WO2014097921A1 - 導電性フイルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法 - Google Patents

導電性フイルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法 Download PDF

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mesh
conductive film
moire
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一央 岩見
博重 中村
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富士フイルム株式会社
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    • G06F2203/04112Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Definitions

  • the present invention relates to a conductive film, a display device including the conductive film, and a method for determining a conductive film pattern, and more specifically, is used as a mesh transparent conductive film, and the electrode is considered in designing the mesh pattern.
  • the present invention relates to a conductive film having a mesh pattern in which the spectral intensity and frequency of a moire visually recognized by design are within a predetermined frequency and intensity range, a display device including the same, and a method for determining a pattern of a conductive film.
  • a conductive film installed on a display unit of a display device for example, a conductive film for an electromagnetic wave shield, a conductive film for a touch sensor (touch panel), or the like can be given (for example, Patent Documents). 1, 2 and 3).
  • Patent document 1 relating to the application of the present applicant discloses a conductive film for electromagnetic wave shielding having an electromagnetic wave shielding pattern made of a mesh-like conductive metal thin film.
  • a pixel arrangement pattern of a display for example, a black matrix
  • BM two-dimensional Fourier spectrum
  • the second pattern generated by the second pattern data exceeding a predetermined spatial frequency, for example, 8 cm ⁇ 1 is automatically selected.
  • Patent Document 1 when the above-mentioned relative distance does not exceed a predetermined spatial frequency, any one or more of the rotation angle, the pitch, and the pattern width of the second pattern data is changed to create a new one. It also discloses that the generation of the second pattern data is repeated until the above-mentioned relative distance exceeds a predetermined spatial frequency. Thus, in Patent Document 1, it is possible to automatically select an electromagnetic wave shield pattern that can suppress the occurrence of moire and can avoid an increase in surface resistivity and deterioration in transparency.
  • the conductive film for touch panels is replaced with conventional transparent ITO (indium tin oxide) as a mesh-like wiring material from the viewpoint of quick response, high resolution, large size, low manufacturing cost, etc.
  • ITO indium tin oxide
  • An opaque conductive material such as metal is used.
  • Patent Document 3 that discloses a conductive film (planar body) for a capacitive touch panel (touch switch), mesh-like electrodes made of conductor wires are arranged substantially in parallel at a predetermined interval. A plurality of conductive part regions, and a non-conductive part region disposed between the conductive part regions. The non-conductive part region includes a plurality of cut portions (breaks) for cutting the conductor wires into island shapes. In addition, these cut portions can insulate between the non-conductive portion region (dummy wiring region) and the adjacent conductive portion region (detection wiring region).
  • Patent Document 1 discloses a technique for providing a wiring pattern with excellent visibility by controlling the moire frequency only from the frequency information of the BM (black matrix) / wiring pattern of the display when generating the wiring pattern of the conductive film.
  • the determination of whether or not moiré is visually recognized depends only on the frequency, even in the case of a frequency at which it is determined that moiré is not visually recognized in Patent Document 1, human perception of moiré is Since not only the frequency but also the strength is affected, there is a case where moire is visually recognized depending on the strength, and the visibility of moire is not sufficiently improved.
  • Patent Document 2 isolated wirings are arranged parallel to or perpendicular to the detection wiring or inclined by 45 ° in a plurality of dummy wiring regions surrounded by the detection wiring region composed of two types of detection wiring. Therefore, the disconnection between the two types of detection wiring and the isolated wiring due to the cut portion is regularly provided. Therefore, the periodic cycle of the disconnection affects the visible moire, and the moire There was a problem that visibility could not be improved sufficiently.
  • Patent Document 3 in order to insulate between the conductive portion region and the non-conductive portion region, a plurality of cut portions for cutting the conductor wire of the mesh electrode are provided at the intersections of the conductor wires of the mesh electrode. It is done.
  • the present applicant calculates the spatial frequency peak of the BM (pixel matrix) of the display and the wiring pattern (mesh pattern) of the mesh-like wiring of the conductive film, An evaluation value is calculated by convolving the two-dimensional frequency and spectrum intensity of the moire obtained from the spatial frequency peak difference and the peak intensity integrated value and the visual transfer function, and the evaluation value has a wiring pattern that satisfies a preset condition.
  • a conductive film is proposed.
  • the present invention eliminates the above-mentioned problems of the prior art, suppresses the generation of moiré, and can significantly improve visibility, a display device including the same, and a method for determining the pattern of the conductive film.
  • the purpose is to provide.
  • the present invention particularly prevents moiré even when a mesh-like wiring having a mesh pattern made of fine metal wires of a conductive film installed on a display unit of a display device has a plurality of disconnected portions. It is an object of the present invention to provide a conductive film that can be suppressed and the visibility can be greatly improved, a display device including the conductive film, and a method for determining a pattern of the conductive film.
  • the present invention provides a black matrix for a display unit of a display device, particularly when a transparent conductive film having a mesh-like wiring having a plurality of disconnected portions is used as an electrode for a touch panel that requires a large size and high resolution.
  • Conductive film capable of suppressing the occurrence of moiré, which causes a large image quality problem when the conductive film is superimposed and viewed, and can greatly improve the visibility of the display on the touch panel, a display device including the conductive film, and the conductivity It is an object of the present invention to provide a method for determining a film pattern.
  • FIGS. 17 (A) and 17 (B) show a mesh pattern with no break (disconnected portion), a moire visibility optimized (no break), and a regular periodic break, respectively.
  • the conductive film according to the first aspect of the present invention is a conductive film installed on the display unit of the display device, and is formed and patterned on the transparent substrate and at least one surface of the transparent substrate.
  • a mesh pattern having a mesh pattern composed of a plurality of fine metal wires, the mesh pattern of the mesh pattern being superimposed on the pixel arrangement pattern of the display unit, and at least a space of the mesh pattern at the time of frontal observation The spectral intensity of the lowest frequency of moire represented by convolution of the frequency characteristics and the spatial frequency characteristics of the pixel arrangement pattern of the display unit is ⁇ 3.6 or less in common logarithm.
  • the mesh-like wiring is formed in a mesh shape with a plurality of metal fine wires, having an electrode wiring pattern formed in a mesh shape so as to be continuous with a plurality of fine metal wires, and has a plurality of disconnected portions, It has a non-electrode wiring pattern that is discontinuous, and has an electrode part and an insulated non-electrode part.
  • the mesh pattern of the mesh-like wiring is insulated from the electrode wiring pattern of the electrode part and the electrode wiring pattern.
  • the spatial frequency characteristics of the mesh pattern are preferably the spatial frequency characteristics of the mesh pattern including a plurality of disconnected portions at the time of frontal observation.
  • a method for determining a wiring pattern of a conductive film according to a second aspect of the present invention is provided on a display unit of a display device and is continuously formed by a plurality of patterned thin metal wires.
  • the periodic image data of the pixel arrangement pattern of the unit perform two-dimensional Fourier transform on the obtained transmission periodic image data of the mesh pattern and the transmittance periodic image data of the pixel arrangement pattern, and at least observe the front
  • the spatial frequency characteristics of the mesh pattern and the pixel array pattern From the spatial frequency characteristics of the obtained mesh pattern and the spatial frequency characteristics of the pixel arrangement pattern, the frequency and spectral intensity of the moire represented by the convolution of both are calculated, and the lowest frequency among the calculated moire frequencies is calculated.
  • the spectrum intensity is compared with -3.6 in the common logarithm, and when the spectrum intensity of the moire defined by the common logarithm is -3.6 or less, the mesh pattern is set as the mesh pattern of the conductive film.
  • the transmission pattern periodic image data of the mesh pattern is changed to the transmission periodic image data of the new mesh pattern to obtain the spatial frequency characteristics, the frequency and spectrum of the moire
  • the mesh-like wiring is an electrode wiring pattern formed in a mesh shape so as to be continuous with a plurality of fine metal wires, and is formed in a mesh shape with a plurality of fine metal wires, has a plurality of disconnected portions, Transmission pattern periodic image data of a mesh pattern including a non-continuous and insulated non-electrode wiring pattern, and the mesh pattern transmittance periodic image data includes a non-electrode wiring pattern having a plurality of disconnected portions
  • the spatial frequency characteristic of the mesh pattern is preferably the spatial frequency characteristic of the mesh pattern including a plurality of disconnected portions at the time of frontal observation.
  • the frequency and spectral intensity of the moire are based on the spatial frequency characteristics of the obtained mesh pattern, and the peak intensity is a common logarithm among the plurality of spectral peaks of the two-dimensional Fourier spectrum of the mesh pattern transmittance periodic image data. Extracts spectral peaks that are 4.5 or more, calculates peak frequencies and peak intensities of all extracted spectral peaks, and from the spatial frequency characteristics of the obtained pixel array pattern, transmits a periodic image of the pixel array pattern Among the multiple spectrum peaks of the two-dimensional Fourier spectrum of the data, extract the spectrum peak whose peak intensity is -4.5 or more in common logarithm, and calculate the peak frequency and peak intensity of all the extracted spectrum peaks.
  • the peak frequency and peak of the mesh pattern calculated in this way It is preferred that are calculated from the intensity and the peak frequency and the peak intensity of the pixel array pattern.
  • the frequency of the moire is given by a difference between the peak frequency of the mesh pattern and the peak frequency of the pixel arrangement pattern, and the spectral intensity of the moire has the peak intensity of the mesh pattern and the peak intensity of the pixel arrangement pattern.
  • the difference between the peak frequencies of the mesh pattern and the pixel arrangement pattern is obtained as the moire frequency
  • the mesh pattern peak intensity and the pixel arrangement are obtained as the moire spectrum intensity. It is preferable to obtain the product of two sets of vector intensities with the peak intensity of the pattern.
  • the peak intensity is preferably the sum of the intensities in a plurality of pixels around the peak position, and the transmittance periodic image data of the mesh pattern and the pixel array pattern is used. It is preferable that it is standardized.
  • a conductive film according to a third aspect of the present invention is a conductive film installed on a display unit of a display device, and includes a transparent substrate and at least one surface of the transparent substrate. And a mesh-like wiring having a mesh pattern composed of a plurality of fine metal wires formed and patterned, and the mesh-like wiring is an electrode wiring pattern formed in a mesh shape so as to be continuous by a plurality of fine metal wires.
  • the mesh pattern of the shaped wiring is composed of an electrode wiring pattern of the electrode part and a non-electrode wiring pattern of the non-electrode part insulated from the electrode wiring pattern.
  • the mesh pattern of the mesh-like wiring in the case where a plurality of disconnected portions of the non-electrode wiring pattern of the non-electrode portion are connected is one in which moire is not visually recognized,
  • the electrode wiring pattern is a random wiring pattern in which a plurality of disconnection portions are randomly arranged.
  • the moire frequency is preferably 3 cycles / mm or less.
  • the non-electrode wiring pattern of the non-electrode portion is formed in a mesh shape with a plurality of fine metal wires in a region excluding the electrode portion.
  • the pixel array pattern is preferably a black matrix pattern.
  • a display device includes a display unit and the conductive film according to the first and third aspects installed on the display unit. It is characterized by providing.
  • a touch panel display device is arranged on the upper side of the conductive film of the display device according to the fourth aspect and the display device, and on the opposite side of the conductive film. And a transparent substrate having a touch surface.
  • a mesh-like wiring having a mesh pattern made of a fine metal wire has a plurality of disconnected portions. Even if it has, it can suppress generation
  • a transparent conductive film having a mesh-like wiring having a plurality of disconnection portions is used as an electrode for a touch panel that requires a large size and high resolution, the black matrix of the display unit of the display device is used. It is possible to suppress the occurrence of moire that causes a large image quality problem when the conductive film is superimposed and viewed, and the display visibility on the touch panel can be greatly improved.
  • FIG. 2 is a partially enlarged plan view of the conductive film shown in FIG. 1.
  • FIG. 3 is a partially enlarged plan view of the conductive film shown in FIG. 2, and is a schematic diagram illustrating an example of a plurality of disconnected portions of the mesh pattern. It is a typical fragmentary sectional view of the electroconductive film shown in FIG. It is a top view which shows typically an example of one wiring layer of the electroconductive film which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. It is the elements on larger scale of the wiring layer of the electroconductive film shown in FIG. 5, and is a schematic diagram which shows an example of the several disconnection part of the mesh pattern.
  • FIG. It is a typical fragmentary sectional view of the electroconductive film shown in FIG. It is a schematic explanatory drawing showing an example of the one part pixel arrangement pattern of the display unit to which the electroconductive film which concerns on this invention is applied. It is a schematic sectional drawing of one Example of the display apparatus incorporating the electroconductive film shown in FIG. It is a flowchart which shows an example of the determination method of the mesh pattern of the electroconductive film which concerns on this invention.
  • A is a schematic explanatory drawing showing an example of the pixel arrangement pattern of the display unit to which the conductive film which concerns on this invention is applied
  • (B) is the electroconductivity superimposed on the pixel arrangement pattern of (A).
  • FIG. 11 It is a schematic explanatory drawing showing an example of the wiring pattern of a film
  • (C) is the elements on larger scale of the pixel arrangement pattern of (A).
  • (A) And (B) is a figure which shows the intensity
  • (A) and (B) are the graph which represents an example of the intensity
  • FIG. 12 is a schematic explanatory diagram schematically showing moire frequency information and moire spectrum intensity generated by interference between the pixel array pattern shown in FIG. 11A and the wiring pattern shown in FIG. 6 is a plan view showing a simulation sample of a mesh pattern of Comparative Example 1.
  • FIG. (A) And (B) is a figure which shows the spatial frequency characteristic in the case of a mesh pattern (with no break) without a break (disconnection part) and a mesh pattern (with a break) with a regular periodic break, respectively. .
  • the conductive film according to the present invention will be described as a representative example of a conductive film for a touch panel provided with a broken portion in a mesh-like wiring.
  • the present invention is not limited to this, and a liquid crystal display (LCD: Liquid) is described. Crystal Display), Plasma Display (PDP: Plasma Display Panel), Organic EL Display (OELD: Organic Electric) Any conductive film may be used as long as it is installed on a display unit of a display device such as a Luminescence Display) or an inorganic EL display. Of course, a conductive film or the like may be used.
  • FIG. 2 and FIG. 3 are an overall plan view schematically showing an example of a conductive film according to the first embodiment of the present invention, a partially enlarged plan view thereof, and a plurality of mesh patterns which are further enlarged.
  • FIG. 4 is a schematic partial cross-sectional view of the conductive film shown in FIG. 3.
  • the electrode portions of the conductive film mesh-like wiring are shown as regions surrounded by thick lines, and the dummy electrode portions are shown as hatched regions.
  • the electrode wiring pattern is indicated by a bold line and the dummy electrode pattern is indicated by a thin line. Is formed of the same opaque thin metal wire, and of course there is no difference in thickness.
  • the conductive film 10 of the present embodiment is installed on the display unit of the display device, and suppresses the occurrence of moire with respect to the black matrix (BM) of the display unit.
  • Excellent mesh pattern (wiring pattern) in terms of the point, in particular, conductivity in which a mesh-like wiring having a mesh pattern optimized in terms of moire visibility with respect to the BM pattern when superimposed on the BM pattern is formed It is a film.
  • the conductive film 10 is formed on substantially the entire surface of the transparent substrate 12 and one surface (the upper surface in FIG. 4) of the transparent substrate 12, and is patterned into a plurality of opaque metal fine wires (hereinafter referred to as metal fine wires). 14) and a protective layer 20 bonded to the thin metal wires 14 of the wiring layer 16 through an adhesive layer 18 so as to cover the thin metal wires 14.
  • the transparent substrate 12 is made of a material having insulating properties and high translucency, and examples thereof include materials such as resin, glass, and silicon.
  • the resin include PET (Polyethylene Terephthalate), PMMA (Polymethyl methacrylate), PP (polypropylene), PS (polystyrene) and the like.
  • the wiring layer 16 includes a mesh-like wiring 22 composed of a plurality of fine metal wires 14.
  • the metal thin wire 14 is not particularly limited as long as it is a metal thin wire having high conductivity, and examples thereof include a wire made of gold (Au), silver (Ag), or copper (Cu).
  • the line width of the fine metal wire 14 is preferably narrower from the viewpoint of visibility, but may be, for example, 30 ⁇ m or less.
  • the line width of the fine metal wire 14 is preferably 0.1 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or more and 9 ⁇ m or less, and further preferably 2 ⁇ m or more and 7 ⁇ m or less.
  • the mesh-like wiring 22 has a wiring pattern in which a plurality of fine metal wires 14 in two directions are crossed, that is, a mesh pattern 24 in which a plurality of fine metal wires 14 are arranged in a mesh shape.
  • the mesh shape of the opening 23 formed by the mesh pattern 24 is a rhombus, and can be referred to as a diamond pattern.
  • the present invention is not limited to this, and for a predetermined BM pattern described later. As long as the mesh pattern 24 with optimized moiré visibility can be configured, any polygonal shape having at least three sides may be used.
  • Triangles such as regular triangles and isosceles triangles, quadrangles (rectangles) such as squares and rectangles, and the same or different polygons such as pentagons and hexagons. That is, as long as the mesh pattern is optimized for moiré visibility with respect to a predetermined BM pattern, even a mesh pattern constituted by the arrangement of the regular openings 23 may be random depending on the arrangement of the openings 23 having different shapes. A meshed pattern may be used.
  • the mesh-shaped wiring 22 is similarly formed in a mesh shape with a plurality of metal fine wires, and an electrode portion 22a having an electrode wiring pattern 24a formed in a mesh shape so as to be continuous with the plurality of metal thin wires 14, and a plurality of disconnection portions 26, a non-continuous dummy electrode (non-electrode) wiring pattern 24b, and a dummy electrode portion (non-electrode portion) 22b insulated from the electrode portion 22a.
  • the electrode wiring pattern 24a of the electrode portion 22a and the dummy electrode wiring pattern 24b of the dummy electrode portion 22b are wiring patterns having the same mesh shape (diamonds).
  • the mesh pattern 24 of the wire 22 is formed.
  • the electrode wiring pattern 24a of the electrode portion 22a in the illustrated example is an electrode pattern constituting an X electrode, but the present invention is not limited to this, and an electrode pattern used for a capacitive touch sensor (panel). Any electrode pattern may be used as long as it is a known electrode pattern such as a stripe electrode, a bar and stripe electrode, a diamond electrode, or a snowflake electrode.
  • the fine metal wires 14 formed in the mesh shape in the electrode portion 22a are continuous without having the broken portions 26, whereas the fine metal wires 14 formed in the mesh shape in the dummy electrode portion 22b have a plurality of broken wires.
  • a part (cutting part) 26 is provided, and a plurality of disconnections are added.
  • a disconnection portion 26 is always provided between the metal thin wire 14 in the electrode portion 22a and the metal thin wire 14 in the dummy electrode portion 22b, and the metal thin wire 14 in the electrode portion 22a and the metal thin wire 14 in the dummy electrode portion 22b are Disconnected and discontinuous. That is, the dummy electrode part 22b is electrically insulated from the electrode part 22a. From the above, the mesh pattern 24 of the mesh-like wiring 22 becomes a mesh pattern including a plurality of disconnected portions 26. In addition, the structure required for the mesh pattern 24 of the mesh-like wiring 22 of the conductive film 10 of the present invention will be described later.
  • the material of the adhesive layer 18 examples include a wet laminate adhesive, a dry laminate adhesive, and a hot melt adhesive.
  • the protective layer 20 is made of a highly translucent material containing resin, glass, and silicon.
  • the refractive index n1 of the protective layer 20 is preferably equal to or close to the refractive index n0 of the transparent substrate 12. In this case, the relative refractive index nr1 of the transparent substrate 12 with respect to the protective layer 20 is close to 1.
  • the refractive index in this specification means a refractive index in light having a wavelength of 589.3 nm (sodium D-line).
  • ISO 14782: 1999 (corresponding to JIS K 7105) is an international standard.
  • the relative refractive index nr1 may be in the range of 0.86 to 1.15, more preferably 0.91 to 1.08.
  • the conductive film 10 according to the first embodiment described above has the wiring layer 16 on only one surface of the transparent substrate 12.
  • the present invention is not limited to this, and the wiring is formed on both surfaces of the transparent substrate 12. It may have a part.
  • 5 and 6 are a plan view and a partially enlarged plan view schematically showing an example of the second wiring layer on one side, that is, the lower side of the conductive film according to the second embodiment of the present invention, respectively.
  • FIG. 7 is a schematic partial cross-sectional view of the conductive film shown in FIG. 6.
  • the electrode portions of the conductive film mesh-like wiring are shown as hatched regions, and the dummy electrode portions are shown as regions surrounded by alternate long and short dash lines. Further, in FIG.
  • the electrode wiring pattern is indicated by a thick line and the dummy electrode pattern is indicated by a thin line, but these are the same. Of course, there is no difference in thickness.
  • the conductive film 11 of the second embodiment includes a first wiring layer 16a formed on one surface (upper side in FIG. 7) of the transparent substrate 12 and the other ( A second wiring layer 16b formed on the lower surface of FIG. 7, a first protective layer 20a bonded to substantially the entire surface of the first wiring layer 16a via a first adhesive layer 18a, and a second wiring layer And a second protective layer 20b bonded to the substantially entire surface of 16b via a second adhesive layer 18b.
  • the transparent substrate 12 is made of an insulating material
  • the second wiring layer 16b is in a state of being electrically insulated from the first wiring layer 16a.
  • the first and second wiring layers 16a and 16b can be formed in the same manner using the same material as the wiring layer 16 of the conductive film 10 shown in FIG.
  • the first wiring layer 16a of the conductive film 11 of the present embodiment is composed of a plurality of fine metal wires 14 and includes an electrode wiring pattern 24a, like the wiring layer 16 shown in FIGS. A mesh having an electrode portion 22a and a dummy electrode portion 22b including a dummy electrode wiring pattern 24b having a plurality of disconnected portions 26, and having a mesh pattern 24 that is a combined pattern of the electrode wiring pattern 24a and the dummy electrode wiring pattern 24b
  • the wire 22 is provided.
  • the first wiring layer 16a of the conductive film 11 has the same configuration as the wiring layer 16 of the conductive film 10 shown in FIGS. 1 to 4, and therefore detailed description thereof is omitted.
  • the second wiring layer 16 b is composed of a plurality of opaque fine metal wires 14 and is formed on the other surface (lower side in FIG. 7) of the transparent substrate 12.
  • the second wiring layer 16 b includes a mesh-like wiring 28 composed of a plurality of fine metal wires 14.
  • the mesh-like wiring 28 is similar to the mesh-like wiring 22 shown in FIGS. 1 to 3, and more specifically, is a wiring pattern in which a plurality of fine metal wires 14 in two directions are crossed, that is, a plurality of fine metal wires 14. Has a mesh pattern 30 arranged in a mesh shape.
  • the mesh shape of the opening 29 formed by the mesh pattern 30 is a rhombus and can be referred to as a diamond pattern. Note that the opening 29 of the mesh pattern 30 of the mesh-like wiring 28 has the same mesh shape as the opening 23 of the mesh pattern 24 of the mesh-like wiring 22 shown in FIGS. Description is omitted.
  • the mesh wiring 28 is similarly formed in a mesh shape with a plurality of metal fine wires, and an electrode portion 28a having an electrode wiring pattern 30a formed in a mesh shape so as to be continuous with the plurality of metal thin wires 14, and a plurality of disconnection portions 26, a non-continuous dummy electrode wiring pattern 30b, and a dummy electrode portion 28b insulated from the electrode portion 28a.
  • the electrode wiring pattern 30a of the electrode portion 28a and the dummy electrode wiring pattern 30b of the dummy electrode portion 28b are wiring patterns having the same mesh shape (diamonds).
  • the mesh pattern 30 of the wire 28 is formed.
  • the dummy electrode wiring pattern 30b of the dummy electrode portion 28b in the illustrated example has a line shape
  • the electrode wiring pattern 24a of the electrode portion 22a is an electrode pattern constituting a stripe electrode, but the present invention is not limited to this. Any electrode pattern may be used as long as it is used for a capacitive touch sensor (panel). For example, X electrode, bar and stripe electrode, diamond electrode, snowflake electrode, etc. It may be.
  • the fine metal wires 14 formed in a mesh shape in the electrode portion 28a are continuous without the broken portion 26, whereas the fine metal wires 14 formed in a mesh shape in the dummy electrode portion 28b have a plurality of broken wires.
  • a part (cutting part) 26 is provided, and a plurality of disconnections are added.
  • a disconnection portion 26 is always provided between the metal thin wire 14 in the electrode portion 28a and the metal thin wire 14 in the dummy electrode portion 28b, and the metal thin wire 14 in the electrode portion 28a and the metal thin wire 14 in the dummy electrode portion 28b are Disconnected and discontinuous. That is, the dummy electrode part 28b is electrically insulated from the electrode part 28a.
  • the mesh pattern 30 of the mesh wiring 28 is a mesh pattern including a plurality of disconnected portions 26.
  • the structure required for the mesh pattern 30 of the mesh-like wiring 28 of the conductive film 11 of the present invention will be described later.
  • the first protective layer 20a is bonded to substantially the entire surface of the first wiring layer 16a by the first adhesive layer 18a so as to cover the fine metal wires 14 of the first wiring layer 16a.
  • the second protective layer 20b is adhered to substantially the entire surface of the second wiring layer 16b by the second adhesive layer 18b so as to cover the fine metal wires 14 of the second wiring layer 16b.
  • the first adhesive layer 18a and the second adhesive layer 18b can be formed of the same material as the adhesive layer 18 of the conductive film 10 shown in FIG. 4, respectively, but the material of the first adhesive layer 18a
  • the material of the second adhesive layer 18b may be the same or different.
  • the first protective layer 20a and the second protective layer 20b can be formed in the same manner with the same material as the protective layer 20 of the conductive film 10 shown in FIG.
  • the material of the second protective layer 20b may be the same or different.
  • the refractive index n2 of the first protective layer 20a and the refractive index n3 of the second protective layer 20b are both set to the refractive index n0 of the transparent substrate 12 as in the protective layer 20 of the conductive film 10 of the first embodiment. It is equal to or close to this value.
  • the relative refractive index nr2 of the transparent substrate 12 with respect to the first protective layer 20a and the relative refractive index nr3 of the transparent substrate 12 with respect to the second protective layer 20b are both values close to 1.
  • the definitions of the refractive index and the relative refractive index are as defined in the first embodiment.
  • the relative refractive index nr2 and the relative refractive index nr3 may be in the range of 0.86 or more and 1.15 or less, more preferably 0.91 or more and 1.08, similarly to the relative refractive index nr1 described above. It is as follows.
  • the conductive film 10 according to the first embodiment of the present invention and the conductive film 11 according to the second embodiment described above are applied to a touch panel of a display unit (display unit) 31, for example, schematically shown in FIG.
  • a mesh pattern (24, 30) optimized in terms of moire visibility with respect to the pixel arrangement pattern of the display unit 31, that is, a black matrix (hereinafter also referred to as BM) pattern.
  • BM black matrix
  • the mesh pattern optimized in terms of moiré visibility with respect to a BM (pixel array) pattern is one or more in which moiré is not perceived by human vision with respect to a predetermined BM pattern.
  • a group of mesh patterns is one or more in which moiré is not perceived by human vision with respect to a predetermined BM pattern.
  • an order from the least perceptible mesh pattern to the less perceptible mesh pattern can be assigned, and one mesh pattern with the least perceived moire is obtained. It can also be determined.
  • the spectral intensity of the lowest frequency of the moire expressed by convolution of the spatial frequency characteristics of the mesh pattern and the spatial frequency characteristics of the BM pattern of the display unit at least when viewed from the front is the common logarithm. -3.6 it is necessary that the (true number 10 -3.6) or less.
  • the mesh pattern of the conductive film is a mesh pattern including a plurality of disconnection portions is described as a representative example, but as shown in FIGS. 17A and 17B, a plurality of disconnection portions are illustrated. Since the moiré pattern is easier to visually recognize in the mesh pattern including the broken line than the mesh pattern not including the broken line part, the present invention is naturally applicable to the mesh pattern not including the broken line part.
  • the spectral intensity of the lowest frequency of the moire expressed by convolution of both the spatial frequency characteristics of the mesh pattern and the BM pattern of the display unit regardless of the presence or absence of the disconnection portion is ⁇ 3.
  • the present invention can be applied to a mesh pattern having 6 (true number: 10 ⁇ 3.6 ) or less.
  • the frequency of the target moire is 3 cycles / mm or less. The reason is that it has been empirically known that the frequency of the moire which is a problem in sensory evaluation is within 3 cycles / mm.
  • the visibility of moire is optimized so that moire is not visually recognized even when a mesh pattern that does not include a disconnection portion is superimposed on the BM pattern of the display unit, a plurality of disconnections are formed in the mesh pattern.
  • a plurality of disconnections are formed in the mesh pattern.
  • the mesh The dummy electrode wiring pattern in the pattern can improve the visibility of moire by using a random wiring pattern in which a plurality of disconnected portions are randomly arranged.
  • the mesh pattern of the conductive film described in the specification of Japanese Patent Application No. 2012-82711 related to the application of the present applicant is used as the mesh pattern that does not include the broken portion in which the visibility of the moire is optimized. Can do.
  • the mesh pattern disclosed herein includes peak frequencies and peak intensities of a plurality of spectrum peaks of the two-dimensional Fourier spectrum of the transmittance image data, and a plurality of spectrum peaks of the two-dimensional Fourier spectrum of the transmittance image data of the pixel array pattern.
  • the moire frequency and intensity obtained by applying human visual response characteristics to the moire frequency and spectrum intensity calculated from the peak frequency and peak intensity, respectively, are determined according to the visual response characteristics.
  • a mesh pattern which does not include the disconnection part by which the visibility of moire is optimized it is not limited to the thing as described in the said specification,
  • the conventionally well-known disconnection part by which the visibility of moire is optimized May be a mesh pattern, or may be described in Japanese Patent Application Nos. 2011-221432, 2011-221434, 2012-82706, 2012-166946, etc., which are filed by the present applicant.
  • a mesh pattern may be applied.
  • the mesh patterns 24 and 30 optimized in terms of moire visibility with respect to the pixel arrangement pattern of the display unit 31, that is, the black matrix (hereinafter also referred to as BM) pattern.
  • the combined mesh pattern of both satisfies at least one of the above conditions. Details of optimization of the moire visibility of the mesh pattern with respect to a predetermined BM pattern will be described later.
  • the conductive film of the present invention is basically configured as described above.
  • FIG. 8 is a schematic explanatory view schematically showing an example of a partial pixel arrangement pattern of a display unit to which the conductive film of the present invention is applied.
  • the display unit 31 has a plurality of pixels 32 arranged in a matrix to form a predetermined pixel arrangement pattern.
  • One pixel 32 includes three subpixels (a red subpixel 32r, a green subpixel 32g, and a blue subpixel 32b) arranged in the horizontal direction.
  • One sub-pixel has a rectangular shape that is vertically long in the vertical direction.
  • the horizontal arrangement pitch of pixels 32 (horizontal pixel pitch Ph) and the vertical arrangement pitch of pixels 32 (vertical pixel pitch Pv) are substantially the same.
  • a shape configured by one pixel 32 and a black matrix (BM) 34 (pattern material) surrounding the one pixel 32 is a square.
  • the aspect ratio of one pixel 32 is not 1, but the length in the horizontal direction (horizontal)> the length in the vertical direction (vertical).
  • the pixel arrangement pattern constituted by the sub-pixels 32r, 32g, and 32b of each of the plurality of pixels 32 is defined by the BM pattern 38 of the BM 34 surrounding the sub-pixels 32r, 32g, and 32b, respectively.
  • the moire generated when the display unit 31 and the conductive film 10 or 11 are overlapped is generated by the interference between the BM pattern 38 of the BM 34 of the display unit 31 and the mesh patterns 24 and 30 of the conductive film 10 or 11. Therefore, strictly speaking, the BM pattern 38 is an inverted pattern of the pixel arrangement pattern, but here, it is treated as representing the same pattern.
  • the mesh pattern 24 of the conductive film 11 is a BM (pixel array) pattern.
  • 38 is optimized in terms of moiré visibility, so there is almost no interference of spatial frequency between the arrangement period of the pixels 32 and the wiring arrangement of the thin metal wires 14 of the conductive film 10 or 11, and moiré. The occurrence of is suppressed.
  • the display unit 31 illustrated in FIG. 8 may be configured by a display panel such as a liquid crystal panel, a plasma panel, an organic EL panel, or an inorganic EL panel.
  • FIG. 9 a projection capacitive touch panel incorporating the conductive film 11 according to the second embodiment of the present invention will be described as a representative example of the display device 40, but the present invention is not limited thereto. It goes without saying that it is not limited.
  • the display device 40 includes a display unit 31 (see FIG. 8) that can display a color image and / or a monochrome image, and a touch panel that detects a contact position from the input surface 42 (arrow Z1 direction side). 44 and a housing 46 that houses the display unit 31 and the touch panel 44. The user can access the touch panel 44 through a large opening provided on one surface of the housing 46 (arrow Z1 direction side).
  • the touch panel 44 has a cover member 48 stacked on one surface (the arrow Z1 direction side) of the conductive film 11 and a cable 50.
  • a flexible substrate 52 electrically connected to the conductive film 11 and a detection control unit 54 disposed on the flexible substrate 52 are provided.
  • the conductive film 11 is bonded to one surface of the display unit 31 (arrow Z1 direction side) through an adhesive layer 56.
  • the conductive film 11 is arranged on the display screen with the other main surface side (second wiring layer 16b side) facing the display unit 31.
  • the cover member 48 exhibits a function as the input surface 42 by covering one surface of the conductive film 11. Further, by preventing direct contact with the contact body 58 (for example, a finger or a stylus pen), it is possible to suppress the generation of scratches and the adhesion of dust, and to stabilize the conductivity of the conductive film 11. Can do.
  • the contact body 58 for example, a finger or a stylus pen
  • the material of the cover member 48 may be glass or resin film, for example. You may make it closely_contact
  • the flexible substrate 52 is an electronic substrate having flexibility. In the illustrated example, it is fixed to the inner wall of the side surface of the housing 46, but the arrangement position may be variously changed.
  • the detection control unit 54 captures a change in capacitance between the contact body 58 and the conductive film 11 when the contact body 58 that is a conductor contacts (or approaches) the input surface 42, and detects the contact position.
  • An electronic circuit for detecting (or a proximity position) is configured.
  • the display device to which the conductive film of the present invention is applied is basically configured as described above.
  • FIG. 10 is a flowchart showing an example of the method for determining the mesh pattern of the conductive film of the present invention.
  • the method for determining a mesh pattern of a conductive film according to the present invention includes a peak obtained by frequency analysis using a fast Fourier transform (FFT) between a BM (pixel array) pattern of a display unit of a display device and a mesh pattern of a conductive film.
  • the frequency and spectral intensity of the moire are calculated from the frequency and the peak intensity, and the calculated frequency and spectral intensity of the moire are compared with the frequency and spectral intensity conditions of the moire where the moire is not visually recognized, determined empirically.
  • the mesh pattern that satisfies the condition is determined as a mesh pattern that is optimized so that moire is not visually recognized.
  • FFT is generally used for the frequency and spectrum intensity of moire, but depending on the method of use, the frequency and spectrum intensity of the object change greatly, so the following procedure is specified. .
  • transmittance periodic image data (hereinafter also referred to as transmittance image data) of a BM pattern and a mesh pattern is created. That is, as shown in FIG. 10, in step S10, the transmittance periodic image data of the BM pattern 38 (BM34) (see FIG. 8) of the display unit 31 of the display device 40 shown in FIG.
  • the transmittance periodic image data of the mesh pattern 62 (metal thin wire 14) including the portion 26 (see FIG. 11B) is created and acquired.
  • the transmittance image data of the BM pattern 38 and the transmittance image data of the mesh pattern 62 including the plurality of disconnection portions 26 are prepared or stored in advance, from the prepared or stored You may make it acquire.
  • the BM pattern 38 of the display unit 31 includes, for example, three sub-pixels 32r, 32g, and 32b of RGB per pixel 32 as shown in FIG.
  • the transmittance image data of the R and B channels is preferably zero.
  • the image data of the BM 34 that is, the transmittance image data of the BM pattern 38, has a rectangular opening (sub-pixels 32r, 32g, and 32b) of the BM 34 as shown in FIG.
  • the BM pattern may be any BM pattern that does not have a rectangular opening, and a BM pattern having an arbitrary BM opening may be designated and used.
  • the shape is not limited to a simple rectangular shape, and may be a bent shape or a bowl shape without any complexity.
  • the transmittance image data of the BM pattern 38 is, for example, binarized data with a resolution of about 12700 dpi, an aperture of 1.0, and other portions of 0.0.
  • the mesh pattern 62 of the conductive film 60 can be a square lattice in which the fine metal wires 14 to be wired are inclined by 45 ° [deg], for example, as shown in FIG.
  • a wiring pattern 14 is disconnected by a plurality of disconnection portions 26.
  • the transmittance image data of the mesh pattern 62 is created as image data having a cycle including the broken portion (break) 26.
  • the transmittance image data of the mesh pattern 62 has, for example, a resolution of about 12700 dpi, 0.0 in the openings 23 and 29 in the mesh shape, and 1.0 in the portion of the fine metal wire 14 that becomes the wiring. Binarized data was used.
  • the sizes of the transmittance image data of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 are defined, for example, 5020 (pixels) ⁇ 2423 (pixels). Moreover, in order to prevent or reduce the artifact of the period at the time of the FFT processing in the procedure 2 described later, it is preferable to cut out the repetition period so that continuity is maintained.
  • the image size is preferably an image within a region for four images.
  • step S12 two-dimensional fast Fourier transform
  • step S10 2DFFT processing is performed on each transmittance image data of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 created in step S10, and at least a disconnection portion (break) at the time of frontal observation is performed.
  • step S12 2DFFT processing is performed on each transmittance image data of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 created in step S10, and at least a disconnection portion (break) at the time of frontal observation is performed.
  • Each spatial frequency characteristic (two-dimensional Fourier spectrum) of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 including 26 is acquired.
  • the two-dimensional Fourier spectrum of each transmittance image data of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 is represented by a complex number (including phase information), but the spectrum (complex number) is represented by an image size (vertical ⁇ horizontal (pix 2 )).
  • image size vertical ⁇ horizontal (pix 2 )
  • the spectrum normalized by the image size (pix 2 ) is given by, for example, spectrum (complex number) / image size (5020 ⁇ 2433 pix 2 ).
  • the frequency and spectrum intensity of the moire represented by convolution of both are calculated from the spatial frequency characteristics of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 acquired in procedure 2. That is, as shown in FIG. 10, in step S14, the moire represented by convolution (integration) of both spatial frequency characteristics from the spatial frequency characteristics of the mesh pattern 62 and the spatial frequency characteristics of the BM pattern 38 acquired in step S12. The frequency and the spectral intensity are calculated.
  • the calculation of the frequency and spectral intensity of the moire in step 14 can be performed by the following steps 16 and 18.
  • the spectral intensity of the two-dimensional Fourier spectrum is defined as a common logarithm to match the absolute value of a complex number and human vision.
  • step S16 from the spatial frequency characteristics of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 acquired in step S12, the spectrum intensity defined by the common logarithm of the spectra of the patterns 62 and 38 is defined. All the spatial frequencies of the spectrum (peak) whose (Log 10 (absolute value of spectrum)) is ⁇ 4.5 or more are extracted. That is, out of a plurality of spectral peaks of the two-dimensional Fourier spectrum of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38, all spectral peaks whose peak intensity is ⁇ 4.5 or more in common logarithm are extracted, and all the extracted spectral peaks The peak frequency and peak intensity are calculated.
  • the information obtained at this time is the spatial frequency fx, fy, complex number (a + bi) information of the peak value of the spectrum.
  • the peak intensity is handled as an absolute value.
  • FIGS. 12A and 12B are diagrams showing the intensity characteristics of the two-dimensional Fourier spectrum of each transmittance image data of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38, respectively.
  • the white portion has high intensity and shows a spectrum peak. Therefore, from the results shown in FIGS. 12A and 12B, the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 For each, the peak frequency and peak intensity of each spectral peak are calculated. That is, the position on the frequency coordinate of the spectrum peak in the intensity characteristics of the two-dimensional Fourier spectrum of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 shown in FIGS. 12A and 12B, that is, the peak position represents the peak frequency.
  • the intensity of the two-dimensional Fourier spectrum at the position is the peak intensity.
  • the peak frequency and intensity of each spectrum peak of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 are calculated and acquired as follows.
  • the frequency peak is obtained from the fundamental frequency of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38. This is because the transmittance image data for performing 2DFFT processing is a discrete value, and the peak frequency depends on the reciprocal of the image size.
  • the frequency peak position can be expressed by combining independent two-dimensional fundamental frequency vector components a and b. Therefore, as a matter of course, the obtained peak positions are in a lattice shape.
  • FIG. 13 is a graph showing the frequency peak position in the case of the BM pattern 38, but the mesh pattern 62 can be obtained in the same manner.
  • the peak position is obtained in the acquisition of the above peak frequency, so the intensity (absolute value) of the two-dimensional Fourier spectrum possessed by the peak position is acquired.
  • the peak position extends over a plurality of pixels (pixels).
  • the intensity (Sp) characteristic of the two-dimensional Fourier spectrum is represented by the curve (analog value) shown in FIG. 14A, the intensity characteristic of the same two-dimensional Fourier spectrum that has been digitally processed is shown in FIG. )
  • the peak P of the intensity of the two-dimensional Fourier spectrum shown in FIG. 14 (A) spans two pixels in the corresponding FIG. 14 (B). .
  • the spectral intensities of the plurality of pixels in the area including the plurality of pixels around the peak position are higher than a plurality of points, for example, in the area of 5 ⁇ 5 pixels.
  • the peak intensity absolute value
  • the obtained peak intensity is preferably normalized by the image size. In the above-described example, as described above, it is preferable to normalize the image size (5020 ⁇ 2433 pix 2 ) (Perseval's theorem).
  • step S18 the frequency and spectral intensity of moire are calculated from the peak frequency and peak intensity of both two-dimensional Fourier spectra of the mesh pattern 62 and BM pattern 38 calculated in step S16.
  • the peak intensity and the spectral intensity of moire are handled as absolute values.
  • moire is originally caused by multiplication of the transmittance periodic image data of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38. Therefore, in the spatial frequency space, convolution integration (convolution) of both is performed.
  • the peak frequency and peak intensity of both two-dimensional Fourier spectra of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 are calculated in step S16, the difference (absolute value of the difference) between the respective frequency peaks is obtained.
  • the obtained difference is set as the moire frequency
  • the product of two sets of vector intensities obtained by combining the two is obtained
  • the obtained product can be set as the moire spectrum intensity (absolute value).
  • the moire frequency and the moire spectrum intensity obtained in this way can be said to be the result of convolution integration of the mesh pattern 62 and the spatial frequency characteristics of the BM pattern 38 acquired in step S12.
  • the difference between the frequency peaks of the intensity characteristics of the two-dimensional Fourier spectrum of both the mesh pattern 62 and the BM pattern 38 shown in FIGS. 12A and 12B is the intensity of the two-dimensional Fourier spectrum of both.
  • this corresponds to the relative distance between the peak positions on the frequency coordinates of the respective frequency peaks. Since there are a plurality of spectral peaks of both the two-dimensional Fourier spectra of the mesh pattern 62 and the BM pattern 38, the difference between the frequency peaks, which is the value of the relative distance, that is, a plurality of moire frequencies is obtained. .
  • FIG. 15 shows the moire frequency and the moire spectrum intensity thus obtained.
  • FIG. 15 is a schematic explanatory view schematically showing the frequency of moire generated by interference between the pixel arrangement pattern shown in FIG. 11A and the mesh pattern shown in FIG. 11B and the spectral intensity of moire. It can also be said to be the result of convolution integration of the intensity characteristics of the two-dimensional Fourier spectrum shown in 12 (A) and 12 (B).
  • the frequency of moire is represented by the position of the vertical and horizontal axes
  • the spectral intensity of moire is represented by gray (achromatic color) shades, and the smaller the color, the smaller the color, the greater the white. Is shown.
  • step 4 the visibility of moire is determined. That is, as shown in FIG. 10, in step S20, the lowest frequency among the moire frequencies calculated in step S18 (S14) is obtained, and the spectral intensity of the lowest moire frequency is obtained.
  • the frequency of the moire to be considered is only data within 3 cycles / mm.
  • the moire frequencies within 3 cycles / mm are used for ranking, the lowest moire frequency is obtained, and the spectrum intensity is obtained.
  • VTF Visual Transfer function
  • VTF is a function that depends on the observation distance. In a display device including a touch panel to which the conductive film of the present invention is applied, the observation distance is not fixed during actual observation. Because of that.
  • step S22 the spectral intensity of the lowest frequency of moire obtained in step S20 is compared with -3.6, and whether the spectral intensity of moire is -3.6 or more. Determine whether.
  • the spectrum intensity of the lowest frequency of moire is obtained from a plurality of different samples of the dummy electrode wiring pattern 24b having a plurality of disconnection portions 26 of the dummy electrode portions 22b of the examples described later.
  • the spectrum intensity of the lowest frequency of the moire is ⁇ 3.8 or less in common logarithm (10 ⁇ 3.8 or less), the moire is not visually recognized even in the sensory evaluation, and is A, and the spectrum intensity is a common logarithm of -3.8 or more and -3.6 or less (a true number of 10 ⁇ 3.8 and more than 10 ⁇ 3. 6 or less), the moire is slightly visually recognized by sensory evaluation, but it is B to the extent that it does not matter, but its spectral intensity is more than ⁇ 3.6 in the common logarithm (10 ⁇ 3.6 in the true number). Super) was C (unusable) because moire was visually recognized in sensory evaluation. Therefore, in the present invention, the spectral intensity of the lowest frequency of the moire is limited to ⁇ 3.6 or less in common logarithm (10 ⁇ 3.6 or less in true number).
  • the process proceeds to step S24, where the transmittance image data of the mesh pattern 62 is transmitted. Is updated to the transmittance image data of the new mesh pattern, and the process returns to step S12.
  • the new mesh pattern to be updated may be prepared in advance or may be newly created.
  • one or more of the transmittance image data of the mesh pattern, more specifically, the position, pitch, and width of the plurality of broken portions (breaks) 26 of the dummy electrode wiring pattern 24b is changed.
  • the shape and size of the mesh pattern itself may be changed. Further, they may be given randomness.
  • step S12 acquisition of the spatial frequency characteristics in step S12, calculation of the frequency and spectral intensity of moire in step S14 (S18), calculation of spectral intensity of the lowest frequency of moire in step 20, and spectrum of the lowest frequency of moire in step 22
  • Comparison of intensity and common logarithm of -3.6 (10 -3.6 in true number) and update of mesh pattern transmittance image data in step 24 is the logarithm of the spectrum intensity at the lowest frequency of moire. And repeat until ⁇ 3.6 (10 ⁇ 3.6 in the true number) or less.
  • the process proceeds to step S26, and the mesh pattern 62 is determined as the optimized mesh pattern.
  • the mesh pattern 24 (30) of the conductive film 10 or 11 of the present invention is set.
  • a mesh pattern 70 shown in FIG. 16A was created as a simulation sample of Comparative Example 1.
  • the mesh pattern 70 of the comparative example 1 is composed of the electrode wiring pattern 74 of the X electrode 72 that constitutes an effective electrode region and the dummy electrode wiring pattern 78 of the four dummy electrodes 76a, 76b, 76c, and 76d. It was a wiring pattern having a plurality of broken portions 84 in which the broken portions 84 were regularly provided at the centers of the four sides of the rhombus mesh-shaped metal thin wires 82 of all the openings 80 formed by the pattern 78. .
  • the disconnection portion 84 is provided at the center position of the thin metal wire 82 on each side between the two.
  • the disconnection portion 84 is illustrated only in the dummy electrode wiring pattern 78 of one dummy electrode 76c, and the dummy electrode wiring pattern 78 of three dummy electrodes 76a, 76b, and 76d is illustrated.
  • illustration of the disconnection part 84 is abbreviate
  • a mesh pattern of a mesh-like wiring that does not include a disconnected portion was created as a simulation sample.
  • the mesh patterns of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 2 to 4 were created as simulation samples by changing the length, position, arrangement, and number of the disconnection portions 84 based on the above Comparative Example 1.
  • each of the mesh patterns of Examples 1 and 2 is obtained by changing the length (break length or break interval) of the disconnection portion (break) 84 with respect to the mesh pattern 70 of Comparative Example 1.
  • Examples 1 and 2 were the same as the mesh pattern 70 of Comparative Example 1 except that the thickness was changed from 20 ⁇ m in Comparative Example 1 to 5 ⁇ m in Example 1 and 10 ⁇ m in Example 2.
  • the mesh patterns of Examples 3 to 5 are obtained by changing the position of the broken portion 84 from the center position of the rhomboid side of the mesh pattern of Comparative Example 1 to a random arrangement.
  • the position of the disconnection portion 84 is changed from the center position of Comparative Example 1 to the center position on four sides of one rhombus mesh shape of the dummy electrode wiring pattern 78 of the four dummy electrodes 76a, 76b, 76c and 76d.
  • This pattern was a wiring pattern repeated in other rhombus mesh shapes.
  • the positions of the disconnection portions 84 were changed at random from the center position of Comparative Example 1 on the four sides of all the rhombic mesh shapes of the dummy electrode wiring pattern 78.
  • the positions of the broken portions 84 are compared not only on the four sides of all the rhombus mesh shapes of the dummy electrode wiring pattern 78 but also on each side between the electrode wiring pattern 74 and the dummy electrode wiring pattern 78.
  • the position was changed at random from the center position of Example 1.
  • Example 6 in the mesh pattern 70 of Comparative Example 1, the dummy electrode wiring patterns 78 of the four dummy electrodes 76a, 76b, 76c, and 76d are connected without any disconnection portions 84, and the electrode wiring pattern 74 and the dummy electrode are connected. Only the disconnection portion 84 on each side between the wiring pattern 78 was changed.
  • the y direction of the xy coordinates are halved and provided every other line of the thin metal wires 82. It was.
  • the disconnection portions 84 in the column direction (vertical direction in FIG. 16: the y direction of the xy coordinates) are halved and provided every other line of the thin metal wires 82. It was.
  • Comparative Example 5 in all the dummy electrode wiring patterns 78, the disconnection portion 84 is provided only in one line direction ((one side of the thin metal wires 82 intersecting in FIG. 16)).
  • the conductive film according to the present invention has been described with reference to various embodiments and examples.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiments and implementations.
  • the invention is not limited to the examples, and various improvements and design changes may be made without departing from the gist of the present invention.

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Abstract

 本発明の目的は、モアレの発生を抑止でき、視認性を大幅に向上させることができる導電性フイルム、及び導電性フイルムのパターンの決定方法を提供することである。本発明の導電性フイルムは、少なくとも正面観察時の、メッシュ状配線のメッシュパターンの空間周波数特性と、表示ユニットの画素配列パターンの空間周波数特性との畳み込みで表されるモアレの最低の周波数のスペクトル強度が、常用対数で-3.6以下となる。メッシュパターンは、複数の断線部を持つパターンであっても良い。

Description

導電性フイルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法
 本発明は、導電性フィルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法に関し、詳しくは、メッシュ透明導電膜として用いられるものであって、そのメッシュパターンの設計において、電極を考慮した設計にすることで視認されるモアレのスペクトル強度及び周波数が所定の周波数及び強度範囲内に存在するメッシュパターンを持つ導電性フィルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法に関する。
 表示装置(以下、ディスプレイともいう)の表示ユニット上に設置される導電性フイルムとして、例えば電磁波シールド用の導電性フイルムやタッチセンサ(タッチパネル)用の導電性フイルム等が挙げられる(例えば、特許文献1、2及び3参照)。
 本出願人の出願に係る特許文献1は、メッシュ状導電性金属薄膜からなる電磁波シールドパターンを持つ電磁波シールド用導電性フイルムを開示するものであるが、例えばディスプレイの画素配列パターン(例えば、ブラックマトリックス(以下、BMともいう)パターン)等の第1のパターン、及び、例えば電磁波シールドパターン等の第2のパターンのそれぞれのパターンデータの2次元フーリエスペクトル(2DFFTSp)のスペクトルピーク間の相対距離が、所定の空間周波数、例えば8cm-1を超えている第2のパターンデータによって生成される第2のパターンを自動的に選定することを開示している。
 なお、特許文献1では、上述の相対距離が所定の空間周波数を超えていない場合には、第2のパターンデータの回転角度、ピッチ、パターン幅のいずれか1つ以上を変化させて、新たな第2のパターンデータを生成することを、上述の相対距離が所定の空間周波数を超えるまで繰り返すことも開示している。
 こうして、特許文献1では、モアレの発生を抑止でき、表面抵抗率の増大や透明性の劣化をも回避することができる電磁波シールドパターンを自動的に選定できるようにしている。
 一方、タッチパネル用導電性フィルムには、迅速な応答性、高い分解能、大サイズ化、低製造コスト化等の点から、メッシュ状配線材料として、従来の透明なITO(酸化インジウム錫)に代えて、金属等不透明な導電性材料が用いられている。このような導電性フイルムを用いてタッチパネルを実現する為には、導電性フイルムがタッチした位置を検出する為の解像度を有する必要がある。導電性フイルムのメッシュ状導体配線でITO等の透明導電膜機能を持たせる場合、全面ベタのメッシュ状配線に対して、特定のメッシュ状配線に切断部を設けて断線を付加することで、前述の解像度に当たる検出用配線領域を、検出に寄与しないダミー配線領域から区切る必要がある。
 特許文献2に開示のタッチパネルでは、絶縁層を介して両側に交差するように設けられる2種の金属(不透明な導電性材料)製検出用配線によって囲まれる複数のダミー配線領域に、孤立配線を検出用配線に平行又は垂直に、若しくは45°傾けて配置して、2種の検出用配線からなる検出用配線領域と、ダミー配線領域との間に切断部(ブレーク)を形成して両者を分離している。
 こうして、特許文献2では、応答速度が速く、表示ムラやモアレを低減でき、視認性が高くて大型化が容易なタッチパネルを得ることができるようにしている。
 また、静電容量式タッチパネル(タッチスイッチ)用の導電性フイルム(面状体)を開示する特許文献3では、導体線からなる網目(メッシュ)状電極を、所定間隔をあけて略並行に配置される複数の導電部領域と、各導電部領域の間に配置される非導電部領域とに区画し、非導電部領域は、導体線を島状に切断する複数の切断部(ブレーク)を備え、これらの切断部によって非導電部領域(ダミー配線領域)と、隣接する導電部領域(検出配線領域)との間を絶縁できるようにしている。
 こうして、特許文献3では、網目密度のバラツキ(網目の偏り)が生じ、視認性が低下するのを防止し、視認性を向上させることができると共に、効率よく製造することができる面状体及びタッチスイッチを提供することができるとしている。
特開2009-117683号公報 特開2010-097536号公報 特開2010-262529号公報
 ところで、特許文献1は、導電性フイルムの配線パターンを生成するに当たって、ディスプレイのBM(ブラックマトリックス)/配線パターンの周波数情報のみからモアレ周波数を制御し、視認性に優れた配線パターンを提供する技術であるが、モアレが視認される/されないの判定を周波数のみに依存しているため、特許文献1においてモアレが視認されないと判定される周波数の場合であっても、人のモアレの知覚は、周波数のみならず強度にも影響を受けるため、強度によってはモアレが視認される場合があり、モアレの視認性が十分に向上されないという問題があった。
 特に、特許文献1に開示の技術をタッチパネル用の導電性フイルムに適用する場合、メッシュ状導体配線に複数の切断部(ブレーク)を設ける必要があるが、これらの切断部を設けると、メッシュ状導体配線の配線パターンの空間周波数特性が変化してしまうという問題や、人の指等によって押圧されるため、BM/配線パターン間に微妙な歪みが生じ、強度によるモアレの視認が助長されるという問題もあり、モアレの視認性の向上が十分でないという問題があった。
 このため、モアレ視認性に優れたパターンを設計する為には、切断部(ブレーク)を考慮した設計が重要であるが、この従来技術には、その点には何ら触れられていない。
 また、特許文献2では、2種の検出用配線からなる検出用配線領域に囲まれる複数のダミー配線領域に、孤立配線を検出用配線に平行又は垂直に、若しくは45°傾けて配置しているため、2種の検出用配線と孤立配線との間の切断部による断線は、規則的に設けられることになるため、この規則的な断線の周期が、視認されるモアレに影響し、モアレの視認性を十分に向上できないという問題があった。
 さらに、特許文献3では、導電部領域と非導電部領域との間を絶縁するために、網目状電極の導体線を切断する複数の切断部は、網目状電極の導体線の交差部に設けられる。このため、これらの切断部は、網目状電極に基本的に規則的に設けられることになるため、この規則的な断線の周期が、視認されるモアレに影響し、モアレの視認性を十分に向上できないという問題があった。
 特に、タッチパネルが大サイズ(大型)化されると、金属等の不透明な導電性材料の使用が必要となるが、所定の、若しくは高い分解能が要求されるために、モアレの視認性が大きく問題となる。
 さらに、本出願人は、特願2012-082711号明細書において、ディスプレイのBM(画素マトリックス)、及び導電性フィルムのメッシュ状配線の配線パターン(メッシュパターン)の空間周波数ピークを算出し、各々の空間周波数ピーク差分、ピーク強度積算値で得られるモアレの2次元周波数及びスペクトル強度と、視覚伝達関数の畳み込みにより、評価値を算出し、この評価値が予め設定された条件を満たす配線パターンを持つ導電性フィルムを提案している。
 このような導電性フィルムをタッチパネルに用いる場合には、上述した特許文献2及び3等に記載の従来技術のタッチパネル用導電性フイルムと同様に、メッシュ状配線の解像度を確保する検出用配線領域とダミー配線領域とを区切る複数の断線部(切断部:ブレーク)をメッシュ状配線に設けて複数の断線を付加する必要がある。これらの断線部は、上記従来技術のように、タッチパネルに要求される特定の解像度を満足させる為、また、解像度領域の静電容量を一定にすることを目的に、一般的には規則的に付与される。しかしながら、この規則的な断線の周期が、モアレが視認される要因となってしまうという問題があった。このように、規則的な断線の周期は、視認されるモアレに影響し、モアレの視認性を十分に向上できないという問題が発生するが、本出願人が先に提案した技術でも、上記従来技術でも、そのいずれも、その点に触れられていない。
 本発明は、上記従来技術の問題点を解消し、モアレの発生を抑止でき、視認性を大幅に向上させることができる導電性フイルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法を提供することを目的とする。
 また、本発明は、特に、表示装置の表示ユニット上に設置される導電性フイルムの金属細線からなるメッシュパターンを持つメッシュ状配線が複数の断線部を持つ場合であっても、モアレの発生を抑止でき、視認性を大幅に向上させることができる導電性フイルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法を提供することを目的とする。
 さらに、本発明は、特に、複数の断線部を持つメッシュ状配線を有する透明導電性フイルムを大サイズ化、高解像度化が必要なタッチパネル用電極として用いる場合、表示装置の表示ユニットのブラックマトリクスに導電性フイルムを重畳して視認する際に大きな画質障害となるモアレの発生を抑止でき、タッチパネル上の表示の視認性を大幅に向上させることができる導電性フイルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法を提供することを目的とする。
 上記目的を達成するために、本発明者は、表示ユニットのブラックマトリクスに対して重畳されてもモアレが視認されない導電性フイルムのメッシュパターンについて、鋭意研究を重ねた結果、従来技術や本出願人の先願に係る導電性フイルムにおいて、規則的な周期のブレークによってモアレが視認されてしまう原因は、図17(A)及び(B)に示すように、メッシュパターン(ブレークなし)のみの場合と、規則的な周期のブレークを持つメッシュパターン(ブレークあり)の場合の、空間周波数特性の差にあり、この差で説明することができることを知見した。
 ここで、図17(A)及び(B)は、それぞれ、ブレーク(断線部)がなく、モアレの視認性が適正化されたメッシュパターン(ブレークなし)及び規則的な周期のブレークを持つメッシュパターン(ブレークあり)の場合の空間周波数特性を示す図である。図17(A)及び(B)から、規則的な周期のブレークを持つメッシュパターンでは、スペクトル強度はそれほど高いわけではないが、スペクトルピークの数が、増加していることが分かる。
 このように、本発明者は、図17(A)及び(B)より、ブレークの有無によって、メッシュパターンの空間周波数特性が変化しており、この変化がモアレの視認性に影響を与えていることから、モアレ視認性に優れたパターンを設計する為には、ブレークを考慮した設計が重要であることを知見し、本発明に至ったものである。
 即ち、本発明の第1の態様に係る導電性フイルムは、表示装置の表示ユニット上に設置される導電性フイルムであって、透明基体と、透明基体の少なくとも一方の面に形成され、パターニングされた複数の金属細線からなるメッシュパターンを持つメッシュ状配線と、を有し、メッシュ状配線のメッシュパターンは、表示ユニットの画素配列パターンに重畳されており、少なくとも正面観察時の、メッシュパターンの空間周波数特性と、表示ユニットの画素配列パターンの空間周波数特性との畳み込みで表されるモアレの最低の周波数のスペクトル強度が、常用対数で-3.6以下となることを特徴とする。
 ここで、メッシュ状配線は、複数の金属細線により連続するようにメッシュ状に形成された電極配線パターンを備える電極部と、複数の金属細線によりメッシュ状に形成され、複数の断線部を持ち、非連続である非電極配線パターンを備え、電極部と絶縁されている非電極部とを有し、メッシュ状配線のメッシュパターンは、電極部の電極配線パターンと、この電極配線パターンと絶縁されている非電極部の非電極配線パターンからなり、メッシュパターンの空間周波数特性は、少なくとも正面観察時の、複数の断線部を含めたメッシュパターンの空間周波数特性であることが好ましい。
 また、上記目的を達成するために、本発明の第2の態様に係る導電性フイルムの配線パターンの決定方法は、表示装置の表示ユニット上に設置され、パターニングされた複数の金属細線により連続するようにメッシュ状に形成されたメッシュパターンを持つメッシュ状配線が形成された導電性フイルムのメッシュパターンの決定方法であって、メッシュパターンの透過率周期画像データと、メッシュパターンが重畳される、表示ユニットの画素配列パターンの透過率周期画像データとを取得し、取得されたメッシュパターンの透過率周期画像データ及び画素配列パターンの透過率周期画像データに対して2次元フーリエ変換を行い、少なくとも正面観察時の、メッシュパターンの空間周波数特性及び画素配列パターンの空間周波数特性を得、得られたメッシュパターンの空間周波数特性と画素配列パターンの空間周波数特性とから、両者の畳み込みで表されるモアレの周波数及びスペクトル強度を算出し、算出されたモアレの周波数の内の最低の周波数を求め、そのスペクトル強度を、常用対数で-3.6と比較し、常用対数で定義されるモアレのスペクトル強度が-3.6以下であるとき、メッシュパターンを導電性フィルムのメッシュパターンとして設定し、モアレのスペクトル強度が-3.6超であるとき、メッシュパターンの透過率周期画像データを新たなメッシュパターンの透過率周期画像データに変更して、空間周波数特性の取得、モアレの周波数及びスペクトル強度の算出、及びモアレの最低の周波数のスペクトル強度と-3.6との比較の各ステップをモアレの最低の周波数のスペクトル強度が-3.6以下になるまで繰り返すことを特徴とする。
 ここで、メッシュ状配線は、複数の金属細線により連続するようにメッシュ状に形成された電極配線パターンと、複数の金属細線によりメッシュ状に形成され、複数の断線部を持ち、電極配線パターンと非連続で絶縁されている非電極配線パターンとを備えるメッシュパターンを持ち、メッシュパターンの透過率周期画像データは、複数の断線部を持つ非電極配線パターンとを備えるメッシュパターンの透過率周期画像データであり、メッシュパターンの空間周波数特性は、少なくとも正面観察時の、複数の断線部を含めたメッシュパターンの空間周波数特性であることが好ましい。
 また、モアレの周波数及びスペクトル強度は、得られたメッシュパターンの空間周波数特性から、メッシュパターンの透過率周期画像データの2次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークの内、そのピーク強度が常用対数で-4.5以上となるスペクトルピークを抽出し、抽出された全てのスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度を算出すると共に、得られた画素配列パターンの空間周波数特性から、画素配列パターンの透過率周期画像データの2次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークの内、そのピーク強度が常用対数で-4.5以上となるスペクトルピークを抽出し、抽出された全てのスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度を算出し、こうして算出されたメッシュパターンのピーク周波数及びピーク強度と画素配列パターンのピーク周波数及びピーク強度とからそれぞれ算出されることが好ましい。
 上記第1の態様において、モアレの周波数は、メッシュパターンのピーク周波数と画素配列パターンのピーク周波数との差分で与えられ、モアレのスペクトル強度は、メッシュパターンのピーク強度と画素配列パターンのピーク強度との積で与えられることが好ましい。
 また、上記第2の態様において、モアレの周波数として、メッシュパターンのピーク周波数と画素配列パターンのピーク周波数とのピーク周波数同士の差分を求め、モアレのスペクトル強度として、メッシュパターンのピーク強度と画素配列パターンのピーク強度との2組のベクトル強度の積を求めることが好ましい。
 また、上記第1の態様及び第2の態様において、ピーク強度は、ピーク位置周辺の複数画素内の強度の和であることが好ましく、また、メッシュパターン及び画素配列パターンの透過率周期画像データで規格化されたものであることが好ましい。
 上記目的を達成するために、本発明の第3の態様に係る導電性フイルムは、表示装置の表示ユニット上に設置される導電性フイルムであって、透明基体と、透明基体の少なくとも一方の面に形成され、パターニングされた複数の金属細線からなるメッシュパターンを持つメッシュ状配線と、を有し、メッシュ状配線は、複数の金属細線により連続するようにメッシュ状に形成された電極配線パターンを備える電極部と、複数の金属細線によりメッシュ状に形成され、複数の断線部を持ち、非連続である非電極配線パターンを備え、電極部と絶縁されている非電極部とを有し、メッシュ状配線のメッシュパターンは、電極部の電極配線パターンと、この電極配線パターンと絶縁されている非電極部の非電極配線パターンからなり、表示ユニットの画素配列パターンに重畳されており、非電極部の非電極配線パターンの複数の断線部が接続された場合のメッシュ状配線のメッシュパターンは、モアレが視認されないものであり、非電極部の非電極配線パターンは、複数の断線部がランダムに配置されたランダム配線パターンであることを特徴とする。
 また、上記第1の態様、第2の態様及び第3の態様において、モアレの周波数が3サイクル/mm以下であることが好ましい。
 また、非電極部の非電極配線パターンは、電極部を除く領域内に複数の金属細線によりメッシュ状に形成されていることが好ましい。
 また、画素配列パターンは、ブラックマトリックスパターンであることが好ましい。
 上記目的を達成するために、本発明の第4の態様に係る表示装置は、表示ユニットと、この表示ユニットの上に設置される、上記第1及び第3の態様に係る導電性フイルムとを備えることを特徴とする。
 上記目的を達成するために、本発明の第5の態様に係るタッチパネル表示装置は、第4の態様に係る表示装置と、表示装置の導電性フイルムの上側に配置され、導電性フイルムの反対側にタッチ面を備える透明基板を有することを特徴とする。
 本発明によれば、以上のように構成されているので、表示装置の表示ユニット上に設置される導電性フイルムを用いる場合において、金属細線からなるメッシュパターンを持つメッシュ状配線が複数の断線部を持つ場合であっても、モアレの発生を抑止でき、視認性を大幅に向上させることができる。
 特に、本発明によれば、複数の断線部を持つメッシュ状配線を有する透明導電性フイルムを大サイズ化、高解像度化が必要なタッチパネル用電極として用いる場合、表示装置の表示ユニットのブラックマトリクスに導電性フイルムを重畳して視認する際に大きな画質障害となるモアレの発生を抑止でき、タッチパネル上の表示の視認性を大幅に向上させることができる。
本発明の第1の実施形態に係る導電性フイルムの一例を模式的に示す平面図である。 図1に示す導電性フイルムの部分拡大平面図である。 図2に示す導電性フイルムの部分拡大平面図であり、そのメッシュパターンの複数の断線部の一例を示す模式図である。 図3に示す導電性フイルムの模式的部分断面図である。 本発明の第2の実施形態に係る導電性フイルムの一方の配線層の一例を模式的に示す平面図である。 図5に示す導電性フイルムの配線層の部分拡大平面図であり、そのメッシュパターンの複数の断線部の一例を示す模式図である。 図6に示す導電性フイルムの模式的部分断面図である。 本発明に係る導電性フイルムが適用される表示ユニットの一部の画素配列パターンの一例を表す概略説明図である。 図7に示す導電性フイルムを組み込んだ表示装置の一実施例の概略断面図である。 本発明に係る導電性フイルムのメッシュパターンの決定方法の一例を示すフローチャートである。 (A)は、本発明に係る導電性フイルムが適用される表示ユニットの画素配列パターンの一例を表す概略説明図であり、(B)は、(A)の画素配列パターンに重畳される導電性フイルムの配線パターンの一例を表す概略説明図であり、(C)は、(A)の画素配列パターンの部分拡大図である。 (A)及び(B)は、それぞれ図11(A)に示す画素配列パターン及び図11(B)に示す配線パターンの各透過率周期画像データの2次元フーリエスペクトルの強度特性を示す図である。 図11(A)に示す表示ユニットの画素配列パターンの周波数ピーク位置を示すグラフである (A)及び(B)は、それぞれ2次元フーリエスペクトルの強度特性の一例を曲線で表すグラフ及び棒で表す棒グラフである。 図11(A)に示す画素配列パターンと図11(B)に示す配線パターンとの干渉によって発生するモアレ周波数情報及びモアレのスペクトル強度を模式的に表わす概略説明図である。 比較例1のメッシュパターンのシミュレーションサンプルを示す平面図である。 (A)及び(B)は、それぞれ、ブレーク(断線部)のないメッシュパターン(ブレークなし)及び規則的な周期のブレークを持つメッシュパターン(ブレークあり)の場合の空間周波数特性を示す図である。
 以下に、本発明に係る導電性フイルム及び導電性フイルムのパターンの決定方法を添付の図面に示す好適な実施形態を参照して詳細に説明する。
 以下では、本発明に係る導電性フイルムについて、メッシュ状配線に断線部を備えるタッチパネル用の導電性フイルムを代表例として説明するが、本発明は、これに限定されず、液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)やプラズマディスプレイ(PDP:Plasma Display Panel)や有機ELディスプレイ(OELD:Organic Electro 
Luminescence Display)や無機ELディスプレイ等の表示装置の表示ユニット上に設置される導電性フイルムであれば、どのようなものでも良く、例えば、メッシュ状配線に断線部を備えていれば、電磁波シールド用の導電性フイルム等であっても良いのはもちろんである。
 図1、図2及び図3は、それぞれ本発明の第1の実施形態に係る導電性フイルムの一例を模式的に示す全体平面図、その部分拡大平面図及びさらに拡大してそのメッシュパターンの複数の断線部の一例を模式的に示す部分平面模式図であり、図4は、図3に示す導電性フイルムの模式的部分断面図である。なお、図1においては、理解を容易にするために、導電性フイルムのメッシュ状配線の電極部を太線で囲まれた領域として、ダミー電極部を斜線領域として示している。また、図2~図3においては、理解を容易にするために、導電性フイルムのメッシュ状配線のメッシュパターンの内、電極配線パターンを太線で、ダミー電極パターンを細線で示しているが、これらは、同一の不透明な金属細線で形成されるのものであり、太さに違いが無いのはもちろんである。
 これらの図に示すように、本実施形態の導電性フイルム10は、表示装置の表示ユニット上に設置されるもので、表示ユニットのブラックマトリックス(BM:Black Matrix)に対してモアレの発生の抑止の点で優れたメッシュパターン(配線パターン)、特に、BMパターンに重畳した際にBMパターンに対してモアレの視認性の点で最適化されたメッシュパターンを持つメッシュ状配線が形成された導電性フィルムである。この導電性フイルム10は、透明基体12と、透明基体12の一方の面(図4中上側の面)の略全面に形成され、パターニングされた複数の不透明な金属製の細線(以下、金属細線という)14からなる配線層16と、配線層16の金属細線14の略全面に、金属細線14を被覆するように、接着層18を介して接着された保護層20とを有する。
 透明基体12は、絶縁性を有し、かつ透光性が高い材料からなり、例えば、樹脂、ガラス、シリコン等の材料を挙げることができる。樹脂としては、例えば、PET(Polyethylene Terephthalate)、PMMA(Polymethyl methacrylate)、PP(polypropylene)、PS(polystyrene)等が挙げられる。
 配線層16は、複数の金属細線14からなるメッシュ状配線22を備えるものである。金属細線14は、導電性の高い金属製の細線であれば特に制限的ではなく、例えば、金(Au)、銀(Ag)又は銅(Cu)の線材等からなるものを挙げることができる。金属細線14の線幅は、視認性の点からは細い方が好ましいが、例えば、30μm以下であれば良い。なお、タッチパネル用途では、金属細線14の線幅は0.1μm以上15μm以下が好ましく、1μm以上9μm以下がより好ましく、2μm以上7μm以下がさらに好ましい。
 メッシュ状配線22は、詳細には、2方向の複数の金属細線14を交差するように配線した配線パターン、即ち、複数の金属細線14をメッシュ状に配列したメッシュパターン24を有する。図示例においては、メッシュパターン24によって形成される開口部23のメッシュ形状は菱形であり、ダイヤモンドパターンと呼ぶことができるが、本発明はこれに限定されず、後述する所定のBMパターンに対してモアレ視認性が最適化されたメッシュパターン24を構成できれば、少なくとも3辺を有する多角形状であれば如何なるものでも良く、また、同一メッシュ形状であっても、異なるメッシュ形状であっても良く、例えば、正三角形、二等辺三角形等の三角形や、正方形、長方形等の四角形(矩形)や、五角形や、六角形等の、同一又は異なる多角形等を挙げることができる。即ち、所定のBMパターンに対してモアレ視認性が最適化されたメッシュパターンであれば、規則性のある開口部23の配列によって構成されるメッシュパターンでも、異なる形状の開口部23の配列によってランダム化されたメッシュパターンでも良い。
 メッシュ状配線22は、複数の金属細線14により連続するようにメッシュ状に形成された電極配線パターン24aを備える電極部22aと、複数の金属細線により同様にメッシュ状に形成され、複数の断線部26を持ち、非連続であるダミー電極(非電極)配線パターン24bを備え、電極部22aと絶縁されているダミー電極部(非電極部)22bとを有する。ここで、電極部22aの電極配線パターン24aと、ダミー電極部22bのダミー電極配線パターン24bとは、図示例では、同一のメッシュ形状(菱形)を持つ配線パターンであり、両者が合成されてメッシュ状配線22のメッシュパターン24となる。
 ここで、図示例の電極部22aの電極配線パターン24aは、X電極を構成する電極パターンであるが、本発明はこれに限定されず、静電容量式タッチセンサ(パネル)に用いられる電極パターンであれば、どのようなものでも良く、例えば、ストライプ電極、バーアンドストライプ電極、ダイヤモンド電極、スノーフレーク電極等の従来公知の電極パターンであっても良い。
 電極部22aにおいてメッシュ状に形成された金属細線14は、断線部26を持たず、連続しているのに対し、ダミー電極部22bにおいてメッシュ状に形成された金属細線14には、複数の断線部(切断部)26が設けられており、複数の断線が付加されている。電極部22aにおける金属細線14とダミー電極部22bにおける金属細線14との間には、必ず断線部26が設けられており、電極部22aの金属細線14とダミー電極部22bの金属細線14とは断線されており、不連続である。即ち、ダミー電極部22bは、電極部22aと電気的に絶縁されている。
 以上から、メッシュ状配線22のメッシュパターン24は、複数の断線部26を含むメッシュパターンとなる。なお、本発明の導電性フィルム10のメッシュ状配線22のメッシュパターン24に必要な構成については、後述する。
 接着層18の材料として、ウェットラミネート接着剤、ドライラミネート接着剤、又はホットメルト接着剤等が挙げられる。
 保護層20は、透明基体12と同様に、樹脂、ガラス、シリコンを含む透光性が高い材料からなる。保護層20の屈折率n1は、透明基体12の屈折率n0に等しいか、これに近い値であるのが好ましい。この場合、保護層20に対する透明基体12の相対屈折率nr1は1に近い値となる。
 ここで、本明細書における屈折率は、波長589.3nm(ナトリウムのD線)の光における屈折率を意味し、例えば樹脂では、国際標準規格であるISO 14782:1999(JIS K 7105に対応)で定義される。また、保護層20に対する透明基体12の相対屈折率nr1は、nr1=(n1/n0)で定義される。ここで、相対屈折率nr1は、0.86以上1.15以下の範囲にあればよく、より好ましくは、0.91以上1.08以下である。
 相対屈折率nr1の範囲をこの範囲に限定して、透明基体12と保護層20との部材間の光の透過率を制御することにより、モアレの視認性をより向上させ、改善することができる。
 上述した第1の実施形態の導電性フイルム10は、透明基体12の一方の面のみに配線層16を有するものであるが、本発明は、これに限定されず、透明基体12の両面に配線部を有するものであっても良い。
 図5及び図6は、それぞれ本発明の第2の実施形態に係る導電性フイルムの一方の側、即ち下側の第2配線層の一例を模式的に示す平面図、及び部分拡大平面模式図であり、そのメッシュパターンの複数の断線部の一例を模式的に示し、図7は、図6に示す導電性フイルムの模式的部分断面図である。なお、図5においては、理解を容易にするために、導電性フイルムのメッシュ状配線の電極部を斜線領域として、ダミー電極部を一点鎖線で囲まれた領域として示している。また、図6においては、理解を容易にするために、導電性フイルムのメッシュ状配線のメッシュパターンの内、電極配線パターンを太線で、ダミー電極パターンを細線で示しているが、これらは、同一の不透明な金属細線で形成されるのものであり、太さに違いが無いのはもちろんである。
なお、図7に示す本第2の実施形態の導電性フイルムの他方の側、即ち上側の第1配線層の平面図は、図1~図3に示す本第1の実施形態の導電性フイルムの平面図と同様であるのでここでは省略する。
 図7に示すように、本第2の実施形態の導電性フイルム11は、透明基体12の一方(図7の上側)の面に形成された第1配線層16aと、透明基体12の他方(図7の下側)の面に形成された第2配線層16bと、第1配線層16aの略全面に第1接着層18aを介して接着された第1保護層20aと、第2配線層16bの略全面に第2接着層18bを介して接着された第2保護層20bとを有する。
 なお、上述したように、透明基体12は絶縁性材料からなり、第2配線層16bは、第1配線層16aと電気的に絶縁された状態下にある。また、第1、第2配線層16a及び16bは、それぞれ図4に示す導電性フィルム10の配線層16と同様の材料で同様に形成することができる。
 本実施形態の導電性フイルム11の第1配線層16aは、ここでは図示しないが、図1~図3に示す配線層16と同様に、複数の金属細線14からなり、電極配線パターン24aを備える電極部22aと、複数の断線部26を持つダミー電極配線パターン24bを備えるダミー電極部22bとを有し、電極配線パターン24aとダミー電極配線パターン24bとの合成パターンであるメッシュパターン24を持つメッシュ状配線22を備えるものである。
 ここでは、導電性フイルム11の第1配線層16aは、図1~図4に示す導電性フイルム10の配線層16と同一の構成を有するので、その詳細な説明は省略する。
 導電性フイルム11においては、第2配線層16bは、複数の不透明な金属細線14からなり、透明基体12の他方(図7の下側)の面に形成されている。
 図5及び図6に示すように、第2配線層16bは、複数の金属細線14からなるメッシュ状配線28を備えるものである。
 メッシュ状配線28は、図1~図3に示すメッシュ状配線22と同様に、詳細には、2方向の複数の金属細線14を交差するように配線した配線パターン、即ち、複数の金属細線14をメッシュ状に配列したメッシュパターン30を有する。図示例においては、メッシュパターン30によって形成される開口部29のメッシュ形状は菱形であり、ダイヤモンドパターンと呼ぶことができる。なお、メッシュ状配線28のメッシュパターン30の開口部29は、図1~図3に示すメッシュ状配線22のメッシュパターン24の開口部23と同様のメッシュ形状を有するものであるので、その詳細な説明は省略する。
 メッシュ状配線28は、複数の金属細線14により連続するようにメッシュ状に形成された電極配線パターン30aを備える電極部28aと、複数の金属細線により同様にメッシュ状に形成され、複数の断線部26を持ち、非連続であるダミー電極配線パターン30bを備え、電極部28aと絶縁されているダミー電極部28bとを有する。ここで、電極部28aの電極配線パターン30aと、ダミー電極部28bのダミー電極配線パターン30bとは、図示例では、同一のメッシュ形状(菱形)を持つ配線パターンであり、両者が合成されてメッシュ状配線28のメッシュパターン30となる。
 ここで、図示例のダミー電極部28bのダミー電極配線パターン30bは、ライン状であり、電極部22aの電極配線パターン24aは、ストライプ電極を構成する電極パターンであるが、本発明はこれに限定されず、静電容量式タッチセンサ(パネル)に用いられる電極パターンであれば、どのようなものでも良く、例えば、X電極、バーアンドストライプ電極、ダイヤモンド電極、スノーフレーク電極等の従来公知の電極パターンであっても良い。
 電極部28aにおいてメッシュ状に形成された金属細線14は、断線部26を持たず、連続しているのに対し、ダミー電極部28bにおいてメッシュ状に形成された金属細線14には、複数の断線部(切断部)26が設けられており、複数の断線が付加されている。電極部28aにおける金属細線14とダミー電極部28bにおける金属細線14との間には、必ず断線部26が設けられており、電極部28aの金属細線14とダミー電極部28bの金属細線14とは断線されており、不連続である。即ち、ダミー電極部28bは、電極部28aと電気的に絶縁されている。
 以上から、メッシュ状配線28のメッシュパターン30は、複数の断線部26を含むメッシュパターンとなる。なお、本発明の導電性フィルム11のメッシュ状配線28のメッシュパターン30に必要な構成については、後述する。
 第1保護層20aは、第1配線層16aの金属細線14を被覆するように、第1接着層18aによって第1配線層16aの略全面に接着されている。
 また、第2保護層20bは、第2配線層16bの金属細線14を被覆するように、第2接着層18bによって第2配線層16bの略全面に接着されている。
 ここで、第1接着層18a及び第2接着層18bは、それぞれ図4に示す導電性フィルム10の接着層18と同様の材料で同様に形成することができるが、第1接着層18aの材質と第2接着層18bの材質とは、同一であってもよいし、異なってもよい。
 また、第1保護層20a及び第2保護層20bは、それぞれ図4に示す導電性フィルム10の保護層20と同様の材料で同様に形成することができるが、第1保護層20aの材質と第2保護層20bの材質とは、同一であってもよいし、異なってもよい。
 第1保護層20aの屈折率n2及び第2保護層20bの屈折率n3は、いずれも、上記第1の実施形態の導電フィルム10の保護層20と同様に、透明基体12の屈折率n0に等しいか、これに近い値である。この場合、第1保護層20aに対する透明基体12の相対屈折率nr2及び第2保護層20bに対する透明基体12の相対屈折率nr3は、共に1に近い値である。ここで、屈折率及び相対屈折率の定義は、上記第1の実施形態における定義通りである。したがって、第1保護層20aに対する透明基体12の相対屈折率nr2は、nr2=(n2/n0)で定義され、第1保護層20bに対する透明基体12の相対屈折率nr3は、nr2=(n3/n0)で定義される。
 ここで、相対屈折率nr2及び相対屈折率nr3は、上述した相対屈折率nr1と同様に、0.86以上1.15以下の範囲にあればよく、より好ましくは、0.91以上1.08以下である。
 なお、相対屈折率nr2、及び相対屈折率nr3の範囲をこの範囲に限定することにより、相対屈折率nr1の範囲の限定と同様に、モアレの視認性をより向上させることができる。
 上述した本発明の第1の実施形態の導電性フイルム10及び第2の実施形態の導電性フイルム11は、例えば図8に一部を模式的に示す表示ユニット(表示部)31のタッチパネルに適用されるが、表示ユニット31の画素配列パターン、即ちブラックマトリックス(以下、BMともいう)パターンに対してモアレ視認性の点で最適化されたメッシュパターン(24、30)を持つものである。
 ここで、本発明では、BM(画素配列)パターンに対してモアレ視認性の点で最適化されたメッシュパターンとは、所定のBMパターンに対してモアレが人間の視覚に知覚されない1又は2以上の1群のメッシュパターンを言う。なお、本発明では、最適化された2以上の1群のメッシュパターンにおいても、最も知覚されないメッシュパターンから知覚されにくいメッシュパターンまで序列を付けることができ、最もモアレが知覚されない1つのメッシュパターンを決定することもできる。
 ここで、本発明では、少なくとも正面観察時の、メッシュパターンの空間周波数特性と、表示ユニットのBMパターンの空間周波数特性との畳み込みで表されるモアレの最低の周波数のスペクトル強度が、常用対数で-3.6(真数で10-3.6)以下となることが必要である。ここでは、導電性フィルムのメッシュパターンは、複数の断線部を含むメッシュパターンである場合を代表例として説明しているが、図17(A)及び(B)に示すように、複数の断線部を含むメッシュパターンの方が断線部を含まないメッシュパターンに比べてモアレが視認され易いので、本発明は、断線部を含まないメッシュパターンに適用可能なことはもちろんである。即ち、本発明は、断線部の有無に関わらず、メッシュパターンと表示ユニットのBMパターンとの両空間周波数特性の畳み込みで表されるモアレの最低の周波数のスペクトル強度が、常用対数で-3.6(真数で10-3.6)以下となるメッシュパターンに適用できる。
 なお、本発明において、対象とするモアレの周波数が3サイクル/mm以下であることが好ましい。その理由は、官能評価上、問題となるモアレの周波数は、3サイクル/mm以内のものであることが経験的に分かっているからである。
 一方、本発明は、断線部を含まないメッシュパターンが表示ユニットのBMパターンと重畳されてもモアレが視認されないようにモアレの視認性が適正化されている場合に、このメッシュパターンに複数の断線部を付加する場合には、断線部の位置、長さ、配置(数)等の少なくとも1つが規則性のないランダム性を持つようにすることで、即ち、複数の断線部をランダムに配置することで、複数の断線部を含むメッシュパターンとし、BMパターンに重畳しても、モアレの視認性を向上させることができる。
 なお、複数の断線部を含むメッシュパターンを持つ導電性フィルムにおいて、複数の断線部が接続された(断線部を含まない)場合のメッシュパターンのモアレの視認性が適正化されている時、メッシュパターンの内のダミー電極配線パターンは、複数の断線部がランダムに配置されたランダム配線パターンとすることにより、モアレの視認性を向上させることができる。
 ここで、モアレの視認性が適正化されている断線部を含まないメッシュパターンとしては、本出願人の出願に係る特願2012-82711号明細書に記載の導電性フィルムのメッシュパターンを用いることができる。これに開示のメッシュパターンは、その透過率画像データの2次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度と、画素配列パターンの透過率画像データの2次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度とからそれぞれ算出されるモアレの周波数及びスペクトル強度に人間の視覚応答特性を作用させて得られたモアレの周波数及び強度に対し、モアレの周波数が視覚応答特性に応じて定まる所定の周波数範囲に入るモアレのスペクトル強度の和が所定値以下である配線パターンである。
 なお、モアレの視認性が適正化されている断線部を含まないメッシュパターンとしては、上記明細書に記載のものに限定されず、従来公知の、モアレの視認性が適正化されている断線部を含まないメッシュパターンであっても良いし、本出願人の出願に係る特願2011-221432号、特願2011-221434号、特願2012-82706号及び特願2012-166946号等に記載のメッシュパターンを適用すればよい。
 したがって、本発明の導電性フイルム10及び11において、表示ユニット31の画素配列パターン、即ちブラックマトリックス(以下、BMともいう)パターンに対してモアレ視認性の点で最適化されたメッシュパターン24及び30、並びに両者の合成メッシュパターンは、上記条件の少なくとも一方を満足する。
 なお、所定のBMパターンに対するメッシュパターンのモアレ視認性の最適化の詳細については、後述する。
 本発明の導電性フィルムは、基本的に以上のように構成される。
 図8は、本発明の導電性フィルムが適用される表示ユニットの一部の画素配列パターンの一例を模式的に表す概略説明図である。
 図8にその一部を示すように、表示ユニット31には、複数の画素32がマトリクス状に配列されて所定の画素配列パターンが構成されている。1つの画素32は、3つの副画素(赤色副画素32r、緑色副画素32g及び青色副画素32b)が水平方向に配列されて構成されている。1つの副画素は垂直方向に縦長とされた長方形状とされている。画素32の水平方向の配列ピッチ(水平画素ピッチPh)と画素32の垂直方向の配列ピッチ(垂直画素ピッチPv)は略同じとされている。つまり、1つの画素32とこの1つの画素32を囲むブラックマトリクス(BM)34(パターン材)にて構成される形状(網掛けにて示す領域36を参照)は正方形となっている。また、1つの画素32のアスペクト比は1ではなく、水平方向(横)の長さ>垂直方向(縦)の長さとなっている。
 図8から明らかなように、複数の画素32の各々の副画素32r、32g及び32bによって構成される画素配列パターンは、これらの副画素32r、32g及び32bをそれぞれ囲むBM34のBMパターン38によって規定され、表示ユニット31と導電性フイルム10又は11とを重畳した時に発生するモアレは、表示ユニット31のBM34のBMパターン38と導電性フイルム10又は11のメッシュパターン24、30との干渉によって発生するので、厳密には、BMパターン38は、画素配列パターンの反転パターンであるが、ここでは、同様のパターンを表すものとして扱う。
 上記したBM34によって構成されるBMパターン38を有する表示ユニット31の表示パネル上に、例えば、導電性フイルム10又は11を配置する場合、導電性フイルム11のメッシュパターン24は、BM(画素配列)パターン38に対してモアレ視認性の点で最適化されているので、画素32の配列周期と、導電性フイルム10又は11の金属細線14の配線配列との間における空間周波数の干渉が殆どなく、モアレの発生が抑制されることになる。
 なお、図8に示す表示ユニット31は、液晶パネル、プラズマパネル、有機ELパネル、無機ELパネル等の表示パネルで構成されてもよい。
 次に、本発明の導電性フイルムを組み込んだ表示装置について、図9を参照しながら説明する。図9では、表示装置40として、本発明の第2の実施の形態に係る導電性フイルム11を組み込んだ投影型静電容量方式のタッチパネルを代表例に挙げて説明するが、本発明はこれに限定さないことは言うまでもない。
 図9に示すように、表示装置40は、カラー画像及び/又はモノクロ画像を表示可能な表示ユニット31(図8参照)と、入力面42(矢印Z1方向側)からの接触位置を検出するタッチパネル44と、表示ユニット31及びタッチパネル44を収容する筐体46とを有する。筐体46の一面(矢印Z1方向側)に設けられた大きな開口部を介して、ユーザは、タッチパネル44にアクセス可能である。
 タッチパネル44は、上記した導電性フイルム11(図5、図6及び図7参照)の他、導電性フイルム11の一面(矢印Z1方向側)に積層されたカバー部材48と、ケーブル50を介して導電性フイルム11に電気的に接続されたフレキシブル基板52と、フレキシブル基板52上に配置された検出制御部54とを備える。
 表示ユニット31の一面(矢印Z1方向側)には、接着層56を介して、導電性フイルム11が接着されている。導電性フイルム11は、他方の主面側(第2配線層16b側)を表示ユニット31に対向させて、表示画面上に配置されている。
 カバー部材48は、導電性フイルム11の一面を被覆することで、入力面42としての機能を発揮する。また、接触体58(例えば、指やスタイラスペン)による直接的な接触を防止することで、擦り傷の発生や、塵埃の付着等を抑止可能であり、導電性フイルム11の導電性を安定させることができる。
 カバー部材48の材質は、例えば、ガラス、樹脂フイルムであってもよい。カバー部材48の一面(矢印Z2方向側)を酸化珪素等でコートした状態で、導電性フイルム11の一面(矢印Z1方向側)に密着させてもよい。また、擦れ等による損傷を防止するため、導電性フイルム11及びカバー部材48を貼り合わせて構成してもよい。
 フレキシブル基板52は、可撓性を備える電子基板である。本図示例では、筐体46の側面内壁に固定されているが、配設位置は種々変更してもよい。検出制御部54は、導体である接触体58を入力面42に接触する(又は近づける)際、接触体58と導電性フイルム11との間での静電容量の変化を捉えて、その接触位置(又は近接位置)を検出する電子回路を構成する。
 本発明の導電性フィルムが適用される表示装置は、基本的に以上のように構成される。
 次に、本発明において、表示装置の所定のBMパターンに対する導電性フイルムのメッシュパターンのモアレ視認性の評価及び最適化の手順について説明する。即ち、本発明の導電性フイルムにおいて、表示装置の所定のBMパターンに対してモアレが人間の視覚に知覚されないように最適化されたメッシュパターンを決定する手順について説明する。
 図10は、本発明の導電性フイルムのメッシュパターンの決定方法の一例を示すフローチャートである。
 本発明の導電性フイルムのメッシュパターンの決定方法は、表示装置の表示ユニットのBM(画素配列)パターンと導電性フイルムのメッシュパターンとの高速フーリエ変換(FFT)を用いた周波数解析により得られるピーク周波数及びピーク強度からモアレの周波数及びスペクトル強度を算出し、算出したモアレの周波数及びスペクトル強度を、経験的に決定された、モアレが視認されないモアレの周波数及びスペクトル強度の条件と比較し、これらの条件を満たすメッシュパターンを、モアレが視認されないように最適化されたメッシュパターンとして決定するものである。この本発明法では、モアレの周波数及びスペクトル強度については一般的にFFTが利用されるが、利用方法によっては、対象物の周波数及びスペクトル強度が大きく変化するため、以下の手順を規定している。
 本発明法においては、まず、手順1として、BMパターン及びメッシュパターンの透過率周期画像データ(以下、透過率画像データともいう)の作成を行う。即ち、図10に示すように、ステップS10において、図9に示す表示装置40の表示ユニット31のBMパターン38(BM34)(図8参照)の透過率周期画像データと、導電性フィルム60の断線部26を含むメッシュパターン62(金属細線14)(図11(B)参照)の透過率周期画像データとを作成して、取得する。なお、予め、BMパターン38の透過率画像データと、複数の断線部26を含むメッシュパターン62の透過率画像データとが準備、若しくは蓄えられている場合には、準備、若しくは蓄えられた中から取得するようにしても良い。
 表示ユニット31のBMパターン38は、例えば、図11(A)及びその部分拡大図である図11(C)に示すように、1画素32当たり、RGBの3色の副画素32r、32g及び32bからなるパターンとすることができるが、単色を利用し、例えば、Gチャネルの副画素32gのみ利用するときは、R及びBチャネルの透過率画像データは0とするのが好ましい。本発明において、BM34の画像データ、即ちBMパターン38の透過率画像データとしては、図11(A)に示されるように、BM34の長方形の開口(副画素32r、32g及び32b)を持つものに限定されず、使用可能なBMパターンであればBM34の長方形の開口を持たないものでも良く、任意のBM開口を持つBMパターンを指定して用いても良い。例えば、単純な矩形状のものに限定されず、複雑なくの字に屈曲したものや鉤状のものであっても良い。なお、BMパターン38の透過率画像データは、例えば、12700dpi程度の解像度で、開口部を1.0とし、その他の部分を0.0とした2値化データとした。
 一方、導電性フィルム60のメッシュパターン62は、例えば、図11(B)に示すように、配線となる金属細線14が45°[deg]傾いた正方格子とすることができ、複数の金属細線14が複数の断線部26によって断線された配線パターンである。このメッシュパターン62の透過率画像データは、断線部(ブレーク)26を含めて周期となる画像データとして作成される。なお、メッシュパターン62の透過率画像データは、例えば、12700dpi程度の解像度で、メッシュ形状内の開口部23、29内を0.0とし、配線となる金属細線14の部分を1.0とした2値化データとした。
 なお、ここでは、メッシュパターン62及びBMパターン38の透過率画像データのサイズを規定し、例えば、5020(画素)×2423(画素)とした。また、後述する手順2のFFT処理時の周期のアーティファクトを防ぐ、若しくは低減するため、連続性が保たれるように繰り返し周期で切り出すことが好ましい。例えば、画像サイズは、4画像分の領域内の画像とするのが好ましい。
 次に、手順2として、手順1で作成したメッシュパターン62及びBMパターン38の透過率画像データに対して、2次元高速フーリエ変換(2DFFT(基底2))を行い、所定強度のスペクトル(ピーク)を抽出する。
 即ち、図10に示すように、ステップS12において、ステップS10で作成したメッシュパターン62及びBMパターン38の各透過率画像データに対して2DFFT処理を行い、少なくとも正面観察時の、断線部(ブレーク)26を含めたメッシュパターン62及びBMパターン38の各空間周波数特性(2次元フーリエスペクトル)を取得する。この際、メッシュパターン62及びBMパターン38の各透過率画像データの2次元フーリエスペクトルは、複素数(位相情報含む)で表されるが、スペクトル(複素数)を画像サイズ(縦×横(pix))で割算して規格化する。画像サイズ(pix)で規格化されたスペクトルは、例えば、スペクトル(複素数)/画像サイズ(5020×2433pix)で与えられる。
 次に、手順3として、手順2で取得したメッシュパターン62及びBMパターン38の空間周波数特性から、両者の畳み込みで表されるモアレの周波数及びスペクトル強度の算出を行う。
 即ち、図10に示すように、ステップS14において、ステップS12で取得したメッシュパターン62の空間周波数特性とBMパターン38の空間周波数特性とから、両空間周波数特性の畳み込み(積分)で表されるモアレの周波数及びスペクトル強度を算出する。
 なお、このステップ14のモアレの周波数及びスペクトル強度の算出は、以下のステップ16及び18によって行うことができる。
 ここでは、2次元フーリエスペクトルのスペクトル強度は、複素数の絶対値、人の視覚に合わせる為、常用対数で定義する。
 図10に示すように、ステップS16において、ステップS12で取得したメッシュパターン62及びBMパターン38の各空間周波数特性から、各パターン62及び38のスペクトルの内、常用対数で定義で定義されたスペクトル強度(Log10(スペクトルの絶対値))が、-4.5以上であるスペクトル(ピーク)の空間周波数を全て抽出する。即ち、メッシュパターン62及びBMパターン38の2次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークの内、そのピーク強度が常用対数で-4.5以上となるスペクトルピークを全て抽出し、抽出された全てのスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度を算出する。
 この時点で得られた情報は、スペクトルのピーク値の空間周波数fx、fy、複素数(a+bi)情報である。なお、ここでは、ピーク強度は、絶対値として取り扱う。
 ここで、図12(A)及び(B)は、それぞれメッシュパターン62及びBMパターン38の各透過率画像データの2次元フーリエスペクトルの強度特性を示す図である。
 なお、図12(A)及び(B)において、白い部分は強度が高く、スペクトルピークを示しているので、図12(A)及び(B)に示す結果から、メッシュパターン62及びBMパターン38のそれぞれについて、各スペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度とを算出する。即ち、図12(A)及び(B)にそれぞれ示すメッシュパターン62及びBMパターン38の2次元フーリエスペクトルの強度特性におけるスペクトルピークの周波数座標上の位置、即ちピーク位置がピーク周波数を表し、そのピーク位置における2次元フーリエスペクトルの強度がピーク強度となる。
 ここでは、メッシュパターン62及びBMパターン38の各スペクトルピークのピークの周波数及び強度は、以下のようにして算出して取得する。
 まず、ピーク周波数の取得において、ピークの算出には、メッシュパターン62及びBMパターン38の基本周波数から周波数ピークを求める。これは、2DFFT処理を行う透過率画像データは離散値であるため、ピーク周波数が、画像サイズの逆数に依存してしまうからである。周波数ピーク位置は、図13に示すように、独立した2次元基本周波数ベクトル成分aバー及びbバーを元に組み合わせて表すことができる。したがって、当然ながら、得られるピーク位置は格子状となる。なお、図13は、BMパターン38の場合の周波数ピーク位置を示すグラフであるが、メッシュパターン62も、同様にして求めることができる。
 一方、ピーク強度の取得においては、上記のピーク周波数の取得においてピーク位置が求まるため、ピーク位置が持つ2次元フーリエスペクトルの強度(絶対値)を取得する。その際、デジタルデータをFFT処理しているので、ピーク位置が複数の画素(ピクセル)にまたがるケースがある。例えば、2次元フーリエスペクトルの強度(Sp)特性が、図14(A)に示す曲線(アナログ値)で表される時、デジタル処理された同じ2次元フーリエスペクトルの強度特性は、図14(B)に示す棒グラフ(デジタル値)で表されるが、図14(A)に示される2次元フーリエスペクトルの強度のピークPは、対応する図14(B)では、2つの画素にまたがることになる。したがって、ピーク位置に存在する強度を取得する際には、ピーク位置周辺の複数の画素を含む領域内内の複数の画素のスペクトル強度が上位から複数点、例えば、5×5画素の領域内の画素のスペクトル強度が上位から5点の和をピーク強度(絶対値)とするのが好ましい。
 ここで、得られたピーク強度は、画像サイズで規格化するのが好ましい。上述した例では、上述したように、画像サイズ(5020×2433pix)で規格化しておくのが好ましい(パーセバルの定理)。
 次に、図10に示すように、ステップS18において、ステップS16で算出したメッシュパターン62及びBMパターン38の両2次元フーリエスペクトルのピーク周波数及びピーク強度からそれぞれモアレの周波数及びスペクトル強度を算出する。なお、ここでも、ピーク強度及びモアレのスペクトル強度は、絶対値として取り扱う。
 実空間においては、モアレは、本来、メッシュパターン62とBMパターン38との透過率周期画像データの掛け算によって起こるため、空間周波数空間においては、両者の畳み込み積分(コンボリューション)を行うことになる。しかしながら、ステップS16において、メッシュパターン62及びBMパターン38の両2次元フーリエスペクトルのピーク周波数及びピーク強度が算出されているので、両者のそれぞれの周波数ピーク同士の差分(差の絶対値)を求め、求められた差分をモアレの周波数とし、両者の組み合わせた2組のベクトル強度の積を求め、求められた積をモアレのスペクトル強度(絶対値)とすることができる。
 こうして求められたモアレの周波数及びモアレのスペクトル強度は、ステップS12で取得したメッシュパターン62とBMパターン38の各空間周波数特性との畳み込み積分の結果と言うことができる。
 ここで、図12(A)及び(B)にそれぞれ示すメッシュパターン62及びBMパターン38の両者の2次元フーリエスペクトルの強度特性のそれぞれの周波数ピーク同士の差分は、両者の2次元フーリエスペクトルの強度特性を重ね合わせて得られる強度特性において、両者のそれぞれの周波数ピークの周波数座標上のピーク位置間の相対距離に相当する。
 なお、メッシュパターン62及びBMパターン38の両2次元フーリエスペクトルのスペクトルピークは、それぞれ複数存在するので、その相対距離の値である周波数ピーク同士の差分、即ちモアレの周波数も複数求められることになる。したがって、両2次元フーリエスペクトルのスペクトルピークが多数存在すると、求めるモアレの周波数も多数となり、計算処理に時間がかかることになる。このような場合は、予め両2次元フーリエスペクトルのスペクトルピークにおいて、それぞれピーク強度が強いもののみを選定しておいてもよい。その場合は、選定されたピーク同士の差分のみを求めることになるので、計算時間を短縮することができる。
 こうして求められたモアレの周波数及びモアレのスペクトル強度を、図15に示す。図15は、図11(A)に示す画素配列パターンと図11(B)に示すメッシュパターンとの干渉によって発生するモアレの周波数及びモアレのスペクトル強度を模式的に表わす概略説明図であり、図12(A)及び(B)に示す2次元フーリエスペクトルの強度特性の畳み込み積分の結果ということもできる。
 図15においては、モアレの周波数は、縦横軸の位置によって表され、モアレのスペクトル強度は、グレー(無彩色)濃淡で表され、色が濃いほど小さく、色が薄い、即ち白いほど大きくなることを示している。
 次に、手順4として、モアレの視認性の判定を行う。
 即ち、図10に示すように、ステップS20において、ステップS18(S14)で算出されたモアレの周波数の内の最低の周波数を求め、モアレの最低の周波数のスペクトル強度を求める。ここで、考慮するモアレの周波数は、3cycle/mm以内のデータのみである。即ち、ステップS18(S14)で算出されたモアレの周波数の内、3cycle/mm以内のモアレの周波数を用いて序列を付け、最低となるモアレの周波数を求め、そのスペクトル強度を求める。
 なお、モアレの視認性の判定等においては、モアレの周波数及びスペクトル強度に、人間の標準視覚応答特性を表す、ドゥーリー・ショー(Dooley Shaw)関数等を基礎とする視覚伝達関数(VTF;Visual Transfer Function)を畳み込むことが行われているが、本発明では、VTFを使用しない。その理由は、VTFが観察距離に依存する関数である為であり、本発明の導電性フィルムが適用されるタッチパネル等を含む表示装置では、観察距離を固定することは実際の観察時には行われない為である。
 次に、図10に示すように、ステップS22において、ステップS20で求めたモアレの最低周波数のスペクトル強度を-3.6と比較し、モアレのスペクトル強度が、-3.6以上であるか否かを判定する。
 なお、多数のメッシュパターン62について、後述する実施例のダミー電極部22bの複数の断線部26を持つダミー電極配線パターン24bの異なる複数のサンプルでモアレの最低周波数のスペクトル強度を求め、3名の研究員がメッシュパターン62とモアレの最低周波数のスペクトル強度とを評価した処、後述する表1に示すように、モアレの最低周波数のスペクトル強度が常用対数で-3.8以下(真数で10-3.8以下)では、官能評価でもモアレは視認されずAであり、そのスペクトル強度が常用対数で-3.8超-3.6以下(真数で10-3.8超10-3.6以下)では、官能評価でモアレはわずかに視認されるが気にならない程度でBであるが、そのスペクトル強度が、常用対数で-3.6超(真数で10-3.6超)では、官能評価でモアレが視認されてC(使用不可)であった。
 したがって、本発明では、モアレの最低周波数のスペクトル強度を、常用対数で-3.6以下(真数で10-3.6以下)に限定する。
 その結果、モアレの最低周波数のスペクトル強度が、常用対数で-3.6超(真数で10-3.6超)である場合には、ステップS24に移り、メッシュパターン62の透過率画像データを新たなメッシュパターンの透過率画像データに更新して、ステップS12に戻る。
 ここで、更新される新たなメッシュパターンは、予め準備されたものであっても、新たに作成されたものであっても良い。なお、新たに作成され場合には、メッシュパターンの透過率画像データ、詳しくは、ダミー電極配線パターン24bの複数の断線部(ブレーク)26の位置、ピッチ、幅のいずれか1つ以上を変化させても良いし、メッシュパターン自体の形状やサイズを変更するようにしても良い。更には、これらにランダム性を持たせても良い。
 この後、ステップS12の空間周波数特性の取得、ステップS14(S18)のモアレの周波数及びスペクトル強度の算出、及びステップ20のモアレの最低周波数のスペクトル強度の算出、ステップ22のモアレの最低周波数のスペクトル強度と常用対数で-3.6(真数で10-3.6)との比較、及びステップ24のメッシュパターンの透過率画像データの更新の各ステップをモアレの最低周波数のスペクトル強度が常用対数で-3.6(真数で10-3.6)以下になるまで繰り返す。
 一方、モアレの最低周波数のスペクトル強度が常用対数で-3.6(真数で10-3.6)以下である場合には、ステップS26に移り、メッシュパターン62を最適化メッシュパターンとして決定し、本発明の導電性フィルム10又は11のメッシュパターン24(30)として設定する。
 こうして、本発明の導電性フイルムのメッシュパターンの決定方法は終了し、表示装置の表示ユニットのBMパターンに重畳してもモアレの発生が抑止され、モアレの視認性に優れた、最適化されたメッシュパターンを持つ本発明の導電性フィルムを作製することができる。
 図16(A)に示すメッシュパターン70を比較例1のシミュレーションサンプルとして作成した。比較例1のメッシュパターン70は、有効な電極領域を構成するX電極72の電極配線パターン74と、4つのダミー電極76a、76b、76c及び76dのダミー電極配線パターン78によって構成され、ダミー電極配線パターン78によって形成される全ての開口部80の菱形のメッシュ形状の金属細線82からなる4辺の中心にそれぞれ断線部84が規則的に設けられた複数の断線部84を持つ配線パターンであった。なお、電極配線パターン74とダミー電極配線パターン78との間の辺においても、両者間の各1辺の金属細線82の中心位置に断線部84が設けられていた。なお、図示例においては、図面の簡略化のために、1つのダミー電極76cのダミー電極配線パターン78のみにおいて断線部84を図示し、3つのダミー電極76a、76b及び76dのダミー電極配線パターン78では、断線部84の図示を省略している。
 なお、参考例として、断線部を含まないメッシュ状配線のメッシュパターンをシミュレーションサンプルとして作成した。
 上記の比較例1を基準として、断線部84の長さ、位置、配置、数を変えて、実施例1~6及び比較例2~4のメッシュパターンをシミュレーションサンプルとして作成した。
 各メッシュパターン70等の菱形からなる全てのメッシュ形状の1辺の長さは、144μm、菱形の内角は、76°及び104°とした。また、各メッシュパターンの辺を構成する金属細線82の太さは、線幅6μmのものを用いた。
 ここで、比較例1のメッシュパターン70においては、断線部(ブレーク)82の長さ(ブレーク長、又はブレーク間隔)を20μmとした。
 これに対し、実施例1及び2のメッシュパターンは、それぞれ、比較例1のメッシュパターン70に対して、断線部(ブレーク)84の長さ(ブレーク長、又はブレーク間隔)を変更したものであり、比較例1での20μmから、実施例1では5μmに、実施例2では10μmとした以外は、実施例1及び2共に、比較例1のメッシュパターン70と同様であった。
 次に、実施例3~5のメッシュパターンは、断線部84の位置を、比較例1のメッシュパターンの菱形のメッシュ形状の辺の中心位置からランダム配置に変更したものである。
 実施例3では、4つのダミー電極76a、76b、76c及び76dのダミー電極配線パターン78の1つの菱形のメッシュ形状の4辺において、断線部84の位置を、比較例1の中心位置から中心位置以外のランダムな位置に変更したもので、このパターンが、他の菱形のメッシュ形状において繰り返される配線パターンであった。
 実施例4では、ダミー電極配線パターン78の全ての菱形のメッシュ形状の4辺において、断線部84の位置を、比較例1の中心位置から全くランダムに位置を変更したものであった。
 実施例5では、ダミー電極配線パターン78の全ての菱形のメッシュ形状の4辺のみならず電極配線パターン74とダミー電極配線パターン78との間の各辺においても、断線部84の位置を、比較例1の中心位置から全くランダムに位置を変更したものであった。
 実施例6では、比較例1のメッシュパターン70において、4つのダミー電極76a、76b、76c及び76dのダミー電極配線パターン78から全ての断線部84を無くして接続し、電極配線パターン74とダミー電極配線パターン78との間の各辺における断線部84のみに変更したものであった。
 比較例2~3では、全てのダミー電極76a、76b、76c及び76dのダミー電極配線パターン78において、断線部84の数を、比較例1から減少させたものである。
 比較例2は、全てのダミー電極配線パターン78において、行方向(図16において水平方向:xy座標のx方向)の断線部84を半減して金属細線82の1ラインおきに設けたものであった。
 比較例3は、全てのダミー電極配線パターン78において、列方向(図16において垂直方向:xy座標のy方向)の断線部84を半減して金属細線82の1ラインおきに設けたものであった。
 比較例4は、全てのダミー電極配線パターン78において、列方向(図16において垂直方向:xy座標のy方向)の断線部84を半減して金属細線82の1ラインおきに設けたものであった。
 比較例5は、全てのダミー電極配線パターン78において、1ライン方向((図16において交差する金属細線82一方の側)のみに、断線部84を設けたものであった。
 以上の実施例1~6、比較例1~4及び参考例のメッシュパターンを持つ導電性フィルムのシミュレーションサンプルを、図11に示すBMパターン38を持つ表示ユニット31のシミュレーションサンプルに重畳した時に、各メッシュパターンとBMパターン38の干渉をシミュレーションして、各メッシュパターンとBMパターン38との両者の空間周波数特性の畳み込みで表されるモアレの最低周波数のスペクトル強度を求めると共に、両者の干渉によって発生するモアレ(両者の干渉のシミュレーション結果)を表示し、3名の研究員が可能評価を行った。
 なお、表示ユニット31のBMパターン38を構成する画素のサイズは、解像度が250dpiであるので、102μm×102μmであり、副画素のサイズは、26μm×78μmであった。
 その結果を表1に示す。
 なお、可能評価結果は、3名の研究員において、モアレが視認されないものをAと評価し、モアレはわずかに視認されるが気にならない程度であるものをBと評価し、モアレが視認されるものをCと評価した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1の結果から明らかなように、モアレの最低周波数のスペクトル強度が、常用対数で-3.8以下(真数で10-3.8以下)である実施例1及び3~5では、官能評価結果はAであり、モアレは視認されず、モアレの最低周波数のスペクトル強度が常用対数で-3.8超-3.6以下(真数で10-3.8超10-3.6以下)である実施例2及び6では、官能評価結果はBであり、モアレはわずかに視認されるが気にならない程度であるのに対し、モアレの最低周波数のスペクトル強度が、常用対数で-3.6超(真数で10-3.6超)である比較例1~4では、官能評価結果はCであり、モアレが視認されて使用不可であることが分かる。
 以上から、本発明の効果は明らかである。
 以上に、本発明に係る導電性フイルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法について種々の実施形態及び実施例を挙げて説明したが、本発明は、上述の実施形態及び実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しないかぎり、種々の改良や設計の変更を行っても良いことはもちろんである。
10、11、60 導電性フイルム
12 透明基体
14、82 金属製の細線(金属細線)
16、16a、16b 配線層
18、18a、18b 接着層
20、20a、20b 保護層
22、28 メッシュ状配線
22a、28a 電極部
22b、28b ダミー電極部(非電極部)
23、29、80 開口部
24、30、62,70 メッシュパターン
24a、30a、74 電極配線パターン
24b,30b、78 ダミー電極配線パターン
26、84 断線部(ブレーク)
31 表示ユニット
32、32r、32g、32b 画素
34 ブラックマトリクス(BM)
38 BMパターン
40 表示装置
44 タッチパネル
72 X電極
76a、76b、76c、76d ダミー電極
 
 
 

Claims (17)

  1.  表示装置の表示ユニット上に設置される導電性フイルムであって、
     透明基体と、
     前記透明基体の少なくとも一方の面に形成され、パターニングされた複数の金属細線からなるメッシュパターンを持つメッシュ状配線と、を有し、
     前記メッシュ状配線の前記メッシュパターンは、前記表示ユニットの画素配列パターンに重畳されており、
     少なくとも正面観察時の、前記メッシュパターンの空間周波数特性と、前記表示ユニットの前記画素配列パターンの空間周波数特性との畳み込みで表されるモアレの最低の周波数のスペクトル強度が、常用対数で-3.6以下となることを特徴とする導電性フイルム。
  2.  前記メッシュ状配線は、前記複数の金属細線により連続するようにメッシュ状に形成された電極配線パターンを備える電極部と、前記複数の金属細線によりメッシュ状に形成され、複数の断線部を持ち、非連続である非電極配線パターンを備え、前記電極部と絶縁されている非電極部とを有し、
     前記メッシュ状配線の前記メッシュパターンは、前記電極部の前記電極配線パターンと、この電極配線パターンと絶縁されている前記非電極部の前記非電極配線パターンからなり、
     前記メッシュパターンの空間周波数特性は、少なくとも正面観察時の、前記複数の断線部を含めた前記メッシュパターンの空間周波数特性である請求項1に記載の導電性フイルム。
  3.  前記モアレの周波数は、前記メッシュパターンの前記空間周波数特性のスペクトルピークのピーク周波数と前記画素配列パターンの前記空間周波数特性のスペクトルピークのピーク周波数との差分で与えられ、前記モアレのスペクトル強度は、前記メッシュパターンの前記スペクトルピークのピーク強度と前記画素配列パターンの前記スペクトルピークのピーク強度との積で与えられる請求項1又は2に記載の導電性フイルム。
  4.  前記ピーク強度は、前記ピーク位置周辺の複数画素内の強度の和である請求項3に記載の導電性フイルム。
  5.  前記ピーク強度は、前記メッシュパターン及び前記画素配列パターンの透過率周期画像データで規格化されたものである請求項1~4のいずれか1項に記載の導電性フイルム。
  6.  表示装置の表示ユニット上に設置される導電性フイルムであって、
     透明基体と、
     前記透明基体の少なくとも一方の面に形成され、一面にパターニングされた複数の金属細線からなるメッシュパターンを持つメッシュ状配線と、を有し、
     前記メッシュ状配線は、前記複数の金属細線により連続するようにメッシュ状に形成された電極配線パターンを備える電極部と、前記複数の金属細線によりメッシュ状に形成され、複数の断線部を持ち、非連続である非電極配線パターンを備え、前記電極部と絶縁されている非電極部とを有し、
     前記メッシュ状配線の前記メッシュパターンは、前記電極部の前記電極配線パターンと、この電極配線パターンと絶縁されている前記非電極部の前記非電極配線パターンからなり、前記表示ユニットの画素配列パターンに重畳されており、
     前記非電極部の前記非電極配線パターンの前記複数の断線部が接続された場合の前記メッシュ状配線の前記メッシュパターンは、モアレが視認されないものであり、
     前記非電極部の前記非電極配線パターンは、前記複数の断線部がランダムに配置されたランダム配線パターンであることを特徴とする導電性フイルム。
  7.  前記モアレの周波数が3サイクル/mm以下である請求項1~6のいずれか1項に記載の導電性フイルム。
  8.  前記非電極部の前記非電極配線パターンは、前記電極部を除く領域内に前記複数の金属細線によりメッシュ状に形成されている請求項1~7のいずれか1項に記載の導電性フイルム。
  9.  前記画素配列パターンは、前記ブラックマトリックスパターンである請求項1~8のいずれか1項に記載の導電性フイルム。
  10.  表示ユニットと、
     この表示ユニットの上に設置される、請求項1~9のいずれか1項に記載の導電性フイルムとを備えることを特徴とする表示装置。
  11.  請求項10に記載の表示装置と、
     前記表示装置の前記導電性フイルムの上側に配置され、前記導電性フイルムの反対側にタッチ面を備える透明基板を有することを特徴とするタッチパネル表示装置。
  12.  表示装置の表示ユニット上に設置され、パターニングされた複数の金属細線により連続するようにメッシュ状に形成されたメッシュパターンを持つメッシュ状配線が形成された導電性フイルムのメッシュパターンの決定方法であって、
     前記メッシュパターンの透過率周期画像データと、前記メッシュパターンが重畳される、前記表示ユニットの画素配列パターンの透過率周期画像データとを取得し、
     取得された前記メッシュパターンの透過率周期画像データ及び前記画素配列パターンの透過率周期画像データに対して2次元フーリエ変換を行い、少なくとも正面観察時の、前記メッシュパターンの空間周波数特性及び前記画素配列パターンの空間周波数特性を得、
     得られた前記メッシュパターンの空間周波数特性と前記画素配列パターンの空間周波数特性とから、両者の畳み込みで表されるモアレの周波数及びスペクトル強度を算出し、
     算出された前記モアレの周波数の内の最低の周波数を求め、そのスペクトル強度を、常用対数で-3.6と比較し、
     常用対数で定義される前記モアレのスペクトル強度が-3.6以下であるとき、前記メッシュパターンを前記導電性フィルムのメッシュパターンとして設定し、前記モアレのスペクトル強度が-3.6超であるとき、前記メッシュパターンの透過率周期画像データを新たなメッシュパターンの透過率周期画像データに変更して、前記空間周波数特性の取得、前記モアレの周波数及びスペクトル強度の算出、及び前記モアレの最低の周波数のスペクトル強度と-3.6との比較の各ステップを前記モアレの最低の周波数のスペクトル強度が-3.6以下になるまで繰り返すことを特徴とする導電性フイルムのメッシュパターンの決定方法。
  13.  前記メッシュ状配線は、前記複数の金属細線により連続するようにメッシュ状に形成された電極配線パターンと、前記複数の金属細線によりメッシュ状に形成され、複数の断線部を持ち、前記電極配線パターンと非連続で絶縁されている非電極配線パターンとを備える前記メッシュパターンを持ち、
     前記メッシュパターンの透過率周期画像データは、前記複数の断線部を持つ前記非電極配線パターンとを備える前記メッシュパターンの透過率周期画像データであり、
     前記メッシュパターンの前記空間周波数特性は、少なくとも正面観察時の、前記複数の断線部を含めた前記メッシュパターンの空間周波数特性である、請求項12に記載の導電性フイルムのメッシュパターンの決定方法。
  14.  前記モアレの周波数及びスペクトル強度は、
     得られた前記メッシュパターンの前記空間周波数特性から、前記メッシュパターンの透過率周期画像データの2次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークの内、そのピーク強度が常用対数で-4.5以上となるスペクトルピークを抽出し、抽出された全てのスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度を算出すると共に、
     得られた前記画素配列パターンの前記空間周波数特性から、前記画素配列パターンの透過率周期画像データの2次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークの内、そのピーク強度が常用対数で-4.5以上となるスペクトルピークを抽出し、抽出された全てのスペクトルピークのピーク周波数及びピーク強度を算出し、
     こうして算出された前記メッシュパターンの前記ピーク周波数及び前記ピーク強度と前記画素配列パターンの前記ピーク周波数及び前記ピーク強度とからそれぞれ算出される請求項12または13に記載の導電性フイルムのメッシュパターンの決定方法。
  15.  前記モアレの周波数として、前記メッシュパターンの前記ピーク周波数と前記画素配列パターンの前記ピーク周波数とのピーク周波数同士の差分を求め、
     前記モアレのスペクトル強度として、前記メッシュパターンの前記ピーク強度と前記画素配列パターンの前記ピーク強度との2組のベクトル強度の積を求める請求項14に記載の導電性フイルムの配線パターンの決定方法。
  16.  前記モアレの周波数が3サイクル/mm以下である請求項12~15のいずれか1項に記載の導電性フイルムのメッシュパターンの決定方法。
  17.  前記非電極配線パターンは、前記電極配線パターンが形成されていない領域内に前記複数の金属細線によりメッシュ状に形成されている請求項12~16のいずれか1項に記載の導電性フイルムのメッシュパターンの決定方法。
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