WO2014199966A1 - 人工爪の除去方法、人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット - Google Patents

人工爪の除去方法、人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット Download PDF

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大橋 秀和
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    • A61K2800/81Preparation or application process involves irradiation

Definitions

  • the present invention relates to a method for removing an artificial nail, an artificial nail composition, an artificial nail, a method for forming an artificial nail, and a nail art kit.
  • Patent Literature a nail decoration called an artificial nail that has been cured by irradiating ultraviolet rays after applying a gel-like decorative curable composition containing a urethane-based resin and a photopolymerizable monomer to the nail has a clear finish. They are attracting attention for reasons such as high adhesion to nails and long-lastingness, and no smell like acrylic resins.
  • the surface of the artificial nail is conventionally rubbed with a coarse file (nail file) to make it easy to soak up the removal solution, and then in an organic solvent (removal solution) such as acetone.
  • the main method is to place the soaked cotton on the artificial nail, wind it with aluminum foil, leave it as it is, swell the artificial nail, and then peel the swollen artificial nail using a wooden spatula etc. .
  • the compositions described in Patent Documents 1 to 3 are known.
  • An object of the present invention is to provide a method for removing an artificial nail that does not impair the advantages such as the glossiness of the nail decoration and reduces the burden on the fingertips and nails without using acetone at the time of removal.
  • Another object of the present invention is to provide a nail art kit and an artificial nail composition used in the method for removing an artificial nail, and an artificial nail using the artificial nail composition.
  • ⁇ 1> a step of applying an artificial nail composition on a human or animal nail or a support to form a coating film, a step of drying and / or exposing the coating film to form an artificial nail, and Including a removing step of removing the artificial nail by contacting with a removing solution, wherein the artificial nail composition comprises (Component A) a compound having an ethylenically unsaturated group and an acid group, and / or (Component B) an acid.
  • An aqueous solution containing a group-containing polymer and having a pH of 8 or more and 11 or less preferably 8.5 to 10.9, more preferably 8.7 to 10.8, still more preferably 9 to 10.7.
  • a method of removing an artificial nail characterized by being, ⁇ 2>
  • R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group
  • X represents a single bond or a divalent linking group
  • Z represents an acid group
  • the artificial nail removal method according to ⁇ 2>, wherein Z is a carboxylic acid group ⁇ 4>
  • ⁇ 6> The method for removing an artificial nail according to ⁇ 5>, wherein the polymer having a carboxylic acid group is an acrylic polymer containing a monomer unit represented by the following formula (2):
  • R 2 represents a hydrogen atom, a methyl group, or —CH 2 Y 1
  • X 1 represents —O— or —NR 3 —
  • R 3 and R 4 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl having 6 to 12 carbon atoms Represents a group
  • L 1 represents a divalent linking group.
  • L 2 , L 3 and L 4 each independently represent a divalent linking group
  • W represents N or CR 3
  • R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent group
  • ⁇ 8> The method for removing an artificial nail according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the removal liquid contains a pH buffer
  • ⁇ 9> The method for removing an artificial nail according to ⁇ 8>, wherein the pH buffering agent includes at least one selected from the group consisting of carbonates, bicarbonates, phosphates, borates, and organic amine compounds.
  • the pH buffering agent includes a carbonate and a bicarbonate.
  • ⁇ 11> The method for removing an artificial nail according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>, wherein the removal step is a step of immersing and removing the artificial nail in a removal solution
  • ⁇ 12> The method for removing an artificial nail according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>, wherein the removing step is a step of removing the removing liquid by spraying the artificial nail.
  • R 1 ′ represents a hydrogen atom or a monovalent organic group
  • X ′ represents a divalent linking group
  • the shortest connecting Z ′ and the carbon atom to which R 1 ′ is bonded The number of atoms is 5 or more
  • Z ′ represents an acid group.
  • Z ′ is a carboxylic acid group
  • component B is an acrylic polymer and / or a urethane polymer, ⁇ 19>
  • R 2 represents a hydrogen atom, a methyl group, or —CH 2 Y 1
  • X 1 represents —O— or —NR 3 —
  • R 3 and R 4 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl having 6 to 12 carbon atoms Represents a group
  • L 1 represents a divalent linking group.
  • L 2 , L 3 and L 4 each independently represent a divalent linking group
  • W represents N or CR 3
  • R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent group
  • the artificial nail composition according to any one of ⁇ 15> to ⁇ 20>, further containing a photopolymerization initiator, ⁇ 22> An artificial nail having a layer formed by drying and / or exposing the artificial nail composition according to any one of ⁇ 15> to ⁇ 21>, ⁇ 23>
  • a step of applying the artificial nail composition according to any one of ⁇ 15> to ⁇ 21> on a human or animal nail or a support to form a coating film, and the coating film A method of forming an artificial nail, comprising: drying and / or exposing to form an artificial nail, ⁇ 24> An artificial nail composition and a removing solution, wherein the artificial nail composition is (Component A) a compound having an ethylenically unsaturated group and an acid group, and / or (Component B) an acid group.
  • a nail art kit comprising a polymer having a pH of 8 to 11 and having a pH of 8 to 11.
  • an artificial nail removal method that reduces the burden on the fingertips and nails without losing the advantages such as glossiness of the nail decoration and without using acetone at the time of removal. It was. Furthermore, a nail art kit and an artificial nail composition used in the method for removing the artificial nail, and an artificial nail using the artificial nail composition could be provided.
  • R represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group
  • R is an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group
  • (meth) acryl represents the concept containing both acryl and methacryl, and the same applies to (meth) acrylate and the like.
  • the polymer in the present specification includes copolymers and oligomers. In the present invention, a combination of preferred embodiments is a more preferred embodiment.
  • the method for removing an artificial nail comprises a step of applying an artificial nail composition on a human or animal nail or a support to form a coating film, and drying and / or exposing the coating film to form an artificial nail. And a removal step of removing the artificial nail by contacting the artificial nail with a removing solution, wherein the artificial nail composition comprises (Component A) a compound having an ethylenically unsaturated group and an acid group, and / or Alternatively, (Component B) contains a polymer having an acid group, and the removal solution is an aqueous solution having a pH of 8 or more and 11 or less.
  • the present inventor has found that an artificial nail formed using an artificial nail composition containing component A and / or component B can be removed with an aqueous solution having a pH of 8 or more and 11 or less.
  • the invention has been completed.
  • An artificial nail formed from an artificial nail composition containing component A and / or component B has an acid group.
  • an acid group it is considered that removal is possible with an aqueous solution of pH 8 or more and 11 or less, which is an alkaline aqueous solution.
  • VOC volatile organic compounds
  • the artificial nail in the present invention refers to a layer formed on a human or animal nail for the purpose of beauty and / or protection.
  • a resin base material (nail chip) having an arbitrary shape for the purpose of cosmetic decoration and / or protection of nails can be used.
  • the “human and animal nails and supports” are also simply referred to as “nails”.
  • limiting in particular in the shape of the said artificial nail What is necessary is just to form in a desired shape. For example, it may be formed so as to cover the surface of the nail, it may be formed only on a part of the nail, or it is formed in a shape larger than the nail by using a nail foam or the like to extend the nail. May be.
  • the artificial nail composition of the present invention is applied on a human or animal nail or on a support, but may be applied directly to these nails or on other layers already formed. There is no particular limitation. Among these, as described later, it is more preferable to apply as a layer (base layer) in contact with the nail. Moreover, the thickness of the artificial nail composition of the present invention can be controlled by coating. The thickness is not particularly limited as long as it can be taken by an artificial nail, but it is preferably in the range of 20 to 1,500 ⁇ m from the viewpoint of practicality and removability.
  • the artificial nail composition (also referred to as the artificial nail composition of the present invention) used in the method for removing an artificial nail of the present invention will be described first.
  • the artificial nail composition of the present invention can be suitably used for any of a primer layer, a base layer, a color layer, and / or a top layer in an artificial nail.
  • the layer formed from the artificial nail composition of the present invention is in contact with the nail, that is, the base layer.
  • You may have a primer layer, a base layer, a color layer, and / or a top layer.
  • the artificial nail composition of the present invention can be suitably used as a photocurable artificial nail composition (“artificial nail composition for gel nails”) or an artificial nail composition for nail polish. Moreover, since the artificial nail composition of the present invention is excellent in removability even when cured by exposure, it can be particularly preferably used as a photocurable artificial nail composition.
  • the photocurable artificial nail composition is an artificial nail composition curable by actinic rays. “Actinic light” is radiation that can give energy to generate a starting species in the artificial nail composition by irradiation, and includes ultraviolet light, visible light, and the like. Among these, ultraviolet rays are particularly preferable from the viewpoints of curing sensitivity and device availability. Therefore, the photocurable artificial nail composition is preferably an artificial nail composition that can be cured by irradiating ultraviolet rays as an actinic ray. Below, the various components which can be used for the artificial nail composition of this invention are demonstrated.
  • the artificial nail composition of the present invention preferably contains (Component A) a compound having an ethylenically unsaturated group and an acid group.
  • the molecular weight of component A (when having a molecular weight distribution, the weight average molecular weight) is preferably less than 3,000, preferably 72 or more and 2,000 or less, and 86 or more and 1,500 or less. Is preferably 144 or more and 1,000 or less. When the molecular weight of Component A is in the above range, the removability, curability and adhesion are excellent.
  • any compound having both an ethylenically unsaturated bond and an acid group can be suitably used.
  • each R 2 independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and the monovalent organic group is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
  • the acid group of component A includes carboxylic acid group (—COOH), sulfonic acid group (—SO 3 H), phosphoric acid group (—OPO (OH) 2 ), phosphonic acid group (—PO ( OH) 2 ) is preferred, carboxylic acid groups and phosphoric acid groups are more preferred, and carboxylic acid groups are particularly preferred.
  • the acid group may form a salt, for example, an alkali metal salt (for example, lithium salt, sodium salt, potassium salt, etc.), an alkaline earth metal salt (for example, magnesium salt, calcium salt, etc.) And organic cation salts (for example, ammonium salts and the like).
  • an alkali metal salt for example, lithium salt, sodium salt, potassium salt, etc.
  • an alkaline earth metal salt for example, magnesium salt, calcium salt, etc.
  • organic cation salts for example, ammonium salts and the like.
  • Component A is a compound having one or more ethylenically unsaturated groups, and may be a monofunctional ethylenically unsaturated compound or a polyfunctional ethylenically unsaturated compound.
  • Component A preferably has 1 to 6 ethylenically unsaturated bonds, more preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, particularly preferably 1 or 2, most preferably 1. preferable. That is, component A is most preferably a monofunctional ethylenically unsaturated compound.
  • Component A is preferably a compound represented by the following formula (1), and more preferably a compound represented by the formula (1 ').
  • R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group
  • X represents a single bond or a divalent organic group
  • Z represents an acid group.
  • R 1 ′ represents a hydrogen atom or a monovalent organic group
  • X ′ represents a divalent linking group
  • the shortest distance between Z ′ and the carbon atom to which R 1 ′ is bonded Is 5 or more
  • Z ′ represents an acid group.
  • R 1 and R 1 ′ include an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, —C ( ⁇ O) OR 2 , —C ( ⁇ O) NR 3 R 4 , —CH 2 OC ( ⁇ O) R 2 , —CH 2 NHC ( ⁇ O) R 2 , —CH 2 OR 2 (R 2 is a hydrogen atom) Represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, wherein R 3 and R 4 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms And an aryl group having 6 to 18 carbon atoms and an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms).
  • R 1 and R 1 ′ are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, —C ( ⁇ O) OR 2 , —C ( ⁇ O) NR 3 R 4 , —CH 2 OC ( ⁇ O) R 2 , —CH 2 NHC ( ⁇ O) R 2 , —CH 2 OR 2
  • R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 6 to 12 carbon atoms
  • R 3 and R 4 each independently represents hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or 2 to 6 carbon atoms.
  • R 2 represents hydrogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms
  • R 3 and R 4 are each independently A hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
  • said Me means a methyl group.
  • X represents a single bond or a divalent linking group, and more preferably a divalent linking group.
  • Specific examples of the divalent organic group represented by X include carbon (C) as an essential component, oxygen (O), nitrogen (N), sulfur (S), phosphorus (P), hydrogen (H), Examples thereof include divalent organic groups formed by appropriately selecting halogen (F, Cl, Br, I) and silicon (Si).
  • a n may have a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent
  • a n may have a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent
  • a substituent having 1 to 12 carbon atoms is preferable.
  • the shortest number of atoms connecting the carbon to which R 1 is bonded and Z (acid group) is preferably 3 or more, and more preferably 4 or more. It is preferably 5 or more (X is X ′).
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 30 or less, more preferably 20 or less, and still more preferably 10 or less.
  • An is a hydrogen atom, a halogen atom or a carbon having a substituent; oxygen (—O—); a nitrogen atom optionally having a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent (—NR— or —N ⁇ , R represents a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent.); Sulfur (—S—); a phosphorus atom having a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent; and silicon having a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent; Selected from the group consisting of
  • divalent organic groups include * —C ( ⁇ O) O—Q — **, * —C ( ⁇ O) NR 5 —Q — **, * —C ( ⁇ O) O—.
  • Examples include 2- O-Q-**, a phenylene group, and the like, but the present invention is not limited thereto.
  • R 5 and R 6 each represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • Q each independently represents an alkylene group which may have a substituent having 1 to 30 carbon atoms or an arylene group which may have a substituent having 6 to 18 carbon atoms, It may be linear, branched or cyclic, and may have an ether bond (—O—) between carbon-carbon bonds.
  • the said carbon number means the total carbon number including carbon number of a substituent.
  • each Q ′ independently represents an alkylene group which may have a substituent having 2 to 25 carbon atoms or an arylene group which may have a substituent having 6 to 12 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic, and may have an ether bond between carbon-carbon bonds.
  • Q ′′ each independently represents an alkylene group which may have a substituent having 2 to 9 carbon atoms or an arylene group which may have a substituent having 6 to 12 carbon atoms. It may be in the form of a ring, a branch, or a ring, and may have an ether bond between carbon-carbon bonds.
  • Examples of the acid group represented by Z and Z ′ include —COOH, —SO 3 H, —OPO 3 H 2 , —PO 3 H 2 , etc. Among them, —COOH and —OPO 3 H 2 are preferred, COOH is particularly preferred.
  • the component A preferably has an ethylenically unsaturated bond and an acid group bonded via some linking group, and the acid group is preferably a carboxylic acid group. That is, in the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, the acid group represented by Z is —COOH, and X is * —C ( ⁇ O) OQ ′′ — **, * —C ( ⁇ O) OQ ′′ —OC ( ⁇ O) —Q ′′ — ** is particularly preferable.
  • the monomer having an acid group examples include a (meth) acrylic acid monomer having a carboxylic acid group, a styrene monomer having a carboxylic acid group, a (meth) acrylic monomer having a sulfonic acid group, and a sulfonic acid group.
  • examples thereof include styrene monomers, (meth) acrylic acid monomers having a phosphate group, and other monomers having an acid group.
  • Examples of the (meth) acrylic acid monomer having a carboxylic acid group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (Meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyacetic acid, ⁇ -carboxyethyl (meth) acrylate, 4 -(Meth) acryloyloxybutanoic acid, 2- (meth) acryloyloxyethoxyacetic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylmaleic acid, 6- (meth) acryloyloxyhexanoate, polyethylene glycol mono (meth)
  • Examples of the styrene monomer having a carboxylic acid group include 4-carboxystyrene, and examples of the (meth) acrylic monomer having a sulfonic acid group include 3- (meth) acryloyloxypropyl sulfonic acid, 2- (meth) Examples include acrylamide-2-methyl-1-propanesulfonic acid, and examples of the styrene monomer having a sulfonic acid group include 4-vinylbenzenesulfonic acid.
  • Examples of the (meth) acrylic acid-based monomer having a phosphoric acid group include 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, polyoxyethylene (meth) acrylate phosphate, and the like.
  • Other monomers having an acid group include vinylphosphonic acid And vinyl sulfonic acid.
  • the monomer having an acid group 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- (meth) ) Acryloyloxypropyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl succinic acid, ⁇ -carboxyethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl maleic acid, 6- (meth) acryloyloxyhexanoate, 2- (meth) acryloyloxy) ethoxyacetic acid, 4- (meth) acryloyloxybutanoic acid, polyethylene glycol mono (meth) acrylate succinic acid, polyethylene glycol mono (meth) acrylate hexahydrophthalic acid, polyethylene glycol mono (meth)
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • n represents an integer of 1 to 10.
  • a polyfunctional monomer having an acid group can also be suitably used as the monomer having an acid group.
  • the polyfunctional monomer having an acid group include (meth) acrylic acid esters of carboxylic acids having two or more hydroxyl groups (eg, tartaric acid, shikimic acid, mucoic acid, etc.), carboxylic acids having two or more hydroxyl groups, and 2-isocyanate.
  • Reaction product of natoethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid amide of carboxylic acid having two or more amino groups for example, 2,3-diaminopropanoic acid, lysine, ornithine, cystine, etc.
  • two amino groups Reaction product of carboxylic acid and 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate having the above, dehydration condensate of carboxylic acid (for example, serine, threonine, etc.) and (meth) acrylic acid having a total of two or more hydroxyl groups and amino groups, hydroxyl group
  • Component A is more preferably liquid at room temperature. Also preferred are those having a solubility in ethyl acetate at room temperature of 5% by mass or more. These monomers having an acid group may be used alone or in combination of two or more. These monomers having an acid group may be used by partially or completely neutralizing the acid group with a base (for example, sodium hydroxide, potassium carbonate, triethylamine, imidazole, etc.).
  • a base for example, sodium hydroxide, potassium carbonate, triethylamine, imidazole, etc.
  • the artificial nail composition of the present invention preferably contains (Component B) a polymer having an acid group.
  • the structure of component B is not particularly limited and may be any structure. Examples thereof include a chain structure, a branched (branched) structure, a star structure, a crosslinked structure, and a network structure.
  • Examples of the polymer having an acid group used in the present invention include known polymers having an acid group (for example, acrylic polymer, urethane polymer, cellulose polymer, ester polymer, amide polymer, vinyl polymer, ether polymer). Any of styrene polymers, carbonate polymers, urea polymers, etc. can be suitably used.
  • acrylic polymers and urethane polymers are particularly preferable from the viewpoints of removability, strength, cost, and synthesis suitability.
  • the acid group include known acid groups such as a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, and a sulfuric acid group, and the carboxylic acid group is particularly preferable from the viewpoints of removability and stability.
  • the acid group may be located anywhere in the side chain or the terminal with respect to the polymer main chain, but when it is located in the side chain, two or more atoms are inserted between the polymer main chain and the acid group.
  • it contains 3 or more atoms, more preferably contains 4 or more atoms.
  • it is preferably located at the end of at least one main chain, more preferably at the ends of both main chains. Furthermore, it is also preferable to be located at both the terminal and side chain.
  • the acrylic polymer having an acid group preferably contains a monomer unit represented by the following formula (2).
  • R 2 represents a hydrogen atom, a methyl group, or —CH 2 Y 1
  • Y 1 represents a hydroxyl group, a halogeno group, —OC ( ⁇ O) R 3 , or —NR 3 C ( ⁇ O).
  • R 4 X 1 is -O- or -NR 3 - represents, R 3, R 4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms
  • L 1 represents a divalent linking group.
  • the divalent linking group represented by L 1 includes carbon as an essential element, and includes oxygen (O), nitrogen (N), sulfur (S), phosphorus (P), hydrogen (H), halogen (F, Any divalent group composed of Cl, Br, I), and silicon (Si) can be suitably used. However, it is a divalent group that connects X 1 and COOH separated by two or more atoms. It is preferably in a divalent group linking apart than 3 atom [X 1 -A 1 -A 2 - ⁇ -A n -COOH (a n wherein represents an atom, n represents an integer of 3 or more .
  • a representative)] is more preferably a divalent group linking apart than 4 atoms [X 1 -A 1 -A 2 - ⁇ -A n -COOH (a n in the formula represents an atom , N represents an integer of 4 or more.)]]] Is particularly preferable.
  • the shortest (minimum) number of atoms for linking X 1 and the carboxylic acid group is preferably large, and the use of such a divalent linking group improves the removability.
  • the upper limit of the minimum number of atoms for linking X 1 and the carboxylic acid group is not particularly limited, but is preferably 30 or less, more preferably 20 or less, from the viewpoint of synthesis and removability. More preferably, it is 10 or less.
  • * represents a bonding position of X 1 and L 1.
  • Q each independently represents an alkylene group which may have a substituent having 1 to 30 carbon atoms or an arylene group which may have a substituent having 6 to 18 carbon atoms, It may be linear, branched or cyclic, and may have an ether bond between carbon-carbon bonds.
  • the said carbon number means the total carbon number including carbon number of a substituent.
  • R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • each Q ′ independently represents an alkylene group which may have a substituent having 2 to 24 carbon atoms or an arylene group which may have a substituent having 6 to 12 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic, and may have an ether bond between carbon-carbon bonds.
  • Q ′′ is independently a substituent having 2 to 18 carbon atoms. May have Represents an alkylene group or an arylene group which may have a substituent having 6 to 12 carbon atoms, and the alkylene group may be linear, branched or cyclic, and an ether bond is formed between the carbon-carbon bonds. You may have.
  • Q ′ is preferably an alkylene group having 2 to 24 carbon atoms, and the alkylene group is preferably linear or branched, and may have an ether bond between carbon-carbon bonds.
  • Q ′′ is preferably an alkylene group which may have a substituent having 2 to 18 carbon atoms, and the alkylene group is preferably linear or branched, and an ether bond in the carbon-carbon bond. You may have.
  • acrylic polymer having a carboxylic acid group examples include an acrylic polymer synthesized using a (meth) acrylic acid monomer having a carboxylic acid group.
  • examples of the (meth) acrylic acid monomer having a carboxylic acid group include acrylic acid, methacrylic acid, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-methacryloyloxyethyl phthalic acid, 2-acryloyloxypropyl phthalic acid, 2-methacryloyloxypropyl phthalic acid, 2-acryloyloxypropyl succinic acid, 2-methacryloyloxypropyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyacetic acid, ⁇
  • acrylic acid monomers having a carboxylic acid group used for the synthesis of an acrylic polymer having a carboxylic acid group
  • acrylic ester monomer for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, t-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, etc.
  • methacrylic ester Monomers for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate
  • acrylamide monomers for example, acrylamide, N-isopropylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, acryloylmorpholine, etc.
  • Methacrylamide monomers eg methacrylamide
  • other monomers with ethylenically unsaturated bonds eg styrene, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, etc.
  • the acrylic polymer having an acid group preferably contains 5 to 50 mol% of the monomer unit represented by the above formula (2), more preferably 10 to 45 mol%, more preferably 15 to 40 mol%. It is more preferable to contain.
  • urethane polymer having a carboxylic acid group a urethane polymer containing a monomer unit represented by the following formula (3) is preferable.
  • L 2 , L 3 , and L 4 each independently represent a divalent linking group, W represents N or CR 3 , and R 3 represents a monovalent group.
  • the divalent linking group represented by L 2 and L 3 is any divalent group that contains carbon as an essential element and is composed of hydrogen, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus, halogen, and silicon. It can be preferably used.
  • the divalent linking group represented by L 2 or L 3 is preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms or an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, and is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms. More preferably.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic, and may have one or more ether bonds between carbon-carbon bonds.
  • divalent linking groups examples include methylene, ethylene, propylene, phenylene, —CH 2 CH 2 —O—CH 2 CH 2 —, poly (oxyethylene), poly (oxypropylene), etc.
  • the present invention is not limited to these examples.
  • any divalent group containing carbon as an essential element and composed of hydrogen, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus, halogen, and silicon is preferably used.
  • a n -COOH (wherein An represents It is particularly preferred that it represents an atom, and n represents an integer of 4 or more. Use of such a divalent linking group improves the removability.
  • * indicates a bonding position between W and L 4 .
  • Q represents an alkylene group which may have a substituent having 1 to 18 carbon atoms or an arylene group which may have a substituent having 6 to 12 carbon atoms, and the alkylene group is linear, It may be branched or cyclic, and may have an ether bond between carbon-carbon bonds.
  • the said carbon number means the total carbon number including carbon number of a substituent.
  • * indicates a bonding position between W and L 4 .
  • Q ′ represents an alkylene group which may have a substituent having 1 to 12 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic, and an ether bond between carbon-carbon bonds. You may have.
  • the said carbon number means the total carbon number including carbon number of a substituent.
  • Q ′′ represents an alkylene group which may have a substituent having 2 to 8 carbon atoms, and the alkylene group may be linear, branched or cyclic, and an ether bond between carbon-carbon bonds. Note that the above carbon number means the total number of carbon atoms including the carbon number of the substituent.
  • W represents N or CR 3, and is preferably N.
  • R 3 represents a monovalent group, preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Is more preferable.
  • the monomer unit represented by the formula (3) is exemplified below, but the present invention is not limited to the following specific examples.
  • a urethane type polymer is obtained by reaction of the carboxy-group containing diol compound which forms the monomer unit represented by Formula (3), and a polyisocyanate compound.
  • Preferred isocyanate compounds used are isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene bisphenyl isocyanate, tolylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, m- Examples include xylylene diisocyanate.
  • other alcohol compounds may be used in combination.
  • urethane type polymer which has a carboxylic acid group the urethane type polymer which has a carboxylic acid group at the terminal is also preferable.
  • urethane polymers having carboxylic acid groups include monool compounds having carboxylic acid groups (eg, glycolic acid, lactic acid, 3-hydroxybutanoic acid, 3-hydroxy-3-methylglutaric acid, malic acid, citric acid, salicylic acid).
  • a diol compound having a carboxylic acid group eg, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, tartaric acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, N, N-bishydroxyethylsuccinic acid monoamide, etc.
  • Polyol compounds having a carboxylic acid group eg, shikimic acid, galactaric acid, gluconic acid, etc.
  • known isocyanate compounds isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene bisphenyl isocyanate, tolylene diisocyanate, etc.
  • Compound (methano , Ethanol, 1,4-butanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, urethane polymer obtained by reacting tetraethylene glycol).
  • Component B used in the present invention includes copolymers and oligomers.
  • the polystyrene-converted weight average molecular weight measured by GPC of the polymer having an acid group is preferably 3,000 to 1,000,000, more preferably 4,000 to 500,000, and particularly preferably 5,000 to 250,000. . It is preferable that the weight average molecular weight of component B is in the above range since the durability and removability of the artificial nail are improved.
  • the polymer used in the present invention may have a radical polymerizable functional group.
  • radical polymerizable functional group (meth) acrylic acid ester group, (meth) acrylic acid amide group, styrene group, vinyl ether group, vinyl ester group are preferable, (meth) acrylic acid ester group, (meth) acrylic acid An amide group is more preferable, and a (meth) acrylic acid ester group is particularly preferable.
  • the carboxyl group equivalent in Component B is preferably 0.25 to 5.0 meq / g, and preferably 0.5 to 4.0 meq / g. More preferred is 0.75 to 3.0 meq / g.
  • the artificial nail composition of the present invention contains either component A and / or component B as an essential component.
  • the total amount of component A and component B used in the artificial nail composition is preferably 10% by mass to 95% by mass, more preferably 20% by mass to 90% by mass, and more preferably 30% by mass to 85% by mass. % Or less is particularly preferable.
  • the ratio of component A to component B is preferably from 1/10 to 10/1, more preferably from 2/10 to 10/2, 3/10 or more and 10/3 or less is particularly preferable.
  • the removal amount of the artificial nail coating is improved by the amount used.
  • the artificial nail composition of the present invention may contain a polymer other than Component B for the purpose of improving the film property and gloss.
  • a polymer other than component B is also a preferred embodiment.
  • the polymer other than Component B is preferably an acrylic polymer or a urethane polymer from the viewpoint of film properties.
  • the content of the polymer other than Component B is preferably less than the content of Component B, and the artificial nail composition It is more preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, still more preferably 5% by mass or less, and particularly preferably not contained.
  • the component A it is also a preferable aspect to use the component B as a polymer component.
  • the artificial nail composition of the present invention preferably contains (Component C) another polymerizable compound.
  • Component C is a polymerizable compound having no acid group.
  • the artificial nail composition of the present invention contains Component B, it can be suitably used as a photocurable artificial nail composition by containing Component C.
  • the artificial nail composition of the present invention contains component A and / or component C, and when component B has a radical polymerizable group, it further contains (Component D) a photopolymerization initiator described later. Is preferred.
  • component D the artificial nail composition of the present invention can be more suitably used as a photocurable artificial nail composition.
  • Component C may be a radical polymerizable compound or a cationic polymerizable compound, but is preferably a radical polymerizable compound.
  • Component C is preferably an ethylenically unsaturated compound.
  • the radical polymerizable compound is a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization, and may be any compound as long as it has at least one ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization in the molecule. And those having a chemical form such as an oligomer. Only one kind of radically polymerizable compound may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination at an arbitrary ratio in order to improve desired properties.
  • Component C is a compound other than Component A and Component B, preferably a compound having a molecular weight of less than 3,000, and more preferably a compound having a molecular weight of less than 1,000.
  • Examples of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization include esters and amides of unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid and maleic acid, and ethylenically unsaturated compounds.
  • Examples thereof include radical polymerizable compounds such as anhydrides having a saturated group, acrylonitrile, styrene, and various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides, and unsaturated urethane oligomers.
  • Component C contains an ethylenically unsaturated compound having a hydroxy group or an ethylenically unsaturated compound having a (poly) alkyleneoxy group from the viewpoint of the removability, adhesion and gloss of the resulting artificial nail.
  • it contains a (meth) acrylate compound having a hydroxy group or a (meth) acrylate compound having a (poly) alkyleneoxy group, more preferably a (meth) acrylate compound having a hydroxy group, It is particularly preferable to include a monofunctional (meth) acrylate compound having a hydroxy group.
  • Examples of the (meth) acrylate compound having a hydroxy group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2,3-dihydroxypropyl (meth).
  • hydroxyalkyl (meth) acrylate such as 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol / propylene glycol) -mono (meth) acrylate, Polyethylene glycol / polypropylene glycol / mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol / tetramethylene glycol) / mono (meth) acrylate, poly ( B propylene glycol tetramethylene glycol) - mono (meth) acrylate, polypropylene glycol polybutylene glycol - it may be mentioned preferably a mono (meth) acrylate.
  • Examples of the (meth) acrylate compound having a (poly) alkyleneoxy group include methoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, octoxypolyethyleneglycol-polypropyleneglycol- (meth) acrylate, lauroxypolyethyleneglycol- (meth) acrylate, Stearoxy polyethylene glycol- (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol- (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol-polypropylene glycol- (meth) acrylate, nonylphenoxy-polyethylene glycol- (meth) acrylate, nonylphenoxy-polypropylene glycol- (meth) ) Acrylate, Nonylphenoxy-Poly (ethylene glycol-propylene glycol)- Meth) acrylate can be a preferably exemplified.
  • (meth) acrylate compound having a hydroxy group and the (meth) acrylate compound having a (poly) alkyleneoxy group can be used as the (meth) acrylate compound having a hydroxy group and the (meth) acrylate compound having a (poly) alkyleneoxy group.
  • Representative examples are Blemmer E, Blemmer PE-90, Blemmer PE-200, Blemmer PE-350, Blemmer P, Blemmer PP-1000, Blemmer PP-500, Blemmer PP-800, Blemmer 50 PEP-300, Blemmer 70 PEP- 350B, Blemmer 55PET-800, Blemmer PPT series, Blemmer 10PPB-500B, Blemmer AE-90, Blemmer AE-200, Blemmer AE-400, Blemmer AP-150, Blemmer AP-400, Blemmer AP-550, Blemmer PME-100 , Blemmer PME-200, Blemmer PME-
  • the number of hydroxy groups in the compound is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, still more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1. preferable.
  • the number of repeating units of the alkyleneoxy group in the compound is preferably 1 to 25, more preferably 1 to 15, and more preferably 1 to 10 Further preferred.
  • Component C preferably contains a hydroxyalkyl (meth) acrylate compound, and contains 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 3-hydroxypropyl (meth) acrylate. Is more preferable, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is further preferably included.
  • Component C may contain a polyfunctional polymerizable compound from the viewpoint of the water resistance of the resulting artificial nail.
  • the polyfunctional polymerizable compound include a polyfunctional (meth) acrylate compound having a urethane bond, a polyol (meth) acrylate compound, and the like.
  • Preferred examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound having a urethane bond include urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction between an isocyanato group and a hydroxyl group.
  • Specific examples thereof include, for example, two or more ethylenic unsaturated groups in one molecule obtained by adding an ethylenically unsaturated monomer containing a hydroxyl group to an isocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule.
  • examples thereof include urethane compounds containing groups.
  • the isocyanate compounds include hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bisphenyl isocyanate, tolylene diisocyanate, m-xylylene diene.
  • Preferred examples include isocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, DESMODUR (registered trademark) manufactured by Bayer.
  • ethylenically unsaturated monomer containing a hydroxyl group examples include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2,3-dihydroxypropyl ( (Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol / propylene glycol) -mono (meth) acrylate, polyethylene glycol / polypropylene glycol- Mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol tetramethylene glycol) -mono (meth) acrylate, poly (propylene glycol tetramethylene glycol) ) -Mono (meth) acrylate, polypropylene glycol / polybutylene glycol-mono (meth) acrylate, gly
  • a (meth) acrylic ester of a bifunctional or higher polyol compound is preferably exemplified.
  • Specific examples include glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) Acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, tris (2-
  • Component C may be contained singly or in combination of two or more.
  • the content of Component C in the artificial nail composition of the present invention is not particularly limited, but the total amount of the polymerizable compound containing Component A is 1 to 80% by mass with respect to the total mass of the artificial nail composition. It is preferably 3 to 70% by mass, more preferably 10 to 60% by mass, and particularly preferably 20 to 50% by mass. It is excellent in the removability and water resistance of the obtained artificial nail as it is the said range.
  • the artificial nail composition of the present invention preferably contains (Component D) a photopolymerization initiator.
  • the artificial nail composition of the present invention can be suitably used as a photocurable artificial nail composition.
  • the photopolymerization initiator include a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator, but it is more preferable to contain a radical photopolymerization initiator.
  • a known photopolymerization initiator can be used as the photopolymerization initiator.
  • the photoinitiator which can be used for this invention may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the photopolymerization initiator that can be used in the present invention is a compound that absorbs light and generates a polymerization initiating species.
  • Examples of light include ⁇ rays, ⁇ rays, electron beams, ultraviolet rays, visible rays, and infrared rays. Among these, ultraviolet rays are preferably used.
  • photopolymerization initiator that can be used in the present invention are as follows. However, it is not limited to these examples.
  • Acetophenone derivatives for example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 4′-isopropyl-2 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -Butan-1-one, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, etc.); Benzophenone derivatives (eg, benzophenone, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 3,3-di
  • the photopolymerization initiator used in the present invention is appropriately selected in order to impart photocurability and photoselectivity of the artificial nail composition.
  • the component D includes acetophenone derivatives, benzophenone derivatives, and lophine.
  • it is a photopolymerization initiator selected from the group consisting of dimer derivatives, phosphine oxide derivatives, metallocene derivatives, oxime ester derivatives, onium salts, and borate salts, acetophenone derivatives, benzophenone derivatives, phosphine oxide derivatives, metallocene derivatives And a photopolymerization initiator selected from the group consisting of oxime ester derivatives.
  • the content of component D in the artificial nail composition of the present invention is preferably 0.01 to 20% by mass, and preferably 0.1 to 15% by mass with respect to the total mass of the artificial nail composition. More preferably, the content is 0.5 to 12% by mass. It is excellent in the adhesiveness of the obtained artificial nail, gloss, and water resistance as it is the said range.
  • the artificial nail composition of the present invention may contain (Component E) a solvent from the viewpoint of applicability.
  • a solvent any known solvent can be suitably used.
  • alcohol solvents such as ethanol, isopropanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, and acetate solvents such as ethyl acetate and butyl acetate.
  • ester solvents examples include ester solvents, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, ether solvents such as tetrahydrofuran and methyl t-butyl ether, and water.
  • ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone
  • ether solvents such as tetrahydrofuran and methyl t-butyl ether
  • the boiling point of the solvent is preferably 30 to 130 ° C, more preferably 35 to 100 ° C, still more preferably 40 to 90 ° C, and more preferably 50 to 85 ° C. Is particularly preferred. It is excellent in drying property and applicability
  • Component E may be contained alone or in combination of two or more.
  • Component E preferably includes an alcohol solvent and / or a ketone solvent, and more preferably includes an alcohol solvent and a ketone solvent.
  • the content of component E in the artificial nail composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 90% by mass, and preferably 2 to 80% by mass with respect to the total mass of the artificial nail composition. Is more preferably 3 to 80% by mass, still more preferably 5 to 50% by mass. It is excellent in applicability
  • an additive component that can generally be blended in the artificial nail composition is arbitrarily blended within a range not impairing the effects of the present invention.
  • additive components include antifoaming agents, buffering agents, chelating agents, dispersing agents, dyes, fillers, pigments, preservatives, resin powders (for example, poly (meth) acrylic acid), inorganic powders, and the like.
  • resin powders for example, poly (meth) acrylic acid
  • inorganic powders for example, silica gel
  • thickeners for example, thickeners, wetting agents, radical polymerization inhibitors (polymerization inhibitors) and the like.
  • the artificial nail composition of the present invention when used as an artificial nail composition for nail polish, the artificial nail composition preferably contains at least component B and component E.
  • components other than component B Polymers, and other additive ingredients that can generally be blended into the artificial nail composition, can optionally be blended.
  • the artificial nail composition of the present invention when used as a photocurable artificial nail composition (artificial nail composition for gel nails), does the artificial nail composition contain at least component A and component D? Component B, Component A and / or Component C, and Component D are preferably contained.
  • it contains the component A and the component D it is preferable to contain polymers other than the component B and / or the component B.
  • component E other additive components that can be generally blended into the artificial nail composition, can be arbitrarily distributed.
  • the acid value of the artificial nail composition of the present invention is preferably 0.5 mmol / g to 7.0 mmol / g, more preferably 0.75 mmol / g to 6.5 mmol / g, 1.0 mmol More preferably, it is / g to 6.0 mmol / g.
  • the acid value of the artificial nail composition is within the above range, the removability and durability are improved. It is preferable to appropriately adjust the content of component A and / or component B so that the acid value falls within the above range.
  • the artificial nail of the present invention is an artificial nail having a layer formed by the artificial nail composition of the present invention, and an artificial nail having a layer formed by drying and / or exposing the artificial nail composition of the present invention.
  • the artificial nail of the present invention is suitable for nail polish such as manicure and pedicure, and gel nail.
  • the artificial nail of the present invention only needs to be at least partially formed of the artificial nail composition of the present invention, and may have other layers or structures, or the entire artificial nail may have the artificial nail composition of the present invention. It may be formed of an object.
  • the layer formed from the artificial nail composition of the present invention can be suitably used for any of the primer layer, base layer, color layer, and / or top layer in the artificial nail of the present invention.
  • the artificial nail of the present invention may have only one layer formed by the artificial nail composition of the present invention, or may have two or more layers. Among these, from the viewpoint of removability, it is preferable that at least one layer formed by the artificial nail composition of the present invention is a layer in contact with the nail.
  • the artificial nail composition of the present invention in order to form an artificial nail using a photocurable artificial nail composition, first, the artificial nail composition of the present invention is applied on the nail (on a human or animal nail or on a support). After that, the artificial nail composition of the present invention can be formed by photo-curing by irradiating with ultraviolet rays.
  • the artificial nail composition of the present invention is first applied on the nail, then irradiated with ultraviolet rays, the artificial nail composition of the present invention is photocured to form a base layer, and then a known colorant is included.
  • the artificial nail composition of the present invention or the artificial nail composition of the present invention containing a colorant is applied and photocured to form a color layer, and finally a known artificial nail composition or the artificial nail composition of the present invention is applied. By doing so, it can be formed by forming a top layer.
  • FIG. 1 shows a more preferred artificial nail configuration in the present invention.
  • the base layer 2 is formed by irradiating with ultraviolet rays to photocur the artificial nail composition of the present invention.
  • a known artificial nail composition containing a colorant is applied and photocured to form a color layer 3
  • a known artificial nail composition is applied to form a top layer 4 to form an artificial layer.
  • a nail can be formed. By forming in this way, the stability of the artificial nail can be improved.
  • the base layer 2 is formed by irradiating with ultraviolet rays to photocur the artificial nail composition of the present invention, and then coloring.
  • the color layer 3 is formed by applying and artificially curing the artificial nail composition of the present invention containing an agent, and finally forming the top layer 4 by applying the artificial nail composition of the present invention. be able to.
  • the thickness of the layer formed of the artificial nail composition of the present invention in the artificial nail of the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 2,000 ⁇ m, and preferably 20 to 1,500 ⁇ m. Is more preferable, and 20 to 400 ⁇ m is even more preferable.
  • the artificial nail formation method of the present invention is not particularly limited as long as it is a method of forming an artificial nail using the artificial nail composition of the present invention, but the artificial nail composition of the present invention is applied to a human or animal nail. Or it is preferable that it is a method including the process of apply
  • a dry or exposure forming method can be suitably selected.
  • the artificial nail composition of the present invention contains Component A, it preferably contains Component B and / or a polymer other than Component B, and (Component D) a photopolymerization initiator, optionally (Component E).
  • a solvent may be contained.
  • the artificial composition of this invention contains the component B, it is preferable that the component A and / or the component C and the component D are included at least, or the component E is included at least.
  • the thickness of the layer formed by the artificial nail composition of the present invention in the method for forming an artificial nail of the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 2,000 ⁇ m, and preferably 20 to 1,500 ⁇ m. More preferably, the thickness is more preferably 20 to 400 ⁇ m.
  • the method for forming an artificial nail of the present invention preferably includes a step (application step) of applying the artificial nail composition of the present invention on a human or animal nail or other artificial nail to form a coating film.
  • the other artificial nail is not particularly limited as long as it is a base material used for the artificial nail.
  • the artificial nail obtained by the method for forming an artificial nail is mentioned.
  • the thickness of the coating film is not particularly limited, and the coating thickness may be appropriately adjusted in consideration of the desired thickness of the obtained artificial nail.
  • the method for forming an artificial nail of the present invention preferably includes a step of drying and / or exposing the coating film to form an artificial nail (drying or exposure step).
  • the artificial nail composition of the present invention to be used preferably contains (Component E) a solvent.
  • Component E a solvent.
  • a drying method What is necessary is just to carry out by a well-known method. Specifically, for example, a method of leaving and drying at room temperature (for example, 10 to 30 ° C.), a method of leaving and drying in an air stream, a method of drying by heating, and a method combining these are preferable.
  • the heating method is not particularly limited, and examples thereof include a method of leaving in an atmosphere at a temperature higher than room temperature, a method of leaving in a heated air current, and a method of heating by a heating means such as a heater or an infrared lamp (IR lamp). .
  • the drying time is not particularly limited and may be appropriately adjusted depending on the composition of the artificial nail composition, the drying method, and the coating thickness. From the viewpoint of simplicity and imparting smoothness and gloss by self-leveling, 10 seconds to It is preferably 20 minutes, more preferably 15 seconds to 10 minutes, further preferably 30 seconds to 5 minutes, and particularly preferably 30 seconds to 2 minutes.
  • the artificial nail composition of the present invention to be used is composed of (Component A) a compound having an ethylenically unsaturated group and an acid group, and / or (Component C) other polymerizable compound.
  • it preferably contains (Component D) a photopolymerization initiator.
  • the artificial nail composition of this invention contains the (component E) solvent in addition to these components, it is preferable to dry before performing exposure.
  • Examples of light used for exposure include ultraviolet rays and visible rays, and ultraviolet rays are particularly preferable from the viewpoint of curing sensitivity and availability of the apparatus.
  • the exposure means is not particularly limited, and known exposure means can be used.
  • UV lamps such as mercury lamps and metal halide lamps, light emitting diodes (LEDs), laser diodes (LDs), etc.
  • a UV lamp or an ultraviolet light emitting diode (UV-LED) is preferable.
  • the exposure time is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 15 minutes, more preferably 0.5 to 10 minutes, and further preferably 0.5 to 7 minutes.
  • the exposure may be performed intermittently, continuously, or with pulsed light, and may be performed by any method.
  • the method for forming an artificial nail according to the present invention is the surface of the artificial nail obtained after the drying or exposure process from the viewpoint of removal of uncured components when exposed to the gloss and aesthetics of the obtained artificial nail. It is preferable to further include a step of washing or wiping off.
  • the washing or wiping method include a method of wiping with a wiping base material such as a wipe sheet or a sponge wipe containing a solvent such as ethanol, and a method of washing with a solvent such as ethanol or water.
  • the solvent used for cleaning or wiping is preferably a solvent that does not dissolve the obtained artificial nail.
  • the method for forming an artificial nail of the present invention preferably includes a step of roughening the surface of a human or animal nail or other artificial nail before the coating step. It is excellent in the adhesiveness and durability of the artificial nail (gel nail) obtained by exposing as it is the said aspect.
  • claw surface It can carry out by a well-known method.
  • a method of roughening with a nail file such as a file is preferred.
  • the method for forming an artificial nail according to the present invention may include other known steps.
  • the method for removing an artificial nail according to the present invention includes a step (removal step) of removing the artificial nail according to the present invention by contacting with the removal liquid.
  • the removal liquid is an aqueous solution having a pH of 8 or more and 11 or less.
  • the artificial nail composition of the present invention can be removed even with an organic solvent such as acetone, which is a conventional removal solution, but it can be removed more safely with an aqueous solution having a pH of 8 or more and 11 or less without burdening the skin and nails.
  • the removal liquid suitably used in the present invention preferably comprises an organic / inorganic acid component for making basic, water, optionally a stabilizer, and optionally a surfactant.
  • preferred embodiments of the removing liquid will be described.
  • an aqueous solution having any composition can be suitably used as the removal liquid as long as the pH is 8 or more and 11 or less.
  • an alkaline agent also known as a pH buffering agent
  • a surfactant for improving removability.
  • alkaline agent (pH buffer) Any known compound can be used as the alkaline agent (pH buffer) for maintaining the pH of the removal solution at 8 to 11, but carbonates (sodium carbonate, potassium carbonate, etc.), bicarbonates ( Sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, etc.), hydroxide salts (sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.), phosphates (trisodium phosphate, etc.), borates (potassium borate, etc.), organic amine compounds (triethylamine, Triethanolamine and the like) are preferred, and carbonates and bicarbonates are particularly preferred. These alkali agents may be used in combination, and it is particularly preferable to use a carbonate and a bicarbonate together.
  • the content of the alkaline agent in the removing liquid used in the present invention is preferably 1 to 20% by mass, more preferably 3 to 15% by mass, and particularly preferably 4 to 12% by mass with respect to the mass of the removing liquid. If the total amount is 1% by mass or more, the removability is not lowered, and if it is 20% by mass or less, it is difficult to form precipitates or crystals such as alkali agents.
  • surfactant known surfactants such as an anionic surfactant, a cationic surfactant, a neutral surfactant, and an amphoteric surfactant can be used.
  • Anionic surfactants include carboxylates (eg, sodium linoleate, potassium oleate, etc.), sulfonates (eg, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, linear alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfones).
  • Acid salts, etc. sulfuric monoester salts (eg, alkyl sulfuric ester salts, etc.), phosphoric ester salts (eg, alkyl phosphoric ester salts, etc.), and the like.
  • sulfonates and carboxylates are preferable, sulfonates are more preferable, and dialkylsulfosuccinates, alkylsulfate esters, alkylbenzenesulfonates, and alkylnaphthalenesulfonates are particularly preferably used.
  • the cationic surfactant is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
  • Nonionic surfactants include polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid.
  • Amide ethylene oxide adducts oil and fat ethylene oxide adducts, polypropylene glycol ethylene oxide adducts, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymers, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymers, and other polyhydric alcohol type glycerol Fatty acid ester, fatty acid ester of pentaerythritol, fatty acid ester of sorbitol and sorbitan, Fatty acid esters of ® sugar, alkyl ethers of polyhydric alcohols, fatty acid amides of alkanolamines.
  • ethylene oxide adduct of sorbitol and / or sorbitan fatty acid ester, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, polyhydric alcohol Fatty acid esters are more preferred.
  • the nonionic surfactant preferably has an HLB (Hydrophile-Lipophile Balance) value of 6 or more, more preferably 8 or more.
  • HLB Hydrophile Balance
  • acetylene glycol-based and acetylene alcohol-based oxyethylene adducts, fluorine-based and silicon-based surfactants can be used in the same manner.
  • amphoteric surfactants are compounds having an anionic site and a cationic site in the same molecule, and are amphoteric interfaces such as amino acids, betaines, and amine oxides. An active agent is included.
  • amphoteric surfactant used in the removing liquid used in the present invention a compound represented by the following formula ⁇ 1> and a compound represented by the following formula ⁇ 2> are preferable.
  • R8 represents an alkyl group
  • R9 and R10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • R11 represents an alkylene group
  • A represents a carboxylate ion or a sulfonate ion.
  • R18, R19 and R20 each represent a hydrogen atom or an alkyl group. However, not all of R18, R19 and R20 are hydrogen atoms.
  • the alkyl group represented by R8, R9 or R10 and the alkylene group represented by R11 may be linear or branched, and may have a linking group in the chain. Moreover, it may further have a substituent.
  • the linking group those containing a hetero atom such as an ester bond, an amide bond or an ether bond are preferable.
  • a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group, an amide group, a halogen atom and the like are preferable.
  • R8, R9 or R10 may be connected to each other in a cyclic manner.
  • a form forming a 5-membered ring or a 6-membered ring is preferable, and it is particularly preferable that the ring is a heterocycle containing a hetero atom.
  • a hetero atom an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom are preferable.
  • a cation structure such as a substituted imidazole ring, a substituted imidazoline ring, and a substituted imidazolidine is preferable.
  • the hydrophobic portion is increased and it is difficult to dissolve in the aqueous removal solution.
  • the total number of carbon atoms of R8 to R11 is preferably 8 to 25, and more preferably 11 to 21.
  • the alkyl group represented by R18, R19 or R20 may be linear or branched, may have a linking group in the chain, and further has a substituent. You may do it.
  • the linking group those containing a hetero atom such as an ester bond, an amide bond or an ether bond are preferable.
  • the substituent a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group, an amide group, a halogen atom and the like are preferable.
  • the hydrophobic portion is increased and it is difficult to dissolve in an aqueous removal solution.
  • the total number of carbon atoms of R18 to R20 is preferably 8 to 22, and more preferably 10 to 20.
  • surfactants are appropriately selected according to the material used for the artificial nail composition, but anionic surfactants, nonionic surfactants, and amphoteric surfactants are preferred, anionic surfactants, Amphoteric surfactants are particularly preferred. It is also possible to use two or more types of surfactants together. When used in combination, anionic surfactants, amphoteric surfactants, anionic surfactant and nonionic surfactant, amphoteric interface A combination of an activator and a nonionic surfactant is preferred.
  • the content of the surfactant in the removal liquid is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.02 to 9% by mass.
  • the removal liquid used in the present invention includes wetting agents, preservatives, chelate compounds, antifoaming agents, organic acids, organic solvents, inorganic acids, inorganic salts, water-soluble polymer compounds. , Perfume and the like.
  • wetting agent ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, diglycerin and the like are preferably used.
  • the wetting agent may be used alone or in combination of two or more. Generally, the wetting agent is used in an amount of 0-5% by weight based on the total weight of the removal solution.
  • Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzoisothiazolin-3-one, 2-methyl-4-isothiazolin-3-one, benztriazole derivatives Amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, derivatives such as pyridine, quinoline, guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, nitrobromoalcohol 2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol, 1 1,1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol and the like can be preferably used.
  • the amount of preservative added is an amount that stably exerts its effect on bacteria, mold, yeast, etc., and varies depending on the type of bacteria, mold, yeast, but 0 to 4% by mass with respect to the removal solution. The range of is preferable.
  • Examples of the chelate compound include ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid Nitrilotriacetic acid, potassium salt, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt Organic phosphonic acids such as sodium salts thereof, or phosphonoalkanetricarboxylic acids.
  • Organic amine salts are also effective in place of the sodium and potassium salts of the chelating agents.
  • the addition amount is preferably 0 to 1.0% by mass with respect to the removal liquid.
  • the antifoaming agent a general silicone-based self-emulsifying type, emulsifying type, nonionic HLB value of 5 or less can be used.
  • silicone antifoaming agents are preferable, and both emulsified and dispersed types and solubilized types can be used.
  • the content of the antifoaming agent is preferably in the range of 0 to 1.0% by mass with respect to the removal liquid.
  • organic acid examples include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, salicylic acid, caprylic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid.
  • the organic acid can also be used in the form of its alkali metal salt or ammonium salt.
  • the content of the organic acid is preferably 0 to 0.5% by mass with respect to the treatment liquid.
  • organic solvent examples include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (produced by Esso Chemical Co., Ltd.), gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.) ), Halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents.
  • aliphatic hydrocarbons hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (produced by Esso Chemical Co., Ltd.)
  • gasoline kerosene, etc.
  • aromatic hydrocarbons toluene, xylene, etc.
  • Halogenated hydrocarbons methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.
  • polar solvents examples include polar solvents.
  • Polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, Methyl lactate, ethyl lactate, etc.) and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.).
  • the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like.
  • the removal liquid preferably contains water as a main component.
  • the concentration of the solvent is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.
  • inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, nickel sulfate and the like.
  • the content of the inorganic salt is preferably 0 to 0.5% by mass based on the total mass of the removal liquid.
  • water-soluble polymer compounds include soybean polysaccharides, modified starches, gum arabic, dextrin, fibrin derivatives (eg carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan, polyvinyl alcohol and derivatives thereof, polyvinylpyrrolidone, Examples include polyacrylamide and acrylamide copolymers, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymers, vinyl acetate / maleic anhydride copolymers, styrene / maleic anhydride copolymers, and the like.
  • the preferred acid value of the water-soluble polymer compound is 0 to 3.0 meq / g. Two or more water-soluble polymer compounds can be used in combination.
  • the content of the water-soluble polymer compound in the removal liquid is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass.
  • a known fragrance can be appropriately selected and used.
  • One fragrance can be used alone, or a plurality of fragrances can be used in combination.
  • the fragrance is preferably selected as appropriate depending on the compound or solvent used in the removal liquid, and is preferably optimized by combining known fragrances.
  • flavor both a natural fragrance
  • the fragrance used in the present invention the fragrance described in JP-A-2009-298109 can be preferably used.
  • the content of the perfume removing liquid is preferably 0 to 20% by mass, particularly preferably 0.02 to 10% by mass.
  • the content of water in the removal liquid is not particularly limited, but is preferably 50 to 99.5% by mass, more preferably 70 to 99% by mass, based on the total mass of the removal liquid. More preferably, it is -99 mass%.
  • the pH of the removal liquid is preferably 8 or more from the viewpoint of ionizing the acid groups of the component A and component B contained in the artificial nail of the present invention, that is, from the viewpoint of removability. To 11 or less.
  • the pH of the removal liquid is preferably 8.5 to 10.9, more preferably 8.7 to 10.8, and still more preferably 9 to 10.7.
  • the removal liquid is heated to such an extent that safety is not impaired.
  • the heating is preferably 30 ° C to 45 ° C, more preferably 35 ° C to 45 ° C, and particularly preferably 40 ° C to 45 ° C.
  • the immersion liquid may be stirred.
  • the artificial nail of the present invention can be easily removed by contacting with an aqueous solution having a pH of 8 to 11 instead of a conventional organic solvent such as acetone.
  • the method of contact is not particularly limited, a method in which the artificial nail is directly immersed in the removing liquid, a method in which cotton soaked in the removing liquid is placed on the artificial nail, and the removing liquid is dropped on the artificial nail. Or the method of spraying with a sprayer, a shower, etc. is mentioned. However, it is not limited to these examples. A specific example of the removal method is shown below.
  • the removal effect equivalent to the above can be obtained only by lengthening the standing time after the cotton is placed, without performing the work of winding the cotton soaked in the removal solution with aluminum foil.
  • the artificial nail can be swollen by soaking the fingertip (artificial nail formed) in the removal solution (pH 8-11 aqueous solution) for about 3 to 5 minutes. It can be removed more easily by rubbing with a hand or the like.
  • the contact time is not particularly limited and may be a length of time that allows the artificial nail to be removed, but is preferably 0.5 to 10 minutes, and more preferably 1 to 5 minutes.
  • the method for removing an artificial nail of the present invention preferably includes a step of scratching the surface of the artificial nail so that a layer formed by the artificial nail composition of the present invention partially appears on the surface layer.
  • a nail file such as a file, can be used suitably.
  • the temperature of the removal solution is preferably 10 ° C. to 50 ° C., preferably 20 ° C. to 45 ° C., and preferably 30 ° C. to 45 ° C. Particularly preferred.
  • the removability is improved by setting the above temperature.
  • a preferred specific example of the removal method is shown below. That is, the surface of the artificial nail is arbitrarily rubbed with a nail file so that the layer formed by the artificial nail composition of the present invention is roughly scratched to the extent that it partially appears on the surface layer, and then the removal liquid (pH 8-11) is obtained. Soak it for about 1 to 5 minutes and change the solubility of the artificial nail. Then, wipe the artificial nail with a cloth or non-woven fabric, or remove it with a spatula or stick-like instrument. It can be peeled off very easily and safely without placing a burden on the nails.
  • wiping and peeling off can be performed while immersing in the above method, and the removal can be performed earlier. Moreover, you may accelerate
  • the artificial nail removal method of the present invention may include other known steps.
  • the nail art kit of the present invention comprises the artificial nail composition of the present invention and a removing solution, and the removing solution is an aqueous solution having a pH of 8-11.
  • the preferred embodiments of the artificial nail composition and the removal liquid of the present invention in the nail art kit of the present invention are the same as those described above.
  • the nail art kit of this invention may contain arbitrary goods other than the said artificial nail composition and a removal liquid.
  • Exposure equipment, wiping or cleaning liquid, wiping wipe, nail brush, dust brush, nail foam used for lengthening nails, decorative stone such as acrylic, glass, metal or natural stone, nail seal Examples include, but are not limited to, decorative powders such as glitters and holograms, cutters, spatulas, sticks, and separators that increase finger spacing to prevent contact between nails.
  • Examples 1 to 7 Comparative Example 1
  • Various components shown in Table 1 below were uniformly mixed to obtain artificial nail compositions (Samples 1 to 8).
  • the numbers in the table mean parts by mass added, and “-” means that the corresponding component is not contained.
  • each of the obtained compositions (Samples 1 to 8) was applied onto a plastic substrate shaped like a nail using a brush, and irradiated with a Beauty Nailer UV lamp (36 W) for 2 minutes. Then, after washing
  • the surface of each composition (photocured film) of the photocured samples 1 to 8 was scratched with a file (a nail file), and the time was changed to the removal liquid 1 (liquid temperature 40 ° C.) shown below. Immersion (contact). Next, each sample (cured film) taken out was removed by pressing from the base material using a stick-like instrument. At this time, the removability was evaluated by the immersion (contact) time required for removal. The results are shown in Table 2.
  • Examples 8 to 14, Comparative Example 2 Various components shown in Table 3 below were uniformly mixed to obtain artificial nail compositions (Samples 9 to 16).
  • the numbers in the table mean parts by mass added, and “-” means that the corresponding component is not contained.
  • the copolymerization ratio of the used polymer is a molar ratio.
  • each of the obtained compositions was applied onto a plastic substrate shaped like a nail using a brush, and irradiated with a Beauty Nailer UV lamp (36 W) for 2 minutes. Thereafter, the surface was washed with ethanol, and the composition (coating film) was visually observed. As a result, the composition was completely solidified (cured) and was glossy (film thickness 115 ⁇ m). The surface of each composition (photocured film) of the photocured samples 9 to 16 was scratched with a file (nail file), and the time was changed to the removal liquid 2 (liquid temperature 40 ° C.) shown below. Immersion (contact). Next, each sample (cured film) taken out was removed by pressing from the base material using a stick-like instrument. At this time, the removability was evaluated by the immersion (contact) time required for removal. The results are shown in Table 4.
  • sample 16 which does not contain a polymer having acid groups could not be removed within 20 minutes with an aqueous solution having a pH of 8 to 11, whereas a sample having acid groups was added.
  • Samples 9 to 15 were removed in a short time using an aqueous solution having a pH of 8 to 11 within the range of the present invention.
  • Examples 15 to 24, Comparative Example 3 Various components shown in Table 5 below were uniformly mixed to obtain an artificial nail composition (Samples 17 to 27).
  • the numbers in the table mean parts by mass added, and “-” means that the corresponding component is not contained.
  • the polyurethane-1 to polyurethane-11 used are as follows.
  • each composition obtained (0.25 g) was applied onto a plastic substrate shaped like a nail using a brush, and irradiated with a Beauty Nailer UV lamp (36 W) for 2 minutes. Then, after washing
  • the surface of each composition (photocured film) of the photocured samples 17 to 27 was scratched with a file (file for nails), and the time was changed to the removal liquid 3 (liquid temperature 40 ° C.) shown below. Immersion (contact). Next, each sample (cured film) taken out was removed by pressing from the base material using a stick-like instrument. At this time, the removability was evaluated by the immersion (contact) time required for removal. The results are shown in Table 6.
  • W-2 Amphoteric surfactant represented by the following formula Hydroxyalkylated starch: Penon JE66 (manufactured by Nissho Chemical Co., Ltd.)
  • Example 25 Comparative Examples 4 and 5
  • 2-Methacryloyloxyethyl succinic acid 49 parts
  • 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 1 part
  • polyurethane-1 40 parts
  • methyl ethyl ketone 10 parts
  • a first hardened layer was formed on a plastic nail using the prepared sample. Specifically, after sanding the whole with a nail file, the sample was uniformly applied using a flat brush. Next, UV irradiation was performed for 60 seconds using a Beauty Nailer UV lamp (36 mW) (film thickness: 103 ⁇ m).
  • biosculpture made BIO S gel (trade name) (film thickness 115 ⁇ m), then ibd soak-off type clear gel (trade name) (film thickness 110 ⁇ m), UV cured for 4 minutes and 2 minutes respectively.
  • a nail decoration 1 using the artificial nail composition of the present invention as a base layer was formed on a plastic nail.
  • the nail decoration 2 was wrapped with cotton containing acetone, and then the nail decoration was wrapped together with cotton containing acetone with aluminum foil.
  • the nail decoration 2 was taken out while changing the contact time, and was removed from the substrate using a stick-like instrument. At this time, the removability was evaluated based on the contact time required for removal.
  • the nail decoration 2 using the comparative artificial nail composition for the base layer could not be removed even after being immersed in the removal liquid 4 for 40 minutes.
  • the contact time of 25 minutes was required even in the conventional removal using cotton containing acetone.
  • the nail decoration 1 formed by the artificial nail composition containing the compound having an ethylenically unsaturated group and an acid group according to the present invention it can be removed by immersion for 12 minutes using the removal liquid 4. There was found. From these things, it turned out that the 1st hardened layer formed with the composition of the Example was excellent in adhesiveness, and excellent in removability.
  • Example 26 2-Methacryloyloxyethyl succinic acid: 49 parts, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone: 1 part, the above polymer: 1:40 parts, and methyl ethyl ketone: 10 parts were uniformly mixed to obtain an artificial nail composition (Sample 29).
  • a first hardened layer was formed on a plastic nail using the prepared sample. Specifically, after sanding the whole with a nail file, the sample was uniformly applied using a flat brush. Next, UV irradiation was carried out for 60 seconds using a Beauty Naylor UV lamp (36 mW) (film thickness 110 ⁇ m).
  • biosculpture BIO S gel (trade name) (film thickness 105 ⁇ m)
  • ibd soak-off type clear gel (film thickness 110 ⁇ m)
  • UV cured for 4 minutes and 2 minutes respectively.
  • a nail decoration using the artificial nail composition of the present invention as a base layer was formed on a plastic nail. The following evaluation was performed about the obtained nail
  • the nail decoration was immersed in a warm bath at 40 ° C. for 5 minutes and then taken out and cooled and dried for 1 minute 12 times. As a result, the film was not lifted or peeled off.
  • the surface of the nail decoration obtained was scratched with a file (file for nails), wrapped with cotton containing the removal liquid 4 (liquid temperature 40 ° C.), and contacted with varying time.
  • the removed sample (cured film) was removed from the base material by pressing it with a stick-like instrument. At this time, the contact time required for removal was 10 minutes.
  • the surface of the obtained nail decoration was scratched with a file (a nail file), and the removal liquid 4 was sprayed at a rate of once per minute with a spray to make contact.
  • the removed sample (cured film) was removed from the base material by pressing it with a stick-like instrument. At this time, the number of sprays required for removal was 10 times.
  • the surface of the resulting nail decoration was scratched with a file (a nail file) and immersed in the removal liquid 4 while changing the immersion time.
  • the removed sample (cured film) was removed from the base material by pressing it with a stick-like instrument. At this time, the immersion time required for removal was 10 minutes.
  • the nail decoration using the artificial nail composition of the present invention can be removed in 10 minutes using the removal liquid. From these things, it turned out that the 1st hardened layer formed with the composition of the Example was excellent in adhesiveness, and excellent in removability.
  • Example 27 2-Methacryloyloxyethyl succinic acid: 49 parts, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone: 1 part, 7:40 parts of the polyurethane, and 10 parts of methyl ethyl ketone were uniformly mixed to obtain a gel nail agent (sample 30).
  • a first hardened layer was formed on a plastic nail using the prepared sample. Specifically, after sanding the whole with a nail file, the sample was uniformly applied using a flat brush. Next, UV irradiation was performed for 60 seconds using a Beauty Naylor UV lamp (36 mW) (film thickness 113 ⁇ m).
  • biosculpture made BIO S gel (trade name) (film thickness 115 ⁇ m), then ibd soak-off type clear gel (trade name) (film thickness 110 ⁇ m), and the base layer as shown in FIG. It was applied so that it was covered and UV cured for 4 minutes and 2 minutes, respectively, to form a nail decoration using the gel nail agent of the present invention as a base layer on a plastic nail.
  • the following evaluation was performed about the obtained nail
  • the nail decoration was immersed in a warm bath at 40 ° C. for 5 minutes and then taken out and cooled and dried for 1 minute 12 times. As a result, the film was not lifted or peeled off.
  • the surface of the obtained nail decoration was scratched with a file (file for nails) and immersed in the removal liquid 4 (liquid temperature 40 ° C.) while changing the immersion time.
  • the removed sample (cured film) was removed from the base material by pressing it with a stick-like instrument. At this time, the immersion time required for removal was 5 minutes.
  • the nail decoration using the gel nail agent of the present invention can be removed in 5 minutes using the removal liquid. From these things, it turned out that the 1st hardened layer formed with the composition of the Example was excellent in adhesiveness, and excellent in removability.
  • Example 28 to 34 Various components shown in Table 8 below were uniformly mixed to obtain artificial nail compositions (samples 31 to 33). The numbers in the table mean parts by mass added, and “-” means that the corresponding component is not contained.
  • each composition (sample) thus obtained (0.25 g) was applied onto a plastic substrate shaped like a nail using a brush, and irradiated with a Beauty Nailer UV lamp (36 W) for 2 minutes. Thereafter, the surface was washed with ethanol, and the composition (coating film) was visually observed. As a result, the composition was completely solidified (cured) and was glossy (film thickness 130 ⁇ m).
  • the surface of each composition (photocured film) of the photocured samples 31 to 33 was scratched with a file (file for nails), and the time was changed to the following removal liquid 5 to 11 (liquid temperature 40 ° C.). And dipped (contacted). Next, each sample (cured film) taken out was removed by pressing from the base material using a stick-like instrument. At this time, the removability was evaluated by the immersion (contact) time required for removal. The results are shown in Table 9.
  • the removal solutions 5 to 11 used are as follows.
  • ⁇ Removal liquid 5> An aqueous solution (pH 9.2) in which boric acid: 6.18 g and sodium hydroxide: 2.00 g were added to 900 mL of ion-exchanged water and dissolved, and then the total amount was 1,000 mL.
  • ⁇ Removal liquid 6> An aqueous solution (pH 9.6) in which the total amount was 1,000 mL after dissolving 1.24 g of monoethanolamine and 0.6 g of glacial acetic acid in 900 mL of ion-exchanged water.
  • ⁇ Removal liquid 7> An aqueous solution (pH 9.2) in which sodium carbonate: 0.68 g and sodium bicarbonate: 3.68 g were added to 900 mL of ion-exchanged water and dissolved, and then the total amount was 1,000 mL.
  • ⁇ Removal liquid 8> An aqueous solution (pH 8.0) in which 2.1 g of sodium bicarbonate was added to 900 mL of ion-exchanged water and dissolved, and then the total amount was 1,000 mL.
  • ⁇ Removal liquid 10> An aqueous solution in which 12.1 g of trishydroxymethylaminomethane was added to 900 mL of ion-exchanged water and dissolved, and then adjusted to pH 10 using 1M hydrochloric acid to a total volume of 1,000 mL.
  • Examples 35 and 36, Comparative Examples 6 and 7 Various components shown in Table 10 below were uniformly mixed to obtain artificial nail compositions (samples 34 to 37).
  • the numbers in the table mean parts by mass added, and “-” means that the corresponding component is not contained.
  • each composition obtained was applied onto a plastic substrate shaped like a nail using a brush, and dried by irradiating with hot air using a dryer.
  • the composition (coating film) was visually observed to be completely solidified and glossy (film thickness 200 ⁇ m).
  • the surface of each composition (dried film) of the dried samples 34 to 37 was scratched with a file (file for nails) and immersed (contacted) with the removal liquid 3 (liquid temperature 40 ° C.) while changing the time. I let you. At this time, the removability was evaluated by the immersion (contact) time required for removal. The results are shown in Table 11.
  • the nail decoration of the present invention has good adhesion to the nail and can be easily removed using a safe aqueous solution, it can be used for decoration on a wide range of decoration objects including nails.

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Abstract

 爪装飾の有する光沢性等の長所を損なわず、かつ、除去時にアセトンを用いずに、指先や爪への負担を軽減した、人工爪の除去方法を提供することを目的とする。また、上記人工爪の除去方法に使用されるネイルアートキット及び人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪を提供することを目的とする。 本発明の人工爪の除去方法は、人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、上記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、並びに、上記人工爪を除去液に接触させて除去する除去工程を含み、上記人工爪組成物が、(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び/又は、(成分B)酸基を有するポリマーを含有し、上記除去液がpH8以上11以下の水溶液であることを特徴とする。

Description

人工爪の除去方法、人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット
 本発明は、人工爪の除去方法、人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキットに関する。
 近年、手や足の爪にデザインを施すネイルアートに対する人気が高まり、爪(自爪)に合成樹脂製の人工爪(付け爪、ネイルチップ等)を形成する技術が発展している(特許文献1参照)。特に最近、ウレタン系樹脂と光重合性モノマーとを含むジェル状の装飾用硬化性組成物を爪に塗布した後、紫外線を照射して硬化させた人工爪と呼ばれる爪装飾が、仕上がりがクリアである、爪との密着性が高く長持ちする、アクリル系樹脂のような臭いがない、等の理由から注目を集めている。
 この人工爪を除去するときは、従来、人工爪表面を粗目のファイル(爪用やすり)でこすって傷を付けて除去液を滲み込みやすくさせた後、アセトン等の有機溶媒(除去液)に浸したコットンを上記人工爪上に乗せ、これをアルミホイル等で巻いてそのまま放置して人工爪を膨潤させた後、この膨潤した人工爪を木製のへら等を用いて剥がす方法が主流である。
 また、従来の人工爪組成物としては、特許文献1~3に記載された組成物が知られている。
特開2004-275736号公報 特開2000-256134号公報 特表2002-505915号公報
 本発明の目的は、爪装飾の有する光沢性等の長所を損なわず、かつ、除去時にアセトンを用いずに、指先や爪への負担を軽減した、人工爪の除去方法を提供することである。本発明の他の目的は、上記人工爪の除去方法に使用されるネイルアートキット及び人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪を提供することである。
 上記目的は、下記<1>、<15>、<17>、<22>~<24>に記載の手段により達成された。好ましい実施態様である<2>~<14>、<16>、<18>~<21>と共に以下に示す。
 <1> 人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、上記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、並びに、上記人工爪を除去液に接触させて除去する除去工程を含み、上記人工爪組成物が、(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び/又は、(成分B)酸基を有するポリマーを含有し、上記除去液がpH8以上11以下(好ましくは8.5~10.9、より好ましくは8.7~10.8、更に好ましくは9~10.7)の水溶液であることを特徴とする人工爪の除去方法、
 <2> 成分Aが、下記式(1)で表される、<1>に記載の人工爪の除去方法、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
式(1)中、R1は水素原子又は1価の有機基を表し、Xは単結合又は2価の連結基を表し、Zは酸基を表す。
 <3> 上記式(1)において、Zがカルボン酸基である、<2>に記載の人工爪の除去方法、
 <4> 成分Bが、アクリル系ポリマー及び/又はウレタン系ポリマーである、<1>~<3>のいずれか1つに記載の人工爪の除去方法、
 <5> 成分Bがカルボン酸基を有するポリマーである、<1>~<4>のいずれか1つに記載の人工爪の除去方法、
 <6> 上記カルボン酸基を有するポリマーが、下記式(2)で表されるモノマー単位を含有するアクリル系ポリマーである、<5>に記載の人工爪の除去方法、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
式(2)中、R2は水素原子、メチル基、又は、-CH21を表し、Y1は水酸基、ハロゲノ基、-OC(=O)R3、又は、-NR3C(=O)R4を表し、X1は-O-、又は、-NR3-を表し、R3、R4は水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又は、炭素数6~12のアリール基を表し、L1は2価の連結基を表す。
 <7> 上記カルボン酸基を有するポリマーが、下記式(3)で表されるモノマー単位を有するウレタン系ポリマーである、<5>に記載の人工爪の除去方法、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
式(3)中、L2、L3及びL4はそれぞれ独立に2価の連結基を表し、WはN又はCR3を表し、R3は水素原子又は1価の基を表す。
 <8> 上記除去液が、pH緩衝剤を含む、<1>~<7>のいずれか1つに記載の人工爪の除去方法、
 <9> 上記pH緩衝剤が炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、硼酸塩、及び有機アミン化合物よりなる群から選択される少なくとも1つを含む、<8>に記載の人工爪の除去方法、
 <10> 上記pH緩衝剤が、炭酸塩と炭酸水素塩とを含む、<8>又は<9>に記載の人工爪の除去方法、
 <11> 上記除去工程が、除去液に人工爪を浸漬して除去する工程である、<1>~<10>のいずれか1つに記載の人工爪の除去方法、
 <12> 上記除去工程が、除去液を人工爪に噴霧して除去する工程である、<1>~<10>のいずれか1つに記載の人工爪の除去方法、
 <13> 上記除去工程が、除去液を含ませた綿により人工爪を包んで除去する工程である、<1>~<10>のいずれか1つに記載の人工爪の除去方法、
 <14> 上記人工爪組成物を、ベース層に用いる、<1>~<13>のいずれか1つに記載の人工爪の除去方法、
 <15> (成分A’)下記式(1’)で表される化合物を含有することを特徴とする人工爪組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
式(1’)中、R1’は水素原子又は1価の有機基を表し、X’は2価の連結基を表し、R1'が結合する炭素原子と、Z’とを結ぶ最短の原子数が5以上であり、Z’は酸基を表す。
 <16> 上記式(1’)において、Z’がカルボン酸基である、<15>に記載の人工爪組成物、
 <17> (成分B)酸基を有するポリマーを含有することを特徴とする人工爪組成物、
 <18> 成分Bがアクリル系ポリマー及び/又はウレタン系ポリマーである、<17>に記載の人工爪組成物、
 <19> 成分Bが、下記式(2)で表されるモノマー単位を含有するアクリル系ポリマーである、<17>又は<18>に記載の人工爪組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
式(2)中、R2は水素原子、メチル基、又は、-CH21を表し、Y1は水酸基、ハロゲノ基、-OC(=O)R3、又は、-NR3C(=O)R4を表し、X1は-O-、又は、-NR3-を表し、R3、R4は水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又は、炭素数6~12のアリール基を表し、L1は2価の連結基を表す。
 <20> 成分Bが、下記式(3)で表されるモノマー単位を有するウレタン系ポリマーである、<17>又は<18>に記載の人工爪組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
式(3)中、L2、L3及びL4はそれぞれ独立に2価の連結基を表し、WはN又はCR3を表し、R3は水素原子又は1価の基を表す。
 <21> (成分D)光重合開始剤を更に含有する、<15>~<20>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
 <22> <15>~<21>のいずれか1つに記載の人工爪組成物を乾燥及び/又は露光して形成された層を有する人工爪、
 <23> <15>~<21>のいずれか1つに記載の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、上記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、を含む人工爪の形成方法、
 <24> 人工爪組成物と、除去液と、を含み、上記人工爪組成物が、(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び/又は、(成分B)酸基を有するポリマーを含有し、上記除去液が、pH8以上11以下の水溶液であることを特徴とするネイルアートキット。
 本発明によれば、爪装飾の有する光沢性等の長所を損なわず、かつ、除去時にアセトンを用いずに、指先や爪への負担を軽減した、人工爪の除去方法を提供することができた。更に、上記人工爪の除去方法に使用されるネイルアートキット及び人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪を提供することができた。
本発明において好適な人工爪の構成について示す断面図である。
 以下、本発明について詳細に説明する。
 なお、本明細書中、「xx~yy」の記載は、xx及びyyを含む数値範囲を表す。また、「(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物」等を単に「成分A」等ともいう。
 また、本発明において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
 本明細書中、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式の説明において、「Rはアルキル基、アリール基又は複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表す」ことを意味する。また、本明細書中、(メタ)アクリルは、アクリルとメタクリルとを共に含む概念を表し、(メタ)アクリレート等についても同様である。
 また、本明細書におけるポリマーには、コポリマー、オリゴマーも含むものとする。
 本発明において、好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
 本発明の人工爪の除去方法は、人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、上記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、並びに、上記人工爪を除去液に接触させて除去する除去工程を含み、上記人工爪組成物が、(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び/又は、(成分B)酸基を有するポリマーを含有し、上記除去液がpH8以上11以下の水溶液であることを特徴とする。
 本発明者は鋭意検討を行った結果、成分A及び/又は成分Bを含有する人工爪組成物を用いて形成した人工爪は、pH8以上11以下の水溶液により除去可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。
 これら効果が発現する機構は不明であるが、一部は以下のように推定される。
 成分A及び/又は成分Bを含有する人工爪組成物により形成された人工爪には、酸基が存在する。酸基を有することによって、アルカリ性の水溶液である、pH8以上11以下の水溶液により、除去が可能であると考えられる。なお、従来の有機溶剤を用いた除去方法によって除去することも可能であるが、より刺激性が低いpH8以上11以下の水溶液によって除去することで、爪や肌へのダメージが軽減され、また、VOC(揮発性有機化合物)の問題が解消される。
 本発明における人工爪とは、ヒト又は動物の爪上に、美装及び/又は保護を目的に形成される層を指す。また、例えば、上記支持体としては、爪の美装及び/又は保護を目的とする任意の形状の樹脂基材(ネイルチップ)等が挙げられる。
 なお、「ヒト及び動物の爪、並びに、支持体」を、単に「爪」ともいう。
 上記人工爪の形状は、特に制限はなく、所望の形状に形成すればよい。例えば、爪の表面を被覆するように形成してもよいし、爪の一部のみに形成してもよいし、ネイルフォーム等を使用し爪の延長のため、爪よりも大きな形状に形成してもよい。
 なお、本発明の人工爪組成物は、ヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布されるが、これらの爪に直に塗布されてもよく、既に形成された他の層の上に塗布されてもよく、特に限定されない。これらの中でも、後述するように、爪に接する層(ベース層)として塗布されることがより好ましい。
 また、本発明の人工爪組成物は、塗布により厚みを制御することができる。厚みとしては、一般に人工爪が取りうる範囲であれば、特に制限されるものではないが、実用性及び除去性の観点から、20~1,500μmの範囲であることが好ましい。
(人工爪組成物)
 本発明の人工爪の除去方法に使用される、人工爪組成物(本発明の人工爪組成物ともいう。)について最初に説明する。
 本発明の人工爪組成物は、人工爪における、プライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
 中でも、除去性の観点から、本発明の人工爪組成物により形成した層が爪と接していること、すなわち、ベース層であることが好ましい。
 また、本発明の人工爪組成物によって形成した人工爪層の上層(爪とは逆側の面)又は下層(爪との間の面)に、別途、色・ツヤ・密着を出す目的で、プライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層を有していてもよい。
 本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物(「ジェルネイル用人工爪組成物」)としても、マニキュア液用人工爪組成物としても好適に用いることができる。
 また、本発明の人工爪組成物は、露光により硬化を行っても除去性に優れるため、光硬化性人工爪組成物として特に好適に使用することできる。
 上記光硬化性人工爪組成物は、活性光線により硬化可能な人工爪組成物である。「活性光線」とは、その照射により人工爪組成物中に開始種を発生させるエネルギーを付与できる放射線であり、紫外線、可視光線などを包含する。中でも、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。従って、上記光硬化性人工爪組成物としては、活性光線として、紫外線を照射することにより硬化可能な人工爪組成物が好ましい。
 以下に、本発明の人工爪組成物に使用することができる各種成分について説明する。
(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物
 本発明の人工爪組成物は、(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物を含有することが好ましい。
 成分Aの分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)は、3,000未満であることが好ましく、72以上2,000以下であることが好ましく、86以上1,500以下であることが好ましく、144以上1,000以下であることが更に好ましい。
 成分Aの分子量が上記範囲であると、除去性、硬化性及び密着性に優れる。
 本発明に用いられる成分Aは、エチレン性不飽和結合と酸基との両方を有する化合物であればいずれも好適に使用することができる。成分Aが有する酸基としては、カルボン酸基(カルボキシ基、-COOH)、スルホン酸基(スルホ基、-SO3H)、硫酸基(-OSO2(OH))、リン酸基(-OPO(OH)2)、ホスホン酸基(ホスホノ基、-PO(OH)2)、フェノール性水酸基、スルホンアミド基(-SO2-NR2 2)、イミド基(-C(=O)-NR2-C(=O)-)等が挙げられる。ここで、上記R2はそれぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表し、1価の有機基としては、炭素数1~6のアルキル基、炭素数6~10のアリール基が好ましい。これらの中でも、成分Aが有する酸基としては、カルボン酸基(-COOH)、スルホン酸基(-SO3H)、リン酸基(-OPO(OH)2)、ホスホン酸基(-PO(OH)2)が好ましく、カルボン酸基、リン酸基がより好ましく、カルボン酸基が特に好ましい。
 なお、上記酸基は、塩を形成していてもよく、例えば、アルカリ金属塩(例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例えば、マグネシウム塩、カルシウム塩等)、有機カチオン塩(例えば、アンモニウム塩等)が例示される。
 成分Aは、エチレン性不飽和基を1つ以上有する化合物であり、単官能エチレン性不飽和化合物であってもよく、多官能エチレン性不飽和化合物でもよい。成分Aはエチレン性不飽和結合を1~6有することが好ましく、1~4有することがより好ましく、1~3有することが更に好ましく、1又は2有することが特に好ましく、1つ有することが最も好ましい。すなわち、成分Aは単官能エチレン性不飽和化合物であることが最も好ましい。
 成分Aは、下記式(1)で表される化合物であることが好ましく、式(1’)で表される化合物であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
(式(1)中、R1は水素原子又は1価の有機基を表し、Xは単結合又は2価の有機基を表し、Zは酸基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000014
(式(1’)中、R1’は水素原子又は1価の有機基を表し、X’は2価の連結基を表し、R1'が結合する炭素原子と、Z’とを結ぶ最短の原子数が5以上であり、Z’は酸基を表す。)
 R1及びR1’で示される1価の有機基の具体例としては、炭素数1~18のアルキル基、炭素数6~18のアリール基、炭素数2~18のアルケニル基、-C(=O)OR2、-C(=O)NR34、-CH2OC(=O)R2、-CH2NHC(=O)R2、-CH2OR2(R2は水素原子、炭素数1~18のアルキル基、炭素数6~18のアリール基、炭素数2~18のアルケニル基を表し、R3、R4は各々独立して水素、炭素数1~18のアルキル基、炭素数6~18のアリール基、炭素数2~18のアルケニル基を表す。)、が挙げられる。R1及びR1’として好ましいのは、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数6~12のアリール基、-C(=O)OR2、-C(=O)NR34、-CH2OC(=O)R2、-CH2NHC(=O)R2、-CH2OR2(R2は水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数6~12のアリール基、炭素数2~6のアルケニル基を表し、R3、R4は各々独立して水素、炭素数1~6のアルキル基、炭素数6~12のアリール基、炭素数2~6のアルケニル基を表す。)であり、より好ましくは、水素原子、炭素数1~3のアルキル基、-C(=O)OR2、-C(=O)NR34、-CH2OC(=O)R2、-CH2NHC(=O)R2、-CH2OR2(R2は水素、炭素数1~3のアルキル基を表し、R3、R4は各々独立して水素原子、又は、炭素数1~3のアルキル基を表す。)であり、更に好ましくは、水素原子、メチル基、-COOMe、-COOH、-CH2OC(=O)Me、-CH2OH、-CH2OMeであり、特に好ましくは、水素原子又はメチル基である。なお、上記Meは、メチル基を意味する。
 Xは単結合又は2価の連結基を表し、2価の連結基であることがより好ましい。Xで示される2価の有機基の具体例としては、炭素(C)を必須成分として含み、酸素(O)、窒素(N)、硫黄(S)、リン(P)、水素(H)、ハロゲン(F、Cl、Br、I)、珪素(Si)を適宜選択して形成される2価の有機基が挙げられる。中でもXとしては、-A1-A2-A3-A4-A5-・・・-An-(式中、Anは水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、及び、ケイ素から選ばれる元素を表す。なお、夫々の元素が有する置換基同士が結合して環を形成してもよい。)、で示される2価の連結基を表し、nは3以上が好ましく、4以上がより好ましく、5以上が特に好ましい。当該置換基としては、炭素数1~12である置換基が好ましい。
 すなわち、Xで表される2価の連結基は、R1が結合する炭素と、Z(酸基)とを結ぶ最短の原子数が3以上であることが好ましく、4以上であることがより好ましく、5以上であること(XがX’であること)が特に好ましい。上限は特に限定されないが、30以下であることが好ましく、20以下であることがより好ましく、10以下であることが更に好ましい。また、Anは、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有する炭素;酸素(-O-);水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい窒素(-NR-又は-N=、Rは水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表す。);硫黄(-S-);水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有するリン;、及び、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有するケイ素;よりなる群から選択される。
 かかる2価の有機基の具体例としては、*-C(=O)O-Q-**、*-C(=O)NR5-Q-**、*-C(=O)O-Q-OC(=O)-Q-**、*-C(=O)NR5-Q-OC(=O)-Q-**、*-C(=O)NR5-Q-NR6-C(=O)-Q-**、*-フェニレン-C(=O)O-Q-**、*-フェニレン-C(=O)NR5-Q-**、*-フェニレン-CH2-O-Q-**、フェニレン基、等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、*はXとR1が結合する炭素原子との結合位置を示し、**はXとZとの結合位置を示す。R5、R6は水素原子、炭素数1~18のアルキル基、又は、炭素数6~12アリール基を表す。Qは、それぞれ独立に、炭素数1~30の置換基を有していてもよいアルキレン基、又は、炭素数6~18の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素-炭素結合の間に、エーテル結合(-O-)を有していてもよい。なお、上記炭素数は、置換基の炭素数を含む全体の炭素数を意味する。
 本発明において、Xとしては、*-C(=O)O-Q-**、-C(=O)NR5-Q-**、*-C(=O)O-Q-OC(=O)-Q-**、*-C(=O)NR5-Q-OC(=O)-Q-**、*-C(=O)NR5-Q-NR6-C(=O)-Q-**、*-フェニレン-C(=O)O-Q-**、*-フェニレン-C(=O)NR5-Q-**、*-フェニレン-CH2-O-Q-**、が好ましく、*-C(=O)O-Q’-**、*-C(=O)NR5-Q’-**、*-C(=O)O-Q’-OC(=O)-Q’-**、*-C(=O)NR5-Q’-OC(=O)-Q’-**がより好ましく、*-C(=O)O-Q”-**、*-C(=O)NR5-Q”-**、*-C(=O)O-Q”-OC(=O)-Q”-**、-C(=O)NR5-Q”-OC(=O)-Q”-、が特に好ましい。ここで、Q’は、それぞれ独立に、炭素数2~25の置換基を有していてもよいアルキレン基、又は、炭素数6~12の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素-炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。Q”はそれぞれ独立に、炭素数2~9の置換基を有していてもよいアルキレン基又は炭素数6~12の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素-炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。
 Z及びZ’で示される酸基としては、-COOH、-SO3H、-OPO32、-PO32、等が挙げられ、中でも-COOH、-OPO32が好ましく、-COOHが特に好ましい。
 本発明において、成分Aは、エチレン性不飽和結合と酸基とが、何らかの連結基を介して結合していることが好ましく、酸基としては、カルボン酸基が好ましい。
 すなわち、式(1)において、R1が、水素原子、又は、メチル基であり、Zで示される酸基が、-COOHであり、Xが、*-C(=O)O-Q”-**、*-C(=O)O-Q”-OC(=O)-Q”-**であることが特に好ましい。なお、R1が結合する炭素原子と、Zとを結ぶ最短の原子数が5以上であることが特に好ましい。
 酸基を有するモノマーの具体例としては、カルボン酸基を有する(メタ)アクリル酸系モノマー、カルボン酸基を有するスチレン系モノマー、スルホン酸基を有する(メタ)アクリル系モノマー、スルホン酸基を有するスチレン系モノマー、リン酸基を有する(メタ)アクリル酸系モノマー、その他酸基を有するモノマーが挙げられる。
 カルボン酸基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2-(メタ)アクリロイルオキシプロピルフタル酸、2-(メタ)アクリロイルオキシプロピルコハク酸、2-(メタ)アクリロイルオキシ酢酸、β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート、4-(メタ)アクリロイルオキシブタン酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ酢酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルマレイン酸、6-(メタ)アクリロイルオキシヘキサノアート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートコハク酸、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートコハク酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートフタル酸等が例示される。
 カルボン酸基を有するスチレン系モノマーとしては、4-カルボキシスチレン等が例示され、スルホン酸基を有する(メタ)アクリル系モノマーとしては、3-(メタ)アクリロイルオキシプロピルスルホン酸、2-(メタ)アクリルアミド-2-メチル-1-プロパンスルホン酸等が例示され、スルホン酸基を有するスチレン系モノマーとしては、4-ビニルベンゼンスルホン酸等が例示される。
 リン酸基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーとしては、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレートホスフェート等が例示され、その他酸基を有するモノマーとしては、ビニルホスホン酸、ビニルスルホン酸等が例示される。
 酸基を有するモノマーの具体例の中でも、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2-(メタ)アクリロイルオキシプロピルフタル酸、2-(メタ)アクリロイルオキシプロピルコハク酸、β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルマレイン酸、6-(メタ)アクリロイルオキシヘキサノアート、(2-(メタ)アクリロイルオキシ)エトキシ酢酸、4-(メタ)アクリロイルオキシブタン酸、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートコハク酸、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートコハク酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートフタル酸、が除去性に優れる点で特に好ましい。
 以下に成分Aとして好ましい化合物を例示するが、このような記載により何ら限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 上記式中、Rは水素原子又はメチル基を表す。nは、1以上10以下の整数を表す。
 また、酸基を有するモノマーとしては、酸基を有する多官能モノマーも好適に使用することができる。酸基を有する多官能モノマーとしては、水酸基を2つ以上有するカルボン酸(例えば、酒石酸、シキミ酸、粘液酸等)の(メタ)アクリル酸エステル、水酸基を2つ以上有するカルボン酸と2-イソシアナトエチル(メタ)アクリレートの反応物、アミノ基を2つ以上有するカルボン酸(例えば、2,3-ジアミノプロパン酸、リジン、オルニチン、シスチン等)の(メタ)アクリル酸アミド、アミノ基を2つ以上有するカルボン酸と2-イソシアナトエチル(メタ)アクリレートの反応物、水酸基とアミノ基を合計2つ以上有するカルボン酸(例えば、セリン、スレオニン等)と(メタ)アクリル酸の脱水縮合物、水酸基とアミノ基を合計2つ以上有するカルボン酸と2-イソシアナトエチル(メタ)アクリレートの反応物、等が挙げられる。
 成分Aは、室温において液状であるものがより好ましい。また、酢酸エチルに対する室温での溶解性が5質量%以上であるものも好ましい。これら酸基を有するモノマーは1種単独で使用してもよく、2種以上を併用することもできる。これら酸基を有するモノマーは、塩基(例えば、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、イミダゾール等)により酸基を一部又は全部を中和して用いてもよい。
(成分B)酸基を有するポリマー
 本発明の人工爪組成物は、(成分B)酸基を有するポリマーを含有することが好ましい。
 成分Bの構造については、特に制限はなく、任意の構造であればよく、例えば、鎖状構造、枝分かれ(分岐)構造、星型構造、架橋構造、網状構造などが挙げられる。
 本発明に用いられる酸基を有するポリマーとしては、酸基を有する公知のポリマー(例えば、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、セルロース系ポリマー、エステル系ポリマー、アミド系ポリマー、ビニル系ポリマー、エーテル系ポリマー、スチレン系ポリマー、カーボネート系ポリマー、ウレア系ポリマー等)であればいずれも好適に使用することができる。これらのポリマーの中で、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマーが、除去性、強度、コスト、及び合成適性の観点から特に好ましい。
 酸基としてはカルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、硫酸基、等の公知の酸基が挙げられるが、カルボン酸基が除去性、及び、安定性の観点から特に好ましい。
 また、酸基は、ポリマー主鎖に対して側鎖、末端のどこに位置してもよいが、側鎖に位置する場合には、ポリマー主鎖と酸基との間に2つ以上の原子を含むことが好ましく、3つ以上の原子を含むことがより好ましく、4つ以上の原子を含むことが特に好ましい。主鎖末端に位置する場合には、少なくとも片方の主鎖末端に位置することが好ましく、両方の主鎖末端に位置することがより好ましい。更に末端と側鎖の両方に位置することも好ましい。
 酸基を有するアクリル系ポリマーとしては、以下の式(2)で示されるモノマー単位を含有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 式中、R2は水素原子、メチル基、又は、-CH21を表し、Y1は、水酸基、ハロゲノ基、-OC(=O)R3、又は、-NR3C(=O)R4を表し、X1は-O-、又は、-NR3-を表し、R3、R4は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又は、炭素数6~12のアリール基を表し、L1は2価の連結基を表す。
 L1で表される2価の連結基としては、炭素を必須元素として含み、酸素(O)、窒素(N)、硫黄(S)、リン(P)、水素(H)、ハロゲン(F、Cl、Br、I)、珪素(Si)から構成される2価の基であればいずれも好適に使用することができるが、X1とCOOHを2原子以上隔てて連結する2価の基であることが好ましく、3原子以上隔てて連結する2価の基〔X1-A1-A2-・・・-An-COOH(式中Anは原子を表し、nは3以上の整数を表す。)〕であることがより好ましく、4原子以上隔てて連結する2価の基〔X1-A1-A2-・・・-An-COOH(式中Anは原子を表し、nは4以上の整数を表す。)〕であることが特に好ましい。X1とカルボン酸基とを連結する最短(最小)の原子数は、大きいことが好ましく、このような2価の連結基を用いることで除去性が良好になる。なお、X1とカルボン酸基とを連結する最小の原子数の上限は特に限定されないが、合成上及び除去性の観点から、30以下であることが好ましく、20以下であることがより好ましく、10以下であることが更に好ましい。
 L1の具体例としては、*-Q-**、*-Q-OC(=O)-Q-**、*-Q-NR3C(=O)-Q-**が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、*はX1とL1との結合位置を示す。Qは、それぞれ独立に、炭素数1~30の置換基を有していてもよいアルキレン基、又は、炭素数6~18の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素-炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。なお、上記炭素数は、置換基の炭素数を含む全体の炭素数を意味する。R3は、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又は、炭素数6~12のアリール基を表す。
 本発明において、L1としては、*-Q-**、又は、*-Q-OC(=O)-Q-**、*-Q-NR3C(=O)-Q-**が好ましく、*-Q’-**、又は、*-Q’-OC(=O)-Q’-**、*-Q’-NR3C(=O)-Q’-**がより好ましく、*-Q”-**、又は、*-Q”-OC(=O)-Q”-**、*-Q”-NR3C(=O)-Q”-**が更に好ましい。ここで、Q’は、それぞれ独立に、炭素数2~24の置換基を有していてもよいアルキレン基、又は、炭素数6~12の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素-炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。Q”はそれぞれ独立に、炭素数2~18の置換基を有していてもよいアルキレン基又は炭素数6~12の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素-炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。Q’は炭素数2~24のアルキレン基であることが好ましく、アルキレン基は直鎖状又は分岐状であることが好ましく、炭素-炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。Q”は、炭素数2~18の置換基を有していてもよいアルキレン基であることが好ましく、アルキレン基は直鎖状又は分岐状であることが好ましく、炭素-炭素結合中にエーテル結合を有していてもよい。
 カルボン酸基を有するアクリル系ポリマーとしては、カルボン酸基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーを用いて合成されたアクリル系ポリマーが挙げられる。上記カルボン酸基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸、2-アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-アクリロイルオキシエチルフタル酸、2-メタクリロイルオキシエチルフタル酸、2-アクリロイルオキシプロピルフタル酸、2-メタクリロイルオキシプロピルフタル酸、2-アクリロイルオキシプロピルコハク酸、2-メタクリロイルオキシプロピルコハク酸、2-(メタ)アクリロイルオキシ酢酸、β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート、4-(メタ)アクリロイルオキシブタン酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ酢酸、2-メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、6-アクリロイルオキシヘキサノエート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートコハク酸、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートコハク酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートフタル酸が例示される。
 カルボン酸基を有するアクリル系ポリマーの合成に用いられるこれらカルボン酸基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーの中でも、2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸、2-アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-アクリロイルオキシエチルフタル酸、2-メタクリロイルオキシエチルフタル酸、2-アクリロイルオキシプロピルフタル酸、2-メタクリロイルオキシプロピルフタル酸、2-アクリロイルオキシプロピルコハク酸、2-メタクリロイルオキシプロピルコハク酸、β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシ酢酸、2-メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、6-アクリロイルオキシヘキサノエート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートコハク酸、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートコハク酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートフタル酸、がより好ましく、2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸、2-アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-アクリロイルオキシプロピルフタル酸、2-メタクリロイルオキシプロピルフタル酸、β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート(アクリル酸ダイマー)、6-アクリロイルオキシヘキサノエート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートコハク酸、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートコハク酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートフタル酸、が特に好ましい。
 本発明に用いられるカルボン酸基を有するアクリル系ポリマーの合成においては、公知のアクリル酸エステルモノマー(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸シクロヘキシル等)、メタクリル酸エステルモノマー(例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸2-エチルヘキシル等)、アクリルアミドモノマー(例えば、アクリルアミド、N-イソプロピルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン等)、メタクリルアミドモノマー(例えば、メタクリルアミド)、その他エチレン性不飽和結合を有するモノマー(例えば、スチレン、酢酸ビニル、N-ビニルピロリドン等)を共重合成分として使用してもよい。
 酸基を有するアクリル系ポリマーは、上記式(2)で表されるモノマー単位を、5~50モル%含有することが好ましく、10~45モル%含有することがより好ましく、15~40モル%含有することが更に好ましい。
 カルボン酸基を有するウレタン系ポリマーとしては、以下の式(3)で示されるモノマー単位を含有するウレタン系ポリマーが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
(式(3)中、L2、L3、及びL4はそれぞれ独立に2価の連結基を表し、Wは、N又はCR3を表し、R3は1価の基を表す。)
 L2、L3で表される2価の連結基としては、炭素を必須元素として含み、水素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン、珪素から構成される2価の基であればいずれも好適に使用することができる。L2、L3で表される2価の連結基は、炭素数1~12のアルキレン基、又は、炭素数6~12のアリーレン基であることが好ましく、炭素数1~12のアルキレン基であることがより好ましい。上記アルキレン基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、また、炭素-炭素結合の間に1つ以上のエーテル結合を有していてもよい。2価の連結基の例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基、-CH2CH2-O-CH2CH2-、ポリ(オキシエチレン)基、ポリ(オキシプロピレン)基などが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
 L4で表される2価の連結基としては、炭素を必須元素として含み、水素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン、珪素から構成される2価の基であればいずれも好適に使用することができるが、WとCOOHを2原子以上隔てて連結する2価の基〔W-A1-A2-・・・An-COOH(式中Anは原子を表し、nは2以上の整数を表す)〕であることが好ましく、3原子以上隔てて連結する2価の基〔W-A1-A2-・・・An-COOH(式中Anは原子を表し、nは3以上の整数を表す)〕であることがより好ましく、4原子以上隔てて連結する2価の基〔W-A1-A2-・・・An-COOH(式中Anは原子を表し、nは4以上の整数を表す)〕であることが特に好ましい。このような2価の連結基を用いることで除去性が良好になる。
 L4としては、*-Q-**、又は、*-C(=O)-Q-**であることが好ましい。ここで、*はWとL4との結合位置を示す。Qは、炭素数1~18の置換基を有していてもよいアルキレン基、又は、炭素数6~12の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素-炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。なお、上記炭素数は、置換基の炭素数を含む全体の炭素数を意味する。
 L4は、*-Q’-**、又は、*-C(=O)-Q’-**であることがより好ましく、*-Q”-**、又は、*-C(=O)-Q”-**であることが更に好ましい。ここで、*はWとL4との結合位置を示す。Q’は、炭素数1~12の置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素-炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。なお、上記炭素数は、置換基の炭素数を含む全体の炭素数を意味する。Q”は、炭素数2~8の置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素-炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。なお、上記炭素数は、置換基の炭素数を含む全体の炭素数を意味する。
 上記Wは、N又はCR3を表し、Nであることが好ましい。
 R3は1価の基を表し、水素原子、炭素数1~12のアルキル基、炭素数6~12のアリール基であることが好ましく、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基であることがより好ましい。
 式(3)で表されるモノマー単位を以下に例示するが、本発明は以下の具体例に何ら限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 ウレタン系ポリマーは、式(3)で表されるモノマー単位を形成するカルボキシ基含有ジオール化合物と、ポリイソシアネート化合物との反応により得られる。
 好適に使用されるイソシアネート化合物としては、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート、トリレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネート等が例示される。
 なお、式(3)で表されるモノマー単位を形成するカルボキシ基含有ジオール化合物に加え、他のアルコール化合物を併用してもよい。
 カルボン酸基を有するウレタン系ポリマーとしては、末端にカルボン酸基を有するウレタン系ポリマーも好ましい。
 カルボン酸基を有するウレタン系ポリマーとしては、カルボン酸基を有するモノオール化合物(例:グリコール酸、乳酸、3-ヒドロキシブタン酸、3-ヒドロキシ-3-メチルグルタル酸、リンゴ酸、クエン酸、サリチル酸等)、カルボン酸基を有するジオール化合物(例:2,2-ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、酒石酸、3,5-ジヒドロキシ安息香酸、N,N-ビスヒドロキシエチルコハク酸モノアミド等)、又は、カルボン酸基を有するポリオール化合物(例:シキミ酸、ガラクタル酸、グルコン酸等)と、公知のイソシアネート化合物(イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート、トリレンジイソシアネート等)と、任意にその他アルコール化合物(メタノール、エタノール、1,4-ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール等)とを反応させることにより得られるウレタン系ポリマーが挙げられる。
 本発明に用いられる成分Bとしてはコポリマー、オリゴマーも含むものとする。酸基を有するポリマーのGPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量としては、3,000以上100万以下が好ましく、4,000以上50万以下がより好ましく、5,000以上25万以下が特に好ましい。
 成分Bの重量平均分子量が上記範囲内であると、人工爪の持続性と除去性がよくなるので好ましい。
 本発明に用いられるポリマーは、ラジカル重合性官能基を有していてもよい。ラジカル重合性官能基としては、(メタ)アクリル酸エステル基、(メタ)アクリル酸アミド基、スチレン基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基、が好ましく、(メタ)アクリル酸エステル基、(メタ)アクリル酸アミド基、がより好ましく、(メタ)アクリル酸エステル基が特に好ましい。
 本発明において、成分Bが酸基としてカルボキシル基を有する場合、成分Bにおけるカルボキシル基当量は、0.25~5.0meq/gであることが好ましく、0.5~4.0meq/gであることがより好ましく、0.75~3.0meq/gであることが更に好ましい。
 本発明の人工爪組成物においては、成分A及び/又は成分Bのいずれかを必須成分として含有する。成分A及び成分Bの人工爪組成物中の使用量としては、合計して、10質量%以上95質量%以下が好ましく、20質量%以上90質量%以下がより好ましく、30質量%以上85質量%以下が特に好ましい。成分Aと成分Bを併用する場合、成分Bに対する成分Aの比率(質量比、A/B)は、1/10以上10/1以下が好ましく、2/10以上10/2以下がより好ましく、3/10以上10/3以下が特に好ましい。上記使用量により人工爪被膜の除去性が良化する。
 また、本発明の人工爪組成物は、被膜性や光沢性を向上させることを目的に、成分B以外のポリマーを含有していてもよい。
 特に、本発明の人工爪組成物が成分Aを含有する場合には、何らかのポリマー成分を含有することが好ましく、成分B以外のポリマーを含有することも好ましい態様である。
 成分B以外のポリマーとしては、被膜性の観点から、アクリル系ポリマー又はウレタン系ポリマーであることが好ましい。また、塗布性を向上させることを目的に、粘度調整剤(増粘剤等)として知られる公知のポリマーを含有していてもよい。
 本発明の人工爪組成物が成分Aを含有せず、かつ、成分Bを含有する場合、成分B以外のポリマーの含有量は、成分Bの含有量未満であることが好ましく、人工爪組成物の全質量に対し、20質量%以下であることがより好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、5質量%以下であることが更に好ましく、含有しないことが特に好ましい。
 なお、本発明において、成分Aを含有する場合、ポリマー成分として成分Bを使用することも好ましい態様である。
(成分C)その他の重合性化合物
 本発明の人工爪組成物は、(成分C)その他の重合性化合物を含有することが好ましい。成分Cは、酸基を有しない重合性化合物である。特に、本発明の人工爪組成物が成分Bを含有する場合には、成分Cを含有することにより、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
 また、本発明の人工爪組成物が成分A及び/又は成分Cを含有する場合、並びに、成分Bがラジカル重合性基を有する場合、後述する(成分D)光重合開始剤を更に含有することが好ましい。成分Dを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物としてより好適に用いることができる。
 成分Cとしては、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
 また、成分Cとしては、エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
 ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用してもよい。また、単官能化合物よりも官能基を2つ以上持つ多官能化合物の方が好ましい。また、多官能化合物を2種以上併用して用いることが、反応性、物性などの性能を制御する上で更に好ましい。
 また、成分Cは、成分A及び成分B以外の化合物であり、分子量3,000未満の化合物であることが好ましく、分子量1,000未満の化合物であることがより好ましい。
 ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸のエステルやアミド、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のオリゴマーなどのラジカル重合性化合物が挙げられる。
 具体的には、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年(株)大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、(株)シーエムシー出版);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、(株)日刊工業新聞社)等に記載の市販品若しくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、及び、オリゴマーを用いることができる。
 成分Cとしては、得られる人工爪の除去性、密着性及び光沢の観点から、ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和化合物、又は、(ポリ)アルキレンオキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、又は、(ポリ)アルキレンオキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物を含むことがより好ましく、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物を含むことが更に好ましく、ヒドロキシ基を有する単官能(メタ)アクリレート化合物を含むことが特に好ましい。
 ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2,3-ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・プロピレングリコール)-モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール-モノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・テトラメチレングリコール)-モノ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール・テトラメチレングリコール)-モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリブチレングリコール-モノ(メタ)アクリレートを好ましく挙げることができる。
 (ポリ)アルキレンオキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、メトキシポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール-(メタ)アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール-(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ-ポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ-ポリプロピレングリコール-(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ-ポリ(エチレングリコール-プロピレングリコール)-(メタ)アクリレートを好ましく挙げることができる。
 上記ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、及び、(ポリ)アルキレンオキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物は、市販のものを用いることが可能である。代表例を示すと、ブレンマーE、ブレンマーPE-90、ブレンマーPE-200、ブレンマーPE-350、ブレンマーP、ブレンマーPP-1000、ブレンマーPP-500、ブレンマーPP-800、ブレンマー50PEP-300、ブレンマー70PEP-350B、ブレンマー55PET-800、ブレンマーPPTシリーズ、ブレンマー10PPB-500B、ブレンマーAE-90、ブレンマーAE-200、ブレンマーAE-400、ブレンマーAP-150、ブレンマーAP-400、ブレンマーAP-550、ブレンマーPME-100、ブレンマーPME-200、ブレンマーPME-400、ブレンマーPME-1000、ブレンマー50POEP-800B、ブレンマーPLE-200、ブレンマーPSE-400、ブレンマーPSE-1300、ブレンマーPAE-50、ブレンマーPAE-100、ブレンマー43PAPE-600B、ブレンマーAME-400、ブレンマーALEシリーズ、ブレンマーANP-300、ブレンマー75ANP-600、ブレンマーAAE-50、ブレンマーAAE-300(以上、日油(株)製)等を挙げることができる。
 ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を使用する場合、当該化合物におけるヒドロキシ基の数は、1~10個が好ましく、1~5個がより好ましく、1~3個が更に好ましく、1個が特に好ましい。
 また、(ポリ)アルキレンオキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を使用する場合、当該化合物におけるアルキレンオキシ基の繰り返し単位数としては、1~25が好ましく、1~15がより好ましく、1~10が更に好ましい。
 これらの中でも、成分Cは、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート化合物を含むことが好ましく、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートを含むことがより好ましく、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを含むことが更に好ましい。
 成分Cは、得られる人工爪の耐水性の観点から、多官能重合性化合物を含んでもよい。
 多官能重合性化合物として、ウレタン結合を有する多官能(メタ)アクリレート化合物、ポリオール(メタ)アクリレート化合物、等が例示される。
 ウレタン結合を有する多官能(メタ)アクリレート化合物としては、イソシアナト基と水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物が好ましく挙げられる。そのような具体例としては、例えば、1分子に2個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物に、水酸基を含有するエチレン性不飽和モノマーを付加させた1分子中に2個以上のエチレン性不飽和基を含有するウレタン化合物等が挙げられる。
 中でも、上記イソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート、トリレンジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネート、1,3-ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、Bayer社製DESMODUR(登録商標)類、等が好ましく挙げられる。
 上記水酸基を含有するエチレン性不飽和モノマーの具体例としては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2,3-ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・プロピレングリコール)-モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール-モノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・テトラメチレングリコール)-モノ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール・テトラメチレングリコール)-モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリブチレングリコール-モノ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、を好ましく挙げることができる。
 ポリオール(メタ)アクリレート化合物としては、2官能以上のポリオール化合物の(メタ)アクリル酸エステルが好ましく挙げられる。そのような具体例としては、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、トリス(2-(メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌル酸、2,2-ビス(4-(2-(メタ)アクリロイルオキシエチル)オキシフェニル)プロパン、等を好ましく挙げることができる。
 成分Cは、1種単独で含有していても、2種以上を併用していてもよい。
 本発明の人工爪組成物における成分Cの含有量は、特に制限はないが、成分Aを含む重合性化合物の総量として、人工爪組成物の全質量に対し、1~80質量%であることが好ましく、3~70質量%であることがより好ましく、10~60質量%であることが更に好ましく、20~50質量%であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の除去性及び耐水性により優れる。
(成分D)光重合開始剤
 本発明の人工爪組成物は、(成分D)光重合開始剤を含むことが好ましい。成分Dを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
 光重合開始剤としては、ラジカル光重合開始剤、及び、カチオン光重合開始剤が挙げられるが、ラジカル光重合開始剤を含有することがより好ましい。
 光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができる。本発明に用いることができる光重合開始剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、ラジカル光重合開始剤とカチオン光重合開始剤とを併用してもよい。
 本発明に用いることのできる光重合開始剤は、光を吸収して重合開始種を生成する化合物である。光としては、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線が例示できる。これらの中でも、紫外線が好適に使用される。
 本発明に用いることができる光重合開始剤として具体的には、以下のものを好ましく例示できる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
 アセトフェノン誘導体(例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、4’-イソプロピル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルホリノ-1-プロパン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタン-1-オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等);
 ベンゾフェノン誘導体(例えば、ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、3,3-ジメチル-4-メトキシ-ベンゾフェノン等);
 アントラキノン誘導体(例えば、アントラキノン、2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、tert-ブチルアントラキノン等);
 チオキサントン誘導体(例えば、2-クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等);
 トリハロアルキル化合物(例えば、2,4,6-(トリクロロメチル)トリアジン、2,4-トリクロロメチル-6-(4-メトキシフェニル)トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等);
 ロフィンダイマー誘導体(例えば、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾリル二量体);
 アクリジン誘導体(例えば、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス(9-アクリジニル)ヘプタン、1,5-ビス(9-アクリジニル)ペンタン、1,3-ビス(9-アクリジニル)プロノパン);
 ホスフィンオキシド誘導体(例えば、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド等);
 メタロセン誘導体(例えば、ビスシクロペンタジエニル-ビス(ジフルオロ-ピリル-フェニル)チタニウム等);
 オニウム塩(例えば、ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等);
 オキシムエステル誘導体(例えば、1-(4-フェニルチオフェニル)-1,2-オクタンジオン-2-(O-ベンゾイルオキシム)、1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-エタノン-1-(O-アセチルオキシム)等);
 ボレート塩(例えば、テトラフェニルボレートナトリウム塩等);
 過酸化物(例えば、過安息香酸-t-ブチル等)。
 本発明に用いられる光重合開始剤は、人工爪組成物の光硬化性や光選択性を付与するために適宜選択されるが、これらの中でも、成分Dとしては、アセトフェノン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ロフィンダイマー誘導体、ホスフィンオキシド誘導体、メタロセン誘導体、オキシムエステル誘導体、オニウム塩、及び、ボレート塩よりなる群から選択された光重合開始剤であることが好ましく、アセトフェノン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ホスフィンオキシド誘導体、メタロセン誘導体及びオキシムエステル誘導体よりなる群から選択された光重合開始剤であることがより好ましい。
 本発明の人工爪組成物中における成分Dの含有量としては、人工爪組成物の総質量に対して、0.01~20質量%であることが好ましく、0.1~15質量%であることがより好ましく、0.5~12質量%であることが更に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の密着性、光沢及び耐水性により優れる。
(成分E)溶剤
 本発明の人工爪組成物は、塗布性の観点から、(成分E)溶剤を含有してもよい。
 溶剤としては、公知の溶剤であれば、いずれも好適に使用することができる。例えば、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤及びこれらのアセテート系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶剤、水等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
 乾燥速度の観点から、溶剤の沸点は、30~130℃であることが好ましく、35~100℃であることがより好ましく、40~90℃であることが更に好ましく、50~85℃であることが特に好ましい。上記範囲であると、乾燥性及び塗布性に優れる。
 成分Eは、1種単独で含有していても、2種以上を併用していてもよい。
 成分Eとしては、アルコール系溶剤及び/又はケトン系溶剤を含むことが好ましく、アルコール系溶剤及びケトン系溶剤を含むことがより好ましい。
 本発明の人工爪組成物における成分Eの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、1~90質量%であることが好ましく、2~80質量%であることがより好ましく、3~80質量%であることが更に好ましく、5~50質量%であることが特に好ましい。上記範囲であると、塗布性により優れ、得られる人工爪の除去性及び密着性により優れる。
<その他の成分>
 本発明の人工爪組成物は、上記成分A~成分E以外のその他の成分として、一般に人工爪組成物中に配合されうる添加成分を、本発明効果を損なわない範囲内において任意に配合することができる。このような添加成分としては、例えば、消泡剤、緩衝剤、キレート化剤、分散剤、染料、充填剤、顔料、防腐剤、樹脂粉末(例えば、ポリ(メタ)アクリル酸等)、無機粉末(例えば、シリカゲル等)、増粘剤、湿潤剤、ラジカル重合抑制剤(重合禁止剤)等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
 また、本発明の人工爪組成物における各成分の配合量は、特に限定されるものではないが、質量比で、成分A及び成分C/成分B及びその他のポリマー/成分D/その他の成分=0~70/10~90/0~25/0~20の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、塗布性により優れ、また、得られる人工爪の除去性及び光沢により優れる。
 本発明の人工爪組成物をマニキュア液用人工爪組成物として使用する場合には、人工爪組成物は、成分B及び成分Eを少なくとも含有することが好ましく、これに加えて、成分B以外のポリマー、一般に人工爪組成物中に配合されうるその他の添加成分を任意に配合することができる。
 また、本発明の人工爪組成物を光硬化性人工爪組成物(ジェルネイル用人工爪組成物)として使用する場合には、人工爪組成物は、成分Aと成分Dとを少なくとも含有するか、成分Bと、成分A及び/又は成分Cと、成分Dとを含有することが好ましい。また、成分Aと成分Dとを含有する場合、成分B及び/又は成分B以外のポリマーを含有することが好ましい。また、上記の成分に加え、成分E、一般に人工爪組成物中に配合されうるその他の添加成分を任意に配当することができる。
 本発明の人工爪組成物の酸価は、0.5mmol/g~7.0mmol/gであることが好ましく、0.75mmol/g~6.5mmol/gであることがより好ましく、1.0mmol/g~6.0mmol/gであることが更に好ましい。人工爪組成物の酸価が上記範囲内であると、除去性及び持続性が良好となる。
 酸価が上記範囲内となるように、成分A及び/又は成分Bの含有量等を適宜調整することが好ましい。
(人工爪)
 本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪であり、本発明の人工爪組成物を乾燥及び/又は露光して形成された層を有する人工爪であることが好ましい。
 本発明の人工爪は、マニキュア、ペディキュア等のネイルポリッシュや、ジェルネイルとして好適である。
 本発明の人工爪は、少なくとも一部が本発明の人工爪組成物により形成されていればよく、他の層や構造を有していてもよいし、人工爪全体が本発明の人工爪組成物により形成されていてもよい。
 本発明の人工爪組成物により形成された層は、本発明の人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
 また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を1層のみ有していても、2層以上有していてもよい。
 中でも、除去性の観点から、本発明の人工爪組成物により形成した少なくとも1層が爪と接している層であることが好ましい。
 本発明において、光硬化性の人工爪組成物を用いて人工爪を形成するには、まず爪上(ヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上)に本発明の人工爪組成物を塗布した後、紫外線を照射して、本発明の人工爪組成物を光硬化させることで形成することができる。
 好ましくは、まず爪上に本発明の人工爪組成物を塗布した後、紫外線を照射して、本発明の人工爪組成物を光硬化させてベース層を形成し、その後、着色剤を含む公知の人工爪組成物又は着色剤を含む本発明の人工爪組成物を塗布して光硬化することによりカラー層を形成し、最後に公知の人工爪組成物又は本発明の人工爪組成物を塗布することによりトップ層を形成することで形成することができる。
 図1に、本発明においてより好ましい人工爪の構成について示す。
 本発明において、より好ましくは、まず爪1上に本発明の人工爪組成物を塗布した後、紫外線を照射して、本発明の人工爪組成物を光硬化させてベース層2を形成し、その後、着色剤を含む公知の人工爪組成物を塗布して光硬化することによりカラー層3を形成し、最後に公知の人工爪組成物を塗布することによりトップ層4を形成することで人工爪を形成することができる。このように形成することで人工爪の安定性を向上させることができる。また、より好ましくは、爪1上に本発明の人工爪組成物を塗布した後、紫外線を照射して、本発明の人工爪組成物を光硬化させてベース層2を形成し、その後、着色剤を含む本発明の人工爪組成物を塗布して光硬化することによりカラー層3を形成し、最後に本発明の人工爪組成物を塗布することによりトップ層4を形成することで形成することができる。このように形成することで人工爪の除去性をより向上させることができる。
 また、本発明の人工爪における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、10~2,000μmであることが好ましく、20~1,500μmであることがより好ましく、20~400μmが更に好ましい。
(人工爪の形成方法)
 本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物を用いて人工爪を形成する方法であれば、特に制限はないが、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、上記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、を含む方法であることが好ましい。
 本発明の人工爪組成物を人工爪として形成するには、乾燥又は露光のいずれかの形成方法を好適に選択することができる。
 本発明の人工爪組成物は、成分Aを含有する場合、成分B及び/又は成分B以外のポリマーと、(成分D)光重合開始剤とを含有することが好ましく、任意に(成分E)溶剤を含有していてもよい。
 また、本発明の人工組成物が成分Bを含有する場合、成分A及び/又は成分Cと、成分Dとを少なくとも含むか、成分Eを少なくとも含むことが好ましい。
 また、本発明の人工爪の形成方法における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、10~2,000μmであることが好ましく、20~1,500μmであることがより好ましく、20~400μmが更に好ましい。
<塗布工程>
 本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程(塗布工程)を含むことが好ましい。
 他の人工爪は、人工爪に用いられる基材であれば、特に制限はなく、例えば、樹脂基材、本発明の人工爪の形成方法以外の方法により形成された人工爪、又は、本発明の人工爪の形成方法により得られた人工爪が挙げられる。
 塗布方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法が好ましく挙げられる。また、スプレー塗布やインクジェット塗布を行ってもよい。
 塗布膜の厚さについても、特に制限はなく、得られる人工爪における所望の厚さを考慮して、塗布厚を適宜調整すればよい。
<乾燥又は露光工程>
 本発明の人工爪の形成方法は、上記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程(乾燥又は露光工程)を含むことが好ましい。
-乾燥工程-
 乾燥により人工爪を形成する場合、使用する本発明の人工爪組成物は、(成分E)溶剤を含有していることが好ましい。
 乾燥方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよい。
 具体的には、例えば、室温(例えば、10~30℃)にて放置乾燥する方法、気流下において放置乾燥する方法、加熱乾燥する方法、及び、これらを組み合わせた方法が好ましく挙げられる。加熱方法としては、特に制限はないが、室温より高い温度の雰囲気下に放置する方法、加熱気流下に放置する方法、ヒーターや赤外線ランプ(IRランプ)等の加熱手段により加熱する方法が例示できる。
 乾燥時間としては、特に制限はなく、人工爪組成物の組成や、乾燥方法、塗布厚によって適宜調整すればよいが、簡便性及びセルフレベリングによる平滑性や光沢性付与の観点から、10秒~20分であることが好ましく、15秒~10分であることがより好ましく、30秒~5分であることが更に好ましく、30秒~2分であることが特に好ましい。
-露光工程-
 露光により人工爪を形成する場合、使用する本発明の人工爪組成物は、(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び/又は、(成分C)その他の重合性化合物、並びに、(成分D)光重合開始剤を含有していることが好ましい。
 また、本発明の人工爪組成物が、これらの成分に加え、(成分E)溶剤を含有している場合、露光を行う前に、乾燥を行うことが好ましい。
 露光に使用する光としては、紫外線、可視光線などが挙げられ、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。
 露光手段としては、特に制限はなく、公知の露光手段を用いることができるが、例えば、水銀ランプ及びメタルハライドランプ等の紫外線ランプ(UVランプ)、発光ダイオード(LED)、レーザーダイオード(LD)等が挙げられる。
 中でも、UVランプ、又は、紫外線発光ダイオード(UV-LED)が好ましい。
 露光時間としては、特に制限はないが、0.5~15分が好ましく、0.5~10分がより好ましく、0.5~7分が更に好ましい。また、露光は、間歇的に行っても、連続的に行ってもよいし、パルス光により行ってもよく、任意の方法で露光すればよい。
 本発明の人工爪の形成方法は、得られる人工爪の光沢や美観、また、露光を行った場合は未硬化成分の除去の観点から、乾燥又は露光工程の後、得られた人工爪の表面を洗浄又は拭き取る工程を更に含むことが好ましい。
 洗浄又は拭き取り方法としては、エタノール等の溶剤を含ませたワイプシートやスポンジワイプ等の拭き取り基材により拭き取る方法、エタノール等の溶剤や水により洗浄する方法が例示できる。
 また、洗浄又は拭き取りに使用する溶剤としては、得られた人工爪を溶解しない溶剤であることが好ましい。
 また、本発明の人工爪の形成方法は、露光を行う場合、塗布工程の前に、ヒト若しくは動物の爪、又は、他の人工爪の表面を粗面化する工程を含むことが好ましい。上記態様であると、露光して得られる人工爪(ジェルネイル)の密着性及び耐久性に優れる。
 爪表面の粗面化方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。例えば、ファイル等の爪用やすりにより粗面化を行う方法が好ましく挙げられる。
 また、本発明の人工爪の形成方法は、その他、公知の工程を含んでいてもよい。
(人工爪の除去方法)
 本発明の人工爪の除去方法は、本発明の人工爪を除去液に接触させて除去する工程(除去工程)を含む。
 上記除去液は、pH8以上11以下の水溶液である。
 本発明の人工爪組成物は、従来の除去液であるアセトン等の有機溶媒でも除去可能であるが、pH8以上11以下の水溶液によって、より安全に皮膚・爪に負担を与えずに除去することが可能である。本発明で好適に用いられる除去液は、塩基性にするための有機・無機酸成分、水、任意に安定剤、任意に界面活性剤からなることが好ましい。以下に好ましい除去液の態様について記載する。
 本発明において、除去液は、pH8以上11以下であればどのような組成の水溶液でも好適に使用することができるが、除去液のpHを8~11に保つためのアルカリ剤(pH緩衝剤ともいう。)を必須成分として含み、除去性を向上させるための界面活性剤を含有することが好ましい。
<アルカリ剤(pH緩衝剤)>
 除去液のpHを8~11に保つためのアルカリ剤(pH緩衝剤)としては、公知のいずれの化合物も使用することができるが、炭酸塩(炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等)、炭酸水素塩(炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、水酸化物塩(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、リン酸塩(リン酸三ナトリウム等)、硼酸塩(硼酸カリウム等)、有機アミン化合物(トリエチルアミン、トリエタノールアミン等)が好ましく、炭酸塩、炭酸水素塩、が特に好ましい。また、これらのアルカリ剤は混合して使用してもよく、炭酸塩と炭酸水素塩とを併用することが特に好ましい。
 本発明に用いられる除去液におけるアルカリ剤の含有率は、除去液の質量に対して1~20質量%が好ましく、3~15質量%がより好ましく、4~12質量%が特に好ましい。総量が1質量%以上であると除去性が低下せず、20質量%以下であるとアルカリ剤等の沈殿や結晶を生成しにくくなる。
<界面活性剤>
 界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、中性界面活性剤、両性界面活性剤等の公知の界面活性剤を使用することができる。
 アニオン系界面活性剤としては、カルボン酸塩類(例:リノール酸ナトリウム、オレイン酸カリウム等)、スルホン酸塩類(例:アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類等)、硫酸モノエステル塩類(例:アルキル硫酸エステル塩類等)、リン酸エステル塩類(例:アルキル燐酸エステル塩類等)、等が挙げられる。これらの中でもスルホン酸塩類、カルボン酸塩類が好ましく、スルホン酸塩類がより好ましく、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類及びアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
 カチオン系界面活性剤としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
 ノニオン系界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン-エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン-(プロピレンオキサイド-エチレンオキサイド)ブロックコポリマー等や、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。
 本発明においては、ソルビトール及び/又はソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン-エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン-(プロピレンオキサイド-エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルがより好ましい。
 また、水に対する安定な溶解性又は混濁性の観点から、ノニオン系界面活性剤としては、HLB(Hydorophile-Lipophile Balance)値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましい。また、アセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ素系、シリコン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。
 両性界面活性剤は、界面活性剤の分野においてよく知られているように、アニオン性部位とカチオン性部位を同一分子内に持つ化合物であり、アミノ酸系、ベタイン系、アミンオキシド系等の両性界面活性剤が含まれる。本発明で使用する除去液に用いられる両性界面活性剤としては、下記式<1>で表される化合物及び下記式<2>で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 式<1>中、R8はアルキル基を表し、R9及びR10は各々水素原子又はアルキル基を表し、R11はアルキレン基を表し、Aはカルボン酸イオン又はスルホン酸イオンを表す。
 式<2>中、R18、R19及びR20は、各々水素原子又はアルキル基を表す。ただし、R18、R19及びR20のすべてが、水素原子であることはない。
 上記式<1>において、R8、R9又はR10で表されるアルキル基及びR11で表されるアルキレン基は、直鎖でも分枝鎖でもよく、また、鎖中に連結基を有していてもよく、更に、置換基を有していてもよい。連結基としては、エステル結合、アミド結合、エーテル結合などのヘテロ原子を含むものが好ましい。また、置換基としては、ヒドロキシル基、炭素数1~8のアルコキシ基、フェニル基、アミド基、ハロゲン原子などが好ましい。また、R8、R9又はR10は互いに環状に連結していてもよい。環状に連結する形態としては、5員環又は6員環を形成するものが好ましく、特に環がヘテロ原子を含む複素環であることが好ましい。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が好ましい。特に、置換イミダゾール環、置換イミダゾリン環、置換イミダゾリジンなどのカチオン構造であることが好ましい。
 式<1>で示される化合物において、総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の除去液への溶解が困難となる。この場合、有機溶剤、例えば、アルコール等の溶解助剤を添加することにより、良化はするが、総炭素数値が大きくなりすぎた場合、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない場合がある。従って、R8~R11の炭素数の総和は好ましくは、8~25であり、より好ましくは11~21である。
 上記式<2>において、R18、R19又はR20で表されるアルキル基は、直鎖でも分枝鎖でもよく、また、鎖中に連結基を有していてもよく、更に、置換基を有していてもよい。連結基としては、エステル結合、アミド結合、エーテル結合などのヘテロ原子を含むものが好ましい。また、置換基としては、ヒドロキシル基、炭素数1~8のアルコキシ基、フェニル基、アミド基、ハロゲン原子などが好ましい。
 式<2>で示される化合物において、総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の除去液への溶解が困難となる。この場合、有機溶剤、例えば、アルコール等の溶解助剤を添加することにより、良化はするが、総炭素数値が大きくなりすぎた場合、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない場合がある。従って、R18~R20の炭素数の総和は好ましくは、8~22であり、より好ましくは10~20である。
 これらの界面活性剤は、人工爪組成物に使用される素材に合わせて適宜選択されるが、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤が好ましく、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤が特に好ましい。また、2種以上の界面活性剤を併用することも可能であり、併用する場合は、アニオン性界面活性剤同士、両性界面活性剤同士、アニオン性界面活性剤とノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤とノニオン性界面活性剤の組み合わせが好ましい。
 界面活性剤の除去液中における含有量は0.01~10質量%が好ましく、0.02~9質量%がより好ましい。
<その他の成分>
 本発明に用いられる除去液には、アルカリ剤、界面活性剤の他に、湿潤剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、有機溶剤、無機酸、無機塩、水溶性高分子化合物、香料などを含有することができる。
 湿潤剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン等が好適に用いられる。湿潤剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。一般に、湿潤剤は除去液の全質量に基づいて0~5質量%の量で使用される。
 防腐剤としては、フェノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4-イソチアゾリン-3-オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン-3-オン、2-メチル-4-イソチアゾリン-3-オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2-ブロモ-2-ニトロプロパン-1,3-ジオール、1,1-ジブロモ-1-ニトロ-2-エタノール、1,1-ジブロモ-1-ニトロ-2-プロパノール等が好ましく使用できる。種々のカビ、殺菌に対して効力のあるように2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。防腐剤の添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、除去液に対して0~4質量%の範囲が好ましい。
 キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1-ヒドロキシエタン-1,1-ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。添加量は除去液に対して0~1.0質量%が好適である。
 消泡剤としては一般的なシリコーン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系のHLB値が5以下等の化合物を使用することができる。これらの中でも、シリコーン消泡剤が好ましく、乳化分散型及び可溶化型等がいずれも使用できる。消泡剤の含有量は、除去液に対して0~1.0質量%の範囲が好適である。
 有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、p-トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩又はアンモニウム塩の形で用いることもできる。有機酸の含有量は処理液に対して0~0.5質量%が好ましい。
 有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、「アイソパーE、H、G」(エッソ化学(株)製)、ガソリン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)や、極性溶剤が挙げられる。
 極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N-フェニルエタノールアミン、N-フェニルジエタノールアミン等)等が挙げられる。
 また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。本発明において、除去液は水を主成分として有することが好ましく、除去液が有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40質量%未満が好ましい。
 無機酸及び無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。無機塩の含有量は除去液の全質量に基づいて0~0.5質量%の量が好ましい。
 水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)及びその変性体、プルラン、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。水溶性高分子化合物の好ましい酸価は、0~3.0meq/gである。水溶性高分子化合物は2種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の除去液中における含有量は、0~20質量%が好ましく、より好ましくは0.1~10質量%である。
 香料としては、公知の香料を適宜選択して用いることができ、香料を1種単独で用いることもできるし、複数の香料を組み合わせて使用することもできる。香料は、除去液に使用する化合物や溶剤によって、適宜選択することが好ましく、公知の香料を組み合わせて最適化することが好ましい。また、香料としては、天然香料、合成香料のいずれも使用することができる。本発明に用いられる香料としては、特開2009-298109号公報に記載の香料を好適に使用することができる。香料の除去液中における含有量は、0~20質量%が好ましく、0.02~10質量%が特に好ましい。
<水、及び、pH>
 上記除去液に使用する水は、特に制限はなく、水道水、蒸留水、イオン交換水等を用いることができる。
 除去液中の水の含有量は、特に制限はないが、除去液の全質量に対し、50~99.5質量%であることが好ましく、70~99質量%であることがより好ましく、90~99質量%であることが更に好ましい。
 除去液のpHは、本発明の人工爪に含まれる成分A及び成分Bが有する酸基をイオン化する能力、すなわち除去性の観点から、8以上であることが好ましく、肌等への影響の観点から11以下であることが好ましい。除去液のpHは、8.5~10.9であることが好ましく、8.7~10.8であることがより好ましく、9~10.7であることが更に好ましい。
 除去液は、安全性を損なわない程度に加温して使用することが、除去速度を速める観点で好ましい。加温は30℃~45℃が好ましく、35℃~45℃がより好ましく、40℃~45℃が特に好ましい。また、人工爪を除去液に浸漬する場合には、浸漬する液を撹拌してもよい。
 本発明の人工爪は、従来のアセトン等の有機溶剤の代わりに、pH8~11の水溶液に接触させることで簡便に除去することができる。
 接触の方法は、特に限定されるものではなく、人工爪を直接除去液に浸漬する方法、除去液を浸したコットン等を人工爪上に載せて放置する方法、除去液を人工爪上に滴下あるいは噴霧器やシャワー等によって吹き付ける方法が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
 除去方法の具体例を以下に示す。すなわち、人工爪表面をファイル(爪用やすり)でこすって人工爪表面に粗めに傷を付けた後、除去液に浸したコットンを上記人工爪上に載せ、これをアルミホイル等で巻いて3~5分間程度そのまま放置して人工爪を膨潤させた後、この膨潤した人工爪をへら状若しくはスティック状器具等を用いることで、指先や爪に負担をかけることなく、極めて容易かつ安全に剥がすことができる。また有機溶媒を用いないことから環境保護の点からも好ましい。
 なお、上記方法において、除去液に浸したコットンをアルミホイルで巻く作業を行わなくとも、コットンを載せた後の放置時間を長めにするだけで、上記と同等の除去効果が得られる。
 また、コットンを用いる代わりに、除去液(pH8~11の水溶液)に3~5分間程度、指先(人工爪形成済み)を浸すことで人工爪を膨潤させることができ、除去液中でブラシや手等により擦ることでより簡便に除去が可能である。
 接触時間は、特に制限はなく、人工爪が除去できる長さの時間であればよいが、0.5~10分が好ましく、1~5分がより好ましい。
 また、本発明の人工爪の除去方法は、人工爪表面を本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れるように傷をつける工程を含むことが好ましい。
 傷を付ける方法としては、特に制限はないが、ファイル等の爪用やすりを好適に用いることができる。
 本発明の除去方法では、除去液(pH8~11の水溶液)の温度は10℃~50℃であることが好ましく、20℃~45℃であることが好ましく、30℃~45℃であることが特に好ましい。上記温度とすることで除去性が向上する。
 除去方法の好ましい具体例を以下に示す。すなわち、任意に人工爪表面を爪用やすりで擦って本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れる程度に粗めに傷をつけた後、除去液(pH8~11の水溶液)に浸漬し、1~5分程度そのまま放置して人工爪の溶解性を変化させた後に人工爪を布若しくは不織布などにより拭き取り、又は、へら状若しくはスティック状の器具による押し剥がしによって指先や爪に負担をかけることなく、極めて容易かつ安全に剥がすことができる。
 なお、上記方法において浸漬しながら、拭き取り、押し剥がしをすることも可能であり、より早く除去することが可能になる。また、超音波や振動などを与えることで拭き取り・剥離を促進してもよい。
 また、本発明の人工爪の除去方法は、その他、公知の工程を含んでいてもよい。
(ネイルアートキット)
 本発明のネイルアートキットは、本発明の人工爪組成物と、除去液と、を含み、上記除去液が、pH8~11の水溶液である。
 本発明のネイルアートキットにおける本発明の人工爪組成物及び除去液の好ましい態様は、上述したものと同様である。
 また、本発明のネイルアートキットは、上記人工爪組成物及び除去液以外に、任意の品を含んでいてもよい。
 例えば、カラー用又はトップ用等の本発明の人工爪組成物以外の人工爪組成物、ファイル等の爪用やすり、人工爪組成物を塗布するための平筆等の筆や刷毛、UVライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されない。
 以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例における形態に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、及び「%」は質量基準である。
(実施例1~7、比較例1)
 下記表1に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物(試料1~8)を得た。なお、表中の数字は、添加した質量部を意味し、「-」は該当する成分を含有しないことを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 表1中のポリウレタンメタクリレート1は、次の方法で得た。
 2-ヒドロキシエチルメタクリレート:2.6部と、イソホロンジイソシアネート:111.1部と、1,4-ジヒドロキシブタン:44.2部とを反応させて得た。ポリウレタンメタクリレート1(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2万、酸価:0mmol/g、C=C価:0.12mmol/g)
 得られた各組成物(試料1~8)0.25gを、爪状に型取りしたプラスチック製基材上に筆を用いて塗布し、ビューティーネイラー製UVランプ(36W)を2分間照射した。その後、エタノールで表面を洗浄した後、組成物(塗膜)を目視で観察したところ、完全に固化(硬化)しており、光沢があった(膜厚:110μm)。
 この光硬化した試料1~8の各組成物(光硬化膜)の表面にファイル(爪用のやすり)で傷を付け、下記に示す除去液1(液温40℃)に時間を変化させて浸漬(接触)させた。次いで、取り出した各試料(硬化膜)につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬(接触)時間で除去性を評価した。結果を表2に示す。
除去液1組成(pH=9.9)
 ・水:9379.8部
 ・炭酸ナトリウム:130.0部
 ・炭酸水素ナトリウム:70.0部
 ・ニューコールB13:500.0部
 ・リン酸第1アンモニウム:20.0部
 ・2-ブロモ-2-ニトロプロパン-1,3-ジオール:0.1部
 ・2-メチル-4-イソチアゾリン-3-オン:0.1部
 なお、使用したニューコールB13は、ポリオキシアルキレンアリールエーテル(日本乳化剤(株)製)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
 表2の結果から明らかなように、酸基を有するモノマーを配合しない試料8は、pH8~11の水溶液で15分以内に除去することができなかったのに対し、酸基を有するモノマーを配合した試料1~7は、本発明範囲内のpH8~11の水溶液を用いて短時間で除去することができた。
(実施例8~14、比較例2)
 下記表3に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物(試料9~16)を得た。なお、表中の数字は、添加した質量部を意味し、「-」は該当する成分を含有しないことを意味する。また、使用したポリマーの共重合比は、モル比である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 得られた各組成物(試料9~16)0.25gを、爪状に型取りしたプラスチック製基材上に筆を用いて塗布し、ビューティーネイラー製UVランプ(36W)を2分間照射した。その後、エタノールで表面を洗浄した後、組成物(塗膜)を目視で観察したところ、完全に固化(硬化)しており、光沢があった(膜厚115μm)。
 この光硬化した試料9~16の各組成物(光硬化膜)の表面にファイル(爪用のやすり)で傷を付け、下記に示す除去液2(液温40℃)に時間を変化させて浸漬(接触)させた。次いで、取り出した各試料(硬化膜)につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬(接触)時間で除去性を評価した。結果を表4に示す。
除去液2組成(pH=9.4)
 ・水:8349.8部
 ・炭酸ナトリウム:60.0部
 ・炭酸水素ナトリウム:240.0部
 ・パイオニンB111:400.0部
 ・メチルセルロース:950.0部
 ・2-ブロモ-2-ニトロプロパン-1,3-ジオール:0.1部
 ・2-メチル-4-イソチアゾリン-3-オン:0.1部
 上記のパイオニンB111及びメチルセルロースは、以下の通りである。
 ・パイオニンB111:ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド(竹本油脂(株)製)
 ・メチルセルロース:メチルセルロース(信越化学工業(株)製)
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
 表4の結果から明らかなように、酸基を有するポリマーを配合しない試料16は、pH8~11の水溶液で20分以内に除去することができなかったのに対し、酸基を有するポリマーを配合した試料9~15は、本発明範囲内のpH8~11の水溶液を用いて短時間で除去することができた。
(実施例15~24、比較例3)
 下記表5に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物(試料17~27)を得た。なお、表中の数字は、添加した質量部を意味し、「-」は該当する成分を含有しないことを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
 使用したポリウレタン-1~ポリウレタン-11は、以下の通りである。
<ポリウレタン-1>
 イソプロピルアルコール:1.20部とトリレンジイソシアネート:144.55部と2,2-ジメチロールプロピオン酸:109.99部とを反応させて得られるポリウレタン(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2.7万、酸価:3.2mmol/g)
<ポリウレタン-2>
 イソプロピルアルコール:1.20部とトリレンジイソシアネート:134.10部と下記構造の化合物A:124.01部とを反応させて得られるポリウレタン(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2.6万、酸価:2.9mmol/g)
<ポリウレタン-3>
 イソプロピルアルコール:1.20部とトリレンジイソシアネート:134.10部と下記構造の化合物B:134.67部とを反応させて得られるポリウレタン(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2.6万、酸価:2.8mmol/g)
<ポリウレタン-4>
 イソプロピルアルコール:1.20部とトリレンジイソシアネート:123.65部と下記構造の化合物C:143.65部とを反応させて得られるポリウレタン(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2.7万、酸価:2.6mmol/g)
<ポリウレタン-5>
 イソプロピルアルコール:1.20部とトリレンジイソシアネート:134.10部と下記構造の化合物D:153.46部を反応させて得られるポリウレタン(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2.8万、酸価:2.5mmol/g)
<ポリウレタン-6>
 イソプロピルアルコール:1.20部とトリレンジイソシアネート:116.69部と下記構造の化合物E:153.95部を反応させて得られるポリウレタン(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2.7万、酸価:2.4mmol/g)
<ポリウレタン-7>
 イソプロピルアルコール:1.20部とトリレンジイソシアネート:134.10部と下記構造の化合物F:163.21部とを反応させて得られるポリウレタン(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2.8万、酸価:2.3mmol/g)
<ポリウレタン-8>
 イソプロピルアルコール:1.20部とトリレンジイソシアネート:174.16部と1,4-ブタンジオール:89.22部とを反応させて得られるポリウレタン(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2.6万、酸価:0mmol/g)
<ポリウレタン-9>
 イソプロピルアルコール:1.20部とトリレンジイソシアネート:134.10部と下記構造の化合物G:126.18部とを反応させて得られるポリウレタン(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2.5万、酸価:2.7mmol/g)
<ポリウレタン-10>
 イソプロピルアルコール:1.20部とトリレンジイソシアネート:134.10部と下記構造の化合物H:126.83部とを反応させて得られるポリウレタン(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2.6万、酸価:2.7mmol/g)
<ポリウレタン-11>
 イソプロピルアルコール:1.20部とトリレンジイソシアネート:134.10部と下記構造の化合物I:163.86部とを反応させて得られるポリウレタン(GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量:2.8万、酸価:2.3mmol/g)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 得られた各組成物0.25gを、爪状に型取りしたプラスチック製基材上に筆を用いて塗布し、ビューティーネイラー製UVランプ(36W)を2分間照射した。その後、エタノールで表面を洗浄した後、組成物(塗膜)を目視で観察したところ、完全に固化(硬化)しており、光沢があった(膜厚110μm)。
 この光硬化した試料17~27の各組成物(光硬化膜)の表面にファイル(爪用のやすり)で傷を付け、下記に示す除去液3(液温40℃)に時間を変化させて浸漬(接触)させた。次いで、取り出した各試料(硬化膜)につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬(接触)時間で除去性を評価した。結果を表6に示す。
除去液3組成(pH=9.7)
 ・水:8079.8部
 ・炭酸ナトリウム:120.0部
 ・炭酸水素ナトリウム:80.0部
 ・W-2:750.0部
 ・リン酸第一アンモニウム:20.0部
 ・2-ブロモ-2-ニトロプロパン-1,3-ジオール:0.1部
 ・2-メチル-4-イソチアゾリン-3-オン:0.1部
 ・アラビアガム:250.0部
 ・ヒドロキシアルキル化澱粉:700.0部
 W-2及びヒドロキシアルキル化澱粉は、以下の通りである。
 ・W-2:下記式で表される両性界面活性剤
 ・ヒドロキシアルキル化澱粉:ペノンJE66(日澱化学(株)製)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000029
 表6の結果から明らかなように、酸基を有するポリウレタンを配合しない試料24は、pH8~11の水溶液で20分以内に除去することができなかったのに対し、酸基を有するポリウレタンを配合した試料17~23は、本発明範囲内のpH8~11の水溶液を用いて短時間で除去することができた。
(実施例25、比較例4及び5)
 2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸:49部、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン:1部、上記ポリウレタン-1:40部、メチルエチルケトン:10部を均一に混合し、人工爪組成物(試料28)を得た。
 調製した試料を用いて、プラスチックの爪の上に、第1硬化層を形成した。具体的には、爪ヤスリで全体をサンディングした後にフラットブラシを用いて試料を均一に塗布した。次にビューティーネイラー製UVランプ(36mW)を用いて60秒間UV照射した(膜厚103μm)。その上に、バイオスカルプチャー製 BIO Sジェル(商品名)(膜厚115μm)、次いでibd製 ソークオフタイプ クリアジェル(商品名)(膜厚110μm)を使用し、それぞれ4分、2分紫外線硬化し、プラスチック爪上に本発明の人工爪組成物をベース層に使用した爪装飾1を形成した。
 同様にして、バイオスカルプチャー製CLEAR GEL(商品名)を用いてプラスチックの爪の上に、第1硬化層(膜厚105μm)を形成したのち、バイオスカルプチャー製 BIO Sジェル(商品名)(膜厚113μm)、次いでibd製 ソークオフタイプ クリアジェル(商品名)(膜厚110μm)を使用し、それぞれ4分、2分紫外線硬化し、プラスチック爪上に比較用ジェルネイル剤をベース層に使用した爪装飾2を形成した。
 得られた爪装飾1、2について、以下の評価を行った。結果を表7に示す。
<密着性評価>
 爪装飾の密着性は、装飾した爪を40℃の温浴に5分浸漬した後取り出して1分冷却乾燥するサイクルを12回繰り返した後、以下のように評価した。
 A:膜の浮き、剥がれ等が起こらない
 B:膜の浮きが見られるが、剥がれは発生しない
 C:膜の剥がれが見られる
<除去性評価>
 爪装飾の除去性は、以下のように評価した。
 この光硬化した各試料(光硬化膜)の表面にファイル(爪用のやすり)で傷を付け、以下の組成を有する除去液4(液温40℃)に時間を変化させて浸漬(接触)させた。次いで、取り出した各試料(硬化膜)につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬(接触)時間で除去性を評価した。
 一方、比較例5において、爪装飾2については、従来のアセトンを含ませた綿による除去性評価も実施した。具体的には、アセトンを含ませた綿にて爪装飾2を包み、次いでアルミホイルにてアセトンを含ませた綿ごと爪装飾を包んだ。接触時間を変化させて爪装飾2を取り出し、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な接触時間で除去性を評価した。
除去液4(pH:9.6)
 ・水:8,150部
 ・炭酸ナトリウム:160部
 ・炭酸水素ナトリウム:160部
 ・パイオニンC-157-K:500部
 ・ポリビニルピロリドン:850部
 ・ヘキサメタリン酸ソーダ:180部
 上記のパイオニンC157Kは、以下の通りである。
 ・パイオニンC157K:ベタイン型界面活性剤、竹本油脂(株)製
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
 表7の結果から明らかなように、比較用人工爪組成物をベース層に使用した爪装飾2は、除去液4に40分浸漬しても除去することができなかった。また、従来のアセトンを含ませた綿を用いた除去でも25分の接触時間が必要であった。これに対し、本発明のエチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物を配合した人工爪組成物により形成された爪装飾1では、除去液4を用いて12分浸漬で除去することができることが判明した。
 これらのことから、実施例の組成物により形成された第1硬化層は、密着性が良好であると共に、除去性に優れていることが判明した。
(実施例26)
 2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸:49部、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン:1部、上記ポリマー1:40部、メチルエチルケトン:10部を均一に混合し、人工爪組成物(試料29)を得た。
 調製した試料を用いて、プラスチックの爪の上に、第1硬化層を形成した。具体的には、爪ヤスリで全体をサンディングした後にフラットブラシを用いて試料を均一に塗布した。次にビューティーネイラー製UVランプ(36mW)を用いて60秒間UV照射した(膜厚110μm)。その上に、バイオスカルプチャー製 BIO Sジェル(商品名)(膜厚105μm)、次いでibd製 ソークオフタイプ クリアジェル(商品名)(膜厚110μm)を使用し、それぞれ4分、2分紫外線硬化し、プラスチック爪上に本発明の人工爪組成物をベース層に使用した爪装飾を形成した。
 得られた爪装飾について、以下の評価を行った。
 爪装飾を、40℃の温浴に5分浸漬した後取り出して1分冷却乾燥するサイクルを12回繰り返した結果、膜の浮き、剥がれが起こらなかった。
 一方、得られた爪装飾の表面にファイル(爪用のやすり)で傷を付け、上記除去液4(液温40℃)を含ませた綿で包み、時間を変化させて接触させた。次いで、取り出した試料(硬化膜)につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な接触時間は、10分であった。
 得られた爪装飾の表面にファイル(爪用のやすり)で傷を付け、上記除去液4をスプレーにて1分間に1回の間隔で噴霧して接触させた。次いで、取り出した試料(硬化膜)につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な噴霧回数は、10回であった。
 得られた爪装飾の表面にファイル(爪用のやすり)で傷を付け、上記除去液4に浸漬時間を変化させて浸漬させた。次いで、取り出した試料(硬化膜)につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬時間は、10分であった。
 以上の結果から明らかなように、本発明の人工爪組成物を用いた爪装飾では、当該除去液を用いて10分で除去することができることが判明した。
 これらのことから、実施例の組成物により形成された第1硬化層は、密着性が良好であると共に、除去性に優れていることが判明した。
(実施例27)
 2-メタクリロイルオキシエチルコハク酸:49部、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン:1部、上記ポリウレタン7:40部、メチルエチルケトン:10部を均一に混合し、ジェルネイル剤(試料30)を得た。
 調製した試料を用いて、プラスチックの爪の上に、第1硬化層を形成した。具体的には、爪ヤスリで全体をサンディングした後にフラットブラシを用いて試料を均一に塗布した。次にビューティーネイラー製UVランプ(36mW)を用いて60秒間UV照射した(膜厚113μm)。その上に、バイオスカルプチャー製 BIO Sジェル(商品名)(膜厚115μm)、次いでibd製 ソークオフタイプ クリアジェル(商品名)(膜厚110μm)を使用し、図1に示すようにベース層を覆うように塗布してそれぞれ4分、2分紫外線硬化し、プラスチック爪上に本発明のジェルネイル剤をベース層に使用した爪装飾を形成した。
 得られた爪装飾について、以下の評価を行った。
 爪装飾を、40℃の温浴に5分浸漬した後取り出して1分冷却乾燥するサイクルを12回繰り返した結果、膜の浮き、剥がれが起こらなかった。
 得られた爪装飾の表面にファイル(爪用のやすり)で傷を付け、上記除去液4(液温40℃)に浸漬時間を変化させて浸漬させた。次いで、取り出した試料(硬化膜)につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬時間は、5分であった。
 以上の結果から明らかなように、本発明のジェルネイル剤を用いた爪装飾では、当該除去液を用いて5分で除去することができることが判明した。
 これらのことから、実施例の組成物により形成された第1硬化層は、密着性が良好であると共に、除去性に優れていることが判明した。
(実施例28~34)
 下記表8に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物(試料31~33)を得た。なお、表中の数字は、添加した質量部を意味し、「-」は該当する成分を含有しないことを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
 得られた各組成物(試料)0.25gを、爪状に型取りしたプラスチック製基材上に筆を用いて塗布し、ビューティーネイラー製UVランプ(36W)を2分間照射した。その後、エタノールで表面を洗浄した後、組成物(塗膜)を目視で観察したところ、完全に固化(硬化)しており、光沢があった(膜厚130μm)。
 この光硬化した試料31~33の各組成物(光硬化膜)の表面にファイル(爪用のやすり)で傷を付け、下記に示す除去液5~11(液温40℃)に時間を変化させて浸漬(接触)させた。次いで、取り出した各試料(硬化膜)につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬(接触)時間で除去性を評価した。結果を表9に示す。
 使用した除去液5~11は、以下の通りである。
<除去液5>
 ホウ酸:6.18g、水酸化ナトリウム:2.00gをイオン交換水:900mLに加えて溶かした後、全量を1,000mLとした水溶液(pH=9.2)。
<除去液6>
 モノエタノールアミン:1.24g、氷酢酸:0.6gをイオン交換水:900mLに加えて溶かした後、全量を1,000mLとした水溶液(pH=9.6)。
<除去液7>
 炭酸ナトリウム:0.68g、炭酸水素ナトリウム:3.68gをイオン交換水:900mLに加えて溶かした後、全量を1,000mLとした水溶液(pH=9.2)。
<除去液8>
 炭酸水素ナトリウム:2.1gをイオン交換水:900mLに加えて溶かした後、全量を1,000mLとした水溶液(pH=8.0)。
<除去液9>
 リン酸二水素ナトリウム:0.52g、リン酸水素二ナトリウム12水和物:22.68gをイオン交換水:900mLに加えて溶かした後、全量を1,000mLとした水溶液(pH=8.1)。
<除去液10>
 トリスヒドロキシメチルアミノメタン:12.1gをイオン交換水:900mLに加えて溶かした後、1M塩酸を用いてpH=10に調整し全量を1,000mLとした水溶液。
<除去液11>
 ホウ酸:7.73gをイオン交換水:900mLに加えて溶かした後、2M水酸化ナトリウム水溶液によりpH=8.3に調整し全量を1,000mLとした水溶液。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
(実施例35及び36、比較例6及び7)
 下記表10に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物(試料34~37)を得た。なお、表中の数字は、添加した質量部を意味し、「-」は該当する成分を含有しないことを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
 得られた各組成物0.25gを、爪状に型取りしたプラスチック製基材上に筆を用いて塗布し、ドライヤーを用いて熱風を照射し乾燥させた。組成物(塗膜)を目視で観察したところ、完全に固化しており、光沢があった(膜厚200μm)。
 この乾燥した試料34~37の各組成物(乾燥膜)の表面にファイル(爪用のやすり)で傷を付け、上記除去液3(液温40℃)に時間を変化させて浸漬(接触)させた。この時、除去するために必要な浸漬(接触)時間で除去性を評価した。結果を表11に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
 本発明の爪装飾は、爪への密着性が良好であると共に、安全な水溶液を用いて容易に除去できるため、爪を始め広範な装飾対象への装飾に使用できる。
 1 爪、2 ベース層、3 カラー層、4 トップ層

Claims (24)

  1.  人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、
     前記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、並びに、
     前記人工爪を除去液に接触させて除去する除去工程を含み、
     前記人工爪組成物が、(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び/又は、(成分B)酸基を有するポリマーを含有し、
     前記除去液がpH8以上11以下の水溶液であることを特徴とする
     人工爪の除去方法。
  2.  成分Aが、下記式(1)で表される、請求項1に記載の人工爪の除去方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    式(1)中、R1は水素原子又は1価の有機基を表し、Xは単結合又は2価の連結基を表し、Zは酸基を表す。
  3.  前記式(1)において、Zがカルボン酸基である、請求項2に記載の人工爪の除去方法。
  4.  成分Bが、アクリル系ポリマー及び/又はウレタン系ポリマーである、請求項1~3のいずれか1項に記載の人工爪の除去方法。
  5.  成分Bがカルボン酸基を有するポリマーである、請求項1~4のいずれか1項に記載の人工爪の除去方法。
  6.  前記カルボン酸基を有するポリマーが、下記式(2)で表されるモノマー単位を含有するアクリル系ポリマーである、請求項5に記載の人工爪の除去方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    式(2)中、R2は水素原子、メチル基、又は、-CH21を表し、Y1は水酸基、ハロゲノ基、-OC(=O)R3、又は、-NR3C(=O)R4を表し、X1は-O-、又は、-NR3-を表し、R3、R4は水素原子、炭素数1~6のアルキル基、又は、炭素数6~12のアリール基を表し、L1は2価の連結基を表す。
  7.  前記カルボン酸基を有するポリマーが、下記式(3)で表されるモノマー単位を有するウレタン系ポリマーである、請求項5に記載の人工爪の除去方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    式(3)中、L2、L3及びL4はそれぞれ独立に2価の連結基を表し、WはN又はCR3を表し、R3は水素原子又は1価の基を表す。
  8.  前記除去液が、pH緩衝剤を含む、請求項1~7のいずれか1項に記載の人工爪の除去方法。
  9.  前記pH緩衝剤が炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、硼酸塩、及び有機アミン化合物よりなる群から選択される少なくとも1つを含む、請求項8に記載の人工爪の除去方法。
  10.  前記pH緩衝剤が、炭酸塩と炭酸水素塩とを含む、請求項8又は9に記載の人工爪の除去方法。
  11.  前記除去工程が、除去液に人工爪を浸漬して除去する工程である、請求項1~10のいずれか1項に記載の人工爪の除去方法。
  12.  前記除去工程が、除去液を人工爪に噴霧して除去する工程である、請求項1~10のいずれか1項に記載の人工爪の除去方法。
  13.  前記除去工程が、除去液を含ませた綿により人工爪を包んで除去する工程である、請求項1~10のいずれか1項に記載の人工爪の除去方法。
  14.  前記人工爪組成物を、ベース層に用いる、請求項1~13のいずれか1項に記載の人工爪の除去方法。
  15.  (成分A’)下記式(1’)で表される化合物を含有することを特徴とする
     人工爪組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    式(1’)中、R1’は水素原子又は1価の有機基を表し、X’は2価の連結基を表し、R1'が結合する炭素原子と、Z’とを結ぶ最短の原子数が5以上であり、Z’は酸基を表す。
  16.  前記式(1’)において、Z’がカルボン酸基である、請求項15に記載の人工爪組成物。
  17.  (成分B)酸基を有するポリマーを含有することを特徴とする
     人工爪組成物。
  18.  成分Bがアクリル系ポリマー及び/又はウレタン系ポリマーである、請求項17に記載の人工爪組成物。
  19.  成分Bが、下記式(2)で表されるモノマー単位を含有するアクリル系ポリマーである、請求項17又は18に記載の人工爪組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    式(2)中、R2は水素原子、メチル基、又は、-CH21を表し、Y1は水酸基、ハロゲノ基、-OC(=O)R3、又は、-NR3C(=O)R4を表し、X1は-O-、又は、-NR3-を表し、R3、R4は水素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数6~12のアリール基を表し、L1は2価の連結基を表す。
  20.  成分Bが、下記式(3)で表されるモノマー単位を有するウレタン系ポリマーである、請求項17又は18に記載の人工爪組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    式(3)中、L2、L3及びL4はそれぞれ独立に2価の連結基を表し、WはN又はCR3を表し、R3は水素原子又は1価の基を表す。
  21.  (成分D)光重合開始剤を更に含有する、請求項15~20のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
  22.  請求項15~21のいずれか1項に記載の人工爪組成物を乾燥及び/又は露光して形成された層を有する人工爪。
  23.  請求項15~21のいずれか1項に記載の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、
     前記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、を含む
     人工爪の形成方法。
  24.  人工爪組成物と、
     除去液と、を含み、
     前記人工爪組成物が、(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び/又は、(成分B)酸基を有するポリマーを含有し、
     前記除去液が、pH8以上11以下の水溶液であることを特徴とする
     ネイルアートキット。
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