JP6138936B2 - 人工爪の除去方法、人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット - Google Patents

Description

本発明は、人工爪の除去方法、人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキットに関する。

近年、手や足の爪にデザインを施すネイルアートに対する人気が高まり、爪（自爪）に合成樹脂製の人工爪（付け爪、ネイルチップ等）を形成する技術が発展している（特許文献１参照）。特に最近、ウレタン系樹脂と光重合性モノマーとを含むジェル状の装飾用硬化性組成物を爪に塗布した後、紫外線を照射して硬化させた人工爪と呼ばれる爪装飾が、仕上がりがクリアである、爪との密着性が高く長持ちする、アクリル系樹脂のような臭いがない、等の理由から注目を集めている。
この人工爪を除去するときは、従来、人工爪表面を粗目のファイル（爪用やすり）でこすって傷を付けて除去液を滲み込みやすくさせた後、アセトン等の有機溶媒（除去液）に浸したコットンを上記人工爪上に乗せ、これをアルミホイル等で巻いてそのまま放置して人工爪を膨潤させた後、この膨潤した人工爪を木製のへら等を用いて剥がす方法が主流である。
また、従来の人工爪組成物としては、特許文献１〜３に記載された組成物が知られている。

特開２００４−２７５７３６号公報 特開２０００−２５６１３４号公報 特表２００２−５０５９１５号公報

本発明の目的は、爪装飾の有する光沢性等の長所を損なわず、かつ、除去時にアセトンを用いずに、指先や爪への負担を軽減した、人工爪の除去方法を提供することである。本発明の他の目的は、上記人工爪の除去方法に使用されるネイルアートキット及び人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪を提供することである。

上記目的は、下記＜１＞、＜１５＞、＜１７＞、＜２２＞〜＜２４＞に記載の手段により達成された。好ましい実施態様である＜２＞〜＜１４＞、＜１６＞、＜１８＞〜＜２１＞と共に以下に示す。
＜１＞ 人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、上記塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程、並びに、上記人工爪を除去液に接触させて除去する除去工程を含み、上記人工爪組成物が、（成分Ａ）エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び／又は、（成分Ｂ）酸基を有するポリマーを含有し、上記除去液がｐＨ８以上１１以下（好ましくは８．５〜１０．９、より好ましくは８．７〜１０．８、更に好ましくは９〜１０．７）の水溶液であることを特徴とする人工爪の除去方法、
＜２＞ 成分Ａが、下記式（１）で表される、＜１＞に記載の人工爪の除去方法、

式（１）中、Ｒ¹は水素原子又は１価の有機基を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｚは酸基を表す。

＜３＞ 上記式（１）において、Ｚがカルボン酸基である、＜２＞に記載の人工爪の除去方法、
＜４＞ 成分Ｂが、アクリル系ポリマー及び／又はウレタン系ポリマーである、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の人工爪の除去方法、
＜５＞ 成分Ｂがカルボン酸基を有するポリマーである、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の人工爪の除去方法、
＜６＞ 上記カルボン酸基を有するポリマーが、下記式（２）で表されるモノマー単位を含有するアクリル系ポリマーである、＜５＞に記載の人工爪の除去方法、

式（２）中、Ｒ²は水素原子、メチル基、又は、−ＣＨ₂Ｙ¹を表し、Ｙ¹は水酸基、ハロゲノ基、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ³、又は、−ＮＲ³Ｃ（＝Ｏ）Ｒ⁴を表し、Ｘ¹は−Ｏ−、又は、−ＮＲ³−を表し、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｌ¹は２価の連結基を表す。

＜７＞ 上記カルボン酸基を有するポリマーが、下記式（３）で表されるモノマー単位を有するウレタン系ポリマーである、＜５＞に記載の人工爪の除去方法、

式（３）中、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、ＷはＮ又はＣＲ³を表し、Ｒ³は水素原子又は１価の基を表す。

＜８＞ 上記除去液が、ｐＨ緩衝剤を含む、＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の人工爪の除去方法、
＜９＞ 上記ｐＨ緩衝剤が炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、硼酸塩、及び有機アミン化合物よりなる群から選択される少なくとも１つを含む、＜８＞に記載の人工爪の除去方法、
＜１０＞ 上記ｐＨ緩衝剤が、炭酸塩と炭酸水素塩とを含む、＜８＞又は＜９＞に記載の人工爪の除去方法、

＜１１＞ 上記除去工程が、除去液に人工爪を浸漬して除去する工程である、＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の人工爪の除去方法、
＜１２＞ 上記除去工程が、除去液を人工爪に噴霧して除去する工程である、＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の人工爪の除去方法、
＜１３＞ 上記除去工程が、除去液を含ませた綿により人工爪を包んで除去する工程である、＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の人工爪の除去方法、
＜１４＞ 上記人工爪組成物を、ベース層に用いる、＜１＞〜＜１３＞のいずれか１つに記載の人工爪の除去方法、
＜１５＞ （成分Ａ’）下記式（１’）で表される化合物を含有することを特徴とする人工爪組成物、

式（１’）中、Ｒ^1’は水素原子又は１価の有機基を表し、Ｘ’は２価の連結基を表し、Ｒ^1'が結合する炭素原子と、Ｚ’とを結ぶ最短の原子数が５以上であり、Ｚ’は酸基を表す。

＜１６＞ 上記式（１’）において、Ｚ’がカルボン酸基である、＜１５＞に記載の人工爪組成物、
＜１７＞ （成分Ｂ）酸基を有するポリマーを含有することを特徴とする人工爪組成物、
＜１８＞ 成分Ｂがアクリル系ポリマー及び／又はウレタン系ポリマーである、＜１７＞に記載の人工爪組成物、
＜１９＞ 成分Ｂが、下記式（２）で表されるモノマー単位を含有するアクリル系ポリマーである、＜１７＞又は＜１８＞に記載の人工爪組成物、

式（２）中、Ｒ²は水素原子、メチル基、又は、−ＣＨ₂Ｙ¹を表し、Ｙ¹は水酸基、ハロゲノ基、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ³、又は、−ＮＲ³Ｃ（＝Ｏ）Ｒ⁴を表し、Ｘ¹は−Ｏ−、又は、−ＮＲ³−を表し、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｌ¹は２価の連結基を表す。

＜２０＞ 成分Ｂが、下記式（３）で表されるモノマー単位を有するウレタン系ポリマーである、＜１７＞又は＜１８＞に記載の人工爪組成物、

式（３）中、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、ＷはＮ又はＣＲ³を表し、Ｒ³は水素原子又は１価の基を表す。

＜２１＞ （成分Ｄ）光重合開始剤を更に含有する、＜１５＞〜＜２０＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物、
＜２２＞ ＜１５＞〜＜２１＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物を乾燥及び／又は露光して形成された層を有する人工爪、
＜２３＞ ＜１５＞〜＜２１＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、上記塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程、を含む人工爪の形成方法、
＜２４＞ 人工爪組成物と、除去液と、を含み、上記人工爪組成物が、（成分Ａ）エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び／又は、（成分Ｂ）酸基を有するポリマーを含有し、上記除去液が、ｐＨ８以上１１以下の水溶液であることを特徴とするネイルアートキット。

本発明によれば、爪装飾の有する光沢性等の長所を損なわず、かつ、除去時にアセトンを用いずに、指先や爪への負担を軽減した、人工爪の除去方法を提供することができた。更に、上記人工爪の除去方法に使用されるネイルアートキット及び人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪を提供することができた。

本発明において好適な人工爪の構成について示す断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書中、「ｘｘ〜ｙｙ」の記載は、ｘｘ及びｙｙを含む数値範囲を表す。また、「（成分Ａ）エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物」等を単に「成分Ａ」等ともいう。
また、本発明において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
本明細書中、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式の説明において、「Ｒはアルキル基、アリール基又は複素環基を表す」との記載があれば、「Ｒは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表す」ことを意味する。また、本明細書中、（メタ）アクリルは、アクリルとメタクリルとを共に含む概念を表し、（メタ）アクリレート等についても同様である。
また、本明細書におけるポリマーには、コポリマー、オリゴマーも含むものとする。
本発明において、好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。

本発明の人工爪の除去方法は、人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、上記塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程、並びに、上記人工爪を除去液に接触させて除去する除去工程を含み、上記人工爪組成物が、（成分Ａ）エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び／又は、（成分Ｂ）酸基を有するポリマーを含有し、上記除去液がｐＨ８以上１１以下の水溶液であることを特徴とする。
本発明者は鋭意検討を行った結果、成分Ａ及び／又は成分Ｂを含有する人工爪組成物を用いて形成した人工爪は、ｐＨ８以上１１以下の水溶液により除去可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。

これら効果が発現する機構は不明であるが、一部は以下のように推定される。
成分Ａ及び／又は成分Ｂを含有する人工爪組成物により形成された人工爪には、酸基が存在する。酸基を有することによって、アルカリ性の水溶液である、ｐＨ８以上１１以下の水溶液により、除去が可能であると考えられる。なお、従来の有機溶剤を用いた除去方法によって除去することも可能であるが、より刺激性が低いｐＨ８以上１１以下の水溶液によって除去することで、爪や肌へのダメージが軽減され、また、ＶＯＣ（揮発性有機化合物）の問題が解消される。

本発明における人工爪とは、ヒト又は動物の爪上に、美装及び／又は保護を目的に形成される層を指す。また、例えば、上記支持体としては、爪の美装及び／又は保護を目的とする任意の形状の樹脂基材（ネイルチップ）等が挙げられる。
なお、「ヒト及び動物の爪、並びに、支持体」を、単に「爪」ともいう。
上記人工爪の形状は、特に制限はなく、所望の形状に形成すればよい。例えば、爪の表面を被覆するように形成してもよいし、爪の一部のみに形成してもよいし、ネイルフォーム等を使用し爪の延長のため、爪よりも大きな形状に形成してもよい。
なお、本発明の人工爪組成物は、ヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布されるが、これらの爪に直に塗布されてもよく、既に形成された他の層の上に塗布されてもよく、特に限定されない。これらの中でも、後述するように、爪に接する層（ベース層）として塗布されることがより好ましい。
また、本発明の人工爪組成物は、塗布により厚みを制御することができる。厚みとしては、一般に人工爪が取りうる範囲であれば、特に制限されるものではないが、実用性及び除去性の観点から、２０〜１，５００μｍの範囲であることが好ましい。

（人工爪組成物）
本発明の人工爪の除去方法に使用される、人工爪組成物（本発明の人工爪組成物ともいう。）について最初に説明する。
本発明の人工爪組成物は、人工爪における、プライマー層、ベース層、カラー層、及び／又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
中でも、除去性の観点から、本発明の人工爪組成物により形成した層が爪と接していること、すなわち、ベース層であることが好ましい。
また、本発明の人工爪組成物によって形成した人工爪層の上層（爪とは逆側の面）又は下層（爪との間の面）に、別途、色・ツヤ・密着を出す目的で、プライマー層、ベース層、カラー層、及び／又は、トップ層を有していてもよい。

本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物（「ジェルネイル用人工爪組成物」）としても、マニキュア液用人工爪組成物としても好適に用いることができる。
また、本発明の人工爪組成物は、露光により硬化を行っても除去性に優れるため、光硬化性人工爪組成物として特に好適に使用することできる。
上記光硬化性人工爪組成物は、活性光線により硬化可能な人工爪組成物である。「活性光線」とは、その照射により人工爪組成物中に開始種を発生させるエネルギーを付与できる放射線であり、紫外線、可視光線などを包含する。中でも、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。従って、上記光硬化性人工爪組成物としては、活性光線として、紫外線を照射することにより硬化可能な人工爪組成物が好ましい。
以下に、本発明の人工爪組成物に使用することができる各種成分について説明する。

（成分Ａ）エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物
本発明の人工爪組成物は、（成分Ａ）エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物を含有することが好ましい。
成分Ａの分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）は、３，０００未満であることが好ましく、７２以上２，０００以下であることが好ましく、８６以上１，５００以下であることが好ましく、１４４以上１，０００以下であることが更に好ましい。
成分Ａの分子量が上記範囲であると、除去性、硬化性及び密着性に優れる。

本発明に用いられる成分Ａは、エチレン性不飽和結合と酸基との両方を有する化合物であればいずれも好適に使用することができる。成分Ａが有する酸基としては、カルボン酸基（カルボキシ基、−ＣＯＯＨ）、スルホン酸基（スルホ基、−ＳＯ₃Ｈ）、硫酸基（−ＯＳＯ₂（ＯＨ））、リン酸基（−ＯＰＯ（ＯＨ）₂）、ホスホン酸基（ホスホノ基、−ＰＯ（ＯＨ）₂）、フェノール性水酸基、スルホンアミド基（−ＳＯ₂−ＮＲ² ₂）、イミド基（−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ²−Ｃ（＝Ｏ）−）等が挙げられる。ここで、上記Ｒ²はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を表し、１価の有機基としては、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基が好ましい。これらの中でも、成分Ａが有する酸基としては、カルボン酸基（−ＣＯＯＨ）、スルホン酸基（−ＳＯ₃Ｈ）、リン酸基（−ＯＰＯ（ＯＨ）₂）、ホスホン酸基（−ＰＯ（ＯＨ）₂）が好ましく、カルボン酸基、リン酸基がより好ましく、カルボン酸基が特に好ましい。
なお、上記酸基は、塩を形成していてもよく、例えば、アルカリ金属塩（例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等）、アルカリ土類金属塩（例えば、マグネシウム塩、カルシウム塩等）、有機カチオン塩（例えば、アンモニウム塩等）が例示される。

成分Ａは、エチレン性不飽和基を１つ以上有する化合物であり、単官能エチレン性不飽和化合物であってもよく、多官能エチレン性不飽和化合物でもよい。成分Ａはエチレン性不飽和結合を１〜６有することが好ましく、１〜４有することがより好ましく、１〜３有することが更に好ましく、１又は２有することが特に好ましく、１つ有することが最も好ましい。すなわち、成分Ａは単官能エチレン性不飽和化合物であることが最も好ましい。

成分Ａは、下記式（１）で表される化合物であることが好ましく、式（１’）で表される化合物であることがより好ましい。

（式（１）中、Ｒ¹は水素原子又は１価の有機基を表し、Ｘは単結合又は２価の有機基を表し、Ｚは酸基を表す。）

（式（１’）中、Ｒ^1’は水素原子又は１価の有機基を表し、Ｘ’は２価の連結基を表し、Ｒ^1'が結合する炭素原子と、Ｚ’とを結ぶ最短の原子数が５以上であり、Ｚ’は酸基を表す。）

Ｒ¹及びＲ^1’で示される１価の有機基の具体例としては、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数２〜１８のアルケニル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ²、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ³Ｒ⁴、−ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ²、−ＣＨ₂ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｒ²、−ＣＨ₂ＯＲ²（Ｒ²は水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数２〜１８のアルケニル基を表し、Ｒ³、Ｒ⁴は各々独立して水素、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数２〜１８のアルケニル基を表す。）、が挙げられる。Ｒ¹及びＲ^1’として好ましいのは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ²、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ³Ｒ⁴、−ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ²、−ＣＨ₂ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｒ²、−ＣＨ₂ＯＲ²（Ｒ²は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜６のアルケニル基を表し、Ｒ³、Ｒ⁴は各々独立して水素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜６のアルケニル基を表す。）であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ²、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ³Ｒ⁴、−ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ²、−ＣＨ₂ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｒ²、−ＣＨ₂ＯＲ²（Ｒ²は水素、炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ³、Ｒ⁴は各々独立して水素原子、又は、炭素数１〜３のアルキル基を表す。）であり、更に好ましくは、水素原子、メチル基、−ＣＯＯＭｅ、−ＣＯＯＨ、−ＣＨ₂ＯＣ（＝Ｏ）Ｍｅ、−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂ＯＭｅであり、特に好ましくは、水素原子又はメチル基である。なお、上記Ｍｅは、メチル基を意味する。

Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、２価の連結基であることがより好ましい。Ｘで示される２価の有機基の具体例としては、炭素（Ｃ）を必須成分として含み、酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、硫黄（Ｓ）、リン（Ｐ）、水素（Ｈ）、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、珪素（Ｓｉ）を適宜選択して形成される２価の有機基が挙げられる。中でもＸとしては、−Ａ¹−Ａ²−Ａ³−Ａ⁴−Ａ⁵−・・・−Ａⁿ−（式中、Ａⁿは水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、及び、ケイ素から選ばれる元素を表す。なお、夫々の元素が有する置換基同士が結合して環を形成してもよい。）、で示される２価の連結基を表し、ｎは３以上が好ましく、４以上がより好ましく、５以上が特に好ましい。当該置換基としては、炭素数１〜１２である置換基が好ましい。
すなわち、Ｘで表される２価の連結基は、Ｒ¹が結合する炭素と、Ｚ（酸基）とを結ぶ最短の原子数が３以上であることが好ましく、４以上であることがより好ましく、５以上であること（ＸがＸ’であること）が特に好ましい。上限は特に限定されないが、３０以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましく、１０以下であることが更に好ましい。また、Ａⁿは、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有する炭素；酸素（−Ｏ−）；水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい窒素（−ＮＲ−又は−Ｎ＝、Ｒは水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表す。）；硫黄（−Ｓ−）；水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有するリン；、及び、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有するケイ素；よりなる群から選択される。

かかる２価の有機基の具体例としては、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ−ＮＲ⁶−Ｃ（＝Ｏ）−Ｑ−＊＊、＊−フェニレン−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ−＊＊、＊−フェニレン−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ−＊＊、＊−フェニレン−ＣＨ₂−Ｏ−Ｑ−＊＊、フェニレン基、等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、＊はＸとＲ¹が結合する炭素原子との結合位置を示し、＊＊はＸとＺとの結合位置を示す。Ｒ⁵、Ｒ⁶は水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、又は、炭素数６〜１２アリール基を表す。Ｑは、それぞれ独立に、炭素数１〜３０の置換基を有していてもよいアルキレン基、又は、炭素数６〜１８の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素−炭素結合の間に、エーテル結合（−Ｏ−）を有していてもよい。なお、上記炭素数は、置換基の炭素数を含む全体の炭素数を意味する。
本発明において、Ｘとしては、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ−＊＊、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ−ＮＲ⁶−Ｃ（＝Ｏ）−Ｑ−＊＊、＊−フェニレン−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ−＊＊、＊−フェニレン−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ−＊＊、＊−フェニレン−ＣＨ₂−Ｏ−Ｑ−＊＊、が好ましく、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ’−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ’−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ’−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ’−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ’−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ’−＊＊がより好ましく、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ”−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ”−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ”−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ”−＊＊、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ⁵−Ｑ”−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ”−、が特に好ましい。ここで、Ｑ’は、それぞれ独立に、炭素数２〜２５の置換基を有していてもよいアルキレン基、又は、炭素数６〜１２の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素−炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。Ｑ”はそれぞれ独立に、炭素数２〜９の置換基を有していてもよいアルキレン基又は炭素数６〜１２の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素−炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。

Ｚ及びＺ’で示される酸基としては、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ₃Ｈ、−ＯＰＯ₃Ｈ₂、−ＰＯ₃Ｈ₂、等が挙げられ、中でも−ＣＯＯＨ、−ＯＰＯ₃Ｈ₂が好ましく、−ＣＯＯＨが特に好ましい。

本発明において、成分Ａは、エチレン性不飽和結合と酸基とが、何らかの連結基を介して結合していることが好ましく、酸基としては、カルボン酸基が好ましい。
すなわち、式（１）において、Ｒ¹が、水素原子、又は、メチル基であり、Ｚで示される酸基が、−ＣＯＯＨであり、Ｘが、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ”−＊＊、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｑ”−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ”−＊＊であることが特に好ましい。なお、Ｒ¹が結合する炭素原子と、Ｚとを結ぶ最短の原子数が５以上であることが特に好ましい。

酸基を有するモノマーの具体例としては、カルボン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマー、カルボン酸基を有するスチレン系モノマー、スルホン酸基を有する（メタ）アクリル系モノマー、スルホン酸基を有するスチレン系モノマー、リン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマー、その他酸基を有するモノマーが挙げられる。
カルボン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシ酢酸、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、４−（メタ）アクリロイルオキシブタン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ酢酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルマレイン酸、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキサノアート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートコハク酸、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートコハク酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートフタル酸等が例示される。
カルボン酸基を有するスチレン系モノマーとしては、４−カルボキシスチレン等が例示され、スルホン酸基を有する（メタ）アクリル系モノマーとしては、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸等が例示され、スルホン酸基を有するスチレン系モノマーとしては、４−ビニルベンゼンスルホン酸等が例示される。
リン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマーとしては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート、ポリオキシエチレン（メタ）アクリレートホスフェート等が例示され、その他酸基を有するモノマーとしては、ビニルホスホン酸、ビニルスルホン酸等が例示される。

酸基を有するモノマーの具体例の中でも、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルコハク酸、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルマレイン酸、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキサノアート、（２−（メタ）アクリロイルオキシ）エトキシ酢酸、４−（メタ）アクリロイルオキシブタン酸、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートコハク酸、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートコハク酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートフタル酸、が除去性に優れる点で特に好ましい。
以下に成分Ａとして好ましい化合物を例示するが、このような記載により何ら限定されるものではない。

上記式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表す。ｎは、１以上１０以下の整数を表す。

また、酸基を有するモノマーとしては、酸基を有する多官能モノマーも好適に使用することができる。酸基を有する多官能モノマーとしては、水酸基を２つ以上有するカルボン酸（例えば、酒石酸、シキミ酸、粘液酸等）の（メタ）アクリル酸エステル、水酸基を２つ以上有するカルボン酸と２−イソシアナトエチル（メタ）アクリレートの反応物、アミノ基を２つ以上有するカルボン酸（例えば、２，３−ジアミノプロパン酸、リジン、オルニチン、シスチン等）の（メタ）アクリル酸アミド、アミノ基を２つ以上有するカルボン酸と２−イソシアナトエチル（メタ）アクリレートの反応物、水酸基とアミノ基を合計２つ以上有するカルボン酸（例えば、セリン、スレオニン等）と（メタ）アクリル酸の脱水縮合物、水酸基とアミノ基を合計２つ以上有するカルボン酸と２−イソシアナトエチル（メタ）アクリレートの反応物、等が挙げられる。

成分Ａは、室温において液状であるものがより好ましい。また、酢酸エチルに対する室温での溶解性が５質量％以上であるものも好ましい。これら酸基を有するモノマーは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用することもできる。これら酸基を有するモノマーは、塩基（例えば、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、イミダゾール等）により酸基を一部又は全部を中和して用いてもよい。

（成分Ｂ）酸基を有するポリマー
本発明の人工爪組成物は、（成分Ｂ）酸基を有するポリマーを含有することが好ましい。
成分Ｂの構造については、特に制限はなく、任意の構造であればよく、例えば、鎖状構造、枝分かれ（分岐）構造、星型構造、架橋構造、網状構造などが挙げられる。
本発明に用いられる酸基を有するポリマーとしては、酸基を有する公知のポリマー（例えば、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、セルロース系ポリマー、エステル系ポリマー、アミド系ポリマー、ビニル系ポリマー、エーテル系ポリマー、スチレン系ポリマー、カーボネート系ポリマー、ウレア系ポリマー等）であればいずれも好適に使用することができる。これらのポリマーの中で、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマーが、除去性、強度、コスト、及び合成適性の観点から特に好ましい。
酸基としてはカルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、硫酸基、等の公知の酸基が挙げられるが、カルボン酸基が除去性、及び、安定性の観点から特に好ましい。
また、酸基は、ポリマー主鎖に対して側鎖、末端のどこに位置してもよいが、側鎖に位置する場合には、ポリマー主鎖と酸基との間に２つ以上の原子を含むことが好ましく、３つ以上の原子を含むことがより好ましく、４つ以上の原子を含むことが特に好ましい。主鎖末端に位置する場合には、少なくとも片方の主鎖末端に位置することが好ましく、両方の主鎖末端に位置することがより好ましい。更に末端と側鎖の両方に位置することも好ましい。

酸基を有するアクリル系ポリマーとしては、以下の式（２）で示されるモノマー単位を含有することが好ましい。

式中、Ｒ²は水素原子、メチル基、又は、−ＣＨ₂Ｙ¹を表し、Ｙ¹は、水酸基、ハロゲノ基、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ³、又は、−ＮＲ³Ｃ（＝Ｏ）Ｒ⁴を表し、Ｘ¹は−Ｏ−、又は、−ＮＲ³−を表し、Ｒ³、Ｒ⁴は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｌ¹は２価の連結基を表す。

Ｌ¹で表される２価の連結基としては、炭素を必須元素として含み、酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、硫黄（Ｓ）、リン（Ｐ）、水素（Ｈ）、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、珪素（Ｓｉ）から構成される２価の基であればいずれも好適に使用することができるが、Ｘ¹とＣＯＯＨを２原子以上隔てて連結する２価の基であることが好ましく、３原子以上隔てて連結する２価の基〔Ｘ¹−Ａ¹−Ａ²−・・・−Ａⁿ−ＣＯＯＨ（式中Ａⁿは原子を表し、ｎは３以上の整数を表す。）〕であることがより好ましく、４原子以上隔てて連結する２価の基〔Ｘ¹−Ａ¹−Ａ²−・・・−Ａⁿ−ＣＯＯＨ（式中Ａⁿは原子を表し、ｎは４以上の整数を表す。）〕であることが特に好ましい。Ｘ¹とカルボン酸基とを連結する最短（最小）の原子数は、大きいことが好ましく、このような２価の連結基を用いることで除去性が良好になる。なお、Ｘ¹とカルボン酸基とを連結する最小の原子数の上限は特に限定されないが、合成上及び除去性の観点から、３０以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましく、１０以下であることが更に好ましい。

Ｌ¹の具体例としては、＊−Ｑ−＊＊、＊−Ｑ−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ−＊＊、＊−Ｑ−ＮＲ³Ｃ（＝Ｏ）−Ｑ−＊＊が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、＊はＸ¹とＬ¹との結合位置を示す。Ｑは、それぞれ独立に、炭素数１〜３０の置換基を有していてもよいアルキレン基、又は、炭素数６〜１８の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素−炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。なお、上記炭素数は、置換基の炭素数を含む全体の炭素数を意味する。Ｒ³は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表す。
本発明において、Ｌ¹としては、＊−Ｑ−＊＊、又は、＊−Ｑ−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ−＊＊、＊−Ｑ−ＮＲ³Ｃ（＝Ｏ）−Ｑ−＊＊が好ましく、＊−Ｑ’−＊＊、又は、＊−Ｑ’−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ’−＊＊、＊−Ｑ’−ＮＲ³Ｃ（＝Ｏ）−Ｑ’−＊＊がより好ましく、＊−Ｑ”−＊＊、又は、＊−Ｑ”−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｑ”−＊＊、＊−Ｑ”−ＮＲ³Ｃ（＝Ｏ）−Ｑ”−＊＊が更に好ましい。ここで、Ｑ’は、それぞれ独立に、炭素数２〜２４の置換基を有していてもよいアルキレン基、又は、炭素数６〜１２の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素−炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。Ｑ”はそれぞれ独立に、炭素数２〜１８の置換基を有していてもよいアルキレン基又は炭素数６〜１２の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素−炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。Ｑ’は炭素数２〜２４のアルキレン基であることが好ましく、アルキレン基は直鎖状又は分岐状であることが好ましく、炭素−炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。Ｑ”は、炭素数２〜１８の置換基を有していてもよいアルキレン基であることが好ましく、アルキレン基は直鎖状又は分岐状であることが好ましく、炭素−炭素結合中にエーテル結合を有していてもよい。

カルボン酸基を有するアクリル系ポリマーとしては、カルボン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマーを用いて合成されたアクリル系ポリマーが挙げられる。上記カルボン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシプロピルフタル酸、２−メタクリロイルオキシプロピルフタル酸、２−アクリロイルオキシプロピルコハク酸、２−メタクリロイルオキシプロピルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシ酢酸、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、４−（メタ）アクリロイルオキシブタン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ酢酸、２−メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、６−アクリロイルオキシヘキサノエート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートコハク酸、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートコハク酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートフタル酸が例示される。
カルボン酸基を有するアクリル系ポリマーの合成に用いられるこれらカルボン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマーの中でも、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシプロピルフタル酸、２−メタクリロイルオキシプロピルフタル酸、２−アクリロイルオキシプロピルコハク酸、２−メタクリロイルオキシプロピルコハク酸、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ酢酸、２−メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、６−アクリロイルオキシヘキサノエート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートコハク酸、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートコハク酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートフタル酸、がより好ましく、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシプロピルフタル酸、２−メタクリロイルオキシプロピルフタル酸、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート（アクリル酸ダイマー）、６−アクリロイルオキシヘキサノエート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートコハク酸、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートコハク酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートヘキサヒドロフタル酸、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートフタル酸、が特に好ましい。

本発明に用いられるカルボン酸基を有するアクリル系ポリマーの合成においては、公知のアクリル酸エステルモノマー（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル等）、メタクリル酸エステルモノマー（例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル等）、アクリルアミドモノマー（例えば、アクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン等）、メタクリルアミドモノマー（例えば、メタクリルアミド）、その他エチレン性不飽和結合を有するモノマー（例えば、スチレン、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン等）を共重合成分として使用してもよい。

酸基を有するアクリル系ポリマーは、上記式（２）で表されるモノマー単位を、５〜５０モル％含有することが好ましく、１０〜４５モル％含有することがより好ましく、１５〜４０モル％含有することが更に好ましい。

カルボン酸基を有するウレタン系ポリマーとしては、以下の式（３）で示されるモノマー単位を含有するウレタン系ポリマーが好ましい。

（式（３）中、Ｌ²、Ｌ³、及びＬ⁴はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、Ｗは、Ｎ又はＣＲ³を表し、Ｒ³は１価の基を表す。）

Ｌ²、Ｌ³で表される２価の連結基としては、炭素を必須元素として含み、水素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン、珪素から構成される２価の基であればいずれも好適に使用することができる。Ｌ²、Ｌ³で表される２価の連結基は、炭素数１〜１２のアルキレン基、又は、炭素数６〜１２のアリーレン基であることが好ましく、炭素数１〜１２のアルキレン基であることがより好ましい。上記アルキレン基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、また、炭素−炭素結合の間に１つ以上のエーテル結合を有していてもよい。２価の連結基の例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基、−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｏ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、ポリ（オキシエチレン）基、ポリ（オキシプロピレン）基などが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

Ｌ⁴で表される２価の連結基としては、炭素を必須元素として含み、水素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン、珪素から構成される２価の基であればいずれも好適に使用することができるが、ＷとＣＯＯＨを２原子以上隔てて連結する２価の基〔Ｗ−Ａ¹−Ａ²−・・・Ａⁿ−ＣＯＯＨ（式中Ａⁿは原子を表し、ｎは２以上の整数を表す）〕であることが好ましく、３原子以上隔てて連結する２価の基〔Ｗ−Ａ¹−Ａ²−・・・Ａⁿ−ＣＯＯＨ（式中Ａⁿは原子を表し、ｎは３以上の整数を表す）〕であることがより好ましく、４原子以上隔てて連結する２価の基〔Ｗ−Ａ¹−Ａ²−・・・Ａⁿ−ＣＯＯＨ（式中Ａⁿは原子を表し、ｎは４以上の整数を表す）〕であることが特に好ましい。このような２価の連結基を用いることで除去性が良好になる。
Ｌ⁴としては、＊−Ｑ−＊＊、又は、＊−Ｃ（＝Ｏ）−Ｑ−＊＊であることが好ましい。ここで、＊はＷとＬ⁴との結合位置を示す。Ｑは、炭素数１〜１８の置換基を有していてもよいアルキレン基、又は、炭素数６〜１２の置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素−炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。なお、上記炭素数は、置換基の炭素数を含む全体の炭素数を意味する。
Ｌ⁴は、＊−Ｑ’−＊＊、又は、＊−Ｃ（＝Ｏ）−Ｑ’−＊＊であることがより好ましく、＊−Ｑ”−＊＊、又は、＊−Ｃ（＝Ｏ）−Ｑ”−＊＊であることが更に好ましい。ここで、＊はＷとＬ⁴との結合位置を示す。Ｑ’は、炭素数１〜１２の置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素−炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。なお、上記炭素数は、置換基の炭素数を含む全体の炭素数を意味する。Ｑ”は、炭素数２〜８の置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、アルキレン基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、炭素−炭素結合の間に、エーテル結合を有していてもよい。なお、上記炭素数は、置換基の炭素数を含む全体の炭素数を意味する。

上記Ｗは、Ｎ又はＣＲ³を表し、Ｎであることが好ましい。
Ｒ³は１価の基を表し、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基であることがより好ましい。

式（３）で表されるモノマー単位を以下に例示するが、本発明は以下の具体例に何ら限定されるものではない。

ウレタン系ポリマーは、式（３）で表されるモノマー単位を形成するカルボキシ基含有ジオール化合物と、ポリイソシアネート化合物との反応により得られる。
好適に使用されるイソシアネート化合物としては、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート、トリレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート等が例示される。
なお、式（３）で表されるモノマー単位を形成するカルボキシ基含有ジオール化合物に加え、他のアルコール化合物を併用してもよい。

カルボン酸基を有するウレタン系ポリマーとしては、末端にカルボン酸基を有するウレタン系ポリマーも好ましい。
カルボン酸基を有するウレタン系ポリマーとしては、カルボン酸基を有するモノオール化合物（例：グリコール酸、乳酸、３−ヒドロキシブタン酸、３−ヒドロキシ−３−メチルグルタル酸、リンゴ酸、クエン酸、サリチル酸等）、カルボン酸基を有するジオール化合物（例：２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸、酒石酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、Ｎ，Ｎ−ビスヒドロキシエチルコハク酸モノアミド等）、又は、カルボン酸基を有するポリオール化合物（例：シキミ酸、ガラクタル酸、グルコン酸等）と、公知のイソシアネート化合物（イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート、トリレンジイソシアネート等）と、任意にその他アルコール化合物（メタノール、エタノール、１，４−ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール等）とを反応させることにより得られるウレタン系ポリマーが挙げられる。

本発明に用いられる成分Ｂとしてはコポリマー、オリゴマーも含むものとする。酸基を有するポリマーのＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量としては、３，０００以上１００万以下が好ましく、４，０００以上５０万以下がより好ましく、５，０００以上２５万以下が特に好ましい。
成分Ｂの重量平均分子量が上記範囲内であると、人工爪の持続性と除去性がよくなるので好ましい。
本発明に用いられるポリマーは、ラジカル重合性官能基を有していてもよい。ラジカル重合性官能基としては、（メタ）アクリル酸エステル基、（メタ）アクリル酸アミド基、スチレン基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基、が好ましく、（メタ）アクリル酸エステル基、（メタ）アクリル酸アミド基、がより好ましく、（メタ）アクリル酸エステル基が特に好ましい。

本発明において、成分Ｂが酸基としてカルボキシル基を有する場合、成分Ｂにおけるカルボキシル基当量は、０．２５〜５．０ｍｅｑ／ｇであることが好ましく、０．５〜４．０ｍｅｑ／ｇであることがより好ましく、０．７５〜３．０ｍｅｑ／ｇであることが更に好ましい。

本発明の人工爪組成物においては、成分Ａ及び／又は成分Ｂのいずれかを必須成分として含有する。成分Ａ及び成分Ｂの人工爪組成物中の使用量としては、合計して、１０質量％以上９５質量％以下が好ましく、２０質量％以上９０質量％以下がより好ましく、３０質量％以上８５質量％以下が特に好ましい。成分Ａと成分Ｂを併用する場合、成分Ｂに対する成分Ａの比率（質量比、Ａ／Ｂ）は、１／１０以上１０／１以下が好ましく、２／１０以上１０／２以下がより好ましく、３／１０以上１０／３以下が特に好ましい。上記使用量により人工爪被膜の除去性が良化する。

また、本発明の人工爪組成物は、被膜性や光沢性を向上させることを目的に、成分Ｂ以外のポリマーを含有していてもよい。
特に、本発明の人工爪組成物が成分Ａを含有する場合には、何らかのポリマー成分を含有することが好ましく、成分Ｂ以外のポリマーを含有することも好ましい態様である。
成分Ｂ以外のポリマーとしては、被膜性の観点から、アクリル系ポリマー又はウレタン系ポリマーであることが好ましい。また、塗布性を向上させることを目的に、粘度調整剤（増粘剤等）として知られる公知のポリマーを含有していてもよい。
本発明の人工爪組成物が成分Ａを含有せず、かつ、成分Ｂを含有する場合、成分Ｂ以外のポリマーの含有量は、成分Ｂの含有量未満であることが好ましく、人工爪組成物の全質量に対し、２０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましく、含有しないことが特に好ましい。
なお、本発明において、成分Ａを含有する場合、ポリマー成分として成分Ｂを使用することも好ましい態様である。

（成分Ｃ）その他の重合性化合物
本発明の人工爪組成物は、（成分Ｃ）その他の重合性化合物を含有することが好ましい。成分Ｃは、酸基を有しない重合性化合物である。特に、本発明の人工爪組成物が成分Ｂを含有する場合には、成分Ｃを含有することにより、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
また、本発明の人工爪組成物が成分Ａ及び／又は成分Ｃを含有する場合、並びに、成分Ｂがラジカル重合性基を有する場合、後述する（成分Ｄ）光重合開始剤を更に含有することが好ましい。成分Ｄを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物としてより好適に用いることができる。

成分Ｃとしては、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
また、成分Ｃとしては、エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は１種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で２種以上を併用してもよい。また、単官能化合物よりも官能基を２つ以上持つ多官能化合物の方が好ましい。また、多官能化合物を２種以上併用して用いることが、反応性、物性などの性能を制御する上で更に好ましい。
また、成分Ｃは、成分Ａ及び成分Ｂ以外の化合物であり、分子量３，０００未満の化合物であることが好ましく、分子量１，０００未満の化合物であることがより好ましい。

ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸のエステルやアミド、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のオリゴマーなどのラジカル重合性化合物が挙げられる。
具体的には、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年（株）大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、（株）シーエムシー出版）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、（株）日刊工業新聞社）等に記載の市販品若しくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、及び、オリゴマーを用いることができる。

成分Ｃとしては、得られる人工爪の除去性、密着性及び光沢の観点から、ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和化合物、又は、（ポリ）アルキレンオキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物、又は、（ポリ）アルキレンオキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましく、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことが更に好ましく、ヒドロキシ基を有する単官能（メタ）アクリレート化合物を含むことが特に好ましい。

ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール−モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・テトラメチレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール・テトラメチレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリブチレングリコール−モノ（メタ）アクリレートを好ましく挙げることができる。

（ポリ）アルキレンオキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、メトキシポリエチレングリコール−（メタ）アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−（メタ）アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール−（メタ）アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール−（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール−（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシ−ポリエチレングリコール−（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシ−ポリプロピレングリコール−（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシ−ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）−（メタ）アクリレートを好ましく挙げることができる。

上記ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物、及び、（ポリ）アルキレンオキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物は、市販のものを用いることが可能である。代表例を示すと、ブレンマーＥ、ブレンマーＰＥ−９０、ブレンマーＰＥ−２００、ブレンマーＰＥ−３５０、ブレンマーＰ、ブレンマーＰＰ−１０００、ブレンマーＰＰ−５００、ブレンマーＰＰ−８００、ブレンマー５０ＰＥＰ−３００、ブレンマー７０ＰＥＰ−３５０Ｂ、ブレンマー５５ＰＥＴ−８００、ブレンマーＰＰＴシリーズ、ブレンマー１０ＰＰＢ−５００Ｂ、ブレンマーＡＥ−９０、ブレンマーＡＥ−２００、ブレンマーＡＥ−４００、ブレンマーＡＰ−１５０、ブレンマーＡＰ−４００、ブレンマーＡＰ−５５０、ブレンマーＰＭＥ−１００、ブレンマーＰＭＥ−２００、ブレンマーＰＭＥ−４００、ブレンマーＰＭＥ−１０００、ブレンマー５０ＰＯＥＰ−８００Ｂ、ブレンマーＰＬＥ−２００、ブレンマーＰＳＥ−４００、ブレンマーＰＳＥ−１３００、ブレンマーＰＡＥ−５０、ブレンマーＰＡＥ−１００、ブレンマー４３ＰＡＰＥ−６００Ｂ、ブレンマーＡＭＥ−４００、ブレンマーＡＬＥシリーズ、ブレンマーＡＮＰ−３００、ブレンマー７５ＡＮＰ−６００、ブレンマーＡＡＥ−５０、ブレンマーＡＡＥ−３００（以上、日油（株）製）等を挙げることができる。

ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を使用する場合、当該化合物におけるヒドロキシ基の数は、１〜１０個が好ましく、１〜５個がより好ましく、１〜３個が更に好ましく、１個が特に好ましい。
また、（ポリ）アルキレンオキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を使用する場合、当該化合物におけるアルキレンオキシ基の繰り返し単位数としては、１〜２５が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜１０が更に好ましい。

これらの中でも、成分Ｃは、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましく、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートを含むことがより好ましく、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを含むことが更に好ましい。

成分Ｃは、得られる人工爪の耐水性の観点から、多官能重合性化合物を含んでもよい。
多官能重合性化合物として、ウレタン結合を有する多官能（メタ）アクリレート化合物、ポリオール（メタ）アクリレート化合物、等が例示される。
ウレタン結合を有する多官能（メタ）アクリレート化合物としては、イソシアナト基と水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物が好ましく挙げられる。そのような具体例としては、例えば、１分子に２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物に、水酸基を含有するエチレン性不飽和モノマーを付加させた１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を含有するウレタン化合物等が挙げられる。
中でも、上記イソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビスフェニルイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、Ｂａｙｅｒ社製ＤＥＳＭＯＤＵＲ（登録商標）類、等が好ましく挙げられる。

上記水酸基を含有するエチレン性不飽和モノマーの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール−モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・テトラメチレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール・テトラメチレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリブチレングリコール−モノ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、を好ましく挙げることができる。

ポリオール（メタ）アクリレート化合物としては、２官能以上のポリオール化合物の（メタ）アクリル酸エステルが好ましく挙げられる。そのような具体例としては、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌル酸、２，２−ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキシフェニル）プロパン、等を好ましく挙げることができる。

成分Ｃは、１種単独で含有していても、２種以上を併用していてもよい。
本発明の人工爪組成物における成分Ｃの含有量は、特に制限はないが、成分Ａを含む重合性化合物の総量として、人工爪組成物の全質量に対し、１〜８０質量％であることが好ましく、３〜７０質量％であることがより好ましく、１０〜６０質量％であることが更に好ましく、２０〜５０質量％であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の除去性及び耐水性により優れる。

（成分Ｄ）光重合開始剤
本発明の人工爪組成物は、（成分Ｄ）光重合開始剤を含むことが好ましい。成分Ｄを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
光重合開始剤としては、ラジカル光重合開始剤、及び、カチオン光重合開始剤が挙げられるが、ラジカル光重合開始剤を含有することがより好ましい。
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができる。本発明に用いることができる光重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、ラジカル光重合開始剤とカチオン光重合開始剤とを併用してもよい。
本発明に用いることのできる光重合開始剤は、光を吸収して重合開始種を生成する化合物である。光としては、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線が例示できる。これらの中でも、紫外線が好適に使用される。

本発明に用いることができる光重合開始剤として具体的には、以下のものを好ましく例示できる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
アセトフェノン誘導体（例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等）；
ベンゾフェノン誘導体（例えば、ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシ−ベンゾフェノン等）；
アントラキノン誘導体（例えば、アントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン等）；
チオキサントン誘導体（例えば、２−クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等）；
トリハロアルキル化合物（例えば、２，４，６−（トリクロロメチル）トリアジン、２，４−トリクロロメチル−６−（４−メトキシフェニル）トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等）；
ロフィンダイマー誘導体（例えば、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体）；
アクリジン誘導体（例えば、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロノパン）；
ホスフィンオキシド誘導体（例えば、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド等）；
メタロセン誘導体（例えば、ビスシクロペンタジエニル−ビス（ジフルオロ−ピリル−フェニル）チタニウム等）；
オニウム塩（例えば、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等）；
オキシムエステル誘導体（例えば、１−（４−フェニルチオフェニル）−１，２−オクタンジオン−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等）；
ボレート塩（例えば、テトラフェニルボレートナトリウム塩等）；
過酸化物（例えば、過安息香酸−ｔ−ブチル等）。

本発明に用いられる光重合開始剤は、人工爪組成物の光硬化性や光選択性を付与するために適宜選択されるが、これらの中でも、成分Ｄとしては、アセトフェノン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ロフィンダイマー誘導体、ホスフィンオキシド誘導体、メタロセン誘導体、オキシムエステル誘導体、オニウム塩、及び、ボレート塩よりなる群から選択された光重合開始剤であることが好ましく、アセトフェノン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ホスフィンオキシド誘導体、メタロセン誘導体及びオキシムエステル誘導体よりなる群から選択された光重合開始剤であることがより好ましい。
本発明の人工爪組成物中における成分Ｄの含有量としては、人工爪組成物の総質量に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜１５質量％であることがより好ましく、０．５〜１２質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の密着性、光沢及び耐水性により優れる。

（成分Ｅ）溶剤
本発明の人工爪組成物は、塗布性の観点から、（成分Ｅ）溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、公知の溶剤であれば、いずれも好適に使用することができる。例えば、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤及びこれらのアセテート系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、メチル−ｔ−ブチルエーテル等のエーテル系溶剤、水等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。

乾燥速度の観点から、溶剤の沸点は、３０〜１３０℃であることが好ましく、３５〜１００℃であることがより好ましく、４０〜９０℃であることが更に好ましく、５０〜８５℃であることが特に好ましい。上記範囲であると、乾燥性及び塗布性に優れる。

成分Ｅは、１種単独で含有していても、２種以上を併用していてもよい。
成分Ｅとしては、アルコール系溶剤及び／又はケトン系溶剤を含むことが好ましく、アルコール系溶剤及びケトン系溶剤を含むことがより好ましい。
本発明の人工爪組成物における成分Ｅの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、１〜９０質量％であることが好ましく、２〜８０質量％であることがより好ましく、３〜８０質量％であることが更に好ましく、５〜５０質量％であることが特に好ましい。上記範囲であると、塗布性により優れ、得られる人工爪の除去性及び密着性により優れる。

＜その他の成分＞
本発明の人工爪組成物は、上記成分Ａ〜成分Ｅ以外のその他の成分として、一般に人工爪組成物中に配合されうる添加成分を、本発明効果を損なわない範囲内において任意に配合することができる。このような添加成分としては、例えば、消泡剤、緩衝剤、キレート化剤、分散剤、染料、充填剤、顔料、防腐剤、樹脂粉末（例えば、ポリ（メタ）アクリル酸等）、無機粉末（例えば、シリカゲル等）、増粘剤、湿潤剤、ラジカル重合抑制剤（重合禁止剤）等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。

また、本発明の人工爪組成物における各成分の配合量は、特に限定されるものではないが、質量比で、成分Ａ及び成分Ｃ／成分Ｂ及びその他のポリマー／成分Ｄ／その他の成分＝０〜７０／１０〜９０／０〜２５／０〜２０の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、塗布性により優れ、また、得られる人工爪の除去性及び光沢により優れる。

本発明の人工爪組成物をマニキュア液用人工爪組成物として使用する場合には、人工爪組成物は、成分Ｂ及び成分Ｅを少なくとも含有することが好ましく、これに加えて、成分Ｂ以外のポリマー、一般に人工爪組成物中に配合されうるその他の添加成分を任意に配合することができる。
また、本発明の人工爪組成物を光硬化性人工爪組成物（ジェルネイル用人工爪組成物）として使用する場合には、人工爪組成物は、成分Ａと成分Ｄとを少なくとも含有するか、成分Ｂと、成分Ａ及び／又は成分Ｃと、成分Ｄとを含有することが好ましい。また、成分Ａと成分Ｄとを含有する場合、成分Ｂ及び／又は成分Ｂ以外のポリマーを含有することが好ましい。また、上記の成分に加え、成分Ｅ、一般に人工爪組成物中に配合されうるその他の添加成分を任意に配当することができる。

本発明の人工爪組成物の酸価は、０．５ｍｍｏｌ／ｇ〜７．０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、０．７５ｍｍｏｌ／ｇ〜６．５ｍｍｏｌ／ｇであることがより好ましく、１．０ｍｍｏｌ／ｇ〜６．０ｍｍｏｌ／ｇであることが更に好ましい。人工爪組成物の酸価が上記範囲内であると、除去性及び持続性が良好となる。
酸価が上記範囲内となるように、成分Ａ及び／又は成分Ｂの含有量等を適宜調整することが好ましい。

（人工爪）
本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪であり、本発明の人工爪組成物を乾燥及び／又は露光して形成された層を有する人工爪であることが好ましい。
本発明の人工爪は、マニキュア、ペディキュア等のネイルポリッシュや、ジェルネイルとして好適である。
本発明の人工爪は、少なくとも一部が本発明の人工爪組成物により形成されていればよく、他の層や構造を有していてもよいし、人工爪全体が本発明の人工爪組成物により形成されていてもよい。
本発明の人工爪組成物により形成された層は、本発明の人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び／又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を１層のみ有していても、２層以上有していてもよい。
中でも、除去性の観点から、本発明の人工爪組成物により形成した少なくとも１層が爪と接している層であることが好ましい。

本発明において、光硬化性の人工爪組成物を用いて人工爪を形成するには、まず爪上（ヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上）に本発明の人工爪組成物を塗布した後、紫外線を照射して、本発明の人工爪組成物を光硬化させることで形成することができる。
好ましくは、まず爪上に本発明の人工爪組成物を塗布した後、紫外線を照射して、本発明の人工爪組成物を光硬化させてベース層を形成し、その後、着色剤を含む公知の人工爪組成物又は着色剤を含む本発明の人工爪組成物を塗布して光硬化することによりカラー層を形成し、最後に公知の人工爪組成物又は本発明の人工爪組成物を塗布することによりトップ層を形成することで形成することができる。

図１に、本発明においてより好ましい人工爪の構成について示す。
本発明において、より好ましくは、まず爪１上に本発明の人工爪組成物を塗布した後、紫外線を照射して、本発明の人工爪組成物を光硬化させてベース層２を形成し、その後、着色剤を含む公知の人工爪組成物を塗布して光硬化することによりカラー層３を形成し、最後に公知の人工爪組成物を塗布することによりトップ層４を形成することで人工爪を形成することができる。このように形成することで人工爪の安定性を向上させることができる。また、より好ましくは、爪１上に本発明の人工爪組成物を塗布した後、紫外線を照射して、本発明の人工爪組成物を光硬化させてベース層２を形成し、その後、着色剤を含む本発明の人工爪組成物を塗布して光硬化することによりカラー層３を形成し、最後に本発明の人工爪組成物を塗布することによりトップ層４を形成することで形成することができる。このように形成することで人工爪の除去性をより向上させることができる。
また、本発明の人工爪における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、１０〜２，０００μｍであることが好ましく、２０〜１，５００μｍであることがより好ましく、２０〜４００μｍが更に好ましい。

（人工爪の形成方法）
本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物を用いて人工爪を形成する方法であれば、特に制限はないが、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、上記塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程、を含む方法であることが好ましい。
本発明の人工爪組成物を人工爪として形成するには、乾燥又は露光のいずれかの形成方法を好適に選択することができる。
本発明の人工爪組成物は、成分Ａを含有する場合、成分Ｂ及び／又は成分Ｂ以外のポリマーと、（成分Ｄ）光重合開始剤とを含有することが好ましく、任意に（成分Ｅ）溶剤を含有していてもよい。
また、本発明の人工組成物が成分Ｂを含有する場合、成分Ａ及び／又は成分Ｃと、成分Ｄとを少なくとも含むか、成分Ｅを少なくとも含むことが好ましい。
また、本発明の人工爪の形成方法における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、１０〜２，０００μｍであることが好ましく、２０〜１，５００μｍであることがより好ましく、２０〜４００μｍが更に好ましい。

＜塗布工程＞
本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程（塗布工程）を含むことが好ましい。
他の人工爪は、人工爪に用いられる基材であれば、特に制限はなく、例えば、樹脂基材、本発明の人工爪の形成方法以外の方法により形成された人工爪、又は、本発明の人工爪の形成方法により得られた人工爪が挙げられる。
塗布方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法が好ましく挙げられる。また、スプレー塗布やインクジェット塗布を行ってもよい。
塗布膜の厚さについても、特に制限はなく、得られる人工爪における所望の厚さを考慮して、塗布厚を適宜調整すればよい。

＜乾燥又は露光工程＞
本発明の人工爪の形成方法は、上記塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程（乾燥又は露光工程）を含むことが好ましい。

−乾燥工程−
乾燥により人工爪を形成する場合、使用する本発明の人工爪組成物は、（成分Ｅ）溶剤を含有していることが好ましい。
乾燥方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよい。
具体的には、例えば、室温（例えば、１０〜３０℃）にて放置乾燥する方法、気流下において放置乾燥する方法、加熱乾燥する方法、及び、これらを組み合わせた方法が好ましく挙げられる。加熱方法としては、特に制限はないが、室温より高い温度の雰囲気下に放置する方法、加熱気流下に放置する方法、ヒーターや赤外線ランプ（ＩＲランプ）等の加熱手段により加熱する方法が例示できる。
乾燥時間としては、特に制限はなく、人工爪組成物の組成や、乾燥方法、塗布厚によって適宜調整すればよいが、簡便性及びセルフレベリングによる平滑性や光沢性付与の観点から、１０秒〜２０分であることが好ましく、１５秒〜１０分であることがより好ましく、３０秒〜５分であることが更に好ましく、３０秒〜２分であることが特に好ましい。

−露光工程−
露光により人工爪を形成する場合、使用する本発明の人工爪組成物は、（成分Ａ）エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び／又は、（成分Ｃ）その他の重合性化合物、並びに、（成分Ｄ）光重合開始剤を含有していることが好ましい。
また、本発明の人工爪組成物が、これらの成分に加え、（成分Ｅ）溶剤を含有している場合、露光を行う前に、乾燥を行うことが好ましい。
露光に使用する光としては、紫外線、可視光線などが挙げられ、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。
露光手段としては、特に制限はなく、公知の露光手段を用いることができるが、例えば、水銀ランプ及びメタルハライドランプ等の紫外線ランプ（ＵＶランプ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザーダイオード（ＬＤ）等が挙げられる。
中でも、ＵＶランプ、又は、紫外線発光ダイオード（ＵＶ−ＬＥＤ）が好ましい。
露光時間としては、特に制限はないが、０．５〜１５分が好ましく、０．５〜１０分がより好ましく、０．５〜７分が更に好ましい。また、露光は、間歇的に行っても、連続的に行ってもよいし、パルス光により行ってもよく、任意の方法で露光すればよい。

本発明の人工爪の形成方法は、得られる人工爪の光沢や美観、また、露光を行った場合は未硬化成分の除去の観点から、乾燥又は露光工程の後、得られた人工爪の表面を洗浄又は拭き取る工程を更に含むことが好ましい。
洗浄又は拭き取り方法としては、エタノール等の溶剤を含ませたワイプシートやスポンジワイプ等の拭き取り基材により拭き取る方法、エタノール等の溶剤や水により洗浄する方法が例示できる。
また、洗浄又は拭き取りに使用する溶剤としては、得られた人工爪を溶解しない溶剤であることが好ましい。
また、本発明の人工爪の形成方法は、露光を行う場合、塗布工程の前に、ヒト若しくは動物の爪、又は、他の人工爪の表面を粗面化する工程を含むことが好ましい。上記態様であると、露光して得られる人工爪（ジェルネイル）の密着性及び耐久性に優れる。
爪表面の粗面化方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。例えば、ファイル等の爪用やすりにより粗面化を行う方法が好ましく挙げられる。
また、本発明の人工爪の形成方法は、その他、公知の工程を含んでいてもよい。

（人工爪の除去方法）
本発明の人工爪の除去方法は、本発明の人工爪を除去液に接触させて除去する工程（除去工程）を含む。
上記除去液は、ｐＨ８以上１１以下の水溶液である。
本発明の人工爪組成物は、従来の除去液であるアセトン等の有機溶媒でも除去可能であるが、ｐＨ８以上１１以下の水溶液によって、より安全に皮膚・爪に負担を与えずに除去することが可能である。本発明で好適に用いられる除去液は、塩基性にするための有機・無機酸成分、水、任意に安定剤、任意に界面活性剤からなることが好ましい。以下に好ましい除去液の態様について記載する。

本発明において、除去液は、ｐＨ８以上１１以下であればどのような組成の水溶液でも好適に使用することができるが、除去液のｐＨを８〜１１に保つためのアルカリ剤（ｐＨ緩衝剤ともいう。）を必須成分として含み、除去性を向上させるための界面活性剤を含有することが好ましい。

＜アルカリ剤（ｐＨ緩衝剤）＞
除去液のｐＨを８〜１１に保つためのアルカリ剤（ｐＨ緩衝剤）としては、公知のいずれの化合物も使用することができるが、炭酸塩（炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、炭酸水素塩（炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、水酸化物塩（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、リン酸塩（リン酸三ナトリウム等）、硼酸塩（硼酸カリウム等）、有機アミン化合物（トリエチルアミン、トリエタノールアミン等）が好ましく、炭酸塩、炭酸水素塩、が特に好ましい。また、これらのアルカリ剤は混合して使用してもよく、炭酸塩と炭酸水素塩とを併用することが特に好ましい。
本発明に用いられる除去液におけるアルカリ剤の含有率は、除去液の質量に対して１〜２０質量％が好ましく、３〜１５質量％がより好ましく、４〜１２質量％が特に好ましい。総量が１質量％以上であると除去性が低下せず、２０質量％以下であるとアルカリ剤等の沈殿や結晶を生成しにくくなる。

＜界面活性剤＞
界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、中性界面活性剤、両性界面活性剤等の公知の界面活性剤を使用することができる。
アニオン系界面活性剤としては、カルボン酸塩類（例：リノール酸ナトリウム、オレイン酸カリウム等）、スルホン酸塩類（例：アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類等）、硫酸モノエステル塩類（例：アルキル硫酸エステル塩類等）、リン酸エステル塩類（例：アルキル燐酸エステル塩類等）、等が挙げられる。これらの中でもスルホン酸塩類、カルボン酸塩類が好ましく、スルホン酸塩類がより好ましく、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類及びアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
カチオン系界面活性剤としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。

ノニオン系界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−（プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド）ブロックコポリマー等や、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。
本発明においては、ソルビトール及び／又はソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−（プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド）ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルがより好ましい。
また、水に対する安定な溶解性又は混濁性の観点から、ノニオン系界面活性剤としては、ＨＬＢ（Ｈｙｄｏｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ Ｂａｌａｎｃｅ）値が、６以上であることが好ましく、８以上であることがより好ましい。また、アセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ素系、シリコン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。

両性界面活性剤は、界面活性剤の分野においてよく知られているように、アニオン性部位とカチオン性部位を同一分子内に持つ化合物であり、アミノ酸系、ベタイン系、アミンオキシド系等の両性界面活性剤が含まれる。本発明で使用する除去液に用いられる両性界面活性剤としては、下記式＜１＞で表される化合物及び下記式＜２＞で表される化合物が好ましい。

式＜１＞中、Ｒ８はアルキル基を表し、Ｒ９及びＲ１０は各々水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ１１はアルキレン基を表し、Ａはカルボン酸イオン又はスルホン酸イオンを表す。
式＜２＞中、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、各々水素原子又はアルキル基を表す。ただし、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０のすべてが、水素原子であることはない。

上記式＜１＞において、Ｒ８、Ｒ９又はＲ１０で表されるアルキル基及びＲ１１で表されるアルキレン基は、直鎖でも分枝鎖でもよく、また、鎖中に連結基を有していてもよく、更に、置換基を有していてもよい。連結基としては、エステル結合、アミド結合、エーテル結合などのヘテロ原子を含むものが好ましい。また、置換基としては、ヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、フェニル基、アミド基、ハロゲン原子などが好ましい。また、Ｒ８、Ｒ９又はＲ１０は互いに環状に連結していてもよい。環状に連結する形態としては、５員環又は６員環を形成するものが好ましく、特に環がヘテロ原子を含む複素環であることが好ましい。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が好ましい。特に、置換イミダゾール環、置換イミダゾリン環、置換イミダゾリジンなどのカチオン構造であることが好ましい。
式＜１＞で示される化合物において、総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の除去液への溶解が困難となる。この場合、有機溶剤、例えば、アルコール等の溶解助剤を添加することにより、良化はするが、総炭素数値が大きくなりすぎた場合、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない場合がある。従って、Ｒ８〜Ｒ１１の炭素数の総和は好ましくは、８〜２５であり、より好ましくは１１〜２１である。

上記式＜２＞において、Ｒ１８、Ｒ１９又はＲ２０で表されるアルキル基は、直鎖でも分枝鎖でもよく、また、鎖中に連結基を有していてもよく、更に、置換基を有していてもよい。連結基としては、エステル結合、アミド結合、エーテル結合などのヘテロ原子を含むものが好ましい。また、置換基としては、ヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、フェニル基、アミド基、ハロゲン原子などが好ましい。
式＜２＞で示される化合物において、総炭素数値が大きくなると疎水部分が大きくなり、水系の除去液への溶解が困難となる。この場合、有機溶剤、例えば、アルコール等の溶解助剤を添加することにより、良化はするが、総炭素数値が大きくなりすぎた場合、適正混合範囲内で界面活性剤を溶解することはできない場合がある。従って、Ｒ１８〜Ｒ２０の炭素数の総和は好ましくは、８〜２２であり、より好ましくは１０〜２０である。

これらの界面活性剤は、人工爪組成物に使用される素材に合わせて適宜選択されるが、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤が好ましく、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤が特に好ましい。また、２種以上の界面活性剤を併用することも可能であり、併用する場合は、アニオン性界面活性剤同士、両性界面活性剤同士、アニオン性界面活性剤とノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤とノニオン性界面活性剤の組み合わせが好ましい。
界面活性剤の除去液中における含有量は０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０２〜９質量％がより好ましい。

＜その他の成分＞
本発明に用いられる除去液には、アルカリ剤、界面活性剤の他に、湿潤剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、有機溶剤、無機酸、無機塩、水溶性高分子化合物、香料などを含有することができる。
湿潤剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン等が好適に用いられる。湿潤剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。一般に、湿潤剤は除去液の全質量に基づいて０〜５質量％の量で使用される。

防腐剤としては、フェノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、４−イソチアゾリン−３−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−３−オン、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオール、１，１−ジブロモ−１−ニトロ−２−エタノール、１，１−ジブロモ−１−ニトロ−２−プロパノール等が好ましく使用できる。種々のカビ、殺菌に対して効力のあるように２種以上の防腐剤を併用することが好ましい。防腐剤の添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、除去液に対して０〜４質量％の範囲が好ましい。

キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；アミノトリ（メチレンホスホン酸）、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。添加量は除去液に対して０〜１．０質量％が好適である。

消泡剤としては一般的なシリコーン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系のＨＬＢ値が５以下等の化合物を使用することができる。これらの中でも、シリコーン消泡剤が好ましく、乳化分散型及び可溶化型等がいずれも使用できる。消泡剤の含有量は、除去液に対して０〜１．０質量％の範囲が好適である。

有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩又はアンモニウム塩の形で用いることもできる。有機酸の含有量は処理液に対して０〜０．５質量％が好ましい。

有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、「アイソパーＥ、Ｈ、Ｇ」（エッソ化学（株）製）、ガソリン、灯油等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭化水素（メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等）や、極性溶剤が挙げられる。
極性溶剤としては、アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等）、その他（トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−フェニルジエタノールアミン等）等が挙げられる。
また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。本発明において、除去液は水を主成分として有することが好ましく、除去液が有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は４０質量％未満が好ましい。

無機酸及び無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。無機塩の含有量は除去液の全質量に基づいて０〜０．５質量％の量が好ましい。

水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体（例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等）及びその変性体、プルラン、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル／無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル／無水マレイン酸共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。水溶性高分子化合物の好ましい酸価は、０〜３．０ｍｅｑ／ｇである。水溶性高分子化合物は２種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の除去液中における含有量は、０〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％である。

香料としては、公知の香料を適宜選択して用いることができ、香料を１種単独で用いることもできるし、複数の香料を組み合わせて使用することもできる。香料は、除去液に使用する化合物や溶剤によって、適宜選択することが好ましく、公知の香料を組み合わせて最適化することが好ましい。また、香料としては、天然香料、合成香料のいずれも使用することができる。本発明に用いられる香料としては、特開２００９−２９８１０９号公報に記載の香料を好適に使用することができる。香料の除去液中における含有量は、０〜２０質量％が好ましく、０．０２〜１０質量％が特に好ましい。

＜水、及び、ｐＨ＞
上記除去液に使用する水は、特に制限はなく、水道水、蒸留水、イオン交換水等を用いることができる。
除去液中の水の含有量は、特に制限はないが、除去液の全質量に対し、５０〜９９．５質量％であることが好ましく、７０〜９９質量％であることがより好ましく、９０〜９９質量％であることが更に好ましい。
除去液のｐＨは、本発明の人工爪に含まれる成分Ａ及び成分Ｂが有する酸基をイオン化する能力、すなわち除去性の観点から、８以上であることが好ましく、肌等への影響の観点から１１以下であることが好ましい。除去液のｐＨは、８．５〜１０．９であることが好ましく、８．７〜１０．８であることがより好ましく、９〜１０．７であることが更に好ましい。

除去液は、安全性を損なわない程度に加温して使用することが、除去速度を速める観点で好ましい。加温は３０℃〜４５℃が好ましく、３５℃〜４５℃がより好ましく、４０℃〜４５℃が特に好ましい。また、人工爪を除去液に浸漬する場合には、浸漬する液を撹拌してもよい。

本発明の人工爪は、従来のアセトン等の有機溶剤の代わりに、ｐＨ８〜１１の水溶液に接触させることで簡便に除去することができる。
接触の方法は、特に限定されるものではなく、人工爪を直接除去液に浸漬する方法、除去液を浸したコットン等を人工爪上に載せて放置する方法、除去液を人工爪上に滴下あるいは噴霧器やシャワー等によって吹き付ける方法が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
除去方法の具体例を以下に示す。すなわち、人工爪表面をファイル（爪用やすり）でこすって人工爪表面に粗めに傷を付けた後、除去液に浸したコットンを上記人工爪上に載せ、これをアルミホイル等で巻いて３〜５分間程度そのまま放置して人工爪を膨潤させた後、この膨潤した人工爪をへら状若しくはスティック状器具等を用いることで、指先や爪に負担をかけることなく、極めて容易かつ安全に剥がすことができる。また有機溶媒を用いないことから環境保護の点からも好ましい。
なお、上記方法において、除去液に浸したコットンをアルミホイルで巻く作業を行わなくとも、コットンを載せた後の放置時間を長めにするだけで、上記と同等の除去効果が得られる。
また、コットンを用いる代わりに、除去液（ｐＨ８〜１１の水溶液）に３〜５分間程度、指先（人工爪形成済み）を浸すことで人工爪を膨潤させることができ、除去液中でブラシや手等により擦ることでより簡便に除去が可能である。
接触時間は、特に制限はなく、人工爪が除去できる長さの時間であればよいが、０．５〜１０分が好ましく、１〜５分がより好ましい。

また、本発明の人工爪の除去方法は、人工爪表面を本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れるように傷をつける工程を含むことが好ましい。
傷を付ける方法としては、特に制限はないが、ファイル等の爪用やすりを好適に用いることができる。
本発明の除去方法では、除去液（ｐＨ８〜１１の水溶液）の温度は１０℃〜５０℃であることが好ましく、２０℃〜４５℃であることが好ましく、３０℃〜４５℃であることが特に好ましい。上記温度とすることで除去性が向上する。

除去方法の好ましい具体例を以下に示す。すなわち、任意に人工爪表面を爪用やすりで擦って本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れる程度に粗めに傷をつけた後、除去液（ｐＨ８〜１１の水溶液）に浸漬し、１〜５分程度そのまま放置して人工爪の溶解性を変化させた後に人工爪を布若しくは不織布などにより拭き取り、又は、へら状若しくはスティック状の器具による押し剥がしによって指先や爪に負担をかけることなく、極めて容易かつ安全に剥がすことができる。

なお、上記方法において浸漬しながら、拭き取り、押し剥がしをすることも可能であり、より早く除去することが可能になる。また、超音波や振動などを与えることで拭き取り・剥離を促進してもよい。
また、本発明の人工爪の除去方法は、その他、公知の工程を含んでいてもよい。

（ネイルアートキット）
本発明のネイルアートキットは、本発明の人工爪組成物と、除去液と、を含み、上記除去液が、ｐＨ８〜１１の水溶液である。
本発明のネイルアートキットにおける本発明の人工爪組成物及び除去液の好ましい態様は、上述したものと同様である。
また、本発明のネイルアートキットは、上記人工爪組成物及び除去液以外に、任意の品を含んでいてもよい。
例えば、カラー用又はトップ用等の本発明の人工爪組成物以外の人工爪組成物、ファイル等の爪用やすり、人工爪組成物を塗布するための平筆等の筆や刷毛、ＵＶライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されない。

以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例における形態に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、及び「％」は質量基準である。

（実施例１〜７、比較例１）
下記表１に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物（試料１〜８）を得た。なお、表中の数字は、添加した質量部を意味し、「−」は該当する成分を含有しないことを意味する。

表１中のポリウレタンメタクリレート１は、次の方法で得た。
２−ヒドロキシエチルメタクリレート：２．６部と、イソホロンジイソシアネート：１１１．１部と、１，４−ジヒドロキシブタン：４４．２部とを反応させて得た。ポリウレタンメタクリレート１（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２万、酸価：０ｍｍｏｌ／ｇ、Ｃ＝Ｃ価：０．１２ｍｍｏｌ／ｇ）

得られた各組成物（試料１〜８）０．２５ｇを、爪状に型取りしたプラスチック製基材上に筆を用いて塗布し、ビューティーネイラー製ＵＶランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を洗浄した後、組成物（塗膜）を目視で観察したところ、完全に固化（硬化）しており、光沢があった（膜厚：１１０μｍ）。
この光硬化した試料１〜８の各組成物（光硬化膜）の表面にファイル（爪用のやすり）で傷を付け、下記に示す除去液１（液温４０℃）に時間を変化させて浸漬（接触）させた。次いで、取り出した各試料（硬化膜）につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬（接触）時間で除去性を評価した。結果を表２に示す。

除去液１組成（ｐＨ＝９．９）
・水：９３７９．８部
・炭酸ナトリウム：１３０．０部
・炭酸水素ナトリウム：７０．０部
・ニューコールＢ１３：５００．０部
・リン酸第１アンモニウム：２０．０部
・２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオール：０．１部
・２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン：０．１部
なお、使用したニューコールＢ１３は、ポリオキシアルキレンアリールエーテル（日本乳化剤（株）製）である。

表２の結果から明らかなように、酸基を有するモノマーを配合しない試料８は、ｐＨ８〜１１の水溶液で１５分以内に除去することができなかったのに対し、酸基を有するモノマーを配合した試料１〜７は、本発明範囲内のｐＨ８〜１１の水溶液を用いて短時間で除去することができた。

（実施例８〜１４、比較例２）
下記表３に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物（試料９〜１６）を得た。なお、表中の数字は、添加した質量部を意味し、「−」は該当する成分を含有しないことを意味する。また、使用したポリマーの共重合比は、モル比である。

得られた各組成物（試料９〜１６）０．２５ｇを、爪状に型取りしたプラスチック製基材上に筆を用いて塗布し、ビューティーネイラー製ＵＶランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を洗浄した後、組成物（塗膜）を目視で観察したところ、完全に固化（硬化）しており、光沢があった（膜厚１１５μｍ）。
この光硬化した試料９〜１６の各組成物（光硬化膜）の表面にファイル（爪用のやすり）で傷を付け、下記に示す除去液２（液温４０℃）に時間を変化させて浸漬（接触）させた。次いで、取り出した各試料（硬化膜）につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬（接触）時間で除去性を評価した。結果を表４に示す。

除去液２組成（ｐＨ＝９．４）
・水：８３４９．８部
・炭酸ナトリウム：６０．０部
・炭酸水素ナトリウム：２４０．０部
・パイオニンＢ１１１：４００．０部
・メチルセルロース：９５０．０部
・２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオール：０．１部
・２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン：０．１部
上記のパイオニンＢ１１１及びメチルセルロースは、以下の通りである。
・パイオニンＢ１１１：ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド（竹本油脂（株）製）
・メチルセルロース：メチルセルロース（信越化学工業（株）製）

表４の結果から明らかなように、酸基を有するポリマーを配合しない試料１６は、ｐＨ８〜１１の水溶液で２０分以内に除去することができなかったのに対し、酸基を有するポリマーを配合した試料９〜１５は、本発明範囲内のｐＨ８〜１１の水溶液を用いて短時間で除去することができた。

（実施例１５〜２４、比較例３）
下記表５に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物（試料１７〜２７）を得た。なお、表中の数字は、添加した質量部を意味し、「−」は該当する成分を含有しないことを意味する。

使用したポリウレタン−１〜ポリウレタン−１１は、以下の通りである。
＜ポリウレタン−１＞
イソプロピルアルコール：１．２０部とトリレンジイソシアネート：１４４．５５部と２，２−ジメチロールプロピオン酸：１０９．９９部とを反応させて得られるポリウレタン（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２．７万、酸価：３．２ｍｍｏｌ／ｇ）
＜ポリウレタン−２＞
イソプロピルアルコール：１．２０部とトリレンジイソシアネート：１３４．１０部と下記構造の化合物Ａ：１２４．０１部とを反応させて得られるポリウレタン（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２．６万、酸価：２．９ｍｍｏｌ／ｇ）
＜ポリウレタン−３＞
イソプロピルアルコール：１．２０部とトリレンジイソシアネート：１３４．１０部と下記構造の化合物Ｂ：１３４．６７部とを反応させて得られるポリウレタン（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２．６万、酸価：２．８ｍｍｏｌ／ｇ）

＜ポリウレタン−４＞
イソプロピルアルコール：１．２０部とトリレンジイソシアネート：１２３．６５部と下記構造の化合物Ｃ：１４３．６５部とを反応させて得られるポリウレタン（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２．７万、酸価：２．６ｍｍｏｌ／ｇ）
＜ポリウレタン−５＞
イソプロピルアルコール：１．２０部とトリレンジイソシアネート：１３４．１０部と下記構造の化合物Ｄ：１５３．４６部を反応させて得られるポリウレタン（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２．８万、酸価：２．５ｍｍｏｌ／ｇ）
＜ポリウレタン−６＞
イソプロピルアルコール：１．２０部とトリレンジイソシアネート：１１６．６９部と下記構造の化合物Ｅ：１５３．９５部を反応させて得られるポリウレタン（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２．７万、酸価：２．４ｍｍｏｌ／ｇ）

＜ポリウレタン−７＞
イソプロピルアルコール：１．２０部とトリレンジイソシアネート：１３４．１０部と下記構造の化合物Ｆ：１６３．２１部とを反応させて得られるポリウレタン（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２．８万、酸価：２．３ｍｍｏｌ／ｇ）
＜ポリウレタン−８＞
イソプロピルアルコール：１．２０部とトリレンジイソシアネート：１７４．１６部と１，４−ブタンジオール：８９．２２部とを反応させて得られるポリウレタン（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２．６万、酸価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

＜ポリウレタン−９＞
イソプロピルアルコール：１．２０部とトリレンジイソシアネート：１３４．１０部と下記構造の化合物Ｇ：１２６．１８部とを反応させて得られるポリウレタン（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２．５万、酸価：２．７ｍｍｏｌ／ｇ）
＜ポリウレタン−１０＞
イソプロピルアルコール：１．２０部とトリレンジイソシアネート：１３４．１０部と下記構造の化合物Ｈ：１２６．８３部とを反応させて得られるポリウレタン（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２．６万、酸価：２．７ｍｍｏｌ／ｇ）
＜ポリウレタン−１１＞
イソプロピルアルコール：１．２０部とトリレンジイソシアネート：１３４．１０部と下記構造の化合物Ｉ：１６３．８６部とを反応させて得られるポリウレタン（ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量：２．８万、酸価：２．３ｍｍｏｌ／ｇ）

得られた各組成物０．２５ｇを、爪状に型取りしたプラスチック製基材上に筆を用いて塗布し、ビューティーネイラー製ＵＶランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を洗浄した後、組成物（塗膜）を目視で観察したところ、完全に固化（硬化）しており、光沢があった（膜厚１１０μｍ）。
この光硬化した試料１７〜２７の各組成物（光硬化膜）の表面にファイル（爪用のやすり）で傷を付け、下記に示す除去液３（液温４０℃）に時間を変化させて浸漬（接触）させた。次いで、取り出した各試料（硬化膜）につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬（接触）時間で除去性を評価した。結果を表６に示す。

除去液３組成（ｐＨ＝９．７）
・水：８０７９．８部
・炭酸ナトリウム：１２０．０部
・炭酸水素ナトリウム：８０．０部
・Ｗ−２：７５０．０部
・リン酸第一アンモニウム：２０．０部
・２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオール：０．１部
・２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン：０．１部
・アラビアガム：２５０．０部
・ヒドロキシアルキル化澱粉：７００．０部
Ｗ−２及びヒドロキシアルキル化澱粉は、以下の通りである。
・Ｗ−２：下記式で表される両性界面活性剤
・ヒドロキシアルキル化澱粉：ペノンＪＥ６６（日澱化学（株）製）

表６の結果から明らかなように、酸基を有するポリウレタンを配合しない試料２４は、ｐＨ８〜１１の水溶液で２０分以内に除去することができなかったのに対し、酸基を有するポリウレタンを配合した試料１７〜２３は、本発明範囲内のｐＨ８〜１１の水溶液を用いて短時間で除去することができた。

（実施例２５、比較例４及び５）
２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸：４９部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン：１部、上記ポリウレタン−１：４０部、メチルエチルケトン：１０部を均一に混合し、人工爪組成物（試料２８）を得た。
調製した試料を用いて、プラスチックの爪の上に、第１硬化層を形成した。具体的には、爪ヤスリで全体をサンディングした後にフラットブラシを用いて試料を均一に塗布した。次にビューティーネイラー製ＵＶランプ（３６ｍＷ）を用いて６０秒間ＵＶ照射した（膜厚１０３μｍ）。その上に、バイオスカルプチャー製 ＢＩＯ Ｓジェル（商品名）（膜厚１１５μｍ）、次いでｉｂｄ製 ソークオフタイプ クリアジェル（商品名）（膜厚１１０μｍ）を使用し、それぞれ４分、２分紫外線硬化し、プラスチック爪上に本発明の人工爪組成物をベース層に使用した爪装飾１を形成した。

同様にして、バイオスカルプチャー製ＣＬＥＡＲ ＧＥＬ（商品名）を用いてプラスチックの爪の上に、第１硬化層（膜厚１０５μｍ）を形成したのち、バイオスカルプチャー製 ＢＩＯ Ｓジェル（商品名）（膜厚１１３μｍ）、次いでｉｂｄ製 ソークオフタイプ クリアジェル（商品名）（膜厚１１０μｍ）を使用し、それぞれ４分、２分紫外線硬化し、プラスチック爪上に比較用ジェルネイル剤をベース層に使用した爪装飾２を形成した。
得られた爪装飾１、２について、以下の評価を行った。結果を表７に示す。

＜密着性評価＞
爪装飾の密着性は、装飾した爪を４０℃の温浴に５分浸漬した後取り出して１分冷却乾燥するサイクルを１２回繰り返した後、以下のように評価した。
Ａ：膜の浮き、剥がれ等が起こらない
Ｂ：膜の浮きが見られるが、剥がれは発生しない
Ｃ：膜の剥がれが見られる

＜除去性評価＞
爪装飾の除去性は、以下のように評価した。
この光硬化した各試料（光硬化膜）の表面にファイル（爪用のやすり）で傷を付け、以下の組成を有する除去液４（液温４０℃）に時間を変化させて浸漬（接触）させた。次いで、取り出した各試料（硬化膜）につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬（接触）時間で除去性を評価した。
一方、比較例５において、爪装飾２については、従来のアセトンを含ませた綿による除去性評価も実施した。具体的には、アセトンを含ませた綿にて爪装飾２を包み、次いでアルミホイルにてアセトンを含ませた綿ごと爪装飾を包んだ。接触時間を変化させて爪装飾２を取り出し、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な接触時間で除去性を評価した。

除去液４（ｐＨ：９．６）
・水：８，１５０部
・炭酸ナトリウム：１６０部
・炭酸水素ナトリウム：１６０部
・パイオニンＣ−１５７−Ｋ：５００部
・ポリビニルピロリドン：８５０部
・ヘキサメタリン酸ソーダ：１８０部
上記のパイオニンＣ１５７Ｋは、以下の通りである。
・パイオニンＣ１５７Ｋ：ベタイン型界面活性剤、竹本油脂（株）製

表７の結果から明らかなように、比較用人工爪組成物をベース層に使用した爪装飾２は、除去液４に４０分浸漬しても除去することができなかった。また、従来のアセトンを含ませた綿を用いた除去でも２５分の接触時間が必要であった。これに対し、本発明のエチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物を配合した人工爪組成物により形成された爪装飾１では、除去液４を用いて１２分浸漬で除去することができることが判明した。
これらのことから、実施例の組成物により形成された第１硬化層は、密着性が良好であると共に、除去性に優れていることが判明した。

（実施例２６）
２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸：４９部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン：１部、上記ポリマー１：４０部、メチルエチルケトン：１０部を均一に混合し、人工爪組成物（試料２９）を得た。
調製した試料を用いて、プラスチックの爪の上に、第１硬化層を形成した。具体的には、爪ヤスリで全体をサンディングした後にフラットブラシを用いて試料を均一に塗布した。次にビューティーネイラー製ＵＶランプ（３６ｍＷ）を用いて６０秒間ＵＶ照射した（膜厚１１０μｍ）。その上に、バイオスカルプチャー製 ＢＩＯ Ｓジェル（商品名）（膜厚１０５μｍ）、次いでｉｂｄ製 ソークオフタイプ クリアジェル（商品名）（膜厚１１０μｍ）を使用し、それぞれ４分、２分紫外線硬化し、プラスチック爪上に本発明の人工爪組成物をベース層に使用した爪装飾を形成した。
得られた爪装飾について、以下の評価を行った。

爪装飾を、４０℃の温浴に５分浸漬した後取り出して１分冷却乾燥するサイクルを１２回繰り返した結果、膜の浮き、剥がれが起こらなかった。
一方、得られた爪装飾の表面にファイル（爪用のやすり）で傷を付け、上記除去液４（液温４０℃）を含ませた綿で包み、時間を変化させて接触させた。次いで、取り出した試料（硬化膜）につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な接触時間は、１０分であった。
得られた爪装飾の表面にファイル（爪用のやすり）で傷を付け、上記除去液４をスプレーにて１分間に１回の間隔で噴霧して接触させた。次いで、取り出した試料（硬化膜）につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な噴霧回数は、１０回であった。
得られた爪装飾の表面にファイル（爪用のやすり）で傷を付け、上記除去液４に浸漬時間を変化させて浸漬させた。次いで、取り出した試料（硬化膜）につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬時間は、１０分であった。

以上の結果から明らかなように、本発明の人工爪組成物を用いた爪装飾では、当該除去液を用いて１０分で除去することができることが判明した。
これらのことから、実施例の組成物により形成された第１硬化層は、密着性が良好であると共に、除去性に優れていることが判明した。

（実施例２７）
２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸：４９部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン：１部、上記ポリウレタン７：４０部、メチルエチルケトン：１０部を均一に混合し、ジェルネイル剤（試料３０）を得た。
調製した試料を用いて、プラスチックの爪の上に、第１硬化層を形成した。具体的には、爪ヤスリで全体をサンディングした後にフラットブラシを用いて試料を均一に塗布した。次にビューティーネイラー製ＵＶランプ（３６ｍＷ）を用いて６０秒間ＵＶ照射した（膜厚１１３μｍ）。その上に、バイオスカルプチャー製 ＢＩＯ Ｓジェル（商品名）（膜厚１１５μｍ）、次いでｉｂｄ製 ソークオフタイプ クリアジェル（商品名）（膜厚１１０μｍ）を使用し、図１に示すようにベース層を覆うように塗布してそれぞれ４分、２分紫外線硬化し、プラスチック爪上に本発明のジェルネイル剤をベース層に使用した爪装飾を形成した。
得られた爪装飾について、以下の評価を行った。

爪装飾を、４０℃の温浴に５分浸漬した後取り出して１分冷却乾燥するサイクルを１２回繰り返した結果、膜の浮き、剥がれが起こらなかった。
得られた爪装飾の表面にファイル（爪用のやすり）で傷を付け、上記除去液４（液温４０℃）に浸漬時間を変化させて浸漬させた。次いで、取り出した試料（硬化膜）につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬時間は、５分であった。

以上の結果から明らかなように、本発明のジェルネイル剤を用いた爪装飾では、当該除去液を用いて５分で除去することができることが判明した。
これらのことから、実施例の組成物により形成された第１硬化層は、密着性が良好であると共に、除去性に優れていることが判明した。

（実施例２８〜３４）
下記表８に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物（試料３１〜３３）を得た。なお、表中の数字は、添加した質量部を意味し、「−」は該当する成分を含有しないことを意味する。

得られた各組成物（試料）０．２５ｇを、爪状に型取りしたプラスチック製基材上に筆を用いて塗布し、ビューティーネイラー製ＵＶランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を洗浄した後、組成物（塗膜）を目視で観察したところ、完全に固化（硬化）しており、光沢があった（膜厚１３０μｍ）。
この光硬化した試料３１〜３３の各組成物（光硬化膜）の表面にファイル（爪用のやすり）で傷を付け、下記に示す除去液５〜１１（液温４０℃）に時間を変化させて浸漬（接触）させた。次いで、取り出した各試料（硬化膜）につき、基材からスティック状器具を用いて押し剥がしを行い除去した。この時、除去するために必要な浸漬（接触）時間で除去性を評価した。結果を表９に示す。

使用した除去液５〜１１は、以下の通りである。
＜除去液５＞
ホウ酸：６．１８ｇ、水酸化ナトリウム：２．００ｇをイオン交換水：９００ｍＬに加えて溶かした後、全量を１，０００ｍＬとした水溶液（ｐＨ＝９．２）。
＜除去液６＞
モノエタノールアミン：１．２４ｇ、氷酢酸：０．６ｇをイオン交換水：９００ｍＬに加えて溶かした後、全量を１，０００ｍＬとした水溶液（ｐＨ＝９．６）。
＜除去液７＞
炭酸ナトリウム：０．６８ｇ、炭酸水素ナトリウム：３．６８ｇをイオン交換水：９００ｍＬに加えて溶かした後、全量を１，０００ｍＬとした水溶液（ｐＨ＝９．２）。
＜除去液８＞
炭酸水素ナトリウム：２．１ｇをイオン交換水：９００ｍＬに加えて溶かした後、全量を１，０００ｍＬとした水溶液（ｐＨ＝８．０）。

＜除去液９＞
リン酸二水素ナトリウム：０．５２ｇ、リン酸水素二ナトリウム１２水和物：２２．６８ｇをイオン交換水：９００ｍＬに加えて溶かした後、全量を１，０００ｍＬとした水溶液（ｐＨ＝８．１）。
＜除去液１０＞
トリスヒドロキシメチルアミノメタン：１２．１ｇをイオン交換水：９００ｍＬに加えて溶かした後、１Ｍ塩酸を用いてｐＨ＝１０に調整し全量を１，０００ｍＬとした水溶液。
＜除去液１１＞
ホウ酸：７．７３ｇをイオン交換水：９００ｍＬに加えて溶かした後、２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液によりｐＨ＝８．３に調整し全量を１，０００ｍＬとした水溶液。

（実施例３５及び３６、比較例６及び７）
下記表１０に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物（試料３４〜３７）を得た。なお、表中の数字は、添加した質量部を意味し、「−」は該当する成分を含有しないことを意味する。

得られた各組成物０．２５ｇを、爪状に型取りしたプラスチック製基材上に筆を用いて塗布し、ドライヤーを用いて熱風を照射し乾燥させた。組成物（塗膜）を目視で観察したところ、完全に固化しており、光沢があった（膜厚２００μｍ）。
この乾燥した試料３４〜３７の各組成物（乾燥膜）の表面にファイル（爪用のやすり）で傷を付け、上記除去液３（液温４０℃）に時間を変化させて浸漬（接触）させた。この時、除去するために必要な浸漬（接触）時間で除去性を評価した。結果を表１１に示す。

本発明の爪装飾は、爪への密着性が良好であると共に、安全な水溶液を用いて容易に除去できるため、爪を始め広範な装飾対象への装飾に使用できる。

１ 爪、２ ベース層、３ カラー層、４ トップ層

Claims (18)

1. 人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、
   前記塗布膜を露光して人工爪を形成する工程、並びに、
   前記人工爪を除去液に接触させて除去する除去工程を含み、
   前記人工爪組成物が、（成分Ａ）エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び／又は、（成分Ｃ）酸基を有しない重合性化合物と、（成分Ｂ）酸基を有するポリマーと、（成分Ｄ）光重合開始剤とを含有し、
   成分Ａ及び成分Ｂにおける前記酸基が、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及び、ホスホン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基であり、
   成分Ａが、カルボン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマー、カルボン酸基を有するスチレン系モノマー、スルホン酸基を有する（メタ）アクリル系モノマー、スルホン酸基を有するスチレン系モノマー、リン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマー、ビニルホスホン酸、及び、ビニルスルホン酸よりなる群から選ばれた少なくとも１種のモノマーであり、
   成分Ｂが、下記式（２）で表されるモノマー単位を含有するアクリル系ポリマー、又は、酸基を有するウレタン系ポリマーであり、
   成分Ｃが、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物、又は、（ポリ）アルキレンオキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物を含み、
   成分Ｄが、ラジカル光重合開始剤を含み、
   前記除去液がｐＨ８以上１１以下の水溶液であることを特徴とする
   人工爪の除去方法。
   
   式（２）中、Ｒ²は水素原子、メチル基、又は、−ＣＨ₂Ｙ¹を表し、Ｙ¹は水酸基、ハロゲノ基、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ³、又は、−ＮＲ³Ｃ（＝Ｏ）Ｒ⁴を表し、Ｘ¹は−Ｏ−、又は、−ＮＲ³−を表し、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｌ¹は２価の連結基を表す。
2. 前記人工爪組成物が、成分Ａを含有する、請求項１に記載の人工爪の除去方法。
3. 成分Ａが、下記式（１）で表される、請求項２に記載の人工爪の除去方法。
   
   式（１）中、Ｒ¹は水素原子又は１価の有機基を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｚは酸基を表す。
4. 前記式（１）において、Ｚがカルボン酸基である、請求項３に記載の人工爪の除去方法。
5. 成分Ｂが、前記式（２）で表されるモノマー単位を含有するアクリル系ポリマーである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の人工爪の除去方法。
6. 成分Ｂが、下記式（３）で表されるモノマー単位を有するウレタン系ポリマーである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の人工爪の除去方法。
   
   式（３）中、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、ＷはＮ又はＣＲ³を表し、Ｒ³は水素原子又は１価の基を表す。
7. 前記除去液が、ｐＨ緩衝剤を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の人工爪の除去方法。
8. 前記ｐＨ緩衝剤が炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、硼酸塩、及び有機アミン化合物よりなる群から選択される少なくとも１つを含む、請求項７に記載の人工爪の除去方法。
9. 前記ｐＨ緩衝剤が、炭酸塩と炭酸水素塩とを含む、請求項７又は８に記載の人工爪の除去方法。
10. 前記除去工程が、除去液に人工爪を浸漬して除去する工程である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の人工爪の除去方法。
11. 前記除去工程が、除去液を人工爪に噴霧して除去する工程である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の人工爪の除去方法。
12. 前記除去工程が、除去液を含ませた綿により人工爪を包んで除去する工程である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の人工爪の除去方法。
13. 前記人工爪組成物を、ベース層に用いる、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の人工爪の除去方法。
14. （成分Ａ）エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び／又は、（成分Ｃ）酸基を有しない重合性化合物と、
    （成分Ｂ）酸基を有するポリマーと、
    （成分Ｄ）光重合開始剤とを含有し、
    成分Ａ及び成分Ｂにおける前記酸基が、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及び、ホスホン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基であり、
    成分Ａが、カルボン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマー、カルボン酸基を有するスチレン系モノマー、スルホン酸基を有する（メタ）アクリル系モノマー、スルホン酸基を有するスチレン系モノマー、リン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマー、ビニルホスホン酸、及び、ビニルスルホン酸よりなる群から選ばれた少なくとも１種のモノマーであり、
    成分Ｂが、下記式（２）で表されるモノマー単位を含有するアクリル系ポリマー、又は、酸基を有するウレタン系ポリマーであり、
    成分Ｃが、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物、又は、（ポリ）アルキレンオキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物を含み、
    成分Ｄが、ラジカル光重合開始剤を含むことを特徴とする
    人工爪組成物。
    
    式（２）中、Ｒ²は水素原子、メチル基、又は、−ＣＨ₂Ｙ¹を表し、Ｙ¹は水酸基、ハロゲノ基、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ³、又は、−ＮＲ³Ｃ（＝Ｏ）Ｒ⁴を表し、Ｘ¹は−Ｏ−、又は、−ＮＲ³−を表し、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｌ¹は２価の連結基を表す。
15. 成分Ｂが、上記式（２）で表されるモノマー単位を含有するアクリル系ポリマーである、請求項１４に記載の人工爪組成物。
16. 成分Ｂが、下記式（３）で表されるモノマー単位を有するウレタン系ポリマーである、請求項１４に記載の人工爪組成物。
    
    式（３）中、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、ＷはＮ又はＣＲ³を表し、Ｒ³は水素原子又は１価の基を表す。
17. 請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、
    前記塗布膜を露光して人工爪を形成する工程、を含む
    人工爪の形成方法。
18. 人工爪組成物と、
    除去液と、を含み、
    前記人工爪組成物が、（成分Ａ）エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び／又は、（成分Ｃ）酸基を有しない重合性化合物と、（成分Ｂ）酸基を有するポリマーと、（成分Ｄ）光重合開始剤とを含有し、
    成分Ａ及び成分Ｂにおける前記酸基が、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及び、ホスホン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基であり、
    成分Ａが、カルボン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマー、カルボン酸基を有するスチレン系モノマー、スルホン酸基を有する（メタ）アクリル系モノマー、スルホン酸基を有するスチレン系モノマー、リン酸基を有する（メタ）アクリル酸系モノマー、ビニルホスホン酸、及び、ビニルスルホン酸よりなる群から選ばれた少なくとも１種のモノマーであり、
    成分Ｂが、下記式（２）で表されるモノマー単位を含有するアクリル系ポリマー、又は、酸基を有するウレタン系ポリマーであり、
    成分Ｃが、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物、又は、（ポリ）アルキレンオキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物を含み、
    成分Ｄが、ラジカル光重合開始剤を含み、
    前記除去液が、ｐＨ８以上１１以下の水溶液であることを特徴とする
    ネイルアートキット。
    
    式（２）中、Ｒ²は水素原子、メチル基、又は、−ＣＨ₂Ｙ¹を表し、Ｙ¹は水酸基、ハロゲノ基、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ³、又は、−ＮＲ³Ｃ（＝Ｏ）Ｒ⁴を表し、Ｘ¹は−Ｏ−、又は、−ＮＲ³−を表し、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｌ¹は２価の連結基を表す。