TW201542353A - 蒸鍍遮罩之拉伸方法、附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法、有機半導體元件之製造方法及拉伸裝置 - Google Patents

蒸鍍遮罩之拉伸方法、附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法、有機半導體元件之製造方法及拉伸裝置 Download PDF

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Abstract

提供可以以簡便方法拉伸蒸鍍遮罩之蒸鍍遮 罩之拉伸方法，及使用此拉伸方法之附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法，以及可以精度佳地製造有機半導體元件之有機半導體元件之製造方法，或被用於該些方法之拉伸裝置。 屬於疊層形成有縫隙(15)的金屬遮罩 (10)，和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部(25)的樹脂遮罩(20)而所構成之蒸鍍遮罩(100)之拉伸方法，其中在蒸鍍遮罩(100)之一方之面上重疊拉伸輔助構件(50)，在蒸鍍遮罩(100)之一方之面和拉伸輔助構件(50)重疊之部分之至少一部，將拉伸輔助構件固定於蒸鍍遮罩，並藉由拉伸被固定在蒸鍍遮罩(100)之拉伸輔助構件(50)，拉伸被固定於該拉伸輔助構件(50)之蒸鍍遮罩，依此解決上述課題。

Description

蒸鍍遮罩之拉伸方法、附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法、有機半導體元件之製造方法及拉伸裝置
本發明係關於蒸鍍遮罩之拉伸方法、附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法、有機半導體元件之製造方法及拉伸裝置。
隨著使用有機EL元件之製品的大型化或基板尺寸之大型化，即使對蒸鍍遮罩也不斷增加大型化的需求。而且，使用於製作由金屬所構成之蒸鍍遮罩的金屬板也大型化。但是，在現在之金屬加工技術中，難以在大型之金屬板精度佳地形成開口部，無法對應於開口部之高精細化。再者，於作為僅由金屬所構成之蒸鍍遮罩之時，由於隨著大型化，其質量也增大，包含框架之總質量也增大，故會給處理帶來阻礙。
在如此之狀況下，於專利文獻1提案有疊層設置有縫隙的金屬遮罩，和位於金屬遮罩之表面，且與蒸鍍製作之圖案對應的開口部被縱橫地配置複數列的樹脂遮罩所構成之蒸鍍遮罩。若藉由專利文獻1所提案之蒸鍍遮 罩時，即使在大型化之情況下，亦可以滿足高精細化和輕量化之雙方，再者可以進行高精細之蒸鍍圖案之形成。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第5288072號公報
本發明之主要的課題係提供可以利用簡便之方法拉伸上述專利文獻1所記載之蒸鍍遮罩之蒸鍍遮罩之拉伸方法；使用該拉伸方法之附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法，還有使用蒸鍍遮罩之有機半導體元件之製造方法，或使用於該些方法之拉伸裝置。
用以解決上述課題之本發明係疊層形成有縫隙的金屬遮罩、和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩而成之蒸鍍遮罩之拉伸方法，其特徵在於包含：拉伸輔助構件固定工程，其係在上述蒸鍍遮罩之一方之面上重疊拉伸輔助構件，且在上述蒸鍍遮罩之一方之面和上述拉伸輔助構件重疊之部分之至少一部分，將上述拉伸輔助構件固定在上述蒸鍍遮罩；和第1拉伸工程，其係藉由拉伸被固定在上述蒸鍍遮罩之上 述拉伸輔助構件，拉伸被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩。
再者，在上述蒸鍍遮罩之拉伸方法中，即使又包含於上述第1拉伸工程之前，將上述蒸鍍遮罩拉伸至第1方向之第2拉伸工程，在上述第1拉伸工程中，藉由拉伸被固定於上述蒸鍍遮罩之上述拉伸輔助構件，將被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩，拉伸至與上述第1方向不同之第2方向亦可。
再者，用以解決上述課題之本發明，為一種附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法，其特徵在於包含：準備工程，其係準備蒸鍍遮罩，該蒸鍍遮罩係由疊層形成有縫隙的金屬遮罩，和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩而所構成；拉伸輔助構件固定工程，其係在上述蒸鍍遮罩之一方之面上重疊拉伸輔助構件，且在上述蒸鍍遮罩之一方之面和上述拉伸輔助構件重疊之部分之至少一部分，將上述拉伸輔助構件固定在上述蒸鍍遮罩；第1拉伸工程，其係藉由拉伸被固定在上述蒸鍍遮罩之上述拉伸輔助構件，拉伸被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩；及框架固定工程，其係在形成有貫通孔之框架，固定在上述第1拉伸工程中被拉伸之狀態的上述蒸鍍遮罩。
再者，在上述附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法中，即使又包含於上述第1拉伸工程之前，將上述蒸鍍遮罩拉伸至第1方向之第2拉伸工程，在上述第1拉伸工 程中，藉由拉伸被固定於上述蒸鍍遮罩之上述拉伸輔助構件，將被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩，拉伸至與上述第1方向不同之第2方向亦可。
再者，在上述附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法中，即使上述附有框架之蒸鍍遮罩係在上述框架排列固定複數之上述蒸鍍遮罩而所構成的附有框架之蒸鍍遮罩，在該附有框架之蒸鍍遮罩之製造階段，上述複數之蒸鍍遮罩中之至少一個蒸鍍遮罩，經上述拉伸輔助構件固定工程、上述第1拉伸工程、上述框架固定工程而被固定在上述框架，在上述第1拉伸工程中，藉由拉伸被固定在上述一個蒸鍍遮罩之上述拉伸輔助構件，將被固定在該拉伸輔助構件之一個蒸鍍遮罩，拉伸至與該一個蒸鍍遮罩相鄰之蒸鍍遮罩的方向亦可。
再者，在上述附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法中，即使又包含於進行上述第1拉伸工程之前，將上述一個蒸鍍遮罩拉伸至與上述相鄰之蒸鍍遮罩的方向不同之方向的第2拉伸工程亦可。
再者，用以解決上述課題之本發明，為一種有機半導體元件之製造方法，其特徵在於：包含使用蒸鍍遮罩被固定在框架之附有框架之蒸鍍遮罩而在蒸鍍對象物形成蒸鍍圖案之工程，在形成上述蒸鍍圖案之工程中，被固定於上述框架之上述蒸鍍遮罩係藉由下述工程而被製造出：準備工程，其係準備蒸鍍遮罩，該蒸鍍遮罩係由疊層形成有複數之縫隙的金屬遮罩，和在與該縫隙重疊之位置 形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩而所構成；拉伸輔助構件固定工程，其係在上述蒸鍍遮罩之一方之面上重疊拉伸輔助構件，且在上述蒸鍍遮罩之一方之面和上述拉伸輔助構件重疊之部分之至少一部分，將上述拉伸輔助構件固定在上述蒸鍍遮罩；第1拉伸工程，其係藉由拉伸被固定在上述蒸鍍遮罩之上述拉伸輔助構件，拉伸被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩；及框架固定工程，其係在形成有貫通孔之框架，固定在上述第1拉伸工程中被拉伸之狀態的上述蒸鍍遮罩。
再者，用以解決上述課題之本發明為一種拉伸裝置，其係用以拉伸蒸鍍遮罩，該蒸鍍遮罩係疊層形成有縫隙的金屬遮罩，和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩而所構成，該拉伸裝置之特徵在於：具備拉伸輔助構件，和用以拉伸該拉伸輔助構件之驅動手段，上述拉伸輔助構件在與上述蒸鍍遮罩之一方之面重疊時，可在與該蒸鍍遮罩之一方之面重疊之部分之至少一部分固定。
若藉由本發明之蒸鍍遮罩之拉伸方法或拉伸裝置時，即使在大型化之時亦可以利用簡便之方法拉伸滿足高精細化和輕量化之雙方的蒸鍍遮罩。再者，若藉由本發明之附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法時，可以取得能夠在蒸鍍對象物精度佳地形成蒸鍍圖案的附有框架之蒸鍍遮 罩。再者，若藉由本發明之有機半導體元件之製造方法時，可以良率佳地製造品質優良的有機半導體元件。
10‧‧‧金屬遮罩
15‧‧‧縫隙
20‧‧‧樹脂遮罩
25‧‧‧開口部
50‧‧‧拉伸輔助構件
50A‧‧‧拉伸輔助構件本體部
50B‧‧‧拉伸輔助構件延長部
55‧‧‧驅動手段
60‧‧‧框架
65‧‧‧補強框架
100‧‧‧蒸鍍遮罩
200‧‧‧附有框架之蒸鍍遮罩
圖1為表示在準備工程中所準備之蒸鍍遮罩之一例的圖示，(a)為從金屬遮罩側觀看之正面圖，(b)為(a)的A-A剖面圖。
圖2為從金屬遮罩側觀看在準備工程中所準備之實施型態(A)之蒸鍍遮罩之正面圖。
圖3為從金屬遮罩側觀看在準備工程中所準備之實施型態(A)之蒸鍍遮罩之正面圖。
圖4為從金屬遮罩側觀看在準備工程中所準備之實施型態(A)之蒸鍍遮罩之正面圖。
圖5為從金屬遮罩側觀看在準備工程中所準備之實施型態(A)之蒸鍍遮罩之正面圖。
圖6為從金屬遮罩側觀看在準備工程中所準備之實施型態(B)之蒸鍍遮罩之正面圖。
圖7為從金屬遮罩側觀看在準備工程中所準備之實施型態(B)之蒸鍍遮罩之正面圖。
圖8為用以說明拉伸輔助構件固定工程之圖示，從樹脂遮罩側觀看蒸鍍遮罩之正面圖。
圖9為用以說明拉伸輔助構件固定工程之圖示，(a)~(e)為從樹脂遮罩側觀看蒸鍍遮罩之正面圖。
圖10為用以說明第1拉伸工程之圖示，(a)~(c)為從樹脂遮罩側觀看蒸鍍遮罩之正面圖。
圖11為用以說明第1拉伸工程之圖示，(a)~(c)為從樹脂遮罩側觀看蒸鍍遮罩之正面圖。
圖12為用以說明第1拉伸工程之圖示，(a)~(c)為從樹脂遮罩側觀看蒸鍍遮罩之正面圖。
圖13為用以說明第1拉伸工程之圖示，(a)~(c)為從樹脂遮罩側觀看蒸鍍遮罩之正面圖。
圖14為用以說明第1拉伸工程之圖示，(a)、(b)為從樹脂遮罩側觀看蒸鍍遮罩之正面圖。
圖15為表示附有框架之蒸鍍遮罩之一例的正面圖。
圖16為表示附有框架之多面蒸鍍遮罩之一例的正面圖。
圖17(a)~(c)為表示框架之一例的正面圖。
圖18為表示附有框架之多面蒸鍍遮罩之固定方法之一例的正面圖。
圖19(a)~(g)為表示在蒸鍍遮罩固定拉伸輔助構件之狀態的概略剖面圖。
圖20為用以說明第1拉伸工程之圖示，(a)、(b)為從樹脂遮罩側觀看蒸鍍遮罩之正面圖。
針對本發明之一實施型態之附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法，使用圖面，具體地說明。
(附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法)
一實施型態之附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法，其特徵在於包含：準備工程，其係準備蒸鍍遮罩，該蒸鍍遮罩係由疊層形成有縫隙的金屬遮罩，和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩而所構成；拉伸輔助構件固定工程，其係在蒸鍍遮罩之一方之面上重疊拉伸輔助構件，且在蒸鍍遮罩之一方之面和拉伸輔助構件重疊之部分之至少一部分，將拉伸輔助構件固定在蒸鍍遮罩；第1拉伸工程，其係藉由拉伸被固定在蒸鍍遮罩之拉伸輔助構件，拉伸被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩；及框架固定工程，其係在形成有貫通孔之框架，固定在第1拉伸工程中被拉伸之狀態的蒸鍍遮罩。以下，針對各工程進行說明。
(準備工程)
本工程係如圖1(a)、(b)所示般，為準備蒸鍍遮罩100之工程，該蒸鍍遮罩100係疊層複數之縫隙15之金屬遮罩10和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部25的樹脂遮罩20。
(樹脂遮罩)
如圖1所示般，在樹脂遮罩20設置有複數之開口部 25。圖1(a)為從金屬遮罩側觀看一實施型態之蒸鍍遮罩的正面圖，圖1(b)為圖1(a)之A-A概略剖面圖。
在圖示之型態中，開口部25之開口形狀呈現矩形狀，針對開口形狀並無特別限定，即使開口部25之開口形狀為菱形、多角形狀亦可，即使為圓、橢圓等之具有曲率的形狀亦可。並且，與圓或橢圓等之具有曲率的開口形狀做比較，矩形或多角形狀之開口形狀可取較大發光面積之點，可以說為開口部25的最佳開口形狀。
針對樹脂遮罩20材料並不特別限定，例如可藉由雷射加工等而形成高精細之開口部25，以使用在熱或時間經過的尺寸變化率或吸濕率小，輕量的材料為佳。作為如此之材料，可以舉出聚醯亞胺樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯胺醯亞胺、聚酯樹脂、聚乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚丙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚丙烯腈樹脂、醋酸乙烯酯共聚物樹脂、乙烯-乙烯醇共聚物樹脂、乙烯-甲基丙烯酸共聚物樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、玻璃紙、離子聚合物樹脂等。即使在上述例示之材料中，以其熱膨脹係數為16ppm/℃以下之樹脂材料為佳，以吸濕率為1.0%以下之樹脂材料為佳，以具備此雙方條件之樹脂材料為最佳。藉由使成為使用該樹脂材料之樹脂遮罩，可以提升開口部25之尺寸精度，並且可以縮小在熱或時間經過之尺寸變化率或吸濕率。
雖然針對樹脂遮罩20之厚度並不特別限定，但是於使陰蔽產生之抑制效果更提升之情況下，樹脂遮罩 20之厚度以25μm以下為佳，以10μm未滿為更佳。雖然針對下限值之最佳範圍並不特別限定，但是於樹脂遮罩20之厚度為3μm未滿時，容易產生針孔等之缺陷，再者變形等之風險變高。尤其，藉由將樹脂遮罩20之厚度設為3μm以上10μm未滿，更佳為4μm以上8μm以下，可以更有效果地防止形成超過400ppi之高精細圖案之時之陰蔽的影響。再者，樹脂遮罩20和後述金屬遮罩10即使直接性被接合亦可，即使隔著黏著劑層而被接合亦可，但是於隔著黏著劑層而接合樹脂遮罩20和金屬遮罩10之時，樹脂遮罩20和黏著劑層之合計的厚度以在上述較佳之厚度的範圍內為佳。並且，陰蔽係指由於從蒸鍍源釋放出之蒸鍍材之一部分與金屬遮罩之縫隙，或樹脂遮罩之開口部之內壁面衝突而不到達至蒸鍍對象物，而生成較期待之蒸鍍膜厚薄的膜厚之未蒸鍍部分的現象。
針對開口部25之剖面形狀亦無特別限定，即使形成開口部25之樹脂遮罩之面對面的端面彼此略平行亦可，但是如圖1(b)所示般，開口部25以其剖面形狀為朝向蒸鍍源擴張的形狀為佳。換言之，以具有朝向金屬遮罩10側擴張的錐面為佳。針對錐角，可以考慮樹脂遮罩20之厚度等而適當設定，在連結樹脂遮罩之開口部中之下底前端，和同樣在樹脂遮罩之開口部中之上底前端的直線，和樹脂遮罩底面所構成之角度，換言之，在構成樹脂遮罩20之開口部25的內壁面之厚度方向剖面中，開口部25之內壁面和樹脂遮罩20之與金屬遮罩10不相接之側 的表面(在圖示之型態中，為樹脂遮罩之下面)所構成之角度，以在5°~85°之範圍內為佳，以在15°~75°之範圍內為更佳，以25°~65°之範圍內為最佳。尤其，在該範圍內，以小於所使用之蒸鍍機之蒸鍍角度的角度為佳。再者，在圖示之型態中，形成開口部25之端面呈現直線形狀，但是並不限定於此，即使成為外凸之彎曲形狀，即是開口部25之全體形狀成為碗形狀亦可。
(金屬遮罩)
如圖1(b)所示般，在樹脂遮罩20之一方之面上，疊層金屬遮罩10。金屬遮罩10係由金屬所構成，配置有在縱方向或橫方向上延伸之縫隙15。縫隙15與開口同義。縫隙之配置例並不特別限定，即使在縱方向及橫方向上延伸之縫隙在縱方向及橫方向被配置複數列亦可，即使在縱方向上延伸之縫隙在橫方向被配置複數列亦可，即使在橫方向上延伸之縫隙在縱方向被配置複數列亦可。再者，即使在縱方向或橫方向僅配置1列亦可。並且，在本說明書中所稱的「縱方向」、「橫方向」係指圖面之上下方向、左右方向，即使為蒸鍍遮罩、樹脂遮罩、金屬遮罩之長邊方向、寬度方向中之任一方向亦可。例如，即使將蒸鍍遮罩、樹脂遮罩、金屬遮罩之長邊方向設為「縱方向」亦可，即使將寬方向設為「縱方向」亦可。再者，在本案說明書中，雖然以俯視觀看蒸鍍遮罩之時的形狀為矩形狀之情形為例而進行說明，但是即使為除此以外之形狀，例如 為圓形狀、菱形形狀等之多角形狀亦可。此時，若將對角線之長邊方向或徑向或任意之方向設為「長邊方向」，將與該「長邊方向」正交之方向設為「寬度方向(也有稱為短邊方向之情形)」即可。
針對金屬遮罩10之材料並不特別限定，在蒸鍍遮罩之領域中，可以適當選擇使用先前眾知的材料，例如不鏽鋼、鐵鎳合金、鋁合金等之金屬材料。其中，因為鐵鎳合金之因瓦合金材因熱而產生的變形比較少，故適合使用。
即使針對金屬遮罩10之厚度也並無特別限定，為了更有效果地防止陰蔽，以100μm以下為佳，以50μm以下為更佳，以35μm以下為最佳。並且，於設為較5μm薄之時，有破斷或變形之風險變高，並且難以作業之傾向。
再者，在圖1(a)所示之型態中，俯視觀看縫隙15時之開口形狀雖然呈現矩形狀，但是針對開口形狀並不特別限定，縫隙15之開口形狀即使為台形、圓形狀等之任何形狀亦可。
雖然即使針對被形成在金屬遮罩10之縫隙15之剖面形狀，也並無特別限定，但是以如圖1(b)所示般朝向蒸鍍源擴張的形狀為佳。更具體而言，連結金屬遮罩10之縫隙15中之下底前端，和同樣在金屬遮罩10之縫隙15中之上底前端的直線，和金屬遮罩10之底面所構成之角度，換言之，在構成金屬遮罩10之縫隙15的內壁面 之厚度方向剖面，縫隙15之內壁面和金屬遮罩10之與樹脂遮罩20相接之側的表面(在圖示之型態中，為金屬遮罩之下面)所構成之角度，以在5°~85°之範圍內為佳，以在15°~80°之範圍內為更佳，以25°~65°之範圍內為最佳。尤其，在該範圍內，以小於所使用之蒸鍍機之蒸鍍角度的角度為佳。
針對在樹脂遮罩上疊層金屬遮罩10之方法，並不特別限定，即使使用各種黏著劑貼合樹脂遮罩20和金屬遮罩10亦可，即使使用具有自己黏著性的樹脂遮罩亦可。即使樹脂遮罩20和金屬遮罩10之大小相同亦可，即使為不同大小亦可。並且，考慮之後任意進行的對框架固定，以使樹脂遮罩20之尺寸小於金屬遮罩10，在金屬遮罩10之外周部分露出之狀態下，金屬遮罩10和框架之熔接變容易為佳。
以下，針對在本工程中所準備的較佳蒸鍍遮罩之型態，舉出實施型態(A)及實施型態(B)為例進行說明。
(實施型態(A)之蒸鍍遮罩)
如圖2所示般，實施型態(A)之蒸鍍遮罩100為用以同時形成複數畫面分之蒸鍍圖案的蒸鍍遮罩，其特徵在於：在樹脂遮罩20之一方之表面上，疊層設置有複數之縫隙15之金屬遮罩10，在樹脂遮罩20，設置有為了構成複數畫面所需之開口部25，各縫隙15被設置在至少與1 畫面全體重疊之位置。
實施型態(A)之蒸鍍遮罩100係被用於同時形成複數畫面分之蒸鍍圖案的蒸鍍遮罩，可以以1個蒸鍍遮罩100，同時形成與複數製品對應之蒸鍍圖案。實施型態(A)之蒸鍍遮罩中所稱之「開口部」係指使用實施型態(A)之蒸鍍遮罩100而製作出的圖案之意，例如於有機EL顯示器中之有機層的形成使用該蒸鍍遮罩之時，開口部25之形狀成為該有機層之形狀。再者，「1畫面」係由與1個製品對應之開口部25之集合體所構成，於該1個製品為有機EL顯示器之時，為了形成1個有機EL顯示器所需之有機層的集合體，即是成為有機層的開口部25之集合體成為「1畫面」。然後，實施型態(A)之蒸鍍遮罩100為了同時形成複數畫面分之蒸鍍遮罩，在樹脂遮罩20隔著特定間隔在複數畫面分配置有上述「1畫面」。即是，在樹脂遮罩20設置有為了構成複數畫面所需的開口部25。
實施型態(A)之蒸鍍遮罩之特徵在於在樹脂遮罩之一方之表面上，設置設有複數之縫隙15之金屬遮罩10，各縫隙分別被設置在與至少1畫面全體重疊之位置上之點。換言之，其特徵在於：在為了構成1畫面所需之開口部25間，於橫方向相鄰之開口部25間，不存在與縫隙15之縱方向之長度相同之長度，即具有與金屬遮罩10相同厚度之金屬線部分，或在縱方向相鄰之開口部25間，不存在與縫隙15之橫方向之長度相同之長度，即具有與 金屬遮罩10相同厚度之金屬線部分。以下，統稱與縫隙15之縱方向之長度相同之長度，即具有與金屬遮罩10相同厚度之金屬線部分，或與縫隙15之橫方向之長度相同之長度，即具有與金屬遮罩10相同厚度的金屬線部分，有單稱為金屬線部分之情形。
若藉由實施型態(A)之蒸鍍遮罩100時，於縮窄為了構成1畫面所需之開口部25之大小，或構成1畫面之開口部25間的間距之情況下，例如即使在為了形成超過400ppi之畫面，將開口部25之大小或開口部25間之間距設為極微小之時，亦可以防止由於金屬線部分所產生之干擾，可形成高精細之畫像。並且，於1畫面藉由複數之縫隙被分割之情況下，換言之，於構成1畫面之開口部25間存在具有與金屬遮罩10相同厚度的金屬線部分之時，隨著構成1畫面之開口部25間之間距變窄，存在於開口部25間之金屬線部分成為要在蒸鍍對象物形成蒸鍍圖案時的阻礙，難以形成高精細之蒸鍍圖案。換言之，在構成1畫面之開口部25間存在具有與金屬遮罩10相同厚度之金屬線部分之情況下，在附有框架之蒸鍍遮罩時，該金屬線部分會引起陰蔽產生而難以形成高精細畫面。
接著，參照圖2~圖6，針對構成1畫面之開口部25之一例予以說明。並且，在圖示之型態中，以虛線所封閉之區域成為1畫面。在圖示之型態中，為了便於說明雖然以少數之開口部25之集合體設為1畫面，但是並不限定於該型態，例如即使將1個開口部25設為1畫 素時，即使在1畫面不存在數百萬畫素之開口部25亦可。
在圖2所示之型態中，藉由在縱方向、橫方向設置複數之開口部25而構成之開口部25之集合體而構成1畫面。在圖3所示之型態中，藉由在橫方向設置複數之開口部25而構成之開口部25之集合體而構成1畫面。再者，在圖4所示之型態中，藉由在縱方向設置複數之開口部25而構成之開口部25之集合體而構成1畫面。然後，在圖2~圖4中，於與1畫面全體重疊之位置設置有縫隙15。
如上述說明般，縫隙15即使被設置在僅與1畫面重疊之位置上亦可，如圖5(a)、(b)所示般，即使被設置在與兩個以上之畫面全體重疊之位置上亦可。在圖5(a)中，在圖2所示之樹脂遮罩10中，與在橫方向連續的2畫面全體重疊之位置設置有縫隙15。在圖5(b)中，於與在縱方向連續的3畫面全體重疊之位置設置有縫隙15。
接著，以圖2所示之型態為例，針對構成1畫面之開口部25間之間距、畫面間之間距予以說明。針對構成1畫面之開口部25間之間距，或開口部25之大小，並不特別限定，可以因應蒸鍍製作之圖案而適當設定。例如，於進行400ppi之高精細的蒸鍍圖案之形成時，在構成1畫面之開口部25鄰接之開口部25之橫方向之間距(P1)、縱方向之間距(P2)成為60μm左右。再者，開口部之大小成為500μm2~1000μm2左右。再者，1個開 口部25並不限定於與1畫素對應，例如也可以依照畫素配列，結合複數畫素設置1個開口部25。
即使針對畫面間之橫方向之間距(P3)、縱方向之間距(P4)，也無特別限定，但是如圖2所示般，1個縫隙15被設置在與1畫面全體重疊之位置之時，在各畫面間存在金屬線部分。因此，在各畫面間之縱方向之間距(P4)、橫方向之間距(P3)小於被設置在1畫面內之開口部25之縱方向之間距(P2)、橫方向之間距(P1)之情況下，或是略同等之情況下，存在於各畫面間之金屬線部分容易斷線。因此，當考慮到此點時，以畫面間之間距(P3、P4)較構成1畫面之開口部25間之間距(P1、P2)寬為佳。就以畫面間之間距(P3、P4)之一例而言，為1mm~100mm左右。並且，畫面間之間距係指在1畫面和與該1畫面鄰接之其他畫面，鄰接的開口部間之間距。此即使針對後述之實施型態(B)之蒸鍍遮罩中之開口部25之間距、畫面間之間距也相同。
並且，如圖5所示般，1個縫隙15於被設置在與兩個以上之畫面全體重疊之位置上之情況下，在被設置在1個縫隙15內之複數畫面間，不存在構成縫隙之內壁面的金屬線部分。因此，此時，被設置在與1個縫隙15重疊之位置的兩個以上之畫面間的間距，即使與構成1畫面之開口部25間的間距略同等亦可。
再者，即使在樹脂遮罩20形成在樹脂遮罩20之縱方向或橫方向上延伸的溝(無圖示)亦可。於蒸鍍時施 加熱之時，雖然會有由於樹脂遮罩20熱膨脹而使得開口部25之尺寸或位置產生變化的可能性，但是藉由形成溝可以吸收樹脂遮罩之膨脹，並且可以防止由於在樹脂遮罩之各處所產生之熱膨脹累積使得樹脂遮罩20全體朝特定方向膨脹而產生開口部25之尺寸或位置變化之情形。針對溝之形成位置並無限定，即使被設置在構成1畫面之開口部25間，或與開口部25重疊之位置亦可，以設置在畫面間為佳。再者，溝即使設置在樹脂遮罩之一方之表面，例如僅設置在與金屬遮罩接合之側的表面亦可，即使僅設置在不與金屬遮罩接合之側的表面亦可。或是，即使設置在樹脂遮罩20之兩面亦可。
再者，即使設為在鄰接之畫面間延伸於縱方向之溝亦可，即使形成在鄰接之畫面間於橫方向上延伸之溝亦可。並且，亦可利用組合該些之態樣來形成溝。
雖然針對溝之深度或其寬度並無特別限定，但是於溝之深度過深之時或寬度過寬之時，由於有樹脂遮罩20之剛性下降之傾向，故必須考慮此點而加以設定。再者，即使針對溝之剖面形狀也無特別限定，若考慮U字形狀或V字形狀等、加工方法等而任意選擇即可。針對實施型態(B)之蒸鍍遮罩也相同。
(實施型態(B)之蒸鍍遮罩)
接著，針對實施型態(B)之蒸鍍遮罩予以說明。如圖6所示般，實施型態(B)之蒸鍍遮罩之特徵在於：在設置複 數與蒸鍍製作之圖案對應的開口部25之樹脂遮罩20之一方表面上，疊層設置有1個縫隙(1個孔16)之金屬遮罩10而構成，該複數之開口部25全部被設置在與被設置在金屬遮罩10之1個孔重疊的位置上之點。
在實施型態(B)之蒸鍍遮罩中所稱的開口部25係指為了在蒸鍍對象物形成蒸鍍圖案所需之開口部，不需要為了在蒸鍍對象物形成蒸鍍圖案的開口部即使被設置在不與1個孔16重疊之位置亦可。並且，圖6係從金屬遮罩側觀看實施型態(B)之蒸鍍遮罩之一例的蒸鍍遮罩的正面圖。
實施型態(B)之蒸鍍遮罩100係在具有複數之開口部25之樹脂遮罩20上設置有具有1個孔16之金屬遮罩10，並且，複數之開口部25全部被設置在與該1個孔16重疊之位置上。在具有該構成之實施型態(B)之蒸鍍遮罩100中，由於在開口部25間，不存在與金屬遮罩之厚度相同之厚度，或是較金屬遮罩厚度厚的金屬線部分，故如上述實施型態(A)之蒸鍍遮罩說明般，不會受到金屬線部分所導致的干擾，可如同設置在樹脂遮罩20之開口部25之尺寸般形成高精細的蒸鍍圖案。
再者，若藉由實施型態(B)之蒸鍍遮罩時，即使增加金屬遮罩10之厚度，也幾乎不會受到陰蔽之影響，可以將金屬遮罩10之厚度增厚到充分滿足耐久性或操作性，並且可以邊形成高精細之蒸鍍圖案，邊提升耐久性或操作性。
(樹脂遮罩)
實施型態(B)之蒸鍍遮罩中之樹脂遮罩20係由樹脂構成，如圖6所示般，在與1個孔16重疊之位置上設置複數與蒸鍍製作之圖案對應的開口部25。開口部25對應於蒸鍍製作之圖案，從蒸鍍源釋放出之蒸鍍材通過開口部25，在蒸鍍對象物形成與開口部25對應的蒸鍍圖案。並且，在圖示之型態中，雖然以縱橫配置複數列開口部為例而進行說明，但是即使僅配置在縱方向或橫方向亦可。
實施型態(B)之蒸鍍遮罩100中之「1畫面」係指與1個製品對應之開口部25之集合體之意，於該1個製品為有機EL顯示器之時，為了形成1個有機EL顯示器所需之有機層的集合體，即是成為有機層的開口部25之集合體成為「1畫面」。實施型態(B)之蒸鍍遮罩即使為僅由「1畫面」所構成者亦可，即使該「1畫面」以複數畫面分被配置亦可，但於「1畫面」以複數畫面分被配置之時，以每畫面單位隔著特定間隔而設置有開口部25為佳(參照實施型態(A)之蒸鍍遮罩之圖5)。針對「1畫面」之型態並無特別限定，例如於將1個開口部25設為1畫素之時，也可以藉由數百個開口部25而構成1畫面。
(金屬遮罩)
實施型態(B)之蒸鍍遮罩100中之金屬遮罩10由金屬 所構成，具有1個孔16。而且，在本發明中，該1個孔16係從金屬遮罩10之正面觀看時，被設置在與全部開口部25重疊之位置，換言之，看得到被配置在樹脂遮罩20之全部開口部25的位置上。
構成金屬遮罩10之金屬部分，即是1個孔16以外之部分即使如圖6所示般，沿著蒸鍍遮罩100之外緣而設置亦可，即使如圖7所示般，使金屬遮罩10之尺寸小於樹脂遮罩20，並使樹脂遮罩20之外周部分露出亦可。再者，即使使金屬遮罩10之尺寸大於樹脂遮罩20，而使金屬部分之一部分突出至樹脂遮罩之橫方向外方或是縱方向外方亦可。並且，即使在任一情況下，1個孔16之尺寸皆被構成小於樹脂遮罩20之尺寸。
針對圖6所示之構成金屬遮罩10之1個孔16之壁面的金屬部分之橫方向之寬度(W1)，或縱方向之寬度(W2)雖然並不特別限定，但有隨著W1、W2之寬度變窄，耐久性或操作性下降之傾向。因此，W1、W2以可以充分滿足耐久性、操作性之寬度為佳。雖然可以因應金屬遮罩10之厚度而適當設定合適之寬度，但是就以較佳之寬度的一例而言，與實施型態(A)之蒸鍍遮罩中之金屬遮罩相同，W1、W1也都為1mm~100mm左右。
以下，針對在本工程中所準備之一實施型態之蒸鍍遮罩舉出一例進行說明。一實施型態之蒸鍍遮罩100可以藉由準備在樹脂板之一方之面上疊層設置有縫隙15之金屬遮罩10的附有樹脂板之金屬遮罩，接著，對附 有樹脂板之金屬遮罩，從金屬遮罩10側通過縫隙15照射雷射，而在樹脂板上形成與蒸鍍製作的圖案對應之開口部25而取得。
就以附有樹脂板之金屬遮罩之形成方法而言，在樹脂板之一方之表面上，疊層設置有縫隙15之金屬遮罩10。樹脂板可以使用在上述樹脂遮罩20中所說明的材料。
就以設置有縫隙15之金屬遮罩10之形成方法而言，藉由在金屬板之表面塗佈遮蔽構件，例如光阻材，使特定部位露出，並予以顯像，最終形成殘留在形成有縫隙15之位置的光阻圖案。作為遮蔽構件所使用之光阻材，以處理性佳，具有期待解像性者為佳。接著，將該光阻圖案當作耐蝕刻遮罩使用而藉由蝕刻方法而進行蝕刻加工。於蝕刻結束後，洗淨除去光阻圖案。依此，取得設置有縫隙15之金屬遮罩10。用以形成縫隙15之蝕刻即使從金屬板之單面側進行亦可，即使從兩面進行亦可。再者，使用在金屬板設置樹脂板之疊層板，而在金屬板形成縫隙15之情況下，於金屬板之不與樹脂板接合之側的表面，塗佈遮蔽構件，藉由從單面側的蝕刻形成縫隙15。並且，在樹脂板對金屬板之蝕刻材具有耐蝕刻性之情況下，不需要遮蔽樹脂板表面，在樹脂板對金屬板之蝕刻材不具有耐性之情況下，在樹脂板之表面必須塗佈遮蔽構件。再者，在上述中，雖然遮蔽構件以光阻材為中心進行說明，但是即使層壓乾膜光阻取代塗佈光阻材，進行相同 的圖案製作亦可。
在上述方法中，構成附有樹脂板之金屬遮罩的樹脂板不僅板狀之樹脂，即使為藉由塗佈而所形成的樹脂層或樹脂膜亦可。即是，樹脂板即使為預先準備者亦可，亦可以在金屬板上藉由先前眾知之塗佈法等，形成最終成為樹脂遮罩之樹脂層或樹脂膜。
開口部25係可以對以上述所準備之附有樹脂板之金屬遮罩，使用雷射加工法、精密沖壓加工、光微影加工等而形成。藉由形成開口部，取得在設置有與蒸鍍製作之圖案對應的開口部25之樹脂遮罩20之一方表面上，疊層設置有縫隙15之金屬遮罩10而構成的一實施型態之蒸鍍遮罩100。並且，從可以容易形成高精細之開口部25之點，對於開口部25之形成，以使用雷射加工法為佳。
(拉伸輔助構件固定工程)
拉伸輔助構件固定工程係如圖8(a)~(c)所示般，係在蒸鍍遮罩100之一方之面(在圖示之型態中，為樹脂遮罩20之面)上重疊拉伸輔助構件50，在蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50重疊之部分之至少一部分(圖中之符號X)，將拉伸輔助構件50固定在蒸鍍遮罩100的工程。圖8為表示固定蒸鍍遮罩之一方之面和拉伸輔助構件50之狀態的正面圖，圖示之型態中，蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20之表面和拉伸輔助構件50重疊之部分之全體，或重疊之部分之一部分，該樹脂遮罩20和拉伸輔助構件 50被固定。換言之，當俯視觀看蒸鍍遮罩100時，即是在蒸鍍遮罩100之厚度方向，以與該蒸鍍遮罩之一方之面重疊之方式配置拉伸輔助構件50，在該重疊之部分全體或是重疊部分之一部分，蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50被固定。並且，在圖8中，省略被設置在樹脂遮罩20之開口部之記載，記載從複數之開口部所構成之1畫面。針對「1畫面」，如同上述實施型態(A)之蒸鍍遮罩，或實施型態(B)之蒸鍍遮罩中說明般。
在本工程中，在蒸鍍遮罩100之一方之面重疊拉伸輔助構件50，在蒸鍍遮罩之一方之面和拉伸輔助構件50重疊之部分之至少一部分，固定蒸鍍遮罩100和拉伸輔助構件50。即是，若為滿足可以與蒸鍍遮罩之面重疊之條件的位置時，即使在任何位置，亦可以固定拉伸輔助構件50。因此，與先前眾知之把持手段，例如以夾著蒸鍍遮罩之端部之方式來進行固定的夾具不同，針對固定拉伸輔助構件之位置並不限定，可以在任意之位置固定於蒸鍍遮罩100。並且，把持蒸鍍遮罩之端部等而予以固定的夾具等從在本案說明書中所稱之拉伸輔助構件50排除。
再者，在各圖所示之型態中，雖然在蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50重疊之部分之至少一部分(圖中之符號X)中，於蒸鍍遮罩100固定拉伸輔助構件50，但是即使在蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50重疊之所有部分，固定蒸鍍遮罩100和拉伸輔 助構件50亦可。
拉伸輔助構件即使如圖示般被固定在樹脂遮罩20上亦可，即使被固定在金屬遮罩10上亦可。並且，最終所取得之附有框架之蒸鍍遮罩通常被固定成該蒸鍍遮罩100之金屬遮罩10，和框架相向。因此，當考慮該點時，拉伸輔助構件50以在與樹脂遮罩20側之面重疊之至少一部分被固定為佳。並且，於將蒸鍍遮罩固定於框架之後，若可以從蒸鍍遮罩之表面卸下拉伸輔助構件50時，即使在與金屬遮罩10側之面重疊之至少一部分被固定也不會有問題。
拉伸輔助構件50若藉由任何手段在與蒸鍍遮罩100之一方之面重疊之部分之至少一部分，被固定在蒸鍍遮罩100之一方之面上即可，針對其材料並不做任何限定。例如，拉伸輔助構件50即使為樹脂材料、由金屬材料所構成者亦可，除此之外之材料即使為例如玻璃材料、陶瓷材料、紙材料等所構成者亦可。
針對拉伸輔助構件50之形狀並無限定，若為呈現出可以藉由任何手段固定蒸鍍遮罩100之一方之面，和拉伸輔助構件之表面的形狀者即可。即是，拉伸輔助構件50即使為任何形狀亦可。作為一例之拉伸輔助構件50呈現薄片狀、圓柱狀、角柱狀等。並且，在各圖所示之型態中，雖然使用薄片狀之拉伸輔助構件當作拉伸輔助構件50，進行蒸鍍遮罩100之拉伸，但是並不限定於此型態。再者，針對拉伸輔助構件50之大小或厚度也不做任何限 定。例如，在使用薄片狀之拉伸輔助構件50之時，針對其厚度等也不做任何限定。雖然拉伸輔助構件50之表面和蒸鍍遮罩直接或間接地接合，但針對接合之型態並不特別限定，即使拉伸輔助構件50之表面和蒸鍍遮罩直接或間接地以面相接亦可，即使以線或點相接亦可。例如，於使用薄片狀之拉伸輔助構件之時，該拉伸輔助構件50和蒸鍍遮罩100之一方之面直接或間接地以面相接。再者，於使用圓柱狀之拉伸輔助構件之時，該拉伸輔助構件50之圓周面和蒸鍍遮罩之一方之面直接或間接地以線相接。
作為一例之拉伸輔助構件50與驅動手段連結，藉由使驅動手段作動而對拉伸輔助構件50進行拉伸，進行被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩100的拉伸。針對驅動手段可以適當選擇先前眾知的手段，例如馬達、汽缸、電動致動器等。再者，不使用驅動手段，亦可以拉伸被固定在拉伸輔助構件50的蒸鍍遮罩100。例如，用手對拉伸輔助構件50做拉伸，依此亦可以拉伸被固定在拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩。此時，拉伸輔助構件50即使不與驅動手段連結亦可。
蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50即使在(i)直接地接合之狀態下被固定亦可，(ii)即使在間接地接合之狀態下被固定亦可。
就以蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50在(i)直接接合之狀態下被固定的型態而言，作為拉伸輔助構件50，可舉出使用具有磁性之材料的態樣、使 用具有自黏性之材料的態樣、使用具有自吸附性及再剝離性之材料的態樣、使用靜電吸附等來固定蒸鍍遮罩100之一方的面和拉伸輔助構件50的態樣。例如，於使用具有磁性之材料作為拉伸輔助構件50之時，可以利用構成蒸鍍遮罩100之金屬遮罩，在拉伸輔助構件50和金屬遮罩10重疊之位置，使用磁力吸引固定蒸鍍遮罩100和拉伸輔助構件50。再者，於使用具有自吸附性及再剝離性之材料作為拉伸輔助構件50之時，可以利用此自吸附性，在拉伸輔助構件50和蒸鍍遮罩之表面重疊的位置，固定拉伸輔助構件50。若藉由自吸附性及再剝離性之材料時，即使在厚度方向不與金屬遮罩10重疊之位置，亦可以在蒸鍍遮罩100之表面固定拉伸輔助構件50。
其中，具有磁性之材料，或具有自吸附性及再剝離性之材料，可以說係在可重覆使用之點上為佳的材料。拉伸輔助構件之自吸附性係指於與蒸鍍遮罩相接之時可以一面排除空氣一面予以密接的性質之意。拉伸輔助構件之再剝離性係指藉由抬起被固定於蒸鍍遮罩之拉伸輔助構件之一端，在周邊剝離擴散可以拆下拉伸輔助構件全體的性質之意。作為具有上述自吸附性及剝離性之材料，可以舉出矽樹脂系、聚烯烴樹脂系、聚氨酯系之熱可塑性彈性體系等之自黏性樹脂、橡膠系、聚氯乙烯樹脂系。作為自吸附性及再剝離性之材料，亦可以使用例如住友化學(股)之產品名Suniron S或PANAC(股)之產品名烯烴聚合物凝膠片材、FUJICOPIAN(股)之產品名FIXFILM等之市 售品。亦可以組合具有磁性之材料，或具有自吸附性及再剝離性之材料而使用。拉伸輔助構件50即使使用從由單一之構件所構成者亦可，即使組合複數之構件而構成者亦可。再者，針對組合複數之構件而構成拉伸輔助構件之情形中之組合的方法並不限定，即使為不管方向而排列複數之構件所構成之拉伸輔助構件50亦可，即使為重疊複數之構件而構成之拉伸輔助構件50亦可。例如，設為在具有自吸附性之材料之上組合具有磁性之材料的拉伸輔助構件50之時，可以邊發揮具有磁性之材料的特性而暫時固定金屬遮罩和後述之補強框架65，邊拉伸蒸鍍遮罩100。再者，在使用複數之拉伸輔助構件50之時，即使構成各個拉伸輔助構件之構件或材料為相同者亦可，即使為不同者亦可。
就以蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50在(ii)間接性接合之狀態下被固定之型態而言，可以舉出使用特定構件間接地固定蒸鍍遮罩100和拉伸輔助構件50之態樣。作為特定構件，可以舉出例如黏著劑或黏著片或者當作上述拉伸輔助構件50之材料而例示的具有磁性之材料或具有自吸附性及再剝離性的材料。特定構件即使為用以間接地連結蒸鍍遮罩和拉伸輔助構件50之構件，即是不構成拉伸輔助構件50者亦可，可以當作後述之拉伸輔助構件本體部50A使用(參照圖19(a)~(d)、(f)之拉伸輔助構件本體部50A)。於後者之時，特定構件構成拉伸輔助構件本體部50A，在此說明的拉伸輔助構件50 構成拉伸輔助構件延長部50B。特定之構件係以從當對拉伸輔助構件50進行拉伸之時的延伸率小的材料所構成為佳。更具體而言，間接地連結蒸鍍遮罩和拉伸輔助構件50之特定構件之材料，係以較構成蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩10的材料，其延伸率小的材料為佳。藉由如此之構成，當藉由間接性地固定蒸鍍遮罩和拉伸輔助構件50，對拉伸輔助構件進行拉伸之時，可以抑制特定構件延伸，可以精度更佳地，拉伸蒸鍍遮罩。並且，於特定構件之材料相對於構成樹脂遮罩10之材料，其延伸率同等，或延伸率較大的材料時，比起使用延伸率小之材料當作特定構件之材料時，有拉伸蒸鍍遮罩之時的精度變低之傾向，但是於對拉伸輔助構件50進行拉伸之時，可以使成為特定構件伸縮相等，且增大特定構件之伸縮的自由度。於間接地連結蒸鍍遮罩和拉伸輔助構件50之特定構件之伸縮之自由度時，在藉由拉伸輔助構件50拉伸蒸鍍遮罩之狀態下，可以藉由特定構件吸收在將該蒸鍍遮罩固定於框架之時等所產生之外力。即是可以藉由特定構件抑制由於外力在蒸鍍遮罩產生變形等或在蒸鍍遮罩產生位置偏移等。並且，在此所稱的延伸率係指依據JIS K 7127(1999)的拉伸延伸率之意。
再者，在(ii)之型態中，可以隔著特定構件之厚度量，從蒸鍍遮罩100之表面至拉伸輔助構件50之表面的距離，可以在蒸鍍遮罩100和拉伸輔助構件50間接地相接之固定處以外之處，抑制拉伸輔助構件50與蒸鍍 遮罩100之表面直接相接之情形。例如，在蒸鍍遮罩之一方之面之中央附近，以上述(i)之固定型態固定拉伸輔助構件50和蒸鍍遮罩100之情況下，於拉伸該拉伸輔助構件50之時，即使在拉伸輔助構件50和蒸鍍遮罩被固定之區域以外之區域，即是中央部附近以外之區域，蒸鍍遮罩之表面和拉伸輔助構件50亦接合，由於拉伸輔助構件50之材質等不同，有使蒸鍍遮罩之表面受損之情形。具體而言，在被固定於拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩之面為樹脂遮罩20側之面，由較樹脂遮罩之材料硬的金屬材料等所構成之拉伸輔助構件50在固定處以外之區域與樹脂遮罩之表面相接之時，於對拉伸輔助構件50拉伸之時，有該拉伸輔助構件50傷及固定處以外之樹脂遮罩表面之情形。
同樣，在複數之蒸鍍遮罩在寬度方向複數排列配置之時，藉由拉伸直接地被固定於複數之蒸鍍遮罩中之一個蒸鍍遮罩之一方之面的拉伸輔助構件50，當將被固定於該拉伸輔助構件之一個蒸鍍遮罩拉伸至該蒸鍍遮罩之寬度方向之時，拉伸輔助構件50也與一個蒸鍍遮罩在寬方向相鄰之其他蒸鍍遮罩之一方之面的表面相接。由於拉伸輔助構件50之材質等不同，被固定於一個蒸鍍遮罩固定的拉伸輔助構件50與其他蒸鍍遮罩之表面相接之時，會有傷及其他蒸鍍遮罩之表面的情形。因此，於在上述(i)之固定態樣下進行固定之時，以使用不會傷及蒸鍍遮罩之表面的材料，例如使用由樹脂等之材料所構成之拉伸 輔助構件50為佳。於使用由樹脂等之材料所構成之拉伸輔助構件50之時，即使被固定於一個蒸鍍遮罩之拉伸輔助構件50與其他蒸鍍遮罩之表面相接之時，也不會出現特別的問題。
再者，作為拉伸輔助構件50，於使用由樹脂等之材料所構成之拉伸輔助構件50之時，對該拉伸輔助構件50賦予滑性，即使被固定在一個蒸鍍遮罩之拉伸輔助構件50與其他蒸鍍遮罩之表面相接之時，亦不會傷及其他蒸鍍遮罩之表面，可以容易拉伸被固定在一個蒸鍍遮罩之一方之面上的拉伸輔助構件50。以較佳之型態之一例而言，在上述(ii)之固定態樣下，拉伸輔助構件50被固定在蒸鍍遮罩100，作為拉伸輔助構件50，使用延伸率小之材料，例如從金屬材料所構成之拉伸輔助構件50。若藉由該型態時，拉伸輔助構件50可以邊抑制與蒸鍍遮罩100之表面相接之情形，邊於對拉伸輔助構件50進行拉伸之時，抑制拉伸輔助構件50本身延伸之情形，可以精度更佳地拉伸被固定於拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩。再者，即使在設為(i)之固定態樣之時，如後述般，藉由使拉伸輔助構件50彎曲(參照圖19(e)、(g))，亦可以抑制拉伸輔助構件50與蒸鍍遮罩100之表面相接。
在上述中，舉出(i)之固定態樣或(ii)之固定態樣為例，針對拉伸輔助構件50之較佳實施型態進行說明，藉由從拉伸輔助構件本體部50A和拉伸輔助構件延長部50B構成拉伸輔助構件50，亦可以抑制於對拉伸輔助 構件50進行拉伸之時所產生之各種問題。
拉伸輔助構件本體部50A係與蒸鍍遮罩100之表面相接，在該拉伸輔助構件本體部50A和蒸鍍遮罩100之表面重疊之至少一部分，為被固定於蒸鍍遮罩100之拉伸輔助構件，拉伸輔助構件延長部50B與拉伸輔助構件本體部50A連結，為不被固定於蒸鍍遮罩100之表面的拉伸輔助構件。
作為一例之拉伸輔助構件50係由拉伸輔助構件延長部50B難以傷及蒸鍍遮罩之表面的材料，例如樹脂等之材料所構成。圖19(a)、(f)為表示在拉伸輔助構件本體部50A和蒸鍍遮罩100之表面重疊之至少一部分中，固定拉伸輔助構件本體部50A和拉伸輔助構件延長部50B所構成之拉伸輔助構件50，和一個蒸鍍遮罩100之狀態之一例的概略剖面圖。在圖19(a)、(f)所示之型態中，在一個蒸鍍遮罩100之寬度方向，位有與該一個蒸鍍遮罩100相鄰之其他的蒸鍍遮罩100A，拉伸輔助構件延長部50B與其他蒸鍍遮罩100A之表面相接。在圖示之型態中，拉伸輔助構件延長部50B與驅動手段55連接，使驅動手段55作動，進行與拉伸輔助構件50固定之一個蒸鍍遮罩100之拉伸。於設為與圖19(a)、(f)所示之型態時，拉伸輔助構件延長部50B，以設為從難以傷及蒸鍍遮罩之表面的材料所構成之拉伸輔助構件延長部50B為佳。藉由使用如此之拉伸輔助構件延長部50B，於對拉伸輔助構件50進行拉伸之時，即使在該拉伸輔助構件延長部50B，和 其他蒸鍍遮罩100A之表面相接之時，亦可以抑制其他之蒸鍍遮罩100A之表面受損。
圖19(b)~(d)為表示在拉伸輔助構件本體部50A和蒸鍍遮罩100之表面重疊之至少一部分中，固定由拉伸輔助構件本體部50A和拉伸輔助構件延長部50B所構成之拉伸輔助構件50，和一個蒸鍍遮罩100之狀態之一例的概略剖面圖。與圖19(a)、(f)相同，在一個蒸鍍遮罩100之寬度方向，位有與該一個蒸鍍遮罩100相鄰之其他的蒸鍍遮罩100A。在圖19(b)所示之型態中，與一個蒸鍍遮罩100相鄰之其他的蒸鍍遮罩100A之表面和拉伸輔助構件延長部50B不相接。再者，在圖19(c)、(d)所示之型態中，從拉伸輔助構件本體部50A和拉伸輔助構件延長部50B所構成之拉伸輔助構件50，整體剖面形狀呈現階段狀，與一個蒸鍍遮罩100鄰接之其他的蒸鍍遮罩100A之表面，和拉伸輔助構件延長部50B不相接。因此，若藉由圖19(b)~(d)所示之型態，不管拉伸輔助構件延長部50B之材料，可以抑制傷及其他的蒸鍍遮罩100A之表面。於其他的蒸鍍遮罩100A之表面和拉伸輔助構件延長部50B不相接之時，拉伸輔助構件延長部50B以使用延伸率小之材料，例如金屬材料等為佳。藉由設為從金屬材料等所構成之拉伸輔助構件延長部50B，可以抑制對拉伸輔助構件50進行拉伸之時的拉伸輔助構件50本身之延伸，並可以精度更佳地拉伸蒸鍍遮罩。
在圖19(f)所示之型態中，將拉伸輔助構件延 長部50B之剖面形狀設為階段狀，縮小拉伸輔助構件延長部50B和相鄰之其他之蒸鍍遮罩100A之表面相接之面積。若藉由該型態時，不管拉伸輔助構件延長部50B之材料如何，可以抑制傷及其他的蒸鍍遮罩100A之表面。再者，拉伸輔助構件50和其他的蒸鍍遮罩100A相接，亦可以抑制其他之蒸鍍遮罩100A之位置變動。
設為圖19(c)、(d)、(f)之型態之時的拉伸輔助構件延長部50B之材料，可以使用可彎曲，可維持該彎曲之形狀的材料，例如使用金屬之薄板等。就以具體之例而言，可以舉出板彈簧或支架等。
在圖19(a)~(d)、(f)中，雖然設為拉伸輔助構件本體部50A和拉伸輔助構件延長部50B之厚度略相同之厚度，但即使設為不同之厚度亦可。再者，即使將拉伸輔助構件本體部50A之寬度設為大於拉伸輔助構件延長部50B之寬度亦可，即使設為小於亦可，即使設為相同亦可(在圖示之型態中為相同寬度)。再者，即使拉伸輔助構件本體部50A和拉伸輔助構件延長部50B之形狀為不同之形狀亦可。例如，在圖19(a)所示之型態中，將拉伸輔助構件本體部50A設為薄片狀，將拉伸輔助構件延長部50B設為圓柱狀，依此可以邊增大一個蒸鍍遮罩和拉伸輔助構件本體部50A相接之面積而提高固定強度，邊縮小與一個蒸鍍遮罩100相鄰之其他的蒸鍍遮罩100A和拉伸輔助構件延長部50B相接之面積，並且可以縮小對拉伸輔助構件50與一個蒸鍍遮罩100相鄰之其他的蒸鍍遮罩100A所造 成之影響。即使拉伸輔助構件本體部50A和蒸鍍遮罩100直接性地被固定亦可，即使間接性地被固定亦可。
再者，如圖19(e)、(g)所示般，以剖面形狀成為階段狀之方式使拉伸輔助構件50彎曲，亦可以使與一個蒸鍍遮罩100相鄰之其他的蒸鍍遮罩100A之表面和拉伸輔助構件50不相接，或縮小相接的面積。圖19(e)、(g)所示之拉伸輔助構件50為使一個拉伸輔助構件彎曲之型態。
在圖19中，雖然針對複數之蒸鍍遮罩被複數配置在該蒸鍍遮罩之寬度方向之時的一個蒸鍍遮罩100，和與該一個蒸鍍遮罩100相鄰之其他的蒸鍍遮罩100A，及拉伸輔助構件50之關係進行說明，但是即使在一個蒸鍍遮罩之中央部附近，在與該一個蒸鍍遮罩之表面相接之部分之至少一部分固定拉伸輔助構件50之時，亦可以適當選擇使用在圖19中所說明之各種型態。於使用圖19進行說明之型態係從拉伸輔助構件50和蒸鍍遮罩100被固定之位置，至驅動手段55的距離長之時，即是拉伸輔助構件50和蒸鍍遮罩之表面相接之面積變大之時的有效型態。並且，從拉伸輔助構件50和蒸鍍遮罩100被固定之位置至驅動手段55之距離為短之時，即是蒸鍍遮罩之表面和拉伸輔助構件相接之面積小之時，不適用上述所說明之較佳型態，若在該拉伸輔助構件和蒸鍍遮罩之一方之面重疊之部分之至少一部分，固定拉伸輔助構件50和蒸鍍遮罩100，拉伸該拉伸輔助構件即可。
針對蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50之固定位置並無做任何限定，可以在任意位置進行固定。尤其，本發明係與把持蒸鍍遮罩之端部的把持手段不同，可在拉伸輔助構件和蒸鍍遮罩重疊之任意位置進行固定，即使在蒸鍍遮罩之表面之任一位置，亦可以固定蒸鍍遮罩100和拉伸輔助構件50。再者，藉由適當地設定拉伸輔助構件之材料或黏著劑等之塗佈面積等，亦可以自由地設定拉伸輔助構件50和蒸鍍遮罩被固定之部分的面積等。針對固定位置，在後述之第1拉伸工程中，舉出具體之例子詳細敘述。
並且，由於在後述之框架固定工程中，蒸鍍遮罩在拉伸狀態下被固定在框架60，故拉伸輔助構件50和蒸鍍遮罩之一方之面的固定係以在不妨礙蒸鍍遮罩朝框架之固定的位置為佳。作為在不妨礙框架和蒸鍍遮罩之固定的位置進行固定之型態而言，可以舉出避開蒸鍍遮罩和框架被固定之預定位置，在蒸鍍遮罩之一方之面上固定拉伸輔助構件50之型態，使用不吸收雷射光之拉伸輔助構件50的型態。
作為前者之型態，可以舉出圖9(a)~(e)所示之型態等。在圖9(a)、(b)中，在較與框架的固定預定位置更外側，固定蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50，在圖9(c)~(e)中，去除對應於與框架之固定預定位置的拉伸輔助構件50之一部分。拉伸輔助構件50之去除即使如圖9(c)、(d)所示般，以對拉伸輔助構件50進行切口 之方式來進行亦可，如圖9(e)所示般，以挖空拉伸輔助構件之方式來進行亦可。用以除去拉伸輔助構件50之一部分的切口形狀，或挖空形狀並不限定於圖示之型態，即使為任何形狀亦可。例如，在圖9(e)中，雖然將拉伸輔助構件挖空成圓狀，但是即使為挖空成多角形狀或除此之外的形狀亦可。即使針對切口形狀也相同。再者，雖然無圖示，於利用複數之拉伸輔助構件50進行拉伸之時，亦可以採取避開與框架之固定預定位置而在蒸鍍遮罩之一方之面上固定拉伸輔助構件50之型態。
一般而言，框架與蒸鍍遮罩之固定使用採用雷射光之熔接固定法。因此，即使如後者之型態般，藉由使用採用透明性之材料所形成之拉伸輔助構件50，即是不吸收雷射光之拉伸輔助構件50，在與蒸鍍遮罩和框架被固定之預定位置重疊之部分，位有拉伸輔助構件之時，亦可以隔著該拉伸輔助構件50照射雷射光而固定蒸鍍遮罩和框架。再者，在該型態中，由於使用採用透明性之材料而所形成之拉伸輔助構件50，故不會妨礙蒸鍍遮罩和框架被固定之預定位置之辨識性，在可以邊觀看與框架之固定預定位置，邊固定蒸鍍遮罩和框架之點上為佳的型態。
針對蒸鍍遮罩100和拉伸輔助構件50之固定強度並不特別限定，在後述之第1拉伸工程中，若因應對拉伸輔助構件50進行拉伸之時之張力等而適當設定即可。具體而言，若藉由對拉伸輔助構件50進行拉伸之時 的張力，以拉伸輔助構件50不會從蒸鍍遮罩100脫離之程度的強度被固定即可。
(第1拉伸工程)
第1拉伸工程係在上述拉伸輔助構件固定工程中，藉由對在與蒸鍍遮罩100之表面重疊之部分的至少一部分被固定之拉伸輔助構件50進行拉伸，而拉伸被固定在該拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩100的工程。針對拉伸輔助構件50進行拉伸之方向並無限定，即使朝蒸鍍遮罩100之長邊方向(例如在圖1中所示之橫方向)、寬度方向(例如，在圖1中所示之縱方向)或除此之外之方向，例如傾斜方向等中之任一方向。尤其，在本發明中，可以在該蒸鍍遮罩之一方之面之任意位置固定拉伸輔助構件50和蒸鍍遮罩，即使對在以往使用把持蒸鍍遮罩之端部的夾具等之拉伸手段中較難的蒸鍍遮罩之長邊方向、寬度方向以外之方向，亦容易拉伸。再者，本案發明說明書中所稱的「拉伸蒸鍍遮罩」係指拉伸被固定在蒸鍍遮罩之拉伸輔助構件50，對使被固定於該拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩100伸長之方向施加外力(張力)之意。換言之，「拉伸蒸鍍遮罩」係指利用拉伸輔助構件50而對使被固定於該拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩100伸長之方向施加外力(張力)之意。在此所稱的使蒸鍍遮罩伸長之方向不僅使被設置在蒸鍍遮罩之樹脂遮罩的開口部25伸長之方向，也包含被設置在蒸鍍遮罩之樹脂遮罩的開口部25縮收之方向。例 如，在圖8(a)、(b)所示之型態中，藉由將分別的拉伸輔助構件50拉伸至蒸鍍遮罩100之外方，可以使被設置在蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩之1畫面內之開口部(無圖示)各在寬度方向上延伸。另外，在圖8(c)所示之型態中，藉由將分別的拉伸輔助構件50拉伸至蒸鍍遮罩之外方，可以使被設置在蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩之1畫面內之開口部(無圖示)在寬度方向縮收。再者，如同上述，由於不僅伸長方向，也在縮收方向可以做調整，故在保持被拉伸之狀態之蒸鍍遮罩全體或1畫面或開口部之尺寸之狀態下亦可進行位置調整。再者，對拉伸輔助構件50進行拉伸，幾乎不會使開口部25之尺寸本身變化，亦可以進行開口部25之位置調整，或消除在樹脂遮罩20所產生之變形或撓曲等。
若可進行蒸鍍遮罩之定位時，蒸鍍遮罩100之面和對拉伸輔助構件進行拉伸之方向的軸所構成之角度雖然不特別指定，但是在較佳之型態的第1拉伸工程中，以蒸鍍遮罩100之面和對拉伸輔助構件進行拉伸之方向之軸所構成之角度為0°±89°，較佳為0°±45°，更佳為0°±10°之範圍內之方式，拉伸被固定在蒸鍍遮罩之拉伸輔助構件50。若藉由該型態，可以抑制當對拉伸輔助構件50進行拉伸時，在被固定於拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩100發生變形，撓曲等之情形。即是，可以抑制在第1拉伸工程後之蒸鍍遮罩產生變形或撓曲等之情形。並且，在此所稱的蒸鍍遮罩之面係指當俯視觀看蒸鍍遮罩100之時，與拉 伸輔助構件50重疊之區域對應的蒸鍍遮罩之面。
再者，如圖8(b)所示般，在蒸鍍遮罩100之面上，固定複數之拉伸輔助構件50，並於拉伸複數之拉伸輔助構件50之各個時，蒸鍍遮罩100之面和對拉伸輔助構件進行拉伸之方向之軸所構成之角度為0°±89°、較佳為0°±45°，更佳為0°±10°之範圍內，並且以相對於基準角度為±10°，較佳為±5°之範圍內，拉伸各個拉伸輔助構件50為佳。並且，在此所稱的基準角度係任意之角度，例如將基準角度設為30°之時，以對拉伸輔助構件50進行拉伸之方向之軸和蒸鍍遮罩之面所構成之角度成為30°±10°，尤其係成為30°±5°之方式，拉伸各個拉伸輔助構件50為佳。如此一來，以將各個拉伸輔助構件50對基準角度成為±10°，較佳為±5°之方式，在上述較佳之範圍內的角度進行拉伸，依此可以在抑制蒸鍍遮罩50之變形或撓曲等之發生的狀態下，拉伸蒸鍍遮罩100。並且，於不考慮對拉伸輔助構件50進行拉伸之時的角度，以隨機之角度對複數之拉伸輔助構件50之各個進行拉伸之時，有在被拉伸之狀態的蒸鍍遮罩容易產生變形或撓曲等之傾向。再者，在進行第1拉伸工程之前的階段，於在被固定於拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩產生變形或撓曲等之時，考慮該些變形或撓曲，而將拉伸各個拉伸輔助構件50之角度調整成上述較佳範圍為佳。
接著，舉出具體之例子，邊敘述蒸鍍遮罩100和拉伸輔助構件50之固定位置，邊針對第1拉伸工程進 行說明。
圖10係表示一實施型態之第1拉伸工程的正面圖，在圖10(a)中，在蒸鍍遮罩之一方之面上，該蒸鍍遮罩之相向的兩邊(圖示中之型態中為寬度方向之邊)之附近，一個一個地固定拉伸輔助構件，並將固定的拉伸輔助構件50拉伸至各個蒸鍍遮罩之外方(圖中之箭號方向)，來拉伸被固定於該拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩。圖10(b)中，在蒸鍍遮罩之一方之面上，該蒸鍍遮罩之相向的兩邊(圖示中之型態中為長邊方向之邊)之附近，一個一個地固定拉伸輔助構件50，並將固定的拉伸輔助構件50拉伸至蒸鍍遮罩之外方(圖中之箭號方向)，來拉伸被固定於該拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩。圖10(c)為組合圖10(a)、(b)之型態。圖10(a)~(c)係利用拉伸輔助構件50，以取代先前眾知之夾具等，來拉伸被固定於該拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩100之型態。
再者，取代圖10所示之型態，即使如圖11所示般，在蒸鍍遮罩之一方之面上之端部附近固定複數之拉伸輔助構件50，利用拉伸輔助構件50，拉伸被固定於該拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩100亦可。若藉由圖11所示之型態時，由於在蒸鍍遮罩之一方之面上之端部附近固定複數之拉伸輔助構件50，故可以精度佳地拉伸蒸鍍遮罩。例如，在圖11(a)、(c)所示之型態中，於蒸鍍遮罩100之寬度方向(圖面之上下方向)，在與1畫面重疊之位置及不與1畫面重疊之位置的雙方固定拉伸輔助構件 50，藉由適當設定拉伸各個拉伸輔助構件之時的張力值或拉伸量，可以精度更佳地拉伸蒸鍍遮罩。並且，圖11(a)中，在蒸鍍遮罩之一方之面上，該蒸鍍遮罩之相向的兩邊(圖示中之型態中為寬度方向之邊)之端部附近，固定複數之拉伸輔助構件50，並將各拉伸輔助構件50拉伸至蒸鍍遮罩之外方(圖中之箭號方向)，來拉伸蒸鍍遮罩。並且，圖11(b)中，在蒸鍍遮罩之一方之面上，該蒸鍍遮罩之相向的兩邊(圖示中之型態中為長邊方向之邊)之端部附近，藉由固定複數之拉伸輔助構件50，並將各拉伸輔助構件拉伸至圖中之箭號方向，來拉伸蒸鍍遮罩。圖11(c)為組合圖11(a)、(b)之型態。再者，亦可以適當組合圖10、圖11所示之型態的型態。圖20(a)、(b)係圖11(a)之變形型態，在圖20(a)中，於蒸鍍遮罩100之寬度方向(圖面之上下方向)中，在與1畫面重疊之位置固定拉伸輔助構件50，在圖20(b)中，在蒸鍍遮罩100之寬度方向(圖面之上下方向)，於不與1畫面重疊之位置固定拉伸輔助構件50。圖20所示之變形型態也可以設為各圖所示之型態，例如與圖11(c)所示之型態組合的型態。並且，圖11(a)、(c)所示之型態在可以精度佳地消除在構成1畫面之開口部25產生之形狀，或尺寸變動之點上為佳之型態。
在圖10、圖11所示之型態中，雖然在蒸鍍遮罩100之一方之面上，在該蒸鍍遮罩相向之兩邊之端部附近，分別固定拉伸輔助構件50，但是即使在蒸鍍遮罩100之一方之面上，僅在該蒸鍍遮罩相向之兩邊中之一邊之端 部附近固定拉伸輔助構件，並拉伸蒸鍍遮罩亦可。即是，將相向之兩邊中之1邊設為固定端，在其他之1邊之端部附近固定拉伸輔助構件50，並拉伸該拉伸輔助構件亦可。再者，即使利用先前眾知之夾具等之把持手段把持相向之兩邊中之一邊，並在其他之一邊之端部附近之蒸鍍遮罩之一方之面上固定拉伸輔助構件50亦可。
使用拉伸輔助構件50之第1拉伸工程即使與夾具等之把持手段組合而進行亦可。圖12(a)係利用夾具等之把持手段80保持蒸鍍遮罩100相向之兩邊之端部(在圖示之型態中為長邊方向之端部)，使連結於該把持手段之驅動手段予以作動，而將蒸鍍遮罩拉伸至第1方向(在圖示之型態中，為蒸鍍遮罩之長邊方向)之狀態的正面圖。作為連結於把持手段之驅動手段，可以舉出馬達、汽缸、電動致動器等。並且，如圖12(a)所示般，於將蒸鍍遮罩100僅拉伸至第1方向(圖示所示之型態中為蒸鍍遮罩之長邊方向)之時，藉由蒸鍍遮罩之收縮等，在蒸鍍遮罩產生變形等，有被設置在蒸鍍遮罩之樹脂遮罩20之開口部之尺寸或形狀變動之情形。並且，圖12(a)係示意性地表示由於將蒸鍍遮罩100拉伸至第1方向(在圖示之型態中為蒸鍍遮罩之長邊方向)之時所產生之蒸鍍遮罩之收縮等，使得被配置在1畫面內之開口部(無圖示)之形狀，或尺寸產生變動之狀態，在圖示之型態中係示意性地表示開口部之形狀或尺寸產生變動之情形，記載著1畫面之形狀產生變形的形狀。並且，在圖12(c)中成為矩形狀之1 畫面的區域係指藉由經由第1拉伸工程，消除被配置在該1畫面內之開口部之形狀或尺寸之變動之意。
為了消除將蒸鍍遮罩100拉伸至第1方向(在圖示之型態中為蒸鍍遮罩之長邊方向)之時所產生之開口部之形狀或尺寸之變動，在第1拉伸工程中，如圖12(b)所示般，於使用把持手段等而將蒸鍍遮罩拉伸至第1方向之後，將被固定於蒸鍍遮罩100之一方之面的拉伸輔助構件50拉伸至與該第1方向不同之第2方向(在圖示之型態中為蒸鍍遮罩之寬度方向)，如圖12(c)所示般，消除藉由拉伸至第1方向所產生之開口部之形狀或尺寸之變動。使用拉伸輔助構件50之蒸鍍遮罩之拉伸係如上述般，即使使用把持手段而將蒸鍍遮罩拉伸至第1方向之後而進行亦可，即使與使用把持手段而將蒸鍍遮罩拉伸至第1方向同時進行亦可。針對在此所稱的第1方向雖然無特別限定，但是於使用先前眾知之把持手段等而拉伸蒸鍍遮罩之時，第1方向通常成為蒸鍍遮罩100之長邊方向或是寬度方向。並且，第1方向即使為任何方向亦可。即是，一實施型態之附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法即使包含於進行第1拉伸工程之前，或是與第1拉伸工程同時，使用先前眾知之把持手段等，事先拉伸蒸鍍遮罩之第2拉伸工程亦可。
再者，即使不使用夾具等之把持手段，僅使用拉伸輔助構件50，進行上述第1方向之拉伸及第2方向之拉伸亦可(參照圖11(c))。再者，即使同時進行使用拉 伸輔助構件50而朝第1方向的拉伸及朝第2方向的拉伸亦可，即使於進行使用拉伸輔助構件50而朝第1方向的拉伸之後，進行使用拉伸輔助構件50而朝第2方向的拉伸亦可。
圖15、圖16係表示本發明之一實施型態之附有框架之蒸鍍遮罩之一例的正面圖。圖15所示之附有框架之蒸鍍遮罩200係在框架60固定一個蒸鍍遮罩100。圖16所示之型態之附有框架之蒸鍍遮罩200係在框架60，於長邊方向或寬度方向排列固定(圖示之型態中，在寬度方向排列固定)複數之蒸鍍遮罩(圖示之型態中為4個蒸鍍遮罩)。
圖15所示之附有框架之蒸鍍遮罩僅為一個蒸鍍遮罩，由於被固定在框架，故如圖13(a)所示般，可以藉由把持手段容易把持蒸鍍遮罩之長邊方向端部或寬度方向端部，容易對長邊方向及寬度方向之雙方之方向，拉伸蒸鍍遮罩。並且，在圖示13(a)中，在蒸鍍遮罩之一部分之區域(在圖中之符號A所示之1畫面內)中，位於該一部分之區域內之全部，或是一部分之開口部之形狀或尺寸產生變動，為了消除該開口部之形狀或尺寸之變動，在圖13(b)中，在蒸鍍遮罩100之一方之面上，在產生該開口部之變動的區域之附近(圖示之型態中，以符號A所示之1畫面，和與以該符號A所示之1畫面相鄰之其他的1畫面之間)，固定拉伸輔助構件50，並對該拉伸輔助構件50進行拉伸，依此拉伸被固定於該拉伸輔助構件50之蒸鍍 遮罩，而消除如此的開口部之變動。圖13(a)係於第1拉伸工程之前，使用把持手段而進行拉伸蒸鍍遮罩之第2拉伸工程之時的蒸鍍遮罩之一例的正面圖。圖13(b)為表示第2拉伸工程後，進行拉伸輔助構件固定工程之狀態之一例的蒸鍍遮罩之正面圖。圖13(c)為表示藉由第1拉伸工程解消除開口部之變動的蒸鍍遮罩之一例的正面圖。
在圖13(b)所示之型態中，雖然在蒸鍍遮罩100之一方之面上，在1畫面間和拉伸輔助構件50重疊之部分之全部或是一部分，固定蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50，但是亦可以在蒸鍍遮罩100之一方之面上，在構成1畫面之區域和拉伸輔助構件50重疊之部分之全部或一部分，固定蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50(無圖示)。即是，亦可以在1畫面內固定蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50。具體而言，在圖2~圖7等所示之蒸鍍遮罩100中，可以於樹脂遮罩20側之面上，於被設置在1畫面內之複數之開口部25中相鄰的開口部25間和拉伸輔助構件50重疊之部分之全部或一部分，固定蒸鍍遮罩100之一方之面和拉伸輔助構件50。此時，拉伸被設置在1畫面內之開口部25之附近，可以個別地消除產生在該開口部25之形狀或尺寸之變動。即是，固定蒸鍍遮罩之一方之面和拉伸輔助構件之固定位置，可以因應拉伸蒸鍍遮罩全體之型態、拉伸1畫面全體之型態、一起拉伸被設置在1畫面內之開口部之複數的型態，或是個別地拉伸被設置在1畫面內之開口部25 的型態等而適當設定，針對其固定位置並不做任何限定。
另外，如圖16所示般，於在框架60將複數之蒸鍍遮罩於該蒸鍍遮罩之長邊方向或寬度方向予以排列固定而構成的(在圖示之型態中，在蒸鍍遮罩之寬度方向排列固定)之附有框架之蒸鍍遮罩(以下，有稱為附有框架之多面蒸鍍遮罩之情形)之時，雖然針對蒸鍍遮罩之長邊方向或寬度方向之端部(在圖示之型態中為蒸鍍遮罩之長邊方向之端部)，可以藉由把持手段而容易把持，但是由於存在與一個蒸鍍遮罩相鄰之蒸鍍遮罩，難以藉由把持手段把持位於該相鄰之方向之端部(在圖示之型態中為蒸鍍遮罩之寬度方向之端部)。即是，使用把持手段將蒸鍍遮罩拉伸至長邊方向及寬度方向之雙方之方向，難以取得附有框架之多面蒸鍍遮罩。
本發明之一實施型態之附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法係如上述說明般，在蒸鍍遮罩之一方之面重疊拉伸輔助構件50，在該蒸鍍遮罩之一方之面和拉伸輔助構件50重疊之部分之至少一部分，將拉伸輔助構件50固定在蒸鍍遮罩之一方之面，利用拉伸輔助構件50，即是藉由拉伸該被固定之拉伸輔助構件50，拉伸被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩。因此，如圖14所示般，即使一個蒸鍍遮罩100和與該一個蒸鍍遮罩相鄰之其他的蒸鍍遮罩100A之間無間隙，或是間隙小之時，亦可以將被固定在該一個蒸鍍遮罩之一方之面而構成之拉伸輔助構件50，也拉伸至相鄰之蒸鍍遮罩方向側，即使在形成附有框 架之多面蒸鍍遮罩之時，亦可以進行蒸鍍遮罩之長邊方向及寬度方向之二軸拉伸。換言之，若藉由本發明之一實施型態之製造方法時，當設成附有框架之多面蒸鍍遮罩時，可以極力縮小相鄰之蒸鍍遮罩之間隔。並且，在圖示之型態中，為了便於說明，將蒸鍍遮罩100以外之蒸鍍遮罩在圖中之符號Y之處當作被固定在框架者而予以記載。再者，在圖14(a)中，於第1拉伸工程之前，進行使用把持手段而將蒸鍍遮罩100拉伸至第1方向(在圖示之型態中為蒸鍍遮罩之長邊方向)之第2拉伸工程，雖然藉由第2拉伸工程在構成蒸鍍遮罩100之1畫面之開口部產生形狀或尺寸之變動，但是藉由第1拉伸工程，將拉伸輔助構件50拉伸至第2方向(在圖示之型態中，為相鄰之蒸鍍遮罩方向側(蒸鍍遮罩之寬度方向)，依此如圖14(b)所示般，消除在開口部產生之形狀或尺寸之變動。並且，相鄰之蒸鍍遮罩方向並不限定於與上述第1方向正交之方向，即使為對該正交之方向的軸，持有某程度之角度，例如0°±45°、0°±30°、0°±5°程度之角度亦可。
(框架固定工程)
框架固定工程係在如圖15、圖16所示般形成有貫通孔之框架60，以相向之方式重疊該框架60之框架部分，和在上述第1拉伸工程中被拉伸之狀態之蒸鍍遮罩之金屬遮罩10，在框架60固定在上述第1拉伸工程中被拉伸之狀態的蒸鍍遮罩100。框架60和蒸鍍遮罩100之固定係 針對框架60和蒸鍍遮罩之金屬部分相接之位置而進行，針對其位置並不特別限定。圖15係從樹脂遮罩側觀看在框架60固定一個蒸鍍遮罩之附有框架之蒸鍍遮罩的正面圖。圖16係從樹脂遮罩側觀看在框架60於長邊方向或寬度方向排列固定(在圖示之型態中在寬度方向排列固定)複數之蒸鍍遮罩100之附有框架之多面蒸鍍遮罩200的正面圖。
(框架)
框架60為略矩形形狀之框構件，具有用以使設置在最終被固定之蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20的開口部25露出至蒸鍍源側之貫通孔。雖然針對框架之材料並無特別限定，但可以使用剛性大之金屬材料，例如SUS、因瓦材、陶瓷材料等。其中，以金屬框架容易進行與蒸鍍遮罩之金屬遮罩的熔接，變形等之影響小之點為佳。即使針對以下之補強框架65之材料也同樣。
框架之厚度並不特別限定，從剛性等之點來看，以10mm~30mm左右為佳。框架之開口之內周端面和框架之外周端面間之寬度，若為可以固定該框架和蒸鍍遮罩之金屬遮罩的寬度時，並不特別限定，例如可以例示10mm~200mm左右之寬度。
再者，如圖17(a)~(c)所示般，在不妨礙構成蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20之開口部25之露出的範圍下，即使使用在貫通孔之區域設置有補強框架65等之框 架60亦可。藉由設置補強框架65，利用該補強框架65，可以固定框架60和蒸鍍遮罩100。框架60和補強框架65即使為相同材料亦可，即使為不同之材料亦可。
以下，針對利用補強框架65之固定方法之一例進行說明。
例如，經上述說明之第1拉伸工程而形成圖16所示之型態之附有框架之蒸鍍遮罩之時，同時進行第1方向及第2方向之拉伸之後，必須固定該被拉伸之狀態的蒸鍍遮罩。該係因為於進行朝第1方向(例如，蒸鍍遮罩之長邊方向)的拉伸之後，且於進行朝與該第1方向不同的第2方向(例如，蒸鍍遮罩之寬度方向)的拉伸之前，在框架60固定已進行朝該第1方向之拉伸的蒸鍍遮罩之時，在該階段，框架60和蒸鍍遮罩100完全被固定，之後，為了消除藉由朝第1方向的拉伸所產生的開口部之形狀，或尺寸之變動，即使進行朝與該第1方向不同之第2方向的拉伸，亦可以維持朝第2方向的拉伸之狀態，成為無法在框架60固定蒸鍍遮罩100。
另外，於使用設置有補強框架65之框架60之時，即使朝第1方向(例如，蒸鍍遮罩之長邊方向)拉伸蒸鍍遮罩，在框架60之本體部固定已進行朝第1方向之拉伸的蒸鍍遮罩100之後，亦可使用該補強框架65，再次固定框架60和蒸鍍遮罩100(參照圖18)。具體而言，對複數之蒸鍍遮罩之一部分或全部，使用特定之方法，進行朝第1方向的拉伸，在框架60之本體部固定蒸鍍遮罩 100之後，即使藉由如上述所說明之第1拉伸工程，對與該第1方向不同之第2方向進行拉伸之後，亦可以使用補強框架65固定藉由該第1拉伸工程進行拉伸之狀態的蒸鍍遮罩。即是，藉由使用具有補強框架之框架，一旦取得在框架60之本體部固定蒸鍍遮罩而所構成之附有框架之蒸鍍遮罩之後，藉由在產生開口部之形狀或尺寸變動之區域的附近，固定拉伸輔助構件50，拉伸該拉伸輔助構件50，可以使用補強框架65固定已進行拉伸之蒸鍍遮罩。換言之，可以使用補強框架65固定開口部之形狀或尺寸之變動被消除的蒸鍍遮罩。在該方法中，亦可以將上述拉伸輔助構件固定工程或第1拉伸工程當作取得對附有框架之蒸鍍遮罩之後而產生之開口部之變動進行微調整之方法而適用。開口部之變動的微調整即使藉由拉伸至開口部25伸長之方向而進行亦可，即使藉由拉伸至開口部25縮收之方向而進行亦可。並且，在此所稱的框架之本體部係指與補強框架65不同之部分，即是外框之意。
在上述中，雖然在將蒸鍍遮罩100拉伸至第1方向之狀態下將該蒸鍍遮罩100固定在框架60之本體部，接著使用在上述中所說明之第1拉伸工程，將被固定之蒸鍍遮罩又拉伸至與第1方向不同之第2方向，在框架60之補強框架65固定蒸鍍遮罩100，但是即使取代該型態，首先使用在上述中所說明之第1拉伸工程，拉伸蒸鍍遮罩，在框架60之補強框架65固定蒸鍍遮罩100，接著藉由將被固定在補強框架65之蒸鍍遮罩拉伸至與先前拉 伸之方向不同的方向，在框架60之本體部固定蒸鍍遮罩亦可。再者，即使進行朝第1方向、第2方向的拉伸之後，將蒸鍍遮罩固定在框架60之本體部及補強框架65亦可。
朝第1方向之拉伸、朝第2方向之拉伸即使藉由第1拉伸工程進行亦可，即使藉由第1拉伸工程進行朝任一方之方向的拉伸亦可。例如，藉由使用上述把持手段等之第2拉伸工程進行朝第1方向之拉伸，且藉由上述第1拉伸工程進行第2方向之拉伸亦可。再者，藉由使用上述第1拉伸工程進行朝第1方向之拉伸，且藉由第2拉伸工程進行第2方向之拉伸亦可。就以一例而言，在進行第1拉伸工程之前的階段，藉由使用上述把持手段等之第2拉伸工程，將蒸鍍遮罩拉伸至第1方向，於第2拉伸工程之後，藉由第1拉伸工程，對拉伸輔助構件進行拉伸，依此將被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩拉伸至第2方向。再者，作為其他之一例，同時進行藉由使用把持手段等之第2拉伸工程所進行的朝第1方向之拉伸，和藉由第1拉伸工程所進行的朝第2方向之拉伸。
設置有補強框架65之框架60即使藉由例如一體形成框架60之本體部和框架60之補強框架65而取得亦可，即使為藉由在僅具有本體部之框架，固定補強框架65而取得者亦可。再者，圖17(c)所示之格子狀之補強框架65即使為對例如金屬板等進行加工的一體型者亦可，即使為於縱橫安裝複數之補強框架65者亦可。於後 者之時，當在框架60之寬度方向(圖17(c)之橫方向)排列配置複數之蒸鍍遮罩之時，以在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向(圖中之橫方向)正交之方向(圖中之縱方向)上延伸之補強框架65，與蒸鍍遮罩相接之方式，換言之，以在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向正交之方向上延伸之補強框架65位於上側之方式，來進行安裝為佳。並且，在圖17(c)中，以在相鄰之蒸鍍遮罩之方向上延伸之補強框架65，位於較在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向正交之方向上延伸之補強框架65上側之方式，來進行安裝。再者，補強框架65並不限定於圖示之型態，即使為組合在隨機之方向上延伸之複數之補強框架65的型態亦可。
再者，上述第1拉伸工程亦可以在將蒸鍍遮罩100暫時固定於框架60之本體部或補強框架65之狀態下進行亦可。暫時固定係在不與框架60之蒸鍍遮罩100相接之側的面，或是不與蒸鍍遮罩100之框架相接之側的面上配置具有磁性之構件，例如磁性板或磁鐵片等，藉由拉引蒸鍍遮罩100和框架60之本體部，或是補強框架65。例如，於進行朝第1方向之拉伸之後，將已進行該第1方向之拉伸之狀態的蒸鍍遮罩，暫時固定在框架60之本體部或是補強框架65，藉由第1拉伸工程，拉伸被暫時固定之狀態之蒸鍍遮罩，於第1拉伸工程後，藉由對框架60和蒸鍍遮罩進行熔接固定，亦可以取得附有框架之蒸鍍遮罩。再者，於使用從具有磁性之材料所構成之拉伸輔助構件50，或組合具有磁性之材料和其他材料，例如 與具有自吸附性之材料組合的拉伸輔助構件50之時，不使用另外的磁性板或磁鐵片等，利用拉伸輔助構件50本身之磁性，亦可以邊暫時固定框架60之補強框架65和蒸鍍遮罩100，邊藉由拉伸輔助構件50，拉伸蒸鍍遮罩100。即是，此時之拉伸輔助構件50發揮暫時固定蒸鍍遮罩和框架之作用，和拉伸蒸鍍遮罩之作用的雙方作用。藉由進行暫時固定，可以抑制藉由拉伸蒸鍍遮罩所產生之位置偏移等，可以精度更佳地拉伸蒸鍍遮罩。再者，亦可取代上述例示之方法，於進行朝第1方向之拉伸之後，將進行該第1方向之拉伸的狀態之蒸鍍遮罩，熔接固定於框架60之本體部，接著，將被熔接於框架60之本體部之蒸鍍遮罩，暫時固定於補強框架65，之後，亦可以對已進行朝框架60之本體部的熔接固定，及朝補強框架65之暫時固定的蒸鍍遮罩，進行第1拉伸工程。即使藉由該方法，亦利用暫時固定，可以抑制藉由拉伸蒸鍍遮罩所產生之位置偏移等，可以精度更佳地拉伸蒸鍍遮罩。
針對設為圖17(c)所示之型態之格子狀之補強框架65之時的各補強框架65之寬度並不特別限定，即使將所有之補強框架65之寬度設為相同大小亦可，亦可以使每個補強框架65變化寬度。並且，當排列複數之蒸鍍遮罩而進行配置之時，為了取較多被分配至框架之蒸鍍遮罩之數量，必須縮小相鄰之蒸鍍遮罩之間隔。於縮小相鄰之蒸鍍遮罩之間隔之時，隨此必須也縮小在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向正交之方向上延伸之補強框架65之寬度。然 而，於縮小補強框架65之寬度之時，在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向正交之方向上延伸之補強框架65之剛性下降，於在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向正交之方向上延伸之補強框架65固定蒸鍍遮罩之時容易產生變形等。
當考慮該點時，於縮小在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向正交之方向上延伸之補強框架65之寬度時，以較該寬度，增大在相鄰之蒸鍍遮罩之方向上延伸之補強框架65之寬度為佳。藉由增大在相鄰之蒸鍍遮罩之方向上延伸之補強框架65之寬度，可以提高補強框架65全體之剛性，並可以於在補強框架65固定蒸鍍遮罩之時，抑制在補強框架65產生變形等之情形。即是，較佳型態之補強框架係在相鄰之蒸鍍遮罩之方向上延伸之補強框架65之寬度，大於在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向正交之方向上延伸之補強框架65之寬度。就以一例而言，在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向正交之方向上延伸之補強框架65之寬度為0.5mm~50mm左右，在相鄰之蒸鍍遮罩之方向上延伸之補強框架65之寬度為0.5mm~50mm左右。較佳之型態之補強框架65係在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向正交之方向上延伸之補強框架65之寬度，及在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向上延伸之補強框架65之寬度，係在上述中所例示之寬度之範圍內，並且滿足在相鄰之蒸鍍遮罩之方向延伸之補強框架65之寬度，大於在與相鄰之蒸鍍遮罩之方向正交之方向上延伸之補強框架65之寬度的關係。作為補強框架65之厚度之一例為0.01mm~30mm左右。
再者，在與補強框架65重疊之框架60之本體部形成溝部，藉由嵌合該溝部和補強框架65，亦可以對準本體部和補強框架60之面位置。再者，於安裝複數之補強框架65使成為格子狀之補強框架65之時，亦可以以個別的補強框架65之面位置成為相同之方式，適當地在補強框架65設置溝部等。
針對固定方法並不特別限定，可以使用雷射熔接、電弧熔接、電阻熔接、電子束熔接法等之先前眾知之各種熔接法，或接著劑、螺絲固定等來進行固定。
而且，於上述之框架固定工程結束之後，藉由從蒸鍍遮罩拆下被固定在蒸鍍遮罩100之一方之面上而所構成之拉伸輔助構件50，取得蒸鍍遮罩被固定在框架而所構成之附有框架之蒸鍍遮罩。
(蒸鍍遮罩之拉伸方法)
接著，針對本發明之一實施型態之蒸鍍遮罩之拉伸方法予以說明。本發明之一實施型態之蒸鍍遮罩之拉伸方法係疊層形成有縫隙之金屬遮罩，在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應的開口部之樹脂遮罩而所構成之蒸鍍遮罩之拉伸方法，其特徵在於包含：拉伸輔助構件固定工程，其係在蒸鍍遮罩之一方之面上重疊拉伸輔助構件，在蒸鍍遮罩之一方之面和拉伸輔助構件重疊之部分之至少一部分，於蒸鍍遮罩固定拉伸輔助構件；和第1拉伸工程，其係藉由拉伸被固定在蒸鍍遮罩之拉伸輔助構件， 來拉伸被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩。若藉由本發明之一實施型態之蒸鍍遮罩之拉伸方法時，可以以簡便之方法，拉伸蒸鍍遮罩，並且即使在該蒸鍍遮罩，鄰接其他之蒸鍍遮罩之狀況下，可以將被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩拉伸至該其他之蒸鍍遮罩之方向側。
再者，在一實施型態之蒸鍍遮罩之拉伸方法中，於先使用把持手段等而將蒸鍍遮罩拉伸至第1方向，例如蒸鍍遮罩之長邊方向或寬度方向之後，進行上述第1拉伸工程，在第1拉伸工程中，將拉伸輔助構件拉伸至與事先拉伸之上述第1方向不同之第2方向，例如與第1方向正交之方向。即是，即使又包含於第1拉伸工程之前，使用把持手段等而將蒸鍍遮罩拉伸至第1方向之第2拉伸工程亦可。再者，即使同時進行第1拉伸工程和第2拉伸工程亦可。
拉伸輔助構件固定工程、第1拉伸工程可以直接適用在上述一實施型態之附有框架之蒸鍍遮罩中所說明之拉伸輔助構件固定工程、第1拉伸工程，省略在此的詳細說明。
(有機半導體元件之製造方法)
接著，針對本發明之一實施型態之有機半導體元件之製造方法予以說明。本發明之一實施型態之有機半導體元件之製造方法具有藉由使用附有框架之蒸鍍遮罩之蒸鍍法，形成蒸鍍圖案之工程，在製造該有機半導體元件之工 程中，使用藉由上述本發明之製造方法所製造之一實施型態的附有框架之蒸鍍遮罩之點具有特徵。
藉由使用附有框架之蒸鍍遮罩的蒸鍍法而形成蒸鍍圖案之工程的一實施型態之有機半導體元件之製造方法，具有在基板上形成電極之電極形成工程、有機層形成工程、對向電極形成工程、密封層形成工程等，在各任意工程中，藉由使用附有框架之蒸鍍遮罩的蒸鍍法，在基板上形成蒸鍍圖案。例如，在有機EL顯示器之R、G、B各色之發光層形成工程，分別適用使用附有框架之蒸鍍遮罩的蒸鍍法之情況下，在基板上形成各色發光層之蒸鍍圖案。並且，本發明之一實施型態之有機半導體元件之製造方法並不限定於該些工程，可適用使用蒸鍍法之先前眾知的有機半導體元件之製造中的任意工程。
本發明之一實施型態之有機半導體元件之製造方法係在形成上述蒸鍍圖案之工程中所使用之附有框架之蒸鍍遮罩為藉由在上述中所說明之本發明之製造方法而製造出之一實施型態的附有框架之蒸鍍遮罩。
針對附有框架之蒸鍍遮罩，可以直接使用藉由在上述所說明中的本發明之一實施型態之附有框架之蒸鍍遮罩所製造出者，在此省略其詳細說明。若藉由使用以在上述中所說明之本發明之一實施型態之附有框架之蒸鍍遮罩所製造出之附有框架之蒸鍍遮罩的有機半導體元件之製造方法時，由於使用抑制蒸鍍遮罩之開口部之形狀或尺寸之變動的該附有框架之蒸鍍遮罩，故可以形成具有高精 細之圖案的有機半導體元件。就以本發明之一實施型態之製造方法所製造出之有機半導體元件，例如可以舉出有機EL元件之有機層、發光層或陰極電極等。尤其，本發明之一實施型態之有機半導體元件之製造方法可以適用於要求高精細之圖案之有機EL元件之R、G、B發光層之製造。
(拉伸裝置)
首先，針對本發明之一實施型態之拉伸裝置予以說明。本發明之一實施型態之拉伸裝置係用以拉伸蒸鍍遮罩之拉伸裝置，該蒸鍍遮罩係疊層形成有縫隙之金屬遮罩，和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩而所構成，該拉伸裝置之特徵在於具備：拉伸輔助構件，和用以對拉伸輔助構件進行拉伸之驅動手段，拉伸輔助構件於與蒸鍍遮罩之一方之面重疊時，可在與該蒸鍍遮罩之一方之面重疊之部分之至少一部分固定。
構成拉伸裝置之拉伸輔助構件及驅動手段可以適當選擇使用在上述一實施型態之附有框架之蒸鍍遮罩之拉伸方法中所說明之拉伸輔助構件50、驅動手段55，在此省略詳細說明。若藉由本發明之一實施型態之拉伸裝置時，可以將拉伸輔助構件重疊在蒸鍍遮罩之一方之面，並在與該蒸鍍遮罩之一方之面重疊之部分之至少一部分，固定蒸鍍遮罩和拉伸輔助構件，藉由使與該拉伸輔助構件 連結之驅動手段作動，可以拉伸蒸鍍遮罩。
上述說明之各種型態之本發明中，作為拉伸對象之蒸鍍遮罩，特別適合於使用疊層形成有縫隙之金屬遮罩，和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩所構成之蒸鍍遮罩之情況。該係因為於使用特定之方法，例如把持手段等，拉伸物性不同之兩個遮罩，即是疊層樹脂遮罩和金屬遮罩之蒸鍍遮罩之時，比起拉伸僅由金屬遮罩所構成之蒸鍍遮罩，或僅由樹脂遮罩所構成之蒸鍍遮罩之時，容易產生與蒸鍍製作之圖案對應之開口部之尺寸，或位置變動之故。在各種型態之本發明中，即使有開口部之尺寸或位置產生變動之情形，利用拉伸輔助構件50，藉由拉伸蒸鍍遮罩，可以容易消除該些變動。
(變形型態)
變形型態之蒸鍍遮罩之拉伸方法、附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法、有機半導體元件之製造方法、拉伸裝置中，作為拉伸對象之蒸鍍遮罩，使用與疊層形成有上述縫隙之金屬遮罩，和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩而所構成之蒸鍍遮罩不同的蒸鍍遮罩(以下，稱為不同之蒸鍍遮罩)，利用拉伸輔助構件50而進行不同之蒸鍍遮罩之拉伸。作為上述不同之蒸鍍遮罩，可以舉出僅由金屬材料構成之金屬遮罩所形成的蒸鍍遮罩、僅由樹脂材料構成之樹脂遮罩所形成的蒸 鍍遮罩，或是金屬或樹脂材料以外之材料所構成之蒸鍍遮罩。並且，本發明中之各實施型態和變形型態僅與拉伸對象之蒸鍍遮罩不同，除此之外一致。即使變形例之蒸鍍遮罩中，僅由樹脂材料構成之樹脂遮罩所形成之蒸鍍遮罩，比起從金屬材料所構成之蒸鍍遮罩，於使用把持手段等而拉伸蒸鍍遮罩之時，在與蒸鍍製作之圖案對應之開口部之形狀或尺寸產生變動之點上，可以適合使用利用拉伸輔助構件50的拉伸方法。再者，僅由厚度為20μm以下之處的金屬遮罩所構成之蒸鍍遮罩，與上述僅由樹脂遮罩所構成之蒸鍍遮罩相同，於使用把持手段等而拉伸蒸鍍遮罩之時，在與蒸鍍製作之圖案對應之開口部之形狀或尺寸容易產生變動之點上，可以適合使用利用拉伸輔助構件50的拉伸方法。
20‧‧‧樹脂遮罩
50‧‧‧拉伸輔助構件
80‧‧‧把持手段
100‧‧‧蒸鍍遮罩

Claims (8)

  1. 一種蒸鍍遮罩之拉伸方法，係疊層形成有縫隙的金屬遮罩、和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩而成之蒸鍍遮罩之拉伸方法，其特徵在於包含：拉伸輔助構件固定工程，其係在上述蒸鍍遮罩之一方之面上重疊拉伸輔助構件，且在上述蒸鍍遮罩之一方之面和上述拉伸輔助構件重疊之部分之至少一部分，將上述拉伸輔助構件固定在上述蒸鍍遮罩；及第1拉伸工程，其係藉由拉伸被固定在上述蒸鍍遮罩之上述拉伸輔助構件，拉伸被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩。
  2. 如請求項1所載之蒸鍍遮罩之拉伸方法，其中又包含於上述第1拉伸工程之前，將上述蒸鍍遮罩拉伸至第1方向之第2拉伸工程，在上述第1拉伸工程中，藉由拉伸被固定在上述蒸鍍遮罩之上述拉伸輔助構件，將被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩，拉伸至與上述第1方向不同之第2方向。
  3. 一種附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法，其特徵在於包含：準備工程，其係準備蒸鍍遮罩，該蒸鍍遮罩係由疊層形成有縫隙的金屬遮罩，和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩而所構成；拉伸輔助構件固定工程，其係在上述蒸鍍遮罩之一方 之面上重疊拉伸輔助構件，且在上述蒸鍍遮罩之一方之面和上述拉伸輔助構件重疊之部分之至少一部分，將上述拉伸輔助構件固定在上述蒸鍍遮罩；第1拉伸工程，其係藉由拉伸被固定在上述蒸鍍遮罩之上述拉伸輔助構件，拉伸被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩；及框架固定工程，其係在形成有貫通孔之框架，固定在上述第1拉伸工程中被拉伸之狀態的上述蒸鍍遮罩。
  4. 如請求項3所記載之附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法，其中又包含於上述第1拉伸工程之前，將上述蒸鍍遮罩拉伸至第1方向之第2拉伸工程，在上述第1拉伸工程中，藉由拉伸被固定在上述蒸鍍遮罩之上述拉伸輔助構件，將被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩，拉伸至與上述第1方向不同之第2方向。
  5. 如請求項3所記載之附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法，其中上述附有框架之蒸鍍遮罩係在上述框架排列固定複數之上述蒸鍍遮罩而所構成的附有框架之蒸鍍遮罩，在該附有框架之蒸鍍遮罩之製造階段，上述複數之蒸鍍遮罩中之至少一個蒸鍍遮罩，經上述拉伸輔助構件固定工程、上述第1拉伸工程、上述框架固定工程而被固定在上述框架，在上述第1拉伸工程中，藉由拉伸被固定在上述一個 蒸鍍遮罩之上述拉伸輔助構件，將被固定在該拉伸輔助構件之一個蒸鍍遮罩，拉伸至與該一個蒸鍍遮罩相鄰之蒸鍍遮罩的方向。
  6. 如請求項5所記載之附有框架之蒸鍍遮罩之製造方法，其中又包含於進行上述第1拉伸工程之前，將上述一個蒸鍍遮罩拉伸至與上述相鄰之蒸鍍遮罩的方向不同之方向的第2拉伸工程。
  7. 一種有機半導體元件之製造方法，其特徵在於：包含使用蒸鍍遮罩被固定在框架之附有框架之蒸鍍遮罩而在蒸鍍對象物形成蒸鍍圖案之工程，在形成上述蒸鍍圖案之工程中，被固定於上述框架之上述蒸鍍遮罩係藉由下述工程而被製造出：準備工程，其係準備蒸鍍遮罩，該蒸鍍遮罩係由疊層形成有複數之縫隙的金屬遮罩，和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩而所構成；拉伸輔助構件固定工程，其係在上述蒸鍍遮罩之一方之面上重疊拉伸輔助構件，且在上述蒸鍍遮罩之一方之面和上述拉伸輔助構件重疊之部分之至少一部分，將上述拉伸輔助構件固定在上述蒸鍍遮罩；第1拉伸工程，其係藉由拉伸被固定在上述蒸鍍遮罩之上述拉伸輔助構件，拉伸被固定在該拉伸輔助構件之蒸鍍遮罩；及 框架固定工程，其係在形成有貫通孔之框架，固定在上述第1拉伸工程中被拉伸之狀態的上述蒸鍍遮罩。
  8. 一種拉伸裝置，其係用以拉伸蒸鍍遮罩，該蒸鍍遮罩係疊層形成有縫隙的金屬遮罩，和在與該縫隙重疊之位置形成有與蒸鍍製作之圖案對應之開口部的樹脂遮罩而所構成，該拉伸裝置之特徵在於：具備拉伸輔助構件和用以拉伸該拉伸輔助構件之驅動手段，上述拉伸輔助構件在與上述蒸鍍遮罩之一方之面重疊時，可在與該蒸鍍遮罩之一方之面重疊之部分之至少一部分固定。
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