JP2019533761A - 基板をマスクするためのマスク装置、基板を処理するための装置、およびその方法 - Google Patents

Abstract

処理チャンバ内での堆積中に基板をマスクするためのマスク装置（１００）が、説明される。マスク装置（１００）は、マスク（１１５）を保持するためのマスクフレーム（１１０）と、マスクフレーム（１１０）を保持するためのマスクキャリア（１２０）とを含み、マスクフレーム（１１０）は、コンプライアント支持体（１３０）によってマスクキャリア（１２０）に接続される。【選択図】図１Ａ

Description

［０００１］本開示は、基板、詳細には、薄い平坦な基板の処理に関する。詳細には、本明細書に記載の実施形態は、堆積中に基板をマスクするためのマスク装置、マスクを通って基板上に材料を堆積させるための堆積装置、およびマスクを保持する方法に関する。より詳細には、本開示の実施形態は、光電子デバイス、例えば有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の製造に用いられるマスク装置、堆積装置および方法に関する。

［０００２］基板上に材料を堆積させるためのいくつかの方法が知られている。一例として、基板は、物理的気相堆積（ＰＶＤ）プロセス、化学気相堆積（ＣＶＤ）プロセスなどの蒸発プロセス、スパッタリングプロセス、噴霧プロセス等を用いて、コーティングされてもよい。このプロセスは、コーティングされるべき基板が配置されている堆積装置の処理チャンバ内で行うことができる。堆積材料が、処理チャンバ内に提供される。小分子、金属、酸化物、窒化物および炭化物などの複数の材料を、基板上に堆積させるために使用することができる。さらに、エッチング、ストラクチャリング、アニーリングなどのような他のプロセスを、処理チャンバ内で行うことができる。

［０００３］コーティングされた基板は、いくつかの用途およびいくつかの技術分野で使用され得る。例えば、１つの用途は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）パネルの分野にある。さらなる用途には、絶縁パネル、半導体デバイスなどのマイクロエレクトロニクス、ＴＦＴを有する基板、カラーフィルタなどが含まれる。

［０００４］ＯＬＥＤは、電気の印加によって光を生成する（有機）分子の薄膜からなる固体デバイスである。ＯＬＥＤは、電子デバイス上に明るいディスプレイを提供し、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）または液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）よりも、消費電力を低減することができる。処理チャンバ内で、有機分子が生成され（例えば、蒸発、スパッタリングまたは噴霧等され）、基板上に薄膜として凝結される。粒子が、特定のパターンを有するマスクを通過して、基板上にＯＬＥＤパターンを形成する。

［０００５］堆積装置のフットプリントを低減するために、マスクされた基板を垂直配向で処理することを可能にする堆積装置がある。換言すれば、基板およびマスク装置が、処理チャンバ内で垂直に配置される。マスク装置が垂直に配向されている場合、重力が、マスク装置の変形または曲がりをもたらし、処理された基板、詳細には、堆積された膜または層の品質を低下させる。さらに、マスク装置の組立中、マスクのアライメント中、および材料堆積中に、高品質ＯＬＥＤを製造するためにマスクの変形を避けることが重要である。

［０００６］従って、改良されたマスク装置、改良されたマスキング技術、およびＯＬＥＤなどの光電子デバイスの製造のための改良された装置が、引き続き必要とされている。

［０００７］上記に照らして、基板をマスクするためのマスク装置、基板を処理するための装置、およびマスクキャリア内にマスクフレームの支持体を設ける方法が、提供される。本開示の更なる態様、利点および特徴が、特許請求の範囲、明細書および添付の図面から明らかである。

［０００８］本開示の一態様によれば、処理チャンバ内での堆積中に基板をマスクするためのマスク装置が、提供される。マスク装置は、マスクを保持するためのマスクフレームを含む。さらに、マスク装置は、マスクフレームを保持するためのマスクキャリアを含み、マスクフレームは、コンプライアント支持体によってマスクキャリアに接続される。

［０００９］本開示の別の態様によれば、処理チャンバ内での堆積中に基板をマスクするためのマスク装置が提供され、マスク装置は、マスクを保持するためのマスクフレームと、マスクフレームを保持するためのマスクキャリアとを含む。マスクフレームは、第１の機械的構造および第２の機械的構造を介してマスクキャリアに接続される。第１の機械的構造は、マスクフレームを第１の方向および第２の方向で支持するように構成されている。第２の機械的構造は、第１の方向の自由度を提供するように構成されている。

［００１０］本開示の別の態様によれば、処理チャンバ内での堆積中に基板をマスクするためのマスク装置が、提供される。マスク装置は、マスクを保持するためのマスクフレームと、マスクフレームを保持するためのマスクキャリアとを含む。マスクフレームは、第１の機械的構造および第２の機械的構造を介してマスクキャリアに接続される。第１の機械的構造は、マスクフレームを第１の方向および第２の方向で固定するための固定された支持体として構成されている。第２の機械的構造は、第１の方向の自由度を与え、第２の方向を固定するように構成されている。

［００１１］本開示のさらに別の態様によれば、基板を処理するための装置が、提供される。本装置は、その中での層堆積に適合された処理チャンバと、層を形成する材料を堆積させるための堆積源と、処理チャンバ内の、本明細書に記載された任意の実施形態によるマスク装置とを含む。

［００１２］本開示のさらなる態様によれば、マスクキャリアによるマスクフレームの支持体を提供する方法が、提供される。本方法は、第１の機械的構造および第２の機械的構造が、マスクキャリアまたはマスクフレームに一体化されるように、第１の機械的構造および第２の機械的構造を、詳細には放電加工によって、製造することを含み、第１の機械的構造が、第１の方向および第２の方向におけるマスクフレームのコンプライアント支持体を提供し、第２の機械的構造が、第１の方向の自由度を提供する。さらに、本方法は、マスクフレームを第１の機械的構造および第２の機械的構造を介してマスクキャリアに接続することを含む。

［００１３］実施形態は、開示された方法を実施するための装置にも向けられ、記載された各方法の態様を実行するための装置部分を含む。これらの方法の態様は、ハードウェアコンポーネント、適切なソフトウェアによってプログラムされたコンピュータ、これら２つの任意の組み合わせ、または他の任意の方法によって実行することができる。さらに、本開示による実施形態は、記載された装置を動作させるための方法も対象とする。記載された装置を動作させるための方法は、装置のあらゆる機能を実行するための方法の態様を含む。

［００１４］本開示の上記列挙した特徴が詳細に理解できるように、上記で簡潔に要約した本開示のより詳細な説明が、実施形態を参照してなされ得る。添付の図面は、本開示の実施形態に関するものであり、以下に説明される。

本明細書に記載の実施形態によるマスク装置の概略正面図を示す。 本明細書に記載の実施形態によるマスク装置の概略側面図を示す。 本明細書に記載のさらなる実施形態によるマスク装置の概略正面図を示す。 本明細書に記載のいくつかの実施形態によるマスク装置の概略正面図であり、コンプライアント支持体が、マスクキャリアに一体化されている。 本明細書に記載のいくつかの実施形態によるマスク装置の概略正面図であり、コンプライアント支持体が、マスクフレームに一体化されている。 本明細書に記載のさらなる実施形態によるマスク装置の概略正面図を示す。 本明細書に記載のさらなる実施形態によるマスク装置の概略正面図を示す。 本明細書に記載のいくつかの実施形態による、マスク装置のマスクフレームを支持するための第１の機械的構造の概略例を示す。 本明細書に記載のいくつかの実施形態による、マスク装置のマスクフレームを支持するための第１の機械的構造の概略代替例を示す。 本明細書に記載のいくつかの実施形態による、マスク装置のマスクフレームを支持するための第２の機械的構造の概略例を示す。 本明細書に記載の実施形態による、基板を処理するための装置の概略図を示す。 本明細書に記載の実施形態による、マスクキャリアによるマスクフレームの支持体を提供する方法を説明するためのフローチャートを示す。

［００１５］次に、本開示の様々な実施形態が詳細に参照され、その１つ以上の例が、図に示されている。図面についての以下の説明の中で、同じ参照番号は、同じ構成要素を指す。個々の実施形態に関する相違点のみが、記載されている。各例は、本開示の説明のために提供され、本開示の限定を意味するものではない。さらに、１つの実施形態の一部として図示または説明された特徴は、他の実施形態で使用されて、または他の実施形態と共に使用されて、さらに別の実施形態を生成することができる。説明は、そのような変更および変形を含むことが、意図されている。

［００１６］本開示の様々な実施形態が、より詳細に説明される前に、本明細書で使用されるいくつかの用語および表現に関するいくつかの態様が、説明される。

［００１７］本開示では、「基板をマスクするためのマスク装置」は、基板をマスクするための、特に本明細書で説明されるような基板をマスクするための、マスクを含む装置として理解することができる。詳細には、本明細書に記載されるような「マスク装置」は、マスクを所定の位置に保持するように構成されたマスクフレームを含む装置として理解することができる。典型的には、「マスク装置」は、マスクフレームを保持するように構成されたマスクキャリアを、さらに含む。「マスクキャリア」は、マスクフレームを受け入れるように構成された受入部を含むキャリアとして理解することができる。例えば、マスクキャリアの受入部は、マスクフレームを受け入れるように構成された開口部とすることができる。したがって、マスクキャリアは、マスクフレームがマスクキャリアによって保持または支持されるように、構成することができる。マスクキャリアは、マスクフレームの周りに少なくとも部分的に配置することができる。一例によれば、マスク装置は、マスクフレームを支持するように構成されたマスクキャリアを含み、マスクキャリアは、図１Ａに例示的に示すように、マスクフレームの外側輪郭を取り囲む。

［００１８］さらに、本明細書に記載されるようなマスク装置は、本明細書で説明されるような基板、特に本明細書で説明されるような大面積基板をマスクするように構成することができることが、理解されるべきである。したがって、マスクの寸法は、通常、マスクされるべきそれぞれの基板の寸法に実質的に対応する。したがって、マスクのために選択された寸法は、マスクを保持するマスクフレームのそれぞれの寸法ならびにマスクフレームを保持するマスクキャリアのそれぞれの寸法に影響を及ぼすことが、理解されるべきである。「マスクを保持するためのマスクフレーム」は、マスク、特に本明細書で説明するようなマスクを保持するように構成された機械的フレーム構造として理解することができる。

［００１９］本開示において、「マスク」は、少なくとも１つの開口部を有する薄いプレートとして理解することができる。典型的には、本明細書に記載のマスクは、０．２ｍｍ以下の厚さを有することができる。詳細には、本明細書に記載のマスクを使用して、処理されてはならない、例えばコーティングされてはならない、基板の領域を覆うことができる。例えば、本明細書に記載のマスクは、ＬｉＣＯ、Ａｌ_２Ｏ_２、ＹＳＺ、ＡｌＴｉＣ、ガラスＤ２６３Ｔ、ステンレス鋼、Ｔｉ、Ｍａｃｏｒ、および例えば約３０％または８０％のＮｉを含むＩｎｖａｒからなる群から選択される少なくとも１つの材料で作製されてもよい。例えば、マスクは、基板のコーティング中に１つ以上の縁部領域に材料が堆積されないように、基板の１つ以上の縁部領域をマスクするように構成された縁部除外シールドであってもよい。別の例として、マスクは、堆積源からの材料で基板上に堆積された複数のフィーチャをマスクするためのシャドーマスクであってもよい。例えば、マスクは、特にＯＬＥＤ製造用に構成された画素マスクであってもよい。

［００２０］本開示では、「コンプライアント支持体」は、コンプライアント支持体によって接続された２つの要素の機械的分離が提供され得るように構成された支持体として、理解することができる。言い換えれば、「コンプライアント支持体」は、コンプライアント支持体を介して互いに接続された２つの要素の機械的切り離しを提供する支持体として、理解することができる。詳細には、本開示では、コンプライアント支持体は、マスクフレームとマスクキャリアとの間に設けられたコンプライアント接続部であってもよい。例えば、マスクフレームとマスクキャリアとの間のコンプライアント接続部は、マスクフレームとマスクキャリアとの間のフローティング接続部として理解することができる。詳細には、本明細書に記載のコンプライアント支持体は、マスクキャリアに対する機械的または熱的応力が、コンプライアント支持体によって補償され、有利に、マスクフレームの変形、さらにはマスクの変形が、実質的に低減、または回避さえされるように、構成することができる。

［００２１］例えば、本明細書に記載の「コンプライアント支持体」は、応力または負荷がマスクキャリアに加えられたときに、マスクキャリアからマスクフレームへの応力または負荷の伝達が、実質的に低減され、または排除さえされる、すなわちコンプライアント支持体によって補償されるように、構成することができる。詳細には、コンプライアント支持体は、弾力性支持体または弾性支持体として理解することができる。したがって、コンプライアント支持体は、マスクキャリアとマスクフレームとの間に弾性または弾力性の接続部を提供する支持体として理解することができる。本明細書に記載のコンプライアント要素は、コンプライアンスを提供する、または弾性を提供する、または弾力性を提供するように構成された要素として、理解することができる。したがって、コンプライアント要素は、弾性要素または弾力性要素とすることができる。

［００２２］例えば、マスクキャリアに加えられる応力または負荷は、機械的応力もしくは負荷および／または熱的応力もしくは負荷とすることができる。詳細には、マスク装置の組立中、すなわちマスクフレームとマスクキャリアの組立中に、マスクキャリアに対する機械的応力が発生することがある。したがって、本明細書に記載のコンプライアント支持体は、例えばマスク装置の組立中における、マスクキャリアからマスクフレームへの機械的応力の伝達が、実質的に低減されるか、または排除さえされるように、構成することができる。したがって、有利には、組立中のマスクキャリアに対する機械的応力に起因するマスクの変形が、実質的に低減されるか、または回避さえされる。

［００２３］別の例によれば、マスクキャリアと基板のアライメント中に、マスクキャリアに対する機械的応力が発生することがある。例えば、マスクキャリアと基板のアライメント中に、マスクキャリアの正確かつ明確に定められたクランプが必要となることがあり、これは、マスクキャリアに対する機械的な応力を引き起こすことがある。したがって、本明細書に記載のコンプライアント支持体は、アライメント中におけるマスクキャリアからマスクフレームへの機械的応力の伝達が、実質的に低減されるか、または排除さえされるように、構成することができる。従って、有利には、アライメント中のマスクの変形が、実質的に低減されるか、または回避さえされる。

［００２４］さらなる例によれば、処理中に、例えば材料堆積プロセス中に、マスクキャリアに対する熱的応力または負荷が発生することがある。詳細には、処理中、マスクキャリアは、通常、高温に曝され、マスクキャリアの熱膨張を引き起こすことがある。したがって、本明細書に記載のコンプライアント支持体は、例えば処理中における、高温でのマスクキャリアからマスクフレームへの熱的応力の伝達が、実質的に低減され、または排除さえされる、すなわちコンプライアント支持体によって補償されるように、構成することができる。言い換えれば、本明細書に記載のコンプライアント支持体は、マスクキャリアの熱膨張がマスクフレームに実質的に伝達しないように、構成することができる。従って、有利には、処理中のマスクの変形が、実質的に低減されるか、または回避さえされる。

［００２５］図１Ａを例示的に参照し、処理チャンバ内での堆積中に基板をマスクするためのマスク装置１００が、説明される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、マスク装置１００は、マスク１１５を保持するためのマスクフレーム１１０を含む。さらに、マスク装置は、マスクフレーム１１０を保持するためのマスクキャリア１２０を含む。図１に概略的に示すように、マスクフレーム１１０は、コンプライアント支持体１３０によってマスクキャリア１２０に接続される。したがって、有益には、応力または負荷がマスクキャリアに加えられたときに、マスクキャリアからマスクフレームへの応力または負荷の伝達が実質的に低減されるか、または排除さえされるように構成されたマスク装置が、提供される。詳細には、本明細書で説明されるマスク装置の実施形態は、マスクキャリアからマスクフレームへの機械的応力もしくは負荷の伝達、および／またはマスクキャリアからマスクフレームへの熱的応力もしくは負荷の伝達が、実質的に低減される、または回避さえされるという利点を有する。したがって、従来のマスク装置と比較して、本明細書に記載のマスク装置の実施形態は、マスクフレームによって保持されたマスクの変形を低減または回避さえすることができるので改善されている。したがって、処理中、特に基板上の材料堆積中に、本明細書に記載された実施形態によるマスク装置を用いることによって、処理結果の品質を改善することができる。

［００２６］図１Ａに概略的に示すように、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、コンプライアント支持体１３０は、マスクフレーム１１０がマスクキャリア１２０から機械的に分離されるように構成される。詳細には、コンプライアント支持体は、マスクキャリア変形がマスクフレーム構造から分離されているように、構成されてもよい。したがって、有益には、マスクキャリアの変形は、マスクフレームに伝達されない。言い換えれば、コンプライアント支持体は、マスクフレームがマスクキャリアから機械的に切り離されるように、構成することができる。例えば、コンプライアント支持体は、マスクキャリアへのマスクフレームのフローティング取り付けが提供されるように、構成することができる。

［００２７］図１Ａでは、コンプライアント支持体１３０は、ばね機構によって概略的に示されている。詳細には、コンプライアント支持体は、正確に１つの機械的支持体、詳細にはマスクフレームとマスクキャリアとの正確に１つの接続部が、第１の方向１０１におけるマスクフレームのコンプライアント支持体、詳細には機械的剛性を有するコンプライアント支持体を提供するように、構成することができる。さらに、コンプライアント支持体は、正確に２つの機械的支持体、詳細にはマスクフレームとマスクキャリアとの正確に２つの接続部が、第１の方向１０１とは異なる第２の方向１０２におけるコンプライアント支持体、詳細には機械的剛性を有するコンプライアント支持体を提供するように、構成することができる。詳細には、第２の方向１０２は、第１の方向１０１に対して垂直であってもよい。例えば、第１の方向１０１は、ｘ方向であり、第２の方向１０２は、ｙ方向であってもよい。詳細には、第１の方向１０１は、実質的に水平な方向（「実質的に水平な方向」＝水平±１５°）であり、第２の方向１０２は、実質的に垂直な方向（「実質的に垂直な方向」＝垂直±１５°）であってもよい。

［００２８］本開示において、「機械的剛性を有するコンプライアント支持体」という表現は、マスクフレームをマスクキャリアに接続する支持構造であって、マスクフレームを保持し（例えば、マスクフレームを支持または保持するのに十分な機械的剛性を有するマスクフレームとマスクキャリアとの間の接続部を提供することによって）、かつマスクフレームによって保持されたマスクの変形が実質的に低減または回避さえされるように、マスクキャリアに対する機械的または熱的応力を補償する（例えば、機械的または熱的応力を補償するのに十分なコンプライアンスまたは十分な弾性を有するマスクフレームとマスクキャリアとの間の接続部を提供することによって）ように構成された支持構造として、理解されるべきである。

［００２９］本明細書で説明する他の実施形態と組み合わせることができる別の例示的な実施形態によれば、マスクキャリアからのマスクフレームの機械的分離、詳細にはマスクフレームからのマスクキャリア変形の分離は、マスクフレームのための第１の固定された支持体（すなわち、第１の方向１０１および第２の方向１０２において固定されている）をマスクキャリアに設け、第１の方向１０１に固定され第２の方向１０２に自由度を有する第２の支持体をマスクキャリアに設けることによって、実現され得る。あるいは、第２の支持体は、第２の方向１０２に固定され、第１の方向１０１に自由度を有していてもよい。

［００３０］例えば、第１の固定された支持体は、マスクキャリアの第１のコーナーに設けられ、第２の支持体は、マスクキャリアの隣接するコーナーに設けられてもよい。さらなる実施形態によれば、マスクキャリアは、第１の方向１０１の自由度と第２の方向１０２の自由度を有するように構成された、マスクフレームのための２つ以上の追加の支持体を備えることができる。

［００３１］図２を例示的に参照し、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、コンプライアント支持体１３０は、マスクフレーム１１０の第１の側部１１０Ａにおける第１のコンプライアント支持体１３１と、マスクフレームの第１の側部に対向するマスクフレーム１１０の第２の側部１１０Ｂにおける第２のコンプライアント支持体１３２とを含む。詳細には、第１のコンプライアント支持体１３１は、マスクフレーム１１０を第１の方向１０１に支持するように構成されている。さらに、第１のコンプライアント支持体１３１は、マスクフレーム１１０を第２の方向１０２に支持するように構成されている。第２のコンプライアント支持体１３２は、マスクフレーム１１０を第２の方向１０２に支持するように構成されている。さらに、第２のコンプライアント支持体１３２は、第１の方向１０１のマスクフレーム１１０の自由度を提供するように構成されている。図２において、コンプライアント支持体を介したマスクフレームのマスクキャリアへの接続が、参照番号１３３および１３４によって例示的に示されている。したがって、マスクフレーム１１０は、一組のコンプライアント支持体によってマスクキャリア１２０に接続することができる。

［００３２］図１Ｂに概略的に示すように、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、コンプライアント支持体１３０は、第３の方向１０３にコンプライアント支持体を提供するように構成されている。第３の方向は、ｚ方向とすることができる。詳細には、第３の方向１０３は、第１の方向１０１に対して垂直であり、かつ第２の方向１０２に対して垂直にすることができる。

［００３３］図１Ａを例示的に参照し、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、マスクキャリア１２０は、マスクフレーム１１０の周りに少なくとも部分的に配置される。例えば、マスクキャリアは、マスクフレームを受け入れるように構成された受入部を含むことができる。詳細には、マスクキャリアの受入部は、マスクフレームを受け入れるように構成された開口部とすることができる。例えば、開口部は、マスク装置の組み立てられた状態において、マスクフレームの少なくとも３つの外縁部、特にマスクフレームの４つの外縁部が、マスクキャリアの開口部の少なくとも３つの対応する内縁部、特にマスクキャリアの開口部の４つの内縁部に面するように、構成することができる。したがって、マスクキャリアの受入部は、受入部の内周または内側輪郭が、マスクフレームの外周または外側輪郭に面するように、構成することができる。

［００３４］図２に例示的に示すように、本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、マスクキャリアの、詳細にはマスクキャリアの受入部の内周または内側輪郭と、マスクフレームの外周または外側輪郭との間に、自由空間１２１を設けることができる。例えば、自由空間は、マスクキャリアとマスクフレームとの間、詳細にはマスクキャリアの内周または内側輪郭とマスクフレームの外周または外側輪郭との間に設けられた間隙であってもよい。間隙は、下限が２５０μｍ、詳細には下限が５００μｍ、より詳細には下限が１．０ｍｍであり、上限が１．５ｍｍ、詳細には上限が２．５ｍｍ、より詳細には上限が５．０ｍｍである範囲から選択される寸法Ｄを有することができる。

［００３５］本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、マスクフレーム１１０の外縁部は、マスクキャリア１２０の受入部の内縁部と重なってもよい。このような構成は、図１Ｂに例示的に示すように、特に、第３の方向１０３にコンプライアント支持体を提供するのに有益であり得る。詳細には、図１Ｂを例示的に参照すると、コンプライアント支持体は、第３の方向に弾性を提供する弾性基部を含むことができる。例えば、マスクフレーム１１０の外縁部は、第３の方向にコンプライアント支持体を提供する１つ以上の接続要素（例えば、図１Ｂの概略的に示されたばね要素）によってマスクキャリア１２０の受入部の内縁部に接続されてもよい。詳細には、第３の方向のコンプライアント支持体は、マスクフレームとマスクキャリアとの間の弾性基部または弾性接続部であってもよい。第３の方向のコンプライアント支持体は、マスクフレームの少なくとも２つの側部に設けられてもよい。例えば、第３の方向のコンプライアント支持体が、マスクフレームの左側部およびマスクフレームの右側部に設けられてもよい。あるいは、図１Ｂに例示的に示すように、第３の方向のコンプライアント支持体は、マスクフレームの上側部およびマスクフレームの下側部に設けられてもよい。したがって、第３の方向のコンプライアント支持体は、マスクフレームの上側部およびマスクフレームの下側部に、ならびに／またはマスクフレームの左側部およびマスクフレームの右側部に設けることができることを理解されたい。例えば、第３の方向のコンプライアント支持体は、マスクフレームの各側部に設けることができる。

［００３６］一例によれば、第３の方向のコンプライアント支持体は、マスクフレームとマスクキャリアとの間に設けられた弾性要素によって提供されてもよい。例えば、弾性要素は、Ｏリングとすることができる。例えば、弾性要素、例えば、Ｏリングは、マスクフレームに設けられた対応する凹部またはノッチおよび／またはマスクキャリアに設けられた対応する凹部またはノッチに配置されてもよい。したがって、弾性要素は、マスクキャリアとマスクフレームとの間に配置されて、マスクキャリアおよびマスクフレームと接触することができる。例えば、弾性要素は、エラストマーで作ることができる。

［００３７］したがって、有利なことに、マスク装置は、マスクキャリアによるマスクフレームの非接触支持体が提供されるように構成される。「非接触支持体」は、マスクフレームの外周または外側輪郭がマスクキャリアの内周または内側輪郭と接触しないように構成された支持体として理解され得る。このように、マスクフレームの外側輪郭の周りに設けられた自由空間は、マスクキャリアに対する機械的または熱的応力がコンプライアント支持体によって補償されるように、マスクキャリアに対するマスクフレームの相対運動と、マスクフレームに対するマスクキャリアの相対運動とを可能にする。

［００３８］本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる別の実施形態によれば、マスクフレーム１１０は、図３Ａおよび図３Ｂに概略的に示すように、コンプライアント支持体１３０を介してマスクキャリア１２０に取り付けられてもよい。詳細には、マスクフレームは、マスクフレームの外周または外側輪郭がマスクキャリアと接触しないように、マスクキャリアの上に取り付けることができる。このように、有利なことに、マスクキャリアに対する機械的または熱的応力がコンプライアント支持体によって補償されるように、マスクキャリアに対するマスクフレームの相対運動と、マスクフレームに対するマスクキャリアの相対運動とを可能にする、マスクキャリアへのマスクフレームの取り付けが提供される。

［００３９］本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、コンプライアント支持体１３０は、マスクキャリア１２０に一体化されている。あるいは、コンプライアント支持体１３０は、マスクフレーム１１０に一体化されることができる。図３Ａにおいて、マスクキャリアの第１の側部１２０Ａに描かれた点線の四角およびマスクキャリアの第２の側部１２０Ｂに描かれた点線の四角で概略的に示されるように、コンプライアント支持体１３０がマスクキャリア１２０に一体化されたマスク装置１００の例示的な実施形態が示されている。図３Ｂは、マスクフレーム１１０の第１の側部１１０Ａに描かれた実線の四角およびマスクフレーム１１０の第２の側部１２０Ｂに描かれた実線の四角で概略的に示されるように、コンプライアント支持体１３０がマスクフレームに一体化されたマスク装置の例示的な実施形態を示している。

［００４０］本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、コンプライアント支持体１３０は、放電加工（ＥＤＭ）によって、詳細にはワイヤＥＤＭによって製造された機械的構造によって提供される。図４、図５Ａ、図５Ｂおよび図５Ｃを参照して、より詳細に例示的に説明されるように、詳細には、コンプライアント支持体を提供する機械的構造は、ＥＤＭによって製造された第１の機械的構造１４１と、ＥＤＭによって製造された第２の機械的構造１４２とを含むことができ、これらを介してマスクフレームが、マスクキャリアに接続される。あるいは、本明細書に記載の実施形態によるコンプライアント支持体を提供する機械的構造は、フライス加工によって提供されてもよい（例えば、マスクフレームのそれぞれの材料構造のシンニングおよび／またはマスクキャリアのそれぞれの材料構造のシンニング）。さらなる代替として、本明細書に記載の実施形態によるコンプライアント支持体を提供する機械的構造は、バネ要素、詳細には機械的ばねによって提供されてもよい。

［００４１］図４Ａを例示的に参照すると、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、処理チャンバ内での堆積中に基板をマスクするためのマスク装置１００が、提供される。マスク装置は、マスク１１５を保持するためのマスクフレーム１１０を含む。さらに、マスク装置は、マスクフレーム１１０を保持するためのマスクキャリア１２０を含む。典型的には、マスクフレーム１１０は、第１の機械的構造１４１および第２の機械的構造１４２を介してマスクキャリア１２０に接続される。

［００４２］図４Ａのばね機構によって概略的に示されるように、第１の機械的構造１４１および第２の機械的構造１４２は、マスクフレームとマスクキャリアとの間のコンプライアント接続部を提供するように構成することができる。例えば、第１の機械的構造１４１は、マスクフレーム１１０を第１の方向１０１に支持するように構成することができる。さらに、第１の機械的構造１４１は、マスクフレーム１１０を第２の方向１０２に支持するように構成することができる。第２の機械的構造１４２は、第１の方向１０１の自由度を提供するように構成することができる。さらに、第１の機械的構造１４１および第２の機械的構造１４２は、第３の方向１０３にマスクフレーム１１０のコンプライアント支持体を提供するように構成することができる。典型的には、第３の方向１０３は、第１の方向１０１に対して垂直であり、かつ第２の方向１０２に対して垂直である。

［００４３］詳細には、第１の機械的構造１４１は、本明細書に記載の第１のコンプライアント支持体１３１を提供するように構成されてもよく、第２の機械的構造１４２は、本明細書に記載の第２のコンプライアント支持体１３２を提供するように構成されてもよい。

［００４４］図４Ｂを例示的に参照すると、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる別の例示的な実施形態によれば、マスクキャリアからのマスクフレームの機械的分離、詳細にはマスクフレーム構造からのマスクキャリア変形の分離のための代替的解決策は、マスクフレームのための固定された支持体１４５（すなわち、第１の方向１０１および第２の方向１０２に固定されている）として第１の機械的構造を提供することと、第１の方向１０１の自由度を提供し、第２の方向１０２を固定するように構成された第２の支持体として第２の機械的構造１４２を提供することとによって、実現されてもよい。あるいは、第２の支持体は、第１の方向１０１に固定され、第２の方向１０２に自由度を有していてもよい。

［００４５］例えば、固定された支持体１４５は、マスクキャリアの第１のコーナーに設けられ、第２の支持体を提供する第２の機械的構造１４２は、マスクキャリアの隣接するコーナーに設けられてもよい。詳細には、固定された支持体１４５は、固定ピンとすることができる。さらなる実施形態によれば、マスクキャリアは、第１の方向１０１の自由度と第２の方向１０２の自由度を有するように構成された、マスクフレームのための１つ以上の追加の支持体（例えば、２つ以上の機械的構造）を備えることができる。詳細には、第３の機械的構造１４３および／または第４の機械的構造１４４が、図４Ｂに例示的に示されるように、設けられてもよい。例えば、第３の機械的構造１４３および／または第４の機械的構造１４４は、図５Ａおよび図５Ｂを参照して例示的に説明されるように、第１の機械的構造として構成することができる。例えば、図４Ｂに例示的に示すように、固定された支持体１４５および第３の機械的構造１４３が、マスクフレーム１１０の第１の側部１１０Ａに配置され、第２の機械的構造１４２、第４の機械的構造１４４が、マスクフレーム１１０の第２の側部１１０Ｂに配置されてもよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第１の機械的構造１４１および第２の機械的構造１４２は、マスクキャリア１２０に一体化される。例えば、第１の機械的構造１４１は、マスクキャリア１２０の第１の側部１２０Ａに一体化することができ、第２の機械的構造１４２は、マスクキャリア１２０の第２の側部１２０Ｂに一体化することができる。あるいは、第１の機械的構造１４１および第２の機械的構造１４２は、マスクフレーム１１０に一体化することができる。例えば、第１の機械的構造１４１は、マスクフレーム１１０の第１の側部１１０Ａに一体化することができ、第２の機械的構造１４２は、マスクフレーム１１０の第２の側部１１０Ｂに一体化することができる。

［００４６］図５Ａ、図５Ｂおよび図５Ｃを例示的に参照すると、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第１の機械的構造１４１は、ＥＤＭカット構造とすることができ、かつ／または第２の機械的構造１４２は、ＥＤＭカット構造とすることができる。詳細には、第１の機械的構造１４１は、図５Ａに例示的に示すように、マスクキャリア１２０に一体化された、またはマスクフレーム（明示されていない）に一体化されたＥＤＭカット構造とすることができる。それに応じて、第２の機械的構造１４２は、図５Ｃに例示的に示すように、マスクキャリア１２０に一体化された、またはマスクフレーム（明示されていない）に一体化されたＥＤＭカット構造とすることができる。

［００４７］例えば、図５Ａに概略的に示すように、第１の機械的構造１４１は、第１の方向１０１に延びる２つの第１のコンプライアント要素１５１を含むことができる。さらに、第１の機械的構造１４１は、第２の方向１０２に延びる２つの第２のコンプライアント要素１５２を含むことができる。詳細には、２つの第１のコンプライアント要素１５１および２つの第２のコンプライアント要素１５２は、ＥＤＭカット構造によって提供されてもよい。図５Ａにおいて、端に点を有する実線は、ＥＤＭカットを表す。例えば、ＥＤＭカットは、０．５ｍｍ〜２．０ｍｍ、例えば１．０ｍｍ±０．１ｍｍの幅を有することができる。図５Ａに示す例において、２つの第１のコンプライアント要素１５１および２つの第２のコンプライアント要素１５２は、十字形のパターンで配置されている。

［００４８］図５Ｂは、本明細書に記載されたいくつかの実施形態による、マスク装置のマスクフレームを支持するための第１の機械的構造の概略的な代替例を示す。図５Ａに示す例において、２つの第２のコンプライアント要素１５２は、２つの第１のコンプライアント要素１５１の左右に設けられている。したがって、２つの第１のコンプライアント要素１５１および２つの第２のコンプライアント要素１５２は、Ｈ字状パターンに配置することができる。

［００４９］したがって、第１の機械的構造１４１は、第１の方向１０１における正確に１つのコンプライアント支持体と、第２の方向１０２における正確に１つのコンプライアント支持体とを提供するように構成される。さらに、図５Ａから、第１の機械的構造１４１は、第３の方向１０３におけるコンプライアント支持体をさらに提供するように構成されていることを理解されたい。例えば、第１のコンプライアント要素１５１および第２のコンプライアント要素１５２の、第３の方向における寸法は、第３の方向１０３におけるコンプライアント支持体が提供されるように、選択することができる。説明のために、マスクフレームをマスクキャリアに接続するための第１の機械的構造１４１の接続点または取り付け点が、図５Ａにおいて参照番号１３３で示されている。

［００５０］図５Ｃに例示的に示すように、第２の機械的構造１４２は、第２の方向１０２に延びる２つの第３のコンプライアント要素１５３を含むことができる。したがって、第２の機械的構造１４２は、第２の方向１０２における正確に１つのコンプライアント支持体を提供するように構成される。したがって、図５Ｃに示す構造を９０°回転させることにより、第１の方向１０１における正確に１つのコンプライアント支持体が提供されるように、第１の方向１０１に延びる２つの第３のコンプライアント要素１５３を含む第２の機械的構造１４２を実現することができる。

［００５１］さらに、図５Ｃから、第２の機械的構造１４２は、第３の方向１０３におけるコンプライアント支持体をさらに提供するように構成することができることを理解されたい。例えば、２つの第３のコンプライアント要素１５３の、第３の方向における寸法は、第３の方向１０３におけるコンプライアント支持体が提供されるように、選択することができる。説明のために、マスクフレームをマスクキャリアに接続するための第２の機械的構造１４２の接続点または取り付け点が、図５Ｃにおいて参照番号１３４で示されている。

［００５２］本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第１のコンプライアント要素１５１および／または第２のコンプライアント要素１５２および／または第３のコンプライアント要素１５３は、細長い要素、ジグザグ要素（例えば、アコーディオン状構造を有する要素）、またはコンプライアンスを提供するように構成された任意の他の適切な要素からなる群から選択される少なくとも１つの要素として構成されてもよい。

［００５３］さらに、２つの第３のコンプライアント要素１５３は、ＥＤＭカット構造によって提供されてもよい。図５Ｃにおいて、端に点を有する実線は、ＥＤＭカットを表す。例えば、ＥＤＭカットは、０．５ｍｍ〜１．５ｍｍ、例えば１．０ｍｍ±０．１ｍｍの幅を有することができる。図５Ｃに示す例において、２つの第３のコンプライアント要素１５３は、第２の方向１０２に互いに対向して配置されている。

［００５４］図６を例示的に参照して、基板を処理するための装置２００が、説明される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、本装置は、その中での層堆積に適合された処理チャンバ２０１と、層を形成する材料を堆積させるための堆積源２２５と、本明細書に記載された任意の実施形態によるマスク装置１００とを含む。

［００５５］本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、本装置は、本明細書に記載されているような基板を運ぶための基板キャリア２２０をさらに含む。いくつかの実施態様では、基板キャリア２２０の搬送用に構成された第１のトラック装置２１０が、設けられる。さらに、マスク装置１００の搬送用に構成された第２のトラック装置２３０を設けることができる。

［００５６］本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、処理チャンバ２０１は、真空チャンバ（例えば、真空処理チャンバ、詳細には真空堆積チャンバ）である。本明細書で使用する用語「真空」は、例えば１０ｍｂａｒ未満の真空圧力を有する技術的真空の意味で理解することができる。典型的には、本明細書に記載の真空チャンバ内の圧力は、１０^−５ｍｂａｒ〜約１０^−８ｍｂａｒ、より典型的には１０^−５ｍｂａｒ〜１０^−７ｍｂａｒ、さらにより典型的には約１０^−６ｍｂａｒ〜約１０^−７ｍｂａｒであってもよい。いくつかの実施形態によれば、真空チャンバ内の圧力は、真空チャンバ内の蒸発した材料の分圧または全圧（蒸発した材料のみが、真空チャンバ内に堆積させる成分として存在する場合には、ほぼ同じであってもよい）のいずれかとみなすことができる。いくつかの実施形態では、特に、蒸発した材料の他に第２の成分が、真空チャンバ内に存在する場合（例えば、ガスなど）、真空チャンバ内の全圧は、約１０^−４ｍｂａｒから約１０^−７ｍｂａｒの範囲であってもよい。

［００５７］さらに、図６に例示するように、本装置は、搬送装置を有する少なくとも１つの別のチャンバ２０２を含むことができる。少なくとも１つの別のチャンバ２０２は、回転モジュール、中継モジュール、またはそれらの組み合わせであってもよい。回転モジュールでは、トラック装置と、その上に配置されたキャリアが、垂直回転軸などの回転軸の周りを回転することができる。一例として、キャリアは、装置の左側から装置の右側へ、またはその逆に移送されることができる。中継モジュールは、キャリアが中継モジュールを通って異なる方向に移送されることができるようなトラックを含むことができる。真空処理チャンバは、有機材料を堆積させるように構成することができる。

［００５８］図６に例示されるように、堆積源２２５、詳細には蒸発源を、処理チャンバ２０１内に設けることができる。堆積源２２５は、トラックまたは線形ガイド２２２上に設けることができる。線形ガイド２２２は、堆積源２２５の並進運動のために構成することができる。さらに、堆積源２２５の並進運動を提供するための駆動装置を設けることができる。詳細には、堆積源２２５の非接触搬送のための搬送装置が、設けられてもよい。

［００５９］図６を例示的に参照し、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、線形ガイド２２２に沿った堆積源２２５の並進運動のために構成された堆積源支持体２３１を設けることができる。堆積源支持体２３１は、蒸発るつぼ２２１と、蒸発るつぼ２２１の上に設けられた分配アセンブリ２２６とを支持することができる。したがって、蒸発るつぼ２２１内で発生した蒸気は、上方に移動し、分配アセンブリの１つ以上の出口から出ることができる。したがって、分配アセンブリ２２６は、蒸発した有機材料、詳細には蒸発した堆積源材料のプルームを分配アセンブリから基板に供給するように構成される。

［００６０］図６に例示されるように、処理チャンバ２０１は、ゲートバルブ２１５を有することができ、これを介して真空処理チャンバを、隣接する別のチャンバ２０２、例えばルーティングモジュールまたは隣接するサービスモジュールに接続することができる。詳細には、ゲートバルブ２１５は、隣接する別のチャンバへの真空シールを可能にし、基板および／またはマスクを真空処理チャンバの内外に移動させるように開閉することができる。

［００６１］図６を参照し、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、２つの基板、例えば第１の基板１０Ａおよび第２の基板１０Ｂが、本明細書で説明されるようなそれぞれの第１のトラック装置２１０などのそれぞれの搬送トラック上に支持され得る。さらに、２つのトラック、例えば、本明細書に記載されているようなマスク装置１００をその上に設けるための、本明細書に記載されているような２つの第２のトラック装置２３０を、設けることができる。詳細には、基板キャリア２２０および／またはマスク装置１００の搬送用のトラックは、非接触搬送用に構成されてもよい。

［００６２］本明細書に記載の任意の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、基板のコーティングは、それぞれのマスクによって、例えば、縁部除外マスクまたはシャドーマスクによって、基板をマスクすることを含んでよい。いくつかの実施形態によれば、図６に例示的に示すように、第１の基板１０Ａに対応する第１のマスク２０Ａと、第２の基板１０Ｂに対応する第２のマスク２０Ｂとが、本明細書に記載されるようなそれぞれのマスク装置に設けられて、第１のマスク２０Ａおよび第２のマスク２０Ｂを所定の位置に保持する。

［００６３］本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、基板は、本明細書に記載のアライメントシステム（図６には図示せず）に接続することができる基板キャリア２２０によって支持される。アライメントシステムは、マスクに対する基板の位置を調整するように構成することができる。有機材料の堆積中、基板とマスクとの間の適切なアライメントを提供するために、基板をマスクに対して移動させることができることが、理解されるべきである。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる別の実施形態によれば、代替的にまたは追加的に、マスクフレームを保持するマスクキャリアを、アライメントシステムに接続することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるさらに別の実施形態によれば、代替的にまたは追加的に、マスクを保持するマスクフレームを、アライメントシステムに接続することができる。したがって、マスクを基板に対して位置決めすることができ、またはマスクと基板の両方を互いに対して位置決めすることができる。本明細書に記載のアライメントシステムは、高品質またはＯＬＥＤディスプレイ製造に有益な、堆積プロセス中のマスキングの適切なアライメントを可能にすることができる。

［００６４］本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、基板を処理するための装置は、大面積基板の処理用に構成される。例えば、本明細書に記載の「大面積基板」は、少なくとも０．０１ｍ^２、明確には少なくとも０．１ｍ^２、より明確には少なくとも０．５ｍ^２のサイズを有することができる。例えば、大面積基板またはキャリアは、約０．６７ｍ^２の基板（０．７３×０．９２ｍ）に対応するＧＥＮ４．５、約１．４ｍ^２の基板（１．１ｍ×１．３ｍ）に対応するＧＥＮ５、約４．２９ｍ^２の基板（１．９５ｍ×２．２ｍ）に対応するＧＥＮ７．５、約５．７ｍ^２の基板（２．２ｍ×２．５ｍ）に対応するＧＥＮ８．５、または約８．７ｍ^２の基板（２．８５ｍ×３．０５ｍ）に対応するＧＥＮ１０でさえあり得る。ＧＥＮ１１およびＧＥＮ１２などのよりいっそう大きな世代ならびに対応する基板面積を、同様に実施することができる。したがって、基板は、ＧＥＮ１、ＧＥＮ２、ＧＥＮ３、ＧＥＮ３．５、ＧＥＮ４、ＧＥＮ４．５、ＧＥＮ５、ＧＥＮ６、ＧＥＮ７、ＧＥＮ７．５、ＧＥＮ８、ＧＥＮ８．５、ＧＥＮ１０、ＧＥＮ１１、およびＧＥＮ１２からなる群から選択することができる。詳細には、基板は、ＧＥＮ４．５、ＧＥＮ５、ＧＥＮ７．５、ＧＥＮ８．５、ＧＥＮ１０、ＧＥＮ１１、およびＧＥＮ１２、またはより大きな世代の基板からなる群から選択することができる。さらに、基板の厚さは、０．１ｍｍ〜１．８ｍｍ、詳細には約０．９ｍｍ以下、例えば０．７ｍｍまたは０．５ｍｍとすることができる。

［００６５］本開示では、本明細書で使用される「基板」または「大面積基板」という用語は、詳細には、ガラスプレートおよび金属プレートなどの非可撓性基板を含むものとする。しかし、本開示は、これに限定されず、「基板」という用語は、ウェブまたはフォイルなどの可撓性基板も含むことができる。いくつかの実施形態によれば、基板は、材料堆積に適した任意の材料で作製することができる。例えば、基板は、ガラス（例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラスなど）、金属、ポリマー、セラミック、複合材料、炭素繊維材料、雲母または堆積プロセスによってコーティングされ得る任意の他の材料もしくは材料の組み合わせからなる群から選択される材料で作製することができる。

［００６６］本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、基板を処理するための装置は、垂直基板処理用に構成される。「垂直基板処理」という表現は、実質的に垂直な配向（実質的に垂直＝垂直±１５°）で基板を処理するように装置が構成されているという点で、理解することができる。本開示を通じて使用される場合、「垂直方向」または「垂直配向」のような用語は、「水平方向」または「水平配向」と区別されるものと理解される。したがって、基板を処理するための装置は、詳細には、本明細書で説明するようなマスク装置を採用することによって、垂直基板マスキング用に構成することができる。「垂直基板マスキング」という表現は、実質的に垂直な配向で基板をマスクするように装置が構成されているという点で、理解することができる。したがって、マスク装置は、処理装置内、詳細には処理チャンバ内に、実質的に垂直な状態（実質的に垂直な状態＝垂直状態±１５°）で設けられてもよい。

［００６７］図７に示すフローチャートを参照し、マスクキャリア１２０によるマスクフレーム１１０の支持体を提供する方法３００が、説明される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、本方法は、第１の機械的構造および第２の機械的構造が、マスクキャリア１２０またはマスクフレーム１１０に一体化されるように、第１の機械的構造１４１および第２の機械的構造１４２を、具体的には放電加工によって、製造すること（ブロック３１０）を含む。詳細には、第１の機械的構造１４１を製造することは、第１の方向のマスクフレームのコンプライアント支持体と第２の方向のコンプライアント支持体とが提供されるように、第１の機械的構造１４１を製造することを含む。さらに、第２の機械的構造１４２を製造することは、第１の方向の自由度が提供されるように、第２の機械的構造１４２を製造することを含む。さらに、本方法は、マスクフレーム１１０を第１の機械的構造１４１および第２の機械的構造１４２を介してマスクキャリア１２０に接続すること（ブロック３２０）を含む。

［００６８］マスク装置の実施形態に関して説明した特徴は、マスクキャリア１２０によるマスクフレーム１１０の支持体を提供する方法３００にも適用できることを理解されたい。

［００６９］上記を考慮して、本明細書に記載の実施形態は、ＯＬＥＤなどの光電子デバイスの製造のための、改良されたマスク装置、改良されたマスキング技術、および改良された装置を有益に提供することが、理解されるべきである。詳細には、本明細書に記載の実施形態は、マスクキャリアからマスクフレームへの応力または負荷の伝達が実質的に低減される、または排除さえされるという利点を有する。より具体的には、本明細書に記載の実施形態は、マスクキャリアからマスクフレームへの機械的応力もしくは負荷の伝達、および／またはマスクキャリアからマスクフレームへの熱的応力もしくは負荷の伝達が、実質的に低減される、または回避さえされるという利点を有する。このように、光電子デバイスの製造のための、従来のマスク装置、従来のマスキング技術、および従来の処理装置と比較して、本開示の実施形態は、特に高品質のＯＬＥＤを製造するための、処理結果の改善された品質を提供する。

［００７０］上記は、本開示の実施形態を対象とするが、本開示の基本的な範囲から逸脱することなく、本開示の他のさらなる実施形態を考え出すこともでき、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。

［００７１］詳細には、この書面による説明は、最良の形態を含む開示を開示し、任意のデバイスまたはシステムを作製および使用することと、組み込まれた方法を実行することとを含む記載された主題を、当業者が実施できるようにするために、例を使用する。以上、様々な具体的な実施形態を開示してきたが、上記実施形態の相互に非排他的な特徴を、互いに組み合わせてもよい。特許可能な範囲は、特許請求の範囲によって画定され、特許請求の範囲が、特許請求の範囲の字義通りの文言と異ならない構造要素を有する場合、または特許請求の範囲の字義通りの文言との実質的な相違がない同等の構造要素を含む場合、他の例も特許請求の範囲内にあるものとする。

Claims (16)

1. 処理チャンバ内での堆積中に基板をマスクするためのマスク装置（１００）であって、
   マスク（１１５）を保持するためのマスクフレーム（１１０）と、
   前記マスクフレーム（１１０）を保持するためのマスクキャリア（１２０）と
   を備え、
   前記マスクフレーム（１１０）が、コンプライアント支持体（１３０）によって前記マスクキャリア（１２０）に接続されている、マスク装置（１００）。
2. 前記マスクフレームが前記マスクキャリアから機械的に分離されるように、前記コンプライアント支持体が構成されており、詳細には、マスクキャリア変形が前記マスクフレームから分離されるように、前記コンプライアント支持体が構成されている、請求項１に記載のマスク装置（１００）。
3. 前記コンプライアント支持体（１３０）が、前記マスクフレーム（１１０）の第１の側部（１１０Ａ）における第１のコンプライアント支持体（１３１）と、前記マスクフレーム（１１０）の前記第１の側部（１１０Ａ）に対向する前記マスクフレーム（１１０）の第２の側部（１１０Ｂ）における第２のコンプライアント支持体（１３２）とを含む、請求項１または２に記載のマスク装置（１００）。
4. 前記第１のコンプライアント支持体（１３１）が、前記マスクフレーム（１１０）を第１の方向（１０１）および第２の方向（１０２）において支持するように構成され、前記第２のコンプライアント支持体（１３２）が、前記マスクフレーム（１１０）を前記第２の方向において支持し、前記第１の方向（１０１）の自由度を提供するように構成されている、請求項３に記載のマスク装置（１００）。
5. 前記コンプライアント支持体（１３０）が、第３の方向（１０３）におけるコンプライアント支持体を提供するように構成され、詳細には、前記コンプライアント支持体が、前記第３の方向における弾性を提供する弾性基部を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載のマスク装置（１００）。
6. 前記マスクキャリア（１２０）が、前記マスクフレーム（１１０）の周りに少なくとも部分的に配置されている、請求項１から５のいずれか一項に記載のマスク装置（１００）。
7. 前記コンプライアント支持体（１３０）が、前記マスクキャリア（１２０）に一体化されている、または前記コンプライアント支持体（１３０）が、前記マスクフレーム（１１０）に一体化されている、請求項１から６のいずれか一項に記載のマスク装置（１００）。
8. 前記コンプライアント支持体（１３０）が、放電加工によって製造された機械的構造によって提供される、請求項１から７のいずれか一項に記載のマスク装置（１００）。
9. 処理チャンバ内での堆積中に基板をマスクするためのマスク装置（１００）であって、
   マスク（１１５）を保持するためのマスクフレーム（１１０）と、
   前記マスクフレーム（１１０）を保持するためのマスクキャリア（１２０）と
   を備え、
   前記マスクフレーム（１１０）が、第１の機械的構造（１４１）および第２の機械的構造（１４２）を介して前記マスクキャリア（１２０）に接続され、
   前記第１の機械的構造（１４１）が、前記マスクフレーム（１１０）を第１の方向（１０１）および第２の方向（１０２）において支持するように構成され、
   前記第２の機械的構造（１４２）が、前記第１の方向（１０１）の自由度を提供するように構成されている、マスク装置（１００）。
10. 処理チャンバ内での堆積中に基板をマスクするためのマスク装置（１００）であって、
    マスク（１１５）を保持するためのマスクフレーム（１１０）と、
    前記マスクフレーム（１１０）を保持するためのマスクキャリア（１２０）と
    を備え、
    前記マスクフレーム（１１０）が、第１の機械的構造（１４１）および第２の機械的構造（１４２）を介して前記マスクキャリア（１２０）に接続され、
    前記第１の機械的構造（１４１）が、前記マスクフレーム（１１０）を第１の方向（１０１）および第２の方向（１０２）において固定するための固定された支持体（１４５）として構成され、
    前記第２の機械的構造（１４２）が、前記第１の方向（１０１）の自由度を提供し、前記第２の方向（１０２）を固定するように構成されている、マスク装置（１００）。
11. 前記第１の機械的構造（１４１）および前記第２の機械的構造（１４２）が、前記第１の方向（１０１）および前記第２の方向（１０２）に対して垂直である第３の方向（１０３）における前記マスクフレーム（１１０）のコンプライアント支持体を提供するように構成されている、請求項９に記載のマスク装置（１００）。
12. 前記第１の機械的構造（１４１）および前記第２の機械的構造（１４２）が、前記マスクキャリア（１２０）に一体化されている、請求項９から１１のいずれか一項に記載のマスク装置（１００）。
13. 前記第１の機械的構造（１４１）および前記第２の機械的構造（１４２）が、前記マスクフレーム（１１０）に一体化されている、請求項９から１１のいずれか一項に記載のマスク装置（１００）。
14. 前記第１の機械的構造（１４１）が、前記第１の方向（１０１）に延びる第１のコンプライアント要素（１５１）と、前記第２の方向（１０２）に延びる第２のコンプライアント要素（１５２）とを含み、前記第２の機械的構造（１４２）が、前記第２の方向（１０１）に延びる第３のコンプライアント要素（１５３）を含む、請求項９に記載のマスク装置（１００）。
15. 基板を処理するための装置（２００）であって、
    その中での層堆積に適合された処理チャンバ（２０１）と、
    層を形成する材料を堆積させるための堆積源（２２５）と、
    前記処理チャンバ（２０１）内の、請求項１から１４のいずれか一項に記載のマスク装置（１００）と
    を備える、装置（２００）。
16. マスクキャリアによるマスクフレームの支持体を提供する方法（３００）であって、
    第１の機械的構造および第２の機械的構造を、前記第１の機械的構造および前記第２の機械的構造が前記マスクキャリアまたは前記マスクフレームに一体化されるように、詳細には放電加工によって、製造することと、
    前記マスクフレームを、前記第１の機械的構造および前記第２の機械的構造を介して前記マスクキャリアに接続することと
    を含み、前記第１の機械的構造が、第１の方向および第２の方向における前記マスクフレームのコンプライアント支持体を提供し、前記第２の機械的構造が、前記第１の方向の自由度を提供する、方法（３００）。

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