CN105338952B - 人造指甲的去除方法、人造指甲组合物、人造指甲、人造指甲的形成方法及美甲试剂盒 - Google Patents

人造指甲的去除方法、人造指甲组合物、人造指甲、人造指甲的形成方法及美甲试剂盒 Download PDF

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Abstract

本发明的目的在于提供一种不损害指甲装饰所具有的光泽性等优点且去除时无需使用丙酮而减轻对指尖或指甲的负担的人造指甲的去除方法。并且，目的在于提供一种上述人造指甲的去除方法中所使用的美甲试剂盒及人造指甲组合物、以及使用上述人造指甲组合物的人造指甲。本发明的人造指甲的去除方法的特征在于，包含以下工序：将人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的工序；将上述涂布膜进行干燥和/或曝光而形成人造指甲的工序；及使上述人造指甲与去除液接触来进行去除的去除工序，上述人造指甲组合物含有成分A即具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或成分B即具有酸基的聚合物，上述去除液为pH8以上且11以下的水溶液。

Description

人造指甲的去除方法、人造指甲组合物、人造指甲、人造指甲 的形成方法及美甲试剂盒
技术领域
本发明涉及一种人造指甲的去除方法、人造指甲组合物、人造指甲、人造指甲的形成方法及美甲试剂盒。
背景技术
近年来，对在手或脚指甲上做设计的美甲的人气高涨，在指甲(自己的指甲)上形成合成树脂制的人造指甲(人工指甲、指甲贴片等)的技术逐渐发展(参考专利文献1)。尤其在最近，出于完成品整洁、与指甲的粘附性较高且持久耐用、没有像丙烯酸系树脂那样的异味等原因，将包含氨酯系树脂和光聚合性单体的凝胶状的装饰用固化性组合物涂布于指甲之后，照射紫外线而使其固化而成的被称作人造指甲的指甲装饰备受瞩目。
在去除该人造指甲时，以往以如下方法为主流：利用粗糙的锉刀(指甲锉)，将人造指甲表面揉搓而产生划痕，使去除液容易渗入之后，将浸泡于丙酮等有机溶剂(去除液)中的棉载置于上述人造指甲上，将其以用铝箔等缠绕的状态放置，使人造指甲溶胀之后，使用木制的刮刀等剥下该溶胀的人造指甲。
并且，作为现有的人造指甲组合物，已知有专利文献1～3中所记载的组合物。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利公开2004-275736号公报
专利文献2：日本专利公开2000-256134号公报
专利文献3：日本专利公表2002-505915号公报
发明的概要
发明要解决的技术课题
本发明的目的在于提供一种不损害指甲装饰所具有的光泽性等优点且去除时无需使用丙酮而减轻对指尖或指甲的负担的人造指甲的去除方法。本发明的另一目的在于提供一种上述人造指甲的去除方法中所使用的美甲试剂盒及人造指甲组合物、以及使用上述人造指甲组合物的人造指甲。
用于解决技术课题的手段
上述目的通过下述＜1＞、＜15＞、＜17＞、＜22＞至＜24＞中所记载的方法得以实现。以下，与作为优选实施方式的＜2＞至＜14＞、＜16＞、＜18＞至＜21＞一同示出。
＜1＞一种人造指甲的去除方法，其包含以下工序：将人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的工序；将上述涂布膜进行干燥和/或曝光来形成人造指甲的工序；及使上述人造指甲与去除液接触来进行去除的去除工序，上述人造指甲组合物含有(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或(成分B)具有酸基的聚合物，上述去除液为pH8以上且11以下(优选为8.5～10.9，更优选为8.7～10.8，进一步优选为9～10.7)的水溶液；
＜2＞根据＜1＞所述的人造指甲的去除方法，其中，成分A以下述式(1)表示，
[化学式1]
式(1)中，R1表示氢原子或1价有机基团，X表示单键或2价连接基团，Z表示酸基。
＜3＞根据＜2＞所述的人造指甲的去除方法，其中，在上述式(1)中，Z为羧酸基；
＜4＞根据＜1＞至＜3＞中任一项所述的人造指甲的去除方法，其中，成分B为丙烯酸系聚合物和/或氨酯系聚合物；
＜5＞根据＜1＞～＜4＞中任一项所述的人造指甲的去除方法，其中，成分B为具有羧酸基的聚合物；
＜6＞根据＜5＞所述的人造指甲的去除方法，其中，上述具有羧酸基的聚合物为含有下述式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物；
[化学式2]
式(2)中，R2表示氢原子、甲基或-CH2Y1，Y1表示羟基、卤代基、-OC(＝O)R3或-NR3C(＝O)R4，X1表示-O-或-NR3-，R3、R4表示氢原子、碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基，L1表示2价连接基团。
＜7＞根据＜5＞所述的人造指甲的去除方法，其中，上述具有羧酸基的聚合物为具有下述式(3)所示的单体单元的氨酯系聚合物；
[化学式3]
式(3)中，L2、L3及L4分别独立地表示2价连接基团，W表示N或CR3，R3表示氢原子或1价基团。
＜8＞根据＜1＞～＜7＞中任一项所述的人造指甲的去除方法，其中，上述去除液含有pH缓冲剂；
＜9＞根据＜8＞所述的人造指甲的去除方法，其中，上述pH缓冲剂含有选自碳酸盐、碳酸氢盐、磷酸盐、硼酸盐及有机胺化合物中的至少1个；
＜10＞根据＜8＞或＜9＞所述的人造指甲的去除方法，其中，上述pH缓冲剂含有碳酸盐和碳酸氢盐；
＜11＞根据＜1＞至＜10＞中任一项所述的人造指甲的去除方法，其中，上述去除工序为在去除液中浸渍人造指甲来进行去除的工序；
＜12＞根据＜1＞至＜10＞中任一项所述的人造指甲的去除方法，其中，上述去除工序为将去除液喷涂于人造指甲来进行去除的工序；
＜13＞根据＜1＞至＜10＞中任一项所述的人造指甲的去除方法，其中，上述去除工序为利用含有去除液的棉包住人造指甲来进行去除的工序；
＜14＞根据＜1＞至＜13＞中任一项所述的人造指甲的去除方法，其中，将上述人造指甲组合物使用于基底层；
＜15＞一种人造指甲组合物，其含有(成分A’)下述式(1’)所示的化合物，
[化学式4]
式(1’)中，R1’表示氢原子或1价有机基团，X’表示2价连接基团，连接R1'所键合的碳原子和Z’的最短的原子数为5以上，Z’表示酸基。
＜16＞根据＜15＞所述的人造指甲组合物，其中，在上述式(1’)中，Z’为羧酸基；
＜17＞一种人造指甲组合物，其含有(成分B)具有酸基的聚合物；
＜18＞根据＜17＞所述的人造指甲组合物，其中，成分B为丙烯酸系聚合物和/或氨酯系聚合物；
＜19＞根据＜17＞或＜18＞所述的人造指甲组合物，其中，成分B为含有下述式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物；
[化学式5]
式(2)中，R2表示氢原子、甲基或-CH2Y1，Y1表示羟基、卤代基、-OC(＝O)R3、或、-NR3C(＝O)R4，X1表示-O-或-NR3-，R3、R4表示氢原子、碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基，L1表示2价连接基团。
＜20＞根据＜17＞或＜18＞所述的人造指甲组合物，其中，成分B为含有下述式(3)所示的单体单元的氨酯系聚合物，
[化学式6]
式(3)中，L2、L3及L4分别独立地表示2价连接基团，W表示N或CR3，R3表示氢原子或1价基团。
＜21＞根据＜15＞至＜20＞中任一项所述的人造指甲组合物，其还含有(成分D)光聚合引发剂；
＜22＞一种人造指甲，其具有将＜15＞至＜21＞中任一项所述的人造指甲组合物进行干燥和/或曝光而形成的层；
＜23＞一种人造指甲的形成方法，其包含以下工序：将＜15＞至＜21＞中任一项所述的人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的工序；及将上述涂布膜进行干燥和/或曝光来形成人造指甲的工序；
＜24＞一种美甲试剂盒，其含有人造指甲组合物及去除液，上述人造指甲组合物含有(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或(成分B)具有酸基的聚合物，上述去除液为pH8以上且11以下的水溶液。
发明效果
根据本发明，能够提供一种不损害指甲装饰所具有的光泽性等优点且去除时无需使用丙酮而减轻对指尖或指甲的负担的人造指甲的去除方法。另外，能够提供一种上述人造指甲的去除方法中所使用的美甲试剂盒及人造指甲组合物、以及使用上述人造指甲组合物的人造指甲。
附图说明
图1是表示本发明中优选的人造指甲的结构的剖视图。
具体实施方式
以下，对本发明进行详细说明。
另外，本说明书中，“xx～yy”的记载表示包含xx及yy的数值范围。并且，将“(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物”等还简称为“成分A”等。
并且，本发明中，“质量％”和“重量％”的含义相同，“质量份”和“重量份”的含义相同。
本说明书中，关于用式表示的化合物中的基团的标记，未标有取代或未取代时、该基团能够进一步具有取代基时，只要没有其他特别的规定，则不仅包含未取代的基团，还包含具有取代基的基团。例如，在式的说明中，若有“R表示烷基、芳基或杂环基”的记载，则指“R表示未取代烷基、取代烷基、未取代芳基、取代芳基、未取代杂环基或取代杂环基”。并且，本说明书中，(甲基)丙烯酸表示将丙烯酸和甲基丙烯酸一同包含的概念，关于(甲基)丙烯酸酯等也相同。
并且，本说明书中的聚合物中还包含共聚物、低聚物。
本发明中，优选方式的组合为更优选的方式。
本发明的人造指甲的去除方法，其包含以下工序：将人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的工序；将上述涂布膜进行干燥和/或曝光来形成人造指甲的工序；及使上述人造指甲与去除液接触来进行去除的去除工序，上述人造指甲组合物含有(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或(成分B)具有酸基的聚合物，上述去除液为pH8以上且11以下的水溶液。
本发明人进行了深入研究，其结果发现，使用含有成分A和/或成分B的人造指甲组合物而形成的人造指甲能够利用pH8以上且11以下的水溶液来进行去除，从而完成了本发明。
显现这些效果的机构尚未明确，但一部分推断为如下。
由含有成分A和/或成分B的人造指甲组合物形成的人造指甲中存在酸基。认为由于具有酸基，所以能够利用作为碱性水溶液的pH8以上且11以下的水溶液来进行去除。另外，也能够通过现有的使用有机溶剂的去除方法来进行去除，但通过利用刺激性更低的pH8以上且11以下的水溶液来进行去除，可以减轻对指甲或肌肤的损伤，并且可以解决VOC(挥发性有机化合物)问题。
本发明中的人造指甲是指在人或动物的指甲上以美装和/或保护为目的而形成的层。并且，例如，作为上述支撑体，可以举出以指甲的美装和/或保护为目的的任意形状的树脂基材(指甲贴片)等。
另外，将“人及动物的指甲、以及支撑体”还简称为“指甲”。
上述人造指甲的形状并没有特别限制，只要形成为所希望的形状即可。例如，可以以包覆指甲的表面的方式形成，也可以仅形成于指甲的一部分，还可以为了使用指甲托等延长指甲而形成为大于指甲的形状。
另外，本发明的人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于支撑体上，但也可以直接涂布于他们的指甲上，还可以涂布于已形成的其他层之上，并没有特别限定。在这些之中，如后述，更优选作为与指甲接触的层(基底层)而被涂布。
并且，本发明的人造指甲组合物能够通过涂布来控制厚度。作为厚度，一般在能够卸下人造指甲的范围内即可，并没有特别限制，但从实用性及去除性的观点考虑，优选在20～1,500μm的范围内。
(人造指甲组合物)
首先，对本发明的人造指甲的去除方法中所使用的、人造指甲组合物(也称为本发明的人造指甲组合物。)进行说明。
本发明的人造指甲组合物均可以适当地使用于人造指甲中的底漆层、基底层、彩色层和/或顶层中的任意一个层。
其中，从去除性的观点考虑，优选由本发明的人造指甲组合物形成的层与指甲接触，即为基底层。
并且，在由本发明的人造指甲组合物形成的人造指甲层的上层(与指甲相反一侧的面)或下层(与指甲之间的面)也可以以显出颜色、光泽、粘附为目而另行具有底漆层、基底层、彩色层和/或顶层。
本发明的人造指甲组合物既可以适当地用作光固化性人造指甲组合物(“凝胶美甲用人造指甲组合物”)，也可以适当地用作指甲油用人造指甲组合物。
并且，本发明的人造指甲组合物即使通过曝光而进行固化，去除性也优异，因此尤其可以适当地用作光固化性人造指甲组合物。
上述光固化性人造指甲组合物为能够通过活性光线而固化的人造指甲组合物。“活性光线”是指能够通过其照射而赋予在人造指甲组合物中产生引发种的能量的放射线，包含紫外线、可见光线等。其中，从固化灵敏度及装置的获得容易性的观点考虑，尤其优选紫外线。因此，作为上述光固化性人造指甲组合物，优选能够通过作为活性光线照射紫外线而固化的人造指甲组合物。
以下，对能够在本发明的人造指甲组合物中使用的各种成分进行说明。
(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物
本发明的人造指甲组合物优选含有(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物。
成分A的分子量(具有分子量分布时为重均分子量)优选小于3,000，优选为72以上且2,000以下，优选为86以上且1,500以下，进一步优选为144以上且1,000以下。
若成分A的分子量在上述范围内，则去除性、固化性及粘附性优异。
本发明中所使用的成分A只要是含有烯属不饱和键和酸基这两者的化合物，则均可以适当地使用。作为成分A所具有的酸基，可以举出羧酸基(羧基、-COOH)、磺酸基(磺基、-SO3H)、硫酸基(-OSO2(OH))、磷酸基(-OPO(OH)2)、膦酸基(膦酰基、-PO(OH)2)、酚羟基、磺酰胺基(-SO2-NR2 2)、酰亚胺基(-C(＝O)-NR2-C(＝O)-)等。其中，上述R2分别独立地表示氢原子或1价有机基团，作为1价有机基团，优选碳原子数1～6的烷基、碳原子数6～10的芳基。在这些之中，作为成分A所具有的酸基，优选羧酸基(-COOH)、磺酸基(-SO3H)、磷酸基(-OPO(OH)2)、膦酸基(-PO(OH)2)，更优选羧酸基、磷酸基，尤其优选羧酸基。
另外，上述酸基可以形成盐，例如可以例示出碱金属盐(例如锂盐、钠盐、钾盐等)、碱土类金属盐(例如镁盐、钙盐等)、有机阳离子盐(例如铵盐等)。
成分A为具有1个以上的烯属不饱和基的化合物，可以是单官能烯属不饱和化合物，也可以是多官能烯属不饱和化合物。成分A优选具有1～6个烯属不饱和键，更优选具有1～4个，进一步优选具有1～3个，尤其优选具有1或2个，最优选具有1个。即，成分A最优选为单官能烯属不饱和化合物。
成分A优选为下述式(1)所示的化合物，更优选为式(1’)所示的化合物。
[化学式7]
(式(1)中，R1表示氢原子或1价有机基团，X表示单键或2价有机基团，Z表示酸基。)
(式(1’)中，R1’表示氢原子或1价有机基团，X’表示2价连接基团，连接R1'所键合的碳原子和Z’的最短的原子数为5以上，Z’表示酸基。)
作为R1及R1’所示的1价有机基团的具体例，可以举出碳原子数1～18的烷基、碳原子数6～18的芳基、碳原子数2～18的烯基、-C(＝O)OR2、-C(＝O)NR3R4、-CH2OC(＝O)R2、-CH2NHC(＝O)R2、-CH2OR2(R2表示氢原子、碳原子数1～18的烷基、碳原子数6～18的芳基、碳原子数2～18的烯基，R3、R4分别独立地表示氢、碳原子数1～18的烷基、碳原子数6～18的芳基、碳原子数2～18的烯基。)。作为R1及R1’优选的是氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数6～12的芳基、-C(＝O)OR2、-C(＝O)NR3R4、-CH2OC(＝O)R2、-CH2NHC(＝O)R2、-CH2OR2(R2表示氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数6～12的芳基、碳原子数2～6的烯基，R3、R4分别独立地表示氢、碳原子数1～6的烷基、碳原子数6～12的芳基、碳原子数2～6的烯基。)，更优选为氢原子、碳原子数1～3的烷基、-C(＝O)OR2、-C(＝O)NR3R4、-CH2OC(＝O)R2、-CH2NHC(＝O)R2、-CH2OR2(R2表示氢、碳原子数1～3的烷基，R3、R4分别独立地表示氢原子或碳原子数1～3的烷基。)，进一步优选为氢原子、甲基、-COOMe、-COOH、-CH2OC(＝O)Me、-CH2OH、-CH2OMe，尤其优选为氢原子或甲基。另外，上述Me是指甲基。
X表示单键或2价连接基团，更优选为2价连接基团。作为X所示的2价有机基团的具体例，可以举出将碳(C)作为必须成分而含有并适当地选择氧(O)、氮(N)、硫(S)、磷(P)、氢(H)、卤素(F、Cl、Br、I)、硅(Si)而形成的2价有机基团。其中，作为X，表示-A1-A2-A3-A4-A5-……-An-(式中，An表示选自可以具有氢原子、卤原子或取代基的碳、氧、氮、硫、磷及硅中的元素。另外，各个元素所具有的取代基彼此可以键合而形成环。)所示的2价连接基团，n优选为3以上，更优选为4以上，尤其优选为5以上。作为该取代基，优选碳原子数1～12的取代基。
即，关于X所示的2价连接基团，连接R1所键合的碳和Z(酸基)的最短的原子数优选为3以上，更优选为4以上，尤其优选为5以上(X为X’)。上限并没有特别限定，优选为30以下，更优选为20以下，进一步优选为10以下。并且，An选自具有氢原子、卤原子或取代基的碳；氧(-O-)；可以具有氢原子、卤原子或取代基的氮(-NR-或-N＝，R表示氢原子、卤原子或取代基。)；硫(-S-)；具有氢原子、卤原子或取代基的磷；及具有氢原子、卤原子或取代基的硅。
作为这种2价有机基团的具体例，可以举出*-C(＝O)O-Q-**、*-C(＝O)NR5-Q-**、*-C(＝O)O-Q-OC(＝O)-Q-**、*-C(＝O)NR5-Q-OC(＝O)-Q-**、*-C(＝O)NR5-Q-NR6-C(＝O)-Q-**、*-亚苯基-C(＝O)O-Q-**、*-亚苯基-C(＝O)NR5-Q-**、*-亚苯基-CH2-O-Q-**、亚苯基等，但本发明并不限定于这些。另外，*表示X与R1所键合的碳原子的键合位置，**表示X与Z的键合位置。R5、R6表示氢原子、碳原子数1～18的烷基或碳原子数6～12芳基。Q分别独立地表示碳原子数1～30的可以具有取代基的亚烷基或碳原子数6～18的可以具有取代基的亚芳基，亚烷基可以是直链状、分支状或环状中的任意一种，在碳-碳键之间可以具有醚键(-O-)。另外，上述碳原子数是指包含取代基的碳原子数在内的整体的碳原子数。
本发明中，作为X，优选*-C(＝O)O-Q-**、-C(＝O)NR5-Q-**、*-C(＝O)O-Q-OC(＝O)-Q-**、*-C(＝O)NR5-Q-OC(＝O)-Q-**、*-C(＝O)NR5-Q-NR6-C(＝O)-Q-**、*-亚苯基-C(＝O)O-Q-**、*-亚苯基-C(＝O)NR5-Q-**、*-亚苯基-CH2-O-Q-**，更优选*-C(＝O)O-Q’-**、*-C(＝O)NR5-Q’-**、*-C(＝O)O-Q’-OC(＝O)-Q’-**、*-C(＝O)NR5-Q’-OC(＝O)-Q’-**，尤其优选*-C(＝O)O-Q”-**、*-C(＝O)NR5-Q”-**、*-C(＝O)O-Q”-OC(＝O)-Q”-**、-C(＝O)NR5-Q”-OC(＝O)-Q”-。在此，Q’分别独立地表示碳原子数2～25的可以具有取代基的亚烷基或碳原子数6～12的可以具有取代基的亚芳基，亚烷基可以是直链状、分支状或环状中的任意一种，在碳-碳键之间可以具有醚键。Q”分别独立地表示碳原子数2～9的可以具有取代基的亚烷基或碳原子数6～12的可以具有取代基的亚芳基，亚烷基可以是直链状、分支状或环状中的任意一种，在碳-碳键之间可以具有醚键。
作为Z和Z’所示的酸基，可以举出-COOH、-SO3H、-OPO3H2、-PO3H2等，其中，优选-COOH、-OPO3H2，尤其优选-COOH。
本发明中，成分A的烯属不饱和键和酸基优选经由任意连接基团而键合，作为酸基，优选羧酸基。
即，在式(1)中，尤其优选R1为氢原子或甲基，Z所示的酸基为-COOH，X为*-C(＝O)O-Q”-**、*-C(＝O)O-Q”-OC(＝O)-Q”-**。另外，连接R1所键合的碳原子和Z的最短的原子数尤其优选为5以上。
作为具有酸基的单体的具体例，可以举出具有羧酸基的(甲基)丙烯酸系单体、具有羧酸基的苯乙烯系单体、具有磺酸基的(甲基)丙烯酸系单体、具有磺酸基的苯乙烯系单体、具有磷酸基的(甲基)丙烯酸系单体、具有其他酸基的单体。
作为具有羧酸基的(甲基)丙烯酸系单体，可以例示出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、琥珀酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯、六氢邻苯二甲酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸2-(甲基)丙烯酰氧基丙酯、琥珀酸2-(甲基)丙烯酰氧基丙酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙酸、(甲基)丙烯酸β-羧基乙酯、4-(甲基)丙烯酰氧基丁酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙氧基乙酸、马来酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯、6-(甲基)丙烯酰氧基己酸酯、琥珀酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六氢邻苯二甲酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、琥珀酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六氢邻苯二甲酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯等。
作为具有羧酸基的苯乙烯系单体，可以例示出4-羧基苯乙烯等，作为具有磺酸基的(甲基)丙烯酸系单体，可以例示出3-(甲基)丙烯酰氧丙基磺酸、2-(甲基)丙烯酸酰胺基-2-甲基-1-丙磺酸等，作为具有磺酸基的苯乙烯系单体，可以例示出4-乙烯基苯磺酸等。
作为具有磷酸基的(甲基)丙烯酸系单体，可以例示出2-(甲基)丙烯酰氧乙基磷酸酯、聚氧乙烯(甲基)丙烯酸磷酸酯等，作为具有其他酸基的单体，可以例示出乙烯基膦酸、乙烯基磺酸等。
在具有酸基的单体的具体例中，从去除性优异的观点考虑，尤其优选琥珀酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯、六氢邻苯二甲酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸2-(甲基)丙烯酰氧基丙酯、琥珀酸2-(甲基)丙烯酰氧基丙酯、β-羧乙基(甲基)丙烯酸酯、马来酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯、6-(甲基)丙烯酰氧基己酸酯、(2-(甲基)丙烯酰氧基)乙氧基乙酸、4-(甲基)丙烯酰氧基丁酸、琥珀酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六氢邻苯二甲酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、琥珀酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六氢邻苯二甲酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯。
以下，例示出作为成分A优选的化合物，但并不受这些记载的任何限定。
[化学式8]
上述式中，R表示氢原子或甲基。n表示1以上且10以下的整数。
并且，作为具有酸基的单体，还可以适当地使用具有酸基的多官能单体。作为具有酸基的多官能单体，可以举出具有2个以上的羟基的羧酸(例如，酒石酸、莽草酸、粘液酸等)的(甲基)丙烯酸酯、具有2个以上的羟基的羧酸与(甲基)丙烯酸-2-异氰酸基乙酯的反应物、具有2个以上的氨基的羧酸(例如，2,3-二氨基丙酸、赖氨酸、鸟氨酸、胱氨酸等)的(甲基)丙烯酸酰胺、具有2个以上的氨基的羧酸与(甲基)丙烯酸-2-异氰酸基乙酯的反应物、合计具有2个以上的羟基和氨基的羧酸(例如，丝氨酸、苏氨酸等)与(甲基)丙烯酸的脱水缩合物、合计具有2个以上的羟基和氨基的羧酸与(甲基)丙烯酸-2-异氰酸基乙酯的反应物等。
成分A更优选在室温下为液状。并且，也优选相对于乙酸乙酯的室温下的溶解性为5质量％以上。这些具有酸基的单体可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。这些具有酸基的单体可以通过碱(例如，氢氧化钠、碳酸钾、三乙胺、咪唑等)将酸基的一部分或全部中和来进行使用。
(成分B)具有酸基的聚合物
本发明的人造指甲组合物优选含有(成分B)具有酸基的聚合物。
对于成分B的结构并没有特别限制，可以是任意结构，例如可以举出链状结构、支化(分支)结构、星型结构、交联结构、网状结构等。
作为本发明中所使用的具有酸基的聚合物，只要是具有酸基的公知的聚合物(例如，丙烯酸系聚合物、氨酯系聚合物、纤维素系聚合物、酯系聚合物、酰胺系聚合物、乙烯系聚合物、醚系聚合物、苯乙烯系聚合物、碳酸酯系聚合物、脲系聚合物等)，则均可以适当地使用。在这些聚合物中，从去除性、强度、成本及合成适合性的观点考虑，尤其优选丙烯酸系聚合物、氨酯系聚合物。
作为酸基，可以举出羧酸基、磺酸基、磷酸基、膦酸基、硫酸基等公知的酸基，从去除性及稳定性的观点考虑，尤其优选羧酸基。
并且，酸基相对于聚合物主链而言，可以位于侧链、末端中的任意位置，但位于侧链时，在聚合物主链与酸基之间优选含有2个以上的原子，更优选含有3个以上的原子，尤其优选含有4个以上的原子。当位于主链末端时，优选位于至少一个主链末端，更优选位于两个主链末端。还进一步优选位于末端和侧链这两个部位。
作为具有酸基的丙烯酸系聚合物，优选含有以下式(2)所示的单体单元。
[化学式9]
式中，R2表示氢原子、甲基或-CH2Y1，Y1表示羟基、卤代基、-OC(＝O)R3或-NR3C(＝O)R4，X1表示-O-或-NR3-，R3、R4分别独立地表示氢原子、碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基，L1表示2价连接基团。
作为L1所示的2价连接基团，只要是将碳作为必须元素而含有且由氧(O)、氮(N)、硫(S)、磷(P)、氢(H)、卤素(F、Cl、Br、I)、硅(Si)构成的2价基团，则均可以适当地使用，优选为将X1和COOH隔着2个原子以上而连接的2价基团，更优选为隔着3个原子以上而连接的2价基团〔X1-A1-A2-……-An-COOH(式中，An表示原子，n表示3以上的整数。)〕，尤其优选为隔着4个原子以上而连接的2价基团〔X1-A1-A2-……-An-COOH(式中，An表示原子，n表示4以上的整数。)〕。连接X1和羧酸基的最短(最小)的原子数优选较大，通过使用这种2价连接基团，去除性变良好。另外，连接X1和羧酸基的最小的原子数的上限并没有特别限定，从合成方面及去除性的观点考虑，优选为30以下，更优选为20以下，进一步优选为10以下。
作为L1的具体例，可以举出*-Q-**、*-Q-OC(＝O)-Q-**、*-Q-NR3C(＝O)-Q-**，但本发明并不限定于这些。另外，*表示X1与L1的键合位置。Q分别独立地表示碳原子数1～30的可以具有取代基的亚烷基或碳原子数6～18的可以具有取代基的亚芳基，亚烷基可以是直链状、分支状或环状中的任意一种，在碳-碳键之间可以具有醚键。另外，上述碳原子数是指包含取代基的碳原子数在内的整体的碳原子数。R3表示氢原子、碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基。
本发明中，作为L1，优选*-Q-**、或*-Q-OC(＝O)-Q-**、*-Q-NR3C(＝O)-Q-**，更优选*-Q’-**、或*-Q’-OC(＝O)-Q’-**、*-Q’-NR3C(＝O)-Q’-**，进一步优选*-Q”-**、或*-Q”-OC(＝O)-Q”-**、*-Q”-NR3C(＝O)-Q”-**。其中，Q’分别独立地表示碳原子数2～24的可以具有取代基的亚烷基或碳原子数6～12的可以具有取代基的亚芳基，亚烷基可以是直链状、分支状或环状中的任意一种，在碳-碳键之间可以具有醚键。Q”分别独立地表示碳原子数2～18的可以具有取代基的亚烷基或碳原子数6～12的可以具有取代基的亚芳基，亚烷基可以是直链状、分支状或环状中的任意一种，在碳-碳键之间可以具有醚键。Q’优选为碳原子数2～24的亚烷基，亚烷基优选为直链状或分支状，在碳-碳键之间可以具有醚键。Q”优选为碳原子数2～18的可以具有取代基的亚烷基，亚烷基优选为直链状或分支状，在碳-碳键中可以具有醚键。
作为具有羧酸基的丙烯酸系聚合物，可以举出使用具有羧酸基的(甲基)丙烯酸系单体而合成的丙烯酸系聚合物。作为上述具有羧酸基的(甲基)丙烯酸系单体，例如可以例示出丙烯酸、甲基丙烯酸、琥珀酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、琥珀酸2-丙烯酰氧基乙酯、六氢邻苯二甲酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、六氢邻苯二甲酸2-丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸2-丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸2-丙烯酰氧基丙酯、邻苯二甲酸2-甲基丙烯酰氧基丙酯、琥珀酸2-丙烯酰氧基丙酯、琥珀酸2-甲基丙烯酰氧基丙酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙酸、(甲基)丙烯酸β-羧基乙酯、4-(甲基)丙烯酰氧基丁酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙氧基乙酸、马来酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、6-丙烯酰氧基己酸酯、琥珀酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六氢邻苯二甲酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、琥珀酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六氢邻苯二甲酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯。
在具有羧酸基的丙烯酸系聚合物的合成中所使用的这些具有羧酸基的(甲基)丙烯酸系单体中，更优选琥珀酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、琥珀酸2-丙烯酰氧基乙酯、六氢邻苯二甲酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、六氢邻苯二甲酸2-丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸2-丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸2-丙烯酰氧基丙酯、邻苯二甲酸2-甲基丙烯酰氧基丙酯、琥珀酸2-丙烯酰氧基丙酯、琥珀酸2-甲基丙烯酰氧基丙酯、(甲基)丙烯酸β-羧基乙酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙酸、马来酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、6-丙烯酰氧基己酸酯、琥珀酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六氢邻苯二甲酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、琥珀酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六氢邻苯二甲酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯，尤其优选琥珀酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、琥珀酸2-丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸2-丙烯酰氧基丙酯、邻苯二甲酸2-甲基丙烯酰氧基丙酯、(甲基)丙烯酸β-羧基乙酯(丙烯酸二聚体)、6-丙烯酰氧基己酸酯、琥珀酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六氢邻苯二甲酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、琥珀酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六氢邻苯二甲酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯。
在本发明中所使用的具有羧酸基的丙烯酸系聚合物的合成中，可以将公知的丙烯酸酯单体(例如，丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸环己酯等)、甲基丙烯酸酯单体(例如，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯等)、丙烯酰胺单体(例如，丙烯酰胺、N-异丙基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、丙烯酰吗啉等)、甲基丙烯酰胺单体(例如，甲基丙烯酰胺)、其他具有烯属不饱和键的单体(例如，苯乙烯、乙酸乙烯、N-乙烯吡咯烷酮等)用作共聚合成分。
具有酸基的丙烯酸系聚合物优选含有5～50摩尔％的上述式(2)所示的单体单元，更优选含有10～45摩尔％，进一步优选含有15～40摩尔％。
作为具有羧酸基的氨酯系聚合物，优选含有以下式(3)所示的单体单元的氨酯系聚合物。
[化学式10]
(式(3)中，L2、L3、及L4分别独立地表示2价连接基团，W表示N或CR3，R3表示1价基团。)
作为L2、L3所示的2价连接基团，只要是将碳作为必须元素而含有且由氢、氧、氮、硫、磷、卤素、硅构成的2价基团，则均可以适当地使用。L2、L3所示的2价连接基团优选为碳原子数1～12的亚烷基或碳原子数6～12的亚芳基，更优选为碳原子数1～12的亚烷基。上述亚烷基可以是直链状、分支状或环状中的任意一种，并且，在碳-碳键之间可以具有1个以上的醚键。作为2价连接基团的例子，可以举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚苯基、-CH2CH2-O-CH2CH2-、聚(氧乙烯)基、聚(氧丙烯)基等，但本发明并不限定于这些。
作为L4所示的2价连接基团，只要是将碳作为必须元素而含有且由氢、氧、氮、硫、磷、卤素、硅构成的2价基团，则均可以适当地使用，但优选为将W和COOH隔着2个原子以上而连接的2价基团〔W-A1-A2-……An-COOH(式中，An表示原子，n表示2以上的整数)〕，更优选为隔着3个原子以上而连接的2价基团〔W-A1-A2-……An-COOH(式中，An表示原子，n表示3以上的整数)〕，尤其优选为隔着4个原子以上而连接的2价基团〔W-A1-A2-……An-COOH(式中，An表示原子，n表示4以上的整数)〕。通过使用这种2价连接基团，去除性变良好。
作为L4，优选为*-Q-**或*-C(＝O)-Q-**。其中，*表示W与L4的键合位置。Q表示碳原子数1～18的可以具有取代基的亚烷基或碳原子数6～12的可以具有取代基的亚芳基，亚烷基可以是直链状、分支状或环状中的任意一种，在碳-碳键之间可以具有醚键。另外，上述碳原子数是指包含取代基的碳原子数在内的整体的碳原子数。
L4更优选为*-Q’-**或*-C(＝O)-Q’-**，进一步优选为*-Q”-**或*-C(＝O)-Q”-**。其中，*表示W与L4的键合位置。Q’表示碳原子数1～12的可以具有取代基的亚烷基，亚烷基可以是直链状、分支状或环状中的任意一种，在碳-碳键之间可以具有醚键。另外，上述碳原子数是指包含取代基的碳原子数在内的整体的碳原子数。Q”表示碳原子数2～8的可以具有取代基的亚烷基，亚烷基可以是直链状、分支状或环状中的任意一种，在碳-碳键之间可以具有醚键。另外，上述碳原子数是指包含取代基的碳原子数在内的整体的碳原子数。
上述W表示N或CR3，优选为N。
R3表示1价基团，优选为氢原子、碳原子数1～12的烷基、碳原子数6～12的芳基，更优选为氢原子或碳原子数1～6的烷基。
以下，例示出式(3)所示的单体单元，但本发明并不受以下具体例的任何限定。
[化学式11]
氨酯系聚合物可以通过形成式(3)所示的单体单元的含羧基二醇化合物与聚异氰酸酯化合物的反应而得到。
作为适合使用的异氰酸酯化合物，可以例示出异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、亚甲基双苯基异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、2,2,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、2,4,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、间苯二甲基二异氰酸酯等。
另外，除了形成式(3)所示的单体单元的含羧基二醇化合物以外，还可以同时使用其他的醇化合物。
作为具有羧酸基的氨酯系聚合物，还优选在末端具有羧酸基的氨酯系聚合物。
作为具有羧酸基的氨酯系聚合物，可以举出通过使具有羧酸基的单醇化合物(例子：羟基乙酸、乳酸、3-羟基丁酸、3-羟基-3-甲基戊二酸、苹果酸、柠檬酸、水杨酸等)、具有羧酸基的二醇化合物(例子：2,2-双(羟基甲基)丙酸、酒石酸、3,5-二羟基苯甲酸、N,N-双羟基乙基琥珀酸单酰胺等)或具有羧酸基的多元醇化合物(例子：莽草酸、半乳糖二酸、葡糖酸等)、公知的异氰酸酯化合物(异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、亚甲基双苯基异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯等)及任意的其他醇化合物(甲醇、乙醇、1,4-丁二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、四甘醇等)进行反应而得到的氨酯系聚合物。
作为本发明中所使用的成分B，还含有共聚物、低聚物。作为具有酸基的聚合物的利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量，优选为3,000以上且100万以下，更优选为4,000以上且50万以下，尤其优选为5,000以上且25万以下。
若成分B的重均分子量在上述范围内，则人造指甲的持续性和去除性变良好，因此优选。
本发明中所使用的聚合物可以具有自由基聚合性官能团。作为自由基聚合性官能团，优选(甲基)丙烯酸酯基、(甲基)丙烯酸酰胺基、苯乙烯基、乙烯基醚基、乙烯基酯基，更优选(甲基)丙烯酸酯基、(甲基)丙烯酸酰胺基，尤其优选(甲基)丙烯酸酯基。
本发明中，当成分B具有羧基作为酸基时，成分B中的羧基当量优选为0.25～5.0meq/g，更优选为0.5～4.0meq/g，进一步优选为0.75～3.0meq/g。
在本发明的人造指甲组合物中，将成分A和/或成分B中的任意一个作为必须成分而含有。作为成分A及成分B在人造指甲组合物中的使用量，优选合计为10质量％以上且95质量％以下，更优选为20质量％以上且90质量％以下，尤其优选为30质量％以上且85质量％以下。当同时使用成分A和成分B时，成分A与成分B的比率(质量比，A/B)优选为1/10以上且10/1以下，更优选为2/10以上且10/2以下，尤其优选为3/10以上且10/3以下。通过上述使用量，人造指甲被膜的去除性变良好。
并且，以提高涂层性或光泽性为目的，本发明的人造指甲组合物还可以含有成分B以外的聚合物。
尤其，当本发明的人造指甲组合物含有成分A时，优选含有任何聚合物成分，含有成分B以外的聚合物也是优选的方式。
作为成分B以外的聚合物，从涂层性的观点考虑，优选为丙烯酸系聚合物或氨酯系聚合物。并且，以提高涂布性为目的，还可以含有作为粘度调整剂(增稠剂等)而周知的公知的聚合物。
当本发明的人造指甲组合物不含有成分A且含有成分B时，成分B以外的聚合物的含量优选小于成分B的含量，相对于人造指甲组合物的总质量优选为20质量％以下，更优选为10质量％以下，进一步优选为5质量％以下，尤其优选不含有。
另外，本发明中，当含有成分A时，使用成分B作为聚合物成分也是优选的方式。
(成分C)其他聚合性化合物
本发明的人造指甲组合物优选含有(成分C)其他聚合性化合物。成分C为不具有酸基的聚合性化合物。尤其，当本发明的人造指甲组合物含有成分B时，通过含有成分C，可以适合用作光固化性人造指甲组合物。
并且，当本发明的人造指甲组合物含有成分A和/或成分C时，以及当成分B具有自由基聚合性基时，优选还含有后述的(成分D)光聚合引发剂。通过含有成分D，本发明的人造指甲组合物可以更适合用作光固化性人造指甲组合物。
作为成分C，可以是自由基聚合性化合物，也可以是阳离子聚合性化合物，优选为自由基聚合性化合物。
并且，作为成分C，优选为烯属不饱和化合物。
自由基聚合性化合物为具有能够自由基聚合的烯属不饱和键的化合物，只要是在分子中具有至少1个能够自由基聚合的烯属不饱和键的化合物，则可以是任何化合物，包含具有单体、低聚物等化学形态的化合物。自由基聚合性化合物可以仅使用1种，并且，也可以为了提高目标特性而以任意比率同时使用2种以上。并且，与单官能化合物相比，优选具有2个以上的官能团的多官能化合物。并且，从控制反应性、物性等性能的方面考虑，进一步优选同时使用2种以上多官能化合物。
并且，成分C为成分A及成分B以外的化合物，优选为分子量小于3,000的化合物，更优选为分子量小于1,000的化合物。
作为具有能够自由基聚合的烯属不饱和键的聚合性化合物的例子，可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸等不饱和羧酸的酯或酰胺、具有烯属不饱和基的酐、丙烯腈、苯乙烯、以及各种不饱和聚酯、不饱和聚醚、不饱和聚酰胺、不饱和氨酯等低聚物等自由基聚合性化合物。
具体而言，可以举出(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸卡必醇酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸酯乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、N-羟甲基(甲基)丙烯酸酰胺、二丙酮(甲基)丙烯酸酰胺、环氧基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸衍生物，除此以外，可以举出烯丙基缩水甘油醚、邻苯二甲酸二烯丙酯、偏苯三酸三烯丙酯等烯丙基化合物的衍生物，更具体而言，可以使用山下晋三编、“交联剂手册”、(1981年，TAISEISHA LTD.)；加藤清视编、“UV·EB固化手册(原料篇)”(1985年，高分子刊行会)；RadTech Japan编、“UV·EB固化技术的应用与市场”、79页、(1989年、CMC Publishing CO.,LTD.)；泷山荣一郎著、“聚酯树脂手册”、(1988年、NIKKAN KOGYO SHIMBUN,LTD.)等中所记载的市售品或在业界公知的自由基聚合性至交联性的单体、以及低聚物。
作为成分C，从所得到的人造指甲的去除性、粘附性及光泽的观点考虑，优选含有具有羟基的烯属不饱和化合物或具有(聚)亚烷基氧基的烯属不饱和化合物，更优选含有具有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物或具有(聚)亚烷基氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物，进一步优选含有具有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物，尤其优选含有具有羟基的单官能(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为具有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如可以优选举出(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2,3-二羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯等(甲基)丙烯酸羟基烷酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇·丙二醇)-单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇·聚丙二醇-单(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇·四亚甲基二醇)-单(甲基)丙烯酸酯、聚(丙二醇·四亚甲基二醇)-单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇·聚丁二醇-单(甲基)丙烯酸酯。
作为具有(聚)亚烷基氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如可以优选举出甲氧基聚乙二醇-(甲基)丙烯酸酯、辛氧基聚乙二醇-聚丙二醇-(甲基)丙烯酸酯、月桂氧基聚乙二醇-(甲基)丙烯酸酯、硬脂氧基聚乙二醇-(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇-(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇-聚丙二醇-(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基-聚乙二醇-(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基-聚丙二醇-(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基-聚(乙二醇-丙二醇)-(甲基)丙烯酸酯。
上述具有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物及具有(聚)亚烷基氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物可以使用市售的化合物。若示出代表例，则可以举出BRENMAR E、BRENMAR PE-90、BRENMAR PE-200、BRENMAR PE-350、BRENMAR P、BRENMAR PP-1000、BRENMAR PP-500、BRENMAR PP-800、BRENMAR 50PEP-300、BRENMAR 70PEP-350B、BRENMAR 55PET-800、BRENMARPPT系列、BRENMAR 10PPB-500B、BRENMAR AE-90、BRENMAR AE-200、BRENMAR AE-400、BRENMAR AP-150、BRENMAR AP-400、BRENMAR AP-550、BRENMAR PME-100、BRENMAR PME-200、BRENMAR PME-400、BRENMAR PME-1000、BRENMAR 50POEP-800B、BRENMAR PLE-200、BRENMARPSE-400、BRENMAR PSE-1300、BRENMAR PAE-50、BRENMAR PAE-100、BRENMAR 43PAPE-600B、BRENMAR AME-400、BRENMAR ALE系列、BRENMAR ANP-300、BRENMAR 75ANP-600、BRENMARAAE-50、BRENMAR AAE-300(以上为NOF CORPORATION制)等。
当使用具有羟基的烯属不饱和化合物时，该化合物中的羟基的数量优选为1～10个，更优选为1～5个，进一步优选为1～3个，尤其优选为1个。
并且，当使用具有(聚)亚烷基氧基的烯属不饱和化合物时，作为该化合物中的亚烷基氧基的重复单元数，优选为1～25，更优选为1～15，进一步优选为1～10。
在这些之中，成分C优选含有(甲基)丙烯酸羟基烷酯化合物，更优选含有(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯，进一步优选含有(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯。
从所得到的人造指甲的耐水性的观点考虑，成分C可以含有多官能聚合性化合物。
作为多官能聚合性化合物，可以例示出具有氨酯键的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物、多元醇(甲基)丙烯酸酯化合物等。
作为具有氨酯键的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，可以优选举出利用异氰酸酯基与羟基的加成反应而制造的氨酯系加成聚合性化合物。作为这样的具体例，例如可以举出在1个分子中具有2个以上的异氰酸酯基的异氰酸酯化合物中加成具有羟基的烯属不饱和单体而成的1个分子中含有2个以上的烯属不饱和基的氨酯化合物等。
其中，作为上述异氰酸酯化合物，可以优选举出六亚甲基二异氰酸酯、2,2,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、2,4,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、亚甲基双苯基异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、间苯二甲基二异氰酸酯、1,3-双(异氰酸酯甲基)环己烷、Bayer AG制的DESMODUR(注册商标)类等。
作为上述含有羟基的烯属不饱和单体的具体例，可以优选举出(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2,3-二羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇·丙二醇)-单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇·聚丙二醇-单(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇·四亚甲基二醇)-单(甲基)丙烯酸酯、聚(丙二醇·四亚甲基二醇)-单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇·聚丁二醇-单(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。
作为多元醇(甲基)丙烯酸酯化合物，可以优选举出2官能以上的多元醇化合物的(甲基)丙烯酸酯。作为这样的具体例，可以优选举出甘油二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、三(2-(甲基)丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯、2,2-双(4-(2-(甲基)丙烯酰氧乙基)氧基苯基)丙烷等。
成分C可以单独含有1种，也可以同时使用2种以上。
本发明的人造指甲组合物中的成分C的含量并没有特别限制，作为含有成分A的聚合性化合物的总量，相对于人造指甲组合物的总质量优选为1～80质量％，更优选为3～70质量％，进一步优选为10～60质量％，尤其优选为20～50质量％。若在上述范围内，则所得到的人造指甲的去除性及耐水性更加优异。
(成分D)光聚合引发剂
本发明的人造指甲组合物优选含有(成分D)光聚合引发剂。通过含有成分D，本发明的人造指甲组合物可以适合用作光固化性人造指甲组合物。
作为光聚合引发剂，可以举出自由基光聚合引发剂及阳离子光聚合引发剂，但更优选含有自由基光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂，可以使用公知的光聚合引发剂。本发明中可以使用的光聚合引发剂可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。并且，可以同时使用自由基光聚合引发剂和阳离子光聚合引发剂。
本发明中可以使用的光聚合引发剂为吸收光来生成聚合引发种的化合物。作为光，可以例示出γ射线、β射线、电子射线、紫外线、可见光线、红外线。在这些之中，适合使用紫外线。
作为本发明中可以使用的光聚合引发剂，具体而言，可以优选例示出以下引发剂。但是，并不限定于这些例示。
苯乙酮衍生物(例如，1-羟基环己基苯基甲酮、苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、4’-异丙基-2-羟基-2-甲基苯丙酮、2-甲基-1-〔4-(甲硫基)苯基〕-2-吗啉代-1-丙烷、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻丙醚等)；
二苯甲酮衍生物(例如，二苯甲酮、4,4’-双(二甲基氨基)二苯甲酮、3,3-二甲基-4-甲氧基-二苯甲酮等)；
蒽醌衍生物(例如，蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、叔丁基蒽醌等)；
噻吨酮衍生物(例如，2-氯噻吨酮、二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、二异丙基噻吨酮等)；
三卤代烷基化合物(例如，2,4,6-(三氯甲基)三嗪、2,4-三氯甲基-6-(4-甲氧基苯基)三嗪、三溴甲基苯砜等)；
洛粉碱(lophine)二聚体衍生物(例如，2-(邻氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体)；
吖啶衍生物(例如，9-苯基吖啶、1,7-双(9-吖啶基)庚烷、1,5-双(9-吖啶基)戊烷、1,3-双(9-吖啶基)丙烷)；
氧化膦衍生物(例如，三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦等)；
茂金属衍生物(例如，双环戊二烯基-双(二氟-吡咯-苯基)钛等)；
鎓盐(例如，双(4-叔丁基苯基)对甲苯磺酸碘、对甲基苯磺酸三苯基硫盐等)；
肟酯衍生物(例如，1-(4-苯硫基苯基)-1,2-辛二酮-2-(O-苯甲酰肟)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-乙酮-1-(O-乙酰肟)等)；
硼酸盐(例如，四苯基硼酸钠盐等)；
过氧化物(例如，叔丁基过苯甲酸酯等)。
可以为了赋予人造指甲组合物的光固化性和光选择性而适当地选择本发明中所使用的光聚合引发剂，在这些之中，作为成分D，优选为选自苯乙酮衍生物、二苯甲酮衍生物、洛粉碱二聚体衍生物、氧化膦衍生物、茂金属衍生物、肟酯衍生物、鎓盐及硼酸盐中的光聚合引发剂，更优选为选自苯乙酮衍生物、二苯甲酮衍生物、氧化膦衍生物、茂金属衍生物及肟酯衍生物中的光聚合引发剂。
作为本发明的人造指甲组合物中的成分D的含量，相对于人造指甲组合物的总质量优选为0.01～20质量％，更优选为0.1～15质量％，进一步优选为0.5～12质量％。若在上述范围内，则所得到的人造指甲的粘附性、光泽及耐水性更加优异。
(成分E)溶剂
从涂布性的观点考虑，本发明的人造指甲组合物可以含有(成分E)溶剂。
作为溶剂，只要是公知的溶剂，则均可以适当地使用。例如，可以举出乙醇、异丙醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、二甘醇单乙醚、二丙二醇单甲醚等醇系溶剂及它们的乙酸酯系溶剂、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂、丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮系溶剂、四氢呋喃、甲基-叔丁醚等醚系溶剂、水等。但是，并不限定于这些例示。
从干燥速度的观点考虑，溶剂的沸点优选为30～130℃，更优选为35～100℃，进一步优选为40～90℃，尤其优选为50～85℃。若在上述范围内，则干燥性及涂布性优异。
成分E可以单独含有1种，也可以同时使用2种以上。
作为成分E，优选含有醇系溶剂和/或酮系溶剂，更优选含有醇系溶剂及酮系溶剂。
本发明的人造指甲组合物中的成分E的含量并没有特别限制，相对于人造指甲组合物的总质量优选为1～90质量％，更优选为2～80质量％，进一步优选为3～80质量％，尤其优选为5～50质量％。若在上述范围内，则涂布性优异，所得到的人造指甲的去除性及粘附性更加优异。
＜其他成分＞
本发明的人造指甲组合物中，作为上述成分A～成分E以外的其他成分，在不损害本发明效果的范围内可任意配合一般能够在人造指甲组合物中配合的添加成分。作为这种添加成分，例如可以举出消泡剂、缓冲剂、螯合剂、分散剂、染料、填充剂、颜料、防腐剂、树脂粉末(例如，聚(甲基)丙烯酸等)、无机粉末(例如，硅胶等)、增稠剂、润湿剂、自由基聚合抑制剂(聚合禁止剂)等。但是，并不限定于这些例示。
并且，本发明的人造指甲组合物中的各成分的配合量并没有特别限定，以质量比计，优选在成分A及成分C/成分B及其他聚合物/成分D/其他成分＝0～70/10～90/0～25/0～20的范围内。若在上述范围内，则涂布性更加优异，并且，所得到的人造指甲的去除性及光泽更加优异。
当将本发明的人造指甲组合物用作指甲油用人造指甲组合物时，人造指甲组合物优选至少含有成分B及成分E，除此以外，还可以任意配合成分B以外的聚合物、一般能够在人造指甲组合物中配合的其他添加成分。
并且，当将本发明的人造指甲组合物用作光固化性人造指甲组合物(凝胶美甲用人造指甲组合物)时，人造指甲组合物优选至少含有成分A和成分D、或者含有成分B、成分A和/或成分C、以及成分D。并且，当含有成分A和成分D时，优选含有成分B和/或成分B以外的聚合物。并且，除上述成分以外，还可以任意配合成分E、一般能够在人造指甲组合物中配合的其他添加成分。
本发明的人造指甲组合物的酸值优选为0.5mmol/g～7.0mmol/g，更优选为0.75mmol/g～6.5mmol/g，进一步优选为1.0mmol/g～6.0mmol/g。若人造指甲组合物的酸值在上述范围内，则去除性及持续性变良好。
优选适当地调整成分A和/或成分B的含量等，以使酸值在上述范围内。
(人造指甲)
本发明的人造指甲为具有由本发明的人造指甲组合物形成的层的人造指甲，优选为具有将本发明的人造指甲组合物进行干燥和/或曝光而形成的层的人造指甲。
本发明的人造指甲适合作为修整指甲、修整脚趾甲等指甲油、或凝胶美甲。
本发明的人造指甲只要至少一部分由本发明的人造指甲组合物形成即可，可以具有其他层或结构，也可以是人造指甲整体由本发明的人造指甲组合物形成。
由本发明的人造指甲组合物形成的层可以适合使用于本发明的人造指甲中的底漆层、基底层、彩色层、和/或顶层中的任意一个。
并且，本发明的人造指甲可以仅具有1层由本发明的人造指甲组合物形成的层，也可以具有2层以上。
其中，从去除性的观点考虑，由本发明的人造指甲组合物形成的至少1层优选为与指甲接触的层。
本发明中，在使用光固化性的人造指甲组合物形成人造指甲时，首先，在指甲上(人或动物的指甲上或者支撑体上)涂布本发明的人造指甲组合物之后，照射紫外线，使本发明的人造指甲组合物光固化，由此能够形成人造指甲。
优选能够通过如下形成人造指甲：首先，在指甲上涂布本发明的人造指甲组合物之后，照射紫外线，使本发明的人造指甲组合物光固化来形成基底层，其后，通过涂布含有着色剂的公知的人造指甲组合物或含有着色剂的本发明的人造指甲组合物并进行光固化来形成彩色层，最后，通过涂布公知的人造指甲组合物或本发明的人造指甲组合物来形成顶层。
在图1中示出本发明中更优选的人造指甲的结构。
本发明中，更优选能够通过如下形成人造指甲：首先，在指甲1上涂布本发明的人造指甲组合物之后，照射紫外线，使本发明的人造指甲组合物光固化来形成基底层2，其后，通过涂布含有着色剂的公知的人造指甲组合物并进行光固化来形成彩色层3，最后，通过涂布公知的人造指甲组合物来形成顶层4。通过如此形成，能够提高人造指甲的稳定性。并且，更优选能够通过如下形成人造指甲：在指甲1上涂布本发明的人造指甲组合物之后，照射紫外线，使本发明的人造指甲组合物光固化来形成基底层2，其后，通过涂布含有着色剂的本发明的人造指甲组合物并进行光固化来形成彩色层3，最后，通过涂布本发明的人造指甲组合物来形成顶层4。通过如此形成，能够进一步提高人造指甲的去除性。
并且，本发明的人造指甲中的由本发明的人造指甲组合物形成的层的厚度并没有特别限制，优选为10～2,000μm，更优选为20～1,500μm，进一步优选为20～400μm。
(人造指甲的形成方法)
本发明的人造指甲的形成方法只要是使用本发明的人造指甲组合物来形成人造指甲的方法，则并没有特别限制，优选为包含以下工序的方法：将本发明的人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于其他人造指甲上来形成涂布膜的工序；及将上述涂布膜进行干燥和/或曝光来形成人造指甲的工序。
欲将本发明的人造指甲组合物形成为人造指甲，可以适当地选择干燥或曝光中的任意一种形成方法。
当含有成分A时，本发明的人造指甲组合物优选含有成分B和/或成分B以外的聚合物、以及(成分D)光聚合引发剂，可以任意含有(成分E)溶剂。
并且，当本发明的人工组合物含有成分B时，优选至少含有成分A和/或成分C、以及成分D、或者至少含有成分E。
并且，本发明的人造指甲的形成方法中的由本发明的人造指甲组合物形成的层的厚度并没有特别限制，优选为10～2,000μm，更优选为20～1,500μm，进一步优选为20～400μm。
＜涂布工序＞
本发明的人造指甲的形成方法优选包含将本发明的人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于其他人造指甲上来形成涂布膜的工序(涂布工序)。
其他人造指甲只要是用于人造指甲的基材即可，并没有特别限制，例如可以举出树脂基材、通过本发明的人造指甲的形成方法以外的方法而形成的人造指甲、或通过本发明的人造指甲的形成方法而得到的人造指甲。
作为涂布方法并没有特别限制，只要通过公知的方法进行即可，可以优选举出使用毛刷或刷具等进行涂布的方法。并且，还可以进行喷射涂布或喷墨涂布。
对于涂布膜的厚度，也并没有特别限制，考虑所得到的人造指甲的所希望的厚度来适当地调整涂布厚度即可。
＜干燥或曝光工序＞
本发明的人造指甲的形成方法优选包含将上述涂布膜进行干燥和/或曝光来形成人造指甲的工序(干燥或曝光工序)。
-干燥工序-
当通过干燥来形成人造指甲时，所使用的本发明的人造指甲组合物优选含有(成分E)溶剂。
作为干燥方法并没有特别限制，通过公知的方法进行即可。
具体而言，例如可以优选举出在室温(例如，10～30℃)下放置干燥的方法、在气流下放置干燥的方法、加热干燥的方法、以及将这些组合的方法。作为加热方法并没有特别限制，可以例示出在高于室温的温度的气氛下放置的方法、在加热气流下放置的方法、通过加热器或红外线灯(IR灯)等加热机构进行加热的方法。
作为干燥时间并没有特别限制，根据人造指甲组合物的组成或干燥方法、涂布厚度适当地调整即可，从简便性及基于自流平的平滑性和赋予光泽性的观点考虑，优选为10秒～20分钟，更优选为15秒～10分钟，进一步优选为30秒～5分钟，尤其优选为30秒～2分钟。
-曝光工序-
当通过曝光来形成人造指甲时，所使用的本发明的人造指甲组合物优选含有(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或(成分C)其他聚合性化合物、以及(成分D)光聚合引发剂。
并且，当本发明的人造指甲组合物中除了这些成分以外还含有(成分E)溶剂时，优选在进行曝光之前进行干燥。
作为曝光中所使用的光，可以举出紫外线、可见光线等，从固化灵敏度及装置的获得容易性的观点考虑，尤其优选紫外线。
作为曝光机构并没有特别限制，可以使用公知的曝光机构，例如可以举出汞灯及金属卤化物灯等紫外线灯(UV灯)、发光二极管(LED)、激光二极管(LD)等。
其中，优选UV灯或紫外线发光二极管(UV-LED)。
作为曝光时间并没有特别限制，优选为0.5～15分钟，更优选为0.5～10分钟，进一步优选为0.5～7分钟。并且，曝光可以间歇进行，也可以连续进行，还可以通过脉冲光来进行，通过任意方法曝光即可。
从所得到的人造指甲的光泽或美观、以及已进行曝光时去除未固化成分的观点考虑，本发明的人造指甲的形成方法优选在干燥或曝光工序之后还包含清洗或擦拭所得到的人造指甲的表面的工序。
作为清洗或擦拭方法，可以例示出通过含有乙醇等溶剂的擦拭片或海绵擦等擦拭基材进行擦拭的方法、利用乙醇等溶剂或水进行清洗的方法。
并且，作为清洗或擦拭中所使用的溶剂，优选为不溶解所得到的人造指甲的溶剂。
并且，当进行曝光时，本发明的人造指甲的形成方法优选在涂布工序之前包含将人或动物的指甲或其他人造指甲的表面进行粗糙化的工序。若为上述方式，则曝光而得到的人造指甲(凝胶美甲)的粘附性及耐久性优异。
作为指甲表面的粗糙化方法并没有特别限制，能够通过公知的方法来进行。例如，可以优选举出利用锉刀等指甲用锉具进行粗糙化的方法。
并且，本发明的人造指甲的形成方法还可以包含除此以外的公知的工序。
(人造指甲的去除方法)
本发明的人造指甲的去除方法包含使本发明的人造指甲与去除液接触来进行去除的工序(去除工序)。
上述去除液为pH8以上且11以下的水溶液。
本发明的人造指甲组合物即使利用作为现有的去除液的丙酮等有机溶剂也能够去除，但利用pH8以上且11以下的水溶液，能够更加安全地、不对皮肤、指甲带来负担而进行去除。本发明中适合使用的去除液优选由用于使其成碱性的有机、无机酸成分、水、任意的稳定剂、任意的表面活性剂构成。以下，对优选的去除液的方式进行记载。
本发明中，去除液只要pH8以上且11以下，则即使是任何组成的水溶液，都可以适合使用，优选将用于将去除液的pH保持为8～11的碱剂(也称为pH缓冲剂。)作为必须成分而含有且含有用于提高去除性的表面活性剂。
＜碱剂(pH缓冲剂)＞
作为用于将去除液的pH保持为8～11的碱剂(pH缓冲剂)，可以使用公知的任何化合物，优选碳酸盐(碳酸钠、碳酸钾等)、碳酸氢盐(碳酸氢钠、碳酸氢钾等)、氢氧化物盐(氢氧化钠、氢氧化钾等)、磷酸盐(磷酸三钠等)、硼酸盐(硼酸钾等)、有机胺化合物(三乙胺、三乙醇胺等)，尤其优选碳酸盐、碳酸氢盐。并且，这些碱剂可以混合使用，尤其优选同时使用碳酸盐和碳酸氢盐。
本发明中所使用的去除液中的碱剂的含有率相对于去除液的质量优选为1～20质量％，更优选为3～15质量％，尤其优选为4～12质量％。若总量为1质量％以上，则去除性不会下降，若为20质量％以下，则不易生成碱剂等的沉淀或晶体。
＜表面活性剂＞
作为表面活性剂，可以使用阴离子性表面活性剂、阳离子性表面活性剂、中性表面活性剂、两性表面活性剂等公知的表面活性剂。
作为阴离子系表面活性剂，可以举出羧酸盐类(例子：亚油酸钠、油酸钾等)、磺酸盐类(例子：烷烃磺酸盐类、二烷基磺基琥珀酸盐类、直链烷基苯磺酸盐类、烷基萘磺酸盐类等)、硫酸单酯盐类(例子：烷基硫酸酯盐类等)、磷酸酯盐类(例子：烷基磷酸酯盐类等)等。在这些之中，优选使用磺酸盐类、羧酸盐类，更优选使用磺酸盐类，尤其优选使用二烷基磺基琥珀酸盐类、烷基硫酸酯盐类、烷基苯磺酸盐类及烷基萘磺酸盐类。
作为阳离子系表面活性剂并没有特别限定，可以使用以往公知的阳离子系表面活性剂。例如，可以举出烷基胺盐类、季铵盐类、聚氧乙烯烷基胺盐类、聚乙烯聚胺衍生物。
作为非离子系表面活性剂，可以举出聚乙二醇型的高级醇环氧乙烷加成物、烷基酚环氧乙烷加成物、脂肪酸环氧乙烷加成物、多元醇脂肪酸酯环氧乙烷加成物、高级烷基胺环氧乙烷加成物、脂肪酸酰胺环氧乙烷加成物、油脂的环氧乙烷加成物、聚丙二醇环氧乙烷加成物、二甲基硅氧烷-环氧乙烷嵌段共聚物、二甲基硅氧烷-(环氧丙烷-环氧乙烷)嵌段共聚物等、以及多元醇型的甘油的脂肪酸酯、季戊四醇的脂肪酸酯、山梨糖醇及脱水山梨糖醇的脂肪酸酯、蔗糖的脂肪酸酯、多元醇的烷基醚、烷醇胺类的脂肪酸酰胺等。
本发明中，更优选山梨糖醇和/或脱水山梨糖醇脂肪酸酯的环氧乙烷加成物、聚丙二醇环氧乙烷加成物、二甲基硅氧烷-环氧乙烷嵌段共聚物、二甲基硅氧烷-(环氧丙烷-环氧乙烷)嵌段共聚物、多元醇的脂肪酸酯。
并且，从相对于水稳定的溶解性或浑浊性的观点考虑，作为非离子系表面活性剂，HLB(Hydorophile-Lipophile Balance)值优选为6以上，更优选为8以上。并且，还同样可以使用炔二醇系与炔醇系的氧乙烯加成物、氟系、硅系等表面活性剂。
如在表面活性剂领域中充分已知，两性表面活性剂为在同一分子内具有阴离子性部位和阳离子性部位的化合物，包括氨基酸系、甜菜碱系、氧化胺系等两性表面活性剂。作为本发明中所使用的用于去除液的两性表面活性剂，优选下述式＜1＞所示的化合物及下述式＜2＞所示的化合物。
[化学式12]
式＜1＞中，R8表示烷基，R9及R10分别表示氢原子或烷基，R11表示亚烷基，A表示羧酸离子或磺酸离子。
式＜2＞中，R18、R19及R20分别表示氢原子或烷基。其中，R18、R19及R20不全都是氢原子。
上述式＜1＞中，R8、R9或R10所示的烷基及R11所示的亚烷基可以是直链，也可以是支链，并且，在链中可以具有连接基团，还可以具有取代基。作为连接基团，优选酯键、酰胺键、醚键等含有杂原子的连接基团。并且，作为取代基，优选羟基、碳原子数1～8的烷氧基、苯基、酰胺基、卤原子等。并且，R8、R9或R10可以相互连接为环状。作为连接为环状的形态，优选形成5元环或6元环，尤其优选环为含有杂原子的杂环。作为杂原子，优选氧原子、氮原子、硫原子。尤其优选为取代咪唑环、取代咪唑啉环、取代咪唑烷等阳离子结构。
在式＜1＞所示的化合物中，若总碳原子数值增大，则疏水部分变大，难以溶解于水系去除液中。此时，通过添加有机溶剂例如醇等溶解助剂来变良好，但当总碳原子数值过大时，有时无法在适当的混合范围内溶解表面活性剂。因此，R8～R11的碳原子数的总和优选为8～25，更优选为11～21。
在上述式＜2＞中，R18、R19或R20所示的烷基可以是直链，也可以是支链，并且，可以在链中具有连接基团，还可以具有取代基。作为连接基团，优选酯键、酰胺键、醚键等含有杂原子的连接基团。并且，作为取代基，优选为羟基、碳原子数1～8的烷氧基、苯基、酰胺基、卤原子等。
在式＜2＞所示的化合物中，若总碳原子数值增大，则疏水部分变大，难以溶解于水系去除液中。此时，通过添加有机溶剂例如醇等溶解助剂来变良好，但当总碳原子数值过大时，有时无法在适当的混合范围内溶解表面活性剂。因此，R18～R20的碳原子数的总和优选为8～22，更优选为10～20。
这些表面活性剂可以根据人造指甲组合物中所使用的材料而适当地进行选择，优选阴离子性表面活性剂、非离子性表面活性剂、两性表面活性剂，尤其优选阴离子性表面活性剂、两性表面活性剂。并且，还可以同时使用2种以上的表面活性剂，当同时使用时，优选阴离子性表面活性剂彼此、两性表面活性剂彼此、阴离子性表面活性剂和非离子性表面活性剂、两性表面活性剂和非离子性表面活性剂的组合。
表面活性剂在去除液中的含量优选为0.01～10质量％，更优选为0.02～9质量％。
＜其他成分＞
本发明中所使用的去除液中，除了碱剂、表面活性剂以外，还可以含有润湿剂、防腐剂、螯合物、消泡剂、有机酸、有机溶剂、无机酸、无机盐、水溶性高分子化合物、香料等。
作为润湿剂，可以适当地使用乙二醇、丙二醇、三甘醇、丁二醇、己二醇、二甘醇、二丙二醇、甘油、三羟甲基丙烷、二甘油等。润湿剂可以单独使用，也可以同时使用2种以上。基于去除液的总质量，一般以0～5质量％的量使用润湿剂。
作为防腐剂，可以优选使用苯酚或其衍生物、福尔马林、咪唑衍生物、脱氢乙酸钠、4-异噻唑啉-3-酮衍生物、苯并异噻唑啉-3-酮、2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮、苯并三唑衍生物、脒胍衍生物、季铵盐类、吡啶、喹啉、胍等衍生物、二嗪、三唑衍生物、噁唑、噁嗪衍生物、硝基溴醇系的2-溴-2-硝基丙烷-1,3-二醇、1,1-二溴-1-硝基-2-乙醇、1,1-二溴-1-硝基-2-丙醇等。为了对各种霉、杀菌有效，优选同时使用2种以上的防腐剂。防腐剂的添加量为对细菌、霉、酵母等发挥稳定效能的量，根据细菌、霉、酵母的种类而不同，相对于去除液优选为0～4质量％的范围。
作为螯合物，例如可以举出乙二胺四乙酸、其钾盐、其钠盐；二亚乙基三胺五乙酸、其钾盐、其钠盐；三亚乙基四胺六乙酸、其钾盐、其钠盐、羟乙基乙二胺三乙酸、其钾盐、其钠盐；次氮基三乙酸、其钾盐、其钠盐；1-羟基乙烷-1,1-二膦酸、其钾盐、其钠盐；氨基三(亚甲基膦酸)、其钾盐、其钠盐等有机膦酸类或膦酰基烷烃三羧酸类。代替上述螯合剂的钠盐、钾盐，有机胺的盐也有效。添加量相对于去除液优选为0～1.0质量％。
作为消泡剂，可以使用一般的硅酮系的自乳化型、乳化型、非离子系的HLB值为5以下等的化合物。在这些之中，优选硅酮消泡剂，乳化分散型及可溶化型等均可以使用。消泡剂的含量相对于去除液优选0～1.0质量％的范围。
作为有机酸，可以举出柠檬酸、乙酸、草酸、丙二酸、水杨酸、辛酸、酒石酸、苹果酸、乳酸、乙酰丙酸、对甲苯磺酸、二甲苯磺酸、植酸、有机膦酸等。有机酸也可以以其碱金属盐或铵盐的形式使用。有机酸的含量相对于处理液优选为0～0.5质量％。
作为有机溶剂，例如可以举出脂肪族烃类(己烷、庚烷、“Isopar E、H、G”(EssoChemical Co.,Ltd.制)、汽油、煤油等)、芳香族烃类(甲苯、二甲苯等)、卤化烃(二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烯、单氯苯等)、或极性溶剂。
作为极性溶剂，可以举出醇类(甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚等)、酮类(丙酮、甲乙酮等)、酯类(乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等)、其他(磷酸三乙酯、磷酸三甲苯酯、N-苯基乙醇胺、N-苯基二乙醇胺等)等。
并且，当上述有机溶剂不溶于水时，还可以使用表面活性剂等可溶化于水中而使用。本发明中，优选去除液将水作为主成分而具有，当去除液含有有机溶剂时，从安全性、可燃性的观点考虑，溶剂的浓度优选小于40质量％。
作为无机酸及无机盐，可以举出磷酸、偏磷酸、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、磷酸二氢钠、磷酸氢二钠、磷酸二氢钾、磷酸氢二钾、三聚磷酸钠、焦磷酸钾、六偏磷酸钠、硝酸镁、硝酸钠、硝酸钾、硝酸铵、硫酸钠、硫酸钾、硫酸铵、亚硫酸钠、亚硫酸铵、硫酸氢钠、硫酸镍等。无机盐的含量基于去除液的总质量优选为0～0.5质量％的量。
作为水溶性高分子化合物，可以举出大豆多糖类、改性淀粉、阿拉伯树胶、糊精、纤维素衍生物(例如羧甲基纤维素、羧乙基纤维素、甲基纤维素等)及其改性体、普鲁兰多糖、聚乙烯醇及其衍生物、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酰胺及丙烯酰胺共聚物、乙烯基甲醚/马来酸酐共聚物、乙酸乙烯/马来酸酐共聚物、苯乙烯/马来酸酐共聚物等。水溶性高分子化合物的优选的酸值为0～3.0meq/g。水溶性高分子化合物也可以同时使用2种以上。水溶性高分子化合物在去除液中的含量优选为0～20质量％，更优选为0.1～10质量％。
作为香料，可以适当地选择使用公知的香料，也可以单独使用1种香料，还可以组合使用多种香料。香料优选根据去除液中所使用的化合物或溶剂适当地进行选择，优选将公知的香料进行组合而使其最优化。并且，作为香料，可以使用天然香料、合成香料中的任意一种。作为本发明中所使用的香料，可以适当地使用日本专利公开2009-298109号公报中所记载的香料。香料在去除液中的含量优选为0～20质量％，尤其优选为0.02～10质量％。
＜水及pH＞
上述去除液中所使用的水并没有特别限制，可以使用自来水、蒸馏水、离子交换水等。
去除液中的水的含量并没有特别限制，相对于去除液的总质量优选为50～99.5质量％，更优选为70～99质量％，进一步优选为90～99质量％。
从将本发明的人造指甲中所含的成分A及成分B所具有的酸基离子化的能力、即去除性的观点考虑，去除液的pH优选为8以上，从对肌肤等的影响的观点考虑，优选为11以下。去除液的pH优选为8.5～10.9，更优选为8.7～10.8，进一步优选为9～10.7。
从加快去除速度的观点考虑，优选加温至不损害安全性的程度来使用去除液。加温优选为30℃～45℃，更优选为35℃～45℃，尤其优选为40℃～45℃。并且，当将人造指甲浸渍于去除液中时，可以搅拌浸渍液。
本发明的人造指甲能够通过与代替现有的丙酮等有机溶剂的pH8～11的水溶液接触来简便地进行去除。
接触方法并没有特别限定，可以举出将人造指甲直接浸渍于去除液中的方法、将含浸有去除液的棉等载置放置于人造指甲上的方法、将去除液滴加在人造指甲上或通过喷雾器或淋浴器等喷吹的方法。但是，并不限定于这些例示。
以下示出去除方法的具体例。即，利用锉刀(指甲用锉具)，将人造指甲表面揉搓而在人造指甲表面上粗糙地形成划痕之后，将浸泡于去除液中的棉载置于上述人造指甲上，将其用铝箔等缠绕，维持原状地放置3～5分钟左右，使人造指甲溶胀之后，通过使用刮刀状或棒状器具等，不会对指尖或指甲施加负担而能够将该溶胀的人造指甲极其轻松且安全地剥去。并且，由于不使用有机溶剂，所以从环境保护方面考虑也优选。
另外，在上述方法中，即使不进行将浸泡于去除液中的棉用铝箔缠绕的作业，仅通过延长载置棉之后的放置时间，也可以得到与上述相同的去除效果。
并且，代替使用棉，在去除液(pH8～11的水溶液)中浸泡3～5分钟左右指尖(已形成人造指甲)，由此能够使人造指甲溶胀，且在去除液中利用刷子或手等擦去，由此能够简便地进行去除。
接触时间并没有特别限制，只要是能够去除人造指甲的时间长度即可，优选为0.5～10分钟，更优选为1～5分钟。
并且，本发明的人造指甲的去除方法优选包含将人造指甲表面以使由本发明的人造指甲组合物形成的层的一部分在表层上露出的方式划痕的工序。
作为划痕的方法并没有特别限制，可以适当地使用锉刀等指甲用锉具。
本发明的去除方法中，去除液(pH8～11的水溶液)的温度优选为10℃～50℃，优选为20℃～45℃，尤其优选为30℃～45℃。通过设为上述温度，去除性得到提高。
以下示出去除方法的优选的具体例。即，利用指甲用锉具，将人造指甲表面任意擦去而粗糙地划痕成使由本发明的人造指甲组合物形成的层的一部分在表层上露出的程度之后，浸渍于去除液(pH8～11的水溶液)中，维持原状地放置1～5分钟，使人造指甲的溶解性发生变化之后，通过利用布或不织布等擦拭人造指甲或者通过使用刮刀状或棒状的器具的按压剥离，不会对指尖或指甲施加负担而能够极其轻松且安全地剥去。
另外，上述方法中，也可以一边浸渍一边进行擦拭、按压剥离，能够更快进行去除。并且，也能够通过赋予超声波或振动等来促进擦拭或剥离。
并且，本发明的人造指甲的去除方法还可以包含其他公知的工序。
(美甲试剂盒)
本发明的美甲试剂盒包含本发明的人造指甲组合物和去除液，上述去除液为pH8～11的水溶液。
本发明的美甲试剂盒中的本发明的人造指甲组合物及去除液的优选方式与上述方式相同。
并且，本发明的美甲试剂盒中，除了上述人造指甲组合物及去除液以外，还可以包含任意产品。
例如，可以举出彩色层用或顶层用等的本发明的人造指甲组合物以外的人造指甲组合物、锉刀等指甲用锉具、用于涂布人造指甲组合物的平头刷等刷具或毛刷、UV灯等曝光装置、擦拭或清洗用液体、擦拭用刷子、美甲刷、尘刷、延长指甲的长度时使用的指甲托、丙烯酸制、玻璃制、金属制或天然石制等的装饰用石材、美甲贴纸、亮片或全息图等装饰用粉末、刀具、刮刀、木棒、为了防止指甲彼此的接触而扩大手指间间隔的分隔器等，但并不限制于这些。
实施例
以下，通过实施例对本发明进行更具体的说明，但本发明并不限定于这些实施例中的方式。另外，除非另有说明，则“份”及“％”为质量基准。
(实施例1～7、比较例1)
将下述表1所示的各种成分均匀地混合，得到人造指甲组合物(试样1～8)。另外，表中的数字表示所添加的质量份，“-”表示不含有相应的成分。
[化学式13]
表1中的聚氨酯甲基丙烯酸酯1利用以下方法得到。
通过使甲基丙烯酸2-羟基乙酯：2.6份、异佛尔酮二异氰酸酯：111.1份、1,4-二羟基丁烷：44.2份进行反应而得到的聚氨酯甲基丙烯酸酯1(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2万，酸值：0mmol/g，C＝C价：0.12mmol/g)
使用刷具，将所得到的各组合物(试样1～8)0.25g涂布于以指甲状成形的塑料制基材上，并照射2分钟BEAUTY NAILER CO.,LTD制UV灯(36W)。其后，用乙醇清洗表面之后，目视观察组合物(涂膜)的结果，已完全凝固(固化)，且有光泽(膜厚：110μm)。
利用锉刀(指甲用的锉具)，在该光固化的试样1～8的各组合物(光固化膜)的表面划痕，通过改变时间来浸渍(接触)于下述所示的去除液1(液温40℃)。接着，对于取出的各试样(固化膜)，使用棒状器具从基材进行按压剥离来进行去除。此时，利用去除所需的浸渍(接触)时间对去除性进行评价。将结果示于表2。
去除液1的组成(pH＝9.9)
·水：9379.8份
·碳酸钠：130.0份
·碳酸氢钠：70.0份
·New call B13：500.0份
·磷酸二氢铵：20.0份
·2-溴-2-硝基丙烷-1,3-二醇：0.1份
·2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮：0.1份
另外，所使用的New call B13为聚氧化烯芳基醚(Nippon Nyukazai Co,Ltd.制)。
[表2]
由表2的结果明确可知，未配合具有酸基的单体的试样8无法在pH8～11的水溶液中15分钟以内去除，相对于此，配合了具有酸基的单体的试样1～7能够使用本发明范围内的pH8～11的水溶液在短时间内去除。
(实施例8～14、比较例2)
将下述表3所示的各种成分均匀地混合，得到人造指甲组合物(试样9～16)。另外，表中的数字表示所添加的质量份，“-”表示不含有相应的成分。并且，所使用的聚合物的共聚比为摩尔比。
[表3]
配合材料 试样9 试样10 试样11 试样12 试样13 试样14 试样15 试样16
聚合物1(Mw：2.1万) 50 - - - - - - -
聚合物2(Mw：2.0万) - 50 - - - - - -
聚合物3(Mw：1.6万) - - 50 - - - - -
聚合物4(Mw：1.7万) - - - 50 - - - -
聚合物5(Mw：2.0万) - - - - 50 - - -
聚合物6(Mw：1.7万) - - - - - 50 - -
聚合物7(Mw：2.2万) - - - - - - 50 -
聚合物8(Mw：1.9万) - - - - - - - 50
甲基丙烯酸2-羟基乙酯 39 39 39 39 39 39 39 39
1-羟基环己基苯基甲酮 1 1 1 1 1 1 1 1
甲乙酮 10 10 10 10 10 10 10 10
[化学式14]
使用刷具，将所得到的各组合物(试样9～16)0.25g涂布于以指甲状成形的塑料制基材上，并照射2分钟BEAUTY NAILER CO.,LTD制UV灯(36W)。其后，用乙醇清洗表面之后，目视观察组合物(涂膜)的结果，已完全凝固(固化)，且有光泽(膜厚115μm)。
利用锉刀(指甲用的锉具)，在该光固化的试样9～16的各组合物(光固化膜)的表面划痕，通过改变时间来浸渍(接触)于下述所示的去除液2(液温40℃)。接着，对于取出的各试样(固化膜)，使用棒状器具从基材进行按压剥离来进行去除。此时，利用去除所需的浸渍(接触)时间对去除性进行评价。将结果示于表4。
去除液2的组成(pH＝9.4)
·水：8349.8份
·碳酸钠：60.0份
·碳酸氢钠：240.0份
·Pionin B111：400.0份
·甲基纤维素：950.0份
·2-溴-2-硝基丙烷-1,3-二醇：0.1份
·2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮：0.1份
上述Pionin B111及甲基纤维素为如下。
·Pionin B111：月桂基三甲基氯化铵(TAKEMOTO OIL&FAT Co.,Ltd.制)
·甲基纤维素：甲基纤维素(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制)
[表4]
由表4的结果明确可知，未配合具有酸基的试样16无法在pH8～11的水溶液中20分钟以内去除，相对于此，配合了具有酸基的聚合物的试样9～15能够使用本发明范围内的pH8～11的水溶液在短时间内去除。
(实施例15～24、比较例3)
将该下述表5所示的各种成分均匀地混合，得到人造指甲组合物(试样17～27)。另外，表中的数字表示所添加的质量份，“-”表示不含有相应的成分。
[表5]
所使用的聚氨酯-1～聚氨酯-11为如下。
＜聚氨酯-1＞
通过使异丙醇：1.20份、甲苯二异氰酸酯：144.55份及2,2-二羟甲基丙酸：109.99份进行反应而得到的聚氨酯(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2.7万，酸值：3.2mmol/g)
＜聚氨酯-2＞
通过使异丙醇：1.20份、甲苯二异氰酸酯：134.10份及下述结构的化合物A：124.01份进行反应而得到的聚氨酯(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2.6万，酸值：2.9mmol/g)
＜聚氨酯-3＞
通过使异丙醇：1.20份、甲苯二异氰酸酯：134.10份及下述结构的化合物B：134.67份进行反应而得到的聚氨酯(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2.6万，酸值：2.8mmol/g)
＜聚氨酯-4＞
通过使异丙醇：1.20份、甲苯二异氰酸酯：123.65份及下述结构的化合物C：143.65份进行反应而得到的聚氨酯(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2.7万，酸值：2.6mmol/g)
＜聚氨酯-5＞
通过使异丙醇：1.20份、甲苯二异氰酸酯：134.10份及下述结构的化合物D：153.46部进行反应而得到的聚氨酯(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2.8万，酸值：2.5mmol/g)
＜聚氨酯-6＞
通过使异丙醇：1.20份、甲苯二异氰酸酯：116.69份及下述结构的化合物E：153.95部进行反应而得到的聚氨酯(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2.7万，酸值：2.4mmol/g)
＜聚氨酯-7＞
通过使异丙醇：1.20份、甲苯二异氰酸酯：134.10份及下述结构的化合物F：163.21份进行反应而得到的聚氨酯(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2.8万，酸值：2.3mmol/g)
＜聚氨酯-8＞
通过使异丙醇：1.20份、甲苯二异氰酸酯：174.16份及1,4-丁乙醇：89.22份进行反应而得到的聚氨酯(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2.6万，酸值：0mmol/g)
＜聚氨酯-9＞
通过使异丙醇：1.20份、甲苯二异氰酸酯：134.10份及下述结构的化合物G：126.18份进行反应而得到的聚氨酯(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2.5万，酸值：2.7mmol/g)
＜聚氨酯-10＞
通过使异丙醇：1.20份、甲苯二异氰酸酯：134.10份及下述结构的化合物H：126.83份进行反应而得到的聚氨酯(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2.6万，酸值：2.7mmol/g)
＜聚氨酯-11＞
通过使异丙醇：1.20份、甲苯二异氰酸酯：134.10份及下述结构的化合物I：163.86份进行反应而得到的聚氨酯(利用GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量：2.8万，酸值：2.3mmol/g)
[化学式15]
使用刷具，将所得到的各组合物0.25g涂布于以指甲状成形的塑料制基材上，照射2分钟BEAUTY NAILER CO.,LTD制UV灯(36W)。其后，用乙醇清洗表面之后，目视观察组合物(涂膜)的结果，已完全凝固(固化)，且有光泽(膜厚110μm)。
利用锉刀(指甲用的锉具)，在该光固化的试样17～27的各组合物(光固化膜)的表面划痕，并通过改变时间来浸渍(接触)于下述所示的去除液3(液温40℃)。接着，对于取出的各试样(固化膜)，使用棒状器具从基材进行按压剥离来进行去除。此时，利用去除所需的浸渍(接触)时间对去除性进行评价。将结果示于表6。
去除液3组成(pH＝9.7)
·水：8079.8份
·碳酸钠：120.0份
·碳酸氢钠：80.0份
·W-2：750.0份
·磷酸二氢铵：20.0份
·2-溴-2-硝基丙烷-1,3-二醇：0.1份
·2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮：0.1份
·阿拉伯树胶：250.0份
·羟基烷基化淀粉：700.0份
W-2及羟基烷基化淀粉为如下。
·W-2：下述式所示的两性表面活性剂
·羟基烷基化淀粉：Penon JE66(Nippon Starch Chemical Co.,Ltd.制)
[化学式16]
[表6]
由表6的结果明确可知，未配合具有酸基的聚氨酯的试样24无法在pH8～11的水溶液中20分钟以内去除，相对于此，配合了具有酸基的聚氨酯的试样17～23能够使用本发明范围内的pH8～11的水溶液在短时间内去除。
(实施例25、比较例4及5)
将琥珀酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯：49份、1-羟基环己基苯基甲酮：1份、上述聚氨酯-1：40份及甲乙酮：10份均匀地混合，得到人造指甲组合物(试样28)。
使用制备出的试样，在塑料指甲上形成第1固化层。具体而言，利用指甲锉刀，将整体进行打磨之后，使用平头刷均匀地涂布试样。接着，使用BEAUTY NAILER CO.,LTD制UV灯(36mW)进行60秒钟UV照射(膜厚103μm)。在其上，使用Bio Sculpture Company制BIO S凝胶(商品名)(膜厚115μm)，接着使用ibd company制浸湿去除型透明凝胶(soak off typeclear gel)(商品名)(膜厚110μm)，分别进行4分钟、2分钟紫外线固化，在塑料指甲上形成将本发明的人造指甲组合物使用于基底层的指甲装饰1。
同样地，使用Bio Sculpture Company制CLEAR GEL(商品名)，在塑料指甲上形成第1固化层(膜厚105μm)之后，使用Bio Sculpture Company制BIO S凝胶(商品名)(膜厚113μm)，接着使用ibd company制浸湿去除型透明凝胶(商品名)(膜厚110μm)，分别进行4分钟、2分钟紫外线固化，在塑料指甲上形成将比较用凝胶美甲剂使用于基底层的指甲装饰2。
对于所得到的指甲装饰1、2进行以下评价。将结果示于表7。
＜粘附性评价＞
关于指甲装饰的粘附性，在40℃的温浴中浸渍5分钟已装饰的指甲之后取出，反复进行12次冷却干燥1分钟的循环之后，如以下进行评价。
A：未发生膜的浮起、剥离等
B：观测到膜的浮起，但未发生剥离
C：观测到膜的剥离
＜去除性评价＞
关于指甲装饰的去除性，如以下进行评价。
利用锉刀(指甲用的锉具)，在该光固化的各试样(光固化膜)的表面划痕，并通过改变时间来浸渍(接触)于具有以下组成的去除液4(液温40℃)。接着，对于取出的各试样(固化膜)，使用棒状器具从基材进行按压剥离来进行去除。此时，利用去除所需的浸渍(接触)时间对去除性进行评价。
另一方面，在比较例5中，对于指甲装饰2，还用现有的含有丙酮的棉实施去除性评价。具体而言，用含有丙酮的棉包住指甲装饰2，接着，用铝箔，与含有丙酮的棉一同包住指甲装饰。改变接触时间，取出指甲装饰2，并使用棒状器具从基材进行按压剥离来进行去除。此时，利用去除所需的接触时间对去除性进行评价。
去除液4(pH：9.6)
·水：8,150份
·碳酸钠：160份
·碳酸氢钠：160份
·Pionin C-157-K：500份
·聚乙烯吡咯烷酮：850份
·六偏磷酸钠：180份
上述Pionin C157K为如下。
·Pionin C157K：甜菜碱型表面活性剂，TAKEMOTO OIL&FAT Co.,Ltd.制
[表7]
试样 去除液 粘附性 去除性(分钟)
实施例25 指甲装饰1 去除液4 A 12
比较例4 指甲装饰2 去除液4 A ＞40
比较例5 指甲装饰2 丙酮 A 25
由表7的结果明确可知，将比较用人造指甲组合物使用于基底层的指甲装饰2即使在去除液4中浸渍40分钟也无法去除。并且，使用含有现有的丙酮的棉进行去除时也需要25分钟的接触时间。相对于此，由本发明的配合了具有烯属不饱和基和酸基的化合物的人造指甲组合物形成的指甲装饰1中，判明能够使用去除液4通过12分钟的浸渍来去除。
由此判明，由实施例的组合物形成的第1固化层的粘附性良好，并且去除性优异。
(实施例26)
将该琥珀酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯：49份、1-羟基环己基苯基甲酮：1份、上述聚合物1：40份及甲乙酮：10份均匀地混合，得到人造指甲组合物(试样29)。
使用制备出的试样，在塑料指甲上形成第1固化层。具体而言，利用指甲锉刀，对整体进行打磨之后，使用平头刷均匀地涂布试样。接着，使用BEAUTY NAILER CO.,LTD制UV灯(36mW)进行60秒钟UV照射(膜厚110μm)。在其上，使用Bio Sculpture Company制BIO S凝胶(商品名)(膜厚105μm)，接着使用ibd company制浸湿去除型透明凝胶(商品名)(膜厚110μm)，分别进行4分钟、2分钟紫外线固化，在塑料指甲上形成将本发明的人造指甲组合物使用于基底层的指甲装饰。
对于所得到的指甲装饰进行以下评价。
在40℃的温浴中浸渍5分钟指甲装饰之后取出，反复进行12次冷却干燥1分钟的循环的结果，未发生膜的浮起、剥离。
另一方面，利用锉刀(指甲用的锉具)，在所得到的指甲装饰的表面划痕，并用含有上述去除液4(液温40℃)的棉包住，并通过改变时间来接触。接着，对于取出的试样(固化膜)，使用棒状器具从基材进行按压剥离来进行去除。此时，去除所需的接触时间为10分钟。
利用锉刀(指甲用的锉具)，在所得到的指甲装饰的表面划痕，用喷雾器以1分钟1次的间隔喷涂上述去除液4，进行接触。接着，对于取出的试样(固化膜)，使用棒状器具从基材进行按压剥离来进行去除。此时，去除所需的喷涂次数为10次。
利用锉刀(指甲用的锉具)，在所得到的指甲装饰的表面划痕，并改变浸渍时间，浸渍于上述去除液4中。接着，对于取出的试样(固化膜)，使用棒状器具从基材进行按压剥离来进行去除。此时，去除所需的浸渍时间为10分钟。
由以上结果明确判明，使用本发明的人造指甲组合物的指甲装饰中，能够使用该去除液在10分钟内去除。
由此判明，由实施例的组合物形成的第1固化层的粘附性良好，并且去除性优异。
(实施例27)
将琥珀酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯：49份、1-羟基环己基苯基甲酮：1份、上述聚氨酯7：40部份及甲乙酮：10份均匀地混合，得到凝胶美甲剂(试样30)。
使用制备出的试样，在塑料指甲上形成第1固化层。具体而言，利用指甲锉刀，将整体进行打磨之后，使用平头刷均匀地涂布试样。接着，使用BEAUTY NAILER CO.,LTD制UV灯(36mW)进行60秒钟UV照射(膜厚113μm)。在其上，使用Bio Sculpture Company制BIO S凝胶(商品名)(膜厚115μm)，接着使用ibd company制浸湿去除型透明凝胶(商品名)(膜厚110μm)，如图1所示那样以覆盖基底层的方式涂布，并分别进行4分钟、2分钟紫外线固化，在塑料指甲上形成将本发明的凝胶美甲剂使用于基底层的指甲装饰。
对于所得到的指甲装饰进行以下评价。
在40℃的温浴中浸渍5分钟指甲装饰之后取出，反复进行12次冷却干燥1分钟的循环的的结果，未发生膜的浮起、剥离。
利用锉刀(指甲用的锉具)，在所得到的指甲装饰的表面划痕，并通过改变浸渍时间来浸渍于上述去除液4(液温40℃)中。接着，对于取出的试样(固化膜)，使用棒状器具从基材进行按压剥离来进行去除。此时，去除所需的浸渍时间为5分钟。
由以上结果明确判明，使用本发明的凝胶美甲剂的指甲装饰中，能够使用该去除液在5分钟内去除。
以此明确判明，由实施例的组合物形成的第1固化层的粘附性良好，并且去除性优异。
(实施例28～34)
将下述表8所示的各种成分均匀地混合，得到人造指甲组合物(试样31～33)。另外，表中的数字表示所添加的质量份，“-”表示不含有相应的成分。
[表8]
配合材料 试样31 试样32 试样33
琥珀酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯 49 - 49
甲基丙烯酸2-羟基乙酯 - 49 -
聚合物1 - 40 40
聚合物8 40 - -
1-羟基环己基苯基甲酮 1 1 1
甲乙酮 10 10 10
使用刷具，将所得到的各组合物(试样)0.25g涂布于以指甲状成形的塑料制基材上，并照射2分钟BEAUTY NAILER CO.,LTD制UV灯(36W)。其后，用乙醇清洗表面之后，目视观察组合物(涂膜)的结果，已完全凝固(固化)，且有光泽(膜厚130μm)。
利用锉刀(指甲用的锉具)，在该光固化的试样31～33的各组合物(光固化膜)的表面划痕，并通过改变时间来浸渍(接触)于下述所示的去除液5～11(液温40℃)。接着，对于取出的各试样(固化膜)，使用棒状器具从基材进行按压剥离来进行去除。此时，利用去除所需的浸渍(接触)时间对去除性进行评价。将结果示于表9。
所使用的去除液5～11如下。
＜去除液5＞
将硼酸：6.18g和氢氧化钠：2.00g加入离子交换水：900mL中进行溶解之后将总量设为1,000mL的水溶液(pH＝9.2)。
＜去除液6＞
将单乙醇胺：1.24g和冰醋酸：0.6g加入离子交换水：900mL中进行溶解之后将总量设为1,000mL的水溶液(pH＝9.6)。
＜去除液7＞
将碳酸钠：0.68g和碳酸氢钠：3.68g加入离子交换水：900mL中进行溶解之后将总量设为1,000mL的水溶液(pH＝9.2)。
＜去除液8＞
将碳酸氢钠：2.1g加入离子交换水：900mL中进行溶解之后将总量设为1,000mL的水溶液(pH＝8.0)。
＜去除液9＞
将磷酸二水素钠：0.52g和磷酸氢二钠十二水合物：22.68g加入离子交换水：900mL中进行溶解之后将总量设为1,000mL的水溶液(pH＝8.1)。
＜去除液10＞
将三羟基甲基氨基甲烷：12.1g加入离子交换水：900mL中进行溶解之后使用1M盐酸调整为pH＝10并将总量设为1,000mL的水溶液。
＜去除液11＞
将硼酸：7.73g加入离子交换水：900mL中进行溶解之后使用2M氢氧化钠水溶液调整为pH＝8.3并将总量设为1,000mL的水溶液。
[表9]
(实施例35及36、比较例6及7)
将下述表10所示的各种成分均匀地混合，得到人造指甲组合物(试样34～37)。另外，表中的数字表示所添加的质量份，“-”表示不含有相应的成分。
[表10]
使用刷具，将所得到的各组合物0.25g涂布于以指甲状成形的塑料制基材上，并使用干燥器照射热风进行干燥。目视观察组合物(涂膜)的结果，已完全固化，且有光泽(膜厚200μm)。
利用锉刀(指甲用的锉具)，在该干燥的试样34～37的各组合物(干燥膜)的表面划痕，并通过改变时间来浸渍(接触)于上述去除液3(液温40℃)。此时，利用去除所需的浸渍(接触)时间对去除性进行评价。将结果示于表11。
[表11]
产业上的可利用性
本发明的指甲装饰由于与指甲的粘附性良好，并且能够使用安全的水溶液轻松地进行去除，因此能够使用于以指甲为代表的广泛的装饰对象。
符号说明
1-指甲，2-基底层，3-彩色层、4-顶层。

Claims (16)

1.一种人造指甲的去除方法，其特征在于，包含以下工序：
将人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上、或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的工序；
将所述涂布膜进行曝光而形成人造指甲的工序；及
使所述人造指甲与去除液接触来进行去除的去除工序，
所述人造指甲组合物含有成分B即具有酸基的聚合物、成分D即光聚合引发剂、以及成分A即具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或成分C即不具有酸基的聚合性化合物，
成分B为含有下述式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物或具有下述式(3)所示的单体单元的氨酯系聚合物，
所述去除液为pH8以上且11以下的水溶液，
[化学式1]
式(2)中，R2表示氢原子、甲基或-CH2Y1，Y1表示羟基、卤代基、-OC(＝O)R3或-NR3C(＝O)R4，X1表示-O-或-NR3-，R3、R4表示氢原子、碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基，L1表示2价连接基团，
[化学式3]
式(3)中，L2、L3及L4分别独立地表示2价连接基团，W表示N或CR3，R3表示氢原子或1价基团。
2.根据权利要求1所述的人造指甲的去除方法，其中，所述人造指甲组合物含有成分A。
3.根据权利要求2所述的人造指甲的去除方法，其中，
成分A以下述式(1)表示，
[化学式2]
式(1)中，R1表示氢原子或1价有机基团，X表示单键或2价连接基团，Z表示酸基。
4.根据权利要求3所述的人造指甲的去除方法，其中，
在所述式(1)中，Z为羧酸基。
5.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，
成分B为含有前述式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物。
6.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，
所述去除液含有pH缓冲剂。
7.根据权利要求6所述的人造指甲的去除方法，其中，
所述pH缓冲剂含有选自碳酸盐、碳酸氢盐、磷酸盐、硼酸盐及有机胺化合物中的至少1个。
8.根据权利要求6所述的人造指甲的去除方法，其中，
所述pH缓冲剂含有碳酸盐和碳酸氢盐。
9.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，
所述去除工序为在去除液中浸渍人造指甲来进行去除的工序。
10.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，
所述去除工序为将去除液喷涂于人造指甲来进行去除的工序。
11.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，
所述去除工序为利用含有去除液的棉包住人造指甲来进行去除的工序。
12.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，
将所述人造指甲组合物使用于基层。
13.一种人造指甲组合物，其特征在于，
所述人造指甲组合物含有成分B即具有酸基的聚合物、成分D即光聚合引发剂、以及成分A即具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或成分C即不具有酸基的聚合性化合物，
成分B为含有下述式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物或具有下述式(3)所示的单体单元的的氨酯系聚合物，
[化学式4]
式(2)中，R2表示氢原子、甲基或-CH2Y1，Y1表示羟基、卤代基、-OC(＝O)R3或-NR3C(＝O)R4，X1表示-O-或-NR3-，R3、R4表示氢原子、碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基，L1表示2价连接基团，
[化学式5]
式(3)中，L2、L3及L4分别独立地表示2价连接基团，W表示N或CR3，R3表示氢原子或1价基团。
14.根据权利要求13所述的人造指甲组合物，其中，
成分B为含有上述式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物。
15.一种人造指甲的形成方法，其包含以下工序：
将权利要求13或14所述的人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上、或者涂布于支撑体上来形成涂布膜；及
将所述涂布膜进行曝光来形成人造指甲的工序。
16.一种美甲试剂盒，其特征在于，含有：
人造指甲组合物；及
去除液，
所述人造指甲组合物含有成分B即具有酸基的聚合物、成分D即光聚合引发剂、以及成分A即具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或成分C即不具有酸基的聚合性化合物，
成分B为含有下述式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物或具有下述式(3)所示的单体单元的氨酯系聚合物，
所述去除液为pH8以上且11以下的水溶液，
[化学式6]
式(2)中，R2表示氢原子、甲基或-CH2Y1，Y1表示羟基、卤代基、-OC(＝O)R3或-NR3C(＝O)R4，X1表示-O-或-NR3-，R3、R4表示氢原子、碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基，L1表示2价连接基团，
[化学式7]
式(3)中，L2、L3及L4分别独立地表示2价连接基团，W表示N或CR3，R3表示氢原子或1价基团。
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