KR102183040B1 - 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트, 기판을 프로세싱하기 위한 장치, 및 이를 위한 방법 - Google Patents

기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트, 기판을 프로세싱하기 위한 장치, 및 이를 위한 방법 Download PDF

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Abstract

프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100)가 설명된다. 마스크 어레인지먼트(100)는, 마스크(115)를 홀딩하기 위한 마스크 프레임(110), 및 마스크 프레임(110)을 홀딩하기 위한 마스크 캐리어(120)를 포함하며, 여기서, 마스크 프레임(110)은 컴플라이언트 지지부(130)에 의해 마스크 캐리어(120)에 연결된다.

Description

기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트, 기판을 프로세싱하기 위한 장치, 및 이를 위한 방법
[0001] 본 개시내용은, 기판들, 특히 얇은 편평한 기판들을 프로세싱하는 것에 관한 것이다. 특히, 본원에 설명된 실시예들은, 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(arrangement)들, 마스크를 통해 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치들, 및 마스크를 홀딩(hold)하기 위한 방법들에 관한 것이다. 더 상세하게는, 본 개시내용의 실시예들은, 광-전자 디바이스들, 예컨대 OLED(organic light emitting diode)들의 제조에서 이용되는, 마스크 어레인지먼트들, 증착 장치들, 및 방법들에 관한 것이다.
[0002] 기판 상에 재료를 증착하기 위한 여러 방법들이 알려져 있다. 일 예로서, 기판들은, 증발(evaporation) 프로세스, 이를테면, 물리 기상 증착(PVD) 프로세스, 화학 기상 증착(CVD) 프로세스, 스퍼터링 프로세스, 스프레잉(spraying) 프로세스 등을 사용하여 코팅될 수 있다. 프로세스는 증착 장치의 프로세싱 챔버에서 수행될 수 있고, 그 프로세싱 챔버에, 코팅될 기판이 로케이팅(locate)된다. 증착 재료가 프로세싱 챔버에 제공된다. 소분자들, 금속들, 산화물들, 질화물들, 및 탄화물들과 같은 복수의 재료들이 기판 상의 증착을 위해 사용될 수 있다. 추가로, 에칭, 구조화, 어닐링 등과 같은 다른 프로세스들이 프로세싱 챔버들에서 실시될 수 있다.
[0003] 코팅된 기판들은, 여러 애플리케이션들 및 여러 기술 분야들에서 사용될 수 있다. 예를 들면, OLED(organic light emitting diode) 패널들의 분야에 애플리케이션이 존재한다. 추가적인 애플리케이션들은 절연 패널들, 마이크로일렉트로닉스(microelectronics), 예컨대 반도체 디바이스들, TFT를 갖는 기판들, 컬러 필터들 등을 포함한다.
[0004] OLED들은, 전기의 인가로 광을 생성하는 (유기) 분자들의 박막들로 구성된 솔리드-스테이트(solid-state) 디바이스들이다. OLED들은 전자 디바이스들 상에 밝은 디스플레이들을 제공하고, 예를 들면 LED(light-emitting diode)들 또는 LCD(liquid crystal display)들보다 더 적은 전력을 사용할 수 있다. 프로세싱 챔버에서, 유기 분자들이 생성(예컨대, 증발, 스퍼터링, 또는 스프레잉 등)되어, 기판들 상에 박막들로서 응축되도록 허용된다. 입자들은 특정 패턴을 갖는 마스크를 통과하여 기판 상에 OLED 패턴을 형성한다.
[0005] 증착 장치들의 풋프린트(footprint)를 감소시키기 위해, 수직 배향으로의 마스킹된 기판의 프로세싱을 허용하는 증착 장치들이 존재한다. 다시 말해서, 기판 및 마스크 어레인지먼트는 프로세싱 챔버 내에 수직으로 배열된다. 마스크 어레인지먼트가 수직으로 배향될 때, 중력이 마스크 어레인지먼트의 변형 또는 굽혀짐(bending)을 유발하여, 프로세싱된 기판, 특히 증착된 막 또는 층의 품질 저하가 초래될 수 있다. 추가로, 마스크 어레인지먼트의 어셈블링 동안, 마스크 정렬 동안, 그리고 재료 증착 동안, 고품질 OLED들을 제조하기 위해서는 마스크의 변형을 피하는 것이 중요하다.
[0006] 따라서, OLED들과 같은 광전자 디바이스들의 제조를 위한 개선된 마스크 어레인지먼트들, 개선된 마스킹 기법들, 및 개선된 장치들에 대한 계속되는 요구가 존재한다.
[0007] 상기된 바를 고려하여, 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트, 기판을 프로세싱하기 위한 장치, 및 마스크 캐리어 내에서 마스크 프레임의 지지를 제공하기 위한 방법이 제공된다. 본 개시내용의 추가적인 양상들, 이익들, 및 특징들은, 청구항들, 상세한 설명, 및 첨부된 도면들로부터 명백하다.
[0008] 본 개시내용의 일 양상에 따르면, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트가 제공된다. 마스크 어레인지먼트는, 마스크를 홀딩하기 위한 마스크 프레임을 포함한다. 추가로, 마스크 어레인지먼트는 마스크 프레임을 홀딩하기 위한 마스크 캐리어를 포함하며, 여기서, 마스크 프레임은 컴플라이언트(compliant) 지지부에 의해 마스크 캐리어에 연결된다.
[0009] 본 개시내용의 다른 양상에 따르면, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트가 제공되며, 여기서, 마스크 어레인지먼트는, 마스크를 홀딩하기 위한 마스크 프레임, 및 마스크 프레임을 홀딩하기 위한 마스크 캐리어를 포함한다. 마스크 프레임은, 제1 기계적 구조를 통해 그리고 제2 기계적 구조를 통해 마스크 캐리어에 연결된다. 제1 기계적 구조는, 제1 방향으로 그리고 제2 방향으로 마스크 프레임을 지지하도록 구성된다. 제2 기계적 구조는, 제1 방향으로 자유도(degree of freedom)를 제공하도록 구성된다.
[0010] 본 개시내용의 다른 양상에 따르면, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트가 제공된다. 마스크 어레인지먼트는, 마스크를 홀딩하기 위한 마스크 프레임, 및 마스크 프레임을 홀딩하기 위한 마스크 캐리어를 포함한다. 마스크 프레임은, 제1 기계적 구조를 통해 그리고 제2 기계적 구조를 통해 마스크 캐리어에 연결된다. 제1 기계적 구조는, 제1 방향으로 그리고 제2 방향으로 마스크 프레임을 고정시키기 위한 고정형 지지부로서 구성된다. 제2 기계적 구조는, 제1 방향으로 자유도를 제공하고 그리고 제2 방향으로 고정시키도록 구성된다.
[0011] 본 개시내용의 또 다른 양상에 따르면, 기판을 프로세싱하기 위한 장치가 제공된다. 장치는: 내부에서 층을 증착하도록 적응되는 프로세싱 챔버; 층을 형성하는 재료를 증착하기 위한 증착 소스; 및 프로세싱 챔버 내의, 본원에 설명된 임의의 실시예들에 따른 마스크 어레인지먼트를 포함한다.
[0012] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 마스크 캐리어에 의한 마스크 프레임의 지지를 제공하기 위한 방법이 제공된다. 방법은, 특히 전기 방전 기계가공(electrical discharge machining)에 의해, 제1 기계적 구조 및 제2 기계적 구조를 제조하는 단계를 포함하며, 그 제조하는 단계는, 제1 기계적 구조 및 제2 기계적 구조가 마스크 캐리어에 또는 마스크 프레임에 통합되도록 이루어지고, 여기서, 제1 기계적 구조는 제1 방향으로의 그리고 제2 방향으로의 마스크 프레임의 컴플라이언트 지지를 제공하고, 제2 기계적 구조는 제1 방향으로의 자유도를 제공한다. 추가로, 방법은, 제1 기계적 구조를 통해 그리고 제2 기계적 구조를 통해 마스크 프레임을 마스크 캐리어에 연결시키는 단계를 포함한다.
[0013] 실시예들은 또한 개시된 방법들을 수행하기 위한 장치들에 관한 것이며, 각각의 설명된 방법 양상을 수행하기 위한 장치 부분들을 포함한다. 이러한 방법 양상들은, 하드웨어 컴포넌트들에 의해, 적절한 소프트웨어에 의해 프로그래밍된 컴퓨터에 의해, 이들 둘의 임의의 결합에 의해, 또는 임의의 다른 방식으로 수행될 수 있다. 게다가, 본 개시내용에 따른 실시예들은 또한, 설명되는 장치를 동작시키기 위한 방법들에 관한 것이다. 설명되는 장치를 동작시키기 위한 방법들은 장치의 모든 각각의 기능을 수행하기 위한 방법 양상들을 포함한다.
[0014] 본 개시내용의 상기 열거된 특징들이 상세하게 이해될 수 있는 방식으로, 위에서 간략히 요약된 본 개시내용의 보다 구체적인 설명이 실시예들을 참조하여 이루어질 수 있다. 첨부된 도면들은 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이고, 하기에서 설명된다:
도 1a는 본원에 설명된 실시예들에 따른 마스크 어레인지먼트의 개략적인 정면도를 도시한다.
도 1b는 본원에 설명된 실시예들에 따른 마스크 어레인지먼트의 개략적인 측면도를 도시한다.
도 2는 본원에 설명된 추가적인 실시예들에 따른 마스크 어레인지먼트의 개략적인 정면도를 도시한다.
도 3a는 본원에 설명된 일부 실시예들에 따른 마스크 어레인지먼트의 개략적인 정면도를 도시하며, 여기서, 컴플라이언트 지지부는 마스크 캐리어에 통합된다.
도 3b는 본원에 설명된 일부 실시예들에 따른 마스크 어레인지먼트의 개략적인 정면도를 도시하며, 여기서, 컴플라이언트 지지부는 마스크 프레임에 통합된다.
도 4a 및 도 4b는 본원에 설명된 추가적인 실시예들에 따른 마스크 어레인지먼트의 개략적인 정면도를 도시한다.
도 5a는 본원에 설명된 일부 실시예들에 따른, 마스크 어레인지먼트의 마스크 프레임을 지지하기 위한 제1 기계적 구조의 개략적인 예를 도시한다.
도 5b는 본원에 설명된 일부 실시예들에 따른, 마스크 어레인지먼트의 마스크 프레임을 지지하기 위한 제1 기계적 구조의 개략적인 대안적 예를 도시한다.
도 5c는 본원에 설명된 일부 실시예들에 따른, 마스크 어레인지먼트의 마스크 프레임을 지지하기 위한 제2 기계적 구조의 개략적인 예를 도시한다.
도 6은 본원에 설명된 실시예들에 따른, 기판을 프로세싱하기 위한 장치의 개략도를 도시한다.
도 7은 본원에 설명된 실시예들에 따른, 마스크 캐리어에 의한 마스크 프레임의 지지를 제공하기 위한 방법을 예시하기 위한 흐름도를 도시한다.
[0015] 이제, 본 개시내용의 다양한 실시예들이 상세히 참조될 것이며, 다양한 실시예들의 하나 이상의 예들이 도면들에 예시된다. 도면들의 다음의 설명 내에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 컴포넌트들을 지칭한다. 개별적인 실시예들에 관한 차이들만이 설명된다. 각각의 예는 본 개시내용의 설명으로 제공되고, 본 개시내용의 제한으로서 의도되지 않는다. 추가로, 일 실시예의 일부로서 예시되거나 또는 설명되는 특징들은, 더 추가적인 실시예를 산출하기 위해, 다른 실시예들에 대해 또는 다른 실시예들과 함께 사용될 수 있다. 설명은 그러한 수정들 및 변형들을 포함하는 것으로 의도된다.
[0016] 본 개시내용의 다양한 실시예들이 더 상세히 설명되기 전에, 본원에서 사용되는 일부 용어들 및 표현들에 관한 일부 양상들이 설명된다.
[0017] 본 개시내용에서, "기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트"는, 기판을 마스킹하기 위한, 특히, 본원에 설명된 바와 같은 기판을 마스킹하기 위한 마스크를 포함하는 어레인지먼트로서 이해될 수 있다. 특히, 본원에 설명된 바와 같은 "마스크 어레인지먼트"는, 미리결정된 포지션에 마스크를 홀딩하도록 구성되는 마스크 프레임을 포함하는 어레인지먼트로서 이해될 수 있다. 통상적으로, "마스크 어레인지먼트"는, 마스크 프레임을 홀딩하도록 구성되는 마스크 캐리어를 더 포함한다. "마스크 캐리어"는, 마스크 프레임을 수용하도록 구성되는 수용부를 포함하는 캐리어로서 이해될 수 있다. 예컨대, 마스크 캐리어의 수용부는, 마스크 프레임을 수용하도록 구성되는 개구일 수 있다. 따라서, 마스크 캐리어는, 마스크 프레임이 마스크 캐리어에 의해 홀딩 또는 지지되도록 구성될 수 있다. 마스크 캐리어는, 마스크 프레임 주위에 적어도 부분적으로 배열될 수 있다. 일 예에 따르면, 마스크 어레인지먼트는 마스크 프레임을 지지하도록 구성되는 마스크 캐리어를 포함하며, 여기서, 마스크 캐리어는, 도 1a에 예시적으로 도시된 바와 같이, 마스크 프레임의 외곽(outer contour)을 둘러싼다.
[0018] 추가로, 본원에 설명된 바와 같은 마스크 어레인지먼트는, 본원에 설명된 바와 같은 기판, 특히, 본원에 설명된 바와 같은 대면적 기판을 마스킹하도록 구성될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 따라서, 마스크의 치수들은 통상적으로, 마스킹될 개개의 기판의 치수들에 실질적으로 대응한다. 따라서, 마스크에 대한 선택된 치수들은, 마스크를 홀딩하는 마스크 프레임의 개개의 치수들뿐만 아니라 마스크 프레임을 홀딩하는 마스크 캐리어의 개개의 치수들에 영향을 준다는 것이 이해될 것이다. "마스크를 홀딩하기 위한 마스크 프레임"은, 마스크, 특히, 본원에 설명된 바와 같은 마스크를 홀딩하도록 구성되는 기계적 프레임 구조로서 이해될 수 있다.
[0019] 본 개시내용에서, "마스크"는, 적어도 하나의 개구를 갖는 얇은 플레이트로서 이해될 수 있다. 통상적으로, 본원에서 설명되는 바와 같은 마스크는 0.2 mm 또는 그 미만의 두께를 가질 수 있다. 특히, 본원에서 설명되는 바와 같은 "마스크"는, 프로세싱되지 않을, 예컨대 코팅되지 않을, 기판의 영역들을 커버하는 데 이용될 수 있다. 예를 들면, 본원에서 설명되는 바와 같은 마스크는, LiCO, Al2O2, YSZ, AlTiC, 유리 D263T, 스테인리스 강, Ti, Macor, 및 Invar(예컨대, 대략 30 % 또는 80 %의 Ni을 가짐)로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 재료로 만들어질 수 있다. 예컨대, 마스크는, 기판의 하나 이상의 에지 구역들을 마스킹하도록 구성되는 에지 제외(edge exclusion) 차폐부일 수 있어서, 기판의 코팅 동안 하나 이상의 에지 구역들 상에 어떠한 재료도 증착되지 않는다. 다른 예로서, 마스크는, 증착 소스로부터의 재료로 기판 상에 증착되는 복수의 피쳐(feature)들을 마스킹하기 위한 섀도우 마스크(shadow mask)일 수 있다. 예를 들면, 마스크는, 특히 OLED 제조를 위해 구성되는 픽셀 마스크일 수 있다.
[0020] 본 개시내용에서, "컴플라이언트 지지부"는, 컴플라이언트 지지부에 의해 연결되는 2개의 엘리먼트들의 기계적 디커플링(decoupling)이 제공될 수 있도록 구성되는 지지부로서 이해될 수 있다. 다시 말해서, "컴플라이언트 지지부"는, 컴플라이언트 지지부를 통해 서로 연결되는 2개의 엘리먼트들의 기계적 격리를 제공하는 지지부로서 이해될 수 있다. 특히, 본 개시내용에서, 컴플라이언트 지지부는, 마스크 프레임과 마스크 캐리어 사이에 제공되는 컴플라이언트 연결일 수 있다. 예를 들면, 마스크 프레임과 마스크 캐리어 사이의 컴플라이언트 연결은, 마스크 프레임과 마스크 캐리어 사이의 플로팅(floating) 연결로서 이해될 수 있다. 특히, 본원에서 설명되는 바와 같은 컴플라이언트 지지부는, 유익하게, 마스크 프레임의 변형 및 그에 따른 마스크의 변형이 실질적으로 감소되거나 심지어 방지되도록, 마스크 캐리어 상의 기계적 또는 열적 응력이 컴플라이언트 지지부에 의해 보상될 수 있도록 구성될 수 있다.
[0021] 예를 들면, 본원에서 설명되는 바와 같은 "컴플라이언트 지지부"는, 마스크 캐리어에 응력 또는 로드(load)가 가해질 때, 마스크 캐리어로부터 마스크 프레임으로의 응력 또는 로드 전달이 컴플라이언트 지지부에 의해 실질적으로 감소되거나 심지어 제거되도록, 즉, 보상되도록 구성될 수 있다. 특히, 컴플라이언트 지지부는, 탄력적(resilient) 지지부 또는 탄성(elastic) 지지부로서 이해될 수 있다. 따라서, 컴플라이언트 지지부는, 마스크 캐리어와 마스크 프레임 사이의 연결이 탄성을 갖거나 탄력적이도록 그러한 연결을 제공하는 지지부로서 이해될 수 있다. 본원에서 설명되는 바와 같은 컴플라이언트 엘리먼트는, 컴플라이언스(compliance)를 제공하거나 탄성을 제공하거나 또는 탄력성을 제공하도록 구성되는 엘리먼트로서 이해될 수 있다. 따라서, 컴플라이언트 엘리먼트는, 탄성 엘리먼트 또는 탄력적 엘리먼트일 수 있다.
[0022] 예컨대, 마스크 캐리어에 가해지는 응력 또는 로드는, 기계적 응력 또는 로드 및/또는 열적 응력 또는 로드일 수 있다. 특히, 마스크 캐리어 상의 기계적 응력은, 마스크 어레인지먼트의 어셈블리 동안, 즉, 마스크 프레임 및 마스크 캐리어의 어셈블리 동안 발생할 수 있다. 따라서, 본원에서 설명되는 바와 같은 컴플라이언트 지지부는, 예컨대, 마스크 어레인지먼트의 어셈블리 동안, 마스크 캐리어로부터 마스크 프레임으로의 기계적 응력 전달이 실질적으로 감소되거나 심지어 제거되도록 구성될 수 있다. 따라서, 유익하게, 어셈블리 동안의 마스크 캐리어 상의 기계적 응력으로 인한 마스크의 변형이 실질적으로 감소되거나 심지어 방지된다.
[0023] 다른 예에 따르면, 마스크 캐리어 상의 기계적 응력은, 기판과의 마스크 캐리어의 정렬 동안 발생할 수 있다. 예를 들면, 기판과의 마스크 캐리어의 정렬 동안, 마스크 캐리어의 정확하고 잘 정의된 클램핑(clamping)이 필요할 수 있으며, 이는, 마스크 캐리어 상의 기계적 응력을 야기할 수 있다. 따라서, 본원에서 설명되는 바와 같은 컴플라이언트 지지부는, 정렬 동안의 마스크 캐리어로부터 마스크 프레임으로의 기계적 응력 전달이 실질적으로 감소되거나 심지어 제거되도록 구성될 수 있다. 따라서, 유익하게, 정렬 동안의 마스크의 변형이 실질적으로 감소되거나 심지어 방지된다.
[0024] 추가적인 예에 따르면, 마스크 캐리어 상의 열적 응력 또는 로드는, 프로세싱 동안, 예컨대, 재료 증착 프로세스 동안 발생할 수 있다. 특히, 프로세싱 동안, 마스크 캐리어는 통상적으로 상승된 온도들을 겪으며, 이는, 마스크 캐리어의 열 팽창을 야기할 수 있다. 따라서, 본원에서 설명되는 바와 같은 컴플라이언트 지지부는, 예컨대, 프로세싱 동안, 상승된 온도들에서의 마스크 캐리어로부터 마스크 프레임으로의 열적 응력 전달이 컴플라이언트 지지부에 의해 실질적으로 감소되거나 심지어 제거되도록, 즉, 보상되도록 구성될 수 있다. 다시 말해서, 본원에서 설명되는 바와 같은 컴플라이언트 지지부는, 마스크 캐리어의 열 팽창이 실질적으로 마스크 프레임에 전달되지 않도록 구성될 수 있다. 따라서, 유익하게, 프로세싱 동안의 마스크의 변형이 실질적으로 감소되거나 심지어 방지된다.
[0025] 도 1a를 예시적으로 참조하면, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100)가 설명된다. 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 마스크 어레인지먼트(100)는, 마스크(115)를 홀딩하기 위한 마스크 프레임(110)을 포함한다. 추가로, 마스크 어레인지먼트는, 마스크 프레임(110)을 홀딩하기 위한 마스크 캐리어(120)를 포함한다. 도 1에 개략적으로 도시된 바와 같이, 마스크 프레임(110)은 컴플라이언트 지지부(130)에 의해 마스크 캐리어(120)에 연결된다. 따라서, 유익하게, 마스크 캐리어에 응력 또는 로드가 가해질 때, 마스크 캐리어로부터 마스크 프레임으로의 응력 또는 로드의 전달이 실질적으로 감소되거나 심지어 제거되도록 구성되는 마스크 어레인지먼트가 제공된다. 특히, 본원에 설명된 바와 같은 마스크 어레인지먼트의 실시예들은, 마스크 캐리어로부터 마스크 프레임으로의 기계적 응력 또는 로드의 전달 및/또는 마스크 캐리어로부터 마스크 프레임으로의 열적 응력 또는 로드의 전달이 실질적으로 감소되거나 심지어 방지된다는 장점을 갖는다. 따라서, 본원에 설명된 바와 같은 마스크 어레인지먼트의 실시예들은, 마스크 프레임에 의해 홀딩되는 마스크의 변형이 감소되거나 심지어 방지될 수 있기 때문에, 종래의 마스크 어레인지먼트들과 비교하여 개선된다. 따라서, 프로세싱 동안, 특히, 기판 상의 재료 증착 동안 본원에 설명된 실시예들에 따른 마스크 어레인지먼트를 이용함으로써, 프로세싱 결과의 품질이 개선될 수 있다.
[0026] 도 1a에 개략적으로 도시된 바와 같이, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 컴플라이언트 지지부(130)는, 마스크 프레임(110)이 마스크 캐리어(120)로부터 기계적으로 디커플링되도록 구성된다. 특히, 컴플라이언트 지지부는, 마스크 캐리어 변형들이 마스크 프레임 구조로부터 디커플링되도록 구성될 수 있다. 따라서, 유익하게, 마스크 캐리어의 변형들이 마스크 프레임으로 전달되지 않는다. 다시 말해서, 컴플라이언트 지지부는, 마스크 프레임이 마스크 캐리어로부터 기계적으로 격리되도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 컴플라이언트 지지부는, 마스크 캐리어에 대한 마스크 프레임의 플로팅 장착이 제공되도록 구성될 수 있다.
[0027] 도 1a에서, 컴플라이언트 지지부(130)는 스프링 메커니즘들로 개략적으로 표시된다. 특히, 컴플라이언트 지지부는, 정확히 하나의 기계적 지지부, 특히, 마스크 캐리어에 대한 마스크 프레임의 정확히 하나의 연결부가, 제1 방향(101)으로의 마스크 프레임에 대한 컴플라이언트 지지, 특히, 기계적 강성(stiffness)을 갖는 컴플라이언트 지지를 제공하도록 구성될 수 있다. 추가로, 컴플라이언트 지지부는, 정확히 2개의 기계적 지지부들, 특히, 마스크 캐리어에 대한 마스크 프레임의 정확히 2개의 연결부들이, 제1 방향(101)과 상이한 제2 방향(102)으로의 컴플라이언트 지지, 특히, 기계적 강성을 갖는 컴플라이언트 지지를 제공하도록 구성될 수 있다. 특히, 제2 방향(102)은 제1 방향(101)에 수직일 수 있다. 예를 들면, 제1 방향(101)은 x-방향일 수 있고 그리고 제2 방향(102)은 y-방향일 수 있다. 특히, 제1 방향(101)은 실질적으로 수평 방향("실질적으로 수평 방향" = 수평 ±15°)일 수 있고 그리고 제2 방향(102)은 실질적으로 수직 방향("실질적으로 수직 방향" = 수직 ±15°)일 수 있다.
[0028] 본 개시내용에서, "기계적 강성을 갖는 컴플라이언트 지지부"라는 표현은, 마스크 프레임을 마스크 캐리어와 연결시키는 지지 구조로서 이해될 것이며, 여기서, 지지 구조는, (예컨대, 마스크 프레임을 지지 또는 홀딩하기 위한 충분한 기계적 강성을 갖는, 마스크 프레임과 마스크 캐리어 사이의 연결을 제공함으로써) 마스크 프레임을 홀딩하고 그리고 (예컨대, 기계적 또는 열적 응력을 보상하기 위한 충분한 컴플라이언스 또는 충분한 탄성을 갖는, 마스크 프레임과 마스크 캐리어 사이의 연결을 제공함으로써) 마스크 프레임에 의해 홀딩되는 마스크의 변형이 실질적으로 감소되거나 심지어 방지되도록 마스크 캐리어 상의 기계적 또는 열적 응력을 보상하도록 구성된다.
[0029] 본원에 설명된 다른 실시예들과 결합될 수 있는 다른 예시적인 실시예에 따르면, 마스크 캐리어로부터의 마스크 프레임의 기계적 디커플링, 특히, 마스크 프레임으로부터의 마스크 캐리어 변형들의 디커플링은, 마스크 프레임에 대한 제1 고정형 지지부(즉, 제1 방향(101) 및 제2 방향(102)으로 고정됨)를 마스크 캐리어에 제공하고 그리고 제1 방향(101)으로 고정되고 제2 방향(102)으로 자유도를 갖는 제2 지지부를 마스크 캐리어에 제공함으로써 실현될 수 있다. 대안적으로, 제2 지지부는, 제2 방향(102)으로 고정되고 그리고 제1 방향(101)으로 자유도를 가질 수 있다.
[0030] 예를 들면, 제1 고정형 지지부는 마스크 캐리어의 제1 코너 상에 제공될 수 있고 그리고 제2 지지부는 마스크 캐리어의 인접 코너 상에 제공될 수 있다. 추가적인 실시예들에 따르면, 마스크 캐리어에는 마스크 프레임에 대한 2개 이상의 부가적인 지지부들이 제공될 수 있으며, 2개 이상의 부가적인 지지부들은, 제1 방향(101)으로의 자유도 및 제2 방향(102)으로의 자유도를 갖도록 구성된다.
[0031] 도 2를 예시적으로 참조하여, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 컴플라이언트 지지부(130)는, 마스크 프레임(110)의 제1 측부(110A)에 있는 제1 컴플라이언트 지지부(131), 및 마스크 프레임의 제1 측부에 대향하는, 마스크 프레임(110)의 제2 측부(110B)에 있는 제2 컴플라이언트 지지부(132)를 포함한다. 특히, 제1 컴플라이언트 지지부(131)는, 제1 방향(101)으로 마스크 프레임(110)을 지지하도록 구성된다. 부가적으로, 제1 컴플라이언트 지지부(131)는, 제2 방향(102)으로 마스크 프레임(110)을 지지하도록 구성된다. 제2 컴플라이언트 지지부(132)는, 제2 방향(102)으로 마스크 프레임(110)을 지지하도록 구성된다. 부가적으로, 제2 컴플라이언트 지지부(132)는, 제1 방향(101)으로 마스크 프레임(110)에 대한 자유도를 제공하도록 구성된다. 도 2에서, 컴플라이언트 지지부를 통한 마스크 캐리어에 대한 마스크 프레임의 연결은, 참조 번호들(133 및 134)로 예시적으로 표시된다. 따라서, 마스크 프레임(110)은, 한 세트의 컴플라이언트 지지부들에 의해 마스크 캐리어(120)에 연결될 수 있다.
[0032] 도 1b에 개략적으로 도시된 바와 같이, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 컴플라이언트 지지부(130)는, 제3 방향(103)으로의 컴플라이언트 지지를 제공하도록 구성된다. 제3 방향은 z-방향일 수 있다. 특히, 제3 방향(103)은, 제1 방향(101)에 수직이고 그리고 제2 방향(102)에 수직일 수 있다.
[0033] 도 1a를 예시적으로 참조하여, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 마스크 캐리어(120)는 마스크 프레임(110) 주위에 적어도 부분적으로 배열된다. 예를 들면, 마스크 캐리어는, 마스크 프레임을 수용하도록 구성되는 수용부를 포함할 수 있다. 특히, 마스크 캐리어의 수용부는, 마스크 프레임을 수용하도록 구성되는 개구일 수 있다. 예컨대, 개구는, 마스크 어레인지먼트의 어셈블링된 상태에서, 마스크 프레임의 적어도 3개의 외측 에지들, 특히, 마스크 프레임의 4개의 외측 에지들이, 마스크 캐리어의 개구의 적어도 3개의 대응하는 내측 에지들, 특히, 마스크 캐리어의 개구의 4개의 내측 에지들에 대면하도록 구성될 수 있다. 따라서, 마스크 캐리어의 수용부는, 수용부의 내측 둘레(circumference) 또는 내곽(inner contour)이 마스크 프레임의 외측 둘레 또는 외곽에 대면하도록 구성될 수 있다.
[0034] 도 2에 예시적으로 도시된 바와 같이, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 마스크 캐리어, 특히, 마스크 캐리어의 수용부의 내측 둘레 또는 내곽과 마스크 프레임의 외측 둘레 또는 외곽 사이에 자유 공간(121)이 제공될 수 있다. 예를 들면, 자유 공간은, 마스크 캐리어와 마스크 프레임 사이, 특히, 마스크 캐리어의 내측 둘레 또는 내곽과 마스크 프레임의 외측 둘레 또는 외곽 사이에 제공되는 갭(gap)일 수 있다. 갭은, 250 ㎛의 하한, 특히 500 ㎛의 하한, 보다 특히 1.0 mm의 하한을, 그리고 1.5 mm의 상한, 특히 2.5 mm의 상한, 보다 특히 5.0 mm의 상한을 갖는 범위로부터 선택되는 치수(D)를 가질 수 있다.
[0035] 본원에 설명된 다른 실시예들과 결합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 마스크 프레임(110)의 외측 에지는, 마스크 캐리어(120)의 수용부의 내측 에지와 오버랩(overlap)될 수 있다. 그러한 구성은, 도 1b에 예시적으로 도시된 바와 같이, 제3 방향(103)으로의 컴플라이언트 지지를 제공함에 있어 특히 유익할 수 있다. 특히, 도 1b를 예시적으로 참조하면, 컴플라이언트 지지부는 제3 방향으로 탄성을 제공하는 탄성 기초(elastic foundation)를 포함할 수 있다. 예컨대, 마스크 프레임(110)의 외측 에지는, 제3 방향으로의 컴플라이언트 지지를 제공하는 하나 이상의 연결 엘리먼트들(예컨대, 개략적으로 도 1b의 표시된 스프링 엘리먼트들)에 의해 마스크 캐리어(120)의 수용부의 내측 에지와 연결될 수 있다. 특히, 제3 방향으로의 컴플라이언트 지지는, 마스크 프레임과 마스크 캐리어 사이의 탄성 기초 또는 탄성 연결일 수 있다. 제3 방향으로의 컴플라이언트 지지는, 마스크 프레임의 적어도 2개의 측부들 상에 제공될 수 있다. 예를 들면, 제3 방향으로의 컴플라이언트 지지는, 마스크 프레임의 좌측 상에 그리고 마스크 프레임의 우측 상에 제공될 수 있다. 대안적으로, 도 1b에 예시적으로 도시된 바와 같이, 제3 방향으로의 컴플라이언트 지지는, 마스크 프레임의 상부측에 그리고 마스크 프레임의 하부측 상에 제공될 수 있다. 따라서, 제3 방향으로의 컴플라이언트 지지는, 마스크 프레임의 상부측에 그리고 마스크 프레임의 하부측 상에 그리고/또는 마스크 프레임의 좌측 상에 그리고 마스크 프레임의 우측 상에 제공될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 예를 들면, 제3 방향으로의 컴플라이언트 지지는, 마스크 프레임의 각각의 측부 상에 제공될 수 있다.
[0036] 일 예에 따르면, 제3 방향으로의 컴플라이언트 지지는, 마스크 프레임과 마스크 캐리어 사이에 제공되는 탄성 엘리먼트에 의해 제공될 수 있다. 예를 들면, 탄성 엘리먼트는 O-링일 수 있다. 예컨대, 탄성 엘리먼트(예컨대, O-링)는, 마스크 프레임에 제공되는 대응하는 리세스(recess) 또는 노치(notch)에 그리고/또는 마스크 캐리어에 제공되는 대응하는 리세스 또는 노치에 배열될 수 있다. 따라서, 탄성 엘리먼트는, 마스크 캐리어 및 마스크 프레임과 접촉된 채로 마스크 캐리어와 마스크 프레임 사이에 배열될 수 있다. 예를 들면, 탄성 엘리먼트는 엘라스토머(elastomer)로 만들어질 수 있다.
[0037] 따라서, 유익하게, 마스크 어레인지먼트는, 마스크 캐리어에 의한 마스크 프레임의 무접촉(contactless) 지지가 제공되도록 구성된다. "무접촉 지지"는, 마스크 프레임의 외측 둘레 또는 외곽이 마스크 캐리어의 내측 둘레 또는 내곽과 전혀 접촉하지 않도록 구성되는 지지로서 이해될 수 있다. 따라서, 마스크 프레임의 외곽 주위에 제공되는 자유 공간은, 마스크 캐리어에 대한 마스크 프레임의 상대적인 이동뿐만 아니라 마스크 프레임에 대한 마스크 캐리어의 상대적인 이동을 허용함으로써, 마스크 캐리어 상의 기계적 또는 열적 응력이 컴플라이언트 지지부에 의해 보상될 수 있다.
[0038] 본원에 설명된 다른 실시예들과 결합될 수 있는 다른 실시예에 따르면, 마스크 프레임(110)은, 도 3a 및 도 3b에 개략적으로 도시된 바와 같이, 컴플라이언트 지지부(130)를 통해 마스크 캐리어(120) 상에 장착될 수 있다. 특히, 마스크 프레임은, 마스크 프레임의 외측 둘레 또는 외곽이 마스크 캐리어와 전혀 접촉하지 않도록 마스크 캐리어의 최상부 상에 장착될 수 있다. 따라서, 유익하게, 마스크 캐리어에 대한 마스크 프레임의 상대적인 이동뿐만 아니라 마스크 프레임에 대한 마스크 캐리어의 상대적인 이동을 허용하는 마스크 캐리어에 대한 마스크 프레임의 장착이 제공됨으로써, 마스크 캐리어 상의 기계적 또는 열적 응력이 컴플라이언트 지지부에 의해 보상될 수 있다.
[0039] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 컴플라이언트 지지부(130)는 마스크 캐리어(120)에 통합된다. 대안적으로, 컴플라이언트 지지부(130)는 마스크 프레임(110)에 통합될 수 있다. 도 3a에서, 마스크 어레인지먼트(100)의 예시적인 실시예가 도시되며, 여기서, 마스크 캐리어의 제1 측부(120A) 상에 도시된 점선 정사각형 및 마스크 캐리어의 제2 측부(120B) 상에 도시된 점선 정사각형으로 개략적으로 표시된 바와 같이, 컴플라이언트 지지부(130)는 마스크 캐리어(120)에 통합된다. 도 3b는 마스크 어레인지먼트의 예시적인 실시예를 도시하며, 여기서, 마스크 프레임(110)의 제1 측부(110A) 상에 도시된 실선 정사각형 및 마스크 프레임(110)의 제2 측부(110B) 상에 도시된 실선 정사각형으로 개략적으로 표시된 바와 같이, 컴플라이언트 지지부(130)는 마스크 프레임에 통합된다.
[0040] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 컴플라이언트 지지부(130)는, 전기 방전 기계가공(EDM)에 의해, 특히, 와이어-EDM(wire-EDM)에 의해 제조되는 기계적 구조에 의해 제공된다. 특히, 컴플라이언트 지지부를 제공하는 기계적 구조는, 도 4, 도 5a, 도 5b, 및 도 5c를 참조하여 예시적으로 더 상세히 설명되는 바와 같이, EDM에 의해 제조되는 제1 기계적 구조(141) 및 EDM에 의해 제조되는 제2 기계적 구조(142)를 포함할 수 있으며, 이러한 기계적 구조들을 통해 마스크 프레임이 마스크 캐리어에 연결된다. 대안적으로, 본원에 설명된 실시예들에 따른 컴플라이언트 지지부를 제공하는 기계적 구조는, 밀링(milling)(예컨대, 마스크 프레임의 개개의 재료 구조의 박형화(thinning) 및/또는 마스크 캐리어의 개개의 재료 구조의 박형화)에 의해 제공될 수 있다. 추가적인 대안으로서, 본원에 설명된 실시예들에 따른 컴플라이언트 지지부를 제공하는 기계적 구조는, 스프링 엘리먼트들, 특히, 기계적 스프링들에 의해 제공될 수 있다.
[0041] 도 4a를 예시적으로 참조하여, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100)가 제공된다. 마스크 어레인지먼트는, 마스크(115)를 홀딩하기 위한 마스크 프레임(110)을 포함한다. 추가로, 마스크 어레인지먼트는, 마스크 프레임(110)을 홀딩하기 위한 마스크 캐리어(120)를 포함한다. 통상적으로, 마스크 프레임(110)은, 제1 기계적 구조(141)를 통해 그리고 제2 기계적 구조(142)를 통해 마스크 캐리어(120)에 연결된다.
[0042] 도 4a에서 스프링 메커니즘들로 개략적으로 표시된 바와 같이, 제1 기계적 구조(141) 및 제2 기계적 구조(142)는, 마스크 프레임과 마스크 캐리어 사이에 컴플라이언트 연결을 제공하도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 제1 기계적 구조(141)는, 제1 방향(101)으로 마스크 프레임(110)을 지지하도록 구성될 수 있다. 추가로, 제1 기계적 구조(141)는, 제2 방향(102)으로 마스크 프레임(110)을 지지하도록 구성될 수 있다. 제2 기계적 구조(142)는, 제1 방향(101)으로 자유도를 제공하도록 구성될 수 있다. 추가로, 제1 기계적 구조(141)는 및 제2 기계적 구조(142)는, 제3 방향(103)으로의 마스크 프레임(110)의 컴플라이언트 지지를 제공하도록 구성될 수 있다. 통상적으로, 제3 방향(103)은, 제1 방향(101)에 수직이고 그리고 제2 방향(102)에 수직이다.
[0043] 특히, 제1 기계적 구조(141)는 본원에 설명되는 바와 같은 제1 컴플라이언트 지지부(131)를 제공하도록 구성될 수 있고 그리고 제2 기계적 구조(142)는 본원에 설명되는 바와 같은 제2 컴플라이언트 지지부(132)를 제공하도록 구성될 수 있다.
[0044] 도 4b를 예시적으로 참조하여, 본원에 설명된 다른 실시예들과 결합될 수 있는 다른 예시적인 실시예에 따르면, 마스크 캐리어로부터의 마스크 프레임의 기계적 디커플링, 특히, 마스크 프레임 구조로부터의 마스크 캐리어 변형들의 디커플링에 대한 대안적인 솔루션은, 마스크 프레임에 대한 고정형 지지부(145)(즉, 제1 방향(101) 및 제2 방향(102)으로 고정됨)로서 제1 기계적 구조를 제공하고 그리고 제1 방향(101)으로 자유도를 제공하고 그리고 제2 방향(102)으로 고정시키도록 구성되는 제2 지지부로서 제2 기계적 구조(142)를 제공함으로써 실현될 수 있다. 대안적으로, 제2 지지부는, 제1 방향(101)으로 고정되고 그리고 제2 방향(102)으로 자유도를 가질 수 있다.
[0045] 예를 들면, 고정형 지지부(145)는 마스크 캐리어의 제1 코너 상에 제공될 수 있고 그리고 제2 지지부를 제공하는 제2 기계적 구조(142)는 마스크 캐리어의 인접 코너 상에 제공될 수 있다. 특히, 고정형 지지부(145)는 고정 핀일 수 있다. 추가적인 실시예들에 따르면, 마스크 캐리어에는 마스크 프레임에 대한 하나 이상의 부가적인 지지부들(예컨대, 2개 이상의 기계적 구조들)이 제공될 수 있으며, 하나 이상의 부가적인 지지부들은, 제1 방향(101)으로의 자유도 및 제2 방향(102)으로의 자유도를 갖도록 구성된다. 특히, 도 4b에 예시적으로 도시된 바와 같이, 제3 기계적 구조(143) 및/또는 제4 기계적 구조(144)가 제공될 수 있다. 예를 들면, 제3 기계적 구조(143) 및/또는 제4 기계적 구조(144)는, 도 5a 및 도 5b를 참조하여 예시적으로 설명되는 바와 같이 제1 기계적 구조로서 구성될 수 있다. 예컨대, 도 4b에 예시적으로 도시된 바와 같이, 고정형 지지부(145) 및 제3 기계적 구조(143)는 마스크 프레임(110)의 제1 측부(110A) 상에 배열될 수 있고 그리고 제2 기계적 구조(142) 및 제4 기계적 구조(144)는 마스크 프레임(110)의 제2 측부(110B) 상에 배열될 수 있다. 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 제1 기계적 구조(141) 및 제2 기계적 구조(142)는 마스크 캐리어(120)에 통합된다. 예컨대, 제1 기계적 구조(141)는 마스크 캐리어(120)의 제1 측부(120A)에 통합될 수 있고 그리고 제2 기계적 구조(142)는 마스크 캐리어(120)의 제2 측부(120B)에 통합될 수 있다. 대안적으로, 제1 기계적 구조(141) 및 제2 기계적 구조(142)는 마스크 프레임(110)에 통합될 수 있다. 예를 들면, 제1 기계적 구조(141)는 마스크 프레임(110)의 제1 측부(110A)에 통합될 수 있고 그리고 제2 기계적 구조(142)는 마스크 프레임(110)의 제2 측부(110B)에 통합될 수 있다.
[0046] 도 5a, 도 5b, 및 도 5c를 예시적으로 참조하여, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 제1 기계적 구조(141)는 EDM 컷(cut) 구조일 수 있고 그리고/또는 제2 기계적 구조(142)는 EDM 컷 구조일 수 있다. 특히, 제1 기계적 구조(141)는, 도 5a에 예시적으로 도시된 바와 같이 마스크 캐리어(120)에 통합되거나 또는 마스크 프레임(명시적으로 도시되지 않음)에 통합되는 EDM 컷 구조일 수 있다. 따라서, 제2 기계적 구조(142)는, 도 5c에 예시적으로 도시된 바와 같이 마스크 캐리어(120)에 통합되거나 또는 마스크 프레임(명시적으로 도시되지 않음)에 통합되는 EDM 컷 구조일 수 있다.
[0047] 예컨대, 도 5a에 개략적으로 도시된 바와 같이, 제1 기계적 구조(141)는, 제1 방향(101)으로 연장되는 2개의 제1 컴플라이언트 엘리먼트들(151)을 포함할 수 있다. 추가로, 제1 기계적 구조(141)는, 제2 방향(102)으로 연장되는 2개의 제2 컴플라이언트 엘리먼트들(152)을 포함할 수 있다. 특히, 2개의 제1 컴플라이언트 엘리먼트들(151) 및 2개의 제2 컴플라이언트 엘리먼트들(152)은 EDM 컷 구조들에 의해 제공될 수 있다. 도 5a에서, 단부들에 점들을 갖는 실선들이 EDM 컷들을 표현한다. 예를 들면, EDM 컷들은, 0.5 mm 내지 2.0 mm, 예컨대 1.0 mm ± 0.1 mm의 폭을 가질 수 있다. 도 5a에 도시된 바와 같은 예에서, 2개의 제1 컴플라이언트 엘리먼트들(151) 및 2개의 제2 컴플라이언트 엘리먼트들(152)은 십자형(cross-like) 패턴으로 배열된다.
[0048] 도 5b는 본원에 설명된 일부 실시예들에 따른, 마스크 어레인지먼트의 마스크 프레임을 지지하기 위한 제1 기계적 구조의 개략적인 대안적 예를 도시한다. 도 5b에 도시된 바와 같은 예에서, 2개의 제2 컴플라이언트 엘리먼트들(152)은, 2개의 제1 컴플라이언트 엘리먼트들(151)의 좌측 및 우측 상에 제공된다. 따라서, 2개의 제1 컴플라이언트 엘리먼트들(151) 및 2개의 제2 컴플라이언트 엘리먼트들(152)은 H형 패턴으로 배열될 수 있다.
[0049] 따라서, 제1 기계적 구조(141)는, 제1 방향(101)으로의 정확히 하나의 컴플라이언트 지지부뿐만 아니라 제2 방향(102)으로의 정확히 하나의 컴플라이언트 지지부를 제공하도록 구성된다. 추가로, 도 5a로부터, 제1 기계적 구조(141)는 제3 방향(103)으로의 컴플라이언트 지지를 추가로 제공하도록 구성된다는 것이 이해될 것이다. 예를 들면, 제1 컴플라이언트 엘리먼트(151) 및 제2 컴플라이언트 엘리먼트(152)의 제3 방향으로의 치수들은, 제3 방향(103)으로의 컴플라이언트 지지가 제공되도록 선택될 수 있다. 예시적 목적들을 위해, 마스크 프레임을 마스크 캐리어에 연결시키기 위한 제1 기계적 구조(141)의 연결 포인트 또는 장착 포인트가 도 5a에서 참조 번호(133)로 표시된다.
[0050] 도 5c에 예시적으로 도시된 바와 같이, 제2 기계적 구조(142)는, 제2 방향(102)으로 연장되는 2개의 제3 컴플라이언트 엘리먼트들(153)을 포함할 수 있다. 따라서, 제2 기계적 구조(142)는, 제2 방향(102)으로의 정확히 하나의 컴플라이언트 지지부를 제공하도록 구성된다. 따라서, 도 5c에 도시된 바와 같은 구조를 90°만큼 회전시킴으로써, 제1 방향(101)으로 정확히 하나의 컴플라이언트 지지부가 제공될 수 있도록, 제1 방향(101)으로 연장되는 2개의 제3 컴플라이언트 엘리먼트들(153)을 포함하는 제2 기계적 구조(142)가 실현될 수 있다는 것이 이해될 것이다.
[0051] 추가로, 도 5c로부터, 제2 기계적 구조(142)는 제3 방향(103)으로의 컴플라이언트 지지를 추가로 제공하도록 구성될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 예를 들면, 2개의 제3 컴플라이언트 엘리먼트들(153)의 제3 방향으로의 치수들은, 제3 방향(103)으로의 컴플라이언트 지지가 제공되도록 선택될 수 있다. 예시적 목적들을 위해, 마스크 프레임을 마스크 캐리어에 연결시키기 위한 제2 기계적 구조(142)의 연결 포인트 또는 장착 포인트가 도 5c에서 참조 번호(134)로 표시된다.
[0052] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 제1 컴플라이언트 엘리먼트(151) 및/또는 제2 컴플라이언트 엘리먼트(152) 및/또는 제3 컴플라이언트 엘리먼트(153)는, zic-zac 엘리먼트(예컨대, 아코디언형(accordion-like) 구조를 갖는 엘리먼트)와 같은 세장형 엘리먼트, 또는 컴플라이언스를 제공하도록 구성되는 임의의 다른 적절한 엘리먼트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 엘리먼트로서 구성될 수 있다.
[0053] 추가로, 2개의 제3 컴플라이언트 엘리먼트들(153)은 EDM 컷 구조들에 의해 제공될 수 있다. 도 5c에서, 단부들에 점들을 갖는 실선들이 EDM 컷들을 표현한다. 예를 들면, EDM 컷들은, 0.5 mm 내지 1.5 mm, 예컨대 1.0 mm ± 0.1 mm의 폭을 가질 수 있다. 도 5c에 도시된 바와 같은 예에서, 2개의 제3 컴플라이언트 엘리먼트들(153)은, 제2 방향(102)으로 서로 대향하게 배열된다.
[0054] 도 6을 예시적으로 참조하면, 기판을 프로세싱하기 위한 장치(200)가 설명된다. 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 장치는, 내부에서 층을 증착하도록 적응되는 프로세싱 챔버(201); 층을 형성하는 재료를 증착하기 위한 증착 소스(225); 및 본원에 설명된 실시예들 중 임의의 실시예에 따른 마스크 어레인지먼트(100)를 포함한다.
[0055] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 장치는, 본원에 설명된 바와 같은 기판을 운반하기 위한 기판 캐리어(220)를 더 포함한다. 일부 구현들에서, 기판 캐리어(220)의 운반을 위해 구성되는 제1 트랙 어레인지먼트(210)가 제공된다. 추가로, 마스크 어레인지먼트(100)의 운반을 위해 구성되는 제2 트랙 어레인지먼트(230)가 제공될 수 있다.
[0056] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 프로세싱 챔버(201)는 진공 챔버(예컨대, 진공 프로세싱 챔버, 특히, 진공 증착 챔버)이다. 본원에서 사용되는 "진공"이라는 용어는, 예컨대 10 mbar 미만의 진공 압력을 갖는 기술적 진공의 의미로 이해될 수 있다. 통상적으로, 본원에서 설명되는 바와 같은 진공 챔버 내의 압력은 10-5 mbar 내지 약 10-8 mbar, 더 통상적으로는 10-5 mbar 내지 10-7 mbar, 훨씬 더 통상적으로는 약 10-6 mbar 내지 약 10-7 mbar일 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 진공 챔버 내의 압력은 진공 챔버 내의 증발된 재료의 분압(partial pressure) 또는 총 압력(이는, 증발된 재료만이 진공 챔버 내에 증착될 컴포넌트로서 존재할 때 대략적으로 동일할 수 있음)인 것으로 고려될 수 있다. 일부 실시예들에서, 진공 챔버 내의 총 압력은, 특히, 진공 챔버 내에 증발된 재료 외에 제2 컴포넌트(이를테면, 가스 등)가 존재하는 경우에, 약 10-4 mbar 내지 약 10-7 mbar의 범위일 수 있다.
[0057] 추가로, 도 6에 예시적으로 도시된 바와 같이, 장치는, 운반 어레인지먼트를 갖는 적어도 하나의 추가 챔버(202)를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 추가 챔버(202)는, 회전 모듈, 트랜싯(transit) 모듈, 또는 이들의 조합일 수 있다. 회전 모듈에서, 트랙 어레인지먼트 및 그 상부에 배열되는 캐리어(들)가 회전 축, 이를테면 수직 회전 축을 중심으로 회전될 수 있다. 일 예로서, 캐리어(들)는, 장치의 좌측으로부터 장치의 우측으로 이송될 수 있거나, 그 반대가 또한 가능하다. 트랜싯 모듈은, 캐리어(들)가 상이한 방향들로 트랜싯 모듈을 통해 이송될 수 있도록 트랙들을 포함할 수 있다. 진공 프로세싱 챔버는 유기 재료들을 증착하도록 구성될 수 있다.
[0058] 도 6에 예시적으로 도시된 바와 같이, 증착 소스(225), 특히, 증발 소스가 프로세싱 챔버(201)에 제공될 수 있다. 증착 소스(225)는, 트랙 또는 선형 가이드(222) 상에 제공될 수 있다. 선형 가이드(222)는 증착 소스(225)의 병진 이동을 위해 구성될 수 있다. 추가로, 증착 소스(225)의 병진 이동을 제공하기 위한 드라이브가 제공될 수 있다. 특히, 증착 소스(225)의 무접촉 운반을 위한 운반 장치가 제공될 수 있다.
[0059] 도 6을 예시적으로 참조하여, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 선형 가이드(222)를 따른 증착 소스(225)의 병진 이동을 위해 구성되는 소스 지지부(231)가 제공될 수 있다. 소스 지지부(231)는, 증발 도가니(crucible)(221), 및 증발 도가니(221) 위에 제공된 분배 어셈블리(226)를 지지할 수 있다. 따라서, 증발 도가니(221)에서 발생되는 증기는 상향으로 그리고 분배 어셈블리의 하나 또는 그 초과의 배출구들 밖으로 이동할 수 있다. 따라서, 분배 어셈블리(226)는, 증발된 유기 재료, 특히 증발된 소스 재료의 플룸(plume)을 분배 어셈블리로부터 기판으로 제공하도록 구성된다.
[0060] 도 6에 예시적으로 도시된 바와 같이, 프로세싱 챔버(201)는 게이트 밸브들(215)을 가질 수 있으며, 게이트 밸브들(215)을 통해, 인접한 추가적인 챔버(202), 예컨대 라우팅 모듈 또는 인접한 서비스 모듈에 진공 프로세싱 챔버가 연결될 수 있다. 특히, 게이트 밸브들(215)은 인접한 추가적인 챔버에 대한 진공 시일(seal)을 허용하고, 기판 및/또는 마스크를 진공 프로세싱 챔버 내로 또는 밖으로 이동시키기 위해 개방 및 폐쇄될 수 있다.
[0061] 도 6을 예시적으로 참조하여, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 2개의 기판들, 예컨대 제1 기판(10A) 및 제2 기판(10B)이 개개의 운반 트랙들, 이를테면 본원에 설명된 바와 같은 개개의 제1 트랙 어레인지먼트들(210) 상에 지지될 수 있다. 추가로, 상부에 본원에 설명된 바와 같은 마스크 어레인지먼트들(100)을 제공하기 위한 2개의 트랙들, 예컨대, 본원에 설명된 바와 같은 2개의 제2 트랙 어레인지먼트들(230)이 제공될 수 있다. 특히, 마스크 어레인지먼트(100) 및/또는 기판 캐리어(220)의 운반을 위한 트랙들은 무접촉 운반을 위해 구성될 수 있다.
[0062] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 기판들의 코팅은 개개의 마스크들, 예컨대 에지 제외 마스크 또는 섀도우 마스크에 의해 기판들을 마스킹하는 것을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 도 6에 예시적으로 도시된 바와 같이, 제1 기판(10A)에 대응하는 제1 마스크(20A) 및 제2 기판(10B)에 대응하는 제2 마스크(20B)가 본원에 설명된 바와 같은 개개의 마스크 어레인지먼트들에 제공되어, 제1 마스크(20A) 및 제2 마스크(20B)를 미리결정된 포지션에 홀딩한다.
[0063] 본원에 설명된 다른 실시예들과 결합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 기판은, 본원에 설명된 바와 같은 정렬 시스템(도 6에 도시되지 않음)에 연결될 수 있는 기판 캐리어(220)에 의해 지지된다. 정렬 시스템은, 마스크에 대한 기판의 포지션을 조정하도록 구성될 수 있다. 유기 재료의 증착 동안 기판과 마스크 사이의 적절한 정렬을 제공하기 위해, 기판이 마스크에 대해 이동될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 본원에 설명된 다른 실시예들과 결합될 수 있는 추가적인 실시예에 따르면, 대안적으로 또는 부가적으로, 마스크 프레임을 홀딩하는 마스크 캐리어가 정렬 시스템에 연결될 수 있다. 본원에 설명된 다른 실시예들과 결합될 수 있는 더 추가적인 실시예에 따르면, 대안적으로 또는 부가적으로, 마스크를 홀딩하는 마스크 프레임이 정렬 시스템에 연결될 수 있다. 따라서, 마스크가 기판에 대해 포지셔닝될 수 있거나, 또는 마스크 및 기판 둘 모두가 서로에 대해 포지셔닝될 수 있다. 본원에 설명된 바와 같은 정렬 시스템은, 증착 프로세스 동안의 마스킹의 적절한 정렬을 허용할 수 있고, 이는 고품질 또는 OLED 디스플레이 제조에 유익하다.
[0064] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 기판을 프로세싱하기 위한 장치는, 대면적 기판들을 프로세싱하도록 구성된다. 예컨대, 본원에 설명된 바와 같은 "대면적 기판"은, 적어도 0.01 m2, 구체적으로는 적어도 0.1 m2, 그리고 보다 구체적으로는 적어도 0.5 m2의 사이즈를 가질 수 있다. 예를 들면, 대면적 기판 또는 캐리어는, 약 0.67 m2 기판들(0.73 x 0.92 m)에 대응하는 GEN 4.5, 약 1.4 m2 기판들(1.1 m x 1.3 m)에 대응하는 GEN 5, 약 4.29 m2 기판들(1.95 m x 2.2 m)에 대응하는 GEN 7.5, 약 5.7 m2 기판들(2.2 m x 2.5 m)에 대응하는 GEN 8.5 또는 심지어 약 8.7 m2 기판들(2.85 m x 3.05 m)에 대응하는 GEN 10일 수 있다. GEN 11 및 GEN 12와 같은 훨씬 더 큰 세대(generation)들 및 대응하는 기판 면적들이 유사하게 구현될 수 있다. 따라서, 기판은, GEN 1, GEN 2, GEN 3, GEN 3.5, GEN 4, GEN 4.5, GEN 5, GEN 6, GEN 7, GEN 7.5, GEN 8, GEN 8.5, GEN 10, GEN 11, 및 GEN 12로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다. 특히, 기판은, GEN 4.5, GEN 5, GEN 7.5, GEN 8.5, GEN 10, GEN 11, 및 GEN 12 또는 더 큰 세대 기판들로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다. 추가로, 기판 두께는, 0.1 내지 1.8 mm, 특히 약 0.9 mm 또는 그 미만, 이를테면 0.7 mm 또는 0.5 mm일 수 있다.
[0065] 본 개시내용에서, 본원에 사용되는 바와 같은 "기판" 또는 "대면적 기판"이라는 용어는, 특히, 비가요성(inflexible) 기판들, 예컨대 유리 플레이트들 및 금속 플레이트들을 포괄할 것이다. 그러나, 본 개시내용은 그들로 제한되지 않으며, "기판"이라는 용어는 또한, 웨브(web) 또는 포일(foil)과 같은 가요성 기판들을 포괄할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 기판은 재료 증착에 적절한 임의의 재료로 제조될 수 있다. 예컨대, 기판은, 증착 프로세스에 의해 코팅될 수 있는 유리(예컨대, 소다-석회 유리(soda-lime glass), 보로실리케이트 유리 등), 금속, 폴리머, 세라믹, 화합물 재료들, 탄소 섬유 재료들, 운모 또는 임의의 다른 재료 또는 재료들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 재료로 만들어질 수 있다.
[0066] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 기판을 프로세싱하기 위한 장치는, 수직 기판 프로세싱을 위해 구성된다. "수직 기판 프로세싱"이라는 표현은, 장치가 기판을 실질적으로 수직 배향(실질적으로 수직 = 수직 +- 15°)으로 프로세싱하도록 구성되는 것으로 이해될 수 있다. 본 개시내용 전반에 걸쳐 사용되는 바와 같이, "수직 방향" 또는 "수직 배향"과 같은 용어들은, "수평 방향" 또는 "수평 배향"과 구별하기 위한 것으로 이해된다. 따라서, 기판을 프로세싱하기 위한 장치는, 특히, 본원에 설명된 바와 같은 마스크 어레인지먼트를 이용함으로써, 수직 기판 마스킹을 위해 구성될 수 있다. "수직 기판 마스킹"이라는 표현은, 장치가 기판을 실질적으로 수직 배향으로 마스킹하도록 구성되는 것으로 이해될 수 있다. 따라서, 마스크 어레인지먼트는, 프로세싱 장치 내에서(특히, 프로세싱 챔버 내에서) 실질적으로 수직 상태(실질적으로 수직 상태 = 수직 상태 +- 15°)로 제공될 수 있다.
[0067] 도 7에 도시된 흐름도를 예시적으로 참조하면, 마스크 캐리어(120)에 의한 마스크 프레임(110)의 지지를 제공하기 위한 방법(300)이 설명된다. 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 방법은, 특히 전기 방전 기계가공에 의해, 제1 기계적 구조(141) 및 제2 기계적 구조(142)를 제조하는 단계(블록 310)를 포함하며, 그 제조하는 단계는, 제1 기계적 구조 및 제2 기계적 구조가 마스크 캐리어(120)에 또는 마스크 프레임(110)에 통합되도록 이루어진다. 특히, 제1 기계적 구조(141)를 제조하는 것은, 제1 방향으로의 마스크 프레임의 컴플라이언트 지지 및 제2 방향으로의 컴플라이언트 지지가 제공되도록 제1 기계적 구조(141)를 제조하는 것을 포함한다. 추가로, 제2 기계적 구조(142)를 제조하는 것은, 제1 방향으로의 자유도가 제공되도록 제2 기계적 구조(142)를 제조하는 것을 포함한다. 부가적으로, 방법은, 제1 기계적 구조(141)를 통해 그리고 제2 기계적 구조(142)를 통해 마스크 프레임(110)을 마스크 캐리어(120)에 연결시키는 단계(블록 320)를 포함한다.
[0068] 마스크 어레인지먼트의 실시예들과 관련하여 설명된 바와 같은 피쳐들은, 마스크 캐리어(120)에 의한 마스크 프레임(110)의 지지를 제공하기 위한 방법(300)에 또한 적용될 수 있다는 것이 이해될 것이다.
[0069] 위의 관점에서, 본원에 설명된 바와 같은 실시예들은 유익하게, OLED들과 같은 광전자 디바이스들의 제조를 위한 개선된 마스크 어레인지먼트들, 개선된 마스킹 기법들, 및 개선된 장치들을 제공한다는 것이 이해될 것이다. 특히, 본원에 설명된 바와 같은 실시예들은, 마스크 캐리어로부터 마스크 프레임으로의 응력 또는 로드의 전달이 실질적으로 감소되거나 심지어 제거되는 장점을 갖는다. 더 구체적으로, 본원에 설명된 바와 같은 실시예들은, 마스크 캐리어로부터 마스크 프레임으로의 기계적 응력 또는 로드의 전달 및/또는 마스크 캐리어로부터 마스크 프레임으로의 열적 응력 또는 로드의 전달이 실질적으로 감소되거나 심지어 방지된다는 장점을 갖는다. 따라서, 본 개시내용의 실시예들은, 광전자 디바이스들의 제조를 위한 종래의 마스크 어레인지먼트들, 종래의 마스킹 기법들, 및 종래의 프로세싱 장치들과 비교하여, 특히 고품질 OLED들을 제조함에 있어 개선된 품질의 프로세싱 결과를 제공한다.
[0070] 전술한 내용이 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이지만, 본 개시내용의 다른 그리고 추가적인 실시예들이 본 개시내용의 기본적인 범위로부터 벗어나지 않으면서 안출될 수 있으며, 본 개시내용의 범위는 하기의 청구항들에 의해 결정된다.
[0071] 특히, 이러한 서면 설명은, 최상의 모드(best mode)를 포함하는 본 개시내용을 개시하기 위해, 그리고 또한, 임의의 당업자로 하여금 임의의 디바이스들 또는 시스템들을 제조하고 사용하고 그리고 임의의 포함된 방법들을 수행하는 것을 비롯하여 설명된 청구대상을 실시할 수 있도록 하기 위해, 예들을 사용한다. 전술한 내용에서 다양한 특정 실시예들이 개시되었지만, 위에서 설명된 실시예들의 상호 비-배타적인 특징들은 서로 결합될 수 있다. 특허가능한 범위는 청구항들에 의해 정의되며, 그리고 다른 예들은, 이들이 청구항들의 문언과 상이하지 않은 구조적 엘리먼트들을 갖는 경우 또는 이들이 청구항들의 문언과 실질적으로 차이들이 없는 등가의 구조적 엘리먼트들을 포함하는 경우, 청구항들의 범위 내에 있는 것으로 의도된다.

Claims (17)

  1. 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(arrangement)(100)로서,
    - 수직으로 배향된 마스크(115)를 홀딩(hold)하기 위한 마스크 프레임(110); 및
    - 상기 마스크 프레임(110)을 홀딩하기 위한 마스크 캐리어(120)를 포함하며,
    상기 마스크 프레임(110)은, 컴플라이언트(compliant) 지지부(130)에 의해 상기 마스크 캐리어(120)에 연결되고,
    상기 컴플라이언트 지지부(130)는, 상기 마스크 프레임(110)의 제1 측부(110A)에 있는 제1 컴플라이언트 지지부(131), 및 상기 마스크 프레임(110)의 제1 측부(110A)에 대향하는, 상기 마스크 프레임(110)의 제2 측부(110B)에 있는 제2 컴플라이언트 지지부(132)를 포함하고,
    상기 제1 컴플라이언트 지지부(131)는, 제1 방향(101) 및 제2 방향(102)으로 상기 마스크 프레임(110)을 지지하도록 구성되고,
    상기 제2 컴플라이언트 지지부(132)는, 상기 제2 방향으로 상기 마스크 프레임(110)을 지지하고 그리고 상기 제1 방향(101)으로 자유도(degree of freedom)를 제공하도록 구성되고,
    상기 제1 방향은 수평 방향이고, 상기 제2 방향(102)은 수직 방향인, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  2. 제1항에 있어서,
    상기 컴플라이언트 지지부는, 상기 마스크 프레임이 상기 마스크 캐리어로부터 기계적으로 디커플링(decouple)되도록 구성되는, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  3. 제1항에 있어서,
    상기 컴플라이언트 지지부(130)는, 제3 방향(103)으로의 컴플라이언트 지지를 제공하도록 구성되는, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  4. 제1항에 있어서,
    상기 마스크 캐리어(120)는, 상기 마스크 프레임(110) 주위에 적어도 부분적으로 배열되는, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  5. 제1항에 있어서,
    상기 컴플라이언트 지지부(130)는 상기 마스크 캐리어(120)에 통합되거나, 또는
    상기 컴플라이언트 지지부(130)는 상기 마스크 프레임(110)에 통합되는, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  6. 제1항에 있어서,
    상기 컴플라이언트 지지부(130)는, 전기 방전 기계가공(electrical discharge machining)에 의해 제조되는 기계적 구조에 의해 제공되는, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  7. 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100)로서,
    - 수직으로 배향된 마스크(115)를 홀딩하기 위한 마스크 프레임(110); 및
    - 상기 마스크 프레임(110)을 홀딩하기 위한 마스크 캐리어(120)를 포함하며,
    상기 마스크 프레임(110)은, 제1 기계적 구조(141)를 통해 그리고 제2 기계적 구조(142)를 통해 상기 마스크 캐리어(120)에 연결되고,
    상기 제1 기계적 구조(141)는, 제1 방향(101)으로 그리고 제2 방향(102)으로 상기 마스크 프레임(110)을 지지하도록 구성되고,
    상기 제2 기계적 구조(142)는, 상기 제1 방향(101)으로 자유도를 제공하고 그리고 상기 마스크 프레임(110)을 상기 제2 방향(102)으로 지지하도록 구성되고,
    상기 제1 방향(101)은 수평 방향이고, 상기 제2 방향(102)은 수직 방향인, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  8. 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100)로서,
    - 수직으로 배향된 마스크(115)를 홀딩하기 위한 마스크 프레임(110); 및
    - 상기 마스크 프레임(110)을 홀딩하기 위한 마스크 캐리어(120)를 포함하며,
    상기 마스크 프레임(110)은, 제1 기계적 구조(141)를 통해 그리고 제2 기계적 구조(142)를 통해 상기 마스크 캐리어(120)에 연결되고,
    상기 제1 기계적 구조(141)는, 제1 방향(101)으로 그리고 제2 방향(102)으로 상기 마스크 프레임(110)을 고정시키기 위한 고정형 지지부(145)로서 구성되고,
    상기 고정형 지지부(145)는, 상기 마스크 캐리어의 제1 코너 상에 제공되고,
    상기 제2 기계적 구조(142)는, 상기 마스크 캐리어의 인접 코너 상에 제공되고,
    상기 제2 기계적 구조(142)는, 상기 제1 방향(101)으로 자유도를 제공하고 그리고 상기 마스크 프레임(110)을 상기 제2 방향(102)으로 고정시키도록 구성되고,
    상기 제1 방향(101)은 수평 방향이고, 상기 제2 방향(102)은 수직 방향인, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  9. 제7항에 있어서,
    상기 제1 기계적 구조(141) 및 상기 제2 기계적 구조(142)는, 상기 제1 방향(101) 및 상기 제2 방향(102)에 수직인 제3 방향(103)으로의 상기 마스크 프레임(110)의 컴플라이언트 지지를 제공하도록 구성되는, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  10. 제7항에 있어서,
    상기 제1 기계적 구조(141) 및 상기 제2 기계적 구조(142)는 상기 마스크 캐리어(120)에 통합되는, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  11. 제7항에 있어서,
    상기 제1 기계적 구조(141) 및 상기 제2 기계적 구조(142)는 상기 마스크 프레임(110)에 통합되는, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  12. 제7항에 있어서,
    상기 제1 기계적 구조(141)는, 상기 제1 방향(101)으로 연장되는 제1 컴플라이언트 엘리먼트(151) 및 상기 제2 방향(102)으로 연장되는 제2 컴플라이언트 엘리먼트(152)를 포함하고,
    상기 제2 기계적 구조(142)는, 상기 제2 방향(102)으로 연장되는 제3 컴플라이언트 엘리먼트(153)를 포함하는, 프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  13. 기판을 프로세싱하기 위한 장치(200)로서,
    - 내부에서 층을 증착하도록 적응되는 프로세싱 챔버(201);
    - 층을 형성하는 재료를 증착하기 위한 증착 소스(225); 및
    - 상기 프로세싱 챔버(201) 내의, 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 마스크 어레인지먼트(100)를 포함하는, 기판을 프로세싱하기 위한 장치(200).
  14. 수직으로 배향된 마스크 캐리어에 의한 마스크 프레임의 지지를 제공하기 위한 방법(300)으로서,
    - 제1 기계적 구조 및 제2 기계적 구조를 제조하는 단계 ― 상기 제조하는 단계는, 상기 제1 기계적 구조 및 상기 제2 기계적 구조가 상기 마스크 캐리어에 또는 상기 마스크 프레임에 통합되도록 이루어지고, 상기 제1 기계적 구조는 상기 마스크 프레임의 제1 측부 또는 상기 마스크 캐리어의 제1 측부에 제공되고, 상기 제2 기계적 구조는, 상기 마스크 프레임의 제1 측부 또는 상기 마스크 캐리어의 상기 제1 측부에 대향하는, 상기 마스크 프레임의 제2 측부 또는 상기 마스크 캐리어의 제2 측부에 제공되고, 상기 제1 기계적 구조는, 제1 방향으로의 그리고 제2 방향으로 상기 마스크 프레임을 지지하도록 구성되는 상기 마스크 프레임의 제1 컴플라이언트 지지를 제공하고, 상기 제2 기계적 구조는 상기 제1 방향으로 자유도를 제공하고 그리고 상기 제2 기계적 구조는 상기 제2 방향으로 상기 마스크 프레임을 지지하도록 구성되는 상기 마스크 프레임의 제2 컴플라이언트 지지를 제공하고, 그리고 상기 제1 방향은 수평 방향이고, 상기 제2 방향(102)은 수직 방향임 ―; 및
    - 상기 제1 기계적 구조를 통해 그리고 상기 제2 기계적 구조를 통해 상기 마스크 프레임을 상기 마스크 캐리어에 연결시키는 단계를 포함하는, 마스크 캐리어에 의한 마스크 프레임의 지지를 제공하기 위한 방법(300).
  15. 제2항에 있어서,
    상기 컴플라이언트 지지부는, 마스크 캐리어 변형들이 상기 마스크 프레임으로부터 디커플링되도록 구성되는,
    프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  16. 제3항에 있어서,
    상기 컴플라이언트 지지부는, 상기 제3 방향으로 탄성을 제공하는 탄성 기초(elastic foundation)를 포함하는,
    프로세싱 챔버에서의 증착 동안 기판을 마스킹하기 위한 마스크 어레인지먼트(100).
  17. 제14항에 있어서,
    상기 제1 기계적 구조 및 상기 제2 기계적 구조는 전기 방전 기계가공에 의해 제조되는,
    마스크 캐리어에 의한 마스크 프레임의 지지를 제공하기 위한 방법(300).
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