましい。さらに、開口部３０ａを塞いで剥がれ難くするためには、０．５ｍｍ以下であることが好ましい。
　このパッケージダイシングでは、ダイシングテープ１５１とともに側壁形成部材１２５と集合基板１１０がブレード１５２によりダイシングされる。ブレード１５２は、側壁形成部材１２５が延びる方向に沿って側壁形成部材１２５の中央部を切断する。タイシング時には、ブレード１５２には、冷却水が掛けられる。しかしながら、ダイシング時に底になる蓋３３Ａの開口部３３ａがダイシングテープ１５１によって塞がれるので冷却水がチップ配置空間１３０の中に入るのを防止することができる。ダイシング後には、ガスセンサモジュール１０Ａの乾燥が行われる。
（９）変形例
（９－１）変形例２Ａ
　上記第２実施形態では、凹み部３３ｂによって開口部３０ａを形成する場合について説明したが、凹み部３３ｂ以外の形状によって開口部３０ａを形成してもよい。図２５（ａ）に示されているように、例えば蓋３３Ａの幅Ｗ１をチップ配置空間１３０の幅Ｗ２よりも小さくすることにより開口部３０ａを形成してもよい。また、図２５（ｂ）に示されているように、例えば蓋３３Ａの四隅に切欠き部３３ｃを設けることにより、蓋３３Ａの四隅に開口部３０ａを形成してもよい。さらには、図２５（ｃ）に示されているように、図２５（ｂ）に示されている蓋３３Ａを４５度回転させて側壁３２Ａと重ねることにより開口部３０ａを形成してもよい。
（９－２）変形例２Ｂ
　上記第２実施形態及び変形例２Ａでは、側壁３２Ａには開口部が形成されていないが、第２実施形態及び変形例２Ａのガスセンサモジュール１０Ａにおいて、第１実施形態と同様に側壁形成部材１２５に窪みを形成し、側壁３２Ａに開口部を形成してもよい。
（９－３）変形例２Ｃ
　上記第２実施形態及び変形例２Ａ，２Ｂでは、蓋３３Ａに開口部が形成されていないが、第２実施形態及び変形例２Ａ，２Ｂのガスセンサモジュール１０Ａに対して、さらに蓋３３Ａに、第１実施形態で説明した開口部３３ａと同様の開口部を形成してもよい。
（９－４）変形例２Ｄ
　上記第２実施形態のガスセンサモジュール１０Ａの製造方法では、複数の蓋３３Ａを側壁形成部材１２５に接着する場合が示されている。しかし、第２実施形態のガスセンサモジュール１０Ａの製造方法は、複数の蓋３３Ａを一つずつ接着する以外に、変形例１Ｂ，１Ｃで説明したように、１つの蓋形成部材に複数の開口部を形成しておいて開口部が側壁形成部材１２５と重なるように配置してブレードにより切断することによって開口部３０ａを形成するようにしてもよい。
（９－５）変形例２Ｅ
　上記第２実施形態では、感ガス体２７によって特定種類のガスを検知するガスセンサモジュール１０Ａについて説明したが、本発明のガスセンサモジュールは、特定種類のガスを検知するものに限られない。本発明は、例えば、ガスセンサ素子４０がガスの流量を検出するガスセンサモジュールに適用することができる。
〈第３実施形態〉
　本発明の第３実施形態に係るガスセンサモジュールについて図２６乃至図２９を用いて説明する。
（１０）ガスセンサモジュールの構成
　図２６には第３実施形態に係るガスセンサモジュール１０Ｂの平面形状が模式的に示され、図２７には、図２６のＶＩＩ-ＶＩＩ線に沿って切断した断面形状が模式的に示されている。第３実施形態に係るガスセンサモジュール１０Ｂは、半導体チップ２０とパッケージ３０Ｂとを備えている。
　第３実施形態に係るガスセンサモジュール１０Ｂの半導体チップ２０には、第１実施形態に係るガスセンサモジュール１０と同様に、ガスセンサ素子４０が形成されている。
　パッケージ３０Ｂは、基板３１と側壁３２Ａと蓋３３Ｂとを含んでいる。基板３１には、側壁３２Ａが固着されている。第３実施形態の側壁３２Ａは第２実施形態の側壁３２Ａと同様のものである。第３実施形態の蓋３３Ｂには、開口部３３ａが３つ形成されている。さらに、蓋３３Ｂには、その上面の４つの隅部にそれぞれ１つずつ突起３３ｄが形成されている。なお、蓋３３Ｂには、蓋３３と同じ材料を用いることができる。
　第３実施形態における基板３１への側壁３２Ａの固着と側壁３２Ａへの蓋３３Ｂの固着は、第１実施形態の基板３１への側壁３２の固着と側壁３２への蓋３３の固着と同様に行われる。また、半導体チップ２０と端子３４の接続もボンディングされたワイヤ２９によって行われる。
　パッケージ３０Ｂも、パッケージ３０と同様に、半導体チップ２０に水平な方向Ｄ１の長さが、半導体チップ２０に垂直な方向Ｄ２の長さよりも長い扁平な形状を呈する。
（１１）ガスセンサモジュールの使用形態
　図２８には、ガスセンサモジュール１０Ｂが組み込まれた機器６５の断面形状が示されている。図２８に示されている機器６５のプリント配線板６１の実装面６３と筐体６２との間隔ＩＮ５は、実装面６３からのガスセンサモジュール１０Ｂの高さＨ３と実質的に等しい。しかし、プリント配線板６１の実装面６３から蓋３３Ｂの上面３３ｕ（図２７参照）までの高さＨ４は、ガスセンサモジュール１０Ｂの高さＨ３より小さくなっている。つまり、Ｈ３＞Ｈ４である。これらの高さの差（Ｈ３－Ｈ４）によって筐体６２と側壁３２Ａの上面３３ｕ（図２７参照）との間に隙間Ｇ２が形成されて、ガスが流れる通路が確保される。プリント配線板６１の実装面６３と筐体６２との間隔ＩＮ５と実装面６３からのガスセンサモジュール１０Ｂの高さＨ３が実質的に同じになっても、ガスの通路としての隙間Ｇ２があるので、開口部３３ａを通して外部からガスを検出空間Ｓ１に導き入れることができる。これら開口部３３ａの各々の面積は、例えば０．０１ｍｍ２～０．２ｍｍ２である。
　開口部３３ａを通して外部からガスを検出空間Ｓ１に導き入れるための通路としての隙間Ｇ２を確保するためには、突起３３ｄが高い方が好ましく、例えば０．０１ｍｍ以上であることが好ましい。また、良好な通気性を確保するには、突起３３ｄの高さが０．０２５ｍｍ以上であることが好ましい。
（１２）ガスセンサモジュールの製造方法
　第３実施形態に係るガスセンサモジュール１０Ｂの製造方法について図２９を用いて説明する。図２９に示されている側壁形成部材１２５に蓋３３Ｂを接着する工程までは第１実施形態のガスセンサモジュール１０と同様に行えるので、次のパッケージダイシングの工程について説明する。パッケージダイシングにおいて、ブレード１５２（図１５参照）により切断する前に、ダイシングテープ１５１が蓋３３Ｂに貼り付けられる。ダイシングテープ１５１で開口部３３ａを塞ぐために、突起３３ｄが低い方が好ましく、例えば２ｍｍ以下であることが好ましい。さらに、開口部３３ａを塞いで剥がれ難くするためには、突起３３ｄの高さが０．５ｍｍ以下であることが好ましい。
　このパッケージダイシングでは、ダイシングテープ１５１とともに側壁形成部材１２５と集合基板１１０がブレード１５２によりダイシングされる。ブレード１５２は、側壁形成部材１２５が延びる方向に沿って側壁形成部材１２５の中央部を切断する。タイシング時には、ブレード１５２には、冷却水が掛けられる。しかしながら、ダイシング時に底になる蓋３３Ｂの開口部３３ａがダイシングテープ１５１によって塞がれるので冷却水がチップ配置空間１３０の中に入るのを防止することができる。ダイシング後には、ガスセンサモジュール１０Ｂの乾燥が行われる。
（１３）変形例
（１３－１）変形例３Ａ
　上記第３実施形態では、側壁３２Ａには開口部が形成されていないが、第３実施形態のガスセンサモジュール１０Ｂにおいて、第１実施形態と同様に側壁形成部材１２５に窪みを形成し、ガスセンサモジュール１０Ｂの側壁に開口部を形成してもよい。
　また、蓋３３Ｂに開口部を形成せずに、蓋３３Ｂの開口部３３ａを形成する代わりに第１実施形態で説明したような開口部を側壁３２Ａに形成してもよい。このように形成したガスセンサモジュール１０Ｂでは、周囲が電気部品などで囲まれていても、突起３３ｄによって形成された隙間Ｇ２を通って側壁の開口部にガスを導きやすくなる。
（１３－２）変形例３Ｂ
　上記第３実施形態では、側壁３２Ａと蓋３３Ｂの間に開口部が形成されていないが、第３実施形態及び変形例３Ａのガスセンサモジュール１０Ｂに対して、さらに第２実施形態で説明したような側壁２３Ａと蓋３３Ｂの間の開口部を形成してもよい。
　また、蓋３３Ｂに開口部を形成せずに、蓋３３Ｂの開口部３３ａを形成する代わりに第２実施形態で説明したような側壁３２Ａと蓋３３Ｂの間の開口部を形成してもよい。この場合には、蓋３３Ｂの厚みに加えて突起３３ｄの高さによってガスの通り道が確保されるので、第２実施形態のガスセンサモジュール１０Ａよりもさらにガスを導き易くなる。
（１３－３）変形例３Ｃ
　上記第３実施形態の突起３３ｄを有するガスセンサモジュール１０Ｂに対して、さらに第１実施形態で説明した開口部３２ａ及び第２実施形態で説明した開口部３０ａの両方を形成するように構成してもよい。
（１３－４）変形例３Ｄ
　上記第３実施形態では、感ガス体２７によって特定種類のガスを検知するガスセンサモジュール１０Ｂについて説明したが、本発明のガスセンサモジュールは、特定種類のガスを検知するものに限られない。本発明は、例えば、ガスセンサ素子４０がガスの流量を検出するガスセンサモジュールに適用することができる。
（１４）特徴
（１４－１）
　第１実施形態のガスセンサモジュール１０のパッケージ３０及び変形例３Ａのガスセンサモジュール１０Ｂのパッケージ３０Ｂは、側壁３２に、検出空間Ｓ１に連通する複数の開口部３２ａを有している。また、第２実施形態のガスセンサモジュール１０Ａのパッケージ３０Ａ及び変形例３Ｂで説明したガスセンサモジュール１０Ｂのパッケージ３０Ｂは、側壁３２Ａと蓋３３Ａとの間に、検出空間Ｓ１に連通する複数の開口部３０ａを有している。さらに、変形例２Ｂで説明したガスセンサモジュール１０Ａのパッケージ３０Ａ及び変形例３Ｃで説明したガスセンサモジュール１０Ｂのパッケージ３０Ｂは、側壁３２及び側壁３２Ａと蓋３３Ａとの間に、検出空間Ｓ１に連通する複数の開口部３２ａ，３０ａを有している。
　検出空間Ｓ１に連通する複数の開口部３０ａ，３２ａのうちの一部の開口部３０ａ，３２ａを通して外部から検出空間Ｓ１にガスが流入して残りの開口部３０ａ，３２ａを通してガスを流出させることができる。そして、これら複数の開口部３０ａ，３２ａは、筐体６２がガスセンサモジュール１０，１０Ａ，１０Ｂの上面に接しても筐体６２によって塞がれない。従って、上述のガスセンサモジュール１０，１０Ａ，１０Ｂは、半導体チップ２０に対する垂直な方向の長さが短い実装スペースに取り付けられたときでもガスに関する検出を容易に行える。
（１４－２）
　第２実施形態、変形例２Ｂ、変形例３Ｂ及び変形例３Ｃにおいて説明したように、少なくとも側壁３２Ａと蓋３３Ａ，３３Ｂとの間に検出空間Ｓ１に連通する複数の開口部３０ａを有するガスセンサモジュール１０Ａ，１０Ｂにおいては、蓋３３Ａ，３３Ｂの厚みが０．０１ｍｍ以上２ｍｍ以下であることが好ましい。蓋３３Ａ，３３Ｂの厚みが０．０１ｍｍ以上あることによって、蓋３３Ａ，３３Ｂの上面に筐体６２が接するような狭い実装スペースにガスセンサモジュール１０Ａ，１０Ｂが実装されても、ガスを複数の開口部３０ａを通して検出空間Ｓ１に導くことができる。また、蓋３３Ａ，３３Ｂの厚みが２ｍｍ以下であることによって、パッケージダイシング時にダイシングテープ１５１を貼り付けて開口部３０ａから冷却水などとともに異物が侵入するのを防止することができる。それらの結果、ガスセンサモジュール１０Ａ，１０Ｂは、半導体チップ２０に対する垂直な方向の長さが短い実装スペースに実装されたときの検出空間Ｓ１へのガス導入の確実性と、品質の向上とを図ることができる。
（１４－３）
　第３実施形態及び変形例３Ａ～３Ｃのガスセンサモジュール１０Ｂのパッケージ３０Ｂは、蓋３３Ｂに、検出空間Ｓ１に連通する複数の開口部３３ａと、複数の開口部３３ａにガスを導く通路を形成するための突起３３ｄとを有している。
　検出空間Ｓ１に連通する複数の開口部３３ａのうちの一部の開口部３３ａを通して外部から検出空間Ｓ１にガスが流入して残りの開口部３３ａを通してガスを流出させることができる。そして、これら複数の開口部３３ａは、突起３３ｄが存在することによって、筐体６２がガスセンサモジュール１０Ｂの上部に接しても筐体６２によって塞がれない。従って、上述のガスセンサモジュール１０Ｂは、半導体チップ２０に対する垂直な方向の長さが短い実装スペースに取り付けられたときでもガスに関する検出を容易に行える。
（１４－４）
　第３実施形態、変形例３Ａ～３Ｃにおいて説明したように、蓋３３Ｂとの間に検出空間Ｓ１に連通する複数の開口部３３ａを有するガスセンサモジュール１０Ｂにおいては、蓋３３Ｂの上面に形成された突起３３ｄの高さが０．０１ｍｍ以上２ｍｍ以下であることが好ましい。突起３３ｄの高さが０．０１ｍｍ以上あることによって、蓋３３Ｂの上部に筐体６２が接するような狭い実装スペースにガスセンサモジュール１０Ｂが実装されても、ガスを複数の開口部３３ａを通して検出空間Ｓ１に導くことができる。また、突起３３ｄの高さが２ｍｍ以下であることによって、パッケージダイシング時にダイシングテープを貼り付けて開口部３０ａから冷却水などとともに異物が侵入するのを防止することができる。それらの結果、ガスセンサモジュール１０Ａ，１０Ｂは、半導体チップ２０に対する垂直な方向の長さが短い実装スペースに実装されたときの検出空間Ｓ１へのガス導入の確実性と、品質の向上とを図ることができる。
（１４－５）
　第１実施形態に係るガスセンサモジュール１０の製造方法においては、図８及び図９または図１７（ａ）及び図１７（ｂ）を用いて説明したように、１つのチップ配置空間１３０に対応して複数箇所の窪み１２１を持つ側壁形成部材１２０を、複数のチップ配置空間１３０を囲むように１つの集合基板１１０に射出成形により形成している。図１１及び図１２を用いて説明したように、ガスセンサ素子４０が形成されている複数の半導体チップ２０を複数のチップ配置空間１３０に対応する集合基板１１０の複数の領域にダイボンディングにより固定するとともにワイヤボンディングにより集合基板１１０の端子３４にワイヤ２９によって電気的に接続する。図１３及び図１４または図１７（ｃ）及び図１７（ｄ）を用いて説明したように、側壁形成部材１２０に蓋３３を接着して複数のチップ配置空間１３０を蓋３３で覆ってガスセンサモジュール１０を組み立てる。そして、複数箇所の窪み１２１がチップ配置空間１３０に連通する開口部３２ａになるように少なくとも側壁形成部材１２０及び集合基板１１０をダイシングすることによって、１つの集合基板１１０に形成されているガスセンサモジュール１０を分離する。
　または、第１実施形態の変形例１Ｂ，１Ｃに係るガスセンサモジュール１０の製造方法においては、図１８（ａ）及び図１８（ｂ）または図１９（ａ）及び図１９（ｂ）を用いて説明したように、１つのチップ配置空間１３０に対応して複数箇所の窪み１２１を持つ側壁形成部材１２０が、複数のチップ配置空間１３０を囲むように配置されている１つの蓋形成部材１４０を射出成形により形成している。図１８（ｃ）及び図１８（ｄ）を用いて説明したように、ガスセンサ素子４０が形成されている複数の半導体チップ２０を複数のチップ配置空間１３０に対応する集合基板１１０の複数の領域にダイボンディングにより固定するとともにワイヤボンディングにより集合基板１１０の端子３４にワイヤ２９によって電気的に接続する。図１８（ｅ）及び図１８（ｆ）または図１９（ｃ）及び図１９（ｄ）を用いて説明したように、側壁形成部材１２０を集合基板１１０に接着して複数のガスセンサモジュール１０を組み立てる。そして、複数箇所の窪み１２１がチップ配置空間１３０に連通する開口部３２ａになるように集合基板１１０、側壁形成部材１２０及び蓋形成部材１４０をダイシングすることによって、１つの集合基板１１０に形成されているガスセンサモジュール１０を分離する。
　なお、冷却液としては水以外のものを使用することもできる。
　このような第１実施形態または変形例１Ｂ，１Ｃに係るガスセンサモジュール１０の製造方法では、射出成形によって側壁形成部材１２０に窪み１２１を形成しているので、半導体チップ２０に対して垂直な方向のガスセンサモジュール１０の長さが例えば３ｍｍよりも小さくなっても、側壁３２に開口部３２ａを容易に形成することができる。
（１４－６）
　上記第２実施形態及び変形例２Ｂ～２Ｄに係るガスセンサモジュール１０Ａの製造方法においては、図８及び図９、図１７（ａ）及び図１７（ｂ）図１８（ａ）及び図１８（ｂ）、または図１９（ａ）及び図１９（ｂ）を用いて説明したように、１つの集合基板１１０または１つの蓋形成部材１４０に複数のチップ配置空間１３０を囲む側壁形成部材１２０を射出成形により形成する。図１１及び図１２または図１８（ｃ）及び図１８（ｄ）を用いて説明したように、ガスセンサ素子４０が形成されている複数の半導体チップ２０を複数のチップ配置空間１３０に対応する集合基板１１０の複数の領域にダイボンディングにより固定するとともにワイヤボンディングにより集合基板１１０の端子３４にワイヤ２９によって電気的に接続する。
　図２３及び図２４に示されているように、チップ配置空間１３０の各々に対応する蓋３３Ａと側壁形成部材１２５との間にチップ配置空間１３０に連通する複数の開口部３０ａが形成されるように側壁形成部材１２５を接着して複数のガスセンサモジュール１０Ａを組み立て、複数の開口部３０ａを塞ぐようにダイシングテープ１５１を貼り付ける。側壁形成部材１２５を集合基板１１０に形成した場合には、ダイシングブレード１５２に冷却液を掛けながら側壁形成部材１２５及び集合基板１１０をダイシングブレード１５２によりダイシングすることによって、また、側壁形成部材１２５を蓋形成部材１４０に形成した場合には、ダイシングブレード１５２に冷却液を掛けながら集合基板１１０、側壁形成部材１２５及び蓋形成部材１４０をダイシングブレード１５２によりダイシングすることによって、１つの集合基板１１０に形成されている複数のガスセンサモジュール１０Ａを分離する。
　なお、冷却液としては水以外のものを使用することもできる。
　このような第２実施形態に係るガスセンサモジュール１０Ａの製造方法では、側壁形成部材１２５と蓋３３Ａとの間に隙間を形成しているので、半導体チップ２０に対して垂直な方向のガスセンサモジュール１０の長さが例えば３ｍｍよりも小さくなっても、側壁３２Ａと蓋３３Ａとの間に開口部３０ａを容易に形成することができる。
　また、ダイシングテープ１５１により、冷却液がチップ配置空間１３０の中に侵入するのを防ぐことができる。
１０，１０Ａ，１０Ｂ　　ガスセンサモジュール
２０　　半導体チップ
３０，３０Ａ，３０Ｂ　　パッケージ
３０ａ　　開口部
３１　　基板
３２，３２Ａ　　側壁
３２ａ　　開口部
３３，３３Ａ，３３Ｂ　　蓋
３３ａ　　開口部
３４　　端子
４０　　ガスセンサ素子
６０，６５　　機器
１１０　　集合基板
１２０，１２５　　側壁形成部材
１２１　　窪み
１３０　　チップ配置空間
１４０　　蓋形成部材
１５１　　ダイシングテープ
Ｓ１　　検出空間

Claims (6)

  1. 　ガスセンサ素子の形成されている半導体チップと、
    　前記半導体チップが電気的に接続され且つ固定されている基板、前記基板に固着されている側壁及び前記側壁に固着されている蓋を含み、前記半導体チップの周囲にガスが流れる検出空間を有し、前記半導体チップに平行な方向の長さが前記半導体チップに垂直な方向の長さよりも長い扁平なパッケージと
    を備え、
    　前記パッケージは、前記側壁に及び／または前記側壁と前記蓋との間に、前記検出空間に連通する複数の開口部を有する、ガスセンサモジュール。
  2. 　前記パッケージは、少なくとも前記側壁と前記蓋との間に、前記検出空間に連通する複数の開口部を有し、前記蓋の厚みが０．０１ｍｍ以上２ｍｍ以下である、
    請求項１に記載のガスセンサモジュール。
  3. 　ガスセンサ素子の形成されている半導体チップと、
    　前記半導体チップが電気的に接続され且つ固定されている基板、前記基板に固着されている側壁及び前記側壁に固着されている蓋からなり、前記半導体チップの周囲にガスが流れる検出空間を有し、前記半導体チップに平行な方向の長さが前記半導体チップに垂直な方向の長さよりも長い扁平なパッケージと
    を備え、
    　前記パッケージは、前記蓋に、前記検出空間に連通する複数の開口部と、複数の前記開口部にガスを導く通路を形成するための突起とを有する、ガスセンサモジュール。
  4. 　前記パッケージは、前記突起の高さが０．０１ｍｍ以上２ｍｍ以下である、
    請求項３に記載のガスセンサモジュール。
  5. 　１つのチップ配置空間に対応して複数箇所の窪みを持つ側壁形成部材を、複数の前記チップ配置空間を囲むように１つの集合基板または１つの蓋形成部材に射出成形により形成し、
    　ガスセンサ素子が形成されている複数の半導体チップを複数の前記チップ配置空間に対応する前記集合基板の複数の領域にダイボンディングにより固定するとともにワイヤボンディングにより前記集合基板の端子に電気的に接続し、
    　前記側壁形成部材を、蓋、前記蓋形成部材又は前記集合基板に接着してガスセンサモジュールを組み立て、
    　前記複数箇所の窪みが前記チップ配置空間に連通する開口部になるように少なくとも前記側壁形成部材及び前記集合基板をダイシングすることによって、１つの前記集合基板に形成されている前記ガスセンサモジュールを分離する、ガスセンサモジュールの製造方法。
  6. 　１つの集合基板または１つの蓋形成部材に複数のチップ配置空間を囲む側壁形成部材を射出成形により形成し、
    　ガスセンサ素子が形成されている複数の半導体チップを複数の前記チップ配置空間に対応する前記集合基板の複数の領域にダイボンディングにより固定するとともにワイヤボンディングにより前記集合基板の端子に電気的に接続し、
    　前記チップ配置空間の各々に対応する蓋と前記側壁形成部材との間に前記チップ配置空間に連通する複数の開口部が形成されるように前記側壁形成部材を接着して複数のガスセンサモジュールを組み立て、
    　複数の前記開口部を塞ぐようにダイシングテープを貼り付け、
    　ダイシングブレードに冷却液を掛けながら少なくとも前記側壁形成部材及び前記集合基板を前記ダイシングブレードによりダイシングすることによって、１つの前記集合基板に形成されている複数の前記ガスセンサモジュールを分離する、ガスセンサモジュールの製造方法。
PCT/JP2017/039870 2016-12-20 2017-11-06 ガスセンサモジュール及びその製造方法 WO2018116663A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP17884495.7A EP3540421A4 (en) 2016-12-20 2017-11-06 GAS SENSOR MODULE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
US16/472,134 US11415536B2 (en) 2016-12-20 2017-11-06 Gas sensor module and method of manufacturing gas sensor module
KR1020197011719A KR102350203B1 (ko) 2016-12-20 2017-11-06 가스 센서 모듈 및 그 제조 방법
CN201780074674.8A CN110073204A (zh) 2016-12-20 2017-11-06 气体传感器模块及其制造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016246958A JP6553587B2 (ja) 2016-12-20 2016-12-20 ガスセンサモジュール及びその製造方法
JP2016-246958 2016-12-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2018116663A1 true WO2018116663A1 (ja) 2018-06-28

Family

ID=62626142

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2017/039870 WO2018116663A1 (ja) 2016-12-20 2017-11-06 ガスセンサモジュール及びその製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11415536B2 (ja)
EP (1) EP3540421A4 (ja)
JP (1) JP6553587B2 (ja)
KR (1) KR102350203B1 (ja)
CN (1) CN110073204A (ja)
WO (1) WO2018116663A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114730743A (zh) * 2019-12-19 2022-07-08 Ev 集团 E·索尔纳有限责任公司 经切割的封装组件及其制造方法
CN111044576B (zh) * 2019-12-27 2020-07-31 安徽芯淮电子有限公司 基于mems集成式的气体传感器及其制作方法
JP2022020159A (ja) * 2020-07-20 2022-02-01 Tdk株式会社 センサーモジュール
US20240116046A1 (en) 2021-02-17 2024-04-11 Kyocera Corporation Sensor package, sensor module, and sensor device
WO2024162055A1 (ja) * 2023-01-30 2024-08-08 京セラ株式会社 パッケージ、母基板、ガスセンサモジュール、および電子装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05249057A (ja) * 1991-07-26 1993-09-28 Ricoh Seiki Kk センサー及びその製造方法
JP2008026876A (ja) * 2004-09-27 2008-02-07 Idc Llc 封止されたｍｅｍｓデバイス内の湿度を検査するシステム及び方法
JP2012078089A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Figaro Eng Inc ガスセンサ
JP2012517600A (ja) * 2009-02-12 2012-08-02 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング ガスセンサのセンサ素子及びその作動方法
JP2014070945A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Denso Corp 湿度センサモジュール
JP2014081367A (ja) 2012-09-25 2014-05-08 Hokuriku Electric Ind Co Ltd ガスセンサ
JP2014092403A (ja) * 2012-11-01 2014-05-19 Denso Corp 湿度センサ装置

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0569667A (ja) 1991-09-17 1993-03-23 Oji Paper Co Ltd 感熱記録材料
JPH0633410Y2 (ja) * 1992-10-29 1994-08-31 新コスモス電機株式会社 ガスセンサ
JP3366098B2 (ja) * 1994-02-25 2003-01-14 積水化学工業株式会社 多機能センサ
WO2001040784A2 (de) 1999-11-30 2001-06-07 Sensirion Ag Sensor in einem gehäuse
JP2004177263A (ja) * 2002-11-27 2004-06-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 湿度センサおよびそれを用いた燃料電池システム、自動車および調理機器
KR20060004885A (ko) 2005-12-24 2006-01-16 최현규 반도체 패키지, 그 제조방법 및 이미지 센서용 반도체패키지 모듈
US20080283952A1 (en) 2005-12-24 2008-11-20 Choi Hyun-Kyu Semiconductor Package, Method of Fabricating the Same and Semiconductor Package Module For Image Sensor
WO2008029654A1 (en) * 2006-09-06 2008-03-13 Hitachi Metals, Ltd. Semiconductor sensor device and method for manufacturing same
JP5476205B2 (ja) * 2010-05-07 2014-04-23 エフアイエス株式会社 ガス検出装置
JP2012051760A (ja) 2010-09-01 2012-03-15 Bridgestone Corp 炭化ケイ素単結晶の製造方法
WO2012049742A1 (ja) * 2010-10-13 2012-04-19 日立オートモティブシステムズ株式会社 流量センサおよびその製造方法並びに流量センサモジュールおよびその製造方法
JP5590460B2 (ja) * 2010-12-08 2014-09-17 株式会社リコー 露点計測装置および気体特性測定装置
JP5763575B2 (ja) * 2012-03-19 2015-08-12 日立オートモティブシステムズ株式会社 流量センサおよびその製造方法
US9970911B2 (en) * 2013-09-16 2018-05-15 Lg Innotek Co., Ltd. Gas sensor package
KR102152716B1 (ko) * 2013-09-16 2020-09-07 엘지이노텍 주식회사 가스센서패키지 및 그 제조방법
DE102013218840A1 (de) * 2013-09-19 2015-03-19 Robert Bosch Gmbh Mikroheizplattenvorrichtung und Sensor mit einer Mikroheizplattenvorrichtung
JP6266351B2 (ja) * 2014-01-08 2018-01-24 新日本無線株式会社 センサ装置およびその製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05249057A (ja) * 1991-07-26 1993-09-28 Ricoh Seiki Kk センサー及びその製造方法
JP2008026876A (ja) * 2004-09-27 2008-02-07 Idc Llc 封止されたｍｅｍｓデバイス内の湿度を検査するシステム及び方法
JP2012517600A (ja) * 2009-02-12 2012-08-02 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング ガスセンサのセンサ素子及びその作動方法
JP2012078089A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Figaro Eng Inc ガスセンサ
JP2014081367A (ja) 2012-09-25 2014-05-08 Hokuriku Electric Ind Co Ltd ガスセンサ
JP2014070945A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Denso Corp 湿度センサモジュール
JP2014092403A (ja) * 2012-11-01 2014-05-19 Denso Corp 湿度センサ装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3540421A4

Also Published As

Publication number Publication date
KR102350203B1 (ko) 2022-01-13
JP6553587B2 (ja) 2019-07-31
EP3540421A4 (en) 2019-11-20
US11415536B2 (en) 2022-08-16
JP2018100900A (ja) 2018-06-28
US20190383761A1 (en) 2019-12-19
CN110073204A (zh) 2019-07-30
EP3540421A1 (en) 2019-09-18
KR20190096943A (ko) 2019-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2018116663A1 (ja) ガスセンサモジュール及びその製造方法
JP5643880B2 (ja) Ｍｅｍｓデバイスおよびその製造方法
KR100918745B1 (ko) 반도체 장치 및 그 제조 방법
KR100677651B1 (ko) 반도체 소자 및 패키지와 그 제조방법
JP4242401B2 (ja) 半導体装置
US8426930B2 (en) Sensor module
KR101740014B1 (ko) 압력센서장치 및 그 제조방법
JP4933934B2 (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
EP3029928B1 (en) Imaging device
JP2010166061A (ja) 電子デバイスの製造方法及び電子モジュールの製造方法
US9941182B2 (en) Electronic device and method for manufacturing same
JP2007227596A (ja) 半導体モジュール及びその製造方法
JP2008113009A (ja) 外部コンタクトを有する電気的構成エレメント
KR20060044222A (ko) 가스센서용 초소형 패키지 및 그 제조방법
JP5626109B2 (ja) モールドパッケージ
JP6569610B2 (ja) 電子装置
US10260974B2 (en) Electronic part with sensor exposed to ambient air
JP2016025202A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2006303183A (ja) 面実装型フォトインタラプタとその製造方法
TWI570855B (zh) 微電子封裝以及製造其之方法
KR100391124B1 (ko) 반도체 패키지의 베이스, 이를 이용한 반도체 패키지 및그 제조방법
JP2008166525A (ja) 電子回路モジュール
JP2001358258A (ja) Ｂｇａ型半導体装置
TW202315481A (zh) 配線基板集合體、蓋體集合體、封裝組及電子零件之製造方法
JP3754430B2 (ja) 光受信器及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17884495

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20197011719

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2017884495

Country of ref document: EP

Effective date: 20190613

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE