JPWO2016194731A1 - 爪化粧料、及び、ネイルアートキット - Google Patents

Abstract

本発明の目的は、密着性に優れ、かつ剥離性に優れる爪化粧料、及び、上記爪化粧料を含むネイルアートキットを提供することである。本発明の爪化粧料は、成分１として、ジアセトンアクリルアミドと、成分２として、イソボルニルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、及び、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とを含むことを特徴とする。

Description

本発明は、爪化粧料、及び、ネイルアートキットに関する。

近年、手や足の爪にデザインを施すネイルアートに対する人気が高まり、爪（自爪）に合成樹脂製の人工爪（付け爪、ネイルチップ等）を形成する技術が発展している（特許文献１参照）。特に最近、ウレタン系樹脂と光重合性モノマーとを含むジェル状の装飾用硬化性組成物を爪に塗布した後、紫外線を照射して硬化させた人工爪と呼ばれる爪装飾が、仕上がりがクリアである、爪との密着性が高く長持ちする、アクリル系樹脂のような臭いがない、等の理由から注目を集めている（特許文献２）。
このようなジェル状の装飾用硬化性組成物として、２５℃において液状であるアクリルアミドモノマーを用いた組成物が知られている（特許文献３）。

特開２００４−２７５７３６号公報 特表２００２−５０５９１５号公報 特許第４９８１１８４号公報

本発明が解決しようとする課題は、密着性に優れ、かつ剥離性に優れる爪化粧料、及び、上記爪化粧料を含むネイルアートキットを提供することである。

上記課題は、下記＜１＞又は＜１２＞に記載の手段により達成された。好ましい実施態様である＜２＞〜＜１１＞と共に以下に示す。
＜１＞成分１として、ジアセトンアクリルアミドと、成分２として、イソボルニルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、及び、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とを含むことを特徴とする爪化粧料、
＜２＞成分２として、イソボルニルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、及び、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも２種の化合物を含む、＜１＞に記載の爪化粧料、
＜３＞成分２として、イソボルニルメタクリレートと、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、及び、ジメチルアクリルアミドよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とを含む、＜１＞に記載の爪化粧料、
＜４＞光重合開始剤を更に含む、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の爪化粧料、
＜５＞ポリマー及び／又はオリゴマーを更に含む、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の爪化粧料、
＜６＞上記ポリマー及び／又はオリゴマーが、ウレタン結合を有する、＜５＞に記載の爪化粧料、
＜７＞上記ポリマー及び／又はオリゴマーが、（メタ）アクリル基を有する、＜５＞又は＜６＞に記載の爪化粧料、
＜８＞上記ポリマー及びオリゴマーの総含有量が、爪化粧料１００質量部に対し、１０〜６０質量部である、＜５＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の爪化粧料、
＜９＞成分１の含有量が、爪化粧料１００質量部に対し、１〜５０質量部である、＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の爪化粧料、
＜１０＞成分２の総含有量が、爪化粧料１００質量部に対し、５〜８０質量部である、＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の爪化粧料、
＜１１＞有機溶剤を更に含む、＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の爪化粧料、
＜１２＞＜１＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載の爪化粧料を含むことを特徴とするネイルアートキット。

本発明によれば、密着性に優れ、かつ剥離性に優れる爪化粧料、及び、上記爪化粧料を含むネイルアートキットを提供することができた。

以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書中、「ｘｘ〜ｙｙ」の記載は、ｘｘ及びｙｙを含む数値範囲を表す。
「（メタ）アクリルアミド」等は、「アクリルアミド及び／又はメタクリルアミド」等と同義であり、以下同様とする。
また、本発明において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明においては、好ましい態様の２以上の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書において、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式において、「Ｒはアルキル基、アリール基又は複素環基を表す」との記載があれば、「Ｒは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表す」ことを意味する。

（爪化粧料）
本発明の爪化粧料は、成分１として、ジアセトンアクリルアミドと、成分２として、イソボルニルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、及び、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とを含むことを特徴とする。
本発明の爪化粧料は、マニキュア、ペディキュア等のネイルポリッシュや、ジェルネイルを形成する組成物としてだけでなく、ネイルコート等の爪保護剤としても好適に用いることができる。
本発明の爪化粧料は、人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び／又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。中でも、プライマー層又はベース層用爪化粧料として好適に用いることができ、ベース層用爪化粧料としてより好適に用いることができる。
また、本発明の爪化粧料は、光硬化性組成物であることが好ましい。

本発明者らは鋭意検討した結果、ジアセトンアクリルアミドと、特定のモノマーとを併用することにより、密着性に優れ、かつ剥離性に優れる爪化粧料が得られることを見いだし、本発明を完成するに至ったものである。
本発明における詳細な機構は不明であるが、ジアセトンアクリルアミドが、様々な高極性モノマー及び低極性モノマーと相溶可能であり、かつ高い爪密着性を持つモノマーであるため、特定のモノマーとの組み合わせにおいて、協奏的に密着性及び剥離性に優れるものと推定される。

成分１：ジアセトンアクリルアミド
本発明の爪化粧料は、成分１として、ジアセトンアクリルアミドを含む。
ジアセトンアクリルアミドは、下記に記載の化合物であり、英語表記ではＤｉａｃｅｔｏｎｅ ａｃｒｙｌａｍｉｄｅである。

本発明の爪化粧料におけるジアセトンアクリルアミドの含有量は、爪化粧料１００質量部に対して、１〜５０質量部であることが好ましく、５〜３０質量部であることがより好ましい。上記範囲であると、爪との密着をより向上させながら、高い塗布性を両立できる。

成分２：イソボルニルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、及び、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物
本発明の爪化粧料は、成分２として、イソボルニルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、及び、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含む。成分１と成分２とを併用することにより、密着性及び剥離性に優れる。
また、本発明の爪化粧料は、成分２として、イソボルニルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、及び、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも２種の化合物を含むことが好ましい。上記態様であると、密着性及び剥離性により優れる。

また、成分２は、これらの中でも、イソボルニルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、及び、ジメチルアクリルアミドよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、イソボルニルメタクリレートと、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、及び、ジメチルアクリルアミドよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とを含むことがより好ましく、イソボルニルメタクリレートと、ヒドロキシエチルアクリルアミドと、メタクリルアミドとを含むことが特に好ましい。上記態様であると、密着性及び剥離性により優れる。
また、上記モノマーのうち、イソボルニルメタクリレートは爪化粧料の膜強度と耐水性を高める観点で好適であり、また、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、及び、ジメチルアクリルアミドは水素結合による高い膜強度と爪への密着性とを両立する効果があるものと推測され、両者を同時に溶解可能なジアセトンアクリルアミドを使用することで、密着性が最大化されうると推定される。

本発明の爪化粧料における成分２の総含有量は、爪化粧料１００質量部に対して、１〜８０質量部であることが好ましく、５〜６０質量部であることがより好ましく、５〜３０質量部であることが更に好ましい。上記範囲であると、密着性により優れ、また、得られる硬化膜の膜強度に優れる。
また、本発明の爪化粧料における成分１と成分２との含有量比（質量比）は、成分１の含有量：成分２の総含有量＝５：１〜１：５であることが好ましく、４：１〜１：４であることがより好ましく、３：１〜１：３であることが特に好ましい。

＜その他のエチレン性不飽和化合物＞
本発明の爪化粧料は、成分１及び成分２以外のエチレン性不飽和化合物を含んでもよい。
成分１及び成分２以外のエチレン性不飽和化合物は、単官能エチレン性不飽和化合物であっても、多官能エチレン性不飽和化合物であってもよいが、単官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
また、成分１及び成分２以外のエチレン性不飽和化合物は、分子量２，０００未満の化合物であることが好ましく、分子量１，０００未満の化合物であることがより好ましい。
成分１及び成分２以外のエチレン性不飽和化合物としては、成分１及び成分２以外の、（メタ）アクリル酸アミド化合物、（メタ）アクリル酸エステル化合物、（メタ）アクリル酸、スチレン化合物、及び、Ｎ−ビニルアミド化合物が好ましく挙げられる。

成分１及び成分２以外のエチレン性不飽和化合物の具体例としては、（メタ）アクリル酸；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソボルニルアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、イソボルニルアクリレート等の単官能（メタ）アクリル酸エステル類；Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のＮ−ビニルアミド類；スチレン、４−アセトキシスチレン、４−カルボキシスチレン等のスチレン類；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、カルドエポキシジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリル酸エステル類；ジイソシアネートとヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸誘導体と任意にジオール類とからなるウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。

上記エチレン性不飽和化合物の中でも、イソボルニルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、及び、グリセリンモノメタクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物が好ましく、イソボルニルアクリレート、アクリル酸、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、及び、２−ヒドロキシプロピルメタクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物がより好ましい。

成分１及び成分２以外のエチレン性不飽和化合物は、１種類のみを使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明の爪化粧料における成分１及び成分２以外のエチレン性不飽和化合物の含有量は、爪化粧料１００質量部に対し、０〜５０質量部が好ましく、５〜４０質量部がより好ましく、１０〜３０質量部が更に好ましい。上記範囲であると、硬化物の密着性及び除去性により優れ、また、爪化粧料の製造が容易になる。

＜光重合開始剤＞
本発明の爪化粧料は、光重合開始剤を含有することが好ましく、光ラジカル重合開始剤を含有することがより好ましい。
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤であれば好適に使用することができる。以下に光重合開始剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
アセトフェノン化合物（例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、１−［４−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等）；
ベンゾフェノン化合物（例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシ−ベンゾフェノン等）；
アントラキノン化合物（例えば、アントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン等）；
チオキサントン化合物（例えば、２−クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等）；
トリハロアルキル化合物（例えば、２，４，６−（トリクロロメチル）トリアジン、２，４−トリクロロメチル−６−（４−メトキシフェニル）トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等）；
ロフィンダイマー化合物（例えば、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体）；
アクリジン化合物（例えば、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロノパン）；
ホスフィンオキシド化合物（例えば、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等）；
メタロセン化合物（例えば、ビスシクロペンタジエニルビス（ジフルオロピリルフェニル）チタニウム等）；
オニウム塩化合物（例えば、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等）。

光重合開始剤としては、露光に使用する光源が発する光の波長に合わせて適宜選択することができるが、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物、ホスフィンオキシド化合物、メタロセン化合物、及び、ロフィンダイマー化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましく、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物、及び、ホスフィンオキシド化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることがより好ましい。
また、光重合開始剤としては、爪化粧料の組成に合わせて適宜選択することができる。具体的には、使用する光重合開始剤を、成分１、成分２、成分１及び成分２以外のエチレン性不飽和化合物、並びに／又は、後述する溶剤に溶解するように選択することが好ましい。

これら光重合開始剤は、１種類のみを使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
本発明の爪化粧料における光重合開始剤の含有量は、爪化粧料１００質量部に対し、０．１〜２０質量部が好ましく、０．５〜１５質量部がより好ましく、１〜１０質量部が特に好ましい。上記範囲であると、硬化物の密着性により優れる。

＜ポリマー及び／又はオリゴマー＞
本発明の爪化粧料は、ポリマー及び／又はオリゴマーを含有することが好ましい。ポリマー及び／又はオリゴマーを含有することにより、密着性により優れ、また、硬化膜の膜強度に優れる。
本発明に用いられるポリマー及び／又はオリゴマーの重量平均分子量は、２，０００以上３００，０００以下であることが好ましく、３，０００以上２００，０００以下がより好ましく、４，０００以上１５０，０００以下であることが更に好ましく、５，０００以上１００，０００以下であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる硬化物の密着性及び経時安定性に優れる。
なお、本発明においては、重量平均分子量が２，０００以上５，０００未満であるものをオリゴマーといい、重量平均分子量が５，０００以上であるものをポリマーというものとする。
本発明におけるポリマー及びオリゴマーの重量平均分子量の測定方法は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレン標準又はポリエチレンオキサイド標準で測定するものとする。

本発明に用いることができるポリマー及び／又はオリゴマーの構造については、特に制限はなく、任意の構造であればよい。例えば、鎖状構造、枝分かれ（分岐）構造、星型構造、架橋構造、網状構造などが挙げられる。
ポリマー及び／又はオリゴマーの種類については、特に制限はなく、公知のポリマー種（ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリ（メタ）アクリル酸アミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリウレア、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリスチレン、ポリアルキレン、ポリビニル等）が使用できる。
上記ポリマー及び／又はオリゴマーは、ラジカル重合可能な、エチレン性不飽和基を有していることが好ましく、（メタ）アクリル基を有していることがより好ましい。
上記ポリマー及び／又はオリゴマーは、以下の式Ｃ−１で表される構造を有するポリマー及び／又はオリゴマーであることが好ましく、式Ｃ−１で表される構造をポリマー主鎖中に有するポリマー及び／又はオリゴマーであることが特に好ましい。上記態様であると、密着性が特に優れる。
上記ポリマー及び／又はオリゴマーは、ウレタン結合を有するポリマー及び／又はオリゴマーであることがより好ましく、ウレタン結合をポリマー主鎖中に有するポリマー及び／又はオリゴマーであることが特に好ましい。上記態様であると、密着性が特に優れる。

波線部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。

本発明に用いられるポリマー及び／又はオリゴマーの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるわけではない。

表１における各ユニット欄に記載の数値は、各ユニットを形成する化合物由来のモノマー単位のモル比を表す。
表１に記載の各ユニットを形成する化合物の詳細を、以下に示す。
ＴＤＩ：トリレンジイソシアネート
Ｄｉｏｌ−９：２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン
Ｄｉｏｌ−５：ポリテトラメチレンオキシド（ポリテトラメチレンエーテルグリコール、Ｍｗ：２，０００）
ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
Ｄｉｏｌ−１：３−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオール
Ｄｉｏｌ−２：１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールとからなるポリカーボネートジオール（Ｍｗ：２，０００）
ＨＰＭＡ：２−ヒドロキシプロピルメタクリレート
ＭＤＩ：ビス（４−イソシアナトフェニル）メタン
ＨＤＩ：ヘキサメチレンジイソシアネート
Ｄｉｏｌ−６：ポリプロピレングリコール（Ｍｗ：１，０００）
Ｄｉｏｌ−１０：グリセリンモノメタクリレート
ＭＭＡ：メチルメタクリレート
ＢＭＡ：ｎ−ブチルメタクリレート
ＡＤＰＡ：アジピン酸ジクロリド
Ｄｉｏｌ−８：１，４−ブタンジオール
ニトロセルロース：ＤＨＸ４０−７０（稲畑産業（株）製）
Ｄｉａｍｉｎｅ−２：ポリプロピレングリコールジアミン（Ｍｗ：２，０００）

本発明に用いられるポリマー及び／又はオリゴマーとしては、アミノ基を有するポリマー及び／又はオリゴマーであることも好ましい。
アミノ基としては、１級、２級、３級のいずれのアミノ基でも使用することができるが、ポリマー及び／又はオリゴマーの製造しやすさ、得られる硬化膜の密着性及び除去性、並びに、経時安定性の観点から、３級アミノ基であることが好ましい。
ポリマー及び／又はオリゴマーにおけるアミノ基、特に３級アミノ基の導入位置としては、側鎖、主鎖内部、主鎖末端のいずれでもよく、２種以上の位置に導入されていてもよい。
３級アミノ基としては、以下の式Ｃ−２又は式Ｃ−３で表される基であることが好ましい。

式Ｃ−２中、Ｒ^Ｃ１及びＲ^Ｃ２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｌ^Ｃ１は二価の連結基を表し、Ｒ^Ｃ１、Ｒ^Ｃ２及びＬ^Ｃ１よりなる群から選ばれた少なくとも２つが互いに連結して環を形成してもよく、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
式Ｃ−３中、Ｒ^Ｃ３は、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｌ^Ｃ２及びＬ^Ｃ３はそれぞれ独立に、二価の連結基を表し、Ｒ^Ｃ３、Ｌ^Ｃ２及びＬ^Ｃ３よりなる群から選ばれた少なくとも２つが互いに連結して環を形成してもよく、波線部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。

式Ｃ−２におけるＲ^Ｃ１及びＲ^Ｃ２はそれぞれ独立に、酸水溶液への溶解性と耐水性とのバランスの観点から、炭素数１〜１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜６のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが更に好ましく、炭素数１又は２のアルキル基であることが特に好ましい。
式Ｃ−２におけるＬ^Ｃ１としては、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基（置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。）、炭素数１〜２０のアリーレン基（置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。）が挙げられ、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のオキシアルキレン基又は炭素数２〜２０のポリオキシアルキレン基であることが好ましく、炭素数１〜２０のアルキレン基又は炭素数２〜２０のポリオキシアルキレン基であることが更に好ましく、炭素数１〜２０のアルキレン基であることが特に好ましく、炭素数１〜１０のアルキレン基であることが最も好ましい。
式Ｃ−２において、Ｒ^Ｃ１、Ｒ^Ｃ２及びＬ^Ｃ１よりなる群から選ばれた少なくとも２つは互いに連結して環を形成してもよい。

式Ｃ−３におけるＲ^Ｃ３は、酸水溶液への溶解性と耐水性とのバランスの観点から、炭素数１〜１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜６のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが更に好ましい。
式Ｃ−３におけるＬ^Ｃ２及びＬ^Ｃ３としてはそれぞれ独立に、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基（置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。）、炭素数１〜２０のアリーレン基（置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。）が挙げられ、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のオキシアルキレン基又は炭素数２〜２０のポリオキシアルキレン基であることが好ましく、炭素数１〜２０のアルキレン基又は炭素数２〜２０のポリオキシアルキレン基であることが更に好ましく、炭素数１〜２０のアルキレン基であることが特に好ましく、炭素数１〜１０のアルキレン基であることが最も好ましい。
式Ｃ−３において、Ｒ^Ｃ３、Ｌ^Ｃ２及びＬ^Ｃ３よりなる群から選ばれた少なくとも２つは互いに連結して環を形成してもよい。

本発明に用いられるポリマー及び／又はオリゴマーのアミン価は、０．１〜１０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、０．２５〜９ｍｍｏｌ／ｇであることがより好ましく、０．５〜８ｍｍｏｌ／ｇであることが更に好ましい。上記範囲であると、密着性と除去性により優れる。
なお、アミン価の測定方法としては、例えば、試料をビーカーにはかりとり、酢酸を加え、撹拌して溶解させて、測定温度を２５℃に調整後、滴定試薬として０．１Ｎ過塩素酸酢酸溶液を用いて、滴定装置で滴定することにより、求めることができる。アミン価は、滴定した際に消費される過塩素酸の量を、試料（固形分）１ｇ当たりのモル数で表したものである。

本発明に用いられるアミノ基を有するポリマー及び／又はオリゴマーの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

表２における各ユニット欄に記載の数値は、各ユニットを形成する化合物由来のモノマー単位のモル比を表す。
表２に記載の各ユニットを形成する化合物の詳細を、以下に示す。
ＩＰＤＩ：イソホロンジイソシアネート
ＴＤＩ：トリレンジイソシアネート
ＨＤＩ：ヘキサメチレンジイソシアネート
ＭＤＩ：ビス（４−イソシアナトフェニル）メタン
Ｄｉｏｌ−１：３−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオール
Ｄｉｏｌ−２：１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールとからなるポリカーボネートジオール（Ｍｗ：２，０００）
Ｄｉｏｌ−３：Ｎ−ブチルジエタノールアミン
Ｄｉｏｌ−４：１，５−ペンタンジオール
Ｄｉｏｌ−５：ポリテトラメチレンオキシド（ポリテトラメチレンエーテルグリコール、Ｍｗ：２，０００）
Ｄｉｏｌ−６：ポリプロピレングリコール（Ｍｗ：１，０００）
Ｄｉｏｌ−７：３−ジエチルアミノ−１，２−プロパンジオール
Ｄｉｏｌ−８：１，４−ブタンジオール
Ｄｉａｍｉｎｅ−１：３，３−ジアミノ−Ｎ−メチルジプロピルアミン
Ｄｉａｍｉｎｅ−２：ポリプロピレングリコールジアミン（Ｍｗ：２，０００）
ＡＤＰＡ：アジピン酸ジクロリド
ＤＭＡＰＡｍ：３−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド
ＣＨＡｍ：Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド
ＤＭＡＥＭ：２−ジメチルアミノエチルメタクリレート
ＢＭＡ：ｎ−ブチルメタクリレート
ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート
ＩＰＡ：２−ヒドロキシプロパン
ＤＭＰＡ：３−ジメチルアミノプロピルアミン

本発明に用いられるポリマー及び／又はオリゴマーは、公知の方法（例：ラジカル重合、重縮合等）により製造することができる。
これらポリマー及び／又はオリゴマーは、１種類のみを使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
本発明に用いられる爪化粧料におけるポリマー及びオリゴマーの総含有量は、爪化粧料の全質量に対し、０質量％を超え９０質量％が好ましく、５〜８０質量％がより好ましく、１０〜６０質量％が更に好ましい。上記範囲であると、硬化物の密着性及び除去性により優れる。

本発明に用いられるポリマー及び／又はオリゴマーとしては、水溶性のポリマー及び／又はオリゴマーも好適に使用することができる。
水溶性のポリマー及び／又はオリゴマーとしては、蒸留水１００ｇに対して０．１ｇ以上溶解するポリマー及び／又はオリゴマーが好ましく、０．２ｇ以上溶解するポリマー及び／又はオリゴマーがより好ましく、０．５ｇ以上溶解するポリマー及び／又はオリゴマーが特に好ましい。上記範囲の水溶性を有することにより、水を使用した爪化粧料を製造することが容易になる。

本発明に用いられる水溶性のポリマー及び／又はオリゴマーとしては、カルボン酸（塩）基、スルホン酸（塩）基、リン酸（塩）基、ホスホン酸（塩）基、４級アンモニウム塩基、ヒドロキシル基、カルボン酸アミド基、及び、ポリエチレングリコール鎖よりなる群から選ばれる官能基を有するポリマー及び／又はオリゴマーであることが好ましい。
カルボン酸（塩）基、スルホン酸（塩）基、リン酸（塩）基、ホスホン酸（塩）基の対カチオンとしては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属カチオン、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオンが好ましく、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属カチオンが特に好ましい。
４級アンモニウム塩基のアンモニウム基のアルキル基としては、メチル基、エチル基が好ましい。また、対アニオンとしては、塩化物イオン、臭化物イオン等のハロゲン化物イオン、硫酸アニオン、硝酸アニオン、リン酸アニオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、炭酸アニオンが好ましく、ハロゲン化物イオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンが特に好ましい。
カルボン酸アミド基の窒素上の置換基としては、炭素数８以下のアルキル基であることが好ましく、炭素数６以下のアルキル基であることが特に好ましい。
ポリエチレングリコール鎖の連結鎖長としては、２以上が好ましく、４以上が特に好ましい。

本発明に用いられる水溶性のポリマー及び／又はオリゴマーの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

表３における各ユニット欄に記載の数値は、各ユニットを形成する化合物由来のモノマー単位のモル比を表す。
表３に記載の各ユニットを形成する化合物の詳細を、以下に示す。
ＭＤＩ：ビス（４−イソシアナトフェニル）メタン
Ｄｉｏｌ−６：ポリプロピレングリコール（Ｍｗ：１，０００）
Ｄｉｏｌ−１１：２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸ナトリウム
Ｄｉｏｌ−１０：グリセリンモノメタクリレート
ＴＤＩ：トリレンジイソシアネート
Ｄｉｏｌ−１２：ポリエチレングリコール（Ｍｗ：２，０００）
Ｄｉｏｌ−９：２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン

なお、式Ｃ’で表されるポリマーにおける括弧の右下の数字は、モル比を表す。

本発明に用いられるポリマー及び／又はオリゴマーは、公知の方法（例：ラジカル重合、重縮合等）により製造することができる。
これらポリマー及び／又はオリゴマーは、１種類のみを使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
本発明に用いられる爪化粧料におけるポリマー及び／又はオリゴマーの含有量は、爪化粧料１００質量部に対し、０質量部を超え９０質量部が好ましく、５〜８０質量部がより好ましく、１０〜６０質量部が更に好ましい。上記範囲であると、硬化物の密着性及び除去性により優れる。

＜溶剤＞
本発明の爪化粧料においては、各成分を溶解させる又は爪化粧料の塗りやすさを調整するために、溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、１気圧（１０１３．２５ｈＰａ）における沸点が５０〜１５０℃である溶剤が好ましく、１気圧における沸点が６０〜１４０℃である溶剤がより好ましい。上記範囲の沸点を有する溶剤を使用することにより、爪化粧料の濃度変動が抑制でき、塗布後の乾燥が良好になる。
溶剤としては、水；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール（２−プロパノール）、１−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブチルアルコール、２−メチル−１−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアルコール等のアルコール類；ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジフェニルエーテル等のエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン等のアミド類；ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート類；テトラメチルウレア、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のウレア類；クロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；トリエチルアミン、酢酸、アセトニトリル、ニトロメタン、ジメチルスルホキシド等の公知の溶剤が挙げられる。
これら溶剤の中でも、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブチルアルコール、２−メチル−１−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアルコール、酢酸、及び／又は、アセトニトリルが好ましく、水、エタノール、イソプロピルアルコール、及び／又は、酢酸がより好ましい。上記溶剤を使用することにより、粘性を低減でき、塗布性を向上させることが可能となる。

溶剤は、１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
本発明の爪化粧料が溶剤を含む場合、本発明の爪化粧料における溶剤の含有量は、爪化粧料１００質量部に対し、０質量部を超え８０質量部が好ましく、５〜７０質量部がより好ましく、１０〜６０質量部が更に好ましい。上記範囲であると、爪化粧料の塗布性と乾燥性が良好になる。
また、ジアセトンアクリルアミドと溶剤との混合比率は、溶剤１００質量部に対して、ジアセトンアクリルアミドが５〜２００質量部であることが好ましく、７〜１５０質量部であることがより好ましく、１０〜１００質量部であることが更に好ましい。上記範囲であると、爪化粧料の製造が容易になる。

＜その他の成分＞
本発明の爪化粧料には、上記成分の他に、必要に応じて、公知の化合物を添加することができる。具体的には、増感剤、重合禁止剤、顔料、染料、香料、紫外線（ＵＶ）吸収剤、抗酸化剤、充填剤、各種エラストマー、可塑剤、増粘剤、チクソトロピー付与剤、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、キレート化剤、難燃剤、界面活性剤等の添加剤が挙げられる。

＜爪化粧料の施術方法＞
本発明の爪化粧料を用いた爪化粧料の施術方法は、爪、他の爪化粧料が施された爪、人工爪等の対象物上に本発明の爪化粧料を塗布した後、光照射して硬化物を形成する方法が好ましく挙げられる。
本発明の爪化粧料を対象物上に塗布する方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法、スプレー塗布、インクジェット塗布、バーコーター塗布、回転塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。
本発明の爪化粧料の対象物上の塗布厚は、用途によって異なるが、硬化後の膜厚として、１ｎｍ〜１ｍｍが好ましく、１０ｎｍ〜０．５ｍｍがより好ましく、１００ｎｍ〜０．２５ｍｍが更に好ましい。上記範囲であると、より良好な密着性と除去性とが実現される。
本発明の爪化粧料を対象物に塗布した後、光照射する方法としては、特に制限はなく、公知の光源（例えば、太陽光、高圧水銀灯、蛍光灯、ＵＶランプ、ＬＥＤ（発光ダイオード）ランプ、ＬＥＤレーザー等）を用いた公知の光照射方法（例えば、全面露光、走査露光等）が使用できる。光照射時間は、本発明の爪化粧料が硬化する限り特に制限はない。
対象物上に爪化粧料の硬化物を形成する方法としては、上記の方法を繰り返し実施することもできる。
本発明の爪化粧料を硬化した硬化膜の除去方法は、公知の方法により除去することができる。具体的には、ヤスリ等により研磨する方法、彫刻刀やナイフ等により削る方法、アセトンを湿らせた綿により硬化膜を覆い数分間放置して脆化させた後に棒等で剥離又は砕く方法、特定のｐＨを有する水溶液に数分間浸漬して脆化させた後にピンセット等で剥離したり棒で押しはがしたりする方法、及び、それらを組み合わせた方法が挙げられる。
特に、本発明の爪化粧料を硬化した硬化膜の爪からの除去方法は、アセトンを湿らせた綿により硬化膜を覆い数分間放置して脆化させた後に棒等で剥離又は砕く方法、特定のｐＨを有する水溶液に数分間浸漬して脆化させた後にピンセット等で剥離したり棒で押しはがしたりする方法、及び、それらを組み合わせた方法が好ましく挙げられ、特定のｐＨを有する水溶液に数分間浸漬して脆化させた後にピンセット等で剥離したり棒で押しはがしたりする方法がより好ましく挙げられる。

＜ネイルアートキット＞
本発明のネイルアートキットは、本発明の爪化粧料と、それらを爪に施術するための１種以上の道具とを含む。
本発明のネイルアートキットにおける本発明の爪化粧料の好ましい態様は、上述したものと同様である。
爪に施術するための道具の具体例としては、カラー層用又はトップ層用等の本発明の爪化粧料以外の爪化粧料、ファイル等の爪用やすり、爪化粧料を塗布するための平筆等の筆や刷毛、ＵＶライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、ピンセット、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されない。

以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例における形態に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
なお、実施例で使用したポリマーＰ−８、Ｐ−９、Ｐ−１６、Ｐ−２４及びＰ−２５はそれぞれ、上述したポリマーＰ−８、Ｐ−９、Ｐ−１６、Ｐ−２４及びＰ−２５と同じポリマーである。

（実施例１〜２４、及び、比較例１〜８）
１．爪化粧料の調製
撹拌装置を備えた容器内に、表４に記載のモノマーを表４に記載の量収容した後、加熱撹拌装置を用いて、モノマーを５５℃まで加温し、均一になるまで混合した。次に、別容器にウレタンメタクリレートポリマー（Ｐ−８）と光重合開始剤を秤量し、上記モノマー溶液を必要量秤量して混合し、実施例１の爪化粧料を得た。

＜実施例１の爪化粧料の組成＞
・ジアセトンアクリルアミド（ＤＡＡＡ、日本化成（株）製）：３０質量部
・イソボルニルメタクリレート（ＩＢＸＭＡ、共栄社化学（株）製）：１０質量部
・２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ、共栄社化学（株）製）：１５質量部
・アクリル酸：５質量部
・ウレタンメタクリレートポリマー（Ｐ−８）：４０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキサイド（ＴＰＯ、光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製ルシリンＴＰＯ）：４．５質量部

使用するモノマー種類や添加量を表４〜表７に記載のものに変更した以外は、実施例１の爪化粧料の調製と同様な方法で、実施例２〜２４、及び、比較例１〜８の爪化粧料をそれぞれ得た。

＜塗布性の評価＞
〔サンプル作製〕
得られた爪化粧料を、手の爪に対し刷毛で塗布し、塗布性（糸引き、セルフレベリング性）を評価した。
−評価基準−
３：糸引きがなく、１０秒後には塗布面の平滑化が十分に進む。
２：やや糸引き感があり、１０秒後も塗布面が十分平滑化してきていない。
１：糸引きがあり、１０秒後も塗布面が平滑化しない。

＜膜強度の評価＞
〔サンプル作製〕
得られた爪化粧料をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に膜厚１００μｍ、縦４ｃｍ、横４ｃｍで塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射し、サンプルを作製した。

〔ゲル化率〕
各爪化粧料から得られた上記サンプルをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）３０ｇ中に２４時間浸漬した。これにより、サンプル中のゲル成分以外の成分を、溶媒中に溶解させた。そして、浸漬したサンプルを取り出し、乾燥し、その質量を測定した。そして、以下の式から、サンプル中のゲル化率を算出した。
「ゲル化率」＝（浸漬後のサンプルの質量）／（浸漬前のサンプルの質量）×１００（％）
−評価基準−
３：ゲル化率が８０％以上
２：ゲル化率が７０％を超え８０％未満
１：ゲル化率が７０％以下

＜密着性及び剥離性の評価＞
１．下地層（ベース層）の形成
手の爪に対し、得られた爪化粧料を刷毛にて塗布した後、ジェルネイル専用ＵＶ装置（３６Ｗ）を用いて光硬化（６０秒露光）させて、下地層を形成した。形成した下地層の厚さはそれぞれ、約１００μｍであった。

２．ジェルネイル層の形成
次いで、得られた下地層に対し、市販のカルジェル＃ＣＧ−０３ フレッシュピンク（モガブルック社製）を刷毛で塗布した後、ジェルネイル専用ＵＶ装置紫外線ランプ（３６Ｗ）で１分間照射した。その後、トップ層として市販のトップジェル（モガブルック社製）を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ（３６Ｗ）で２分間照射した。形成したジェルネイル層を目視で観察したところ、完全に硬化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚はそれぞれ、約２５０μｍであった。

３．評価
（１）密着性評価
（１）−１ 耐外力
得られた爪／下地層／ジェルネイル層の積層体における密着性を、耐外力の観点から評価した。すなわち、下地層及びジェルネイル層を備えた爪の先端部を、市販のゴムシート上に３０回こすり付けた後の先端部の変化を、下記基準に沿って評価した。得られた結果を表４〜表７に示す。なお、下地層とジェルネイル層との間における剥離はいずれも確認されなかった。
−評価基準−
４：外観に変化が確認されなかった。
３：爪と下地層との間に、若干の剥離が確認された。
２：爪と下地層との間に、一部の剥離が確認され、外観の一部に白化が確認された。
１：爪と下地層との間に、顕著な剥離が確認され、外観の全体に白化が確認された。

（１）−２ 耐温水
また、得られた爪／下地層／ジェルネイル層の積層体における密着性を、耐温水の観点から評価した。すなわち、爪に対して下地層及びジェルネイル層が形成された状態の手を、約４０℃の温水で、石鹸を用いずに普通に洗い、洗い終わった後、タオル性素材により拭きとる作業を１日に３０回行い、これを７日間継続した後の外観変化を、下記基準に沿って評価した。得られた結果を表４〜表７に示す。なお、下地層とジェルネイル層との間における剥離はいずれも確認されなかった。
−評価基準−
４：外観に変化が確認されなかった。
３：爪と下地層との間に、若干の剥離が確認された。
２：爪と下地層との間に、一部の剥離が確認され、外観の一部に白化が確認された。
１：爪と下地層との間に、顕著な剥離が確認され、外観の全体に白化が確認された。

（２）剥離性評価
得られた爪／下地層／ジェルネイル層の積層体における剥離性を評価した。すなわち、下地層及びジェルネイル層が形成された爪に対して、アセトンを含んだ布を巻き付けて１５分放置した後、市販のオレンジスティックにて軽く擦り、剥離できるかどうかを確認した。同作業を１サイクルとして、剥離できない場合は、同様のサイクルを繰り返し実施し、剥離するまでに必要なサイクルにて下記基準で評価した。得られた結果を表４〜表７に示す。なお、下地層とジェルネイル層との間における剥離はいずれも確認されなかった。
−評価基準−
４：１回のサイクルで、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離した。
３：２回のサイクルで、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離した。
２：３回のサイクルで、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離した。
１：３回のサイクルでも、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離しなかった。

上述した以外の表５〜表７に記載の略称や製造元は、以下の通りである。
ＨＥＡＡ：ヒドロキシエチルアクリルアミド（ＫＪケミカルズ（株）製）
ＭＡｍ：メタクリルアミド（三井化学（株）製）
ＤＭＡＡ：ジメチルアクリルアミド（ＫＪケミカルズ（株）製）
ＤＥＡＡ：ジエチルアクリルアミド（ＫＪケミカルズ（株）製）
ＡＣＭＯ：アクリロイルモルホリン（ＫＪケミカルズ（株）製）
ライトエステルＢＣ：ブトキシジエチレングリコールメタクリレート（共栄社化学（株）製）
ＨＰＭＡ：２−ヒドロキシプロピルメタクリレート（共栄社化学（株）製）
ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート（共栄社化学（株）製）
アクリル酸：日本触媒（株）製
Ｉｒｇ１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）
Ｕ−１５ＨＡ：ウレタンアクリレートオリゴマー（新中村化学工業（株）製ＮＫオリゴ Ｕ−１５ＨＡ、理論分子量２，３００）

（実施例２５〜２８、及び、比較例９〜１１）
撹拌装置を備えた容器内に、下記に記載の組成を収容した後、撹拌装置を用いて均一になるまで混合し、実施例２５の爪化粧料を得た。

＜実施例２５の爪化粧料の組成＞
・ジアセトンアクリルアミド（ＤＡＡＡ）：２０質量部
・イソボルニルメタクリレート（ＩＢＸＭＡ）：２０質量部
・ヒドロキシエチルアクリルアミド（ＨＥＡＡ）：１０質量部
・メタクリルアミド（ＭＡｍ）：１０質量部
・ウレタンメタクリレートポリマー（Ｐ−８）：４０質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｉｒｇ１８４、光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）：４．０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキサイド（ＴＰＯ、光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製ルシリンＴＰＯ）：４．０質量部

使用するモノマー、ポリマー及び光重合開始剤の種類や添加量を表８に記載のものに変更した以外は、実施例２５の爪化粧料の調製と同様な方法で、実施例２６〜２８、及び、比較例９〜１１の爪化粧料をそれぞれ得た。

＜下地層（ベース層）の形成＞
手の爪に対し、得られた爪化粧料を刷毛にて塗布した後、ジェルネイル専用ＵＶ装置（３６Ｗ）を用いて光硬化（６０秒露光）させて、下地層を形成した。形成した下地層の厚さはそれぞれ、約１２０μｍであった。

＜ジェルネイル層の形成＞
次いで、得られた下地層に対し、カラー層として市販のカルジェル＃ＣＧ−０３ フレッシュピンク（モガブルック社製）を刷毛で塗布・紫外線ランプ（３６Ｗ）で１分間照射した。その後、トップ層として市販のバイオジェル（タカラベルモント（株）製）を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ（３６Ｗ）で２分間照射した。形成したジェルネイル層を目視で観察したところ、完全に硬化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚は約２５０μｍであった。

（実施例２９及び比較例１２）
撹拌装置を備えた容器内に、下記に記載の組成を収容した後、撹拌装置を用いて均一になるまで混合し、実施例２９、及び、比較例１２の爪化粧料をそれぞれ得た。

＜実施例２９の爪化粧料の組成＞
・ジアセトンアクリルアミド：２０質量部
・イソボルニルメタクリレート：２０質量部
・ヒドロキシエチルアクリルアミド：１０質量部
・メタクリルアミド：１０質量部
・ウレタンメタクリレートポリマー（Ｐ−８）：４０質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）：４．０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキサイド（光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製、ルシリンＴＰＯ）：４．０質量部
・２−プロパノール：１０質量部

＜比較例１２の爪化粧料の組成＞
・２−ヒドロキシエチルメタクリレート：２０質量部
・イソボルニルメタクリレート：２０質量部
・ヒドロキシエチルアクリルアミド：１０質量部
・メタクリルアミド：１０質量部
・ウレタンメタクリレートポリマー（Ｐ−８）：４０質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）：４．０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキサイド（光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製ルシリンＴＰＯ）：４．０質量部
・２−プロパノール：１０質量部

＜下地層（ベース層）の形成＞
得られた実施例２９、又は、比較例１２の爪化粧料を０．２０ｇ、爪状に型取りしたアルミ基材上に刷毛を使って塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。こうして下地層を形成したアルミ基材を作製した。
硬化膜厚を測定するためにエタノールで下地層表面を洗浄した後、形成した被膜を目視で観察したところ、完全に硬化していた。また、この時の膜厚は、約８０μｍ（±１０μｍ）であった。

＜ジェルネイル層の形成＞
下地層を形成したアルミ基材上に、カラー層として市販のカルジェル＃ＣＧ−０３ フレッシュピンク（モガブルック社製）を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）で１分間照射した。その後、トップ層として市販のトップジェル（モガブルック社製）を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ（３６Ｗ）で２分間照射した。こうして実施例２９の爪化粧料を硬化した下地層に有するジェルネイル層を備えたアルミ基材１を作製した。形成したジェルネイル層を目視で観察したところ、完全に硬化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚は約２５０μｍであった。
同様にして比較例１２の爪化粧料を下地層に用いたアルミ基材２を作製し、上記と同様の方法により密着性と剥離性を評価した。結果を表９に示す。

Claims (12)

1. 成分１として、ジアセトンアクリルアミドと、
   成分２として、イソボルニルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、及び、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とを含むことを特徴とする
   爪化粧料。
2. 成分２として、イソボルニルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、及び、ブトキシジエチレングリコールメタクリレートよりなる群から選ばれた少なくとも２種の化合物を含む、請求項１に記載の爪化粧料。
3. 成分２として、イソボルニルメタクリレートと、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メタクリルアミド、及び、ジメチルアクリルアミドよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とを含む、請求項１に記載の爪化粧料。
4. 光重合開始剤を更に含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の爪化粧料。
5. ポリマー及び／又はオリゴマーを更に含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の爪化粧料。
6. 前記ポリマー及び／又はオリゴマーが、ウレタン結合を有する、請求項５に記載の爪化粧料。
7. 前記ポリマー及び／又はオリゴマーが、（メタ）アクリル基を有する、請求項５又は６に記載の爪化粧料。
8. 前記ポリマー及びオリゴマーの総含有量が、爪化粧料１００質量部に対し、１０〜６０質量部である、請求項５〜７のいずれか１項に記載の爪化粧料。
9. 成分１の含有量が、爪化粧料１００質量部に対し、１〜５０質量部である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の爪化粧料。
10. 成分２の総含有量が、爪化粧料１００質量部に対し、５〜８０質量部である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の爪化粧料。
11. 有機溶剤を更に含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の爪化粧料。
12. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載の爪化粧料を含むことを特徴とするネイルアートキット。