KR20150087313A - 도전성 필름, 그것을 구비하는 표시 장치 및 도전성 필름의 패턴의 결정 방법 - Google Patents

도전성 필름, 그것을 구비하는 표시 장치 및 도전성 필름의 패턴의 결정 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 목적은, 모아레의 발생을 억제할 수 있고, 시인성을 대폭 향상시킬 수 있는 도전성 필름, 및 도전성 필름의 패턴 결정 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 도전성 필름은, 적어도 정면 관찰 시의, 메시 형상 배선의 메시 패턴의 공간 주파수 특성과, 표시 유닛의 화소 배열 패턴의 공간 주파수 특성과의 합성곱으로 나타내는 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가, 상용 대수로 -3.6 이하가 된다. 메시 패턴은, 복수의 단선부를 가지는 패턴이어도 된다.

Description

도전성 필름, 그것을 구비하는 표시 장치 및 도전성 필름의 패턴의 결정 방법{CONDUCTIVE FILM, DISPLAY DEVICE EQUIPPED WITH SAME AND METHOD FOR DETERMINING PATTERN OF CONDUCTIVE FILM}
본 발명은, 도전성 필름, 그것을 구비하는 표시 장치 및 도전성 필름의 패턴의 결정 방법에 관한 것이며, 상세하게는, 메시 투명 도전막으로서 사용되는 것으로서, 그 메시 패턴의 설계에 있어서, 전극을 고려한 설계로 함으로써 시인되는 모아레의 스펙트럼 강도 및 주파수가 소정의 주파수 및 강도 범위 내에 존재하는 메시 패턴을 가지는 도전성 필름, 그것을 구비하는 표시 장치 및 도전성 필름의 패턴의 결정 방법에 관한 것이다.
표시 장치(이하, 디스플레이라고도 함)의 표시 유닛 상에 설치되는 도전성 필름으로서, 예를 들면 전자파 실드용의 도전성 필름이나 터치 센서(터치 패널)용의 도전성 필름 등을 들 수 있다(예를 들면, 특허문헌 1, 2 및 3 참조).
본 출원인의 출원에 따른 특허문헌 1은, 메시 형상 도전성 금속 박막으로 이루어지는 전자파 실드 패턴을 가지는 전자파 실드용 도전성 필름을 개시하는 것이며, 예를 들면 디스플레이의 화소 배열 패턴(예를 들면, 블랙 매트릭스(이하, BM이라고도 함) 패턴) 등의 제1 패턴, 및, 예를 들면 전자파 실드 패턴 등의 제2 패턴의 각각의 패턴 데이터의 2차원 푸리에 스펙트럼(2DFFTSp)의 스펙트럼 피크 간의 상대 거리가, 소정의 공간 주파수, 예를 들면 8㎝-1을 초과하고 있는 제2 패턴 데이터에 의해 생성되는 제2 패턴을 자동적으로 선정하는 것을 개시하고 있다.
또, 특허문헌 1에서는, 상술의 상대 거리가 소정의 공간 주파수를 초과하고 있지 않은 경우에는, 제2 패턴 데이터의 회전 각도, 피치, 패턴 폭 중 어느 1개 이상을 변화시켜, 새로운 제2 패턴 데이터를 생성하는 것을, 상술의 상대 거리가 소정의 공간 주파수를 초과할 때까지 반복하는 것도 개시하고 있다.
이와 같이 하여, 특허문헌 1에서는, 모아레의 발생을 억제할 수 있고, 표면 저항률의 증대나 투명성의 열화도 회피할 수 있는 전자파 실드 패턴을 자동적으로 선정할 수 있도록 하고 있다.
한편, 터치 패널용 도전성 필름에는, 신속한 응답성, 높은 분해능, 대사이즈화, 저제조 비용화 등의 점에서, 메시 형상 배선 재료로서, 종래의 투명한 ITO(산화인듐주석)를 대신하여, 금속 등 불투명한 도전성 재료가 사용되고 있다. 이러한 도전성 필름을 사용하여 터치 패널을 실현하기 위해서는, 도전성 필름이 터치한 위치를 검출하기 위한 해상도를 가질 필요가 있다. 도전성 필름의 메시 형상 도체 배선에서 ITO 등의 투명 도전막 기능을 갖게 하는 경우, 전면(全面) 솔리드(solid)의 메시 형상 배선에 대하여, 특정 메시 형상 배선에 절단부를 마련하여 단선(斷線)을 부가함으로써, 상술한 해상도에 맞는 검출용 배선 영역을, 검출에 기여하지 않는 더미 배선 영역으로부터 구분할 필요가 있다.
특허문헌 2에 개시된 터치 패널에서는, 절연층을 개재하여 양측에 교차하도록 마련되는 2종의 금속(불투명한 도전성 재료)제 검출용 배선에 의해 둘러싸인 복수의 더미 배선 영역에, 고립 배선을 검출용 배선에 평행 또는 수직으로, 혹은 45° 기울여서 배치하여, 2종의 검출용 배선으로 이루어지는 검출용 배선 영역과, 더미 배선 영역과의 사이에 절단부(브레이크)를 형성하여 양자를 분리하고 있다.
이와 같이 하여, 특허문헌 2에서는, 응답 속도가 빠르고, 표시 불균일이나 모아레를 저감할 수 있으며, 시인성이 높고 대형화가 용이한 터치 패널을 얻을 수 있도록 하고 있다.
또한, 정전 용량식 터치 패널(터치 스위치)용의 도전성 필름(면상체)을 개시하는 특허문헌 3에서는, 도체선으로 이루어지는 망목(메시) 형상 전극을, 소정 간격을 두고 대략 평행으로 배치되는 복수의 도전부 영역과, 각 도전부 영역의 사이에 배치되는 비도전부 영역으로 구획하고, 비도전부 영역은, 도체선을 섬 형상으로 절단하는 복수의 절단부(브레이크)를 구비하고, 이들의 절단부에 의해 비도전부 영역(더미 배선 영역)과, 인접하는 도전부 영역(검출 배선 영역)과의 사이를 절연할 수 있도록 하고 있다.
이와 같이 하여, 특허문헌 3에서는, 망목(網目) 밀도의 불균형(망목의 편차)가 발생하여, 시인성이 저하하는 것을 방지하고, 시인성을 향상시킬 수 있음과 함께, 효율적으로 제조할 수 있는 면상체 및 터치 스위치를 제공할 수 있다고 한다.
일본국 특개2009-117683호 공보 일본국 특개2010-097536호 공보 일본국 특개2010-262529호 공보
그런데, 특허문헌 1은, 도전성 필름의 배선 패턴을 생성하는 것에 있어서, 디스플레이의 BM(블랙 매트릭스)/배선 패턴의 주파수 정보만으로 모아레 주파수를 제어하여 시인성이 뛰어난 배선 패턴을 제공하는 기술이지만, 모아레가 시인되는지/되지 않는지의 판정을 주파수에만 의존하고 있기 때문에, 특허문헌 1에 있어서 모아레가 시인되지 않는다고 판정되는 주파수의 경우여도, 사람의 모아레의 지각은, 주파수 뿐만 아니라 강도에도 영향을 받기 때문에, 강도에 따라서는 모아레가 시인되는 경우가 있으며, 모아레의 시인성이 충분히 향상되지 않는다는 문제가 있었다.
특히, 특허문헌 1에 개시된 기술을 터치 패널용의 도전성 필름에 적용하는 경우, 메시 형상 도체 배선에 복수의 절단부(브레이크)를 마련할 필요가 있지만, 이들의 절단부를 마련하면, 메시 형상 도체 배선의 배선 패턴의 공간 주파수 특성이 변화되게 된다는 문제나, 사람의 손가락 등에 의해 가압되므로, BM/배선 패턴 사이에 미묘한 왜곡이 발생하고, 강도에 의한 모아레의 시인이 조장된다는 문제도 있어, 모아레의 시인성의 향상이 충분하지 않다는 문제가 있었다.
이 때문에, 모아레 시인성이 뛰어난 패턴을 설계하기 위해서는, 절단부(브레이크)를 고려한 설계가 중요하지만, 이 종래 기술에는, 그 점에는 조금도 언급되어 있지 않다.
또한, 특허문헌 2에서는, 2종의 검출용 배선으로 이루어지는 검출용 배선 영역에 둘러싸인 복수의 더미 배선 영역에, 고립 배선을 검출용 배선에 평행 또는 수직으로, 혹은 45° 기울여서 배치하고 있기 때문에, 2종의 검출용 배선과 고립 배선과의 사이의 절단부에 의한 단선은 규칙적으로 마련되게 되므로, 이 규칙적인 단선의 주기가 시인되는 모아레에 영향을 미쳐서, 모아레의 시인성을 충분히 향상할 수 없다는 문제가 있었다.
또한, 특허문헌 3에서는, 도전부 영역과 비도전부 영역과의 사이를 절연하기 위해서, 망목 형상 전극의 도체선을 절단하는 복수의 절단부는, 망목 형상 전극의 도체선의 교차부에 마련된다. 이 때문에, 이들의 절단부는 망목 형상 전극에 기본적으로 규칙적으로 마련되게 되므로, 이 규칙적인 단선의 주기가, 시인되는 모아레에 영향을 미쳐서, 모아레의 시인성을 충분히 향상할 수 없다는 문제가 있었다.
특히, 터치 패널이 대사이즈(대형)화되면, 금속 등의 불투명한 도전성 재료의 사용이 필요해지지만, 소정의, 혹은 높은 분해능이 요구되므로, 모아레의 시인성이 크게 문제가 된다.
또한, 본 출원인은, 일본국 특원2012-082711호 명세서에 있어서, 디스플레이의 BM(화소 매트릭스), 및 도전성 필름의 메시 형상 배선의 배선 패턴(메시 패턴)의 공간 주파수 피크를 산출하고, 각각의 공간 주파수 피크 차분, 피크 강도 적산값으로 얻어지는 모아레의 2차원 주파수 및 스펙트럼 강도와, 시각 전달 함수의 합성곱에 의해 평가값을 산출하여, 이 평가값이 미리 설정된 조건을 만족시키는 배선 패턴을 가지는 도전성 필름을 제안하고 있다.
이러한 도전성 필름을 터치 패널에 사용하는 경우에는, 상술한 특허문헌 2 및 3 등에 기재된 종래 기술의 터치 패널용 도전성 필름과 마찬가지로, 메시 형상 배선의 해상도를 확보하는 검출용 배선 영역과 더미 배선 영역을 구분하는 복수의 단선부(절단부 : 브레이크)를 메시 형상 배선에 마련하여 복수의 단선을 부가할 필요가 있다. 이들의 단선부는, 상기 종래 기술과 같이, 터치 패널에 요구되는 특정 해상도를 만족시키기 위하여, 또한, 해상도 영역의 정전 용량을 일정하게 하는 것을 목적으로, 일반적으로는 규칙적으로 부여된다. 그러나, 이 규칙적인 단선의 주기가, 모아레가 시인되는 요인이 되게 된다는 문제가 있었다. 이와 같이, 규칙적인 단선의 주기는, 시인되는 모아레에 영향을 미치고, 모아레의 시인성을 충분히 향상할 수 없다는 문제가 발생하지만, 본 출원인이 앞서 제안한 기술에서도, 상기 종래 기술에서도, 그 어느 것에도, 그러한 점은 언급되어 있지 않다.
본 발명은, 상기 종래 기술의 문제점을 해소하여, 모아레의 발생을 억제할 수 있고, 시인성을 대폭 향상시킬 수 있는 도전성 필름, 그것을 구비하는 표시 장치 및 도전성 필름의 패턴의 결정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은, 특히, 표시 장치의 표시 유닛 상에 설치되는 도전성 필름의 금속 세선으로 이루어지는 메시 패턴을 가지는 메시 형상 배선이 복수의 단선부를 가지는 경우여도, 모아레의 발생을 억제할 수 있고, 시인성을 대폭 향상시킬 수 있는 도전성 필름, 그것을 구비하는 표시 장치 및 도전성 필름의 패턴의 결정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은, 특히, 복수의 단선부를 가지는 메시 형상 배선을 갖는 투명 도전성 필름을 대사이즈화, 고해상도화가 필요한 터치 패널용 전극으로서 사용하는 경우, 표시 장치의 표시 유닛의 블랙 매트릭스에 도전성 필름을 중첩하여 시인할 때에 큰 화질 장해가 되는 모아레의 발생을 억제할 수 있고, 터치 패널 상의 표시의 시인성을 대폭 향상시킬 수 있는 도전성 필름, 그것을 구비하는 표시 장치 및 도전성 필름의 패턴의 결정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명자는, 표시 유닛의 블랙 매트릭스에 대하여 중첩되어도 모아레가 시인되지 않는 도전성 필름의 메시 패턴에 대해서, 예의 연구를 거듭한 결과, 종래 기술이나 본 출원인의 선원(先願)에 따른 도전성 필름에 있어서, 규칙적인 주기의 브레이크에 의해 모아레가 시인되게 되는 원인은, 도 17의 (A) 및 (B)에 나타낸 바와 같이, 메시 패턴(브레이크 없음)만인 경우와, 규칙적인 주기의 브레이크를 가지는 메시 패턴(브레이크 있음)인 경우의, 공간 주파수 특성의 차에 있으며, 이 차에 의해서 설명할 수 있는 것을 지견했다.
여기에서, 도 17의 (A) 및 (B)는, 각각, 브레이크(단선부)가 없고, 모아레의 시인성이 적정화된 메시 패턴(브레이크 없음) 및 규칙적인 주기의 브레이크를 가지는 메시 패턴(브레이크 있음)인 경우의 공간 주파수 특성을 나타낸 도면이다. 도 17의 (A) 및 (B)로부터, 규칙적인 주기의 브레이크를 가지는 메시 패턴에서는, 스펙트럼 강도는 그렇게 높은 것은 아니지만, 스펙트럼 피크의 수가, 증가하고 있는 것을 알 수 있다.
이와 같이, 본 발명자는, 도 17의 (A) 및 (B)로부터, 브레이크의 유무에 따라 메시 패턴의 공간 주파수 특성이 변화하고 있으며 이 변화가 모아레의 시인성에 영향을 미치고 있으므로, 모아레 시인성이 뛰어난 패턴을 설계하기 위해서는, 브레이크를 고려한 설계가 중요한 것을 지견하여, 본 발명에 이른 것이다.
즉, 본 발명의 제1 태양에 따른 도전성 필름은, 표시 장치의 표시 유닛 상에 설치되는 도전성 필름으로서, 투명 기체와, 투명 기체의 적어도 한쪽의 면에 형성되고 패터닝된 복수의 금속 세선으로 이루어지는 메시 패턴을 가지는 메시 형상 배선을 갖고, 메시 형상 배선의 메시 패턴은, 표시 유닛의 화소 배열 패턴에 중첩되어 있으며, 적어도 정면 관찰 시의, 메시 패턴의 공간 주파수 특성과, 표시 유닛의 화소 배열 패턴의 공간 주파수 특성과의 합성곱으로 나타내지는 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가, 상용 대수로 -3.6 이하가 되는 것을 특징으로 한다.
여기에서, 메시 형상 배선은, 복수의 금속 세선에 의해 연속하도록 메시 형상으로 형성된 전극 배선 패턴을 구비하는 전극부와, 복수의 금속 세선에 의해 메시 형상으로 형성되고 복수의 단선부를 가지며 비연속인 비전극 배선 패턴을 구비하여 전극부와 절연되어 있는 비전극부를 갖고, 메시 형상 배선의 메시 패턴은, 전극부의 전극 배선 패턴과, 이 전극 배선 패턴과 절연되어 있는 비전극부의 비전극 배선 패턴으로 이루어지고, 메시 패턴의 공간 주파수 특성은, 적어도 정면 관찰 시의, 복수의 단선부를 포함한 메시 패턴의 공간 주파수 특성인 것이 바람직하다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 제2 태양에 따른 도전성 필름의 배선 패턴의 결정 방법은, 표시 장치의 표시 유닛 상에 설치되고, 패터닝된 복수의 금속 세선에 의해 연속하도록 메시 형상으로 형성된 메시 패턴을 가지는 메시 형상 배선이 형성된 도전성 필름의 메시 패턴의 결정 방법으로서, 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터와, 메시 패턴이 중첩되는, 표시 유닛의 화소 배열 패턴의 투과율 주기 화상 데이터를 취득하고, 취득된 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터 및 화소 배열 패턴의 투과율 주기 화상 데이터에 대하여 2차원 푸리에 변환을 행하여, 적어도 정면 관찰 시의, 메시 패턴의 공간 주파수 특성 및 화소 배열 패턴의 공간 주파수 특성을 얻고, 얻어진 메시 패턴의 공간 주파수 특성과 화소 배열 패턴의 공간 주파수 특성으로부터, 양자의 합성곱으로 나타내지는 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도를 산출하고, 산출된 모아레의 주파수 중의 최저 주파수를 구하고, 그 스펙트럼 강도를, 상용 대수로 -3.6과 비교하고, 상용 대수로 정의되는 모아레의 스펙트럼 강도가 -3.6 이하일 때 메시 패턴을 도전성 필름의 메시 패턴으로서 설정하고, 모아레의 스펙트럼 강도가 -3.6 초과일 때 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터를 새로운 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터로 변경하여, 공간 주파수 특성의 취득, 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도의 산출, 및 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도와 -3.6과의 비교의 각 스텝을 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가 -3.6 이하가 될 때까지 반복하는 것을 특징으로 한다.
여기에서, 메시 형상 배선은, 복수의 금속 세선에 의해 연속하도록 메시 형상으로 형성된 전극 배선 패턴과, 복수의 금속 세선에 의해 메시 형상으로 형성되고 복수의 단선부를 가지며 전극 배선 패턴과 비연속으로 절연되어 있는 비전극 배선 패턴을 구비하는 메시 패턴을 가지고, 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터는, 복수의 단선부를 가지는 비전극 배선 패턴을 구비하는 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터이며, 메시 패턴의 공간 주파수 특성은, 적어도 정면 관찰 시의, 복수의 단선부를 포함시킨 메시 패턴의 공간 주파수 특성인 것이 바람직하다.
또한, 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도는, 얻어진 메시 패턴의 공간 주파수 특성으로부터, 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터의 2차원 푸리에 스펙트럼의 복수의 스펙트럼 피크 중, 그 피크 강도가 상용 대수로 -4.5 이상이 되는 스펙트럼 피크를 추출하고, 추출된 모든 스펙트럼 피크의 피크 주파수 및 피크 강도를 산출함과 함께, 얻어진 화소 배열 패턴의 공간 주파수 특성으로부터, 화소 배열 패턴의 투과율 주기 화상 데이터의 2차원 푸리에 스펙트럼의 복수의 스펙트럼 피크 중, 그 피크 강도가 상용 대수로 -4.5 이상이 되는 스펙트럼 피크를 추출하고, 추출된 모든 스펙트럼 피크의 피크 주파수 및 피크 강도를 산출하고, 이와 같이 하여 산출된 메시 패턴의 피크 주파수 및 피크 강도와 화소 배열 패턴의 피크 주파수 및 피크 강도로부터 각각 산출되는 것이 바람직하다.
상기 제1 태양에 있어서, 모아레의 주파수는, 메시 패턴의 피크 주파수와 화소 배열 패턴의 피크 주파수와의 차분으로 주어지고, 모아레의 스펙트럼 강도는, 메시 패턴의 피크 강도와 화소 배열 패턴의 피크 강도와의 곱으로 주어지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제2 태양에 있어서, 모아레의 주파수로서, 메시 패턴의 피크 주파수와 화소 배열 패턴의 피크 주파수와의 피크 주파수끼리의 차분을 구하고, 모아레의 스펙트럼 강도로서, 메시 패턴의 피크 강도와 화소 배열 패턴의 피크 강도와의 2세트의 벡터 강도의 곱을 구하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제1 태양 및 제2 태양에 있어서, 피크 강도는, 피크 위치 주변의 복수 화소 내의 강도의 합인 것이 바람직하고, 또한, 메시 패턴 및 화소 배열 패턴의 투과율 주기 화상 데이터로 규격화된 것이 바람직하다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 제3 태양에 따른 도전성 필름은, 표시 장치의 표시 유닛 상에 설치되는 도전성 필름으로서, 투명 기체와, 투명 기체의 적어도 한쪽의 면에 형성되고, 패터닝된 복수의 금속 세선으로 이루어지는 메시 패턴을 가지는 메시 형상 배선을 갖고, 메시 형상 배선은, 복수의 금속 세선에 의해 연속하도록 메시 형상으로 형성된 전극 배선 패턴을 구비하는 전극부와, 복수의 금속 세선에 의해 메시 형상으로 형성되고 복수의 단선부를 가지며 비연속인 비전극 배선 패턴을 구비하여 전극부와 절연되어 있는 비전극부를 갖고, 메시 형상 배선의 메시 패턴은, 전극부의 전극 배선 패턴과, 이 전극 배선 패턴과 절연되어 있는 비전극부의 비전극 배선 패턴으로 이루어지고, 표시 유닛의 화소 배열 패턴에 중첩되어 있으며, 비전극부의 비전극 배선 패턴의 복수의 단선부가 접속되었을 경우의 메시 형상 배선의 메시 패턴은, 모아레가 시인되지 않는 것이며, 비전극부의 비전극 배선 패턴은, 복수의 단선부가 랜덤으로 배치된 랜덤 배선 패턴인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제1 태양, 제2 태양 및 제3 태양에 있어서, 모아레의 주파수가 3사이클/㎜ 이하인 것이 바람직하다.
또한, 비전극부의 비전극 배선 패턴은, 전극부를 제외하는 영역 내에 복수의 금속 세선에 의해 메시 형상으로 형성되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 화소 배열 패턴은, 블랙 매트릭스 패턴인 것이 바람직하다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 제4 태양에 따른 표시 장치는, 표시 유닛과, 이 표시 유닛 상에 설치되는, 상기 제1 및 제3 태양에 따른 도전성 필름을 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 제5 태양에 따른 터치 패널 표시 장치는, 제4 태양에 따른 표시 장치와, 표시 장치의 도전성 필름의 상측에 배치되고, 도전성 필름의 반대 측에 터치면을 구비하는 투명 기판을 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 이상과 같이 구성되어 있으므로, 표시 장치의 표시 유닛 상에 설치되는 도전성 필름을 사용하는 경우에 있어서, 금속 세선으로 이루어지는 메시 패턴을 가지는 메시 형상 배선이 복수의 단선부를 가지는 경우여도, 모아레의 발생을 억제할 수 있고, 시인성을 대폭 향상시킬 수 있다.
특히, 본 발명에 의하면, 복수의 단선부를 가지는 메시 형상 배선을 갖는 투명 도전성 필름을 대사이즈화, 고해상도화가 필요한 터치 패널용 전극으로서 사용하는 경우, 표시 장치의 표시 유닛의 블랙 매트릭스에 도전성 필름을 중첩하여 시인할 때에 큰 화질 장해가 되는 모아레의 발생을 억제할 수 있고, 터치 패널 상의 표시의 시인성을 대폭 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 도전성 필름의 일례를 모식적으로 나타낸 평면도.
도 2는 도 1에 나타낸 도전성 필름의 부분 확대 평면도.
도 3은 도 2에 나타낸 도전성 필름의 부분 확대 평면도이며, 그 메시 패턴의 복수의 단선부의 일례를 나타낸 모식도.
도 4는 도 3에 나타낸 도전성 필름의 모식적 부분 단면도.
도 5는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 도전성 필름의 한쪽의 배선층의 일례를 모식적으로 나타낸 평면도.
도 6은 도 5에 나타낸 도전성 필름의 배선층의 부분 확대 평면도이며, 그 메시 패턴의 복수의 단선부의 일례를 나타낸 모식도.
도 7은 도 6에 나타낸 도전성 필름의 모식적 부분 단면도.
도 8은 본 발명에 따른 도전성 필름이 적용되는 표시 유닛의 일부의 화소 배열 패턴의 일례를 나타낸 개략 설명도.
도 9는 도 7에 나타낸 도전성 필름을 조립한 표시 장치의 일 실시예의 개략 단면도.
도 10은 본 발명에 따른 도전성 필름의 메시 패턴의 결정 방법의 일례를 나타낸 플로우 차트.
도 11의 (A)는 본 발명에 따른 도전성 필름이 적용되는 표시 유닛의 화소 배열 패턴의 일례를 나타낸 개략 설명도이고, (B)는 (A)의 화소 배열 패턴에 중첩되는 도전성 필름의 배선 패턴의 일례를 나타낸 개략 설명도이며, (C)는 (A)의 화소 배열 패턴의 부분 확대도.
도 12의 (A) 및 (B)는, 각각 도 11의 (A)에 나타낸 화소 배열 패턴 및 도 11의 (B)에 나타낸 배선 패턴의 각 투과율 주기 화상 데이터의 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도 특성을 나타낸 도면.
도 13은 도 11의 (A)에 나타낸 표시 유닛의 화소 배열 패턴의 주파수 피크 위치를 나타낸 그래프.
도 14의 (A) 및 (B)는, 각각 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도 특성의 일례를 곡선으로 나타낸 그래프 및 막대로 나타낸 막대 그래프.
도 15는 도 11의 (A)에 나타낸 화소 배열 패턴과 도 11의 (B)에 나타낸 배선 패턴과의 간섭에 의해 발생하는 모아레 주파수 정보 및 모아레의 스펙트럼 강도를 모식적으로 나타낸 개략 설명도.
도 16은 비교예 1의 메시 패턴의 시뮬레이션 샘플을 나타낸 평면도.
도 17의 (A) 및 (B)는, 각각, 브레이크(단선부)가 없는 메시 패턴(브레이크 없음) 및 규칙적인 주기의 브레이크를 가지는 메시 패턴(브레이크 있음)인 경우의 공간 주파수 특성을 나타낸 도면.
이하에, 본 발명에 따른 도전성 필름 및 도전성 필름의 패턴의 결정 방법을 첨부의 도면에 나타낸 바람직한 실시형태를 참조하여 상세하게 설명한다.
이하에서는, 본 발명에 따른 도전성 필름에 대해서, 메시 형상 배선에 단선부를 구비하는 터치 패널용의 도전성 필름을 대표예로서 설명하지만, 본 발명은, 이것에 한정되지 않고, 액정 디스플레이(LCD : Liquid Crystal Display)나 플라스마 디스플레이(PDP : Plasma Display Panel)나 유기 EL 디스플레이(OELD : Organic Electro Luminescence Display)나 무기 EL 디스플레이 등의 표시 장치의 표시 유닛 상에 설치되는 도전성 필름이면, 어느 것이어도 되며, 예를 들면, 메시 형상 배선에 단선부를 구비하고 있으면, 전자파 실드용의 도전성 필름 등이어도 되는 것은 물론이다.
도 1, 도 2 및 도 3은, 각각 본 발명의 제1 실시형태에 따른 도전성 필름의 일례를 모식적으로 나타낸 전체 평면도, 그 부분 확대 평면도 및 더 확대하여 그 메시 패턴의 복수의 단선부의 일례를 모식적으로 나타낸 부분 평면 모식도이며, 도 4는, 도 3에 나타낸 도전성 필름의 모식적 부분 단면도이다. 또, 도 1에 있어서는, 이해를 용이하게 하기 위해, 도전성 필름의 메시 형상 배선의 전극부를 태선(太線)으로 둘러싼 영역으로서, 더미 전극부를 사선 영역으로서 나타내고 있다. 또한, 도 2∼도 3에 있어서는, 이해를 용이하게 하기 위해, 도전성 필름의 메시 형상 배선의 메시 패턴 중, 전극 배선 패턴을 태선으로, 더미 전극 패턴을 세선(細線)으로 나타내고 있지만, 이들은, 동일한 불투명한 금속 세선으로 형성되는 것이며, 굵기에 차이가 없는 것은 물론이다.
이들의 도면에 나타낸 바와 같이, 본 실시형태의 도전성 필름(10)은, 표시 장치의 표시 유닛 상에 설치되는 것이며, 표시 유닛의 블랙 매트릭스(BM : Black Matrix)에 대하여 모아레 발생 억제의 점에서 뛰어난 메시 패턴(배선 패턴), 특히, BM 패턴에 중첩했을 때에 BM 패턴에 대하여 모아레 시인성의 점에서 최적화된 메시 패턴을 가지는 메시 형상 배선이 형성된 도전성 필름이다. 이 도전성 필름(10)은, 투명 기체(12)와, 투명 기체(12)의 한쪽의 면(도 4 중 상측의 면)의 대략 전면(全面)에 형성되고 패터닝된 복수의 불투명한 금속제의 세선(이하, 금속 세선이라고 함)(14)으로 이루어지는 배선층(16)과, 배선층(16)의 금속 세선(14)의 대략 전면에, 금속 세선(14)을 피복하도록, 접착층(18)을 개재하여 접착된 보호층(20)을 갖는다.
투명 기체(12)는 절연성을 갖고, 또한 투광성이 높은 재료로 이루어지며, 예를 들면, 수지, 유리, 실리콘 등의 재료를 들 수 있다. 수지로서는, 예를 들면, PET(Polyethylene Terephthalate), PMMA(Polymethyl methacrylate), PP(polypropylene), PS(polystyrene) 등을 들 수 있다.
배선층(16)은, 복수의 금속 세선(14)으로 이루어지는 메시 형상 배선(22)을 구비하는 것이다. 금속 세선(14)은, 도전성이 높은 금속제의 세선이면 특히 제한적이지 않고, 예를 들면, 금(Au), 은(Ag) 또는 구리(Cu)의 선재 등으로 이루어지는 것을 들 수 있다. 금속 세선(14)의 선폭은, 시인성의 점에서는 ?은 편이 바람직하지만, 예를 들면, 30㎛ 이하이면 된다. 또, 터치 패널 용도로는, 금속 세선(14)의 선폭은 0.1㎛ 이상 15㎛ 이하가 바람직하고, 1㎛ 이상 9㎛ 이하가 보다 바람직하며, 2㎛ 이상 7㎛ 이하가 더 바람직하다.
메시 형상 배선(22)은, 상세하게는, 2방향의 복수의 금속 세선(14)을 교차하도록 배선한 배선 패턴, 즉, 복수의 금속 세선(14)을 메시 형상으로 배열한 메시 패턴(24)을 갖는다. 도시예에 있어서는, 메시 패턴(24)에 의해 형성되는 개구부(23)의 메시 형상은 마름모형이며, 다이아몬드 패턴이라고 부를 수 있지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 후술하는 소정의 BM 패턴에 대하여 모아레 시인성이 최적화된 메시 패턴(24)을 구성할 수 있으면, 적어도 3변을 갖는 다각 형상이면 어떠한 것이어도 되며, 또한, 동일 메시 형상이어도, 다른 메시 형상이어도 되며, 예를 들면, 정삼각형, 이등변 삼각형 등의 삼각형이나, 정방형, 장방형 등의 사각형이나, 오각형이나, 육각형 등의, 동일 또는 다른 다각형 등을 들 수 있다. 즉, 소정의 BM 패턴에 대하여 모아레 시인성이 최적화된 메시 패턴이면, 규칙성이 있는 개구부(23)의 배열에 의해 구성되는 메시 패턴이어도 되고, 다른 형상의 개구부(23)의 배열에 의해 랜덤화된 메시 패턴이어도 된다.
메시 형상 배선(22)은, 복수의 금속 세선(14)에 의해 연속하도록 메시 형상으로 형성된 전극 배선 패턴(24a)을 구비하는 전극부(22a)와, 복수의 금속 세선에 의해 마찬가지로 메시 형상으로 형성되고 복수의 단선부(26)를 가지며 비연속인 더미 전극(비전극) 배선 패턴(24b)을 구비하여 전극부(22a)와 절연되어 있는 더미 전극부(비전극부)(22b)를 갖는다. 여기에서, 전극부(22a)의 전극 배선 패턴(24a)과, 더미 전극부(22b)의 더미 전극 배선 패턴(24b)은, 도시예에서는, 동일한 메시 형상(마름모형)을 가지는 배선 패턴이며, 양자가 합성되어서 메시 형상 배선(22)의 메시 패턴(24)이 된다.
여기에서, 도시예의 전극부(22a)의 전극 배선 패턴(24a)은, X전극을 구성하는 전극 패턴이지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 정전 용량식 터치 센서(패널)에 사용되는 전극 패턴이면, 어느 것이어도 되며, 예를 들면, 스트라이프(stripe) 전극, 바앤드 스트라이프(bar-and-stripe) 전극, 다이아몬드(diamond) 전극, 스노우 플레이크(snowflake) 전극 등의 종래 공지의 전극 패턴이어도 된다.
전극부(22a)에 있어서 메시 형상으로 형성된 금속 세선(14)은, 단선부(26)를 가지지 않고, 연속하고 있는 것에 반하여, 더미 전극부(22b)에 있어서 메시 형상으로 형성된 금속 세선(14)에는, 복수의 단선부(절단부)(26)가 마련되어 있고, 복수의 단선이 부가되어 있다. 전극부(22a)에 있어서의 금속 세선(14)과 더미 전극부(22b)에 있어서의 금속 세선(14)과의 사이에는, 반드시 단선부(26)가 마련되어 있으며, 전극부(22a)의 금속 세선(14)과 더미 전극부(22b)의 금속 세선(14)은 단선되어 있어서, 불연속이다. 즉, 더미 전극부(22b)는, 전극부(22a)와 전기적으로 절연되어 있다.
이상으로부터, 메시 형상 배선(22)의 메시 패턴(24)은, 복수의 단선부(26)를 포함하는 메시 패턴이 된다. 또, 본 발명의 도전성 필름(10)의 메시 형상 배선(22)의 메시 패턴(24)에 필요한 구성에 대해서는, 후술한다.
접착층(18)의 재료로서, 웨트 라미네이트(wet laminate) 접착제, 드라이 라미네이트(dry laminate) 접착제, 또는 핫멜트(hot melt) 접착제 등을 들 수 있다.
보호층(20)은, 투명 기체(12)와 마찬가지로, 수지, 유리, 실리콘을 포함하는 투광성이 높은 재료로 이루어진다. 보호층(20)의 굴절률 n1은, 투명 기체(12)의 굴절률 n0과 같거나, 이것에 가까운 값인 것이 바람직하다. 이 경우, 보호층(20)에 대한 투명 기체(12)의 상대 굴절률 nr1은 1에 가까운 값이 된다.
여기에서, 본 명세서에 있어서의 굴절률은, 파장 589.3㎚(나트륨의 D선)의 광에 있어서의 굴절률을 의미하고, 예를 들면 수지로는, 국제 표준 규격인 ISO 14782 : 1999(JIS K 7105에 대응)로 정의된다. 또한, 보호층(20)에 대한 투명 기체(12)의 상대 굴절률 nr1은, nr1=(n1/n0)으로 정의된다. 여기에서, 상대 굴절률 nr1은, 0.86 이상 1.15 이하의 범위에 있으면 되며, 보다 바람직하게는, 0.91 이상 1.08 이하이다.
상대 굴절률 nr1의 범위를 이 범위로 한정하여, 투명 기체(12)와 보호층(20)과의 부재 사이의 광의 투과율을 제어함에 의해, 모아레의 시인성을 보다 향상시켜, 개선할 수 있다.
상술한 제1 실시형태의 도전성 필름(10)은, 투명 기체(12)의 한쪽의 면에만 배선층(16)을 갖는 것이지만, 본 발명은, 이것에 한정되지 않고, 투명 기체(12)의 양면에 배선부를 갖는 것이어도 된다.
도 5 및 도 6은, 각각 본 발명의 제2 실시형태에 따른 도전성 필름의 한쪽 측, 즉 하측의 제2 배선층의 일례를 모식적으로 나타낸 평면도, 및 부분 확대 평면 모식도로서, 그 메시 패턴의 복수의 단선부의 일례를 모식적으로 나타내며, 도 7은, 도 6에 나타낸 도전성 필름의 모식적 부분 단면도이다. 또, 도 5에 있어서는, 이해를 용이하게 하기 위해, 도전성 필름의 메시 형상 배선의 전극부를 사선 영역으로서, 더미 전극부를 일점 쇄선으로 둘러싼 영역으로서 나타내고 있다. 또한, 도 6에 있어서는, 이해를 용이하게 하기 위해, 도전성 필름의 메시 형상 배선의 메시 패턴 중, 전극 배선 패턴을 태선으로, 더미 전극 패턴을 세선으로 나타내고 있지만, 이들은, 동일한 불투명한 금속 세선으로 형성되는 것이며, 굵기에 차이가 없는 것은 물론이다.
또, 도 7에 나타낸 본 제2 실시형태의 도전성 필름의 다른 쪽 측, 즉 상측의 제1 배선층의 평면도는, 도 1∼도 3에 나타낸 본 제1 실시형태의 도전성 필름의 평면도와 같으므로 여기에서는 생략한다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 본 제2 실시형태의 도전성 필름(11)은, 투명 기체(12)의 한쪽(도 7의 상측)의 면에 형성된 제1 배선층(16a)과, 투명 기체(12)의 다른 쪽(도 7의 하측)의 면에 형성된 제2 배선층(16b)과, 제1 배선층(16a)의 대략 전면(全面)에 제1 접착층(18a)을 개재하여 접착된 제1 보호층(20a)과, 제2 배선층(16b)의 대략 전면에 제2 접착층(18b)을 개재하여 접착된 제2 보호층(20b)을 갖는다.
또, 상술한 바와 같이, 투명 기체(12)는 절연성 재료로 이루어지고, 제2 배선층(16b)은, 제1 배선층(16a)과 전기적으로 절연된 상태하에 있다. 또한, 제1, 제2 배선층(16a 및 16b)은, 각각 도 4에 나타낸 도전성 필름(10)의 배선층(16)과 같은 재료로 마찬가지로 형성할 수 있다.
본 실시형태의 도전성 필름(11)의 제1 배선층(16a)은, 여기에서는 도시하지 않지만, 도 1∼도 3에 나타낸 배선층(16)과 마찬가지로, 복수의 금속 세선(14)으로 이루어지고, 전극 배선 패턴(24a)을 구비하는 전극부(22a)와, 복수의 단선부(26)를 가지는 더미 전극 배선 패턴(24b)을 구비하는 더미 전극부(22b)를 갖고, 전극 배선 패턴(24a)과 더미 전극 배선 패턴(24b)과의 합성 패턴인 메시 패턴(24)을 가지는 메시 형상 배선(22)을 구비하는 것이다.
여기에서는, 도전성 필름(11)의 제1 배선층(16a)은, 도 1∼도 4에 나타낸 도전성 필름(10)의 배선층(16)과 동일한 구성을 가지므로, 그 상세한 설명은 생략한다.
도전성 필름(11)에 있어서는, 제2 배선층(16b)은, 복수의 불투명한 금속 세선(14)으로 이루어지며, 투명 기체(12)의 다른 쪽(도 7의 하측)의 면에 형성되어 있다.
도 5 및 도 6에 나타낸 바와 같이, 제2 배선층(16b)은, 복수의 금속 세선(14)으로 이루어지는 메시 형상 배선(28)을 구비하는 것이다.
메시 형상 배선(28)은, 도 1∼도 3에 나타낸 메시 형상 배선(22)과 마찬가지로, 상세하게는, 2방향의 복수의 금속 세선(14)을 교차하도록 배선한 배선 패턴, 즉, 복수의 금속 세선(14)을 메시 형상으로 배열한 메시 패턴(30)을 갖는다. 도시예에 있어서는, 메시 패턴(30)에 의해 형성되는 개구부(29)의 메시 형상은 마름모형이며, 다이아몬드 패턴이라고 부를 수 있다. 또, 메시 형상 배선(28)의 메시 패턴(30)의 개구부(29)는, 도 1∼도 3에 나타낸 메시 형상 배선(22)의 메시 패턴(24)의 개구부(23)와 같은 메시 형상을 갖는 것이므로, 그 상세한 설명은 생략한다.
메시 형상 배선(28)은, 복수의 금속 세선(14)에 의해 연속하도록 메시 형상으로 형성된 전극 배선 패턴(30a)을 구비하는 전극부(28a)와, 복수의 금속 세선에 의해 마찬가지로 메시 형상으로 형성되고 복수의 단선부(26)를 가지며 비연속인 더미 전극 배선 패턴(30b)을 구비하여 전극부(28a)와 절연되어 있는 더미 전극부(28b)를 갖는다. 여기에서, 전극부(28a)의 전극 배선 패턴(30a)과, 더미 전극부(28b)의 더미 전극 배선 패턴(30b)은, 도시예에서는, 동일한 메시 형상(마름모형)을 가지는 배선 패턴이며, 양자가 합성되어서 메시 형상 배선(28)의 메시 패턴(30)이 된다.
여기에서, 도시예의 더미 전극부(28b)의 더미 전극 배선 패턴(30b)은, 라인 형상이며, 전극부(22a)의 전극 배선 패턴(24a)은, 스트라이프 전극을 구성하는 전극 패턴이지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 정전 용량식 터치 센서(패널)에 사용되는 전극 패턴이면, 어느 것이어도 되며, 예를 들면, X전극, 바앤드 스트라이프 전극, 다이아몬드 전극, 스노우 플레이크 전극 등의 종래 공지의 전극 패턴이어도 된다.
전극부(28a)에 있어서 메시 형상으로 형성된 금속 세선(14)은, 단선부(26)를 가지지 않고, 연속하고 있는 것에 반하여, 더미 전극부(28b)에 있어서 메시 형상으로 형성된 금속 세선(14)에는, 복수의 단선부(절단부)(26)가 마련되어 있고, 복수의 단선이 부가되어 있다. 전극부(28a)에 있어서의 금속 세선(14)과 더미 전극부(28b)에 있어서의 금속 세선(14)과의 사이에는, 반드시 단선부(26)가 마련되어 있고, 전극부(28a)의 금속 세선(14)과 더미 전극부(28b)의 금속 세선(14)은 단선되어 있으며, 불연속이다. 즉, 더미 전극부(28b)는, 전극부(28a)와 전기적으로 절연되어 있다.
이상으로부터, 메시 형상 배선(28)의 메시 패턴(30)은, 복수의 단선부(26)를 포함하는 메시 패턴이 된다. 또, 본 발명의 도전성 필름(11)의 메시 형상 배선(28)의 메시 패턴(30)에 필요한 구성에 대해서는, 후술한다.
제1 보호층(20a)은, 제1 배선층(16a)의 금속 세선(14)을 피복하도록, 제1 접착층(18a)에 의해 제1 배선층(16a)의 대략 전면(全面)에 접착되어 있다.
또한, 제2 보호층(20b)은, 제2 배선층(16b)의 금속 세선(14)을 피복하도록, 제2 접착층(18b)에 의해 제2 배선층(16b)의 대략 전면에 접착되어 있다.
여기에서, 제1 접착층(18a) 및 제2 접착층(18b)은, 각각 도 4에 나타낸 도전성 필름(10)의 접착층(18)과 같은 재료로 마찬가지로 형성할 수 있지만, 제1 접착층(18a)의 재질과 제2 접착층(18b)의 재질은, 동일해도 되고, 달라도 된다.
또한, 제1 보호층(20a) 및 제2 보호층(20b)은, 각각 도 4에 나타낸 도전성 필름(10)의 보호층(20)과 같은 재료로 마찬가지로 형성할 수 있지만, 제1 보호층(20a)의 재질과 제2 보호층(20b)의 재질은, 동일해도 되고, 달라도 된다.
제1 보호층(20a)의 굴절률 n2 및 제2 보호층(20b)의 굴절률 n3은, 어느 것이나, 상기 제1 실시형태의 도전 필름(10)의 보호층(20)과 마찬가지로, 투명 기체(12)의 굴절률 n0과 같거나, 이것에 가까운 값이다. 이 경우, 제1 보호층(20a)에 대한 투명 기체(12)의 상대 굴절률 nr2 및 제2 보호층(20b)에 대한 투명 기체(12)의 상대 굴절률 nr3은, 모두 1에 가까운 값이다. 여기에서, 굴절률 및 상대 굴절률의 정의는, 상기 제1 실시형태에 있어서의 정의와 같다. 따라서, 제1 보호층(20a)에 대한 투명 기체(12)의 상대 굴절률 nr2는, nr2=(n2/n0)으로 정의되고, 제1 보호층(20b)에 대한 투명 기체(12)의 상대 굴절률 nr3은, nr2=(n3/n0)으로 정의된다.
여기에서, 상대 굴절률 nr2 및 상대 굴절률 nr3은, 상술한 상대 굴절률 nr1과 마찬가지로, 0.86 이상 1.15 이하의 범위에 있으면 되며, 보다 바람직하게는, 0.91 이상 1.08 이하이다.
또, 상대 굴절률 nr2, 및 상대 굴절률 nr3의 범위를 이 범위로 한정함에 의해, 상대 굴절률 nr1의 범위의 한정과 마찬가지로, 모아레의 시인성을 보다 향상시킬 수 있다.
상술한 본 발명의 제1 실시형태의 도전성 필름(10) 및 제2 실시형태의 도전성 필름(11)은, 예를 들면 도 8에 일부를 모식적으로 나타낸 표시 유닛(표시부)(31)의 터치 패널에 적용되지만, 표시 유닛(31)의 화소 배열 패턴, 즉 블랙 매트릭스(이하, BM이라고도 함) 패턴에 대하여 모아레 시인성의 점에서 최적화된 메시 패턴(24, 30)을 가지는 것이다.
여기에서, 본 발명에서는, BM(화소 배열) 패턴에 대하여 모아레 시인성의 점에서 최적화된 메시 패턴이란, 소정의 BM 패턴에 대하여 모아레가 인간의 시각에 지각되지 않는 1 또는 2 이상의 1군의 메시 패턴을 말한다. 또, 본 발명에서는, 최적화된 2 이상의 1군의 메시 패턴에 있어서도, 가장 지각되지 않는 메시 패턴으로부터 지각되기 어려운 메시 패턴까지 서열을 부여할 수 있고, 가장 모아레가 지각되지 않는 1개의 메시 패턴을 결정할 수도 있다.
여기에서, 본 발명에서는, 적어도 정면 관찰 시의, 메시 패턴의 공간 주파수 특성과, 표시 유닛의 BM 패턴의 공간 주파수 특성과의 합성곱으로 나타내는 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가, 상용 대수로 -3.6(진수로 10-3.6) 이하가 되는 것이 필요하다. 여기에서는, 도전성 필름의 메시 패턴은, 복수의 단선부를 포함하는 메시 패턴인 경우를 대표예로서 설명하고 있지만, 도 17의 (A) 및 (B)에 나타낸 바와 같이, 복수의 단선부를 포함하는 메시 패턴 쪽이 단선부를 포함하지 않는 메시 패턴에 비하여 모아레가 시인되기 쉬우므로, 본 발명은, 단선부를 포함하지 않는 메시 패턴에 적용 가능한 것은 물론이다. 즉, 본 발명은, 단선부의 유무에 상관없이, 메시 패턴과 표시 유닛의 BM 패턴과의 양 공간 주파수 특성의 합성곱으로 나타내지는 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가, 상용 대수로 -3.6(진수로 10-3.6) 이하가 되는 메시 패턴에 적용할 수 있다.
또, 본 발명에 있어서, 대상으로 하는 모아레의 주파수가 3사이클/㎜ 이하인 것이 바람직하다. 그 이유는, 관능 평가상, 문제가 되는 모아레의 주파수는, 3사이클/㎜ 이내인 것을 경험적으로 알고 있기 때문이다.
한편, 본 발명은, 단선부를 포함하지 않는 메시 패턴이 표시 유닛의 BM 패턴과 중첩되어도 모아레가 시인되지 않도록 모아레의 시인성이 적정화되어 있는 경우에, 이 메시 패턴에 복수의 단선부를 부가하는 경우에는, 단선부의 위치, 길이, 배치(수) 등의 적어도 1개가 규칙성이 없는 랜덤성을 가지도록 함으로써, 즉, 복수의 단선부를 랜덤으로 배치함으로써, 복수의 단선부를 포함하는 메시 패턴으로 하고, BM 패턴에 중첩해도, 모아레의 시인성을 향상시킬 수 있다.
또, 복수의 단선부를 포함하는 메시 패턴을 가지는 도전성 필름에 있어서, 복수의 단선부가 접속된(단선부를 포함하지 않음) 경우의 메시 패턴의 모아레의 시인성이 적정화되어 있을 때, 메시 패턴 내의 더미 전극 배선 패턴은, 복수의 단선부가 랜덤으로 배치된 랜덤 배선 패턴으로 함에 의해, 모아레의 시인성을 향상시킬 수 있다.
여기에서, 모아레의 시인성이 적정화되어 있는 단선부를 포함하지 않는 메시 패턴으로서는, 본 출원인의 출원에 따른 일본국 특원2012-82711호 명세서에 기재된 도전성 필름의 메시 패턴을 사용할 수 있다. 이것에 개시된 메시 패턴은, 그 투과율 화상 데이터의 2차원 푸리에 스펙트럼의 복수의 스펙트럼 피크의 피크 주파수 및 피크 강도와, 화소 배열 패턴의 투과율 화상 데이터의 2차원 푸리에 스펙트럼의 복수의 스펙트럼 피크의 피크 주파수 및 피크 강도로부터 각각 산출되는 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도에 인간의 시각 응답 특성을 작용시켜서 얻어진 모아레의 주파수 및 강도에 대하여, 모아레의 주파수가 시각 응답 특성에 따라 정해지는 소정의 주파수 범위에 속하는 모아레의 스펙트럼 강도의 합이 소정값 이하인 배선 패턴이다.
또, 모아레의 시인성이 적정화되어 있는 단선부를 포함하지 않는 메시 패턴으로서는, 상기 명세서에 기재된 것에 한정되지 않고, 종래 공지의, 모아레의 시인성이 적정화되어 있는 단선부를 포함하지 않는 메시 패턴이어도 되며, 본 출원인의 출원에 따른 일본국 특원2011-221432호, 일본국 특원2011-221434호, 일본국 특원2012-82706호 및 일본국 특원2012-166946호 등에 기재된 메시 패턴을 적용하면 된다.
따라서, 본 발명의 도전성 필름(10 및 11)에 있어서, 표시 유닛(31)의 화소 배열 패턴, 즉 블랙 매트릭스(이하, BM이라고도 함) 패턴에 대하여 모아레 시인성의 점에서 최적화된 메시 패턴(24 및 30), 및 양자의 합성 메시 패턴은, 상기 조건중의 적어도 한쪽을 만족한다.
또, 소정의 BM 패턴에 대한 메시 패턴의 모아레 시인성의 최적화의 상세에 대해서는, 후술한다.
본 발명의 도전성 필름은, 기본적으로 이상과 같이 구성된다.
도 8은, 본 발명의 도전성 필름이 적용되는 표시 유닛의 일부의 화소 배열 패턴의 일례를 모식적으로 나타낸 개략 설명도이다.
도 8에 그 일부를 나타낸 바와 같이, 표시 유닛(31)에는, 복수의 화소(32)가 매트릭스 형상으로 배열되어서 소정의 화소 배열 패턴이 구성되어 있다. 1개의 화소(32)는, 3개의 부화소(적색 부화소(32r), 녹색 부화소(32g) 및 청색 부화소(32b))가 수평 방향으로 배열되어서 구성되어 있다. 1개의 부화소는 수직 방향으로 세로로 긴 장방 형상으로 되어 있다. 화소(32)의 수평 방향의 배열 피치(수평 화소 피치 Ph)와 화소(32)의 수직 방향의 배열 피치(수직 화소 피치 Pv)는 대략 동일하게 되어 있다. 즉, 1개의 화소(32)와 이 1개의 화소(32)를 둘러싸는 블랙 매트릭스(BM)(34)(패턴재)로 구성되는 형상(망점으로 나타낸 영역(36)을 참조)은 정방형으로 되어 있다. 또한, 1개의 화소(32)의 어스펙트비는 1이 아니며, 수평 방향(횡)의 길이>수직 방향(종)의 길이로 되어 있다.
도 8에서 밝혀진 바와 같이, 복수의 화소(32)의 각각의 부화소(32r, 32g 및 32b)에 의해 구성되는 화소 배열 패턴은, 이들의 부화소(32r, 32g 및 32b)를 각각 둘러싸는 BM(34)의 BM 패턴(38)에 의해 규정되고, 표시 유닛(31)과 도전성 필름(10 또는 11)을 중첩했을 때에 발생하는 모아레는, 표시 유닛(31)의 BM(34)의 BM 패턴(38)과 도전성 필름(10 또는 11)의 메시 패턴(24, 30)의 간섭에 의해 발생하므로, 엄밀히는, BM 패턴(38)은, 화소 배열 패턴의 반전 패턴이지만, 여기에서는, 같은 패턴을 나타내는 것으로서 취급한다.
상기한 BM(34)에 의해 구성되는 BM 패턴(38)을 갖는 표시 유닛(31)의 표시 패널 상에, 예를 들면, 도전성 필름(10 또는 11)을 배치하는 경우, 도전성 필름(11)의 메시 패턴(24)은, BM(화소 배열) 패턴(38)에 대하여 모아레 시인성의 점에서 최적화되어 있으므로, 화소(32)의 배열 주기와, 도전성 필름(10 또는 11)의 금속 세선(14)의 배선 배열과의 사이에 있어서의 공간 주파수의 간섭이 거의 없고, 모아레의 발생이 억제되게 된다.
또, 도 8에 나타낸 표시 유닛(31)은, 액정 패널, 플라스마 패널, 유기 EL 패널, 무기 EL 패널 등의 표시 패널로 구성되어도 된다.
다음으로, 본 발명의 도전성 필름을 조립한 표시 장치에 대해서, 도 9를 참조하면서 설명한다. 도 9에서는, 표시 장치(40)로서, 본 발명의 제2 실시형태에 따른 도전성 필름(11)을 조립한 투영형 정전 용량 방식의 터치 패널을 대표예로 들어서 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는 것은 말할 필요도 없다.
도 9에 나타낸 바와 같이, 표시 장치(40)는, 컬러 화상 및/또는 흑백 화상을 표시 가능한 표시 유닛(31)(도 8 참조)과, 입력면(42)(화살표 Z1 방향 측)으로부터의 접촉 위치를 검출하는 터치 패널(44)과, 표시 유닛(31) 및 터치 패널(44)을 수용하는 케이싱(46)을 갖는다. 케이싱(46)의 일면(화살표 Z1 방향 측)에 마련된 큰 개구부를 통하여, 유저는, 터치 패널(44)에 액세스 가능하다.
터치 패널(44)은, 상기한 도전성 필름(11)(도 5, 도 6 및 도 7 참조) 외에, 도전성 필름(11)의 일면(화살표 Z1 방향 측)에 적층된 커버 부재(48)와, 케이블(50)을 통하여 도전성 필름(11)에 전기적으로 접속된 플렉시블 기판(52)과, 플렉시블 기판(52) 상에 배치된 검출 제어부(54)를 구비한다.
표시 유닛(31)의 일면(화살표 Z1 방향 측)에는, 접착층(56)을 개재하여, 도전성 필름(11)이 접착되어 있다. 도전성 필름(11)은, 다른 쪽의 주면 측(제2 배선층(16b) 측)을 표시 유닛(31)에 대향시켜서, 표시 화면 상에 배치되어 있다.
커버 부재(48)는, 도전성 필름(11)의 일면을 피복함으로써, 입력면(42)으로서의 기능을 발휘한다. 또한, 접촉체(58)(예를 들면, 손가락이나 스타일러스 펜)에 의한 직접적인 접촉을 방지함으로써, 촬상(scratch)의 발생이나, 진애(dust)의 부착 등을 억제 가능하며, 도전성 필름(11)의 도전성을 안정시킬 수 있다.
커버 부재(48)의 재질은, 예를 들면, 유리, 수지 필름이어도 된다. 커버 부재(48)의 일면(화살표 Z2 방향 측)을 산화규소 등으로 코팅한 상태에서, 도전성 필름(11)의 일면(화살표 Z1 방향 측)에 밀착시켜도 된다. 또한, 스침(rubbing) 등에 의한 손상을 방지하기 위해서, 도전성 필름(11) 및 커버 부재(48)를 부착하여 구성해도 된다.
플렉시블 기판(52)은, 가요성을 구비하는 전자 기판이다. 본 도시예에서는, 케이싱(46)의 측면 내벽에 고정되어 있지만, 배설 위치는 각종 변경해도 된다. 검출 제어부(54)는, 도체인 접촉체(58)를 입력면(42)에 접촉할(또는 근접) 때, 접촉체(58)와 도전성 필름(11)과의 사이에서의 정전 용량의 변화를 파악하여, 그 접촉 위치(또는 근접 위치)를 검출하는 전자 회로를 구성한다.
본 발명의 도전성 필름이 적용되는 표시 장치는, 기본적으로 이상과 같이 구성된다.
다음으로, 본 발명에 있어서, 표시 장치의 소정의 BM 패턴에 대한 도전성 필름의 메시 패턴의 모아레 시인성의 평가 및 최적화의 수순에 대해서 설명한다. 즉, 본 발명의 도전성 필름에 있어서, 표시 장치의 소정의 BM 패턴에 대하여 모아레가 인간의 시각에 지각되지 않도록 최적화된 메시 패턴을 결정하는 수순에 대해서 설명한다.
도 10은, 본 발명의 도전성 필름의 메시 패턴의 결정 방법의 일례를 나타낸 플로우 차트이다.
본 발명의 도전성 필름의 메시 패턴의 결정 방법은, 표시 장치의 표시 유닛의 BM(화소 배열) 패턴과 도전성 필름의 메시 패턴과의 고속 푸리에 변환(FFT)을 사용한 주파수 해석에 의해 얻어지는 피크 주파수 및 피크 강도로부터 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도를 산출하고, 산출한 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도를, 경험적으로 결정된, 모아레가 시인되지 않는 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도의 조건과 비교하여, 이들 조건을 만족시키는 메시 패턴을, 모아레가 시인되지 않도록 최적화된 메시 패턴으로서 결정하는 것이다. 이러한 본 발명법에서는, 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도에 대해서는 일반적으로 FFT가 이용되지만, 이용 방법에 따라서는, 대상물의 주파수 및 스펙트럼 강도가 크게 변화하므로, 이하의 수순을 규정하고 있다.
본 발명법에 있어서는, 우선, 수순 1로서, BM 패턴 및 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터(이하, 투과율 화상 데이터라고도 함)의 제작을 행한다. 즉, 도 10에 나타낸 바와 같이, 스텝 S10에 있어서, 도 9에 나타낸 표시 장치(40)의 표시 유닛(31)의 BM 패턴(38)(BM(34))(도 8 참조)의 투과율 주기 화상 데이터와, 도전성 필름(60)의 단선부(26)를 포함하는 메시 패턴(62)(금속 세선(14))(도 11의 (B) 참조)의 투과율 주기 화상 데이터를 제작하여, 취득한다. 또, 미리, BM 패턴(38)의 투과율 화상 데이터와, 복수의 단선부(26)를 포함하는 메시 패턴(62)의 투과율 화상 데이터가 준비, 혹은 축적되어 있는 경우에는, 준비, 혹은 축적된 중에서 취득하도록 해도 된다.
표시 유닛(31)의 BM 패턴(38)은, 예를 들면, 도 11의 (A) 및 그 부분 확대도인 도 11의 (C)에 나타낸 바와 같이, 1화소(32)당, RGB의 3색의 부화소(32r, 32g 및 32b)로 이루어지는 패턴으로 할 수 있지만, 단색을 이용할 때, 예를 들면, G채널의 부화소(32g)만 이용할 때에는, R 및 B채널의 투과율 화상 데이터는 0으로 하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서, BM(34)의 화상 데이터, 즉 BM 패턴(38)의 투과율 화상 데이터로서는, 도 11의 (A)에 나타낸 바와 같이, BM(34)의 장방형의 개구(부화소(32r, 32g 및 32b))를 가지는 것에 한정되지 않고, 사용 가능한 BM 패턴이면 BM(34)의 장방형의 개구를 가지지 않는 것이어도 되며, 임의의 BM 개구를 가지는 BM 패턴을 지정해서 사용해도 된다. 예를 들면, 단순한 사각 형상인 것에 한정되지 않고, 복잡한 모양으로 굴곡한 것이나 갈고리 형상인 것이어도 된다. 또, BM 패턴(38)의 투과율 화상 데이터는, 예를 들면, 12700dpi 정도의 해상도이며, 개구부를 1.0으로 하고, 그 외의 부분을 0.0으로 한 2치화 데이터로 했다.
한편, 도전성 필름(60)의 메시 패턴(62)은, 예를 들면, 도 11의 (B)에 나타낸 바와 같이, 배선이 되는 금속 세선(14)이 45°[deg] 경사진 정방 격자로 할 수 있으며, 복수의 금속 세선(14)이 복수의 단선부(26)에 의해 단선된 배선 패턴이다. 이 메시 패턴(62)의 투과율 화상 데이터는, 단선부(브레이크)(26)를 포함시켜서 주기가 되는 화상 데이터로서 제작된다. 또, 메시 패턴(62)의 투과율 화상 데이터는, 예를 들면, 12700dpi 정도의 해상도이며, 메시 형상 내의 개구부(23, 29) 내를 0.0으로 하고, 배선이 되는 금속 세선(14)의 부분을 1.0으로 한 2값화 데이터로 했다.
또, 여기에서는, 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 투과율 화상 데이터의 사이즈를 규정하고, 예를 들면, 5020(화소)×2423(화소)으로 했다. 또한, 후술하는 수순 2의 FFT 처리 시의 주기의 아티팩트를 막거나, 혹은 저감하기 위해서, 연속성이 유지되도록 반복 주기로 절출(切出)하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 화상 사이즈는, 4화상 만큼의 영역 내의 화상으로 하는 것이 바람직하다.
다음으로, 수순 2로서, 수순 1에서 제작한 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 투과율 화상 데이터에 대하여, 2차원 고속 푸리에 변환(2DFFT(기저2))을 행하여서, 소정 강도의 스펙트럼(피크)을 추출한다.
즉, 도 10에 나타낸 바와 같이, 스텝 S12에 있어서, 스텝 S10에서 제작한 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 각 투과율 화상 데이터에 대하여 2DFFT 처리를 행하여, 적어도 정면 관찰 시의, 단선부(브레이크)(26)를 포함시킨 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 각 공간 주파수 특성(2차원 푸리에 스펙트럼)을 취득한다. 이때, 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 각 투과율 화상 데이터의 2차원 푸리에 스펙트럼은, 복소수(위상 정보 포함)로 나타나지만, 스펙트럼(복소수)을 화상 사이즈(종×횡(pix2))로 나눗셈하여 규격화한다. 화상 사이즈(pix2)로 규격화된 스펙트럼은, 예를 들면, 스펙트럼(복소수)/화상 사이즈(5020×2433pix2)로 주어진다.
다음으로, 수순 3으로서, 수순 2에서 취득한 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 공간 주파수 특성으로부터, 양자의 합성곱으로 나타내지는 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도의 산출을 행한다.
즉, 도 10에 나타낸 바와 같이, 스텝 S14에 있어서, 스텝 S12에서 취득한 메시 패턴(62)의 공간 주파수 특성과 BM 패턴(38)의 공간 주파수 특성으로부터, 양 공간 주파수 특성의 합성곱(적분)으로 나타내지는 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도를 산출한다.
또, 이 스텝 S14의 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도의 산출은, 이하의 스텝 S16 및 S18에 의해 행할 수 있다.
여기에서는, 2차원 푸리에 스펙트럼의 스펙트럼 강도는, 복소수의 절대값, 사람의 시각에 맞추기 위해서, 상용 대수로 정의한다.
도 10에 나타낸 바와 같이, 스텝 S16에 있어서, 스텝 S12에서 취득한 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 각 공간 주파수 특성으로부터, 각 패턴(62 및 38)의 스펙트럼 중, 상용 대수에 의한 정의로 정의된 스펙트럼 강도(Log10(스펙트럼의 절대값))가, -4.5 이상인 스펙트럼(피크)의 공간 주파수를 모두 추출한다. 즉, 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 2차원 푸리에 스펙트럼의 복수의 스펙트럼 피크 중, 그 피크 강도가 상용 대수로 -4.5 이상이 되는 스펙트럼 피크를 모두 추출하고, 추출된 모든 스펙트럼 피크의 피크 주파수 및 피크 강도를 산출한다.
이 시점에서 얻어진 정보는, 스펙트럼의 피크값의 공간 주파수 fx, fy, 복소수(a+bi) 정보이다. 또, 여기에서는, 피크 강도는, 절대값으로서 취급한다.
여기에서, 도 12의 (A) 및 (B)는, 각각 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 각 투과율 화상 데이터의 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도 특성을 나타낸 도면이다.
또, 도 12의 (A) 및 (B)에 있어서, 흰 부분은 강도가 높은 스펙트럼 피크를 나타내고 있으므로, 도 12의 (A) 및 (B)에 나타낸 결과로부터, 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 각각에 대해서, 각 스펙트럼 피크의 피크 주파수 및 피크 강도를 산출한다. 즉, 도 12의 (A) 및 (B)에 각각 나타낸 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도 특성에 있어서의 스펙트럼 피크의 주파수 좌표 상의 위치, 즉 피크 위치가 피크 주파수를 나타내고, 그 피크 위치에 있어서의 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도가 피크 강도가 된다.
여기에서는, 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 각 스펙트럼 피크의 피크의 주파수 및 강도는, 이하와 같이 하여 산출하여 취득한다.
우선, 피크 주파수의 취득에 있어서, 피크의 산출에는, 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 기본 주파수로부터 주파수 피크를 구한다. 이것은, 2DFFT 처리를 행하는 투과율 화상 데이터는 이산값이므로, 피크 주파수가, 화상 사이즈의 역수에 의존하게 되기 때문이다. 주파수 피크 위치는, 도 13에 나타낸 바와 같이, 독립한 2차원 기본 주파수 벡터 성분 a바 및 b바를 바탕으로 조합시켜서 나타낼 수 있다. 따라서, 당연히, 얻어지는 피크 위치는 격자 형상이 된다. 또, 도 13은, BM 패턴(38)의 경우의 주파수 피크 위치를 나타낸 그래프이지만, 메시 패턴(62)도, 마찬가지로 하여 구할 수 있다.
한편, 피크 강도의 취득에 있어서는, 상기의 피크 주파수의 취득에 있어서 피크 위치가 구해지므로, 피크 위치가 가지는 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도(절대값)를 취득한다. 그때, 디지털 데이터를 FFT 처리하고 있으므로, 피크 위치가 복수의 화소(픽셀)에 걸치는 경우가 있다. 예를 들면, 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도(Sp) 특성이, 도 14의 (A)에 나타낸 곡선(아날로그값)으로 표시될 때, 디지털 처리된 동일한 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도 특성은, 도 14의 (B)에 나타낸 막대 그래프(디지털값)로 나타나지만, 도 14의 (A)에 나타내는 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도의 피크(P)는, 대응하는 도 14의 (B)에서는, 2개의 화소에 걸쳐지게 된다. 따라서, 피크 위치에 존재하는 강도를 취득할 때에는, 피크 위치 주변의 복수의 화소를 포함하는 영역 내의 복수의 화소의 스펙트럼 강도가 상위로부터 복수점, 예를 들면, 5×5 화소의 영역 내의 화소의 스펙트럼 강도가 상위로부터 5점인 합을 피크 강도(절대값)로 하는 것이 바람직하다.
여기에서, 얻어진 피크 강도는, 화상 사이즈로 규격화하는 것이 바람직하다. 상술한 예에서는, 상술한 바와 같이, 화상 사이즈(5020×2433pix2)로 규격화해 두는 것이 바람직하다(파스발의 정리).
다음으로, 도 10에 나타낸 바와 같이, 스텝 S18에 있어서, 스텝 S16에서 산출한 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 양 2차원 푸리에 스펙트럼의 피크 주파수 및 피크 강도로부터 각각 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도를 산출한다. 또, 여기에서도, 피크 강도 및 모아레의 스펙트럼 강도는, 절대값으로서 취급한다.
실공간에 있어서는, 모아레는, 본래, 메시 패턴(62)과 BM 패턴(38)과의 투과율 주기 화상 데이터의 곱셈에 의해 일어나기 때문에, 공간 주파수 공간에 있어서는, 양자의 합성곱 적분(콘볼루션)을 행하게 된다. 그러나, 스텝 S16에서 있어서, 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 양 2차원 푸리에 스펙트럼의 피크 주파수 및 피크 강도가 산출되어 있으므로, 양자의 각각의 주파수 피크끼리의 차분(차의 절대값)을 구하고, 구한 차분을 모아레의 주파수로 하여, 양자를 조합시킨 2세트의 벡터 강도의 곱을 구하고, 구한 곱을 모아레의 스펙트럼 강도(절대값)로 할 수 있다.
이와 같이 하여 구한 모아레의 주파수 및 모아레의 스펙트럼 강도는, 스텝 S12에서 취득한 메시 패턴(62)과 BM 패턴(38)의 각 공간 주파수 특성과의 합성곱 적분의 결과라고 말할 수 있다.
여기에서, 도 12의 (A) 및 (B)에 각각 나타낸 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 양자의 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도 특성의 각각의 주파수 피크끼리의 차분은, 양자의 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도 특성을 중첩하여 얻어지는 강도 특성에 있어서, 양자의 각각의 주파수 피크의 주파수 좌표 상의 피크 위치 사이의 상대 거리에 상당한다.
또, 메시 패턴(62) 및 BM 패턴(38)의 양 2차원 푸리에 스펙트럼의 스펙트럼 피크는, 각각 복수 존재하므로, 그 상대 거리의 값인 주파수 피크끼리의 차분, 즉 모아레의 주파수도 복수 구하게 된다. 따라서, 양 2차원 푸리에 스펙트럼의 스펙트럼 피크가 다수 존재하면, 구하는 모아레의 주파수도 다수가 되어, 계산 처리에 시간이 걸리게 된다. 이러한 경우에는, 미리 양 2차원 푸리에 스펙트럼의 스펙트럼 피크에 있어서, 각각 피크 강도가 강한 것만을 선정해 두어도 된다. 그 경우에는, 선정된 피크끼리의 차분만을 구하게 되므로, 계산 시간을 단축할 수 있다.
이와 같이 하여 구한 모아레의 주파수 및 모아레의 스펙트럼 강도를, 도 15에 나타낸다. 도 15는, 도 11의 (A)에 나타낸 화소 배열 패턴과 도 11의 (B)에 나타낸 메시 패턴과의 간섭에 의해 발생하는 모아레의 주파수 및 모아레의 스펙트럼 강도를 모식적으로 나타낸 개략 설명도이며, 도 12의 (A) 및 (B)에 나타낸 2차원 푸리에 스펙트럼의 강도 특성의 합성곱 적분의 결과라고 말할 수도 있다.
도 15에 있어서는, 모아레의 주파수는, 종횡축의 위치에 의해 표시되고, 모아레의 스펙트럼 강도는, 그레이(무채색) 농담으로 표시되며, 색이 짙을수록 작고, 색이 엷을수록, 즉 하얄수록 커지는 것을 나타내고 있다.
다음으로, 수순 4로서, 모아레의 시인성의 판정을 행한다.
즉, 도 10에 나타낸 바와 같이, 스텝 S20에 있어서, 스텝 S18(S14)에서 산출된 모아레의 주파수 중의 최저 주파수를 구하고, 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도를 구한다. 여기에서, 고려하는 모아레의 주파수는, 3cycle/㎜ 이내의 데이터뿐이다. 즉, 스텝 S18(S14)에서 산출된 모아레의 주파수 중, 3cycle/㎜ 이내의 모아레의 주파수를 사용하여 서열을 부여하여, 최저가 되는 모아레의 주파수를 구하고, 그 스펙트럼 강도를 구한다.
또, 모아레의 시인성의 판정 등에 있어서는, 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도에, 인간의 표준 시각 응답 특성을 나타내는, 둘리·쇼(Dooley Shaw) 함수 등을 기초로 하는 시각 전달 함수(VTF; Visual Transfer Function)를 합성곱하는 것이 행해지고 있지만, 본 발명에서는, VTF를 사용하지 않는다. 그 이유는, VTF가 관찰 거리에 의존하는 함수이기 때문이며, 본 발명의 도전성 필름이 적용되는 터치 패널 등을 포함하는 표시 장치에서는, 관찰 거리를 고정하는 것은 실제의 관찰 시에는 행해지지 않기 때문이다.
다음으로, 도 10에 나타낸 바와 같이, 스텝 S22에서 있어서, 스텝 S20에서 구한 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도를 -3.6과 비교하여, 모아레의 스펙트럼 강도가, -3.6 이상인지의 여부를 판정한다.
또, 다수의 메시 패턴(62)에 대해서, 후술하는 실시예의 더미 전극부(22b)의 복수의 단선부(26)를 가지는 더미 전극 배선 패턴(24b)의 다른 복수의 샘플로 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도를 구하고, 3명의 연구원이 메시 패턴(62)과 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도를 평가한 바, 후술하는 표 1에 나타낸 바와 같이, 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가 상용 대수로 -3.8 이하(진수로 10-3.8 이하)에서는, 관능 평가에서도 모아레는 시인되지 않고 A이며, 그 스펙트럼 강도가 상용 대수로 -3.8 초과 -3.6 이하(진수로 10-3.8 초과 10-3.6 이하)에서는, 관능 평가에서 모아레는 약간 시인되지만 신경 쓰이지 않는 정도여서 B이지만, 그 스펙트럼 강도가, 상용 대수로 -3.6 초과(진수로 10-3.6 초과)에서는, 관능 평가에서 모아레가 시인되어서 C(사용 불가)였다.
따라서, 본 발명에서는, 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도를, 상용 대수로 -3.6 이하(진수로 10-3.6 이하)로 한정한다.
그 결과, 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가, 상용 대수로 -3.6 초과(진수로 10-3.6 초과)인 경우에는, 스텝 S24로 이동하여, 메시 패턴(62)의 투과율 화상 데이터를 새로운 메시 패턴의 투과율 화상 데이터로 갱신하여서, 스텝 S12로 돌아간다.
여기에서, 갱신되는 새로운 메시 패턴은, 미리 준비된 것이어도 되고, 새롭게 제작된 것이어도 된다. 또, 새롭게 제작되는 경우에는, 메시 패턴의 투과율 화상 데이터, 상세하게는, 더미 전극 배선 패턴(24b)의 복수의 단선부(브레이크)(26)의 위치, 피치, 폭 중 어느 1개 이상을 변화시켜도 되며, 메시 패턴 자체의 형상이나 사이즈를 변경하도록 해도 된다. 또한, 이들에 랜덤성을 갖게 해도 된다.
이후, 스텝 S12의 공간 주파수 특성의 취득, 스텝 S14(S18)의 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도의 산출, 및 스텝 S20의 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도의 산출, 스텝 S22의 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도와 상용 대수로 -3.6(진수로 10-3.6)과의 비교, 및 스텝 S24의 메시 패턴의 투과율 화상 데이터의 갱신의 각 스텝을 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가 상용 대수로 -3.6(진수로 10-3.6) 이하가 될 때까지 반복한다.
한편, 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가 상용 대수로 -3.6(진수로 10-3.6) 이하인 경우에는, 스텝 S26로 이동하여, 메시 패턴(62)을 최적화 메시 패턴으로 결정하여서, 본 발명의 도전성 필름(10 또는 11)의 메시 패턴(24(30))으로서 설정한다.
이와 같이 하여, 본 발명의 도전성 필름의 메시 패턴의 결정 방법이 종료되어서, 표시 장치의 표시 유닛의 BM 패턴에 중첩해도 모아레의 발생이 억제되고, 모아레의 시인성이 뛰어나며, 최적화된 메시 패턴을 가지는 본 발명의 도전성 필름을 제작할 수 있다.
[실시예]
도 16의 (A)에 나타낸 메시 패턴(70)을 비교예 1의 시뮬레이션 샘플로서 제작했다. 비교예 1의 메시 패턴(70)은, 유효한 전극 영역을 구성하는 X전극(72)의 전극 배선 패턴(74)과, 4개의 더미 전극(76a, 76b, 76c 및 76d)의 더미 전극 배선 패턴(78)에 의해 구성되고, 더미 전극 배선 패턴(78)에 의해 형성되는 모든 개구부(80)의 마름모형의 메시 형상의 금속 세선(82)으로 이루어지는 4변의 중심에 각각 단선부(84)가 규칙적으로 마련된 복수의 단선부(84)를 가지는 배선 패턴이었다. 또, 전극 배선 패턴(74)과 더미 전극 배선 패턴(78)과의 사이의 변에 있어서도, 양자 사이의 각 1변의 금속 세선(82)의 중심 위치에 단선부(84)가 마련되어 있었다. 또, 도시예에 있어서는, 도면의 간략화를 위해, 1개의 더미 전극(76c)의 더미 전극 배선 패턴(78)에만 단선부(84)를 도시하고, 3개의 더미 전극(76a, 76b 및 76d)의 더미 전극 배선 패턴(78)에서는, 단선부(84)의 도시를 생략하고 있다.
또, 참고예로서, 단선부를 포함하지 않는 메시 형상 배선의 메시 패턴을 시뮬레이션 샘플로서 제작했다.
상기의 비교예 1을 기준으로 하여, 단선부(84)의 길이, 위치, 배치, 수를 바꿔, 실시예 1∼6 및 비교예 2∼4의 메시 패턴을 시뮬레이션 샘플로서 제작했다.
각 메시 패턴(70) 등의 마름모형으로 이루어지는 모든 메시 형상의 1변의 길이는, 144㎛, 마름모형의 내각은 76° 및 104°로 했다. 또한, 각 메시 패턴의 변을 구성하는 금속 세선(82)의 굵기는, 선폭 6㎛의 것을 사용했다.
여기에서, 비교예 1의 메시 패턴(70)에 있어서는, 단선부(브레이크)(82)의 길이(브레이크 길이, 또는 브레이크 간격)를 20㎛로 했다.
이에 반하여, 실시예 1 및 2의 메시 패턴은, 각각, 비교예 1의 메시 패턴(70)에 대하여, 단선부(브레이크)(84)의 길이(브레이크 길이, 또는 브레이크 간격)를 변경한 것이며, 비교예 1에서의 20㎛로부터, 실시예 1에서는 5㎛로, 실시예 2에서는 10㎛로 한 이외에는, 실시예 1 및 2 모두, 비교예 1의 메시 패턴(70)과 같았다.
다음으로, 실시예 3∼5의 메시 패턴은, 단선부(84)의 위치를, 비교예 1의 메시 패턴의 마름모형의 메시 형상의 변의 중심 위치로부터 랜덤 배치로 변경한 것이다.
실시예 3에서는, 4개의 더미 전극(76a, 76b, 76c 및 76d)의 더미 전극 배선 패턴(78)의 1개의 마름모형의 메시 형상의 4변에 있어서, 단선부(84)의 위치를, 비교예 1의 중심 위치로부터 중심 위치 이외의 랜덤 위치로 변경한 것이며, 이 패턴이, 다른 마름모형의 메시 형상에 있어서 반복되는 배선 패턴이었다.
실시예 4에서는, 더미 전극 배선 패턴(78)의 모든 마름모형의 메시 형상의 4변에 있어서, 단선부(84)의 위치를, 비교예 1의 중심 위치로부터 완전히 랜덤하게 위치를 변경한 것이었다.
실시예 5에서는, 더미 전극 배선 패턴(78)의 모든 마름모형의 메시 형상의 4변 뿐만 아니라 전극 배선 패턴(74)과 더미 전극 배선 패턴(78)과의 사이의 각 변에 있어서도, 단선부(84)의 위치를, 비교예 1의 중심 위치로부터 완전히 랜덤하게 위치를 변경한 것이었다.
실시예 6에서는, 비교예 1의 메시 패턴(70)에 있어서, 4개의 더미 전극(76a, 76b, 76c 및 76d)의 더미 전극 배선 패턴(78)으로부터 모든 단선부(84)를 없애서 접속하고, 전극 배선 패턴(74)과 더미 전극 배선 패턴(78)과의 사이의 각 변에 있어서의 단선부(84)만으로 변경한 것이었다.
비교예 2∼3에서는, 모든 더미 전극(76a, 76b, 76c 및 76d)의 더미 전극 배선 패턴(78)에 있어서, 단선부(84)의 수를, 비교예 1로부터 감소시킨 것이다.
비교예 2는, 모든 더미 전극 배선 패턴(78)에 있어서, 행 방향(도 16에 있어서 수평 방향 : xy 좌표의 x 방향)의 단선부(84)를 반감하여 금속 세선(82)의 1라인씩 걸러서 마련한 것이다.
비교예 3은, 모든 더미 전극 배선 패턴(78)에 있어서, 열 방향(도 16에 있어서 수직 방향 : xy 좌표의 y 방향)의 단선부(84)를 반감하여 금속 세선(82)의 1라인씩 걸러서 마련한 것이다.
비교예 4는, 모든 더미 전극 배선 패턴(78)에 있어서, 열 방향(도 16에 있어서 수직 방향 : xy 좌표의 y 방향)의 단선부(84)를 반감하여 금속 세선(82)의 1라인씩 걸러서 마련한 것이다.
비교예 5는, 모든 더미 전극 배선 패턴(78)에 있어서, 1라인 방향(도 16에 있어서 교차하는 금속 세선(82) 한쪽의 측)으로만, 단선부(84)를 마련한 것이었다.
이상의 실시예 1∼6, 비교예 1∼4 및 참고예의 메시 패턴을 가지는 도전성 필름의 시뮬레이션 샘플을, 도 11에 나타낸 BM 패턴(38)을 가지는 표시 유닛(31)의 시뮬레이션 샘플에 중첩했을 때에, 각 메시 패턴과 BM 패턴(38)의 간섭을 시뮬레이션하여, 각 메시 패턴과 BM 패턴(38)과의 양자의 공간 주파수 특성의 합성곱으로 나타내는 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도를 구함과 함께, 양자의 간섭에 의해 발생하는 모아레(양자의 간섭의 시뮬레이션 결과)를 표시하고, 3명의 연구원이 가능 평가를 행했다.
또, 표시 유닛(31)의 BM 패턴(38)을 구성하는 화소의 사이즈는, 해상도가 250dpi이므로, 102㎛×102㎛이며, 부화소의 사이즈는, 26㎛×78㎛였다.
그 결과를 표 1에 나타낸다.
또, 가능 평가 결과는, 3명의 연구원에 있어서, 모아레가 시인되지 않는 것을 A로 평가하고, 모아레는 약간 시인되지만 신경 쓰이지 않는 정도인 것을 B로 평가하고, 모아레가 시인되는 것을 C로 평가했다.
[표 1]
Figure pct00001
표 1의 결과에서 밝혀진 바와 같이, 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가 상용 대수로 -3.8 이하(진수로 10-3.8 이하)인 실시예 1 및 3∼5에서는 관능 평가 결과는 A이며, 모아레는 시인되지 않고 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가 상용 대수로 -3.8 초과 -3.6 이하(진수로 10-3.8 초과 10-3.6 이하)인 실시예 2 및 6에서는 관능 평가 결과는 B이며, 모아레는 약간 시인되지만 신경 쓰이지 않는 정도인 것에 반하여 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가 상용 대수로 -3.6 초과(진수로 10-3.6 초과)인 비교예 1∼4에서는, 관능 평가 결과는 C이며, 모아레가 시인되어서 사용 불가인 것을 알 수 있다.
이상으로부터, 본 발명의 효과는 밝혀졌다.
이상으로, 본 발명에 따른 도전성 필름, 그것을 구비하는 표시 장치 및 도전성 필름의 패턴의 결정 방법에 대해서 각종의 실시형태 및 실시예를 들어서 설명했지만, 본 발명은, 상술의 실시형태 및 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 한, 각종의 개량이나 설계의 변경을 행해도 되는 것은 물론이다.
10, 11, 60 도전성 필름
12 투명 기체
14, 82 금속제의 세선(금속 세선)
16, 16a, 16b 배선층
18, 18a, 18b 접착층
20, 20a, 20b 보호층
22, 28 메시 형상 배선
22a, 28a 전극부
22b, 28b 더미 전극부(비전극부)
23, 29, 80 개구부
24, 30, 62,70 메시 패턴
24a, 30a, 74 전극 배선 패턴
24b, 30b, 78 더미 전극 배선 패턴
26, 84 단선부(브레이크)
31 표시 유닛
32, 32r, 32g, 32b 화소
34 블랙 매트릭스(BM)
38 BM 패턴
40 표시 장치
44 터치 패널
72 X전극
76a, 76b, 76c, 76d 더미 전극

Claims (17)

  1. 표시 장치의 표시 유닛 상에 설치되는 도전성 필름으로서,
    투명 기체(基體)와,
    상기 투명 기체의 적어도 한쪽의 면에 형성되고, 패터닝된 복수의 금속 세선(細線)으로 이루어지는 메시 패턴(mesh pattern)을 가지는 메시 형상 배선을 갖고,
    상기 메시 형상 배선의 상기 메시 패턴은, 상기 표시 유닛의 화소 배열 패턴에 중첩되어 있으며,
    적어도 정면 관찰 시의, 상기 메시 패턴의 공간 주파수 특성과, 상기 표시 유닛의 상기 화소 배열 패턴의 공간 주파수 특성과의 합성곱(convolution)으로 나타내지는 모아레(moire)의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가, 상용 대수(common logarithm)로 -3.6 이하가 되는 것을 특징으로 하는 도전성 필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 메시 형상 배선은, 상기 복수의 금속 세선에 의해 연속하도록 메시 형상으로 형성된 전극 배선 패턴을 구비하는 전극부와, 상기 복수의 금속 세선에 의해 메시 형상으로 형성되고 복수의 단선부를 가지며 비연속인 비전극 배선 패턴을 구비하여 상기 전극부와 절연되어 있는 비전극부를 갖고,
    상기 메시 형상 배선의 상기 메시 패턴은, 상기 전극부의 상기 전극 배선 패턴과, 이 전극 배선 패턴과 절연되어 있는 상기 비전극부의 상기 비전극 배선 패턴으로 이루어지고,
    상기 메시 패턴의 공간 주파수 특성은, 적어도 정면 관찰 시의, 상기 복수의 단선부를 포함한 상기 메시 패턴의 공간 주파수 특성인 도전성 필름.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 모아레의 주파수는, 상기 메시 패턴의 상기 공간 주파수 특성의 스펙트럼 피크의 피크 주파수와 상기 화소 배열 패턴의 상기 공간 주파수 특성의 스펙트럼 피크의 피크 주파수와의 차분(差分)으로 주어지고, 상기 모아레의 스펙트럼 강도는, 상기 메시 패턴의 상기 스펙트럼 피크의 피크 강도와 상기 화소 배열 패턴의 상기 스펙트럼 피크의 피크 강도와의 곱으로 주어지는 도전성 필름.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 피크 강도는, 상기 피크 위치 주변의 복수 화소 내의 강도의 합인 도전성 필름.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 피크 강도는, 상기 메시 패턴 및 상기 화소 배열 패턴의 투과율 주기 화상 데이터로 규격화된 것인 도전성 필름.
  6. 표시 장치의 표시 유닛 상에 설치되는 도전성 필름으로서,
    투명 기체와,
    상기 투명 기체의 적어도 한쪽의 면에 형성되고, 일면에 패터닝된 복수의 금속 세선으로 이루어지는 메시 패턴을 가지는 메시 형상 배선을 갖고,
    상기 메시 형상 배선은, 상기 복수의 금속 세선에 의해 연속하도록 메시 형상으로 형성된 전극 배선 패턴을 구비하는 전극부와, 상기 복수의 금속 세선에 의해 메시 형상으로 형성되고 복수의 단선부를 가지며 비연속인 비전극 배선 패턴을 구비하여 상기 전극부와 절연되어 있는 비전극부를 갖고,
    상기 메시 형상 배선의 상기 메시 패턴은, 상기 전극부의 상기 전극 배선 패턴과, 이 전극 배선 패턴과 절연되어 있는 상기 비전극부의 상기 비전극 배선 패턴으로 이루어지고, 상기 표시 유닛의 화소 배열 패턴에 중첩되어 있으며,
    상기 비전극부의 상기 비전극 배선 패턴의 상기 복수의 단선부가 접속되었을 경우의 상기 메시 형상 배선의 상기 메시 패턴은, 모아레가 시인(視認)되지 않는 것이며,
    상기 비전극부의 상기 비전극 배선 패턴은, 상기 복수의 단선부가 랜덤으로 배치된 랜덤 배선 패턴인 것을 특징으로 하는 도전성 필름.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 모아레의 주파수가 3사이클/㎜ 이하인 도전성 필름.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 비전극부의 상기 비전극 배선 패턴은, 상기 전극부를 제외하는 영역 내에 상기 복수의 금속 세선에 의해 메시 형상으로 형성되어 있는 도전성 필름.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 화소 배열 패턴은, 상기 블랙 매트릭스 패턴인 도전성 필름.
  10. 표시 유닛과,
    이 표시 유닛 상에 설치되는, 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 도전성 필름을 구비하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
  11. 제10항에 기재된 표시 장치와,
    상기 표시 장치의 상기 도전성 필름의 상측에 배치되고, 상기 도전성 필름의 반대 측에 터치면을 구비하는 투명 기판을 갖는 것을 특징으로 하는 터치 패널 표시 장치.
  12. 표시 장치의 표시 유닛 상에 설치되고, 패터닝된 복수의 금속 세선에 의해 연속하도록 메시 형상으로 형성된 메시 패턴을 가지는 메시 형상 배선이 형성된 도전성 필름의 메시 패턴의 결정 방법으로서,
    상기 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터와, 상기 메시 패턴이 중첩되는, 상기 표시 유닛의 화소 배열 패턴의 투과율 주기 화상 데이터를 취득하고,
    취득된 상기 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터 및 상기 화소 배열 패턴의 투과율 주기 화상 데이터에 대하여 2차원 푸리에 변환을 행하여, 적어도 정면 관찰 시의, 상기 메시 패턴의 공간 주파수 특성 및 상기 화소 배열 패턴의 공간 주파수 특성을 얻고,
    얻어진 상기 메시 패턴의 공간 주파수 특성과 상기 화소 배열 패턴의 공간 주파수 특성으로부터, 양자(兩者)의 합성곱으로 나타내지는 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도를 산출하고,
    산출된 상기 모아레의 주파수 중의 최저 주파수를 구하고, 그 스펙트럼 강도를, 상용 대수로 -3.6과 비교하고,
    상용 대수로 정의되는 상기 모아레의 스펙트럼 강도가 -3.6 이하일 때 상기 메시 패턴을 상기 도전성 필름의 메시 패턴으로서 설정하고, 상기 모아레의 스펙트럼 강도가 -3.6 초과일 때 상기 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터를 새로운 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터로 변경하여, 상기 공간 주파수 특성의 취득, 상기 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도의 산출, 및 상기 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도와 -3.6과의 비교의 각 스텝을 상기 모아레의 최저 주파수의 스펙트럼 강도가 -3.6 이하가 될 때까지 반복하는 것을 특징으로 하는 도전성 필름의 메시 패턴의 결정 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 메시 형상 배선은, 상기 복수의 금속 세선에 의해 연속하도록 메시 형상으로 형성된 전극 배선 패턴과, 상기 복수의 금속 세선에 의해 메시 형상으로 형성되고 복수의 단선부를 가지며 상기 전극 배선 패턴과 비연속으로 절연되어 있는 비전극 배선 패턴을 구비하는 상기 메시 패턴을 가지고,
    상기 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터는, 상기 복수의 단선부를 가지는 상기 비전극 배선 패턴을 구비하는 상기 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터이며,
    상기 메시 패턴의 상기 공간 주파수 특성은, 적어도 정면 관찰 시의, 상기 복수의 단선부를 포함시킨 상기 메시 패턴의 공간 주파수 특성인 도전성 필름의 메시 패턴의 결정 방법.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    상기 모아레의 주파수 및 스펙트럼 강도는,
    얻어진 상기 메시 패턴의 상기 공간 주파수 특성으로부터, 상기 메시 패턴의 투과율 주기 화상 데이터의 2차원 푸리에 스펙트럼의 복수의 스펙트럼 피크 중, 그 피크 강도가 상용 대수로 -4.5 이상이 되는 스펙트럼 피크를 추출하고, 추출된 모든 스펙트럼 피크의 피크 주파수 및 피크 강도를 산출함과 함께,
    얻어진 상기 화소 배열 패턴의 상기 공간 주파수 특성으로부터, 상기 화소 배열 패턴의 투과율 주기 화상 데이터의 2차원 푸리에 스펙트럼의 복수의 스펙트럼 피크 중, 그 피크 강도가 상용 대수로 -4.5 이상이 되는 스펙트럼 피크를 추출하고, 추출된 모든 스펙트럼 피크의 피크 주파수 및 피크 강도를 산출하고,
    이와 같이 하여 산출된 상기 메시 패턴의 상기 피크 주파수 및 상기 피크 강도와 상기 화소 배열 패턴의 상기 피크 주파수 및 상기 피크 강도로부터 각각 산출되는 도전성 필름의 메시 패턴의 결정 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 모아레의 주파수로서, 상기 메시 패턴의 상기 피크 주파수와 상기 화소 배열 패턴의 상기 피크 주파수와의 피크 주파수끼리의 차분을 구하고,
    상기 모아레의 스펙트럼 강도로서, 상기 메시 패턴의 상기 피크 강도와 상기 화소 배열 패턴의 상기 피크 강도와의 2세트의 벡터 강도의 곱을 구하는 도전성 필름의 배선 패턴의 결정 방법.
  16. 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 모아레의 주파수가 3사이클/㎜ 이하인 도전성 필름의 메시 패턴의 결정 방법.
  17. 제12항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 비전극 배선 패턴은, 상기 전극 배선 패턴이 형성되어 있지 않는 영역 내에 상기 복수의 금속 세선에 의해 메시 형상으로 형성되어 있는 도전성 필름의 메시 패턴의 결정 방법.
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