KR20190087996A - 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법들, 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치, 마스크 교환 챔버, 및 진공 시스템 - Google Patents

마스크 디바이스를 핸들링하는 방법들, 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치, 마스크 교환 챔버, 및 진공 시스템 Download PDF

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볼프강 클레인
스리니바스 사루구
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Abstract

마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법이 설명된다. 일 실시예에 따르면, 방법은: 마스크 디바이스를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트(20) 상에 마스크 디바이스(10)를 로딩하는 단계(X1); 홀딩 어레인지먼트(20)를 제1 상태로부터 제2 상태로 이동시키는 단계(X2) ― 제2 상태는 비-수평 상태임 ―; 홀딩 어레인지먼트(20)를 마스크 캐리어(15)와 정렬시키는 단계(X3); 및 홀딩 어레인지먼트(20)로부터 마스크 캐리어(15)로 마스크 디바이스(10)를 이송하는 단계(X4)를 포함한다. 추가로, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치(100)뿐만 아니라 그러한 장치를 포함하는 진공 시스템이 설명된다.

Description

마스크 디바이스를 핸들링하는 방법들, 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치, 마스크 교환 챔버, 및 진공 시스템
[0001] 본 개시내용의 실시예들은 마스크 디바이스를 핸들링(handle)하는 방법들에 관한 것이다. 특히, 본 개시내용의 실시예들은, 진공 시스템에서 기판 상의 마스킹 방식(masked) 증착을 위해 구성되는 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법들에 관한 것이다. 추가적인 실시예들은, 진공 시스템에서 이용되는 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치에 관한 것이다. 추가적인 실시예들은, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치를 포함하는, 기판 상에 재료를 증착하기 위한 진공 시스템에 관한 것이다.
[0002] 유기 재료들을 활용하는 광-전자 디바이스들은, 다수의 이유들로 점점 더 대중화되고 있다. 그러한 디바이스들을 제조하는 데 사용되는 재료들 중 다수는 비교적 저렴하며, 그에 따라, 유기 광-전자 디바이스들은 무기 디바이스들에 비해 비용 이점들의 가능성을 갖고 있다. 유기 재료들의 고유 특성들, 이를테면 가요성(flexibility)은, 이를테면 가요성 또는 비가요성 기판들 상의 증착을 위한 애플리케이션들에 대해 유리할 수 있다. 유기 광-전자 디바이스들의 예들은 유기 발광 디바이스(OLED)들, 유기 포토트랜지스터(phototransistor)들, 유기 광전지(photovoltaic cell)들, 및 유기 광검출기들을 포함한다.
[0003] OLED들에 대해, 유기 재료들은 종래의 재료들에 비해 성능 이점들을 가질 수 있다. 예컨대, 유기 발광 층(emissive layer)이 광을 방출하는 파장은 적절한 도펀트(dopant)들로 용이하게 튜닝될 수 있다. OLED들은, 디바이스에 걸쳐 전압이 인가되는 경우에 광을 방출하는 유기 박막들을 활용한다. OLED들은, 평판 디스플레이들, 조명, 및 백라이팅(backlighting)과 같은 애플리케이션들에서 사용하는 데 있어서 점점 더 관심을 끄는 기술이 되고 있다.
[0004] 재료들, 특히 유기 재료들은 통상적으로, 진공 시스템에서 부기압(sub-atmospheric pressure) 하에 기판 상에 증착된다. 증착 동안, 마스크 디바이스가 기판의 전방에 배열될 수 있으며, 여기서, 마스크 디바이스는, 예컨대 증발에 의해 기판 상에 증착될 재료 패턴에 대응하는 개구 패턴을 정의하는 적어도 하나의 개구 또는 복수의 개구들을 가질 수 있다. 통상적으로, 기판은, 증착 동안에 마스크 디바이스의 후방에 배열되고 그리고 마스크 디바이스에 대하여 정렬된다. 예컨대, 마스크 캐리어는, 진공 시스템의 증착 챔버 내로 마스크 디바이스를 운반하기 위해 사용될 수 있고, 기판 캐리어는, 마스크 디바이스의 후방에 기판을 배열하기 위해서 증착 챔버 내로 기판을 운반하기 위해 사용될 수 있다.
[0005] 예컨대, 사용된 마스크 디바이스들의 세정, 마스크 교환, 또는 유지보수를 위해, 규칙적인 시간 간격들로, 사용된 마스크 디바이스들을 진공 시스템으로부터 제거하는 것이 유익할 수 있다. 추가로, 예컨대, 시스템에 깨끗한 또는 사용되지 않은 마스크들을 제공하기 위해 또는 마스크 교환을 위해, 규칙적인 시간 간격들로, 사용될 마스크 디바이스들을 진공 시스템 내로 로딩(load)하는 것이 유익할 수 있다. 그러나, 마스크 교환은 시간-소모적이고, 시스템의 유휴 시간들을 초래할 수 있으며, 이는 소유 비용(cost of ownership)을 증가시킨다.
[0006] 따라서, 진공 시스템에서의 신속하고 효율적인 마스크 핸들링을 위한 방법 및 장치에 대한 필요성이 존재한다. 특히, 기판들 상으로의 마스킹 방식 증착을 위해 구성되는 진공 시스템에서 마스크 교환을 단순화하고 가속시키는 것은 유익할 것이다.
[0007] 상기된 바를 고려하여, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법들, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하는 방법, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치, 마스크 교환 챔버뿐만 아니라 기판 상에 재료를 증착하기 위한 진공 시스템이 제공된다.
[0008] 본 개시내용의 일 양상에 따르면, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법이 제공된다. 방법은: 마스크 디바이스를 홀딩(hold)하기 위한 홀딩 어레인지먼트(arrangement) 상에 마스크 디바이스를 로딩하는 단계; 홀딩 어레인지먼트를 제1 상태로부터 제2 상태로 이동시키는 단계 ― 제2 상태는 비-수평 상태임 ―; 홀딩 어레인지먼트를 마스크 캐리어와 정렬시키는 단계; 및 홀딩 어레인지먼트로부터 마스크 캐리어로 마스크 디바이스를 이송하는 단계를 포함한다.
[0009] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법이 제공된다. 방법은: 마스크 디바이스를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트 상에 마스크 디바이스를 로딩하는 단계; 홀딩 어레인지먼트를 제1 배향 또는 제1 포지션으로부터 제2 배향 또는 제2 포지션으로 이동시키는 단계 ― 제2 배향 또는 제2 포지션은 비-수평 배향 또는 비-수평 포지션임 ―; 홀딩 어레인지먼트를 마스크 캐리어와 정렬시키는 단계; 및 홀딩 어레인지먼트로부터 마스크 캐리어로 마스크 디바이스를 이송하는 단계를 포함한다.
[0010] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법이 제공된다. 방법은: 홀딩 어레인지먼트를 마스크 디바이스를 홀딩하는 마스크 캐리어와 정렬시키는 단계 ― 홀딩 어레인지먼트는 제2 상태에 있음 ―; 마스크 캐리어로부터 홀딩 어레인지먼트로 마스크 디바이스를 이송하는 단계; 및 제2 상태로부터 제1 상태로 홀딩 어레인지먼트를 이동시키는 단계를 포함하며, 제2 상태는 비-수평 상태이다.
[0011] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법이 제공된다. 방법은: 홀딩 어레인지먼트를 마스크 디바이스를 홀딩하는 마스크 캐리어와 정렬시키는 단계 ― 홀딩 어레인지먼트는 제2 배향 또는 제2 포지션에 있음 ―; 마스크 캐리어로부터 홀딩 어레인지먼트로 마스크 디바이스를 이송하는 단계; 및 제2 배향 또는 제2 포지션으로부터 제1 배향 또는 제1 포지션으로 홀딩 어레인지먼트를 이동시키는 단계를 포함하며, 제2 배향 또는 제2 포지션은 비-수평 배향 또는 비-수평 포지션이다.
[0012] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하는 방법이 제공된다. 방법은: 홀딩 어레인지먼트를 마스크 디바이스를 홀딩하는 마스크 캐리어와 정렬시키는 단계 ― 홀딩 어레인지먼트는 제2 상태에 있고, 마스크 디바이스는 제1 마스크 디바이스임 ―; 마스크 캐리어로부터 홀딩 어레인지먼트로 제1 마스크 디바이스를 이송하는 단계; 및 제2 상태로부터 제1 상태로 홀딩 어레인지먼트를 이동시키는 단계를 포함하며, 제2 상태는 비-수평 상태이다. 추가로, 방법은: 마스크 디바이스를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트 상에 마스크 디바이스를 로딩하는 단계 ― 마스크 디바이스는 제2 마스크 디바이스임 ―; 홀딩 어레인지먼트를 제1 상태로부터 제2 상태로 이동시키는 단계 ― 제2 상태는 비-수평 상태임 ―; 홀딩 어레인지먼트를 마스크 캐리어와 정렬시키는 단계; 및 홀딩 어레인지먼트로부터 마스크 캐리어로 제2 마스크 디바이스를 이송하는 단계를 포함한다.
[0013] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하는 방법이 제공된다. 방법은: 홀딩 어레인지먼트를 마스크 디바이스를 홀딩하는 마스크 캐리어와 정렬시키는 단계 ― 홀딩 어레인지먼트는 제2 배향 또는 제2 포지션에 있고, 마스크 디바이스는 제1 마스크 디바이스임 ―; 마스크 캐리어로부터 홀딩 어레인지먼트로 제1 마스크 디바이스를 이송하는 단계; 및 제2 배향 또는 제2 포지션으로부터 제1 배향 또는 제1 포지션으로 홀딩 어레인지먼트를 이동시키는 단계를 포함하며, 제2 배향 또는 제2 포지션은 비-수평 배향 또는 비-수평 포지션이다. 추가로, 방법은: 마스크 디바이스를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트 상에 마스크 디바이스를 로딩하는 단계 ― 마스크 디바이스는 제2 마스크 디바이스임 ―; 홀딩 어레인지먼트를 제1 배향 또는 제1 포지션으로부터 제2 배향 또는 제2 포지션으로 이동시키는 단계 ― 제2 배향 또는 제2 포지션은 비-수평 배향 또는 비-수평 포지션임 ―; 홀딩 어레인지먼트를 마스크 캐리어와 정렬시키는 단계; 및 홀딩 어레인지먼트로부터 마스크 캐리어로 제2 마스크 디바이스를 이송하는 단계를 포함한다.
[0014] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치가 제공된다. 장치는: 마스크 디바이스를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트; 홀딩 어레인지먼트를 제1 상태와 제2 상태 사이에서 이동시키기 위한 메커니즘 ― 제2 상태는 비-수평 상태임 ―; 및 홀딩 어레인지먼트를 마스크 캐리어와 정렬시키기 위한 정렬 어셈블리를 포함한다.
[0015] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치가 제공된다. 장치는: 마스크 디바이스를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트; 홀딩 어레인지먼트를 제1 배향 또는 제1 포지션과 제2 배향 또는 제2 포지션 사이에서 이동시키기 위한 메커니즘 ― 제2 배향 또는 제2 포지션은 비-수평 배향 또는 비-수평 포지션임 ―; 및 홀딩 어레인지먼트를 마스크 캐리어와 정렬시키기 위한 정렬 어셈블리를 포함한다.
[0016] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 마스크 교환 챔버가 제공된다. 마스크 교환 챔버는, 마스크 캐리어를 홀딩하도록 구성되는 자기 부상 시스템; 및 본원에 설명된 임의의 실시예들에 따라 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치를 포함한다.
[0017] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 기판 상에 재료를 증착하기 위한 진공 시스템이 제공된다. 진공 시스템은, 본원에 설명된 임의의 실시예들에 따른 마스크 교환 챔버; 적어도 하나의 증착 챔버; 및 사용될 마스크 디바이스들 및 사용된 마스크 디바이스들을 마스크 교환 챔버와 적어도 하나의 증착 챔버 사이에서 비-수평 배향으로 운반하도록 구성되는 마스크 운반 시스템을 포함한다.
[0018] 본 개시내용의 추가적인 양상들, 이점들, 및 특징들은, 상세한 설명 및 첨부된 도면들로부터 명백하다.
[0019] 본 개시내용의 상기 열거된 특징들이 상세하게 이해될 수 있는 방식으로, 위에서 간략히 요약된 본 개시내용의 보다 구체적인 설명이 실시예들을 참조하여 이루어질 수 있다. 첨부된 도면들은 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이고, 하기에서 설명된다. 통상적인 실시예들이 도면들에 도시되고 후속하는 설명에서 상세히 설명된다.
[0020] 도 1은 본원에 설명된 실시예들에 따른, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법의 연속되는 스테이지들 (a), (b), (c), (d)의 개략적인 예시이다.
[0021] 도 2는 본원에 설명된 추가적인 실시예들에 따른, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법의 연속되는 스테이지들 (a), (b), (c), (d)의 개략적인 예시이다.
[0022] 도 3 (a) 및 도 3 (b)는 본원에 설명된 실시예들에 따른, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법의 2개의 상이한 스테이지들의 개략적인 예시이다.
[0023] 도 3 (c)는, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 언로딩(unload)하는 스테이지를 예시하는 본원에 설명된 실시예들에 따른 마스크 디바이스 및 마스크 캐리어의 개략적인 표현이다.
[0024] 도 4 및 도 5는 본원에 설명된 실시예들에 따른, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법들을 예시하기 위한 흐름도들이다.
[0025] 도 6은 본원에 설명된 실시예들에 따른, 마스크 디바이스를 교환하는 방법을 예시하기 위한 흐름도이다.
[0026] 도 7은 본원에 설명된 실시예들에 따른 마스크 교환 챔버의 개략도이다.
[0027] 도 8은 본원에 설명된 실시예들에 따른 진공 시스템의 개략도이다.
[0028] 이제, 다양한 실시예들이 상세히 참조될 것이며, 다양한 실시예들의 하나 이상의 예들이 도면들에 예시된다. 각각의 예는 설명으로 제공되고, 제한으로서 의도되지 않는다. 예컨대, 일 실시예의 일부로서 예시되거나 또는 설명되는 특징들은, 또 다른 추가적인 실시예를 산출하기 위해, 임의의 다른 실시예에 대해 또는 임의의 다른 실시예와 함께 사용될 수 있다. 본 개시내용은 그러한 수정들 및 변형들을 포함하는 것으로 의도된다.
[0029] 도면들의 다음의 설명 내에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 또는 유사한 컴포넌트들을 지칭한다. 일반적으로, 개별적인 실시예들에 관한 차이들만이 설명된다. 달리 명시되지 않는 한, 일 실시예의 부분 또는 양상의 설명은 다른 실시예의 대응하는 부분 또는 양상에 또한 적용된다.
[0030] 본 개시내용의 다양한 실시예들이 더 상세히 설명되기 전에, 본원에서 사용되는 일부 용어들 및 표현들에 관한 일부 양상들이 설명된다.
[0031] 도 1은 본원에 설명된 실시예들에 따른, 마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법의 연속되는 스테이지들 (a), (b), (c), 및 (d)를 개략적으로 예시한다. 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 방법은: 마스크 디바이스를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트(20) 상에 마스크 디바이스(10)를 로딩하는 단계(X1); 홀딩 어레인지먼트(20)를 제1 상태로부터 제2 상태로 이동시키는 단계(X2) ― 제2 상태는 비-수평 상태임 ―; 홀딩 어레인지먼트(20)를 마스크 캐리어(15)와 정렬시키는 단계(X3); 및 홀딩 어레인지먼트(20)로부터 마스크 캐리어(15)로 마스크 디바이스(10)를 이송하는 단계(X4)를 포함한다.
[0032] 본 개시내용에서, "상태"라는 용어는 "배향" 및/또는 "포지션을"을 지칭할 수 있다. 특히, "제1 상태"는, 제1 배향 및/또는 제1 포지션을 지칭할 수 있다. 따라서, "제2 상태"는, 제2 배향 및/또는 제2 포지션을 지칭할 수 있다.
[0033] 따라서, 도 1의 연속되는 스테이지들 (a), (b), (c), 및 (d)는, 마스크 디바이스를 운반하기 위해 마스크 디바이스가 마스크 캐리어 상에 로딩되는, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법을 개략적으로 예시한다. 특히, 도 1을 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같은, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법은 유익하게, 마스크 디바이스를 마스크 캐리어 상에 로딩하는 개선된 방법을 제공한다. 통상적으로, 마스크 디바이스(10)를 홀딩 어레인지먼트 상(20)에 로딩하는 것(X1)은, 새로운, 사용되지 않았거나 세정된 마스크를 홀딩 어레인지먼트 상에 로딩하는 것을 포함한다.
[0034] 도 2는 본원에 설명된 추가적인 실시예들에 따른, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법의 연속되는 스테이지들 (a), (b), (c), 및 (d)를 개략적으로 예시한다. 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 방법은: 홀딩 어레인지먼트(20)를 마스크 디바이스(10)를 홀딩하는 마스크 캐리어(15)와 정렬시키는 단계(Y1) ― 홀딩 어레인지먼트는 제2 상태에 있음 ―; 마스크 캐리어(15)로부터 홀딩 어레인지먼트(20)로 마스크 디바이스(10)를 이송하는 단계(Y2); 및 제2 상태로부터 제1 상태로 홀딩 어레인지먼트(20)를 이동시키는 단계(Y3)를 포함하며, 제2 상태는 비-수평 상태이다.
[0035] 따라서, 도 2의 연속되는 스테이지들 (a), (b), (c), 및 (d)는, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스가 언로딩되는, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법을 개략적으로 예시한다. 특히, 도 2를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같은, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법은 유익하게, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 언로딩하는 개선된 방법을 제공한다. 통상적으로, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 언로딩하는 것은, 사용된 마스크, 즉, 마스킹 방식 기판 증착에 대한 사용된 마스크를 언로딩하는 것을 포함한다.
[0036] 특히, 본원에 설명된, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법의 실시예들은, 본원에 설명된 실시예들에 따른, 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100)를 사용하는 것을 포함한다는 것이 이해될 것이다. 추가로, 도 2를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같은 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법을 도 1을 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같은 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법과 결합함으로써, 마스크 디바이스를 교환하는 개선된 방법이 제공될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 따라서, 본원에 설명된 바와 같이 마스크 디바이스를 교환함으로써, 사용된 마스크가, 예컨대 세정을 위해, 마스크 캐리어로부터 언로딩될 수 있고, 그리고 새로운 마스크 또는 세정된 마스크가 마스크 캐리어 상에 로딩될 수 있다.
[0037] 본 개시내용에서, "마스크 디바이스"는, 기판 상의 마스킹 방식 증착을 위해 구성되는 마스크 디바이스로서 이해될 것이다. 특히, 마스크 디바이스는, 마스크 디바이스에 의해 정의된 재료 패턴으로 코팅될 기판의 전방에 배열되도록 구성된다. 예컨대, 마스크 디바이스는, 마스킹 방식 증발 프로세스를 위해 구성될 수 있고, 여기서, 재료 패턴이 증발에 의해 기판 상에 형성된다. 일부 실시예들에서, 증발된 재료는 유기 화합물들을 포함할 수 있다. 예컨대, OLED 디바이스가 제조될 수 있다.
[0038] 일부 실시예들에서, 마스크 디바이스는, 마스크 및 마스크 지지부를 포함할 수 있다. 마스크 지지부는, 통상적으로 민감한(delicate) 컴포넌트인 마스크를 지지 및 홀딩하도록 구성될 수 있다. 예컨대, 마스크 지지부는, 마스크를 둘러싸고 그리고 프레임의 형상을 갖는 마스크 프레임일 수 있다. 마스크는, 예컨대 용접에 의해 마스크 프레임에 영구적으로 고정될 수 있거나, 또는 마스크는 마스크 프레임에 해제가능하게 고정될 수 있다. 마스크의 둘레 에지(circumferential edge)는 마스크 프레임에 고정될 수 있다.
[0039] 마스크는, 패턴으로 형성되고 그리고 마스킹 방식 증착 프로세스에 의해 기판 상에 대응 재료 패턴을 증착하도록 구성되는 복수의 개구들을 포함할 수 있다. 증착 동안, 마스크는 기판의 전방에 근접한 거리로 배열될 수 있거나, 또는 기판의 전면(front surface)과 직접적으로 접촉할 수 있다. 예컨대, 마스크는, 복수의 개구들, 예컨대 100,000개의 개구들 또는 그 초과의 개구들을 갖는 FMM(fine metal mask)일 수 있다. 예컨대, 유기 픽셀들의 패턴이 기판 상에 증착될 수 있다. 다른 타입들의 마스크들, 예컨대 에지 배제 마스크(edge exclusion mask)들이 가능하다.
[0040] 일부 실시예들에서, 마스크 디바이스는 금속으로, 예컨대 작은 열 팽창 계수를 갖는 금속, 이를테면 인바(invar)로 적어도 부분적으로 제조될 수 있다. 마스크는, 증착 동안 마스크가 기판 쪽으로 자기적으로 끌어당겨질 수 있도록, 자기 재료를 포함할 수 있다. 대안적으로 또는 부가적으로, 마스크 프레임은, 마스크 디바이스가 자기력들을 통해 마스크 캐리어로 끌어당겨질 수 있도록, 자기 재료를 포함할 수 있다.
[0041] 마스크 디바이스는, 0.5 m2 또는 그 초과, 특히 1 m2 또는 그 초과의 면적을 가질 수 있다. 예컨대, 마스크 디바이스의 높이는, 0.5 m 또는 그 초과, 특히 1 m 또는 그 초과일 수 있고, 그리고/또는 마스크 디바이스의 폭은, 0.5 m 또는 그 초과, 특히 1 m 또는 그 초과일 수 있다. 마스크 디바이스의 두께는, 1 cm 또는 그 미만일 수 있고, 여기서, 마스크 프레임은 마스크보다 더 두꺼울 수 있다.
[0042] 도 1 (c) 및 도 2 (a)를 예시적으로 참조하고, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트(20)를 마스크 캐리어(15)와 정렬시키는 것(X3, Y1)은, 홀딩 어레인지먼트(20)에 대하여 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)을 이동시키는 것(Z2)을 포함한다. 특히, 도 1 (c) 및 도 2 (a)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)은, 마스크 캐리어(15)를 향하는 방향으로 이동될 수 있다. 통상적으로, 홀딩 어레인지먼트(20)의 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)은, 홀딩 어레인지먼트(20)와 마스크 캐리어(15) 사이의 정렬을 제공하기 위해, 마스크 캐리어의 하나 이상의 대응 정렬 엘리먼트들(16)과 맞물리도록(engage) 구성된다. 예컨대, 홀딩 어레인지먼트(20)의 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)은, 하나 이상의 정렬 핀(pin)들(27)을 포함할 수 있다. 마스크 캐리어의 하나 이상의 대응 정렬 엘리먼트들(16)은, 홀딩 어레인지먼트(20)의 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22), 특히, 하나 이상의 정렬 핀들(27)을 수용하도록 구성되는 하나 이상의 리세스(recess)들을 포함할 수 있다.
[0043] 도 1 (d) 및 도 2 (a)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 마스크 캐리어(15)는, 비-수평 배향(V)으로 마스크 디바이스(10)를 홀딩할 수 있다. 예컨대, 마스크 디바이스(10)는, 예컨대 운반 동안 그리고/또는 증착 동안, 본질적으로 수직 배향으로 마스크 캐리어(15)에 의해 홀딩될 수 있다.
[0044] 본원에 사용되는 바와 같은 "본질적으로 수직 배향"은, 마스크 디바이스(10)의 배향으로서 이해될 수 있고, 여기서, 마스크 디바이스(10)의 주 표면과 중력 벡터 사이의 각도는 + 10° 내지 - 10°, 특히 0° 내지 - 5°이다. 일부 실시예들에서, 마스크의 배향은, 예컨대 운반 동안 그리고/또는 증착 동안, (정확하게) 수직이 아니라, 예컨대 0° 내지 - 5°의 경사각으로, 수직 축에 대하여 약간 경사질 수 있다. 네거티브(negative) 각도는 마스크 디바이스가 하향으로 경사진 마스크 디바이스의 배향을 지칭한다. 증착 동안의 중력 벡터로부터의 마스크(및 기판) 배향의 편향(deviation)이 유익할 수 있고, 더 안정적인 증착 프로세스가 결과로 발생될 수 있거나, 또는 아래로 향하는 배향은 증착 동안에 기판 상의 입자들을 감소시키는 데 적절할 수 있다. 그러나, 예컨대 운반 동안 그리고/또는 증착 동안의 마스크 디바이스의 정확한 수직 배향(+/- 1°)이 또한 가능하다.
[0045] 예컨대 운반 동안 그리고/또는 증착 동안, 중력 벡터와 마스크 디바이스 사이의 더 큰 각도가 또한 가능하다. 0° 내지 +/- 80°의 각도는 본원에서 사용되는 바와 같은 "마스크 디바이스의 비-수평 배향"으로서 이해될 수 있다. 예를 들면, 비-수평 배향으로 마스크 디바이스를 운반하는 것은, 공간을 절약하고 그리고 더 작은 진공 챔버들을 허용하는 이점을 가질 수 있다.
[0046] 특히, 도 1 및 도 2에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)은 2개 이상의 정렬 엘리먼트들을 포함할 수 있다. 예컨대, 도 1 (d) 및 도 2 (b)를 예시적으로 참조하면, 마스크 캐리어(15)에 제공되는 제1 대응 정렬 엘리먼트(16A)(예컨대, 제1 리세스)와 맞물리도록 배열 및 구성되는 제1 정렬 엘리먼트(22A)(예컨대, 제1 정렬 핀)가 제공될 수 있다. 추가로, 마스크 캐리어(15)에 제공되는 제2 대응 정렬 엘리먼트(16B)(예컨대, 제2 리세스)와 맞물리도록 배열 및 구성되는 제2 정렬 엘리먼트(22B)(예컨대, 제2 정렬 핀)가 제공될 수 있다. 일 예에 따르면, 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치(100)는, 4개의 정렬 엘리먼트들 각각을 이동시키기 위한 개개의 액추에이터(actuator)들에 커플링되는 4개의 정렬 엘리먼트들을 포함할 수 있다. 따라서, 마스크 캐리어(15)는, 4개의 정렬 엘리먼트들, 특히, 4개의 정렬 엘리먼트들의 개개의 정렬 핀들(27)을 수용하도록 구성되는 4개의 대응 정렬 엘리먼트들을 포함할 수 있다.
[0047] 도 1 (d) 및 도 2 (b)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 홀딩 어레인지먼트(20)의 제1 정렬 엘리먼트(22A)는 홀딩 어레인지먼트(20)의 제1 단부(20A)에 제공될 수 있고, 그리고 제2 정렬 엘리먼트(22B)는 홀딩 어레인지먼트(20)의 제2 단부(20B)에 제공될 수 있다. 통상적으로, 홀딩 어레인지먼트(20)의 제2 단부(20B)는 홀딩 어레인지먼트(20)의 제1 단부(20A)에 대향된다. 마스크 캐리어(15)의 제1 대응 정렬 엘리먼트(16A)는 마스크 캐리어(15)의 제1 단부(15A)에 제공될 수 있고, 그리고 제2 대응 정렬 엘리먼트(16B)는 마스크 캐리어(15)의 제2 단부(15B)에 제공될 수 있다. 통상적으로, 마스크 캐리어(15)의 제1 단부(15A)는 마스크 캐리어(15)의 제2 단부(15B)에 대향된다. 예를 들면, 도 1 (d) 및 도 2 (b)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 마스크 캐리어(15)의 제1 단부(15A)는 마스크 캐리어(15)의 상부 단부일 수 있고 그리고 마스크 캐리어(15)의 제2 단부(15B)는 마스크 캐리어(15)의 하부 단부일 수 있다.
[0048] 따라서, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트(20)를 마스크 캐리어(15)와 정렬시키는 것(X3, Y1)은, 도 1 및 도 2에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)을, 마스크 캐리어(15), 특히, 마스크 캐리어(15)의 하나 이상의 대응 정렬 엘리먼트들(16)과 맞물리게 하는 것을 포함할 수 있다.
[0049] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트(20)를 마스크 캐리어와 정렬시키는 것(X3, Y1)은, 도 1 (c) 및 도 2 (a)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 마스크 캐리어를 리프팅(lift)하는 것(Z1)을 포함할 수 있다. 특히, 마스크 캐리어를 리프팅하는 것(Z1)은, 마스크 캐리어(15) 상에 작용하는 자기력을 생성하기 위한 전자기 어레인지먼트(35)를 사용하는 것을 포함할 수 있다. 본 개시내용의 도면들에서, 활성화된 전자기 어레인지먼트는 음영으로 그리고 참조 번호 뒤의 대시(dash)(즉, 35')로 표시된다. 예를 들면, 전자기 어레인지먼트(35)는, 본원에 설명된 바와 같은 진공 시스템에서 마스크 캐리어를 운반하기 위한 마스크 운반 시스템의 일부일 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 전자기 어레인지먼트(35)는, 위로부터의 자기력들에 의해 마스크 캐리어(15)의 중량의 적어도 일부를 홀딩하도록 구성되는 자기 부상 시스템일 수 있다.
[0050] 특히, 마스크 캐리어를 리프팅하는 것은, 특히 수직 방향에서, 마스크 캐리어(15)를 지지하기 위한 지지 어레인지먼트(40)와 마스크 캐리어(15)의 지지 엘리먼트(18) 사이의 접촉을 해제하는 것을 포함할 수 있다. 추가로, 마스크 캐리어를 리프팅(Z1)함으로써, 캐리어 정렬 핀(17)은, 도 1 (c) 및 도 2 (a)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 마스크 디바이스(10)에 제공되는 수용부(reception)(13) 내에서 이동될 수 있다. 특히, 마스크 캐리어를 리프팅(Z1)함으로써, 캐리어 정렬 핀(17)은, 수용부(13)의 제1 표면으로부터 수용부(13)의 제2 표면으로 이동될 수 있다. 통상적으로, 수용부(13)의 제1 표면 및 수용부(13)의 제2 표면은, 캐리어 정렬 핀(17)에 대한 어버트먼트(abutment) 표면을 제공한다.
[0051] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 마스크 디바이스(10)를 이송하는 것(X4, Y2)은, 마스크 디바이스(10) 상에 작용하는 자기력을 생성하기 위한 하나 이상의 전자기 엘리먼트들(23)을 사용하는 것을 포함한다. 본 개시내용의 도면들에서, 활성화된 전자기 엘리먼트는 음영으로 그리고 참조 번호 뒤에 어포스트로피(apostrophe)를 갖는 것(즉, 23')으로 표시된다.
[0052] 특히, 도 1 (d)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 마스크 디바이스(10)를 홀딩 어레인지먼트(20)로부터 마스크 캐리어(15)로 이송하기 위해, 홀딩 어레인지먼트의 전자기 엘리먼트들(23)이 비활성화되고 그리고 마스크 캐리어(15)의 전자기 엘리먼트들(23')이 활성화된다. 따라서, 도 2 (b)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 마스크 디바이스(10)를 마스크 캐리어(15)로부터 홀딩 어레인지먼트(20)로 이송하기 위해, 마스크 캐리어(15)의 전자기 엘리먼트들(23)이 비활성화되고 그리고 홀딩 어레인지먼트(20)의 전자기 엘리먼트들(23')이 활성화된다.
[0053] 따라서, 홀딩 어레인지먼트(20)는, 홀딩 어레인지먼트(20)에 마스크 디바이스(10)를 홀딩하도록 구성되는 하나 이상의 전자기 엘리먼트들(23)을 포함할 수 있다. 추가로, 마스크 캐리어(15)는, 마스크 캐리어(15)에 마스크 디바이스(10)를 홀딩하도록 구성되는 하나 이상의 전자기 엘리먼트들(23)을 포함할 수 있다. 예컨대, 마스크 캐리어(15)의 하나 이상의 전자기 엘리먼트들(23)은 마스크 캐리어(15)에 통합될 수 있다.
[0054] 도 2 (c)를 예시적으로 참조하면, 홀딩 어레인지먼트(20)를 제2 상태로부터 제1 상태로 이동(Y3)시키기 전에, 방법은, 마스크 캐리어(15)로부터 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)을 리트랙팅(retract)하는 단계(Y23)를 포함할 수 있다.
[0055] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 제1 상태는, 도 1 (a) 및 도 2 (d)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 실질적으로 수평 상태(H)이다. 특히, 제1 상태는, 마스크 디바이스의 주 표면과 수평 평면 사이의 각도가 30° 또는 그 미만인 상태이다.
[0056] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 제2 상태는, 도 1 (b), (c), (d), 및 도 2 (a), (b), (c)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 실질적으로 수직 상태(V)이다. 특히, 도 3에 예시적으로 도시된 바와 같이, 제2 상태는, 마스크 디바이스(10)의 주 표면(10A)과 중력 벡터(G) 사이의 각도(α)가 +10° 내지 -10°인 상태일 수 있다. 특히, 마스크 디바이스(10)의 주 표면(10A)과 중력 벡터(G) 사이의 각도(α)는 +5° 내지 -5°일 수 있다. 일 예에 따르면, 각도(α)는, α = +3° 또는 α = -3°이다.
[0057] 도 1 (b) 및 도 2 (d)를 예시적으로 참조하고, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트(20)를 이동시키는 것(X2, Y3)은, 특히, 본원에 설명된 바와 같은 홀딩 어레인지먼트(20)를 이동시키기 위한 메커니즘(24)을 사용함으로써, 회전 축(25)을 중심으로 홀딩 어레인지먼트를 회전시키는 것(또는 스윙(swing)시키는 것)을 포함한다. 특히, 회전 축(25)은 수평 평면에 있을 수 있다.
[0058] 도 3 (a) 및 도 3 (b)에서, 본원에 설명된 실시예들에 따른, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 교환하기 위한 방법의 2개의 상이한 스테이지들이 제시된다. 특히, 도 3 (a)는, 마스크 캐리어(15) 상에 작용하는 자기력을 생성하기 위한 전자기 어레인지먼트(35')가 활성화되고 그리고 마스크 캐리어가 부상된 스테이지를 도시한다. 도 3 (b)는, 마스크 캐리어(15) 상에 작용하는 자기력을 생성하기 위한 전자기 어레인지먼트(35)가 비활성화되고 그리고 마스크 캐리어가 지지 어레인지먼트(40) 상으로 드롭(drop)된 스테이지를 도시한다. 따라서, 마스크 디바이스(10)를 마스크 캐리어(15)로부터 홀딩 어레인지먼트(20)로 이송(Y2)하고 그리고 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)을 리트랙팅(Y23)한 후, 마스크 캐리어로부터 마스크 디바이스를 언로딩하는 것은, 마스크 캐리어를, 예를 들면, 마스크 캐리어(15)를 지지하기 위한 지지 어레인지먼트(40) 상에 드롭시키는 것(Z3)을 포함할 수 있다. 특히, 마스크 캐리어를 드롭시키는 것(Z3)은, 마스크 캐리어(15) 상에 작용하는 자기력을 생성하기 위한 전자기 어레인지먼트(35)를 비활성화시키는 것을 포함할 수 있다.
[0059] 마스크 디바이스(10) 및 마스크 캐리어(15)의 도 3 (c)에서의 개략적인 표현으로부터 이해될 수 있는 바와 같이, 마스크 디바이스(10)의 주 표면(10A)과 중력 벡터(G) 사이에 각도(α)가 제공되도록(즉, 마스크 디바이스 및 마스크 캐리어가 중력 벡터(G)에 대하여 경사지도록) 제2 상태를 제공하는 것은, 예컨대, 마스크 캐리어를 드롭(Z3)시키는 것에 의한 마스크 영역으로부터의 마스크 디바이스의 분리 동안, 마스크 디바이스와 마스크 캐리어 사이의 표면 대 표면 접촉으로 인한 마찰을 피할 수 있다는 이점을 갖는다.
[0060] 도 4는 본원에 설명된 실시예들에 따른, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법(400)을 예시하기 위한 흐름도이다. 박스(410)는, 도 1 (a)를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같이, 마스크 디바이스를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트(20) 상에 마스크 디바이스(10)를 로딩하는 동작(X1)을 표현한다. 박스(420)는, 도 1 (b)를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같이, 홀딩 어레인지먼트(20)를 제1 상태로부터 제2 상태로 이동시키는 동작(X2)을 표현하며, 제2 상태는 비-수평 상태이다. 박스(430)는, 도 1 (c)를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같이, 홀딩 어레인지먼트(20)를 마스크 캐리어(15)와 정렬시키는 동작(X3)을 표현한다. 박스(440)는, 도 1 (d)를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같이, 마스크 디바이스(10)를 홀딩 어레인지먼트(20)로부터 마스크 캐리어(15)로 이송하는 동작(X4)을 표현한다.
[0061] 도 5에 도시된 흐름도를 예시적으로 참조하여, 본원에 설명된 추가적인 실시예들에 따른, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법(500)이 예시된다. 박스(510)는, 도 2 (a)를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같이, 홀딩 어레인지먼트(20)를 마스크 디바이스(10)를 홀딩하는 마스크 캐리어(15)와 정렬시키는 동작(Y1)을 표현하며, 홀딩 어레인지먼트는 제2 상태에 있다. 박스(520)는, 도 2 (b)를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같이, 마스크 디바이스(10)를 마스크 캐리어(15)로부터 홀딩 어레인지먼트(20)로 이송하는 동작(Y2)을 표현한다. 박스(530)는, 도 2 (b)를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같이, 홀딩 어레인지먼트(20)를 제2 상태로부터 제1 상태로 이동시키는 동작(Y3)을 표현하며, 제2 상태는 비-수평 상태이다.
[0062] 도 6은 본원에 설명된 실시예들에 따른, 마스크 디바이스를 교환하는 방법(600)을 예시하기 위한 흐름도이다. 방법(600)은: 도 2 및 도 5를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같은, 마스크 디바이스를 핸들링 방법(500)을 수행하는 단계를 포함하며, 여기서, 마스크 디바이스는 제1 마스크 디바이스이다. 추가로, 방법(600)은: 도 1 및 도 4를 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같은, 마스크 디바이스를 핸들링 방법(400)을 수행하는 단계를 포함하며, 여기서, 마스크 디바이스는 제2 마스크 디바이스이다. 예를 들면, 제1 마스크 디바이스는 사용된 마스크 디바이스일 수 있고 그리고 제2 마스크 디바이스는 사용될 마스크 디바이스일 수 있다.
[0063] 본원에서 사용되는 바와 같은 "사용될 마스크 디바이스들"은, 기판 상의 마스킹 방식 증착을 위해 사용되도록 적어도 하나의 증착 챔버 내로 운반될 마스크 디바이스들로서 이해될 수 있다. 일부 실시예들에서, 사용될 마스크 디바이스는, 새로운 마스크 디바이스, 세정된 마스크 디바이스, 또는 서비스 또는 유지보수를 받은 마스크 디바이스일 수 있다.
[0064] 본원에서 사용되는 바와 같은 "사용된 마스크 디바이스들"은, 증착 챔버에서의 마스킹 방식 증착을 위해 사용된 마스크 디바이스들로서 이해될 수 있다. 사용된 마스크 디바이스들은, 예컨대 세정 또는 유지보수를 위해 증착 챔버 밖으로 운반될 것이다. 예컨대, 사용된 마스크 디바이스들은, 예컨대 대기압 하에서의 세정을 위해 진공 시스템으로부터 언로딩될 것이다. 하나 이상의 기판들 상의 마스킹 방식 증착을 위해 마스크 디바이스를 사용함으로써, 사용될 마스크 디바이스는 사용된 마스크 디바이스가 된다. 통상적으로, 마스크 디바이스는 10개 이상의 기판들 상의 마스킹 방식 증착을 위해 사용되고, 그 뒤에, 마스크 디바이스는 세정될 수 있다. 세정 후에, 마스크 디바이스는, 마스킹 방식 증착을 위해 사용되도록, 진공 시스템 내로 다시 로딩될 수 있다.
[0065] 특히, 마스크 디바이스를 교환하는 방법(600)은 통상적으로: 홀딩 어레인지먼트(20)를 마스크 디바이스(10)를 홀딩하는 마스크 캐리어(15)와 정렬시키는 단계(Y1) ― 홀딩 어레인지먼트(20)는 제2 상태에 있고, 마스크 디바이스(10)는 제1 마스크 디바이스임 ―; 마스크 캐리어(15)로부터 홀딩 어레인지먼트(20)로 제1 마스크 디바이스를 이송하는 단계(Y2); 및 제2 상태로부터 제1 상태로 홀딩 어레인지먼트(20)를 이동시키는 단계(Y3)를 포함하며, 제2 상태는 비-수평 상태이다. 추가로, 방법(600)은: 마스크 디바이스(10)를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트(20) 상에 마스크 디바이스(10)를 로딩하는 단계(X1) ― 마스크 디바이스는 제2 마스크 디바이스임 ―; 홀딩 어레인지먼트(20)를 제1 상태로부터 제2 상태로 이동시키는 단계(X2) ― 제2 상태는 비-수평 상태임 ―; 홀딩 어레인지먼트를(20) 마스크 캐리어(15)와 정렬시키는 단계(X3); 및 홀딩 어레인지먼트(20)로부터 마스크 캐리어(15)로 제2 마스크 디바이스를 이송하는 단계(X4)를 포함한다.
[0066] 도 1 내지 도 3을 참조하여 예시적으로 설명된 바와 같이, 본 개시내용의 양상에 따르면, 마스크 캐리어(15)로부터 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100)가 제공된다. 특히, 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 장치(100)는: 마스크 디바이스(10)를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트(20); 홀딩 어레인지먼트(20)를 제1 상태와 제2 상태 사이에서 이동시키기 위한 메커니즘(24) ― 제2 상태는 비-수평 상태임 ―; 및 홀딩 어레인지먼트(20)를 마스크 캐리어(15)와 정렬시키기 위한 정렬 어셈블리(26)를 포함한다. 예컨대, 홀딩 어레인지먼트(20)를 이동시키기 위한 메커니즘(24)은, 회전 축(25)을 중심으로 홀딩 어레인지먼트(20)를 회전시키기 위한 회전 메커니즘일 수 있다. 더 구체적으로, 홀딩 어레인지먼트(20)를 이동시키기 위한 메커니즘(24)은, 자동 메커니즘일 수 있다. 예를 들면, 홀딩 어레인지먼트(20)는, 예컨대 자기력을 사용하여 마스크 디바이스를 홀딩하도록 구성되는 로봇 암(robot arm)을 포함할 수 있다.
[0067] 특히, 도 1 (a) 및 도 2 (d)를 예시적으로 참조하면, 제1 상태는 실질적으로 수평 상태일 수 있다. 더 구체적으로, 제1 상태는, 마스크 디바이스의 주 표면과 수평 평면 사이의 각도가 30° 또는 그 미만인 상태일 수 있다. 도 1 (b) 및 도 2 (a)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 제2 상태는 실질적으로 수직 상태일 수 있다. 더 구체적으로, 제2 상태는, 마스크 디바이스의 주 표면과 중력 벡터 사이의 각도가 +10° 내지 -10°인 상태일 수 있다.
[0068] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 정렬 어셈블리(26)는, 홀딩 어레인지먼트(20)에 대하여 이동가능한 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)을 포함한다. 특히, 도 1 (c) 및 도 2 (a)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)은, 마스크 캐리어(15)를 향하는 방향으로 이동가능하도록 구성될 수 있다. 추가로, 도 2 (c)에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)은, 마스크 캐리어(15)로부터 멀어지는 방향으로 이동가능하도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)에는, 홀딩 어레인지먼트(20)에 대하여 하나 이상의 정렬 엘리먼트들을 이동시키기 위한 드라이브, 예컨대 선형 액추에이터가 제공될 수 있다.
[0069] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트(20)의 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)은, 홀딩 어레인지먼트(20)와 마스크 캐리어(15) 사이의 정렬을 제공하기 위해, 마스크 캐리어의 하나 이상의 대응 정렬 엘리먼트들(16)과 맞물리도록 구성된다. 예컨대, 홀딩 어레인지먼트(20)의 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)은, 하나 이상의 정렬 핀들(27)을 포함할 수 있다. 마스크 캐리어의 하나 이상의 대응 정렬 엘리먼트들(16)은, 홀딩 어레인지먼트(20)의 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22), 특히, 하나 이상의 정렬 핀들(27)을 수용하도록 구성되는 하나 이상의 리세스들을 포함할 수 있다.
[0070] 일 예에 따르면, 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100)는, 개개의 정렬 엘리먼트들을 이동시키기 위한 개개의 액추에이터들에 커플링되는 4개의 정렬 엘리먼트들(22)을 포함할 수 있다. 따라서, 마스크 캐리어(15)는, 4개의 정렬 엘리먼트들(22), 특히, 4개의 정렬 엘리먼트들(22)의 개개의 정렬 핀들(27)을 수용하도록 구성되는 4개의 대응 정렬 엘리먼트들(16)을 포함할 수 있다.
[0071] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트(20)는, 자기력에 의해 마스크 디바이스(10)를 홀딩하기 위한 하나 이상의 전자기 엘리먼트들(23)을 포함한다. 따라서, 본 개시내용에서, 본원에서 설명되는 바와 같은 "홀딩 어레인지먼트"는, 특히, 홀딩 어레인지먼트의 마스크 홀딩 부분과 마스크 디바이스 사이의 자기적 상호작용을 사용하여 마스크 디바이스를 홀딩하도록 구성되는 어레인지먼트로서 이해될 것이다.
[0072] 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치(100)의 실시예들과 관련하여 설명된 바와 같은 피쳐(feature)들은 또한 본원에 설명된 방법들의 실시예들에 적용될 수 있다는 것이 이해될 것이다.
[0073] 도 7은 본원에 설명된 실시예들에 따른 마스크 교환 챔버(300)의 개략도를 도시한다. 도 7에 예시적으로 도시된 바와 같이, 마스크 교환 챔버(300)는, 마스크 캐리어(15)를 홀딩하도록 구성되는 자기 부상 시스템(350)을 포함한다. 추가로, 마스크 교환 챔버(300)는, 본원에 설명된 실시예들 중 임의의 실시예에 따른, 마스크 캐리어(15)로부터 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100)를 포함한다. 따라서, 마스크 디바이스를 교환하기 위한 장치(100)는, 마스크 교환 챔버(300)에 배열될 수 있다.
[0074] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 마스크 교환 챔버(300)는, 마스크 교환 챔버(300)의 측벽(305)에 제공되는 폐쇄가능 개구(310)를 포함할 수 있다. 따라서, 마스크 디바이스(10)는, 폐쇄가능 개구(310)를 통해, 예컨대, 복수의 마스크 디바이스들을 저장하도록 구성되는 마스크 매거진(magazine) 또는 다른 마스크 저장 디바이스로 또는 이로부터 이동될 수 있다. 예컨대, 마스크 매거진은 로드 록(load lock) 챔버에 배열될 수 있다. 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100)는, 개구를 통해 마스크 매거진 내로 이동가능하도록 구성될 수 있다.
[0075] 도 8은 본원에 설명된 실시예들에 따른, 기판 상에 재료를 증착하기 위한 진공 시스템(700)의 개략도를 도시한다. 도 8에 예시적으로 도시된 바와 같이, 진공 시스템(700)은: 본원에 설명된 실시예들에 따른 마스크 교환 챔버(300); 적어도 하나의 증착 챔버(710); 및 사용될 마스크 디바이스들 및 사용된 마스크 디바이스들을 마스크 교환 챔버(300)와 적어도 하나의 증착 챔버(710) 사이에서 비-수평 배향으로 운반하도록 구성되는 마스크 운반 시스템(720)을 포함한다. 예를 들면, 마스크 운반 시스템(720)은, 자기 부상 시스템으로서 구성될 수 있다.
[0076] 도 8을 예시적으로 참조하고, 본원에 설명된 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 마스크 교환 챔버(300)는, 마스크 디바이스를 교환하기 위한 제1 장치(100A) 및 마스크 디바이스를 교환하기 위한 제2 장치(100B)를 포함할 수 있다. 예컨대, 마스크 디바이스를 교환하기 위한 제1 장치(100A)는 제1 마스크 핸들링 영역(701)에 배열될 수 있고 그리고 마스크 디바이스를 교환하기 위한 제2 장치(100B)는 제2 마스크 핸들링 영역(702)에 배열될 수 있다.
[0077] 제2 마스크 핸들링 영역(702) 및 제1 마스크 핸들링 영역(701)은, 서로 인접할 수 있거나 또는 서로 이격될 수 있는 마스크 교환 챔버(300)의 상이한 섹션들에 대응할 수 있다. 예컨대, 제1 마스크 핸들링 영역(701) 및 제2 마스크 핸들링 영역(702)은, 마스크 교환 챔버(300)의 반대편 부분들일 수 있다. 일부 실시예들에서, 제1 마스크 핸들링 영역(701) 및 제2 마스크 핸들링 영역(702)은, 마스크 캐리어들(15)의 운반을 위해 구성되는 운반 경로들의 반대편 측들 상에 로케이팅(locate)된다. 예를 들면, 제1 장치(100A)가 있는 제1 마스크 핸들링 영역(701)은 사용될 마스크 디바이스들(711)을 핸들링하도록 구성될 수 있고 그리고 제2 장치(100B)가 있는 제2 마스크 핸들링 영역(702)은 사용된 마스크 디바이스들(712)을 핸들링하도록 구성될 수 있다.
[0078] 따라서, 유익하게, 사용될 마스크 디바이스들(711)은, 사용된 마스크 디바이스들(712)과 개별적으로, 핸들링될 수 있고, 예컨대, 부착, 분리, 로딩, 언로딩, 저장, 이동, 회전, 및/또는 병진 이동(translate)될 수 있으며, 이는, 세정된 마스크 디바이스들의 오염이 감소되거나 방지될 수 있다는 이점을 갖는다.
[0079] 본원에 설명된 다른 실시예들과 결합될 수 있는 일부 실시예들에서, 진공 시스템의 주 운반 경로(Z)는, 제1 마스크 트랙(731), 제2 마스크 트랙(732), 제1 기판 트랙(733), 및 제2 기판 트랙(734)을 포함하는 4개 이상의 트랙들을 포함한다. 추가적인 트랙들이 제공될 수 있다. 트랙들은, 진공 시스템의 주 운반 방향으로 서로 평행하게 연장될 수 있다. 제1 기판 트랙(733) 및 제2 기판 트랙(734)은 외측 트랙들로서 제공될 수 있고, 제1 마스크 트랙(731) 및 제2 마스크 트랙(732)은 기판 트랙들 사이에 배열되는 내측 트랙들로서 제공될 수 있다. 다른 어레인지먼트들이 가능하다.
[0080] 예컨대, 제1 마스크 트랙(731) 및 제2 마스크 트랙(732)은, 진공 시스템(700)을 통해 마스크 캐리어들을 부상시키고 그리고/또는 운반하도록 구성되는 자기 마스크 부상 시스템의 일부일 수 있다. 제1 기판 트랙(733) 및 제2 기판 트랙(734)은, 진공 시스템(700)을 통해 기판 캐리어들을 부상시키고 그리고/또는 운반하도록 구성되는 자기 기판 부상 시스템의 일부일 수 있다.
[0081] 본원에 설명된 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 제1 마스크 핸들링 영역(701)으로 연장되는 마스크 로딩 통로가 제공될 수 있고, 이는, 예컨대 제1 로드 록 챔버(703)를 통해, 사용될 마스크 디바이스들(711)을 진공 시스템(700) 내에 로딩하도록 구성될 수 있다. 추가로, 제2 마스크 핸들링 영역(702)으로부터 연장되는 마스크 언로딩 통로가 제공될 수 있고, 이는, 예컨대 제2 로드 록 챔버(704)를 통해, 사용된 마스크 디바이스들(712)을 진공 시스템(700)으로부터 언로딩하도록 구성될 수 있다.
[0082] 제1 로드 록 챔버(703) 및 제2 로드 록 챔버(704)는, 마스크 교환 챔버(300)의 2개의 반대편 측들 상에서 마스크 교환 챔버(300)에 인접하게 제공될 수 있다. 예컨대, 도 8에서 개략적으로 도시된 바와 같이, 제1 로드 록 챔버(703)는 마스크 교환 챔버(300)의 제1 측 상에 배열될 수 있고 그리고 제2 로드 록 챔버(704)는 제1 측과 반대인 마스크 교환 챔버(300)의 제2 측 상에 배열될 수 있다. 특히, 제1 로드 록 챔버(703) 및 제2 로드 록 챔버(704)는, 마스크 캐리어들을 가이딩(guide)하도록 구성되는 마스크 트랙들의 반대편 측들 상에 배열될 수 있다.
[0083] 통상적으로, 진공 시스템(700)은 하나 이상의 진공 챔버들을 포함한다. 예를 들면, 마스크 교환 챔버(300) 및/또는 적어도 하나의 증착 챔버(710)가 진공 챔버로서 구성될 수 있다. 본원에서 사용되는 바와 같은 "진공 챔버"(또한 "진공 모듈"로 지칭됨)는, 부기압으로 제공될 수 있는 진공 시스템 내의 특정 영역으로서 이해될 수 있다. 통상적으로, 그러나 필수적이지는 않게, 2개의 인접한 진공 챔버들 또는 진공 모듈들 사이의 통로는, 인접한 진공 챔버를 플러딩(flood)하지 않으면서, 하나의 진공 챔버의 서비스 또는 유지보수를 위해 폐쇄될 수 있다. 따라서, 진공 시스템(700)에 부기압이 제공될 수 있다. 예컨대, 진공 시스템(700)의 내측 볼륨(volume)은 100 mbar 또는 그 미만의 압력, 특히 10 mbar 또는 그 미만의 압력, 보다 특히 1 mbar 또는 그 미만의 압력, 또는 심지어 더 작은 압력에 이르기까지 펌핑될 수 있다. 특히, 진공 시스템의 진공 챔버는, 증착 동안, 10 mbar 또는 그 미만의 낮은 절대 압력으로 제공될 수 있다.
[0084] 도 8에 예시적으로 도시된 바와 같이, 기판 상의 재료의 마스킹 방식 증착을 위한 증착 소스(715)가 적어도 하나의 증착 챔버(710)에 제공될 수 있다. 예를 들면, 증착 소스(715)는 증발 소스일 수 있다. 그러나, 본 개시내용은 증발 소스를 갖는 진공 시스템들로 제한되지 않는다. 예컨대, 화학 기상 증착(CVD) 시스템들, 물리 기상 증착(PVD) 시스템들, 예컨대 스퍼터 시스템들, 및/또는 증발 시스템들이, 증착 챔버에서, 예컨대 디스플레이 애플리케이션들을 위한 기판들, 예컨대 얇은 유리 기판들을 코팅하기 위해 개발되었다. 통상적인 진공 시스템들에서, 기판들은 기판 캐리어들에 의해 홀딩될 수 있고, 기판 캐리어들은 기판 운반 시스템에 의해 진공 챔버를 통해 운반될 수 있다. 기판 캐리어들은, 기판들의 주 표면들의 적어도 일부가 코팅 디바이스들, 예컨대 스퍼터 디바이스 또는 증발 소스 쪽으로 노출되도록, 기판 운반 시스템에 의해 이동될 수 있다. 기판들의 주 표면들은, 미리 결정된 속도로 기판을 지나 이동할 수 있는 증발 소스의 전방에 기판들이 포지셔닝될 수 있는 동안에, 얇은 코팅 층으로 코팅될 수 있다. 대안적으로, 기판은 미리 결정된 속도로 코팅 디바이스를 지나 운반될 수 있다.
[0085] 기판은, 비가요성 기판, 예컨대, 웨이퍼, 사파이어 등과 같은 투명 결정의 슬라이스들, 유리 기판, 또는 세라믹 플레이트일 수 있다. 그러나, 본 개시내용은 이에 제한되지 않으며, 기판이라는 용어는 또한, 가요성 기판들, 이를테면 웨브(web) 또는 포일, 예컨대 금속 포일 또는 플라스틱 포일을 포괄할 수 있다.
[0086] 일부 실시예들에서, 기판은 대면적 기판일 수 있다. 대면적 기판은 0.5 m2 또는 그 초과의 표면적을 가질 수 있다. 구체적으로, 대면적 기판은, 디스플레이 제조를 위해 사용될 수 있고 그리고 유리 또는 플라스틱 기판일 수 있다. 예컨대, 본원에 설명되는 바와 같은 기판들은, LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 등에 통상적으로 사용되는 기판들을 포괄할 것이다. 예컨대, 대면적 기판은, 1 m2 또는 그보다 더 큰 면적을 갖는 주 표면을 가질 수 있다. 일부 실시예들에서, 대면적 기판은, 약 0.67 m2 기판들(0.73 × 0.92 m)에 대응하는 GEN 4.5일 수 있거나, 약 1.4 m2 기판들(1.1 m × 1.3 m)에 대응하는 GEN 5일 수 있거나, 또는 그보다 더 클 수 있다. 대면적 기판은 추가로, 약 4.29 m2 기판들(1.95 m × 2.2 m)에 대응하는 GEN 7.5, 약 5.7 m2 기판들(2.2 m × 2.5 m)에 대응하는 GEN 8.5, 또는 심지어, 약 8.7 m2 기판들(2.85 m × 3.05 m)에 대응하는 GEN 10일 수 있다. GEN 11 및 GEN 12와 같은 훨씬 더 큰 세대(generation)들 및 대응하는 기판 면적들이 유사하게 구현될 수 있다. 일부 구현들에서, 수 cm2, 예컨대 2 cm × 4 cm에 이르는 표면적들 및/또는 다양한 개별적인 형상들을 갖는 더 작은 사이즈의 기판들의 어레이가 단일 기판 지지부 상에 포지셔닝될 수 있다. 일부 실시예들에서, 마스크 디바이스들은 증착 동안에 기판들과의 완전한 중첩을 제공하기 위해 기판들보다 더 클 수 있다.
[0087] 일부 구현들에서, 기판의 주 표면에 수직인 방향에서의 기판의 두께는, 1 mm 또는 그 미만, 예컨대 0.1 mm 내지 1 mm, 특히 0.3 mm 내지 0.6 mm, 예컨대 0.5 mm일 수 있다. 보다 더 얇은 기판들이 가능하다.
[0088] 본원에 설명된 다른 실시예들과 결합될 수 있는 일부 실시예들에서, 진공 시스템(700)은, 마스크 교환 챔버(300), 적어도 하나의 증착 챔버(710), 및 제2 증착 챔버(713) 사이에 배열되는 라우팅(routing) 챔버(708)를 더 포함할 수 있다. 라우팅 챔버(708)는, 마스크 교환 챔버(300)와 적어도 하나의 증착 챔버(710) 사이뿐만 아니라, 마스크 교환 챔버(300)와 제2 증착 챔버(713) 사이에서, 사용될 마스크 디바이스들(711) 및 사용된 마스크 디바이스들(712)을 라우팅하도록 구성되는 라우팅 디바이스(709), 예컨대 회전 디바이스를 포함할 수 있다. 예컨대, 적어도 하나의 증착 챔버(710) 및 제2 증착 챔버(713)의 배향은 진공 시스템의 주 운반 경로(Z)에 대하여 수직일 수 있어서, 마스크 캐리어들 및 기판 캐리어들은 주 운반 경로(Z)와 증착 챔버들 사이의 교차점(intersection)에서 대략 본질적인 수직 회전으로 회전될 것이다. 마스크 캐리어들 및/또는 기판 캐리어들은 라우팅 챔버(708)에서 회전될 수 있다.
[0089] 일부 실시예들에서, 추가적인 증착 챔버들, 전환 챔버들, 및/또는 라우팅 챔버들이 마스크 교환 챔버(300)의 다른 측, 예컨대 도 8에서의 상부 측 상에 제공될 수 있다.
[0090] 본원에 설명된 실시예들에 따르면, 비교적 경량의 마스크 디바이스들이 주변 환경으로부터 진공 시스템 내로 로딩될 수 있고, 마스크 디바이스들은 진공 시스템에서 마스크 캐리어들에 신속하게 부착될 수 있다. 따라서, 마스크 핸들링이 가속될 수 있고, 시스템의 유휴 시간들이 감소될 수 있다.
[0091] 특히, 마스크 디바이스들의 마스크 프레임들은 진공 시스템에서 직접적으로 마스크 캐리어들로부터 디스어셈블링(disassemble)될 수 있다. 따라서, 마스크 디바이스만이, 예컨대 오버헤드 운반 비히클(overhead transport vehicle)들에 의해 진공 시스템 외부로 운반될 것이다. 마스크 캐리어들은, 마스크 디바이스들보다 훨씬 더 긴 시간 동안 진공 시스템에서 유지될 수 있는 실드 세그먼트들과 함께 진공 하에서 유지될 것이다. 진공 시스템 외부에서 핸들링되어야 하는 마스크 당 최대 중량이 급격하게 감소되는데, 예컨대, 약 300 kg 또는 그 초과의 마스크 캐리어로부터, 마스크 캐리어가 없는 마스크 디바이스에 대해 150 kg 또는 그 미만으로 감소된다. 따라서, 통상적인 오버헤드 운반 비히클들은 훨씬 더 적은 수의 마스크 캐리어들 대신에 7개 이상의 마스크 디바이스들을 용이하게 운반할 수 있다. 마스크 교환이 가속될 수 있고, 오버헤드 운반 시스템들의 수, 마스크 캐리어들의 수, 및/또는 마스크 스토커(mask stocker)들의 수가 감소될 수 있다. 따라서, 비용들이 또한 감소될 수 있고 그리고 공간 요건들이 개선될 수 있다. 예컨대 마스크 캐리어들 상에 탑재되는 실드들과 함께, 마스크 캐리어들은, 더 긴 시간 동안 진공 하에서 유지될 수 있고, 그에 따라, 유지보수 노력이 상당히 감소된다. 마스크 캐리어들은, 실드들이 세정 또는 교환되어야 할 때, 분위기(atmosphere)로 배출될 수 있다. 따라서, 마스크 캐리어들의 총 수가 감소될 수 있다.
[0092] 본원에 설명된 실시예들에 따르면, 마스크 디바이스들 및/또는 기판들은 본질적으로 수직 배향으로 진공 시스템에서 운반된다. 수직 운반의 개념은, 마스크 디바이스들 및/또는 기판들이 본질적으로 수평 배향으로 운반 및 프로세싱되는 개념과 비교하여 더 큰 기판 사이즈들의 핸들링을 허용한다. 본질적으로 수직 배향으로의 마스크 디바이스들 및/또는 기판들의 운반은, 마스크 디바이스들 및/또는 기판들을 개개의 캐리어들에 탑재함으로써 가능하게 될 수 있다. 본원에 설명된 실시예들에 따르면, 마스크 캐리어들에 또는 마스크 캐리어들로부터 마스크 디바이스들을 부착 또는 분리하는 것은, 대기 조건들 하에서 수행되는 것이 아니라 진공 시스템 내부에서 수행된다. 따라서, 진공 시스템 외부에서 핸들링되어야 하는 중량이 감소될 수 있다.
[0093] 따라서, 위의 관점에서, 본원에 설명된 바와 같은 실시예들이 신속하고 효율적인 마스크 교환을 제공한다는 것이 이해될 것이다. 특히, 본원에 설명된 바와 같은 실시예들은, 기판 상의 마스킹 방식 증착을 위해 구성되는 진공 시스템에서 마스크 교환을 단순화하고 가속시키는 이점을 갖는다.
[0094] 전술한 내용이 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이지만, 본 개시내용의 다른 그리고 추가적인 실시예들이 본 개시내용의 기본적인 범위로부터 벗어나지 않으면서 안출될 수 있으며, 본 개시내용의 범위는 하기의 청구항들에 의해 결정된다.
[0095] 특히, 이러한 서면 설명은, 최상의 모드(best mode)를 포함하는 본 개시내용을 개시하기 위해, 그리고 또한, 임의의 당업자로 하여금 임의의 디바이스들 또는 시스템들을 제조하고 사용하고 그리고 임의의 포함된 방법들을 수행하는 것을 비롯하여 설명된 청구대상을 실시할 수 있도록 하기 위해, 예들을 사용한다. 전술한 내용에서 다양한 특정 실시예들이 개시되었지만, 위에서 설명된 실시예들의 상호 비-배타적인 특징들은 서로 결합될 수 있다. 특허가능한 범위는 청구항들에 의해 정의되며, 그리고 다른 예들은, 이들이 청구항들의 문언과 상이하지 않은 구조적 엘리먼트들을 갖는 경우 또는 이들이 청구항들의 문언과 실질적으로 차이들이 없는 등가의 구조적 엘리먼트들을 포함하는 경우, 청구항들의 범위 내에 있는 것으로 의도된다.

Claims (17)

  1. 마스크 디바이스(10)를 핸들링(handle)하는 방법으로서,
    - 상기 마스크 디바이스(10)를 홀딩(hold)하기 위한 홀딩 어레인지먼트(arrangement)(20) 상에 상기 마스크 디바이스(10)를 로딩(load)하는 단계(X1);
    - 제1 상태로부터 제2 상태로 상기 홀딩 어레인지먼트(20)를 이동시키는 단계(X2) ― 상기 제2 상태는 비-수평 상태임 ―;
    - 마스크 캐리어(15)와 상기 홀딩 어레인지먼트(20)를 정렬시키는 단계(X3); 및
    - 상기 홀딩 어레인지먼트(20)로부터 상기 마스크 캐리어(15)로 상기 마스크 디바이스(10)를 이송하는 단계(X4)를 포함하는, 마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법.
  2. 마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법으로서,
    - 상기 마스크 디바이스(10)를 홀딩하는 마스크 캐리어(15)와 홀딩 어레인지먼트(20)를 정렬시키는 단계(Y1) ― 상기 홀딩 어레인지먼트는 제2 상태에 있음 ―;
    - 상기 마스크 캐리어(15)로부터 상기 홀딩 어레인지먼트(20)로 상기 마스크 디바이스(10)를 이송하는 단계(Y2); 및
    - 상기 제2 상태로부터 제1 상태로 상기 홀딩 어레인지먼트(20)를 이동시키는 단계(Y3)를 포함하며, 상기 제2 상태는 비-수평 상태인, 마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 마스크 캐리어(15)와 상기 홀딩 어레인지먼트(20)를 정렬시키는 단계(X3, Y1)는, 상기 홀딩 어레인지먼트(20)에 대하여 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)을 이동시키는 단계(Z2)를 포함하는, 마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마스크 캐리어(15)와 상기 홀딩 어레인지먼트(20)를 정렬시키는 단계(X3, Y1)는, 상기 마스크 캐리어(15)와 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)을 맞물리게(engage) 하는 단계를 포함하는, 마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마스크 캐리어와 상기 홀딩 어레인지먼트(20)를 정렬시키는 단계(X3, Y1)는, 특히, 상기 마스크 캐리어(15) 상에 작용하는 자기력을 생성하기 위한 전자기 어레인지먼트(35)를 사용하여, 상기 마스크 캐리어를 리프팅(lift)하는 단계(Z1)를 포함하는, 마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마스크 디바이스(10)를 이송하는 단계(X4, Y2)는, 상기 마스크 디바이스(10) 상에 작용하는 자기력을 제공하기 위한 하나 이상의 전자기 엘리먼트들(23)을 사용하는 단계를 포함하는, 마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 상태는 실질적으로 수평 상태이고, 특히, 상기 제1 상태는, 상기 마스크 디바이스의 주 표면과 수평 평면 사이의 각도가 30° 또는 그 미만인 상태인, 마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 상태는 실질적으로 수직 상태이고, 특히, 상기 제2 상태는, 상기 마스크 디바이스(10)의 주 표면과 중력 벡터 사이의 각도가 +10° 내지 -10°인 상태인, 마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 홀딩 어레인지먼트(20)를 이동시키는 단계(X2, Y2)는, 회전 축(25), 특히, 수평 평면에 있는 회전 축을 중심으로 상기 홀딩 어레인지먼트를 회전시키는 단계를 포함하는, 마스크 디바이스(10)를 핸들링하는 방법.
  10. 마스크 캐리어(15)로부터 마스크 디바이스(10)를 교환하는 방법으로서,
    - 제2항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법을 수행하는 단계 ― 상기 마스크 디바이스는 제1 마스크 디바이스(11)임 ―; 및
    - 제1항, 제3항, 제4항, 제5항, 제6항, 제7항, 제8항, 또는 제9항 중 어느 한 항에 따른, 마스크 디바이스를 핸들링하는 방법을 수행하는 단계 ― 상기 마스크 디바이스는 제2 마스크 디바이스(12)임 ― 를 포함하는, 마스크 캐리어(15)로부터 마스크 디바이스(10)를 교환하는 방법.
  11. 마스크 캐리어(15)로부터 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100)로서,
    - 상기 마스크 디바이스(10)를 홀딩하기 위한 홀딩 어레인지먼트(20);
    - 제1 상태와 제2 상태 사이에서 상기 홀딩 어레인지먼트(20)를 이동시키기 위한 메커니즘(24) ― 상기 제2 상태는 비-수평 상태임 ―; 및
    - 상기 마스크 캐리어(15)와 상기 홀딩 어레인지먼트(20)를 정렬시키기 위한 정렬 어셈블리(26)를 포함하는, 마스크 캐리어(15)로부터 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100).
  12. 제11항에 있어서,
    상기 정렬 어셈블리(26)는, 상기 홀딩 어레인지먼트(20)에 대하여 이동가능한 하나 이상의 정렬 엘리먼트들(22)을 포함하는, 마스크 캐리어(15)로부터 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100).
  13. 제11항 또는 제12항에 있어서,
    상기 홀딩 어레인지먼트(20)는, 자기력에 의해 상기 마스크 디바이스(10)를 홀딩하기 위한 하나 이상의 전자기 엘리먼트들(22)을 포함하는, 마스크 캐리어(15)로부터 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100).
  14. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 상태는 실질적으로 수평 상태이고, 특히, 상기 제1 상태는, 상기 마스크 디바이스의 주 표면과 수평 평면 사이의 각도가 30° 또는 그 미만인 상태인, 마스크 캐리어(15)로부터 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100).
  15. 제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 상태는 실질적으로 수직 상태인 상태이고, 특히, 상기 제2 상태는, 상기 마스크 디바이스(10)의 주 표면과 중력 벡터 사이의 각도가 +10° 내지 -10°인 상태인, 마스크 캐리어(15)로부터 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100).
  16. 마스크 교환 챔버(300)로서,
    - 마스크 캐리어(15)를 홀딩하도록 구성되는 자기 부상 시스템(350); 및
    - 제11항 내지 제15항 중 어느 한 항에 따른, 상기 마스크 캐리어(15)로부터 마스크 디바이스(10)를 교환하기 위한 장치(100)를 포함하는, 마스크 교환 챔버(300).
  17. 기판 상에 재료를 증착하기 위한 진공 시스템(700)으로서,
    - 제16항에 따른 마스크 교환 챔버(300);
    - 적어도 하나의 증착 챔버(710); 및
    - 사용될 마스크 디바이스들 및 사용된 마스크 디바이스들을 상기 마스크 교환 챔버(300)와 상기 적어도 하나의 증착 챔버(710) 사이에서 비-수평 배향으로 운반하도록 구성되는 마스크 운반 시스템(720)을 포함하는, 기판 상에 재료를 증착하기 위한 진공 시스템(700).
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