WO2016159344A1 - ガラス - Google Patents

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WO2016159344A1
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敦己 斉藤
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Nippon Electric Glass Co Ltd
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    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates

Definitions

  • the present invention relates to glass, and more particularly to alkali-free glass suitable for substrates of organic displays and liquid crystal displays.
  • Organic EL displays are thin and excellent in moving image display and have low power consumption, and are therefore used for applications such as mobile phone displays.
  • Non-alkali glass glass in which the content of the alkali component in the glass composition is 0.5 mol% or less
  • the glass substrate for this purpose.
  • the alkali-free glass for this application is required to have, for example, the following required characteristics (1) to (3).
  • (1) In order to reduce the cost of a glass substrate, it is excellent in productivity, particularly in devitrification resistance and meltability.
  • (2) The strain point is high in order to reduce the thermal shrinkage of the glass substrate in the manufacturing process of p-Si • TFT, especially high-temperature p-Si.
  • (3) It has a low thermal expansion coefficient so as to match the thermal expansion coefficient of a member (for example, p-Si) formed on a glass substrate.
  • chemical etching of a glass substrate is generally used for thinning the display.
  • This method is a method of thinning a glass substrate by immersing a display panel in which two glass substrates are bonded together in an HF (hydrofluoric acid) chemical solution. Therefore, when performing chemical etching of a glass substrate, in addition to the required characteristics (1) to (3), in order to increase the production efficiency of the display panel, a high etching rate by HF is required.
  • a high Young's modulus (or specific Young's modulus) may be required to suppress problems caused by the bending of the glass substrate.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and its technical problem is to create a glass having high heat resistance, a low thermal expansion coefficient, and excellent productivity.
  • the present inventor has found that the above technical problem can be solved by regulating the glass composition within a predetermined range, and proposes as the present invention. That is, the glass of the present invention has a glass composition of mol%, SiO 2 55-80%, Al 2 O 3 12-30%, B 2 O 3 0-3%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0- 1%, MgO + CaO + SrO + BaO 5 to 35%, and a thermal expansion coefficient in a temperature range of 30 to 380 ° C. is less than 40 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C.
  • “Li 2 O + Na 2 O + K 2 O” refers to the total amount of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O.
  • MgO + CaO + SrO + BaO refers to the total amount of MgO, CaO, SrO and BaO.
  • Thermal expansion coefficient in the temperature range of 30 to 380 ° C.” refers to an average value measured with a dilatometer.
  • Al 2 O 3 is 12 mol% or more in the glass composition
  • the content of B 2 O 3 in the glass composition is 3 mol% or less
  • the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 1 It is regulated to less than mol%. If it does in this way, a strain point will raise notably and the heat resistance of a glass substrate can be improved significantly. Furthermore, it becomes easy to reduce a thermal expansion coefficient.
  • the glass of the present invention contains 5 to 25 mol% of MgO + CaO + SrO + BaO in the glass composition. If it does in this way, devitrification resistance can be improved.
  • the glass of the present invention preferably has a B 2 O 3 content of less than 1 mol%.
  • the glass of the present invention preferably has a Li 2 O + Na 2 O + K 2 O content of 0.5 mol% or less.
  • the glass of the present invention preferably has a molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / Al 2 O 3 of 0.3 to 3.
  • “(MgO + CaO + SrO + BaO) / Al 2 O 3 ” is a value obtained by dividing the total amount of MgO, CaO, SrO and BaO by the content of Al 2 O 3 .
  • the glass of the present invention preferably has a molar ratio MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO) of 0.5 or more.
  • MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO) is a value obtained by dividing the content of MgO by the total amount of MgO, CaO, SrO and BaO.
  • the glass of the present invention preferably has a strain point of 750 ° C. or higher.
  • strain point refers to a value measured based on the method of ASTM C336.
  • the glass of the present invention preferably has a strain point of 800 ° C. or higher.
  • the glass of the present invention preferably has a (temperature-strain point at 10 2.5 dPa ⁇ s) of 1000 ° C. or lower.
  • temperature at a high temperature viscosity of 10 2.5 dPa ⁇ s refers to a value measured by a platinum ball pulling method.
  • the glass of the present invention preferably has a temperature at a viscosity of 10 2.5 dPa ⁇ s of 1800 ° C. or lower.
  • the glass of the present invention preferably has a flat plate shape.
  • the glass of the present invention is preferably used for a substrate of an organic EL display.
  • the glass of the present invention has a glass composition of mol%, SiO 2 55-80%, Al 2 O 3 12-30%, B 2 O 3 0-3%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0-3%. MgO + CaO + SrO + BaO 5 to 35%.
  • the reason why the content of each component is regulated as described above will be described below. In the description of each component, the following% display indicates mol%.
  • the preferred lower limit range of SiO 2 is 55% or more, 58% or more, 60% or more, 65% or more, particularly 68% or more, and the preferred upper limit range is preferably 80% or less, 75% or less, 73% or less, 72% or less, 71% or less, particularly 70% or less.
  • the content of SiO 2 is too small, the defects due to devitrification crystals containing Al 2 O 3 is likely to occur, the strain point tends to decrease. Moreover, high temperature viscosity falls and it becomes easy to fall liquid phase viscosity.
  • the preferred lower limit range of Al 2 O 3 is 11% or more, 12% or more, 13% or more, 14% or more, particularly 15% or more, and the preferred upper limit range is 30% or less, 25% or less, 20% or less, 17% or less, particularly 16% or less.
  • al 2 O 3 is too small, the content of, or Young's modulus decrease, or become liable strain point is lowered, has high becomes meltability temperature viscosity tends to decrease.
  • the content of Al 2 O 3 is too large, devitrification crystals more likely to occur, which comprises Al 2 O 3.
  • the molar ratio SiO 2 / Al 2 O 3 is preferably 2 to 6, 3 to 5.5, 3.5 to 5.5, 4 to 5 from the viewpoint of achieving both a high strain point and high devitrification resistance. .5, 4.5 to 5.5, especially 4.5 to 5.
  • SiO 2 / Al 2 O 3 is a value obtained by dividing the content of SiO 2 by the content of Al 2 O 3 .
  • a preferable upper limit range of B 2 O 3 is 3% or less, 1% or less, less than 1%, particularly 0.1% or less. When the content of B 2 O 3 is too large, or the strain point is lowered significantly, the Young's modulus may be decreased significantly.
  • a suitable upper limit range of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 1% or less, less than 1%, 0.5% or less, particularly 0.2% or less. If the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is too large, alkali ions diffuse into the semiconductor material in a high-temperature p-Si process or the like, and the semiconductor characteristics are likely to deteriorate.
  • the suitable upper limit range of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O is 1% or less, less than 1%, 0.5% or less, 0.3% or less, particularly 0.2% or less, respectively.
  • the preferred lower limit range of MgO + CaO + SrO + BaO is 5% or more, 7% or more, 9% or more, 11% or more, 13% or more, particularly 14% or more, and the preferred upper limit range is 35% or less, 30% or less, 25% or less. 20% or less, 18% or less, 17% or less, particularly 16% or less.
  • the content of MgO + CaO + SrO + BaO is too small, the liquidus temperature is greatly increased, and devitrification crystals are likely to occur in the glass, or the high-temperature viscosity is increased and the meltability is liable to be lowered.
  • the content of MgO + CaO + SrO + BaO is too large, the strain point tends to be lowered and devitrification crystals containing alkaline earth elements are likely to occur.
  • the preferred lower limit range of MgO is 0% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, 4% or more, 5% or more, particularly 6% or more, and the preferred upper limit range is 15% or less, 10% or less. 8% or less, particularly 7% or less.
  • MgO has an effect of increasing the Young's modulus, but the effect is most remarkable among alkaline earth oxides.
  • the preferable lower limit range of CaO is 2% or more, 3% or more, 4% or more, 5% or more, 6% or more, particularly 7% or more, and the preferable upper limit range is 20% or less, 15% or less, 12% or less. 11% or less, 10% or less, particularly 9% or less.
  • a meltability will fall easily.
  • liquidus temperature will rise and it will become easy to produce a devitrification crystal
  • CaO has a greater effect of improving the liquid phase viscosity and lowering the meltability without lowering the strain point than other alkaline earth oxides.
  • CaO is an effective component for increasing the Young's modulus, although it is slightly inferior to MgO.
  • the preferred lower limit range of SrO is 0% or more, 1% or more, particularly 2% or more, and the preferred upper limit range is 10% or less, 8% or less, 7% or less, 6% or less, 5% or less, especially 4%. It is as follows. When there is too little content of SrO, a strain point will fall easily. On the other hand, when there is too much content of SrO, liquidus temperature will rise and it will become easy to produce a devitrification crystal
  • a preferable lower limit range of BaO is 0% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, particularly 4% or more, and a preferable upper limit range is 15% or less, 12% or less, 11% or less, particularly 10%. % Or less.
  • a strain point and a thermal expansion coefficient will fall easily.
  • liquidus temperature will rise and it will become easy to produce a devitrification crystal
  • the meltability tends to be lowered.
  • BaO is the element that has the highest effect of lowering the Young's modulus among alkaline earth metal oxides. Therefore, the content of BaO is suppressed as much as possible from the viewpoint of increasing the Young's modulus, or coexists with MgO when the content is large. It is necessary to make the design.
  • the lower limit range of the molar ratio MgO / CaO is preferably 0.1 or more, 0.2 or more, 0.3 or more, particularly 0.4 or more, and the upper limit range is preferably 2 or less, 1 or less, 0.8 or less, 0.7 or less, particularly 0.6 or less.
  • MgO / CaO refers to a value obtained by dividing the content of MgO by the content of CaO.
  • the lower limit range of the molar ratio BaO / CaO is preferably 0.2 or more, 0.5 or more, 0.6 or more, 0.7 or more, particularly 0.8 or more, and the upper limit.
  • the range is preferably 5 or less, 4.5 or less, 3 or less, 2.5 or less, particularly 2 or less.
  • BaO / CaO indicates a value obtained by dividing the content of BaO by the content of CaO.
  • the lower limit range of the molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / Al 2 O 3 is preferably 0.3 or more, 0.5 or more, 0.7 or more, particularly 0.8 or more.
  • the upper limit range is preferably 3.0 or less, 2.5 or less, 2.0 or less, 1.5 or less, 1.2 or less, particularly 1.1 or less.
  • the molar ratio MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO) is preferably 0.1 or more, 0.2 or more, 0.3 or more, 0.4 or more, 0.5 or more, particularly 0.6 or more. In this way, the meltability is easily improved.
  • MgO is a component that significantly lowers the strain point, and the effect of lowering the strain point is remarkable in a region where the content of MgO is low. Accordingly, the content ratio of MgO in the alkaline earth metal oxide is preferably small, and the molar ratio MgO / (MgO + CaO + SrO + BaO) is preferably 0.8 or less, particularly 0.7 or less.
  • 7 ⁇ [MgO] + 5 ⁇ [CaO] + 4 ⁇ [SrO] + 4 ⁇ [BaO] is preferably 100% or less, 90% or less, 80% or less, 70% or less, 65% or less, particularly 60% or less. .
  • Alkaline earth metal elements all have the effect of lowering the strain point, but the effect is greater for elements with smaller ionic radii. Therefore, if the upper limit range of 7 ⁇ [MgO] + 5 ⁇ [CaO] + 4 ⁇ [SrO] + 4 ⁇ [BaO] is regulated so that the proportion of the alkaline earth element having a large ionic radius is increased, the strain point is given priority. Can be increased.
  • [MgO] is the content of MgO
  • [CaO] is the content of CaO
  • [SrO] is the content of SrO
  • [BaO] is the content of BaO.
  • “7 ⁇ [MgO] + 5 ⁇ [CaO] + 4 ⁇ [SrO] + 4 ⁇ [BaO]” is 7 times [MgO], 5 times [CaO], 4 times [SrO] and 4 times [SrO]. Refers to the total amount of [BaO].
  • 21 ⁇ [MgO] + 20 ⁇ [CaO] + 15 ⁇ [SrO] + 12 ⁇ [BaO] is preferably 200% or more, 210% or more, 220% or more, 230% or more, 240% or more, 250% or more, particularly 300 ⁇ 1000%.
  • Alkaline earth metal elements all have an effect of improving the melting property, but the influence becomes larger as the ion radius is smaller. Therefore, when the lower limit range of 21 ⁇ [MgO] + 20 ⁇ [CaO] + 15 ⁇ [SrO] + 12 ⁇ [BaO] is regulated so that the proportion of the alkaline earth element having a small ionic radius is small, the meltability is preferential. Can be increased.
  • 21 ⁇ [MgO] + 20 ⁇ [CaO] + 15 ⁇ [SrO] + 12 ⁇ [BaO] is too large, the strain point may be lowered.
  • 21 ⁇ [MgO] + 20 ⁇ [CaO] + 15 ⁇ [SrO] + 12 ⁇ [BaO] is 21 times [MgO], 20 times [CaO], 15 times [SrO] and 12 times [SrO]. Refers to the total amount of [BaO].
  • 9 ⁇ [Al 2 O 3 ] + 7 ⁇ [MgO] ⁇ 4 ⁇ [BaO] is preferably 95% or more, 105% or more, 115% or more, 125% or more, particularly 135% or more.
  • [MgO] + [CaO] + 3 ⁇ [SrO] + 4 ⁇ [BaO] is preferably 27% or less, 26% or less, 25% or less, 24% or less, particularly 23% or less. If [MgO] + [CaO] + 3 ⁇ [SrO] + 4 ⁇ [BaO] is too large, the density is likely to increase. Therefore, the specific Young's modulus is decreased, and the amount of deflection due to its own weight is likely to increase. “[MgO] + [CaO] + 3 ⁇ [SrO] + 4 ⁇ [BaO]” refers to the total amount of [MgO], [CaO], 3 times [SrO], and 4 times [BaO].
  • the following components may be introduced into the glass composition.
  • ZnO is a component that enhances the meltability, but if it is contained in a large amount in the glass composition, the glass tends to devitrify and the strain point tends to decrease. Therefore, the content of ZnO is preferably 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 0.5%, 0 to 0.3%, particularly 0 to 0.1%.
  • ZrO 2 is a component that increases the Young's modulus.
  • the content of ZrO 2 is preferably 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 0.5%, 0 to 0.2%, particularly 0 to 0.02%. When the content of ZrO 2 is too large, the liquidus temperature increases, devitrification zircon crystals are easily precipitated.
  • TiO 2 is a component that lowers the high-temperature viscosity and improves the meltability, and is a component that suppresses solarization. However, when it is contained in a large amount in the glass composition, the glass tends to be colored. Therefore, the content of TiO 2 is preferably 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 1%, 0 to 0.1%, particularly 0 to 0.02%.
  • P 2 O 5 is a component that enhances devitrification resistance. However, if it is contained in a large amount in the glass composition, the glass tends to undergo phase separation and opalescence, and the water resistance may be greatly reduced. Therefore, the content of P 2 O 5 is preferably 0 to 5%, 0 to 4%, 0 to 3%, 0 to less than 2%, 0 to 1%, 0 to 0.5%, particularly 0 to 0. .1%.
  • SnO 2 is a component having a good clarification action in a high temperature region and a component that lowers the high temperature viscosity.
  • the SnO 2 content is preferably 0 to 1%, 0.01 to 0.5%, 0.01 to 0.3%, particularly 0.04 to 0.1%. When the content of SnO 2 is too large, the devitrification crystal SnO 2 is likely to precipitate.
  • the glass of the present invention is suitably added with SnO 2 as a fining agent.
  • CeO 2 , SO 3 , C, metal powder for example, Al, Si) Etc.
  • metal powder for example, Al, Si
  • each content is preferably less than 0.1%, particularly preferably less than 0.05%.
  • Rh 2 O 3 may be mixed from a platinum production container.
  • the content of Rh 2 O 3 is preferably 0 to 0.0005%, more preferably 0.00001 to 0.0001%.
  • SO 3 is a component mixed from the raw material as an impurity, but if the content of SO 3 is too large, bubbles called reboil may be generated during melting and molding, which may cause defects in the glass. is there.
  • a preferable lower limit range of SO 3 is 0.0001% or more, and a preferable upper limit range is 0.005% or less, 0.003% or less, 0.002% or less, and particularly 0.001% or less.
  • Content of rare earth oxides (Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, etc.) content is preferably less than 2% 1% or less, especially less than 1%.
  • the content of La 2 O 3 + Y 2 O 3 is preferably less than 2%, less than 1%, less than 0.5%, in particular less than 0.1%.
  • the content of La 2 O 3 is preferably less than 2%, less than 1%, less than 0.5%, in particular less than 0.1%. If the content of the rare earth oxide is too large, the batch cost tends to increase.
  • “Y 2 O 3 + La 2 O 3 ” is the total amount of Y 2 O 3 and La 2 O 3 .
  • the glass of the present invention preferably has the following characteristics.
  • Density is preferably 2.80 g / cm 3 or less, 2.70 g / cm 3 or less, 2.60 g / cm 3 or less, in particular 2.50 g / cm 3 or less. If the density is too high, it will be difficult to reduce the weight of the display.
  • the thermal expansion coefficient in the temperature range of 30 to 380 ° C. is preferably less than 40 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., 38 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. or less, 36 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. or less, 34 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. or less. In particular, 28 ⁇ 10 ⁇ 7 to 33 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. is preferable. If the thermal expansion coefficient in the temperature range of 30 to 380 ° C. is too high, it becomes difficult to match the thermal expansion coefficient of a member (eg, p-Si) formed on the glass substrate, and the glass substrate is likely to warp. Become.
  • a member eg, p-Si
  • the strain point is preferably 750 ° C. or higher, 780 ° C. or higher, 800 ° C. or higher, 810 ° C. or higher, 820 ° C. or higher, and particularly preferably 830 to 1000 ° C. If the strain point is too low, the glass substrate is likely to be thermally contracted in the heat treatment step.
  • the Young's modulus is preferably more than 75 GPa, 77 GPa or more, 78 GPa or more, 79 GPa or more, particularly 80 GPa or more. If the Young's modulus is too low, defects due to the bending of the glass substrate, for example, defects such as the image surface of the electronic device appear to be distorted tend to occur.
  • the specific Young's modulus is preferably more than 30 GPa / (g / cm 3 ), 30.2 GPa / (g / cm 3 ) or more, 30.4 GPa / (g / cm 3 ) or more, 30.6 GPa / (g / cm 3) ) Or more, particularly 30.8 GPa / (g / cm 3 ) or more. If the specific Young's modulus is too low, problems such as cracking during conveyance of the glass substrate are likely to occur due to bending of the glass substrate.
  • the etching depth when immersed in a 10% by mass aqueous HF solution at room temperature for 30 minutes is preferably 25 ⁇ m or more, 27 ⁇ m or more, 28 ⁇ m or more, 29 to 50 ⁇ m, particularly 30 to 45 ⁇ m.
  • This etching depth is an index of the etching rate. That is, when the etching depth is large, the etching rate is increased, and when the etching depth is small, the etching rate is decreased. If the content of SiO 2 is reduced, the etching rate can be easily increased. However, the etching rate can be easily increased by preferentially introducing an element having a large ionic radius among alkaline earth metals.
  • the SiO 2 —Al 2 O 3 —RO (RO refers to an alkaline earth metal oxide) glass according to the present invention is generally difficult to melt. For this reason, improvement of meltability becomes a problem. When the meltability is increased, the defect rate due to bubbles, foreign matters, and the like is reduced, so that a high-quality glass substrate can be supplied in large quantities at a low cost. On the other hand, if the high-temperature viscosity is too high, defoaming is hardly promoted in the melting step. Therefore, the temperature at a high temperature viscosity of 10 2.5 dPa ⁇ s is preferably 1800 ° C. or lower, 1750 ° C. or lower, 1700 ° C. or lower, 1680 ° C.
  • the temperature at a high temperature viscosity of 10 2.5 dPa ⁇ s corresponds to the melting temperature, and the lower this temperature, the better the meltability.
  • Temporal-strain point at 10 2.5 dPa ⁇ s is preferably 1000 ° C. or lower, 900 ° C. or lower, 850 ° C. or lower, particularly 800 ° C. or lower, from the viewpoint of achieving both a high strain point and a low melting temperature.
  • the liquidus temperature is preferably 1450 ° C. or lower, 1400 ° C. or lower, particularly 1300 ° C. or lower.
  • the liquid phase viscosity is preferably 10 3.0 dPa ⁇ s or more, 10 3.5 dPa ⁇ s or more, particularly 10 4.0 dPa ⁇ s or more.
  • the “liquid phase temperature” is obtained by passing the standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m) and putting the glass powder remaining in 50 mesh (300 ⁇ m) into a platinum boat and holding it in a temperature gradient furnace for 24 hours to precipitate crystals. Refers to the value measured temperature.
  • “Liquid phase viscosity” refers to a value obtained by measuring the viscosity of glass at the liquid phase temperature by a platinum ball pulling method.
  • the glass of the present invention can be molded by various molding methods.
  • the glass substrate can be formed by an overflow downdraw method, a slot downdraw method, a redraw method, a float method, a rollout method, or the like.
  • a glass substrate is shape
  • the thickness thereof is preferably 1.0 mm or less, 0.7 mm or less, 0.5 mm or less, particularly 0.4 mm or less.
  • the smaller the plate thickness the easier it is to reduce the weight of the electronic device.
  • the smaller the plate thickness the easier the glass substrate bends.
  • the plate thickness can be adjusted by the flow rate at the time of molding, the plate drawing speed, and the like.
  • the strain point can be increased by lowering the ⁇ -OH value.
  • ⁇ -OH value is preferably 0.45 / mm or less, 0.40 / mm or less, 0.35 / mm or less, 0.30 / mm or less, 0.25 / mm or less, 0.20 / mm or less, In particular, it is 0.15 / mm or less. If the ⁇ -OH value is too large, the strain point tends to decrease. If the ⁇ -OH value is too small, the meltability tends to be lowered. Therefore, the ⁇ -OH value is preferably 0.01 / mm or more, particularly 0.05 / mm or more.
  • the following methods may be mentioned.
  • ⁇ -OH value refers to a value obtained by measuring the transmittance of glass using FT-IR and using the following equation.
  • beta-OH value (1 / X) log ( T 1 / T 2)
  • X Glass wall thickness (mm)
  • T 1 Transmittance (%) at a reference wavelength of 3846 cm ⁇ 1
  • T 2 Minimum transmittance (%) in the vicinity of a hydroxyl group absorption wavelength of 3600 cm ⁇ 1
  • Tables 1 to 4 show examples of the present invention (sample Nos. 1 to 58).
  • Each sample was produced as follows. First, a glass batch in which glass raw materials were prepared so as to have the glass composition shown in the table was placed in a platinum crucible and melted at 1600 to 1750 ° C. for 24 hours. In melting the glass batch, the mixture was stirred and homogenized using a platinum stirrer. Next, the molten glass was poured onto a carbon plate and formed into a flat plate shape. About each obtained sample, density ⁇ , thermal expansion coefficient ⁇ , strain point Ps, annealing point Ta, softening point Ts, temperature at high temperature viscosity of 10 4.0 dPa ⁇ s, and high temperature viscosity at 10 3.0 dPa ⁇ s. The temperature, the temperature at a high temperature viscosity of 10 2.5 dPa ⁇ s, the liquid phase temperature TL, and the liquid phase viscosity log ⁇ TL were evaluated.
  • the density ⁇ is a value measured by the well-known Archimedes method.
  • the thermal expansion coefficient ⁇ is an average value measured with a dilatometer in a temperature range of 30 to 380 ° C.
  • strain point Ps, the annealing point Ta, and the softening point Ts are values measured according to ASTM C336 or ASTM C338.
  • the temperature at a high temperature viscosity of 10 4.0 dPa ⁇ s, the temperature at a high temperature viscosity of 10 3.0 dPa ⁇ s, and the temperature at a high temperature viscosity of 10 2.5 dPa ⁇ s are values measured by a platinum ball pulling method.
  • the liquid phase temperature TL was obtained by crushing each sample, passing through a standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m), putting the glass powder remaining on 50 mesh (300 ⁇ m) into a platinum boat, and holding it in a temperature gradient furnace for 24 hours. The platinum boat is taken out, and the temperature at which devitrification (devitrification crystal) is observed in the glass.
  • the liquid phase viscosity log ⁇ TL is a value obtained by measuring the viscosity of the glass at the liquid phase temperature TL by a platinum ball pulling method.
  • the ⁇ -OH value is a value calculated by the above formula.
  • sample no. Nos. 1 to 58 have a high strain point, a low thermal expansion coefficient, and have meltability and devitrification resistance capable of mass production. Therefore, sample no. Nos. 1 to 58 are considered suitable as substrates for organic EL displays.
  • the glass of the present invention has a high strain point, a low thermal expansion coefficient, and has meltability and devitrification resistance capable of mass production. Therefore, the glass of the present invention is suitable not only for organic EL display substrates but also for display substrates such as liquid crystal displays, and is particularly suitable as a display substrate driven by LTPS and oxide TFTs. Furthermore, the glass of the present invention is also suitable as an LED substrate for producing a semiconductor material at a high temperature.

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Abstract

　耐熱性が高く、熱膨張係数が低く、しかも生産性に優れるガラスを創案する。　本発明のガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２　５５～８０％、Ａｌ２Ｏ３　１２～３０％、Ｂ２Ｏ３　０～３％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　５～３５％を含有し、且つ３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が４０×１０－７／℃未満であることを特徴とする。

Description

ガラス
　本発明は、ガラスに関し、特に有機ディスプレイ、液晶ディスプレイの基板に好適な無アルカリガラスに関する。
　有機ＥＬディスプレイ等の電子デバイスは、薄型で動画表示に優れると共に、消費電力
も低いため、携帯電話のディスプレイ等の用途に使用されている。
　有機ＥＬディスプレイの基板として、ガラス基板が広く使用されている。この用途のガラス基板には無アルカリガラス（ガラス組成中のアルカリ成分の含有量が０．５モル％以下となるガラス）が使用されている。これにより、熱処理工程で成膜された半導体物質中にアルカリイオンが拡散する事態を防止することができる。
　この用途の無アルカリガラスには、例えば、以下の要求特性（１）～（３）が要求される。
（１）ガラス基板を低廉化するために、生産性に優れること、特に耐失透性や溶融性に優れること。
（２）ｐ－Ｓｉ・ＴＦＴ、特に高温ｐ－Ｓｉ等の製造工程において、ガラス基板の熱収縮を低減するために、歪点が高いこと。
（３）ガラス基板上に成膜される部材（例えば、ｐ－Ｓｉ）の熱膨張係数に整合するように、低い熱膨張係数を有すること。
　ところが、上記要求特性（１）と（２）を両立させることは容易ではない。すなわち、無アルカリガラスの歪点を高めようとすると、耐失透性と溶融性が低下し易くなり、逆に無アルカリガラスの耐失透性と溶融性を高めようとすると、歪点が低下し易くなる。
　また、上記要求特性（１）と（３）を両立させることも容易ではない。すなわち、無アルカリガラスの熱膨張係数を低下させようとすると、耐失透性と溶融性が低下し易くなり、逆に無アルカリガラスの耐失透性と溶融性を高めようとすると、熱膨張係数が上昇し易くなる。
　また、ディスプレイの薄型化には、一般的に、ガラス基板のケミカルエッチングが用いられている。この方法は、２枚のガラス基板を貼り合わせたディスプレイパネルをＨＦ（フッ酸）系薬液に浸漬させることにより、ガラス基板を薄くする方法である。よって、ガラス基板のケミカルエッチングを行う場合、要求特性（１）～（３）に加えて、ディスプレイパネルの生産効率を上げるために、ＨＦによるエッチングレートが高いことが求められる。
　更に、ガラス基板の撓みに起因する不具合を抑制するために、ヤング率（又は比ヤング率）が高いことが求められることもある。
　本発明は、上記事情に鑑み成されたものであり、その技術的課題は、耐熱性が高く、熱膨張係数が低く、しかも生産性に優れるガラスを創案することである。
　本発明者は、種々の実験を繰り返した結果、ガラス組成を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決できることを見出し、本発明として、提案するものである。すなわち、本発明のガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２　５５～８０％、Ａｌ２Ｏ３　１２～３０％、Ｂ２Ｏ３　０～３％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　５～３５％を含有し、且つ３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が４０×１０－７／℃未満であることを特徴とする。ここで、「Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ」は、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの合量を指す。「ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの合量を指す。「３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数」は、ディラトメーターで測定した平均値を指す。
　本発明のガラスは、ガラス組成中にＡｌ２Ｏ３を１２モル％以上、ガラス組成中のＢ２Ｏ３の含有量を３モル％以下、且つＬｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量を１モル％以下に規制している。このようにすれば、歪点が顕著に上昇して、ガラス基板の耐熱性を大幅に高めることができる。更に熱膨張係数を低下させ易くなる。
　また本発明のガラスは、ガラス組成中にＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯを５～２５モル％含む。このようにすれば、耐失透性を高めることができる。
　第二に、本発明のガラスは、Ｂ２Ｏ３の含有量が１モル％未満であることが好ましい。
　第三に、本発明のガラスは、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量が０．５モル％以下であることが好ましい。
　第四に、本発明のガラスは、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３が０．３～３であることが好ましい。ここで、「（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの合量をＡｌ２Ｏ３の含有量で割った値である。
　第五に、本発明のガラスは、モル比ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が０．５以上であることが好ましい。ここで、「ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）」は、ＭｇＯの含有量をＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの合量で割った値である。
　第六に、本発明のガラスは、歪点が７５０℃以上であることが好ましい。ここで、「歪点」は、ＡＳＴＭＣ３３６の方法に基づいて測定した値を指す。
　第七に、本発明のガラスは、歪点が８００℃以上であることが好ましい。
　第八に、本発明のガラスは、（１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度－歪点）が１０００℃以下であることが好ましい。ここで、「高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度」は、白金球引き上げ法で測定した値を指す。
　第九に、本発明のガラスは、１０２．５ｄＰａ・ｓの粘度における温度が１８００℃以下であることが好ましい。
　第十に、本発明のガラスは、平板形状であることが好ましい。
　第十一に、本発明のガラスは、有機ＥＬディスプレイの基板に用いることが好ましい。
　本発明のガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２　５５～８０％、Ａｌ２Ｏ３　１２～３０％、Ｂ２Ｏ３　０～３％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　５～３５％を含有する。上記のように、各成分の含有量を規制した理由を以下に説明する。なお、各成分の説明において、下記の％表示は、モル％を指す。
　ＳｉＯ２の好適な下限範囲は５５％以上、５８％以上、６０％以上、６５％以上、特に６８％以上であり、好適な上限範囲は好ましくは８０％以下、７５％以下、７３％以下、７２％以下、７１％以下、特に７０％以下である。ＳｉＯ２の含有量が少な過ぎると、Ａｌ２Ｏ３を含む失透結晶による欠陥が生じ易くなると共に、歪点が低下し易くなる。また高温粘度が低下して、液相粘度が低下し易くなる。一方、ＳｉＯ２の含有量が多過ぎると、熱膨張係数が不当に低下することに加えて、高温粘度が高くなって、溶融性の低下、更にはＳｉＯ２を含む失透結晶等が生じ易くなる。
　Ａｌ２Ｏ３の好適な下限範囲は１１％以上、１２％以上、１３％以上、１４％以上、特に１５％以上であり、好適な上限範囲は３０％以下、２５％以下、２０％以下、１７％以下、特に１６％以下である。Ａｌ２Ｏ３の含有量が少な過ぎると、ヤング率が低下したり、歪点が低下し易くなったり、高温粘性が高くなり溶融性が低下し易くなる。一方、Ａｌ２Ｏ３の含有量が多過ぎると、Ａｌ２Ｏ３を含む失透結晶が生じ易くなる。
　モル比ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３は、高歪点と高耐失透性を両立する観点から、好ましくは、２～６、３～５．５、３．５～５．５、４～５．５、４．５～５．５、特に４．５～５である。なお、「ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３」は、ＳｉＯ２の含有量をＡｌ２Ｏ３の含有量で割った値である。
　Ｂ２Ｏ３の好適な上限範囲は３％以下、１％以下、１％未満、特に０．１％以下である。Ｂ２Ｏ３の含有量が多過ぎると、歪点が大幅に低下したり、ヤング率が大幅に低下する虞がある。
　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの好適な上限範囲は１％以下、１％未満、０．５％以下、特に０．２％以下である。Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量が多過ぎると、高温ｐ－Ｓｉ工程等でアルカリイオンが半導体物質に拡散して、半導体特性が低下し易くなる。なお、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの好適な上限範囲は、それぞれ１％以下、１％未満、０．５％以下、０．３％以下、特に０．２％以下である。
　ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの好適な下限範囲は５％以上、７％以上、９％以上、１１％以上、１３％以上、特に１４％以上であり、好適な上限範囲は３５％以下、３０％以下、２５％以下、２０％以下、１８％以下、１７％以下、特に１６％以下である。ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量が少な過ぎると、液相温度が大幅に上昇して、ガラス中に失透結晶が生じ易くなったり、高温粘性が高くなって溶融性が低下し易くなる。一方、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量が多過ぎると、歪点が低下し易くなり、またアルカリ土類元素を含む失透結晶が生じ易くなる。
　ＭｇＯの好適な下限範囲は０％以上、１％以上、２％以上、３％以上、４％以上、５％以上、特に６％以上であり、好適な上限範囲は１５％以下、１０％以下、８％以下、特に７％以下である。ＭｇＯの含有量が少な過ぎると、溶融性が低下し易くなったり、アルカリ土類元素を含む結晶の失透性が高くなり易い。一方、ＭｇＯの含有量が多過ぎると、Ａｌ２Ｏ３を含む失透結晶の析出を助長して、液相粘度を低下させてしまったり、歪点が大幅に低下してしまう。なお、ＭｇＯは、ヤング率を高める効果を有するが、アルカリ土類酸化物の中で、その効果が最も顕著である。
　ＣａＯの好適な下限範囲は２％以上、３％以上、４％以上、５％以上、６％以上、特に７％以上であり、好適な上限範囲は２０％以下、１５％以下、１２％以下、１１％以下、１０％以下、特に９％以下である。ＣａＯの含有量が少な過ぎると、溶融性が低下し易くなる。一方、ＣａＯの含有量が多過ぎると、液相温度が上昇して、ガラス中に失透結晶が生じ易くなる。なお、ＣａＯは、他のアルカリ土類酸化物と比較して、歪点を低下させずに液相粘度を改善する効果や溶融性を高める効果が大きい。またＣａＯは、ＭｇＯに少し劣るものの、高ヤング率化に有効な成分である。
　ＳｒＯの好適な下限範囲は０％以上、１％以上、特に２％以上であり、好適な上限範囲は１０％以下、８％以下、７％以下、６％以下、５％以下、特に４％以下である。ＳｒＯの含有量が少な過ぎると、歪点が低下し易くなる。一方、ＳｒＯの含有量が多過ぎると、液相温度が上昇して、ガラス中に失透結晶が生じ易くなる。また溶融性が低下し易くなる。更にＣａＯとの共存下でＳｒＯの含有量が多くなると、耐失透性が低下する傾向がある。
　ＢａＯの好適な下限範囲は０％以上、１％以上、２％以上、３％以上、特に４％以上、であり、好適な上限範囲は１５％以下、１２％以下、１１％以下、特に１０％以下である。ＢａＯの含有量が少な過ぎると、歪点や熱膨張係数が低下し易くなる。一方、ＢａＯの含有量が多過ぎると、液相温度が上昇して、ガラス中に失透結晶が生じ易くなる。また溶融性が低下し易くなる。なお、ＢａＯは、アルカリ土類金属酸化物の中では最もヤング率を下げる効果の高い元素なため、高ヤング率化の観点からはなるべく含有量を抑えるか、含有量が多い場合はＭｇＯと共存する設計にする必要がある。
　耐失透性を高める観点から、モル比ＭｇＯ／ＣａＯの下限範囲は、好ましくは０．１以上、０．２以上、０．３以上、特に０．４以上であり、上限範囲は、好ましくは２以下、１以下、０．８以下、０．７以下、特に０．６以下である。なお、「ＭｇＯ／ＣａＯ」は、ＭｇＯの含有量をＣａＯの含有量で割った値を指す。
　耐失透性を高める観点から、モル比ＢａＯ／ＣａＯの下限範囲は、好ましくは０．２以上、０．５以上、０．６以上、０．７以上、特に０．８以上であり、上限範囲は、好ましくは５以下、４．５以下、３以下、２．５以下、特に２以下である。なお、「ＢａＯ／ＣａＯ」は、ＢａＯの含有量をＣａＯの含有量で割った値を指す。
　歪点と溶融性のバランスを鑑みると、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３の下限範囲は、好ましくは０．３以上、０．５以上、０．７以上、特に０．８以上であり、上限範囲は、好ましくは３．０以下、２．５以下、２．０以下、１．５以下、１．２以下、特に１．１以下である。
　モル比ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）は、好ましくは０．１以上、０．２以上、０．３以上、０．４以上、０．５以上、特に０．６以上である。このようにすれば、溶融性が向上し易くなる。一方、ＭｇＯは、歪点を大幅に低下させる成分であり、ＭｇＯの含有量が少ない領域では、歪点を低下させる効果が顕著である。よって、アルカリ土類金属酸化物の中でＭｇＯの含有割合は少ない方が好ましく、モル比ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）は、好ましくは０．８以下、特に０．７以下である。
　７×［ＭｇＯ］＋５×［ＣａＯ］＋４×［ＳｒＯ］＋４×［ＢａＯ］は、好ましくは１００％以下、９０％以下、８０％以下、７０％以下、６５％以下、特に６０％以下である。アルカリ土類金属元素は、何れも歪点を低下させる効果を有するが、その影響はイオン半径が小さい元素ほど大きくなる。よって、イオン半径が大きなアルカリ土類元素の割合が大きくなるように、７×［ＭｇＯ］＋５×［ＣａＯ］＋４×［ＳｒＯ］＋４×［ＢａＯ］の上限範囲を規制すると、歪点を優先的に高めることができる。なお、［ＭｇＯ］はＭｇＯの含有量、［ＣａＯ］はＣａＯの含有量、［ＳｒＯ］はＳｒＯの含有量、［ＢａＯ］はＢａＯの含有量をそれぞれ指す。そして、「７×［ＭｇＯ］＋５×［ＣａＯ］＋４×［ＳｒＯ］＋４×［ＢａＯ］」は、７倍の［ＭｇＯ］、５倍の［ＣａＯ］、４倍の［ＳｒＯ］及び４倍の［ＢａＯ］の合量を指す。
　２１×［ＭｇＯ］＋２０×［ＣａＯ］＋１５×［ＳｒＯ］＋１２×［ＢａＯ］は、好ましくは２００％以上、２１０％以上、２２０％以上、２３０％以上、２４０％以上、２５０％以上、特に３００～１０００％である。アルカリ土類金属元素は、何れも溶融性を高める効果があるが、その影響はイオン半径が小さい元素ほど大きくなる。よって、イオン半径が小さなアルカリ土類元素の割合が小さくなるように、２１×［ＭｇＯ］＋２０×［ＣａＯ］＋１５×［ＳｒＯ］＋１２×［ＢａＯ］の下限範囲を規制すると、溶融性を優先的に高めることができる。但し、２１×［ＭｇＯ］＋２０×［ＣａＯ］＋１５×［ＳｒＯ］＋１２×［ＢａＯ］が大き過ぎると、歪点が低下する虞がある。なお、「２１×［ＭｇＯ］＋２０×［ＣａＯ］＋１５×［ＳｒＯ］＋１２×［ＢａＯ］」は、２１倍の［ＭｇＯ］、２０倍の［ＣａＯ］、１５倍の［ＳｒＯ］及び１２倍の［ＢａＯ］の合量を指す。
　本発明者の調査によると、Ａｌ２Ｏ３の含有量が多く、イオン半径が小さなアルカリ土類元素の割合を大きくする（特にＭｇＯの含有量を多く、ＢａＯの含有量を少なくする）と、ヤング率を効果的に高めることができる。よって、９×［Ａｌ２Ｏ３］＋７×［ＭｇＯ］－４×［ＢａＯ］は、好ましくは９５％以上、１０５％以上、１１５％以上、１２５％以上、特に１３５％以上である。なお、「９×［Ａｌ２Ｏ３］＋７×［ＭｇＯ］－４×［ＢａＯ］」は、９倍の［Ａｌ２Ｏ３］と７倍の［ＭｇＯ］の合量から４倍の［ＢａＯ］を減じた量を指す。
　［ＭｇＯ］＋［ＣａＯ］＋３×［ＳｒＯ］＋４×［ＢａＯ］は、好ましくは２７％以下、２６％以下、２５％以下、２４％以下、特に２３％以下である。［ＭｇＯ］＋［ＣａＯ］＋３×［ＳｒＯ］＋４×［ＢａＯ］が大き過ぎると、密度が上昇し易くなるため、比ヤング率が低下して、自重による撓み量が大きくなり易い。なお、「［ＭｇＯ］＋［ＣａＯ］＋３×［ＳｒＯ］＋４×［ＢａＯ］」は、［ＭｇＯ］、［ＣａＯ］、３倍の［ＳｒＯ］及び４倍の［ＢａＯ］の合量を指す。
　上記成分以外にも、以下の成分をガラス組成中に導入してもよい。
　ＺｎＯは、溶融性を高める成分であるが、ガラス組成中に多量に含有させると、ガラスが失透し易くなり、また歪点が低下し易くなる。よって、ＺｎＯの含有量は、好ましくは０～５％、０～３％、０～０．５％、０～０．３％、特に０～０．１％である。
　ＺｒＯ２は、ヤング率を高める成分である。ＺｒＯ２の含有量は、好ましくは０～５％、０～３％、０～０．５％、０～０．２％、特に０～０．０２％である。ＺｒＯ２の含有量が多過ぎると、液相温度が上昇して、ジルコンの失透結晶が析出し易くなる。
　ＴｉＯ２は、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であると共に、ソラリゼーションを抑制する成分であるが、ガラス組成中に多く含有させると、ガラスが着色し易くなる。よって、ＴｉＯ２の含有量は、好ましくは０～５％、０～３％、０～１％、０～０．１％、特に０～０．０２％である。
　Ｐ２Ｏ５は、耐失透性を高める成分であるが、ガラス組成中に多量に含有させると、ガラスが分相、乳白し易くなり、また耐水性が大幅に低下する虞がある。よって、Ｐ２Ｏ５の含有量は、好ましくは０～５％、０～４％、０～３％、０～２％未満、０～１％、０～０．５％、特に０～０．１％である。
　ＳｎＯ２は、高温域で良好な清澄作用を有する成分であると共に、高温粘性を低下させる成分である。ＳｎＯ２の含有量は、好ましくは０～１％、０．０１～０．５％、０．０１～０．３％、特に０．０４～０．１％である。ＳｎＯ２の含有量が多過ぎると、ＳｎＯ２の失透結晶が析出し易くなる。
　上記の通り、本発明のガラスは、清澄剤として、ＳｎＯ２の添加が好適であるが、ガラス特性を損なわない限り、清澄剤として、ＣｅＯ２、ＳＯ３、Ｃ、金属粉末（例えばＡｌ、Ｓｉ等）を１％まで添加してもよい。
　Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｆ、Ｃｌも清澄剤として有効に作用し、本発明のガラスは、これらの成分の含有を排除するものではないが、環境的観点から、これらの成分の含有量はそれぞれ０．１％未満、特に０．０５％未満が好ましい。
　ＳｎＯ２を０．０１～０．５％含む場合、Ｒｈ２Ｏ３の含有量が多過ぎると、ガラスが着色し易くなる。なお、Ｒｈ２Ｏ３は、白金の製造容器から混入する可能性がある。Ｒｈ２Ｏ３の含有量は、好ましくは０～０．０００５％、より好ましくは０．００００１～０．０００１％である。
　ＳＯ３は、不純物として、原料から混入する成分であるが、ＳＯ３の含有量が多過ぎると、溶融や成形中に、リボイルと呼ばれる泡を発生させて、ガラス中に欠陥を生じさせる虞がある。ＳＯ３の好適な下限範囲は０．０００１％以上であり、好適な上限範囲は０．００５％以下、０．００３％以下、０．００２％以下、特に０．００１％以下である。
　希土類酸化物（Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ等の酸化物）の含有量は、好ましくは２％未満、１％以下、特に１％未満である。特に、Ｌａ２Ｏ３＋Ｙ２Ｏ３の含有量は、好ましくは２％未満、１％未満、０．５％未満、特に０．１％未満である。Ｌａ２Ｏ３の含有量は、好ましくは２％未満、１％未満、０．５％未満、特に０．１％未満である。希土類酸化物の含有量が多過ぎると、バッチコストが増加し易くなる。なお、「Ｙ２Ｏ３＋Ｌａ２Ｏ３」は、Ｙ２Ｏ３とＬａ２Ｏ３の合量である。
　本発明のガラスは、以下の特性を有することが好ましい。
　密度は、好ましくは２．８０ｇ／ｃｍ３以下、２．７０ｇ／ｃｍ３以下、２．６０ｇ／ｃｍ３以下、特に２．５０ｇ／ｃｍ３以下である。密度が高過ぎると、ディスプレイの軽量化を達成し難くなる。
　３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数は、好ましくは４０×１０－７／℃未満、３８×１０－７／℃以下、３６×１０－７／℃以下、３４×１０－７／℃以下、特に２８×１０－７～３３×１０－７／℃が好ましい。３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が高過ぎると、ガラス基板上に成膜される部材（例えば、ｐ－Ｓｉ）の熱膨張係数に整合し難くなり、ガラス基板に反りが発生し易くなる。
　歪点は、好ましくは７５０℃以上、７８０℃以上、８００℃以上、８１０℃以上、８２０℃以上、特に８３０～１０００℃が好ましい。歪点が低過ぎると、熱処理工程でガラス基板が熱収縮し易くなる。
　ヤング率は、好ましくは７５ＧＰａ超、７７ＧＰａ以上、７８ＧＰａ以上、７９ＧＰａ以上、特に８０ＧＰａ以上である。ヤング率が低過ぎると、ガラス基板の撓みに起因する不具合、例えば電子デバイスの画像面が歪んで見える等の不具合が発生し易くなる。
　比ヤング率は、好ましくは３０ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ３）超、３０．２ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ３）以上、３０．４ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ３）以上、３０．６ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ３）以上、特に３０．８ＧＰａ／（ｇ／ｃｍ３）以上である。比ヤング率が低過ぎると、ガラス基板の撓みに起因して、ガラス基板の搬送時に割れる等の不具合が発生し易くなる。
　１０質量％ＨＦ水溶液に室温で３０分間浸漬した時のエッチング深さは、好ましくは２５μｍ以上、２７μｍ以上、２８μｍ以上、２９～５０μｍ、特に３０～４５μｍになることが好ましい。このエッチング深さは、エッチングレートの指標になる。すなわち、エッチング深さが大きいと、エッチングレートが速くなり、エッチング深さが小さいと、エッチングレートが遅くなる。なお、ＳｉＯ２の含有量を少なくすると、エッチングレートを高速化し易くなるが、アルカリ土類金属の内、イオン半径の大きな元素を優先的に導入することでもエッチングレートを高速化し易くなる。
　本発明に係るＳｉＯ２－Ａｌ２Ｏ３－ＲＯ（ＲＯはアルカリ土類金属酸化物を指す）系ガラスは、一般的に、溶融し難い。このため、溶融性の向上が課題になる。溶融性を高めると、泡、異物等による不良率が軽減されるため、高品質のガラス基板を大量、且つ安価に供給することができる。一方、高温粘度が高過ぎると、溶融工程で脱泡が促進され難くなる。よって、高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、好ましくは１８００℃以下、１７５０℃以下、１７００℃以下、１６８０℃以下、１６７０℃以下、１６５０℃以下、特に１６３０℃以下である。なお、高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、溶融温度に相当し、この温度が低い程、溶融性に優れている。
　（１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度－歪点）は、高歪点と低溶融温度を両立させる観点から、好ましくは１０００℃以下、９００℃以下、８５０℃以下、特に８００℃以下である。
　平板形状に成形する場合、耐失透性が重要になる。本発明に係るＳｉＯ２－Ａｌ２Ｏ３－ＲＯ系ガラスの成形温度を考慮すると、液相温度は、好ましくは１４５０℃以下、１４００℃以下、特に１３００℃以下である。また、液相粘度は、好ましくは１０３．０ｄＰａ・ｓ以上、１０３．５ｄＰａ・s以上、特に１０４．０ｄＰａ・s以上である。なお、「液相温度」は、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値を指す。「液相粘度」は、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。
　本発明のガラスは、種々の成形方法で成形可能である。例えば、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウンドロー法、リドロー法、フロート法、ロールアウト法等でガラス基板を成形することが可能である。なお、オーバーフローダウンドロー法でガラス基板を成形すれば、表面平滑性が高いガラス基板を作製し易くなる。
　本発明のガラスは、平板形状である場合、その板厚は、好ましくは１．０ｍｍ以下、０．７ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下、特に０．４ｍｍ以下である。板厚が小さい程、電子デバイスを軽量化し易くなる。一方、板厚が小さい程、ガラス基板が撓み易くなるが、本発明のガラスは、ヤング率や比ヤング率が高いため、撓みに起因する不具合が生じ難い。なお、板厚は、成形時の流量や板引き速度等で調整可能である。
　本発明のガラスにおいて、β－ＯＨ値を低下させると、歪点を高めることができる。β－ＯＨ値は、好ましくは０．４５／ｍｍ以下、０．４０／ｍｍ以下、０．３５／ｍｍ以下、０．３０／ｍｍ以下、０．２５／ｍｍ以下、０．２０／ｍｍ以下、特に０．１５／ｍｍ以下である。β－ＯＨ値が大き過ぎると、歪点が低下し易くなる。なお、β－ＯＨ値が小さ過ぎると、溶融性が低下し易くなる。よって、β－ＯＨ値は、好ましくは０．０１/ｍｍ以上、特に０．０５/ｍｍ以上である。
　β－ＯＨ値を低下させる方法として、以下の方法が挙げられる。（１）含水量の低い原料を選択する。（２）ガラス中の水分量を減少させる成分（Ｃｌ、ＳＯ３等）を添加する。（３）炉内雰囲気中の水分量を低下させる。（４）溶融ガラス中でＮ２バブリングを行う。（５）小型溶融炉を採用する。（６）溶融ガラスの流量を速くする。（７）電気溶融法を採用する。
　ここで、「β－ＯＨ値」は、ＦＴ－ＩＲを用いてガラスの透過率を測定し、下記の式を用いて求めた値を指す。
β－ＯＨ値　＝　（１／Ｘ）ｌｏｇ（Ｔ１／Ｔ２）
Ｘ：ガラス肉厚（ｍｍ）
Ｔ１：参照波長３８４６ｃｍ－１における透過率（％）
Ｔ２：水酸基吸収波長３６００ｃｍ－１付近における最小透過率（％）
　以下、実施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。なお、以下の実施例は単なる例示
である。本発明は以下の実施例に何ら限定されない。
　表１～４は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．１～５８）を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　次のように、各試料を作製した。まず表中のガラス組成になるように、ガラス原料を調合したガラスバッチを白金坩堝に入れ、１６００～１７５０℃で２４時間溶融した。ガラスバッチの溶解に際しては、白金スターラーを用いて攪拌し、均質化を行った。次いで、溶融ガラスをカーボン板上に流し出し、平板形状に成形した。得られた各試料について、密度ρ、熱膨張係数α、歪点Ｐｓ、徐冷点Ｔａ、軟化点Ｔｓ、高温粘度１０４．０ｄＰａ・ｓにおける温度、高温粘度１０３．０ｄＰａ・ｓにおける温度、高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度、液相温度ＴＬ、液相粘度ｌｏｇηＴＬを評価した。
　密度ρは、周知のアルキメデス法によって測定した値である。
　熱膨張係数αは、３０～３８０℃の温度範囲において、ディラトメーターで測定した平均値である。
　歪点Ｐｓ、徐冷点Ｔａ、軟化点Ｔｓは、ＡＳＴＭ　Ｃ３３６又はＡＳＴＭ　Ｃ３３８に準拠して測定した値である。
　高温粘度１０４．０ｄＰａ・ｓにおける温度、高温粘度１０３．０ｄＰａ・ｓにおける温度、高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。
　液相温度ＴＬは、各試料を粉砕し、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れて、温度勾配炉中に２４時間保持した後、白金ボートを取り出し、ガラス中に失透（失透結晶）が認められた温度である。液相粘度ｌｏｇηＴＬは、液相温度ＴＬにおけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値である。
　β－ＯＨ値は、上記式により算出した値である。
　表１～４から明らかなように、試料Ｎｏ．１～５８は、歪点が高く、熱膨張係数が低く、量産可能な溶融性と耐失透性を備えている。よって、試料Ｎｏ．１～５８は、有機ＥＬディスプレイの基板として好適であると考えられる。
　本発明のガラスは、歪点が高く、熱膨張係数が低く、量産可能な溶融性と耐失透性を備えている。よって、本発明のガラスは、有機ＥＬディスプレイの基板以外にも、液晶ディスプレイ等のディスプレイ用基板にも好適であり、特にＬＴＰＳ、酸化物ＴＦＴで駆動するディスプレイ用基板として好適である。更に、本発明のガラスは、半導体物質を高温で作製するためのＬＥＤ用基板としても好適である。

Claims (11)

  1. 　ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２　５５～８０％、Ａｌ２Ｏ３　１２～３０％、Ｂ２Ｏ３　０～３％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　５～３５％を含有し、且つ３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が４０×１０－７／℃未満であることを特徴とするガラス。
  2. 　Ｂ２Ｏ３の含有量が１モル％未満であることを特徴とする請求項１に記載のガラス。
  3. 　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量が０．５モル％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス。
  4. 　モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３が０．３～３であることを特徴とする請求項１～３の何れかに記載のガラス。
  5. 　モル比ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が０．５以上であることを特徴とする請求項１～４の何れかに記載のガラス。
  6. 　歪点が７５０℃以上であることを特徴とする請求項１～５の何れかに記載のガラス。
  7. 　歪点が８００℃以上であることを特徴とする請求項１～６の何れかに記載のガラス。
  8. 　（１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度－歪点）が１０００℃以下であることを特徴とする請求項１～７の何れかに記載のガラス。
  9. 　１０２．５ｄＰａ・ｓの粘度における温度が１８００℃以下であることを特徴とする請求項１～８の何れかに記載のガラス。
  10. 　平板形状であることを特徴とする請求項１～９の何れかに記載のガラス。
  11. 　有機ＥＬディスプレイの基板に用いることを特徴とする請求項１～１０の何れかに記載のガラス。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110088053A (zh) * 2016-12-19 2019-08-02 日本电气硝子株式会社 玻璃
US20210380468A1 (en) * 2018-10-05 2021-12-09 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass plate
JP2022539144A (ja) * 2019-06-26 2022-09-07 コーニング インコーポレイテッド 熱履歴の影響を受けにくい無アルカリガラス
JP2022173994A (ja) * 2021-05-10 2022-11-22 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス板
CN115572060A (zh) * 2017-06-05 2023-01-06 Ａｇｃ株式会社 强化玻璃
JP2023521805A (ja) * 2020-04-13 2023-05-25 コーニング インコーポレイテッド Ｋ２ｏを含有するディスプレイ用ガラス

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113045197A (zh) * 2015-04-03 2021-06-29 日本电气硝子株式会社 玻璃
CN115504675B (zh) 2017-12-19 2024-04-30 欧文斯科宁知识产权资产有限公司 高性能玻璃纤维组合物
JP7418947B2 (ja) * 2018-01-31 2024-01-22 日本電気硝子株式会社 ガラス
CN116813196A (zh) * 2018-06-19 2023-09-29 康宁股份有限公司 高应变点且高杨氏模量玻璃
CN108658454A (zh) * 2018-07-31 2018-10-16 中南大学 一种低热膨胀系数无碱高铝硼硅酸盐玻璃及其制备方法
CN118026526B (zh) * 2024-01-31 2025-11-07 浙江大学 玻璃组合物、高性能电子玻璃基板及其制备方法
CN120247537B (zh) * 2025-05-29 2025-08-22 山东盛日奥鹏环保新材料集团股份有限公司 一种基于煅烧α-Al2O3的电子陶瓷材料及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011105554A (ja) * 2009-11-19 2011-06-02 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス繊維用ガラス組成物、ガラス繊維及びガラス製シート状物
JP2012184146A (ja) * 2011-03-08 2012-09-27 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス
JP2012236759A (ja) * 2011-04-25 2012-12-06 Nippon Electric Glass Co Ltd 液晶レンズ用ガラス基板

Family Cites Families (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4180618A (en) 1977-07-27 1979-12-25 Corning Glass Works Thin silicon film electronic device
JPS6042246A (ja) * 1983-08-18 1985-03-06 Toshiba Corp 基板用ガラス
JPS6144732A (ja) * 1984-08-06 1986-03-04 Toshiba Corp 基板用ガラス
JPS61236631A (ja) * 1985-04-10 1986-10-21 Ohara Inc 耐火・耐熱性ガラス
JPS61261232A (ja) * 1985-05-13 1986-11-19 Ohara Inc 耐火・耐熱性ガラス
US4634684A (en) * 1985-10-23 1987-01-06 Corning Glass Works Strontium aluminosilicate glass substrates for flat panel display devices
US4634683A (en) * 1985-10-23 1987-01-06 Corning Glass Works Barium and/or strontium aluminosilicate crystal-containing glasses for flat panel display devices
JPH0818845B2 (ja) * 1987-11-11 1996-02-28 日本板硝子株式会社 電子機器用ガラス基板
US5508237A (en) * 1994-03-14 1996-04-16 Corning Incorporated Flat panel display
US5489558A (en) * 1994-03-14 1996-02-06 Corning Incorporated Glasses for flat panel display
JP3800657B2 (ja) * 1996-03-28 2006-07-26 旭硝子株式会社 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル
JP3804112B2 (ja) * 1996-07-29 2006-08-02 旭硝子株式会社 無アルカリガラス、無アルカリガラスの製造方法およびフラットディスプレイパネル
US6809050B1 (en) 2000-10-31 2004-10-26 Owens Corning Fiberglas Technology, Inc. High temperature glass fibers
JP3897170B2 (ja) 2002-01-21 2007-03-22 日本板硝子株式会社 赤外発光体および光増幅媒体
JP4790300B2 (ja) * 2005-04-14 2011-10-12 株式会社日立製作所 ガラス
WO2007095115A1 (en) * 2006-02-10 2007-08-23 Corning Incorporated Glass compositions having high thermal and chemical stability and methods of making thereof
JP4947486B2 (ja) * 2006-05-18 2012-06-06 日本電気硝子株式会社 平面画像表示装置用ガラスおよびそれを用いたガラス基板並びにその製造方法
JP4882854B2 (ja) * 2007-04-27 2012-02-22 セントラル硝子株式会社 ガラス用コーティング組成物
US7709406B2 (en) * 2007-07-31 2010-05-04 Corning Incorporation Glass compositions compatible with downdraw processing and methods of making and using thereof
US8187715B2 (en) 2008-05-13 2012-05-29 Corning Incorporated Rare-earth-containing glass material and substrate and device comprising such substrate
JP5292028B2 (ja) * 2008-09-10 2013-09-18 株式会社オハラ ガラス
EP2351716A4 (en) * 2008-09-10 2013-03-20 Ohara Kk GLASS
JP2011011933A (ja) * 2009-06-30 2011-01-20 Hitachi Automotive Systems Ltd 耐熱性及び耐食性を有するガラス
EP2450319A4 (en) 2009-07-02 2015-01-28 Asahi Glass Co Ltd ALKALIFREE GLASS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
JP5874304B2 (ja) * 2010-11-02 2016-03-02 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
EP2639205B1 (en) * 2010-11-08 2019-03-06 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass
US8796165B2 (en) * 2010-11-30 2014-08-05 Corning Incorporated Alkaline earth alumino-borosilicate crack resistant glass
KR101752033B1 (ko) * 2010-12-07 2017-06-28 아사히 가라스 가부시키가이샤 무알칼리 유리 및 무알칼리 유리의 제조 방법
KR101751569B1 (ko) * 2010-12-27 2017-06-27 아사히 가라스 가부시키가이샤 무알칼리 유리 및 무알칼리 유리의 제조 방법
CN103347830A (zh) * 2011-01-25 2013-10-09 康宁股份有限公司 具有高热稳定性和化学稳定性的玻璃组合物
CN103987666B (zh) * 2011-12-06 2016-05-25 旭硝子株式会社 无碱玻璃的制造方法
CN104039727A (zh) * 2011-12-29 2014-09-10 日本电气硝子株式会社 无碱玻璃
JP5943064B2 (ja) * 2012-02-27 2016-06-29 旭硝子株式会社 無アルカリガラスの製造方法
US9162919B2 (en) * 2012-02-28 2015-10-20 Corning Incorporated High strain point aluminosilicate glasses
JP6086119B2 (ja) * 2012-05-31 2017-03-01 旭硝子株式会社 無アルカリガラス基板、および、無アルカリガラス基板の薄板化方法
CN104364215A (zh) * 2012-06-05 2015-02-18 旭硝子株式会社 无碱玻璃及其制造方法
EP2857366A1 (en) * 2012-06-05 2015-04-08 Asahi Glass Company, Limited Alkali-free glass and method for producing same
EP2860161A1 (en) * 2012-06-07 2015-04-15 Asahi Glass Company, Limited Alkali-free glass and alkali-free glass plate using same
CN110698057A (zh) * 2012-12-21 2020-01-17 康宁股份有限公司 具有改进的总节距稳定性的玻璃
JP5914453B2 (ja) * 2012-12-28 2016-05-11 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
WO2014175215A1 (ja) * 2013-04-23 2014-10-30 旭硝子株式会社 無アルカリガラス基板およびその製造方法
US9527767B2 (en) * 2013-05-09 2016-12-27 Corning Incorporated Alkali-free phosphoborosilicate glass
JP2015027932A (ja) * 2013-06-27 2015-02-12 旭硝子株式会社 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板
JP6299472B2 (ja) * 2013-06-27 2018-03-28 旭硝子株式会社 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板
JP2015027931A (ja) * 2013-06-27 2015-02-12 旭硝子株式会社 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板
JP6308044B2 (ja) * 2013-06-27 2018-04-11 旭硝子株式会社 磁気記録媒体用無アルカリガラス、および、これを用いた磁気記録媒体用ガラス基板
JP2016153346A (ja) * 2013-06-27 2016-08-25 旭硝子株式会社 無アルカリガラス
FR3008695B1 (fr) * 2013-07-16 2021-01-29 Corning Inc Verre aluminosilicate dont la composition est exempte de metaux alcalins, convenant comme substrat de plaques de cuisson pour chauffage a induction
KR102559221B1 (ko) * 2014-10-31 2023-07-25 코닝 인코포레이티드 치수적으로 안정한 급속 에칭 유리
CN113045197A (zh) * 2015-04-03 2021-06-29 日本电气硝子株式会社 玻璃
JP6663010B2 (ja) * 2015-12-01 2020-03-11 コーナーストーン・マテリアルズ・テクノロジー・カンパニー・リミテッドＫｏｒｎｅｒｓｔｏｎｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏｍｐａｎｙ， Ｌｔｄ． 低ホウ素とバリウムフリーのアルカリ土類アルミノシリケートガラス及びその応用
US10045422B2 (en) * 2016-02-24 2018-08-07 Leviton Manufacturing Co., Inc. System and method for light-based activation of an occupancy sensor wireless transceiver

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011105554A (ja) * 2009-11-19 2011-06-02 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス繊維用ガラス組成物、ガラス繊維及びガラス製シート状物
JP2012184146A (ja) * 2011-03-08 2012-09-27 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス
JP2012236759A (ja) * 2011-04-25 2012-12-06 Nippon Electric Glass Co Ltd 液晶レンズ用ガラス基板

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110088053A (zh) * 2016-12-19 2019-08-02 日本电气硝子株式会社 玻璃
CN115572060A (zh) * 2017-06-05 2023-01-06 Ａｇｃ株式会社 强化玻璃
US20210380468A1 (en) * 2018-10-05 2021-12-09 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass plate
US12077471B2 (en) * 2018-10-05 2024-09-03 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass plate
JP2022539144A (ja) * 2019-06-26 2022-09-07 コーニング インコーポレイテッド 熱履歴の影響を受けにくい無アルカリガラス
JP2023521805A (ja) * 2020-04-13 2023-05-25 コーニング インコーポレイテッド Ｋ２ｏを含有するディスプレイ用ガラス
JP7839593B2 (ja) 2020-04-13 2026-04-02 コーニング インコーポレイテッド Ｋ２ｏを含有するディスプレイ用ガラス
JP2022173994A (ja) * 2021-05-10 2022-11-22 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス板

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