CN111676445A - 支撑掩膜版和掩膜版组件 - Google Patents

支撑掩膜版和掩膜版组件 Download PDF

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Abstract

本发明提供了支撑掩膜版和掩膜版组件。该支撑掩膜版具有封闭环形的边框、第一遮挡条和第二遮挡条，每个第二遮挡条包括多个第二子遮挡条，边框、多个第一遮挡条和多个第二子遮挡条限定出多个开口，第一方向与第二方向交叉，其中，多个第一遮挡条和多个第二子遮挡条中的至少之一的至少一部分具有减薄区和支撑区，减薄区的厚度小于支撑区的厚度，且支撑区的一个表面和减薄区的一个表面齐平。对第一遮挡条和/或第二遮挡条的部分区域进行减薄形成减薄区，进而减轻支撑掩膜版的整体重量，进而可有效较小支撑掩膜版在张网时的下垂量，进而改善其结构的形变量，从而提升使用该支撑掩膜版的蒸镀质量。

Description

支撑掩膜版和掩膜版组件
技术领域
本发明涉及掩膜版的技术领域，具体的，涉及支撑掩膜版和掩膜版组件。
背景技术
随着技术的发展，越来越多的柔性穿戴类产品涌入市场，由于穿戴类产品尺寸较小，一个大板上最高可达上千产品，故在EV Mask(蒸镀掩膜版)设计时，穿戴类产品的EVMask实材区占比远大于常规手机类产品。为保证量产性，在生产产品时，工艺参数及条件一般不会轻易改动，在相同磁力条件下，实材占比较多的穿戴类Mask很快就会被吸平(张网时对掩膜版的吸平过程)。由于吸平时间短，穿戴类产品FMM出现褶皱的风险性大大增高，可能会造成诸如蒸镀Shadow(阴影)过大、蒸偏等问题。
因此，关于EV Mask的研究有待深入。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种支撑掩膜版，该支撑掩膜版的重量较轻，可有效较小其在张网时的下垂量，进而改善其结构的形变量。
在本发明的一方面，本发明提供了一种支撑掩膜版。根据本发明的实施例，该支撑掩膜版具有封闭环形的边框，所述边框内部具有多个沿第一方向间隔设置且与所述边框相连的第一遮挡条，和多个沿第二方向间隔设置且与所述边框相连的第二遮挡条，每个所述第二遮挡条包括多个第二子遮挡条，且多个所述第二子遮挡条沿所述第一方向分布在所述边框和所述第一遮挡条之间的间隙中，以及相邻两个的所述第一遮挡条之间的间隙中，所述边框、多个所述第一遮挡条和多个所述第二子遮挡条限定出多个开口，所述第一方向与所述第二方向交叉，在所述第一方向上，所述支撑掩膜版可划分为多个间隔设置的预定区域，每个所述预定区域包括多个所述第一遮挡条，其中，多个所述第一遮挡条和多个所述第二子遮挡条中的至少之一的至少一部分具有减薄区和支撑区，所述减薄区的厚度小于所述支撑区的厚度，且所述支撑区的一个表面和所述减薄区的一个表面齐平。由此，对第一遮挡条和/或第二遮挡条的部分区域进行减薄形成减薄区，进而减轻支撑掩膜版的整体重量，进而可有效较小支撑掩膜版在张网时的下垂量，进而改善其结构的形变量，从而提升使用该支撑掩膜版的蒸镀质量；而且该支撑掩膜版与高精度金属掩膜版贴合形成的掩膜版组件，由于减薄区与高精度金属掩膜版不接触设置(仅仅支撑区与高精度金属掩膜版接触设置)，进而可以减小支撑掩膜板和高精度金属掩膜版之间的接触面积，延长掩膜版组件在吸平过程的吸平时间，从而使高精度金属掩膜版更好的舒展其表面的褶皱。
根据本发明的实施例，在所述第一方向上，所述第一遮挡条包括位于中间的第一支撑区和位于所述第一支撑区两侧的第一减薄区；和/或在所述第二方向上，所述第二遮挡条包括位于中间的第二支撑区和位于所述第二支撑区两侧的第二减薄区。
根据本发明的实施例，所述第一减薄区和所述第二减薄区的宽度分别大于等于0.2mm；所述第一支撑区和所述第二支撑区的宽度分别大于等于1.5mm。
根据本发明的实施例，位于所述预定区域内部的所述第一遮挡条只有所述减薄区。
根据本发明的实施例，相邻两个所述预定区域的边缘对应同一个所述第一遮挡条，且所述第一遮挡条包括位于中间的第三支撑区和位于所述第三支撑区两侧的第三减薄区。
根据本发明的实施例，在所述第二方向上，部分所述第二遮挡条只有减薄区，另一部分所述第二遮挡条包括位于中间的第四支撑区和位于所述第四支撑区两侧的第四减薄区，而且具有所述第四支撑区的所述第二遮挡条不相邻设置。
根据本发明的实施例，相邻两个具有所述第四支撑区的所述第二遮挡条之间具有3～5个所述开口。
在本发明的另一方面，本发明提供了一种掩膜版组件。根据本发明的实施例，所述掩膜版组件包括前面所述的支撑掩膜版和与所述支撑掩膜版贴合设置的至少一个高精度金属掩膜版，所述高精度金属掩膜版与所述支撑掩膜版的减薄区之间具有间隙，与支撑区接触设置，其中，所述支撑掩膜版的每个预定区域对应一个所述高精度金属掩膜版。由此，掩膜版组件的整体重量较轻，可以有效减轻其在张网时的下垂量，而且，可以减小支撑掩膜板和高精度金属掩膜版之间的接触面积，延长掩膜版组件在吸平过程的吸平时间，从而使高精度金属掩膜版更好的舒展其表面的褶皱。
根据本发明的实施例，所述掩膜版组件包括多个所述高精度金属掩膜版，相邻两个所述高精度金属掩膜版的边缘之间对应同一个第一遮挡条，所述第一遮挡条包括位于中间的第三支撑区和位于所述第三支撑区两侧的第三减薄区，所述第三支撑区满足以下条件中的一个：所述第三支撑区与相邻两个所述高精度金属掩膜版均接触设置；所述第三支撑区在所述第一方向上与相邻两个所述高精度金属掩膜版之间均具有间隔。
根据本发明的实施例，所述第三支撑区与相邻两个所述高精度金属掩膜版的接触宽度分别大于等于1mm；所述间隔的宽度大于等于0.05mm。
根据本发明的实施例，所述高精度金属掩膜版与所述支撑掩膜版的减薄区之间间隙的间距与所述高精度金属掩膜版的厚度相同。
附图说明
图1是本发明一个实施例中支撑掩膜版的结构示意图；
图2是图1中的局部放大图；
图3是图2中沿AA’的截面图；
图4是图2中沿BB’的截面图；
图5是本发明另一个实施例中支撑掩膜版的结构示意图；
图6是本发明另一个实施例中支撑掩膜版的结构示意图；
图7是本发明另一个实施例中支撑掩膜版的结构示意图；
图8是本发明另一个实施例中支撑掩膜版的结构示意图；
图9是本发明另一个实施例中掩膜版组件的结构示意图；
图10是一个实施例中图9中沿CC’的截面图；
图11是另一个实施例中图9中沿CC’的截面图；
图12是又一个实施例中图9中沿CC’的截面图；
图13是图9中沿DD’的截面图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。
在本发明的一方面，本发明提供了一种支撑掩膜版。根据本发明的实施例，参照图1至图8，该支撑掩膜版100(F-Mask)具有封闭环形的边框110，边框110内部具有多个沿第一方向间隔设置且与边框110相连的第一遮挡条120，和多个沿第二方向间隔设置且与边框110相连的第二遮挡条130，每个第二遮挡130条包括多个第二子遮挡条131，且多个第二子遮挡条131沿第一方向分布在边框110和第一遮挡条120之间的间隙中，以及相邻两个的第一遮挡条120之间的间隙中，边框110、多个第一遮挡条120和多个第二子遮挡条131限定出多个开口140，第一方向与第二方向交叉，在第一方向上，支撑掩膜版100可划分为多个间隔设置的预定区域S(图2中以一个预定区域为例)，每个预定区域包括多个第一遮挡条，其中，多个第一遮挡条120和多个第二子遮挡条131中的至少之一的至少一部分具有减薄区151和支撑区152，减薄区151的厚度小于支撑区152的厚度，且支撑区152的一个表面和减薄区151的一个表面齐平。由此，对第一遮挡条和/或第二遮挡条的部分区域进行减薄形成减薄区，进而减轻支撑掩膜版的整体重量，进而可有效较小支撑掩膜版在张网时的下垂量，进而改善其结构的形变量，从而提升使用该支撑掩膜版的蒸镀质量；而且该支撑掩膜版与高精度金属掩膜版贴合形成的掩膜版组件，由于减薄区与高精度金属掩膜版不接触设置(仅仅支撑区与高精度金属掩膜版接触设置)，进而可以减小支撑掩膜板和高精度金属掩膜版之间的接触面积，进而延长掩膜版组件在吸平过程的吸平时间，从而使高精度金属掩膜版更好的舒展其表面的褶皱。
根据本发明的实施例，在第一方向上，第一遮挡条120包括位于中间的第一支撑区1521和位于第一支撑区1521两侧的第一减薄区1511，结构示意图参照图3(图3为图2中沿AA’的截面图)；和/或在第二方向上，第二遮挡条(或者说第二子遮挡条131)包括位于中间的第二支撑区1522和位于第二支撑区1522两侧的第二减薄区1512，结构示意图参照图4(图4为图2中沿BB’的截面图)。由此，可以有效减轻支撑掩膜板的重量，进而有效减小支撑掩膜板的下垂量；而且，在第一遮挡条或第二遮挡条的边缘设置减薄区，在蒸镀的过程中减薄区不易残留蒸镀材料，以及便于支撑掩膜版的清洗。
根据本发明的实施例，参照图3和图4，第一减薄区1511和第二减薄区1512的宽度d1分别大于等于0.2mm，如此，可有效减小支撑掩膜版的下垂量以及支撑掩膜版与高精度金属掩膜版之间的接触面积，本领域技术人员可以在实际情况允许的情况下尽量增大d1的值；第一支撑区1521和第二支撑区1522的宽度d2分别大于等于1.5mm，由此，可以保证支撑掩膜版较好的支撑效果，若d2的值小于1.5mm，可能会使得支撑掩膜版在蒸镀的过程中对高精度金属掩膜版的压力过大，导致高精度金属掩膜版的表面产生褶皱。
根据本发明的实施例，参照图5，位于预定区域S内部的第一遮挡条120只有减薄区151，即该第一遮挡条中不保留支撑区(即支撑区的宽度等于0)，所以减薄区的宽度即为一个第一遮挡条的宽度。由此，可进一步减小支撑掩膜版的重量，而且位于预定区域S内部的第一遮挡条120不对高精度金属掩膜版产生压力，进而可以避免对高精度金属掩膜版的表面产生褶皱。其中，预定区域S内部包含的第一遮挡条的数量没有限制要求，本领域技术人员可以根据实际需求灵活设计选择，比如图5中的4条第一遮挡条。
根据本发明的实施例，当支撑掩膜版与高精度金属掩膜版贴合形成掩膜版组件使用时，支撑掩膜版的一个预定区域对应设置一个高精度金属掩膜版。
根据本发明的实施例，参照图6和图7(图6和图7中仅标注出了)，相邻两个预定区域S的边缘对应同一个第一遮挡条120，且第一遮挡条120包括位于中间的第三支撑区1523和位于第三支撑区1523两侧的第三减薄区1513。其中，在一些实施例中，预定区域S的边缘线可以位于第三支撑区1523的表面上(如图6所示)，所以，在支撑掩膜版与高精度金属掩膜版贴合使用时，高精度金属掩膜版的边缘与第三支撑区接触设置，由此，第三支撑区对高精度金属掩膜版进行稳定支撑；在另一些实施例中，预定区域S的边缘线在支撑掩膜版上的正投影位于第三减薄区1513的表面上(如图7所示)，如此，进一步增大了第三减薄区的宽度，进而进一步减轻了支撑掩膜版的重量。
根据本发明的实施例，参照图8，在第二方向上，部分第二遮挡条130只有减薄区151，另一部分第二遮挡条130包括位于中间的第四支撑区1524和位于第四支撑区1524两侧的第四减薄区1514，而且具有第四支撑区1524的第二遮挡条130不相邻设置。由此，既可以保证有效减轻支撑掩膜版的重量，进而减小其下垂量，同时保证支撑掩膜版对高精度金属掩膜版的良好的支撑稳定性。
根据本发明的实施例，相邻两个具有第四支撑区1524的第二遮挡条130之间具有3～5个开口140，如图8所示(图8中以三个开口为例)。由此，既可以保证有效减轻支撑掩膜版的重量，进而减小其下垂量，同时保证支撑掩膜版对高精度金属掩膜版的良好的支撑稳定性。
在本发明的另一方面，本发明提供了一种掩膜版组件。根据本发明的实施例，参照图9至图13(图10至图12为图9中沿CC’的截面图，图13为图9中沿DD’的截面图)，掩膜版组件1000包括前面所述的支撑掩膜版100和与支撑掩膜版100贴合设置的至少一个高精度金属掩膜版200，高精度金属掩膜版200与支撑掩膜版100的减薄区151之间具有间隙，与支撑区152接触设置，其中，支撑掩膜版100的每个预定区域S对应一个高精度金属掩膜版200(即在第一方向上间隔设置有至少一个高精度金属掩膜版200)。由此，掩膜版组件的整体重量较轻，可以有效减轻其在张网时的下垂量，而且，可以减小支撑掩膜板和高精度金属掩膜版之间的接触面积，延长掩膜版组件在吸平过程的吸平时间，从而使高精度金属掩膜版更好的舒展其表面的褶皱，解决蒸镀阴影过大以及蒸偏等问题。
根据本发明的实施例，参照图10至图12，掩膜版组件1000包括多个高精度金属掩膜版200(FMM)，相邻两个高精度金属掩膜版200的边缘之间对应同一个第一遮挡条120，该第一遮挡条120包括位于中间的第三支撑区1523和位于第三支撑区1523两侧的第三减薄区1513(其中，正投影每个高精度金属掩膜版200内部的第一遮挡条120可以同时具有支撑区152和减薄区151(如图10)，也可以仅仅具有减薄区151(如图11))，第三支撑区1523满足以下条件中的一个：
如图10和图11所示，第三支撑区1523与相邻两个高精度金属掩膜版200均接触设置，由此，第三支撑区对高精度金属掩膜版进行稳定支撑。其中，第三支撑区1523与相邻两个高精度金属掩膜版200的接触宽度d3分别大于等于1mm，如此，可以有效保证第三支撑区对高精度金属掩膜版的支撑效果，以防在蒸镀的过程中支撑掩膜版与高精度金属掩膜版发生相对位移，导致高精度金属掩膜版滑至减薄区中；
如图12所示，第三支撑区1523在第一方向上与相邻两个高精度金属掩膜版200之间均具有间隔，由此，可以进一步减小掩膜版组件的重量，进而减小其在张网时的下垂量，减小阴影，提升蒸镀质量。需要说明的是，此种情况第一遮挡条与边框相连，以达到对第一遮挡条的支撑作用。其中，间隔的宽度大于等于0.05mm。由此，有助于提高支撑掩膜版的精度，进而提升支撑掩膜版与高精度金属掩膜版之间的贴合效果；若间隔的宽度小于0.05mm，则可能导致支撑掩膜版与高精度金属掩膜版之间的贴合效果相对较差。
根据本发明的实施例，参照图13，在第二方向上，部分第二遮挡条130只有减薄区151，另一部分第二遮挡条130包括位于中间的第四支撑区1524和位于第四支撑区1524两侧的第四减薄区1514，而且具有第四支撑区1524的第二遮挡条130不相邻设置，第四支撑区1524与高精度金属掩膜版200接触设置，以便于支撑高精度金属掩膜版200。由此，既可以保证有效减轻支撑掩膜版的重量，进而减小其下垂量，同时保证支撑掩膜版对高精度金属掩膜版的良好的支撑稳定性。
根据本发明的实施例，高精度金属掩膜版与支撑掩膜版的减薄区之间间隙的间距与高精度金属掩膜版的厚度相同。在对掩膜版组件进行张网时，对通过磁力对掩膜版组件进行吸附，通过对支撑掩膜版设置减薄区，使得支撑掩膜版和高精度金属掩膜版之间具有间距，当该间距与高精度金属掩膜版的厚度相同时，更有利于使FMM有空间舒展其表面褶皱，更有利于减小我们的蒸镀Shadow。
在文中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (11)

1.一种支撑掩膜版，其特征在于，具有封闭环形的边框，所述边框内部具有多个沿第一方向间隔设置且与所述边框相连的第一遮挡条，和沿第二方向多个间隔设置且与所述边框相连的第二遮挡条，每个所述第二遮挡条包括多个第二子遮挡条，且多个所述第二子遮挡条沿所述第一方向分布在所述边框和所述第一遮挡条之间的间隙中，以及相邻两个的所述第一遮挡条之间的间隙中，所述边框、多个所述第一遮挡条和多个所述第二子遮挡条限定出多个开口，所述第一方向与所述第二方向交叉，在所述第一方向上，所述支撑掩膜版可划分为多个间隔设置的预定区域，每个所述预定区域包括多个所述第一遮挡条，
其中，多个所述第一遮挡条和多个所述第二子遮挡条中的至少之一的至少一部分具有减薄区和支撑区，所述减薄区的厚度小于所述支撑区的厚度，且所述支撑区的一个表面和所述减薄区的一个表面齐平。
2.根据权利要求1所述的支撑掩膜版，其特征在于，在所述第一方向上，所述第一遮挡条包括位于中间的第一支撑区和位于所述第一支撑区两侧的第一减薄区；
和/或在所述第二方向上，所述第二遮挡条包括位于中间的第二支撑区和位于所述第二支撑区两侧的第二减薄区。
3.根据权利要求2所述的支撑掩膜版，其特征在于，所述第一减薄区和所述第二减薄区的宽度分别大于等于0.2mm；所述第一支撑区和所述第二支撑区的宽度分别大于等于1.5mm。
4.根据权利要求1所述的支撑掩膜版，其特征在于，位于所述预定区域内部的所述第一遮挡条只有所述减薄区。
5.根据权利要求4所述的支撑掩膜版，其特征在于，相邻两个所述预定区域的边缘对应同一个所述第一遮挡条，且所述第一遮挡条包括位于中间的第三支撑区和位于所述第三支撑区两侧的第三减薄区。
6.根据权利要求4或5所述的支撑掩膜版，其特征在于，在所述第二方向上，部分所述第二遮挡条只有减薄区，另一部分所述第二遮挡条包括位于中间的第四支撑区和位于所述第四支撑区两侧的第四减薄区，而且具有所述第四支撑区的所述第二遮挡条不相邻设置。
7.根据权利要求6所述的支撑掩膜版，其特征在于，相邻两个具有所述第四支撑区的所述第二遮挡条之间具有3～5个所述开口。
8.一种掩膜版组件，其特征在于，包括：
权利要求1～7中任一项所述的支撑掩膜版和与所述支撑掩膜版贴合设置的至少一个高精度金属掩膜版，所述高精度金属掩膜版与所述支撑掩膜版的减薄区之间具有间隙，与支撑区接触设置，其中，所述支撑掩膜版的每个预定区域对应一个所述高精度金属掩膜版。
9.根据权利要求8所述的掩膜版组件，其特征在于，所述掩膜版组件包括多个所述高精度金属掩膜版，相邻两个所述高精度金属掩膜版的边缘之间对应同一个第一遮挡条，所述第一遮挡条包括位于中间的第三支撑区和位于所述第三支撑区两侧的第三减薄区，所述第三支撑区满足以下条件中的一个：
所述第三支撑区与相邻两个所述高精度金属掩膜版均接触设置；
所述第三支撑区在所述第一方向上与相邻两个所述高精度金属掩膜版之间均具有间隔。
10.根据权利要求9所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第三支撑区与相邻两个所述高精度金属掩膜版的接触宽度分别大于等于1mm；所述间隔的宽度大于等于0.05mm。
11.根据权利要求8～10中任一项所述的掩膜版组件，其特征在于，所述高精度金属掩膜版与所述支撑掩膜版的减薄区之间间隙的间距与所述高精度金属掩膜版的厚度相同。
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