WO2014185518A1 - 赤外線遮蔽シート及びその製造方法並びにその用途 - Google Patents

赤外線遮蔽シート及びその製造方法並びにその用途 Download PDF

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WO2014185518A1
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幸広 原
達治 有福
頌子 齋藤
明辰 姜
清柳 典子
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日本化薬株式会社
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    • C08J2367/02Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
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    • C08J2433/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers

Definitions

  • the present invention relates to a new infrared shielding sheet that efficiently absorbs and reflects infrared rays and has excellent transparency and low haze, a method for producing the same, and uses thereof (intermediate film for glass, laminated glass, and window member). Is.
  • Patent Document 1 a high refractive index layer and a low refractive index layer are provided between at least two glass substrates facing each other in order to reflect light having a specific wavelength in the infrared region.
  • an infrared reflective film composed of multilayer films (dielectric multilayer films) laminated alternately and a functionally matched intermediate film in which conductive ultrafine particles that shield infrared rays such as antimony-doped tin oxide are uniformly dispersed ( A highly heat insulating laminated glass laminated with a fine particle film) is disclosed.
  • This highly heat-insulated laminated glass has a problem of manufacturing cost because it is necessary to form a dielectric multilayer film and a fine particle film separately.
  • Patent Document 2 a high refractive index inorganic material layer and a low refractive index inorganic material layer are alternately disposed between a first glass plate and a second glass plate in order to reflect light having a specific wavelength in the infrared region.
  • a laminated glass for a vehicle window is disclosed in which a laminated film (dielectric multilayer film) laminated on and an intermediate film (fine particle film) in which infrared shielding fine particles such as ITO (tin-doped indium oxide) are dispersed and laminated are laminated.
  • This vehicle window laminated glass has a problem of manufacturing cost because it is necessary to form a dielectric multilayer film and a fine particle film separately.
  • Patent Document 3 discloses a heat insulating glass in which transparent conductive layers and high refractive index layers whose refractive index in the infrared region is relatively higher than the refractive index of the transparent conductive layer are alternately laminated on a glass substrate.
  • this insulating glass uses a layer made of only a conductor as a low refractive index layer in the infrared region, it can transmit and receive radio waves such as mobile phone radio waves, TV radio waves, and GPS (global positioning system) radio waves indoors. There is a problem that it cannot be used for a system that requires radio wave transmission performance to be performed outside.
  • this heat insulating glass requires vacuum equipment such as sputtering in order to form a layer made only of a conductor, there is a problem of manufacturing cost.
  • JP 2002-220262 A International Publication No. 2007/020791 Pamphlet JP 2010-202465 A
  • An object of the present invention is to provide a new infrared shielding sheet having greatly improved transparency, radio wave transparency, infrared shielding properties, and manufacturing cost in the visible light region.
  • the inventors of the present application have obtained a laminated film in which a high refractive index resin layer containing fine particles and a low refractive index resin layer containing fine particles are alternately laminated.
  • At least one layer of the low refractive index resin layer has a value obtained by subtracting a refractive index at an arbitrary wavelength of 780 to 2500 nm from a refractive index at a wavelength of 550 nm is 0.1 or more,
  • the refractive index resin layer has a refractive index lower than that of the high refractive index resin layer at an arbitrary wavelength of 550 nm or more and the arbitrary wavelength or less, it has transparency, radio wave transparency, manufacturing cost, infrared
  • the present inventors have found that a new infrared shielding sheet with significantly improved shielding properties can be realized, and have completed the present invention.
  • the infrared shielding sheet of the present invention is an infrared shielding sheet comprising a laminated film in which a high refractive index resin layer containing fine particles and a low refractive index resin layer containing fine particles are alternately laminated,
  • the value obtained by subtracting the refractive index at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm from the refractive index at a wavelength of 550 nm of at least one of the low refractive index resin layers is 0.1 or more
  • the low refractive index resin layer is characterized by exhibiting a refractive index lower than that of the high refractive index resin layer at an arbitrary wavelength of 550 nm or more and the arbitrary wavelength or less.
  • the infrared shielding sheet of the present invention has reflection characteristics in addition to good absorption characteristics for a wide infrared region, is excellent in radio wave transmission, transparency, manufacturing cost, low haze, and has infrared shielding performance. It can be greatly improved effectively.
  • the infrared shielding sheet of the present invention is laid on the window glass of a house or automobile, both the winter heating cost reduction effect and the summer temperature reduction effect of the house or automobile can be improved.
  • the infrared shielding sheet of the present invention is an infrared shielding sheet comprising a laminated film in which a high refractive index resin layer containing fine particles and a low refractive index resin layer containing fine particles are alternately laminated.
  • the value obtained by subtracting the refractive index at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm from the refractive index at a wavelength of 550 nm is 0.1 or more
  • the low refractive index resin layer is an arbitrary wavelength of 550 nm or more and the arbitrary wavelength or less. In this wavelength, the refractive index is lower than that of the high refractive index resin layer.
  • At least one of the low refractive index resin layers has a value obtained by subtracting the refractive index at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm from the refractive index at a wavelength of 550 nm, which is 0.1 or more, Adjacent to at least one low refractive index resin layer at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm while reducing a difference in refractive index between at least one low refractive index resin layer at a wavelength and an adjacent high refractive index resin layer The difference in refractive index with the high refractive index resin layer can be increased.
  • an infrared shielding sheet having both good visible light transmittance and good infrared shielding properties can be realized.
  • the high refractive index layer containing fine particles and the low refractive index layer containing fine particles are both resin layers, they can be easily manufactured by coating or the like, and the manufacturing cost can be reduced. Can be achieved.
  • fine-particles are both resin layers, the infrared rays shielding sheet which has a radio wave transmittance is realizable.
  • “infrared region” refers to a region having a wavelength of 780 nm to 2500 nm.
  • the value obtained by subtracting the refractive index at an arbitrary wavelength from 780 nm to 1500 nm from the refractive index at a wavelength of 550 nm may be 0.1 or more.
  • the high refractive index resin layer has a value obtained by subtracting a refractive index at an arbitrary wavelength of 780 nm to 1500 nm from a refractive index at a wavelength of 550 nm, which is 0.1 or less.
  • the refractive index resin layer may have a value obtained by subtracting the refractive index at an arbitrary wavelength from 780 nm to 1500 nm from the refractive index at a wavelength of 550 nm. Accordingly, the refractive index difference between the low refractive index resin layer and the high refractive index resin layer at an arbitrary wavelength of 780 nm to 1500 nm while reducing the refractive index difference between the low refractive index resin layer and the high refractive index resin layer at a wavelength of 550 nm. The difference can be further increased. As a result, it is possible to realize an infrared shielding sheet having better infrared shielding properties while maintaining good visible light transmittance.
  • the infrared shielding sheet preferably further includes a transparent support, and the laminated film is formed on the transparent support.
  • a high refractive index resin layer 21 containing fine particles and a low refractive index resin layer 22 containing fine particles are alternately arranged on a transparent support 20.
  • the laminated film 23 is laminated.
  • the total number of layers of the high refractive index resin layer 21 and the low refractive index resin layer 22 is an even number (8), and the layer on the end of the laminated film 23 on the transparent support 20 side is low.
  • the total number of layers of the high refractive index resin layer 21 and the low refractive index resin layer 22 is an odd number (for example, 7), and the layer on the transparent support 20 side end in the laminated film 23. May be the high refractive index resin layer 21.
  • the transparent support various resin films, glass and the like can be used.
  • the resin film include polyolefin films such as polyethylene film and polypropylene film; polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as “PET”) film, polybutylene terephthalate film, polyethylene naphthalate (hereinafter abbreviated as “PEN”) film, and the like.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • Polyester film, polycarbonate film, polyvinyl chloride film, cellulose triacetate film, polyamide film, polyimide film, and the like can be used.
  • An infrared shielding sheet comprising a laminated film formed by alternately laminating a high refractive index resin layer and a low refractive index resin layer, the refractive index difference between the two in the infrared region, and the absolute value of the refractive index of the high refractive index resin layer Is important in determining the infrared reflection function. That is, the greater the difference in refractive index and the absolute value of the refractive index, the greater the infrared reflection function.
  • the refractive index difference between at least two adjacent layers is an infrared wavelength reflected by the laminated film (a wavelength arbitrarily set from an infrared region of 780 nm to 2500 nm).
  • it is preferably 0.1 or more, more preferably 0.2 or more, further preferably 0.3 or more, and particularly preferably 0.35 or more.
  • the number of laminated layers is increased to reduce the visible light transmittance in order to obtain a desired infrared reflectance.
  • this is not preferable because the manufacturing cost increases.
  • the infrared region of sunlight that reaches the earth's surface has several energy peaks, and when it is desired to shield the infrared region of sunlight, these energy peaks can be efficiently shielded. It becomes important. Therefore, as a result of intensive studies by the present inventors, the QWOT coefficient at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm of the optical film thickness of at least one of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is set to 1.5 or more. Thus, it was found that the infrared region of sunlight can be effectively blocked.
  • n the refractive index of the high refractive index resin layer or the low refractive index resin layer
  • d the geometric thickness of the high refractive index resin layer or the low refractive index resin layer
  • reflects the laminated film.
  • Infrared wavelength (wavelength arbitrarily set from the infrared region of 780 nm to 2500 nm).
  • the low refractive index resin layer has a lower refractive index than the high refractive index resin layer at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm.
  • the low refractive index resin layer exhibits a lower refractive index than the high refractive index resin layer at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm, and is at least one of the high refractive index resin layers.
  • An infrared shielding sheet having a structure in which the QWOT coefficient of the optical thickness at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm of at least one of the layers and / or the low refractive index resin layer is 1.5 or more is preferable. Thereby, the mountain of energy of the infrared region of sunlight can be reflected effectively, and infrared rays can be shielded more efficiently.
  • the infrared shielding sheet having the above configuration at least one of the high refractive index resin layer or the low refractive index resin layer adjacent to the layer having a QWOT coefficient of the optical thickness at the arbitrary wavelength of 1.5 or more is at the arbitrary wavelength.
  • the QWOT coefficient of the optical thickness is preferably 1 or more.
  • infrared rays in the infrared region shorter than the arbitrary wavelength for example, 780 nm or more and less than 1000 nm
  • the infrared shielding sheet having the above-described configuration includes at least one high refractive index resin layer having a QWOT coefficient of 1 at the optical wavelength, and has a QWOT coefficient of 1 at the optical wavelength.
  • the infrared rays having a wavelength near the arbitrary wavelength can be efficiently shielded.
  • the arbitrary wavelength is preferably an arbitrary wavelength of 780 nm to 1500 nm. Thereby, infrared rays can be shielded more efficiently.
  • the infrared wavelength ⁇ reflected by the laminated film is generally expressed by the following formula: It is given by (1).
  • n H d H + n L d L ⁇ / 2 ...
  • n H and d H represent the refractive index and geometric thickness of the high refractive index resin layer, respectively
  • n L and d L represent the refractive index and geometric thickness of the low refractive index resin layer, respectively.
  • the optical thickness (refractive index n H and geometrical thickness d H and the product) and a low refractive index resin layer optical thickness of (refractive index n L and geometrical thickness d L of the high-refractive index resin layer May be the same so that each is an integer multiple of ⁇ / 4. That is, the optical thickness at an arbitrary wavelength of 780 nm to 1500 nm (for example, the optical thickness at a wavelength of 1200 nm) of each of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer may be 195 nm to 375 nm.
  • an infrared shielding sheet having both a good visible light transmittance and a good infrared shielding property can be realized.
  • the infrared wavelength ⁇ reflected by the laminated film may be 780 nm to 2500 nm, but more preferably 780 nm to 1500 nm.
  • the infrared wavelength ⁇ reflected by the laminated film becomes a wavelength in the visible light region.
  • the infrared wavelength ⁇ reflected by the laminated film exceeds 1500 nm, it is not preferable because there is absorption by fine particles contained in the low refractive index resin layer, and the infrared shielding effect is reduced.
  • the total number of high refractive index resin layers and low refractive index resin layers is preferably 3 or more, and more preferably 4 or more.
  • the total number of layers of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is less than 3, the infrared reflection function is insufficient.
  • the total number of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is 3 or more, the total number of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is 3 to 30. More preferably, it is 3-20, more preferably 3-15.
  • the total number of layers of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is 4 or more, the total number of layers of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is 4 to 30. More preferably, it is 4 to 20, more preferably 4 to 15. If the total number of layers of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer exceeds 30, the manufacturing cost increases, the visible light transmittance decreases, the durability decreases, and the high refractive index resin layer and the low refractive index resin. Since curling of the infrared shielding sheet due to an increase in stress of the multilayer film composed of layers becomes a problem, it is not preferable.
  • the ideal optical performance of the infrared shielding sheet is that it has a high visible light transmittance and a low total solar transmittance, but in general, the two are in a proportional relationship, depending on which performance is important. The performance will be determined.
  • the visible light transmittance of the infrared shielding sheet is preferably 50% or more, and more preferably 70% or more.
  • the total solar transmittance of the infrared shielding sheet is preferably 80% or less, and more preferably 75% or less in order to shield infrared rays more effectively. Furthermore, the haze of the infrared shielding sheet needs to be such that transparency is not impaired, is preferably 8% or less, more preferably 3% or less, and even more preferably 1% or less.
  • the conventional technique uses a high refractive index resin layer.
  • Dielectric fine particles e.g., titanium oxide fine particles
  • dielectric fine particles e.g., silica fine particles
  • the refractive index of the dielectric fine particles is substantially constant from the visible light region to the infrared region
  • the refractive index of the low refractive index resin layer is also substantially constant from the visible light region to the infrared region.
  • the inventors of the present application have obtained a value obtained by subtracting the refractive index at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm (especially an arbitrary wavelength of 780 nm to 1500 nm) in the infrared region from the refractive index at a wavelength of 550 nm in the visible light region.
  • a low-refractive index resin layer containing fine particles that is 0.1 or more was discovered, and the low-refractive index resin layer containing fine particles also has an infrared absorption capability.
  • the refractive index resin layer is a high refractive index resin layer containing fine particles (particularly a high refractive index resin in which a value obtained by subtracting the refractive index at an arbitrary wavelength from 780 nm to 1500 nm from the refractive index at a wavelength of 550 nm is 0.1 or less.
  • Layer for example, a high refractive index resin layer containing dielectric fine particles such as titanium oxide, which is used in the prior art, is more efficient than the prior art. It found that it is possible to shield the light of the line regions.
  • the fine particles contained in the high refractive index resin layer satisfying the above conditions are preferably fine particles that absorb less light in the visible light region and exhibit a high refractive index in the infrared region.
  • Examples of such fine particles include dielectric fine particles made of a dielectric material such as titanium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, niobium oxide, cerium oxide, lead oxide, zinc oxide, and diamond. .
  • dielectric fine particles made of a dielectric material such as titanium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, niobium oxide, cerium oxide, lead oxide, zinc oxide, and diamond. .
  • at least one kind of dielectric fine particles of titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, and diamond is preferable.
  • boride fine particles, nitride fine particles having high refractive index in the infrared region and having infrared absorption ability are also used as electrically conductive metal oxide fine particles.
  • Fine particles can be exemplified.
  • the boride fine particles and nitride fine particles specifically, lanthanum hexaboride fine particles and titanium nitride fine particles are preferable.
  • At least one of the high refractive index resin layers is made of titanium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, niobium oxide, cerium oxide, lead oxide, zinc oxide, diamond, boride, and nitride. It is preferable to include at least one kind of fine particles selected.
  • fine particles showing a high refractive index in the infrared region may be used singly or in combination of two or more types, and furthermore, separate fine particles may be used in each high refractive index resin layer in the laminated film. I do not care.
  • the fine particles contained in at least one low refractive index resin layer have little light absorption in the visible light region, have good light absorption in the infrared region, and have a refractive index contained in the high refractive index resin layer. Those having a relatively lower refractive index than the fine particles are suitable.
  • Examples of such fine particles include electrically conductive metal oxide fine particles having a plasma wavelength in the infrared region. Specific examples of such metal oxide fine particles include fine particles of metal oxides such as tin oxide, indium oxide, zinc oxide, tungsten oxide, chromium oxide, and molybdenum oxide.
  • At least one fine particle selected from the group consisting of at least one of tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and tungsten oxide having low light absorption in the visible light region is preferable, and among these, indium oxide fine particles Is more preferable.
  • the metal oxide fine particles in order to improve the electrical conductivity of these metal oxide fine particles, it is preferable to dope the metal oxide fine particles with a third component (third element; dopant).
  • a third component third element
  • Antimony (Sb), vanadium (V), niobium (Nb), tantalum (Ta), and the like can be cited as dopants doped into tin oxide fine particles.
  • dopants doped into indium oxide fine particles examples thereof include zinc (Zn), aluminum (Al), tin (Sn), antimony, gallium (Ga), germanium (Ge), and the like.
  • Indium (In), tin, antimony, niobium, and the like, and dopants doped into tungsten oxide fine particles include cesium (Cs), rubidium (Rb), potassium (K), thallium (Tl), Indium, barium (Ba), lithium (Li), calcium (Ca), stron Um (Sr), iron (Fe), tin, aluminum, copper (Cu) and the like.
  • the third component is an oxygen defect. That is, these metal oxide fine particles may have oxygen defects.
  • oxygen-deficient tungsten oxide represented by a composition formula such as WO x (however, 2.45 ⁇ x ⁇ 2.999), etc. Particles of tungsten oxide).
  • metal oxide fine particles doped with a third component or having oxygen defects antimony-doped tin oxide (ATO), tin-doped indium oxide (hereinafter abbreviated as “ITO” where appropriate), gallium-doped zinc oxide ( GZO), oxygen-deficient tungsten oxide, and at least one fine particle selected from the group consisting of cesium-doped tungsten oxide is preferred, and tin-doped indium oxide is more preferred.
  • ATO antimony-doped tin oxide
  • ITO tin-doped indium oxide
  • GZO gallium-doped zinc oxide
  • oxygen-deficient tungsten oxide and at least one fine particle selected from the group consisting of cesium-doped tungsten oxide is preferred, and tin-doped indium oxide is more preferred.
  • the metal oxide fine particles preferably have a powder resistance of 100 ⁇ ⁇ cm or less, more preferably 10 ⁇ ⁇ cm or less, more preferably 1 ⁇ ⁇ cm or less when compressed at 60 MPa. preferable.
  • a powder resistance measurement system MCP-PD51 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.
  • MCP-PD51 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.
  • At least one of the low refractive index resin layers is made of non-hollow fine particles (solid fine particles), particularly at least one non-hollow fine particle selected from the group consisting of tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and tungsten oxide.
  • at least one layer of the low refractive index resin layer (which may be the same as or different from the layer containing non-hollow fine particles) contains hollow fine particles, and hollow fine particles having a low refractive index (particularly the non-hollow fine particles). It is more preferable to include hollow fine particles) having a lower refractive index than hollow fine particles.
  • hollow fine particles known hollow fine particles such as hollow silica fine particles and hollow acrylic beads (hollow acrylic resin fine particles) can be used.
  • the non-hollow fine particles are preferably at least one non-hollow fine particle selected from the group consisting of at least one of tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and tungsten oxide.
  • Antimony-doped tin oxide, ITO, gallium-doped zinc oxide More preferred is at least one non-hollow microparticle selected from the group consisting of oxygen-deficient tungsten oxide and cesium-doped tungsten oxide.
  • the porosity of the hollow fine particles is preferably 10% to 90% by volume.
  • the porosity of the hollow fine particles is less than 10% by volume, the effect of reducing the refractive index of the fine particles due to the voids in the hollow fine particles is reduced, and the effect of using the hollow fine particles in the low refractive index resin layer is reduced. Get smaller.
  • the porosity of the hollow fine particles is higher than 90% by volume, the mechanical strength of the hollow fine particles is lowered, and the hollow fine particles cannot be kept in a hollow state, which is not preferable.
  • the proportion of non-hollow fine particles among the fine particles contained in the low refractive index resin layer is: It is preferably 10% by weight to 90% by weight, and more preferably 20% by weight to 90% by weight.
  • the ratio of the non-hollow fine particles is less than 10% by weight, the infrared absorption ability of the non-hollow fine particles is insufficient, which is not preferable.
  • the ratio of non-hollow microparticles is more than 90% by weight, the ratio of hollow microparticles decreases, which is not preferable.
  • At least one of the low refractive index resin layers includes the above-described electrically conductive metal oxide fine particles (hereinafter referred to as “electrically conductive fine particles”) (in particular, tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and oxide). At least one kind of fine particles selected from the group consisting of tungsten), at least one layer of the low refractive index resin layer (which may be the same as or different from the layer containing electrically conductive metal oxide fine particles), Low refractive index dielectric particles can be included.
  • the dielectric fine particles silica fine particles, magnesium fluoride fine particles and the like can be used.
  • hollow dielectric fine particles can also be used as the dielectric fine particles.
  • hollow dielectric fine particles examples include hollow dielectric fine particles such as hollow silica fine particles and hollow acrylic beads.
  • electrically conductive metal oxide fine particles in particular, at least one fine particle selected from the group consisting of tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and tungsten oxide.
  • at least one layer of the low refractive index resin layer (which may be the same as or different from the layer containing electrically conductive metal oxide fine particles) contains silica fine particles, particularly hollow silica fine particles, so that the low refractive index resin Infrared rays can be shielded more effectively by lowering the refractive index of the layer.
  • the proportion of the electrically conductive fine particles in the fine particles contained in the entire low refractive index resin layer Is preferably 10% by weight to 90% by weight, and more preferably 20% by weight to 90% by weight.
  • the ratio of the electrically conductive fine particles is less than 10% by weight, the infrared absorbing ability by the metal oxide is insufficient, which is not preferable.
  • the proportion of electrically conductive fine particles is more than 90% by weight, the proportion of dielectric fine particles (particularly hollow dielectric fine particles) decreases, which is not preferable.
  • the fine particles (electrically conductive fine particles, dielectric fine particles, hollow fine particles, etc.) used for the low refractive index resin layer may be used alone or in combination of two or more.
  • different kinds of fine particles may be contained in another low refractive index resin layer, or different kinds of fine particles may be contained in the same low refractive index resin layer. Good.
  • the fine particles contained in the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer of the infrared shielding sheet of the present invention preferably have an average primary particle diameter or an average dispersed particle diameter of 300 nm or less. More preferably, it is 200 nm.
  • the average primary particle diameter or average dispersed particle diameter of the fine particles is larger than 300 nm, the haze of the infrared shielding sheet is increased, and the visibility through the infrared shielding sheet is deteriorated.
  • “average primary particle size of fine particles” means the average particle size of fine particles before dispersion
  • average dispersed particle size of fine particles means the average particle size of fine particles being dispersed after the dispersion step.
  • the average primary particle diameter is calculated from the specific surface area measured by the BET (Brunauer-Emmett-Teller) method.
  • the particle size distribution measuring device for measuring the average dispersed particle size is not particularly limited, but “Nanotrack UPA-EX150” (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) is preferable.
  • the infrared shielding sheet In order to satisfy the infrared shielding performance, smoothness, low haze, and radio wave permeability of the infrared shielding sheet, it is important to appropriately disperse the fine particles contained in the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer. .
  • a method for dispersing the fine particles a method using a sand mill, attritor, ball mill, homogenizer, roll mill, bead mill or the like is preferable. Among these, a method using a bead mill is particularly preferable.
  • the peripheral speed of the bead mill is preferably 3 m / s to 10 m / s.
  • the peripheral speed of the bead mill is lower than 3 m / s, the fine particles cannot be sufficiently dispersed, and when the peripheral speed of the bead mill is higher than 10 m / s, particularly the fine particles contained in the low refractive index resin layer (particularly electrically conductive fine particles). As a result, the infrared absorption performance is degraded.
  • the appropriate range of dispersion energy varies slightly depending on the apparatus used for dispersion, the resin binder contained in the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer, the fine particle concentration at the time of dispersion, etc., but with a relatively low dispersion energy. It is better to disperse the fine particles. Further, when coarse particles remain after the treatment for dispersing the fine particles, it is preferable to remove the coarse particles by further treatment such as filtration and centrifugation.
  • the high refractive index resin layer and the low high refractive index resin layer are prepared by applying a dispersion liquid in which a resin binder is dissolved in a solvent and fine particles are dispersed on the surface of an object such as a transparent support, and then evaporating the solvent. It can be formed by a method.
  • the solvent used for dispersing the fine particles in the dispersion is not particularly limited, but water, an organic solvent, or a mixture of water and an organic solvent can be used.
  • organic solvent examples include hydrocarbon solvents (toluene, xylene, n-hexane, cyclohexane, n-heptane, etc.), alcohol solvents (methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, t-butanol, benzyl alcohol, etc.) , Ketone solvents (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, acetylacetone, etc.), ester solvents (ethyl acetate, methyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, amyl acetate, etc.), ether solvents (isopropyl ether, 1,4-dioxane, etc.), glycol solvents (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, etc.), glycol ether solvents (methyl cell
  • the solvent used for dispersion is preferably at least one solvent selected from the group consisting of water, ketone solvents, alcohol solvents, amide solvents, and hydrocarbon solvents, and more preferably toluene, methyl ethyl ketone. , Methyl isobutyl ketone, and at least one solvent selected from the group consisting of acetylacetone.
  • a dispersant When dispersing the fine particles in the solvent, a dispersant may be added to the solvent.
  • the dispersant include fatty acid salt (soap), ⁇ -sulfo fatty acid ester salt (MES), alkylbenzene sulfonate (ABS), linear alkylbenzene sulfonate (LAS), alkyl sulfate (AS), and alkyl ether sulfate.
  • Low molecular weight anionic (anionic) compounds such as ester salts (AES) and alkyl sulfate triethanol; fatty acid ethanolamide, polyoxyethylene alkyl ether (AE), polyoxyethylene alkyl phenyl ether (APE), sorbitol, sorbitan, etc.
  • Low molecular weight nonionic compounds such as alkyltrimethylammonium salts, dialkyldimethylammonium chlorides, alkylpyridinium chlorides; alkylcarboxyl betaines, sulfobetaines, lecithins
  • Low molecular amphoteric compounds such as naphthalene sulfonate formalin condensate, polystyrene sulfonate, polyacrylate, copolymer salt of vinyl compound and carboxylic acid monomer, carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, etc.
  • polymer aqueous dispersants include polymer non-aqueous dispersants such as polyacrylic acid partial alkyl esters and polyalkylene polyamines; Polymeric cationic dispersants such as polyethyleneimine and aminoalkyl methacrylate copolymers
  • Polymer non-aqueous dispersants such as polyacrylic acid partial alkyl esters and polyalkylene polyamines
  • Polymeric cationic dispersants such as polyethyleneimine and aminoalkyl methacrylate copolymers
  • the dispersant added to the solvent the following are known as specific product names. That is, as the dispersant, Floren DOPA-15B, Floren DOPA-17 (all of which are manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Solplus AX5, Solplus TX5, Solsperse 9000, Solsperse 12000, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 21000, Solsperse 24000, Sol Sparse 26000, Sol Sparse 27000, Sol Sparse 28000, Sol Sparse 32000, Sol Sparse 35100, Sol Sparse 54000, Sol Six 250 (all of which are manufactured by Nihon Lubrizol Corporation), EFKA4008, EFKA4009, EFKA4010, EFKA4015, EFKA4046, EFKA4046, EFKA4046, EFKA4046 EFKA4080, EFKA746 EFKA4020, EFKA4050, EFKA4055, EFKA4400, EFKA4401,
  • the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer are obtained by dispersing fine particles in a resin binder.
  • the resin binder is not particularly limited as long as it is a resin capable of maintaining the dispersion of fine particles, and examples thereof include thermoplastic resins, thermosetting resins, and photocurable resins.
  • thermoplastic resin examples include high-density polyethylene resin, low-density polyethylene resin (not linear), linear low-density polyethylene resin, ultra-low-density polyethylene resin, polypropylene resin, polybutadiene resin, cyclic olefin resin, and polymethylpentene.
  • polystyrene resin ethylene / vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene vinyl alcohol copolymer resin, ethylene / ethyl acrylate copolymer, acrylonitrile / styrene resin, acrylonitrile / chlorinated polystyrene / styrene copolymer resin, acrylonitrile / Acrylic rubber / styrene copolymer resin, acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer resin, acrylonitrile / EPDM (ethylene / propylene / diene monomer) / styrene copolymer resin, silicone rubber / Acrylonitrile / styrene copolymer resin, cellulose / acetate / butyrate resin, cellulose acetate resin, acrylic resin (methacrylic resin), ethylene / methyl methacrylate copoly
  • thermosetting resin is not particularly limited as long as it is a compound having a functional group curable by heating, and examples thereof include a curable compound having a cyclic ether group such as an epoxy group or an oxetanyl group.
  • the photocurable resin is not particularly limited as long as it is a compound having a functional group that can be cured by light irradiation. Examples thereof include resins having an unsaturated double bond-containing group.
  • the curable compound having a cyclic ether group is not particularly limited, and examples thereof include epoxy resins other than alicyclic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, oxetane resins, and furan resins. Among these, epoxy resins other than alicyclic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and oxetane resins are preferable from the viewpoint of reaction rate and versatility.
  • the epoxy resin other than the alicyclic epoxy resin is not particularly limited.
  • a phenol novolac type epoxy resin for example, a cresol novolac type epoxy resin, a biphenyl novolac type epoxy resin, a trisphenol novolak type epoxy resin, a dicyclopentadiene novolak type Novolak type epoxy resins such as epoxy resins; bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, 2,2'-diallyl bisphenol A type epoxy resins, hydrogenated bisphenol type epoxy resins, polyoxypropylene bisphenol A type epoxy resins, etc. Examples thereof include bisphenol type epoxy resins.
  • Other examples of the epoxy resin other than the alicyclic epoxy resin include a glycidylamine type epoxy resin.
  • epoxy resins include, for example, Epicron N-740, Epicron N-770, Epicron N-775 (all are manufactured by DIC Corporation), Epicoat 152, Epicoat 154 (all are Mitsubishi Chemical Corporation).
  • Phenol novolac type epoxy resins such as Epicron N-660, Epicron N-665, Epicron N-670, Epicron N-673, Epicron N-680, Epicron N-695, Epicron N-665 EXP, Epicron N- 672-EXP (all of which are manufactured by DIC Corporation) and other cresol novolac type epoxy resins; NC-3000P (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and other biphenyl novolak type epoxy resins; EP1032S50, EP1032H60 (all of which are Mitsubishi Chemical Corporation ), Etc .; dicyclopentadiene novolac type epoxy resins such as XD-1000-L (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Epicron HP-7200 (manu
  • the alicyclic epoxy resin is not particularly limited, and examples thereof include Celoxide 2021, Celoxide 2080, Celoxide 3000 (all are manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.) and the like.
  • examples thereof include Celoxide 2021, Celoxide 2080, Celoxide 3000 (all are manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.) and the like.
  • oxetane resin for example, Etanacol EHO, Etanacol OXBP, Etanacol OXTP, Etanacol OXMA (all of which are manufactured by Ube Industries, Ltd.) and the like can be mentioned.
  • These curable compounds having a cyclic ether group may be used alone or in combination of two or more.
  • the photocurable resin having an unsaturated double bond-containing group is not particularly limited, and examples thereof include resins having groups such as a vinyl group, a vinyl ether group, an allyl group, a maleimide group, and a (meth) acryl group. Of these resins having a group, a resin having a (meth) acryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and versatility. In addition, in this specification, a (meth) acryl group means an acryl group or a methacryl group.
  • Examples of the resin having a (meth) acryl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, and carbitol (meth).
  • Acrylate for example, KAYARAD HX-220, KAYARAD HX-620, etc., manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • pentaerythritol tetra (meth) acrylate poly (meth) as a reaction product of dipentaerythritol and ⁇ -
  • glycidyl compound used in the epoxy (meth) acrylate which is a reaction product of the monoglycidyl compound or polyglycidyl compound and (meth) acrylic acid
  • bisphenol A Bisphenol F, bisphenol S, 4,4′-biphenol tetramethyl bisphenol A, dimethyl bisphenol A, tetramethyl bisphenol F, dimethyl bisphenol F, tetramethyl bisphenol S, dimethyl bisphenol S, tetramethyl-4,4′-biphenol , Dimethyl-4,4′-biphenol, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl] propane, 2,2′-methylene (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol), trishydroxyphenyl
  • Epoxy (meth) acrylate which is a reaction product of these monoglycidyl compounds or polyglycidyl compounds and (meth) acrylic acid, adds an equivalent amount of (meth) acrylic acid to the epoxy group (glycidyl group) of the monoglycidyl compound or polyglycidyl compound. It can be obtained by esterification reaction. This synthesis reaction can be performed by a generally known method.
  • a catalyst eg, benzyldimethylamine, triethylamine, benzyltrimethylammonium chloride, triphenylphosphine, triphenylstibine, etc.
  • a polymerization inhibitor eg, methoquinone, Hydroquinone, methylhydroquinone, phenothiazine, dibutylhydroxytolu
  • the (meth) acrylated resorcin diglycidyl ether thus obtained is a resin having a radically polymerizable (meth) acryloyl group.
  • (meth) acrylation means acrylation or methacrylation
  • (meth) acryloyl group means an acryloyl group or a methacryloyl group.
  • a photopolymerization initiator can be added to the resin binder contained in the infrared shielding sheet of the present invention as necessary, and the resin binder is heated.
  • a thermosetting agent can be added as necessary.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is for causing a polymerization reaction of an unsaturated double bond, an epoxy group or the like in the photocurable resin by light irradiation. And a radical polymerization type photopolymerization initiator.
  • thermosetting agent is not particularly limited as long as it is for reacting an unsaturated double bond or an epoxy group in the thermosetting resin by heating to cause crosslinking, and examples thereof include acid anhydrides and amines. Phenols, imidazoles, dihydrazines, Lewis acids, Bronsted acid salts, polymercaptons, isocyanates, blocked isocyanates and the like.
  • the content of the fine particles contained in the high refractive index resin layer is preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, and 60% by weight with respect to the entire high refractive index resin layer. % Or more, more preferably 70% by weight or more, and most preferably 90% by weight or more.
  • the content of the fine particles contained in the high refractive index resin layer is less than 40% by weight, the refractive index of the resin binder becomes dominant in the high refractive index resin layer and effectively reflects light in the infrared region. I can't.
  • fine-particles contained in the said high refractive index resin layer is 95 weight% or less with respect to the said whole high refractive index resin layer.
  • the content of the fine particles contained in the high refractive index resin layer is more than 95% by weight, the ratio of the resin binder in the high refractive index resin layer is reduced, so that it is difficult to produce a sheet.
  • the content of the fine particles contained in the low refractive index resin layer is preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, and 60% by weight with respect to the entire low refractive index resin layer. % Or more, more preferably 70% by weight or more, and most preferably 90% by weight or more.
  • the content of the fine particles contained in the low refractive index resin layer is less than 40% by weight, the refractive index of the resin binder becomes dominant in the low refractive index resin layer, and the infrared reflection performance of the infrared shielding sheet is low. Become.
  • fine-particles contained in the said low refractive index resin layer is 95 weight% or less with respect to the said whole low refractive index resin layer.
  • the content of the fine particles contained in the low refractive index resin layer is more than 95% by weight, the resin binder in the low refractive index resin layer is reduced in proportion, so that it is difficult to produce a sheet.
  • the content of the fine particles contained in the low refractive index resin layer is more than 95% by weight, when the fine particles contained in the low refractive index resin layer are electrically conductive fine particles, the fine particles are connected to each other. The radio wave transmission performance of the infrared shielding sheet is lowered.
  • the surface resistance of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is preferably 1 k ⁇ / ⁇ (10 3 ⁇ / ⁇ ) or more, and preferably 10 k ⁇ / ⁇ (10 4 ⁇ / ⁇ ) or more. More preferably, it is more preferably 1000 k ⁇ / ⁇ (10 6 ⁇ / ⁇ ) or more.
  • the surface resistance of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is lower than 1 k ⁇ / ⁇ , the infrared shielding sheet is difficult to transmit radio waves, which is not preferable.
  • the maximum height difference (surface roughness) of the surfaces of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is preferably 70 nm or less, more preferably 60 nm or less, and 50 nm or less. More preferably it is. Dispersing the fine particles in the dispersion until the aggregated fine particles disappear, and then applying (coating) the dispersion to form the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer, the high refractive index resin layer and the The maximum height difference of each surface of the low refractive index resin layer can be set to a preferable maximum height difference.
  • the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer have a surface roughness (maximum height difference of the surface) exceeding 70 nm, on the surfaces of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer, The incident infrared light is scattered, and good reflection performance cannot be imparted to the infrared shielding sheet.
  • the method for producing the infrared shielding sheet of the present invention preferably includes a step of forming the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer by coating.
  • a coating liquid for forming a high refractive index resin layer and a low refractive index resin layer is coated on a support such as a transparent support by a coating method appropriately selected from known coating methods. It is preferable to manufacture by the method including the process of drying.
  • the coating method of the coating solution is not particularly limited, and a coating apparatus such as a bar coater such as a wire bar coater, a spin coater, a die coater, a micro gravure coater, a comma coater, a spray coater, a roll coater, or a knife coater is used.
  • a coating apparatus such as a bar coater such as a wire bar coater, a spin coater, a die coater, a micro gravure coater, a comma coater, a spray coater, a roll coater, or a knife coater is used.
  • a coating suitable for thin film production such as a bar coater, a spin coater, a die coater, or a micro gravure coater is preferable. A method of using the device is preferred.
  • a cholesteric liquid crystal film a birefringent multilayer film may be formed on the laminated film composed of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer (or the sheet composed of the laminated film and the transparent support).
  • functional layers such as an adhesive layer and a hard coat layer may be laminated to form an infrared shielding sheet.
  • infrared absorbing dye, ultraviolet absorber, antioxidant Various additives such as a light stabilizer can be added.
  • the laminated film includes an infrared absorbing dye, a cholesteric liquid crystal film, a birefringent multilayer film, etc. It is good also as an infrared shielding sheet combining a well-known material.
  • the infrared absorbing dye preferably absorbs light having a wavelength of 780 nm to 2000 nm.
  • the cholesteric liquid crystal film selectively reflects light having a wavelength of 780 nm to 2000 nm.
  • the infrared absorbing dye is not particularly limited, and specifically, an infrared absorbing dye having an absorption maximum at a wavelength of 750 nm to 1100 nm, for example, a phthalocyanine dye, an anthraquinone dye, a dithiol dye, diimonium -Based dyes, anthraquinone-based dyes, squarylium-based dyes, naphthalocyanine-based dyes, aminium-based dyes, dithiol-metal complex-based dyes, etc. System dyes, triphenylmethane dyes, mercaptonaphthol dyes, and the like can be used.
  • At least one of phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, and anthraquinone dyes is preferably used as the infrared absorbing dye.
  • the molecular axes are aligned in a certain direction on one plane, but the direction of the molecular axis is slightly shifted on the next plane, and the angle is shifted on the next plane.
  • This is a structure in which the angle of the molecular axis is successively shifted in the normal direction of the plane.
  • Such a structure in which the direction of the molecular axis is twisted is called a chiral structure.
  • the normal line (chiral axis) of the plane is preferably substantially parallel to the thickness direction of the cholesteric liquid crystal film (cholesteric liquid crystal layer).
  • ⁇ c n ⁇ p ⁇ cos ⁇ (2) n 0 ⁇ p ⁇ cos ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ n e ⁇ p ⁇ cos ⁇ (3) Equation (2) and (3), lambda c is the center wavelength of the wavelength range of light CLC layer for reflecting, n o is the minor axis direction of the refractive index of the molecules of the liquid crystal compound constituting the cholesteric liquid crystal film, n e represents the refractive index of the liquid crystal compound in the major axis direction, n represents (n o + n e ) / 2, and ⁇ represents the incident angle of light (angle from the surface normal).
  • the center wavelength of the wavelength region of light reflected by the cholesteric liquid crystal film depends on the pitch length of the chiral structure in the cholesteric liquid crystal film.
  • the pitch length of this chiral structure By changing the pitch length of this chiral structure, the center wavelength of the wavelength region of light reflected by the cholesteric liquid crystal film can be changed.
  • the number of layers of the cholesteric liquid crystal film may be one or two or more. It is preferable that the number of cholesteric liquid crystal films is two or more because the infrared wavelength band that can be reflected by the cholesteric liquid crystal film can be expanded.
  • the cholesteric liquid crystal film can reflect both the right circularly polarized light and the left circularly polarized light, and an effective reflectance can be realized.
  • the cholesteric liquid crystal film has two or more layers, it is preferable to combine the cholesteric liquid crystal films having different pitch lengths and to further widen the wavelength range of the light reflected by the cholesteric liquid crystal film. By combining the films, light in a wider range of infrared wavelengths can be reflected with high efficiency.
  • the combination of the number of layers, the right circularly polarized cholesteric liquid crystal film, the left circularly polarized cholesteric liquid crystal film, etc. an appropriate combination can be used in view of manufacturing cost, visible light transmittance, and the like.
  • the cholesteric liquid crystal material for forming the cholesteric liquid crystal film it is preferable to use a curable liquid crystal composition.
  • An example of the liquid crystal composition contains at least a rod-like liquid crystal compound, an optically active compound (chiral compound), and a polymerization initiator. Two or more of each component may be included.
  • a polymerizable rod-like liquid crystal compound and a non-polymerizable rod-like liquid crystal compound can be used in combination.
  • a low molecular rod-like liquid crystal compound and a polymer rod-like liquid crystal compound can be used in combination.
  • the liquid crystal composition has a horizontal alignment agent, a non-uniformity inhibitor, a repellency inhibitor, and a polymerizability (which is neither a rod-like liquid crystal compound nor an optically active compound) in order to improve alignment uniformity, coating suitability, and film strength.
  • You may contain at least 1 type chosen from various additives, such as a monomer (for example, monomer which has a (meth) acryl group).
  • a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a colorant, metal oxide fine particles, and the like are further added as necessary so as not to deteriorate the optical performance. can do.
  • Rod-like liquid crystal compound is preferably a rod-like nematic liquid crystal compound.
  • Preferred examples of the rod-like nematic liquid crystal compound include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, phenyl Low molecular liquid crystal compounds and high molecular liquid crystal compounds such as dioxanes, tolanes, and alkenylcyclohexylbenzonitriles are included.
  • the rod-like liquid crystal compound may be polymerizable or non-polymerizable.
  • various documents for example, Y. Goto, et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst., 1995, Vol. 260, pp. 23-28).
  • the polymerizable rod-like liquid crystal compound can be obtained by introducing a polymerizable group into the rod-like liquid crystal compound.
  • the polymerizable group include an unsaturated polymerizable group, an epoxy group, and an aziridinyl group.
  • an unsaturated polymerizable group is preferable, and an ethylenically unsaturated polymerizable group is particularly preferable.
  • the polymerizable group can be introduced into the molecule of the rod-like liquid crystal compound by various methods.
  • the number of polymerizable groups possessed by the polymerizable rod-like liquid crystal compound is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3.
  • Examples of the polymerizable rod-like liquid crystal compound include Makromol. Chem.
  • the liquid crystal composition exhibits a cholesteric liquid crystal phase, and for that purpose, it preferably contains an optically active compound.
  • the rod-like liquid crystal compound is a molecule having an asymmetric carbon atom
  • a cholesteric liquid crystal film may be stably formed without adding an optically active compound.
  • the optically active compound includes various known chiral agents (for example, Liquid Crystal Device Handbook, Chapter 3-4-3, TN, chiral agent for STN, 199 pages, edited by Japan Society for the Promotion of Science, 142nd Committee, 1989). ) Can be selected.
  • the optically active compound generally contains an asymmetric carbon atom, but an axially asymmetric compound or a planar asymmetric compound that does not contain an asymmetric carbon atom can also be used as a chiral agent.
  • the axial asymmetric compound or the planar asymmetric compound include binaphthyl, helicene, paracyclophane, and derivatives thereof.
  • the optically active compound (chiral agent) may have a polymerizable group.
  • the optically active compound is an optically active compound having a polymerizable group (polymerizable optically active compound) and the rod-shaped liquid crystal compound used in combination is also a rod-shaped liquid crystal compound having a polymerizable group (polymerizable rod-shaped liquid crystal compound)
  • a polymer having a repeating unit derived from the rod-like liquid crystal compound and a repeating unit derived from the optically active compound can be formed by a polymerization reaction between the polymerizable optically active compound and the polymerizable rod-like liquid crystal compound.
  • the polymerizable group possessed by the polymerizable optically active compound is preferably the same group as the polymerizable group possessed by the polymerizable rod-like liquid crystal compound.
  • the polymerizable group of the optically active compound is also preferably an unsaturated polymerizable group, an epoxy group, or an aziridinyl group, more preferably an unsaturated polymerizable group, and an ethylenically unsaturated polymerizable group. It is particularly preferred.
  • the optically active compound may be a liquid crystal compound.
  • the amount of the optically active compound used in the liquid crystal composition is preferably 0.1 to 30 mole parts relative to 100 mole parts of the liquid crystal compound used in combination. A smaller amount of the optically active compound is preferable because it often does not affect the liquid crystal properties of the liquid crystal composition. Therefore, the optically active compound used as the chiral agent is preferably a compound having a strong twisting force so that a twisted orientation with a desired helical pitch can be achieved even with a small amount. Examples of such a chiral agent exhibiting a strong twisting force include the chiral agents described in JP-A No. 2003-287623, and such a chiral agent can be preferably used.
  • the liquid crystal composition used for forming the cholesteric liquid crystal film (light reflecting layer) is preferably a polymerizable liquid crystal composition, and for that purpose, it preferably contains a polymerization initiator.
  • the polymerization initiator used is preferably a photopolymerization initiator that can start the polymerization reaction by ultraviolet irradiation.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited.
  • the content of the photopolymerization initiator in the polymerizable liquid crystal composition is not particularly limited, but with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable liquid crystal compound and the polymerizable monomer used as necessary.
  • the amount is preferably 0.5 parts by weight or more, more preferably 10 parts by weight or less, more preferably 2 parts by weight or more, and more preferably 8 parts by weight or less.
  • reaction aid is not particularly limited, and for example, triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, n-butylamine, N-methyldiethanolamine, diethylaminoethyl methacrylate, Michler's ketone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone.
  • amine compounds such as ethyl 4-dimethylaminobenzoate, (2-n-butoxy) ethyl 4-dimethylaminobenzoate, and isoamyl 4-dimethylaminobenzoate.
  • the content of the reaction aid in the polymerizable liquid crystal composition is not particularly limited, but is preferably in a range that does not affect the liquid crystal properties of the polymerizable liquid crystal composition, and the polymerizable liquid crystal compound, It is preferably 0.5 parts by weight or more, preferably 10 parts by weight or less, and preferably 2 parts by weight or more, based on 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable monomers used as necessary. More preferably, it is more preferably 8 parts by weight or less.
  • the content of the reaction aid is preferably 0.5 to 2 times based on the weight of the photopolymerization initiator.
  • the polymerizable liquid crystal composition includes a leveling agent, an antifoaming agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, a polymerization inhibitor, a crosslinking agent, a plasticizer, an inorganic fine particle, and a filler as necessary. It is also possible to add desired functionality.
  • Examples of the leveling agent include fluorine compounds, silicone compounds, acrylic compounds, and the like.
  • Examples of the antifoaming agent include silicone-based antifoaming agents, fluorine-based antifoaming agents, and polymer-based antifoaming agents.
  • Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole compounds, benzophenone compounds, and triazine compounds.
  • Examples of the light stabilizer include hindered amine compounds and benzoate compounds.
  • Examples of the antioxidant include phenolic compounds.
  • polymerization inhibitor examples include methoquinone, methylhydroquinone, hydroquinone and the like.
  • examples of the crosslinking agent include polyisocyanates and melamine compounds.
  • plasticizer examples include phthalic acid esters such as dimethyl phthalate and diethyl phthalate; trimellitic acid esters such as tris (2-ethylhexyl) trimellitate; and aliphatic dibasic acid esters such as dimethyl adipate and dibutyl adipate; Examples thereof include orthophosphate esters such as tributyl phosphate and triphenyl phosphate; acetate esters such as glycerol triacetate and 2-ethylhexyl acetate.
  • examples of the inorganic fine particles include zinc antimonate fine particles, gallium-doped zinc oxide fine particles, aluminum-doped zinc oxide fine particles, tin oxide fine particles, antimony-doped tin oxide fine particles, phosphorus-doped tin oxide fine particles, and tin-doped indium oxide fine particles.
  • metal oxide fine particles for adjusting the refractive index such as titanium oxide fine particles and zirconium oxide fine particles.
  • examples of the filler include silica particles, acrylic beads, urethane beads and the like having an average particle size on the order of microns.
  • the coating method for forming the cholesteric liquid crystal film is not particularly limited, and is a bar coater such as a wire bar coater, spin coater, die coater, micro gravure coater, comma coater, spray coater, roll coater, knife coater, etc.
  • a bar coater such as a wire bar coater, spin coater, die coater, micro gravure coater, comma coater, spray coater, roll coater, knife coater, etc.
  • a method using a coating apparatus suitable for thin film production such as a bar coater, a spin coater, a die coater, or a micro gravure coater is preferable. .
  • the surface of the substrate (multilayer film, transparent support, etc.) on which the cholesteric liquid crystal film is formed may be aligned.
  • the birefringent multilayer film includes a layer having birefringence (preferably positive birefringence) (hereinafter referred to as “birefringent layer”) and a layer having isotropic refraction or negative birefringence (hereinafter referred to as “isotropic refraction”).
  • Birefringent layer a layer having birefringence (preferably positive birefringence)
  • isotropic refraction preferably negative birefringence
  • the birefringent multilayer film is based on the refractive index difference between the birefringent layer and the isotropic refractive layer and the coherent interference caused by the respective geometric thickness.
  • the in-plane refractive index is different between the birefringent layer and the isotropic refractive layer, the boundary surface between the two layers forms a reflective surface.
  • Birefringence means that at least two of the refractive indexes in the x-axis direction, the y-axis direction, and the z-axis direction orthogonal to each other are different from each other.
  • the x-axis and y-axis are in the plane of the birefringent layer, the z-axis is perpendicular to the plane of the birefringent layer, and the birefringent layer is composed of an oriented polymer, the x-axis direction has the maximum refractive index. Is selected to be an in-plane direction having a direction that corresponds to one of the directions in which the oriented polymer is oriented (eg, stretched).
  • the in-plane refractive indices of both the birefringent and isotropic refractive layers are different between layers (ie, n 1x ⁇ n 2x and n 1y ⁇ n 2y ; where n 1x and n 1y are x In-plane refractive indexes in the axial direction and the y-axis direction, and n 2x and n 2y represent in-plane refractive indexes in the x-axis direction and the y-axis direction of the isotropic refractive layer).
  • the reflection of p-polarized light does not depend on the incident angle of light, and thus the reflectance is uniform over the range of viewing angles, which is preferable. .
  • a birefringent polymer (preferably a birefringent polymer having positive birefringence) that is at least uniaxially or preferably biaxially oriented is used as the birefringent layer.
  • the difference in refractive index between the birefringent layer and the isotropic refractive layer can be increased.
  • Each of the optical thickness of the birefringent layer and the isotropic refractive layer if these layers and a central wavelength lambda c of the wavelength region of light to be reflected, and is controlled such that the lambda c / 4.
  • the total optical thickness of the birefringent layer and the isotropic refractive layer is ⁇ c / 2 (or a multiple of ⁇ c )
  • the birefringent layer and the isotropic refractive layer have different optical thicknesses. You may have.
  • the birefringent layer As a material constituting the birefringent layer, a material that is oriented by stretching (positive birefringence) is used, and for example, PEN (polyethylene naphthalate), PET, or the like is used. As a material constituting the isotropic refracting layer, a material that is not oriented even by stretching (or a material that is negatively birefringent by stretching) is used. For example, PMMA (polymethyl methacrylate) or the like is used.
  • the birefringent multilayer structure material can be produced by forming a multilayer film by, for example, a co-extrusion method described in JP-T-2008-528313 and stretching it.
  • the number of laminated layers (total number of layers) of the birefringent layer and the isotropic refractive layer is preferably 3 layers or more and 1000 layers or less in view of the wavelength region to be reflected, the manufacturing cost, and the like.
  • the interlayer film for laminated glass of the present invention comprises the infrared shielding sheet of the present invention and an interlayer film formed on at least one outermost layer of the infrared shielding sheet.
  • the intermediate film for laminated glass of the present invention includes first and second intermediate films respectively formed on both outermost layers of the infrared shielding sheet of the present invention. preferable.
  • the interlayer film for laminated glass of the present invention preferably contains a second interlayer film in addition to the first interlayer film.
  • the first and second interlayer films on both sides of the infrared shielding sheet have the same film thickness, but the present invention is limited to such an interlayer film for laminated glass.
  • an interlayer film for laminated glass in which the thicknesses of the first and second interlayer films are different can be used.
  • the compositions of the first and second intermediate films may be the same or different.
  • the heat shrinkage ratio before and after the step of pressure bonding the interlayer film for laminated glass including the first and second interlayer films is preferably 1 to 20% in the range of the heating temperature at that time. It is more preferably 15%, particularly preferably 2 to 10%.
  • the thickness of the first and second interlayer films is preferably 100 to 1000 ⁇ m, more preferably 200 to 800 ⁇ m, and particularly preferably 300 to 500 ⁇ m. Further, the first and second intermediate films may be thickened by overlapping a plurality of sheets.
  • the elongation at break by a tensile test is preferably 100 to 800%, more preferably 100 to 600%, and more preferably 200 to 500%. It is particularly preferred.
  • the intermediate film preferably contains polyvinyl butyral.
  • the first and second intermediate films are preferably resin intermediate films.
  • the resin intermediate film is preferably a polyvinyl acetal resin film containing a polyvinyl acetal resin as a main component.
  • the polyvinyl acetal resin film is not particularly limited, and those described in, for example, JP-A-6-000926 and JP-A-2007-008797 can be preferably used.
  • a polyvinyl butyral resin film (polyvinyl butyral film) is preferably used.
  • the polyvinyl butyral resin film is not particularly defined as long as it is a resin film mainly composed of polyvinyl butyral, and a polyvinyl butyral resin film that is widely used for an interlayer film for laminated glass can be employed.
  • the intermediate film is preferably a resin intermediate film mainly composed of polyvinyl butyral or a resin intermediate film mainly composed of ethylene vinyl acetate, and a resin intermediate film mainly composed of polyvinyl butyral.
  • resin which is a main component means resin which occupies the ratio of 50 mass% or more of the said resin intermediate film.
  • the first and second intermediate films may contain an additive within a range not departing from the gist of the present invention.
  • the additive include fine particles for heat ray shielding, fine particles for sound insulation, and a plasticizer.
  • the heat ray shielding fine particles and the sound insulation fine particles include inorganic fine particles and metal fine particles.
  • the fine particles are preferably dispersed in an intermediate film, preferably an intermediate film made of polyvinyl butyral (hereinafter abbreviated as “PVB”).
  • the fine particles may be added to an intermediate film in an appropriate capsule, or may be added to the intermediate film together with a dispersant.
  • the amount of fine particles added when the first and second interlayer films contain a resin component is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin component.
  • inorganic fine particles examples include calcium carbonate fine particles, alumina fine particles, kaolin clay, calcium silicate fine particles, magnesium oxide fine particles, magnesium hydroxide fine particles, aluminum hydroxide fine particles, magnesium carbonate fine particles, talc powder, feldspar powder, mica powder, barite powder, Examples thereof include barium carbonate fine particles, titanium oxide fine particles, silica fine particles, and glass beads. These may be used alone or in combination.
  • the heat ray shielding fine particles include tin-doped indium oxide (ITO) fine particles, antimony-doped tin oxide (ATO) fine particles, aluminum-doped zinc oxide (AZO) fine particles, indium-doped zinc oxide (IZO) fine particles, tin-doped zinc oxide fine particles, silicon.
  • Examples of the light shielding agent include carbon black and red iron oxide.
  • As the pigment four kinds of black pigment carbon black, red pigment (CI Pigment Red), blue pigment (CI Pigment Blue), and yellow pigment (CI Pigment Yellow) are mixed. And dark reddish-brown mixed pigments.
  • the plasticizer is not particularly limited, and a known plasticizer generally used as a plasticizer for this kind of intermediate film can be used.
  • the plasticizer include triethylene glycol-di-2-ethylbutyrate (3GH), triethylene glycol-di-2-ethylhexanoate (3GO), triethylene glycol-di-n-heptanoate (3G7). ), Tetraethylene glycol-di-2-ethylhexanoate (4GO), tetraethylene glycol-di-n-heptanoate (4G7), oligoethylene glycol-di-2-ethylhexanoate (NGO), etc. Used.
  • these plasticizers are generally in the range of 25 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (preferably polyvinyl acetal resin) as the main component of the resin intermediate film. Used in
  • the method for producing the interlayer film for laminated glass of the present invention preferably includes a step of thermally bonding the interlayer film and the infrared shielding sheet after sequentially laminating the infrared shielding sheet of the present invention and the interlayer film.
  • thermal bonding There are no particular restrictions on the method of thermal bonding, and it is possible to apply heat-pressing to a laminated body of an infrared shielding sheet / intermediate film (in which an intermediate film is laminated on an infrared shielding sheet) or heating by laser irradiation. Thermal fusion or the like can be employed.
  • the step of thermally bonding the infrared shielding sheet to the interlayer film is a step of thermocompression bonding the infrared shielding sheet to the interlayer film (thermocompression bonding process). It is preferable that
  • the method of thermocompression bonding is not particularly limited, but for example, a method of pressing a heating body at 80 to 140 ° C. against the infrared shielding sheet / interlayer laminate is preferable.
  • the heating body may be a flat heating body, a curved heating body, or a roller.
  • a plurality of heating rollers, a heatable flat pressing surface, or the like can be used, and these may be used in combination.
  • the thermocompression bonding may be performed on both surfaces of the infrared shielding sheet / intermediate film laminate or only on one surface, in which case one of the rollers used for thermocompression bonding is heated. There may be no roller, pinching surface or the like.
  • thermocompression bonding step it is preferable to use a heating roller in the thermocompression bonding step, and it is more preferable to use a combination of a heating roller and a non-heating roller.
  • the surface of the intermediate film is roughened by embossing or the like so that air can easily escape during sticking.
  • the bonded surface becomes smooth following the adherend surface and the optical performance is improved.
  • the other surface needs to maintain a rough surface state for bonding to a glass plate or the like. Therefore, it is preferable that the surface of the roller on the side in contact with the intermediate film in the thermocompression-bonding roller is roughened to maintain the roughened state of the intermediate film. That is, it is preferable to laminate so that at least one surface of the intermediate film is embossed and the embossed surface is in contact with the infrared shielding sheet of the present invention. Further, after thermocompression bonding, the surface of the intermediate film that is not in contact with the infrared shielding sheet may be actively embossed.
  • the transparent support used at the time of producing the infrared shielding sheet may be peeled before and after the thermal bonding step, or may be part of the interlayer film for laminated glass without being peeled off.
  • the method for producing the interlayer film for laminated glass of the present invention preferably includes a step of laminating the second interlayer film on the opposite surface of the infrared shielding sheet on which the first interlayer film is laminated. That is, the interlayer film for laminated glass of the present invention preferably has a second interlayer film in addition to the first interlayer film.
  • the intermediate film for glass according to an example of the present invention as shown in FIG. 5, the infrared shielding sheet 2 according to the present invention, the first intermediate film 3 formed on one surface of the infrared shielding sheet 2, And a second intermediate film 3 ′ formed on the other surface of the infrared shielding sheet 2.
  • the infrared shielding sheet 2 and the second intermediate film 3 ′ may be adjacent to each other and may include other constituent layers therebetween, but the infrared shielding sheet 2 and the second intermediate film 3 ′ may be included. Are preferably adjacent to each other.
  • These second intermediate film and other constituent layers are preferably thermocompression bonded to the infrared shielding sheet by the same method as the thermocompression bonding process between the first intermediate film and the infrared shielding sheet.
  • the intermediate film for laminated glass including the infrared shielding sheet and the intermediate film may be cut with a blade, or may be cut with a laser, a water jet, or heat.
  • the laminated glass of the present invention has the interlayer film for laminated glass of the present invention and a plurality of glass plates (two glass plates), and the laminated glass is between the plurality of glass plates (at least two glass plates). An interlayer film for glass is inserted. Moreover, the laminated glass of this invention can be preferably cut
  • the window member of the present invention includes the laminated glass of the present invention.
  • the method for laminating the interlayer film for laminated glass with the first glass plate and the second glass plate is not particularly limited, and can be laminated by inserting between two glass plates by a known method.
  • the laminated glass of the laminated body in which the interlayer film for laminated glass is sandwiched between the two glass sheets has a configuration in which glass sheet / first interlayer film / infrared shielding sheet / second interlayer film / glass sheet are laminated in this order. Become.
  • FIG. 6 is a schematic view showing an example of the structure of a laminated glass including an interlayer film for laminated glass sandwiched between glass plates according to the present invention.
  • a laminated glass according to an example of the present invention includes a laminated glass intermediate film (first intermediate film 3, infrared shielding sheet 2, and second intermediate film 3 ′) shown in FIG. 5 and a plurality of glass plates 5 and 5. ', The laminated glass between the glass plates 5 and 5' so that the glass plate 5 is adjacent to the first intermediate film 3 and the glass plate 5 'is adjacent to the first intermediate film 3. An intermediate film is inserted.
  • the end of the infrared shielding sheet 2 may be inside the ends of the glass plates 5 and 5 ′ and the ends of the first intermediate film 3 and the second intermediate film 3 ′. Further, the end portions of the glass plates 5 and 5 ′ and the end portions of the first intermediate film 3 and the second intermediate film 3 ′ may be at the same position, or one of them may protrude.
  • the laminated glass in which the glass intermediate films (laminated body of the first intermediate film 3, the infrared shielding sheet 2, and the second intermediate film 3 ′) are sandwiched between the glass plates 5 and 5 ′ is shown in FIG.
  • the edge part of the infrared shielding sheet 2 may exist in the same position as the edge part of the glass plates 5 and 5 ', and the edge part of intermediate film 3 and 3'.
  • the laminated glass may have a configuration in which the end of the infrared shielding sheet 2 protrudes beyond the ends of the glass plates 5 and 5 ′ and the ends of the first intermediate film 3 and the second intermediate film 3 ′. Good.
  • the infrared shielding sheet 2 and the first intermediate may be adjacent to each other, or may have other constituent layers between them.
  • the glass plate may be a glass having no curvature or a curved glass.
  • the two glass plates that sandwich the interlayer film for laminated glass may have different thicknesses or may be colored.
  • a colored component such as metal is contained in the glass plate so that the visible light transmittance of the laminated glass does not fall below 70% defined in JIS R 3211.
  • heat shielding properties can be effectively improved by using green glass for the glass plate.
  • concentration suitable for the objective by adjusting the quantity of the metal component to add or adjusting thickness.
  • the method for producing the laminated glass of the present invention preferably includes a step of pressure bonding while heating the interlayer film for laminated glass of the present invention sandwiched between glass plates.
  • the glass interlayer of the present invention sandwiched between glass plates is bonded to the glass plate by, for example, pre-pressing with a vacuum bag or the like under reduced pressure at a temperature of 80 to 120 ° C. for 30 to 60 minutes, and then autoclave.
  • the laminated glass is laminated at a temperature of 120 to 150 ° C. under a pressure of 1.0 to 1.5 MPa, and a glass intermediate film is sandwiched between two glass plates.
  • thermocompression bonding there is no particular limitation on the method of cooling, and it may be cooled while releasing the pressure as appropriate to obtain laminated glass.
  • the method for producing a laminated glass of the present invention preferably includes a step of releasing the pressure after the temperature is lowered while the pressure is maintained. Specifically, it is preferable to lower the temperature by releasing the pressure after the temperature in the autoclave becomes 40 ° C. or lower after the temperature is lowered while maintaining the pressure.
  • Example 1 (Preparation of high refractive index resin layer A) Dipentaerythritol hexaacrylate (trade name “KAYARAD DPHA”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; hereinafter simply referred to as “KAYARAD DPHA”) as a resin binder and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name “ "Irgacure 184", photopolymerization initiator, manufactured by BASF Japan Ltd .; hereinafter 0.05 part is simply dissolved in 4 parts of methyl ethyl ketone (hereinafter abbreviated as "MEK”) as a solvent.
  • MEK methyl ethyl ketone
  • Zirconium oxide fine particles (trade name “NANON5 ZR-010”, average primary particle size 7-8 nm, average dispersed particle size 15 nm, solid content concentration 30% by weight, manufactured by Solar Co., Ltd., dispersion medium: MEK) 4 .7 parts are dispersed, and a high refractive index for forming the high refractive index resin layer A Fat coating solution A (dispersion obtained by dispersing fine particles with dissolving the resin binder in the solvent) was prepared.
  • the high refractive index resin coating solution A was applied to a PET substrate with a wire bar coater, and the MEK was evaporated by drying at 100 ° C. for 2 minutes, followed by irradiation with ultraviolet rays (hereinafter abbreviated as “UV”).
  • UV ultraviolet rays
  • the refractive index of the prepared high refractive index resin layer A at a wavelength of 550 nm and a wavelength of 1200 nm was measured with a spectroscopic ellipsometer (trade name “M-2000”, manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.). A value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1200 nm from the refractive index at a wavelength was obtained. Further, the surface resistance of the produced high refractive index resin layer A was measured using a surface resistance meter (trade name “HIRESTA UP” and trade name “LORESTA GP” manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.).
  • Tin-doped indium oxide fine particles (trade name “ITO-R”, manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd.), which are non-hollow fine particles having an average primary particle diameter of 25.6 nm and a powder resistance of 0.8 ⁇ ⁇ cm when compressed at 60 MPa.
  • the low refractive index resin coating solution A was applied to a PET substrate with a wire bar coater, and the toluene was evaporated by drying at 100 ° C. for 2 minutes, and then a low refractive index resin layer A was produced by UV irradiation. .
  • the content of the fine particles contained in the low refractive index resin layer A is 65% by weight with respect to the entire low refractive index resin layer A.
  • the refractive index at a wavelength of 550 nm and a wavelength of 1200 nm of the produced low refractive index resin layer A was measured with a spectroscopic ellipsometer (trade name “M-2000”, manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.).
  • a value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1200 nm from the refractive index at a wavelength was obtained. Further, the surface resistance of the produced low refractive index resin layer A was measured in the same manner as the measurement of the surface resistance of the high refractive index resin layer A.
  • the wavelength of light reflected by the laminated film is set to 1200 nm, the optical thickness of each high refractive index resin layer A at a wavelength of 1200 nm is 300 nm, and the optical thickness of each low refractive index resin layer A at a wavelength of 1200 nm is 300 nm.
  • the low refractive index resin on a 100 ⁇ m-thick PET base material (trade name “Cosmo Shine A4100” manufactured by Toyobo Co., Ltd .; hereinafter simply referred to as “PET base material” as appropriate)
  • PET base material used as appropriate
  • the low refractive index resin layer A and the high refractive index resin layer A are alternately laminated in the order of layer A-high refractive index resin layer A (that is, the order in which the low refractive index resin layer A contacts the PET substrate).
  • An infrared shielding sheet according to an example of the present invention in which the total number of layers of the refractive index resin layer and the low refractive index resin layer was 8 was produced.
  • Each low refractive index resin layer A is prepared by the method described in “Preparation of low refractive index resin layer A”, and each high refractive index resin layer A is prepared by the method described in “Preparation of high refractive index resin layer A”. did.
  • Example 2 (Preparation of high refractive index resin layer B) Titanium oxide fine particles having an average primary particle diameter of 35 nm (trade name “TTO-51A”, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 1.4 parts, KAYARAD DPHA 0.4 parts, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one ("Irgacure 907" manufactured by BASF Japan Ltd.) 0.05 part and a dispersant (trade name "DISPERBYK-2001” manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) 0.3 part In addition to 7 parts of toluene, it was dispersed at a peripheral speed of 10 m / s using a bead mill to prepare a high refractive index resin coating solution B for forming a high refractive index resin layer B. The average dispersed particle size of the titanium oxide fine particles was 45 nm.
  • the high refractive index resin coating solution B was applied to a PET base material with a wire bar coater and dried at 100 ° C. for 2 minutes to evaporate toluene, and then a high refractive index resin layer B was produced by UV irradiation. .
  • the content of the fine particles contained in the high refractive index resin layer B is 65% by weight with respect to the entire high refractive index resin layer B.
  • the refractive index at a wavelength of 550 nm and a wavelength of 1200 nm of the produced high refractive index resin layer B was measured with a spectroscopic ellipsometer (trade name “M-2000”, manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.).
  • a value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1200 nm from the refractive index at a wavelength was obtained. Further, the surface resistance of the produced high refractive index resin layer B was measured in the same manner as the measurement of the surface resistance of the high refractive index resin layer A in Example 1.
  • the wavelength of light reflected by the laminated film is set to 1200 nm
  • the optical thickness of each high refractive index resin layer B at a wavelength of 1200 nm is 300 nm
  • the optical thickness of each low refractive index resin layer A at a wavelength of 1200 nm is 300 nm.
  • the order of high refractive index resin layer B-low refractive index resin layer A (that is, the high refractive index resin layer B is a PET group) on the same PET substrate used for the production of the laminated film of Example 1
  • the high refractive index resin layer B and the low refractive index resin layer A are alternately stacked in the order of contact with the material, and the total number of layers of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is 7.
  • the infrared shielding sheet which concerns on an Example was produced.
  • Each high refractive index resin layer B is prepared in the same manner as in “Preparation of high refractive index resin layer B” in this example, and each low refractive index resin layer A is prepared in “Preparation of low refractive index resin layer A” in Example 1. It was produced in the same manner as above.
  • Example 3 (Preparation of high refractive index resin layer C) Lanthanum hexaboride fine particles (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., average primary particle size of 1 to 2 ⁇ m) 1.4 parts, KAYARAD DPHA 0.4 parts, Irgacure 184 0.05 parts, and aminoalkyl methacrylate copolymer dispersant 0 3 parts were added to 7 parts of toluene and dispersed using a bead mill at a peripheral speed of 10 m / s.
  • Lanthanum hexaboride fine particles manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., average primary particle size of 1 to 2 ⁇ m
  • KAYARAD DPHA KAYARAD DPHA
  • Irgacure 184 0.05 parts Irgacure 184 0.05 parts
  • aminoalkyl methacrylate copolymer dispersant 0 3 parts were added to 7 parts of toluene and dispersed using a
  • a coating solution C was prepared.
  • the average dispersed particle size of the lanthanum hexaboride fine particles was 35 nm.
  • the high refractive index resin coating solution C was applied to a PET substrate with a wire bar coater, and the toluene was evaporated by drying at 100 ° C. for 2 minutes, and then a high refractive index resin layer C was produced by UV irradiation. .
  • the content of the fine particles contained in the high refractive index resin layer C is 65% by weight with respect to the entire high refractive index resin layer C.
  • the refractive index at a wavelength of 550 nm and a wavelength of 1200 nm of the produced high refractive index resin layer C was measured with a spectroscopic ellipsometer (trade name “M-2000”, manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.).
  • a value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1200 nm from the refractive index at a wavelength was obtained. Further, the surface resistance of the produced high refractive index resin layer C was measured in the same manner as the measurement of the surface resistance of the high refractive index resin layer A in Example 1.
  • the wavelength of light reflected by the laminated film is set to 1200 nm
  • the optical thickness of the high refractive index resin layer C at a wavelength of 1200 nm is 300 nm
  • the optical thickness of each high refractive index resin layer A at a wavelength of 1200 nm is 300 nm
  • High refractive index resin layer C in the order of resin layer A-high refractive index resin layer A-low refractive index resin layer A-high refractive index resin layer A (the order in which high refractive index resin layer C contacts the PET substrate).
  • Infrared shielding according to an embodiment of the present invention in which the low refractive index resin layer A and the high refractive index resin layer A are laminated, and the total number of layers of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is 5. A sheet was produced.
  • the high refractive index resin layer C is prepared in the same manner as “Preparation of the high refractive index resin layer C” in this example, and each low refractive index resin layer A is “Preparation of the low refractive index resin layer A” in Example 1.
  • Each high-refractive index resin layer A was prepared in the same manner as in “Preparation of high-refractive index resin layer A” in Example 1.
  • Example 4 Preparation of high refractive index resin layer D
  • “Preparation of high refractive index resin layer B” in Example 2 except that nanodiamonds (diamond fine particles having an average primary particle size of 3.5 nm and an average dispersed particle size of 4.5 nm) were used instead of titanium oxide fine particles as fine particles.
  • a high refractive index resin layer D was produced.
  • the content of the fine particles contained in the high refractive index resin layer D is 65% by weight with respect to the entire high refractive index resin layer D.
  • the refractive index at a wavelength of 550 nm and a wavelength of 1200 nm of the produced high refractive index resin layer D was measured with a spectroscopic ellipsometer (trade name “M-2000”, manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.). A value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1200 nm from the refractive index at a wavelength was obtained. Further, the surface resistance of the produced high refractive index resin layer D was measured in the same manner as the measurement of the surface resistance of the high refractive index resin layer A in Example 1.
  • the wavelength of light reflected by the laminated film is set to 1200 nm
  • the optical thickness of each high refractive index resin layer D at a wavelength of 1200 nm is 300 nm
  • the optical thickness of each low refractive index resin layer A at a wavelength of 1200 nm is 300 nm.
  • the order of low refractive index resin layer A-high refractive index resin layer D (that is, low refractive index resin layer A is a PET group) on the same PET substrate used for the production of the laminated film of Example 1
  • the low refractive index resin layer A and the high refractive index resin layer D are alternately laminated in the order of contact with the material, and the total number of layers of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is 8.
  • the infrared shielding sheet which concerns on an Example was produced.
  • Each low refractive index resin layer A is prepared in the same manner as “Preparation of low refractive index resin layer A” in Example 1, and each high refractive index resin layer D is “Preparation of high refractive index resin layer D” in this example. It was produced in the same manner as above.
  • Example 5 (Preparation of low refractive index resin layer B) To the low refractive index resin coating liquid A prepared by the method described in “Preparation of Low Refractive Index Resin Layer A” in Example 1, hollow silica fine particles (trade name “Thruria 1110”, average primary particle size 50 nm, solid concentration) A low refractive index resin coating solution B for forming the low refractive index resin layer A was prepared by adding 3 parts by weight of 20% by weight, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, Inc., dispersion medium: methyl isobutyl ketone).
  • the low refractive index resin coating solution B is applied to a PET substrate with a wire bar coater and dried at 100 ° C. for 2 minutes to evaporate toluene and methyl isobutyl ketone. B was produced.
  • the content of the fine particles contained in the low refractive index resin layer B is 73% by weight with respect to the entire low refractive index resin layer B.
  • the refractive index at a wavelength of 550 nm and a wavelength of 1200 nm of the produced high refractive index resin layer B was measured with a spectroscopic ellipsometer (trade name “M-2000”, manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.).
  • a value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1200 nm from the refractive index at a wavelength was obtained. Further, the surface resistance of the produced low refractive index resin layer B was measured in the same manner as the measurement of the surface resistance of the high refractive index resin layer A in Example 1.
  • the wavelength of light reflected by the laminated film is set to 1200 nm
  • the optical thickness of each high refractive index resin layer A at a wavelength of 1200 nm is 300 nm
  • the optical thickness of each low refractive index resin layer B at a wavelength of 1200 nm is 300 nm.
  • the order of low refractive index resin layer B-high refractive index resin layer A (that is, low refractive index resin layer B is a PET group) on the same PET substrate used for the production of the laminated film of Example 1
  • the low refractive index resin layer B and the high refractive index resin layer A are alternately stacked in the order of contact with the material, and the total number of layers of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is 8.
  • the infrared shielding sheet which concerns on an Example was produced.
  • Each low refractive index resin layer B is prepared in the same manner as “Preparation of low refractive index resin layer B” in this example, and each high refractive index resin layer A is “Preparation of high refractive index resin layer A” in Example 1. It was produced in the same manner as above.
  • Example 6 Infrared absorbing dye synthesis example, To 120 parts of sulfolane, 15.9 parts of naphthalic anhydride, 29 parts of urea, 0.40 part of ammonium molybdate, and 3.5 parts of vanadyl chloride (V) are added, and the mixture is heated to 200 ° C. The reaction was carried out at the same temperature for 11 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to 65 ° C., 100 parts of N, N-dimethylformamide (hereinafter abbreviated as “DMF”) was added, and the precipitated solid was separated by filtration. The obtained solid was washed with 50 parts of DMF to obtain 20.3 parts of a wet cake.
  • DMF N, N-dimethylformamide
  • the obtained wet cake was added to 100 parts of DMF, heated to 80 ° C., and stirred at the same temperature for 2 hours.
  • the precipitated solid was separated by filtration and washed with 200 parts of water to obtain 18.9 parts of a wet cake.
  • the obtained wet cake was added to 150 parts of water, heated to 90 ° C., and stirred at the same temperature for 2 hours.
  • the precipitated solid was separated by filtration and washed with 200 parts of water to obtain 16.1 parts of a wet cake.
  • the obtained wet cake was dried at 80 ° C. to obtain 12.3 parts of an infrared absorbing dye.
  • the high refractive index resin coating solution E was applied to a PET substrate with a wire bar coater, and the toluene was evaporated by drying at 100 ° C. for 2 minutes, and then a high refractive index resin layer E was produced by UV irradiation. .
  • the content of the fine particles contained in the high refractive index resin layer E is 76% by weight with respect to the entire high refractive index resin layer E.
  • the refractive index at a wavelength of 550 nm and a wavelength of 1200 nm of the produced high refractive index resin layer E was measured with a spectroscopic ellipsometer (trade name “M-2000”, manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.).
  • a value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1200 nm from the refractive index at a wavelength was obtained. Further, the surface resistance of the produced high refractive index resin layer E was measured in the same manner as the measurement of the surface resistance of the high refractive index resin layer A in Example 1.
  • the low refractive index resin coating liquid C was applied to a PET base material with a wire bar coater, and the toluene was evaporated by drying at 100 ° C. for 2 minutes, and then a low refractive index resin layer C was produced by UV irradiation. .
  • the content of the fine particles contained in the low refractive index resin layer C is 66% by weight with respect to the entire low refractive index resin layer C.
  • the refractive index of the produced low refractive index resin layer C at a wavelength of 550 nm and a wavelength of 1200 nm was measured with a spectroscopic ellipsometer (trade name “M-2000”, manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.).
  • a value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1200 nm from the refractive index at a wavelength was obtained. Further, the surface resistance of the produced low refractive index resin layer C was measured in the same manner as the measurement of the surface resistance of the high refractive index resin layer A in Example 1.
  • the wavelength of light reflected by the laminated film is set to 1200 nm
  • the optical thickness of each high refractive index resin layer E at a wavelength of 1200 nm is 300 nm
  • the optical thickness of each low refractive index resin layer C at a wavelength of 1200 nm is 300 nm.
  • the order of low refractive index resin layer C-high refractive index resin layer E (that is, low refractive index resin layer C is a PET group) on the same PET substrate used for the production of the laminated film of Example 1
  • the low refractive index resin layer C and the high refractive index resin layer E are alternately laminated in the order of contact with the material, and the total number of layers of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is 8.
  • the infrared shielding sheet which concerns on an Example was produced.
  • Each low refractive index resin layer C is prepared in the same manner as “Preparation of low refractive index resin layer C” in this example, and each high refractive index resin layer E is “Preparation of high refractive index resin layer E” in this example. It was produced in the same manner as above.
  • Example 7 (Cholesteric liquid crystal film production) LC-242 (rod-like liquid crystal compound, manufactured by BASF Japan Ltd.) 10 parts, LC-756 (chiral agent, manufactured by BASF Japan Ltd.) 0.25 parts, and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide 0.5 part (trade name “Lucirin TPO”, polymerization initiator, manufactured by BASF Japan Ltd.) was added to 26 parts of cyclopentanone to prepare liquid crystal coating liquid A.
  • a liquid crystal coating liquid B was prepared in the same manner as the liquid crystal coating liquid A except that the amount of LC-756 in the liquid crystal film coating liquid A was changed to 0.3 part.
  • liquid crystal coating liquid A By applying the liquid crystal coating liquid A to the same PET base material used in the production of the laminated film of Example 1 with a wire bar coater so that the geometric thickness is 4 ⁇ m, and drying at 130 ° C. for 2 minutes. After evaporating cyclopentanone, a first cholesteric liquid crystal film was produced by UV irradiation. Further, after the liquid crystal coating liquid B was applied to the first cholesteric liquid crystal film with a wire bar coater so as to have a geometric thickness of 4 ⁇ m, and dried at 130 ° C. for 2 minutes to evaporate cyclopentanone. A second cholesteric liquid crystal film was prepared by UV irradiation.
  • the wavelength of light reflected by the laminated film is set to 1200 nm
  • the optical thickness of each high refractive index resin layer A at a wavelength of 1200 nm is 300 nm
  • the optical thickness of each low refractive index resin layer A at a wavelength of 1200 nm is 300 nm.
  • the low refractive index resin in the order of the low refractive index resin layer A-the high refractive index resin layer A (that is, the order in which the low refractive index resin layer A comes into contact with the PET base material) is formed on the cholesteric liquid crystal film.
  • Each low refractive index resin layer A is prepared by the method described in “Preparation of Low Refractive Index Resin Layer A” in Example 1, and each high refractive index resin layer A is formed of “High Refractive Index Resin Layer A” in Example 1. It was produced by the method described in “Production”.
  • Example 8 Infrared shielding sheet according to one embodiment of the present invention, except that a birefringent multilayer film (trade name “Nano90S”, manufactured by Sumitomo 3M Limited) is used in place of the two-layer cholesteric liquid crystal film.
  • a birefringent multilayer film (trade name “Nano90S”, manufactured by Sumitomo 3M Limited) is used in place of the two-layer cholesteric liquid crystal film.
  • Example 9 Tin-doped indium oxide fine particles (trade name “ITO-R”, manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd.) 1 which is a non-hollow fine particle having an average primary dispersion particle diameter of 25.6 nm and a powder resistance of 0.8 ⁇ ⁇ cm when compressed at 60 MPa.
  • ITO-R Tin-doped indium oxide fine particles
  • KAYARAD DPHA 0.04 parts 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (trade name “Lucirin TPO”, photopolymerization initiator, manufactured by BASF Japan Ltd.) 0.01 parts, amino Alkyl methacrylate copolymer dispersant (trade name “DISPERBYK-167”, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) 0.06 part, 1-methoxy-2-propanol (hereinafter referred to as “PGM”) as a solvent
  • PGM 1-methoxy-2-propanol
  • it is dispersed at a peripheral speed of 10 m / s using a bead mill to form a low refractive index resin layer D.
  • a low refractive index resin coating solution D was prepared.
  • the average dispersed particle diameter of the tin-doped indium oxide fine particles was 40 nm.
  • the low refractive index resin coating solution D was applied to a PET substrate with a wire bar coater, and PGM was evaporated by drying at 100 ° C. for 2 minutes, and then a low refractive index resin layer D was produced by UV irradiation. .
  • the content of the fine particles contained in the low refractive index resin layer D is 93% by weight with respect to the entire low refractive index resin layer D.
  • the refractive index at a wavelength of 550 nm and a wavelength of 1200 nm of the produced low refractive index resin layer D was measured with a spectroscopic ellipsometer (trade name “M-2000”, manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.).
  • a value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1200 nm from the refractive index at a wavelength was obtained. Further, the surface resistance of the produced low refractive index resin layer D was measured in the same manner as the measurement of the surface resistance of the high refractive index resin layer A.
  • the wavelength of light reflected by the laminated film is set to 1200 nm
  • the optical thickness of each high refractive index resin layer B at a wavelength of 1200 nm is 300 nm
  • the optical thickness of each low refractive index resin layer D at a wavelength of 1200 nm is 300 nm.
  • the order of the low refractive index resin layer D and the high refractive index resin layer B on a PET substrate (trade name “Cosmo Shine A4100”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 ⁇ m as a transparent support (that is, The low refractive index resin layer D and the high refractive index resin layer B are alternately laminated in the order in which the low refractive index resin layer D comes into contact with the PET substrate, and the number of layers of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is An infrared shielding sheet according to an example of the present invention having a total of 6 was produced.
  • Each low refractive index resin layer D is prepared by the method described in “Preparation of low refractive index resin layer D”
  • each high refractive index resin layer B is described in “Preparation of high refractive index resin layer B” in Example 2. It was produced by the method.
  • the low refractive index resin coating solution E was applied to a PET substrate with a wire bar coater, and the MEK was evaporated by drying at 100 ° C. for 2 minutes, and then a low refractive index resin layer E was produced by UV irradiation. .
  • the refractive index at a wavelength of 550 nm and a wavelength of 1200 nm of the produced low refractive index resin layer E was measured with a spectroscopic ellipsometer (trade name “M-2000”, manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.). A value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1200 nm from the refractive index at a wavelength was obtained. Further, the surface resistance of the produced low refractive index resin layer E was measured in the same manner as the measurement of the surface resistance of the high refractive index resin layer A.
  • the wavelength of light reflected by the laminated film is set to 1200 nm, the optical thickness of each high refractive index resin layer A at a wavelength of 1200 nm is 300 nm, and the optical thickness of each low refractive index resin layer at a wavelength of 1200 nm is 300 nm.
  • the order of high refractive index resin layer A-low refractive index resin layer E (that is, high refractive index resin layer A is the PET base material) on the same PET base material used for the production of the laminated film of Example 1
  • the high refractive index resin layer A and the low refractive index resin layer E are alternately laminated in the order of contact with each other), and the total number of layers of the high refractive index resin layer A and the low refractive index resin layer E is 7.
  • An infrared shielding sheet was produced.
  • Each high refractive index resin layer A was prepared in the same manner as “Preparation of high refractive index resin layer A” in Example 1.
  • the visible light transmittance, haze, and total solar transmittance (Tts) of the infrared shielding sheets of Examples 1 to 9 and Comparative Example 1 were measured by the following methods.
  • Total solar transmittance (Tts) is a measure of how much of the thermal energy from the sun (total solar energy) is transmitted through the material to be measured.
  • the total solar transmittance (Tts) of the infrared shielding sheet was calculated by the measurement method and calculation formula defined in ISO13837. It shows that the total solar radiation energy which permeate
  • the spectral transmittance and spectral reflectance at wavelengths of 300 nm to 2500 nm of the infrared shielding sheets of Example 1 and Comparative Example 1 were measured using a spectrophotometer (Shimadzu Corporation, trade name “UV-3100”) using JIS R 3106. Measured according to The measurement results are shown in FIGS.
  • the infrared shielding sheet according to Example 1 of the present invention has a refractive index at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm (specifically, a wavelength of 1200 nm) from a refractive index at a wavelength of 550 nm.
  • a refractive index at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm specifically, a wavelength of 1200 nm
  • the refractive index at a wavelength of 550 nm of all the low refractive index resin layers is 780 nm to 2500 nm.
  • the wavelength of 780 nm to 1500 nm In addition to efficiently reflecting the infrared rays in the region, absorbing the infrared rays in the wavelength range of 1500 nm to 2500 nm greatly improves the total solar transmittance (Tts). It had.
  • the layer containing the titanium oxide fine particles (high refractive index resin layer B) used as each high refractive index resin layer is the high refractive index resin in the infrared shielding sheet of Example 1.
  • the refractive index in the infrared region (wavelength of 1200 nm) is high, and the low refractive index resin layer at the wavelength in the infrared region Because of the large difference in refractive index, the infrared rays were shielded more efficiently than the infrared shielding sheet of Example 1 (the total solar transmittance was improved).
  • infrared shielding sheet of Example 3 in addition to the infrared absorption of lanthanum hexaboride fine particles, a layer containing lanthanum hexaboride fine particles arranged so as to contact the PET substrate (high refractive index resin layer C), Refraction at the wavelength in the infrared region (wavelength of 1200 nm) as compared with the layer containing the zirconium oxide fine particles (high refractive index resin layer A) arranged so as to contact the PET substrate in the infrared shielding sheet of Example 1
  • the infrared rays were shielded more efficiently than the infrared shielding sheet of Example 1 because the refractive index was high and the refractive index difference with the low refractive index resin layer at the wavelength in the infrared region was large (the total solar transmittance was improved). did).
  • tin-doped indium oxide fine particles ITO were added without substantially changing the infrared refractive index of the low refractive index resin layer by adding the hollow fine particles in the infrared shielding sheet of Example 1. Since the absorption wavelength by the low-refractive index resin layer containing sucrose could be lowered, the total solar transmittance (Tts) was improved as compared with the infrared shielding sheet of Example 1.
  • the infrared shielding sheets of Examples 6 to 8 are obtained by combining the laminated film used in the infrared shielding sheet of Example 1 with an infrared absorbing dye, a cholesteric liquid crystal film, or a birefringent multilayer film. Compared with the infrared shielding sheet, the infrared rays could be shielded more effectively while maintaining the visible light transmittance (total solar transmittance was improved).
  • the infrared shielding sheet of Example 9 is obtained by setting the content of fine particles contained in the low refractive index resin layer in the range of 90 to 95% by weight (specifically, 93% by weight). Compared with, infrared rays could be shielded more effectively while maintaining visible light transmittance (total solar transmittance was improved).
  • the infrared shielding sheet of Comparative Example 1 does not absorb infrared rays (infrared rays in the wavelength range of 1500 nm to 2500 nm) due to fine particles, so that the total solar transmittance (Tts) is insufficient, and humans feel irritated. Because infrared rays (heat rays) in the region of 1500 nm or more that feels light is not shielded, when the infrared shielding sheet of Comparative Example 1 is laid on the window glass of a house or car, people in the house or car feel uncomfortable There is a concern that
  • each layer is produced on a PET substrate alone for measurement. A sample was obtained. And the surface resistance of the produced layer was measured using the surface resistance meter (The Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. make, brand name "Hiresta UP" and brand name "Loresta GP"). (Measurement of refractive index and ⁇ n of each layer) In the same manner as the production of each layer (high refractive index resin layer, low refractive index resin layer) in Examples 10 to 15 and Comparative Example 2 below, each layer is produced on a PET substrate alone for measurement.
  • the refractive index of the prepared layer at a wavelength of 550 nm and a wavelength of 1000 nm was measured with a spectroscopic ellipsometer (trade name “M-2000”, manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.), and at a wavelength of 550 nm.
  • a value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1000 nm from the refractive index was obtained.
  • Example 10 (Preparation of low refractive index resin coating solution F) Hollow silica fine particles (trade name “Suriria 1110”, average primary particle size 50 nm, solid content concentration 20% by weight, JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) in a solution of 0.4 part of KAYARAD DPHA and 0.05 part of Irgacure 184 in MEK 4 parts
  • a low refractive index resin layer coating solution F for forming a low refractive index resin layer F was prepared by dispersing 3 parts of a company-made dispersion medium (methyl isobutyl ketone).
  • the wavelength of light reflected by the laminated film is set to 1000 nm, and the optical thickness and the QWOT coefficient of each layer at the wavelength of 1000 nm are displayed on the same PET substrate used for the production of the laminated film of Example 1.
  • an infrared shielding sheet in which the total number of layers of the high refractive index resin layer and the low refractive index resin layer is 8.
  • the refractive index of each layer at a wavelength of 550 nm in the table, expressed as “refractive index n (550 nm”)
  • the refractive index at a wavelength of 1000 nm in the table, “refractive index n ( 1000 nm) ”
  • the value ⁇ n obtained by subtracting the refractive index at a wavelength of 1000 nm from the refractive index at a wavelength of 550 nm are also shown.
  • Example 11 The wavelength of the light reflected by the laminated film was set to 1000 nm, and each layer was laminated so that the optical thickness of each layer at the wavelength of 1000 nm and the QWOT coefficient thereof were the values shown in Table 3.
  • Example 12 The wavelength of light reflected by the laminated film is set to 1000 nm, and the high refractive index resin layer B using the high refractive index resin coating liquid B and the low refractive index resin layer F using the low refractive index resin coating liquid F;
  • the total number of layers in which the layers are alternately stacked is changed from 4 layers to 6 layers, and a low refractive index resin coating A and a low refractive index resin coating A are used.
  • the total number of layers where the refractive index resin layers are alternately laminated is changed from 4 layers to 6 layers so that the optical thickness of each layer at a wavelength of 1000 nm and its QWOT coefficient become the values shown in Table 4.
  • An infrared shielding sheet according to an example of the present invention in which the total number of high refractive index resin layers and low refractive index resin layers was 12 was produced in the same manner as in Example 10 except that each layer was laminated.
  • Example 13 (Preparation of low refractive index resin layer G) First, except that the amount of tin-doped indium oxide fine particles was changed to 1.1 parts, tin doping was performed in the same manner as in the preparation of the low refractive index resin coating liquid A in “Preparation of low refractive index resin layer A” in Example 1. An indium oxide fine particle dispersion was prepared.
  • hollow silica fine particles (trade name “Thruria 1110”, average primary particle size 50 nm, solid content concentration 20% by weight, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, dispersion medium: methyl isobutyl ketone) 1 5 parts were dispersed to prepare a low refractive index resin coating solution G for forming the low refractive index resin layer G.
  • the wavelength of the light reflected by the laminated film is set to 1000 nm, and the coating solution used for the production of the layer “4” in Table 2 is changed to the low refractive index resin coating solution G, and “7” and “8” in Table 2.
  • the high refractive index resin layer and the low refractive index were removed in the same manner as in Example 10 except that each layer was laminated so that the optical thickness of each layer at a wavelength of 1000 nm and the QWOT coefficient thereof were the values shown in Table 5.
  • An infrared shielding sheet according to an example of the present invention in which the total number of the rate resin layers was 6 was produced.
  • the layer “4” was prepared by applying a low refractive index resin coating solution G with a wire bar coater and evaporating the solvent by drying at 100 ° C. for 2 minutes, followed by UV irradiation.
  • Example 14 Infrared absorbing dye synthesis example
  • 2.3 parts of an infrared absorbing dye was obtained.
  • infrared absorbing dye layer 0.02 part of the synthesized infrared absorbing dye, 1 part of KAYARAD DPHA, 0.05 part of Irgacure 184 and 0.01 part of aminoalkyl methacrylate copolymer dispersant are added to 7 parts of toluene, and the peripheral speed is measured using a bead mill.
  • An infrared absorbing dye-containing coating solution for forming an infrared absorbing dye layer was prepared by dispersing at 10 m / s.
  • the infrared absorbing dye-containing coating solution is applied to the same PET base material used in the production of the laminated film of Example 1 with a wire bar coater so that the geometric thickness is 4 ⁇ m, and dried at 100 ° C. for 2 minutes. After evaporating the solvent, an infrared absorbing dye layer was prepared by UV irradiation.
  • Example 15 (Cholesteric liquid crystal film production) First, in the same manner as in Example 7, first and second cholesteric liquid crystal layers were produced on the same PET substrate used for producing the laminated film of Example 1.
  • the wavelength of the light reflected by the laminated film is set to 1000 nm, the arrangement order of the layers in the laminated film is reversed, and on the surface of the PET substrate opposite to the surface on the cholesteric liquid crystal layer side,
  • the number of layers of the high-refractive index resin layer and the low-refractive index resin layer is the same as in Example 13 except that each layer is laminated so that the optical thickness at a wavelength of 1000 nm and its QWOT coefficient are the values shown in Table 6.
  • An infrared shielding sheet according to an example of the present invention having a total of 6 was produced.
  • the wavelength of the light reflected by the laminated film is set to 1000 nm, and the coating solution used for producing the layers “2”, “4”, “6”, and “8” in Table 2 is changed to the low refractive index resin coating solution E,
  • the layers of the high-refractive index resin layer and the low-refractive index resin layer were the same as in Example 10 except that each layer was laminated such that the optical thickness at a wavelength of 1000 nm and its QWOT coefficient were the values shown in Table 7.
  • a comparative infrared shielding sheet having a total number of 8 was prepared.
  • the visible light transmittance, haze, and total solar transmittance (Tts) of the infrared shielding sheets of Examples 10 to 15 and Comparative Example 2 were measured by the following methods.
  • the visible light transmittance, haze, and total solar energy of the infrared shielding sheets of Examples 10 to 15 and Comparative Example 2 and the visible light transmittance of the infrared shielding sheets of Examples 1 to 9 and Comparative Example 1, It measured similarly to the measurement of haze and a total solar transmittance (Tts).
  • Table 8 shows the measurement results.
  • the infrared shielding sheet according to Example 10 of the present invention has a refractive index at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm (specifically, a wavelength of 1000 nm) from a refractive index at a wavelength of 550 nm.
  • a refractive index at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm specifically, a wavelength of 1000 nm
  • the refractive index at a wavelength of 550 nm of all the low refractive index resin layers is 780 nm to 2500 nm.
  • the infrared shielding sheet according to Example 10 of the present invention has a QWOT coefficient of optical thickness at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm (specifically, a wavelength of 1000 nm) of 1.
  • the QWOT coefficient of optical thickness is less than 1.5 for all layers at an arbitrary wavelength of 780 nm to 2500 nm (specifically, a wavelength of 1000 nm)
  • Infrared shielding sheets of Example 14 and Example 15 combine the laminated film used in the infrared shielding sheet of Example 1 with an infrared absorbing dye or a cholesteric liquid crystal film, while maintaining visible light transmittance, Infrared rays could be shielded more effectively (total solar transmittance improved).
  • the infrared shielding sheet of Comparative Example 2 does not absorb infrared rays (infrared rays having a wavelength of 1500 nm to 2500 nm) due to fine particles, so that the total solar transmittance (Tts) is insufficient. Because infrared rays (heat rays) in the region of 1500 nm or more that feels light is not shielded, when the infrared shielding sheet of Comparative Example 1 is laid on the window glass of a house or car, people in the house or car feel uncomfortable There is a concern that
  • Example 16 (Preparation of interlayer film for laminated glass) A PVB film as the first intermediate film was superposed on the infrared shielding sheet of Example 10 thus produced to obtain a laminate.
  • the laminated body at a position of 1 mm or less from the edge of the infrared shielding sheet on the entire circumference (four sides) is sandwiched between two heating rollers for laminating disposed on the front side and the back side of the obtained laminated body, and infrared shielding is performed.
  • the sheet and the first intermediate film were bonded together by thermocompression bonding.
  • the laminating heating roller sets the temperature of the laminating roller on the intermediate film side to 25 ° C.
  • the temperature of the heating roller for laminating on the transparent support (PET substrate) side was set to 120 ° C. so that the embossing was sufficiently crushed to improve the adhesion between the first intermediate film and the infrared shielding sheet.
  • a PVB film as a second intermediate film is laminated on the back surface of the surface of the infrared shielding sheet on which the first intermediate film is bonded, and an interlayer film for laminated glass including the infrared shielding sheet of Example 10 is produced. did.
  • the laminated interlayer film for laminated glass using the infrared shielding sheet of Example 10 prepared above was superposed in the order of glass plate / first interlayer film / infrared shielding sheet / second interlayer film / glass plate.
  • a laminated body in which an interlayer film for laminated glass was sandwiched between two glass plates was produced.
  • the edge part of two glass plates and the edge part of the 1st and 2nd intermediate film were the same positions.
  • a glass plate having a thickness of 2 mm was used as the glass plate.
  • the obtained laminated body in which the interlayer film for glass was sandwiched between the two glass plates was pre-pressed for 30 minutes at 95 ° C. under vacuum.
  • the laminate sandwiched between the glass plates was pressure-bonded while being heated in an autoclave under the conditions of 1.3 MPa and 120 ° C. to produce a laminated glass.
  • the interlayer film for laminated glass including the infrared shielding sheet of Example 10 five types of interlayer films for laminated glass including the infrared shielding sheets of Examples 11 to 15 were used, respectively.
  • five types of laminated glasses each including the infrared shielding sheets of Examples 11 to 15 were produced.
  • Example 16 When the performance of the laminated glass including the infrared shielding sheets of Examples 10 to 15 prepared in Example 16 was evaluated, the laminated glass including the infrared shielding sheets of Examples 10 to 15 was remarkable. It was confirmed that the glass was good without defects and streaks, and it worked as a transparent heat-shielding glass having a haze of 0.5% or less.
  • the present invention it has been found that, by providing infrared reflectivity utilizing a difference in refractive index in addition to the infrared absorption capability of fine particles, temperature rise due to infrared rays is suppressed as compared with conventional infrared shielding sheets.
  • the infrared shielding sheet of the present invention is laid on the window glass of a house or car, the temperature rise of the space of the house or car is suppressed, the load on the air conditioner of the house or car is reduced, and energy saving or global environmental problems Can contribute.
  • the infrared shielding sheet of the present invention can selectively shield light in the infrared region, a window member for a building, a window member for a vehicle, a refrigerator, a window glass for a frozen showcase, an IR cut filter, It can be used to prevent forgery.
  • Infrared shielding sheet may include transparent support
  • 5 ′ glass plate 20
  • transparent support 21 high refractive index resin layer 22

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Abstract

 赤外線遮蔽シートは、微粒子を含有した高屈折率樹脂層と、微粒子を含有した低屈折率樹脂層とが交互に積層した積層膜を備え、前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、550nmの波長での屈折率から780nm~2500nmの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であり、前記低屈折率樹脂層が、550nm以上前記任意波長以下の任意の波長において前記高屈折率樹脂層よりも低い屈折率を示す。

Description

赤外線遮蔽シート及びその製造方法並びにその用途
 本発明は、効率的に赤外線を吸収及び反射するとともに透明性に優れ、低ヘイズ性の新たな赤外線遮蔽シート及びその製造方法並びにその用途(ガラス用中間膜、合わせガラス、及び窓用部材)に関するものである。
 近年、省エネルギーや地球環境問題の観点から、空調機器の負荷を軽減することが求められている。例えば、住宅や自動車の分野では、太陽光からの赤外線を遮蔽できる赤外線遮蔽材料を窓ガラスへ敷設し、室内や車内の温度を制御することが求められている。
 赤外線遮蔽性を有する材料は様々あるが、特許文献1では、赤外線領域の特定波長の光線を反射させるために、相対向する少なくとも2枚のガラス基板間に、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された多層膜(誘電体多層膜)からなる赤外線反射フィルムと、アンチモンドープ錫酸化物等の赤外線を遮蔽する導電性超微粒子を均一に分散させてなる機能性合わせ中間膜(微粒子膜)とを積層した高断熱合わせガラスが開示されている。この高断熱合わせガラスは、誘電体多層膜と微粒子膜とを別々に成膜する必要があるため、製造コストの問題がある。
 特許文献2では、赤外線領域の特定波長の光線を反射させるために、第1のガラス板と第2のガラス板との間に、高屈折率無機質材料層と低屈折率無機質材料層とが交互に積層された積層被膜(誘電体多層膜)と、ITO(スズドープ酸化インジウム)等の赤外線遮蔽性微粒子が分散配合された中間膜(微粒子膜)とを積層した車両窓用合わせガラスが開示されている。この車両窓用合わせガラスは、誘電体多層膜と微粒子膜とを別々に成膜する必要があるため、製造コストの問題がある。
 特許文献3では、ガラス基板上に、透明導電層と赤外線領域における屈折率が透明導電層の屈折率より相対的に高い高屈折率層とが交互に積層された断熱ガラスが開示されている。しかし、この断熱ガラスは、赤外線領域の低屈折率層として導電体のみからなる層が用いられているため、携帯電話電波、テレビ電波、GPS(全地球測位システム)電波等の電波の送受信を室内外で行うための電波透過性能が求められるシステムに対しては使用できないという問題がある。さらに、この断熱ガラスは、導電体のみからなる層を形成するためにスパッタ等の真空設備が必要なため、製造コストの問題がある。
特開2002-220262号公報 国際公開第2007/020791号パンフレット 特開2010-202465号公報
 本発明は、可視光領域における透明性、電波透過性、赤外線遮蔽性、製造コストを大幅に改善した新たな赤外線遮蔽シートを提供することを目的とする。
 本願発明者らは、従来技術のこのような問題に対して鋭意検討した結果、微粒子を含有した高屈折率樹脂層と、微粒子を含有した低屈折率樹脂層とが交互に積層した積層膜を備える赤外線遮蔽シートにおいて、前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、550nmの波長での屈折率から780nm~2500nmの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であり、前記低屈折率樹脂層が、550nm以上前記任意波長以下の任意の波長において前記高屈折率樹脂層よりも低い屈折率を示す構成とすることにより、透明性、電波透過性を有し、かつ製造コスト、赤外線遮蔽性が大幅に改善された新たな赤外線遮蔽シートを実現できることを見出し、本発明を完成するに至った。
 即ち、本発明の赤外線遮蔽シートは、微粒子を含有した高屈折率樹脂層と、微粒子を含有した低屈折率樹脂層とが交互に積層した積層膜を備える赤外線遮蔽シートにおいて、
 前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、550nmの波長での屈折率から780nm~2500nmの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であり、
 前記低屈折率樹脂層が、550nm以上前記任意波長以下の任意の波長において前記高屈折率樹脂層よりも低い屈折率を示すことを特徴としている。
 本発明の赤外線遮蔽シートは、赤外線の広い領域に対して良好な吸収特性に加え反射特性を有し且つ、電波透過性、透明性、製造コストに優れ、低ヘイズ性であり、赤外線遮蔽性能を効果的に大幅に向上させることができる。本発明の赤外線遮蔽シートを住宅や自動車の窓ガラスに敷設した場合に住宅や自動車の冬季暖房費低減効果および夏期温度低減効果を両方ともに向上させることができる。
本発明の実施例1に係る赤外線遮蔽シートの波長に対する透過率及び反射率を示すグラフである。 本発明の比較例1に係る赤外線遮蔽シートの波長に対する屈折率及び反射率を示すグラフである。 本発明の実施例10に係る赤外線遮蔽シートの波長に対する透過率及び反射率、並びに地表へ到達する太陽光のエネルギーを示すグラフである。 本発明の比較例2に係る赤外線遮蔽シートの波長に対する屈折率及び反射率を示すグラフである。 本発明の実施形態に係る合わせガラス用中間膜の一例を模式的に示す断面図である。 図5に示す合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラスの一例を模式的に示す断面図である。 本発明の一例に係る赤外線遮蔽シートを模式的に示す断面図である。
 本発明の赤外線遮蔽シートは、微粒子を含有した高屈折率樹脂層と、微粒子を含有した低屈折率樹脂層とが交互に積層した積層膜を備える赤外線遮蔽シートにおいて、前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、550nmの波長での屈折率から780nm~2500nmの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であり、前記低屈折率樹脂層が、550nm以上前記任意波長以下の任意の波長において前記高屈折率樹脂層よりも低い屈折率を示すものである。前記構成によれば、前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、550nmの波長での屈折率から780nm~2500nmの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であるので、550nmの波長における低屈折率樹脂層の少なくとも1層とそれに隣接する高屈折率樹脂層との屈折率差を小さくしながら、780nm~2500nmの任意波長における低屈折率樹脂層の少なくとも1層とそれに隣接する高屈折率樹脂層との屈折率差を大きくすることができる。その結果、良好な可視光透過率と良好な赤外線遮蔽性とを併せ持つ赤外線遮蔽シートを実現できる。また、前記構成によれば、微粒子を含有した高屈折率層及び微粒子を含有した低屈折率層が何れも樹脂層であるため、塗布等により容易に製造することが可能であり製造コストの低減を図ることができる。また、前記構成によれば、微粒子を含有した高屈折率層及び微粒子を含有した低屈折率層が何れも樹脂層であるため、電波透過性を有する赤外線遮蔽シートを実現できる。なお、本出願書類中において、「赤外線領域」とは、波長780nm~2500nmの領域を示す。
 前記低屈折率樹脂層は、全ての層が550nmの波長での屈折率から780nm~1500nmの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であってもよい。また、本発明の赤外線遮蔽シートにおいて、前記高屈折率樹脂層が、550nmの波長での屈折率から780nm~1500nmの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以下であり、前記低屈折率樹脂層が、550nmの波長での屈折率から780nm~1500nmの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であってもよい。これにより、550nmの波長における低屈折率樹脂層と高屈折率樹脂層との屈折率差を小さくしながら、780nm~1500nmの任意波長における低屈折率樹脂層と高屈折率樹脂層との屈折率差をさらに大きくすることができる。その結果、良好な可視光透過率を維持しながら、さらに良好な赤外線遮蔽性を持つ赤外線遮蔽シートを実現できる。
 前記赤外線遮蔽シートは、透明支持体をさらに備え、前記透明支持体上に前記積層膜が形成されていることが好ましい。
 本発明の一例に係る赤外線遮蔽シートは、図7に示すように、透明支持体20上に、微粒子を含有した高屈折率樹脂層21と、微粒子を含有した低屈折率樹脂層22とが交互に積層した積層膜23を備えている。なお、図7に示す例では、高屈折率樹脂層21及び低屈折率樹脂層22の層数の合計が偶数(8)であり、積層膜23における透明支持体20側の端の層が低屈折率樹脂層22となっているが、高屈折率樹脂層21及び低屈折率樹脂層22の層数の合計を奇数(例えば7)とし、積層膜23における透明支持体20側の端の層が高屈折率樹脂層21となるようにしてもよい。
 前記透明支持体としては、種々の樹脂フィルム、ガラス等を用いることができる。前記樹脂フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のポリオレフィンフィルム;ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」と略記する)フィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレート(以下、「PEN」と略記する)フィルム等のポリエステルフィルム;ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム;三酢酸セルロースフィルム;ポリアミドフィルム;ポリイミドフィルム等を用いることができる。
 高屈折率樹脂層と低屈折率樹脂層とを交互に積層してなる積層膜を備える赤外線遮蔽シートは、赤外線領域における両者の屈折率差と、高屈折率樹脂層の屈折率の絶対値とが赤外線反射機能を決定するのに重要となる。即ち、屈折率差、屈折率の絶対値とも、大きい方が赤外線反射機能は大きくなる。
 本発明において、少なくとも隣接した2層(高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層)の屈折率差が、積層膜が反射させる赤外線波長(780nm~2500nmの赤外線領域から任意に設定される波長)において、0.1以上であることが好ましく、0.2以上であることがより好ましく、0.3以上であることがさらに好ましく、0.35以上であることが特に好ましい。
 隣接した2層の屈折率差が、積層膜が反射させる赤外線波長において0.1未満の場合は、赤外線反射率を所望の値にするためには積層数が多くなり、可視光透過率が低下し、また製造コストが増加するため、好ましくない。
 ここで、図3に示すように地表に到達する太陽光の赤外線領域はエネルギーの山がいくつかあり、太陽光の赤外線領域を遮蔽したい場合は、これらエネルギーの山を効率的に遮蔽することが重要となる。そこで、本願発明者らが、鋭意検討した結果、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の少なくとも1層の光学膜厚の、780nm~2500nmの任意波長におけるQWOT係数を1.5以上にすることで、太陽光の赤外線領域を効率的に遮断できることを見出した。ここで、光学厚さのQWOT(quarter wave optical thickness)係数は、nd=λ/4のときを1とする。
 ここで、nは高屈折率樹脂層又は低屈折率樹脂層の屈折率を表し、dは高屈折率樹脂層又は低屈折率樹脂層の幾何学厚さを表し、λは積層膜が反射させる赤外線波長(780nm~2500nmの赤外線領域から任意に設定される波長)を表す。
 本発明の赤外線遮蔽シートでは、前記低屈折率樹脂層が、780nm~2500nmの任意波長において前記高屈折率樹脂層よりも低い屈折率を示すことが好ましい。また、本発明の赤外線遮蔽シートとしては、前記低屈折率樹脂層が、波長780nm~2500nmの任意波長において前記高屈折率樹脂層よりも低い屈折率を示し、前記高屈折率樹脂層の少なくとも1層、及び/または前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層の、780nm~2500nmの任意波長における光学厚さのQWOT係数が、1.5以上である構成の赤外線遮蔽シートが好ましい。これにより、太陽光の赤外線領域のエネルギーの山を効果的に反射でき、赤外線をより効率的に遮蔽することができる。
 前記構成の赤外線遮蔽シートにおいて、前記任意波長における光学厚さのQWOT係数が1.5以上である層に隣接する高屈折率樹脂層又は低屈折率樹脂層の少なくとも1層は、前記任意波長における光学厚さのQWOT係数が1以上であることが好ましい。これにより、前記任意波長より短波長側の赤外線領域(例えば780nm以上1000nm未満)の赤外線をより効率的に遮蔽することができる。また、前記構成の赤外線遮蔽シートは、前記任意波長における光学厚さのQWOT係数が1である高屈折率樹脂層を少なくとも1層含み、かつ前記任意波長における光学厚さのQWOT係数が1である低屈折率樹脂層を少なくとも1層含むことが好ましい。これにより、前記任意波長付近の波長の赤外線を効率的に遮蔽することができる。また、前記構成の赤外線遮蔽シートにおいて、前記任意波長は、780nm~1500nmの任意波長であることが好ましい。これにより、赤外線をより効率的に遮蔽することができる。
 高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層のうちで光学厚さのQWOT係数が1.5以上である層を除く層については、積層膜が反射させる赤外線波長λは、一般的に、下記式(1)で与えられる。
 n+n=λ/2 …(1)
ここで、n及びdは高屈折率樹脂層の屈折率及び幾何学厚さをそれぞれ表し、n及びdは低屈折率樹脂層の屈折率及び幾何学厚さそれぞれ表す。
 なお、高屈折率樹脂層の光学厚さ(屈折率nと幾何学厚さdとの積)及び低屈折率樹脂層の光学厚さ(屈折率nと幾何学厚さdとの積)は、各々がλ/4の整数倍となるよう、互いに同一にしてもよい。即ち、前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の各々の780nm~1500nmの任意波長における光学厚さ(例えば1200nmの波長における光学厚さ)が195nm~375nmであってもよい。これにより、良好な可視光透過率と良好な赤外線遮蔽性とを併せ持つ赤外線遮蔽シートを実現できる。
 また、積層膜が反射させる赤外線波長λは、780nm~2500nmであればよいが、780nm~1500nmであることがより好ましい。積層膜が反射させる赤外線波長λが780nm未満の場合は、積層膜が反射させる赤外線波長λが可視光領域の波長になるため、赤外線遮蔽シートの可視光透過率が低下するので、好ましくない。また、積層膜が反射させる赤外線波長λが1500nmを超えると、低屈折率樹脂層に含有される微粒子による吸収があるので、赤外線遮蔽効果が薄れるため、好ましくない。
 本発明の赤外線遮蔽シートにおける高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計(多層膜の層数)は、3以上であることが好ましく、4以上であることがより好ましい。高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が3未満であると、赤外線の反射機能が不十分である。また、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が3以上である場合、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計は、3~30であることがより好ましく、3~20であることがさらに好ましく、3~15であることが特に好ましい。また、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が4以上である場合、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計は、4~30であることがより好ましく、4~20であることがさらに好ましく、4~15であることが特に好ましい。高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が30を超えると、製造コストの増加、可視光透過率の低下、耐久性の低下、並びに高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層からなる多層膜の応力増加による赤外線遮蔽シートのカールが問題となるので、好ましくない。
 赤外線遮蔽シートの光学性能としては、可視光透過率が高く、全日射透過率が低いものが理想的であるが、一般的には両者は比例関係にあり、どちらの性能を重視するかにより光学性能を決定することになる。種々検討した結果、本発明の赤外線遮蔽シートを住宅や自動車の窓ガラスに敷設した場合に住宅や自動車の内部の照明コスト並びに冬季の暖房コストの上昇を最小限にするためには、本発明の赤外線遮蔽シートの可視光透過率は、50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましい。前記赤外線遮蔽シートの全日射透過率は、赤外線をより効果的に遮蔽するために、80%以下であることが好ましく、75%以下であることがより好ましい。さらに、赤外線遮蔽シートのヘイズは、透明性を損なわないものとする必要があり、8%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。
 高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を利用した塗布による高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した多層膜を作製する場合、従来の技術では高屈折率樹脂層に屈折率が高い誘電体微粒子(酸化チタン微粒子等)を含有させ、低屈折率樹脂層に屈折率が低い誘電体微粒子(シリカ微粒子等)を含有させていた(例えば、特開2012-93481号公報)。可視光領域から赤外線領域にわたって前記誘電体微粒子の屈折率は概ね一定であり、可視光領域から赤外線領域にわたって前記低屈折率樹脂層の屈折率も概ね一定である。
 しかし、本願発明者らは鋭意検討した結果、可視光領域の550nmの波長での屈折率から赤外線領域の780nm~2500nmの任意波長(特に780nm~1500nmの任意波長)における屈折率を差し引いた値が0.1以上である、微粒子を含有する低屈折率樹脂層を発見し、さらに前記微粒子を含有する低屈折率樹脂層が赤外吸収能も有していることから、前記微粒子を含有する低屈折率樹脂層を、微粒子を含有する高屈折率樹脂層(特に550nmの波長での屈折率から780nm~1500nmでの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以下である高屈折率樹脂層、例えば従来の技術に使用されている酸化チタン等の誘電体微粒子を含有する高屈折率樹脂層)を組み合わせることで、従来の技術より効率的に赤外線領域の光を遮蔽することが可能となることを見出した。
 前記条件が満たされる前記高屈折率樹脂層に含有される微粒子は、可視光領域の光吸収が少なく、赤外線領域で高屈折率を示す微粒子が適している。そのような微粒子としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、酸化亜鉛、ダイヤモンド等の誘電体からなる誘電体微粒子を例示することができる。これらのうち、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、及びダイヤモンドの少なくとも一種の誘電体微粒子が好適である。また、上に挙げた誘導体からなる誘電体微粒子以外に、赤外線領域で高屈折率を示し、かつ、赤外吸収能を有する電気伝導性の金属酸化物微粒子として、ホウ化物の微粒子、窒化物の微粒子を例示することができる。ホウ化物の微粒子、窒化物の微粒子としては、具体的には、六ホウ化ランタンの微粒子、窒化チタンの微粒子が好適である。前記高屈折率樹脂層の少なくとも1層は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、酸化亜鉛、ダイヤモンド、ホウ化物、及び窒化物からなる群より選択される少なくとも一種の微粒子を含むことが好ましい。
 これら赤外線領域で高屈折率を示す微粒子は、単独で用いられてもよく、2種類以上を併用しても良く、さらに積層膜中の各々の高屈折率樹脂層において別々の微粒子を用いても構わない。
 また、少なくとも1層の低屈折率樹脂層に含有される微粒子は、可視光領域の光吸収が少なく、赤外線領域で良好な光吸収を有し、かつ屈折率が高屈折率樹脂層に含有される微粒子よりも相対的に低い屈折率を有しているものが適している。そのような微粒子としては、赤外線領域にプラズマ波長を持っている電気伝導性の金属酸化物微粒子が挙げられる。そのような金属酸化物微粒子としては、具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン等の金属酸化物の微粒子を例示することができる。これらのうち、可視光領域における光吸収性の少ない酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化タングステンの少なくとも1種からなる群より選択される少なくとも一種の微粒子が好ましく、それらの中でも酸化インジウムの微粒子がさらに好ましい。
 また、これらの金属酸化物微粒子の電気導電性を向上させるために、これらの金属酸化物微粒子に対して、第三成分(第三の元素;ドーパント)をドープすることが好ましい。酸化スズの微粒子に対してドープされるドーパントとしては、アンチモン(Sb)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)等が挙げられ、酸化インジウムの微粒子に対してドープされるドーパントとしては、亜鉛(Zn)、アルミニウム(Al)、スズ(Sn)、アンチモン、ガリウム(Ga)、ゲルマニウム(Ge)等が挙げられ、酸化亜鉛の微粒子に対してドープされるドーパントとしては、アルミニウム、ガリウム、インジウム(In)、スズ、アンチモン、ニオブ等が挙げられ、酸化タングステンの微粒子に対してドープされるドーパントとしては、セシウム(Cs)、ルビジウム(Rb)、カリウム(K)、タリウム(Tl)、インジウム、バリウム(Ba)、リチウム(Li)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、鉄(Fe)、スズ、アルミニウム、銅(Cu)等が挙げられる。また、これらの金属酸化物微粒子の電気導電性を向上させるために、第三成分を酸素欠陥にすることも好ましい。すなわち、これらの金属酸化物微粒子に酸素欠陥を持たせてもよい。酸化タングステンの微粒子に対して酸素欠陥を持たせた金属酸化物微粒子としては、WO(但し、2.45≦x≦2.999)等の組成式で表される酸素欠陥酸化タングステン(酸素欠乏酸化タングステン)の粒子等が挙げられる。第三成分をドープしたか、または酸素欠陥を持たせた金属酸化物微粒子の中でも、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、スズドープ酸化インジウム(以下、適宜「ITO」と略記する)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、酸素欠乏酸化タングステン、及びセシウムドープ酸化タングステンからなる群より選択される少なくとも一種の微粒子が好ましく、スズドープ酸化インジウムがより好ましい。
 さらに、前記金属酸化物微粒子は、60MPaで圧縮した際の粉体抵抗が、100Ω・cm以下であることが好ましく、10Ω・cm以下であることがより好ましく、1Ω・cm以下であることがさらに好ましい。60MPaで圧縮した際の粉体抵抗が100Ω・cmより高い微粒子を用いた場合、微粒子のプラズマ共鳴に由来する吸収が2500nmより大きくなり、赤外線遮蔽効果が低減する。なお、粉体抵抗の測定法としては、粉体抵抗測定システムMCP-PD51型(株式会社三菱化学アナリテック製)を用いる方法が好ましいが、これに限定されるものではない。
 また、前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層は、非中空微粒子(中実微粒子)、特に酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化タングステンからなる群より選択される少なくとも一種の非中空微粒子を含む場合において、前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層(非中空微粒子を含む層と同じでも異なっていてもよい)が中空微粒子を含むことが好ましく、低屈折率である中空微粒子(特に前記非中空微粒子より低屈折率である中空微粒子)を含むことがより好ましい。これにより、赤外線遮蔽シートの赤外線遮蔽効果をさらに向上させることができる。
 前記中空微粒子としては、中空シリカ微粒子、中空アクリルビーズ(中空アクリル樹脂微粒子)等の公知の中空微粒子を用いることができる。前記非中空微粒子としては、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化タングステンの少なくとも1種からなる群より選択される少なくとも一種の非中空微粒子が好ましく、アンチモンドープ酸化スズ、ITO、ガリウムドープ酸化亜鉛、酸素欠乏酸化タングステン、及びセシウムドープ酸化タングステンからなる群より選択される少なくとも一種の非中空微粒子がより好ましい。
 前記中空微粒子の空孔率は、10体積%~90体積%であることが好ましい。前記中空微粒子の空孔率が10体積%未満である場合は、中空微粒子内の空孔による微粒子の屈折率が低下する効果が小さくなり、中空微粒子を低屈折率樹脂層に用いることによる効果が小さくなる。また、中空微粒子の空孔率が90体積%より高い場合、中空微粒子の機械的強度が低下し、前記中空微粒子が中空の状態を保てなくなるので、好ましくない。
 前記低屈折率樹脂層に含有される微粒子として金属酸化物非中空微粒子等の非中空微粒子と中空微粒子とを組み合わせる場合、低屈折率樹脂層に含有される微粒子のうち非中空微粒子の割合は、10重量%~90重量%であることが好ましく、20重量%~90重量%であることがより好ましい。非中空微粒子の割合が10重量%未満の場合は、非中空微粒子による赤外線吸収能が不足するので、好ましくない。また、非中空微粒子の割合が90重量%より多い場合は、中空微粒子の割合が少なくなり、好ましくない。
 また、前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、前述した電気伝導性の金属酸化物微粒子(以下、「電気伝導性微粒子」と称する)(特に、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化タングステンからなる群より選択される少なくとも一種の微粒子)を含む場合、前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層(電気伝導性の金属酸化物微粒子を含む層と同じでも異なっていてもよい)が、低屈折率の誘電体微粒子を含むことができる。前記誘電体微粒子としては、シリカ微粒子、フッ化マグネシウム微粒子等を用いることができる。さらに、前記誘電体微粒子として、中空誘電体微粒子も用いることができる。前記中空誘電体微粒子としては、例えば、中空シリカ微粒子、中空アクリルビーズ等の中空誘電体微粒子を挙げることができる。前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が電気伝導性の金属酸化物微粒子(特に、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化タングステンからなる群より選択される少なくとも一種の微粒子)を含む場合に、前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層(電気伝導性の金属酸化物微粒子を含む層と同じでも異なっていてもよい)がシリカ微粒子、特に中空シリカ微粒子を含むことで、前記低屈折率樹脂層の屈折率を下げて赤外線をより効果的に遮蔽することができる。
 低屈折率樹脂層全体として電気伝導性微粒子と誘電体微粒子(特に中空誘電体微粒子)とを組み合わせて使用する場合、低屈折率樹脂層全体に含有される微粒子のうち、電気伝導性微粒子の割合は10重量%~90重量%であることが好ましく、20重量%~90重量%であることがより好ましい。電気伝導性微粒子の割合が10重量%未満の場合は、金属酸化物による赤外線吸収能が不足するので、好ましくない。電気伝導性微粒子の割合が90重量%より多い場合は、誘電体微粒子(特に中空誘電体微粒子)の割合が少なくなり、好ましくない。
 低屈折率樹脂層に用いる微粒子(電気伝導性微粒子、誘電体微粒子、中空微粒子等)は、単独で用いてもよく、2種類以上で用いてもよい。低屈折率樹脂層に2種類以上の微粒子を用いる場合、異なる種類の微粒子を別の低屈折率樹脂層に含有させてもよく、異なる種類の微粒子を同じ低屈折率樹脂層に含有させてもよい。
 さらに、本発明の赤外線遮蔽シートの前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層に含有される微粒子は、平均一次粒子径または平均分散粒子径が、300nm以下であることが好ましく、1nm~200nmであることがより好ましい。前記微粒子の平均一次粒子径または平均分散粒子径が300nmより大きくなると、赤外線遮蔽シートのヘイズが高くなり、赤外線遮蔽シートを通した視認性が劣ってしまう。なお、本明細書において、「微粒子の平均一次粒子径」は、分散前の微粒子の平均粒子径を意味し、「微粒子の平均分散粒子径」は、分散工程後の分散中の微粒子の平均粒子径を意味するものとする。前記平均一次粒子径は、BET(ブルナウアー-エメット-テラー)法で測定された比表面積より算出されたものである。前記平均分散粒子径を測定する粒子径分布測定装置は、特に限定されないが、「ナノトラックUPA-EX150」(日機装株式会社製)であることが好ましい。
 赤外線遮蔽シートの赤外線遮蔽性能、平滑性、低ヘイズ、電波透過性を満たすために、前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層に含有される微粒子を適切に分散させることは重要である。微粒子の分散方法として、サンドミル、アトライター、ボールミル、ホモジナイザー、ロールミル、ビーズミル等を用いる方法が好ましい。これらの中でも、ビーズミルを用いる方法が特に好ましい。ビーズミルを用いた場合、ビーズミルの周速は3m/s~10m/sであることが好ましい。ビーズミルの周速が3m/sより低くなると、微粒子を十分に分散できず、ビーズミルの周速が10m/sより高くなると、特に低屈折率樹脂層に含有される微粒子(特に電気伝導性微粒子)の表面が傷つけられ、赤外線吸収性能が低下する。分散エネルギーの適正な範囲は、分散に用いる装置、前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層に含有される樹脂バインダー、分散時の微粒子濃度等によって若干異なるが、比較的低い分散エネルギーで微粒子を分散させた方が良い。さらに、微粒子を分散させる処理を行った後に粗粒子が残る場合は、更に濾過、遠心分離等の処理で粗粒子を除くことが好ましい。
 前記高屈折率樹脂層や低高屈折率樹脂層は、溶媒中に樹脂バインダーを溶解させると共に微粒子を分散させてなる分散液を透明支持体等の物体の表面に塗布した後、溶媒を蒸発させる方法で形成することができる。前記分散液中への微粒子の分散に使用する溶媒とは、特に限定されるものではないが、水、有機溶媒、又は、水及び有機溶媒の混合物を使用できる。前記有機溶媒としては、例えば、炭化水素系溶媒(トルエン、キシレン、n-ヘキサン、シクロヘキサン、n-ヘプタン等)、アルコール系溶媒(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、t-ブタノール、ベンジルアルコール等)、ケトン系溶媒(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等)、エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル等)、エーテル系溶媒(イソプロピルエーテル、1,4-ジオキサン等)、グリコール系溶媒(エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール等)、グリコールエーテル系溶媒(メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、グリコールエステル系溶媒(エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等)、グライム系溶媒(モノグライム、ジグライム等)、ハロゲン系溶媒(ジクロロメタン、クロロホルム等)、アミド系溶媒(N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン等)、ピリジン、テトラヒドロフラン、スルホラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。分散に使用する溶媒は、好ましくは、水、ケトン系溶媒、アルコール系溶媒、アミド系溶媒、及び炭化水素系溶媒からなる群より選択される少なくとも一種の溶媒であり、より好ましくは、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、及びアセチルアセトンからなる群より選択される少なくとも一種の溶媒である。
 微粒子を溶媒中に分散させる際には、溶媒に分散剤を添加してもよい。前記分散剤としては、脂肪酸塩(石けん)、α-スルホ脂肪酸エステル塩(MES)、アルキルベンゼンスルホン酸塩(ABS)、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩(LAS)、アルキル硫酸塩(AS)、アルキルエーテル硫酸エステル塩(AES)、アルキル硫酸トリエタノール等の低分子陰イオン性(アニオン性)化合物;脂肪酸エタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル(AE)、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル(APE)、ソルビトール、ソルビタン等の低分子非イオン系化合物;アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウムクロリド、アルキルピリジニウムクロリド等の低分子陽イオン性(カチオン性)化合物;アルキルカルボキシルベタイン、スルホベタイン、レシチン等の低分子両性系化合物;ナフタレンスルホン酸塩のホルマリン縮合物、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、ビニル化合物とカルボン酸系単量体との共重合体塩、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール等に代表される高分子水系分散剤;ポリアクリル酸部分アルキルエステル、ポリアルキレンポリアミン等の高分子非水系分散剤;ポリエチレンイミン、アミノアルキルメタクリレート共重合体等の高分子カチオン系分散剤が代表的なものであるが、本発明で使用される微粒子に好適に適用されるものであれば、ここに例示したような形態のもの以外の構造を有するものを排除しない。
 前記溶媒に添加する分散剤としては、具体的な商品名を挙げると、次のようなものが知られている。すなわち、前記分散剤として、フローレンDOPA-15B、フローレンDOPA-17(以上、いずれも共栄社化学株式会社製)、ソルプラスAX5、ソルプラスTX5、ソルスパース9000、ソルスパース12000、ソルスパース17000、ソルスパース20000、ソルスパース21000、ソルスパース24000、ソルスパース26000、ソルスパース27000、ソルスパース28000、ソルスパース32000、ソルスパース35100、ソルスパース54000、ソルシックス250(以上、いずれも日本ルーブリゾール株式会社製)、EFKA4008、EFKA4009、EFKA4010、EFKA4015、EFKA4046、EFKA4047、EFKA4060、EFKA4080、EFKA7462、EFKA4020、EFKA4050、EFKA4055、EFKA4400、EFKA4401、EFKA4402、EFKA4403、EFKA4300、EFKA4320、EFKA4330、EFKA4340、EFKA6220、EFKA6225、EFKA6700、EFKA6780、EFKA6782、EFKA8503(以上、いずれもBASFジャパン株式会社製)、アジスパーPA111、アジスパーPB711、アジスパーPB821、アジスパーPB822、アジスパーPN411、フェイメックスL-12(以上、いずれも味の素ファインテクノ株式会社製)、TEXAPHOR-UV21、TEXAPHOR-UV61(以上、いずれもBASFジャパン株式会社製)、DISPERBYK-101、DISPERBYK-102、DISPERBYK-106、DISPERBYK-108、DISPERBYK-111、DISPERBYK-116、DISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-142、DISPERBYK-145、DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-166、DISPERBYK-167、DISPERBYK-168、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、DISPERBYK-174、DISPERBYK-180、DISPERBYK-182、DISPERBYK-192、DISPERBYK-193、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001、DISPERBYK-2020、DISPERBYK-2025、DISPERBYK-2050、DISPERBYK-2070、DISPERBYK-2155、DISPERBYK-2164、BYK220S、BYK300、BYK306、BYK320、BYK322、BYK325、BYK330、BYK340、BYK350、BYK377、BYK378、BYK380N、BYK410、BYK425、BYK430(以上、いずれもビックケミー・ジャパン株式会社製)、ディスパロン1751N、ディスパロン1831、ディスパロン1850、ディスパロン1860、ディスパロン1934、ディスパロンDA-400N、ディスパロンDA-703-50、ディスパロンDA-725、ディスパロンDA-705、ディスパロンDA-7301、ディスパロンDN-900、ディスパロンNS-5210、ディスパロンNVI-8514L、ヒップラードED-152、ヒップラードED-216、ヒップラードED-251、ヒップラードED-360(以上、いずれも楠本化成株式会社)、FTX-207S、FTX-212P、FTX-220P、FTX-220S、FTX-228P、FTX-710LL、FTX-750LL、フタージェント212P、フタージェント220P、フタージェント222F、フタージェント228P、フタージェント245F、フタージェント245P、フタージェント250、フタージェント251、フタージェント710FM、フタージェント730FM、フタージェント730LL、フタージェント730LS、フタージェント750DM、フタージェント750FM(以上、いずれも株式会社ネオス製)、AS-1100、AS-1800、AS-2000(以上、いずれも東亞合成株式会社製)、カオーセラ2000、カオーセラ2100、KDH-154、MX-2045L、ホモゲノールL-18、ホモゲノールL-95、レオドールSP-010V、レオドールSP-030V、レオドールSP-L10、レオドールSP-P10(以上、いずれも花王株式会社製)、エバンU103、シアノールDC902B、ノイゲンEA-167、プライサーフA219B、プライサーフAL(以上、いずれも第一工業製薬株式会社製)、メガファックF-477、メガファック480SF、メガファックF-482、(以上、いずれもDIC株式会社製)、シルフェイスSAG503A、ダイノール604(以上、いずれも日信化学工業株式会社製)、SNスパース2180、SNスパース2190、SNレベラーS-906(以上、いずれもサンノプコ株式会社製)、S-386、S-420(以上、いずれもAGCセイミケミカル株式会社製)等が例示できる。
 前記高屈折率樹脂層や低屈折率樹脂層は、樹脂バインダー中に微粒子が分散されたものである。前記樹脂バインダーとしては、微粒子を分散維持できる樹脂であれば、特に制限はなく、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等が挙げられる。
 前記熱可塑性樹脂としては、高密度ポリエチレン樹脂、(直鎖状でない)低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン・酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレン・アクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・EPDM(エチレン・プロピレン・ジエンモノマー)・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、アクリル樹脂(メタクリル樹脂)、エチレン・メチルメタクリレート共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ4フッ化エチレン樹脂(ポリテトラフルオロエチレン樹脂)、4フッ化エチレン・6フッ化プロピレン共重合樹脂、4フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、4フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ3フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン4,6、ナイロン6、ナイロン6,6、ナイロン6,10、ナイロン6,12、ナイロン12、ナイロン6,T、ナイロン9,T、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、PET樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリフルオロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂(ポリサルフォン樹脂)、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、前記熱可塑性樹脂は、これらの樹脂の2種以上を混合させたものであっても良い。
 前記熱硬化性樹脂としては、加熱により硬化可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基を有する硬化性化合物が挙げられる。また、前記光硬化性樹脂としては、光照射により硬化可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、(メタ)アクリル基等の不飽和二重結合含有基を有する樹脂が挙げられる。
 上記環状エーテル基を有する硬化性化合物としては、特に限定されず、例えば、脂環式エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、フラン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、反応速度や汎用性の観点から、脂環式エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキセタン樹脂が好適である。上記脂環式エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂としては、特に限定されず、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、2、2’-ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、ポリオキシプロピレンビスフェノールA型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂等が挙げられる。また、上記脂環式エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂として、その他に、グリシジルアミン型エポキシ樹脂等も挙げられる。
 上記エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、エピクロンN-740、エピクロンN-770、エピクロンN-775(以上、いずれもDIC株式会社製)、エピコート152、エピコート154(以上、いずれも三菱化学株式会社製)等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂;エピクロンN-660、エピクロンN-665、エピクロンN-670、エピクロンN-673、エピクロンN-680、エピクロンN-695、エピクロンN-665-EXP、エピクロンN-672-EXP(以上、いずれもDIC株式会社製)等のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂;NC-3000P(日本化薬株式会社製)等のビフェニルノボラック型エポキシ樹脂;EP1032S50、EP1032H60(以上、いずれも三菱化学株式会社製)等のトリスフェノールノボラック型エポキシ樹脂;XD-1000-L(日本化薬株式会社製)、エピクロンHP-7200(DIC株式会社製)等のジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂;エピコート828、エピコート834、エピコート1001、エピコート1004(以上、いずれもジャパンエポキシレジン社製)、エピクロン850、エピクロン860、エピクロン4055(以上、いずれもDIC株式会社製)等のビスフェノールA型エポキシ化合物;エピコート807(三菱化学株式会社製)、エピクロン830(DIC株式会社製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂;RE-810NM(日本化薬株式会社製)等の2,2’-ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂;ST-5080(新日鐵化学株式会社製)等の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂;EP-4000、EP-4005(以上、いずれも株式会社ADEKA製)等のポリオキシプロピレンビスフェノールA型エポキシ樹脂等が挙げられる。
 上記脂環式エポキシ樹脂としては、特に限定されず、例えば、セロキサイド2021、セロキサイド2080、セロキサイド3000(以上、いずれもダイセル・オルネクス株式会社製)等が挙げられる。また、上記オキセタン樹脂の市販品として、例えば、エタナコールEHO、エタナコールOXBP、エタナコールOXTP、エタナコールOXMA(以上、いずれも宇部興産株式会社製)等が挙げられる。これらの環状エーテル基を有する硬化性化合物は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
 上記不飽和二重結合含有基を有する光硬化性樹脂としては、特に限定されず、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、(メタ)アクリル基等の基を有する樹脂が挙げられ、それらの基を有する樹脂の中でも、反応性や汎用性の面より(メタ)アクリル基を有する樹脂が好ましい。なお、本明細書において、(メタ)アクリル基とは、アクリル基又はメタクリル基のことをいう。
 前記の(メタ)アクリル基を有する樹脂としては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有(メタ)アクリレートと多カルボン酸化合物の酸無水物との反応物であるハーフエステル、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ(メタ)アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε-カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート(例えば、日本化薬株式会社製の、KAYARAD HX-220、KAYARAD HX-620等)、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールとε-カプロラクトンとの反応物のポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート(例えば日本化薬株式会社製のKAYARAD DPHA等)、モノグリシジル化合物又はポリグリシジル化合物と(メタ)アクリル酸との反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートのことを言い、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸のことを言う。
 モノグリシジル化合物又はポリグリシジル化合物と(メタ)アクリル酸との反応物であるエポキシ(メタ)アクリレートに用いられるグリシジル化合物(モノグリシジル化合物又はポリグリシジル化合物)としては、特に制限はなく、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,4’-ビフェノール、テトラメチルビスフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノールS、テトラメチル-4,4’-ビフェノール、ジメチル-4,4’-ビフェノール、1-(4-ヒドロキシフェニル)-2-[4-(1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-tert-ブチルフェノール)、4,4’-ブチリデン-ビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール)、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、1,1-ジ-4-ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン、ブロモ化ビスフェノールA、ブロモ化ビスフェノールF、ブロモ化ビスフェノールS、ブロモ化フェノールノボラック、ブロモ化クレゾールノボラック、クロロ化ビスフェノールS、クロロ化ビスフェノールA等のポリフェノール類のグリシジルエーテル化物が挙げられる。
 これらモノグリシジル化合物又はポリグリシジル化合物と(メタ)アクリル酸との反応物であるエポキシ(メタ)アクリレートは、モノグリシジル化合物又はポリグリシジル化合物のエポキシ基(グリシジル基)に当量の(メタ)アクリル酸をエステル化反応させる事によって得ることができる。この合成反応は、一般的に知られている方法により行うことができる。例えば、レゾルシンジグリシジルエーテルにその当量の(メタ)アクリル酸を、触媒(例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等)及び重合防止剤(例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、ジブチルヒドロキシトルエン等)と共に添加して、例えば80℃~110℃でエステル化反応を行う。こうして得られた(メタ)アクリル化レゾルシンジグリシジルエーテルは、ラジカル重合性の(メタ)アクリロイル基を有する樹脂である。なお、本明細書において、(メタ)アクリル化とは、アクリル化又はメタクリル化のことを言い、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基のことを言う。
 また、本発明の赤外線遮蔽シートに含有される樹脂バインダーには、前記樹脂バインダーが光硬化性樹脂である場合には、必要に応じて光重合開始剤を加えることができ、前記樹脂バインダーが熱硬化性樹脂である場合には、必要に応じて熱硬化剤を加えることができる。前記光重合開始剤としては、光照射により、光硬化性樹脂中の不飽和二重結合やエポキシ基等を重合反応させるためのものであれば特に制限は無く、例えば、カチオン重合型光重合開始剤やラジカル重合型光重合開始剤が挙げられる。前記光重合開始剤としては、後段の「コレステリック液晶膜」の項において例示した光重合開始剤を用いることができる。また、前記熱硬化剤としては、加熱により熱硬化性樹脂中の不飽和二重結合やエポキシ基等を反応させ、架橋させるためのものであれば特に制限は無く、例えば酸無水物、アミン類、フェノール類、イミダゾール類、ジヒドラジン類、ルイス酸、ブレンステッド酸塩類、ポリメルカプトン類、イソシアネート類、ブロックイソシアネート類等が挙げられる。
 前記高屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率は、前記高屈折率樹脂層全体に対して、40重量%以上であることが好ましく、50重量%以上であることがより好ましく、60重量%以上であることがさらに好ましく、70重量%以上であることが特に好ましく、90重量%以上であることが最も好ましい。前記高屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率が40重量%より少なくなると、前記高屈折率樹脂層において樹脂バインダーの屈折率が支配的となり、効果的に赤外領域の光を反射することができない。また、前記高屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率は、前記高屈折率樹脂層全体に対して、95重量%以下であることが好ましい。前記高屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率が95重量%より多くなると、前記高屈折率樹脂層における樹脂バインダーの割合が少なくなるため、シート状に作製することが困難となる。
 前記低屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率は、前記低屈折率樹脂層全体に対して、40重量%以上であることが好ましく、50重量%以上であることがより好ましく、60重量%以上であることがさらに好ましく、70重量%以上であることが特に好ましく、90重量%以上であることが最も好ましい。前記低屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率が40重量%より少なくなると、前記低屈折率樹脂層において樹脂バインダーの屈折率が支配的となり、前記赤外線遮蔽シートの赤外反射性能が低くなる。また、前記低屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率は、前記低屈折率樹脂層全体に対して、95重量%以下であることが好ましい。前記低屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率が95重量%より多くなると、前記低屈折率樹脂層における樹脂バインダーの割合が少なくなるため、シート状に作製することが困難となる。さらに、前記低屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率が95重量%より多くなると、前記低屈折率樹脂層に含有される微粒子が電気伝導性微粒子である場合、微粒子同士が繋がるため、前記赤外線遮蔽シートの電波透過性能が低くなる。
 前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の表面抵抗は、1kΩ/□(10Ω/□)以上であることが好ましく、10kΩ/□(10Ω/□)以上であることがより好ましく、1000kΩ/□(10Ω/□)以上であることがさらに好ましい。前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の表面抵抗が1kΩ/□より低いと、前記赤外線遮蔽シートが電波を透過し難くなるので、好ましくない。
 また、前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の各々の表面の最大高低差(表面粗さ)は、70nm以下であることが好ましく、60nm以下であることがより好ましく、50nm以下であることがさらに好ましい。凝集微粒子がなくなるまで微粒子を分散液中に分散させてから分散液を塗布(塗工)して前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層を形成すると、前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の各々の表面の最大高低差を好ましい最大高低差にすることができる。また、前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層が70nmを超える表面粗さ(表面の最大高低差)を持つと、前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の表面で、入射した赤外光の散乱が起きてしまい、良好な反射性能を前記赤外線遮蔽シートに付与できなくなる。
 本発明の赤外線遮蔽シートを製造する方法は、前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層を塗布により形成する工程を含むことが好ましい。本発明の赤外線遮蔽シートは、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層を形成するための塗布液を、公知の塗布方式から適宜選択した塗布方式により透明支持体等の支持体上に塗布し、乾燥する工程を含む方法で製造することが好ましい。前記塗布液の塗布方式としては、特に限定されず、ワイヤーバーコーター等のバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等のコーティング装置を使用する方法が挙げられるが、前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の表面の平滑性のために、好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置を使用する方法が好ましい。
 また、目的に応じて、前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層からなる積層膜(又は、前記積層膜及び透明支持体からなるシート)の上に、コレステリック液晶膜、複屈折多層膜、粘着層、ハードコート層、等の機能層を積層させて赤外線遮蔽シートとしても構わない。さらに、前記高屈折率樹脂層や前記低屈折率樹脂層中に、若しくは必要に応じて積層される前記機能層中に、必要に応じ、例えば、赤外線吸収色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等の各種添加剤を添加することができる。
 前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層からなる積層膜では遮蔽できない赤外領域の光を遮蔽するために、前記積層膜に、赤外線吸収色素、コレステリック液晶膜、複屈折多層膜等の公知の材料を組み合わせて赤外線遮蔽シートとしてもよい。前記赤外線吸収色素は、780nm~2000nmの波長の光を選択的に吸収するものであることが好ましい。前記コレステリック液晶膜は、780nm~2000nmの波長の光を選択的に反射するものであることが好ましい。
〔赤外線吸収色素〕
 前記赤外線吸収色素としては、特に限定されるものではないが、具体的には、750nm~1100nmの波長に吸収極大をもつ赤外線吸収色素、例えば、フタロシアニン系色素、アントラキノン系色素、ジチオール系色素、ジイモニウム系色素、アンスラキノン系色素、スクアリリウム系色素、ナフタロシアニン系色素、アミニウム系色素、ジチオール金属錯体系色素等の有機金属錯体系色素、シアニン系色素、アゾ色素、ポリメチン系色素、キノン系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素、メルカプトナフトール系色素等を用いることができる。
 これらの中でも、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、及びアントラキノン系色素の少なくとも1種が前記赤外線吸収色素として好適に用いられる。
〔コレステリック液晶膜〕
 前記コレステリック液晶膜は、一平面上では分子軸が一定の方向に並んでいるが、次の平面では分子軸の方向が少し角度をなしてずれ、さらに次の平面では角度がずれるという具合に、該平面の法線方向に分子軸の角度が次々にずれていく構造である。このような分子軸の方向がねじれていく構造は、キラル(カイラル)構造と呼ばれる。該平面の法線(キラル軸)は、コレステリック液晶膜(コレステリック液晶層)の厚み方向に略平行になっていることが好ましい。
 コレステリック液晶膜に光が入射すると、特定波長領域の左回り及び右回りのうち一方の円偏光が反射される。キラル構造においてコレステリック液晶膜を構成する液晶化合物の分子軸がねじれる時の回転軸を表すらせん軸と、コレステリック液晶膜の法線とが平行である場合、キラル構造のピッチ長pと反射される円偏光の波長λとは下記式(2)及び式(3)の関係を有する。
 λ=n×p×cosθ …(2)
 n×p×cosθ≦λ≦n×p×cosθ …(3)
 式(2)及び式(3)中、λはコレステリック液晶膜が反射させる光の波長領域の中心波長、nはコレステリック液晶膜を構成する液晶化合物の分子の短軸方向の屈折率、nは液晶化合物の分子の長軸方向の屈折率、nは(n+n)/2、θは光の入射角(面法線からの角度)を表す。
 これより、コレステリック液晶膜が反射させる光の波長領域の中心波長は、コレステリック液晶膜におけるキラル構造のピッチ長に依存する。このキラル構造のピッチ長を変えることにより、コレステリック液晶膜が反射させる光の波長領域の中心波長を変えることができる。
 コレステリック液晶膜の層数は、1層でもよく、2層以上でもよい。コレステリック液晶膜の層数が2層以上あると、コレステリック液晶膜が反射できる赤外線の波長帯域を広げることができるので、好ましい。
 コレステリック液晶膜を2層以上にする場合、反射させる光の中心波長領域の光をより効率的に反射させるには、分子軸のねじれ方向が異なるコレステリック液晶膜を組み合わせることが好ましい。つまり右円偏光と左円偏光との両方をコレステリック液晶膜が反射することが可能となり、効果的な反射率を実現することができる。また、コレステリック液晶膜を2層以上にする際、コレステリック液晶膜が反射させる光の波長領域を広範囲にしたい場合は、ピッチ長の異なるコレステリック液晶膜を組み合わせることが好ましく、さらにねじれ方向が異なるコレステリック液晶膜を組み合わせることで、より広範囲な赤外波長領域の光を高効率に反射することが可能である。層数、右円偏光コレステリック液晶膜、左円偏光コレステリック液晶膜等の組合せは、製造コスト、可視光透過率等を鑑みて適切な組み合わせを用いることができる。
 前記コレステリック液晶膜を形成するためのコレステリック液晶材料としては、硬化性の液晶組成物を用いるのが好ましい。前記液晶組成物の一例は、棒状液晶化合物、光学活性化合物(キラル化合物)、及び重合開始剤を少なくとも含有する。各成分を2種以上含んでいてもよい。例えば、重合性の棒状液晶化合物と非重合性の棒状液晶化合物との併用が可能である。また、低分子棒状液晶化合物と高分子棒状液晶化合物との併用も可能である。更に、前記液晶組成物は、配向の均一性や塗布適性、膜強度を向上させるために、水平配向剤、ムラ防止剤、ハジキ防止剤、及び(棒状液晶化合物でも光学活性化合物でもない)重合性モノマー(例えば(メタ)アクリル基を有するモノマー)等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも一種を含有していてもよい。また、前記液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、色材、金属酸化物微粒子等を、光学性能を低下させない範囲で添加することができる。
(1)棒状液晶化合物
 前記棒状液晶化合物としては、棒状ネマチック液晶化合物が好ましい。前記棒状ネマチック液晶化合物の好ましい例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類等の低分子液晶化合物及び高分子液晶化合物が含まれる。
 前記棒状液晶化合物は、重合性であっても非重合性であってもよい。重合性基を有しない棒状液晶化合物(非重合性の棒状液晶化合物)については、様々な文献(例えば、Y.Goto,et al.,Mol.Cryst. Liq. Cryst.,1995,Vol.260,pp.23-28)に記載がある。
 重合性の棒状液晶化合物は、重合性基を棒状液晶化合物に導入することにより得られる。前記重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、及びアジリジニル基が含まれる。前記重合性基としては、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。前記重合性基は、種々の方法で、棒状液晶化合物の分子中に導入できる。前記重合性棒状液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは1個~6個であり、より好ましくは1個~3個である。前記重合性の棒状液晶化合物の例には、Makromol.Chem.,190巻,2255頁(1989年)、Advanced Materials,5巻,107頁(1993年)、米国特許第4683327号明細書、米国特許第5622648号明細書、米国特許第5770107号明細書、国際公開第95/22586号公報、国際公開第95/24455号公報、国際公開第97/00600号公報、国際公開第98/23580号公報、国際公開第98/52905号公報、特開平1-272551号公報、特開平6-16616号公報、特開平7-110469号公報、特開平11-80081号公報、及び特開2001-328973号公報等に記載の化合物が含まれる。2種類以上の重合性の棒状液晶化合物を併用してもよい。2種類以上の重合性の棒状液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。
(2)光学活性化合物(キラル剤)
 前記液晶組成物は、コレステリック液晶相を示すものであり、そのためには、光学活性化合物を含有しているのが好ましい。ただし、上記棒状液晶化合物が不斉炭素原子を有する分子である場合には、光学活性化合物を添加しなくても、コレステリック液晶膜を安定的に形成可能である場合もある。前記光学活性化合物は、公知の種々のキラル剤(例えば、液晶デバイスハンドブック、第3章4-3項、TN、STN用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989に記載)から選択することができる。光学活性化合物は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が含まれる。光学活性化合物(キラル剤)は、重合性基を有していてもよい。光学活性化合物が重合性基を有する光学活性化合物(重合性の光学活性化合物)であるとともに、併用する棒状液晶化合物も重合性基を有する棒状液晶化合物(重合性の棒状液晶化合物)である場合は、重合性の光学活性化合物と重合性の棒状液晶化合物との重合反応により、棒状液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、光学活性化合物から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性の光学活性化合物が有する重合性基は、重合性の棒状液晶化合物が有する重合性基と同種の基であることが好ましい。したがって、光学活性化合物の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基、又はアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。また、光学活性化合物は、液晶化合物であってもよい。
 前記液晶組成物中の光学活性化合物の使用量は、併用される液晶化合物100モル部に対して、0.1モル部~30モル部であることが好ましい。光学活性化合物の使用量は、より少なくしたほうが前記液晶組成物の液晶性に影響を及ぼさないことが多いため、好ましい。したがって、キラル剤として用いられる光学活性化合物は、少量でも所望の螺旋ピッチの捻れ配向を達成可能なように、強い捩り力のある化合物であることが好ましい。この様な、強い捻れ力を示すキラル剤としては、例えば、特開2003-287623号公報に記載のキラル剤が挙げられ、そのようなキラル剤が好ましく用いることができる。
(3)重合開始剤
 前記コレステリック液晶膜(光反射層)の形成に用いる液晶組成物は、重合性液晶組成物であるのが好ましく、そのためには、重合開始剤を含有しているのが好ましい。紫外線照射により前記重合性液晶組成物の硬化反応を進行させる場合には、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。上記光重合開始剤は、特に限定されず、例えば、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン(BASFジャパン株式会社製「イルガキュア907」)、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASFジャパン株式会社製「イルガキュア184」)、4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル(2-ヒドロキシ-2-プロピル)ケトン(BASFジャパン株式会社製「イルガキュア2959」)、1-(4-ドデシルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン(メルク社(Merck KGaA)製「ダロキュア953」)、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン(メルク社製「ダロキュア1116」)、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン(BASFジャパン株式会社製「イルガキュア1173」)、ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2、2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン(BASFジャパン株式会社製「イルガキュア651」)等のベンゾイン化合物、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、3、3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン(日本化薬株式会社製「カヤキュアーMBP」)等のベンゾフェノン化合物;チオキサントン、2-クロルチオキサントン(日本化薬株式会社製「カヤキュアーCTX」)、2-メチルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン(日本化薬株式会社製「カヤキュアーRTX」)、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン(日本化薬株式会社製「カヤキュアーCTX」)、2,4-ジエチルチオキサントン(日本化薬株式会社製「カヤキュアーDETX」)、2,4-ジイソプロピルチオキサントン(日本化薬株式会社製「カヤキュアーDITX」)等のチオキサントン化合物;2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド(BASFジャパン株式会社製「ルシリンTPO」)等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
 上記重合性液晶組成物中の上記光重合開始剤の含有量は、特に限定されないが、上記重合性液晶化合物と、必要に応じて使用される上記重合性モノマーとの合計量100重量部に対して、0.5重量部以上であることが好ましく、また、10重量部以下であることが好ましく、2重量部以上であることがより好ましく、また、8重量部以下であることがより好ましい。
 上記光重合開始剤として、上記ベンゾフェノン化合物や上記チオキサントン化合物を用いる場合には、光重合反応を促進させるために、反応助剤を併用することが好ましい。上記反応助剤としては、特に限定されず、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、n-ブチルアミン、N-メチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ミヒラーケトン、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸(2-n-ブトキシ)エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等のアミン化合物が挙げられる。
 上記重合性液晶組成物中の上記反応助剤の含有量は、特に限定されないが、上記重合性液晶組成物の液晶性に影響を与えない範囲であることが好ましく、上記重合性液晶化合物と、必要に応じて使用される上記重合性モノマーとの合計量100重量部に対して、0.5重量部以上であることが好ましく、また、10重量部以下であることが好ましく、2重量部以上であることがより好ましく、また、8重量部以下であることがより好ましい。また、上記反応助剤の含有量は、上記光重合開始剤の含有量に対して、重量基準で0.5倍量~2倍量であることが好ましい。
 更に、上記重合性液晶組成物には、必要に応じて、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤、架橋剤、可塑剤、無機微粒子、フィラー等を添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能である。
 前記レベリング剤としては、フッ素系化合物、シリコーン系化合物、アクリル系化合物等が挙げられる。前記消泡剤としては、例えば、シリコーン系消泡剤、フッ素系消泡剤、高分子系消泡剤等が挙げられる。
前記紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられる。前記光安定化剤としては、ヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げられる。前記酸化防止剤としては、フェノール系化合物等が挙げられる。
 前記重合禁止剤としては、メトキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン等が挙げられる。前記架橋剤としては、ポリイソシアネート類、メラミン化合物等が挙げられる。
 前記可塑剤としては、ジメチルフタレートやジエチルフタレート等のようなフタル酸エステル;トリス(2-エチルヘキシル)トリメリテート等のようなトリメリト酸エステル;ジメチルアジペートやジブチルアジペート等のような脂肪族二塩基酸エステル;トリブチルホスフェートやトリフェニルホスフェート等のような正燐酸エステル;グリセリントリアセテートや2-エチルヘキシルアセテート等のような酢酸エステル等が挙げられる。
 前記無機微粒子としては、アンチモン酸亜鉛微粒子、ガリウムドープ酸化亜鉛微粒子、アルミニウムドープ酸化亜鉛微粒子、酸化スズ微粒子、アンチモンドープ酸化スズ微粒子、リンドープ酸化スズ微粒子、スズドープ酸化インジウム微粒子等の導電性金属酸化物微粒子、酸化チタン微粒子、酸化ジルコニウム微粒子等の屈折率を調整するための金属酸化物微粒子等が挙げられる。前記フィラーとしては、平均粒子径がミクロンオーダーである、シリカ粒子、アクリルビーズ、ウレタンビーズ等が挙げられる。
 前記コレステリック液晶膜を形成するための塗布の方法としては、特に限定されず、ワイヤーバーコーター等のバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等のコーティング装置を使用する方法が挙げられるが、コレステリック液晶膜表面の平滑性のために、バーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置を使用する方法が好ましい。また、コレステリック液晶膜中の液晶化合物の配向方向をより精密に規定するために、コレステリック液晶膜がその上に形成される基体(多層膜、透明支持体等)の表面を配向させてもよい。基体の表面を配向させるためには、基体の表面をラビング処理して配向面を形成するのが好ましい。
〔複屈折多層膜〕
 前記複屈折多層膜は、複屈折(好ましくは正の複屈折)を有する層(以下、「複屈折層」と称する)と等方屈折または負の複屈折を有する層(以下、「等方屈折層」と称する)とを交互に積層して構成されている。前記複屈折多層膜は、複屈折層と等方屈折層との間の屈折率差およびそれぞれの幾何学厚さによって引き起こされるコヒーレント干渉に基づいている。平面内屈折率が複屈折層と等方屈折層との間で異なるとき、前記2層の間の境界面は反射面を形成する。
 複屈折とは、互いに直交するx軸方向、y軸方向およびz軸方向の屈折率のうちの少なくとも2つが互いに異なることを意味する。x軸およびy軸が複屈折層の平面内であり、z軸が複屈折層の平面に対して直角であり、複屈折層が配向ポリマーで構成される場合、x軸方向は最大屈折率を有する平面内方向であるように選択され、その方向は配向ポリマーが配向される(例えば、延伸される)方向の一つに対応する。
 複屈折層と等方屈折層との両方の平面内屈折率は層間で異なる(すなわち、n1x≠n2xかつn1y≠n2y;ここで、n1xおよびn1yは、複屈折層のx軸方向及びy軸方向の平面内屈折率を表し、n2xおよびn2yは、等方屈折層のx軸方向及びy軸方向の平面内屈折率を表す)。また、複屈折層及び等方屈折層のz軸方向の屈折率が等しい場合、p偏光の反射は光の入射角に依存しないため、視角の範囲に渡って反射率が均一となるので、好ましい。
 複屈折層の平面内屈折率を増加させるために、少なくとも一軸に配向されている、好ましくは二軸配向されている複屈折ポリマー(好ましくは正の複屈折を有する複屈折ポリマー)を複屈折層に用いることで、複屈折層と等方屈折層との屈折率差を増加させることができる。
 前記複屈折層及び前記等方屈折層の各々の光学厚さは、これら層が反射させる光の波長領域の中心波長をλとすると、λ/4となるように制御されている。若しくは、前記複屈折層と前記等方屈折層との光学厚さの合計がλ/2(またはλの倍数)である限り、前記複屈折層と前記等方屈折層とは異なる光学厚さを有してもよい。前記複屈折層を構成する材料としては、延伸によって(正の複屈折に)配向する材料が用いられ、例えばPEN(ポリエチレンナフタレート)、PET等が用いられる。等方屈折層を構成する材料としては、延伸によっても配向しない材料(若しくは延伸によって負に複屈折する材料)が用いられ、例えばPMMA(ポリメチルメタクリレート)等が用いられる。また、複屈折多層構造材料は、例えば特表2008-528313号公報に記載されている同時共押出法によって多層膜を形成し、延伸することで、作製することができる。前記複屈折層と等方屈折層との間の屈折率差は、小さいため、前記複屈折層及び前記等方屈折層を多数積層することが好ましい。前記複屈折層及び前記等方屈折層の積層数(合計の層数)は、反射させたい波長領域、製造コスト等を鑑みて、3層以上、1000層以下とすることが好ましい。
〔合わせガラス用中間膜〕
 本発明の合わせガラス用中間膜は、本発明の赤外線遮蔽シートと、前記赤外線遮蔽シートの少なくとも一方の最外層の上に形成された中間膜とを備えることを特徴とする。本発明の合わせガラス用中間膜は、本発明の赤外線遮蔽シートの両方の最外層の上にそれぞれ形成された第一及び第二の中間膜を含むことが、合わせガラス化の容易化の観点から好ましい。
 本発明の合わせガラス用中間膜は、第一の中間膜に加えて第二の中間膜を含むことが好ましい。通常の合わせガラス用中間膜では、前記赤外線遮蔽シートの両側の前記第一及び第二の中間膜の膜厚は同じであるが、本発明は、そのような態様の合わせガラス用中間膜に限定されず、前記第一および第二の中間膜の厚さが異なる合わせガラス用中間膜とすることもできる。また、前記第一および第二の中間膜の組成についても、同じであっても異なっていてもよい。
 第一および第二の中間膜を含む合わせガラス用中間膜を加熱しながら圧着する工程の前後における熱収縮率は、そのときの加熱温度の範囲において1~20%であることが好ましく、2~15%であることがより好ましく、2~10%であることが特に好ましい。第一および第二の中間膜の厚みは、100~1000μmであることが好ましく、200~800μmであることがより好ましく、300~500μmであることが特に好ましい。また、第一および第二の中間膜は、複数のシートを重ねることによって厚膜化してもよい。
 また、第一および第二の中間膜の脆性の基準としては、引張り試験による破断伸びが100~800%であることが好ましく、100~600%であることがより好ましく、200~500%であることが特に好ましい。
 前記中間膜は、ポリビニルブチラールを含むことが好ましい。前記第一および第二の中間膜は、樹脂中間膜であることが好ましい。前記樹脂中間膜は、ポリビニルアセタール系を主成分とするポリビニルアセタール系の樹脂フィルムであることが好ましい。前記ポリビニルアセタール系の樹脂フィルムとしては、特に制限はなく、例えば特開平6-000926号公報や特開2007-008797号公報等に記載のものを好ましく用いることができる。前記ポリビニルアセタール系の樹脂フィルムの中でも、本発明ではポリビニルブチラール樹脂フィルム(ポリビニルブチラールフィルム)を用いることが好ましい。前記ポリビニルブチラール樹脂フィルムは、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂フィルムであれば、特に定めるものは無く、広く公知の合わせガラス用中間膜に使用されているポリビニルブチラール樹脂フィルムを採用できる。その中でも、本発明では、前記中間膜は、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂中間膜またはエチレンビニルアセテートを主成分とする樹脂中間膜であることが好ましく、ポリビニルブチラールを主成分とする樹脂中間膜であることが特に好ましい。なお、主成分である樹脂とは、前記樹脂中間膜の50質量%以上の割合を占める樹脂のことをいう。
 前記第一および第二の中間膜は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、添加剤を含んでいてもよい。前記添加剤としては、例えば、熱線遮蔽用の微粒子及び遮音用の微粒子、可塑剤等を挙げることができる。前記の熱線遮蔽用の微粒子及び遮音用の微粒子としては、例えば、無機微粒子、金属微粒子を挙げることができる。このような微粒子を、樹脂中間膜である第一または第二の中間膜等の弾性体内に分散混在せしめることにより、遮熱の効果を得られる。同時に、このような構成により、音波の伝搬を阻害し、振動減衰効果を得ることが好ましい。また、微粒子の形状は、球状が望ましいが、真球でなくともよい。また、微粒子の形状を変える処理をしてもよい。また、微粒子は、中間膜、好ましくはポリビニルブチラール(以下、「PVB」と略記する)からなる中間膜内で分散していることが望ましい。微粒子は、適当なカプセルに入れて中間膜中に添加することや、分散剤とともに中間膜中に添加することもよい。前記第一および第二の中間膜が樹脂成分を含む場合の微粒子の添加量は、特に制限はないが、樹脂成分100重量部に対して0.1~10重量部であることが好ましい。
 前記無機微粒子としては、炭酸カルシウム微粒子、アルミナ微粒子、カオリンクレー、珪酸カルシウム微粒子、酸化マグネシウム微粒子、水酸化マグネシウム微粒子、水酸化アルミニウム微粒子、炭酸マグネシウム微粒子、タルク粉、長石粉、マイカ粉、バライト粉、炭酸バリウム微粒子、酸化チタン微粒子、シリカ微粒子、ガラスビ-ズ等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、混合して用いられてもよい。
 また、前記熱線遮蔽微粒子としては、スズドープ酸化インジウム(ITO)微粒子、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)微粒子、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)微粒子、インジウムドープ酸化亜鉛(IZO)微粒子、スズドープ酸化亜鉛微粒子、ケイ素ドープ酸化亜鉛微粒子、アンチモン酸亜鉛微粒子、6ホウ化ランタン微粒子、6ホウ化セリウム微粒子、金微粉、銀微粉、白金微粉、アルミニウム微粉、鉄微粉、ニッケル微粉、銅微粉、ステンレス微粉、スズ微粉、コバルト微粉及びこれらを含む合金粉末等が挙げられる。前記遮光剤としては、カーボンブラック、赤色酸化鉄等が挙げられる。前記顔料としては、黒色顔料カーボンブラックと赤色顔料(C.I.Pigment Red)と青色顔料(C.I.Pigment Blue)と黄色顔料(C.I.Pigment Yellow)との4種を混合してなる暗赤褐色の混合顔料等が挙げられる。
 前記可塑剤としては、特に限定されず、この種の中間膜用の可塑剤として一般的に用いられている公知の可塑剤を用いることができる。前記可塑剤としては、例えば、トリエチレングリコール-ジ-2-エチルブチレート(3GH)、トリエチレングリコール-ジ-2-エチルヘキサノエート(3GO)、トリエチレングリコール-ジ-n-ヘプタノエート(3G7)、テトラエチレングリコール-ジ-2-エチルヘキサノエート(4GO)、テトラエチレングリコール-ジ-n-ヘプタノエート(4G7)、オリゴエチレングリコール-ジ-2-エチルヘキサノエート(NGO)などが好適に用いられる。前記中間膜が樹脂中間膜である場合、これらの可塑剤は、一般に、前記樹脂中間膜の主成分である樹脂(好ましくは、ポリビニルアセタール樹脂)100質量部に対して25~70質量部の範囲で用いられる。
 本発明の合わせガラス用中間膜を製造する方法は、本発明の赤外線遮蔽シートと中間膜とを順に積層した後に、前記中間膜と前記赤外線遮蔽シートとを熱接着する工程を含むことが好ましい。熱接着の方法としては、特に制限はなく、赤外線遮蔽シート/中間膜の積層体(赤外線遮蔽シート上に中間膜を重ねたもの)に加熱体を押し当てる熱圧着や、レーザー照射による加熱での熱融着等を採用することができる。その中でも、本発明の合わせガラス用中間膜を製造する方法では、中間膜に対して赤外線遮蔽シートを熱接着する工程が、中間膜に対して赤外線遮蔽シートを熱圧着する工程(熱圧着工程)であることが好ましい。
 熱圧着の方法としては、特に制限はないが、例えば80~140℃の加熱体を赤外線遮蔽シート/中間膜の積層体に押し当てる方法が好ましい。前記加熱体は、平面の加熱体でも曲面の加熱体でもよく、ローラーでもよい。熱圧着には、複数の加熱ローラーや、加熱可能な平面の挟圧面等を用いることができ、これらを組み合わせて用いてもよい。また、熱圧着は、前記赤外線遮蔽シート/中間膜の積層体の両方の面に対して行っても、片面のみに行ってもよく、その場合は、熱圧着に用いるローラーの一方が加熱していないローラーや挟圧面等であってもよい。これらの中でも本発明の合わせガラス用中間膜を製造する方法としては、前記熱圧着工程で加熱ローラーを用いることが好ましく、加熱ローラーと非加熱ローラーとを組み合わせて用いることがより好ましい。
 通常、中間膜は、貼着の際に空気が逃げ易いように、表面がエンボス加工などにより粗面状態にされている。貼り合わせた面は、被着面に倣って平滑になり、光学性能が良くなるが、もう一方の面は、ガラス板等に貼り合わせるために粗面状態を保持する必要がある。従って、熱圧着ローラーのうち中間膜に接する側のローラーの表面を粗面状態にして、中間膜の粗面状態を保つようにすることが好ましい。すなわち、中間膜の少なくとも一方の表面がエンボス加工されてあり、エンボス加工された表面が本発明の赤外線遮蔽シートと接するように積層することが好ましい。また、熱圧着後に、中間膜における赤外線遮蔽シートと接していない面を積極的にエンボス加工してもよい。
 なお、赤外線遮蔽シートの作製時に使用した透明支持体は、前記熱接着工程前後で剥離してもよいし、剥離せずに合わせガラス用中間膜の一部としても良い。
 本発明の合わせガラス用中間膜を製造する方法は、第一の中間膜が積層された赤外線遮蔽シートの反対面に第二の中間膜を積層する工程を含むことが好ましい。すなわち、本発明の合わせガラス用中間膜は、第一の中間膜に加えて第二の中間膜を有することが好ましい。本発明の一例に係るガラス用中間膜は、図5に示すように、本発明に係る赤外線遮蔽シート2と、赤外線遮蔽シート2の一方の面上に形成された第一の中間膜3と、赤外線遮蔽シート2の他方の面上に形成された第二の中間膜3’とを備えている。赤外線遮蔽シート2と第二の中間膜3’とは隣接していてもよいし、それらの間に他の構成層を含んでいてもよいが、赤外線遮蔽シート2と第二の中間膜3’とは隣接していることが好ましい。これら第二の中間膜や他の構成層は、第一の中間膜と赤外線遮蔽シートとの熱圧着工程と同様の方法で赤外線遮蔽シートに熱圧着されることが好ましい。
 前記赤外線遮蔽シート及び前記中間膜を含む合わせガラス用中間膜は、加工に際し、刃物を用いて切断したり、レーザー、ウオータージェットや熱によって切断したりしてもよい。
〔合わせガラス〕
 本発明の合わせガラスは、本発明の合わせガラス用中間膜と、複数のガラス板(2枚のガラス板)を有し、前記複数のガラス板(少なくとも2枚のガラス板)の間に前記合わせガラス用中間膜が挿入されていることを特徴とする。また、本発明の合わせガラスは、任意のサイズに好ましく裁断することができる。
 本発明の合わせガラスの用途は、特に制限はないが、住宅や自動車等の窓ガラス用であることが好ましい。本発明の窓用部材は、本発明の合わせガラスを含んでいる。
 合わせガラス用中間膜を、第一のガラス板及び第二のガラス板とそれぞれ積層する方法は、特に制限はなく、公知の方法により2枚のガラス板の間に挿入して積層することができる。
 2枚のガラス板に合わせガラス用中間膜が挟持された積層体の合わせガラスは、ガラス板/第一の中間膜/赤外線遮蔽シート/第二の中間膜/ガラス板の順に積層された構成となる。
 図6は、本発明に係る、ガラス板に挟持された合わせガラス用中間膜を含む合わせガラスの構造の一例を示す概略図である。本発明の一例に係る合わせガラスは、図5に示す合わせガラス用中間膜(第一の中間膜3、赤外線遮蔽シート2、及び第二の中間膜3’)と、複数のガラス板5及び5’とを備え、ガラス板5が第一の中間膜3に隣接し、ガラス板5’が第一の中間膜3に隣接するように、前記複数のガラス板5及び5’間に前記合わせガラス用中間膜が挿入されている。
 赤外線遮蔽シート2の端部が、ガラス板5および5’の端部および第一の中間膜3および第二の中間膜3’の端部よりも内側にあってもよい。また、ガラス板5および5’の端部と、第一の中間膜3および第二の中間膜3’の端部とは、同じ位置であっても、いずれかが突出していてもよい。
 また、ガラス板5および5’にガラス用中間膜(第一の中間膜3、赤外線遮蔽シート2、及び第二の中間膜3’の積層体)が挟持された合わせガラスは、図6に示すように、赤外線遮蔽シート2の端部が、ガラス板5および5’の端部および中間膜3および3’の端部と同じ位置にあってもよい。一方、合わせガラスは、赤外線遮蔽シート2の端部がガラス板5および5’の端部および第一の中間膜3および第二の中間膜3’の端部よりも突出した構成であってもよい。
 ガラス板5および5’に挟持されたガラス用中間膜(第一の中間膜3、赤外線遮蔽シート2、及び第二の中間膜3’の積層体)において、赤外線遮蔽シート2と第一の中間膜3、および赤外線遮蔽シート2と第二の中間膜3’は、それぞれ、隣接していてもよいし、それらの間に他の構成層を有していてもよい。
 本発明の合わせガラスを製造する方法では、ガラス板が曲率を有さないガラスであっても、曲面ガラスであってもよい。また、合わせガラス用中間膜を挟持する2枚のガラス板は、厚みが異なっていてもよく、着色されていてもよい。特に、遮熱性を目的として自動車のフロントガラス等に用いる場合は、合わせガラスの可視光透過率がJIS R 3211で定められている70%を下回らない程度にガラス板中に金属などの着色成分を混入させてもよく、一般的にはガラス板にグリーンガラスを用いることで効果的に遮熱性を向上させることができる。グリーンガラスの色濃度については、添加する金属成分の量を調整したり、厚みを調整したりすることで、目的に合った濃度に調節することが好ましい。
 本発明の合わせガラスを製造する方法は、ガラス板に挟持された本発明の合わせガラス用中間膜を加熱しながら圧着する工程を含むことが好ましい。
 ガラス板に挟持された本発明のガラス用中間膜とガラス板との貼りあわせは、例えば、真空バッグなどで減圧下において、温度80~120℃、時間30~60分で予備圧着した後、オートクレーブ中、1.0~1.5MPaの加圧下で120~150℃の温度で貼り合せ、2枚のガラス板にガラス用中間膜が挟まれた合わせガラスとすることができる。
 加熱圧着終了後、放冷の仕方については特に制限はなく、適宜圧力を開放しながら放冷して、合わせガラスを得てもよい。本発明の合わせガラスを製造する方法では、加熱圧着終了後、圧力を保持した状態で降温を行うことが、得られる合わせガラスのシワや割れをさらに改善する観点から好ましい。
 本発明の合わせガラスを製造する方法では、圧力を保持した状態で降温を行った後、次いで圧力を開放する工程を含むことが好ましい。具体的には、圧力を保持した状態で降温を行った後、オートクレーブ内の温度が40℃以下になった後に圧力を開放して降温することが好ましい。
 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。実施例及び比較例において、「部」は重量部を意味する。
〔実施例1〕
(高屈折率樹脂層Aの作製)
 樹脂バインダーとしてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名「KAYARAD DPHA」、日本化薬株式会社製;以下、単に「KAYARAD DPHA」と表記する)0.4部及び1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(商品名「イルガキュア184」、光重合開始剤、BASFジャパン株式会社製;以下、単に「イルガキュア184」と表記する)0.05部を、溶媒としてのメチルエチルケトン(以下、「MEK」と略記する)4部に溶解した溶液中に、酸化ジルコニウム微粒子(商品名「NANON5 ZR-010」、平均一次粒子径7~8nm、平均分散粒子径15nm、固形分濃度30重量%、株式会社ソーラー製、分散媒:MEK)4.7部を分散させ、高屈折率樹脂層Aを形成するための高屈折率樹脂塗布液A(溶媒中に樹脂バインダーを溶解させると共に微粒子を分散させてなる分散液)を調製した。
 次いで、高屈折率樹脂塗布液AをPET基材にワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによってMEKを蒸発させた後、紫外線(以下、「UV」と略記する)照射によって高屈折率樹脂層Aを作製した。高屈折率樹脂層Aに含有される微粒子の含有率は、高屈折率樹脂層A全体に対して76重量%である。作製した高屈折率樹脂層Aの550nmの波長及び1200nmの波長での屈折率を分光エリプソメータ(商品名「M-2000」、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製)にて測定し、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δnを求めた。また、作製した高屈折率樹脂層Aの表面抵抗を表面抵抗計(株式会社三菱化学アナリテック製、商品名「ハイレスタUP」及び商品名「ロレスタGP」)を用いて測定した。
(低屈折率樹脂層Aの作製)
 非中空微粒子である平均一次粒子径25.6nm、60MPaで圧縮した際の粉体抵抗0.8Ω・cmであるスズドープ酸化インジウム微粒子(商品名「ITO-R」、CIKナノテック株式会社製)1.4部、KAYARAD DPHA0.4部、イルガキュア184 0.05部、及びアミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤(商品名「DISPERBYK-167」、ビック・ケミージャパン株式会社製;以下、適宜、単に「アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤」と表記する)0.3部を、溶媒としてのトルエン7部中に加え、ビーズミルを用いて周速10m/sにて分散させ、低屈折率樹脂層Aを形成するための低屈折率樹脂塗布液A(溶媒中に樹脂バインダーを溶解させると共に微粒子を分散させてなる分散液)を作製した。スズドープ酸化インジウム微粒子の平均分散粒子径は、40nmであった。
 次いで、低屈折率樹脂塗布液AをPET基材にワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによってトルエンを蒸発させた後、UV照射によって低屈折率樹脂層Aを作製した。低屈折率樹脂層Aに含有される微粒子の含有率は、低屈折率樹脂層A全体に対して65重量%である。作製した低屈折率樹脂層Aの550nmの波長及び1200nmの波長での屈折率を分光エリプソメータ(商品名「M-2000」、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製)にて測定し、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δnを求めた。また、作製した低屈折率樹脂層Aの表面抵抗を、高屈折率樹脂層Aの表面抵抗の測定と同様にして測定した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1200nmに設定し、各高屈折率樹脂層Aの1200nmの波長における光学厚さが300nm、各低屈折率樹脂層Aの1200nmの波長における光学厚さが300nmとなる条件で、透明支持体としての厚さ100μmのPET基材(商品名「コスモシャインA4100」、東洋紡株式会社製;以下、適宜、単に「PET基材」と表記する)上に低屈折率樹脂層A-高屈折率樹脂層Aの順番(すなわち、低屈折率樹脂層AがPET基材に当接する順番)で低屈折率樹脂層A及び高屈折率樹脂層Aを交互に積層し、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が8である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。各低屈折率樹脂層Aは「低屈折率樹脂層Aの作製」に記載の方法で作製し、各高屈折率樹脂層Aは「高屈折率樹脂層Aの作製」に記載の方法で作製した。
〔実施例2〕
(高屈折率樹脂層Bの作製)
 平均一次粒子径35nmである酸化チタン微粒子(商品名「TTO-51A」、石原産業株式会社製)1.4部、KAYARAD DPHA0.4部、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン(BASFジャパン株式会社製「イルガキュア907」)0.05部、及び分散剤(商品名「DISPERBYK-2001」、ビック・ケミージャパン株式会社製)0.3部をトルエン7部中に加え、ビーズミルを用いて周速10m/sにて分散させ、高屈折率樹脂層Bを形成するための高屈折率樹脂塗布液Bを作製した。酸化チタン微粒子の平均分散粒子径は、45nmであった。
 次いで、高屈折率樹脂塗布液BをPET基材にワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによってトルエンを蒸発させた後、UV照射によって高屈折率樹脂層Bを作製した。高屈折率樹脂層Bに含有される微粒子の含有率は、高屈折率樹脂層B全体に対して65重量%である。作製した高屈折率樹脂層Bの550nmの波長及び1200nmの波長での屈折率を分光エリプソメータ(商品名「M-2000」、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製)にて測定し、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δnを求めた。また、作製した高屈折率樹脂層Bの表面抵抗を、実施例1における高屈折率樹脂層Aの表面抵抗の測定と同様にして測定した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1200nmに設定し、各高屈折率樹脂層Bの1200nmの波長における光学厚さが300nm、各低屈折率樹脂層Aの1200nmの波長における光学厚さが300nmとなる条件で、実施例1の積層膜の作製に使用したのと同じPET基材上に高屈折率樹脂層B-低屈折率樹脂層Aの順番(すなわち、高屈折率樹脂層BがPET基材に当接する順番)で高屈折率樹脂層B及び低屈折率樹脂層Aを交互に積層し、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が7である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。各高屈折率樹脂層Bは本実施例の「高屈折率樹脂層Bの作製」と同様にして作製し、各低屈折率樹脂層Aは実施例1の「低屈折率樹脂層Aの作製」と同様にして作製した。
〔実施例3〕
(高屈折率樹脂層Cの作製)
 六ホウ化ランタン微粒子(和光純薬工業株式会社製、平均一次粒子径1~2μm)1.4部、KAYARAD DPHA0.4部、イルガキュア184 0.05部、及びアミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤0.3部をトルエン7部中に加え、ビーズミルを用いて周速10m/sにて分散させた。得られた分散体を遠心分離機(日立工機株式会社製「Himac CR18」)を用いて回転数5000rpmで15分間遠心処理を行い、高屈折率樹脂層Cを形成するための高屈折率樹脂塗布液Cを作製した。六ホウ化ランタン微粒子の平均分散粒子径は、35nmであった。
 次いで、高屈折率樹脂塗布液CをPET基材にワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによってトルエンを蒸発させた後、UV照射によって高屈折率樹脂層Cを作製した。高屈折率樹脂層Cに含有される微粒子の含有率は、高屈折率樹脂層C全体に対して65重量%である。作製した高屈折率樹脂層Cの550nmの波長及び1200nmの波長での屈折率を分光エリプソメータ(商品名「M-2000」、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製)にて測定し、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δnを求めた。また、作製した高屈折率樹脂層Cの表面抵抗を、実施例1における高屈折率樹脂層Aの表面抵抗の測定と同様にして測定した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1200nmに設定し、高屈折率樹脂層Cの1200nmの波長における光学厚さが300nm、各高屈折率樹脂層Aの1200nmの波長における光学厚さが300nm、各低屈折率樹脂層Aの1200nmの波長における光学厚さが300nmとなる条件で、実施例1の積層膜の作製に使用したのと同じPET基材上に高屈折率樹脂層C-低屈折率樹脂子層A-高屈折率樹脂層A-低屈折率樹脂層A-高屈折率樹脂層Aの順番(高屈折率樹脂層CがPET基材に当接する順番)で高屈折率樹脂層C、低屈折率樹脂子層A、及び高屈折率樹脂層Aを積層し、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が5である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。高屈折率樹脂層Cは本実施例の「高屈折率樹脂層Cの作製」と同様にして作製し、各低屈折率樹脂層Aは実施例1の「低屈折率樹脂層Aの作製」と同様にして作製し、各高屈折率樹脂層Aは実施例1の「高屈折率樹脂層Aの作製」と同様にして作製した。
〔実施例4〕
(高屈折率樹脂層Dの作製)
 微粒子として酸化チタン微粒子に代えてナノダイヤモンド(平均一次粒子径3.5nm、平均分散粒子径4.5nmのダイヤモンド微粒子)を用いた以外は実施例2の「高屈折率樹脂層Bの作製」と同様にして高屈折率樹脂層Dを作製した。高屈折率樹脂層Dに含有される微粒子の含有率は、高屈折率樹脂層D全体に対して65重量%である。作製した高屈折率樹脂層Dの550nmの波長及び1200nmの波長での屈折率を分光エリプソメータ(商品名「M-2000」、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製)にて測定し、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δnを求めた。また、作製した高屈折率樹脂層Dの表面抵抗を、実施例1における高屈折率樹脂層Aの表面抵抗の測定と同様にして測定した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1200nmに設定し、各高屈折率樹脂層Dの1200nmの波長における光学厚さが300nm、各低屈折率樹脂層Aの1200nmの波長における光学厚さが300nmとなる条件で、実施例1の積層膜の作製に使用したのと同じPET基材上に低屈折率樹脂層A-高屈折率樹脂層Dの順番(すなわち、低屈折率樹脂層AがPET基材に当接する順番)で低屈折率樹脂層A及び高屈折率樹脂層Dを交互に積層し、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が8である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。各低屈折率樹脂層Aは実施例1の「低屈折率樹脂層Aの作製」と同様にして作製し、各高屈折率樹脂層Dは本実施例の「高屈折率樹脂層Dの作製」と同様にして作製した。
〔実施例5〕
(低屈折率樹脂層Bの作製)
 実施例1の「低屈折率樹脂層Aの作製」に記載の方法で作製した低屈折率樹脂塗布液Aに、中空シリカ微粒子(商品名「スルーリア1110」、平均一次粒子径50nm、固形分濃度20重量%、日揮触媒化成株式会社製、分散媒:メチルイソブチルケトン)3部を加えて、低屈折率樹脂層Aを形成するための低屈折率樹脂塗布液Bを作製した。
 次いで、低屈折率樹脂塗布液BをPET基材にワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによってトルエン及びメチルイソブチルケトンを蒸発させた後、UV照射によって低屈折率樹脂層Bを作製した。低屈折率樹脂層Bに含有される微粒子の含有率は、低屈折率樹脂層B全体に対して73重量%である。作製した高屈折率樹脂層Bの550nmの波長及び1200nmの波長での屈折率を分光エリプソメータ(商品名「M-2000」、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製)にて測定し、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δnを求めた。また、作製した低屈折率樹脂層Bの表面抵抗を、実施例1における高屈折率樹脂層Aの表面抵抗の測定と同様にして測定した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1200nmに設定し、各高屈折率樹脂層Aの1200nmの波長における光学厚さが300nm、各低屈折率樹脂層Bの1200nmの波長における光学厚さが300nmとなる条件で、実施例1の積層膜の作製に使用したのと同じPET基材上に低屈折率樹脂層B-高屈折率樹脂層Aの順番(すなわち、低屈折率樹脂層BがPET基材に当接する順番)で低屈折率樹脂層B及び高屈折率樹脂層Aを交互に積層し、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が8である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。各低屈折率樹脂層Bは本実施例の「低屈折率樹脂層Bの作製」と同様にして作製し、各高屈折率樹脂層Aは実施例1の「高屈折率樹脂層Aの作製」と同様にして作製した。
〔実施例6〕
(赤外吸収色素合成例)
 スルホラン120部に、ナフタル酸無水物15.9部、尿素29部、モリブデン酸アンモニウム0.40部、及び塩化バナジル(V)3.5部を加え、これらの混合物を200℃まで昇温し、同温度で11時間反応させた。反応終了後、反応後の混合物を65℃まで冷却し、N,N-ジメチルホルムアミド(以下、「DMF」と略記する)100部を加え、析出固体をろ過分離した。得られた固体をDMF50部で洗浄し、ウェットケーキ20.3部を得た。得られたウェットケーキをDMF100部に加え、80℃に昇温し、同温度で2時間撹拌した。析出固体をろ過分離し、水200部で洗浄し、ウェットケーキを18.9部得た。得られたウェットケーキを水150部に加え、90℃に昇温し、同温度で2時間撹拌した。析出固体をろ過分離し、水200部で洗浄してウェットケーキ16.1部を得た。得られたウェットケーキを80℃で乾燥し、赤外吸収色素を12.3部得た。
(高屈折率樹脂層Eの作製)
 実施例1の「高屈折率樹脂層Aの作製」に記載の方法で作製した高屈折率樹脂塗布液Aに、前記合成した赤外吸収色素を0.03部分散させ、高屈折率樹脂層Eを形成するための高屈折率樹脂塗布液Eを作製した。
 次いで、高屈折率樹脂塗布液EをPET基材にワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによってトルエンを蒸発させた後、UV照射によって高屈折率樹脂層Eを作製した。高屈折率樹脂層Eに含有される微粒子の含有率は、高屈折率樹脂層E全体に対して76重量%である。作製した高屈折率樹脂層Eの550nmの波長及び1200nmの波長での屈折率を分光エリプソメータ(商品名「M-2000」、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製)にて測定し、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δnを求めた。また、作製した高屈折率樹脂層Eの表面抵抗を、実施例1における高屈折率樹脂層Aの表面抵抗の測定と同様にして測定した。
(低屈折率樹脂層Cの作製)
 実施例1の「低屈折率樹脂層Aの作製」に記載の方法で作製した低屈折率樹脂塗布液Aに、前記合成した赤外吸収色素を0.03部分散させ、低屈折率樹脂層Cを形成するための低屈折率樹脂塗布液Cを作製した。
 次いで、低屈折率樹脂塗布液CをPET基材にワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによってトルエンを蒸発させた後、UV照射によって低屈折率樹脂層Cを作製した。低屈折率樹脂層Cに含有される微粒子の含有率は、低屈折率樹脂層C全体に対して66重量%である。作製した低屈折率樹脂層Cの550nmの波長及び1200nmの波長での屈折率を分光エリプソメータ(商品名「M-2000」、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製)にて測定し、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δnを求めた。また、作製した低屈折率樹脂層Cの表面抵抗を、実施例1における高屈折率樹脂層Aの表面抵抗の測定と同様にして測定した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1200nmに設定し、各高屈折率樹脂層Eの1200nmの波長における光学厚さが300nm、各低屈折率樹脂層Cの1200nmの波長における光学厚さが300nmとなる条件で、実施例1の積層膜の作製に使用したのと同じPET基材上に低屈折率樹脂層C-高屈折率樹脂層Eの順番(すなわち、低屈折率樹脂層CがPET基材に当接する順番)で低屈折率樹脂層C及び高屈折率樹脂層Eを交互に積層し、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が8である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。各低屈折率樹脂層Cは本実施例の「低屈折率樹脂層Cの作製」と同様にして作製し、各高屈折率樹脂層Eは本実施例の「高屈折率樹脂層Eの作製」と同様にして作製した。
〔実施例7〕
(コレステリック液晶膜作製)
 LC-242(棒状液晶化合物、BASFジャパン株式会社製)10部、LC-756(キラル剤、BASFジャパン株式会社製)0.25部、及び2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド(商品名「ルシリンTPO」、重合開始剤、BASFジャパン株式会社製)0.5部をシクロペンタノン26部中に加え、液晶塗布液Aを作製した。
 また、液晶膜塗布液A中のLC-756の量を0.3部に変更する以外は液晶塗布液Aの作製と同様にして液晶塗布液Bを作製した。
 実施例1の積層膜の作製に使用したのと同じPET基材に、液晶塗布液Aを幾何学厚さが4μmとなるようワイヤーバーコーターにて塗布し、130℃で2分間乾燥させることによってシクロペンタノンを蒸発させた後、UV照射によって第1のコレステリック液晶膜を作製した。さらに、この第1のコレステリック液晶膜に、液晶塗布液Bを幾何学厚さが4μmとなるようワイヤーバーコーターにて塗布し、130℃で2分間乾燥させることによってシクロペンタノンを蒸発させた後、UV照射によって第2のコレステリック液晶膜を作製した。
 積層膜が反射させる光の波長を1200nmに設定し、各高屈折率樹脂層Aの1200nmの波長における光学厚さが300nm、各低屈折率樹脂層Aの1200nmの波長における光学厚さが300nmとなる条件で、前記作製したコレステリック液晶膜上に低屈折率樹脂層A-高屈折率樹脂層Aの順番(すなわち、低屈折率樹脂層AがPET基材に当接する順番)で低屈折率樹脂層A及び高屈折率樹脂層Aを交互に積層し、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が6である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。各低屈折率樹脂層Aは実施例1の「低屈折率樹脂層Aの作製」に記載の方法で作製し、各高屈折率樹脂層Aは実施例1の「高屈折率樹脂層Aの作製」に記載の方法で作製した。
〔実施例8〕
 2層のコレステリック液晶膜に代えて複屈折多層膜(商品名「Nano90S」、住友スリーエム株式会社製)を用いた以外は実施例8と同様にして、本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。
〔実施例9〕
 非中空微粒子である平均一次分散粒子径25.6nm、60MPaで圧縮した際の粉体抵抗0.8Ω・cmであるスズドープ酸化インジウム微粒子(商品名「ITO-R」、CIKナノテック株式会社製)1.4部、KAYARAD DPHA 0.04部、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド(商品名「ルシリンTPO」、光重合開始剤、BASFジャパン株式会社製)0.01部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤(商品名「DISPERBYK-167」、ビック・ケミージャパン株式会社製)0.06部を、溶媒としての1-メトキシ-2-プロパノール(以下、「PGM」と表記する)7部中に加え、ビーズミルを用いて周速10m/sにて分散させ、低屈折率樹脂層Dを形成する為の低屈折率樹脂塗布液Dを作製した。スズドープ酸化インジウム微粒子の平均分散粒子径は、40nmであった。
 次いで、低屈折率樹脂塗布液DをPET基材にワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによってPGMを蒸発させた後、UV照射によって低屈折率樹脂層Dを作製した。低屈折率樹脂層Dに含有される微粒子の含有率は、低屈折率樹脂層D全体に対して93重量%である。作製した低屈折率樹脂層Dの550nmの波長及び1200nmの波長での屈折率を分光エリプソメータ(商品名「M-2000」、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製)にて測定し、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δnを求めた。また、作製した低屈折率樹脂層Dの表面抵抗を、高屈折率樹脂層Aの表面抵抗の測定と同様にして測定した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1200nmに設定し、各高屈折率樹脂層Bの1200nmの波長における光学厚さが300nm、各低屈折率樹脂層Dの1200nmの波長における光学厚さが300nmとなる条件で、透明支持体としての厚さ100μmのPET基材(商品名「コスモシャインA4100」、東洋紡株式会社製)上に低屈折率樹脂層D-高屈折率樹脂層Bの順番(すなわち、低屈折率樹脂層DがPET基材に当接する順番)で低屈折率樹脂層D及び高屈折率樹脂層Bを交互に積層し、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が6である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。各低屈折率樹脂層Dは「低屈折率樹脂層Dの作製」に記載の方法で作製し、各高屈折率樹脂層Bは実施例2の「高屈折率樹脂層Bの作製」に記載の方法で作製した。
〔比較例1〕
(低屈折率樹脂層Eの作製)
 KAYARAD DPHA1部及びイルガキュア184 0.01部をMEK10部に溶解した溶液中に、酸化ケイ素微粒子(商品名「MEK-ST」、平均分散粒子径15nm、日産化学製)3.8部を分散させ、低屈折率樹脂層Eを形成するための低屈折率樹脂塗布液Eを調製した。
 次いで、低屈折率樹脂塗布液EをPET基材にワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによってMEKを蒸発させた後、UV照射によって低屈折率樹脂層Eを作製した。作製した低屈折率樹脂層Eの550nmの波長及び1200nmの波長での屈折率を分光エリプソメータ(商品名「M-2000」、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製)にて測定し、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δnを求めた。また、作製した低屈折率樹脂層Eの表面抵抗を、高屈折率樹脂層Aの表面抵抗の測定と同様にして測定した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1200nmに設定し、各高屈折率樹脂層Aの1200nmの波長における光学厚さが300nm、各低屈折率樹脂層の1200nmの波長における光学厚さが300nmとなる条件で、実施例1の積層膜の作製に使用したのと同じPET基材上に高屈折率樹脂層A-低屈折率樹脂層Eの順番(すなわち、高屈折率樹脂層AがPET基材に当接する順番)で高屈折率樹脂層A及び低屈折率樹脂層Eを交互に積層し、高屈折率樹脂層A及び低屈折率樹脂層Eの層数の合計が7である比較用の赤外線遮蔽シートを作製した。各高屈折率樹脂層Aは実施例1の「高屈折率樹脂層Aの作製」と同様にして作製した。
 実施例1~実施例9および比較例1の赤外線遮蔽シートの可視光透過率、ヘイズ、及び全日射透過率(Tts)を以下の方法で測定した。
(赤外線遮蔽シートの可視光透過率の測定)
 分光光度計(株式会社島津製作所、商品名「UV-3100」)を用いて、JIS R 3106に準拠して、得られた赤外線遮蔽シートの波長380nm~780nmにおける可視光透過率を測定した。
(赤外線遮蔽シートの全日射透過率(Tts)の測定)
 全日射透過率(Tts;Total Solar Transmittance)は太陽からの熱的エネルギー(全日射エネルギー)のうち、どの程度の熱的エネルギーが測定対象となる材料を透過するかという尺度である。赤外線遮蔽シートの全日射透過率(Tts)は、ISO13837に定義されている測定方法及び計算式にて算出した。算出された赤外線遮蔽シートの全日射透過率の数値が小さいほど、赤外線遮蔽シートを透過する全日射エネルギーが小さいことを示し、赤外線遮蔽シートの熱線遮蔽性が高いことを示す。
(赤外線遮蔽シートのヘイズの測定)
 ヘーズメーター(有限会社東京電色製、商品名「TC-HIIIDPK」)を用いて、JIS K 6714に準拠して、得られた赤外線遮蔽シートのヘイズを測定した。
 実施例1~実施例9および比較例1の赤外線遮蔽シートの可視光透過率、ヘイズ、及び全日射透過率、高屈折率樹脂層(表中では「高屈折層」と表記する)及び低屈折率樹脂層(表中では「低屈折層」と表記する)の550nmの波長での屈折率(表中では「n(550nm」と表記する)、1200nmの波長での屈折率(表中では「n(1200nm)」と表記する)、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δn、及び表面抵抗の測定結果を表1に示す。なお、赤外線遮蔽シートに複数種類の高屈折率樹脂層が含有されている場合には、PET基材に当接する高屈折率樹脂層の特性(屈折率、550nmの波長での屈折率から1200nmの波長での屈折率を差し引いた値Δn及び表面抵抗)のみを表1に示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 実施例1及び比較例1の赤外線遮蔽シートの波長300nm~2500nmにおける分光透過率及び分光反射率を、分光光度計(株式会社島津製作所、商品名「UV-3100」)を用いて、JIS R 3106に準拠して測定した。測定結果を図1及び図2に示す。
 図1、図2、及び表1より、本発明の実施例1に係る赤外線遮蔽シートは、550nmの波長での屈折率から780nm~2500nmの任意波長(具体的には1200nmの波長)における屈折率を差し引いた値が0.1以上(具体的には0.31)である低屈折率樹脂層を含むことにより、全ての低屈折率樹脂層の550nmの波長での屈折率から780nm~2500nmの任意波長(具体的には1200nmの波長)における屈折率を差し引いた値が0.1未満(具体的には0.00)である比較例1の赤外線遮蔽シートに比べて、波長780nm~1500nmの領域の赤外線を効率的に反射していることに加え、波長1500nm~2500nm領域の赤外線を吸収していることで、全日射透過率(Tts)が大幅に改善されていた。
 実施例2の赤外線遮蔽シートでは、各高屈折率樹脂層として使用されている酸化チタン微粒子を含有する層(高屈折率樹脂層B)が、実施例1の赤外線遮蔽シートにおける各高屈折率樹脂層として使用されている酸化ジルコニウム微粒子を含有する層(高屈折率樹脂層A)と比較して、赤外線領域(1200nmの波長)における屈折率が高く、赤外線領域の波長における低屈折率樹脂層との屈折率差が大きいことにより、実施例1の赤外線遮蔽シートよりも更に効率的に赤外線を遮蔽していた(全日射透過率が改善した)。
 実施例3の赤外線遮蔽シートでは、六ホウ化ランタン微粒子の赤外線吸収に加え、PET基材に当接するように配置された六ホウ化ランタン微粒子を含有する層(高屈折率樹脂層C)が、実施例1の赤外線遮蔽シートにおいてPET基材に当接するように配置された酸化ジルコニウム微粒子を含有する層(高屈折率樹脂層A)と比較して、赤外線領域の波長(1200nmの波長)における屈折率が高く、赤外線領域の波長における低屈折率樹脂層との屈折率差が大きいことにより、実施例1の赤外線遮蔽シートよりも更に効率的に赤外線を遮蔽していた(全日射透過率が改善した)。
 実施例5の赤外線遮蔽シートでは、実施例1の赤外線遮蔽シートにおける中空微粒子を添加することで、低屈折率樹脂層の赤外の屈折率を殆ど変化させること無く、スズドープ酸化インジウム微粒子(ITO)を含有する低屈折率樹脂層による吸収波長を低波長化することができたので、実施例1の赤外線遮蔽シートに比べて全日射透過率(Tts)が改善した。
 実施例6~実施例8の赤外線遮蔽シートは、実施例1の赤外線遮蔽シートに使用されている積層膜を赤外吸収色素、コレステリック液晶膜、又は複屈折多層膜と組み合わせることで、実施例1の赤外線遮蔽シートと比較して、可視光透過率を維持しつつ、赤外線をより効果的に遮蔽することができた(全日射透過率が改善した)。
 実施例9の赤外線遮蔽シートは、低屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率を90~95重量%の範囲(詳細には93重量%)とすることで、実施例2の赤外線遮蔽シートと比較して、可視光透過率を維持しつつ、赤外線をより効果的に遮蔽することができた(全日射透過率が改善した)。
 比較例1の赤外線遮蔽シートは、図2より、微粒子による赤外(波長1500nm~2500nmの領域の赤外線)吸収が無いため、全日射透過率(Tts)が不十分であり、さらに人がジリジリ感を感じる1500nm以上の領域の赤外線(熱線)が遮蔽されていないため、比較例1の赤外線遮蔽シートを住宅や自動車の窓ガラスに敷設した場合に、住宅内や自動車内にいる人が不快に感じてしまうことが懸念される。
 以下の実施例10~実施例15及び比較例2では、赤外線遮蔽シートの積層膜の各層(高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層)の表面抵抗及び波長に対する屈折率を以下のように測定した。
(各層の表面抵抗の測定)
 以下の実施例10~実施例15及び比較例2における各層(高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層)の作製と同様にして、各層を単独でPET基材上に作製することによって測定用サンプルを得た。そして、作製した層の表面抵抗を表面抵抗計(株式会社三菱化学アナリテック製、商品名「ハイレスタUP」及び商品名「ロレスタGP」)を用いて測定した。
(各層の屈折率及びΔnの測定)
 以下の実施例10~実施例15及び比較例2における各層(高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層)の作製と同様にして、各層を単独でPET基材上に作製することによって測定用サンプルを得た。そして、作製した層の550nmの波長及び1000nmの波長での屈折率を分光エリプソメータ(商品名「M-2000」、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社製)にて測定し、550nmの波長での屈折率から1000nmの波長での屈折率を差し引いた値Δnを求めた。
〔実施例10〕
(低屈折率樹脂塗布液Fの作製)
 KAYARAD DPHA0.4部及びイルガキュア184 0.05部をMEK4部に溶解した溶液中に、中空シリカ微粒子(商品名「スルーリア1110」、平均一次粒子径50nm、固形分濃度20重量%、日揮触媒化成株式会社製、分散媒:メチルイソブチルケトン)3部を分散させ、低屈折率樹脂層Fを形成するための低屈折率樹脂層塗布液Fを調製した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1000nmに設定し、実施例1の積層膜の作製に使用したのと同じPET基材上に、各層の、1000nmの波長における光学厚さ及びそのQWOT係数が表2の値になるように、実施例2と同様にして作製した高屈折率樹脂塗布液B、実施例1と同様にして作製した低屈折率樹脂塗布液A、前述のようにして作製した低屈折率樹脂塗布液Fを適宜希釈して塗布することにより各層を表2の順番(表2~7における「層」の数値は、その層がPET基材から遠い方から数えて何番目の層であるかを示す)で積層し、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が8である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。なお、各層は、表2の「樹脂層」の欄に記載の樹脂層を形成するための塗布液をワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによって溶媒を蒸発させた後、UV照射によって作製した。
 以下の表2~7では、各層の、550nmの波長での屈折率(表中では「屈折率n(550nm」と表記する)、1000nmの波長での屈折率(表中では「屈折率n(1000nm)」と表記する)、550nmの波長での屈折率から1000nmの波長での屈折率を差し引いた値Δn、及び表面抵抗の測定結果も併せて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
〔実施例11〕
 積層膜が反射させる光の波長を1000nmに設定し、各層の、1000nmの波長における光学厚さ及びそのQWOT係数が表3の値になるように各層を積層した以外は実施例10と同様にして、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が8である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
〔実施例12〕
 積層膜が反射させる光の波長を1000nmに設定し、高屈折率樹脂塗布液Bを用いてなる高屈折率樹脂層Bと低屈折率樹脂塗布液Fを用いてなる低屈折率樹脂層Fとが交互に積層されている部分の合計層数を4層から6層に変更し、高屈折率樹脂塗布液Bを用いてなる高屈折率樹脂層と低屈折率樹脂塗布Aを用いてなる低屈折率樹脂層とが交互に積層されている部分の合計層数を4層から6層に変更し、各層の、1000nmの波長における光学厚さ及びそのQWOT係数が表4の値になるように各層を積層した以外は実施例10と同様にして、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が12である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
〔実施例13〕
(低屈折率樹脂層Gの作製)
 まず、スズドープ酸化インジウム微粒子の量を1.1部に変更したことを以外は実施例1の「低屈折率樹脂層Aの作製」における低屈折率樹脂塗布液Aの作製と同様にして、スズドープ酸化インジウム微粒子分散液を作製した。前記作製したスズドープ酸化インジウム微粒子分散液に、中空シリカ微粒子(商品名「スルーリア1110」、平均一次粒子径50nm、固形分濃度20重量%、日揮触媒化成株式会社製、分散媒:メチルイソブチルケトン)1.5部を分散させ、低屈折率樹脂層Gを形成するための低屈折率樹脂塗布液Gを作製した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1000nmに設定し、表2の「4」の層の作製に使用する塗布液を低屈折率樹脂塗布液Gに変更し、表2の「7」「8」の層を取り除き、各層の、1000nmの波長における光学厚さ及びそのQWOT係数が表5の値になるように各層を積層した以外は実施例10と同様にして、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が6である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。なお、「4」の層は、低屈折率樹脂塗布液Gをワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによって溶媒を蒸発させた後、UV照射によって作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
〔実施例14〕
(赤外吸収色素合成例)
 実施例6と同様にして、赤外吸収色素を2.3部得た。
(赤外吸収色素層の作製)
 前記合成した赤外吸収色素0.02部、KAYARAD DPHA1部、イルガキュア184 0.05部、及びアミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤0.01部をトルエン7部中に加え、ビーズミルを用いて周速10m/sにて分散させ、赤外吸収色素層を形成するための赤外吸収色素含有塗布液を作製した。
 実施例1の積層膜の作製に使用したのと同じPET基材に赤外吸収色素含有塗布液を幾何学厚さが4μmとなるようワイヤーバーコーターにて塗布し、100℃で2分間乾燥させることによって溶媒を蒸発させた後、UV照射によって赤外吸収色素層を作製した。
(積層膜の作製)
 前記作製した赤外吸収色素層上に実施例10と同様にして積層膜を積層し、本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。
〔実施例15〕
(コレステリック液晶膜作製)
 まず、実施例7と同様にして、実施例1の積層膜の作製に使用したのと同じPET基材上に第1及び第2のコレステリック液晶層を作製した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1000nmに設定し、積層膜中における各層の並び順を反転させ、PET基材における、前記作製したコレステリック液晶層側の面とは反対の面上に、各層の、1000nmの波長における光学厚さ及びそのQWOT係数が表6の値になるように各層を積層した以外は実施例13と同様にして、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が6である本発明の一実施例に係る赤外線遮蔽シートを作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
〔比較例2〕
(低屈折率層の作製)
 まず、比較例1と同様にして、低屈折率層塗布液Eを調製した。
(積層膜の作製)
 積層膜が反射させる光の波長を1000nmに設定し、表2の「2」「4」「6」「8」の層の作製に使用する塗布液を低屈折率樹脂塗布液Eに変更し、各層の、1000nmの波長における光学厚さ及びそのQWOT係数が表7の値になるように各層を積層した以外は実施例10と同様にして、高屈折率樹脂層及び低屈折率樹脂層の層数の合計が8である比較用の赤外線遮蔽シートを作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 実施例10~実施例15および比較例2の赤外線遮蔽シートの可視光透過率、ヘイズ、及び全日射透過率(Tts)を以下の方法で測定した。
 実施例10~実施例15および比較例2の赤外線遮蔽シートの可視光透過率、ヘイズ、及び全日射エネルギーを、実施例1~実施例9および比較例1の赤外線遮蔽シートの可視光透過率、ヘイズ、及び全日射透過率(Tts)の測定と同様にして測定した。これらの測定結果を表8に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
 図3、図4、及び表8より、本発明の実施例10に係る赤外線遮蔽シートは、550nmの波長での屈折率から780nm~2500nmの任意波長(具体的には1000nmの波長)における屈折率を差し引いた値が0.1以上(具体的には0.24)である低屈折率樹脂層を含むことにより、全ての低屈折率樹脂層の550nmの波長での屈折率から780nm~2500nmの任意波長(具体的には1000nmの波長)における屈折率を差し引いた値が0.1未満(具体的には0.01)である比較例2の赤外線遮蔽シートに比べて、波長780nm~1500nmの領域の赤外線を効率的に反射していることに加え、波長1500nm~2500nm領域の赤外線を吸収していることで、、全日射透過率(Tts)が大幅に改善されていた。さらに、図1と図3との比較により、本発明の実施例10に係る赤外線遮蔽シートは、780nm~2500nmの任意波長(具体的には1000nmの波長)における光学厚さのQWOT係数が1.5以上(2.0又は2.5)である層を含むことにより、全ての層が780nm~2500nmの任意波長(具体的には1000nmの波長)における光学厚さのQWOT係数が1.5未満である実施例1に係る赤外線遮蔽シートと比較して、780nm~2500nmの領域の赤外線を効果的に遮蔽することができた。
 実施例14及び実施例15の赤外線遮蔽シートは、実施例1の赤外線遮蔽シートに使用されている積層膜を赤外吸収色素又はコレステリック液晶膜と組み合わせることで、可視光透過率を維持しつつ、赤外線をより効果的に遮蔽することができた(全日射透過率が改善した)。
 比較例2の赤外線遮蔽シートは、図4より、微粒子による赤外(波長1500nm~2500nmの領域の赤外線)吸収が無いため、全日射透過率(Tts)が不十分であり、さらに人がジリジリ感を感じる1500nm以上の領域の赤外線(熱線)が遮蔽されていないため、比較例1の赤外線遮蔽シートを住宅や自動車の窓ガラスに敷設した場合に、住宅内や自動車内にいる人が不快に感じてしまう事が懸念される。
〔実施例16〕
(合わせガラス用中間膜の作製)
 作製した実施例10の赤外線遮蔽シート上に第一の中間膜であるPVBフィルムを重ね合わせて積層体を得た。得られた積層体の表面側及び裏面側に配置された2つのラミネート用加熱ローラーで、全周(4辺)の赤外線遮蔽シートの端部から1mm以下の位置の積層体を挟圧し、赤外線遮蔽シートと第一の中間膜とを熱圧着して貼り合わせた。このとき、ラミネート用加熱ローラーは、第一の中間膜の裏面のエンボスをつぶさないように中間膜側のラミネートローラーの温度を25℃とし、逆に第一の中間膜の赤外線遮蔽シート側表面のエンボスを十分につぶして第一の中間膜と赤外線遮蔽シートとの接着性を高めるように透明支持体(PET基材)側のラミネート用加熱ローラーの温度を120℃とした。その後、赤外線遮蔽シートにおける第一の中間膜が貼り合わされた面の裏面上に、第二の中間膜であるPVBフィルムを積層し、実施例10の赤外線遮蔽シートを含む合わせガラス用中間膜を作製した。また、実施例10の赤外線遮蔽シートに代えて実施例11~実施例15の赤外線遮蔽シートをそれぞれ用いる以外は上記の合わせガラス用中間膜の作製と同様にして、実施例11~実施例15の赤外線遮蔽シートをそれぞれ含む5種類の合わせガラス用中間膜を作製した。
(合わせガラス化)
 前記作製した実施例10の赤外線遮蔽シートを用いた合わせガラス用中間膜を、ガラス板/第一の中間膜/赤外線遮蔽シート/第二の中間膜/ガラス板の順序となるように重ね合わせて、2枚のガラス板に合わせガラス用中間膜が挟持された(2枚のガラス板間に合わせガラス用中間膜が挿入された)積層体を製造した。ここで、2枚のガラス板の端部と第一及び第2の中間膜の端部とは同じ位置であった。また、前記ガラス板として、厚さが2mmのガラス板を用いた。得られた、2枚のガラス板に合わせガラス用中間膜が挟持された積層体を、真空下、95℃で30分予備圧着を行った。予備圧着後、ガラス板に挟持された積層体をオートクレーブ内で1.3MPa、120℃の条件で加熱しながら圧着処理し、合わせガラスを作製した。また、実施例10の赤外線遮蔽シートを含む合わせガラス用中間膜に代えて実施例11~実施例15の赤外線遮蔽シートを含む5種類の合わせガラス用中間膜をそれぞれ用いる以外は上記の合わせガラスの作製と同様にして、実施例11~実施例15の赤外線遮蔽シートをそれぞれ含む5種類の合わせガラスを作製した。
 実施例16で作製した、各実施例10~実施例15の赤外線遮蔽シートを含む合わせガラスの性能を評価したところ、各実施例10~実施例15の赤外線遮蔽シートを含む合わせガラスが、顕著な欠陥やスジがなく良好であり、かつ、ヘイズが0.5%以下である透明な遮熱ガラスとして働くことが確認された。
 本発明によれば、微粒子の赤外線吸収能に加え屈折率差を利用した赤外線反射能を付与する事で、従来の赤外線遮蔽シートと比較して、赤外線による温度上昇を抑えることを見出した。これにより、本発明の赤外線遮蔽シートを住宅や自動車の窓ガラスに敷設した場合に、住宅や自動車の空間の温度上昇を抑え、住宅や自動車の空調機器の負荷を軽減し、省エネルギーや地球環境問題に貢献できる。さらに、本発明の赤外線遮蔽シートは、赤外線領域の光を選択的に遮蔽できるので、建造物用の窓用部材、車両用の窓用部材、冷蔵、冷凍ショーケースの窓ガラス、IRカットフィルター、偽造防止等に利用可能である。
 1 合わせガラス用中間膜
 2 赤外線遮蔽シート(透明支持体を含んでもよい)
 3、3’ 中間膜
 4 合わせガラス
 5、5’ ガラス板
 20 透明支持体
 21 高屈折率樹脂層
 22 低屈折率樹脂層
 23 積層膜
 本発明は、その精神又は主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、上述の実施例はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本発明の範囲内のものである。
 また、この出願は、2013年5月16日に日本で出願された特願2013-104324、及び2013年12月27日に日本で出願された特願2013-272893に基づく優先権を請求する。これに言及することにより、その全ての内容は本出願に組み込まれるものである。
 

Claims (21)

  1.  微粒子を含有した高屈折率樹脂層と、微粒子を含有した低屈折率樹脂層とが交互に積層した積層膜を備える赤外線遮蔽シートにおいて、
     前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、550nmの波長での屈折率から780nm~2500nmの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上であり、
     前記低屈折率樹脂層が、550nm以上前記任意波長以下の任意の波長において前記高屈折率樹脂層よりも低い屈折率を示すことを特徴とする赤外線遮蔽シート。
  2.  前記高屈折率樹脂層が、550nmの波長での屈折率から780nm~1500nmの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以下であり、
     前記低屈折率樹脂層が、550nmの波長での屈折率から780nm~1500nmの任意波長における屈折率を差し引いた値が0.1以上である請求項1に記載の赤外線遮蔽シート。
  3.  前記低屈折率樹脂層が、780nm~2500nmの任意波長において前記高屈折率樹脂層よりも低い屈折率を示し、
     前記高屈折率樹脂層の少なくとも1層、及び/または前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層の、780nm~2500nmの任意波長における光学厚さのQWOT係数が、1.5以上である請求項1に記載の赤外線遮蔽シート。
  4.  前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の各々の表面抵抗が、1kΩ/□以上であり、
     前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の層数の合計が、3以上であり、
     前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の各々の780nm~1500nmの任意波長における光学厚さが195nm~375nmである請求項2に記載の赤外線遮蔽シート。
  5.  前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の各々の表面抵抗が、1kΩ/□以上であり、
     前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層の層数の合計が、4以上である請求項1乃至4の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
  6.  可視光透過率が50%以上であり、
     ヘイズが8%以下である請求項1乃至5の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
  7.  前記高屈折率樹脂層の少なくとも1層が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、酸化亜鉛、ダイヤモンド、ホウ化物、及び窒化物からなる群より選択される少なくとも一種の微粒子を含む請求項1乃至6の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
  8.  前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化タングステンからなる群より選択される少なくとも一種の微粒子を含む請求項1乃至7の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
  9.  前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、アンチモンドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、ガリウムドープ酸化亜鉛、酸素欠乏酸化タングステン、及びセシウムドープ酸化タングステンからなる群より選択される少なくとも一種の微粒子を含む請求項8に記載の赤外線遮蔽シート。
  10.  前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、シリカ微粒子を含む請求項8又は9に記載の赤外線遮蔽シート。
  11.  前記シリカ微粒子が、中空シリカ微粒子である請求項10に記載の赤外線遮蔽シート。
  12.  前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、前記群より選択される少なくとも一種の非中空微粒子を含み、
     前記低屈折率樹脂層の少なくとも1層が、中空微粒子を含む請求項8又は10に記載の赤外線遮蔽シート。
  13.  前記高屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率が、前記高屈折率樹脂層全体に対して95重量%以下である請求項1及至12の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
  14.  前記低屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率が、前記低屈折率樹脂層全体に対して95重量%以下である請求項1及至13の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
  15.  コレステリック液晶膜、複屈折多層膜、及び赤外線吸収色素からなる群より選択される少なくとも1種をさらに備える請求項1及至14の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
  16.  透明支持体をさらに備え、
     前記透明支持体上に前記積層膜が形成されている請求項1及至15の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
  17.  請求項1及至16の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートの製造方法であって、
     前記高屈折率樹脂層及び前記低屈折率樹脂層を塗布により形成する工程を含むことを特徴とする赤外線遮蔽シートの製造方法。
  18.  請求項1乃至16の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートと、
     前記赤外線遮蔽シートの少なくとも一方の最外層の上に形成された中間膜とを備える合わせガラス用中間膜。
  19.  前記中間膜が、ポリビニルブチラールを含む請求項18に記載の合わせガラス用中間膜。
  20.  請求項18または請求項19に記載の合わせガラス用中間膜と、複数のガラス板とを備え、
     前記複数のガラス板間に前記合わせガラス用中間膜が挿入されている合わせガラス。
  21.  請求項20に記載の合わせガラスを含む窓用部材。
     
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