JP4349978B2 - 光半導体パッケージ及びその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、発光ダイオードや被検出物の有無又は被検出物の位置を検出する光半導体パッケージ及びその製造方法に関するものである。
光半導体パッケージは、非接触で物体の有無や物体の位置を検出する光センサであり、モータなどの回転の制御や紙、フイルム等の位置、端部の検出などに使用される。その一般的な構成及び原理を説明すると、遮光された発光素子と受光素子を有し、発光素子から照射された光が検知対象の物体に当たって反射され、その反射光を受光素子が検知する。これによって、光半導体パッケージの近傍における物体の有無や位置に応じて受光素子側の出力が変化し、これを検出信号として用いるものである。
しかし、従来知られている光半導体パッケージの例として、絶縁基板の上面に一対の発光素子と受光素子を実装し、発光素子と受光素子を囲むように遮光枠を配設した構造のものや、遮蔽の必要な部分にダイシングなどで溝やくぼみをつくり、この溝やくぼみにNiなどのメッキを施して遮蔽する構造のものがある。(例えば、特許文献1参照)
特開平11−289105号公報(第2〜3頁、図1、9)
上記した特許文献1に開示されている光半導体パッケージは、遮光枠を使用したものとして、図9及び図10に示すように、絶縁基板20は、ガラス繊維入りエポキシ樹脂などよりなり、該絶縁基板20の上下面には図示しない導電パターン(図13では、ダイパターン29、上面パターン30)が形成され、絶縁基板20の側面に形成されているスルーホール電極21を介して接続されている。
前記絶縁基板20上には、LED等の発光素子22及びフォトトランジスタ又はフォトダイオードなどの受光素子23が一対になって併置するようにダイボンド接着され、ボンディングワイヤ24によりそれぞれワイヤボンディングされている。
前記発光素子22と受光素子23の発光、受光方向を規制する機能を有し、発光素子22と受光素子23を囲むように絶縁基板20上に、PPSなどの遮光性樹脂で成形された遮光枠25を接合してあり、遮光枠25には発光素子22と受光素子23の発光、受光方向にそれぞれ窓部25a、25bが設けられている。窓部25a、25b内には透光性樹脂26が充填され、両素子を封止している。
また、遮蔽の必要な部分にダイシングなどで溝やくぼみをつくり、この溝やくぼみにNiなどのメッキを施して遮蔽する構造のものとして、図11及び図12に示すように、絶縁基板20は、ガラス繊維入りエポキシ樹脂などよりなり、該絶縁基板20の上下面には図示しない導電パターン(図14では、ダイパターン29、上面パターン30)が形成され、絶縁基板20の側面に形成されているスルーホール電極21を介して接続されている。前記絶縁基板20上には、LED等の発光素子22及びフォトトランジスタ又はフォトダイオードなどの受光素子23が一対になって併置するようにダイボンド接着され、ボンディングワイヤ24によりそれぞれワイヤボンディングされている。前記発光素子22と受光素子23を囲むよに透光性樹脂26で封止した後、該封止樹脂26をハーフダイシング等で、絶縁基板20の表面に達する切込みを入れて溝27を形成する。そして、前記透光性樹脂26の上面、即ち発光素子22と受光素子23の発光、受光方向を除く全ての面に、Niなどのメッキを施して遮蔽する遮光膜28が形成されている。
図13は、遮光枠25を使用し、前記絶縁基板20に発光素子としてLED22のみを実装した光半導体パッケージで、その構成は、図9及び図10で説明した光半導体パッケージと同様であり、また、図14は、遮蔽の必要な部分にダイシングなどで溝やくぼみをつくり、この溝やくぼみにNiなどのメッキを施して遮蔽する遮蔽膜28を形成したもので、前記絶縁基板20に発光素子としてLED22のみを実装した光半導体パッケージで、その構成は、図11及び図12で説明した光半導体パッケージと同様であるので説明は省略する。
解決しようとした問題点は、上記した遮光枠または遮光膜を形成することにより、発光素子および受光素子の側面への光の漏れを防止することはできるが、基板材料に透光性があるため、基板の裏面側への光の漏れを防止することはできない。また、基板内部を伝わり受光素子に到達するという光漏れを防止することはできない。発光素子(LED)において基板裏面側への光漏れを防止できず、裏面側への光漏れは発光効率を低下させる。などの問題があった。
本発明は、上述の欠点を解消するもので、その目的は、遮蔽樹脂枠が内層ベタパターンの位置より深く形成することにより、基板内部に伝わる光漏れの防止を行い、高光出力化を可能にするものである。
上記目的を達成するために、本発明における光半導体パッケージは、ガラスエポキシ樹脂等よりなる基板の上面に導電パターンを形成し、下面に外部接続用電極を設け、前記導電パターンに、発光素子または受光素子または両光素子を実装し、該光素子を透光性樹脂で封止し、前記樹脂で封止された前記光素子の周囲を取り囲むように矩形形状の遮蔽樹脂枠を設けた光半導体パッケージにおいて、前記基板は透光性の樹脂材料からなり、内層に光の遮蔽層及び反射層としてのベタパターンを有する多層基板で、前記遮蔽樹脂枠は熱硬化系樹脂に可視光と赤外光カット剤の添加剤を付加した光遮蔽機能を有する樹脂であって、前記封止樹脂の上面から、前記ベタパターンより深い位置まで形成し、前記受光素子への前記基板内部を伝わる光漏れを防止すると共に前記反射層としてベタパターンにより前記発光素子の光出力効率を高めたことを特徴とする。
また、前記発光素子はLEDであることを特徴とするものである。
また、前記多層基板の上面の導電パターンと、下面の外部接続用電極は、スルーホール電極を介して接続したことを特徴とするものである。
前記封止樹脂の上面は、凸形状またはフレネルのレンズ形状であることを特徴とするものである。
また、ガラスエポキシ樹脂等よりなる基板の上面に導電パターンを形成し、下面に外部接続用電極を設け、前記導電パターンに、発光素子または受光素子または両光素子を実装し、該光素子を透光性樹脂で封止し、前記樹脂で封止された前記光素子の周囲を取り囲むように矩形形状の遮蔽樹脂枠を設けた光半導体パッケージの製造方法において、透光性の樹脂材料からなり、内層に光の遮蔽層及び反射層としてのベタパターンを有する多層集合基板の上面に所定の導電パターンを形成し、下面にスルーホールにより前記導電パターンと接続する外部接続用電極を設け、前記導電パターンに発光素子または受光素子または両光素子を複数個所定の位置に実装し、該光素子を透光性を有する第1の樹脂で封止し、前記光素子の周囲に矩形状の線状溝を前記ベタパターンの位置より深く形成し、前記線状溝に可視光と赤外光カット剤の添加剤を付加した光遮蔽機能を有する第2の樹脂を充填することにより遮蔽樹脂枠を設け、前記遮蔽樹脂枠上を通る直交する所定のラインに沿って切断することにより、単個または一対の光素子を有する光半導体パッケージに分割したことを特徴とするものである。
本発明の光半導体パッケージは、多層基板に遮蔽(反射)機能を有する内層ベタパターンを形成することにより、基板裏面側への光漏れを防止する遮蔽層の機能と同時に、発光素子においては、ベタパターンは反射層としての機能を有し光がパッケージの前面から出射することにより、発光量が上がり、光出力効率が優れている。また、遮蔽樹脂枠が内層ベタパターンの位置より深いので、受光素子への基板内部を伝わる光漏れの防止に役立つものである。
さらに、本発明の光半導体パッケージの製造方法は、多数個取りの多層集合基板で生産できるので、量産性に優れ、低コスト化が可能である。
本発明の光半導体パッケージ及びその製造方法について、図面に基づいて説明する。
図1及び図2は、本発明の実施例1に係わり、図1は、光半導体パッケージの断面図(図2のA−A線断面)、図2は、図1の斜視図である。図1及び図2において、1はガラスエポキシ樹脂などよりなる平面が略長方形形状をした絶縁性を有する多層基板で、前記多層基板1は内層に光の遮蔽(反射)層としてのベタパターン2が設けられている。前記多層基板1の上面には導電パターン3と、下面には外部接続用電極4が形成され、両電極はスルーホール電極5を介して接続されている。前記多層基板1の所定位置に、LEDからなる発光素子6及びフォトトランジスタ又はフォトダイオードからなる受光素子7をダイパターン8上にダイボンド接着し、金属細線9でワイヤーボンディングされ電気的に接続されている。
前記発光素子6と受光素子7を覆うように、可視光カット剤入りエポキシ系の透光性の第1の樹脂10で封止した後、ダイシングなどにより、両素子6、7を取り囲むように、前記多層基板1のベタパターン2の位置より深い位置まで第1の樹脂10に線状溝11を形成する。
前記線状溝11に、予め、前記熱硬化系樹脂に、可視・赤外光の波長カット機能を有する添加剤を混ぜ込んだ光遮蔽機能を有する第2の樹脂12を充填し遮蔽樹脂枠(12)を形成する。該遮蔽樹脂枠12は、前記発光素子6より出射された赤外光が横方向から漏れて受光素子7間に伝播するのを防ぐ、光干渉防止機能を有するものである。
上記構成の光半導体パッケージの作用・効果について説明する。多層基板1に内層されたベタパターンにより、発光素子6の光はベタパターン2で遮蔽されて、多層基板1の裏側へ漏れることはない。また、内層されたベタパターン2が反射層として機能して、発光素子6の発光量を上げることができる。さらに、ベタパターン2より深いところまで遮蔽樹脂枠12が設けられているので、多層基板1内部を通過しての光漏れが完全に防止できる。
図3及び図4は、本発明の実施例2に係わり、図3は、発光素子のみを実装した光半導体パッケージの断面図(図4のB−B線断面)、図4は、図3の斜視図である。図3は及び図4において、発光素子としてLED6のみを多層基板1に実装し、他の構成は上述した光半導体パッケージと同様である。従って、LED6の光はベタパターン2で遮蔽されて、多層基板1の裏側へ漏れることはなく、内層されたベタパターン2により反射した光がパッケージの前面から出射して、LED6の発光量を上げることができる。光漏れが完全に防止され、高出力化に役立つものである。
上記した実施例1は、光素子として、発光素子と受光素子を実装した光半導体パッケージ、実施例2は、光素子として、発光素子のみを実装した光半導体パッケージについて説明したが、本発明は、光素子として受光素子が1つのみを実装した光半導体パッケージも含むものである。
図5及び図6は、本発明の実施例3に係わり、図5は、実施例1の発光素子及び受光素子の真上に凸レンズを配設した光半導体パッケージの断面図、図6は、図5のC−C線断面である。図5及び図6において、実施例1で説明した光半導体パッケージにおいて、可視光カット剤入りエポキシ系の透光性の第1の樹脂10で発光素子6及び受光素子7を封止する際に、封止樹脂(10)の上面で、発光素子6および受光素子7の真上の位置に半球型の凸レンズ13を形成するものである。半球型の凸レンズ13は、赤外発光の照射と集光の機能を持たせたものである。
上記した凸レンズ13は、発光素子6の照射角、受光素子7の集光角を制御することにより、狭指向性の発光装置、受光装置および受発光装置となる。
前記凸レンズ13の代わりに、フレネルレンズを設けることにより、同様な作用・効果を奏するものである。
次に、上記実施例1の構成の光半導体パッケージの製造方法について説明する。図7(a)において、1Aは多数個取りする多層集合基板で、該多層集合基板1Aは、内層に光の遮蔽層としてのベタパターン2が設けられている。前記多層集合基板1Aの上下面には上面電極3、下面電極4が形成され、両電極3、4はスルーホール電極5を介して接続されている。前記多層集合基板1Aの所定位置において、LEDからなる発光素子6及びフォトトランジスタ又はフォトダイオードからなる受光素子7が一対になるようにアレイ状に配置し、ダイパターン8上にダイボンド接着し、金属細線9でワイヤーボンディングされ電気的に接続されている。前記両素子6、7を覆うように可視光カット剤入りエポキシ系の透光性樹脂である第1の樹脂10で封止する。上述した実施例3における凸レンズ13の形成は、封止樹脂の際に、両素子の真上に同時に成形する。
図7(b)において、前記多層集合基板1A上に実装された一対の発光素子6と受光素子7を取り囲むように、前記多層集合基板1Aに形成されたベタパターン2の位置より深い位置まで第1の樹脂10をダイシングなどにより直交する線状溝11を形成する。
図7(c)において、前記線状溝11内に熱硬化系樹脂に可視光と赤外光カット剤などの添加剤を付加した光遮蔽機能を有する第2の樹脂12を充填して遮蔽樹脂枠(12)を形成する。
図7(c)および図8において、前記発光素子6と受光素子7が一対になるように、前記遮蔽樹脂枠12上を通る直交する所定のカットラインX、Yに沿って切断することにより、単個の光半導体パッケージに分割する。以上の工程により、図1、2に示す単個の光半導体パッケージを多数個取り生産することができる。
実施例2において、図3及び図4に示した発光素子(LED)のみを実装した光半導体パッケージの製造方法においても、上記した方法と同様であるので説明は省略する。
以上述べた光半導体パッケージの製造方法により、別体の遮光用成形品を必要としないで、遮蔽樹脂枠12を具備した多数個取り生産ができる光半導体パッケージの製作が可能である。
本発明の実施例1に係わる光半導体パッケージの断面図である。 図1の光半導体パッケージの斜視図である。 本発明の実施例2に係わる光半導体パッケージの断面図である。 図3の光半導体パッケージの斜視図である。 図1の発光素子及び受光素子の上面(真上)に凸レンズを配設した光半導体パッケージの断面図である。 図5のC−C線断面である。 本発明の実施例1に係わる光半導体パッケージの製造方法を示す断面図である。 図5(c)で単個に切断する前の多層集合基板の斜視図である。 従来の光半導体パッケージの断面図である。 図7の光半導体パッケージの斜視図である。 従来の他の光半導体パッケージの断面図である。 図9の光半導体パッケージの斜視図である。 発光素子のみを実装した従来の光半導体パッケージの断面図である。 発光素子のみを実装した従来の他の光半導体パッケージの断面図である。
符号の説明
1 多層基板
1A 多層集合基板
2 内層ベタパターン
6 発光素子(LED)
7 受光素子
10 第1の樹脂(透光性封止樹脂)
11 線状溝
12 第2の樹脂(遮蔽樹脂枠)
13 半球型の凸レンズ
X、Y カットライン












Claims (5)

  1. ガラスエポキシ樹脂等よりなる基板の上面に導電パターンを形成し、下面に外部接続用電極を設け、前記導電パターンに、発光素子または受光素子または両光素子を実装し、該光素子を透光性樹脂で封止し、前記樹脂で封止された前記光素子の周囲を取り囲むように矩形形状の遮蔽樹脂枠を設けた光半導体パッケージにおいて、前記基板は透光性の樹脂材料からなり、内層に光の遮蔽層及び反射層としてのベタパターンを有する多層基板で、前記遮蔽樹脂枠は熱硬化系樹脂に可視光と赤外光カット剤の添加剤を付加した光遮蔽機能を有する樹脂であって、前記封止樹脂の上面から、前記ベタパターンより深い位置まで形成し、前記受光素子への前記基板内部を伝わる光漏れを防止すると共に前記反射層としてベタパターンにより前記発光素子の光出力効率を高めたことを特徴とする光半導体パッケージ。
  2. 前記発光素子はLEDであることを特徴とする請求項1記載の光半導体パッケージ。
  3. 前記多層基板の上面の導電パターンと、下面の外部接続用電極は、スルーホール電極を介して接続したことを特徴とする請求項1または2記載の光半導体パッケージ。
  4. 前記封止樹脂の上面は、凸形状またはフレネルのレンズ形状であることを特徴とする請求項1記載の光半導体パッケージ。
  5. ガラスエポキシ樹脂等よりなる基板の上面に導電パターンを形成し、下面に外部接続用電極を設け、前記導電パターンに、発光素子または受光素子または両光素子を実装し、該光素子を透光性樹脂で封止し、前記樹脂で封止された前記光素子の周囲を取り囲むように矩形形状の遮蔽樹脂枠を設けた光半導体パッケージの製造方法において、透光性の樹脂材料からなり、内層に光の遮蔽層及び反射層としてのベタパターンを有する多層集合基板の上面に所定の導電パターンを形成し、下面にスルーホールにより前記導電パターンと接続する外部接続用電極を設け、前記導電パターンに発光素子または受光素子または両光素子を複数個所定の位置に実装し、該光素子を透光性を有する第1の樹脂で封止し、前記光素子の周囲に矩形状の線状溝を前記ベタパターンの位置より深く形成し、前記線状溝に可視光と赤外光カット剤の添加剤を付加した光遮蔽機能を有する第2の樹脂を充填することにより遮蔽樹脂枠を設け、前記遮蔽樹脂枠上を通る直交する所定のラインに沿って切断することにより、単個または一対の光素子を有する光半導体パッケージに分割したことを特徴とする光半導体パッケージの製造方法。
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