WO2014157272A1 - 人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット - Google Patents

人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット Download PDF

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WO2014157272A1
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artificial nail
group
component
polymer
nail composition
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PCT/JP2014/058409
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純也 阿部
大橋 秀和
健太 牛島
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富士フイルム株式会社
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    • A61K2800/80Process related aspects concerning the preparation of the cosmetic composition or the storage or application thereof
    • A61K2800/95Involves in-situ formation or cross-linking of polymers

Definitions

  • the present invention relates to an artificial nail composition, an artificial nail, a method for forming an artificial nail, and a nail art kit.
  • the surface of the artificial nail is conventionally rubbed with a coarse file (nail file) to make it easy to soak up the removal solution, and then in an organic solvent (removal solution) such as acetone.
  • the main method is to place the soaked cotton on the artificial nail, wind it with aluminum foil, leave it as it is, swell the artificial nail, and then peel the swollen artificial nail using a wooden spatula etc. .
  • the composition described in patent document 1 or 2 is known as a conventional artificial nail composition.
  • JP 2009-126833 A JP-A-2-221214
  • An object of the present invention is an artificial nail composition excellent in stability over time and excellent in gloss, removability and adhesion of the resulting artificial nail, and an artificial nail using the artificial nail composition, and a method for forming an artificial nail And providing nail art kits.
  • ⁇ 1> (Component A) an artificial nail composition containing a polymer having an amino group
  • ⁇ 2> The artificial nail composition according to ⁇ 1>, wherein the component A is a polymer having an amino group in a side chain
  • ⁇ 3> The artificial nail composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the amino group is a secondary amino group and / or a tertiary amino group
  • ⁇ 4> The artificial nail composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the amino group is a tertiary amino group
  • ⁇ 5> The artificial nail composition according to any one of the above ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the component A is a polymer having a structure represented by the following formula (I) in a side chain,
  • R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and at least two selected from the group consisting of R 1 , R 2 and L 1 are And may be linked to each other to form a ring, L 1 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and a wavy line represents a bonding position with another structure.
  • R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and at least two selected from the group consisting of R 1 , R 2 and L 1 are They may be linked to each other to form a ring, L 1 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and X represents an oxygen atom or an NH group Represents.
  • Component A is a compound selected from the group consisting of a monomer unit represented by the above formula (II) and a styrene compound and a (meth) acrylate compound other than the monomer unit represented by the above formula (II)
  • An artificial nail composition according to the above ⁇ 10>, which is a copolymer having a monomer unit derived therefrom, ⁇ 12> The artificial nail composition according to any one of the above ⁇ 1> to ⁇ 9>, wherein the component A is a polymer having a monomer unit represented by the following formula (III):
  • R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and at least two selected from the group consisting of R 4 , R 5 and L 3 are They may be linked together to form a ring, L 2 represents a trivalent linking group, and L 3 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
  • an artificial nail composition having excellent temporal stability and excellent gloss, removability and adhesion of the resulting artificial nail, and an artificial nail using the artificial nail composition and a method for forming an artificial nail And nail art kits can be provided.
  • a group having a substituent is also included.
  • R represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group
  • R is an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group
  • (meth) acryl represents the concept containing both acryl and methacryl, and the same applies to (meth) acrylate and the like.
  • the polymer in this specification shall include a copolymer.
  • the artificial nail composition of the present invention comprises (Component A) a polymer having an amino group.
  • the artificial nail of the present invention is an artificial nail having a layer formed of the artificial nail composition of the present invention.
  • the artificial nail composition of the present invention has excellent temporal stability due to the inclusion of component A, and the gloss, removability and adhesion of the resulting artificial nail are excellent. I found it superior.
  • a stable molecular weight can be maintained by adding it as a polymer in advance, and stable multi-point adsorption can be achieved and adhesion can be enhanced. Further, it is presumed that the deterioration of the stability over time in the artificial nail composition when using a component having an amino group is due to oxidation of the nitrogen atom of the amino group to N-oxide.
  • component A that is, a polymer
  • the artificial nail composition of the present invention is a composition that forms an artificial nail by curing by drying and / or exposure on a human or animal nail or other artificial nail.
  • the artificial nail formed from the artificial nail composition of the present invention can be removed by a conventional removal method using an organic solvent, but can also be easily removed by an acidic aqueous solution having a pH of 5.0 or less.
  • the artificial nail in the present invention refers to a layer formed on a human or animal nail for the purpose of beauty and / or protection.
  • the other artificial nail includes a resin base material having an arbitrary shape for the purpose of nail decoration and / or protection. “Human and animal nails and other artificial nails” are also simply referred to as “nails”.
  • the thickness of the artificial nail composition of the present invention can be controlled by coating.
  • the thickness is not particularly limited as long as it can be taken by an artificial nail, but it is preferably in the range of 20 to 1,500 ⁇ m from the viewpoint of practicality and removability.
  • the artificial nail composition of the present invention can be suitably used for any of a primer layer, a base layer, a color layer, and / or a top layer in an artificial nail.
  • the layer formed from the artificial nail composition of the present invention is in contact with the nail.
  • the artificial nail composition of the present invention can be suitably used as a photocurable artificial nail composition (“artificial nail composition for gel nails”) or an artificial nail composition for nail polish. Moreover, since the artificial nail composition of the present invention is excellent in removability even when cured by exposure, it can be particularly preferably used as a photocurable artificial nail composition.
  • the photocurable artificial nail composition is an artificial nail composition curable by actinic rays. “Actinic light” is radiation that can give energy to generate a starting species in the artificial nail composition by irradiation, and includes ultraviolet light, visible light, and the like.
  • the artificial nail composition of the present invention contains (Component A) a polymer having an amino group.
  • the weight average molecular weight of Component A is preferably 3,000 or more, more preferably 5,000 or more, and further preferably 5,000 or more and 250,000 or less. It is excellent in the adhesiveness and removability of the obtained artificial nail as it is the said range, and is excellent in temporal stability.
  • the structure of component A is not particularly limited and may be any structure, and examples thereof include a chain structure, a branched (branched) structure, a star structure, a crosslinked structure, and a network structure.
  • Component A may have an ethylenically unsaturated group. When Component A has an ethylenically unsaturated group, the ethylenically unsaturated group may be present in any of the main chain, side chain, and terminal of the polymer in Component A.
  • the amino group in component A may be any of a primary amino group, a secondary amino group, and a tertiary amino group, but is preferably a secondary amino group or a tertiary amino group, More preferably, it is a tertiary amino group.
  • the resulting artificial nail is excellent in removability and water resistance, and is easy to synthesize.
  • the amino group in Component A is preferably a monoalkylamino group or a dialkylamino group. It is excellent in the removability, adhesiveness, and water resistance of the artificial nail obtained as it is the said aspect.
  • Component A may have an amino group in the main chain of the polymer or in the side chain, but is preferably a polymer having an amino group in the side chain from the viewpoint of synthesis. .
  • Component A may have one amino group alone or two or more amino groups.
  • the number of amino groups in Component A is not particularly limited and may be any number, but preferably has a monomer unit having an amino group.
  • the “monomer unit” in the present invention includes not only a strict monomer-derived constituent unit but also a monomer unit modified by a polymer reaction in which a reaction such as modification is performed after a polymer is obtained.
  • Component A is preferably a polymer having a structure represented by the following formula (I), and more preferably a polymer having a structure represented by the following formula (I) in the side chain.
  • R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and at least two selected from the group consisting of R 1 , R 2 and L 1 are They may be linked to each other to form a ring, L 1 represents a divalent linking group, and the wavy line represents the bonding position with another structure.
  • R 1 and R 2 in formula (I) are each independently preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms from the viewpoint of the balance between solubility in an aqueous acid solution and water resistance, and may be a methyl group or an ethyl group. It is particularly preferred that In the formula (I), at least two selected from the group consisting of R 1 , R 2 and L 1 may be connected to each other to form a ring.
  • L 1 in the formula (I) is an alkylene having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a part of the carbon atoms may be replaced with a hetero atom from the viewpoint of the film property of the polymer.
  • the heteroatom is preferably a nitrogen atom or an oxygen atom, and more preferably an oxygen atom.
  • the said hetero atom is a nitrogen atom, it is preferable that the remaining group on a nitrogen atom is a hydrogen atom or an alkyl group, and it is more preferable that it is an alkyl group.
  • a monomer having the structure represented by the formula (I) is subjected to condensation polymerization, addition polymerization, addition condensation, ionic polymerization.
  • the polymerization method include a known polymerization reaction such as (cationic polymerization / anionic polymerization).
  • Component A is preferably a polymer having a monomer unit represented by the following formula (II) from the viewpoint of film properties, handleability (viscosity), and synthesis for introducing an amino group.
  • R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and at least two selected from the group consisting of R 1 , R 2 and L 1 are They may be connected to each other to form a ring, L 1 represents a divalent linking group, R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and X represents an oxygen atom or an NH group.
  • R 1, R 2 and L 1 in formula (II) are each R 1, R 2 and L 1 synonymous in the formula (I), the preferred embodiment is also the same.
  • R 3 in formula (II) is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a methyl group, from the viewpoint of synthesis.
  • X in formula (II) is preferably an oxygen atom from the viewpoint of water resistance and synthesis of the resulting artificial nail.
  • the component A When the component A has a monomer unit represented by the formula (II), it may be used singly or in combination of two or more, or may further have other monomer units.
  • Examples of the monomer that forms the monomer unit represented by the formula (II) include compounds represented by the following formula (II-m).
  • R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 1 and R 2 or L 1 and R 2 are linked to each other.
  • L 1 represents a divalent linking group
  • R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms
  • X represents an oxygen atom or an NH group.
  • R 1 ⁇ R 3 in formula (II-m) L 1 and X are each as R 1 ⁇ R 3, L 1 and X synonymous in above-mentioned formula (II), preferable embodiments thereof are also the same.
  • Component A is a polymer having a monomer unit represented by the following formula (III) or formula (III-b) from the viewpoint of film properties, handleability (viscosity), and synthesis for introducing an amino group. Is preferable, and a urethane polymer having a monomer unit represented by the following formula (III) is more preferable.
  • R 4 , R 5 and R b4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms
  • R 4 , R 5 and L 3 are At least two members selected from the group may be linked to each other to form a ring
  • R b4 and L b3 may be linked to each other to form a ring
  • L 2 represents a trivalent linking group.
  • L 3 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms
  • L b3 independently represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R 4 and R 5 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms from the viewpoint of the balance between solubility in an aqueous acid solution and water resistance, and may be a methyl group or an ethyl group. It is particularly preferred that In the formula (III), at least two selected from the group consisting of R 4 , R 5 and L 3 may be connected to each other to form a ring.
  • L 2 in the formula (III) is preferably a trivalent linking group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably a trivalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, and 2 to 20 carbon atoms.
  • L 2 in the formula (III) is preferably a trivalent aliphatic hydrocarbon group from the viewpoint of the film property of the polymer.
  • L 3 in the formula (III) is preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably a methylene group, from the viewpoint of the film property of the polymer.
  • R b4 in formula (III-b) is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and preferably an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms from the viewpoint of the balance between solubility in an aqueous acid solution and water resistance. More preferred is an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms, and particularly preferred is an n-butyl group.
  • L b3 is each independently preferably an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, particularly preferably an ethylene group, from the viewpoint of the film property of the polymer. Further, from the viewpoint of synthesis, the two L b3 are preferably the same group.
  • R b4 and L b3 may be connected to each other to form a ring.
  • component A When component A has a monomer unit represented by formula (III) or formula (III-b), it may be used alone or in combination of two or more. Preferred examples of the other monomer units include monomer units derived from a diisocyanate component described later. Examples of the monomer that forms the monomer unit represented by the formula (III) include compounds represented by the following formula (III-m). Examples of the monomer that forms the monomer unit represented by the formula (III-b) include compounds represented by the following formula (III-bm).
  • R 4 , R 5 and R b4 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 4 , R 5 and L At least two members selected from the group consisting of 3 may be linked together to form a ring, R b4 and L b3 may be linked together to form a ring, and L 2 is a trivalent linkage.
  • L 3 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms
  • L b3 independently represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R 4, R 5, L 2 and L 3 in formula (III-m) are each as R 4, R 5, L 2 and L 3 synonymous in formula (III), preferable embodiments thereof are also the same.
  • R b4 and L b3 in formula (III-bm) are respectively R b4 and L b3 synonymous in formula (III-b), preferable embodiments thereof are also the same.
  • Component A may be a polymer composed only of monomer units having an amino group as a monomer unit, but when component A has a monomer unit having an amino group and another monomer unit, the monomer unit having an amino group
  • the content is preferably from 5 to 75 mol%, more preferably from 20 to 75 mol%, still more preferably from 20 to 60 mol%, based on all monomer units of Component A. It is excellent in the removability and water resistance of the obtained artificial nail as it is the said range.
  • the amine value of component A is preferably 0.001 to 8.5 mmol / g, more preferably 0.001 to 6.0 mmol / g, and 0.005 to 4.0 mmol / g. More preferably, it is preferably 0.01 to 2.0 mmol. It is excellent in the removability and water resistance of the obtained artificial nail as it is the said range.
  • a method for measuring the amine value for example, a sample is weighed in a beaker, acetic acid is added, dissolved by stirring, the measurement temperature is adjusted to 25 ° C., and a 0.1N perchloric acid acetic acid solution is used as a titration reagent. Then, it can be obtained by titrating with a titration apparatus.
  • the amine value represents the amount of perchloric acid consumed when titrated in terms of moles per gram of sample (solid content).
  • the polymer structure in Component A is not particularly limited, and may be any desired polymer structure.
  • polymer structures such as styrene polymer, carbonate polymer, urea polymer, ethylene polymer, and amine polymer.
  • Component A may be an ether polymer, an ethylene polymer (particularly a polyethyleneimine polymer), a urethane polymer, or an acrylic polymer.
  • a urethane polymer and an acrylic polymer are particularly preferable, and an acrylic polymer is most preferable.
  • a urethane polymer is most preferable.
  • acrylic polymer examples include known acrylic acid derivatives (for example, acrylic esters such as methyl acrylate and ethyl acrylate, acrylic amides such as acrylamide and acryloylmorpholine), and methacrylic acid derivatives (for example, methyl methacrylate, methacrylic acid).
  • Any polymer can be suitably used as long as it is a polymer obtained by polymerizing a methacrylic acid ester such as ethyl or a methacrylic acid amide such as methacrylamide or isopropylamide. However, it is not limited to these examples.
  • Examples of the method for introducing an amino group into the acrylic polymer include a method for polymerizing or copolymerizing a (meth) acrylic acid derivative having an amino group, and a method for introducing an amino group by a polymer reaction.
  • Examples of a method for introducing an ethylenically unsaturated group into an acrylic polymer include a method for polymerizing or copolymerizing a (meth) acrylic acid derivative having an ethylenically unsaturated group, and a method for introducing an ethylenically unsaturated group by a polymer reaction. The method to introduce is mentioned.
  • urethane polymer examples include known polyisocyanate compounds (for example, methylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, phenyl diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, tolidine diisocyanate, naphthalene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris ( Phenyl isocyanate) thiophosphate, phenylene diisocyanate, lysine diisocyanate, xylylene diisocyanate, bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, dicyclohexylmethane diisocyanate, isopropylidenebis (cyclohexyl isocyanate), isophorone diisocyanate, dianisidine diisocyanate Diphenyl ether diisocyanate) and known polyis
  • Examples of a method for introducing an amino group into a urethane polymer include a method of performing polycondensation using a polyisocyanate compound and / or a polyol compound having a tertiary amino group or a group in which an amino group is protected, and a polymer reaction.
  • transducing an amino group by is mentioned.
  • the protected amino group may be deprotected by a known method after forming a polymer. The same applies to the following.
  • Examples of the method of introducing an ethylenically unsaturated group into a urethane polymer include a method of introducing by a polymer reaction and a method of polycondensation using a polyol compound or a polyisocyanate compound having an ethylenically unsaturated group. It is done. These compounds are not particularly limited, but for polyols having an ethylenically unsaturated group, (meth) acrylate-containing diol compounds as described in JP 2010-100047 can be preferably used. .
  • a urethane polymer having a polycarbonate structure or a polyester structure, a polybutadiene structure, or a hydrogenated polybutadiene structure is preferable, and a urethane polymer having a polycarbonate structure is more preferable.
  • the polycondensate of a diisocyanate compound and a diol compound can illustrate preferably.
  • the diol component constituting the urethane polymer polycarbonate diol, polyester diol, polybutadiene diol, and hydrogenated polybutadiene diol are preferably used from the viewpoint of water resistance, and polycarbonate diol is more preferably used.
  • the diisocyanate component is composed of hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4′- from the viewpoint of the solubility of the artificial nail composition and the mechanical strength of the artificial nail to be formed.
  • Diisocyanates are preferred, and isophorone diisocyanate, methylene diphenyl diisocyanate, and dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate are more preferred. These compounds may be used alone or in combination.
  • diol component / diisocyanate component it may be used in combination with other diol component / diisocyanate component. Further, by using a suitable diol component and a suitable diisocyanate component together, both the water resistance and mechanical strength of the artificial nail can be enhanced.
  • any known cellulose such as carboxymethylcellulose, nitrocellulose, triacetylcellulose, and the like can be preferably used. However, it is not limited to these examples.
  • Examples of a method for introducing an amino group into a cellulose polymer include a method for introducing an amino group by a polymer reaction.
  • Examples of the method for introducing an ethylenically unsaturated group into a cellulose polymer include a method for introducing an ethylenically unsaturated group by a polymer reaction.
  • any polyester comprising a known polycarboxylic acid compound for example, succinic acid, adipic acid, phthalic acid, etc.
  • polyesters composed of hydroxycarboxylic acid compounds such as polylactic acid can also be suitably used.
  • a method for introducing an amino group into an ester polymer include polycondensation using a polycarboxylic acid compound, a polyol compound and / or a hydroxycarboxylic acid compound having a tertiary amino group or a group with a protected amino group.
  • a method of introducing an amino group by a polymer reaction examples of a method for introducing an ethylenically unsaturated group into an ester polymer include a method for introducing an ethylenically unsaturated group by a polymer reaction.
  • any polyamide can be suitably used as long as it is a polyamide comprising a known polycarboxylic acid compound and a known polyamine compound (for example, ethylenediamine, phenylenediamine, etc.).
  • polyamino acids which are proteins composed of amino acids, can also be preferably used.
  • the method for introducing an amino group into the amide polymer include a polycarboxylic acid compound having a tertiary amino group or a group in which the amino group is protected, and / or a tertiary amino group that does not contribute to the polycondensation reaction.
  • a method of polycondensation using a polyamine compound having a group in which an amino group is protected and a method of introducing an amino group by a polymer reaction can be mentioned.
  • Examples of the method for introducing an ethylenically unsaturated group into an amide polymer include a method for introducing an ethylenically unsaturated group by a polymer reaction.
  • any vinyl polymer obtained by polymerizing a known vinyl compound for example, vinyl acetate, vinyl chloride, butadiene, etc.
  • a method for introducing an amino group into a vinyl polymer include a method of polymerizing or copolymerizing a vinyl compound having an amino group, and a method of introducing an amino group by a polymer reaction.
  • Examples of the method for introducing an ethylenically unsaturated group into a vinyl polymer include a method for introducing an ethylenically unsaturated group by a polymer reaction.
  • any polyether for example, polyethylene glycol, polypropylene glycol, etc.
  • a method for introducing an amino group into an ether-based polymer include a method of polycondensation using a polyol compound having a tertiary amino group or a group in which the amino group is protected, and a method of introducing an amino group by a polymer reaction. Is mentioned.
  • a method for introducing an ethylenically unsaturated group into an ether polymer include a method for introducing an ethylenically unsaturated group by a polymer reaction.
  • any polystyrene can be suitably used as long as it is made of a known styrene compound (for example, styrene, 4-carboxystyrene, 4-acetoxystyrene, etc.). However, it is not limited to these examples.
  • the method for introducing an amino group into the styrene polymer include a method for polymerizing or copolymerizing a styrene derivative having an amino group, and a method for introducing an amino group by a polymer reaction.
  • Examples of a method for introducing an ethylenically unsaturated group into a styrenic polymer include a method for introducing an ethylenically unsaturated group by a polymer reaction.
  • any polycarbonate can be suitably used as long as it is a polycarbonate composed of a known carbonic acid derivative (for example, phosgene, dimethyl carbonate, dimethyl carbonate, etc.) and a known polyol compound.
  • a known carbonic acid derivative for example, phosgene, dimethyl carbonate, dimethyl carbonate, etc.
  • the method for introducing an amino group into the carbonate polymer include a method of polycondensation using a polyol compound having a tertiary amino group or a group in which the amino group is protected, and a method of introducing an amino group by a polymer reaction. Is mentioned.
  • Examples of the method for introducing an ethylenically unsaturated group into the carbonate polymer include a method for introducing an ethylenically unsaturated group by a polymer reaction.
  • any polyurea composed of a known polyisocyanate compound and a known polyamine compound can be suitably used.
  • the method for introducing an amino group into the urea polymer include a polyisocyanate compound having a tertiary amino group or a group in which the amino group is protected, and / or a tertiary amino group that does not contribute to the polycondensation reaction, or Examples thereof include a method of polycondensation using a polyamine compound having a group in which an amino group is protected, and a method of introducing an amino group by a polymer reaction.
  • Examples of a method for introducing an ethylenically unsaturated group into a urea polymer include a method for introducing an ethylenically unsaturated group by a polymer reaction.
  • Examples of the amine polymer include known polyamines. Examples of a method for introducing an ethylenically unsaturated group into an amine polymer include a method for introducing an ethylenically unsaturated group by a polymer reaction.
  • Component A may also be a copolymer such as a styrene-acrylic copolymer.
  • Component A is preferably a homopolymer or copolymer of a monofunctional (meth) acrylate compound or a polycondensate of a diisocyanate compound and a diol compound from the viewpoint of gloss.
  • Component A includes at least a monomer unit having an amino group and a monomer unit derived from a water-insoluble monomer other than the monomer unit having the amino group from the viewpoint of water resistance of the resulting artificial nail. It is preferable that it is a polymer which has.
  • the definition of non-water-soluble refers to that in which a mixed solution with the same volume of pure water maintains a non-uniform appearance under the conditions of 1 atm and 20 ° C.
  • the water-insoluble monomer is preferably a styrene compound or a (meth) acrylate compound, more preferably a (meth) acrylate compound, and particularly preferably a (meth) acrylic acid alkyl ester.
  • component A preferably has a monomer unit derived from a compound selected from the group consisting of a styrene compound and a (meth) acrylate compound, in addition to the monomer unit having an amino group, and the monomer unit derived from a (meth) acrylate compound It is more preferable to have a monomer unit derived from a (meth) acrylic acid alkyl ester.
  • preferred monomers that can be copolymerized with a monomer having an amino group include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl ( Monofunctional (meth) acrylic esters such as meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and monofunctional (meth) acrylic amides such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, isopropylacrylamide and morpholine acrylamide Vinyl monomers such as N-vinylpyrrolidone and vinyl acetate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene group Cold di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol
  • Component A preferably further has a monomer unit represented by the following formula (IV) in addition to the monomer unit having an amino group, from the viewpoint of water resistance of the resulting artificial nail.
  • R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a group represented by the following formula (V)
  • R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms
  • X ′ represents oxygen. Represents an atom or an NH group.
  • each L 4 independently represents an ethylene group or a propylene group
  • n represents an integer of 1 to 20
  • R 8 represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • the wavy line portion represents the above X ′ and Represents the bonding position of.
  • R 6 is preferably an alkyl group or a group represented by the above formula (V) from the viewpoint of water resistance of the resulting artificial nail, and is represented by an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or the above formula (V). More preferably an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and particularly preferably a butyl group.
  • R 7 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a methyl group, from the viewpoint of synthesis.
  • X ′ is preferably an oxygen atom from the viewpoint of water resistance and synthesis of the resulting artificial nail.
  • L 4 is preferably an ethylene group.
  • n is preferably an integer of 1 to 10 from the viewpoint of the water resistance of the resulting artificial nail.
  • R 8 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably a methyl group, from the viewpoint of water resistance of the resulting artificial nail.
  • Component A is preferably a polymer having the following structure, more preferably a polymer having the following structure and a weight average molecular weight. Moreover, the number on the lower right of the parenthesis of each monomer unit represents a molar ratio. The number on the lower right of the parentheses in the alkyleneoxy chain represents the number of repetitions. Moreover, the structural unit described with * shows that the main chain terminal of this polymer has the said structure couple
  • Component A may be contained singly or in combination of two or more.
  • the content of component A in the artificial nail composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 95% by mass, and preferably 5 to 95% by mass, based on the total mass of the artificial nail composition. Is more preferable. It is excellent in the removability and adhesiveness of the obtained artificial nail as it is the said range.
  • the content of the solvent in the artificial nail composition of the present invention is less than 10% by mass
  • the content of Component A is more preferably 5 to 90% by mass with respect to the total mass of the artificial nail composition, It is particularly preferably 10 to 90% by mass.
  • the content of the solvent in the artificial nail composition of the present invention is 10% by mass or more
  • the content of Component A is further 30 to 80% by mass with respect to the total mass of the artificial nail composition. 40 to 75% by mass is particularly preferable.
  • the artificial nail composition of the present invention may contain a polymer other than Component A for the purpose of improving the film property and gloss.
  • the polymer other than Component A is preferably an acrylic polymer or a urethane polymer from the viewpoint of film properties.
  • the content of the polymer other than Component A is preferably less than the content of Component A, with respect to the total mass of the artificial nail composition, More preferably, it is 40 mass% or less, More preferably, it is 30 mass% or less, More preferably, it is 20 mass% or less.
  • the artificial nail composition of the present invention preferably contains (Component B) a polymerizable compound.
  • component B the artificial nail composition of the present invention can be suitably used as a photocurable artificial nail composition.
  • component C the artificial nail composition of this invention contains the component B, it is preferable to contain further the (component C) photoinitiator mentioned later.
  • the artificial nail composition of the present invention can be more suitably used as a photocurable artificial nail composition.
  • Component B may be a radical polymerizable compound or a cationic polymerizable compound, but is preferably a radical polymerizable compound.
  • Component B is preferably an ethylenically unsaturated compound.
  • the radical polymerizable compound is a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization, and may be any compound as long as it has at least one ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization in the molecule. And those having a chemical form such as an oligomer. Only one kind of radically polymerizable compound may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination at an arbitrary ratio in order to improve desired properties.
  • Component B is a compound other than Component A, preferably a compound having a molecular weight of less than 10,000, and more preferably a compound having a molecular weight of less than 5,000.
  • Examples of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, and salts thereof, Examples thereof include radical polymerizable compounds such as anhydrides having a saturated group, acrylonitrile, styrene, and various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides, unsaturated urethane oligomers, and the like.
  • unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, and salts thereof
  • examples thereof include radical polymerizable compounds such as anhydrides having a saturated group, acrylonitrile, styrene, and various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides, unsaturated ure
  • Component B contains an ethylenically unsaturated compound having a hydroxy group or an ethylenically unsaturated compound having a (poly) alkyleneoxy group from the viewpoint of the removability, adhesion and gloss of the resulting artificial nail.
  • it contains a (meth) acrylate compound having a hydroxy group or a (meth) acrylate compound having a (poly) alkyleneoxy group, more preferably a (meth) acrylate compound having a hydroxy group, It is particularly preferable to include a monofunctional (meth) acrylate compound having a hydroxy group.
  • Examples of the (meth) acrylate compound having a hydroxy group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2,3-dihydroxypropyl (meth).
  • hydroxyalkyl (meth) acrylate such as 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol / propylene glycol) -mono (meth) acrylate, Polyethylene glycol / polypropylene glycol / mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol / tetramethylene glycol) / mono (meth) acrylate, poly ( B propylene glycol tetramethylene glycol) - mono (meth) acrylate, propylene glycol polybutylene glycol - it may be mentioned preferably a mono (meth) acrylate.
  • Examples of the (meth) acrylate compound having a (poly) alkyleneoxy group include methoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, octoxypolyethyleneglycol-polypropyleneglycol- (meth) acrylate, lauroxypolyethyleneglycol- (meth) acrylate, Stearoxy polyethylene glycol- (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol- (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol-polypropylene glycol- (meth) acrylate, nonylphenoxy-polyethylene glycol- (meth) acrylate, nonylphenoxy-polypropylene glycol- (meth) ) Acrylate, Nonylphenoxy-Poly (ethylene glycol-propylene glycol)- Meth) acrylate can be a preferably exemplified.
  • (meth) acrylate compound having a hydroxy group and the (meth) acrylate compound having a (poly) alkyleneoxy group can be used as the (meth) acrylate compound having a hydroxy group and the (meth) acrylate compound having a (poly) alkyleneoxy group.
  • Representative examples are Blemmer E, Blemmer PE-90, Blemmer PE-200, Blemmer PE-350, Blemmer P, Blemmer PP-1000, Blemmer PP-500, Blemmer PP-800, Blemmer 50 PEP-300, Blemmer 70 PEP- 350B, Blemmer 55PET-800, Blemmer PPT series, Blemmer 10PPB-500B, Blemmer AE-90, Blemmer AE-200, Blemmer AE-400, Blemmer AP-150, Blemmer AP-400, Blemmer AP-550, Blemmer PME-100 , Blemmer PME-200, Blemmer PME-
  • the number of hydroxy groups in the compound is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, still more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1. preferable.
  • the number of repeating units of the alkyleneoxy group in the compound is preferably 1 to 25, more preferably 1 to 15, and more preferably 1 to 10 Further preferred.
  • Component B preferably contains a hydroxyalkyl (meth) acrylate compound, and contains 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 3-hydroxypropyl (meth) acrylate. Is more preferable, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is further preferably included.
  • Component B preferably contains an ethylenically unsaturated compound having an alkyl group having 3 or more carbon atoms, from the viewpoint of water resistance of the resulting artificial nail, and the ethylenically unsaturated compound having an alkyl group having 5 or more carbon atoms. It is more preferable that a saturated compound is included, and it is further preferable that an ethylenically unsaturated compound having an alkyl group having 8 or more carbon atoms is included. These alkyl groups may have a branched and / or ring structure.
  • Examples of the ethylenically unsaturated compound having an alkyl group include propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl methacrylate, Examples thereof include, but are not limited to, isodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, and isomers thereof.
  • Component B preferably contains a (meth) acrylamide compound from the viewpoint of solubility of components other than Component B.
  • the (meth) acrylamide compound include N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-butoxymethyl (meth) acrylamide, Nt-butyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N , N-diethyl (meth) acrylamide, N-dodecyl (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, N-isobutoxymethyl (meth) Examples thereof include, but are not limited to, acrylamide and N-methoxymethylacrylamide.
  • Component B preferably contains an ethylenically unsaturated compound having a homopolymer Tg (glass transition temperature) of 50 ° C. or higher, from the viewpoint of heat resistance of the resulting artificial nail composition, and Tg of 80 ° C. or higher. It is more preferable to include a certain ethylenically unsaturated compound, and it is further preferable to include an ethylenically unsaturated compound having a Tg of 100 ° C. or higher.
  • Tg glass transition temperature
  • Examples of the ethylenically unsaturated compound having a Tg of 50 ° C. or higher as the homopolymer include methyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, benzyl methacrylate, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, and the like. However, it is not limited to these.
  • Component B preferably contains a polymerizable compound having a urethane bond, more preferably a polyfunctional polymerizable compound having a urethane bond, from the viewpoint of the removability and film property of the resulting artificial nail, It is further preferable to include a polyfunctional (meth) acrylate compound having a bond.
  • Component B preferably contains a polyfunctional polymerizable compound having a molecular weight (weight average molecular weight) of 1,000 or more, and contains a polyfunctional polymerizable compound having a molecular weight (weight average molecular weight) of 3,000 or more. More preferred.
  • a polyfunctional polymerizable compound having a molecular weight of 1,000 or more the crosslink density is controlled to prevent the film from becoming brittle, and the durability of the artificial nail to be formed is improved.
  • Preferred examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound having a urethane bond include urethane-based addition polymerizable compounds produced by an addition reaction between an isocyanato group and a hydroxyl group. Specific examples thereof include, for example, Two or more molecules in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (A) to an isocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in Japanese Patent No. 48-41708. And vinyl urethane compounds containing a polymerizable vinyl group.
  • the isocyanate compound include hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and 2,4-dimethyl diisocyanate.
  • -Trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and 2,4-dimethyldiisocyanate are more preferred, and 2,4-dimethyldiisocyanate is more preferred.
  • a polyester diisocyanate, a polyether diisocyanate, or a polycarbonate diisocyanate can be suitably used for the purpose of controlling the molecular weight.
  • These diisocyanate compounds can be obtained by allowing polyether diol, polyester diol, and polycarbonate diol to react with the diisocyanate compounds described above and others, isophorone diisocyanate, and methylene diphenyl diisocyanate.
  • a urethane-based addition polymerizable compound (more preferably a diol compound and / or a diisocyanate compound) having a polyester structure or a polycarbonate structure can be preferably used.
  • Component B may be contained singly or in combination of two or more.
  • the content of Component B in the artificial nail composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 95% by mass, and preferably 1 to 90% by mass, based on the total mass of the artificial nail composition. Is more preferably 5 to 90% by mass, particularly preferably 5 to 85% by mass. It is excellent in the removability and water resistance of the obtained artificial nail as it is the said range.
  • the artificial nail composition of the present invention preferably contains (Component C) a photopolymerization initiator.
  • the artificial nail composition of the present invention can be suitably used as a photocurable artificial nail composition.
  • the photopolymerization initiator include a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator, but it is more preferable to contain a radical photopolymerization initiator.
  • a known photopolymerization initiator can be used as the photopolymerization initiator.
  • the photoinitiator which can be used for this invention may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the photopolymerization initiator that can be used in the present invention is a compound that absorbs light and generates a polymerization initiating species. Examples of light include ⁇ rays, ⁇ rays, electron beams, ultraviolet rays, visible rays, and infrared rays.
  • photopolymerization initiator that can be used in the present invention are as follows. However, it is not limited to these examples.
  • Acetophenone compounds for example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 4′-isopropyl-2 -Hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -Butan-1-one, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, etc.); Benzophenone compounds (eg, benzophenone, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 3,3
  • the component C is preferably a photopolymerization initiator selected from the group consisting of an acetophenone compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, and a lophine dimer compound, and from the group consisting of an acetophenone compound and a phosphine oxide compound. It is particularly preferable that the photopolymerization initiator is selected.
  • the content of Component C in the artificial nail composition of the present invention is preferably 0.01 to 20% by mass, and preferably 0.1 to 15% by mass with respect to the total mass of the artificial nail composition. More preferably, the content is 0.5 to 12% by mass. It is excellent in the adhesiveness of the obtained artificial nail, gloss, and water resistance as it is the said range.
  • the artificial nail composition of the present invention may contain (Component D) a solvent from the viewpoint of applicability, but from the viewpoint of safety and handleability, the content of the solvent is artificial. It is preferably less than 10% by mass, more preferably less than 5% by mass, and particularly preferably the artificial nail composition of the present invention does not contain a solvent with respect to the total mass of the nail composition.
  • the solvent any known solvent can be suitably used.
  • alcohol solvents such as ethanol, isopropanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, and acetate solvents such as ethyl acetate and butyl acetate.
  • ester solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone
  • ether solvents such as tetrahydrofuran and methyl t-butyl ether.
  • the boiling point of the solvent is preferably 30 to 130 ° C, more preferably 35 to 100 ° C, still more preferably 40 to 90 ° C, and more preferably 50 to 85 ° C. Is particularly preferred. It is excellent in drying property and applicability
  • Component D may be used alone or in combination of two or more.
  • Component D preferably includes an alcohol solvent and / or a ketone solvent, and more preferably includes an alcohol solvent and a ketone solvent.
  • the content of component D is based on the total mass of the artificial nail composition from the viewpoint of applicability, removal of the resulting artificial nail and adhesion. It is preferably 1 to 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass, still more preferably 10 to 80% by mass, and particularly preferably 15 to 50% by mass.
  • an additive component that can generally be blended in the artificial nail composition is arbitrarily blended within a range not impairing the effects of the present invention.
  • Such additive components include antifoaming agents, buffering agents, chelating agents, dispersing agents, dyes, fillers, pigments, preservatives, resin powders (for example, poly (meth) acrylic acid), inorganic powders, and the like. (For example, silica gel, etc.), thickeners, wetting agents and the like. However, it is not limited to these examples.
  • the artificial nail of the present invention is an artificial nail having a layer formed by the artificial nail composition of the present invention, and an artificial nail having a layer formed by drying and / or exposing the artificial nail composition of the present invention.
  • the artificial nail of the present invention is suitable for nail polish such as manicure and pedicure, and gel nail.
  • the artificial nail of the present invention only needs to be at least partially formed of the artificial nail composition of the present invention, and may have other layers or structures, or the entire artificial nail may have the artificial nail composition of the present invention. It may be formed of an object.
  • the layer formed from the artificial nail composition of the present invention can be suitably used for any of the primer layer, base layer, color layer, and / or top layer in the artificial nail of the present invention.
  • the artificial nail of the present invention may have only one layer formed by the artificial nail composition of the present invention, or may have two or more layers.
  • at least one layer formed by the artificial nail composition of the present invention is a layer in contact with the nail.
  • the thickness of the layer formed of the artificial nail composition of the present invention in the artificial nail of the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 2,000 ⁇ m, and preferably 20 to 1,500 ⁇ m. Is more preferable, and 20 to 1,000 ⁇ m is even more preferable.
  • the artificial nail formation method of the present invention is not particularly limited as long as it is a method of forming an artificial nail using the artificial nail composition of the present invention, but the artificial nail composition of the present invention is applied to a human or animal nail. Or it is preferable that it is a method including the process of apply
  • a dry or exposure forming method can be suitably selected.
  • the artificial nail composition of the present invention preferably contains at least (Component B) a polymerizable compound and (Component C) a photopolymerization initiator, or at least (Component D) a solvent.
  • the thickness of the layer formed by the artificial nail composition of the present invention in the method for forming an artificial nail of the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 2,000 ⁇ m, and preferably 20 to 1,500 ⁇ m. More preferably, the thickness is more preferably 20 to 1,000 ⁇ m.
  • the method for forming an artificial nail of the present invention preferably includes a step (application step) of applying the artificial nail composition of the present invention on a human or animal nail or other artificial nail to form a coating film.
  • the other artificial nail is not particularly limited as long as it is a base material used for the artificial nail.
  • the artificial nail obtained by the method for forming an artificial nail is mentioned.
  • the thickness of the coating film is not particularly limited, and the coating thickness may be appropriately adjusted in consideration of the desired thickness of the obtained artificial nail.
  • the method for forming an artificial nail of the present invention preferably includes a step of drying and / or exposing the coating film to form an artificial nail (drying or exposure step).
  • the artificial nail composition of the present invention to be used preferably contains (Component D) a solvent.
  • Component D a solvent.
  • a drying method What is necessary is just to carry out by a well-known method. Specifically, for example, a method of leaving and drying at room temperature (for example, 10 to 30 ° C.), a method of leaving and drying in an air stream, a method of drying by heating, and a method combining these are preferable.
  • the heating method is not particularly limited, and examples thereof include a method of leaving in an atmosphere at a temperature higher than room temperature, a method of leaving in a heated air current, and a method of heating by a heating means such as a heater or an infrared lamp (IR lamp). .
  • the drying time is not particularly limited and may be appropriately adjusted depending on the composition of the artificial nail composition, the drying method, and the coating thickness. From the viewpoint of simplicity and imparting smoothness and gloss by self-leveling, 10 seconds to It is preferably 20 minutes, more preferably 15 seconds to 10 minutes, further preferably 30 seconds to 5 minutes, and particularly preferably 30 seconds to 2 minutes.
  • the artificial nail composition of the present invention to be used preferably contains (Component B) a polymerizable compound and (Component C) a photopolymerization initiator.
  • the artificial nail composition of the present invention contains (Component D) a solvent in addition to Component B and Component C, drying is preferably performed before exposure.
  • the exposure means is not particularly limited, and known exposure means can be used.
  • ultraviolet lamps (UV lamps) such as mercury lamps and metal halide lamps, light emitting diodes (LEDs), laser diodes (LDs), etc. Can be mentioned.
  • the exposure time is not particularly limited, but is preferably 2 seconds to 5 minutes, more preferably 5 seconds to 3 minutes, and further preferably 5 seconds to 2 minutes.
  • the exposure may be performed intermittently, continuously, or with pulsed light, and may be performed by any method.
  • the method for forming an artificial nail according to the present invention is the surface of the artificial nail obtained after the drying or exposure process from the viewpoint of removal of uncured components when exposed to the gloss and aesthetics of the obtained artificial nail. May be included in the process of washing or wiping.
  • the washing or wiping method include a method of wiping with a wiping base material such as a wipe sheet or a sponge wipe containing a solvent such as ethanol, and a method of washing with a solvent such as ethanol or water.
  • the solvent used for cleaning or wiping is preferably a solvent that does not dissolve the obtained artificial nail.
  • the method for forming an artificial nail of the present invention preferably includes a step of roughening the surface of a human or animal nail or other artificial nail before the coating step.
  • the method for removing an artificial nail according to the present invention includes a step (removal step) of removing the artificial nail according to the present invention by contacting with the removal liquid.
  • the removal liquid is preferably an acidic aqueous solution having a pH of 5.0 or less.
  • the artificial nail composition of the present invention can be removed even with an organic solvent such as acetone, which is a conventional removal solution, but is removed more safely and without burdening the skin and nails with an acidic aqueous solution of pH 5.0 or lower. It is possible.
  • the removal liquid suitably used in the present invention preferably comprises an organic / inorganic acid component for making it acidic, water, optionally a stabilizer, and optionally a surfactant.
  • preferred embodiments of the removing liquid will be described.
  • Organic / inorganic acid components A known inorganic acid (phosphoric acid, hydrochloric acid, etc.) or organic acid can be used for the removal solution in order to make the aqueous solution acidic.
  • the acid component used in the removal liquid it is preferable to use an organic acid generally contained in foods and food additives.
  • Preferred organic acids include citric acid, gluconic acid, lactic acid, malic acid, amino acids (such as aspartic acid and glutamic acid), and carbonic acid.
  • the removal liquid may be a concentrated liquid from the viewpoints of cost, transportability, and storability, and may be an embodiment in which the concentrated liquid is diluted with water or the like and used as a removed liquid.
  • the pH of the removal liquid is preferably 5.0 or less, more preferably 4.0 or less from the viewpoint of ionization ability of the polymer having an amino group contained in the artificial nail of the present invention, that is, removability. Preferably, it is 3.0 or less.
  • the pH of the removal liquid is preferably 1.0 or more, and more preferably 2.0 or more, from the viewpoint of safety to the skin and nails. In order to prevent the pH from fluctuating due to external factors such as aging or dilution / concentration of the solution, it is preferable to add an acid salt to make a buffer solution.
  • the acid salt preferably sodium salt (sodium citrate, sodium gluconate, sodium carbonate, disodium phosphate) with the acid is mentioned, but it is particularly limited. It is not something.
  • the removal liquid used in the present invention may optionally contain a stabilizer.
  • a stabilizer By adding a stabilizer, the coloring of the liquid over time, the occurrence of corrosion and mold, etc. can be suppressed.
  • the stabilizer is not particularly limited, and known industrial preservatives, food preservatives, pharmaceutical preservatives, antioxidants / light stabilizers, and the like can be used. Among these, as the stabilizer, a paraoxybenzoic acid ester compound is preferable.
  • the amount of the stabilizer to be added is not particularly limited, and is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.005 to 5% by mass, based on the total mass of the removal liquid. More preferably, the content is 01 to 2% by mass.
  • the removal liquid is heated to such an extent that safety is not impaired.
  • the heating is preferably 30 ° C to 45 ° C, more preferably 35 ° C to 45 ° C, and particularly preferably 40 ° C to 45 ° C.
  • the immersion liquid may be stirred.
  • claw of this invention can be easily removed by making it contact with acidic aqueous solution of pH 5.0 or less instead of conventional organic solvents, such as acetone.
  • the method of contact is not particularly limited, and the artificial nail may be directly immersed in the removing liquid, the artificial nail may be wrapped with cotton dampened with the removing liquid, or sprayed with a sprayer or a shower. . However, it is not limited to these examples.
  • the method for removing an artificial nail of the present invention preferably includes a step of scratching the surface and / or the tip of the artificial nail so that a layer formed by the artificial nail composition of the present invention partially appears on the surface layer.
  • a nail file such as a file, can be used suitably.
  • a preferred specific example of the removal method is shown below. That is, the surface and / or the tip of the artificial nail is arbitrarily rubbed with a nail file and the layer formed by the artificial nail composition of the present invention is scratched so roughly as to partially appear on the surface layer, and then the pH is 5.0. Immerse it in the following acidic aqueous solution and leave it for about 1 to 5 minutes to change the solubility of the artificial nail. Then, wipe the artificial nail with a cloth or non-woven fabric, or push it off with a spatula or stick-like instrument. It can be peeled off very easily and safely without placing a burden on the fingertips and nails.
  • wiping and peeling off can be performed while immersing in the above method, and the removal can be performed earlier. Moreover, you may accelerate
  • the artificial nail removal method of the present invention may include other known steps.
  • the nail art kit of the present invention includes the artificial nail composition of the present invention and a removing solution, and the removing solution is preferably an acidic aqueous solution having a pH of 5.0 or less.
  • the preferred embodiments of the artificial nail composition and the removal liquid of the present invention in the nail art kit of the present invention are the same as those described above.
  • the nail art kit of this invention may contain arbitrary goods other than the said artificial nail composition and a removal liquid.
  • Exposure equipment, wiping or cleaning liquid, wiping wipe, nail brush, dust brush, nail foam used for lengthening nails, decorative stone such as acrylic, glass, metal or natural stone, nail seal Examples include, but are not limited to, decorative powders such as glitters and holograms, cutters, spatulas, sticks, and separators that increase finger spacing to prevent contact between nails.
  • the resulting reaction solution was added dropwise to 4,000 ml of hexane with stirring, suction filtered, and then dried under reduced pressure to obtain A-33 as a white solid.
  • the weight average molecular weight of A-33 measured by gel permeation chromatography was 22,000.
  • B-101 and B-105 to B-108 are manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., and B-102 is manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. 104 used light ester HPO (N) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., and B-109 used was manufactured by Sigma-Aldrich. B-103 was synthesized by reacting 1 mol equivalent of the corresponding diisocyanate compound with 2 mol equivalent of 2-hydroxyethyl methacrylate.
  • B-201 is IRGACURE 184 manufactured by BASF Japan
  • B-202 is IRGACURE 784 manufactured by BASF Japan
  • B-203 is diphenyl (2,4,6-trimethyl). Benzoyl) phosphine oxide (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
  • the removal solutions E-4 and E-5 were prepared by combining the organic / inorganic acid components shown in Table 17 and tap water to pH 2.6. Details of each reagent used for the removal liquid are as follows. Citric acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) Trisodium citrate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Glycolic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) Phosphoric acid (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Benzyl paraoxybenzoate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) Lauryldimethylaminoacetic acid betaine (Ahitole 20BS manufactured by Kao Corporation)
  • ⁇ Formation Example 3> A predetermined amount of the obtained artificial nail composition was applied onto a plastic base material molded into a nail shape using a brush, and then naturally dried for 1 minute after application. Thereafter, after the surface was washed with ethanol, the artificial nail was visually observed to be completely solidified. As a result of measuring the film thickness at this time, it was about 100 ⁇ m ( ⁇ 10 ⁇ m).
  • ⁇ Removability-1> The obtained artificial nail is dipped for 15 seconds in a removing liquid described in a table described later at 40 ° C. and wiped 20 times using kitchen paper in which the removing liquid is dipped. This dipping-wiping operation was repeated 10 times, and the film thickness ( ⁇ m) of the artificial nail remaining was evaluated.
  • ⁇ Removability-2> The surface and tip of the obtained artificial nail are scratched with a file (file for nails). Then, it is immersed for 2 minutes in the removal liquid described in the table to be described later at 40 ° C., and after 2 minutes, peeling treatment is performed using a wooden spatula in the immersion, and the ease of removal from the base material is determined according to the following evaluation criteria. evaluated. -Evaluation criteria- A: Easily removable. B: Removal was possible. C: Although removal was possible, some remaining film remained and wiped off using the removal liquid. D: It was not removable.
  • ⁇ Adhesion-1> The top layer of the obtained artificial nail was pulled with a HB hardness pencil under a certain load, and the presence or absence of peeling and the presence or absence of scratches were evaluated according to the following evaluation criteria. -Evaluation criteria- A: Neither scratch nor peeling occurred. B: Peeling did not occur, but some scratches occurred. C: Although peeling did not occur, scratches occurred. D: Peeling occurred.
  • the artificial nail composition was packed in a brown bottle and then stored in a constant temperature room at 40 ° C. for 5 days. After storage, an artificial nail was formed by the same method as described above, and the removal, adhesion, water resistance, and gloss were evaluated.
  • Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 7 ⁇ Evaluation of artificial nails formed by radical curing>
  • the artificial nail produced in Formation Example 1 was evaluated for gloss, removability-1, adhesion-1 and water resistance-1, and the same evaluation was performed using the artificial nail composition after aging. It was. The results are shown in Table 18. Further, Table 19 shows the results of various evaluations of the removal solution and the evaluation of removability-1.
  • the artificial nail obtained from the artificial nail composition of the present invention can be easily removed with an acid aqueous solution even when cured by exposure, and high adhesion can be maintained. I understand that. In addition, it can be seen that the artificial nail composition of the present invention has little deterioration in performance even after aging.
  • Examples 25 to 29 and Comparative Examples 8 to 10 ⁇ Evaluation of artificial nail formed by radical curing and provided with an upper layer>
  • the artificial nail produced in Formation Example 2 was evaluated for gloss, removability-2, adhesion-1 and water resistance-1, and the same evaluation was performed using the artificial nail composition after aging. It was. The results are shown in Table 20.
  • the artificial nail composition of the present invention was cured by exposure, and the artificial nail obtained by radical curing the artificial nail composition of the present invention was easily pressed with an acid aqueous solution even if it had an upper layer. It can be seen that peeling is possible and high adhesion can be maintained. It can be seen that there is little degradation in performance even after aging.
  • Example 30 to 40 and Comparative Examples 11 and 12 ⁇ Evaluation of artificial nails formed by drying>
  • the artificial nail produced in Formation Example 3 was evaluated for gloss, removability-1, adhesion-1 and water resistance-1, and the same evaluation was performed using the artificial nail composition after aging. It was. The results are shown in Table 21.
  • Example 41 and 42 and Comparative Examples 13 and 14 ⁇ Evaluation of artificial nails formed by drying and provided with an upper layer>
  • the artificial nail produced in Formation Example 4 was evaluated for gloss, removability-2, adhesion-1 and water resistance-1, and the same evaluation was performed using the artificial nail composition after aging. It was. The results are shown in Table 22.
  • the artificial nail obtained by drying and curing the artificial nail composition of the present invention can be easily peeled off with an acid aqueous solution even if it has an upper layer, and can maintain high adhesion. I understand that. It can be seen that there is little degradation in performance even after aging.
  • B-114 Polyurethane methacrylate compound (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .: UV-3310B)
  • B-115 Polyurethane methacrylate compound (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .: UV-3300B)
  • B-110 is made by NOF Corporation Bremermer PE90
  • B-111 is made by NOF Corporation Bremermer PME100
  • B-112 and B-113 are all manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. used.
  • the artificial nail composition of the present invention was cured by exposure, and the artificial nail obtained by radical curing the artificial nail composition of the present invention was easily pressed with an acid aqueous solution even if it had an upper layer. It can be seen that peeling is possible and high adhesion can be maintained. It can be seen that there is little degradation in performance even after aging.
  • the artificial nail obtained from the artificial nail composition of the present invention can be easily removed with an acid aqueous solution even when cured by exposure, and high adhesion can be maintained. I understand that. In addition, it can be seen that the artificial nail composition of the present invention has little deterioration in performance even after aging.
  • B-116 and B-117 were manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.
  • the cross-cut part is clearly affected by more than 5% but not more than 15%.
  • 3 The coating film is partially or completely peeled along the edge of the cut, and / or various parts of the eye are partially or completely peeled off. The cross-cut portion is clearly affected by more than 15% but not more than 35%.
  • 4 The coating film is partially or completely peeled along the edge of the cut, and / or some eyes are partially or completely peeled off. It is clearly not more than 35% that the cross-cut is affected. 5: Either of the above-mentioned degree of peeling that cannot be classified even by the above classification 4.
  • Example 93 to 129 and Comparative Examples 23 to 30 ⁇ Evaluation of artificial nail formed by radical curing and provided with an upper layer>
  • the artificial nail produced in Formation Example 2 was evaluated for removability-2, adhesion-2 and water resistance-2, and the same evaluation was performed using the artificial nail after aging.
  • the results are shown in Table 33 and Table 34.
  • the artificial nail was kept by standing in an environment of 25 to 35 ° C. and 30 to 50% RH.
  • the artificial nail obtained from the artificial nail composition of the present invention can be easily removed with an acid aqueous solution even when cured by exposure, and high adhesion can also be maintained. I understand that. Moreover, it turns out that the artificial nail

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Abstract

 経時安定性に優れ、得られる人工爪の光沢性、除去性及び密着性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキットを提供することを目的とする。 本発明の人工爪組成物は、(成分A)アミノ基を有するポリマーを含有することを特徴とする。また、本発明の人工爪は、上記人工爪組成物を乾燥及び/又は露光して形成された層を有する。更に、本発明のネイルアートキットは、上記人工爪組成物と、除去液と、を含む。

Description

人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット
 本発明は、人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキットに関する。
 近年、手や足の爪にデザインを施すネイルアートに対する人気が高まり、爪(地爪)に合成樹脂製の人工爪(付け爪、ネイルチップ等)を形成する技術が発展している。特に最近、ウレタン系樹脂と光重合性モノマーとを含むジェル状の装飾用硬化性組成物を爪に塗布した後、紫外線を照射して硬化させた人工爪と呼ばれる爪装飾が、仕上がりがクリアである、爪との密着性が高く長持ちする、アクリル系樹脂のような臭いがない、等の理由から注目を集めている。
 この人工爪を除去するときは、従来、人工爪表面を粗目のファイル(爪用やすり)でこすって傷を付けて除去液を滲み込みやすくさせた後、アセトン等の有機溶媒(除去液)に浸したコットンを上記人工爪上に乗せ、これをアルミホイル等で巻いてそのまま放置して人工爪を膨潤させた後、この膨潤した人工爪を木製のへら等を用いて剥がす方法が主流である。
 また、従来の人工爪組成物としては、特許文献1又は2に記載された組成物が知られている。
特開2009-126833号公報 特開平2-221214号公報
 本発明の目的は、経時安定性に優れ、得られる人工爪の光沢性、除去性及び密着性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキットを提供することである。
 上記目的は、下記<1>又は<14>~<16>に記載の手段により達成された。好ましい実施態様である<2>~<13>とともに以下に示す。
 <1>(成分A)アミノ基を有するポリマーを含有することを特徴とする人工爪組成物、
 <2>成分Aが、アミノ基を側鎖に有するポリマーである、上記<1>に記載の人工爪組成物、
 <3>上記アミノ基が、第二級アミノ基及び/又は第三級アミノ基である、上記<1>又は<2>に記載の人工爪組成物、
 <4>上記アミノ基が、第三級アミノ基である、上記<1>~<3>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
 <5>成分Aが、下記式(I)で表される構造を側鎖に有するポリマーである、上記<1>~<4>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
(式(I)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表し、R1、R2及びL1よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよく、L1は炭素数1~20のアルキレン基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。)
 <6>R1及びR2がそれぞれ独立に、炭素数1~4のアルキル基である、上記<5>に記載の人工爪組成物、
 <7>成分Aが、ウレタン系ポリマーである、上記<1>~<6>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
 <8>成分Aが、ポリカーボネート構造又はポリエステル構造を有するウレタン系ポリマーである、上記<7>に記載の人工爪組成物、
 <9>成分Aが、ポリカーボネート構造を有するウレタン系ポリマーである、上記<8>に記載の人工爪組成物、
 <10>成分Aが、下記式(II)で表されるモノマー単位を有するポリマーである、上記<1>~<6>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
(式(II)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表し、R1、R2及びL1よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよく、L1は炭素数1~20のアルキレン基を表し、R3は水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、Xは酸素原子又はNH基を表す。)
 <11>成分Aが、上記式(II)で表されるモノマー単位と、上記式(II)で表されるモノマー単位以外の、スチレン化合物及び(メタ)アクリレート化合物よりなる群から選ばれた化合物由来のモノマー単位とを有する共重合体である、上記<10>に記載の人工爪組成物、
 <12>成分Aが、下記式(III)で表されるモノマー単位を有するポリマーである、上記<1>~<9>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
(式(III)中、R4及びR5はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表し、R4、R5及びL3よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよく、L2は3価の連結基を表し、L3は炭素数1~20のアルキレン基を表す。)
 <13>(成分B)重合性化合物、及び、(成分C)光重合開始剤を更に含有する、上記<1>~<12>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
 <14>上記<1>~<13>のいずれか1つに記載の人工爪組成物を乾燥及び/又は露光して形成された層を有する人工爪、
 <15>上記<1>~<13>のいずれか1つに記載の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、上記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、を含む人工爪の形成方法、
 <16>上記<1>~<13>のいずれか1つに記載の人工爪組成物と、除去液と、を含むネイルアートキット。
 本発明によれば、経時安定性に優れ、得られる人工爪の光沢性、除去性及び密着性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキットを提供することができる。
 以下、本発明について詳細に説明する。
 なお、本明細書中、「xx~yy」の記載は、xx及びyyを含む数値範囲を表す。また、「(成分A)アミノ基を有するポリマー」等を単に「成分A」等ともいう。
 また、本発明において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
 また、本発明において、2以上の好ましい態様の組み合わせはより好ましい。
 本明細書中、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式の説明において、「Rはアルキル基、アリール基又は複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表す」ことを意味する。また、本明細書中、(メタ)アクリルは、アクリルとメタクリルとを共に含む概念を表し、(メタ)アクリレート等についても同様である。
 また、本明細書におけるポリマーには、コポリマーを含むものとする。
(人工爪組成物)
 本発明の人工爪組成物は、(成分A)アミノ基を有するポリマーを含有することを特徴とする。
 また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪である。
 本発明者等は詳細な検討を行った結果、成分Aを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、経時安定性に優れ、得られる人工爪の光沢性、除去性及び密着性に優れることを見いだした。
 これら効果が発現する機構は不明であるが、一部は以下のように推定される。
 爪との密着性、また、任意に形成される上層との密着性は、成分Aが有するアミノ基の有する不対電子により発現すると推測される。この不対電子による密着は、1分子中に複数のアミノ基を有していることで効果が増大し、多点で吸着することにより、応力分散が可能になる。特許文献1に記載されるようなアミノ基を有するモノマーを含む人工爪組成物は、空気中にてラジカル重合乃至は乾燥によって形成されるため、形成後も低分子成分が残されてしまう。本発明では事前にポリマーとして添加することにより、安定した分子量を維持することができ、安定した多点による吸着を達成し密着性を高めることができると推定される。
 また、アミノ基を有する成分を用いた場合の人工爪組成物における経時安定性の低下は、アミノ基の窒素原子が酸化され、N-オキシドへと変化するためと推測される。本発明では、成分A、すなわち、ポリマーとして添加することで、1分子中のアミノ基の数を多くし、N-オキシドへの変化の影響を抑制し、経時での性能を安定化できると推定される。
 本発明の人工爪組成物は、ヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に乾燥及び/又は露光によって硬化し、人工爪を形成する組成物である。また、本発明の人工爪組成物により形成された人工爪は、従来の有機溶剤を用いた除去方法によって除去することも可能であるが、pH5.0以下の酸性水溶液によっても容易に除去することが可能である。
 本発明における人工爪とは、ヒト又は動物の爪上に、美装及び/又は保護を目的に形成される層を指す。また、例えば、上記他の人工爪としては、爪の美装及び/又は保護を目的とする任意の形状の樹脂基材等が挙げられる。
 なお、「ヒト及び動物の爪、並びに、他の人工爪」を、単に「爪」ともいう。
 上記人工爪の形状は、特に制限はなく、所望の形状に形成すればよい。例えば、爪の表面を被覆するように形成してもよいし、爪の一部のみに形成してもよいし、ネイルフォーム等を使用し爪の延長のため、爪よりも大きな形状に形成してもよい。
 また、本発明の人工爪組成物は、塗布により厚みを制御することができる。厚みとしては、一般に人工爪がとりうる範囲であれば、特に制限されるものではないが、実用性及び除去性の観点から、20~1,500μmの範囲であることが好ましい。
 本発明の人工爪組成物は、人工爪における、プライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
 中でも、除去性の観点から、本発明の人工爪組成物により形成した層が爪と接していることが好ましい。
 また、本発明の人工爪組成物によって形成した人工爪層の上層(爪とは逆側の面)又は下層(爪との間の面)に、別途、色・ツヤ・密着を出す目的で、プライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層を有していてもよい。
 本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物(「ジェルネイル用人工爪組成物」)としても、マニキュア液用人工爪組成物としても好適に用いることができる。
 また、本発明の人工爪組成物は、露光により硬化を行っても除去性に優れるため、光硬化性人工爪組成物として特に好適に使用することできる。
 上記光硬化性人工爪組成物は、活性光線により硬化可能な人工爪組成物である。「活性光線」とは、その照射により人工爪組成物中に開始種を発生させるエネルギーを付与できる放射線であり、紫外線、可視光線などを包含する。
 以下に、本発明の人工爪組成物に使用することができる各種成分について説明する。
(成分A)アミノ基を有するポリマー
 本発明の人工爪組成物は、(成分A)アミノ基を有するポリマーを含有する。
 成分Aの重量平均分子量は、3,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましく、5,000以上250,000以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の密着性及び除去性に優れ、また、経時安定性に優れる。
 成分Aの構造については、特に制限はなく、任意の構造であればよく、例えば、鎖状構造、枝分かれ(分岐)構造、星型構造、架橋構造、網状構造などが挙げられる。
 また、成分Aは、エチレン性不飽和基を有していてもよい。成分Aがエチレン性不飽和基を有する場合、上記エチレン性不飽和基は成分Aにおけるポリマーの主鎖、側鎖及び末端のいずれに有していてもよい。
 成分Aにおけるアミノ基は、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基のいずれであってもよいが、第二級アミノ基又は第三級アミノ基であることが好ましく、第三級アミノ基であることがより好ましい。上記態様であると、得られる人工爪の除去性及び耐水性により優れ、また、合成が容易である。
 また、成分Aにおけるアミノ基は、モノアルキルアミノ基又はジアルキルアミノ基であることが好ましい。上記態様であると、得られる人工爪の除去性、密着性及び耐水性により優れる。
 また、成分Aは、アミノ基をポリマーの主鎖に有していても、側鎖に有していてもよいが、合成上の観点から、側鎖にアミノ基を有するポリマーであることが好ましい。
 成分Aは、アミノ基を1種単独で有していても、2種以上を有していてもよい。
 また、成分Aにおけるアミノ基の数は、特に制限はなく、任意の数を有していればよいが、アミノ基を有するモノマー単位を有していることが好ましい。
 なお、本発明における「モノマー単位」には、厳密なモノマー由来の構成単位だけでなく、ポリマーを得た後に変性等の反応を行う高分子反応により変性したモノマー単位も含むものとする。
 成分Aとしては、下記式(I)で表される構造を有するポリマーであることが好ましく、下記式(I)で表される構造を側鎖に有するポリマーであることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
(式(I)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表し、R1、R2及びL1よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよく、L1は二価の連結基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。)
 式(I)におけるR1及びR2はそれぞれ独立に、酸水溶液への溶解性と耐水性とのバランスの観点から、炭素数1~10のアルキル基であることが好ましく、メチル基又はエチル基であることが特に好ましい。
 また、式(I)において、R1、R2及びL1よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよい。
 式(I)におけるL1は、ポリマーの皮膜性の観点から、炭素数1~20の、置換基を有してもよく、また、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよいアルキレン基であることが好ましく、炭素数1~20のアルキレン基、炭素数2~20のオキシアルキレン基又は炭素数2~20のポリオキシアルキレン基であることがより好ましく、炭素数1~20のアルキレン基又は炭素数2~20のポリオキシアルキレン基であることが更に好ましく、炭素数1~20のアルキレン基であることが特に好ましく、炭素数2又は3のアルキレン基であることが最も好ましい。
 また、上記ヘテロ原子は、窒素原子又は酸素原子であることが好ましく、酸素原子であることがより好ましい。また、上記ヘテロ原子が窒素原子である場合、窒素原子上の残りの基は水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。
 また、上記式(I)で表される構造をポリマーの側鎖に導入する方法としては、例えば、式(I)で表される構造を有するモノマーを縮重合・付加重合・付加縮合・イオン重合(カチオン重合・アニオン重合)など公知の重合反応を用いポリマー化する方法が挙げられる。
 成分Aは、皮膜性、取り扱い性(粘性)、及び、アミノ基を導入する合成上の観点から、下記式(II)で表されるモノマー単位を有するポリマーであることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
(式(II)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表し、R1、R2及びL1よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよく、L1は二価の連結基を表し、R3は水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、Xは酸素原子又はNH基を表す。)
 式(II)におけるR1、R2及びL1は、上記式(I)におけるR1、R2及びL1とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
 式(II)におけるR3は、合成上の観点から、水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
 式(II)におけるXは、得られる人工爪の耐水性及び合成上の観点から、酸素原子であることが好ましい。
 成分Aが式(II)で表されるモノマー単位を有する場合、1種単独で有していても、2種以上有していても、他のモノマー単位を更に有していてもよい。
 式(II)で表されるモノマー単位を形成するモノマーとしては、下記式(II-m)で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
(式(II-m)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表し、R1とR2と又はL1とR2とは互いに連結して環を形成してもよく、L1は二価の連結基を表し、R3は水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、Xは酸素原子又はNH基を表す。)
 式(II-m)におけるR1~R3、L1及びXは、上記式(II)におけるR1~R3、L1及びXとそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
 また、成分Aは、皮膜性、取り扱い性(粘性)及びアミノ基を導入する合成上の観点から、下記式(III)又は式(III-b)で表されるモノマー単位を有するポリマーであることが好ましく、下記式(III)で表されるモノマー単位を有するウレタン系ポリマーであることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(式(III)又は式(III-b)中、R4、R5及びRb4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表し、R4、R5及びL3よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよく、Rb4とLb3とは互いに連結して環を形成してもよく、L2は3価の連結基を表し、L3は、炭素数1~20のアルキレン基を表し、Lb3はそれぞれ独立に、炭素数1~20のアルキレン基を表す。)
 式(III)におけるR4及びR5はそれぞれ独立に、酸水溶液への溶解性と耐水性とのバランスの観点から、炭素数1~10のアルキル基であることが好ましく、メチル基又はエチル基であることが特に好ましい。
 また、式(III)において、R4、R5及びL3よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよい。
 式(III)におけるL2は、炭素数2~20の3価の連結基であることが好ましく、炭素数2~20の3価の炭化水素基であることがより好ましく、炭素数2~20の3価の脂肪族炭化水素基であることが更に好ましく、炭素数2~10の3価の脂肪族炭化水素基であることが特に好ましく、式(III)における2つの酸素原子と1位及び2位でそれぞれ結合する1,1,2-エタントリイル基であることが最も好ましい。
 また、式(III)におけるL2は、ポリマーの皮膜性の観点から、3価の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。
 式(III)におけるL3は、ポリマーの皮膜性の観点から、炭素数1~4のアルキレン基であることが好ましく、メチレン基であることが特に好ましい。
 式(III-b)におけるRb4は、酸水溶液への溶解性と耐水性とのバランスの観点から、炭素数1~10のアルキル基であることが好ましく、炭素数2~8のアルキル基であることがより好ましく、炭素数4~8のアルキル基であることが更に好ましく、n-ブチル基であることが特に好ましい。
 式(III-b)におけるLb3はそれぞれ独立に、ポリマーの皮膜性の観点から、炭素数2~8のアルキレン基であることが好ましく、エチレン基であることが特に好ましい。
 また、合成上の観点から、2つのLb3は同じ基であることが好ましい。
 また、式(III-b)において、Rb4とLb3とは互いに連結して環を形成してもよい。
 成分Aが式(III)又は式(III-b)で表されるモノマー単位を有する場合、1種単独で有していても、2種以上有していてもよく、また、更に有していてもよい他のモノマー単位としては、後述するジイソシアネート成分由来のモノマー単位等が好ましく挙げられる。
 式(III)で表されるモノマー単位を形成するモノマーとしては、下記式(III-m)で表される化合物が挙げられる。
 また、式(III-b)で表されるモノマー単位を形成するモノマーとしては、下記式(III-bm)で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
(式(III-m)又は式(III-bm)中、R4、R5及びRb4はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表し、R4、R5及びL3よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよく、Rb4とLb3とは互いに連結して環を形成してもよく、L2は3価の連結基を表し、L3は、炭素数1~20のアルキレン基を表し、Lb3はそれぞれ独立に、炭素数1~20のアルキレン基を表す。)
 式(III-m)におけるR4、R5、L2及びL3は、上記式(III)におけるR4、R5、L2及びL3とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
 式(III-bm)におけるRb4及びLb3は、上記式(III-b)におけるRb4及びLb3とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
 成分Aは、モノマー単位としてアミノ基を有するモノマー単位のみからなるポリマーであってもよいが、成分Aがアミノ基を有するモノマー単位と他のモノマー単位とを有する場合、アミノ基を有するモノマー単位の含有量は、成分Aの全モノマー単位に対し、5~75モル%であることが好ましく、20~75モル%であることがより好ましく、20~60モル%であることが更に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の除去性及び耐水性により優れる。
 また、成分Aのアミン価は、0.001~8.5mmol/gであることが好ましく、0.001~6.0mmol/gであることがより好ましく、0.005~4.0mmol/gであることが更に好ましく、0.01~2.0mmolであることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の除去性及び耐水性により優れる。
 アミン価の測定方法としては、例えば、試料をビーカーにはかりとり、酢酸を加え、撹拌して溶解させて、測定温度を25℃に調整後、滴定試薬として0.1N過塩素酸酢酸溶液を用いて、滴定装置で滴定することにより、求めることができる。
 なお、アミン価は、滴定した際に消費される過塩素酸の量を、試料(固形分)1g当たりのモル数で表したものである。
 成分Aにおけるポリマー構造は、特に限定されず、所望のポリマー構造であればよく、例えば、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、セルロース系ポリマー、エステル系ポリマー、アミド系ポリマー、ビニル系ポリマー、エーテル系ポリマー、スチレン系ポリマー、カーボネート系ポリマー、ウレア系ポリマー、エチレン系ポリマー、アミン系ポリマー等のポリマー構造が挙げられる。
 皮膜性・取り扱い性(粘性)・アミノ基を導入する合成上の観点から、成分Aは、エーテル系ポリマー、エチレン系ポリマー(特にポリエチレンイミン系ポリマー)、ウレタン系ポリマー、アクリル系ポリマーであることが好ましく、ウレタン系ポリマー、アクリル系ポリマーであることが特に好ましく、アクリル系ポリマーであることが最も好ましい。
 また、硬化膜の柔軟性及び除去性の観点からは、ウレタン系ポリマーが最も好ましい。
 アクリル系ポリマーとしては、公知のアクリル酸誘導体(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等のアクリル酸アミド)、メタクリル酸誘導体(例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、メタクリルアミド、メタクリル酸イソプロピルアミド等のメタクリル酸アミド)を重合して得られるポリマーであればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。アクリル系ポリマーにアミノ基を導入する方法としては、例えば、アミノ基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を重合又は共重合する方法や高分子反応によりアミノ基を導入する方法が挙げられる。アクリル系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、エチレン性不飽和基を持つ(メタ)アクリル酸誘導体を重合又は共重合する方法や、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する方法が挙げられる。
 ウレタン系ポリマーとしては、公知のポリイソシアネート化合物(例えば、メチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、フェニルジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(フェニルイソシアネート)チオホスフェート、フェニレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソプロピリデンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソシアネート、ジアニシジンジイソシアネート、ジフェニルエーテルジイソシアネート)と公知のポリオール化合物(例えば、ブタンジオール、ヘキサンジオール等のアルキレンジオール、p-ヒドロキシスチレン等のアリーレンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリエーテルジオール、ポリエチレングリコールテレフタレート等のポリエステルジオール、ポリエチレングリコールカーボネート等のポリカーボネートジオール等)からなるポリウレタンであればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
 ウレタン系ポリマーにアミノ基を導入する方法としては、例えば、第三級アミノ基若しくはアミノ基を保護した基を有する、ポリイソシアネート化合物及び/又はポリオール化合物を用いて重縮合を行う方法や高分子反応によりアミノ基を導入する方法が挙げられる。なお、保護されたアミノ基は、ポリマーを形成した後、公知の方法により脱保護すればよい。後述においても同様である。
 ウレタン系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、高分子反応により導入する方法、及び、エチレン性不飽和基を有するポリオール化合物やポリイソシアネート化合物を用いて重縮合する方法が挙げられる。これら化合物は特に限定されないが、エチレン性不飽和基を有するポリオールについては、特開2010-100047号公報に記載されているような、(メタ)アクリレート含有ジオール化合物などを好適に使用することができる。
 中でも、耐水性の観点から、ポリカーボネート構造又はポリエステル構造、ポリブタジエン構造、水添ポリブタジエン構造を有するウレタン系ポリマーであることが好ましく、ポリカーボネート構造を有するウレタン系ポリマーであることがより好ましい。
 また、ウレタン系ポリマーとしては、ジイソシアネート化合物とジオール化合物との重縮合体が好ましく例示できる。
 ウレタン系ポリマーを構成するジオール成分としては、ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール、ポリブタジエンジオール、水添ポリブタジエンジオール、を使用することが耐水性の観点から好ましく、ポリカーボネートジオールを使用することがより好ましい。
 また、構成するジイソシアネート成分としては、人工爪組成物の溶解性、形成する人工爪の力学強度の観点から、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン-4,4’-ジイソシアナートが好ましく、イソホロンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン-4,4’-ジイソシアナートが更に好ましい。これら化合物は1種類のみを使用してもよいし複数を組み合わせて使用してもよい。
 また、上記好適なジオール成分/ジイソシアネート成分に加えて、その他のジオール成分/ジイソシアネート成分と組み合わせて使用してもよい。また、好適なジオール成分と、好適なジイソシアネート成分とをあわせて使用することで、人工爪の耐水性及び力学強度の両方を高めることができる。
 セルロース系ポリマーとしては、カルボキシメチルセルロース、ニトロセルロース、トリアセチルセルロース等の公知のセルロースであれば好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。セルロース系ポリマーにアミノ基を導入する方法としては、例えば、高分子反応によりアミノ基を導入する方法が挙げられる。セルロース系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する方法が挙げられる。
 エステル系ポリマーとしては、公知のポリカルボン酸化合物(例えば、こはく酸、アジピン酸、フタル酸等)と公知のポリオール化合物からなるポリエステルであればいずれも好適に使用することができる。また、ポリ乳酸等のヒドロキシカルボン酸化合物からなるポリエステルも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。エステル系ポリマーにアミノ基を導入する方法としては、例えば、第三級アミノ基若しくはアミノ基を保護した基を有する、ポリカルボン酸化合物、ポリオール化合物及び/又はヒドロキシカルボン酸化合物を用いて重縮合を行う方法や高分子反応によりアミノ基を導入する方法が挙げられる。エステル系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する方法が挙げられる。
 アミド系ポリマーとしては、公知のポリカルボン酸化合物と公知のポリアミン化合物(例えば、エチレンジアミン、フェニレンジアミン等)からなるポリアミドであればいずれも好適に使用することができる。また、アミノ酸からなるタンパク質であるポリアミノ酸も好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。アミド系ポリマーにアミノ基を導入する方法としては、例えば、第三級アミノ基若しくはアミノ基を保護した基を有する、ポリカルボン酸化合物、及び/又は、重縮合反応に寄与しない第三級アミノ基若しくはアミノ基を保護した基を有するポリアミン化合物を用いて重縮合を行う方法や高分子反応によりアミノ基を導入する方法が挙げられる。アミド系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する方法が挙げられる。
 ビニル系ポリマーとしては、公知のビニル化合物(例えば、ビニル酢酸、塩化ビニル、ブタジエン等)を重合して得られるビニル系ポリマーであればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。ビニル系ポリマーにアミノ基を導入する方法としては、例えば、アミノ基を有するビニル化合物を重合又は共重合する方法や高分子反応によりアミノ基を導入する方法が挙げられる。ビニル系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する方法が挙げられる。
 エーテル系ポリマーとしては、公知のポリオール化合物からなるポリエーテル(例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等)であればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。エーテル系ポリマーにアミノ基を導入する方法としては、例えば、第三級アミノ基若しくはアミノ基を保護した基を有するポリオール化合物を用いて重縮合を行う方法や高分子反応によりアミノ基を導入する方法が挙げられる。エーテル系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する方法が挙げられる。
 スチレン系ポリマーとしては、公知のスチレン化合物(例えば、スチレン、4-カルボキシスチレン、4-アセトキシスチレン等)からなるポリスチレンであればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。スチレン系ポリマーにアミノ基を導入する方法としては、例えば、アミノ基を有するスチレン誘導体を重合又は共重合する方法や高分子反応によりアミノ基を導入する方法が挙げられる。スチレン系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する方法が挙げられる。
 カーボネート系ポリマーとしては、公知の炭酸誘導体(例えば、ホスゲン、炭酸ジメチル、炭酸ジメチル等)と公知のポリオール化合物からなるポリカーボネートであればいずれも好適に使用することができる。ただしこれら例示に限定されるものではない。カーボネート系ポリマーにアミノ基を導入する方法としては、例えば、第三級アミノ基若しくはアミノ基を保護した基を有するポリオール化合物を用いて重縮合を行う方法や高分子反応によりアミノ基を導入する方法が挙げられる。カーボネート系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する方法が挙げられる。
 ウレア系ポリマーとしては、公知のポリイソシアネート化合物と公知のポリアミン化合物からなるポリウレアであればいずれも好適に使用することができる。ただしこれら例示に限定されるものではない。ウレア系ポリマーにアミノ基を導入する方法としては、例えば、第三級アミノ基若しくはアミノ基を保護した基を有する、ポリイソシアネート化合物、及び/又は、重縮合反応に寄与しない第三級アミノ基若しくはアミノ基を保護した基を有するポリアミン化合物を用いて重縮合を行う方法や高分子反応によりアミノ基を導入する方法が挙げられる。ウレア系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する方法が挙げられる。
 アミン系ポリマーとしては、公知のポリアミンが例示できる。アミン系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する方法が挙げられる。
 また、成分Aは、スチレン-アクリル系共重合体等のような、共重合ポリマーであってもよい。
 成分Aは、光沢性の観点から、単官能(メタ)アクリレート化合物の単独重合体若しくは共重合体、又は、ジイソシアネート化合物とジオール化合物との重縮合体が好ましく例示できる。
 また、成分Aとしては、得られる人工爪の耐水性の観点から、アミノ基を有するモノマー単位と、上記アミノ基を有するモノマー単位以外の、非水溶性の単量体由来のモノマー単位とを少なくとも有するポリマーであることが好ましい。非水溶性の定義は、1気圧、20℃の条件で同容量の純水との混合液が不均一な外観を維持するものを指す。
 非水溶性の単量体としては、上記の使用可能なモノマーのうち、スチレン化合物、(メタ)アクリレート化合物が好ましく、(メタ)アクリレート化合物がより好ましく、(メタ)アクリル酸アルキルエステルが特に好ましい。
 すなわち、成分Aは、アミノ基を有するモノマー単位以外に、スチレン化合物及び(メタ)アクリレート化合物よりなる群から選ばれた化合物由来のモノマー単位を有することが好ましく、(メタ)アクリレート化合物由来のモノマー単位を有することがより好ましく、(メタ)アクリル酸アルキルエステル由来のモノマー単位を有することが更に好ましい。
 成分Aの製造において、アミノ基を有するモノマーと共重合可能なモノマーとして、好ましいモノマーは、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の単官能(メタ)アクリル酸エステル類、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、モルホリンアクリルアミド、等の単官能(メタ)アクリル酸アミド類、N-ビニルピロリドン、酢酸ビニル、等のビニルモノマー類、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、カルドエポキシジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、等の多官能(メタ)アクリル酸エステル類、ジイソシアネートと水酸基含有(メタ)アクリル酸誘導体と任意にジオール類からなるウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。ただしこれら例示に限定されるものではない。
 また、成分Aは、得られる人工爪の耐水性の観点から、アミノ基を有するモノマー単位に加え、下記式(IV)で表されるモノマー単位を更に有していることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
(式(IV)中、R6は水素原子、アルキル基又は下記式(V)で表される基を表し、R7は水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、X’は酸素原子又はNH基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
(式(V)中、L4はそれぞれ独立に、エチレン基又はプロピレン基を表し、nは1~20の整数を表し、R8は水素原子又はアルキル基を表し、波線部分は上記X’との結合位置を表す。)
 R6は、得られる人工爪の耐水性の観点から、アルキル基又は上記式(V)で表される基であることが好ましく、炭素数1~20のアルキル基又は上記式(V)で表される基であることがより好ましく、炭素数3~10のアルキル基であることが更に好ましく、ブチル基であることが特に好ましい。
 R7は、合成上の観点から、水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
 X’は、得られる人工爪の耐水性及び合成上の観点から、酸素原子であることが好ましい。
 L4は、エチレン基であることが好ましい。
 nは、得られる人工爪の耐水性の観点から、1~10の整数であることが好ましい。
 R8は、得られる人工爪の耐水性の観点から、炭素数1~10のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
 以下に、成分Aの具体例を示すが、この具体例に限定されるものではない。
 成分Aとしては、下記構造のポリマーが好ましく、下記構造かつ重量平均分子量のポリマーがより好ましい。また、各モノマー単位の括弧の右下の数字は、モル比を表す。また、アルキレンオキシ鎖における括弧の右下の数字は、繰り返し数を表す。また、*が記載された構成単位は、該ポリマーの主鎖末端が、*で主鎖に結合した当該構造になっていることを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
 成分Aは、1種単独で含有していても、2種以上を併用していてもよい。
 本発明の人工爪組成物における成分Aの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、1~95質量%であることが好ましく、5~95質量%であることがより好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の除去性及び密着性により優れる。本発明の人工爪組成物における溶剤の含有量が10質量%未満である場合、成分Aの含有量は、人工爪組成物の全質量に対し、5~90質量%であることが更に好ましく、10~90質量%であることが特に好ましい。
 また、本発明の人工爪組成物における溶剤の含有量が10質量%以上である場合、成分Aの含有量は、人工爪組成物の全質量に対し、30~80質量%であることが更に好ましく、40~75質量%であることが特に好ましい。
 また、本発明の人工爪組成物は、皮膜性や光沢性を向上させることを目的に、成分A以外のポリマーを含有していてもよい。
 成分A以外のポリマーとしては、皮膜性の観点から、アクリル系ポリマー又はウレタン系ポリマーであることが好ましい。また、塗布性を向上させることを目的に、粘度調整剤(増粘剤等)として知られる公知のポリマーを含有していてもよい。
 本発明の人工爪組成物が成分A以外のポリマーを含有する場合、成分A以外のポリマーの含有量は、成分Aの含有量未満であることが好ましく、人工爪組成物の全質量に対し、40質量%以下であることがより好ましく、30質量%以下であることがより好ましく、20質量%以下であることが更に好ましい。
(成分B)重合性化合物
 本発明の人工爪組成物は、(成分B)重合性化合物を含有することが好ましい。成分Bを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
 また、本発明の人工爪組成物が成分Bを含有する場合、後述する(成分C)光重合開始剤を更に含有することが好ましい。成分B及び成分Cを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物としてより好適に用いることができる。
 成分Bとしては、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
 また、成分Bとしては、エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
 ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用してもよい。また、成分Bは、成分A以外の化合物であり、分子量10,000未満の化合物であることが好ましく、分子量5,000未満の化合物であることがより好ましい。
 ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のオリゴマーなどのラジカル重合性化合物が挙げられる。
 具体的には、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載の市販品若しくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、及び、オリゴマーを用いることができる。
 また、成分Bとしては、上記成分Aの合成に用いられるモノマーも好適に用いることができる。
 成分Bとしては、得られる人工爪の除去性、密着性及び光沢の観点から、ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和化合物、又は、(ポリ)アルキレンオキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、又は、(ポリ)アルキレンオキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物を含むことがより好ましく、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物を含むことが更に好ましく、ヒドロキシ基を有する単官能(メタ)アクリレート化合物を含むことが特に好ましい。
 ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2,3-ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・プロピレングリコール)-モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール-モノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・テトラメチレングリコール)-モノ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール・テトラメチレングリコール)-モノ(メタ)アクリレート、プロピレングリコール・ポリブチレングリコール-モノ(メタ)アクリレートを好ましく挙げることができる。
 (ポリ)アルキレンオキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、メトキシポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール-(メタ)アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール-(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ-ポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ-ポリプロピレングリコール-(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ-ポリ(エチレングリコール-プロピレングリコール)-(メタ)アクリレートを好ましく挙げることができる。
 上記ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、及び、(ポリ)アルキレンオキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物は、市販のものを用いることが可能である。代表例を示すと、ブレンマーE、ブレンマーPE-90、ブレンマーPE-200、ブレンマーPE-350、ブレンマーP、ブレンマーPP-1000、ブレンマーPP-500、ブレンマーPP-800、ブレンマー50PEP-300、ブレンマー70PEP-350B、ブレンマー55PET-800、ブレンマーPPTシリーズ、ブレンマー10PPB-500B、ブレンマーAE-90、ブレンマーAE-200、ブレンマーAE-400、ブレンマーAP-150、ブレンマーAP-400、ブレンマーAP-550、ブレンマーPME-100、ブレンマーPME-200、ブレンマーPME-400、ブレンマーPME-1000、ブレンマー50POEP-800B、ブレンマーPLE-200、ブレンマーPSE-400、ブレンマーPSE-1300、ブレンマーPAE-50、ブレンマーPAE-100、ブレンマー43PAPE-600B、ブレンマーAME-400、ブレンマーALEシリーズ、ブレンマーANP-300、ブレンマー75ANP-600、ブレンマーAAE-50、ブレンマーAAE-300(以上、日油(株)製)等を挙げることができる。
 ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を使用する場合、当該化合物におけるヒドロキシ基の数は、1~10個が好ましく、1~5個がより好ましく、1~3個が更に好ましく、1個が特に好ましい。
 また、(ポリ)アルキレンオキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を使用する場合、当該化合物におけるアルキレンオキシ基の繰り返し単位数としては、1~25が好ましく、1~15がより好ましく、1~10が更に好ましい。
 これらの中でも、成分Bは、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート化合物を含むことが好ましく、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートを含むことがより好ましく、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを含むことが更に好ましい。
 成分Bとしては、得られる人工爪の耐水性の観点から、炭素数が3以上のアルキル基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、炭素数が5以上のアルキル基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、炭素数が8以上のアルキル基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが更に好ましい。これらアルキル基は分岐、及び/又は、環構造を有していてもよい。
 上記アルキル基を有するエチレン性不飽和化合物としては、例えば、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリルメタクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、又は、これらの異性体などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
 成分Bとしては、成分B以外の成分の溶解性の観点から、(メタ)アクリルアミド化合物を含むことが好ましい。上記(メタ)アクリルアミド化合物としては、例えば、N-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-t-ブチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-ドデシル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-フェニル(メタ)アクリルアミド、N-イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-メトキシメチルアクリルアミドなどを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
 成分Bとしては、得られる人工爪組成物の耐熱性の観点から、ホモポリマーのTg(ガラス転移温度)が50℃以上であるエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、Tgが80℃以上であるエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、Tgが100℃以上であるエチレン性不飽和化合物を含むことが更に好ましい。
 上記ホモポリマーのTgが50℃以上であるエチレン性不飽和化合物としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、ベンジルメタクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレートなどを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
 また、成分Bは、得られる人工爪の除去性及び皮膜性の観点から、ウレタン結合を有する重合性化合物を含むことが好ましく、ウレタン結合を有する多官能重合性化合物を含むことがより好ましく、ウレタン結合を有する多官能(メタ)アクリレート化合物を含むことが更に好ましい。
 成分Bは、分子量(重量平均分子量)が1,000以上である多官能重合性化合物を含むことが好ましく、分子量(重量平均分子量)が3,000以上である多官能重合性化合物を含むことがより好ましい。1,000以上の分子量を有する多官能重合性化合物を含むことで、架橋密度を制御し膜が脆化することを防ぎ、形成する人工爪の持続性が向上する。
 ウレタン結合を有する多官能(メタ)アクリレート化合物としては、イソシアナト基と水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物が好ましく挙げられ、そのような具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物に、下記式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
   CH2=C(R7)COOCH2CH(R8)OH (A)
(ただし、R7及びR8はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。)
 中でも、上記イソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4-ジメチルジイソシアネートが好ましく挙げられ、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4-ジメチルジイソシアネートがより好ましく挙げられ、2,4-ジメチルジイソシアネートが更に好ましく挙げられる。
 また、イソシアネート化合物は、分子量を制御することを目的に、ポリエステル型ジイソシアネートや、ポリエーテル型ジイソシアネート、ポリカーボネート型ジイソシアネートを好適に用いることができる。これらジイソシアネート化合物は、上記に記載のジイソシアネート化合物やその他、イソホロンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネートにポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオールを反応させることが得ることができる。このとき人工爪の皮膜性や耐水性の観点から、ポリエステル構造、ポリカーボネート構造を有するウレタン系付加重合性化合物(より好ましくはジオール化合物及び/又はジイソシアネート化合物)を好ましく使用することができる。
 成分Bは、1種単独で含有していても、2種以上を併用していてもよい。
 本発明の人工爪組成物における成分Bの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、1~95質量%であることが好ましく、1~90質量%であることがより好ましく、5~90質量%であることが更に好ましく、5~85質量%であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の除去性及び耐水性により優れる。
(成分C)光重合開始剤
 本発明の人工爪組成物は、(成分C)光重合開始剤を含むことが好ましい。成分Cを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
 光重合開始剤としては、ラジカル光重合開始剤、及び、カチオン光重合開始剤が挙げられるが、ラジカル光重合開始剤を含有することがより好ましい。
 光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができる。本発明に用いることができる光重合開始剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、ラジカル光重合開始剤とカチオン光重合開始剤とを併用してもよい。
 本発明に用いることのできる光重合開始剤は、光を吸収して重合開始種を生成する化合物である。光としては、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線が例示できる。
 本発明に用いることができる光重合開始剤として具体的には、以下のものを好ましく例示できる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
 アセトフェノン化合物(例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、4’-イソプロピル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルホリノ-1-プロパン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタン-1-オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等);
 ベンゾフェノン化合物(例えば、ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、3,3-ジメチル-4-メトキシ-ベンゾフェノン等);
 アントラキノン化合物(例えば、アントラキノン、2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、tert-ブチルアントラキノン等);
 チオキサントン化合物(例えば、2-クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等);
 トリハロアルキル化合物(例えば、2,4,6-(トリクロロメチル)トリアジン、2,4-トリクロロメチル-6-(4-メトキシフェニル)トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等);
 ロフィンダイマー化合物(例えば、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾリル二量体);
 アクリジン化合物(例えば、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス(9-アクリジニル)ヘプタン、1,5-ビス(9-アクリジニル)ペンタン、1,3-ビス(9-アクリジニル)プロノパン);
 ホスフィンオキシド化合物(例えば、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド等);
 メタロセン化合物(例えば、ビスシクロペンタジエニル-ビス(ジフルオロ-ピリル-フェニル)チタニウム等);
 オニウム塩(例えば、ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等);
 オキシムエステル化合物(例えば、1-(4-フェニルチオフェニル)-1,2-オクタンジオン-2-(O-ベンゾイルオキシム)、1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-エタノン-1-(O-アセチルオキシム)等)。
 中でも、成分Cとしてはアセトフェノン化合物、ホスフィンオキシド化合物、メタロセン化合物、及び、ロフィンダイマー化合物よりなる群から選ばれた光重合開始剤であることが好ましく、アセトフェノン化合物、及び、ホスフィンオキシド化合物よりなる群から選ばれた光重合開始剤であることが特に好ましい。
 本発明の人工爪組成物中における成分Cの含有量としては、人工爪組成物の総質量に対して、0.01~20質量%であることが好ましく、0.1~15質量%であることがより好ましく、0.5~12質量%であることが更に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の密着性、光沢及び耐水性により優れる。
(成分D)溶剤
 本発明の人工爪組成物は、塗布性の観点から、(成分D)溶剤を含有してもよいが、安全性や取り扱い性の観点からは、溶剤の含有量は、人工爪組成物の全質量に対し、10質量%未満であることが好ましく、5質量%未満であることがより好ましく、本発明の人工爪組成物が溶剤を含有しないことが特に好ましい。
 溶剤としては、公知の溶剤であれば、いずれも好適に使用することができる。例えば、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤及びこれらのアセテート系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶剤等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
 乾燥速度の観点から、溶剤の沸点は、30~130℃であることが好ましく、35~100℃であることがより好ましく、40~90℃であることが更に好ましく、50~85℃であることが特に好ましい。上記範囲であると、乾燥性及び塗布性に優れる。
 成分Dは、1種単独で含有していても、2種以上を併用していてもよい。
 成分Dとしては、アルコール系溶剤及び/又はケトン系溶剤を含むことが好ましく、アルコール系溶剤及びケトン系溶剤を含むことがより好ましい。
 本発明の人工爪組成物が成分Dを含有する場合、塗布性、得られる人工爪の除去性及び密着性の観点からは、成分Dの含有量は、人工爪組成物の全質量に対し、1~90質量%であることが好ましく、5~80質量%であることがより好ましく、10~80質量%であることが更に好ましく、15~50質量%であることが特に好ましい。
<その他の成分>
 本発明の人工爪組成物は、上記成分A~成分D以外のその他の成分として、一般に人工爪組成物中に配合されうる添加成分を、本発明効果を損なわない範囲内において任意に配合することができる。このような添加成分としては、例えば、消泡剤、緩衝剤、キレート化剤、分散剤、染料、充填剤、顔料、防腐剤、樹脂粉末(例えば、ポリ(メタ)アクリル酸等)、無機粉末(例えば、シリカゲル等)、増粘剤、湿潤剤等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
 また、本発明の人工爪組成物における各成分の配合量は、特に限定されるものではないが、質量比で、成分A/成分B/成分C/成分D/その他の成分=10~90/5~85/0.5~12/0~50/0~40の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、塗布性により優れ、また、得られる人工爪の除去性及び光沢により優れる。
(人工爪)
 本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪であり、本発明の人工爪組成物を乾燥及び/又は露光して形成された層を有する人工爪であることが好ましい。
 本発明の人工爪は、マニキュア、ペディキュア等のネイルポリッシュや、ジェルネイルとして好適である。
 本発明の人工爪は、少なくとも一部が本発明の人工爪組成物により形成されていればよく、他の層や構造を有していてもよいし、人工爪全体が本発明の人工爪組成物により形成されていてもよい。
 本発明の人工爪組成物により形成された層は、本発明の人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
 また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を1層のみ有していても、2層以上有していてもよい。
 中でも、除去性の観点から、本発明の人工爪組成物により形成した少なくとも1層が爪と接している層であることが好ましい。
 また、本発明の人工爪における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、10~2,000μmであることが好ましく、20~1,500μmであることがより好ましく、20~1,000μmが更に好ましい。
(人工爪の形成方法)
 本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物を用いて人工爪を形成する方法であれば、特に制限はないが、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、上記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、を含む方法であることが好ましい。
 本発明の人工爪組成物を人工爪として形成するには、乾燥又は露光のいずれかの形成方法を好適に選択することができる。
 また、本発明の人工爪組成物は、(成分B)重合性化合物、及び、(成分C)光重合開始剤を少なくとも含むか、又は、(成分D)溶剤を少なくとも含むことが好ましい。
 また、本発明の人工爪の形成方法における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、10~2,000μmであることが好ましく、20~1,500μmであることがより好ましく、20~1,000μmが更に好ましい。
<塗布工程>
 本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程(塗布工程)を含むことが好ましい。
 他の人工爪は、人工爪に用いられる基材であれば、特に制限はなく、例えば、樹脂基材、本発明の人工爪の形成方法以外の方法により形成された人工爪、又は、本発明の人工爪の形成方法により得られた人工爪が挙げられる。
 塗布方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法が好ましく挙げられる。また、スプレー塗布やインクジェット塗布を行ってもよい。
 塗布膜の厚さについても、特に制限はなく、得られる人工爪における所望の厚さを考慮して、塗布厚を適宜調整すればよい。
<乾燥又は露光工程>
 本発明の人工爪の形成方法は、上記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程(乾燥又は露光工程)を含むことが好ましい。
-乾燥工程-
 乾燥により人工爪を形成する場合、使用する本発明の人工爪組成物は、(成分D)溶剤を含有していることが好ましい。
 乾燥方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよい。
 具体的には、例えば、室温(例えば、10~30℃)にて放置乾燥する方法、気流下において放置乾燥する方法、加熱乾燥する方法、及び、これらを組み合わせた方法が好ましく挙げられる。加熱方法としては、特に制限はないが、室温より高い温度の雰囲気下に放置する方法、加熱気流下に放置する方法、ヒーターや赤外線ランプ(IRランプ)等の加熱手段により加熱する方法が例示できる。
 乾燥時間としては、特に制限はなく、人工爪組成物の組成や、乾燥方法、塗布厚によって適宜調整すればよいが、簡便性及びセルフレベリングによる平滑性や光沢性付与の観点から、10秒~20分であることが好ましく、15秒~10分であることがより好ましく、30秒~5分であることが更に好ましく、30秒~2分であることが特に好ましい。
-露光工程-
 露光により人工爪を形成する場合、使用する本発明の人工爪組成物は、(成分B)重合性化合物、及び、(成分C)光重合開始剤を含有していることが好ましい。
 また、本発明の人工爪組成物が、成分B及び成分Cに加え、(成分D)溶剤を含有している場合、露光を行う前に、乾燥を行うことが好ましい。
 露光に使用する光としては、特に制限はなく、紫外線、可視光線などが挙げられる。
 露光手段としては、特に制限はなく、公知の露光手段を用いることができるが、例えば、水銀ランプ及びメタルハライドランプ等の紫外線ランプ(UVランプ)、発光ダイオード(LED)、レーザーダイオード(LD)等が挙げられる。
 露光時間としては、特に制限はないが、2秒~5分が好ましく、5秒~3分がより好ましく、5秒~2分が更に好ましい。また、露光は、間歇的に行っても、連続的に行ってもよいし、パルス光により行ってもよく、任意の方法で露光すればよい。
 本発明の人工爪の形成方法は、得られる人工爪の光沢や美観、また、露光を行った場合は未硬化成分の除去の観点から、乾燥又は露光工程の後、得られた人工爪の表面を洗浄又は拭き取る工程を含んでいてもよい。
 洗浄又は拭き取り方法としては、エタノール等の溶剤を含ませたワイプシートやスポンジワイプ等の拭き取り基材により拭き取る方法、エタノール等の溶剤や水により洗浄する方法が例示できる。
 また、洗浄又は拭き取りに使用する溶剤としては、得られた人工爪を溶解しない溶剤であることが好ましい。
 また、本発明の人工爪の形成方法は、露光を行う場合、塗布工程の前に、ヒト若しくは動物の爪、又は、他の人工爪の表面を粗面化する工程を含むことが好ましい。上記態様であると、露光にして得られる人工爪(ジェルネイル)の密着性及び耐久性に優れる。
 爪表面の粗面化方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。例えば、ファイル等の爪用やすりにより粗面化を行う方法が好ましく挙げられる。
 また、本発明の人工爪の形成方法は、その他、公知の工程を含んでいてもよい。
(人工爪の除去方法)
 本発明の人工爪の除去方法は、本発明の人工爪を除去液に接触させて除去する工程(除去工程)を含む。
 上記除去液は、pH5.0以下の酸性水溶液であることが好ましい。
 本発明の人工爪組成物は、従来の除去液であるアセトン等の有機溶媒でも除去可能であるが、pH5.0以下の酸性水溶液によって、より安全に皮膚・爪に負担を与えずに除去することが可能である。本発明で好適に用いられる除去液は、酸性にするための有機・無機酸成分、水、任意に安定剤、任意に界面活性剤からなることが好ましい。以下に好ましい除去液の態様について記載する。
<有機・無機酸成分>
 上記除去液には、水溶液を酸性にするためには公知の無機酸(リン酸、塩酸等)や有機酸を使用することができる。除去液に使用する酸成分としては、一般に食品や食品添加物に含まれている有機酸を用いることが好ましい。好ましい有機酸としてはクエン酸、グルコン酸、乳酸、リンゴ酸、アミノ酸類(アスパラギン酸、グルタミン酸等)、炭酸などが挙げられる。
<水、及び、pH>
 上記除去液に使用する水は、特に制限はなく、水道水、蒸留水、イオン交換水等を用いることができる。
 除去液中の水の含有量は、特に制限はないが、除去液の全質量に対し、50~99.5質量%であることが好ましく、70~99質量%であることがより好ましく、90~99質量%であることが更に好ましい。
 また、除去液は、コストや運搬性、保管性の観点から、濃縮液としてもよく、使用する際に当該濃縮液を水等により希釈して除去液とする実施形態であってもよい。
 除去液のpHは、本発明の人工爪に含まれるアミノ基を有するポリマーをイオン化する能力、すなわち除去性の観点から、5.0以下であることが好ましく、4.0以下であることがより好ましく、3.0以下であることが更に好ましい。また、除去液のpHは、皮膚・爪への安全性の観点から、1.0以上であることが好ましく、2.0以上であることがより好ましい。
 また、pHが経時や液の希釈・濃縮などによる外部因子によって変動を起こさないようにするため、酸塩を添加して緩衝液にすることが好ましい。緩衝液にするためには、上記の酸の塩、好ましくはナトリウム塩(クエン酸ナトリウム、グルコン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、リン酸二ナトリウム)を、酸と共存する方法が挙げられるが、特に限定されるものではない。
<安定剤>
 本発明に用いられる除去液は、任意に安定剤を含有していてもよい。安定剤の添加によって、経時による液の着色、腐食・カビの発生などを抑えることができる。安定剤は特に限定されず、公知の工業用防腐剤、食品防腐剤、医薬品防腐剤、酸化防止剤・光安定剤等を使用することができる。
 中でも、安定剤としては、パラオキシ安息香酸エステル化合物が好ましい。
 安定剤の添加量としては、特に制限はなく、除去液の全質量に対し、0.001~10質量%であることが好ましく、0.005~5質量%であることがより好ましく、0.01~2質量%であることが更に好ましい。
 除去液は、安全性を損なわない程度に加温して使用することが、除去速度を早める観点で好ましい。加温は30℃~45℃が好ましく、35℃~45℃がより好ましく、40℃~45℃が特に好ましい。また、人工爪を除去液に浸漬する場合には、浸漬する液を撹拌してもよい。
 本発明の人工爪は、従来のアセトン等の有機溶剤の代わりに、pH5.0以下の酸性水溶液に接触させることで簡便に除去することができる。
 接触の方法は、特に限定されるものではなく、人工爪を直接除去液に浸漬してもよく、除去液を湿らせたコットン等で人工爪を包んでもよく、噴霧器やシャワーによって吹き付けてもよい。ただし、これら例示に限定されるものではない。
 また、本発明の人工爪の除去方法は、人工爪表面及び/又は先端を本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れるように傷をつける工程を含むことが好ましい。
 傷を付ける方法としては、特に制限はないが、ファイル等の爪用やすりを好適に用いることができる。
 除去方法の好ましい具体例を以下に示す。すなわち、任意に人工爪表面及び/又は先端を爪用やすりで擦って本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れる程度に粗めに傷をつけた後、pH5.0以下の酸性水溶液に浸漬し、1~5分程度そのまま放置して人工爪の溶解性を変化させた後に人工爪を布若しくは不織布などにより拭き取り、又は、へら状若しくはスティック状の器具による押し剥がしによって指先や爪に負担をかけることなく、極めて容易且つ安全に剥がすことができる。
 なお、上記方法において浸漬しながら、拭き取り、押し剥がしをすることも可能であり、より早く除去することが可能になる。また、超音波や振動などを与えることで拭き取り・剥離を促進してもよい。
 また、本発明の人工爪の除去方法は、その他、公知の工程を含んでいてもよい。
(ネイルアートキット)
 本発明のネイルアートキットは、本発明の人工爪組成物と、除去液と、を含み、上記除去液が、pH5.0以下の酸性水溶液であることが好ましい。
 本発明のネイルアートキットにおける本発明の人工爪組成物及び除去液の好ましい態様は、上述したものと同様である。
 また、本発明のネイルアートキットは、上記人工爪組成物及び除去液以外に、任意の品を含んでいてもよい。
 例えば、カラー用又はトップ用等の本発明の人工爪組成物以外の人工爪組成物、ファイル等の爪用やすり、人工爪組成物を塗布するための平筆等の筆や刷毛、UVライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されない。
 以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例における形態に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、及び「%」は質量基準である。
 また、実施例に記載のA-1~A-114は、上述したA-1~A-114と同じポリマーである。
<合成例1>
 1,000mlの3口フラスコに還流管を付け、メチルエチルケトン300gを入れ、窒素気流下で65℃を維持した。次にジメチルアミノエチルメタクリレート78.5g(和光純薬工業(株)製)、n-ブチルメタクリレート71g(和光純薬工業(株)製)、ジメチル2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)4.6g(和光純薬工業(株)製)、メチルエチルケトン400gの混合液を3時間かけて滴下した。滴下終了後にジメチル2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)4.6g(和光純薬工業(株)製)を添加し、更に70℃で2時間加熱した。得られた反応液を減圧留去することで80質量%のA-19の溶液を得た。ゲルパーミネーションクロマトグラフィーで測定したA-19の重量平均分子量は32,000であった。
<合成例2>
 1,000mlの3口フラスコに還流管と塩化カルシウム管を付け、メチルエチルケトン300gと、3-(ジメチルアミノ)-1,2-プロパンジオール84g(東京化成工業(株)製)、ヘキサメチレンジイソシアネート60g(東京化成工業(株)製)を窒素気流下で60℃を維持した。その後、無機ビスマス触媒ネオスタンU-600(日東化成(株)製)を0.8g加え、60℃を維持しながら5時間加熱した。得られた反応液を、ヘキサン4,000mlに撹拌しながら滴下し、吸引ろ過の後、減圧乾燥することで白色固体としてA-33を得た。ゲルパーミネーションクロマトグラフィーで測定したA-33の重量平均分子量は22,000であった。
<合成例3>
 原料及びその使用量、並びに、重合開始剤の使用量を適宜変更した以外は、合成例1と同様な方法により、A-1~A-18及びA-20~A-31をそれぞれ得た。
<合成例4>
 原料及びその使用量、並びに、触媒の使用量を適宜を変更した以外は、合成例2と同様な方法により、A-32及びA-34~A-114をそれぞれ得た。
〔人工爪組成物の調製〕
 下記表13~表16に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物J-1~J-34、H-1~H-6を得た。なお、表13~表15に記載の各組成物は、ラジカル光硬化用人工爪組成物であり、表16に記載の各組成物は、乾燥用人工爪組成物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000029
 表13~表16に記載した略記は、以下の通りである。
 また、溶剤であるメチルエチルケトン(沸点80℃)、イソプロパノール(沸点82.4℃)、酢酸ブチル(沸点126℃)及びMFG(プロピレングリコールモノメチルエーテル、沸点120℃)は、いずれも東京化成工業(株)製のものを使用した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 なお、B-101及びB-105~B-108はそれぞれ、東京化成工業(株)製のものを使用し、B-102は、和光純薬工業(株)製のものを使用し、B-104は、共栄社化学(株)製ライトエステルHPO(N)を使用し、B-109は、シグマアルドリッチ社製のものを使用した。
 また、B-103は、対応するジイソシアネート化合物1モル当量に2-ヒドロキシエチルメタクリレートを2モル当量反応させ、合成したものを使用した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 なお、B-201は、BASFジャパン(株)製IRGACURE 184であり、B-202は、BASFジャパン(株)製IRGACURE 784であり、また、B-203は、ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド(和光純薬工業(株)製)である。
〔除去液の調製〕
 下記表17に示す各種成分を均一に混合し、除去液E-1~E-6を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
 *:除去液E-4及びE-5はそれぞれ、表17に記載の有機・無機酸成分と水道水とを合わせてpH2.6となるようにして調製した。
 除去液に使用した各試薬の詳細は、以下の通りである。
 クエン酸(東京化成工業(株)製)
 クエン酸三ナトリウム二水和物(和光純薬工業(株)製)
 グリコール酸(東京化成工業(株)製)
 リン酸(和光純薬工業(株)製)
 パラオキシ安息香酸ベンジル(東京化成工業(株)製)
 ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン(花王(株)製アンヒトール20BS)
〔人工爪の形成〕
<形成例1>
 得られた人工爪組成物一定量を爪状に型取りしたプラスチック基材上に刷毛を使って塗布し、紫外線ランプ(36W)を2分間照射した。その後エタノールで表面を洗浄した後、形成した人工爪を目視で観察したところ、完全に固化していた。この時の人工爪の膜厚を測定した結果、約100μm(±10μm)であった。
<形成例2>
 形成例1と同様に形成した膜厚約100μm(±10μm)の人工爪上に、カラー層として市販のカルジェル#CG-03 フレッシュピンク(モガブルック社製)を刷毛で塗布・紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。未硬化分をエタノールにより拭き取った後、トップ層として市販のトップジェル(モガブルック社製)を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。形成した人工爪を目視で観察したところ、完全に固化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚は約1,000μmであった。
<形成例3>
 得られた人工爪組成物一定量を爪状に型取りしたプラスチック基材上に刷毛を用いて塗布し、塗布後1分間自然乾燥させた。その後、エタノールで表面を洗浄した後、人工爪を目視で観察したところ、完全に固化していた。この時の膜厚を測定した結果、約100μm(±10μm)であった。
<形成例4>
 形成例3と同様に形成した膜厚約100μm(±10μm)の人工爪上に、カラー層として市販のカルジェル#CG-03 フレッシュピンク(モガブルック社製)を刷毛で塗布・紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。未硬化分をエタノールにより拭き取った後、トップ層として市販のトップジェル(モガブルック社製)を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。形成した人工爪を目視で観察したところ、完全に固化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚は約1,000μmであった。
〔人工爪の評価〕
<光沢>
 形成後の人工爪の光沢を、蛍光灯点灯下において、下記評価基準で目視評価した。
-評価基準-
  A:爪表面に蛍光灯が写り込み、像が鮮明に認識できる。
  B:爪表面に蛍光灯が写り込み、像がやや鮮明に認識できる。
  C:爪表面に蛍光灯が写りこむが、像が鮮明に認識できない。
  D:爪表面に蛍光灯が写りこまない。
<除去性-1>
 得られた人工爪に対して、40℃の後述する表に記載の除去液に15秒浸漬し、当該除去液を浸漬させたキッチンペーパーを用いて20回拭き取りを行う。この浸漬-拭き取りの操作を10回繰り返し後に残存している人工爪の膜厚(μm)を評価した。
<除去性-2>
 得られた人工爪の表面及び先端に対してファイル(爪用のヤスリ)で傷をつける。その後、40℃の後述する表に記載の除去液に2分浸漬し、2分経過後に浸漬中で木製のスパチュラを用いて剥離施術を行い、基材からの除去しやすさを下記評価基準により評価した。
-評価基準-
  A:容易に除去が可能であった。
  B:除去が可能であった。
  C:除去が可能であったが、若干の残膜が残り除去液を使用して拭き取った。
  D:除去不可であった。
<密着性-1>
 得られた人工爪の最上層をHB硬度の鉛筆で一定の荷重をかけて引き、剥離の発生有無と引っかき傷の有無とを下記評価基準により評価した。
-評価基準-
  A:傷・剥離とも発生しなかった。
  B:剥離は発生しなかったが、若干の傷が発生した。
  C:剥離は発生しなかったが、傷が発生した。
  D:剥離が発生した。
<耐水性-1>
 得られた人工爪を、45℃の水道水(pH6.4)に入れ、200rpmで5時間撹拌した。撹拌後に取り出し、人工爪の表面状態を目視観察し、下記評価基準により評価した。
  A:傷・剥離とも発生しなかった。
  B:剥離は発生しなかったが、若干の傷が発生した。
  C:剥離は発生しなかったが、傷が発生した。
  D:剥離が発生した。
<経時した人工爪組成物を使用した評価>
 人工爪組成物を、褐色瓶に詰めた後に40℃の恒温室に5日間保管した。保管後、前述した方法と同様の方法で人工爪を形成し、除去性、密着性、耐水性、及び、光沢の評価を行った。
(実施例1~24、及び、比較例1~7)
<ラジカル硬化で形成した人工爪の評価>
 形成例1で作製した人工爪に対し、光沢、除去性-1、密着性-1及び耐水性-1の評価を行い、また、経時後の人工爪組成物を使用して同様の評価を行った。結果を表18に示す。また、除去液を種々変更して除去性-1を評価した結果を表19に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
 表18及び表19の結果から、本発明の人工爪組成物より得られた人工爪は、露光により硬化しても、酸水溶液で簡易に除去可能であり、また、高い密着性も維持できていることがわかる。また、本発明の人工爪組成物は、経時後であっても性能の低下が少ないことがわかる。
(実施例25~29、及び、比較例8~10)
<ラジカル硬化で形成し、上層を設けた人工爪の評価>
 形成例2で作製した人工爪に対し、光沢、除去性-2、密着性-1及び耐水性-1の評価を行い、また、経時後の人工爪組成物を使用して同様の評価を行った。結果を表20に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
 表20の結果から、本発明の人工爪組成物は、露光により硬化し、本発明の人工爪組成物をラジカル硬化した人工爪は、更に上層を有していても、酸水溶液で簡易に押し剥離が可能であり、また、高い密着性も維持できていることがわかる。経時後であっても性能の低下が少ないことがわかる。
(実施例30~40、並びに、比較例11及び12)
<乾燥で形成した人工爪の評価>
 形成例3で作製した人工爪に対し、光沢、除去性-1、密着性-1及び耐水性-1の評価を行い、また、経時後の人工爪組成物を使用して同様の評価を行った。結果を表21に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
 表21の結果から、本発明の人工爪組成物を乾燥硬化した人工爪は、酸水溶液で簡易に除去可能であり、また高い密着性も維持できていることがわかる。経時後であっても性能の低下が少ないことがわかる。
(実施例41及び42、並びに、比較例13及び14)
<乾燥で形成し、上層を設けた人工爪の評価>
 形成例4で作製した人工爪に対し、光沢、除去性-2、密着性-1及び耐水性-1の評価を行い、また、経時後の人工爪組成物を使用して同様の評価を行った。結果を表22に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000039
 表22の結果から、本発明の人工爪組成物を乾燥硬化した人工爪は、上層を有していても、酸水溶液で簡易に押し剥離が可能であり、また、高い密着性も維持できていることがわかる。経時後であっても性能の低下が少ないことがわかる。
〔人工爪組成物の調製〕
 下記表23~表26に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物J-35~J-70、H-7~H-10を得た。なお、表23~表26に記載の各組成物は、ラジカル光硬化用人工爪組成物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000043
 表23~表26に記載した上述した以外の略記は、以下の通りである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
・B-114:ポリウレタンメタクリレート化合物(日本合成化学(株)製:UV-3310B)
・B-115:ポリウレタンメタクリレート化合物(日本合成化学(株)製:UV-3300B)
 なお、B-110は日油(株)製のブレンマーPE90、B-111は日油(株)製のブレンマーPME100、B-112及びB-113はいずれも東京化成工業(株)製のものを使用した。
(実施例43~78、及び、比較例15~18)
<ラジカル硬化で形成し、上層を設けた人工爪の評価>
 形成例2で作製した人工爪に対し、光沢、除去性-2、密着性-1及び耐水性-1の評価を行い、また、経時後の人工爪組成物を使用して同様の評価を行った。結果を表27に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000045
 表27の結果から、本発明の人工爪組成物は、露光により硬化し、本発明の人工爪組成物をラジカル硬化した人工爪は、更に上層を有していても、酸水溶液で簡易に押し剥離が可能であり、また、高い密着性も維持できていることがわかる。経時後であっても性能の低下が少ないことがわかる。
(実施例79~92、及び、比較例19~22)
<ラジカル硬化で形成した人工爪の評価>
 形成例1で作製した人工爪に対し、光沢、除去性-1、密着性-1及び耐水性-1の評価を行い、また、経時後の人工爪組成物を使用して同様の評価を行った。結果を表28に示す。また、除去液を種々変更して除去性-1を評価した結果を表29に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
 表28及び表29の結果から、本発明の人工爪組成物より得られた人工爪は、露光により硬化しても、酸水溶液で簡易に除去可能であり、また、高い密着性も維持できていることがわかる。また、本発明の人工爪組成物は、経時後であっても性能の低下が少ないことがわかる。
〔人工爪組成物の調製〕
 下記表30~表32に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物J-71~J-94、H-11~H-14を得た。なお、表30~表32に記載の各組成物は、ラジカル光硬化用人工爪組成物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
 表30~表32に記載した上述した以外の略記は、以下の通りである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 なお、B-116、B-117はいずれも東京化成工業(株)製のものを使用した。
〔人工爪の評価〕
<密着性-2>
 得られた人工爪に対してJIS K 5600-5-6記載の付着性(クロスカット法)にて密着性を評価した。試験結果の分類は剥離(はがれ)が生じたクロスカット部分の表面の状態から、JIS K 5600-5-6の通り下記分類とした。
-評価基準-
  0:カットの縁が完全に滑らかで、どの格子の目にもはがれがない。
  1:カットの交差点における塗膜の小さなはがれが見られる。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に5%を上回ることはない。
  2:塗膜がカットの縁に沿って、及び/又は、交差点においてはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは明確に5%を超えるが15%を上回ることはない。
  3:塗膜がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大はがれを生じており、及び/又は、目のいろいろな部分が、部分的又は全面的にはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に15%を超えるが35%を上回ることはない。
  4:塗膜がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大はがれを生じており、及び/又は、数か所の目が部分的又は全面的にはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に35%を上回ることはない。
  5:上記分類4でも分類できないはがれ程度のいずれかである。
<耐水性-2>
 得られた人工爪を、55℃の水道水(pH6.4)に入れ、200rpmで5時間撹拌した。撹拌後に取り出し、人工爪の表面状態を目視観察し、下記評価基準により評価した。
  A:剥離が発生しなかった。
  B:剥離は発生しなかったが、先端部に若干の浮きが見られた。
  C:若干の剥離が発生した。
  D:剥離が発生した。
(実施例93~129、及び、比較例23~30)
<ラジカル硬化で形成し、上層を設けた人工爪の評価>
 形成例2で作製した人工爪に対し、除去性-2、密着性-2及び耐水性-2の評価を行い、また、経時後の人工爪を使用して同様の評価を行った。結果を表33及び表34に示す。なお、人工爪の経時は、25℃~35℃、30~50%RHの環境下に静置保管することで行った。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000053
 表33及び表34の結果から、本発明の人工爪組成物より得られた人工爪は、露光により硬化しても、酸水溶液で簡易に除去可能であり、また、高い密着性も維持できていることがわかる。また、本発明の人工爪は、形成後から時間がたっても性能の低下が少ないことがわかる。

Claims (16)

  1.  (成分A)アミノ基を有するポリマーを含有することを特徴とする
     人工爪組成物。
  2.  成分Aが、アミノ基を側鎖に有するポリマーである、請求項1に記載の人工爪組成物。
  3.  前記アミノ基が、第二級アミノ基及び/又は第三級アミノ基である、請求項1又は2に記載の人工爪組成物。
  4.  前記アミノ基が、第三級アミノ基である、請求項1~3のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
  5.  成分Aが、下記式(I)で表される構造を側鎖に有するポリマーである、請求項1~4のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     式(I)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表し、R1、R2及びL1よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよく、L1は炭素数1~20のアルキレン基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
  6.  R1及びR2がそれぞれ独立に、炭素数1~4のアルキル基である、請求項5に記載の人工爪組成物。
  7.  成分Aが、ウレタン系ポリマーである、請求項1~6のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
  8.  成分Aが、ポリカーボネート構造又はポリエステル構造を有するウレタン系ポリマーである、請求項7に記載の人工爪組成物。
  9.  成分Aが、ポリカーボネート構造を有するウレタン系ポリマーである、請求項8に記載の人工爪組成物。
  10.  成分Aが、下記式(II)で表されるモノマー単位を有するポリマーである、請求項1~6のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     式(II)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表し、R1、R2及びL1よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよく、L1は炭素数1~20のアルキレン基を表し、R3は水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、Xは酸素原子又はNH基を表す。
  11.  成分Aが、前記式(II)で表されるモノマー単位と、前記式(II)で表されるモノマー単位以外の、スチレン化合物及び(メタ)アクリレート化合物よりなる群から選ばれた化合物由来のモノマー単位とを有する共重合体である、請求項10に記載の人工爪組成物。
  12.  成分Aが、下記式(III)で表されるモノマー単位を有するポリマーである、請求項1~9のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     式(III)中、R4及びR5はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表し、R4、R5及びL3よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよく、L2は3価の連結基を表し、L3は炭素数1~20のアルキレン基を表す。
  13.  (成分B)重合性化合物、及び、(成分C)光重合開始剤を更に含有する、請求項1~12のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
  14.  請求項1~13のいずれか1項に記載の人工爪組成物を乾燥及び/又は露光して形成された層を有する人工爪。
  15.  請求項1~13のいずれか1項に記載の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、
     前記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、を含む
     人工爪の形成方法。
  16.  請求項1~13のいずれか1項に記載の人工爪組成物と、
     除去液と、を含む
     ネイルアートキット。
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