CN106029939A - 蒸镀掩模的拉伸方法、带框架的蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法及拉伸装置 - Google Patents

蒸镀掩模的拉伸方法、带框架的蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法及拉伸装置 Download PDF

Info

Publication number
CN106029939A
CN106029939A CN201580010163.0A CN201580010163A CN106029939A CN 106029939 A CN106029939 A CN 106029939A CN 201580010163 A CN201580010163 A CN 201580010163A CN 106029939 A CN106029939 A CN 106029939A
Authority
CN
China
Prior art keywords
deposition mask
mask
stretching
assist element
draw assist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201580010163.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106029939B (zh
Inventor
小幡胜也
冈本英介
本间良幸
武田利彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to CN201910982133.6A priority Critical patent/CN110724904B/zh
Publication of CN106029939A publication Critical patent/CN106029939A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106029939B publication Critical patent/CN106029939B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B12/00—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
    • B05B12/16—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area
    • B05B12/20—Masking elements, i.e. elements defining uncoated areas on an object to be coated
    • B05B12/24—Masking elements, i.e. elements defining uncoated areas on an object to be coated made at least partly of flexible material, e.g. sheets of paper or fabric
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/32—Processes for applying liquids or other fluent materials using means for protecting parts of a surface not to be coated, e.g. using stencils, resists
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供能够以简单的方法将蒸镀掩模拉伸的蒸镀掩模的拉伸方法、使用该拉伸方法的带框架的蒸镀掩模的制造方法、以及能够以高精度制造有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法及用于所述方法的拉伸装置。蒸镀掩模(10)将形成有缝隙(15)的金属掩模(10)和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)层积而构成，在该蒸镀掩模(100)的拉伸方法中，在蒸镀掩模(100)的一面上重叠拉伸辅助部件(50)，在蒸镀掩模(100)的一面和拉伸辅助部件(50)重合的部分的至少一部，将拉伸辅助部件固定在蒸镀掩模上，通过拉伸被固定在蒸镀掩模(100)上的拉伸辅助部件(50)对固定于该拉伸辅助部件(50)上的蒸镀掩模进行拉伸，由此解决上述课题。

Description

蒸镀掩模的拉伸方法、带框架的蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的 制造方法及拉伸装置
技术领域
本发明涉及蒸镀掩模的拉伸方法、带框架的蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法及拉伸装置。
背景技术
随着使用有机EL元件的产品的大型化或基板尺寸的大型化，对蒸镀掩模也不断增加大型化的需求。而且，用于制造由金属构成的蒸镀掩模的金属板也大型化。但是，在现有的金属加工技术中，难以在大型的金属板高精度地形成开口部，不能够应对开口部的高精细化。另外，在形成为仅由金属构成的蒸镀掩模时，随着大型化，其质量也增大，包含框架在内的总质量也增大，故而会给操作带来阻碍。
在这样的状况下，在专利文献l中提出有如下的蒸镀掩模，该蒸镀掩模将设有缝隙的金属掩模、和位于金属掩模的表面且将与要蒸镀制作的图案对应的开口部纵横地配置多列的树脂掩模层积而构成。根据在专利文献1中提出的蒸镀掩模，即使在大型化的情况下，也能够满足高精细化和轻量化二者，另外，能够进行高精细的蒸镀图案的形成。
专利文献1：(日本)专利第5288072号公报
发明内容
本发明的主要课题在于提供能够由简便的方法拉伸上述专利文献1所述的蒸镀掩模的蒸镀掩模的拉伸方法、使用该拉伸方法的带框架的蒸镀掩模的制造方法、以及使用有蒸镀掩模的有机半导体元件的制造方法、用于上述方法的拉伸装置。
用于解决上述课题，本发明的蒸镀掩模的拉伸方法，该蒸镀掩模将形成有缝隙的金属掩模、和树脂掩模层积而形成，所述树脂掩模在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部，该蒸镀掩模的拉伸方法包含：拉伸辅助部件固定工序，在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上；第一拉伸工序，通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模进行拉伸。
另外，在上述的蒸镀掩模的拉伸方法中，也可以还包含在所述第一拉伸工序之前，将所述蒸镀掩模向第一方向拉伸的第二拉伸工序，在所述第一拉伸工序中，通过拉伸固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件，将固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模向与所述第一方向不同的第二方向拉伸。
另外，为了解决上述课题，本发明的带框架的蒸镀掩模的制造方法，包括：准备工序，准备将金属掩模和树脂掩模层积而构成的蒸镀掩模，所述金属掩模形成有缝隙，所述树脂掩模在与所述缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部；拉伸辅助部件固定工序，在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上；第一拉伸工序，通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模进行拉伸；框架固定工序，将在所述第一拉伸工序中被拉伸的状态的所述蒸镀掩模固定在形成有贯通孔的框架上。
另外，在上述的带框架的蒸镀掩模的制造方法中，也可以还包含在所述第一拉伸工序之前，将所述蒸镀掩模向第一方向拉伸的第二拉伸工序，
在所述第一拉伸工序中，通过拉伸固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件，将固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模向与所述第一方向不同的第二方向拉伸。
另外，在上述的带框架的蒸镀掩模的制造方法中，所述带框架的蒸镀掩模为在所述框架上排列固定多个所述蒸镀掩模而构成的带框架的蒸镀掩模，在该带框架的蒸镀掩模的制造阶段，所述多个蒸镀掩模中的至少一个蒸镀掩模经由所述拉伸辅助部件固定工序、所述第一拉伸工序、所述框架固定工序而被固定在所述框架，在所述第一拉伸工序中，通过对固定在所述一个蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，将固定在该拉伸辅助部件的一个蒸镀掩模向与该一个蒸镀掩模相邻的蒸镀掩模的方向拉伸。
另外，在上述的带框架的蒸镀掩模的制造方法中，也可以还包含在进行所述第一拉伸工序之前，将所述一个蒸镀掩模向与所述相邻的蒸镀掩模的方向不同的方向拉伸的第二拉伸工序。
另外，为了解决上述课题，本发明的有机半导体元件的制造方法包含使用在框架上固定有蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模而在蒸镀对象物形成蒸镀图案的工序，在形成所述蒸镀图案的工序中，固定在所述框架上的所述蒸镀掩模通过包含准备工序、拉伸辅助部件固定工序、第一拉伸工序、框架固定工序的工序而被制造，所述准备工序准备蒸镀掩模，该蒸镀掩模将形成有多个缝隙的金属掩模、和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模层积而构成，所述拉伸辅助部件固定工序在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上，所述第一拉伸工序通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模进行拉伸，所述框架固定工序将在所述第一拉伸工序中被拉伸的状态的所述蒸镀掩模固定在形成有贯通孔的框架上。
另外，为了解决上述课题，本发明的拉伸装置用于对层积金属掩模和树脂掩模而构成的蒸镀掩模进行拉伸，所述金属掩模形成有缝隙，所述树脂掩模在与所述缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部，其中，具备拉伸辅助部件、和用于拉伸该拉伸辅助部件的驱动单元，所述拉伸辅助部件在与所述蒸镀掩模的一面重合时，可在与该蒸镀掩模的一面重合的部分的至少一部分固定。
根据本发明的蒸镀掩模的拉伸方法或拉伸装置，即使在大型化的情况下也能够由简便的方法拉伸满足高精细化和轻量化二者的蒸镀掩模。另外，根据本发明的带框架的蒸镀掩模的制造方法，能够得到可在蒸镀对象物高精度地形成蒸镀图案的带框架的蒸镀掩模。另外，根据本发明的有机半导体元件的制造方法，能够成品率良好地制造质量优良的有机半导体元件。
附图说明
图l是表示在准备工序中准备的蒸镀掩模之一例的图，(a)为从金属掩模侧看到的正面图，(b)为(a)的A－A剖面图；
图2是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(A)的蒸镀掩模的正面图；
图3是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(A)的蒸镀掩模的正面图；
图4是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(A)的蒸镀掩模的正面图；
图5是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(A)的蒸镀掩模的正面图；
图6是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(B)的蒸镀掩模的正面图；
图7是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(B)的蒸镀掩模的正面图；
图8是用于说明拉伸辅助部件固定工序的图，是从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；
图9是用于说明拉伸辅助部件固定工序的图，(a)～(e)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；
图10是用于说明第一拉伸工序的图，(a)～(c)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；
图11是用于说明第一拉伸工序的图，(a)～(c)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；
图12是用于说明第一拉伸工序的图，(a)～(c)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；
图13是用于说明第一拉伸工序的图，(a)～(c)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；
图14是用于说明第一拉伸工序的图，(a)、(b)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；
图15是表示带框架的蒸镀掩模之一例的正面图；
图16是表示带框架的多面蒸镀掩模之一例的正面图；
图17(a)～(c)是表示框架之一例的正面图；
图18是表示带框架的多面蒸镀掩模的固定方法之一例的正面图；
图19(a)～(g)是表示在蒸镀掩模上固定有拉伸辅助部件的状态的概略剖面图；
图20是用于说明第一拉伸工序的图，(a)、(b)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图。
标记说明
10：金属掩模
15：缝隙
20：树脂掩模
25：开口部
50：拉伸辅助部件
50A：拉伸辅助部件主体部
50B：拉伸辅助部件延长部
55：驱动单元
60：框架
65：加强框架
100：蒸镀掩模
200：带框架的蒸镀掩模
具体实施方式
使用附图对本发明的一实施方式的带框架的蒸镀掩模的制造方法进行具体地说明。
《带框架的蒸镀掩模的制造方法》
一实施方式的带框架的蒸镀掩模的制造方法的特征在于，包含：准备工序，准备将金属掩模和树脂掩模层积而构成的蒸镀掩模，所述金属掩模形成有缝隙，所述树脂掩模在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部；拉伸辅助部件固定工序，在蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在蒸镀掩模的一面和拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将拉伸辅助部件固定在蒸镀掩模上；第一拉伸工序，通过对固定在蒸镀掩模上的拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模进行拉伸；框架固定工序，将在第一拉伸工序中被拉伸的状态的蒸镀掩模固定在形成有贯通孔的框架上。
(准备工序)
本工序如图l(a)、(b)所示地，为准备蒸镀掩模100的工序，该蒸镀掩模100将形成有多个缝隙15的金属掩模10、和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部25的树脂掩模20层积而构成。
(树脂掩模)
如图l所示，在树脂掩模20设有多个开口部25。图l(a)为从金属掩模侧看到的一实施方式的蒸镀掩模的正面图，图l(n)为图l(a)的A－A概略剖面图。
在图示的方式中，开口部25的开口形状呈矩形，对开口形状并无特别限定，开口部25的开口形状既可以为菱形、多边形，也可以为圆、椭圆等具有曲率的形状。另外，与圆或椭圆等具有曲率的开口形状相比，矩形或多边形的开口形状可取得较大的发光面积，可以说为开口部25的最佳开口形状。
树脂掩模20的材料并不特别限定，例如可通过激光加工等而形成高精细的开口部25，优选使用在热或时间经过上的尺寸变化率或吸湿率小，轻量的材料。作为这样的材料，可列举出聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、聚酰胺亚胺树脂、聚酯树脂、聚乙烯树脂、乙烯醇树脂、聚丙烯树脂、聚碳酸酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚丙烯腈树脂、醋酸乙烯共聚物树脂、乙烯－乙烯醇共聚物树脂、乙烯－甲基丙烯酸共聚物树脂、聚氯化乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、玻璃纸、离子聚合物树脂等。在上述示例的材料中，优选热膨胀为数为l6ppm/℃以下的树脂材料，优选吸湿率为1.0％以下的树脂材料，并且特别优选具备这两个条件的树脂材料。通过形成为使用该树脂材料的树脂掩模，能够提高开口部25的尺寸精度，并且能够缩小在热或时间经过引起的尺寸变化率或吸湿率。
对树脂掩模20的厚度并不特别限定，但在进一步提高阴影产生的抑制效果的情况下，优选树脂掩模20的厚度为25μm以下，更优选小于10μm。对下限值的优选范图并不特别限定，但在树脂掩模20的厚度小于3μm时，容易产生针孔等缺陷，另外变形等的风险变高。特别是，通过将树脂掩模20的厚度设为3μm以上且小于10μm，更优选为4μm以上且8μm以下，能够更有效果地防止形成超过400ppi的高精细图案时的阴影的影响。另外，树脂掩模20和后述的金属掩模10既可以直接地接合，也可以经由粘接剂层而接合，但在经由粘接剂层而将树脂掩模20和金属掩模10接合的情况下，树脂掩模20和粘接剂层的合计厚度在上述优选的厚度范图内为好。另外，阴影是指，由于从蒸镀源释放出的蒸镀材料的一部分与金属掩模的缝隙，或树脂掩模的开口部的内壁面碰撞而不到达蒸镀对象物，生成较期待的蒸镀膜厚薄的膜厚的未蒸镀部分的现象。
对开口部25的剖面形状也无特别限定，形成开口部25的树脂掩模的面对面的端面彼此可以大致平行，但如图l(b)所示，开口部25的剖面形状优选为朝向蒸镀源扩展的形状。换言之，优选具有朝向金属掩模10侧扩展的锥形面。对锥角，能够考虑树脂掩模20的厚度等而适当设定，在连结树脂掩模的开口部中的下底前端和同样在树脂掩模的开口部中的上底前端的直线、和树脂掩模底面构成的角度，换言之，在构成树脂掩模20的开口部25的内壁面的厚度方向剖面中，开口部25的内壁面和树脂掩模20的不与金属掩模10相接侧的面(在图示的方式中，为树脂掩模的下面)构成的角度优选在5°～85°的范图内，更优选在15°～75°的范图内，最好在25°～65°的范图内。特别是，在该范图内，优选为比所使用的蒸镀机的蒸镀角度小的角度。另外，在图示的方式中，形成开口部25的端面呈直线形状，但并不限定于此，也可以成为向外凸的弯曲形状、即开口部25的整体形状为碗状。
(金属掩模)
如图l(b)所示，在树脂掩模20的一面上层积有金属掩模10。金属掩模10由金属构成，配置有在纵向或横向上延伸的缝隙15。缝隙15与开口同义。对缝隙的配置例并不特别限定，既可以将在纵向及横向上延伸的缝隙在纵向及横向上配置多列，也可以将在纵向上延伸的缝隙在横向上配置多列，还可以将在横向上延伸的缝隙在纵向上配置多列。另外，也可以在纵向或横向上仅配置一列。另外，在本说明书中所称的“纵向”、“横向”是指图面的上下方向、左右方向，可以为蒸镀掩模、树脂掩模、金属掩模的长度方向、宽度方向中的任一方向。例如，可以将蒸镀掩模、树脂掩模、金属掩模的长度方向设为“纵向”，也可以将宽方向设为“纵向”。另外，在本申请说明书中，以俯视蒸镀掩模时的形状为矩形的情况为例进行说明，但可以形成为除此以外的形状，例如圆形、菱形等多边形。此时，只要将对角线的长度方向或径向或者任意方向设为“长度方向”，将与该“长度方向”正交的方向设为“宽度方向(也有称为短边方向的情况”即可。
对金属掩模10的材料并不特别限定，在蒸镀掩模的领域中，能够适当选择使用目前公知的材料，例如不锈钢、铁镍合金、铝合金等金属材料。其中，由于铁镍合金即因瓦合金材料由热产生的变形较少，故而适合使用。
对金属掩模10的厚度也并无特别限定，为了更有效果地防止阴影的产生，优选为100μm，更优选为50μm以下，最好为35μm以下。另外，在比5μm薄时，有破断或变形的风险变高且难以操作的倾向。
另外，在图l(a)所示的方式中，俯视缝隙15时的开口形状呈矩形，但对开口形状并不特别限定，缝隙15的开口形状可以为梯形、圆形等任何形状。
对在金属掩模10形成的缝隙15的剖面形状并无特别限定，但优选为如图l(b)所示地朝向蒸镀源扩展的形状。更具体地，连结金属掩模10的缝隙15中的下底前端和同样在金属掩模10的缝隙15中的上底前端的直线、和金属掩模10的底面构成的角度，换言之，在构成金属掩模10的缝隙15的内壁面的厚度方向剖面，缝隙15的内壁面和金属掩模10的不与树脂掩模20相接侧的面(在图示的方式中，为金属掩模的下面)构成的角度优选在5°～85°的范图内，更优选在15°～80°的范图内，更优选在25°～65°的范图内。特别是，在该范图内，优选为比所使用的蒸镀机的蒸镀角度小的角度。
对在树脂掩模上层积金属掩模10的方法并不特别限定，既可以使用各种粘接剂将树脂掩模20和金属掩模10贴合，也可以使用具有自粘性的树脂掩模。树脂掩模20和金属掩模10的大小既可以相同，也可以不同。另外，考虑之后任意进行的向框架的固定，优选使树脂掩模20的尺寸比金属掩模10小，若形成为金属掩模10的外周部分露出的状态，则金属掩模10和框架的焊接变得容易。
以下，对在本工序中准备的优选的蒸镀掩模的方式，列举实施方式(A)及实施方式(B)进行说明。
(实施方式(A)的蒸镀掩模)
如图2所示，实施方式(A)的蒸镀掩模100为用于同时形成多画面的蒸镀图案的蒸镀掩模，其特征在于，在树脂掩模20的一面上层积设有多个缝隙15的金属掩模10，在树脂掩模20上设有构成多画面所需的开口部25，各缝隙15设置在至少与一画面整体重合的位置。
实施方式(A)的蒸镀掩模100为用于同时形成多画面的蒸镀图案的蒸镀掩模，能够以一个蒸镀掩模100同时形成与多个产品对应的蒸镀图案。实施方式(A)的蒸镀掩模中所称的“开口部”是指使用实施方式(A)的蒸镀掩模100制作的图案，例如在将该蒸镀掩模用于有机EL显示器中的有机层的形成时，开口部25的形状成为该有机层的形状。另外，“一画面”是指由与一个产品对应的开口部25的集合体构成，在该一个产品为有机EL显示器的情况下，形成一个有机EL显示器所需的有机层的集合体、即成为有机层的开口部25的集合体成为“一画面”。而且，实施方式(A)的蒸镀掩模10为了同时形成多画面的蒸镀掩模，在树脂掩模20上隔着规定间隔而多画面地配置有所述“一画面”。即，在树脂掩模20上设有构成多画面所需的开口部25。
实施方式(A)的蒸镀掩模的特征在于，在树脂掩模的一面上设置设有多个缝隙15的金属掩模10，各缝隙分别设置在与至少一画面整体重合的位置上。换言之，其特征在于，在构成一画面所需的开口部25之间，在横向上相邻的开口部25之间不存在与缝隙15的纵向的长度相同的长度且具有与金属掩模10相同厚度的金属线部分，或在纵向上相邻的开口部25之间不存在与缝隙15的横向的长度相同的长度且具有与金属掩模10相同厚度的金属线部分。以下，统称与缝隙15的纵向的长度相同的长度且具有与金属掩模10相同厚度的金属线部分，或与缝隙15的横向的长度相同的长度且具有与金属掩模10相同厚度的金属线部分，简称为金属线部分。
根据实施方式(A)的蒸镀掩模100，在将构成一画面所需的开口部25的大小，或构成一画面的开口部25间的间距缩小的情况下，例如即使在为了形成超过400ppi的画面而使开口部25的大小或开口部25间的间距极微小时，能够防止由于金属线部分产生的干扰，可形成高精细的图像。另外，在一画面被多个缝隙分割的情况下，换言之，在构成一画面的开口部25之间存在具有与金属掩模10相同厚度的金属线部分的情况下，随着构成一画面的开口部25间的间距变窄，存在于开口部25间的金属线部分成为向蒸镀对象物形成蒸镀图案时的阻碍，难以形成高精细的蒸镀图案。换言之，在构成一画面的开口部25间存在具有与金属掩模10相同厚度的金属线部分的情况下，在带框架的蒸镀掩模时，该金属线部分会引起阴影产生而难以形成高精细的画面。
接着，参照图2～图6对构成一画面的开口部25之一例进行说明。另外，在图示的方式中，由虚线封闭的区域成为一画面。在图示的方式中，为了便于说明而将少数的开口部25的集合体设为一画面，但并不限定于该方式，例如在将一个开口部25设为一像素时，可以在一画面存在数百万像素的开口部25。
在图2所示的方式中，通过在纵向、横向上设置多个开口部25而构成的开口部25的集合体构成一画面。在图3所示的方式中，通过在横向上设置多个开口部25而构成的开口部25的集合体构成一画面。另外，在图4所示的方式中，通过在纵向上设置多个开口部25而构成的开口部25的集合体构成一画面。然后，在图2～图4中，在与一画面整体重合的位置设有缝隙15。
如上述说明地，缝隙15既可以设置在仅与一画面重合的位置，也可以如图5(a)、(b)所示地，设置在与两个以上的画面整体重合的位置。在图5(a)中，在图2所示的树脂掩模10中，在与在横向上连续的两画面整体重合的位置设有缝隙15。在图5(b)中，在与在纵向上连续的三画面整体重合的位置设有缝隙15。
接着，以图2所示的方式为例，对构成一画面的开口部25间的间距、画面间的间距进行说明。对构成一画面的开口部25间的间距、或开口部25的大小并不特别限定，能够对应于要蒸镀制作的图案而适当设定。例如，在形成400ppi的高精细的蒸镀图案的情况下，在构成一画面的开口部25邻接的开口部25的横向的间距(P1)、纵向的间距(P2)为60μm左右。另外，开口部的大小为500μm2～1000μm2左右。另外，一个开口部25并不限定于与一像素对应，例如也能够根据像素排列，将多像素汇总而形成为一个开口部25。
对画面间的横向的间距(P3)、纵向的间距(P4)也无特别限定，但如图2所示地，在将一个缝隙15设置在与一画面整体重合的位置的情况下，在各画面间存在金属线部分。因此，在各画面间的纵向的间距(P4)、横向的间距(P3)小于设置在一画面内的开口部25的纵向的间距(P2)、横向的间距(P1)的情况下，或是大致同等的情况下，存在各画面间的金属总部分容易断线。因此，考虑到该方面，优选画面间的间距(P3、P4)比构成一画面的开口部25间的间距(P1、P2)宽。作为画面间的间距(P3、P4)的一例，为lmm～100mm左右。另外，画面间的间距是指在一画面和与该一画面邻接的其它画面，邻接的开口部间的间距。对于后述的实施方式(B)的蒸镀掩模中的开口部25的间距、画面间的间距也相同。
另外，如图5所示，在一个缝隙15设置在与两个以上的画面整体重合的位置的情况下，在设置在一个缝隙15内的多个画面间不存在构成缝隙的内壁面的金属线部分。因此，该情况下，设置在与一个缝隙15重合的位置的两个以上的画面间的间距可以与构成一画面的开口部25间的间距大致相同。
另外，可以在树脂掩模20形成在树脂掩模20的纵向或横向上延伸的槽(未图示)。在蒸镀时施加热时，树脂掩模20有可能热膨胀而使得开口部25的尺寸或位置发生变化，但通过形成槽能够吸收树脂掩模的膨胀，并且能够防止由于在树脂掩模的各处产生的热膨胀累积而使树脂掩模20整体向规定方向膨胀而发生开口部25的尺寸或位置变化的情况。对槽的形成位置并无限定，可以设置在构成一画面的开口部25间，或与开口部25重合的位置，优选设置在画面间。另外，槽既可以设置在树脂掩模的一面，例如仅设置在与金属掩模相接侧的面，也可以仅设置在不与金属掩模相接侧的面。或者，也可以设置在树脂掩模20的两面。
另外，既可以形成为在邻接的画面间在纵向上延伸的槽，也可以在邻接的画面间形成在横向上延伸的槽。另外，也能够将其组合而形成槽。
对槽的深度及其宽度并无特别限定，但在槽的深度过深或宽度过宽的情况下，由于有树脂掩模20的刚性下降的倾向，故而需要考虑该方面而设定。另外，对槽的剖面形状也无特别限定，只要考虑U形或V形等加工方法等而任意选择即可。对实施方式(B)的蒸镀掩模也相同。
(实施方式(B)的蒸镀掩模)
接着，对实施方式(B)的蒸镀掩模进行说明。如图6所示，实施方式(B)的蒸镀掩模的特征在于，在设有多个与要蒸镀制作的图案对应的开口部25的树脂掩模20的一面上层积设有一个缝隙(一个孔16)的金属掩模10而构成，该多个开口部25全部设置在与设于金属掩模10的一个孔重合的位置。
在实施方式(B)的蒸镀掩模中所称的开口部25是指，为了在蒸镀对象物形成蒸镀图案所需的开口部，不需要为了在蒸镀对象物形成蒸镀图案的开口部也可以设置在不与一个孔16重合的位置。另外，图6是从金属掩模侧看到的实施方式(B)的蒸镀掩模之一例的蒸镀掩模的正面图。
实施方式(B)的蒸镀掩模100在具有多个开口部25的树脂掩模20上设有具有一个孔16的金属掩模10，并且，多个开口部25全部设置在与该一个孔16重合的位置上。在具有该构成的实施方式(B)的蒸镀掩模100中，由于在开口部25之间不存在与金属掩模的厚度相同的厚度，或者比金属掩模的厚度厚的金属线部分，故而如上述实施方式(A)的蒸镀掩模说明地，不受金属线部分的干扰，可按照设于树脂掩模20的开口部25的尺寸形成高精细的蒸镀图案。
另外，根据实施方式(B)的蒸镀掩模，即使在将金属掩模10的厚度增厚的情况下，也几乎不受到阴影的影响，故而能够将金属掩模10的厚度增厚到充分满足耐久性或操作性，并且可边形成高精细的蒸镀图案边提高耐久性或操作性。
(树脂掩模)
实施方式(B)的蒸镀掩模中的树脂掩模20由树脂构成，如图6所示，在与一个孔16重合的位置上设有多个与要蒸镀制作的图案对应的开口部25。开口部25与要蒸镀制作的图案对应，从蒸镀源释放出的蒸镀材料通过开口部25而在蒸镀对象物上形成与开口部25对应的蒸镀图案。另外，在图示的方式中，以纵横地配置有多列开口部为例进行了说明，但也可以仅在纵向或横向上配置。
实施方式(B)的蒸镀掩模100中的“一画面”是指与一个产品对应的开口部25的集合体，在该一个产品为有机EL显示器的情况下，形成一个有机EL显示器所需的有机层的集合体、即成为有机层的开口部25的集合体成为“一画面”。实施方式(B)的蒸镀掩模既可以仅由“一画面”构成，也可以将该“一画面”以多画面配置，但在“一画面”以多画面配置的情况下，优选每画面单位隔着规定间隔而设有开口部25(参照实施方式(A)的蒸镀掩模的图5)。对“一画面”的方式并无特别限定，例如在将一个开口部25设为一像素时，也能够通过数百万个开口部25构成一画面。
(金属掩模)
实施方式(B)的蒸镀掩模100中的金属掩模10由金属构成，具有一个孔16。而且，在本发明中，该一个孔16在从金属掩模10的正面观察时，配置在与全部的开口部25重合的位置，换言之，配置在可看到在树脂掩模20配置的全部的开口部25的位置上。
构成金属掩模10的金属部分，即一个孔16以外的部分既可以如图6所示地沿着蒸镀掩模100的外缘设置，也可以如图7所示地使金属掩模10的尺寸小于树脂掩模20且使树脂掩模20的外周部分露出。另外，也可以使金属掩模10的尺寸大于树脂掩模20而使金属部分的一部分向树脂掩模的横向外方或纵向外方突出。另外，即使在任一情况下，一个孔16的尺寸皆小于树脂掩模20的尺寸而构成。
对图6所示的构成金属掩模10的一个孔16的壁面的金属部分的横向的宽度(W1)、纵向的宽度(W2)并不特别限定，但随着W1、W2的宽度变窄，具有耐久性或操作性下降的倾向。因此，W1、W2优选形成为能够充分满足耐久性、操作性的宽度。能够根据金属掩模10的厚度而适当设定合适的宽度，但作为优选宽度之一例，与实施方式(A)的蒸镀掩模中的金属掩模同样，W1、W2也都为1mm～100mm左右。
以下，对在本工序中准备的一实施方式的蒸镀掩模的制造方法举出一例进行说明。一实施方式的蒸镀掩模100能够如下地得到，即，准备在树脂板的一面上层积有设有缝隙15的金属掩模10的带树脂板的金属掩模，接着，对带树脂板的金属掩模，从金属掩模10侧通过缝隙15照射激光而在树脂板上形成与要蒸镀制作的图案对应的开口部25。
作为带树脂板的金属掩模的形成方法，在树脂板的一面上层积设有缝隙15的金属掩模10。树脂板能够使用在所述树脂掩模20中说明的材料。
作为设有缝隙15的金属掩模10的形成方法，通过在金属板的表面涂敷遮蔽部件，例如抗蚀材料，且使规定部位露出并显影，最终形成将形成有缝隙15的位置残留的抗蚀图案。作为遮蔽部件使用的抗蚀材料，优选处理性良好且具有所希望的解像性的材料。接着，将该抗蚀图案用作耐蚀刻掩模而通过蚀刻方法进行蚀刻加工。在蚀刻结束后，将抗蚀图案洗净除去。由此，可得到设有缝隙15的金属掩模10。用于形成缝隙15的蚀刻既可以从金属板的一面侧进行，也可以从两面进行。另外，使用在金属板设有树脂板的层积体而在金属板上形成缝隙15的情况下，在金属板的不与树脂板相接侧的表面涂敷遮蔽部件，通过自一面侧的蚀刻而形成缝隙15。另外，在树脂板对金属板的蚀刻材料具有耐蚀刻性的情况下，无需遮蔽树脂板的表面，但在树脂板对金属板的蚀刻材料不具有耐性的情况下，需要在树脂板的表面涂敷遮蔽部件。另外，在上述中，作为遮蔽部件以抗蚀材料为中心进行了说明，但也可以将干膜抗蚀剂层叠来取代涂敷抗蚀材料，进行同样的构图。
在上述方法中，构成带树脂板的金属掩模的树脂板不仅为板状的树脂，也可以为通过涂敷而形成的树脂层或树脂膜。即，树脂板既可以预先准备，也可以在金属板上通过目前公知的涂敷法等形成最终成为树脂掩模的树脂层或树脂膜。
开口部25能够对上述准备的带树脂板的金属掩模，使用激光加工法、精密冲压加工、光刻加工等形成。通过形成开口部，得到在设有与要蒸镀制作的图案对应的开口部25的树脂掩模20的一面上层积设有缝隙15的金属掩模10而构成的一实施方式的蒸镀掩模100。另外，从能够容易地形成高精细的开口部25来看，开口部25的形成使用激光加工法为好。
(拉伸辅助部件固定工序)
拉伸辅助部件固定工序如图8(a)～(c)所示，在蒸镀掩模100的一面(在图示的方式中为树脂掩模20的面)上重合拉伸辅助部件50，在蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50重合的部分的至少一部分(图中的标记X)，将拉伸辅助部件50固定在蒸镀掩模100上。图8为表示将蒸镀掩模的一面和拉伸辅助部件50固定的状态的正面图，在图示的方式中，在蒸镀掩模100的树脂掩模20的表面和拉伸辅助部件50重合的部分的整体，或重合的部分的一部分，将该树脂掩模20和拉伸辅助部件50固定。换言之，俯视观察蒸镀掩模100时，即，在蒸镀掩模100的厚度方向上以与该蒸镀掩模的一面重合的方式配置拉伸辅助部件50，在该重合的部分整体或重合部分的一部分，将蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50固定。另外，在图8中，省略设置在树脂掩模20的开口部的记载，记载由多个开口部构成的一画面。关于“一画面”，如上述实施方式(A)的蒸镀掩模及实施方式(B)的蒸镀掩模中说明地那样。
在本工序中，在蒸镀掩模100的一面重合拉伸辅助部件5a，在蒸镀掩模的一面和拉伸辅助部件50重合的部分的至少一部分，将蒸镀掩模100和拉伸辅助部件50固定。即，若为满足能够与蒸镀掩模的面重合的条件的位置，在任何位置都能够将拉伸辅助部件50固定。因此，与目前公知的把持单元，例如以夹着蒸镀掩模的端部进行固定的夹具不同，对将拉伸辅助部件固定的位置并不作限定，能够在任意的位置固定在蒸镀掩模100上。另外，把持蒸镀掩模的端部等进行固定的夹具等从本说明书中所称的拉伸辅助部件50中排除。
另外，在各图所示的方式中，虽然在蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50重合的部分的至少一部分(图中的标记X)中，将拉伸辅助部件50固定在蒸镀掩模100上，但也可以在蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50重合的全部部分将蒸镀掩模100和拉伸辅助部件50固定。
拉伸辅助部件既可以如图所示地固定在树脂掩模20上，也可以固定在金属掩模10上。另外，最终得到的带框架的蒸镀掩模通常以该蒸镀掩模100的金属避罩10和框架相对的方式进行固定。因此，考虑该方面，拉伸辅助部件50优选在与树脂掩模20倒的面重合的至少一部分被固定。另外，在将蒸镀掩模固定在框架上之后，若能够从蒸镀掩模的表面卸下拉伸辅助部件50，则也可以在与金属掩模10侧的面重合的至少一部分被固定。
拉伸辅助部件50只要通过任意的单元在与蒸镀掩模100的一面重合的部分的至少一部分固定在蒸镀掩模100的一面上即可，对其材料并不作任何限定。例如，拉伸辅助部件50既可以由树脂材料、金属材料构成，也可以由除此之外的材料，例如玻璃材料、陶瓷材料、纸材料等构成。
对拉伸辅助部件50的形状并无限定，只要为通过任意的单元能够将蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件的表面固定的形状即可。即，拉伸辅助部件50可以为任何形状。作为一例的拉伸辅助部件50呈薄片状、圆柱状、棱柱状等。另外，在各图所示的方式中，使用薄片状的拉伸辅助部件作为拉伸辅助部件50，进行蒸镀掩模100的拉伸，但并不限定于此方式。另外，对拉伸辅助部件50的大小、厚度也不作任何限定。例如，在使用薄片状的拉伸辅助部件50的情况下，对其厚度等也不作任何限定。拉伸辅助部件50的表面和蒸镀掩模直接或间接地接合，但对接合的方式不作特别限定，拉伸辅助部件50的表面和蒸镀掩模既可以直接或间接地以面相接，也可以以线或点相接。例如，在使用薄片状的拉伸辅助部件的情况下，该拉伸辅助部件50和蒸镀掩模100的一面以直接或间接地以面相接。另外，在使用圆柱状的拉伸辅助部件的情况下，该拉伸辅助部件50的圆周面和蒸镀掩模的一面直接或间接地以线相接。
作为一例的拉伸辅助部件50与驱动单元连结，通过使驱动单元动作而对拉伸辅助部件50进行拉伸，进行被固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模100的拉伸。对驱动单元，能够适当选择目前公知的单元，例如电动机、气缸、电动促动器等。另外，不使用驱动单元，也能够拉伸被固定在拉伸辅助部件50的蒸镀掩模100。例如，通过用手对拉伸辅助部件50进行拉伸，也能够对固定在拉伸辅助部件50的蒸镀掩模进行拉伸。该情况下，拉伸辅助部件50也可以不与驱动单元连结。
蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50既可以在(i)直接地接合的状态下固定，也可以在(ii)间接地接合的状态下固定。
作为蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50在(i)直接地接合的状态下固定的方式，作为拉伸辅助部件50，能够列举使用具有磁性的材料的方式、使用具有自粘性的材料的方式、使用具有自吸附性及再剥离性的材料的方式、使用静电吸附等来固定蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50的方式。例如，在使用具有磁性的材料作为拉伸辅助部件50的情况下，能够利用构成蒸镀掩模100的金属掩模，在拉伸辅助部件50和金属掩模10重合的位置，使用磁力吸引蒸镀掩模100和拉伸辅助部件50并固定。另外，在使用具有自吸附性及再剥离性的材料作为拉伸辅助部件50的情况下，能够利用其自吸附性在拉伸辅助部件50和蒸镀掩模的表面重合的位置将拉伸辅助部件50固定。通过具有自吸附性及再剥离性的材料，在厚度方向上不与金属掩模10重合的位置也能够在蒸镀掩模100的表面将拉伸辅助部件50固定。
其中，具有磁性的材料、或具有自吸附性及再剥离性的材料可以说为在可反复使用方面上优选的材料。拉伸辅助部件的自吸附性是指，在与蒸镀掩模相接时能够一边排除空气一边紧密贴合的性质。拉伸辅助部件的再剥离性是指，通过将固定在蒸镀掩模的拉伸辅助部件的一端抬起，剥离向周边扩展且能够拆下拉伸辅助部件整体的性质。作为具有上述自吸附性及剥离性的材料，能够列举出硅树脂类、聚烯烃树脂类、聚氨酯类的热可塑性弹性体类等自粘性树脂、橡胶类、聚氯乙烯树脂类。作为具有自吸附性及再剥离性的材料，也能够使用例如住友化学(株式会社)的产品名SumironS、PANAC(株式会社)的产品名烯烃聚合物凝胶片材、FUJICOPIAN(株式会社)的产品名FIXFILM等市场销售品。也能够组合具有磁性的材料、具有自吸附性及再剥离性的材料而使用。拉伸辅助部件50既可以由单一部件构成，也能够将多个部件组合而构成。另外，对组合多个部件而构成拉伸辅助部件的情形中的组合的方法并不作限定，既可以为不管方向而排列多个部件构成的拉伸辅助部件50，也可以为重合多个部件而构成的拉伸辅助部件50。例如，在形成为在具有自吸附性的材料上组合具有磁性的材料的拉伸辅助部件50的情况下，能够边发挥具有磁性的材料的特性而暂时固定金属掩模和后述的加强框架65，边拉伸蒸镀掩模100。另外，在使用多个拉伸辅助部件50的情况下，构成各个拉伸辅助部件的部件或材料既可以相同，也可以不同。
作为蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50在(ii)间接地接合的状态下固定的方式，能够列举使用特定的部件将蒸镀掩模100和拉伸辅助部件50间接地固定的方式。作为特定的部件，能够列举例如粘接剂或粘接片或者作为所述拉伸辅助部件50的材料示例的具有磁性的材料或具有自吸附性及再剥离性的材料。特定部件既可以为用于间接地连结蒸镀掩模和拉伸辅助部件50的部件，即，不构成拉伸辅助部件50的部件，也可以用作后述的拉伸辅助部件主体部50A(参照图19(a)～(d)、(f)的拉伸辅助部件主体部50A)。在后者的情况下，特定部件构成拉伸辅助部件主体部50A，在此说明的拉伸辅助部件50构成拉伸辅助部件延长部50B。特定的部件优选由对拉伸辅助部件50进行拉伸时的伸长率小的材料构成。更具体地，间接地连结蒸镀掩模和拉伸辅助部件50的特定部件的材料，优选为伸长率比构成蒸镀掩模100的树脂掩模10的材料小的材料。通过这样的部件将蒸镀掩模和拉伸辅助部件50间接地固定，从而在对拉伸辅助部件进行拉伸时，能够抑制特定部件延伸，能够精度更佳地拉伸蒸镀掩模。另外，在特定部件的材料的伸长率与构成树脂掩模10的材料相同，或伸长率比构成树脂掩模10的材料大的情况下，与作为特定部件的材料使用了伸长率较小的材料的情况相比，虽然拉伸蒸镀掩模时的精度有变低的倾向，但在对拉伸辅助部件50进行拉伸时，能够使特定部件伸缩等，增大特定部件的伸缩的自由度。在间接地连结蒸镀掩模和拉伸辅助部件50的特定部件的伸缩的自由度的情况下，在通过拉伸辅助部件50拉伸蒸镀掩模的状态下，能够通过特定部件吸收在将该蒸镀掩模固定在框架上时等产生的外力。即，能够通过特定部件抑制由于外力在蒸镀掩模产生变形等或在蒸镀掩模产生位置偏移等。另外，在此所称的伸长率是指以JIS K 7127(1999)为基准的拉伸伸长率。
另外，在(ii)的方式中，能够隔着特定部件的厚度量、从蒸镀掩模100的表面到拉伸辅助部件50的表面的距离，能够在蒸镀掩模100和拉伸辅助部件50间接地相接的固定部位以外的部位抑制拉伸辅助部件50与蒸镀掩模100的表面直接相接的情况。例如，在蒸镀掩模的一面的中央附近，以上述(i)的固定方式将拉伸辅助部件50和蒸镀掩模100固定的情况下，拉伸该拉伸辅助部件50时，在拉伸辅助部件50和蒸镀掩模被固定的区域以外的区域、即在中央部附近以外的区域，蒸镀掩模的表面和拉伸辅助部件50也相接，由于拉伸辅助部件50的材质等不同，有使蒸镀掩模的表面受损的情况。具体地，在固定于拉伸辅助部件50的蒸镀掩模的面为树脂掩模20侧的面，由比树脂掩模的材料硬的金属材料等构成的拉伸辅助部件50在固定部位以外的区域与树脂掩模的表面相接的情况下，对拉伸辅助部件50进行拉伸时，有该拉伸辅助部件50使固定部位以外的树脂掩模表面损伤的情况。
同样，在多个蒸镀掩模在宽度方向上排列多个而配置的情况下，通过对直接地固定于多个蒸镀掩模中的一个蒸镀掩模的一面的拉伸辅助部件50进行拉伸，在将固定于该拉伸辅助部件的一个蒸镀掩模向该蒸镀掩模的宽度方向拉伸时，拉伸辅助部件50也与一个蒸镀掩模在宽度方向上邻接的其它蒸镀掩模的一面的表面相接。由于拉伸辅助部件50的材质等不同，被固定于一个蒸镀掩模的拉伸辅助部件50与其它蒸镀掩模的表面相接的情况下，会有损伤其它蒸镀掩模的表面的情况。因此，在以上述(i)的固定方式进行固定的情况下，优选使用不损伤蒸镀掩模的表面的材料，例如使用由树脂等材料构成的拉伸辅助部件50。在使用由树脂等材料构成的拉伸辅助部件50的情况下，即使被固定于一个蒸镀掩模的拉伸辅助部件50与其它蒸镀掩模的表面相接，也不产生特别的问题。
另外，作为拉伸辅助部件50，在使用由树脂等材料构成的拉伸辅助部件50的情况下，对该拉伸辅助部件50赋予滑性，即使被固定在一个蒸镀掩模的拉伸辅助部件50与其它蒸镀掩模的表面相接的情况下，也不损伤其它蒸镀掩模的表面，能够容易地拉伸被固定在一个蒸镀掩模的一面上的拉伸辅助部件50。作为优选方式的一例，使用以上述(ii)的固定方式将拉伸辅助部件50固定在蒸镀掩模100上，作为拉伸辅助部件50，使用伸长率小的材料，例如由金属材料构成的拉伸辅助部件50。根据该方式，拉伸辅助部件50能够抑制与蒸镀掩模100的表面相接的情况，并且抑制在对拉伸辅助部件50进行拉伸时，拉伸辅助部件50自身伸长的情况，能够精度更佳地拉伸被固定于拉伸辅助部件的蒸镀掩模。另外，即使在形成为(i)的固定方式的情况下，如后述地，通过将拉伸辅助部件50弯折(参照图19(e)、(g))，也能够抑制拉伸辅助部件50与蒸镀掩模100的表面相接的情况。
以上，以(i)的固定方式或(ii)的固定方式为例列举，对拉伸辅助部件50的优选实施方式进行了说明，通过由拉伸辅助部件主体部50A和拉伸辅助部件延长部50B构成拉伸辅助部件50，也能够抑制在对拉伸辅助部件50进行拉伸时产生的各种问题。
拉伸辅助部件主体部50A为与蒸镀掩模100的表面相接，在该拉伸辅助部件主体部50A和蒸镀掩模100的表面重合的至少一部分被固定在蒸镀掩模100的拉伸辅助部件，拉伸辅助部件延长部50B为与拉伸辅助部件主体部50A连结，不被固定于蒸镀掩模100的表面的拉伸辅助部件。
作为一例的拉伸辅助部件50由拉伸辅助部件延长部50B不易损伤蒸镀掩模的表面的材料，例如树脂等材料构成。图19(a)、(f)为表示在拉伸辅助部件主体部50A和蒸镀掩模100的表面重合的至少一部分，将由拉伸辅助部件主体部50A和拉伸辅助部件延长部50B构成的拉伸辅助部件50、和一个蒸镀掩模100固定的状态的一例的概略剖面图。在图19(a)、(f)所示的方式中，在一个蒸镀掩模100的宽度方向上设有与该一个蒸镀掩模100相邻的其它蒸镀掩模100A，拉伸辅助部件延长部50B与其它蒸镀掩模100A的表面相接。在图示的方式中，拉伸辅助部件延长部50B与驱动单元55连接，通过使驱动单元55动作，对固定于拉伸辅助部件50的一个蒸镀掩模100进行拉伸。在形成为图19(a)、(f)所示的方式的情况下，作为拉伸辅助部件延长部50B，优选形成为由不易损伤蒸镀掩模的表面的材料构成的拉伸辅助部件延长部50B。通过使用这样的拉伸辅助部件延长部50B，在对拉伸辅助部件50进行拉伸时，在该拉伸辅助部件延长部50B和其它蒸镀掩模100A的表面相接的情况下，也能够抑制其它蒸镀掩模100A的表面受损。
图19(b)～(d)是表示在拉伸辅助部件主体部50A和蒸镀掩模100的表面重合的至少一部分，将由拉伸辅助部件主体部50A和拉伸辅助部件延长部50B构成的拉伸辅助部件50、和一个蒸镀掩模100固定的状态之一例的概略剖面图。与图19(a)、(f)同样地，在一个蒸镀掩模100的宽度方向上设有与该一个蒸镀掩模100邻接的其他的蒸镀掩模100A。在图19(b)所示的方式中，与一个蒸镀掩模100邻接的其它蒸镀掩模100A的表面和拉伸辅助部件延长部50B不相接。另外，在图19(c)、(d)所示的方式中，由拉伸辅助部件主体部50A和拉伸辅助部件延长部50B构成的拉伸辅助部件50整体的截面形状呈阶梯状，与一个蒸镀掩模100邻接的其它蒸镀掩模100A的表面和拉伸辅助部件延长部50B不相接。因此，根据图19(b)～(d)所示的方式，不管拉伸辅助部件延长部50B的材料如何，都能够抑制其它蒸镀掩模100A的表面的损伤。在形成为其它蒸镀掩模100A的表面和拉伸辅助部件延长部50B不相接的方式的情况下，作为拉伸辅助部件延长部50B，优选使用伸长率小的材料，例如金属材料等。通过形成为由金属材料等构成的拉伸辅助部件延长部50B，能够抑制对拉伸辅助部件50进行拉伸时的拉伸辅助部件50自身的伸长，并且能够精度更高地拉伸蒸镀掩模。
在图19(f)所示的方式中，将拉伸辅助部件延长部50B的剖面形状设为阶梯状，缩小拉伸辅助部件延长部50B和邻接的其它蒸镀掩模100A的表面相接的面积。根据该方式，不管拉伸辅助部件延长部50B的材料如何，都能够抑制其它蒸镀掩模100A的表面的损伤。另外，通过拉伸辅助部件50和其它蒸镀掩模100A的相接，也能够抑制其它蒸镀掩模100A的位置变动。
作为形成为图19(c)、(d)、(f)的方式时的拉伸辅助部件延长部50B的材料，能够使用可弯折，可维持该弯折的形状的材料，例如金属薄板等。作为具体例，能够举出板簧或支架等。
在图19(a)～(d)、(f)中，将拉伸辅助部件主体部50A和拉伸辅助部件延长部50B的厚度设为大致相同的厚度，但也可以为不同的厚度。另外，拉伸辅助部件主体部50A的宽度既可以大于拉伸辅助部件延长部50B的宽度，也可以小于拉伸辅助部件延长部50B的宽度，还可以与拉伸辅助部件延长部50B的宽度相同(在图示的方式中为相同宽度)。另外，拉伸辅助部件主体部50A和拉伸辅助部件延长部50B的形状也可以为不同的形状。例如，在图19(a)所示的方式中，通过将拉伸辅助部件主体部50A形成为薄片状，将拉伸辅助部件延长部50B形成为圆柱状，从而能够边增大一个蒸镀掩模和拉伸辅助部件主体部50A相接的面积而提高固定强度，边缩小与一个蒸镀掩模100邻接的其它蒸镀掩模100A和拉伸辅助部件延长部50B相接的面积，并且能够缩小拉伸辅助部件50对与一个蒸镀掩模100邻接的其它蒸镀掩模100A的影响。拉伸辅助部件主体部50A和蒸镀掩模100既可以直接地固定，也可以间接地固定。
另外，如图19(e)、(g)所示，以剖面形状成为阶梯状的方式将拉伸辅助部件50弯折，也能够使与一个蒸镀掩模100邻接的其它蒸镀掩模100A的表面和拉伸辅助部件50不相接，或缩小相接的面积。图19(e)、(g)所示的拉伸辅助部件50为将一个拉伸辅助部件弯折的方式。
在图19中，对将多个蒸镀掩模在该蒸镀掩模的宽度方向上配置多个时的一个蒸镀掩模100和与该一个蒸镀掩模100邻接的其它蒸镀掩模100A以及拉伸辅助部件50的关系进行了说明，但在一个蒸镀掩模的中央部附近，在与该一个蒸镀掩模的表面相接的部分的至少一部分固定拉伸辅助部件50的情况下，也能够适当选择使用在图19中说明的各种方式。使用图19说明的方式为从拉伸辅助部件50和蒸镀掩模100固定的位置到驱动单元55的距离长，即，拉伸辅助部件50和蒸镀掩模的表面相接的面积变大时的有效方式。另外，从拉伸辅助部件50和蒸镀掩模100固定的位置到驱动单元55的距离短，即，蒸镀掩模的表面和拉伸辅助部件相接的面积小的情况下，不适用以上说明的优选方式，只要将拉伸辅助部件50和蒸镀掩模100在该拉伸辅助部件和蒸镀掩模的一面重合的部分的至少一部分固定而拉伸该辅助部件50即可。
对蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50的固定位置并未作任何限定，能够在任意位置进行固定。特别是，本发明与把持蒸镀掩模的端部的把持单元不同，能够在拉伸辅助部件和蒸镀掩模重合的任意位置进行固定，即使在蒸镀掩模表面的任一位置，也能够将蒸镀掩模100和拉伸辅助部件50固定。另外，通过适当设定拉伸辅助部件的材料或粘接剂等的涂敷面积等，也能够自由地设定拉伸辅助部件50和蒸镀掩模被固定的部分的面积等。对固定位置，在后述的第一拉伸工序中列举具体例子详细说明。
另外，在后述的框架固定工序中，蒸镀掩模在拉伸的状态下被固定在框架60上，故而拉伸辅助部件50和蒸镀掩模的一面的固定在不妨碍蒸镀掩模向框架的固定的位置进行为好。作为在不妨碍框架和蒸镀掩模的固定的位置进行固定的方式，能够举出避开蒸镀掩模和框架固定的预定位置，在蒸镀掩模的一面上固定拉伸辅助部件50的方式，使用不吸收激光的拉伸辅助部件50的方式。
作为前者的方式，能够举出图9(a)～(e)所示的方式等。在图9(a)、(b)中，在与框架的固定预定位置的外侧，将蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50固定，在图9(c)～(e)中，将对应于与框架的固定预定位置的拉伸辅助部件50的一部分去除。拉伸辅助部件50的去除既可以如图9(c)、(d)所示地对拉伸辅助部件50切口而进行，也可以如图9(e)所示地将拉伸辅助部件挖空而进行。用于将拉伸辅助部件50的一部分除去的切口形状，或挖空形状并不限于图示的方式，可以为任意的形状。例如，在图9(e)中，虽然将拉伸辅助部件挖空成圆状，但也可以以多边形或除此之外的形状挖空。对切口形状也同样。另外，虽未作图示，在利用多个拉伸辅助部件50进行拉伸的情况下，也能够采取避开与框架的固定预定位置而在蒸镀掩模的一面上固定拉伸辅助部件50的方式。
一般而言，框架与蒸镀掩模的固定使用采用激光的焊接固定法。因此，即使如后者的方式那样，通过使用由透明性材料形成的拉伸辅助部件50，即，不吸收激光的拉伸辅助部件50，在与蒸镀掩模和框架被固定的预定位置重合的部分设有拉伸辅助部件的情况下，也能够经由该拉伸辅助部件50而照射激光，固定蒸镀掩模和框架。另外，在该方式中，由于使用由透明性材料形成的拉伸辅助部件50，故而不妨碍蒸镀掩模和框架被固定的预定位置的辨识性，能够一边观察与框架的固定预定位置一边将蒸镀掩模和框架固定，在该方面为优选的方式。
对蒸镀掩模100和拉伸辅助部件50的固定强度并不作特别限定，在后述的第一拉伸工序中，只要根据对拉伸辅助部件50进行拉伸时的张力等而适当设定即可。具体地，只要通过对拉伸辅助部件50进行拉伸时的张力，以拉伸辅助部件50不从蒸镀掩模100脱离的程度的强度被固定即可。
(第一拉伸工序)
第一拉伸工序为在上述拉伸辅助部件固定工序中，通过对在与蒸镀掩模100的表面重合的部分的至少一部分被固定的拉伸辅助部件50进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件50上的蒸镀掩模100进行拉伸的工序。关于对拉伸辅助部件50进行拉伸的方向并无限定，可以向蒸镀掩模100的长度方向(例如图1中所示的横向)、宽度方向(例如图1中所示的纵向)或者除此之外的方向，例如倾斜方向等的任一方向拉伸。特别是，在本发明中，能够在该蒸镀掩模的一面的任意位置将拉伸辅助部件50和蒸镀掩模固定，相对于在使用目前的把持蒸镀掩模的端部的夹具等的拉伸单元中较难的蒸镀掩模的长度方向、宽度方向以外的方向，也能够容易地拉伸。另外，本申请说明书中所称的“拉伸蒸镀掩模”是指拉伸被固定在蒸镀掩模上的拉伸辅助部件50，在使固定于该拉伸辅助部件50的蒸镀掩模100伸长的方向上施加外力(张力)。换言之，“拉伸蒸镀掩模”是指，利用拉伸辅助部件50而对使固定于该拉伸辅助部件50的蒸镀掩模100伸长的方向施加外力(张力)。在此所称的使蒸镀掩模伸长的方向不仅是使设置在蒸镀掩模的树脂掩模上的开口部25伸长的方向，也包含使设置在蒸镀掩模的树脂掩模的开口部25收小的方向。例如，在图8(a)、(b)所示的方式中，通过将各自的拉伸辅助部件50向蒸镀掩模100的外侧拉伸，设置在蒸镀掩模100的树脂掩模的一画面内的开口部(未图示)分别在宽度方向上伸长。另外，在图8(c)所示的方式中，通过将各自的拉伸辅助部件50向蒸镀掩模的外侧拉伸，设置在蒸镀掩模100的树脂掩模的一画面内的开口部(未图示)在宽度方向上缩收。另外，如前所述，由于不仅能够在伸长方向上调整，在缩收方向上也能够调整，故而在保持被拉伸的状态的蒸镀掩模整体或一画面或者开口部的尺寸的状态下也能够进行位置调整。另外，对拉伸辅助部件50进行拉伸，使开口部25的尺寸自身几乎不变化，也能够进行开口部25的位置调整，消除在树脂掩模20产生的变形或挠曲等。
若能够进行蒸镀掩模的对位，则蒸镀掩模100的面和对拉伸辅助部件进行拉伸的方向的轴构成的角度不作特别指定，但在优选方式的第一拉伸工序中，以蒸镀掩模100的面和对拉伸辅助部件进行拉伸的方向的轴构成的角度为0°±89°，优选为0°±45°，更好为0°±10°的范图内的方式对固定在蒸镀掩模的拉伸辅助部件50进行拉伸。根据该方式，能够抑制在对拉伸辅助部件50进行拉伸时，在固定于拉伸辅助部件50的蒸镀掩模100发生变形、挠曲等的情况。即，能够抑制在第一拉伸工序后的蒸镀掩模产生变形或挠曲等的情况。另外，在此所称的蒸镀掩模的面是指俯视观察蒸镀掩模100时，与和拉伸辅助部件50重合的区域对应的蒸镀掩模的面。
另外，如图8(b)等所示，在蒸镀掩模100的面上固定多个拉伸辅助部件50，且对多个拉伸辅助部件50分别进行拉伸的情况下，蒸镀掩模100的面和对拉伸辅助部件进行拉伸的方向的轴构成的角度在0°±89°，优选为0°±45°，更好为0°±10°的范围内，且相对于基准角度在±10°，优选为±5°的范围内对各自的拉伸辅助部件50进行拉伸为好。另外，在此所称的基准角度为任意的角度，例如将基准角度设为30°时，以对拉伸辅助部件50进行拉伸的方向的轴和蒸镀掩模的面构成的角度成为30°±10°，特别是30°±5°的方式对各自的拉伸辅助部件50进行拉伸为好。这样，以将各自的拉伸辅助部件50相对于基准角度为±10°，优选为±5°的方式以上述优选范围内的角度进行拉伸，从而能够在抑制了蒸镀掩模50的变形或挠曲等的发生的状态下拉伸蒸镀掩模100。另外，在不考虑对拉伸辅助部件50进行拉伸时的角度，以随机的角度对多个拉伸辅助部件50分别进行拉伸时，具有在被拉伸的状态的蒸镀掩模容易产生变形或挠曲等的倾向。另外，在进行第一拉伸工序前的阶段，于被固定于拉伸辅助部件50的蒸镀掩模产生变形或挠曲等的情况下，考虑该些变形或挠曲而将拉伸各个拉伸辅助部件50拉伸的角度调整成上述优选的范围为好。
接着，举出具体的例子，边叙述蒸镀掩模100和拉伸辅助部件50的固定位置，边对第一拉伸工序进行说明。
图10是表示一实施方式的第一拉伸工序的正面图，在图10(a)中，在蒸镀掩模的一面上，在该蒸镀掩模的相对的两边(图示的方式中为宽度方向的边)的附近，将拉伸辅助部件一个一个地固定并将固定的拉伸辅助部件50分别向蒸镀掩模的外侧(图中的箭头标记方向)拉伸，从而对固定于该拉伸辅助部件50的蒸镀掩模进行拉伸。图10(b)中，在蒸镀掩模的一面上，在该蒸镀掩模的相对的两边(图示的方式中为长度方向的边)的附近，将拉伸辅助部件50一个一个地固定并将固定的拉伸辅助部件50向蒸镀掩模的外侧(图中的箭头标记方向)拉伸，从而对固定于该拉伸辅助部件50的蒸镀掩模进行拉伸。图10(c)为将图10(a)、(b)组合的方式。图10(a)～(c)为利用拉伸辅助部件50来代替目前公知的夹具等，对固定于该拉伸辅助部件50的蒸镀掩模100进行拉伸的方式。
另外，也可以代替图10所示的方式，如图11所示地，在蒸镀掩模的一面上的端部附近固定多个拉伸辅助部件50并利用拉伸辅助部件50对固定于该拉伸辅助部件50的蒸镀掩模100进行拉伸。根据图11所示的方式，由于在蒸镀掩模的一面上的端部附近固定有多个拉伸辅助部件50，能够以更高的精度拉伸蒸镀掩模。例如，在图11(a)、(c)所示的方式中，在蒸镀掩模100的宽度方向(附图中的上下方向)上，在与一画面重合的位置及不与一画面重合的位置的双方固定有拉伸辅助部件50，通过适当设定拉伸各个拉伸辅助部件时的张力值或拉伸量，能够精度更好地拉伸蒸镀掩模。另外，图11(a)中，在蒸镀掩模的一面上，在该蒸镀掩模的相对的两边(在图示的方式中为宽度方向的边)的端部附近固定多个拉伸辅助部件50并将各拉伸辅助部件50向蒸镀掩模的外侧(图中的箭头标记方向)拉伸，从而拉伸蒸镀掩模。在图11(b)中，在蒸镀掩模的一面上，在该蒸镀掩模的相对的两边(在图示的方式中为长度方向的边)的端部附近，通过固定多个拉伸辅助部件50并将各拉伸辅助部件向图中的箭头标记方向拉伸，从而拉伸蒸镀掩模。图11(c)为将图11(a)、(b)组合的方式。另外，也能够适当组合图10、图11所示的方式。图20(a)、(b)为图11(a)的变形方式，在图20(a)中，在蒸镀掩模100的宽度方向(附图中的上下方向)上，在与一画面重合的位置固定有拉伸辅助部件50，在图20(b)中，在蒸镀掩模100的宽度方向(附图中的上下方向)上，在不与一画面重合的位置固定有拉伸辅助部件50。图20所示的变形方式也能够形成为各图所示的方式，例如与图11(c)所示的方式组合的方式。另外，图11(a)、(c)所示的方式在能够高精度地消除在构成一画面的开口部25产生的形状、尺寸变动方面是优选的。
在图10、图11所示的方式中，在蒸镀掩模100的一面上，在该蒸镀掩模相对的两边的端部附近分别固定有拉伸辅助部件50，但也可以在蒸镀掩模100的一面上，仅在该蒸镀掩模相对的两边中的一边的端部附近固定拉伸辅助部件，并拉伸蒸镀掩模。即，也可以将相对的两边中的一边设为固定端，在另外一边的端部附近固定拉伸辅助部件50并拉伸该拉伸辅助部件。另外，也可以利用目前公知的夹具等把持单元把持相对的两边中的一边，将拉伸辅助部件50固定在另外一边的端部附近的蒸镀掩模的一面上。
使用拉伸辅助部件50的第一拉伸工序也可以与夹具等把持单元组合而进行。图12(a)是表示利用夹具等把持单元80保持蒸镀掩模100的相对的两边的端部(在图示的方式中为长度方向的端部)，使与该把持单元连结的驱动单元动作而将蒸镀掩模向第一方向(在图示的方式中为蒸镀掩模的长度方向)拉伸的状态的正面图。作为与把持单元连结的驱动单元，能够举出电动机、气缸、电动促动器等。另外，如图12(a)所示，在将蒸镀掩模100仅向第一方向(在图示的方式中为蒸镀掩模的长度方向)的情况下，由于蒸镀掩模的收缩等，会在蒸镀掩模上产生变形等，设置在蒸镀掩模的树脂掩模20的开口部的尺寸或形状发生变动。另外，图12(a)表示由于将蒸镀掩模100向第一方向(在图示的方式中为蒸镀掩模的长度方向)拉伸时产生的蒸镀掩模的收缩等，使得配置在一画面内的开口部(未图示)的形状、尺寸发生变动的状态，图示方式中，为了示意地表示尺寸发生变动的情形，记载为一画面的形状产生变形的形状。另外，在图12(c)中成为矩形的一画面的区域为经由第一拉伸工序将配置在该一画面内的开口部的形状或尺寸的变动消除的意思。
为了消除将蒸镀掩模100向第一方向(在图示的方式中为蒸镀掩模的长度方向)拉伸时产生的开口部的形状或尺寸的变动，在第一拉伸工序中，如图12(b)所示，在使用把持单元等将蒸镀掩模向第一方向拉伸之后，将固定于蒸镀掩模100的一面的拉伸辅助部件50向与该第一方向不同的第二方向(在图示的方式中为蒸镀掩模的宽度方向)拉伸，如图12(c)所示，将由于向第一方向拉伸而产生的开口部的形状或尺寸的变动消除。使用拉伸辅助部件50的蒸镀掩模的拉伸如上所述地，既可以使用把持单元将蒸镀掩模向第一方向拉伸后进行，也可以使用把持单元将蒸镀掩模向第一方向拉伸的同时进行。对在此所称的第一方向没有特别限定，但在使用目前公知的把持单元等拉伸蒸镀掩模的情况下，第一方向通常为蒸镀掩模100的长度方向或宽度方向。另外，第一方向也可以为任意的方向。即，一实施方式的带框架的蒸镀掩模的制造方法可以包含于在进行第一拉伸工序之前或与第一拉伸工序同时地，使用目前公知的把持单元等预先拉伸蒸镀掩模的第二拉伸工序。
另外，也可以不使用夹具等把持单元，仅使用拉伸辅助部件50进行上述第一方向的拉伸及第二方向的拉伸(参照图11(c))。另外，既可以同时地进行使用拉伸辅助部件50向第一方向的拉伸及向第二方向的拉伸，也可以在进行了使用拉伸辅助部件50的向第一方向的拉伸之后，进行使用拉伸辅助部件50的向第二方向的拉伸。
图15、图16为表示本发明一实施方式的带框架的蒸镀掩模之一例的正面图。图15所示的带框架的蒸镀掩模200在框架60上固定一个蒸镀掩模100而构成。图16所示的方式的带框架的蒸镀掩模200为在框架60上，在长度方向或宽度方向上排列固定(在图示的方式中，在宽度方向上排列固定)多个蒸镀掩模(在图示的方式中为四个蒸镀掩模)而构成。
图15所示的带框架的蒸镀掩模仅将一个蒸镀掩模固定在框架上，故而如图13(a)所示地，能够由把持单元容易地把持蒸镀掩模的长度方向端部或宽度方向端部，容易相对于长度方向及宽度方向的双方向拉伸蒸镀掩模。另外，在图13(a)中，在蒸镀掩模的一部分的区域(在图中的标记A所示的一画面内)，位于该一部分区域内的全部，或是一部分开口部的形状或尺寸发生变动，为了消除该开口部的形状或尺寸的变动，在图13(b)中，在蒸镀掩模100的一面上，在产生该开口部的变动的区域附近(在图示的方式中，在标记A所示的一画面和与该标记A所示的一画面邻接的其它一画面之间)固定拉伸辅助部件50并对该拉伸辅助部件50进行拉伸，由此将固定于该拉伸辅助部件50的蒸镀掩模拉伸，消除上述的开口部的变动。图13(a)为在第一拉伸工序之前，使用把持单元拉伸蒸镀掩模的第二拉伸工序时的蒸镀掩模之一例的正面图。图13(b)为表示在第二拉伸工序之后，进行拉伸辅助部件固定工序的状态之一例的蒸镀掩模的正面图。图13(c)为表示通过第一拉伸工序消除开口部的变动的蒸镀掩模之一例的正面图。
在图13(b)所示的方式中，在蒸镀掩模100的一面上，在一画面间和拉伸辅助部件50重合的部分的全部或者一部分，将蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50固定，但也能够在蒸镀掩模100的一面上，在构成一画面的区域和拉伸辅助部件50重合的部分的全部或一部分，将蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50固定(未图示)。即，也能够在一画面内将蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50固定。具体地，在图2～图7等所示的蒸镀掩模100中，在树脂掩模20侧的面上，也能够在设于一画面内的多个开口部25中邻接的开口部25间和拉伸辅助部件50重合的部分的全部或一部分，将蒸镀掩模100的一面和拉伸辅助部件50固定。该情况下，对在一画面内设置的开口部25的附近进行拉伸，能够个别地消除在该开口部25产生的形状或尺寸的变动。即，将蒸镀掩模的一面和拉伸辅助部件固定的固定位置能够根据拉伸蒸镀掩模整体的方式、拉伸一画面整体的方式、将设于一画面内的多个开口部一同拉伸的方式，或者个别地拉伸设置在一画面内的开口部25的方式等而适当设定，对其固定位置不作任何限定。
另一方面，如图16所示，形成为在框架60将多个蒸镀掩模在该蒸镀掩模的长度方向或宽度方向上排列并固定而构成的(在图示的方式中，在蒸镀掩模的宽度方向上排列固定)的带框架的蒸镀掩模(以下也称为带框架的多面蒸镀掩模的情形)的情况下，虽然对蒸镀掩模的长度方向或宽度方向的端部(在图示的方式中为蒸镀掩模的长度方向的端部)，能够通过把持单元容易地把持，但由于与一个蒸镀掩模邻接的蒸镀掩模的存在，难以由把持单元把持位于该邻接的方向上的端部(在图示的方式中为蒸镀掩模的宽度方向的端部)。即，难易使用把持单元将蒸镀掩模向长度方向及宽度方向双方拉伸而得到带框架的多面蒸镀掩模。
本发明一实施方式的带框架的蒸镀掩模的制造方法如上述说明地，在蒸镀掩模的一面重合拉伸辅助部件50，在该蒸镀掩模的一面和拉伸辅助部件50重合的部分的至少一部分，将拉伸辅助部件50固定在蒸镀掩模的一面，利用拉伸辅助部件50，即，通过拉伸该被固定的拉伸辅助部件50，拉伸固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模。因此，如图14所示地，即使在一个蒸镀掩模100和与该一个蒸镀掩模邻接的其它蒸镀掩模100A之间无间隙，或者间隙小的情况下，也能够将固定在该一个蒸镀掩模的一面而构成的拉伸辅助部件50也向相邻的蒸镀掩模方向侧拉伸，在形成带框架的多面蒸镀掩模时，也能够进行蒸镀掩模的长度方向及宽度方向的双轴拉伸。换言之，根据本发明一实施方式的制造方法，在形成为带框架的多面蒸镀掩模时，能够尽量缩小邻接的蒸镀掩模的间隔。另外，在图示的方式中，为了便于说明，将蒸镀掩模100以外的蒸镀掩模在图中的标记Y的部位固定在框架上而进行记载。另外，在图14(a)中，在第一拉伸工序之前进行使用把持单元将蒸镀掩模100向第一方向(在图示的方式中为蒸镀掩模的长度方向)拉伸的第二拉伸工序，虽然由于第二拉伸工序在构成蒸镀掩模100的一画面的开口部产生形状或尺寸的变动，但通过第一拉伸工序将拉伸辅助部件50向第二方向(在图示的方式中，为相邻的蒸镀掩模方向侧(蒸镀掩模的宽度方向)拉伸，从而如图14(b)所示地，消除在开口部产生的形状或尺寸的变动。另外，相邻的蒸镀掩模方向并不限定于与上述第一方向正交的方向，也可以相对于该正交方向的轴具有一定程度的角度，例如0°±45°、0°±30°、0°±5°作用的角度。
(框架固定工序)
框架固定工序在如图15、图16所示地形成有贯通孔的框架60上以相对的方式使该框架60的框架部分和在上述第一拉伸工序中被拉伸的状态的蒸镀掩模的金属掩模10重合，将在上述第一拉伸工序中被拉伸的状态的蒸镀掩模100固定在框架60上。框架60和蒸镀掩模100的固定对框架60和蒸镀掩模的金属部分相接的位置进行，对其位置并不作特别限定。图15是从树脂掩模侧看到的在框架60上固定有一个蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模的正面图。图16是从树脂掩模侧看到的在框架60上沿长度方向或宽度方向排列固定(在图示的方式中在宽度方向上排列固定)多个蒸镀掩模100的带框架的多面蒸镀掩模200的正面图。
(框架)
框架60为大致矩形的框部件，具有用于使设置在最终被固定的蒸镀掩模100的树脂掩模20的开口部25在蒸镀源侧露出的贯通孔。对框架的材料并无特别限定，但能够使用刚性大的金属材料，例如SUS、因瓦合金材料、陶瓷材料等。其中，金属框架容易与蒸镀掩模的金属掩模熔接，变形等的影响小，优选之。对以下的加强框架65的材料也同样。
框架的厚度并不作特别限定，从刚性等方面来看，以10mm～30mm左右为好。框架的开口的内周端面和框架的外周端面间的宽度若为能够固定该框架和蒸镀掩模的金属掩模的宽度，则不作特别限定，例如能够示例10mm～200mm左右的宽度。
另外，如图17(a)～(c)所示，在不妨碍构成蒸镀掩模100的树脂掩模20的开口部25露出的范围，也可以使用在贯通孔的区域设有加强框架65等的框架60。通过设置加强框架65，能够利用该加强框架65固定框架60和蒸镀掩模100。框架60和加强框架既可以为相同材料，也可以为不同的材料。
以下，对利用加强框架65的固定方法之一例进行说明。
例如，在经上述说明的第一拉伸工序而形成图16所示的方式的带框架的蒸镀掩模的情况下，在同时进行第一方向及第二方向的拉伸之后，需要将该被拉伸的状态的蒸镀掩模固定。这是因为，在进行向第一方向(例如，蒸镀掩模的长度方向)的拉伸之后，进行向与该第一方向不同的第二方向(例如，蒸镀掩模的宽度方向)的拉伸之前，在框架60上固定有已进行了向该第一方向的拉伸的蒸镀掩模的情况下，在该阶段，框架60和蒸镀掩模100被完全固定，之后，为了消除由于向第一方向的拉伸而产生的开口部的形状，或尺寸的变动，即使进行向与该第一方向不同的第二方向的拉伸，也可以维持向第二方向的拉伸的状态，不能够将蒸镀掩模100固定在框架60上。
另一方面，在使用设有加强框架65的框架60的情况下，在将蒸镀掩模向第一方向(例如，蒸镀掩模的长度方向)拉伸，将进行了向第一方面的拉伸的蒸镀掩模100固定在框架60的主体部之后，也能够使用该加强框架65再次将框架60和蒸镀掩模100固定(参照图18)。具体地，对多个蒸镀掩模的一部分或全部，使用特定的方法进行向第一方向的拉伸，在将蒸镀掩模100固定在框架60的主体部之后，通过以上说明的第一拉伸工序相对于与该第一方向不同的第二方向进行了拉伸之后，也能够使用加强框架65将通过该第一拉伸工序进行了拉伸的状态的蒸镀掩模固定。即，通过使用具有加强框架的框架，一旦得到了在框架60的主体部固定蒸镀掩模而构成的带框架的蒸镀掩模之后，将拉伸辅助部件50固定在开口部的形状或尺寸发生了变动的区域的附近，拉伸该拉伸辅助部件50，从而能够使用加强框架65将进行了拉伸的蒸镀掩模固定。换言之，能够使用加强框架65将开口部的形状或尺寸的变动消除的蒸镀掩模固定。在该方法中，也能够将上述拉伸辅助部件固定工序或第一拉伸工序作为对在得到带框架的蒸镀掩模之后产生的开口部的变动进行微调整的方法而适用。开口部的变动的微调整既可以通过将开口部25向伸长的方向拉伸而进行，也可以通过将开口部25向缩收的方向拉伸而进行。另外，在此所称的框架的主体部是指与加强框架65不同的部分、即外框。
以上，在将蒸镀掩模100向第一方向拉伸的状态下将该蒸镀掩模100固定在框架60的主体部，然后使用以上说明的第一拉伸工序将被固定的蒸镀掩模进一步向与第一方向不同的第二方向拉伸，将蒸镀掩模100固定在框架60的加强框架65上，但也可以代替该方式，首先使用以上说明的第一拉伸工序拉伸蒸镀掩模，将蒸镀掩模100固定在框架60的加强框架65上，然后将固定在加强框架65上的蒸镀掩模向与先前拉伸的方向不同的方向拉伸，从而将蒸镀掩模固定在框架60的主体部。另外，也可以在进行了向第一方向、第二方向的拉伸之后，将蒸镀掩模固定在框架60的主体部及加强框架65上。
向第一方向的拉伸、向第二方向的拉伸既可以通过第一拉伸工序进行，也可以通过第一拉伸工序进行向任一方的方向的拉伸。例如，可以通过使用了上述把持单元等的第二拉伸工序进行向第一方向的拉伸，并且通过上述第一拉伸工序进行向第二方向的拉伸。另外，也可以使用上述第一拉伸工序进行向第一方向的拉伸，并且通过第二拉伸工序进行向第二方向的拉伸。作为一例，在进行第一拉伸工序之前的阶段，通过使用了上述把持单元等的第二拉伸工序将蒸镀掩模向第一方向拉伸，在第二拉伸工序之后，通过第一拉伸工序对拉伸辅助部件进行拉伸，由此将固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模向第二方向拉伸。另外，作为其它一例，同时进行使用了把持单元等的第二拉伸工序中进行的向第一方向的拉伸、和第一拉伸工序中进行的向第二方向的拉伸。
设有加强框架的的框架60既可以通过例如一体地形成框架60的主体部和框架60的加强框架65而得到，也可以通过在仅具有主体部的框架上固定加强框架65而得到。另外，图17(c)所示的格子状的加强框架65既可以为对例如金属板等进行加工的一体型框架，也可以为将多个加强框架65纵横地装入的框架。在后者的情况下，在框架60的宽度方向(图17(c)的横向)上排列配置多个蒸镀掩模时，以在与相邻的蒸镀掩模的方向(图中的横向)正交的方向(图中的纵向)上延伸的加强框架65与蒸镀掩模相接的方式，换言之，以在与相邻的蒸镀掩模的方向正交的方向上延伸的加强框架65位于上侧的方式进行安装为好。另外，在图17(c)中，以在相邻的蒸镀掩模的方向上延伸的加强框架65位于在与相邻的蒸镀掩模的方向正交的方向上延伸的加强框架65的上侧的方式进行安装。另外，加强框架65并不限定于图示的方式，可以为组合有在随机的方向上延伸的多个加强框架65的方式。
另外，上述第一拉伸工序也能够在将蒸镀掩模100暂时固定在框架60的主体部或加强框架65的状态下进行。暂时固定能够通过在框架60的不与蒸镀掩模100相接侧的面，或者蒸镀掩模100的不与框架相接侧的面上配置具有磁性的部件，例如磁性板或磁铁片等，并且拉引蒸镀掩模100和框架60的主体部，或者加强框65而进行。例如，在进行了向第一方向的拉伸之后，将进行了该第一方向的拉伸的状态的蒸镀掩模暂时固定在框架60的主体部或加强框架65上，通过第一拉伸工序拉伸被暂时固定的状态的蒸镀掩模，在第一拉伸工序后，通过将框架60和蒸镀掩模焊接固定，也能够得到带框架的蒸镀掩模。另外，在使用由具有磁性的材料构成的拉伸辅助部件50、或将具有磁性的材料和其它材料、例如与具有自吸附性的材料组合的拉伸辅助部件50的情况下，也能够不使用另外的磁性板或磁铁片等，利用拉伸辅助部件50本身的磁性边暂时固定框架60的加强框架65和蒸镀掩模100，边通过拉伸辅助部件50拉伸蒸镀掩模100。即，此时的拉伸辅助部件50发挥暂时固定蒸镀掩模和框架的作用、和拉伸蒸镀掩模的作用二者。通过进行暂时固定，能够抑制由于拉伸蒸镀掩模而产生的位置偏移等，能够精度更佳地拉伸蒸镀掩模。另外，也能够代替上述示例的方法，在进行了向第一方向的拉伸之后，将进行了该第一方向的拉伸的状态的蒸镀掩模焊接固定在框架60的主体部，接着，将焊接固定在框架60上的主体部的蒸镀掩模暂时固定在加强框架65上，之后，对已进行了向框架60的主体部的熔接固定、及向加强框架65的暂时固定的蒸镀掩模进行第一拉伸工序。通过该方法，能够利用暂时固定抑制由于拉伸蒸镀掩模而产生的位置偏移等，能够高精度地拉伸蒸镀掩模。
对形成为图17(c)所示方式的格子状的加强框架65时的各加强框架65的宽度并不作特别限定，可以将全部的加强框架65的宽度形成为相同大小，也能够对每个加强框架65使宽度变化。另外，在排列多个蒸镀掩模而进行配置时，为了增加分配给框架的蒸镀掩模的数量，需要缩小相邻的蒸镀掩模的间隔。在将相邻的蒸镀掩模的间隔缩小的情况下，需要伴随与此也将在与相邻的蒸镜掩模的方向正交的方向上延伸的加强框架的的宽度缩小。但是，在将加强框架65的宽度缩小时，在与相邻的蒸镀掩模的方向正交的方向上延伸的加强框架65的刚性下降，在与相邻的蒸镀掩模的方向正交的方向上延伸的加强框架65固定有蒸镀掩模时容易产生变形等。
考虑该方面，在将在与相邻的蒸镀掩模的方向正交的方向上延伸的加强框架65的宽度缩小时，优选使在相邻的蒸镀掩模的方向上延伸的加强框架65的宽度比该宽度大。通过增大在相邻的蒸镀掩模的方向上延伸的加强框架65的宽度，能够提高作为加强框架65整体的刚性，在将蒸镀掩模固定在加强框架65上时，能够抑制在加强框架65产生变形等的情形。即，优选方式的加强框架为在相邻的蒸镀掩模的方向上延伸的加强框架65的宽度大于在与相邻的蒸镀掩模的方向正交的方向上延伸的加强框架65的宽度。作为一例，在与相邻的蒸镀掩模的方向正交的方向上延伸的加强框架65的宽度为0.5mm～50mm左右，在相邻的蒸镀掩模的方向上延伸的加强框架65的宽度为0.5mm～50mm左右。优选方式的加强框架65在与相邻的蒸镀掩模的方向正交的方向上延伸的加强框架65的宽度、及在相邻的蒸镀掩模的方向上延伸的加强框架65的宽度在上述示例的宽度的范图内，且满足在相邻的蒸镀掩模的方向上延伸的加强框架65的宽度大于在与相邻的蒸镀掩模的方向正交的方向上延伸的加强框架65的宽度的关系。作为加强框架65的厚度之一例，为0.01mm～30mm左右。
另外，在与加强框架65重合的框架60的主体部形成槽，通过将该槽和加强框架65嵌合，也能够将主体部和加强框架60的面位置对齐。另外，在安装多个加强框架65而形成为格子状的加强框架65的情况下，也能够以各自的加强框架65的面位置相同的方式适当地在加强框架65设置槽等。
对固定方法并不作特别限定，能够使用激光焊接、电弧焊接、电阻焊接、电子束焊接法等目前公知的各种焊接法，或粘接剂、螺丝固定等进行固定。
而且，在上述的框架固定工序结束之后，从蒸镀掩模拆下被固定在蒸镀掩模100的一面上而构成的拉伸辅助部件50，从而得到在框架上固定蒸镀掩模而构成的带框架的蒸镀掩模。
《蒸镀掩模的拉伸方法》
接着，对本发明一实施方式的蒸镀掩模的拉伸方法进行说明。本发明一实施方式的蒸镀掩模的拉伸方法为将形成有缝隙的金属掩模、和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模层积而构成的蒸镀掩模的拉伸方法，其特征在于，包含：拉伸辅助部件固定工序，在蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，在蒸镀掩模的一面和拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将拉伸辅助部件固定在蒸镀掩模上；第一拉伸工序，通过拉伸被固定在蒸镀掩模上的拉伸辅助部件，拉伸被固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模。根据本发明一实施方式的蒸镀掩模的拉伸方法，能够以简单的方法拉伸蒸镀掩模，并且即使在其它蒸镀掩模与该蒸镀掩模邻接的状况下，也能够将固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模向该其它蒸镀掩模的方向侧拉伸。
另外，在一实施方式的蒸镀掩模的拉伸方法中，在预先使用把持单元等将蒸镀掩模向第一方向、例如蒸镀掩模的长度方向或宽度方向拉伸之后，进行上述第一拉伸工序，在第一拉伸工序中，将拉伸辅助部件向与事先拉伸的上述第一方向不同的第二方向，例如与第一方向正交的方向拉伸。即，也可以还包含在第一拉伸工序之前，使用把持单元等将蒸镀掩模向第一方向拉伸的第二拉伸工序。另外，也可以同时进行第一拉伸工序和第二拉伸工序。
拉伸辅助部件固定工序、第一拉伸工序能够直接适用在上述本发明一实施方式的带框架的蒸镀掩模中说明的拉伸辅助部件固定工序、第一拉伸工序，在此省略详细的说明。
《有机半导体元件的制造方法》
接着，对本发明一实施方式的有机半导体元件的制造方法进行说明。本发明一实施方式的有机半导体元件的制造方法具有通过使用带框架的蒸镀掩模的蒸镀法形成蒸镀图案的工序，在制造该有机半导体元件的工序中，在使用通过上述本发明的制造方法制造的一实施方式的带框架的蒸镀掩模的方面具有特征。
具有通过使用带框架的蒸镀掩模的蒸镀法形成蒸镀图案的工序的一实施方式的有机半导体元件的制造方法，具有在基板上形成电极的电极形成工序、有机层形成工序、相对电极形成工序、密封层形成工序等，在各任意工序中，通过使用带框架的蒸镀掩模的蒸镀法在基板上形成蒸镀图案。例如，在有机EL显示器的R、G、B各色的发光层形成工序中分别适用使用了带框架的蒸镀掩模的蒸镀法的情况下，在基板上形成各色发光层的蒸镀图案。另外，本发明一实施方式的有机半导体元件的制造方法并不限定于该些工序，可适用使用蒸镀法的目前公知的有机半导体元件的制造中的任意工序。
本发明一实施方式的有机半导体元件的制造方法的特征在于，在形成上述蒸镀图案的工序中使用的带框架的蒸镀掩模为通过上述说明的本发明的制造方法而制造的一实施方式的带框架的蒸镀掩模。
对带框架的蒸镀掩模，能够直接使用由以上说明的本发明一实施方式的带框架的蒸镀掩模来制造，在此省略详细的说明。根据使用了由以上说明的本发明一实施方式的带框架的蒸镀掩模制造而得到的带框架的蒸镀掩模的有机半导体元件的制造方法，由于使用抑制了蒸镀掩模的开口部的形状或尺寸的变动的该带框架的蒸镀掩模，故而能够形成具有高精细的图案的有机半导体元件。作为由本发明一实施方式的制造方法制造的有机半导体元件，例如能够举出有机EL元件的有机层、发光层或阴极电极等。特别是，本发明一实施方式的有机半导体元件的制造方法能够适用于要求高精细的图案精度的有机EL元件的R、G、B发光层的制造。
《拉伸装置》
接着，对本发明一实施方式的拉伸装置进行说明。本发明一实施方式的拉伸装置用于拉伸蒸镀掩模，该蒸镀掩模将形成有缝隙的金属掩模、和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模层积而构成，该拉伸装置的特征在于，具备：拉伸辅助部件；用于对该拉伸辅助部件进行拉伸的驱动单元，拉伸辅助部件在与蒸镀掩模的一面重合时，能够在与该蒸镀掩模的一面重合的部分的至少一部分固定。
构成拉伸装置的拉伸辅助部件及驱动单元能够适当选择使用在上述一实施方式的带框架的蒸镀掩模的拉伸方法中说明的拉伸辅助部件50、驱动单元55，在此省略详细的说明。根据本发明一实施方式的拉伸装置，将拉伸辅助部件重合在蒸镀掩模的一面，并在与该蒸镀掩模的一面重合的部分的至少一部分将蒸镀掩模和拉伸辅助部件固定，通过使与该拉伸辅助部件连结的驱动单元作动，能够拉伸蒸镀掩模。
在以上说明的各种方式的本发明中，作为拉伸对象的蒸镀掩模，特别适合于使用将形成有缝隙的金属掩模、和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模层积而构成的蒸镀掩模的情况。这是因为，在使用特定的方法，例如把持单元等拉伸物性不同的两个掩模、即将树脂掩模和金属掩模层积的蒸镀掩模的情况下，与拉伸仅由金属掩模构成的蒸镀掩模，或仅由树脂掩模构成的蒸镀掩模的情况相比，容易产生与要蒸镀制作的图案对应的开口部的尺寸或位置的变动。在各种方式的本发明中，即使在开口部的尺寸或位置产生了变动的情况下，也能够通过利用拉伸辅助部件50拉伸蒸镀掩模而容易地消除这些变动。
《变形方式》
在变形方式的蒸镀掩模的拉伸方法、带框架的蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法、拉伸装置中，作为拉伸对象的蒸镀掩模，使用与将形成有上述缝隙的金属掩模和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模层积而构成的蒸镀掩模不同的蒸镀掩模(以下称为不同的蒸镀掩模)，利用拉伸辅助部件50进行不同的蒸镀掩模的拉伸。作为上述不同的蒸镀掩模，能够举出仅由金属材料构成的金属掩模形成的蒸镀掩模、仅由树脂材料构成的树脂掩模形成的蒸镀掩模，或者由金属或树脂材料以外的材料构成的蒸镀掩模。另外，本发明中的各实施方式和变形方式仅作为拉伸对象的蒸镀掩模不同，除此之外一致。在变形例的蒸镀掩模中，仅由树脂材料构成的树脂掩模形成的蒸镀掩模与由金属材料构成的蒸镀掩模相比，在使用把持单元等拉伸蒸镀掩模时，在与要蒸镀制作的图案对应的开口部的形状或尺寸上容易产生变动，在该方面，能够适合使用利用了拉伸辅助部件50的拉伸方法。另外，仅由具有厚度为20μm以下的部位的金属掩模构成的蒸镀掩模也与上述仅由树脂掩模构成的蒸镀掩模同样，在使用把持单元等拉伸蒸镀掩模时，在与要蒸镀制作的图案对应的开口部的形状或尺寸上容易产生变动，在该方面，能够适合使用利用了拉伸辅助部件50的拉伸方法。

Claims (8)

1.一种蒸镀掩模的拉伸方法，该蒸镀掩模将形成有缝隙的金属掩模、和树脂掩模层积而形成，所述树脂掩模在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部，该蒸镀掩模的拉伸方法的特征在于，包含：
拉伸辅助部件固定工序，在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上；
第一拉伸工序，通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模进行拉伸。
2.如权利要求l所述的蒸镀掩模的拉伸方法，其特征在于，
还包含在所述第一拉伸工序之前，将所述蒸镀掩模向第一方向拉伸的第二拉伸工序，
在所述第一拉伸工序中，通过拉伸固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件，将固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模向与所述第一方向不同的第二方向拉伸。
3.一种带框架的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，包括：
准备工序，准备将金属掩模和树脂掩模层积而构成的蒸镀掩模，所述金属掩模形成有缝隙，所述树脂掩模在与所述缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部；
拉伸辅助部件固定工序，在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上；
第一拉伸工序，通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模进行拉伸；
框架固定工序，将在所述第一拉伸工序中被拉伸的状态的所述蒸镀掩模固定在形成有贯通孔的框架上。
4.如权利要求3所述的带框架的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，
还包含在所述第一拉伸工序之前，将所述蒸镀掩模向第一方向拉伸的第二拉伸工序，
在所述第一拉伸工序中，通过拉伸固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件，将固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模向与所述第一方向不同的第二方向拉伸。
5.如权利要求3所述的带框架的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，
所述带框架的蒸镀掩模为在所述框架上排列固定多个所述蒸镀掩模而构成的带框架的蒸镀掩模，
在该带框架的蒸镀掩模的制造阶段，所述多个蒸镀掩模中的至少一个蒸镀掩模经由所述拉伸辅助部件固定工序、所述第一拉伸工序、所述框架固定工序而被固定在所述框架上，
在所述第一拉伸工序中，通过对固定在所述一个蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，将固定在该拉伸辅助部件的一个蒸镀掩模向与该一个蒸镀掩模相邻的蒸镀掩模的方向拉伸。
6.如权利要求5所述的带框架的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，
还包含在进行所述第一拉伸工序之前，将所述一个蒸镀掩模向与所述相邻的蒸镀掩模的方向不同的方向拉伸的第二拉伸工序。
7.一种有机半导体元件的制造方法，其特征在于，
包含使用在框架上固定有蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模而在蒸镀对象物形成蒸镀图案的工序，
在形成所述蒸镀图案的工序中，固定在所述框架上的所述蒸镀掩模通过包含准备工序、拉伸辅助部件固定工序、第一拉伸工序、框架固定工序的工序而被制造，
所述准备工序准备蒸镀掩模，该蒸镀掩模将形成有多个缝隙的金属掩模、和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模层积而构成，
所述拉伸辅助部件固定工序在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上，
所述第一拉伸工序通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模进行拉伸，
所述框架固定工序将在所述第一拉伸工序中被拉伸的状态的所述蒸镀掩模固定在形成有贯通孔的框架上。
8.一种拉伸装置，用于对层积金属掩模和树脂掩模而构成的蒸镀掩模进行拉伸，所述金属掩模形成有缝隙，所述树脂掩模在与所述缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部，该拉伸装置的特征在于，
具备拉伸辅助部件、和用于拉伸该拉伸辅助部件的驱动单元，
所述拉伸辅助部件在与所述蒸镀掩模的一面重合时，可在与该蒸镀掩模的一面重合的部分的至少一部分固定。
CN201580010163.0A 2014-03-31 2015-03-30 蒸镀掩模的拉伸方法、带框架的蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法及拉伸装置 Active CN106029939B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910982133.6A CN110724904B (zh) 2014-03-31 2015-03-30 蒸镀掩模的拉伸方法带框架的蒸镀掩模的制造方法有机半导体元件的制造方法及拉伸装置

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014074863 2014-03-31
JP2014-074863 2014-03-31
JP2015-067153 2015-03-27
JP2015067153A JP6511908B2 (ja) 2014-03-31 2015-03-27 蒸着マスクの引張方法、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び引張装置
PCT/JP2015/059875 WO2015152136A1 (ja) 2014-03-31 2015-03-30 蒸着マスクの引張方法、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び引張装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910982133.6A Division CN110724904B (zh) 2014-03-31 2015-03-30 蒸镀掩模的拉伸方法带框架的蒸镀掩模的制造方法有机半导体元件的制造方法及拉伸装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106029939A true CN106029939A (zh) 2016-10-12
CN106029939B CN106029939B (zh) 2019-11-08

Family

ID=54240459

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201580010163.0A Active CN106029939B (zh) 2014-03-31 2015-03-30 蒸镀掩模的拉伸方法、带框架的蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法及拉伸装置
CN201910982133.6A Active CN110724904B (zh) 2014-03-31 2015-03-30 蒸镀掩模的拉伸方法带框架的蒸镀掩模的制造方法有机半导体元件的制造方法及拉伸装置

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910982133.6A Active CN110724904B (zh) 2014-03-31 2015-03-30 蒸镀掩模的拉伸方法带框架的蒸镀掩模的制造方法有机半导体元件的制造方法及拉伸装置

Country Status (6)

Country Link
US (2) US9705083B2 (zh)
JP (1) JP6511908B2 (zh)
KR (2) KR20160138252A (zh)
CN (2) CN106029939B (zh)
TW (3) TWI704242B (zh)
WO (1) WO2015152136A1 (zh)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106591775A (zh) * 2016-12-26 2017-04-26 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板本体、掩膜板及其制作方法
CN106847741A (zh) * 2016-12-30 2017-06-13 深圳市华星光电技术有限公司 一种薄膜晶体管阵列基板制造方法、真空气相蒸发台及其控制方法
CN107142450A (zh) * 2017-04-28 2017-09-08 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种掩膜板及其张网装置、方法
CN107435130A (zh) * 2017-09-28 2017-12-05 上海天马微电子有限公司 掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法
CN107768551A (zh) * 2017-10-31 2018-03-06 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及掩膜组件
CN108004501A (zh) * 2016-10-27 2018-05-08 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 蒸镀遮罩
WO2018120382A1 (zh) * 2016-12-28 2018-07-05 武汉华星光电技术有限公司 精细掩膜板及其制作方法
CN109844164A (zh) * 2017-09-27 2019-06-04 应用材料公司 用于掩蔽基板的掩模布置、用于处理基板的设备及其方法
CN113737128A (zh) * 2017-01-31 2021-12-03 堺显示器制品株式会社 蒸镀掩模、蒸镀掩模及有机半导体元件的制造方法
CN114438554A (zh) * 2020-10-19 2022-05-06 株式会社日本显示器 蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法
WO2022143788A1 (zh) * 2020-12-29 2022-07-07 丰益(上海)生物技术研发中心有限公司 改善食品所含脂质的消化的组合物及其应用

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10644239B2 (en) 2014-11-17 2020-05-05 Emagin Corporation High precision, high resolution collimating shadow mask and method for fabricating a micro-display
JP5994952B2 (ja) * 2015-02-03 2016-09-21 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法
TWI639720B (zh) 2016-04-14 2018-11-01 日商凸版印刷股份有限公司 Substrate for vapor deposition mask, method for producing substrate for vapor deposition mask, and method for producing vapor deposition mask
US10386731B2 (en) 2016-05-24 2019-08-20 Emagin Corporation Shadow-mask-deposition system and method therefor
TWI633197B (zh) * 2016-05-24 2018-08-21 美商伊麥傑公司 高精準度蔽蔭遮罩沉積系統及其方法
KR101834194B1 (ko) * 2016-07-13 2018-03-05 주식회사 케이피에스 텐션마스크 프레임 어셈블리의 제조 장치 및 방법
CN106148892B (zh) * 2016-07-25 2019-04-02 京东方科技集团股份有限公司 一种子掩膜版的张网方法及掩膜版、基板、显示装置
JP7005925B2 (ja) * 2017-03-31 2022-01-24 大日本印刷株式会社 多面付け蒸着マスクの製造方法、多面付け蒸着マスク
CN107227438B (zh) * 2017-06-15 2019-05-03 京东方科技集团股份有限公司 金属掩膜板的设计方法、金属掩膜板的制备方法
JP6319505B1 (ja) 2017-09-08 2018-05-09 凸版印刷株式会社 蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法および表示装置の製造方法
US11066742B2 (en) * 2017-09-28 2021-07-20 Sharp Kabushiki Kaisha Vapor deposition mask
JP6299921B1 (ja) * 2017-10-13 2018-03-28 凸版印刷株式会社 蒸着マスク用基材、蒸着マスク用基材の製造方法、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法
CN109811301A (zh) * 2017-11-22 2019-05-28 麦克赛尔控股株式会社 蒸镀掩模及其制造方法
KR102404743B1 (ko) * 2018-01-24 2022-06-07 주식회사 오럼머티리얼 스틱 마스크, 스틱 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
CN108315712B (zh) * 2018-02-05 2019-12-31 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
WO2019171432A1 (ja) * 2018-03-05 2019-09-12 堺ディスプレイプロダクト株式会社 蒸着マスク、その製造方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法
WO2019171455A1 (ja) * 2018-03-06 2019-09-12 シャープ株式会社 蒸着マスクの製造方法
WO2019186902A1 (ja) * 2018-03-29 2019-10-03 シャープ株式会社 蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法
JP6658790B2 (ja) * 2018-04-19 2020-03-04 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、有機ｅｌディスプレイの製造方法、及びパターンの形成方法
EP4016658A1 (en) * 2019-01-31 2022-06-22 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Deposition mask group, manufacturing method of electronic device, and electronic device
KR102658382B1 (ko) * 2019-04-01 2024-04-19 삼성디스플레이 주식회사 마스크 인장 용접 장치 및 이를 이용한 마스크 인장 용접 방법
JP6839729B2 (ja) * 2019-06-13 2021-03-10 堺ディスプレイプロダクト株式会社 蒸着マスク、その製造方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法
CN111009621B (zh) * 2019-12-24 2021-11-19 云谷（固安）科技有限公司 张网装置
CN112297448B (zh) * 2020-02-27 2022-04-26 北京字节跳动网络技术有限公司 塑胶成型部件
JP7478354B2 (ja) 2020-03-25 2024-05-07 大日本印刷株式会社 マスク装置の製造方法、マスク装置、有機デバイスの製造方法、有機デバイス
JP7049400B2 (ja) * 2020-06-22 2022-04-06 マクセル株式会社 蒸着マスク
KR20220008989A (ko) * 2020-07-14 2022-01-24 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 마스크 조립체를 제조하는 방법
KR20230030424A (ko) * 2021-08-25 2023-03-06 주식회사 케이피에스 디스플레이 패널용 증착 마스크 프레임 어셈블리 제조방법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007169716A (ja) * 2005-12-22 2007-07-05 Dainippon Printing Co Ltd メタルマスク、メタルマスク位置アラインメント方法及び装置
WO2013105642A1 (ja) * 2012-01-12 2013-07-18 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、蒸着マスク装置の製造方法、及び有機半導体素子の製造方法
JP2013245392A (ja) * 2012-05-29 2013-12-09 V Technology Co Ltd 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6475287B1 (en) * 2001-06-27 2002-11-05 Eastman Kodak Company Alignment device which facilitates deposition of organic material through a deposition mask
JP2003332057A (ja) * 2002-05-16 2003-11-21 Dainippon Printing Co Ltd 有機ｅｌ素子製造に用いる真空蒸着用多面付けマスク装置
WO2003019988A1 (fr) * 2001-08-24 2003-03-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Dispositif de masque de formation a plusieurs faces pour depot sous vide
KR100647576B1 (ko) * 2002-03-16 2006-11-17 삼성에스디아이 주식회사 텐션 마스크 프레임 조립체의 제조방법 및 그 제조장치
JP4441282B2 (ja) * 2004-02-02 2010-03-31 富士フイルム株式会社 蒸着マスク及び有機ｅｌ表示デバイスの製造方法
JP2007257839A (ja) * 2005-10-03 2007-10-04 Dainippon Printing Co Ltd テンション付加装置及び金属テープ取り付け装置
JP4784145B2 (ja) * 2005-04-28 2011-10-05 大日本印刷株式会社 金属テープの取り付け方法、マスクユニットの製造方法及びテンション付加用治具
JP4526406B2 (ja) * 2005-02-07 2010-08-18 大日本印刷株式会社 基準位置指示装置及びメタルマスク位置アラインメント装置
JP2010196091A (ja) * 2009-02-24 2010-09-09 Sony Corp 蒸着用マスクおよびその製造方法
KR101588891B1 (ko) * 2009-07-21 2016-01-27 엘지디스플레이 주식회사 섀도 마스크의 제조방법과 이를 이용한 유기전계발광소자의 제조방법
IN2012DN02566A (zh) * 2009-09-03 2015-08-28 Exro Technologies Inc
US8753748B2 (en) * 2010-10-04 2014-06-17 Kunio Mori Process for forming metal film, and product equipped with metal film
KR20120123918A (ko) * 2011-05-02 2012-11-12 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체의 조립방법
KR20130028165A (ko) * 2011-06-21 2013-03-19 삼성디스플레이 주식회사 마스크 유닛
CN103797149B (zh) * 2011-09-16 2017-05-24 株式会社V技术 蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及薄膜图案形成方法
CN105870326A (zh) * 2012-01-12 2016-08-17 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模的制造方法及有机半导体元件的制造方法
CN103205703B (zh) * 2012-01-16 2016-04-27 昆山允升吉光电科技有限公司 提高掩模板开口位置精度的方法及其装置
JP5904577B2 (ja) * 2012-01-20 2016-04-13 株式会社ブイ・テクノロジー マスク成膜装置及びマスク成膜方法
US10597766B2 (en) * 2013-03-26 2020-03-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, method for producing vapor deposition mask, and method for producing organic semiconductor element

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007169716A (ja) * 2005-12-22 2007-07-05 Dainippon Printing Co Ltd メタルマスク、メタルマスク位置アラインメント方法及び装置
WO2013105642A1 (ja) * 2012-01-12 2013-07-18 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、蒸着マスク装置の製造方法、及び有機半導体素子の製造方法
JP2013245392A (ja) * 2012-05-29 2013-12-09 V Technology Co Ltd 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108004501A (zh) * 2016-10-27 2018-05-08 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 蒸镀遮罩
WO2018120727A1 (zh) * 2016-12-26 2018-07-05 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板本体、掩膜板及其制作方法
CN106591775A (zh) * 2016-12-26 2017-04-26 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板本体、掩膜板及其制作方法
CN106591775B (zh) * 2016-12-26 2019-06-07 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板本体、掩膜板及其制作方法
WO2018120382A1 (zh) * 2016-12-28 2018-07-05 武汉华星光电技术有限公司 精细掩膜板及其制作方法
CN106847741A (zh) * 2016-12-30 2017-06-13 深圳市华星光电技术有限公司 一种薄膜晶体管阵列基板制造方法、真空气相蒸发台及其控制方法
CN106847741B (zh) * 2016-12-30 2019-11-22 深圳市华星光电技术有限公司 一种薄膜晶体管阵列基板制造方法、真空气相蒸发台及其控制方法
CN113737128A (zh) * 2017-01-31 2021-12-03 堺显示器制品株式会社 蒸镀掩模、蒸镀掩模及有机半导体元件的制造方法
CN107142450B (zh) * 2017-04-28 2019-09-06 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种掩膜板及其张网装置、方法
CN107142450A (zh) * 2017-04-28 2017-09-08 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种掩膜板及其张网装置、方法
CN109844164A (zh) * 2017-09-27 2019-06-04 应用材料公司 用于掩蔽基板的掩模布置、用于处理基板的设备及其方法
CN109844164B (zh) * 2017-09-27 2021-05-25 应用材料公司 用于掩蔽基板的掩模布置、用于处理基板的设备及其方法
CN107435130A (zh) * 2017-09-28 2017-12-05 上海天马微电子有限公司 掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法
CN107768551B (zh) * 2017-10-31 2019-06-25 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及掩膜组件
CN107768551A (zh) * 2017-10-31 2018-03-06 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及掩膜组件
CN114438554A (zh) * 2020-10-19 2022-05-06 株式会社日本显示器 蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法
WO2022143788A1 (zh) * 2020-12-29 2022-07-07 丰益(上海)生物技术研发中心有限公司 改善食品所含脂质的消化的组合物及其应用

Also Published As

Publication number Publication date
US20170256713A1 (en) 2017-09-07
US9705083B2 (en) 2017-07-11
TWI704242B (zh) 2020-09-11
TW201542353A (zh) 2015-11-16
KR20160138252A (ko) 2016-12-02
JP6511908B2 (ja) 2019-05-15
CN110724904B (zh) 2021-11-26
KR102432234B1 (ko) 2022-08-16
US10084134B2 (en) 2018-09-25
TW202043510A (zh) 2020-12-01
TW201940716A (zh) 2019-10-16
KR20210054069A (ko) 2021-05-12
JP2015200019A (ja) 2015-11-12
CN106029939B (zh) 2019-11-08
WO2015152136A1 (ja) 2015-10-08
TWI737451B (zh) 2021-08-21
US20170092862A1 (en) 2017-03-30
CN110724904A (zh) 2020-01-24
TWI673162B (zh) 2019-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106029939A (zh) 蒸镀掩模的拉伸方法、带框架的蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法及拉伸装置
JP6835283B2 (ja) フレーム一体型の樹脂板付き金属マスク、フレーム一体型の蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及びパターンの形成方法
JP6562062B2 (ja) 多面付け蒸着マスクの製造方法及び有機半導体素子の製造方法
JP7383377B2 (ja) フルサイズマスク組立体とその製造方法
KR102218952B1 (ko) 증착 마스크, 증착 마스크 준비체, 증착 마스크의 제조 방법 및 유기 반도체 소자의 제조 방법
KR102358416B1 (ko) 프레임을 갖는 증착 마스크의 제조 방법, 인장 장치, 유기 반도체 소자의 제조 장치 및 유기 반도체 소자의 제조 방법
US9666837B2 (en) Mask for deposition
US8915213B2 (en) Division mask and method of assembling mask frame assembly by using the same
US10084133B2 (en) Mask
JP6090009B2 (ja) 金属フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法
JP6394877B2 (ja) 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法
CN103695840A (zh) 一种掩模组件的组装方法
US20190372002A1 (en) Manufacturing method for mask sheet, vapor deposition mask, and display panel
JP2017020068A (ja) 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法
JP6191711B2 (ja) 蒸着マスク、蒸着マスク装置、及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP6347112B2 (ja) 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着マスクの製造方法、パターンの製造方法、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法
JP6980352B2 (ja) 加飾シートの貼り付け方法、および、加飾シート

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant