CN111926291A - 掩膜板及掩膜板组件 - Google Patents

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CN111926291A CN202010899158.2A CN202010899158A CN111926291A CN 111926291 A CN111926291 A CN 111926291A CN 202010899158 A CN202010899158 A CN 202010899158A CN 111926291 A CN111926291 A CN 111926291A
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李世泰
李慧
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Abstract

本发明提供一种掩膜板及掩膜板组件,涉及显示技术领域,该掩膜板包括开口区以及围绕所述开口区设置的焊接区,所述开口区外设有阻挡槽。当将掩膜板焊接在框架上时,掩膜板上会形成褶皱,本发明实施例通过在掩膜板上设置阻挡槽,阻挡槽能够阻隔断褶皱的传递,避免褶皱传递至掩膜板的开口区内,进而防止开口区的位置发生偏移,提高了蒸镀精度。

Description

掩膜板及掩膜板组件
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜板及掩膜板组件。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)中的膜层结构通常需要利用掩膜板组件(MFA)进行蒸镀形成的。
掩膜板组件通常包括框架和掩膜板,其中,掩膜板包括开口区以及围绕开口区设置的焊接区,焊接区内设有对位孔;在形成掩膜板组件时,通常需要先将掩膜板放置在框架上,并使掩膜板上对位孔与框架上的对位孔对齐,然后将掩膜板的焊接区焊接在框架上。
但是,在焊接的过程中,焊接区内形成褶皱,这些褶皱会延伸至开口区内,致使开口区内开口的位置发生偏移,影响蒸镀的精度。
发明内容
鉴于上述问题,本发明实施例提供一种掩膜板及掩膜板组件,用于阻止掩膜板的褶皱的延伸,避免掩膜板的开口发生位置偏移,提高了蒸镀精度。
为了实现上述目的,本发明实施例提供如下技术方案:
本发明实施例的第一方面提供一种掩膜板,包括开口区以及围绕所述开口区设置的焊接区,所述开口区外设有阻挡槽,所述阻挡槽用于阻挡掩膜板与框架焊接时产生的褶皱延伸至所述开口区内。
如上所述的掩膜板,其中,所述焊接区内还设有对位孔,所述对位孔用于与框架上的基准孔进行对位;所述阻挡槽包围部分的所述对位孔,且所述阻挡槽用于容纳焊点,所述焊点的高度低于所述阻挡槽的深度。
如上所述的掩膜板,其中,所述掩膜板为矩形,沿所述掩膜板的长度方向,所述掩膜板包括相对设置的第一边缘和第二边缘。
所述对位孔包括多个第一对位孔和多个第二对位孔,多个所述第一对位孔设在所述第一边缘与所述开口区之间,且多个所述第一对位孔沿所述第一边缘的延伸方向间隔设置。
多个所述第二对位孔设在所述第二边缘与所述开口区之间,且多个所述第二对位孔沿着所述第二边缘的延伸方向间隔设置。
所述阻挡槽包括第一阻挡槽和第二阻挡槽,所述第一阻挡槽设在所述第一边缘与所述第一对位孔之间,所述第二阻挡槽设在所述第二边缘与所述第二对位孔之间,且所述第一阻挡槽的长度方向和所述第二阻挡槽的长度方向均与所述掩膜板的宽度方向相互平行。
如上所述的掩膜板,其中,第一阻挡槽的长度方向,所述第一阻挡槽的至少一个端部朝向所述第二阻挡槽弯折,以形成第一弯折段;和/或,沿所述第二阻挡槽的长度方向,所述第二阻挡槽的至少一个端部朝向所述第一阻挡槽弯折,以形成第二弯折段。
如上所述的掩膜板,其中,所述焊接区内还设有对位孔,所述对位孔用于与框架上的基准孔进行对位;所述阻挡槽包围至少部分的所述对位孔。
如上所述的掩膜板,其中,所述阻挡槽包括多个子阻挡槽,多个所述子阻挡槽沿所述对位孔的边缘间隔分布。
如上所述的掩膜板,其中,所述子阻挡槽为弧形槽,且所述弧形槽的弧心与所述对位孔的圆心重合。
如上所述的掩膜板,其中,多个所述子阻挡槽相互连通以形成环形阻挡槽。
本发明实施例的第二方面提供一种掩膜板组件,其包括:框架以及如上所述的掩膜板,所述掩膜板焊接在所述框架上。
如上所述的掩膜板组件,其中,所述框架包括开口部分以及围绕所述开口部分的边框部分,所述焊接区焊接在所述边框部分上,且所述边框部分设置有与所述对位孔对应的基准孔。
本发明实施例所提供的掩膜板及掩膜板组件中,当将掩膜板焊接在框架上时,掩膜板上会形成褶皱,本发明实施例通过在掩膜板上设置阻挡槽,阻挡槽能够阻隔断褶皱的传递,避免褶皱传递至掩膜板的开口区内,进而防止开口区的位置发生偏移,提高了蒸镀精度。
除了上面所描述的本发明实施例解决的技术问题、构成技术方案的技术特征以及由这些技术方案的技术特征所带来的有益效果外,本发明实施例提供的掩膜板及掩膜板组件所能解决的其他技术问题、技术方案中包含的其他技术特征以及这些技术特征带来的有益效果,将在具体实施方式中作出进一步详细的说明。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的掩膜板的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的掩膜组件的结构示意图一;
图3为图2的主视图;
图4为本发明实施例提供的掩膜板上的褶皱分布图;
图5为本发明实施例提供的掩膜组件的结构示意图二;
图6为本发明实施例提供的掩膜组件的结构示意图三;
图7为本发明实施例提供的掩膜组件的结构示意图四;
图8为本发明实施例提供的掩膜组件的结构示意图五;
图9为图8的主视图;
图10为本发明实施例提供的框架的结构示意图。
附图标记:
100:掩膜板;
110:开口区;
111:开口;
120:焊接区;
130:对位孔;
131:第一对位孔;
132:第二对位孔;
140:第一边缘;
150:第二边缘;
160:对位区;
200:阻挡槽;
210:第一阻挡槽;
211:第一弯折段;
220:第二阻挡槽;
221:第二弯折段;
230:环形阻挡槽;
231:第一环形边;
232:第二环形边;
240:侧壁;
300:焊点;
400:框架;
410:开口部分;
420:边框部分;
430:基准孔;
500:磁铁板。
具体实施方式
本申请的发明人在实际工作过程中发现:当利用夹爪将掩膜板放置到框架上,并利用激光焊将掩膜板焊接在框架上的过程,掩膜板的内部会形成应力,当应力集中在掩膜板的部分区域,比如,对位孔所在的区域时,这些区域会发生褶皱,在后续的蒸镀对位过程中,磁力吸附会将上述的褶皱扩大,并将上述的褶皱延伸至掩膜板的开口区内,致使开口区的位置发生偏移,降低蒸镀图形位置精度(PAA),进而造成蒸镀的OLED器件的像素发生偏移,影响OLED器件的正常显示。
针对上述的技术问题,本发明实施例提供了一种掩膜板及掩膜板组件,通过在掩膜板上设置阻挡槽,当掩膜板上的褶皱传递至阻挡槽时,阻挡槽能够阻隔断褶皱的传递,避免褶皱传递至掩膜板的开口区内,进而防止开口区的位置发生偏移,提高了蒸镀精度。
为了使本发明实施例的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例,均属于本发明保护的范围。
如图1所示,本发明实施例提供的掩膜板100,包括开口区110以及围绕开口区110设置的焊接区120,焊接区120与开口区110之间设有阻挡槽200,即开口区110外设有阻挡槽200,阻挡槽200用于阻挡焊接掩膜板100时产生的褶皱延伸至开口区110内。
其中,开口区110内包括多个阵列排布的开口111,每个开口111对应待制备显示面板的不同的显示区域,利用多个开口可以达到将显示面板分割为不同的显示区域的目的。
此外,掩膜板100除去开口区110的部分即为焊接区120,在蒸镀之前需要利用激光焊机将掩膜板100的焊接区120焊接在框架上,如图2所示,图2为焊接完成后掩膜组件的结构示意图。
在将掩膜板焊接在框架的过程中,包括拉伸展平掩膜板和焊接掩膜板两个过程,在上述两个过程中掩膜板会因为应力的集中形成褶皱,该褶皱会延伸至开口区内,致使在开口区的位置发生偏移,因此,本发明实施例在开口区110与焊接区120之间设有阻挡槽200,阻挡槽200用于阻挡掩膜板与框架焊接时发生的褶皱延伸至开口区110内,进而防止开口区110内开口111的位置发生偏移,提高了蒸镀精度。此外,蒸镀精度提高后,蒸镀阴影也有所减小,可以保证蒸镀膜层厚度的均一性。
针对于焊接过程而言,焊点周围会形成应力集中,且该应力易导致掩膜板与焊点对应的位置上会形成褶皱,因此,本实施例中阻挡槽可以用于容纳焊点,也就是说,阻挡槽可以形成在掩膜板100的焊接区120内,当需要将掩膜板100焊接在框架400时,首先利用夹爪将掩膜板100放置在框架400上,然后利用激光机在阻挡槽内形成焊点300,通过焊点300将掩膜板100焊接在框架400上。
在本实施例中,如图3所示,焊点300的高度低于阻挡槽的深度,这样当因焊接引起的褶皱向掩膜板的开口区延伸时,褶皱会优先碰触到阻挡槽的侧壁240,这样阻挡槽的侧壁240会阻挡褶皱的延伸,避免褶皱传递至掩膜板100的开口区110内,进而防止开口区内的开口位置发生偏移,提高了蒸镀精度。
需要说明的是,阻挡槽的设置的方式与焊点300的布局一致,比如,如图2所示,焊点300沿矩形的掩膜板100的边缘间隔分布,以形成环形的焊接结构,相应地,形成在掩膜板100上阻挡槽也为环形的阻挡槽,也就是说,阻挡槽的延伸方向与掩膜板100的边缘一致,阻挡槽的俯视图为矩形。
掩膜板100在使用过程,需要通过传动装置进行搬运以及清洗干燥,在上述过程中,掩膜板100会受到震动或者清洗风的吹拂,很容易导致焊点300的松动脱落。因此,本实施例采用环形的焊接结构,使得掩膜板100的每个边缘上都均匀地设置有多个焊点300,此种设计,可以提高掩膜板100与框架400的连接稳固性,在降低焊点300脱落风险的同时,可以提高掩膜板100的使用寿命和稳定性。
进一步地,为了保证掩膜板100与框架400之间的位置精度,使得掩膜板100精准地贴合在框架400上,本实施例所提供的掩膜板100的焊接区120还设有对位孔130,且对位孔130所在的区域可以对位区160,相应地,框架400上也设有与对位孔130相匹配的基准孔430。
需要说明的是,对位孔130的设置是便于将掩膜板100精准地固定在框架400上,以及便于蒸镀机精准地识别出需要蒸镀的范围,因此,为了提高掩膜板100与框架400之间的对位精度,可以将对位孔130设置为多个,比如,如图2所示,掩膜板100为矩形,对位孔130的个数的四个,四个对位孔130分别设置在矩形掩膜板100的四个拐角处,这样蒸镀机在对位过程需要对四个对位孔130均进行对位,可以提高掩膜板100与框架400之间的对位精度,进而提高掩膜板100的蒸镀精度。
当利用激光焊将掩膜板100焊接在框架400上的过程中,掩膜板100的内部会形成应力,致使掩膜板100上形成褶皱,但是在实际过程中该部分应力通常会优先集中在对位孔130所在的区域时,致使对位孔130所在的区域内的褶皱会大于其他区域内的褶皱,如图4所示,即对位孔130对应的A区域内褶皱会大于开口区110对应的B区域内的褶皱。
在后续的蒸镀对位过程中,会需要利用磁铁板500的磁力,将掩膜板紧紧地吸附在框架上,因此,磁力吸附会将致使对位孔所在的区域内的褶皱扩大,并将致使对位孔所在的区域内的褶皱延伸至掩膜板的开口区内,致使开口区的位置发生偏移,降低蒸镀图形位置精度(PAA),进而造成蒸镀的OLED器件的像素发生偏移,影响OLED器件的正常显示。
因此,阻挡槽200可以优选设置在对位孔130附近,也就是说,阻挡槽200可以包围部分的对位孔130,可以理解的,以图2所示的方位为例,本实施例中的包围指代的是,当掩膜板100为长方体时,对位孔130在掩膜板的左侧壁上的投影位于阻挡槽200在左侧壁上的投影内。同时,对位孔130的附近可以理解为,对位孔与掩膜板的左边缘之间的空间,或者是对位孔与掩膜板的上边缘之间的空间,又或者是对位孔与掩膜板的右边缘之间的空间。
另外,由于临近对位孔130的焊点300设置在阻挡槽内,且焊点300的高度小于阻挡槽的深度,这样蒸镀机的对位机构对位过程中,不会将焊点300误识别为对位孔130,可以提高对位精度,进而提高蒸镀精度。
需要说明的是,阻挡槽200的深度可以根据焊点300的高度以及掩膜板100的厚度进行自由设计,其中,第一阻挡槽210的深度与掩膜板100的厚度之比位于0.3-0.5之间。
比如,当掩膜板100厚度为100μm时,阻挡槽200的深度可以为20-30μm,焊点300的高度可以小于等于100μm。
因此,本发明实施例将阻挡槽设置在对位孔130的附近,并使阻挡槽200包围部分的对位孔130,通过阻挡槽200与掩膜板100表面之间的高低差来阻挡褶皱的传递,避免褶皱传递至开口区内,进而提高的蒸镀精度。其中,以图2所示的方位为例,
在一些实施例中,如图5所示,掩膜板100为矩形,沿掩膜板100的长度方向,也就是图5中X方向,掩膜板100具有相对设置的第一边缘140和第二边缘150,以图5所示的方位为例,第一边缘140为掩膜板100的左边缘,第二边缘150为掩膜板100的右边缘。
对位孔130包括多个第一对位孔131和第二对位孔132,多个第一对位孔131设在第一边缘140与开口区110之间,且多个第一对位孔131沿着第一边缘140的延伸方向间隔设置,多个第二对位孔132设在第二边缘150与开口区110之间,且第二对位孔132沿着第二边缘150的延伸方向间隔设置。
在本实施例中,通过多个第一对位孔131和多个第二对位孔132的设置,可以提高掩膜板100的对位精度,至于第一对位孔131的个数可以为两个,也可以为三个,或者更多,本实施例在此不做限定,只能能够实现掩膜板的精准对位即可。
相应地的,阻挡槽200也可以包括第一阻挡槽210和第二阻挡槽220,第一阻挡槽210设在第一边缘140与第一对位孔131之间,第二阻挡槽220设在第二边缘150与第二对位孔132之间,且第一阻挡槽210的长度方向和第二阻挡槽220的长度方向均与掩膜板100的宽度方向相互平行。
在本实施例中,第一阻挡槽210的结构可以与第二阻挡槽220的结构一致,为了便于描述,下面的描述均以第一阻挡槽为例。
比如,当第一对位孔131为两个时,第一阻挡槽210的个数可以为一个,如图5所示,第一阻挡槽210为长方形凹槽,且两个第一对位孔131在掩膜板100的左侧壁上的投影均位于第一阻挡槽210在左侧壁上的投影内。
又比如,第一阻挡槽210的个数为两个,如图6所示,两个第一阻挡槽210沿掩膜板100的宽度方向间隔分布,且与两个第一对位孔131一一对应,也就是说,其中一个第一对位孔131在掩膜板100的左侧壁上的投影均位于其中一个第一阻挡槽210在左侧壁上的投影内,另一个第一对位孔131在掩膜板100的左侧壁上的投影均位于另一个第一阻挡槽210在左侧壁上的投影内。
在一些实施例中,沿第一阻挡槽210的长度方向,也就是说,沿图7中Y方向,第一阻挡槽210的至少一个端部朝向第二阻挡槽220弯折,以形成第一弯折段211,和/或,沿第二阻挡槽220的长度方向,第二阻挡槽220的至少一个端部朝向第一阻挡槽210弯折,以形成第二弯折段221。
第一阻挡槽210和第二阻挡槽220的形状为L型或者是U型,这样可以增加第一阻挡槽和第二阻挡槽的面积,可以防止位于对位孔130周围的褶皱传递至掩膜板100的开口区110内,进而防止开口区110内开口111的位置发生偏移,提高了蒸镀精度。
在一些实施例中,如图8和图9所示,焊接区120内还设有对位孔130,对位孔130用于与框架400上的基准孔430进行对位,且阻挡槽200包围至少部分的对位孔130,即阻挡槽200仅仅是围绕对位孔130设置,并不需要在阻挡槽200内设置焊点300,这样便于掩膜板与框架之间的固定连接,提高了操作的便利性。
需要理解的是,本实施例中包围可以理解为,部分对位孔位于阻挡槽所围成的区域内。
进一步地,阻挡槽200可以包括多个子阻挡槽,多个子阻挡槽沿对位孔130的边缘间隔分布,这样当因焊接过程中产生的褶皱传递至子阻挡槽内时,褶皱会被子阻挡槽的侧壁阻挡,阻止褶皱传递至开口区110内,进而防止开口区内的开口位置发生偏移,提高了蒸镀精度。
其中,子阻挡槽的形状可以为有多种选择,比如,子阻挡槽的俯视图可以矩形,也可以弧形槽,且弧形槽的弧心与对位孔的圆心重合。
在一些实施例中,多个子阻挡槽相互连通以形成环形阻挡槽230,其中,环形阻挡槽230具有第一环形边231和第二环形边232,第一环形边231靠近掩膜板100的边缘,对位孔130设在第一环形边231围成的区域内,也就是说,环形阻挡槽230围绕在对位孔130的周围,相应地,环形阻挡槽230的俯视图可以为圆环或者方形。
进一步地,第二环形边232可以与对位孔130的边缘重合,也就是说,环形阻挡槽230与对位孔130连通,这样可以降低环形阻挡槽的制备工艺。
本发明实施例还提供一种掩膜组件,包括框架400以及上述描述的掩模板100,其中,框架400可以包括开口部分410以及围绕开口部分410的边框部分420,开口部分410用于与掩膜板100的开口区110相对应,便于蒸镀的材料经过框架400的开口部分410和掩膜板100的开口区110后蒸镀到待蒸镀的衬底上。
如图10所示,框架400可以包括若干个边框,该边框依次首尾依次连接,从而形成封闭的框架,边框围成的区域为开口部分。
可以理解的,本实施例中所提到的“若干”指代两个或者两个以上,比如,本实施例中提供的框架包括四条长方形的边框,四条边框依次首尾连接构成矩形的框架,而相邻的边框之间可以通过焊接或者插接的方式连接在一起,也可以为一体成型的一体件。
为了保证框架400的结构强度以及使用寿命,框架400可以选用金属材料制成,使得框架400能够支撑掩膜板100,保证蒸镀工艺的正常进行。
此外,框架400的边框部分420也就是各个边框的上表面构成框架的焊接区域,框架400的边框部分420上设有与对位孔130一一对应基准孔430,且基准孔430为贯穿框架400的通孔,其中,通孔可以为规则的圆柱形孔或者方形孔,也可以为不规则的孔,本实施例在此不做具体的限定。
在制作掩膜组件时,一般是通过夹爪将掩膜板放置到框架上时,并使掩膜板的下表面贴合在框架的边框部分上,然后使掩膜板上对位孔位于框架的基准孔的正上方,最后并利用激光焊将掩膜板的焊接区焊接在框架的边框部分上。
由于本实施例所提供的掩膜板100中设置了阻挡槽200,当焊接掩膜板时,掩膜板100上形成的褶皱,这些褶皱会被阻挡槽200阻挡,以防止褶皱延伸至开口区110内,进而防止开口区100内开口111的位置发生偏移,提高了蒸镀精度。
再者,掩膜板在使用过程,需要通过传动装置进行搬运以及清洗干燥,在上述过程中,掩膜板会受到震动或者清洗风的吹拂,很容易导致焊点的松动脱落。因此,本实施例采用环形的焊接结构,使得掩膜板的每个边缘上都均匀地设置有多个焊点,此种设计,可以提高掩膜板与框架之间的连接的稳固性,在降低焊点脱落风险的同时,可以提高掩膜板的使用寿命和稳定性。
本说明书中各实施例或实施方式采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分相互参见即可。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施方式”、“一些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种掩膜板,其特征在于,所述掩膜板包括开口区以及围绕所述开口区设置的焊接区,所述开口区外设有阻挡槽,所述阻挡槽用于阻挡掩膜板与框架焊接时产生的褶皱延伸至所述开口区内。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述焊接区内还设有对位孔,所述对位孔用于与框架上的基准孔进行对位;
所述阻挡槽包围部分的所述对位孔,且所述阻挡槽用于容纳焊点,所述焊点的高度低于所述阻挡槽的深度。
3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板为矩形,沿所述掩膜板的长度方向,所述掩膜板包括相对设置的第一边缘和第二边缘;
所述对位孔包括多个第一对位孔和多个第二对位孔,多个所述第一对位孔设在所述第一边缘与所述开口区之间,且多个所述第一对位孔沿所述第一边缘的延伸方向间隔设置;
多个所述第二对位孔设在所述第二边缘与所述开口区之间,且多个所述第二对位孔沿着所述第二边缘的延伸方向间隔设置;
所述阻挡槽包括第一阻挡槽和第二阻挡槽,所述第一阻挡槽设在所述第一边缘与所述第一对位孔之间,所述第二阻挡槽设在所述第二边缘与所述第二对位孔之间,且所述第一阻挡槽的长度方向和所述第二阻挡槽的长度方向均与所述掩膜板的宽度方向相互平行。
4.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,沿第一阻挡槽的长度方向,所述第一阻挡槽的至少一个端部朝向所述第二阻挡槽弯折,以形成第一弯折段;
和/或,沿所述第二阻挡槽的长度方向,所述第二阻挡槽的至少一个端部朝向所述第一阻挡槽弯折,以形成第二弯折段。
5.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述焊接区内还设有对位孔,所述对位孔用于与框架上的基准孔进行对位;
所述阻挡槽包围至少部分的所述对位孔。
6.根据权利要求5所述的掩膜板,其特征在于,所述阻挡槽包括多个子阻挡槽,多个所述子阻挡槽沿所述对位孔的边缘间隔分布。
7.根据权利要求6所述的掩膜板,其特征在于,所述子阻挡槽为弧形槽,且所述弧形槽的弧心与所述对位孔的圆心重合。
8.根据权利要求7所述的掩膜板,其特征在于,多个所述子阻挡槽相互连通以形成环形阻挡槽。
9.一种掩膜板组件,其特征在于,包括框架以及权利要求1-8任一项所述的掩膜板;
所述掩膜板焊接在所述框架上。
10.根据权利要求9所述的掩膜板组件,其特征在于,所述框架包括开口部分以及围绕所述开口部分的边框部分,所述焊接区焊接在所述边框部分上,且所述边框部分设置有与对位孔对应的基准孔。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112725728A (zh) * 2020-12-17 2021-04-30 合肥维信诺科技有限公司 一种掩膜版
CN113403575A (zh) * 2021-06-16 2021-09-17 云谷(固安)科技有限公司 掩膜组件及其制作方法
WO2022041891A1 (zh) * 2020-08-31 2022-03-03 合肥维信诺科技有限公司 掩膜板及掩膜板组件

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230010121A (ko) * 2021-07-09 2023-01-18 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체를 포함한 증착 설비 및 마스크 조립체 리페어 방법

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN203128640U (zh) * 2013-03-06 2013-08-14 唐军 易焊接掩模板
CN103911584A (zh) * 2012-12-31 2014-07-09 上海天马微电子有限公司 一种掩膜板
CN204434717U (zh) * 2014-12-05 2015-07-01 信利(惠州)智能显示有限公司 一种掩膜板
CN106119773A (zh) * 2016-08-03 2016-11-16 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制造方法、蒸镀掩膜板组件及其制造方法
CN106191769A (zh) * 2016-07-22 2016-12-07 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版、基板、显示面板和显示装置
CN107653436A (zh) * 2017-10-31 2018-02-02 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法、蒸镀方法
CN108251796A (zh) * 2018-01-31 2018-07-06 京东方科技集团股份有限公司 一种精细金属掩膜板及其制备方法、掩膜集成框架
CN208604193U (zh) * 2018-07-06 2019-03-15 昆山国显光电有限公司 掩膜版和掩膜组件
CN110079763A (zh) * 2019-05-15 2019-08-02 昆山维信诺科技有限公司 掩膜板及掩膜组件
CN110438448A (zh) * 2019-09-10 2019-11-12 京东方科技集团股份有限公司 对位掩膜板、金属掩膜板组件及其制备方法
US20200181754A1 (en) * 2018-12-11 2020-06-11 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. A mask and a mask device using the same
CN111394694A (zh) * 2020-05-18 2020-07-10 昆山国显光电有限公司 掩膜板
CN111471960A (zh) * 2020-06-09 2020-07-31 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板以及制备方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102608420B1 (ko) * 2016-03-09 2023-12-01 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
CN109423600B (zh) * 2017-08-25 2020-01-07 京东方科技集团股份有限公司 掩膜条及其制备方法、掩膜板
CN108179380B (zh) * 2018-03-07 2020-05-12 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版
CN108642440B (zh) * 2018-05-14 2019-09-17 昆山国显光电有限公司 掩膜板及掩膜组件
CN111926291A (zh) * 2020-08-31 2020-11-13 合肥维信诺科技有限公司 掩膜板及掩膜板组件

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103911584A (zh) * 2012-12-31 2014-07-09 上海天马微电子有限公司 一种掩膜板
CN203128640U (zh) * 2013-03-06 2013-08-14 唐军 易焊接掩模板
CN204434717U (zh) * 2014-12-05 2015-07-01 信利(惠州)智能显示有限公司 一种掩膜板
CN106191769A (zh) * 2016-07-22 2016-12-07 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版、基板、显示面板和显示装置
CN106119773A (zh) * 2016-08-03 2016-11-16 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制造方法、蒸镀掩膜板组件及其制造方法
CN107653436A (zh) * 2017-10-31 2018-02-02 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法、蒸镀方法
CN108251796A (zh) * 2018-01-31 2018-07-06 京东方科技集团股份有限公司 一种精细金属掩膜板及其制备方法、掩膜集成框架
CN208604193U (zh) * 2018-07-06 2019-03-15 昆山国显光电有限公司 掩膜版和掩膜组件
US20200181754A1 (en) * 2018-12-11 2020-06-11 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. A mask and a mask device using the same
CN110079763A (zh) * 2019-05-15 2019-08-02 昆山维信诺科技有限公司 掩膜板及掩膜组件
CN110438448A (zh) * 2019-09-10 2019-11-12 京东方科技集团股份有限公司 对位掩膜板、金属掩膜板组件及其制备方法
CN111394694A (zh) * 2020-05-18 2020-07-10 昆山国显光电有限公司 掩膜板
CN111471960A (zh) * 2020-06-09 2020-07-31 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板以及制备方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022041891A1 (zh) * 2020-08-31 2022-03-03 合肥维信诺科技有限公司 掩膜板及掩膜板组件
CN112725728A (zh) * 2020-12-17 2021-04-30 合肥维信诺科技有限公司 一种掩膜版
CN113403575A (zh) * 2021-06-16 2021-09-17 云谷(固安)科技有限公司 掩膜组件及其制作方法

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