WO2018024040A1 - 掩模板、包含该掩模板的掩模板组件及其制造方法 - Google Patents

掩模板、包含该掩模板的掩模板组件及其制造方法 Download PDF

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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass

Definitions

  • the present disclosure relates to the field of display technology, and more particularly to a reticle, a reticle assembly including the reticle, a method of fabricating the reticle, and a method of fabricating the reticle assembly.
  • a mask used in vacuum evaporation is a critical component.
  • the quality of the reticle directly affects manufacturing costs and product quality.
  • Fine Metal Mask FMM is one of the key equipment.
  • the FMM is used to evaporate the luminescent layer material and form a pixel pattern on the back sheet. Therefore, the quality of the FMM is directly related to the display effect of the screen.
  • AMOLED Active-matrix organic light emitting diode
  • An object of the present disclosure is to provide a mask, a mask assembly including the mask, a mask manufacturing method, and a mask assembly manufacturing method, which can solve the strain of a special shape display such as a circular shape in the FMM web process. Uneven, wrinkle and other issues make the design of the FMM unaffected by the display The effect of shape and size.
  • the present disclosure provides a reticle for use in vapor deposition of a display substrate.
  • the mask includes a plurality of grooves arranged in a matrix on one surface of the mask, wherein an opening is provided in a middle portion of each of the grooves, the opening corresponding to the display The display area on the substrate.
  • the opening shape of the groove is a rectangle.
  • the opening shape of the groove is a square shape.
  • the opening shape of the opening portion is elliptical.
  • the opening shape of the opening portion is circular, and the diameter of the opening portion is larger than the diameter of the corresponding display region on the display substrate by 100 to 300 ⁇ m.
  • a convex portion is formed around the outer peripheral edge of the opening portion.
  • the raised portion has a width of 1 mm to 1.5 mm.
  • the depth of the groove is half of the thickness of the mask.
  • the mask further includes an alignment portion corresponding to each of the grooves.
  • the alignment portion includes a registration hole disposed at a position of each of the four corners of each of the grooves.
  • the spacing between two adjacent grooves is 1 mm to 2 mm.
  • the present disclosure provides a reticle assembly for use in vapor deposition.
  • the reticle assembly includes a first reticle and a second reticle stacked on the first reticle, wherein the first reticle is a reticle as described above, the first reticle The surface provided with a plurality of grooves faces the second mask.
  • the reticle assembly further includes a frame, wherein the first reticle is soldered on the frame, and the second reticle is soldered to the first reticle.
  • a mask manufacturing method for manufacturing a mask as described above comprising: forming a plurality of grooves arranged in a matrix on one surface of the mask; And an opening portion is formed in a middle portion of each of the grooves, the opening portion corresponding to a display area on the display substrate.
  • a plurality of grooves arranged in a matrix are formed on one surface of the mask Including: forming a plurality of the grooves by a half etching process.
  • a method of fabricating a reticle assembly for fabricating a reticle assembly as described above comprising: simultaneously stretching four sides of the first reticle with a netting machine The web is stretched and welded on four sides of the frame; after the web is completed, the second mask is stretched to the first mask, so that the second mask is pasted The surface of the first mask plate provided with a plurality of grooves is attached and stacked on the first mask.
  • the amount of sag of the first mask is controlled to be less than 150. Micron.
  • FIG. 1 is a schematic view showing a display area on a display substrate in an embodiment of the present disclosure
  • FIG. 2 is a schematic structural view of a mask provided by an embodiment of the present disclosure
  • 3A is a schematic structural view showing a groove of a mask provided by an embodiment of the present disclosure.
  • Figure 3B is a cross-sectional view taken along line A-A' in Figure 3A;
  • FIG. 4A is a schematic view showing a frame of a mask plate assembly in an embodiment of the present disclosure
  • FIG. 4B is a schematic structural view of a mask of a reticle assembly provided by an embodiment of the present disclosure after completion of a web;
  • FIG. 5 is a flow chart of a method for making a reticle of an embodiment of the present disclosure
  • FIG. 6 is a flow chart of a method for making a reticle assembly in accordance with an embodiment of the present disclosure.
  • a fine metal mask FMM is used in vapor deposition of a display substrate.
  • the fine metal mask FMM has a pattern portion having the same shape as that of the display region of the display substrate. An opening corresponding to the display region is provided in the pattern portion.
  • the display area of the display substrate is a special shape such as a circle
  • the shape of the pattern portion is a special shape such as a circle, stress unevenness and wrinkles are likely to occur. , which leads to poor color mixing.
  • the present disclosure provides a mask for solving problems such as strain unevenness, wrinkles, and the like which occur in the process of laying a fine metal mask FMM when used for a display substrate having a display region of a special shape such as a circular shape.
  • the design of the fine metal mask FMM is not affected by the shape and size of the display area of the display substrate.
  • each display area 101 has a circular shape.
  • the shape of the display area 101 may also be other shapes, such as an elliptical shape.
  • the mask provided in the embodiment of the present disclosure is used when vapor deposition of the display substrate 1.
  • the mask 2 includes a plurality of grooves 201 arranged in a matrix on one surface of the mask 2, and an opening 202 is provided in the middle of each of the grooves 201.
  • Each of the opening portions 202 corresponds to one of the display regions 101 of the display substrate 1.
  • two masks may be disposed, one of which is a fine metal mask FMM on which a pixel opening pattern is provided for vapor deposition of organic materials;
  • the mask 2 provided by the embodiment of the present disclosure as an auxiliary mask, is stacked under the fine metal mask FMM.
  • the surface of the reticle 2 of the present disclosure having the groove 201 faces the fine metal reticle FMM, mainly functions to block the organic material and support the fine metal reticle FMM, and is used to define the shape of the display region 101.
  • the groove 201 provided on the auxiliary mask 2 is a thinned region having a thickness smaller than the thickness of the mask 2.
  • a plurality of openings 202 corresponding to the display regions 101 each having a special shape such as a circular shape on the display substrate 1 are provided, and the shape of the openings 202 may be circular. Since the groove 201 has a regular shape (e.g., a rectangular shape), the opening portion 202 of a special shape such as a circular shape does not cause stress unevenness and wrinkles when the fine metal mask FMM is stretched; and the mask The plate 2 is a net in a form of a whole sheet.
  • the remaining area can completely block the organic material, and functions to define the shape of each display area 101, so that fine
  • the design of the metal mask FMM may be unaffected by the shape and size of each display region 101 of the display substrate 1.
  • the thinned region having the recess 201 can reduce the weight of the auxiliary mask 2 to reduce the phenomenon of gravity droop, so that the amount of sag of the mask 2 can be more easily controlled within 150 ⁇ m, and the tension of the net can be reduced and reduced.
  • the amount of deformation of the opening 202 can reduce the weight of the auxiliary mask 2 to reduce the phenomenon of gravity droop, so that the amount of sag of the mask 2 can be more easily controlled within 150 ⁇ m, and the tension of the net can be reduced and reduced.
  • the mask 2 provided by the present disclosure is used as an evaporation mask in an evaporation process, and can also be used as a photolithography mask in other processes such as a photolithography process.
  • the mask 2 provided by the present disclosure can be used together with the fine metal mask FMM.
  • a special shape pattern such as a circle is required to be evaporated on the display substrate 1 Use alone.
  • the recess 201 may be formed by a half etching process.
  • the opening shape of the groove 201 is a rectangle. Further, the opening shape of the groove 201 may be a square. If the opening shape of the groove 201 is a rectangle, especially a square shape, it is more advantageous for the force to be uniform when the net is stretched, and deformation and wrinkles are less likely to occur. It is of course understood that the shape of the opening of the groove may not be limited thereto.
  • the opening shape of the opening portion 202 is circular.
  • the present disclosure is not limited thereto, and the opening shape of the opening portion 202 may be other shapes such as an elliptical shape.
  • the mask sheet 2 provided by the present disclosure can be used for vapor-depositing the display substrate 1 having a circular or elliptical shape in the display region 101.
  • the diameter of each display area 101 on the display substrate 1 is D1
  • the mask 2 provided in the embodiment of the present disclosure is provided.
  • the diameter D2 of the opening portion 202 should be slightly larger than the diameter D1 of each display region 101 on the display substrate 1.
  • the value of D2 may be larger than the value of D1 by 100 to 300 ⁇ m to ensure that the opening portion 202 has a sufficient range so that each display region 101 on the display substrate 1 can completely evaporate the organic material.
  • the diameter D2 of the opening portion 202 on the mask 2 can be finally determined according to the actual situation and the precision of the mask 2 fabrication.
  • Fig. 3A is a view showing the structure of a groove of a mask provided by an embodiment of the present disclosure
  • Fig. 3B is a cross-sectional view taken along line A-A' of Fig. 3A.
  • the convex portion 31 is formed one round around the outer peripheral edge of the opening portion 202.
  • the edge portion of the opening portion 202 is thick, and it is possible to further ensure that the mask 2 does not wrinkle when the web is stretched.
  • the convex portion 31 is provided, when the mask 2 is bonded to the fine metal mask FMM to vapor-deposit the display substrate 1, the four sides of the mask 2 are simultaneously stretched by a netting machine. , welded on the four sides of the frame. After the web of the mask 2 is completed, the fine metal mask FMM is subjected to net welding on the mask 2 which is completed by the net, so that the fine metal mask FMM is attached to the surface of the mask 2 on which the groove 201 is formed. And stacked on the mask 2.
  • the convex portion 31 around the opening portion 202 of the mask 2 is closely adhered to the fine metal mask FMM, so that the contaminant particles can be prevented from entering the interlayer between the fine metal mask FMM and the mask 2, and There is a space between the half-etched groove 201 around the opening portion 202 and the fine metal mask FMM, so that the contaminant particles can fall in the area of the half-etched groove 201 without contaminating the fine metal mask FMM. Surface, thereby reducing the contamination of the contaminant particles.
  • the boss portion 31 has a width of 1 mm to 1.5 mm.
  • the boss 31 may be made of metal.
  • the circular opening portion 202 is taken as an example, and a region other than the diameter D3 around the opening portion 202 of the mask 2 (that is, a region other than the convex portion 31) is subjected to a half etching process.
  • D3 is 2 mm to 3 mm larger than D2.
  • the spacing between adjacent two grooves 201 is from 1 mm to 2 mm.
  • the depth of the groove 201 is half the thickness of the reticle 2.
  • the spacing between the grooves 201 and the specific depth of the grooves 201 are not limited, and may be adjusted according to actual needs.
  • the reticle 2 further includes a aligning portion 30 corresponding to each of the grooves 201.
  • the alignment portion 30 includes a registration hole 301 provided at each of the four corners of each of the grooves 201.
  • Each of the four corners of the rectangular recess 201 of the opening portion 202 of the mask 2 is provided with an alignment hole 301, so that the mask 2 and the mother glass and the FMM are formed when the web is stretched.
  • the alignment is performed to ensure the alignment accuracy of each display area 101 on the display substrate 1. It should be understood that, in practical applications, the manner of setting the alignment portion 30 is not limited to the alignment hole, and may be other setting manners.
  • an embodiment of the present disclosure also provides a method 1000 for fabricating the reticle 2 described above.
  • the method 1000 includes steps S1 through S2.
  • Step S1 A plurality of grooves 201 arranged in a matrix are formed on one surface of the mask 2.
  • Step S2 an opening portion 202 is formed in the middle of each of the grooves 201, and the opening portion 202 corresponds to a display area on the display substrate.
  • step S1 further comprises forming a plurality of grooves 201 by a half etching process.
  • FIG. 4A is a schematic view of the frame 40 of the reticle assembly 5 in the embodiment of the present disclosure
  • FIG. 4B is a structural schematic view of the reticle of the reticle assembly 5 in the embodiment of the present disclosure after the completion of the lap.
  • the mask assembly 5 provided by the embodiment of the present disclosure includes a frame 40, a first mask 41 soldered on the frame 40, and a second mask soldered to the first mask 41 ( Not shown), wherein the first mask 41 is a mask provided in the embodiment of the present disclosure, and the second mask is a fine metal mask FMM, and the second mask is stacked on the first mask 41, wherein The surface of the first mask 41 on which the groove is formed faces the second mask.
  • the fine metal mask FMM is directly soldered on the frame 40 when the web is stretched, and the fine metal mask FMM in the mask assembly 5 provided by the present disclosure can be directly soldered on the first mask 41. It is not welded directly to the frame 40.
  • the first reticle is a reticle provided by the disclosed embodiment, and is stacked as an auxiliary reticle Below the fine metal mask FMM, the surface on which the groove is formed faces the fine metal mask FMM, and is mainly used to define the shape of the display region 101 on which a rectangular thinned region having a groove is provided.
  • a plurality of openings 202 corresponding to respective display regions having a special shape such as a circle on the display substrate are provided in the rectangular thinned region having the recesses to define the shape of each display region.
  • the opening portion 202 having a special shape such as a circular shape does not cause uneven stress when the fine metal mask FMM is stretched. And the phenomenon of wrinkles, so that the design of the fine metal mask FMM is not affected by the shape and size of the display area of the display substrate.
  • the thinned region having the recess 201 can reduce the weight of the auxiliary mask to reduce the phenomenon of gravity droop, so that the amount of sag of the first mask can be more easily controlled within 150 micrometers, and the tension of the net can be reduced and reduced. The amount of deformation of the opening 202.
  • an embodiment of the present disclosure also provides a method 2000 for fabricating the reticle assembly 5.
  • the method 2000 includes steps S10 through S20.
  • Step S10 The four sides of the first mask 41 are simultaneously stretched by a netting machine and welded on four sides of the frame 40, wherein the amount of sag of the first mask 41 is controlled to be less than 150 micrometers.
  • Step S20 After the web of the first mask 41 is completed, the second mask is stretched on the first mask 41 so that the second mask is attached to the grooved surface of the first mask 41. And stacked on the first mask 41.
  • the beneficial effects brought by the present disclosure are as follows: when the display substrate is evaporated, two masks may be disposed, one of which is a fine metal mask FMM, and the other mask is a mask provided by the present disclosure. .
  • the reticle provided by the present disclosure is mainly used as an auxiliary reticle for defining a shape of a display region on which a groove thinning region is provided, and a special shape such as a circular shape of the display substrate is provided in the recessed region of the recess.
  • the opening portion corresponding to the display area defines the shape of the display area. Since the groove has a regular shape (such as a rectangular shape), the opening of the special shape such as a circle may not be made when the fine metal mask FMM is stretched.
  • the phenomenon of uneven stress and wrinkles may occur; and the mask is stretched in a whole form, and the remaining areas can completely block the organic material except for the position corresponding to the pixel display area, thereby defining the shape of the display area.
  • the effect is that the design of the fine metal mask FMM can be unaffected by the shape and size of the display area of the display substrate; in addition, the recessed area of the recess can reduce the weight of the auxiliary mask to reduce the phenomenon of gravity drooping.

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Abstract

一种掩模板（2）、掩模板组件、掩模板及掩模板组件的制造方法。掩模板在对显示基板进行蒸镀时使用，并且包括该掩模板的表面上设置有呈矩阵排列的多个凹槽（201），在每个凹槽的中部设置有开口部（202），开口部对应于显示基板上的显示区域。

Description

掩模板、包含该掩模板的掩模板组件及其制造方法
相关申请的交叉引用
本申请主张在2016年8月3日在中国提交的中国专利申请号No.201610627080.2的优先权，其全部内容通过引用包含于此。
技术领域
本公开涉及显示技术领域，尤其是涉及掩模板、包含该掩模板的掩模板组件、该掩模板的制造方法及该掩模板组件的制造方法。
背景技术
在有机发光二极管(Organic Light Emission Diode(OLED))制造技术中，在真空蒸镀时使用的掩模板是至关重要的部件。该掩模板的质量直接影响着生产制造成本和产品质量。在OLED蒸镀过程使用的掩模板中，精细金属掩模板(Fine Metal Mask(FMM))是关键装备之一。FMM用于蒸镀发光层材料，以及在背板上形成像素图形。因此，FMM质量的好坏直接关系到屏幕的显示效果。
随着有源矩阵有机发光二极管(Active-matrix organic light emitting diode(AMOLED))显示屏的快速发展，AMOLED已经应用到人们生活中的各个领域，尤其最近在智能可穿戴领域的需求量迅速增多，并且显示屏形状已不仅仅局限于传统的方形，而是扩展到具有设计感的形状，如圆形等。这种例如圆形的AMOLED产品对于蒸镀时使用的掩模板的要求比较高，因为如果圆形的FMM在张网受力时的应变不均匀，那么易发生变形及褶皱现象，从而导致混色不良。
发明内容
本公开的目的在于提供一种掩模板、包含该掩模板的掩模板组件、掩模板制造方法及掩模板组件的制造方法，可以解决圆形等特殊形状的显示屏在FMM张网过程中的应变不均、褶皱等问题，使得FMM的设计不受显示屏 形状和尺寸的影响。
本公开所提供的技术方案如下。
在第一方面中，本公开提供一种掩模板，该掩模板在对显示基板进行蒸镀时使用。所述掩模板包括在所述掩模板的一个表面上设置的呈矩阵排列的多个凹槽，其中，在每个所述凹槽的中部设置有开口部，所述开口部对应于所述显示基板上的显示区域。
进一步的，所述凹槽的开口形状为矩形。
进一步的，所述凹槽的开口形状为正方形。
进一步的，所述开口部的开口形状为椭圆形。
进一步的，所述开口部的开口形状为圆形，并且所述开口部的直径比所述显示基板上对应的显示区域的直径大100至300微米。
进一步的，围绕所述开口部的外周边缘一圈形成凸起部。
进一步的，所述凸起部的宽度为1毫米至1.5毫米。
进一步的，所述凹槽的深度为所述掩模板的厚度的一半。
进一步的，所述掩模板还包括对应于每个所述凹槽的对位部。
进一步的，所述对位部包括在每个所述凹槽的四个角中的每个角的位置设置的对位孔。
进一步的，相邻两个所述凹槽之间的间距为1毫米至2毫米。
在第二方面中，本公开提供一种掩模板组件，该掩模板组件在蒸镀时使用。该掩模板组件包括第一掩模板和叠放于所述第一掩模板之上的第二掩模板，其中，所述第一掩模板为如上所述的掩模板，，所述第一掩模板的设置有多个凹槽的所述表面面向所述第二掩模板设置。
进一步的，所述掩模板组件还包括框架，其中所述第一掩模板焊接在所述框架上，所述第二掩模板焊接于所述第一掩模板上。
在第三方面中，一种掩模板制造方法，所述方法用于制造如上所述的掩模板，所述方法包括：在所述掩模板的一个表面上形成呈矩阵排列的多个凹槽；以及在每个所述凹槽中部形成有开口部，所述开口部对应于所述显示基板上的显示区域。
进一步的，在所述掩模板的一个表面上形成呈矩阵排列的多个凹槽，包 括：采用半刻蚀工艺形成多个所述凹槽。
在第四方面中，一种掩模板组件的制造方法，所述方法用于制造如上所述的掩模板组件，所述方法包括：用张网机将所述第一掩模板的四边同时进行张网拉伸并且焊接在框架的四边上；在张网完成所述第一掩模板以后，将所述第二掩模板张网焊接到所述第一掩模板上，使得所述第二掩模板贴附所述第一掩模板的设置有多个凹槽的所述表面并叠放于所述第一掩模板上。
进一步的，在所述方法中，当用张网机将所述第一掩模板的四边同时进行张网拉伸并且焊接在框架的四边上时，控制所述第一掩模板的下垂量小于150微米。
附图说明
为了更清楚地说明本公开的实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1表示本公开实施例中的显示基板上的显示区域的示意图；
图2表示本公开实施例提供的掩模板的结构示意图；
图3A表示本公开实施例提供的掩模板的一个凹槽的结构示意图；
图3B表示沿图3A中的线A-A’截取的剖面图；
图4A表示本公开实施例中的掩模板组件的框架的示意图；
图4B表示本公开实施例提供的掩模板组件的掩模板在张网完成之后的结构示意图；
图5是本公开实施例的用于制作掩模板的方法的流程图；以及
图6是本公开实施例的用于制作掩模板组件的方法的流程图。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例只是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的 实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围内。
相关技术中，在蒸镀显示基板时采用一张精细金属掩模板FMM。在该精细金属掩模板FMM上具有与该显示基板的显示区域的形状相同的图案部。在该图案部上设置有与显示区域对应的开口部。对于显示基板的各显示区域为圆形等特殊形状的情况，在对精细金属掩模板FMM进行张网时，由于图案部的形状为圆形等特殊形状，所以易发生应力不均匀以及褶皱等现象，进而导致混色不良。针对该问题，本公开提供了一种掩模板，以解决当用于具有圆形等特殊形状的显示区域的显示基板时在精细金属掩模板FMM张网过程中发生的应变不均、褶皱等问题，使得精细金属掩模板FMM的设计不受显示基板的显示区域的形状和尺寸影响。
图1为本公开实施例中的显示基板上的显示区域的示意图。图1中，每个显示区域101的形状为圆形。但是应该理解，在实际中，显示区域101的形状还可以是其它形状，如椭圆形。
本公开实施例中提供的掩模板在对显示基板1进行蒸镀时使用。如图2、图3A、图3B所示，该掩模板2包括在掩模板2的一个表面上设置的呈矩阵排列的多个凹槽201，在每个凹槽201的中部设置有开口部202，每个开口部202对应于显示基板1的显示区域101之一。
本公开中，在对显示基板1进行蒸镀时，可以设置两张掩模板，其中一张为精细金属掩模板FMM，其上设有像素开口图案，用于蒸镀有机材料；另一张为本公开实施例提供的掩模板2，作为辅助掩模板，叠放在精细金属掩模板FMM下方。本公开实施例提供的掩模板2的具有凹槽201的表面面向精细金属掩模板FMM设置，主要起到阻挡有机材料和支撑精细金属掩模板FMM的作用，并且用于限定显示区域101的形状。在该辅助的掩模板2上设置的凹槽201是减薄区，该减薄区的厚度小于掩模板2的厚度。在具有凹槽201的减薄区内又设置有与显示基板1上每个具有圆形等特殊形状的显示区域101对应的多个开口部202，开口部202的形状可以是圆形。由于凹槽201为规则的形状(如矩形形状)，所以在进行精细金属掩模板FMM张网时，圆形等特殊形状的开口部202不会产生应力不均匀和褶皱的现象；并且该掩模 板2是以整张的形式进行张网，除了在每个显示区域101所对应的位置设置开口部以外，其余区域能够完全遮挡有机材料，起限定每个显示区域101的形状的作用，使得精细金属掩模板FMM的设计可以不受显示基板1的每个显示区域101的形状和尺寸的影响。此外，具有凹槽201的减薄区可以减轻辅助掩模板2的重量，以减少重力下垂的现象，使得掩模板2的下垂量更容易控制在150微米以内，并且能够减小张网拉力，减轻开口部202的变形量。
需要说明的是，本公开所提供的掩模板2在蒸镀工艺中作为蒸镀掩模板使用，还可以在其他工艺(例如光刻工艺)中作为光刻掩膜使用。
还需要说明的是，本公开所提供的掩模板2可以与精细金属掩模板FMM一起配合使用，在实际应用中，还可以在需要在显示基板1上蒸镀形成圆形等特殊形状的图案时单独使用。
此外，还需要说明的是，凹槽201可以采用半刻蚀工艺形成。
在本公开提供的实施例中，如图2、图3A和图3B所示，凹槽201的开口形状为矩形。进一步地，凹槽201的开口形状可以为正方形。如果凹槽201的开口形状是矩形，尤其是正方形，则更有利于张网时受力均匀，不易发生变形及褶皱现象。当然可以理解的是，凹槽的开口形状可以不局限于此。
在本公开提供的实施例中，如图2、图3A和图3B所示，开口部202的开口形状为圆形。然而，本公开不局限于此，开口部202的开口形状还可以是椭圆形等其他形状。采用该开口形状的开口部202，本公开所提供的掩模板2可以用于蒸镀显示区域101的形状为圆形或椭圆形的显示基板1。
此外，如图1和图3A、图3B所示，在显示区域101为圆形的情况中，显示基板1上各显示区域101的直径为D1，则本公开实施例所提供的掩模板2上的开口部202的直径D2应稍大于显示基板1上各显示区域101的直径D1。可选地，D2的值可以比D1的值大100～300微米，以保证开口部202具有足够的范围，使得显示基板1上的各显示区域101完全可以蒸镀上有机材料。当然需要理解的是，在实际应用中，可以根据实际情况和掩模板2制作的精度最终确定掩模板2上的开口部202的直径D2。
图3A表示本公开实施例提供的掩模板的一个凹槽的结构示意图，图3B表示沿图3A中的线A-A’截取的剖面图。在本公开所提供的实施例中，如图 3A、3B所示，围绕开口部202的外周边缘一圈形成凸起部31。通过在开口部202的外周边缘一圈设置凸起部31，开口部202的边缘厚度较厚，可以进一步保证该掩模板2在张网时，不会发生褶皱。此外，由于设置凸起部31，所以在将该掩模板2与精细金属掩模板FMM配合来对显示基板1进行蒸镀时，用张网机将该掩模板2的四边同时进行张网拉伸，焊接在框架的四边上。在掩模板2张网完成后，将精细金属掩模板FMM在张网完成的掩模板2上进行张网焊接，使得精细金属掩模板FMM贴附该掩模板2的形成有凹槽201的表面，并叠放于该掩模板2上。该掩模板2上的开口部202周边的凸起部31会与精细金属掩模板FMM紧密贴合，如此可以阻止污染物颗粒进入精细金属掩模板FMM与该掩模板2之间的夹层中，且开口部202周边的半刻蚀的凹槽201与精细金属掩模板FMM之间存在一定空间，使得污染物颗粒可以落在半刻蚀的凹槽201区域内，而不会污染精细金属掩模板FMM表面，从而减小污染物颗粒不良。
可选地，凸起部31的宽度为1毫米至1.5毫米。可选地，凸起部31可以由金属制成。
上述方案以圆形的开口部202为例，对掩模板2的开口部202周边的直径为D3以外的区域(即，凸起部31之外的区域)进行半刻蚀处理。可选地，D3比D2大2毫米至3毫米。
可选地，在本公开提供的实施例中，相邻两个凹槽201之间的间距为1毫米至2毫米。可选地，凹槽201的深度为掩模板2的厚度的一半。采用上述方案可以保证掩模板2在张网时应力更为均匀，且重量减轻，又不会导致凹槽201过薄而产生其他不良现象。
当然可以理解的是，在实际应用中，对于凹槽201之间的间距以及凹槽201的具体深度并不进行限制，可根据实际需求来进行调整。
此外，在本公开提供的实施例中，可选地，如图3所示，掩模板2还包括对应于每一凹槽201的对位部30。该对位部30包括在每一凹槽201的四个角中的每个角分别设置的一个对位孔301。
在掩模板2的开口部202的矩形凹槽201的四个角中的每个角分别设置一个对位孔301，从而在张网时掩模板2与基准玻璃(Mother glass)及FMM 对位，以保证显示基板1上的每个显示区域101的对位精度。应当理解的是，在实际应用中，对位部30的设置方式并不局限于对位孔，还可以是其它设置方式。
对应于掩模板2，本公开实施例还提供了一种用于制作上述掩模板2的方法1000。参见图5，该方法1000包括步骤S1至步骤S2。
步骤S1：在掩模板2的一个表面上形成呈矩阵排列的多个凹槽201。
步骤S2：每个凹槽201中部形成开口部202，开口部202对应于显示基板上的显示区域。
其中，步骤S1进一步包括采用半刻蚀工艺形成多个凹槽201。
此外，本公开的实施例中还提供了一种掩模板组件5，该掩模板组件5在蒸镀时使用。图4A是本公开实施例中的掩模板组件5的框架40的示意图，图4B是本公开实施例中的掩模板组件5的掩模板在张网完成之后的结构示意图。
如图4A和图4B所示，本公开实施例提供的掩模板组件5包括框架40，焊接在框架40上的第一掩模板41，以及焊接于第一掩模板41上的第二掩模板(未示出)，其中第一掩模板41采用本公开实施例中提供的掩模板，并且第二掩模板是精细金属掩模板FMM，第二掩模板叠放于第一掩模板41之上，其中第一掩模板41的形成有凹槽的表面面向第二掩模板设置。
在相关技术中，精细金属掩模板FMM在张网时，直接焊接在框架40上，而本公开所提供的掩模板组件5中的精细金属掩模板FMM可以直接焊接在第一掩模板41上，而不与框架40直接焊接。
当利用本公开提供的掩模板组件5对显示基板进行蒸镀时，通过设置两张掩模板，其中第一掩模板为本公开实施例所提供的掩模板，并且作为辅助掩模板，叠放在精细金属掩模板FMM下方，其形成有凹槽的表面面向精细金属掩模板FMM设置，主要用于限定显示区域101的形状，在该辅助掩模板上设置矩形的具有凹槽的减薄区，在矩形的具有凹槽的减薄区内又设置有与显示基板上具有圆形等特殊形状的各显示区域所对应的多个开口部202，来限定各显示区域的形状。由于凹槽为规则的矩形形状，所以在进行精细金属掩模板FMM张网时，具有圆形等特殊形状的开口部202不会产生应力不均 和褶皱的现象，使得精细金属掩模板FMM的设计不受显示基板的显示区域形状和尺寸的影响。此外，具有凹槽201的减薄区可以减轻辅助掩模板的重量，以减少重力下垂的现象，使得第一掩模板的下垂量更容易控制在150微米以内，并且能够减小张网拉力，减轻开口部202的变形量。
此外，对应于掩模板组件5，本公开实施例还提供了一种用于制作掩模板组件5的方法2000。参考图6，所述方法2000包括步骤S10至步骤S20。
步骤S10：用张网机将第一掩模板41的四边同时进行张网拉伸，焊接在框架40的四边上，其中，控制第一掩模板41的下垂量小于150微米。
步骤S20：在第一掩模板41张网完成以后，将第二掩模板张网焊接在第一掩模板41上，使得第二掩模板贴附第一掩模板41的形成有凹槽的表面，并叠放于第一掩模板41上。
本公开所带来的有益效果如下：在对显示基板进行蒸镀时，可以设置两张掩模板，其中一张掩模板为精细金属掩模板FMM，另一张掩模板为本公开提供的掩模板。本公开提供的掩模板作为辅助掩模板，主要用于限定显示区域的形状，在该掩模板上设置凹槽减薄区，在凹槽减薄区内设置有与显示基板的圆形等特殊形状的显示区域对应的开口部，来限定显示区域的形状，由于凹槽为规则的形状(如矩形形状)，可以使得在进行精细金属掩模板FMM张网时，圆形等特殊形状的开口部不会产生应力不均和褶皱的现象；并且，该掩模板是以整张的形式进行张网，除了像素显示区域所对应的位置设置开口外，其余区域能够完全遮挡有机材料，起限定显示区域形状的作用，使得精细金属掩模板FMM的设计可以不受显示基板的显示区域形状和尺寸的影响；此外，凹槽减薄区可以减轻辅助掩模板的重量，以减少重力下垂的现象。
以上仅是本公开的可选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本公开技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为在本公开的保护范围内。

Claims (17)

  1. 一种掩模板，包括：
    在所述掩模板的一个表面上设置的呈矩阵排列的多个凹槽，
    其中，在每个所述凹槽的中部设置有开口部，所述开口部对应于显示基板上的显示区域。
  2. 根据权利要求1所述的掩模板，其中，所述凹槽的开口形状为矩形。
  3. 根据权利要求2所述的掩模板，其中，所述凹槽的开口形状为正方形。
  4. 根据权利要求1至3中任一项所述的掩模板，其中，所述开口部的开口形状为椭圆形。
  5. 根据权利要求1至3中任一项所述的掩模板，其中所述开口部的开口形状为圆形，并且所述开口部的直径比所述显示基板上对应的显示区域的直径大100至300微米。
  6. 根据权利要求1至5中任一项所述的掩模板，其中，围绕所述开口部的外周边缘一圈形成凸起部。
  7. 根据权利要求6所述的掩模板，其中，所述凸起部的宽度为1毫米至1.5毫米。
  8. 根据权利要求1至7中任一项所述的掩模板，其中，所述凹槽的深度为所述掩模板的厚度的一半。
  9. 根据权利要求1至8中任一项所述的掩模板，其中，所述掩模板还包括对应于每个所述凹槽的对位部。
  10. 根据权利要求9所述的掩模板，其中，所述对位部包括在每个所述凹槽的四个角中的每个角的位置设置的对位孔。
  11. 根据权利要求1至10中任一项所述的掩模板，其中，相邻两个所述凹槽之间的间距为1毫米至2毫米。
  12. 一种掩模板组件，包括：
    第一掩模板，所述第一掩模板为如权利要求1至11中任一项所述的掩模板；
    叠放于所述第一掩模板之上的第二掩模板，其中所述第一掩模板的设置 有多个凹槽的所述表面面向所述第二掩模板设置。
  13. 根据权利要求12所述的掩模板组件，还包括框架，其中所述第一掩模板焊接在所述框架上，所述第二掩模板焊接于所述第一掩模板上。
  14. 一种掩模板制造方法，所述方法用于制造根据权利要求1至11中任一项所述的掩模板，所述方法包括：
    在所述掩模板的一个表面上形成呈矩阵排列的多个凹槽；以及
    在每个所述凹槽中部形成开口部，所述开口部对应于所述显示基板上的显示区域。
  15. 根据权利要求14所述的掩模板制造方法，其中，在所述掩模板的表面上形成呈矩阵排列的多个凹槽，包括：采用半刻蚀工艺形成多个所述凹槽。
  16. 一种掩模板组件制造方法，所述方法用于制造如权利要求12或13所述的掩模板组件，所述方法包括：
    用张网机将所述第一掩模板的四边同时进行张网拉伸并且焊接在所述框架的四边上；
    在张网完成所述第一掩模板以后，将所述第二掩模板张网焊接到所述第一掩模板上，使得所述第二掩模板贴附所述第一掩模板的设置有多个凹槽的所述表面并叠放于所述第一掩模板上。
  17. 根据权利要求16所述的制造方法，其中，
    当用张网机将所述第一掩模板的四边同时进行张网拉伸并且焊接在所述框架的四边上时，控制所述第一掩模板的下垂量小于150微米。
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