JPWO2015046300A1 - 人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット - Google Patents
人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2015046300A1 JPWO2015046300A1 JP2015539298A JP2015539298A JPWO2015046300A1 JP WO2015046300 A1 JPWO2015046300 A1 JP WO2015046300A1 JP 2015539298 A JP2015539298 A JP 2015539298A JP 2015539298 A JP2015539298 A JP 2015539298A JP WO2015046300 A1 JPWO2015046300 A1 JP WO2015046300A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- artificial nail
- meth
- component
- acrylate
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- ZZRDGBIIUCMQDZ-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C1)CC(C)(CNC(C)=O)CC1NC(C)=O Chemical compound CC(C)(C1)CC(C)(CNC(C)=O)CC1NC(C)=O ZZRDGBIIUCMQDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/72—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
- A61K8/84—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions otherwise than those involving only carbon-carbon unsaturated bonds
- A61K8/87—Polyurethanes
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A45—HAND OR TRAVELLING ARTICLES
- A45D—HAIRDRESSING OR SHAVING EQUIPMENT; EQUIPMENT FOR COSMETICS OR COSMETIC TREATMENTS, e.g. FOR MANICURING OR PEDICURING
- A45D31/00—Artificial nails
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/33—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing oxygen
- A61K8/35—Ketones, e.g. benzophenone
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/55—Phosphorus compounds
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/58—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen, sulfur or phosphorus
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/72—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
- A61K8/81—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
- A61K8/8141—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- A61K8/8152—Homopolymers or copolymers of esters, e.g. (meth)acrylic acid esters; Compositions of derivatives of such polymers
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q3/00—Manicure or pedicure preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q3/00—Manicure or pedicure preparations
- A61Q3/02—Nail coatings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/40—Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
- A61K2800/59—Mixtures
- A61K2800/594—Mixtures of polymers
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/80—Process related aspects concerning the preparation of the cosmetic composition or the storage or application thereof
- A61K2800/81—Preparation or application process involves irradiation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/80—Process related aspects concerning the preparation of the cosmetic composition or the storage or application thereof
- A61K2800/95—Involves in-situ formation or cross-linking of polymers
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Birds (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
本発明は、得られる人工爪が光沢性及び密着性に優れ、かつ、除去性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキットを提供することを目的とする。本発明の人工爪組成物は、成分Aとしてポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート、成分Bとして重量平均分子量が10,000以上のバインダーポリマー、及び、成分Cとして光重合開始剤を含有することを特徴とする。成分Aの重量平均分子量が1,000以上であることが好ましく、成分Bを人工爪組成物の全体に対して15質量%以上含有することが好ましい。
Description
本発明は、人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキットに関する。
近年、手や足の爪にデザインを施すネイルアートに対する人気が高まり、爪(自爪)に合成樹脂製の人工爪(付け爪、ネイルチップ等)を形成する技術が発展している。特に最近、ウレタン系樹脂と光重合性モノマーとを含むジェル状の装飾用硬化性組成物を爪に塗布した後、紫外線を照射して硬化させた人工爪と呼ばれる爪装飾が、仕上がりがクリアである、爪との密着性が高く長持ちする、アクリル系樹脂のような臭いがない、等の理由から注目を集めている。
従来の人工爪組成物としては、特許文献1又は2に記載された組成物が知られている。
従来の人工爪組成物としては、特許文献1又は2に記載された組成物が知られている。
本発明の目的は、得られる人工爪が光沢性及び密着性に優れ、かつ、除去性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキットを提供することである。
上記目的は、下記<1>又は<16>〜<18>に記載の手段により達成された。好ましい実施態様である<2>〜<15>と共に以下に示す。
<1> 成分Aとして、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート、成分Bとして、重量平均分子量が10,000以上のバインダーポリマー、及び、成分Cとして、光重合開始剤を含有することを特徴とする人工爪組成物、
<2> 成分Aが、下記式1で表される、<1>に記載の人工爪組成物、
<1> 成分Aとして、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート、成分Bとして、重量平均分子量が10,000以上のバインダーポリマー、及び、成分Cとして、光重合開始剤を含有することを特徴とする人工爪組成物、
<2> 成分Aが、下記式1で表される、<1>に記載の人工爪組成物、
<3> 成分Aの重量平均分子量が1,000以上である(2,000以上であることがより好ましく、3,000以上であることが更に好ましく、4,000以上であることが特に好ましく、50,000以下であることが好ましく、20,000以下であることがより好ましい。)、<1>又は<2>に記載の人工爪組成物、
<4> 成分Aを人工爪組成物の全体に対して10〜70質量%(15〜55質量%であることがより好ましく、20〜55質量%であることが更に好ましい。)含有する、<1>〜<3>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<5> 成分Bを人工爪組成物の全体に対して15質量%以上(より好ましくは15〜80質量%であり、更に好ましくは15〜70質量%であり、特に好ましくは16〜60質量%である。)含有する、<1>〜<4>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<6> 成分Bが、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、セルロース系ポリマー、エステル系ポリマー、アミド系ポリマー、ビニル系ポリマー、エーテル系ポリマー、スチレン系ポリマー、カーボネート系ポリマー、ウレア系ポリマー、エチレン系ポリマー、及びアミン系ポリマーよりなる群から選択される(より好ましくは、エチレン系ポリマー、ウレタン系ポリマー、及び、アクリル系ポリマーよりなる群から選択され、更に好ましくは、ウレタン系ポリマー又はアクリル系ポリマーであり、特に好ましくはウレタン系ポリマーである。)、<1>〜<5>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<7> 成分Cとして、アセトフェノン化合物、及び/又は、アシルホスフィンオキシド化合物を含有する、<1>〜<6>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<8> 成分Dとして、重合性化合物を更に含有する、<1>〜<7>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<9> 成分Dがエチレン性不飽和化合物を含有する、<8>に記載の人工爪組成物、
<10> 成分Dが単官能エチレン性不飽和化合物を含有する、<8>又は<9>に記載の人工爪組成物、
<11> 成分Dがヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、カルボキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、及び、(メタ)アクリル酸よりなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、<8>〜<10>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<12> 成分Dがヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、及び、(メタ)アクリル酸よりなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、<8>〜<11>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<13> 成分Dがヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、及び、(メタ)アクリル酸よりなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、<8>〜<12>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<14> 成分Dが少なくともヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを含有する、<8>〜<13>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<15> 成分Dの含有量が人工爪組成物の全質量に対し1〜80質量%である(より好ましくは1〜70質量%、更に好ましくは1〜60質量%である。)、<8>〜<14>のいずれか1つに記載の人工爪組成物。
<16> <1>〜<15>のいずれか1つに記載の人工爪組成物を露光して形成された層を有する人工爪、
<17> <1>〜<15>のいずれか1つに記載の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程、及び、上記塗布膜を露光して人工爪を形成する工程、を含む人工爪の形成方法、
<18> <1>〜<15>のいずれか1つに記載の人工爪組成物を含んでなるネイルアートキット。
<4> 成分Aを人工爪組成物の全体に対して10〜70質量%(15〜55質量%であることがより好ましく、20〜55質量%であることが更に好ましい。)含有する、<1>〜<3>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<5> 成分Bを人工爪組成物の全体に対して15質量%以上(より好ましくは15〜80質量%であり、更に好ましくは15〜70質量%であり、特に好ましくは16〜60質量%である。)含有する、<1>〜<4>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<6> 成分Bが、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、セルロース系ポリマー、エステル系ポリマー、アミド系ポリマー、ビニル系ポリマー、エーテル系ポリマー、スチレン系ポリマー、カーボネート系ポリマー、ウレア系ポリマー、エチレン系ポリマー、及びアミン系ポリマーよりなる群から選択される(より好ましくは、エチレン系ポリマー、ウレタン系ポリマー、及び、アクリル系ポリマーよりなる群から選択され、更に好ましくは、ウレタン系ポリマー又はアクリル系ポリマーであり、特に好ましくはウレタン系ポリマーである。)、<1>〜<5>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<7> 成分Cとして、アセトフェノン化合物、及び/又は、アシルホスフィンオキシド化合物を含有する、<1>〜<6>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<8> 成分Dとして、重合性化合物を更に含有する、<1>〜<7>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<9> 成分Dがエチレン性不飽和化合物を含有する、<8>に記載の人工爪組成物、
<10> 成分Dが単官能エチレン性不飽和化合物を含有する、<8>又は<9>に記載の人工爪組成物、
<11> 成分Dがヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、カルボキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、及び、(メタ)アクリル酸よりなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、<8>〜<10>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<12> 成分Dがヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、及び、(メタ)アクリル酸よりなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、<8>〜<11>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<13> 成分Dがヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、及び、(メタ)アクリル酸よりなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、<8>〜<12>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<14> 成分Dが少なくともヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを含有する、<8>〜<13>のいずれか1つに記載の人工爪組成物、
<15> 成分Dの含有量が人工爪組成物の全質量に対し1〜80質量%である(より好ましくは1〜70質量%、更に好ましくは1〜60質量%である。)、<8>〜<14>のいずれか1つに記載の人工爪組成物。
<16> <1>〜<15>のいずれか1つに記載の人工爪組成物を露光して形成された層を有する人工爪、
<17> <1>〜<15>のいずれか1つに記載の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程、及び、上記塗布膜を露光して人工爪を形成する工程、を含む人工爪の形成方法、
<18> <1>〜<15>のいずれか1つに記載の人工爪組成物を含んでなるネイルアートキット。
本発明によれば、得られる人工爪が光沢性及び密着性に優れ、かつ、除去性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキットを提供することができた。
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書中、「xx〜yy」の記載は、xx及びyyを含む数値範囲を表す。また、本発明の人工爪組成物が成分Aとして含有するポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート等を単に「成分A」等ともいう。
また、本発明において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明において、2以上の好ましい態様の組み合わせはより好ましい。
本明細書中、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式の説明において、「Rはアルキル基、アリール基又は複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表す」ことを意味する。また、本明細書中、(メタ)アクリルは、アクリルとメタクリルとを共に含む概念を表し、(メタ)アクリレート等についても同様である。
また、本明細書におけるポリマーには、コポリマー、オリゴマーも含むものとする。
なお、本明細書中、「xx〜yy」の記載は、xx及びyyを含む数値範囲を表す。また、本発明の人工爪組成物が成分Aとして含有するポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート等を単に「成分A」等ともいう。
また、本発明において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明において、2以上の好ましい態様の組み合わせはより好ましい。
本明細書中、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式の説明において、「Rはアルキル基、アリール基又は複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表す」ことを意味する。また、本明細書中、(メタ)アクリルは、アクリルとメタクリルとを共に含む概念を表し、(メタ)アクリレート等についても同様である。
また、本明細書におけるポリマーには、コポリマー、オリゴマーも含むものとする。
(人工爪組成物)
本発明の人工爪組成物は、成分Aとして、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート、成分Bとして、重量平均分子量が10,000以上のバインダーポリマー、及び、成分Cとして、光重合開始剤を含有することを特徴とする。
また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪である。
本発明者は詳細な検討を行った結果、成分A〜成分Cを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、得られる人工爪の光沢性、除去性及び密着性に優れることを見いだした。
本発明の人工爪組成物は、成分Aとして、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート、成分Bとして、重量平均分子量が10,000以上のバインダーポリマー、及び、成分Cとして、光重合開始剤を含有することを特徴とする。
また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪である。
本発明者は詳細な検討を行った結果、成分A〜成分Cを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、得られる人工爪の光沢性、除去性及び密着性に優れることを見いだした。
これら効果が発現する機構は不明であるが、一部は以下のように推定される。
本発明者は、ポリウレタン(メタ)アクリレート化合物は硬化膜に強度と柔軟性を併せて付与することができるが、高温・高湿下では熱によるポリマーの可塑効果、吸湿による変質等により、強度と柔軟性を維持できなくなることを見いだした。発明者は鋭意検討した結果、ポリウレタン(メタ)アクリレート化合物にポリカーボネート構造を持たせることにより、ポリカーボネート構造の運動性から柔軟性は維持しながらポリカーボネート構造に起因する相互作用効果が発生し、高温・高湿での強度と柔軟性の損失を防ぐことができることを見いだした。一般に人工爪は生活環境に晒されることで変質するが、生活環境の範囲において強度・柔軟性損失を防ぐことで高い光沢性・密着性を維持することができると推定される。
また、ポリカーボネート構造は人工爪を一般的に除去する際に使用する有機溶剤に対する親和性が高く、良好な除去性を付与することができると推定される。
更に、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレートと、分子量10,000以上のバインダーポリマーとを併用することで、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレートが好適に絡み合い、高い皮膜性を付与すると共に、密着性を更に高めることができると推定される。また、重合性化合物として、ヒドロキシ基やカルボキシ基に代表される高い極性基を持つ化合物を用いることでも、ポリカーボネート部位との相互作用が一段と増し、より密着性を高める効果があると考えられる。
特にポリカーボネート構造は、爪を形成するケラチン中の官能基と相互作用を起こしやすく、この点でも人工爪組成物として高い密着性に寄与していると推定される。
本発明者は、ポリウレタン(メタ)アクリレート化合物は硬化膜に強度と柔軟性を併せて付与することができるが、高温・高湿下では熱によるポリマーの可塑効果、吸湿による変質等により、強度と柔軟性を維持できなくなることを見いだした。発明者は鋭意検討した結果、ポリウレタン(メタ)アクリレート化合物にポリカーボネート構造を持たせることにより、ポリカーボネート構造の運動性から柔軟性は維持しながらポリカーボネート構造に起因する相互作用効果が発生し、高温・高湿での強度と柔軟性の損失を防ぐことができることを見いだした。一般に人工爪は生活環境に晒されることで変質するが、生活環境の範囲において強度・柔軟性損失を防ぐことで高い光沢性・密着性を維持することができると推定される。
また、ポリカーボネート構造は人工爪を一般的に除去する際に使用する有機溶剤に対する親和性が高く、良好な除去性を付与することができると推定される。
更に、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレートと、分子量10,000以上のバインダーポリマーとを併用することで、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレートが好適に絡み合い、高い皮膜性を付与すると共に、密着性を更に高めることができると推定される。また、重合性化合物として、ヒドロキシ基やカルボキシ基に代表される高い極性基を持つ化合物を用いることでも、ポリカーボネート部位との相互作用が一段と増し、より密着性を高める効果があると考えられる。
特にポリカーボネート構造は、爪を形成するケラチン中の官能基と相互作用を起こしやすく、この点でも人工爪組成物として高い密着性に寄与していると推定される。
本発明の人工爪組成物は、ヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に露光によって硬化し、人工爪を形成する組成物である。また、本発明の人工爪組成物により形成された人工爪は、従来の有機溶剤を用いた除去方法によって除去することが可能である。
本発明における人工爪とは、ヒト又は動物の爪上に、美装及び/又は保護を目的に形成される層を指す。また、例えば、上記他の人工爪としては、爪の美装及び/又は保護を目的とする任意の形状の樹脂基材等が挙げられる。
なお、「ヒト及び動物の爪、並びに、他の人工爪」を、単に「爪」ともいう。
本発明における人工爪とは、ヒト又は動物の爪上に、美装及び/又は保護を目的に形成される層を指す。また、例えば、上記他の人工爪としては、爪の美装及び/又は保護を目的とする任意の形状の樹脂基材等が挙げられる。
なお、「ヒト及び動物の爪、並びに、他の人工爪」を、単に「爪」ともいう。
上記人工爪の形状は、特に制限はなく、所望の形状に形成すればよい。例えば、爪の表面を被覆するように形成してもよいし、爪の一部のみに形成してもよいし、ネイルフォーム等を使用し爪の延長のため、爪よりも大きな形状に形成してもよい。
また、本発明の人工爪組成物は、塗布により厚みを制御することができる。厚みとしては、一般に人工爪がとりうる範囲であれば、特に制限されるものではないが、実用性及び除去性の観点から、20〜1,500μmの範囲であることが好ましい。
また、本発明の人工爪組成物は、塗布により厚みを制御することができる。厚みとしては、一般に人工爪がとりうる範囲であれば、特に制限されるものではないが、実用性及び除去性の観点から、20〜1,500μmの範囲であることが好ましい。
本発明の人工爪組成物は、人工爪における、プライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
また、本発明の人工爪組成物によって形成した人工爪層の上層(爪とは逆側の面)又は下層(爪との間の面)に、別途、色・ツヤ・密着を出す目的で、プライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層を有していてもよい。
また、本発明の人工爪組成物によって形成した人工爪層の上層(爪とは逆側の面)又は下層(爪との間の面)に、別途、色・ツヤ・密着を出す目的で、プライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層を有していてもよい。
本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物(「ジェルネイル用人工爪組成物」)である。
上記光硬化性人工爪組成物は、活性光線により硬化可能な人工爪組成物である。「活性光線」とは、その照射により人工爪組成物中に開始種を発生させるエネルギーを付与できる放射線であり、紫外線、可視光線などを包含する。中でも、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。従って、上記光硬化性人工爪組成物としては、活性光線として、紫外線を照射することにより硬化可能な人工爪組成物が好ましい。
以下に、本発明の人工爪組成物に使用することができる各種成分について説明する。
上記光硬化性人工爪組成物は、活性光線により硬化可能な人工爪組成物である。「活性光線」とは、その照射により人工爪組成物中に開始種を発生させるエネルギーを付与できる放射線であり、紫外線、可視光線などを包含する。中でも、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。従って、上記光硬化性人工爪組成物としては、活性光線として、紫外線を照射することにより硬化可能な人工爪組成物が好ましい。
以下に、本発明の人工爪組成物に使用することができる各種成分について説明する。
成分A:ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート
本発明の人工爪組成物は、成分Aとして、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート(以下、「ポリカーボネート型ポリウレタン(メタ)アクリレート」ともいう。)を含有する。
成分Aの重量平均分子量は、1,000以上であることが好ましく、2,000以上であることがより好ましく、3,000以上であることが更に好ましく、4,000以上であることが特に好ましい。重量平均分子量の上限は特に限定されないが、50,000以下であることが好ましく、20,000以下であることがより好ましい。重量平均分子量が上記の範囲にあることで人工爪の皮膜性、密着性のバランスに優れる。
本発明において、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ法(GPC)法にて測定され、標準ポリスチレンで換算して求められる。具体的には、例えば、GPCは、HLC−8220GPC(東ソー(株)製)を用い、カラムとして、TSKgeL SuperHZM−H、TSKgeL SuperHZ4000、TSKgeL SuperHZ2000(東ソー(株)製、4.6mmID×15cm)を3本用い、溶離液としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いる。また、条件としては、試料濃度を0.35質量%、流速を0.35ml/min、サンプル注入量を10μl、測定温度を40℃とし、IR検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー(株)製「標準試料TSK standard,polystyrene」:「F−40」、「F−20」、「F−4」、「F−1」、「A−5000」、「A−2500」、「A−1000」、「n−プロピルベンゼン」の8サンプルから作製する。
本発明の人工爪組成物は、成分Aとして、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート(以下、「ポリカーボネート型ポリウレタン(メタ)アクリレート」ともいう。)を含有する。
成分Aの重量平均分子量は、1,000以上であることが好ましく、2,000以上であることがより好ましく、3,000以上であることが更に好ましく、4,000以上であることが特に好ましい。重量平均分子量の上限は特に限定されないが、50,000以下であることが好ましく、20,000以下であることがより好ましい。重量平均分子量が上記の範囲にあることで人工爪の皮膜性、密着性のバランスに優れる。
本発明において、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ法(GPC)法にて測定され、標準ポリスチレンで換算して求められる。具体的には、例えば、GPCは、HLC−8220GPC(東ソー(株)製)を用い、カラムとして、TSKgeL SuperHZM−H、TSKgeL SuperHZ4000、TSKgeL SuperHZ2000(東ソー(株)製、4.6mmID×15cm)を3本用い、溶離液としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いる。また、条件としては、試料濃度を0.35質量%、流速を0.35ml/min、サンプル注入量を10μl、測定温度を40℃とし、IR検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー(株)製「標準試料TSK standard,polystyrene」:「F−40」、「F−20」、「F−4」、「F−1」、「A−5000」、「A−2500」、「A−1000」、「n−プロピルベンゼン」の8サンプルから作製する。
成分Aが有する(メタ)アクリレート基((メタ)アクリロイルオキシ基)の数は1分子中に2〜10個であることが好ましく、2〜3個であることが好ましく、2個であることが特に好ましい。1分子中の(メタ)アクリロイルオキシ基の数が上記の範囲であることによって、硬化膜が適度な架橋密度を維持し、好適な柔軟性が付与され、更に、密着性と除去性に優れる。
成分Aとしては下記式1で表されるポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレートであることが好ましい。
式1及び式2中、R1、R2、R3、及び、R4が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、特に限定されない。
上記式1で表される化合物は、ポリイソシアネート化合物(a2)(以下、単に化合物a2ともいう。)と、ポリオール化合物(a3)(以下、単に化合物a3ともいう。)とを重縮合反応させて得られたポリウレタン化合物の末端イソシアナト基に、ヒドロキシ基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物(a1)(以下、単に化合物a1ともいう。)を反応させて得ることが好ましい。また、ポリオール化合物(a3)の少なくも一部として、ポリカーボネートジオールを使用する。
なお、上記ポリイソシアネート化合物(a2)としては、ジイソシアネート化合物が好ましく、ポリオール化合物(a3)としては、ジオール化合物が好ましい。また、ヒドロキシ基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物(a1)は、1つのヒドロキシ基と、1つの(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物であることが好ましい。
なお、上記ポリイソシアネート化合物(a2)としては、ジイソシアネート化合物が好ましく、ポリオール化合物(a3)としては、ジオール化合物が好ましい。また、ヒドロキシ基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物(a1)は、1つのヒドロキシ基と、1つの(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物であることが好ましい。
式1中、R2は、ポリイソシアネート化合物(a2)のウレタン結合残基、すなわち、ポリイソシアネート化合物(a2)から、イソシアナト基を除いた残基であることが好ましく、R3はポリオール化合物(a3)のウレタン結合残基、すなわち、ポリオール化合物(a3)からヒドロキシ基を除いた残基であることが好ましい。また、R1はヒドロキシ基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物(a1)のウレタン結合残基、すなわち、ヒドロキシ基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物(a1)からヒドロキシ基を除いた残基であることが好ましい。
式2中、R4及びR5はそれぞれ独立に、アルキレン基、アルキレン基とエーテル結合とを組み合わせた基、アリーレン基、アリーレン基とアルキレン基とを組み合わせた基であることが好ましい。R4及びR5は同一でも異なっていてもよいが、合成上の観点からは同じであることが好ましい。また、複数存在するR4はそれぞれ独立でも異なっていてもよい。
アルキレン基としては、炭素数2〜60のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2〜20のアルキレン基であることがより好ましい。上記アルキレン基は、直鎖状、分岐状、又は、環状のいずれでもよく、それらの組合せであってもよい。これらの中でも、形成された人工爪の柔軟性の観点から、直鎖のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2〜12の直鎖アルキレン基であることがより好ましく、炭素数3〜8の直鎖アルキレン基であることが更に好ましい。
アルキレン基とエーテル結合とを組み合わせた基としては、アルキレンオキシアルキレン基、ポリ(アルキレンオキシ)アルキレン基が好ましく例示される。上記アルキレン基としては、炭素数2〜6のアルキレン基が好ましく、炭素数2〜4のアルキレン基がより好ましく、炭素数2又は3のアルキレン基が更に好ましく、エチレンオキシエチレン基、ポリ(エチレンオキシ)エチレン基、プロピレンオキシプロピレン基、ポリ(プロピレンオキシ)プロピレン基が特に好ましく、エチレンオキシエチレン基又はポリ(エチレンオキシ)エチレン基が最も好ましい。
アリーレン基としては、フェニレン基、ナフタレンジイル基が例示され、アリーレンとアルキレン基とを組み合わせた基としては、−CH2−Ph−CH2−(Phはフェニレン基)が例示される。
式2中、mは1以上の整数であり、2〜10の整数であることが好ましく、4〜8の整数であることがより好ましい。
アルキレン基としては、炭素数2〜60のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2〜20のアルキレン基であることがより好ましい。上記アルキレン基は、直鎖状、分岐状、又は、環状のいずれでもよく、それらの組合せであってもよい。これらの中でも、形成された人工爪の柔軟性の観点から、直鎖のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2〜12の直鎖アルキレン基であることがより好ましく、炭素数3〜8の直鎖アルキレン基であることが更に好ましい。
アルキレン基とエーテル結合とを組み合わせた基としては、アルキレンオキシアルキレン基、ポリ(アルキレンオキシ)アルキレン基が好ましく例示される。上記アルキレン基としては、炭素数2〜6のアルキレン基が好ましく、炭素数2〜4のアルキレン基がより好ましく、炭素数2又は3のアルキレン基が更に好ましく、エチレンオキシエチレン基、ポリ(エチレンオキシ)エチレン基、プロピレンオキシプロピレン基、ポリ(プロピレンオキシ)プロピレン基が特に好ましく、エチレンオキシエチレン基又はポリ(エチレンオキシ)エチレン基が最も好ましい。
アリーレン基としては、フェニレン基、ナフタレンジイル基が例示され、アリーレンとアルキレン基とを組み合わせた基としては、−CH2−Ph−CH2−(Phはフェニレン基)が例示される。
式2中、mは1以上の整数であり、2〜10の整数であることが好ましく、4〜8の整数であることがより好ましい。
ヒドロキシ基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物(a1)としては、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ポリ(アルキレングリコール)モノ(メタ)アクリレートが好ましい。ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートは、炭素数2〜12のアルキル基を有することが好ましく、炭素数2〜8であることがより好ましく、炭素数2〜6であることが更に好ましく、炭素数2〜4であることが特に好ましい。また、ポリ(アルキレングリコール)モノ(メタ)アクリレートのアルキレングリコールは、炭素数2〜6のアルキレングリコールであることが好ましく、炭素数2〜4のアルキレングリコールであることがより好ましく、エチレングリコール又はプロピレングリコールであることが更に好ましい。なお、アルキレングリコールは1種単独でもよく、2種以上を含んでもよい。
ヒドロキシ基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物(a1)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・プロピレングリコール)−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・テトラメチレングリコール)−モノ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール・テトラメチレングリコール)−モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレートが好ましく例示される。これら化合物は1種類のみを使用してもよいし、複数を組み合わせて使用してもよい。
ヒドロキシ基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物(a1)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・プロピレングリコール)−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・テトラメチレングリコール)−モノ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール・テトラメチレングリコール)−モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレートが好ましく例示される。これら化合物は1種類のみを使用してもよいし、複数を組み合わせて使用してもよい。
上記ヒドロキシ基と(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する化合物(a1)は、市販のものを用いてもよい。例えば、ブレンマー(登録商標)シリーズである、ブレンマーE、ブレンマーPE−90、ブレンマーPE−200、ブレンマーPE−350、ブレンマーP、ブレンマーPP−1000、ブレンマーPP−500、ブレンマーPP−800、ブレンマー50PEP−300、ブレンマー70PEP−350B、ブレンマー55PET−800、ブレンマーPPTシリーズ、ブレンマー10PPB−500B、ブレンマーAE−90、ブレンマーAE−200、ブレンマーAE−400、ブレンマーAP−150、ブレンマーAP−400、ブレンマーAP−550、ブレンマーPME−100、ブレンマーPME−200、ブレンマーPME−400、ブレンマーPME−1000、ブレンマー50POEP−800B、ブレンマーPLE−200、ブレンマーPSE−400、ブレンマーPSE−1300、ブレンマーPAE−50、ブレンマーPAE−100、ブレンマー43PAPE−600B、ブレンマーAME−400、ブレンマーALEシリーズ、ブレンマーANP−300、ブレンマー75ANP−600、ブレンマーAAE−50、ブレンマーAAE−300(以上、日油(株)製)等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
ポリイソシアネート化合物(a2)としては、公知のポリイソシアネート化合物(例えば、メチレンジイソシアネート(ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等)、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(フェニルイソシアネート)チオホスフェート、フェニレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソプロピリデンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソシアネート、ジアニシジンジイソシアネート、ジフェニルエーテルジイソシアネート)を使用することができる。中でも上記ポリイソシアネート化合物(a2)としては、ジイソシアネート化合物が好ましく、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートが好ましく挙げられる。これら化合物は1種類のみを使用してもよいし、複数を組み合わせて使用してもよい。
ポリオール化合物(a3)としては、公知のポリオール化合物を使用することができる。ポリオール化合物としては、アルキレンジオール、芳香族ジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオールが例示される。
アルキレンジオールとしては、炭素数2〜20のアルキレンジオールが好ましく、炭素数2〜16のアルキレンジオールがより好ましく、炭素数2〜8のアルキレンジオールが更に好ましい。なお、上記アルキレン基は、直鎖状、分岐状、環状、又はこれらを組み合わせたもののいずれでもよい。
芳香族ジオールとしては、芳香族基を分子内に有するジオール化合物であれば特に限定されず、炭素数6〜30であることが好ましく、炭素数6〜20であることがより好ましい。
ポリエーテルジオールとしては、ポリ(オキシアルキレン)グリコールが好ましく、該アルキレン基は、炭素数2〜6であることが好ましく、炭素数2〜4であることがより好ましい。
アルキレンジオールとしては、炭素数2〜20のアルキレンジオールが好ましく、炭素数2〜16のアルキレンジオールがより好ましく、炭素数2〜8のアルキレンジオールが更に好ましい。なお、上記アルキレン基は、直鎖状、分岐状、環状、又はこれらを組み合わせたもののいずれでもよい。
芳香族ジオールとしては、芳香族基を分子内に有するジオール化合物であれば特に限定されず、炭素数6〜30であることが好ましく、炭素数6〜20であることがより好ましい。
ポリエーテルジオールとしては、ポリ(オキシアルキレン)グリコールが好ましく、該アルキレン基は、炭素数2〜6であることが好ましく、炭素数2〜4であることがより好ましい。
アルキレンジオールとしては、ブタンジオール、ヘキサンジオールが例示される。
芳香族ジオールとしては、ビスフェノールA、フルオレンジメタノール、キシリレングリコール、レゾルシンが例示される。
ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールが例示される。
ポリエステルジオールとしては、ポリエチレングリコールテレフタレートが例示される。
これらの中でも、アルキレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオールが好ましく、アルキレンジオール又はポリエーテルジオールがより好ましく、ポリエーテルジオールが更に好ましく、ポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコールが特に好ましい。
これら化合物は1種類のみを使用してもよいし複数を組み合わせて使用してもよい。
芳香族ジオールとしては、ビスフェノールA、フルオレンジメタノール、キシリレングリコール、レゾルシンが例示される。
ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールが例示される。
ポリエステルジオールとしては、ポリエチレングリコールテレフタレートが例示される。
これらの中でも、アルキレンジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオールが好ましく、アルキレンジオール又はポリエーテルジオールがより好ましく、ポリエーテルジオールが更に好ましく、ポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコールが特に好ましい。
これら化合物は1種類のみを使用してもよいし複数を組み合わせて使用してもよい。
ポリオール化合物(a3)の少なくとも1つは、ポリカーボネートジオールであり、下記式2’で表されるジオール化合物であることが好ましい。
式2’で表される化合物の具体例を以下に示すが、この具体例に限定されるものではない。表中、*は連結部位を表し、式2’中のm’は表中の重量平均分子量を満たすための平均値を有する。なお、a−11〜a−13は、ペンチレン基とヘキシレン基を1:1(モル比)で有している。
式1で表されるポリカーボネート型ポリウレタン(メタ)アクリレートの具体例を以下に示すが、この具体例に限定されるものではない。なお、合成に使用される化合物a1、化合物a2及び化合物a3を示している。式1中のnは表中の重量平均分子量を満たすための平均値を有する。
成分Aは1種単独で使用してもよく2種以上を併用してもよい。
本発明の人工爪組成物は、人工爪組成物の全量に対して、成分Aを10〜70質量%含有することが好ましく、15〜55質量%含有することがより好ましく、20〜55質量%含有することが特に好ましい。
なお、成分Aとして2種以上を併用する場合には、合計して上記の含有量とすることが好ましい。
本発明の人工爪組成物は、人工爪組成物の全量に対して、成分Aを10〜70質量%含有することが好ましく、15〜55質量%含有することがより好ましく、20〜55質量%含有することが特に好ましい。
なお、成分Aとして2種以上を併用する場合には、合計して上記の含有量とすることが好ましい。
成分B:重量平均分子量が10,000以上のバインダーポリマー
本発明の人工爪組成物は、成分Bとして重量平均分子量10,000以上のバインダーポリマーを含有する。バインダーポリマーは人工爪組成物に皮膜性を付与する。特に重量平均分子量10,000以上のバインダーポリマーを含有することにより、成分Aのポリカーボネート型ポリウレタン(メタ)アクリレートとの相互作用が高まり、好適である。
成分Bの重量平均分子量の上限について特に制限はないが、重量分子量が1,000,000以下であることが好ましく、200,000以下がより好ましく、50,000以下が特に好ましい。この分子量範囲にあることで人工爪組成物の取り扱い性、形成した人工爪の柔軟性に優れる。
なお、成分Bは、成分Aを除くポリマー成分であり、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレートを除くポリマー成分である。
本発明の人工爪組成物は、成分Bとして重量平均分子量10,000以上のバインダーポリマーを含有する。バインダーポリマーは人工爪組成物に皮膜性を付与する。特に重量平均分子量10,000以上のバインダーポリマーを含有することにより、成分Aのポリカーボネート型ポリウレタン(メタ)アクリレートとの相互作用が高まり、好適である。
成分Bの重量平均分子量の上限について特に制限はないが、重量分子量が1,000,000以下であることが好ましく、200,000以下がより好ましく、50,000以下が特に好ましい。この分子量範囲にあることで人工爪組成物の取り扱い性、形成した人工爪の柔軟性に優れる。
なお、成分Bは、成分Aを除くポリマー成分であり、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレートを除くポリマー成分である。
成分Bにおけるポリマー構造は、特に限定されず、所望のポリマー構造であればよく、例えば、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、セルロース系ポリマー、エステル系ポリマー、アミド系ポリマー、ビニル系ポリマー、エーテル系ポリマー、スチレン系ポリマー、カーボネート系ポリマー、ウレア系ポリマー、エチレン系ポリマー、アミン系ポリマー等のポリマー構造が挙げられる。
皮膜性・取り扱い性(粘性)、成分Aとの相互作用の観点から、成分Bは、エチレン系ポリマー(特にポリエチレンイミン系ポリマー)、ウレタン系ポリマー、アクリル系ポリマーであることが好ましく、ウレタン系ポリマー、アクリル系ポリマーであることがより好ましく、ウレタン系ポリマーが最も好ましい。
また、耐水性を付与する観点から、成分Bは、それ自身が非水溶性であることが好ましい。ここで、非水溶性であるとは、1気圧、20℃の条件で、成分Bが同容量の水に対して、混和や白濁を起こさず、不均一な概観を維持することを意味する。
皮膜性・取り扱い性(粘性)、成分Aとの相互作用の観点から、成分Bは、エチレン系ポリマー(特にポリエチレンイミン系ポリマー)、ウレタン系ポリマー、アクリル系ポリマーであることが好ましく、ウレタン系ポリマー、アクリル系ポリマーであることがより好ましく、ウレタン系ポリマーが最も好ましい。
また、耐水性を付与する観点から、成分Bは、それ自身が非水溶性であることが好ましい。ここで、非水溶性であるとは、1気圧、20℃の条件で、成分Bが同容量の水に対して、混和や白濁を起こさず、不均一な概観を維持することを意味する。
アクリル系ポリマーとしては、公知のアクリル酸誘導体(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等のアクリル酸アミド)、メタクリル酸誘導体(例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、メタクリルアミド、メタクリル酸イソプロピルアミド等のメタクリル酸アミド)を重合して得られるポリマーであればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
ウレタン系ポリマーとしては、公知のポリイソシアネート化合物(例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等)と公知のポリオール化合物(例えば、ブタンジオール、ヘキサンジオール等のアルキレンジオール、ジヒドロキシベンゼン、ビスフェノールA等のアリーレンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリエーテルジオール、ポリエチレングリコールテレフタレート等のポリエステルジオール、ポリエチレングリコールカーボネート等のポリカーボネートジオール等)からなるポリウレタンであればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
セルロース系ポリマーとしては、カルボキシメチルセルロース、ニトロセルロース、トリアセチルセルロース等の公知のセルロースであれば好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
エステル系ポリマーとしては、公知のポリカルボン酸化合物(例えば、こはく酸、アジピン酸、フタル酸等)と公知のポリオール化合物からなるポリエステルであればいずれも好適に使用することができる。また、ポリ乳酸等のヒドロキシカルボン酸化合物からなるポリエステルも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
エステル系ポリマーとしては、公知のポリカルボン酸化合物(例えば、こはく酸、アジピン酸、フタル酸等)と公知のポリオール化合物からなるポリエステルであればいずれも好適に使用することができる。また、ポリ乳酸等のヒドロキシカルボン酸化合物からなるポリエステルも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
アミド系ポリマーとしては、公知のポリカルボン酸化合物と公知のポリアミン化合物(例えば、エチレンジアミン、フェニレンジアミン等)からなるポリアミドであればいずれも好適に使用することができる。また、アミノ酸からなるタンパク質であるポリアミノ酸も好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
ビニル系ポリマーとしては、公知のビニル化合物(例えば、ビニル酢酸、塩化ビニル、ブタジエン等)を重合して得られるビニル系ポリマーであればいずれも好適に使用することができる。
エーテル系ポリマーとしては、公知のポリオール化合物からなるポリエーテル(例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等)であればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
ビニル系ポリマーとしては、公知のビニル化合物(例えば、ビニル酢酸、塩化ビニル、ブタジエン等)を重合して得られるビニル系ポリマーであればいずれも好適に使用することができる。
エーテル系ポリマーとしては、公知のポリオール化合物からなるポリエーテル(例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等)であればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
スチレン系ポリマーとしては、公知のスチレン化合物(例えば、スチレン、4−カルボキシスチレン、4−アセトキシスチレン等)からなるポリスチレンであればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
カーボネート系ポリマーとしては、公知の炭酸誘導体(例えば、ホスゲン、炭酸ジメチル、炭酸ジメチル等)と公知のポリオール化合物からなるポリカーボネートであればいずれも好適に使用することができる。ただしこれら例示に限定されるものではない。
カーボネート系ポリマーとしては、公知の炭酸誘導体(例えば、ホスゲン、炭酸ジメチル、炭酸ジメチル等)と公知のポリオール化合物からなるポリカーボネートであればいずれも好適に使用することができる。ただしこれら例示に限定されるものではない。
ウレア系ポリマーとしては、公知のポリイソシアネート化合物と公知のポリアミン化合物からなるポリウレアであればいずれも好適に使用することができる。
アミン系ポリマーとしては、公知のポリアミンが例示できる。
また、成分Bは、スチレン−アクリル系共重合体等のような、共重合ポリマーであってもよい。
アミン系ポリマーとしては、公知のポリアミンが例示できる。
また、成分Bは、スチレン−アクリル系共重合体等のような、共重合ポリマーであってもよい。
本発明において、成分Bは、重合性基を含まないことが好ましい。重合性基を含まないことにより、成分Aによって発現する柔軟性に必要以上に影響を及ぼし、密着性を変動させることを防ぐことができる。
成分Bは1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の人工爪組成物における成分Bの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、15〜80質量%であることが好ましく、15〜70質量%であることがより好ましく、16〜60質量%であることが更に好ましい。上記範囲であると、人工爪の密着性、光沢により優れると共に、人工爪組成物の爪に対する塗布性にも優れる。
また、成分Aに対する成分Bの含有量は、成分Aの含有量100質量部に対して、成分Bの含有量が20〜800質量部であることが好ましく、30〜450質量部であることが好ましく、30〜300質量部であることが更に好ましい。
なお、成分Bとして2種以上を併用する場合には、合計して上記の含有量とすることが好ましい。
本発明の人工爪組成物における成分Bの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、15〜80質量%であることが好ましく、15〜70質量%であることがより好ましく、16〜60質量%であることが更に好ましい。上記範囲であると、人工爪の密着性、光沢により優れると共に、人工爪組成物の爪に対する塗布性にも優れる。
また、成分Aに対する成分Bの含有量は、成分Aの含有量100質量部に対して、成分Bの含有量が20〜800質量部であることが好ましく、30〜450質量部であることが好ましく、30〜300質量部であることが更に好ましい。
なお、成分Bとして2種以上を併用する場合には、合計して上記の含有量とすることが好ましい。
成分C:光重合開始剤
本発明の人工爪組成物は、成分Cとして光重合開始剤を含有する。成分Cを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
光重合開始剤としては、ラジカル光重合開始剤、及び、カチオン光重合開始剤が挙げられるが、ラジカル光重合開始剤を含有することがより好ましい。
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができる。本発明に用いることができる光重合開始剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、ラジカル光重合開始剤とカチオン光重合開始剤とを併用してもよい。
本発明に用いることのできる光重合開始剤は、光を吸収して重合開始種を生成する化合物である。光としては、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線が例示できる。
本発明の人工爪組成物は、成分Cとして光重合開始剤を含有する。成分Cを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
光重合開始剤としては、ラジカル光重合開始剤、及び、カチオン光重合開始剤が挙げられるが、ラジカル光重合開始剤を含有することがより好ましい。
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができる。本発明に用いることができる光重合開始剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、ラジカル光重合開始剤とカチオン光重合開始剤とを併用してもよい。
本発明に用いることのできる光重合開始剤は、光を吸収して重合開始種を生成する化合物である。光としては、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線が例示できる。
本発明に用いることができる光重合開始剤として具体的には、以下のものを好ましく例示できる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
アセトフェノン化合物(例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、4’−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−1−プロパン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等);
ベンゾフェノン化合物(例えば、ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシ−ベンゾフェノン等);
アントラキノン化合物(例えば、アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、tert−ブチルアントラキノン等);
チオキサントン化合物(例えば、2−クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等);
トリハロアルキル化合物(例えば、2,4,6−(トリクロロメチル)トリアジン、2,4−トリクロロメチル−6−(4−メトキシフェニル)トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等);
ロフィンダイマー化合物(例えば、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体);
アクリジン化合物(例えば、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス(9−アクリジニル)プロノパン);
アシルホスフィンオキシド化合物(例えば、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド等);
メタロセン化合物(例えば、ビスシクロペンタジエニル−ビス(ジフルオロ−ピリル−フェニル)チタニウム等);
オニウム塩(例えば、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等);
オキシムエステル化合物(例えば、1−(4−フェニルチオフェニル)−1,2−オクタンジオン−2−(O−ベンゾイルオキシム)、1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−エタノン−1−(O−アセチルオキシム)等)。
アセトフェノン化合物(例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、4’−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−1−プロパン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等);
ベンゾフェノン化合物(例えば、ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシ−ベンゾフェノン等);
アントラキノン化合物(例えば、アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、tert−ブチルアントラキノン等);
チオキサントン化合物(例えば、2−クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等);
トリハロアルキル化合物(例えば、2,4,6−(トリクロロメチル)トリアジン、2,4−トリクロロメチル−6−(4−メトキシフェニル)トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等);
ロフィンダイマー化合物(例えば、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体);
アクリジン化合物(例えば、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス(9−アクリジニル)プロノパン);
アシルホスフィンオキシド化合物(例えば、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド等);
メタロセン化合物(例えば、ビスシクロペンタジエニル−ビス(ジフルオロ−ピリル−フェニル)チタニウム等);
オニウム塩(例えば、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等);
オキシムエステル化合物(例えば、1−(4−フェニルチオフェニル)−1,2−オクタンジオン−2−(O−ベンゾイルオキシム)、1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−エタノン−1−(O−アセチルオキシム)等)。
中でも、成分Cとしてはアセトフェノン化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、メタロセン化合物、及び、ロフィンダイマー化合物よりなる群から選ばれた光重合開始剤であることが好ましく、アセトフェノン化合物、及び、アシルホスフィンオキシド化合物よりなる群から選ばれた光重合開始剤であることが硬化性の観点から特に好ましい。
本発明において、成分Cは1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の人工爪組成物中における成分Cの含有量としては、人工爪組成物の総質量に対して、0.01〜20質量%であることが好ましく、0.1〜15質量%であることがより好ましく、0.5〜12質量%であることが更に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の密着性、光沢及び耐水性により優れる。
なお、成分Cとして2種以上を併用する場合には、合計して上記の含有量とすることが好ましい。
本発明の人工爪組成物中における成分Cの含有量としては、人工爪組成物の総質量に対して、0.01〜20質量%であることが好ましく、0.1〜15質量%であることがより好ましく、0.5〜12質量%であることが更に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の密着性、光沢及び耐水性により優れる。
なお、成分Cとして2種以上を併用する場合には、合計して上記の含有量とすることが好ましい。
成分D:重合性化合物
本発明の人工爪組成物は、成分Dとして、重合性化合物を含有することが好ましい。成分Dを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
本発明の人工爪組成物は、成分Dとして、重合性化合物を含有することが好ましい。成分Dを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
成分Dは、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
また、成分Dは、エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物(エチレン性不飽和化合物)であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用してもよい。このとき少なくとも1種の単官能化合物(単官能エチレン性不飽和化合物)を使用することが、反応性、物性などの性能を制御する上で更に好ましい。
また、成分Dは、成分A、成分B以外の化合物であり、分子量3,000未満の化合物であることが好ましく、分子量1,000未満の化合物であることがより好ましい。
また、成分Dは、エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物(エチレン性不飽和化合物)であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用してもよい。このとき少なくとも1種の単官能化合物(単官能エチレン性不飽和化合物)を使用することが、反応性、物性などの性能を制御する上で更に好ましい。
また、成分Dは、成分A、成分B以外の化合物であり、分子量3,000未満の化合物であることが好ましく、分子量1,000未満の化合物であることがより好ましい。
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のオリゴマーなどのラジカル重合性化合物が挙げられる。
具体的には、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年、(株)大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、(株)シーエムシー出版);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、(株)日刊工業新聞社)等に記載の市販品若しくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、及び、オリゴマーを用いることができる。
具体的には、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年、(株)大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、(株)シーエムシー出版);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、(株)日刊工業新聞社)等に記載の市販品若しくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、及び、オリゴマーを用いることができる。
成分Dとしては、成分Aと組み合わせて使用したときに発現する強度・柔軟性から得られる人工爪の除去性、密着性及び光沢の観点から、ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和化合物、カルボキシ基を有するエチレン性不飽和化合物又は、(ポリ)アルキレンオキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、カルボキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、又は、(メタ)アクリル酸を含むことがより好ましく、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物又は(メタ)アクリル酸を含むことが更に好ましく、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物を含むことが特に好ましく、ヒドロキシ基を有する単官能(メタ)アクリレート化合物を含むことが最も好ましい。
ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・プロピレングリコール)−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール・テトラメチレングリコール)−モノ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール・テトラメチレングリコール)−モノ(メタ)アクリレート、プロピレングリコール・ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレートを好ましく挙げることができる。
(ポリ)アルキレンオキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、メトキシポリエチレングリコール−(メタ)アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール−(メタ)アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール−(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール−(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ−ポリエチレングリコール−(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ−ポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ−ポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)−(メタ)アクリレートを好ましく挙げることができる。
上記ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、及び、(ポリ)アルキレンオキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物は、市販のものを用いることが可能である。代表例を示すと、ブレンマー(登録商標)シリーズである、ブレンマーE、ブレンマーPE−90、ブレンマーPE−200、ブレンマーPE−350、ブレンマーP、ブレンマーPP−1000、ブレンマーPP−500、ブレンマーPP−800、ブレンマー50PEP−300、ブレンマー70PEP−350B、ブレンマー55PET−800、ブレンマーPPTシリーズ、ブレンマー10PPB−500B、ブレンマーAE−90、ブレンマーAE−200、ブレンマーAE−400、ブレンマーAP−150、ブレンマーAP−400、ブレンマーAP−550、ブレンマーPME−100、ブレンマーPME−200、ブレンマーPME−400、ブレンマーPME−1000、ブレンマー50POEP−800B、ブレンマーPLE−200、ブレンマーPSE−400、ブレンマーPSE−1300、ブレンマーPAE−50、ブレンマーPAE−100、ブレンマー43PAPE−600B、ブレンマーAME−400、ブレンマーALEシリーズ、ブレンマーANP−300、ブレンマー75ANP−600、ブレンマーAAE−50、ブレンマーAAE−300(以上、日油(株)製)等を挙げることができる。
カルボキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、(メタ)アクリル酸−2−カルボキシエチル、2−(メタ)アクリロイロキシエチルマレイン酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、1−メチル−2−(メタ)アクリロイロキシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタル酸、1−メチル−2−(メタ)アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルフタル酸が例示される。
ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を使用する場合、当該化合物におけるヒドロキシ基の数は、1〜10個が好ましく、1〜5個がより好ましく、1〜3個が更に好ましく、1個が特に好ましい。
また、(ポリ)アルキレンオキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を使用する場合、当該化合物におけるアルキレンオキシ基の繰り返し単位数としては、1〜25が好ましく、1〜15がより好ましく、1〜10が更に好ましい。
また、(ポリ)アルキレンオキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を使用する場合、当該化合物におけるアルキレンオキシ基の繰り返し単位数としては、1〜25が好ましく、1〜15がより好ましく、1〜10が更に好ましい。
これらの中でも、成分Dは、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸であることが好ましく、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸であることがより好ましく、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸であることが更に好ましく、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートであることが特に好ましい。
成分Dは、1種単独で含有していても、2種以上を併用していてもよい。
本発明の人工爪組成物における成分Dの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、1〜80質量%であることが好ましく、1〜70質量%であることがより好ましく、1〜60質量%であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の除去性及び耐水性により優れると共に、人工爪組成物の爪に対する塗布性にも優れる。
また、成分Dとして、単官能重合性化合物と多官能重合性化合物とを併用する場合、多官能重合性化合物の含有量が、単官能重合性化合物の含有量よりも少ないことが好ましい。上記態様であると、得られる人工爪の柔軟性に優れる。単官能重合性化合物の含有量を100質量部とした場合、多官能重合性化合物の含有量は100質量部以下であることが好ましく、50質量部以下であることがより好ましく、30質量部以下であることが更に好ましく、10質量部以下であることが特に好ましく、多官能重合性化合物を含有しないことが最も好ましい。
なお、成分Dとして2種以上を併用する場合には、合計して上記の含有量とすることが好ましい。
本発明の人工爪組成物における成分Dの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、1〜80質量%であることが好ましく、1〜70質量%であることがより好ましく、1〜60質量%であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の除去性及び耐水性により優れると共に、人工爪組成物の爪に対する塗布性にも優れる。
また、成分Dとして、単官能重合性化合物と多官能重合性化合物とを併用する場合、多官能重合性化合物の含有量が、単官能重合性化合物の含有量よりも少ないことが好ましい。上記態様であると、得られる人工爪の柔軟性に優れる。単官能重合性化合物の含有量を100質量部とした場合、多官能重合性化合物の含有量は100質量部以下であることが好ましく、50質量部以下であることがより好ましく、30質量部以下であることが更に好ましく、10質量部以下であることが特に好ましく、多官能重合性化合物を含有しないことが最も好ましい。
なお、成分Dとして2種以上を併用する場合には、合計して上記の含有量とすることが好ましい。
成分E:着色剤
本発明の人工爪組成物はカラー層や、トップ層にも好適に用いることができる。カラー層、トップ層として用いるために着色剤や増白剤を含んでもよい。かかる着色剤としては、染料、無機系着色顔料、有機系着色顔料、有機色素、パール顔料、ラメ色材等が挙げられる。
より具体的には、好ましい顔料として縮合アゾ系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、ペリレン系顔料、キナクリドン系顔料、イソインドリノン系顔料、ジオキサジン系顔料、フタロシアニン系顔料等の有機系着色顔料及びチタン系顔料、カーボンブラック系顔料等の無機系着色顔料などが挙げられる。
本発明の人工爪組成物はカラー層や、トップ層にも好適に用いることができる。カラー層、トップ層として用いるために着色剤や増白剤を含んでもよい。かかる着色剤としては、染料、無機系着色顔料、有機系着色顔料、有機色素、パール顔料、ラメ色材等が挙げられる。
より具体的には、好ましい顔料として縮合アゾ系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、ペリレン系顔料、キナクリドン系顔料、イソインドリノン系顔料、ジオキサジン系顔料、フタロシアニン系顔料等の有機系着色顔料及びチタン系顔料、カーボンブラック系顔料等の無機系着色顔料などが挙げられる。
<その他の成分>
本発明の人工爪組成物は、上記成分A〜成分E以外のその他の成分として、一般に人工爪組成物中に配合されうる添加成分を、本発明効果を損なわない範囲内において任意に配合することができる。このような添加成分としては、例えば、消泡剤、緩衝剤、キレート化剤、分散剤、染料、充填剤、顔料、防腐剤、樹脂粉末(例えば、ポリ(メタ)アクリル酸等)、無機粉末(例えば、シリカゲル等)、増粘剤、湿潤剤、シリコーンレベリング剤、香料等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
本発明の人工爪組成物は、上記成分A〜成分E以外のその他の成分として、一般に人工爪組成物中に配合されうる添加成分を、本発明効果を損なわない範囲内において任意に配合することができる。このような添加成分としては、例えば、消泡剤、緩衝剤、キレート化剤、分散剤、染料、充填剤、顔料、防腐剤、樹脂粉末(例えば、ポリ(メタ)アクリル酸等)、無機粉末(例えば、シリカゲル等)、増粘剤、湿潤剤、シリコーンレベリング剤、香料等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
本発明の人工爪組成物は、塗布性の観点から、溶剤を含有してもよいが、安全性や取り扱い性の観点からは、溶剤の含有量は、人工爪組成物の全質量に対し、10質量%未満であることが好ましく、5質量%未満であることがより好ましく、本発明の人工爪組成物が溶剤を含有しないことが特に好ましい。
溶剤としては、公知の溶剤であれば、いずれも好適に使用することができる。例えば、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤及びこれらのアセテート系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶剤等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
溶剤としては、公知の溶剤であれば、いずれも好適に使用することができる。例えば、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤及びこれらのアセテート系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶剤等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
乾燥速度の観点から、溶剤の沸点は、30〜130℃であることが好ましく、35〜100℃であることがより好ましく、40〜90℃であることが更に好ましく、50〜85℃であることが特に好ましい。上記範囲であると、乾燥性及び塗布性に優れる。
溶剤は、1種単独で含有していても、2種以上を併用していてもよい。
溶剤としては、アルコール系溶剤及び/又はケトン系溶剤を含むことが好ましく、アルコール系溶剤及びケトン系溶剤を含むことがより好ましい。
溶剤としては、アルコール系溶剤及び/又はケトン系溶剤を含むことが好ましく、アルコール系溶剤及びケトン系溶剤を含むことがより好ましい。
また、本発明の人工爪組成物における各成分の配合量は、特に限定されるものではないが、質量比で、成分A/成分B/成分C/成分D/その他の成分=1〜80/16〜70/0.1〜15/5〜70の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、塗布性により優れ、また、得られる人工爪の密着性及び光沢により優れる。
(人工爪)
本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪であり、本発明の人工爪組成物を露光して形成された層を有する人工爪であることが好ましい。
本発明の人工爪は、ジェルネイルとして好適である。
本発明の人工爪は、少なくとも一部が本発明の人工爪組成物により形成されていればよく、他の層や構造を有していてもよいし、人工爪全体が本発明の人工爪組成物により形成されていてもよい。
本発明の人工爪組成物により形成された層は、本発明の人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を1層のみ有していても、2層以上有していてもよい。
また、本発明の人工爪における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、10〜5,000μmであることが好ましく、20〜3,500μmであることがより好ましく、20〜2,000μmが更に好ましい。
本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪であり、本発明の人工爪組成物を露光して形成された層を有する人工爪であることが好ましい。
本発明の人工爪は、ジェルネイルとして好適である。
本発明の人工爪は、少なくとも一部が本発明の人工爪組成物により形成されていればよく、他の層や構造を有していてもよいし、人工爪全体が本発明の人工爪組成物により形成されていてもよい。
本発明の人工爪組成物により形成された層は、本発明の人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を1層のみ有していても、2層以上有していてもよい。
また、本発明の人工爪における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、10〜5,000μmであることが好ましく、20〜3,500μmであることがより好ましく、20〜2,000μmが更に好ましい。
(人工爪の形成方法)
本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物を用いて人工爪を形成する方法であれば、特に制限はないが、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、上記塗布膜を露光して人工爪を形成する工程、を含む方法であることが好ましい。
本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物を用いて人工爪を形成する方法であれば、特に制限はないが、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程、並びに、上記塗布膜を露光して人工爪を形成する工程、を含む方法であることが好ましい。
<塗布工程>
本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程(塗布工程)を含むことが好ましい。
他の人工爪は、人工爪に用いられる基材であれば、特に制限はなく、例えば、樹脂基材、本発明の人工爪の形成方法以外の方法により形成された人工爪、又は、本発明の人工爪の形成方法により得られた人工爪が挙げられる。
塗布方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法が好ましく挙げられる。また、スプレー塗布やインクジェット塗布を行ってもよい。
塗布膜の厚さについても、特に制限はなく、得られる人工爪における所望の厚さを考慮して、塗布厚を適宜調整すればよい。
本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程(塗布工程)を含むことが好ましい。
他の人工爪は、人工爪に用いられる基材であれば、特に制限はなく、例えば、樹脂基材、本発明の人工爪の形成方法以外の方法により形成された人工爪、又は、本発明の人工爪の形成方法により得られた人工爪が挙げられる。
塗布方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法が好ましく挙げられる。また、スプレー塗布やインクジェット塗布を行ってもよい。
塗布膜の厚さについても、特に制限はなく、得られる人工爪における所望の厚さを考慮して、塗布厚を適宜調整すればよい。
<露光工程>
露光により人工爪を形成する場合、露光に使用する光としては、紫外線、可視光線などが挙げられ、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。
露光手段としては、特に制限はなく、公知の露光手段を用いることができるが、例えば、水銀ランプ及びメタルハライドランプ等の紫外線ランプ(UVランプ)、発光ダイオード(LED)、レーザーダイオード(LD)等が挙げられる。
中でも、UVランプ、又は、紫外線発光ダイオード(UV−LED)が好ましい。
露光時間としては、特に制限はないが、10秒〜15分が好ましく、30秒〜10分がより好ましく、0.5〜7分が更に好ましい。また、露光は、間歇的に行っても、連続的に行ってもよいし、パルス光により行ってもよく、任意の方法で露光すればよい。
露光により人工爪を形成する場合、露光に使用する光としては、紫外線、可視光線などが挙げられ、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。
露光手段としては、特に制限はなく、公知の露光手段を用いることができるが、例えば、水銀ランプ及びメタルハライドランプ等の紫外線ランプ(UVランプ)、発光ダイオード(LED)、レーザーダイオード(LD)等が挙げられる。
中でも、UVランプ、又は、紫外線発光ダイオード(UV−LED)が好ましい。
露光時間としては、特に制限はないが、10秒〜15分が好ましく、30秒〜10分がより好ましく、0.5〜7分が更に好ましい。また、露光は、間歇的に行っても、連続的に行ってもよいし、パルス光により行ってもよく、任意の方法で露光すればよい。
本発明の人工爪の形成方法は、得られる人工爪の光沢や美観、また、露光を行った場合は未硬化成分の除去の観点から、露光工程の後、得られた人工爪の表面を洗浄又は拭き取る工程を更に含むことが好ましい。
洗浄又は拭き取り方法としては、エタノール等の溶剤を含ませたワイプシートやスポンジワイプ等の拭き取り基材により拭き取る方法、エタノール等の溶剤や水により洗浄する方法が例示できる。
また、洗浄又は拭き取りに使用する溶剤としては、得られた人工爪を溶解しない溶剤であることが好ましい。
また、本発明の人工爪の形成方法は、塗布工程の前に、ヒト若しくは動物の爪、又は、他の人工爪の表面を粗面化する工程を含むことが好ましい。上記態様であると、露光にして得られる人工爪(ジェルネイル)の密着性及び耐久性に優れる。
爪表面の粗面化方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。例えば、ファイル等の爪用やすりにより粗面化を行う方法が好ましく挙げられる。
また、本発明の人工爪の形成方法は、その他、公知の工程を含んでいてもよい。例えば、人工爪組成物が溶剤を含む場合には、乾燥工程を有していてもよい。更に、塗布工程及び露光工程を繰り返し行ってもよい。
洗浄又は拭き取り方法としては、エタノール等の溶剤を含ませたワイプシートやスポンジワイプ等の拭き取り基材により拭き取る方法、エタノール等の溶剤や水により洗浄する方法が例示できる。
また、洗浄又は拭き取りに使用する溶剤としては、得られた人工爪を溶解しない溶剤であることが好ましい。
また、本発明の人工爪の形成方法は、塗布工程の前に、ヒト若しくは動物の爪、又は、他の人工爪の表面を粗面化する工程を含むことが好ましい。上記態様であると、露光にして得られる人工爪(ジェルネイル)の密着性及び耐久性に優れる。
爪表面の粗面化方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。例えば、ファイル等の爪用やすりにより粗面化を行う方法が好ましく挙げられる。
また、本発明の人工爪の形成方法は、その他、公知の工程を含んでいてもよい。例えば、人工爪組成物が溶剤を含む場合には、乾燥工程を有していてもよい。更に、塗布工程及び露光工程を繰り返し行ってもよい。
(人工爪の除去方法)
本発明の人工爪組成物は、従来の除去液であるアセトン等の有機溶媒によって人工爪を脆化させることにより除去することができる。
除去方法の具体例を以下に示す。すなわち、任意に人工爪表面及び/又は先端を爪用やすりで擦って本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れる程度に粗めに傷をつけた後、アセトンに浸したコットンを上記ジェルネイル上に乗せ、これをアルミホイル等で巻いて3〜5分間程度そのまま放置してジェルネイルを膨潤させた後、この膨潤したジェルネイルをへら状若しくはスティック状器具等を用いることで、指先や爪に負担をかけることなく、極めて容易かつ安全に剥がすことができる。
なお、上記方法において浸漬しながら、拭き取り、押し剥がしをすることも可能であり、より早く除去することが可能になる。また、超音波や振動などを与えることで拭き取り・剥離を促進してもよい。
本発明の人工爪組成物は、従来の除去液であるアセトン等の有機溶媒によって人工爪を脆化させることにより除去することができる。
除去方法の具体例を以下に示す。すなわち、任意に人工爪表面及び/又は先端を爪用やすりで擦って本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れる程度に粗めに傷をつけた後、アセトンに浸したコットンを上記ジェルネイル上に乗せ、これをアルミホイル等で巻いて3〜5分間程度そのまま放置してジェルネイルを膨潤させた後、この膨潤したジェルネイルをへら状若しくはスティック状器具等を用いることで、指先や爪に負担をかけることなく、極めて容易かつ安全に剥がすことができる。
なお、上記方法において浸漬しながら、拭き取り、押し剥がしをすることも可能であり、より早く除去することが可能になる。また、超音波や振動などを与えることで拭き取り・剥離を促進してもよい。
このとき、除去に使用する有機溶剤は特に限定されない。また有機溶剤でなくとも、人工爪を脆化させる機能を持つ液であれば、好適に用いることができる。具体的には酸性、中性、アルカリ性の温水、パラフィン、アロマオイルなどが挙げられる。
(ネイルアートキット)
本発明のネイルアートキットは、本発明の人工爪組成物を含む。本発明のネイルアートキットにおける本発明の人工爪組成物の好ましい態様は、上述したものと同様である。
また、本発明のネイルアートキットは、上記人工爪組成物以外に、任意の品を含んでいてもよい。
例えば、除去液、カラー用又はトップ用等の本発明の人工爪組成物以外の人工爪組成物、ファイル等の爪用やすり、人工爪組成物を塗布するための平筆等の筆や刷毛、UVライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されない。
本発明のネイルアートキットは、本発明の人工爪組成物を含む。本発明のネイルアートキットにおける本発明の人工爪組成物の好ましい態様は、上述したものと同様である。
また、本発明のネイルアートキットは、上記人工爪組成物以外に、任意の品を含んでいてもよい。
例えば、除去液、カラー用又はトップ用等の本発明の人工爪組成物以外の人工爪組成物、ファイル等の爪用やすり、人工爪組成物を塗布するための平筆等の筆や刷毛、UVライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されない。
以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例における形態に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、及び「%」は質量基準である。
また、実施例に記載のA−1〜A−21は、前述したA−1〜A−21と同じポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレートである。
また、実施例に記載のA−1〜A−21は、前述したA−1〜A−21と同じポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレートである。
<合成例>
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を供えた4つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート19.9g(エボニックデグサ製)、平均分子量2,000のポリオール(ポリアルキレンカーボネートジオール、旭化成(株)製、デュラノールT−5652)182g(0.091モル)、トルエン600gを仕込み、85℃で反応させて、残存イソシアネート基が4.0%になった時点で、温度を70℃に下げ、2−ヒドロキシエチルアクリレート2.7g(0.023モル、東京化成工業(株)製)を加え、残存イソシアネート基が0.2%になった時点で反応を終了した。終了後に重合禁止剤としてパラメトキシフェノール0.01g(東京化成工業(株)製)を添加した後、溶媒を減圧留去することでポリウレタンアクリレートA−1を204g得た。ゲルパーミネーションクロマトグラフィーで測定したポリウレタンアクリレートA−1の重量平均分子量は5,000であった。
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を供えた4つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート19.9g(エボニックデグサ製)、平均分子量2,000のポリオール(ポリアルキレンカーボネートジオール、旭化成(株)製、デュラノールT−5652)182g(0.091モル)、トルエン600gを仕込み、85℃で反応させて、残存イソシアネート基が4.0%になった時点で、温度を70℃に下げ、2−ヒドロキシエチルアクリレート2.7g(0.023モル、東京化成工業(株)製)を加え、残存イソシアネート基が0.2%になった時点で反応を終了した。終了後に重合禁止剤としてパラメトキシフェノール0.01g(東京化成工業(株)製)を添加した後、溶媒を減圧留去することでポリウレタンアクリレートA−1を204g得た。ゲルパーミネーションクロマトグラフィーで測定したポリウレタンアクリレートA−1の重量平均分子量は5,000であった。
原料及びその使用量を適宜変更した以外は、合成例1と同様な方法によりA−2〜A−21の化合物を得た。
〔人工爪組成物の調製〕
下記表に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物G−1〜G−43を得た。なお、表中に数値は質量部を表し、「−」は当該成分を添加していないことを意味する。
下記表に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物G−1〜G−43を得た。なお、表中に数値は質量部を表し、「−」は当該成分を添加していないことを意味する。
使用した成分A〜成分Dは以下の通りである。
(成分A)
・HA−1(比較例):紫光UV−3000B(エステル型ポリウレタンアクリレート、日本合成化学(株)製、Mw=18,000、官能基数:2)
・HA−2(比較例):紫光UV−3300B(エーテル型ポリウレタンアクリレート、日本合成化学(株)製、Mw=13,000、官能基数:2)
・HA−3(比較例):紫光UV−3700B(エーテル型ポリウレタンアクリレート、日本合成化学(株)製、Mw=38,000、官能基数:2)
・HA−4(比較例):紫光UV−3200B(エステル型ポリウレタンアクリレート、日本合成化学(株)製、Mw=10,000、官能基数:2)
(成分A)
・HA−1(比較例):紫光UV−3000B(エステル型ポリウレタンアクリレート、日本合成化学(株)製、Mw=18,000、官能基数:2)
・HA−2(比較例):紫光UV−3300B(エーテル型ポリウレタンアクリレート、日本合成化学(株)製、Mw=13,000、官能基数:2)
・HA−3(比較例):紫光UV−3700B(エーテル型ポリウレタンアクリレート、日本合成化学(株)製、Mw=38,000、官能基数:2)
・HA−4(比較例):紫光UV−3200B(エステル型ポリウレタンアクリレート、日本合成化学(株)製、Mw=10,000、官能基数:2)
(成分B)
・B−1:下記ポリウレタン(Mw(重量平均分子量):20,000、構造中の数値はモル比を表す。)
・B−1:下記ポリウレタン(Mw(重量平均分子量):20,000、構造中の数値はモル比を表す。)
・B−2:ポリメタクリル酸メチル(Mw:20,000)
・B−3:下記ポリウレタン(Mw:50,000、構造中の数値はモル比を表す。)
・B−3:下記ポリウレタン(Mw:50,000、構造中の数値はモル比を表す。)
(成分C)
・C−1:Irgacure184(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン化合物、BASF(株)製)
・C−2:IrgacureTPO(2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、アシルホスフィンオキシド化合物、BASF(株)製)
・C−3:Irgacure784(ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム、チタノセン系化合物、BASF(株)製)
・C−1:Irgacure184(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン化合物、BASF(株)製)
・C−2:IrgacureTPO(2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、アシルホスフィンオキシド化合物、BASF(株)製)
・C−3:Irgacure784(ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム、チタノセン系化合物、BASF(株)製)
(成分D)
・D−1:ヒドロキシエチルメタクリレート(東京化成工業(株)製)
・D−2:ヒドロキシプロピルメタクリレート(共栄社化学(株)製)
・D−3:メタクリル酸(東京化成工業(株)製)
・D−4:アクリル酸(東京化成工業(株)製)
・D−5:メタクリル酸メチル(東京化成工業(株)製)
・D−6:イソボルニルメタクリレート(東京化成工業(株)製)
・D−7:下記式で表されるウレタンジメタクリレート
・D−1:ヒドロキシエチルメタクリレート(東京化成工業(株)製)
・D−2:ヒドロキシプロピルメタクリレート(共栄社化学(株)製)
・D−3:メタクリル酸(東京化成工業(株)製)
・D−4:アクリル酸(東京化成工業(株)製)
・D−5:メタクリル酸メチル(東京化成工業(株)製)
・D−6:イソボルニルメタクリレート(東京化成工業(株)製)
・D−7:下記式で表されるウレタンジメタクリレート
(人工爪の形成)
<形成例1>
得られた人工爪組成物0.25gを手の爪に対して刷毛を使って塗布し、紫外線ランプ(36W)を2分間照射した。その後エタノールで表面を洗浄した後、形成した人工爪を目視で観察したところ、完全に固化していた。この時の人工爪の膜厚を測定した結果、約300μm(±10μm)であった。
<形成例1>
得られた人工爪組成物0.25gを手の爪に対して刷毛を使って塗布し、紫外線ランプ(36W)を2分間照射した。その後エタノールで表面を洗浄した後、形成した人工爪を目視で観察したところ、完全に固化していた。この時の人工爪の膜厚を測定した結果、約300μm(±10μm)であった。
<形成例2>
形成例1と同様の方法で市販のベースジェル((株)モガ・ブルック製)にて形成した約300μm(±10μm)の人工爪上に、カラー層として人工爪組成物を刷毛で塗布・紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。未硬化分をエタノールにより拭き取った後、トップ層として市販のトップジェル((株)モガ・ブルック製)を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。形成した人工爪を目視で観察したところ、完全に固化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚は約900μmであった。
形成例1と同様の方法で市販のベースジェル((株)モガ・ブルック製)にて形成した約300μm(±10μm)の人工爪上に、カラー層として人工爪組成物を刷毛で塗布・紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。未硬化分をエタノールにより拭き取った後、トップ層として市販のトップジェル((株)モガ・ブルック製)を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。形成した人工爪を目視で観察したところ、完全に固化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚は約900μmであった。
(人工爪の評価)
<光沢>
形成後の人工爪の光沢を、蛍光灯点灯下において、下記評価基準で目視評価した。
−評価基準−
A:爪表面に蛍光灯が写り込み、像が鮮明に認識できる。
B:爪表面に蛍光灯が写り込み、像がやや鮮明に認識できる。
C:爪表面に蛍光灯が写りこむが、像が鮮明に認識できない。
D:爪表面に蛍光灯が写りこまない。
<光沢>
形成後の人工爪の光沢を、蛍光灯点灯下において、下記評価基準で目視評価した。
−評価基準−
A:爪表面に蛍光灯が写り込み、像が鮮明に認識できる。
B:爪表面に蛍光灯が写り込み、像がやや鮮明に認識できる。
C:爪表面に蛍光灯が写りこむが、像が鮮明に認識できない。
D:爪表面に蛍光灯が写りこまない。
<除去性>
得られた人工爪の表面及び先端に対してファイル(爪用のヤスリ)で傷をつけた。その後、アセトンで湿したコットンを巻き付け、アルミホイルで包んだ。2分経過後にコットンを取り外し、アセトン浸漬部を木製のスパチュラを用いて剥離施術を行い、基材(爪)からの除去しやすさを下記評価基準により評価した。
−評価基準−
A:容易に除去が可能であった。
B:除去が可能であった。
C:除去が可能であったが、若干の残膜が残り、除去液を使用して拭き取った。
D:除去不可であった。
得られた人工爪の表面及び先端に対してファイル(爪用のヤスリ)で傷をつけた。その後、アセトンで湿したコットンを巻き付け、アルミホイルで包んだ。2分経過後にコットンを取り外し、アセトン浸漬部を木製のスパチュラを用いて剥離施術を行い、基材(爪)からの除去しやすさを下記評価基準により評価した。
−評価基準−
A:容易に除去が可能であった。
B:除去が可能であった。
C:除去が可能であったが、若干の残膜が残り、除去液を使用して拭き取った。
D:除去不可であった。
<密着性>
得られた人工爪の最上層をHB硬度の鉛筆で一定の荷重をかけて引き、剥離の発生有無と引っかき傷の有無とを下記評価基準により評価した。
−評価基準−
A:傷・剥離とも発生しなかった。
B:剥離は発生しなかったが、若干の傷が発生した。
C:剥離は発生しなかったが、傷が発生した。
D:剥離が発生した。
得られた人工爪の最上層をHB硬度の鉛筆で一定の荷重をかけて引き、剥離の発生有無と引っかき傷の有無とを下記評価基準により評価した。
−評価基準−
A:傷・剥離とも発生しなかった。
B:剥離は発生しなかったが、若干の傷が発生した。
C:剥離は発生しなかったが、傷が発生した。
D:剥離が発生した。
<温水中での密着性−1>
得られた人工爪を、45℃の水道水(pH6.4)に入れ、10分経過後に得られた人工爪の最上層をHB硬度の鉛筆で一定の荷重をかけて引き、剥離の発生有無と引っかき傷の有無とを下記評価基準により評価した。
A:傷・剥離とも発生しなかった。
B:剥離は発生しなかったが、若干の傷が発生した。
C:剥離は発生しなかったが、傷が発生した。
D:剥離が発生した。
得られた人工爪を、45℃の水道水(pH6.4)に入れ、10分経過後に得られた人工爪の最上層をHB硬度の鉛筆で一定の荷重をかけて引き、剥離の発生有無と引っかき傷の有無とを下記評価基準により評価した。
A:傷・剥離とも発生しなかった。
B:剥離は発生しなかったが、若干の傷が発生した。
C:剥離は発生しなかったが、傷が発生した。
D:剥離が発生した。
<温水中での密着性−2>
得られた人工爪を、45℃の水道水(pH6.4)の入った水槽に入れ、爪を押し曲がる程度に水槽壁に押し当てる操作を100回繰り返した。
A:剥離が発生しなかった。
B:人工爪組成物の周囲に剥離が発生した。
C:人工爪組成物の内部まで剥離が発生した。
D:剥離が発生し、人工爪が爪から取れた。
得られた人工爪を、45℃の水道水(pH6.4)の入った水槽に入れ、爪を押し曲がる程度に水槽壁に押し当てる操作を100回繰り返した。
A:剥離が発生しなかった。
B:人工爪組成物の周囲に剥離が発生した。
C:人工爪組成物の内部まで剥離が発生した。
D:剥離が発生し、人工爪が爪から取れた。
(実施例1〜28、及び比較例1〜6)
形成例1で作製した人工爪に対して光沢、密着性、温水中での密着性−1、−2、除去性を評価した。結果を表に示す。
形成例1で作製した人工爪に対して光沢、密着性、温水中での密着性−1、−2、除去性を評価した。結果を表に示す。
表の結果から、本発明の人工爪組成物によって得られた人工爪は、高い密着性と除去性のバランスを有していることがわかる。特に温水中での変形に対しても好適な挙動を示し、高い密着性を有していることがわかる。
(実施例29〜32、及び比較例7〜11)
形成例2で作製した人工爪に対して光沢、密着性、温水中での密着性−1、−2、除去性を評価した。結果を表に示す。
形成例2で作製した人工爪に対して光沢、密着性、温水中での密着性−1、−2、除去性を評価した。結果を表に示す。
表の結果から、本発明の人工爪組成物によって得られた人工爪は、高い密着性と除去性のバランスを有していることがわかる。特に温水中での変形に対しても好適な挙動を示し、高い密着性を有していることがわかる。またこれら性能が、着色剤を添加し、カラー層として機能させても問題なく発現することを示している。
成分A:ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート
本発明の人工爪組成物は、成分Aとして、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート(以下、「ポリカーボネート型ポリウレタン(メタ)アクリレート」ともいう。)を含有する。
成分Aの重量平均分子量は、1,000以上であることが好ましく、2,000以上であることがより好ましく、3,000以上であることが更に好ましく、4,000以上であることが特に好ましい。重量平均分子量の上限は特に限定されないが、50,000以下であることが好ましく、20,000以下であることがより好ましい。重量平均分子量が上記の範囲にあることで人工爪の皮膜性、密着性のバランスに優れる。
本発明において、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)法にて測定され、標準ポリスチレンで換算して求められる。具体的には、例えば、GPCは、HLC−8220GPC(東ソー(株)製)を用い、カラムとして、TSKgeL SuperHZM−H、TSKgeL SuperHZ4000、TSKgeL SuperHZ2000(東ソー(株)製、4.6mmID×15cm)を3本用い、溶離液としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いる。また、条件としては、試料濃度を0.35質量%、流速を0.35ml/min、サンプル注入量を10μl、測定温度を40℃とし、IR検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー(株)製「標準試料TSK standard,polystyrene」:「F−40」、「F−20」、「F−4」、「F−1」、「A−5000」、「A−2500」、「A−1000」、「n−プロピルベンゼン」の8サンプルから作製する。
本発明の人工爪組成物は、成分Aとして、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート(以下、「ポリカーボネート型ポリウレタン(メタ)アクリレート」ともいう。)を含有する。
成分Aの重量平均分子量は、1,000以上であることが好ましく、2,000以上であることがより好ましく、3,000以上であることが更に好ましく、4,000以上であることが特に好ましい。重量平均分子量の上限は特に限定されないが、50,000以下であることが好ましく、20,000以下であることがより好ましい。重量平均分子量が上記の範囲にあることで人工爪の皮膜性、密着性のバランスに優れる。
本発明において、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)法にて測定され、標準ポリスチレンで換算して求められる。具体的には、例えば、GPCは、HLC−8220GPC(東ソー(株)製)を用い、カラムとして、TSKgeL SuperHZM−H、TSKgeL SuperHZ4000、TSKgeL SuperHZ2000(東ソー(株)製、4.6mmID×15cm)を3本用い、溶離液としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いる。また、条件としては、試料濃度を0.35質量%、流速を0.35ml/min、サンプル注入量を10μl、測定温度を40℃とし、IR検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー(株)製「標準試料TSK standard,polystyrene」:「F−40」、「F−20」、「F−4」、「F−1」、「A−5000」、「A−2500」、「A−1000」、「n−プロピルベンゼン」の8サンプルから作製する。
式2中、R4及びR5はそれぞれ独立に、アルキレン基、アルキレン基とエーテル結合とを組み合わせた基、アリーレン基、アリーレン基とアルキレン基とを組み合わせた基であることが好ましい。R4及びR5は同一でも異なっていてもよいが、合成上の観点からは同じであることが好ましい。また、複数存在するR4はそれぞれ独立でも異なっていてもよい。
アルキレン基としては、炭素数2〜60のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2〜20のアルキレン基であることがより好ましい。上記アルキレン基は、直鎖状、分岐状、又は、環状のいずれでもよく、それらの組合せであってもよい。これらの中でも、形成された人工爪の柔軟性の観点から、直鎖のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2〜12の直鎖アルキレン基であることがより好ましく、炭素数3〜8の直鎖アルキレン基であることが更に好ましい。
アルキレン基とエーテル結合とを組み合わせた基としては、アルキレンオキシアルキレン基、ポリ(アルキレンオキシ)アルキレン基が好ましく例示される。上記アルキレン基としては、炭素数2〜6のアルキレン基が好ましく、炭素数2〜4のアルキレン基がより好ましく、炭素数2又は3のアルキレン基が更に好ましく、エチレンオキシエチレン基、ポリ(エチレンオキシ)エチレン基、プロピレンオキシプロピレン基、ポリ(プロピレンオキシ)プロピレン基が特に好ましく、エチレンオキシエチレン基又はポリ(エチレンオキシ)エチレン基が最も好ましい。
アリーレン基としては、フェニレン基、ナフタレンジイル基が例示され、アリーレン基とアルキレン基とを組み合わせた基としては、−CH2−Ph−CH2−(Phはフェニレン基)が例示される。
式2中、mは1以上の整数であり、2〜10の整数であることが好ましく、4〜8の整数であることがより好ましい。
アルキレン基としては、炭素数2〜60のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2〜20のアルキレン基であることがより好ましい。上記アルキレン基は、直鎖状、分岐状、又は、環状のいずれでもよく、それらの組合せであってもよい。これらの中でも、形成された人工爪の柔軟性の観点から、直鎖のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2〜12の直鎖アルキレン基であることがより好ましく、炭素数3〜8の直鎖アルキレン基であることが更に好ましい。
アルキレン基とエーテル結合とを組み合わせた基としては、アルキレンオキシアルキレン基、ポリ(アルキレンオキシ)アルキレン基が好ましく例示される。上記アルキレン基としては、炭素数2〜6のアルキレン基が好ましく、炭素数2〜4のアルキレン基がより好ましく、炭素数2又は3のアルキレン基が更に好ましく、エチレンオキシエチレン基、ポリ(エチレンオキシ)エチレン基、プロピレンオキシプロピレン基、ポリ(プロピレンオキシ)プロピレン基が特に好ましく、エチレンオキシエチレン基又はポリ(エチレンオキシ)エチレン基が最も好ましい。
アリーレン基としては、フェニレン基、ナフタレンジイル基が例示され、アリーレン基とアルキレン基とを組み合わせた基としては、−CH2−Ph−CH2−(Phはフェニレン基)が例示される。
式2中、mは1以上の整数であり、2〜10の整数であることが好ましく、4〜8の整数であることがより好ましい。
成分B:重量平均分子量が10,000以上のバインダーポリマー
本発明の人工爪組成物は、成分Bとして重量平均分子量10,000以上のバインダーポリマーを含有する。バインダーポリマーは人工爪組成物に皮膜性を付与する。特に重量平均分子量10,000以上のバインダーポリマーを含有することにより、成分Aのポリカーボネート型ポリウレタン(メタ)アクリレートとの相互作用が高まり、好適である。
成分Bの重量平均分子量の上限について特に制限はないが、重量平均分子量が1,000,000以下であることが好ましく、200,000以下がより好ましく、50,000以下が特に好ましい。この分子量範囲にあることで人工爪組成物の取り扱い性、形成した人工爪の柔軟性に優れる。
なお、成分Bは、成分Aを除くポリマー成分であり、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレートを除くポリマー成分である。
本発明の人工爪組成物は、成分Bとして重量平均分子量10,000以上のバインダーポリマーを含有する。バインダーポリマーは人工爪組成物に皮膜性を付与する。特に重量平均分子量10,000以上のバインダーポリマーを含有することにより、成分Aのポリカーボネート型ポリウレタン(メタ)アクリレートとの相互作用が高まり、好適である。
成分Bの重量平均分子量の上限について特に制限はないが、重量平均分子量が1,000,000以下であることが好ましく、200,000以下がより好ましく、50,000以下が特に好ましい。この分子量範囲にあることで人工爪組成物の取り扱い性、形成した人工爪の柔軟性に優れる。
なお、成分Bは、成分Aを除くポリマー成分であり、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレートを除くポリマー成分である。
スチレン系ポリマーとしては、公知のスチレン化合物(例えば、スチレン、4−カルボキシスチレン、4−アセトキシスチレン等)からなるポリスチレンであればいずれも好適に使用することができる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
カーボネート系ポリマーとしては、公知の炭酸誘導体(例えば、ホスゲン、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等)と公知のポリオール化合物からなるポリカーボネートであればいずれも好適に使用することができる。ただしこれら例示に限定されるものではない。
カーボネート系ポリマーとしては、公知の炭酸誘導体(例えば、ホスゲン、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等)と公知のポリオール化合物からなるポリカーボネートであればいずれも好適に使用することができる。ただしこれら例示に限定されるものではない。
本発明に用いることができる光重合開始剤として具体的には、以下のものを好ましく例示できる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
アセトフェノン化合物(例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、4’−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−1−プロパン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等);
ベンゾフェノン化合物(例えば、ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシ−ベンゾフェノン等);
アントラキノン化合物(例えば、アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、tert−ブチルアントラキノン等);
チオキサントン化合物(例えば、2−クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等);
トリハロアルキル化合物(例えば、2,4,6−(トリクロロメチル)トリアジン、2,4−トリクロロメチル−6−(4−メトキシフェニル)トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等);
ロフィンダイマー化合物(例えば、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体);
アクリジン化合物(例えば、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス(9−アクリジニル)プロパン);
アシルホスフィンオキシド化合物(例えば、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド等);
メタロセン化合物(例えば、ビスシクロペンタジエニル−ビス(ジフルオロ−ピリル−フェニル)チタニウム等);
オニウム塩(例えば、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等);
オキシムエステル化合物(例えば、1−(4−フェニルチオフェニル)−1,2−オクタンジオン−2−(O−ベンゾイルオキシム)、1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−エタノン−1−(O−アセチルオキシム)等)。
アセトフェノン化合物(例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、4’−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−1−プロパン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等);
ベンゾフェノン化合物(例えば、ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシ−ベンゾフェノン等);
アントラキノン化合物(例えば、アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、tert−ブチルアントラキノン等);
チオキサントン化合物(例えば、2−クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等);
トリハロアルキル化合物(例えば、2,4,6−(トリクロロメチル)トリアジン、2,4−トリクロロメチル−6−(4−メトキシフェニル)トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等);
ロフィンダイマー化合物(例えば、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体);
アクリジン化合物(例えば、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス(9−アクリジニル)プロパン);
アシルホスフィンオキシド化合物(例えば、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド等);
メタロセン化合物(例えば、ビスシクロペンタジエニル−ビス(ジフルオロ−ピリル−フェニル)チタニウム等);
オニウム塩(例えば、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等);
オキシムエステル化合物(例えば、1−(4−フェニルチオフェニル)−1,2−オクタンジオン−2−(O−ベンゾイルオキシム)、1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−エタノン−1−(O−アセチルオキシム)等)。
(ネイルアートキット)
本発明のネイルアートキットは、本発明の人工爪組成物を含む。本発明のネイルアートキットにおける本発明の人工爪組成物の好ましい態様は、上述したものと同様である。
また、本発明のネイルアートキットは、上記人工爪組成物以外に、任意の品を含んでいてもよい。
例えば、除去液、カラー層用又はトップ層用等の本発明の人工爪組成物以外の人工爪組成物、ファイル等の爪用やすり、人工爪組成物を塗布するための平筆等の筆や刷毛、UVライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されない。
本発明のネイルアートキットは、本発明の人工爪組成物を含む。本発明のネイルアートキットにおける本発明の人工爪組成物の好ましい態様は、上述したものと同様である。
また、本発明のネイルアートキットは、上記人工爪組成物以外に、任意の品を含んでいてもよい。
例えば、除去液、カラー層用又はトップ層用等の本発明の人工爪組成物以外の人工爪組成物、ファイル等の爪用やすり、人工爪組成物を塗布するための平筆等の筆や刷毛、UVライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されない。
Claims (15)
- 成分Aとして、ポリカーボネート構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート、
成分Bとして、重量平均分子量が10,000以上のバインダーポリマー、及び、
成分Cとして、光重合開始剤を含有することを特徴とする
人工爪組成物。 - 成分Aの重量平均分子量が1,000以上である、請求項1又は2に記載の人工爪組成物。
- 成分Bを人工爪組成物の全体に対して15質量%以上含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
- 成分Cとして、アセトフェノン化合物、及び/又は、アシルホスフィンオキシド化合物を含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
- 成分Dとして、重合性化合物を更に含有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
- 成分Dがエチレン性不飽和化合物を含有する、請求項6に記載の人工爪組成物。
- 成分Dが単官能エチレン性不飽和化合物を含有する、請求項6又は7に記載の人工爪組成物。
- 成分Dがヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、カルボキシ基を有する(メタ)アクリレート化合物、及び、(メタ)アクリル酸よりなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、請求項6〜8のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
- 成分Dがヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、及び、(メタ)アクリル酸よりなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、請求項6〜9のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
- 成分Dがヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、及び、(メタ)アクリル酸よりなる群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、請求項6〜10のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
- 成分Dが少なくともヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを含有する、請求項6〜11のいずれか1項に記載の人工爪組成物。
- 請求項1〜12のいずれか1項に記載の人工爪組成物を露光して形成された層を有する人工爪。
- 請求項1〜12のいずれか1項に記載の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程、及び、
前記塗布膜を露光して人工爪を形成する工程、を含む
人工爪の形成方法。 - 請求項1〜12のいずれか1項に記載の人工爪組成物を含んでなる
ネイルアートキット。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013201917 | 2013-09-27 | ||
JP2013201917 | 2013-09-27 | ||
PCT/JP2014/075371 WO2015046300A1 (ja) | 2013-09-27 | 2014-09-25 | 人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015046300A1 true JPWO2015046300A1 (ja) | 2017-03-09 |
Family
ID=52743434
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015539298A Pending JPWO2015046300A1 (ja) | 2013-09-27 | 2014-09-25 | 人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20160184213A1 (ja) |
EP (1) | EP3050555A4 (ja) |
JP (1) | JPWO2015046300A1 (ja) |
CN (1) | CN105555256A (ja) |
WO (1) | WO2015046300A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105029883A (zh) * | 2015-08-06 | 2015-11-11 | 复旦大学 | 一种可脱卸指甲贴片及其制备方法 |
CN108348446B (zh) * | 2015-11-09 | 2021-03-30 | 三键有限公司 | 指甲或人工指甲用光固化性组合物以及使用其的涂覆方法 |
JP6923782B2 (ja) * | 2015-12-02 | 2021-08-25 | 株式会社スリーボンド | 爪または人工爪被覆用光硬化性組成物 |
JP6755544B2 (ja) * | 2016-05-27 | 2020-09-16 | 株式会社サクラクレパス | 光硬化性人工爪組成物 |
EP3471831A4 (en) * | 2016-06-15 | 2020-02-26 | Mycone Dental Supply Company, Inc. | FORMULATION OF ACRYLIC NAIL TO A GAME |
JP6841485B2 (ja) * | 2016-08-12 | 2021-03-10 | 株式会社サクラクレパス | 重合禁止剤含有ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー光硬化性人工爪組成物 |
JP6916512B2 (ja) * | 2017-02-27 | 2021-08-11 | ピアス株式会社 | 人工爪用組成物、人工爪、及び人工爪用キット |
JP7199693B2 (ja) * | 2017-11-09 | 2023-01-06 | Kjケミカルズ株式会社 | 光硬化性爪化粧料 |
JP6528067B1 (ja) | 2018-03-13 | 2019-06-12 | ナトコ株式会社 | 膜形成用樹脂組成物、積層フィルムおよび当該積層フィルムが貼り付けられた物品 |
CN109008156A (zh) * | 2018-07-02 | 2018-12-18 | 李东洪 | 一种无痕甲片 |
KR102101773B1 (ko) * | 2018-10-10 | 2020-04-20 | 충북대학교 산학협력단 | 아세탈기를 포함하는 아크릴레이트, 광개시제, 및 광산발생제를 유효성분으로 함유하는 젤 네일 폴리쉬 조성물 및 이의 용도 |
KR102350649B1 (ko) * | 2020-02-20 | 2022-01-12 | 충북대학교 산학협력단 | 산분해 특성이 향상된 uv 경화형 젤 네일 폴리쉬 조성물 및 이의 용도 |
CN113004855B (zh) * | 2021-03-04 | 2022-09-27 | 陈勇 | 树脂组合物,滴胶材料,压胶材料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5407666A (en) * | 1993-04-05 | 1995-04-18 | International Beauty Design, Inc. | Removable, hard, durable, nail coating |
US5716603A (en) | 1995-06-20 | 1998-02-10 | Eastman Chemical Company | Aqueous nail polish compositions containing acrylic resins crosslinked with acrylated urethane oligomers |
WO2006118078A1 (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Toagosei Co., Ltd. | 活性エネルギー線硬化型接着剤組成物 |
FR2894816B1 (fr) | 2005-12-16 | 2008-02-01 | Oreal | Composition cosmetique ou pharmaceutique comprenant un copolymere comportant au moins un groupe ionisable, et procede de traitement cosmetique |
DE102005063061A1 (de) * | 2005-12-29 | 2007-07-05 | Costrade Beauty Consulting Gmbh | Nagellack Zusammensetzung für Kipp-und Ultraweißeffekt sowie deren Herstellungs-und Anwendungsverfahren |
JP5240939B2 (ja) * | 2009-07-16 | 2013-07-17 | 十条ケミカル株式会社 | 光硬化型マニキュア組成物およびマニキュア方法 |
-
2014
- 2014-09-25 JP JP2015539298A patent/JPWO2015046300A1/ja active Pending
- 2014-09-25 CN CN201480051889.4A patent/CN105555256A/zh active Pending
- 2014-09-25 EP EP14849049.3A patent/EP3050555A4/en not_active Withdrawn
- 2014-09-25 WO PCT/JP2014/075371 patent/WO2015046300A1/ja active Application Filing
-
2016
- 2016-03-04 US US15/061,074 patent/US20160184213A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2015046300A1 (ja) | 2015-04-02 |
US20160184213A1 (en) | 2016-06-30 |
CN105555256A (zh) | 2016-05-04 |
EP3050555A1 (en) | 2016-08-03 |
EP3050555A4 (en) | 2016-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPWO2015046300A1 (ja) | 人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット | |
WO2014157272A1 (ja) | 人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット | |
JP6340243B2 (ja) | 光硬化性人工爪組成物 | |
JP6138936B2 (ja) | 人工爪の除去方法、人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット | |
JPWO2014157271A1 (ja) | 人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキット | |
WO2016031709A1 (ja) | 爪化粧料、人工爪、及び、ネイルアートキット | |
JP2016060706A (ja) | 人工爪組成物、人工爪及びその形成方法、人工爪の除去方法、並びに、ネイルアートキット | |
JPWO2016194730A1 (ja) | 爪化粧料及びネイルアートキット | |
CN110025504B (zh) | 光固化性指甲化妆材料 | |
JPWO2016194731A1 (ja) | 爪化粧料、及び、ネイルアートキット | |
JP7105225B2 (ja) | ジェルネイル化粧用組成物、その使用方法、爪化粧用組成物及び爪化粧用樹脂 | |
JP2017141177A (ja) | 人工爪組成物、人工爪、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキット | |
JP2017141187A (ja) | 光硬化型人工爪用除去液、光硬化型人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキット | |
JP2017088560A (ja) | 光硬化性人工爪組成物 | |
WO2016194732A1 (ja) | 爪化粧料、及び、ネイルアートキット | |
JP2017149668A (ja) | 爪用プライマー組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット | |
JP2019001750A (ja) | 光硬化性人工爪組成物 | |
JP6788366B2 (ja) | 光硬化性人工爪組成物 | |
JP6892108B2 (ja) | 光硬化性人工爪組成物 | |
JP7264222B2 (ja) | 光硬化性爪被覆剤 | |
JP7178227B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
WO2015152210A1 (ja) | 人工爪の除去方法 | |
JP6633879B2 (ja) | 光硬化性人工爪組成物 | |
WO2015152211A1 (ja) | 人工爪用除去液、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキット | |
JP2024001559A (ja) | 硬化性人工爪組成物 |