JP2006303183A - 面実装型フォトインタラプタとその製造方法 - Google Patents

面実装型フォトインタラプタとその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 絶縁基板2の上面に,発光素子3及び受光素子4を搭載し,前記絶縁基板の上面に固着した不透明体製キャップ体5に,前記発光素子を収容する第1中空体5aと,前記受光素子を収容する第2中空体5bと,その間における連結部5cとを一体に設け,前記両中空体のうち互いに向かい合う内側面に光の透過用スリット5a′,5b′を開口したフォトインタラプタ1において,前記発光素子及び受光素子を簡単に透明封止体18,19で封止するとともに,被検出物20が入るギャップ溝21を,正確な寸法にする。
【解決手段】 前記第1中空体の内部の透明封止体18及び第2中空体の内部の透明封止体19が,液体の透明樹脂を前記連結部から前記両スリットを通して同時に注入することによって各々設けられ,更に,前記ギャップ溝を,前記キャップ体における連結部に機械加工にて設ける。
【選択図】 図1

Description

本発明は,発光部と受光部とを備え,その間における被検出物の有無を検出するようにしたフォトインタラプタのうち,プリント基板等に対して面実装できるように構成したフォトインタラプタと,その製造方法とに関するものである。
一般に,この種のフォトインタラプタは,金属板製のリードフレームを使用した構成であったが,最近においては,プリント基板等に対して半田付けにて面実装できるように構成して成る面実装型のフォトインタラプタが開発されている。
従来,この面実装型のフォトインタラプタは,例えば,特許文献1等に記載されているように,絶縁基板の上面に,発光素子と受光素子とを搭載して,これら発光素子及び受光素子の各々を別々の透明封止体にて密封する一方,前記絶縁基板の下面に,前記発光素子に対する一対の端子電極と,前記受光素子に対する一対の端子電極とを形成して,これらの端子電極にてプリント基板等に対して半田付け実装できるようにし,更に,前記絶縁基板の上面に,前記発光素子を透明封止体で封止した状態で収容する中空体と,前記受光素子を透明封止体で封止した状態で収容する中空体と,これら両中空体の間に被検出物が入るギャップ溝とを備え,更に,前記発光素子からの光を前記ギャップ溝を横切ったのち前記受光素子に到達するように構成して成る不透明体製のキャップ体を固着するという構成にしている。
特開平11−274550号公報
ところで,この種のフォトインタラプタにおける前記発光素子と,受光素子とは,これらの耐久性の向上を図ること等を主な目的として,透明封止体にて封止するという構成にされる。
しかし,前記した従来の面実装型フォトインタラプタにおいては,絶縁基板の上面における発光素子及び受光素子の各々を別々の透明封止体にて封止するに際して,前記絶縁基板の上面における全体に透明樹脂層を,発光素子及び受光素子を覆う厚さにして形成し,この透明樹脂層を,縦方向及び横方向の二つの方向へのダイシング加工にて,前記発光素子に対する透明封止体と,前記受光素子に対する透明封止体とに分断するという構成にしている。
従って,前記発光素子及び受光素子を,その各々透明封止体にて別々に封止することに多大の手数を必要とするから,コストが大幅にアップするという問題があるばかりか,二つの方向にダイシング加工するときに,前記絶縁基板の上面に形成されている導体パターンを損傷するおそれが大きくて,不良品の発生率が高いという問題があった。
本発明は,これらの問題を解消した面実装型フォトインタラプタと,その製造方法とを提供することを技術的課題とするものである。
この技術的課題を達成するため本発明のフォトインタラプタは,請求項1に記載したように,
「絶縁基板の上面に,発光素子と受光素子とを適宜間隔を隔てて搭載し,前記絶縁基板の下面に,前記発光素子に対する一対の端子電極及び前記受光素子に対する一対の端子電極を形成し,更に,前記絶縁基板の上面に固着した不透明体製のキャップ体に,前記発光素子を収容する第1中空体と,前記受光素子を収容する第2中空体と,その間における連結部とを一体に設け,前記両中空体のうち互いに向かい合う内側面に光の透過用スリットを開口して成るフォトインタラプタにおいて,
前記キャップ体における第1中空体の内部に前記発光素子に対する透明封止体が,第2中空体の内部に前記受光素子に対する透明封止体が,液体の透明樹脂を前記連結部から前記両スリットを通して両中空体の内部に同時に注入することによって各々設けられ,更に,前記キャップ体における連結部に,被検出物が入るギャップ溝が,機械加工にて設けられている。」
ことを特徴としている。
次に,本発明の製造方法は,請求項2に記載したように,
「絶縁基板を,その上面に発光素子と受光素子を適宜間隔を隔てて搭載し,その下面に前記発光素子に対する一対の端子電極及び前記受光素子に対する一対の端子電極を形成する構成にして製作する工程,
不透明体製のキャップ体を,これに第1中空体及び第2中空体並びにこれら両中空体間における連結部を一体に設け,且つ,前記両中空体のうち互いに向かい合う内側面に光の透過用スリットを開口する構成にして製作する工程,
を備え,更に,
前記絶縁基板の上面に,前記キャップ体を,その第1中空体の内部に前記発光素子を,第2中空体の内部に前記受光素子を各々収容するように固着する工程,
前記キャップ体における第1中空体の内部及び第2中空体の内部との両方に,液体の透明樹脂を,前記連結部から前記両スリットを通して同時に注入することによって,前記第1中空体の内部に発光素子に対する透明封止体を,前記第2中空体の内部に受光素子に対する透明封止体を各々設ける工程,
前記キャップ体における連結部に,被検出物が入るギャップ溝を,機械加工にて設ける工程,
を備えている。」
ことを特徴としている。
本発明の製造方法は,請求項3に記載したように,
「素材基板を,一つのフォトインタラプタを構成する絶縁基板の複数個を縦横に並べて一体して成る構成にして製造する工程,
不透明体製のキャップ体を,これに第1中空体及び第2中空体並びにこれら両中空体間における連結部を一体に設け,且つ,前記両中空体のうち互いに向かい合う内側面に光の透過用スリットを開口する構成にして製作する工程, 前記素材基板には,その上面における各絶縁基板の箇所に発光素子及び受光素子を適宜間隔を隔てて搭載し,その下面における各絶縁基板の箇所に前記発光素子に対する一対の端子電極及び前記受光素子に対する一対の端子電極を形成する工程,
を備えて,更に,
前記素材基板の上面における各絶縁基板の箇所の各々に,前記キャップ体を,その第1中空体の内部に前記発光素子を,第2中空体の内部に前記受光素子を各々収容するように固着する工程,
前記各キャップ体における第1中空体の内部及び第2中空体の内部との両方に,液体の透明樹脂を,前記連結部から前記両スリットを通して同時に注入することによって,前記第1中空体の内部に発光素子に対する透明封止体を,前記第2中空体の内部に受光素子に対する透明封止体を各々設ける工程,
前記各キャップ体における連結部に,被検出物が入るギャップ溝を,機械加工にて設ける工程,
前記素材基板を,縦方向の切断線に沿ってのダイシング加工及び横方向の切断線に沿ってのダイシング加工にて,前記一つの絶縁基板ごとに分割する工程,
を備えている。」
ことを特徴としている。
本発明の製造方法は,請求項4に記載したように,
「前記請求項2又は3の記載において,前記キャップ体における連結部に,液体の透明樹脂を両中空体内に流れ込ませるようにした注入用凹所を設け,この注入用凹所を,前記ギャップ溝を設けるための機械加工のときに切除する。」
ことを特徴としている。
本発明の製造方法は,請求項5に記載したように,
「前記請求項2〜4のいずれかの記載において,前記キャップ体を,隣接する複数個について一体化して,前記素材基板をダイシング加工するときに同時に各キャップ体ごとに分割する。」
ことを特徴としている。
本発明は,前記したように,キャップ体における第1中空体の内部及び第2中空体の内部との両方に,液体の透明樹脂を,その間における連結部から両スリットを通して同時に注入することで,前記第1中空体の内部に発光素子に対する透明封止体を,前記第2中空体の内部に受光素子に対する透明封止体を各々設け,次いで,前記連結部に,被検出部が入るギャップ溝を機械加工にて設けるものである。
これにより,前記従来のように,発光素子及び受光素子の各々を別々の透明封止体にて封止することのためのダイシング加工を必要としないことに加えて,両中空体の内部への透明樹脂の注入を同時に行うことで,この注入に要する手数を軽減できる一方,被検出部が入るギャップ溝を,機械加工にて正確な寸法にすることができるとともに,このギャップ溝における内面を,前記機械加工にて平滑な面にすることができる。
従って,本発明によると,正確な寸法で,且つ,平滑な内面にしたギャップ溝を有する面実装型のフォトインタラプタを,低コストで製造できるとともに,製造に際しての不良品の発生率を大幅に低減できる。
しかも,両中空体の内部への透明樹脂の注入にて設けた透明封止体が,キャップ体の絶縁基板に対する固着に寄与するので,その固着強度を向上することができる。
特に,請求項3に記載した製造方法によると,一枚の素材基板を使用して複数個を同時に製造することができるから,製造コストの一層の低減を図ることができる。
また,請求項4に記載した製造方法によると,両中空体の内部への透明樹脂の同時注入が容易にできるから,製造コストの低減に寄与できる。
更にまた,請求項5に記載した製造方法によると,キャップ体の製造及び素材基板へのキャップ体の固着が,複数個のキャップ体について同時にできて,前記キャップ体の製造及び固着に要する手数を軽減できるから,製造コストを更に低減を図ることができる。
以下,本発明の実施の形態を,図面について説明する。
図1〜図4は,本発明の実施の形態による面実装型フォトインタラプタ1を示す。
この面実装型フォトインタラプタ1は,ガラスエポキシ等のように耐熱絶縁体による絶縁基板2と,この絶縁基板2の上面に,左右方向に適宜距離を隔てて搭載した発光素子3及び受光素子4と,前記絶縁基板2の上面に固着した不透明合成樹脂製のキャップ体5とによって構成されている。
前記絶縁基板2の上面における前記発光素子3は,一対の導体パターン3a,3bと,この両導体パターン3a,3bのうち一方の導体パターン3aにダイボンディングした発光ダイオードチップ3cと,この発光ダイオードチップ3cと他方の導体パターン3bとの間をワイヤボンディングした金属線3dとによって構成されている。
また,前記絶縁基板2の上面における前記受光素子4は,一対の導体パターン4a,4bと,この両導体パターン4a,4bのうち一方の導体パターン4aにダイボンディングしたフォトトランジスター等の受光チップ4cと,この受光チップ4cと他方の導体パターン4bとの間をワイヤボンディングした金属線4dとによって構成されている。
前記絶縁基板2における下面のうち前記発光素子3の側の部分には,前記発光素子3における一方の導体パターン3aにスルーホール6内の導体7を介して電気的に導通する端子電極8と,前記発光素子3における他方の導体パターン3bにスルーホール9内の導体10を介して電気的に導通する端子電極11とが形成されている。
また,前記絶縁基板2における下面のうち前記受光素子4の側の部分には,前記受光素子4における一方の導体パターン4aにスルーホール12内の導体13を介して電気的に導通する端子電極14と,前記前記受光素子4における他方の導体パターン4bにスルーホール15内の導体16を介して電気的に導通する端子電極17とが形成されている。
一方,前記キャップ体5は,内部に前記発光素子3を収容する第1中空体5a,内部に前記受光素子4を収容する第2中空体5b,及び,これら両中空体5a,5bの間における連結部5cとが一体に設けられている。
また,前記両中空体5a,5bのうち互いに向かい合う内側面には,光の透過用スリット5a′,5b′が穿設され,前記第1中空体5a内には,前記発光素子3からの光を前記両スリット5a′,5b′の方向に屈折するための反射面5a″が,前記第2中空体5b内には,前記両スリット5a′,5b′からの光を前記受光素子4の方向に屈折するための反射面5b″が各々設けられている。
そして,前記キャップ体5における第1中空体5aの内部には前記発光素子3に対する透明封止体18が,第2中空体5bの内部には前記受光素子4に対する透明封止体19が,詳しくは後述するように,液体の透明樹脂を前記連結部5cから前記両スリット5a′,5b′を通して同時に注入することによって各々設けられている。
更に,前記キャップ体5における連結部5cに,被検出物20を受け入れるためのギャップ溝21が,詳しくは後述するように,所定の内幅寸法Wで,所定の深さ寸法Sにして,ダイシング加工等の機械加工によって設けている。
この構成のフォトインタラプタ1は,各種電気機器におけるプリント基板等に対して,その絶縁基板2の下面における各端子電極8,11,14,17を半田付けすることによって実装される。
この実装した状態において,前記ギャップ溝21内に被検出物20が存在しないときには,前記発光素子3における光は,前記ギャップ溝21を横切って前記受光素子4に到達することになるが,前記ギャップ溝21内に被検出物20が存在するときには,前記受光素子4への光の到達が前記被検出物20にて遮られることになるから,これによって,前記ギャップ溝21内における被検出物20の有無を検出することができる。
この場合において,前記キャップ体5における第1中空体5aの内部の発光素子3及び第2中空体5bの内部の受光素子4の各々に対する透明封止体18,19を,前記両中空体5a,5bの内部に,液体の透明樹脂を前記連結部5cから前記両スリット5a′,5b′を通して同時に注入することによって設けるものであることにより,前記従来のように,発光素子3及び受光素子4の各々を別々の透明封止体にて封止することのためのダイシング加工を必要としないから,前記両透明封止体19,20を簡単に形成することができる。
次に,前記した構成の面実装型フォトインタラプタ1の製造方法について説明する。
先ず,図5〜図8に示すように,前記絶縁基板2の複数個を縦及び横に並べて一体化して成る素材基板Aを,例えば,ガラスエポキシ等の耐熱絶縁体板に製作する。
なお,この素材基板Aは,詳しくは後述するように,縦方向の切断線B1及び横方向の切断線B2に沿ってのダイシング加工によって,前記各絶縁基板2ごとに分割される。
前記素材基板Aのうち前記各絶縁基板2の箇所ごとに,その上面における導体パターン3a,3b,4a,4bの形成,及び,その下面における各端子電極8,11,14,17の形成,並びに,スルーホール6,9,12,15の穿設とその内部の導体7,10,13,16の形成を行う。
次いで,前記素材基板Aにおける上面のうち前記各絶縁基板2の箇所に,図9に示すように,発光素子3及び受光素子4の搭載,つまり,チップ3c,4cのダイボンディング及び金属線3d,4dによるワイヤボンディングを行う。
一方,図10〜図12に示すように,前記キャップ体5を,前記した構成にして,不透明の合成樹脂にて成形する。
すなわち,このキャップ体5は,内部に前記発光素子3を収容する第1中空体5aと,内部に前記受光素子4を収容する第2中空体5bとを,その間における連結部5cとを一体に備え,前記両中空体5a,5bのうち互いに向かい合う内側面に光の透過用スリット5a′,5b′を開口し,更に,前記連結部5cの上面に,注入用凹所5dと,この凹所5dから前記両スリット5a′,5b′に向かって延びる注入溝5e,5fとを設けた構成である。
次いで,このキャップ体5を,図13及び図14に示すように,前記素材基板Aにおける上面のうち前記各絶縁基板2の箇所ごとに,その第1中空体5aの内部に前記発光素子3を,第2中空体5bの内部に前記受光素子4を各々収容するように供給して,図示しない接着剤等にて固着する。
次いで,前記キャップ体5における連結部5cの上面の注入用凹所5dに,液体の透明樹脂を,図示しないノズルから供給することにより,この液体の透明樹脂を,前記キャップ体5における両中空体5a,5bの内部に,その各々におけるスリット5a′,5b′を通して一杯になるまで同時に注入できるから,その後において前記液体の透明樹脂を乾燥又は硬化することによって,図15及び図16に示すように,第1中空体5aの内部に発光素子3に対する透明封止体18を,第2中空体5bの内部に受光素子4に対する透明封止体19を各々同時に形成する。
次いで,前記キャップ体5における連結部5cの部分を,図17に示すように,ダイシング加工工具等の機械加工工具Cにて,当該連結部5cの一部を残し,前記注入用凹所5d及び両注入溝5e,5fの全てを切除するように溝型に切削するという機械加工を行うことにより,被検出物20を受け入れるためのギャップ溝21を,所定の内幅寸法Wで,所定の深さ寸法Sにして形成する。
次いで,前記素材基板Aを,図18及び図19に示すように,縦方向の切断線B1に沿ってのダイシング加工にて切断するとともに,横方向の切断線B2に沿ってのダイシング加工にて切断することにより,前記図1〜図4に示す構成通りの面実装型フォトインタラプタ1の複数個を同時に得ることができる。
また,別の製造方法においては,図20及び図21に示すように,各キャップ体5を,縦方向に隣接する複数個,又は横方向に隣接する複数個,或いは縦及び横方向に隣接する複数個を一体化して,この一体化した状態で,合成樹脂による成形,及び,素材基板Aへの固着を行い,そして,縦方向の切断線B1に沿ってのダイシング加工による切断と,横方向の切断線B2に沿ってのダイシング加工による切断とによって,個々の面実装型フォトインタラプタ1に分割するようにすることができる。
この方法によると,キャップ体の合成樹脂による成形及び素材基板Aへの固着が,複数個のキャップ体について行うことができることにより,これらに要する手数を低減できる利点がある。
本発明の実施の形態による面実装型フォトインタラプタを示す縦断正面図である。 図1のII−II視断面図である。 図1のIII −III 視断面図である。 図1のIV−IV視平断面図である。 前記フォトインタラプタを製造する素材基板を示す斜視図である。 図5のVI−VI視拡大断面図である。 図5のVII −VII 視拡大断面図である。 図5のVIII−VIII視拡大断面図である。 前記素材基板に発光素子と受光素子を搭載した状態を示す断面図である。 キャップ体を示す斜視図である。 図10のXI−XI視断面図である。 図10のXII −XII 視断面図である。 前記素材基板にキャップ体を固着した状態を示す断面図である。 図13のXIV −XIV 視断面図である。 前記キャップ体に透明封止体を設けた状態を示す断面図である。 図15のXVI −XVI 視断面図である。 前記キャップ体にギャップ溝を設けた状態を示す断面図である。 複数個のフォトインタラプタに分割した状態を示す断面図である。 図18のXIX −XIX 視断面図である。 別の製造方法を示す断面図である。 図20のXXI −XXI 視断面図である。
符号の説明
1 フォトインタラプタ
2 絶縁基板
3 発光素子
4 受光素子
5 キャップ体
5a 第1中空体
5b 第2中空体
5c 連結部
5a′,5b′ スリット
8,11,14,17 端子電極
18,19 透明封止体
21 ギャップ溝
A 素材基板
B1,B2 切断線
C 機械加工工具

Claims (5)

  1. 絶縁基板の上面に,発光素子と受光素子とを適宜間隔を隔てて搭載し,前記絶縁基板の下面に,前記発光素子に対する一対の端子電極及び前記受光素子に対する一対の端子電極を形成し,更に,前記絶縁基板の上面に固着した不透明体製のキャップ体に,前記発光素子を収容する第1中空体と,前記受光素子を収容する第2中空体と,その間における連結部とを一体に設け,前記両中空体のうち互いに向かい合う内側面に光の透過用スリットを開口して成るフォトインタラプタにおいて,
    前記キャップ体における第1中空体の内部に前記発光素子に対する透明封止体が,第2中空体の内部に前記受光素子に対する透明封止体が,液体の透明樹脂を前記連結部から前記両スリットを通して両中空体の内部に同時に注入することによって各々設けられ,更に,前記キャップ体における連結部に,被検出物が入るギャップ溝が,機械加工にて設けられていることを特徴とする面実装型フォトインタラプタ。
  2. 絶縁基板を,その上面に発光素子と受光素子を適宜間隔を隔てて搭載し,その下面に前記発光素子に対する一対の端子電極及び前記受光素子に対する一対の端子電極を形成する構成にして製作する工程,
    不透明体製のキャップ体を,これに第1中空体及び第2中空体並びにこれら両中空体間における連結部を一体に設け,且つ,前記両中空体のうち互いに向かい合う内側面に光の透過用スリットを開口する構成にして製作する工程,
    を備え,更に,
    前記絶縁基板の上面に,前記キャップ体を,その第1中空体の内部に前記発光素子を,第2中空体の内部に前記受光素子を各々収容するように固着する工程,
    前記キャップ体における第1中空体の内部及び第2中空体の内部との両方に,液体の透明樹脂を,前記連結部から前記両スリットを通して同時に注入することによって,前記第1中空体の内部に発光素子に対する透明封止体を,前記第2中空体の内部に受光素子に対する透明封止体を各々設ける工程,
    前記キャップ体における連結部に,被検出物が入るギャップ溝を,機械加工にて設ける工程,
    を備えていることを特徴とする面実装型フォトインタラプタの製造方法。
  3. 素材基板を,一つのフォトインタラプタを構成する絶縁基板の複数個を縦横に並べて一体して成る構成にして製造する工程,
    不透明体製のキャップ体を,これに第1中空体及び第2中空体並びにこれら両中空体間における連結部を一体に設け,且つ,前記両中空体のうち互いに向かい合う内側面に光の透過用スリットを開口する構成にして製作する工程, 前記素材基板には,その上面における各絶縁基板の箇所に発光素子及び受光素子を適宜間隔を隔てて搭載し,その下面における各絶縁基板の箇所に前記発光素子に対する一対の端子電極及び前記受光素子に対する一対の端子電極を形成する工程,
    を備えて,更に,
    前記素材基板の上面における各絶縁基板の箇所の各々に,前記キャップ体を,その第1中空体の内部に前記発光素子を,第2中空体の内部に前記受光素子を各々収容するように固着する工程,
    前記各キャップ体における第1中空体の内部及び第2中空体の内部との両方に,液体の透明樹脂を,前記連結部から前記両スリットを通して同時に注入することによって,前記第1中空体の内部に発光素子に対する透明封止体を,前記第2中空体の内部に受光素子に対する透明封止体を各々設ける工程,
    前記各キャップ体における連結部に,被検出物が入るギャップ溝を,機械加工にて設ける工程,
    前記素材基板を,縦方向の切断線に沿ってのダイシング加工及び横方向の切断線に沿ってのダイシング加工にて,前記一つの絶縁基板ごとに分割する工程,
    を備えていることを特徴とする面実装型フォトインタラプタの製造方法。
  4. 前記請求項2又は3の記載において,前記キャップ体における連結部に,液体の透明樹脂を両中空体内に流れ込ませるようにした注入用凹所を設け,この注入用凹所を,前記ギャップ溝を設けるための機械加工のときに切除することを特徴とする面実装型フォトインタラプタの製造方法。
  5. 前記請求項2〜4のいずれかの記載において,前記キャップ体を,隣接する複数個について一体化して,前記素材基板をダイシング加工するときに同時に各キャップ体ごとに分割することを特徴とする面実装型フォトインタラプタの製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013211507A (ja) * 2011-08-08 2013-10-10 Rohm Co Ltd フォトインタラプタ、フォトインタラプタの製造方法、およびフォトインタラプタの実装構造
JP2016213504A (ja) * 2011-08-08 2016-12-15 ローム株式会社 フォトインタラプタおよびフォトインタラプタの実装構造

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013211507A (ja) * 2011-08-08 2013-10-10 Rohm Co Ltd フォトインタラプタ、フォトインタラプタの製造方法、およびフォトインタラプタの実装構造
US8969842B2 (en) 2011-08-08 2015-03-03 Rohm Co., Ltd. Photointerrupter, method of manufacturing the same, and mounting structure of the same
JP2016213504A (ja) * 2011-08-08 2016-12-15 ローム株式会社 フォトインタラプタおよびフォトインタラプタの実装構造

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