WO2016152546A1 - 人工爪組成物、人工爪、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキット - Google Patents

Abstract

　本発明の目的は、密着性、耐久性、及び、硬化性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキットを提供することである。　本発明の人工爪組成物は、成分Ａとしてポリマーを含有し、上記成分Ａのゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定される分子量分布において、分子量１，０００以下の成分の面積が、全面積の５％以下であることを特徴とする。成分Ａはポリウレタンであることが好ましい。また、本発明の人工爪組成物は、成分Ｂとして、重合性モノマー、及び、成分Ｃとして、重合開始剤、を更に含むことが好ましい。

Description

人工爪組成物、人工爪、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキット

　本発明は、人工爪組成物、人工爪、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキットに関する。

　近年、ポリマー、重合性モノマー及び光重合開始剤等を含むジェル状の人工爪組成物を爪に塗布した後、紫外線を照射して硬化させた人工爪と呼ばれる爪装飾が、従来のマニキュアやネイルポリッシュと比較して硬化までの時間が短い、美観に優れる、長持ちする等の理由から注目を集めている。しかしながら、爪装飾が欠ける、割れる、剥離する等で美観が損なわれるまでの期間が、施術される側の爪の状態及び生活環境、ネイリストの施術技術によっては短くなる場合があるため、より高い密着性、耐久性、及び、硬化性を有する人工爪組成物が望まれている。
　従来の人工爪組成物としては、特許文献１、２及び３に記載のものが知られている。

特開２００２－３２２０３４号公報 特表２００２－５０５９１５号公報 特開２０１１－２２９７２５号公報

　本発明が解決しようとする課題は、密着性、耐久性、及び、硬化性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキットを提供することである。

　本発明の上記課題は、以下の＜１＞又は＜１０＞～＜１２＞に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である＜２＞～＜９＞と共に以下に記載する。
　＜１＞　成分Ａとしてポリマーを含有し、上記成分Ａのゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定される分子量分布において、分子量１，０００以下の成分の面積が、全面積の５％以下であることを特徴とする、人工爪組成物、
　＜２＞　成分Ａがポリウレタンである、＜１＞に記載の人工爪組成物、
　＜３＞　成分Ａがエチレン性不飽和基を有するポリマーである、＜１＞又は＜２＞に記載の人工爪組成物、
　＜４＞　成分Ａが側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリマーである、＜３＞に記載の人工爪組成物、
　＜５＞　成分Ａの単位質量当たりのエチレン性不飽和基数が０．３ｍｍｏｌ／ｇ以上である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物、
　＜６＞　成分Ａがポリエーテル骨格を有するポリウレタンである、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物、
　＜７＞　成分Ａ以外に、成分Ｂとして、重合性モノマー、及び、成分Ｃとして、重合開始剤、を更に含む、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物、
　＜８＞　成分Ａがアミノ基を有するポリマーである、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物、
　＜９＞　成分Ａが第３級のアミノ基を有するポリマーである、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物、
　＜１０＞　＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物からなる人工爪、
　＜１１＞　＜１０＞に記載の人工爪と酸性水溶液とを接触させる工程を含む、人工爪の除去方法、
　＜１２＞　＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物と、除去液とを含む、ネイルアートキット。

　本発明によれば、密着性、耐久性、及び、硬化性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキットを提供することができる。

ＧＰＣにおける保持時間と、ピーク強度（最高値を１で規格化した。）の関係を示す一例である。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　なお、本明細書中、「ｘｘ～ｙｙ」の記載は、ｘｘ及びｙｙを含む数値範囲を表す。また、「ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される分子量分布において、分子量１，０００以下の成分の面積が、全面積の５％以下であるポリマー」等を単に「成分Ａ」等ともいう。
　また、本発明において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
　また、本発明において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　本明細書中、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式の説明において、「Ｒはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基を表す」との記載があれば、「Ｒは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、無置換アリール基又は置換アリール基を表す」ことを意味する。また、本明細書中、（メタ）アクリルは、アクリルとメタクリルとを共に含む概念を表し、（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド等についても同様である。
　また、本明細書におけるポリマーには、コポリマーを含むものとする。

　本発明において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定される。ＧＰＣは、ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ３０００、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー（株）製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を１本ずつ用い、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる。また、条件としては、試料濃度を０．１質量％、流速を０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、測定温度を４０℃とし、屈折率検出器（ＲＩ）を用いて行う。
　また、検量線は、東ソー（株）製、「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ、ｐｏｌｙｓｔｒｅｎｅ」、「Ｆ－４０」、「Ｆ－２０」、「Ｆ－１０」、「Ｆ－４」、「Ｆ－２」、「Ｆ－１」、「Ａ－５０００」、「Ａ－２５００」、「Ａ－５００」の９サンプルから作製する。

（人工爪組成物）
　本発明の人工爪組成物は、成分Ａとしてポリマーを含有し、成分Ａのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される分子量分布において、分子量１，０００以下の成分の面積が、全面積の５％以下であることを特徴とする。
　また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪である。

　本発明者は詳細な検討を行った結果、成分Ａを含有することにより、本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪は、密着性、耐久性に優れ、更に、硬化性も向上することを見出した。
　これら効果が発現する機構は不明であるが、一部は以下のように推定される。
　成分Ａを使用することにより、（１）硬化膜の架橋点間距離がより均一になり、外力がかかった時の応力集中が抑制され、膜強度が向上した、（２）低分子多官能体が減少することで硬化収縮が減少し、硬化時の歪みが抑制された、（３）低分子量の硬化物が減少した、ことが、選択的又は相加的に影響している推定している。

　本発明の人工爪組成物は、ヒト又は動物の爪上、又は、他の人工爪上に乾燥及び／又は露光によって硬化し、人工爪を形成する組成物である。また、本発明の人工爪組成物により形成された人工爪は、従来の有機溶剤を用いた除去方法によって除去することも可能であるが、成分Ａがアミノ基を有する場合は酸性水溶液によっても容易に除去することが可能である。
　本発明における人工爪とは、ヒト又は動物の爪上に、美装及び／又は保護を目的に形成される層を指す。また、例えば、上記他の人工爪としては、爪の美装及び／又は保護を目的とする任意の形状の樹脂基材等が挙げられる。
　なお、「ヒト及び動物の爪、並びに、他の人工爪」を、単に「爪」ともいう。

　上記人工爪の形状は、特に制限はなく、所望の形状に形成すればよい。例えば、爪の表面を被覆するように形成してもよいし、爪の一部のみに形成してもよいし、ネイルフォーム等を使用し爪の延長のため、爪よりも大きな形状に形成してもよい。
　また、本発明の人工爪組成物は、塗布により厚みを制御することができる。厚みとしては、一般に人工爪がとりうる範囲であれば、特に制限されるものではないが、密着性、耐久性及び除去性の観点から、１０～２，０００μｍの範囲であることが好ましい。

　人工爪の構成は、一例として、爪から近い順に、プライマー層（ベース層のみで爪との密着力が不足する場合、密着力を向上させるための爪とベース層の間の層）、ベース層（密着力を向上させ、爪への色移りを防止するための爪とカラー層の間の層）、カラー層（色材を含む層）、トップ層（耐久性、光沢、美観を向上させるための最も外側の層）等のいずれか１つ以上を含む層構造であることが一般的であるが、本発明の人工爪組成物は、プライマー層、ベース層、カラー層、及び／又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
　中でも、密着性、耐久性及び除去性の観点から、本発明の人工爪組成物により形成した層が爪と接していることが好ましい。
　また、本発明の人工爪組成物によって形成した人工爪層の上層（人工爪層を基準とした時に爪と反対側の面）又は下層（人工爪層と爪との間の面）に、別途、色、ツヤ及び密着を出す目的で、プライマー層、ベース層、カラー層、及び／又は、トップ層を有していてもよい。

　本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物（「ジェルネイル用人工爪組成物」）としても、マニキュア液用人工爪組成物としても好適に用いることができるが、密着性、耐久性の観点から、光硬化性人工爪組成物として特に好適に使用することできる。
　上記光硬化性人工爪組成物は、活性光線により硬化可能な人工爪組成物である。「活性光線」とは、その照射により人工爪組成物中に開始種を発生させるエネルギーを付与できる放射線であり、紫外線、可視光線などを包含する。
　以下に、本発明の人工爪組成物に使用することができる各種成分について説明する。

成分Ａ：ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される分子量分布において、分子量１，０００以下の成分の面積が、全面積の５％以下であるポリマー
　本発明の人工爪組成物は、成分Ａとしてポリマーを含み、かつ、上記ポリマーはゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される分子量分布において、分子量１，０００以下の成分の面積が、全面積の５％以下である。分子量１，０００以下の成分の面積が、全面積の５％以下であると、密着性、耐久性、及び、硬化性に優れる人工爪組成物が得られる。
　分子量１，０００以下の成分の面積は、全面積の３％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましく、０．５％以下であることが更に好ましく、検出限界以下であることが特に好ましい。
　なお、人工爪組成物が２種以上のポリマーを含有する場合、本発明の人工爪組成物は、全ポリマー成分でＧＰＣにより分子量分布を測定した際に、分子量１，０００以下の成分の面積が全ポリマー成分の全面積の５％以下である。

　分子量１，０００以下の成分の面積パーセントは以下の方法を用いて算出する。濃度０．１質量％の成分Ａのテトラヒドロフラン溶液を調製し、４０℃において、ＧＰＣによりその分子量を測定し、成分Ａ全体のピーク面積Ａｐを求める。次に、分子量１，０００となるＧＰＣ保持時間で面積Ａｐを分割し、上記保持時間以上の面積をＡｌとする。最後に、下記計算式により分子量１，０００以下の成分の面積パーセントを算出する。
　Ａｌ　÷　Ａｐ　×　１００
　なお、ＧＰＣの検出は屈折率検出器（ＲＩ）を用い、展開溶剤（溶離液）にはテトラヒドロフランを使用し、分子量は市販のポリスチレン分子量標準試料を用いた検量線により算出する。ＧＰＣの詳細な測定条件は、上述した通りである。
　成分Ａが合成品又は市販品として単独で入手できる場合は、成分ＡそのものをＧＰＣで測定すればよい。一方、他の成分を含む場合、含まれる化合物及び添加量はＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）、ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）、ＧＣ（ガスクロマトグラフィー）、等の公知の方法を用いることで同定でき、成分Ａは再沈殿、分液等、公知の精製方法で取り出してＧＰＣを測定すればよい。
　なお、図１は、ＧＰＣにおける保持時間と、ピーク強度（最高値を１で規格化した。）の関係を示す一例である。点線は精製前を表し、実線は精製後を表す。図１に示すように、精製により、保持時間がより長い、すなわち、分子量の小さな成分が減少していることが分かる。このように、本発明では、分子量１，０００以下の成分の含有量が少ないポリマー、具体的には、分子量１，０００以下の成分の面積が、全面積の５％以下であるポリマーを使用する。

　分子量が１，０００以下の成分（以下、低分子量成分ともいう。）が５％以下であるポリマーを得る方法としては、以下に限定されないが、例えば、高純度の原料を用いた精密重合により低分子量成分の生成を抑制する方法、公知の方法で合成した後、精製工程を経ることで低分子量成分を除去する方法、などが挙げられる。製造の観点から、公知の方法で合成した後、精製工程を経ることで低分子量成分を除去する方法が好ましい。精製工程としては、公知の方法であれば特に限定されないが、例えば、分液、再沈殿、再結晶、膜分離、カラム分画等が挙げられる。製造の観点から、分液、再沈殿、膜分離による精製方法が好ましく、再沈殿による精製方法がより好ましい。
　なお、分子量が１，０００以下の成分としては、ポリマー合成時、副反応や不純物の影響により重合が途中で停止した化合物が推定される。

　成分Ａの重量平均分子量は、１０，０００以上１，０００，０００以下であることが好ましく、１０，０００以上１００，０００以下であることがより好ましく、１２，０００以上５０，０００以下であることが更に好ましい。上記範囲より低い場合は、硬化後の膜強度が低く、耐久性に劣り、上記範囲より高い場合は、人工爪組成物が高粘度になり、塗布性に劣る。

　成分Ａの構造については、特に制限はなく、任意の構造であればよく、例えば、直鎖状構造、枝分かれ（分岐）構造、星型構造、架橋構造、網状構造などが挙げられる。

　成分Ａにおけるポリマー構造は、特に限定されないが、アクリル系ポリマー、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリウレア、エチレン系ポリマー、アミン系ポリマー等のポリマー構造が挙げられる。
　アクリル系ポリマーとしては、アクリル酸誘導体（例えば、アクリル酸メチル等のアクリル酸エステル、アクリルアミド及びそのＮ－アルキル体、アクリロイルモルホリン等のアクリル酸アミド）、メタクリル酸誘導体（例えば、メタクリル酸メチル等のメタクリル酸エステル、メタクリルアミド及びそのＮ－アルキル体、メタクリル酸イソプロピルアミド等のメタクリル酸アミド）、を重合して得られるポリマーであればいずれも好適に使用することができる。また、ビニル化合物（例えば、ビニル酢酸、塩化ビニル、エチルビニルエーテル、Ｎ－ビニルピロリドン、４－ビニルピリジン、ブタジエン等）、スチレン化合物（例えば、スチレン、α－メチルスチレン、４－アセトキシスチレン等）を共重合していてもよい。ただし、これら例示に限定されるものではない。
　ポリウレタンとしては、ポリイソシアネート化合物とポリオール化合物とを反応させて得られたポリウレタンであればいずれも好適に使用することができる。

　ポリエステルとしては、ポリカルボン酸化合物（例えば、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸等）若しくはそのハロゲン化物（例えば、アジピン酸ジクロリド、セバシン酸ジクロリド等）とポリオール化合物とからなるポリエステル、又は、カプロラクトンの開環重合で得られるポリエステルであればいずれも好適に使用することができる。また、ポリ乳酸等のヒドロキシカルボン酸化合物からなるポリエステルも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
　ポリアミドとしては、ポリカルボン酸化合物とポリアミン化合物（例えば、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、フェニレンジアミン、イソホロンジアミン、ポリプロピレングリコールジアミン等）とからなるポリアミドであればいずれも好適に使用することができる。また、アミノ酸からなるタンパク質であるポリアミノ酸も好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
　ポリエーテルとしては、ポリオール化合物からなるポリエーテル（例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンオキシド等）であればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
　ポリカーボネートとしては、炭酸誘導体（例えば、ホスゲン、炭酸ジメチル、炭酸ジメチル等）とポリオール化合物とからなるポリカーボネートであればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
　ポリウレアとしては、ポリイソシアネート化合物とポリアミン化合物からなるポリウレアであればいずれも好適に使用することができる。ただしこれら例示に限定されるものではない。
　エチレン系ポリマーとしては、ポリブタジエン、ポリイソプレン、並びに、これらの水添ポリマー、変性ポリマー及びブロックポリマー等が例示できる。
　アミン系ポリマーとしては、ポリエチレンイミン、ポリアミンが例示できる。

　成分Ａは、ビニル化合物のみ、又は、スチレン化合物のみを重合したポリマーでもよい。また、ウレタン系ポリマーの骨格中、例えば、ポリエーテル骨格、ポリエステル骨格、ポリカーボネート骨格、ポリウレア骨格等の他の骨格を部分的に含んでいてもよく、エーテル結合、エステル結合、カーボネート結合、ウレア結合を部分的に含んでいてもよく、他のポリマーについても同様である。
　成分Ａは、１種類を単独で使用しても、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。

　成分Ａは、人工爪組成物の密着性、耐久性の観点から、アクリル系ポリマー、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリエーテル、ポリカーボネート又はポリウレアが好ましく、アクリル系ポリマー又はポリウレタンがより好ましく、ポリウレタンが更に好ましい。

　ポリウレタンとしては、ジイソシアネート化合物とジオール化合物から合成した直鎖型ポリウレタン、又は、例えば特表２００９－５２２６０９号公報に記載されているように３官能イソシアネートとポリオール化合物から合成した分岐型ポリウレタンが好ましく、直鎖型ポリウレタンがより好ましい。
　ポリウレタンの原料として用いることができるポリイソシアネート化合物としては、以下に限定されないが、２，４－トリレンジイソシアネート、２，６－トリレンジイソシアネート、２，４－トリレンジイソシアネート二量体、ｐ－キシリレンジイソシアネート、ｍ－キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トチメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ノルボルネンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ジオール１モルとジイソシアネート２モルとの反応生成物、二官能イソシアネートから誘導されるイソシアヌレート型ポリイソシアネートやビウレット型ポリイソシアネートやアダクト型ポリイソシアネートを用いることができる。
　また、ポリオール化合物としては、以下に限定されないが、ブタンジオール、ヘキサンジオール、ドデカンジオール等のアルキレンジオール、ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加体等のビスフェノール誘導体、ジエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンオキシド等のポリエーテルジオール、アジピン酸やイソフタル酸などのジカルボン酸化合物と、エチレングリコール、１，４－ブタンジオールや１，６－ヘキサンジオールなどのジオール化合物とを縮合して得られるポリエステルジオール、カプロラクトンの開環重合で得られるポリカプロラクトンジオール、ポリカーボネートジオール、ポリブタジエンジオール、水添ポリブタジエンジオール、ポリイソプレンジオール、水添ポリイソプレンジオール、両末端カルビノール変性ポリジメチルシロキサンを用いることができる。
　密着性、耐久性の観点から、ポリイソシアネート成分としては、ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４－トリレンジイソシアネート、２，６－トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ｍ－キシリレンジイソシアネート、ｐ－キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートがより好ましい。これら化合物は１種類のみでも複数を組み合わせて使用してもよい。
　密着性、耐久性の観点から、ジオール成分としては、アルキレンジオール、ビスフェノール誘導体、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール、ポリカーボネートジオール、ポリブタジエンジオール、水添ポリブタジエンジオール、ポリイソプレンジオール、又は、水添ポリイソプレンジオールがより好ましく、アルキレンジオール、ビスフェノール誘導体、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール、ポリカーボネートジオール、又は、水添ポリブタジエンジオールが更に好ましく、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、又は、ポリカーボネートジオールが特に好ましい。これら化合物は１種類のみでも複数を組み合わせて使用してもよい。

　成分Ａは、エチレン性不飽和基を有することが好ましい。上記エチレン性不飽和基としては、反応性の観点から、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、及び、（メタ）アクリルアミド基のいずれかであることがより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は、（メタ）アクリルアミド基であることが更に好ましい。エチレン性不飽和基の導入位置は、主鎖末端、側鎖のいずれの箇所でもよいが、高い成分Ａの単位質量当たりのエチレン性不飽和基数を得る観点では、側鎖に有していることが好ましい。
　また、成分Ａの単位質量当たりのエチレン性不飽和基数、すなわち架橋性基価は、０．０５～１．５ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、０．１～１．０ｍｍｏｌ／ｇであることがより好ましく、０．３～０．８ｍｍｏｌ／ｇであることが更に好ましい。架橋性基価は、例えば、以下の方法により測定できる。試料を有機溶剤に溶解し、アルカリ加水分解する。ＨＰＬＣにより生成した（メタ）アクリル酸を定量し、試料１ｇ当たりの（メタ）アクリル酸量を算出し、架橋性基価が算出される。

　ポリウレタンにエチレン性不飽和結合を有する基を導入する方法としては、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物で末端キャップ化する方法、高分子反応により導入する方法、エチレン性不飽和結合を有するポリオール化合物やポリイソシアネート化合物を用いてポリウレタンを合成する方法が好ましく、エチレン性不飽和結合を有する化合物で末端キャップ化する方法、エチレン性不飽和結合を有するポリオール化合物やポリイソシアネート化合物を用いてポリウレタンを合成する方法がより好ましい。

　末端キャップ化で用いるエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、１分子中にイソシアネート基と反応する基及びエチレン性不飽和結合を各々１つ以上有する化合物、又は、１分子中に水酸基と反応する基及びエチレン性不飽和結合を各々１つ以上有する化合物、が挙げられる。
　１分子中にイソシアネート基と反応する基及びエチレン性不飽和結合を各々１つ以上有する化合物としては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール／プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール／テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、グリセリンジ（メタクリレート）、ペンタエリスリトールトリアクリレートを用いることができる。
　１分子中に水酸基と反応する基及びエチレン性不飽和結合を各々１つ以上有する化合物としては、２－イソシアナトエチル（メタ）アクリレートを用いることができる。

　エチレン性不飽和結合を有するポリオール化合物やポリイソシアネート化合物としては、以下に限定されないが、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、アルキレングリコールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、ビスフェノールＡアルキレンオキシド付加物ジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、特開２００７－１８７８３６号公報に記載されている化合物などを用いることができる。

　成分Ａは、アミノ基を有することが好ましい。具体的には、第１級アミノ基、第２級アミノ基、第３級アミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、ピペラジル基、ピリジル基、ピリミジル基が好ましく、第２級アミノ基、第３級アミノ基、ピペリジル基、ピペラジル基、ピリジル基がより好ましく、第３級アミノ基、ピペリジル基、ピペラジル基が更に好ましく、第３級アミノ基が特に好ましい。
　第３級アミノ基の置換基は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが好ましく、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数３～２０のシクロアルキル基又は炭素数６～２０のアリール基であることがより好ましく、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数３～１０のシクロアルキル基又は炭素数６～１０のアリール基であることが更に好ましく、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数５～１０のシクロアルキル基又は炭素数６～１０のアリール基であることが特に好ましく、炭素数１～１０のアルキル基であることが最も好ましい。
　また、成分Ａのアミノ基の導入位置は、側鎖、主鎖骨格、主鎖末端のいずれの箇所でもよい。

　成分Ａのアミン価は、０．００１～８．５ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、０．００３～６．０ｍｍｏｌ／ｇであることがより好ましく、０．００５～４．０ｍｍｏｌ／ｇであることが更に好ましく、０．０１～２．０ｍｍｏｌ／ｇであることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の除去性及び耐水性により優れる。
　アミン価は、以下の公知の方法により測定できる。試料を容器に秤量し、溶剤として酢酸を加えて溶解させ、滴定試薬として０．１Ｎ過塩素酸酢酸溶液を用いて、滴定装置で滴定する。滴定した際に消費される過塩素酸のモル数を、試料（固形分）１ｇ当たりに換算し、アミン価が算出される。

　ポリウレタンにアミノ基を導入する方法としては、アミノ基を含むポリイソシアネート及び／又はポリオールを原料に用いてポリウレタンを合成する方法、アミノ基を有するクエンチ剤を用いて末端キャップ化することでアミノ基を導入する方法、アミノ基を含まないポリウレタンを合成した後、高分子反応によりアミノ基を導入する方法、が挙げられ、アミノ基を含むポリオールを原料に用いてポリウレタンを合成する方法、アミノ基を有するクエンチ剤を用いて末端キャップ化することでアミノ基を導入する方法、が好ましい。
　アミノ基を含むポリオールしては、以下に限定されないが、３－（ジメチルアミノ）－１，２－プロパンジオール、３－（ジエチルアミノ）－１，２－プロパンジオール、Ｎ－メチルジエタノールアミン、Ｎ－エチルジエタノールアミン、Ｎ－ブチルジエタノールアミン、Ｎ－フェニルジエタノールアミン、１，４－ビス（２－ヒドロキシエチル）ピペラジン、ピリジンジメタノール、１－（２－ヒドロキシエチル）－４－（３－ヒドロキシプロピル）ピペリジンが例示される。
　アミノ基を有するクエンチ剤としては、以下に限定されないが、２－（ジメチルアミノ）エタノール、１－ジメチルアミノ－２－プロパノール、３－ジメチルアミノ－１－プロパノール、４－ジメチルアミノ－１－ブタノール、２－（ジメチルアミノ）イソブタノール、３－ジメチルアミノ－２，２－ジメチル－１－プロパノール、６－ジメチルアミノ－１－ヘキサノール、８－ジメチルアミノ－１－オクタノール、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエトキシエタノール、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－トリメチルビス（２－アミノエチル）エーテル、２－（ジエチルアミノ）エタノール、１－ジエチルアミノ－２－プロパノール、３－ジエチルアミノ－１－プロパノール、２－［２－（ジエチルアミノ）エトキシ］エタノール、２－（ジイソプロピルアミノ）エタノール、２－（ジブチルアミノ）エタノール、３－ヒドロキシ－１－メチルピペリジン、４－ヒドロキシ－１－メチルピペリジン、１－エチル－３－ヒドロキシピペリジン、１－ベンジル－４－ヒドロキシピペリジン、４－ヒドロキシ－１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、２－ヒドロキシメチル－１－メチルピペリジン、３－ヒドロキシメチル－１－メチルピペリジン、４－ヒドロキシメチル－１－メチルピペリジン、２－ピリジンメタノール、３－ピリジンメタノール、４－ピリジンメタノール、エチルフェニルエタノールアミン、２－ジメチルアミノエチルアミン、３－（ジメチルアミノ）プロピルアミン、２－ジエチルアミノエチルアミン、３－（ジエチルアミノ）プロピルアミン、１－（２－アミノエチル）ピペリジン、４－アミノ－１－メチルピペリジン、１－（３－アミノプロピル）－２－メチルピペリジン、４－アミノ－１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン、４－アミノ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、２－ピコリルアミン、３－ピコリルアミン、４－ピコリルアミンが例示される。

　本発明の人工爪組成物における成分Ａの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、１０～９０質量％であることが好ましく、２０～８０質量％であることが更に好ましく、３０～７０質量％であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の密着性、耐久性により優れる。

　以下に、成分Ａの具体例を示すが、この具体例に限定されるものではない。
　成分Ａとしては、表１に記載の原料から合成、かつ、記載のクエンチ剤で末端キャップ化したポリマーが好ましい。また、原料の下の数字は仕込みモル比を表す。略記は下記の化合物を表す。トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、水素化ビスフェノールＡ（ＨＢＰＡ）、ポリテトラメチレンオキシド平均分子量２，０００（ＰＴＭＧ２０００）、メタノール（ＭｅＯＨ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）、３－ジメチルアミノ－１，２－プロパンジオール（ＤＭＡＰＯＨ）、ポリプロピレングリコールジオール平均分子量２，０００（ＰＰＧ２０００）、旭化成ケミカルズ（株）製デュラノールＴ－５６５２（Ｔ－５６５２、ポリカーボネートジオール）、（株）アデカ製Ｖ１４－９０（Ｖ１４－９０、ポリエステルポリオール）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、メタクリル酸ジメチルアミノエチル（ＤＭＡＥＭＡ）、メタクリル酸ｎ－ブチル（ｎ－ＢｕＭＡ）、グリセリンモノメタクリレート（ＧＬＭ）。

成分Ｂ：重合性モノマー
　本発明の人工爪組成物は、成分Ｂとして、重合性モノマー（以下、単に「成分Ｂ」又は「重合性化合物」ともいう。）を含有することが好ましい。成分Ｂを含有することで、人工爪組成物の粘度を調整でき、塗布性を容易に付与することができる。
　また、本発明の人工爪組成物が成分Ｂを含有する場合、成分Ｃとして、後述する光重合開始剤を更に含有することがより好ましい。成分Ｂ及び成分Ｃを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として更に好適に用いることができる。

　成分Ｂは、ラジカル重合性化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和基を有する化合物であることが好ましい。
　エチレン性不飽和基を有する化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩やエステル体、エチレン性不飽和基を有する酸無水物、アクリロニトリル、ビニル化合物、スチレン及びその誘導体、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウレタン、ラジカル重合性基導入オリゴマー、ラジカル重合性基導入ポリマーなどの公知の化合物を使用できる。
　成分Ｂは、分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）が、１０，０００未満の化合物であり、分子量５，０００以下の化合物であることが好ましく、分子量１，０００未満の化合物であることが更に好ましい。分子量が上記範囲内であると、硬化性に優れる人工爪組成物が得られるので好ましい。

　成分Ｂとして具体的には、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ－ブチル、（メタ）アクリル酸アミル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸イソステアリル、（メタ）アクリル酸ベヘニル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸４－ｔ－ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール／プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール／テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸２－メトキシエチル、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸２－エトキシエチル、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル－ジグリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸２－ｔ－ブチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸テトラメチルピペリジル、（メタ）アクリル酸ペンタメチルピペリジル、Ｎ－（メタ）アクリルオキシスクシンイミド、（メタ）アクリル酸グリシジル、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、

　エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート（例えば、Ａ－ＢＰＥ－１０；新中村化学工業（株）製）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｔ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ドデシル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（３－ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、

　Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカプロラクタム、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエテール、テトラメチレングリコールモノビニルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルブチルエーテル、アリルフェニルエーテル、アリルベンジルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、スチレン、４－メチルスチレン、４－ｔ－ブチルスチレン、４－メトキシスチレン、市販のウレタン（メタ）アクリレート（例えば、ＥＢＥＣＲＹＬシリーズ（ダイセルサイテック（株）製）、紫光シリーズ（日本合成化学（株）製）、ＮＫオリゴシリーズ（新中村化学工業（株）製）で低分子量のもの）を用いることができる。

　上記以外にも、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年、（株）大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、（株）日刊工業新聞社）等に記載の市販品又は業界で公知のラジカル重合性化合物を用いることができる。

　成分Ｂとしては、得られる人工爪の耐水性の観点から、（メタ）アクリル酸エステルのエステル部位の炭素数が３以上である（メタ）アクリル酸エステルを少なくとも１種類含むことが好ましく、エステル部位の炭素数が５以上の（メタ）アクリル酸エステルを少なくとも１種類含むことがより好ましく、エステル部位の炭素数が８以上の（メタ）アクリル酸エステルを少なくとも１種類含むことが更に好ましい。上記アルキル基は直鎖／分岐のどちらでもよく、置換基を有してもよく、環構造を有していてもよい。

　上記アルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしてはこれらに限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ－ブチル、（メタ）アクリル酸アミル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸イソステアリル、（メタ）アクリル酸ベヘニル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸４－ｔ－ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸アダマンチルが挙げられる。

　成分Ｂとしては、溶解性の観点から、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステル、アルキレンオキシ骨格を有する（メタ）アクリル酸エステル、及び、（メタ）アクリルアミド化合物よりなる群から選択される少なくとも１種類を含むことが好ましい。上記アルキレンオキシ骨格は、鎖状でも環状でもよく、また、ポリアルキレンオキシ骨格を形成していてもよい。
　上記ヒドロキシル基又はアルキレンオキシ骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、これらに限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）－モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・テトラメチレングリコール）－モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸２－メトキシエチル、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸２－エトキシエチル、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル－ジグルコール（メタ）アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
　（メタ）アクリルアミド化合物としては、これらに限定されないが、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｔ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ドデシル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（３－ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミドが使用できる。

　成分Ｂは、１種類を単独で使用しても、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
　本発明の人工爪組成物における成分Ｂの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、１０～９０質量％であることが好ましく、２０～８０質量％であることがより好ましく、３０～７０質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、人工爪組成物の粘度を調整でき、塗布性を容易に付与することができる。また、得られる人工爪の密着性、耐久性、及び除去性に優れる。

成分Ｃ：重合開始剤
　本発明の人工爪組成物は、成分Ｃとして、重合開始剤を含むことが好ましい。上述したように、本発明の人工爪組成物が成分Ｂとして重合性モノマーを含有する場合、成分Ｃとして、重合開始剤を含有することが好ましい。
　重合開始剤としては、光重合開始剤、熱重合開始剤のどちらでもよいが、光重合開始剤を少なくとも１つ以上含むことがより好ましい。光重合開始剤を含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
　光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができる。
　本発明に用いることができる光重合開始剤は、１種類を単独で使用しても、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。また、カチオン光重合開始剤や、熱重合開始剤を併用してもよい。
　本発明に用いることのできる光重合開始剤は、光を吸収して重合開始種を生成する化合物である。光としては、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線が例示できる。これらの中でも、紫外線及び／又は可視光線の照射により重合開始種を生成する化合物が好ましい。

　本発明に用いることができる光重合開始剤として、以下のものを好ましく使用できる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
　アセトフェノン化合物（例えば、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、４’－イソプロピル－２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルホリノ－１－プロパン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタン－１－オン、２－ジメチルアミノ－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等）；
　ベンゾフェノン化合物（例えば、ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン等）；
　アントラキノン化合物（例えば、アントラキノン、２－メチルアントラキノン、２－エチルアントラキノン、ｔ－ブチルアントラキノン等）；
　チオキサントン化合物（例えば、２－クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等）；
　トリハロアルキル化合物（例えば、２，４，６－（トリクロロメチル）トリアジン、２，４－トリクロロメチル－６－（４－メトキシフェニル）トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等）；
　ロフィンダイマー化合物（例えば、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾリル二量体）；
　アクリジン化合物（例えば、９－フェニルアクリジン、１，７－ビス（９－アクリジニル）ヘプタン、１，５－ビス（９－アクリジニル）ペンタン、１，３－ビス（９－アクリジニル）プロノパン）；
　ホスフィンオキシド化合物（例えば、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド等）；
　メタロセン化合物（例えば、ビスシクロペンタジエニルビス（ジフルオロピリルフェニル）チタニウム等）；
　オニウム塩（例えば、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等）；
　オキシムエステル化合物（例えば、１－（４－フェニルチオフェニル）－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）等）。

　成分Ｃは、アセトフェノン化合物、ホスフィンオキシド化合物、メタロセン化合物、及び、ロフィンダイマー化合物よりなる群から選ばれた光重合開始剤であることが更に好ましく、アセトフェノン化合物、及び、ホスフィンオキシド化合物よりなる群から選ばれた光重合開始剤であることが特に好ましい。
　本発明の人工爪組成物中における成分Ｃの含有量としては、人工爪組成物の全質量に対して、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．１～１５質量％であることがより好ましく、０．５～１２質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、硬化性に優れ、得られる人工爪の密着性に優れる。

成分Ｄ：溶剤
　本発明の人工爪組成物は、塗布性の観点から、場合により、成分Ｄとして、溶剤を含有してもよい。人工爪組成物が、成分Ｂを含む場合、安全性や取り扱い性の観点から、溶剤の含有量は、人工爪組成物の全質量に対し、１０質量％未満であることが好ましく、５質量％未満であることがより好ましく、本発明の人工爪組成物が溶剤を含有しないことが特に好ましい。成分Ｂを含まない場合、塗布性の観点から、成分Ｄの含有量は、人工爪組成物の全質量に対し、１～９０質量％であることが好ましく、５～８０質量％であることがより好ましく、１０～７０質量％であることが更に好ましく、１５～５０質量％であることが特に好ましい。
　溶剤としては、公知の溶剤であればいずれも好適に使用することができる。例えば、エタノール、２－プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤及びこれらのアセテート系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、メチル－ｔ－ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶剤等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。

　乾燥速度の観点から、溶剤の沸点は、３０～１３０℃であることが好ましく、３５～１００℃であることがより好ましく、４０～９０℃であることが更に好ましく、５０～８５℃であることが特に好ましい。上記範囲であると、乾燥性及び塗布性に優れる。

　成分Ｄは、１種単独で含有していても、２種以上を併用していてもよい。
　成分Ｄは、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、及び、エステル溶剤よりなる群から選択される少なくとも１つであることが好ましい。

＜その他の成分＞
　本発明の人工爪組成物は、上記成分Ａ～成分Ｄ以外のその他の成分として、一般に人工爪組成物中に配合されうる添加成分を、本発明効果を損なわない範囲内において任意に配合することができる。このような添加成分としては、例えば、消泡剤、緩衝剤、キレート化剤、分散剤、分散助剤、染料、充填剤、顔料、防腐剤、重合禁止剤、無機粉末（例えば、シリカゲル等）、増粘剤、潤滑剤、湿潤剤等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。

　人工爪組成物から、成分Ｂ、成分Ｃ等を除去し、成分Ａを取り出す方法としては、以下の方法を例示することができる。初めに、人工爪組成物をＧＰＣ測定し、成分Ａの有無を確認する。成分Ａが含まれる場合、次に、ＮＭＲ、ＨＰＬＣ、ＧＣ測定により、成分Ｂ、成分Ｃ等の構造及び含有量を確認する。また、成分Ａの骨格もＮＭＲから確認する。次に、成分Ａの骨格及び成分Ｂ、成分Ｃの構造を鑑み、成分Ａが再沈殿する条件を確認する。具体的には、人工爪組成物を可溶な有機溶剤で希釈し、貧溶媒／良溶媒の比率が異なる再沈溶媒に滴下する。再沈溶媒の例として、水／メタノール、水／アセトニトリル、酢酸エチル／ヘキサン、酢酸エチル／ヘプタンなどの混合溶媒が例示される。取り出した沈殿物を乾燥させ、ＧＰＣ、ＮＭＲ、ＨＰＬＣ、ＧＣを測定し、成分Ａが過剰に除去されていないこと、成分Ｂや成分Ｃが残存していないことを確認し、成分Ａの取り出し完了とする。
　成分Ａが過剰に除去されている場合は、再沈溶媒の貧溶媒の比率を増やす。成分Ｂや成分Ｃが残存している場合は、良溶媒の比率を増やす、再沈殿回数を増やす、等により再施行する。場合により、再沈条件の温度、ｐＨ、撹拌時間、再沈殿回数を変更することで、沈殿性を更に調整してもよい。一般的に、高分子量の化合物ほど沈殿しやすいため、上記の方法で成分Ａを取り出すことができる。

（人工爪）
　本発明の人工爪は、人工爪の少なくとも一部が本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪であり、人工爪の少なくとも一部が本発明の人工爪組成物を乾燥及び／又は光硬化して形成された層を有する人工爪であることが好ましい。
　本発明の人工爪は、マニキュア、ペディキュア等のネイルポリッシュや、ジェルネイルとして好適であり、特にジェルネイルとして好適である。
　本発明の人工爪は、人工爪の少なくとも一部が本発明の人工爪組成物により形成されていればよく、他の層や構造を有していてもよく、人工爪全体が本発明の人工爪組成物により形成されていてもよい。
　本発明の人工爪組成物により形成された層は、本発明の人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び／又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
　また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を１層のみ有していても、２層以上有していてもよい。
　中でも、密着性、耐久性、除去性の観点から、本発明の人工爪組成物により形成した少なくとも１層が爪と接している層であることが好ましい。
　また、本発明の人工爪における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、１０～２，０００μｍであることが好ましく、２０～１，５００μｍであることがより好ましく、２０～１，０００μｍが更に好ましい。

（人工爪の形成方法）
　本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物を用いて人工爪を形成する方法であれば、特に制限はないが、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、上記塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程、を含む方法であることが好ましい。
　本発明の人工爪組成物を人工爪として形成するには、乾燥又は光硬化のいずれかの形成方法を好適に選択することができる。
　また、本発明の人工爪組成物は、重合性化合物、及び、光重合開始剤を少なくとも含むか、又は、溶剤を少なくとも含むことが好ましい。本発明の人工爪組成物が溶剤を含有し、重合性モノマー及び光重合開始剤を含有しない場合には、乾燥により人工爪を形成することが好ましく、本発明の人工爪組成物が重合性モノマー及び光重合開始剤を含有し、溶剤を含有しない場合には、露光により人工爪を形成することが好ましく、本発明の人工爪組成物が、溶剤、重合性モノマー及び光重合開始剤を含有する場合には、乾燥及び露光により人工爪を形成することが好ましい。
　また、本発明の人工爪の形成方法における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、１０～２，０００μｍであることが好ましく、２０～１，５００μｍであることがより好ましく、２０～１，０００μｍが更に好ましい。

　本発明の人工爪の形成方法は、場合により、塗布工程の前に、ヒト若しくは動物の爪、又は、他の人工爪の表面を粗面化する工程を含んでいてもよい。上記態様であると、得られる人工爪（ジェルネイル）の密着性及び耐久性が改善する場合がある。
　爪表面を粗面化する方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。例えば、ファイル等の爪用やすりにより粗面化を行う方法が好ましく挙げられる。

＜塗布工程＞
　本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程（塗布工程）を含むことが好ましい。
　他の人工爪は、人工爪に用いられる基材であれば、特に制限はなく、例えば、樹脂基材、本発明の人工爪の形成方法以外の方法により形成された人工爪、又は、本発明の人工爪の形成方法により得られた人工爪が挙げられる。
　塗布方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法が好ましく挙げられる。また、スプレー塗布やインクジェット塗布を行ってもよい。
　塗布膜の厚さについても、特に制限はなく、得られる人工爪における所望の厚さを考慮して、塗布厚を適宜調整すればよい。

＜乾燥及び／又は露光工程＞
　本発明の人工爪の形成方法は、上記塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程（乾燥又は露光工程）を含むことが好ましい。

〔乾燥工程〕
　本発明の人工爪組成物が溶剤を含有している場合、乾燥工程を含むことが好ましい。
　乾燥方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよい。
　具体的には、例えば、室温（例えば、１０～３０℃）にて放置乾燥する方法、気流下において放置乾燥する方法、加熱乾燥する方法、及び、これらを組み合わせた方法が好ましく挙げられる。加熱方法としては、特に制限はないが、室温より高い温度の雰囲気下に放置する方法、加熱気流下に放置する方法、ヒーターや赤外線ランプ（ＩＲランプ）等の加熱手段により加熱する方法が例示できる。
　乾燥時間としては、特に制限はなく、人工爪組成物の組成や、乾燥方法、塗布厚によって適宜調整すればよいが、簡便性及びセルフレベリングによる平滑性や光沢性付与の観点から、１０秒～２０分であることが好ましく、１５秒～１０分であることがより好ましく、３０秒～５分であることが更に好ましく、３０秒～２分であることが特に好ましい。

〔露光工程〕
　本発明の人工爪組成物が、重合性モノマー、及び、光重合開始剤を含有している場合、露光工程を含むことが好ましい。
　また、本発明の人工爪組成物が、重合性化合物及び光重合開始剤に加え、溶剤を含有している場合、露光工程の前に、乾燥工程を経ていることが好ましい。
　露光に使用する光としては、紫外線、可視光線などが挙げられ、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。
　露光手段としては、特に制限はなく、公知の露光手段を用いることができるが、例えば、水銀ランプ及びメタルハライドランプ等の紫外線ランプ（ＵＶランプ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザーダイオード（ＬＤ）等が挙げられる。
　露光時間としては、特に制限はないが、２秒～５分が好ましく、５秒～３分がより好ましく、５秒～２分が更に好ましい。また、露光は、間歇的に行っても、連続的に行ってもよいし、パルス光により行ってもよく、任意の方法で露光すればよい。

　乾燥及び／又は露光工程の後、場合により、得られる人工爪の光沢や美観、また、露光を行った場合は未硬化成分の除去の目的で、得られた人工爪の表面を洗浄又は拭き取る工程を含んでいてもよい。
　洗浄又は拭き取り方法としては、エタノール等の溶剤を含ませたワイプシートやスポンジワイプ等の拭き取り基材により拭き取る方法、エタノール等の溶剤や水により洗浄する方法が例示できる。
　また、洗浄又は拭き取りに使用する溶剤としては、得られた人工爪を溶解しない溶剤であることが好ましい。
　本発明の人工爪の形成方法は、上記以外にもその他、公知の工程を含んでいてもよい。

（人工爪の除去方法）
　本発明の人工爪の除去方法は、人工爪にアセトン等の有機溶剤を含む除去液で膨潤させて除去する方法、人工爪に酸性水溶液を接触させて除去する方法、のいずれの方法でも除去可能である。

＜有機溶剤を含む除去液で除去する方法＞
　人工爪にアセトン等の有機溶剤を含む除去液で膨潤させて除去する方法としては以下に限定されないが、人工爪の表面をファイル等の爪用やすりにより傷をつけ、除去液を浸した綿と人工爪を接触させ、アルミホイル等で固定し、数分静置し、膨潤させた後、木へら等で押し剥がし、最後に人工爪の表面をファイル等の爪用やすりやネイルプッシャーにより整える方法、を用いることができる。

〔有機溶剤〕
　有機溶剤を含む除去液の有機溶剤は、エタノール、２－プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤及びこれらのアセテート系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、メチル－ｔ－ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶剤、を用いることができる。

〔その他成分〕
　有機溶剤以外に以下の添加剤を含んでいてもよい。具体的には、界面活性剤、防腐剤、香料、防錆剤、消泡剤、湿潤剤、キレート剤、安定化剤、増粘剤、乳化剤、着色剤、無機塩、有機溶剤含有量以下の水等の添加剤を用いることができる。

＜酸性水溶液を接触させて除去する方法＞
　成分Ａ又は成分Ｂがアミノ基を有する場合、皮膚及び爪への負担の観点から、人工爪に酸性水溶液を接触させて除去する方法、が好ましい。以下に好ましい除去液の態様について記載する。
〔酸化合物〕
　上記除去液に使用できる酸化合物は公知の無機酸や有機酸のいずれも使用することができる。酸化合物の具体例としては、以下に限定されないが、塩酸、リン酸、スルホン酸、硝酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、クエン酸、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、アミノ酸類（アスパラギン酸、グルタミン酸等）、炭酸が挙げられる。リン酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、クエン酸、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、アミノ酸類（アスパラギン酸、グルタミン酸等）、炭酸がより好ましく、酢酸、クエン酸、グリコール酸、グルコン酸、リンゴ酸、アミノ酸類（アスパラギン酸、グルタミン酸等）、炭酸が更に好ましい。

〔水、及び、ｐＨ〕
　上記除去液に使用する水は、特に制限はなく、水道水、蒸留水、硬水、軟水、イオン交換水等を用いることができる。除去液中の水の含有量は、特に制限はないが、除去液の全質量に対し、５０～９９．５質量％であることが好ましく、７０～９９質量％であることがより好ましく、９０～９９質量％であることが更に好ましい。
　除去液のｐＨは、本発明の人工爪に含まれるアミノ基を有するポリマーをイオン化する能力、すなわち除去性の観点から、５．０以下であることが好ましく、４．０以下であることがより好ましく、３．０以下であることが更に好ましい。また、除去液のｐＨは、皮膚・爪への安全性の観点から、１．０以上であることが好ましく、２．０以上であることがより好ましい。
　また、ｐＨが経時や液の希釈・濃縮などによる外部因子によって変動を起こさないようにするため、酸塩を添加して緩衝液にすることが好ましい。緩衝液にするためには、上記の酸の塩、好ましくはナトリウム塩（クエン酸ナトリウム、グルコン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、リン酸二ナトリウム）を、酸と共存させる方法が挙げられるが、特に限定されるものではない。

＜その他成分＞
　本発明の除去液は、上記成分の他に必要に応じて他の成分を含有していてもよい。具体的には、界面活性剤、防腐剤、香料、防錆剤、アルコール、有機溶剤、消泡剤、湿潤剤、キレート剤、安定化剤、増粘剤、乳化剤、着色剤、無機塩等が挙げられる。

＜使用形態＞
　除去液は、コストや運搬性、保管性の観点から、濃縮液としてもよく、使用する際に当該濃縮液を希釈して除去液とする実施形態であってもよい。
　また、除去液を使用する際は、安全性を損なわない程度に加温してもよく、また、人工爪を除去液に浸漬する場合には、浸漬する液を撹拌してもよい。

　人工爪と除去液を接触させる方法は、特に限定されるものではなく、人工爪を直接除去液に浸漬してもよく、除去液を湿らせたコットン等で人工爪を包んでもよく、噴霧器やシャワーによって吹き付けてもよく、ゼリー状やクリーム状にして人工爪に塗布してもよい。ただし、これら例示に限定されるものではない。
　また、本発明の人工爪の除去方法は、人工爪表面及び／又は端を本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れるように傷をつける工程を含むことが好ましい。
　傷を付ける方法としては、特に制限はないが、ファイル等の爪用やすりを好適に用いることができる。

　酸性水溶液を用いた除去方法の好ましい具体例を以下に示す。すなわち、任意に人工爪表面及び／又は端を爪用やすりで擦って本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れる程度に粗めに傷をつけた後、ｐＨ５．０以下の酸性水溶液に浸漬し、直ちに、又は、場合により１～５分程度そのまま放置した後、人工爪を布若しくは不織布などにより拭き取る、又は、へら状若しくはスティック状の器具により押し剥すことによって指先や爪に負担をかけることなく、極めて容易かつ安全に剥がすことができる。

　なお、上記方法において、浸漬しながら、拭き取り、押し剥がしをすることも可能であり、より早く除去することが可能になる。また、超音波や振動などを与えることで拭き取り・剥離を促進してもよい。
　また、本発明の人工爪の除去方法は、その他、公知の工程を含んでいてもよい。

（ネイルアートキット）
　本発明のネイルアートキットは、本発明の人工爪組成物と、除去液と、を含み、上記除去液が、酸性水溶液であることが好ましい。
　本発明のネイルアートキットにおける本発明の人工爪組成物及び除去液の好ましい態様は、上述したものと同様である。
　また、本発明のネイルアートキットは、上記人工爪組成物及び除去液以外に、任意の品を含んでいてもよい。
　例えば、カラー用又はトップ用など、本発明の人工爪組成物以外の人工爪組成物、ファイル等の爪用やすり、人工爪組成物を塗布するための平筆等の筆や刷毛、ＵＶライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されない。

　以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例における形態に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、及び「％」は質量基準である。また、略記は表１と同様である。

（ＧＰＣ測定条件）
　ポリマーの分子量１，０００以下成分は、以下の分析条件、及び計算式により算出した。
＜分析条件＞
　重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した。ＧＰＣは、ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ３０００、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー（株）製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を１本ずつ用い、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いた。また、条件としては、試料濃度を０．１質量％、流速を０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、測定温度を４０℃とし、屈折率検出器（ＲＩ）を用いて行った。
　また、検量線は、東ソー（株）製、「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ、ｐｏｌｙｓｔｒｅｎｅ」、「Ｆ－４０」、「Ｆ－２０」、「Ｆ－１０」、「Ｆ－４」、「Ｆ－２」、「Ｆ－１」、「Ａ－５０００」、「Ａ－２５００」、「Ａ－５００」の９サンプルから作製した。
　装置：東ソー（株）製ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ
　検出器：屈折率検出器（ＲＩ）
　カラム：東ソー（株）製ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ３０００、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（１本ずつ）
　展開溶剤：テトラヒドロフラン
　測定温度：４０℃
　流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
　試料濃度：０．１質量％
　サンプル（試料）注入量：１０μｌ

＜算出方法＞
　濃度０．１質量パーセントの成分Ａのテトラヒドロフラン溶液を調製し、上記の分析条件でＧＰＣによりその分子量を測定し、成分Ａ全体のピーク面積Ａｐを求めた。次に、分子量１，０００となるＧＰＣ保持時間で面積Ａｐを分割し、上記保持時間以上の面積をＡｌとした。最後に、下記計算式により分子量１，０００以下成分の面積パーセントを算出した。
　Ａｌ　÷　Ａｐ　×　１００
　分子量は市販のポリスチレン分子量標準試料を用いた検量線により算出した。

＜合成例１＞
　３口フラスコに、ポリテトラメチレンオキシド１１１．９０部（和光純薬工業（株）製、平均分子量２，０００）、２，２’－ビス（４－ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（水素化ビスフェノールＡともいう。）９．６部（東京化成工業（株）製）、テトラヒドロフラン３４９．８５部（和光純薬工業（株）製）を入れ、２５℃で１時間撹拌した。次に、トリレンジイソシアネート１８．１部（東京化成工業（株）製）を添加し、更にネオスタンＵ－６００　０．１５部（無機ビスマス系触媒、日東化成（株）製）を添加し、４０℃で５時間撹拌した。次に、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル１０．４部（和光純薬工業（株）製）を添加し、４０℃で１時間撹拌した。２５℃まで冷却し、ポリマー反応液を得た。別途、ビーカーに蒸留水１，５００部、メタノール３，５００部を入れ、２５℃で撹拌し、上記ポリマー反応液を滴下した。滴下後、２５℃で２時間撹拌し、その後、１時間静置した。デカンテーションにより溶剤を除き、蒸留水１，０００部、メタノール４，０００部を入れ、２５℃で３時間撹拌し、その後、１時間静置した。沈殿物を取り出し、乾燥させ、ポリマーＡ－４を得た。ＧＰＣで測定したＡ－４のポリマー全体の重量平均分子量（ポリスチレン換算）は２２，０００であり、分子量１，０００以下成分は検出限界以下であった。

＜合成例２＞
　原料及びその使用量を変更し、分子量調整のために触媒量や反応温度、反応時間を適宜変更した以外は、合成例１と同様な方法により、Ａ－１～Ａ－３、Ａ－５～Ａ－１３、及び、Ａ－１５～Ａ－２０をそれぞれ得た。また、合成例１における蒸留水と水との比率を変更することで、低分子量成分を調整した。
　具体的には、合成例１の反応条件を基準とし、目的の分子量よりも高い場合には、触媒量低減、低温での反応、反応時間短縮により、目的の分子量に抑えた。また、目的の分子量より低い場合には、触媒量増加、高温での反応、反応時間を延ばすことで目的の分子量とした。触媒量０．１質量％～０．９質量％、反応温度４０℃～６５℃、反応時間３時間～９時間、の範囲で調整した。
　また、合成例１の精製方法を基準とし、低分子量成分含有量が多いポリマーは、メタノールに対する蒸留水の比率を上げる、例えば、水／メタノール＝１／１、２／１（いずれも質量比）とすることで精製した。一方、同じ精製方法で低分子量成分含有量が多くなった場合は、メタノールの比率を上げる、例えば水／メタノール＝１／６、１／８とすることで低分子量成分を除去した。

＜合成例３＞
　３口フラスコに、酢酸ブチル１７４．２部（和光純薬工業（株）製）を入れ、窒素気流下、８０℃で撹拌した。別途、酢酸ブチル１７４．２部（和光純薬工業（株）製）、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル７８．４部（和光純薬工業（株）製）、メタクリル酸ｎ－ブチル７０．９１部（和光純薬工業（株）製）、Ｖ－６０１（２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル）２．３０部（和光純薬工業（株）製）を混合し、３口フラスコ中に２時間かけて滴下した。滴下後、８０℃に保持したまま更に２時間撹拌した。次に、Ｖ－６０１（２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオン酸）ジメチル）０．２３部（和光純薬工業（株）製）を添加し、９０℃で２時間撹拌した。２５℃まで冷却し、ポリマー反応液を得た。別途、ビーカーに蒸留水１，０００部、メタノール４，０００部を入れ、２５℃で撹拌し、上記ポリマー反応液を滴下した。滴下後、２５℃で２時間撹拌し、その後、１時間静置した。デカントにより溶剤を除き、蒸留水１，０００部、メタノール４，０００部を入れ、２５℃で３時間撹拌し、その後、１時間静置した。沈殿物を取り出し、乾燥させ、ポリマーＡ－１４を得た。ＧＰＣで測定したＡ－１４のポリマー全体の重量平均分子量（ポリスチレン換算）は２０，０００であり、分子量１，０００以下成分は検出限界以下であった。

＜比較合成例＞
　原料及びその使用量を変更し、分子量調整のために触媒量や反応温度、反応時間を適宜変更した以外は、合成例１と同様な方法により、ａ－１～ａ－３、をそれぞれ得た。また、低分子量成分含有量は、蒸留水とメタノールとの比率を変更して調整した。触媒量、反応温度及び反応時間の調整方法、並びに、蒸留水とメタノールとの比率の調整方法は、上述したＡ－１～Ａ－３、Ａ－５～Ａ－１３、及び、Ａ－１５～Ａ－２０の合成方法における調整方法と同様である。

　表２及び表３中の省略記載は、以下の通りである。
　ＴＤＩ：トリレンジイソシアネート
　ＨＢＰＡ：水素化ビスフェノールＡ
　ＰＴＭＧ２０００：ポリテトラメチレンオキシド、平均分子量２，０００
　ＭｅＯＨ：メタノール
　ＨＥＭＡ：：メタクリル酸２－ヒドロキシエチル
　ＤＭＡＰＯＨ：３－ジメチルアミノ－１，２－プロパンジオール
　ＰＰＧ２０００：ポリプロピレングリコールジオール、平均分子量２，０００
　Ｔ－５６５２：旭化成ケミカルズ（株）製デュラノールＴ－５６５２、ポリカーボネートジオール
　Ｖ１４－９０：（株）アデカ製Ｖ１４－９０、ポリエステルポリオール
　ＩＰＤＩ：イソホロンジイソシアネート
　ＤＭＡＥＭＡ：メタクリル酸ジメチルアミノエチル
　ｎ－ＢｕＭＡ：メタクリル酸ｎ－ブチル
　ＧＬＭ：ブレンマー　ＧＬＭ、グリセリンモノメタクリレート（日油（株）製）

　なお、ａ－１及びａ－２における低分子量成分について検討した結果、ポリマー合成時に副反応や不純物の影響により合成が途中で停止した化合物であることが分かった。具体的には、ＨＥＭＡ－ＴＤＩ－ＨＢＰＡ－ＴＤＩ－ＨＥＭＡなどの化合物や、低分子量のＰＴＭＧ２０００と、ＴＤＩやＨＥＭＡが反応した化合物であった。ここで、原料であるＴＤＩ及びＨＢＰＡは、反応で消費され、また、ＨＥＭＡは再沈殿と乾燥で除去されるため、いずれも検出されなかった。すなわち、ａ－１～ａ－３における低分子量成分は、ポリマー合成時の残存原料ではなく、重合反応が途中で停止して分子量が１，０００以下となった化合物であると推察される。

（実施例１～２１、及び、比較例１～３）
＜人工爪組成物の調製＞
　下記表４に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物Ｊ－１～Ｊ－２１、Ｈ－１～Ｈ－３を得た。なお、表中の略記は以下の化合物を表す。メタクリル酸イソボルニル（ＩＢＸＭＡ）、アクリル酸イソボルニル（ＩＢＸＡ）、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）、メタクリル酸２－ヒドロキシプロピル（ＨＰＭＡ）、メタクリル酸（ＭＡＡ）、イルガキュア１８４（Ｉｒｇ．１８４、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ＢＡＳＦ社製）、イルガキュアＴＰＯ（Ｉｒｇ．ＴＰＯ、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ＢＡＳＦ社製）、酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）。

＜人工爪の形成＞
〔形成例１〕
　実施例１～１４、及び、実施例１６～２１、並びに、比較例１～３は以下の方法で人工爪を形成した。すなわち、得られた人工爪組成物一定量を爪型プラスチック片に刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その上に、カラー層として市販のカルジェル＃ＣＧ－０３フレッシュピンク（（株）モガ・ブルック製）一定量を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その上に、更にトップ層として市販のカルジェル＃００（（株）モガ・ブルック製）一定量を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を拭いた。この時の人工爪全体の膜厚は約１，０００μｍであった。

〔形成例２〕
　実施例１５は以下の方法で人工爪を形成した。すなわち、得られた人工爪組成物一定量を爪型プラスチック片に刷毛で塗布し、十分に乾燥した。その上に、カラー層として市販のカルジェル＃ＣＧ－０３フレッシュピンク（（株）モガ・ブルック製）一定量を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その上に、更にトップ層として市販のカルジェル＃００（（株）モガ・ブルック製）一定量を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を拭いた。この時の人工爪全体の膜厚は約１，０００μｍであった。

＜人工爪の評価＞
〔密着性、耐久性〕
　１Ｌポリ瓶に得られた人工爪と水道水７５０ｍＬとを入れ、５５℃で２４時間撹拌した。撹拌後、人工爪の様子を目視観察し、下記評価基準により評価した。
－評価基準－
　　５：剥離は確認できなかった
　　４：一部剥離し、剥離面積が人工爪全体の１／４未満であった
　　３：一部剥離し、剥離面積が人工爪全体の１／４以上、１／２未満であった
　　２：一部剥離し、剥離面積が人工爪全体の１／２以上、３／４未満であった
　　１：一部剥離し、剥離面積が人工爪全体の３／４以上、又は、完全に剥離していた

〔硬化性〕
　得られた人工爪組成物一定量を爪型プラスチック片に刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。得られた硬化物の表面に触れ、表面状態を観察し、下記評価基準により評価した。
－評価基準－
　　３：触れた跡がつかない、又は、強く押すと跡がつくが、触れた方に付着物はない
　　２：触れた跡はつくが、触れた方に付着物はない
　　１：触れた方に付着物がある 
　密着性、耐久性、及び硬化性を評価した結果を表４に合わせて示す。

　表４の結果から、本発明の人工爪組成物より得られた人工爪は、高い密着性、耐久性、硬化性を示すことがわかる。

（実施例２２）
＜人工爪組成物の調製＞
　上記で作製した人工爪組成物Ｊ－４を用いた。

＜人工爪の形成＞
〔形成例３〕
　得られた人工爪組成物一定量を爪上に刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その上に、カラー層として市販のカルジェル＃ＣＧ－０３フレッシュピンク（（株）モガ・ブルック製）一定量を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その上に、更にトップ層として市販のカルジェル＃００（（株）モガ・ブルック製）一定量を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を拭いた。この時の人工爪全体の膜厚は約１，０００μｍであった。

＜評価＞
〔密着性、耐久性評価〕
　爪上に人工爪を形成し、２週間生活した後、人工爪の様子を目視観察した。結果、剥離は確認されなかった。

（実施例２３）
＜人工爪組成物の調製＞
　上記で作製した人工爪組成物Ｊ－７を用いた。

＜人工爪の形成＞
　形成例３の方法を用いた。

＜除去液の調製＞
　クエン酸２．７部（東京化成工業（株）製）、クエン酸三ナトリウム０．３部（和光純薬工業（株）製）、及び、水道水２９７部を均一に混合し、除去液を調製した。上記除去液のｐＨは２．６であった。

＜除去液性評価＞
　得られた人工爪の表面や端にファイル（爪用のヤスリ）で傷をつけ、本発明の人工爪組成物からなる層を露出させた。続いて、人工爪を除去液に浸漬し、露出させた層と除去液を接触させ、直ちに木製のヘラを用いて人工爪を剥離した。結果、１本あたり１２０秒で除去でき、爪上にも目立った傷は確認できなかった。

Claims (12)

1. 　成分Ａとしてポリマーを含有し、
   　成分Ａのゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定される分子量分布において、分子量１，０００以下の成分の面積が、全面積の５％以下であることを特徴とする、
   　人工爪組成物。
2. 　成分Ａがポリウレタンである、請求項１に記載の人工爪組成物。
3. 　成分Ａがエチレン性不飽和基を有するポリマーである、請求項１又は２に記載の人工爪組成物。
4. 　成分Ａが側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリマーである、請求項３に記載の人工爪組成物。
5. 　成分Ａの単位質量当たりのエチレン性不飽和基数が０．３ｍｍｏｌ／ｇ以上である、請求項１～４のいずれか１項に記載の人工爪組成物。
6. 　成分Ａがポリエーテル骨格を有するポリウレタンである、請求項１～５のいずれか１項に記載の人工爪組成物。
7. 　成分Ａ以外に、成分Ｂとして、重合性モノマー、及び、成分Ｃとして、重合開始剤、を更に含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の人工爪組成物。
8. 　成分Ａがアミノ基を有するポリマーである、請求項１～７のいずれか１項に記載の人工爪組成物。
9. 　成分Ａが第３級のアミノ基を有するポリマーである、請求項１～８のいずれか１項に記載の人工爪組成物。
10. 　請求項１～９のいずれか１項に記載の人工爪組成物からなる人工爪。
11. 　請求項１０に記載の人工爪と酸性水溶液とを接触させる工程を含む、人工爪の除去方法。
12. 　請求項１～９のいずれか１項に記載の人工爪組成物と、除去液とを含む、ネイルアートキット。

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