JP6428233B2 - タッチパネルセンサ - Google Patents

Description

本発明は、タッチパネルセンサに関する。

今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は一般に、タッチパネルセンサ、保護カバー、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）などを含んでいる。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能になっている。タッチパネルセンサのうち表示装置の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの領域が、接触位置（接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。

タッチパネルセンサとして、投影型容量結合方式のタッチパネルセンサが知られている。容量結合方式のタッチパネルセンサにおいては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルセンサに接触（接近）する際、新たに奇生容量が発生する。この奇生容量に起因する静電容量の変化に基づいて、タッチパネルセンサ上における外部導体の位置が検出される。このような投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは例えば、ＰＥＴなどからなる基材と、基材の観察者側の面に設けられた複数の第１電極と、基材の表示装置側の面に設けられた複数の第２電極と、を備えている。第１電極および第２電極は、例えば、透光性および導電性を有する透明導電材料から構成される。

また第１電極および第２電極の電気抵抗値を低くするため、第１電極および第２電極を構成する材料として、透明導電材料よりも高い導電性を有する銀や銅などの金属材料を用いることが提案されている。第１電極および第２電極が金属材料から構成される場合、第１電極および第２電極には、表示装置からの映像光を適切な比率で透過させるための開口部が形成されている。例えば第１電極および第２電極は、金属材料からなり、網目状に配置された導線によって構成されている。

ところで、第１電極および第２電極が金属材料からなる導線によって構成される場合、金属材料が不透明であることに起因して第１電極および第２電極のパターンが観察者（ユーザー）に視認されてしまうことが考えられる。パターンが視認されることは、金属材料からなる導線がアクティブエリアに不均一に配置されている場合に特に生じやすくなる。このような課題を考慮し、例えば隣接する第１電極の間の領域に、第１電極を構成している導線と同一または同様の導線をダミーパターンとして網目状に配置し、これによって、導線の分布密度を均一化することが考えられる（例えば、特許文献１参照）。この場合、第１電極の領域とその他の領域との区別がつきにくくなり、このため、第１電極のパターンが視認されてしまうことを抑制することができる。このようなダミーパターンは、第１電極間の寄生容量を低下させるという効果をもたらすこともできる。隣接する第２電極の間の領域にも同様のダミーパターンが設けられてもよい。

特開２０１２−７９２３８号公報

電極を構成する導線と、ダミーパターンを構成する導線との間には、両者の導通を防止するよう導線を分断する分断部が多数設けられる。また、ダミーパターンを構成する導線同士の間にも、すなわちダミーパターン内にも多数の分断部が設けられる。従って、ダミーパターン内には、２つの分断部の間に位置する、他の導線から孤立した導線の線分が存在することになる。

網目状に配置された導線と、分断部とを有する上述のダミーパターンを形成する方法の１つとして、はじめに、基材上に金属層を設け、次に、ダミーパターンの導線に対応するパターンを有するレジストを金属層上に設け、その後、ウェットエッチング法を用いて金属層をパターニングする、という方法が考えられる。一方、ウェットエッチング法において、エッチング液によって単位時間当たりに除去される金属の量は、エッチング液の温度などエッチング液の状態に強く依存する。このため、金属層上に設けられているレジストのパターンと完全に同一のパターンが形成されるように金属層をエッチングすることは一般に困難である。例えば、レジストのパターンよりも内側にエッチング液が侵入するまでエッチング工程が実施され、この結果、得られる導線のパターンの幅や面積が、レジストの幅や面積よりも小さくなることがある。すなわち、想定よりも過剰にエッチングが進行することがある。

ところで、ダミーパターン内には、上述のように、２つの分断部の間に位置する、他の導線から孤立した導線の線分が存在する。この場合、孤立した導線の線分の面積が小さいと、対応するレジストパターンのフットプリントも相対的に小さくなる事に加え、金属層の表面状態によってはレジストパターンの密着阻害が発生する場合があり、エッチング加工の過程においてレジストパターンが脱離して想定よりも過剰にエッチングが進行し、孤立した導線の線分が基材上から除去されてしまう可能性がある。

分断部が形成された場所において、光は、導線によって遮蔽されることなくタッチパネルセンサを透過することができる。従って、分断部が存在しているということは、分断部の面積の分だけ光の透過率が上昇することを導く。また、上述のように孤立した導線の線分が基材上から除去されてしまうと、除去された導線の線分の分だけ、分断部の面積が想定外に拡大してしまう。このため、光の透過率の局所的な増加の程度がさらに高くなり、この結果、光の透過率の分布が不均一になってしまう。このことは、タッチパネルセンサの意匠性の低下を導く。例えば、ダミーパターンが観察者に視認されてしまうことを導く。

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、光の透過率の分布が不均一になってしまうことを抑制することができるタッチパネルセンサを提供することを目的とする。

本発明は、タッチパネルセンサであって、前記タッチパネルセンサの一方の側に設けられ、第１方向に延びる複数の第１電極と、前記タッチパネルセンサの一方の側において前記第１電極の間に設けられた複数の第１ダミー部と、を備え、前記第１電極および前記第１ダミー部は、遮光性および導電性を有する第１導線を網目状に配置することによって構成されており、前記第１電極を構成する前記第１導線と前記第１ダミー部を構成する前記第１導線との間、および、前記第１ダミー部を構成する前記第１導線同士の間には、隣接する前記第１導線を電気的に絶縁するための複数の第１分断部が設けられており、前記第１ダミー部において、２つの前記第１分断部の間に位置する前記第１導線の線分の面積が、５０ｕｍ^２以上になっている、タッチパネルセンサである。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記複数の第１導線は、複数の第１導線が互いに交わることによって形成される複数の交点が不規則に並ぶよう配置されていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１導線が互いに交差する交点と、前記第１分断部との間の距離が１２ｕｍ以上になっていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１分断部を挟んで隣接する２つの前記第１導線の間を最短距離で結ぶ方向と、前記第１導線が延びる方向とがなす角度の絶対値が、３０°以下になっていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１分断部を挟んで隣接する２つの第１導線の間の間隔が、１００ｕｍ以下になっていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサには、前記タッチパネルセンサの他方の側に設けられ、前記第１方向に交差する第２方向に沿って延びる複数の第２電極と、前記タッチパネルセンサの他方の側において前記第２電極の間に設けられた複数の第２ダミー部と、をさらに備えていてもよい。この場合、前記第２電極および前記第２ダミー部は、遮光性および導電性を有する第２導線を網目状に配置することによって構成されており、前記第２電極を構成する前記第２導線と前記第２ダミー部を構成する前記第２導線との間、および、前記第２ダミー部を構成する前記第２導線同士の間には、隣接する前記第２導線を電気的に絶縁するための複数の第２分断部が設けられており、前記第２ダミー部において、２つの前記第２分断部の間に位置する前記第２導線の線分の面積が、５０ｕｍ^２以上になっていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記タッチパネルセンサの一方の側から見た場合に、前記複数の第１分断部の少なくとも一部は、前記第２導線と少なくとも部分的に重なっていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記タッチパネルセンサの一方の側から見た場合に、前記複数の第２分断部の少なくとも一部は、前記第１導線と少なくとも部分的に重なっていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサの第１ダミー部において、２つの第１分断部の間に位置する第１導線の線分の面積は、５０ｕｍ^２以上になっている。このため、ウェットエッチングによって第１金属層をパターニングして第１導線を形成する際に、２つの第１分断部の間に位置する第１導線の線分が基材上から除去されてしまうことを抑制することができる。これによって、第１ダミー部における開口率が局所的に高くなってしまうことを抑制することができ、このことにより、第１ダミー部のパターンが観察者に視認されてしまうことを抑制することができる。

図１は、本発明の第１の実施の形態におけるタッチ位置検出機能付き表示装置を示す展開図。 図２は、図１のタッチ位置検出機能付き表示装置におけるタッチパネルセンサを示す平面図。 図３Ａは、第１電極および第１ダミー部を拡大して示す平面図。 図３Ｂは、図３Ａにおいて符号IIIBが付された二点鎖線で囲まれた部分における第１電極および第１ダミー部をさらに拡大して示す平面図。 図４Ａは、第２電極および第２ダミー部を拡大して示す平面図。 図４Ｂは、図４Ａにおいて符号IVBが付された二点鎖線で囲まれた部分における第２電極および第２ダミー部をさらに拡大して示す平面図。 図５Ａは、図３Ａに示す第１電極および第１ダミー部並びに図４Ａに示す第２電極および第２ダミー部を重ねて示す平面図。 図５Ｂは、図５Ａにおいて符号VBが付された二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す平面図。 図６Ａは、第１導線のパターンを設計する方法を説明するための図。 図６Ｂは、第１導線のパターンを設計する方法を説明するための図。 図６Ｃは、第１導線のパターンを設計する方法を説明するための図。 図６Ｄは、第１導線のパターンを設計する方法を説明するための図。 図７（ａ）〜（ｅ）は、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図。 図８は、第２の実施の形態における第１導線のパターンを示す平面図。 図９Ａは、第２の実施の形態による第１導線のパターンを設計する方法を説明するための図。 図９Ｂは、第２の実施の形態による第１導線のパターンを設計する方法を説明するための図。 図９Ｃは、第２の実施の形態による第１導線のパターンを設計する方法を説明するための図。 図９Ｄは、第２の実施の形態による第１導線のパターンを設計する方法を説明するための図。 図１０（ａ）は、第１感光層を露光するための第１露光マスクのパターンの一例を示す平面図、図１０（ｂ）は、図１０（ａ）に示す第１露光マスクを用いた露光によってパターニングされた第１感光層をレジストとして第１金属層をエッチングすることによって得られる第１導線のパターンの一例を示す平面図。 図１１（ａ）は、第１感光層を露光するための第１露光マスクのパターンの好ましい一例を示す平面図、図１１（ｂ）は、図１１（ａ）に示す第１露光マスクを用いた露光によってパターニングされた第１感光層をレジストとして第１金属層をエッチングすることによって得られる第１導線のパターンの一例を示す平面図。 図１２（ａ）は、第１露光マスクの線状の開口部と遮光部との関係の一例を示す平面図、図１２（ｂ）は、図１２（ａ）に示す第１露光マスクを用いた露光によってパターニングされた第１感光層をレジストとして第１金属層をウェットエッチングした場合に得られる第１導線のパターンの一例を示す平面図。 図１３（ａ）は、第１露光マスクの線状の開口部と遮光部との関係の好ましい一例を示す平面図、図１３（ｂ）は、図１３（ａ）に示す第１露光マスクを用いた露光によってパターニングされた第１感光層をレジストとして第１金属層をウェットエッチングした場合に得られる第１導線のパターンの一例を示す平面図。 図１４は、第１導線と第１分断部との関係のその他の例を示す図。 図１５Ａは、タッチパネルセンサの層構成の一変形例を示す断面図。 図１５Ｂは、図１５Ａに示すタッチパネルセンサの貼り合わせの形態の一変形例を示す断面図。 図１５Ｃは、図１５Ａに示すタッチパネルセンサの貼り合わせの形態の一変形例を示す断面図。 図１６は、タッチパネルセンサの電極の一変形例を示す平面図。

第１の実施の形態
以下、図１乃至図７（ａ）〜（ｅ）を参照して、本発明の実施の形態の一例について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

タッチパネル装置およびタッチ位置検出機能付き表示装置
はじめに図１を参照して、タッチ位置検出機能付き表示装置１０について説明する。図１に示すように、タッチ位置検出機能付き表示装置１０は、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの表示装置１５と、表示装置１５の観察者側に配置されたタッチパネルセンサ３０と、を組み合わせることによって構成されている。表示装置１５は、表示面１６ａを有する表示パネル１６と、表示パネル１６に接続された表示制御部（図示せず）と、を有している。表示パネル１６は、映像を表示することができる矩形状のアクティブエリアＡ１と、アクティブエリアＡ１を取り囲むようにしてアクティブエリアＡ１の外側に配置された非アクティブエリア（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネル１６を駆動する。表示パネル１６は、表示制御部の制御信号に基づいて、所定の映像を表示面１６ａに表示する。すなわち、表示装置１５は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置としての役割を担っている。

タッチパネルセンサ３０は、表示装置１５の表示面１６ａに、例えば接着層（図示せず）を介して接着されている。図１において、タッチパネルセンサ３０のうち観察者側に位置する面に符号３０ａが付され、表示装置１５側に位置する面に符号３０ｂが付されている。なお図示はしないが、タッチパネルセンサ３０の観察者側には、タッチパネルセンサ３０や表示装置１５を保護するための保護カバーが設けられていてもよい。

タッチパネルセンサ
次に図２を参照して、タッチパネルセンサ３０について説明する。図２は、観察者側から見た場合のタッチパネルセンサ３０を示す平面図である。

ここでは、タッチパネルセンサ３０が、投影型の静電容量結合方式のタッチパネルセンサとして構成される例について説明する。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本件では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。典型的な静電容量結合方式のタッチパネルセンサは、透光性を有する導電性のパターンを有しており、外部の導体（典型的には人間の指）がタッチパネルセンサに接近することにより、外部の導体とタッチパネルセンサの導電性のパターンとの間でコンデンサ（静電容量）が形成される。そして、このコンデンサの形成に伴った電気的な状態の変化に基づき、タッチパネルセンサ上において外部導体が接近している位置の位置座標が特定される。なお本実施の形態によるタッチパネルセンサ３０において採用されている、後述する技術思想は、自己容量方式または相互容量方式のいずれにも対応可能である。

（第１電極および第２電極）
図２に示すように、タッチパネルセンサ３０は、タッチパネルセンサ３０の一方の側（観察者側）に設けられ、第１方向Ｄ１に延びる複数の第１電極４１と、タッチパネルセンサ３０の他方の側（表示装置１５側）に設けられ、第１方向Ｄ１に交差する第２方向Ｄ２に沿って延びる複数の第２電極４６と、を備えている。なお図２においては図示を省略しているが、タッチパネルセンサ３０は、タッチパネルセンサ３０の一方の側において第１電極４１の間に設けられた複数の第１ダミー部４２と、タッチパネルセンサ３０の他方の側において第２電極４６の間に設けられた複数の第２ダミー部４７と、をさらに備えている。本実施の形態において、第１電極４１および第１ダミー部４２は、基材３２の第１面（観察者側の面）３２ａ上に設けられている。また第２電極４６および第２ダミー部４７は、基材３２の第２面（表示装置１５側の面）３２ｂ上に設けられている。なお図２においては、基材３２の第１面３２ａ側に設けられている構成要素が実線で表され、基材３２の第２面３２ｂ側に設けられている構成要素が点線で表されている。後述するように、第１電極４１、第１ダミー部４２、第２電極４６および第２ダミー部４７はいずれも、金属材料を含む導線によって構成されている。

相互容量方式が採用される場合、第１電極４１および第２電極４６の一方が駆動電極になり、他方が、駆動電極からの信号電圧が印加される検出電極となる。例えば、タッチパネルセンサ３０の観察者側に設けられた第１電極４１が検出電極になり、タッチパネルセンサ３０の表示装置１５側に設けられた第２電極４６が駆動電極になる。

第１電極４１は、第１方向Ｄ１に沿って並べられた複数の第１膨出部４１ａと、隣接する２つの第１膨出部４１ａを接続するよう第１方向Ｄ１に延びる第１ライン部４１ｂと、を含んでいる。第１膨出部４１ａとは、第１方向Ｄ１に交差する第２方向Ｄ２における寸法が、第２方向Ｄ２における第１ライン部４１ｂの寸法よりも大きくなっている部分のことである。また第２電極４６は、第２方向Ｄ２に沿って並べられた複数の第２膨出部４６ａと、隣接する２つの第２膨出部４６ａを接続するよう第２方向Ｄ２に延びる第２ライン部４６ｂと、を含んでいる。第２膨出部４６ａとは、第２方向Ｄ２に交差する第１方向Ｄ１における寸法が、第１方向Ｄ１における第２ライン部４６ｂの寸法よりも大きくなっている部分のことである。

図２に示すように、タッチパネルセンサ３０は、タッチ位置を検出され得る領域に対応する矩形状のアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１の周辺に位置する矩形枠状の非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。アクティブエリアＡａ１および非アクティブエリアＡａ２はそれぞれ、表示パネル１６のアクティブエリアＡ１および非アクティブエリアＡ２に対応して区画されたものである。矩形状のアクティブエリアＡａ１の輪郭は、例えば、第１方向Ｄ１に延びる長辺３１ａと、第２方向Ｄ２に延びる短辺３１ｂと、を含んでいる（図１参照）。

上述の第１電極４１、第１ダミー部４２、第２電極４６および第２ダミー部４７は、アクティブエリアＡａ１内に配置されている。また非アクティブエリアＡａ２のうち基材３２の第１面３２ａ上には、各第１電極４１に電気的に接続された複数の第１額縁配線４３と、基材３２の外縁近傍に配置され、各第１額縁配線４３に電気的に接続された複数の第１端子部４４と、が設けられている。さらに、非アクティブエリアＡａ２のうち基材３２の第２面３２ｂ上には、各第２電極４６に電気的に接続された複数の第２額縁配線４８と、基材３２の外縁近傍に配置され、各第２額縁配線４８に電気的に接続された複数の第２端子部４９と、が設けられている。

信号を適切に伝達することができる限りにおいて、第１額縁配線４３および第１端子部４４並びに第２額縁配線４８および第２端子部４９の具体的な構成が特に限られることはない。例えば第１額縁配線４３および第１端子部４４は、第１電極４１や第１ダミー部４２を構成する後述する第１導線５１と同一の層構成で第１導線５１と同時に形成されるものであってもよい。同様に、第２額縁配線４８および第２端子部４９は、第２電極４６や第２ダミー部４７を構成する後述する第２導線５６と同一の層構成で第２導線５６と同時に形成されるものであってもよい。

（基材）
基材３２を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）やガラスなど、十分な透光性を有する材料が用いられる。基材３２が例えばＰＥＴを含む場合、ＰＥＴの厚みは例えば１００〜２００μｍの範囲内になっている。なお電極４１，４６やダミー部４２，４７を適切に保持することができる限りにおいて、基材３２の具体的な構成が特に限られることはない。例えば、ＰＥＴ層などの表面に設けられたハードコート層がさらに基材３２に含まれていてもよい。すなわち本実施の形態において、基材３２とは、何らかの具体的な構造や材料を意味するものではなく、タッチパネルセンサ３０を構成する第１電極４１や第２電極４６などのパターンの下地となるものを意味するに過ぎない。

（第１電極および第１ダミー部の詳細について）
次に図３Ａおよび図３Ｂを参照して、第１電極４１および第１ダミー部４２について説明する。図３Ａは、タッチパネルセンサ３０の一方の側から見た場合の第１電極４１および第１ダミー部４２を拡大して示す平面図であり、図３Ｂは、図３Ａにおいて符号IIIBが付された二点鎖線で囲まれた部分における第１電極４１および第１ダミー部４２をさらに拡大して示す平面図である。

第１電極４１および第１ダミー部４２は、遮光性および導電性を有する複数の第１導線５１を、各第１導線５１の間に開口部５２が形成されるよう網目状に配置することによって構成されている。第１導線５１は、後述するように、金属材料からなる第１金属層６１を含んでいる。第１導線５１に含まれる金属材料としては、例えば、銀、銅、アルミニウムまたはこれらの合金等を挙げることができる。

第１電極４１や第１ダミー部４２が広がる領域の面積のうち開口部５２によって占められる面積の比率（以下、開口率と称する）が十分に高くなり、これによって、表示装置１５からの映像光が適切な透過率でタッチパネルセンサ３０のアクティブエリアＡａ１を透過することができる限りにおいて、第１導線５１の寸法や形状が特に限られることはない。例えば第１電極４１および第１ダミー部４２は、開口部５２の形状が菱形の形状になるように複数の第１導線５１を配置することによって構成されている。菱形状の開口部５２は、図３Ｂに示すように、第１方向Ｄ１および第２方向Ｄ２の両方に対して傾斜した第３方向Ｄ３に延びる第１導線５１と、第４方向Ｄ４に延びる第１導線５１と、の組み合わせによって構成されている。第３方向Ｄ３と第４方向とは、第１方向Ｄ１を対称軸とした線対称の関係にある。本実施の形態においては、菱形の内角のうち鋭角になる内角が第１方向Ｄ１に沿って並ぶよう、第３方向Ｄ３および第４方向が定められている。開口率の範囲は、表示装置から放出される映像光の特性などに応じて適宜設定される。

第１導線５１の線幅は、求められる開口率などに応じて設定されるが、例えば第１導線５１の幅は１〜１０μｍの範囲内、より好ましくは２〜７μｍの範囲内に設定されている。これによって、観察者が視認する映像に対して第１導線５１が及ぼす影響を、無視可能な程度まで低くすることができる。第１導線５１の厚みは、第１電極４１に対して求められる電気抵抗値などに応じて適宜設定されるが、例えば０．１〜０．５μｍの範囲内となっている。

図３Ａおよび図３Ｂに示すように、第１電極４１を構成する第１導線５１と第１ダミー部４２を構成する第１導線５１との間には、複数の第１分断部５３が設けられている。このような第１分断部５３を設けることにより、第１電極４１と第１ダミー部４２との間を電気的に絶縁することができる。通常は、１つの第１分断部５３を挟んで隣接する２つの第１導線５１の一方を延長すると他方の第１導線５１に重なるよう、第１分断部５３および第１導線５１が構成されている。隣接する第１導線５１が延びる方向における第１分断部５３の寸法は、例えば１〜５００μｍの範囲内に設定される。

第１電極４１と第１ダミー部４２との間の境界部の形状、すなわち第１電極４１の輪郭は、第１電極４１と第１ダミー部４２との間の第１分断部５３の配置によって画定される。図３Ａおよび図３Ｂにおいて、タッチパネルセンサ３０の一方の側からタッチパネルセンサ３０を見た場合における、すなわち平面視における第１電極４１の輪郭が、符号Ｂ１が付された一点鎖線によって示されている。

また図３Ｂに示すように、第１ダミー部４２を構成する第１導線５１同士の間にも、複数の第１分断部５３が設けられている。なお図３Ａにおいては、第１ダミー部４２内の第１分断部５３が便宜上省略されている。

ところで、第１ダミー部４２を構成する第１導線５１同士の間に複数の第１分断部５３が設けられることは、２つの第１分断部５３の間に位置する、他の第１導線５１から孤立した第１導線５１の線分が生じることを導く。言い換えると、第１ダミー部４２内には、２つの第１分断部５３によって他の第１導線５１から分断された、第１導線５１の線分が、複数存在している。図３Ｂにおいて、符号５１ｂは、一方向（ここでは第３方向Ｄ３または第４方向Ｄ４）に延びる１つの第１導線５１のみによって構成されている、孤立状態にある線分（以下、単独線分とも称する）を表している。また符号５１ｃは、異なる方向に延び、互いに交差する２つの第１導線５１の線分によって構成されている、孤立状態にある線分（以下、結合線分とも称する）を表している。本実施の形態においては、これら孤立状態にある線分５１ｂ，５１ｃの面積が、少なくとも５０ｕｍ^２以上になるよう、第１導線５１のパターンおよび第１分断部５３の配置が定められている。これによって、後述するように、ウェットエッチングによって第１金属層６１をパターニングして第１導線５１を形成する際に、２つの第１分断部５３の間に位置する、孤立状態にある第１導線５１の線分が、基材３２上から除去されてしまうことを抑制することができる。従って、第１ダミー部４２における開口率が局所的に想定外に高くなってしまうことを抑制することができ、このことにより、第１ダミー部４２のパターンが観察者に視認されてしまうことを抑制することができる。

ところで、観察者がタッチ位置検出機能付き表示装置１０を使用する際、観察者の注意は一般に、タッチパネルセンサ３０のアクティブエリアＡａ１の周縁部よりも中心部に集まる。言い換えると、観察者がタッチパネルセンサ３０のアクティブエリアＡａ１の周縁部に注目する頻度は、中心部に比べて低い。従って、アクティブエリアＡａ１の周縁部においては、孤立状態で存在すべき第１導線５１の線分がいくつか基材３２上から除去されていたとしても、タッチパネルセンサ３０の意匠性に与える影響は小さいと言える。この点を考慮すると、第１ダミー部４２に含まれる孤立状態にある第１導線５１の線分の全てが、５０ｕｍ^２以上の面積を有している必要はなく、少なくともアクティブエリアＡａ１の中心部に位置する、孤立状態にある第１導線５１の線分が、５０ｕｍ^２以上の面積を有していればよいと言える。なお「アクティブエリアＡａ１の中心部」とは、例えば図１に示すように、アクティブエリアＡａ１の長辺３１ａの１／２の長さを有する一対の辺３１ｃと、アクティブエリアＡａ１の短辺３１ｂの１／２の長さを有する一対の辺３１ｄと、によって囲われた、アクティブエリアＡａ１の中心に位置する領域のことである。

（第２電極および第２ダミー部の詳細について）
次に図４Ａおよび図４Ｂを参照して、第２電極４６および第２ダミー部４７について説明する。図４Ａは、タッチパネルセンサ３０の一方の側から見た場合の第２電極４６および第２ダミー部４７を拡大して示す平面図であり、図４Ｂは、図４Ａにおいて符号IVBが付された二点鎖線で囲まれた部分における第２電極４６および第２ダミー部４７をさらに拡大して示す平面図である。

第１電極４１および第１ダミー部４２の場合と同様に、第２電極４６および第２ダミー部４７は、遮光性および導電性を有する第２導線５６を、各第２導線５６の間に開口部５７が形成されるよう網目状に配置することによって構成されている。第２導線５６は、後述するように、金属材料からなる第２金属層６６を含んでいる。第２導線５６に含まれる金属材料としては、第１導線５１の場合と同様に、例えば、銀、銅、アルミニウムまたはこれらの合金等を挙げることができる。

第１導線５１の場合と同様に、第２導線５６の寸法や形状が特に限られることはない。ここでは、第２電極４６および第２ダミー部４７が、開口部５７の形状が菱形の形状になるように複数の第２導線５６を配置することによって構成される例が示されている。

第２導線５６の線幅や厚みは、第１導線５１と同等に設定されてもよく、若しくは、第１導線５１とは異なるように設定されてもよい。

図４Ａおよび図４Ｂに示すように、第２電極４６を構成する第２導線５６と第２ダミー部４７を構成する第２導線５６との間には、複数の第２分断部５８が設けられている。このような第２分断部５８を設けることにより、第２電極４６と第２ダミー部４７との間を電気的に絶縁することができる。通常は、１つの第２分断部５８を挟んで隣接する２つの第２導線５６の一方を延長すると他方の第２導線５６に重なるよう、第２分断部５８および第２導線５６が構成されている。隣接する第２導線５６が延びる方向における第２分断部５８の寸法は、例えば１〜５００μｍの範囲内に設定される。

第２電極４６と第２ダミー部４７との間の境界部の形状、すなわち第２電極４６の輪郭は、第２電極４６と第２ダミー部４７との間の第２分断部５８の配置によって画定される。図４Ａおよび図４Ｂにおいて、平面視における第２電極４６の輪郭が、符号Ｂ２が付された一点鎖線によって示されている。

また図４Ｂに示すように、第１ダミー部４２を構成する第２導線５６同士の間にも、複数の第２分断部５８が設けられている。なお図４Ａにおいては、第２ダミー部４７内の第２分断部５８が便宜上省略されている。

好ましくは、第１導線５１の場合と同様に、２つの第２分断部５８の間に位置する、他の第２導線５６から孤立した第２導線５６の線分の面積が、少なくとも５０ｕｍ^２以上になるよう、第２導線５６のパターンおよび第２分断部５８の配置が定められている。これによって、後述するように、ウェットエッチングによって第２金属層６６をパターニングして第２導線５６を形成する際に、２つの第２分断部５８の間に位置する、孤立状態にある第２導線５６の線分が、基材３２上から除去されてしまうことを抑制することができる。

図５Ａは、図３Ａに示す第１電極４１および第１ダミー部４２並びに図４Ａに示す第２電極４６および第２ダミー部４７を重ねて示す平面図である。また図５Ｂは、図５Ａにおいて符号VBが付された二点鎖線で囲まれた部分を拡大して示す平面図である。なお図５Ａおよび図５Ｂにおいては、便宜上、タッチパネルセンサ３０の一方の側に設けられている、第１電極４１や第１ダミー部４２などの構成要素が、タッチパネルセンサ３０の他方の側に設けられている、第２電極４６や第２ダミー部４７などの構成要素よりも太い線で表されている。ここでは、図５Ａおよび図５Ｂに示すように、第１導線５１同士の交点５１ａと第２導線５６同士の交点５６ａとが互いに重ならないように第１導線５１および第２導線５６が配置されている例が示されている。

タッチパネルセンサの製造方法
次に、以上のような構成からなるタッチパネルセンサ３０を製造する方法について説明する。はじめに、第１導線５１および第２導線５６のパターンを設計する方法について説明する。なお第１導線５１のパターンおよび第２導線５６のパターンは、電極とダミー部との間の境界部の形状は異なるが、その他の点はほぼ同一であるので、ここでは第１導線５１のパターンを設計する方法についてのみ説明する。

〔第１導線のパターンの設計方法〕
はじめに図６Ａに示すように、開口部５２の形状が菱形の形状になるように複数の第１導線５１を配置する。具体的には、第３方向Ｄ３に延びる複数の第１導線５１を、第３方向Ｄ３に交差する方向において一定の間隔で並べる。さらに、第４方向Ｄ４に延びる複数の第１導線５１を、第４方向Ｄ４に交差する方向において一定の間隔で並べる。なお図６Ａおよび後述する図６Ｂ乃至図６Ｄにおいては、便宜上、設計段階の仮想的な第１導線、開口部、第１分断部などに対して、上述の図３Ｂに示す、現実に形成された第１導線、開口部、第１分断部などと同一の符号５１，５２，５３などが付されている。

次に図６Ｂに示すように、予め定められた第１電極４１の輪郭を表す線Ｂ１に沿って、第１電極４１の第１導線５１と第１ダミー部４２の第１導線５１とを電気的に絶縁するための第１分断部５３を設ける。

その後、図６Ｃに示すように、第１ダミー部４２を構成する第１導線５１同士を電気的に絶縁するための第１分断部５３を複数設ける。この際、第１分断部５３の配置は、何らかの規則に基づいて定められてもよく、若しくは無秩序に定められてもよい。

ところで、第１ダミー部４２内に多数の第１分断部５３が設けられる場合、２つの第１分断部５３間に位置する、孤立状態にある第１導線５１の線分の面積が極めて小さくなってしまうことがある。例えば図６Ｃにおいては、第１電極４１と第１ダミー部４２との間の境界部を定める第１分断部５３に隣接する単独線分５１ｂの面積が極めて小さくなっており、例えば５０ｕｍ^２未満になっている。この場合、後述する第１金属層６１のウェットエッチングが想定よりも過剰に進行すると、これら単独線分５１ｂが基材３２上から除去されてしまうことが考えられる。

このような課題を考慮し、本実施の形態においては、図６Ｃに示すように所定の面積を満たさない第１導線５１の線分が存在していることが判明した場合、第１分断部５３の配置を調整する工程を実施する。具体的には、図６Ｄに示すように、上述の単独線分５１ｂの面積を拡大するよう、単独線分５１ｂに隣接する２つの第１分断部５３のうちの一方の第１分断部５３の位置を、一方の第１分断部５３が他方の第１分断部５３から遠ざかるように変更する。これによって、単独線分５１ｂの面積を５０ｕｍ^２以上にすることができる。基材３２の第２面３２ｂ側の第２導線５６および第２分断部５８についても同様に、単独線分５６ｂの面積を５０ｕｍ^２以上にするよう、第１分断部５３の位置を変更してもよい。
若しくは、図示はしないが、所定の面積を満たさない第１導線５１の線分が存在していることが判明した場合、所定の面積を満たさない第１導線５１の線分に隣接する２つの第１分断部５３のうちの一方の第１分断部５３を削除してもよい。すなわち、所定の面積を満たさない第１導線５１の線分を、当該線分に隣接するその他の第１導線５１の線分につなげるようにしてもよい。この方法によっても、面積が５０ｕｍ^２以下の単独線分５１ｂが存在することを防ぐことができる。
なお、単独線分５１ｂ，５６ｂの面積の下限値は、アクティブエリアＡａ１内に位置する単独線分５１ｂ，５６ｂの全てに対して適用されてもよく、若しくは、アクティブエリアＡａ１の所定の領域、例えば上述のアクティブエリアＡａ１の中心部内に位置する単独線分５１ｂ，５６ｂに対してのみ適用されてもよい。
また結合線分５１ｃ，５６ｃについても同様に、結合線分５１ｃ，５６ｃの面積を５０ｕｍ^２以上にするよう、分断部５３，５８の位置を変更してもよい。

なお、単独線分５１ｂに隣接する２つの第１分断部５３のうちの一方が、第１電極４１と第１ダミー部４２との間の境界部を画定している第１分断部５３であり、他方が、第１ダミー部４２の第１導線５１同士を分断している第１分断部５３である場合、一方すなわち第１電極４１側の第１分断部５３の位置ではなく、他方すなわち第１ダミー部４２内の第１分断部５３の位置を変更することが好ましい。これによって、第１電極４１と第１ダミー部４２との間の境界部の位置を変更することなく、単独線分５１ｂの面積を５０ｕｍ^２以上にすることができる。

〔タッチパネルセンサの作製方法〕
次に、上述の方法によって設計された第１導線５１のパターンに基づいてタッチパネルセンサ３０を作製する方法について説明する。

はじめに図７（ａ）に示すように、タッチパネルセンサ３０を作製するための元材としての積層体６０（ブランクとも呼ばれる）を準備する。積層体６０は、基材３２と、基材３２の第１面３２ａ上に設けられ、遮光性および導電性を有する第１金属層６１と、基材３２の第２面３２ｂ上に設けられ、遮光性および導電性を有する第２金属層６６と、を備えている。基材３２の各面３２ａ，３２ｂ上に金属層６１，６６を設ける方法が特に限られることはなく、蒸着法やスパッタリング法などの公知の方法が適宜用いられ得る。

次に図７（ｂ）に示すように、第１金属層６１上に第１感光層７１を設け、かつ、第２金属層６６上に第２感光層７６を設ける。第１感光層７１および第２感光層７６は、特定波長域の光、例えば紫外線に対する感光性を有している。感光層７１，７６のタイプが特に限られることはない。例えば光硬化型の感光層が用いられてもよく、若しくは光硬化型の感光層が用いられてもよい。ここでは、光溶解型の感光層が用いられる例について説明する。第１金属層６１上および第２金属層６６上に第１感光層７１および第２感光層７６を設ける方法としては、例えば、ドライフィルムレジストを第１金属層６１上および第２金属層６６上にそれぞれ貼付するという方法や、感光材を第１金属層６１上および第２金属層６６上にそれぞれ塗布するという方法を採用することができる

（露光工程）
その後、図７（ｂ）に示すように、所定のパターンで遮光部７２ａおよび開口部７２ｂが形成された第１露光マスク７２を第１感光層７１の近傍に設置し、かつ、所定のパターンで遮光部７７ａおよび開口部７７ｂが形成された第２露光マスク７７を第２感光層７６の近傍に設置する。遮光部７２ａのパターンは、開口部５２および第１分断部５３のパターンに対応しており、第１露光マスク７２の開口部７２ｂのパターンは、第１導線５１のパターンに対応している。また第２露光マスク７７の遮光部７７ａのパターンは、開口部５７および第２分断部５８のパターンに対応しており、第２露光マスク７７の開口部７７ｂのパターンは、第２導線５６のパターンに対応している。なお露光マスク７２，７７は、単独線分５１ｂ，５６ｂの面積が上述の下限値を下回らないよう、構成されている。具体的には、単独線分５１ｂ，５６ｂに対応する露光マスク７２，７７の開口部７２ｂ，７７ｂの面積が、所定の下限値以上となるよう、構成されている。

次に、第１露光マスク７２に対する第２露光マスク７７の相対位置を調整する。例えば、第１露光マスク７２または第２露光マスク７７のいずれか一方の露光マスクに形成されているアライメントマークを基準として、他方の露光マスクの位置を調整する。若しくは、基材３２などに設けられている同一のアライメントマークを共通に用いて、第１露光マスク７２および第２露光マスク７７の位置を調整する。これによって、第１露光マスク７２に対して高い位置精度で第２露光マスク７７を配置することができる。その後、第１露光マスク７２を介して第１感光層７１に所定のパターンで露光光を照射し、かつ、第２露光マスク７７を介して第２感光層７６に所定のパターンで露光光を照射する露光工程を実施する。なお、第１感光層７１に対する露光光の照射と、第２感光層７６に対する露光光の照射は、同時に実施されてもよく、異なるタイミングで実施されてもよい。

（現像工程）
次に、第１感光層７１および第２感光層７６を現像する。これによって、図７（ｃ）に示すように、パターニングされた第１感光層７１および第２感光層７６を得ることができる。

ここで、上述のように第１ダミー部４２を構成する第１導線５１が、孤立状態の単独線分５１ｂを含む場合、単独線分５１ｂに対応する位置に設けられる第１感光層７１も、他の第１感光層７１から孤立したものとなっている。本実施の形態において、そのような孤立状態にある第１感光層７１は、対応する単独線分５１ｂの上述の最小面積を確保するよう、少なくとも１５０ｕｍ^２以上の面積を有している。第２感光層７６についても同様である。

（エッチング工程）
その後、図７（ｄ）に示すように、第１感光層７１をレジストとして第１金属層６１をウェットエッチングする。これによって、電極４１および第１ダミー部４２の第１導線５１に対応するパターンで第１金属層６１をパターニングすることができる。また、第２感光層７６をレジストとして第２金属層６６をウェットエッチングする。これによって、第２電極４６および第２ダミー部４７の第２導線５６に対応するパターンで第２金属層６６をパターニングすることができる。次に、図７（ｅ）に示すように、感光層７１，７６を除去する。このようにして、上述のタッチパネルセンサ３０を得ることができる。

なお図示はしないが、第１導線５１および第２導線５６には、第１導線５１および第２導線５６による光の反射を抑制するための低反射処理が施されていてもよい。例えば第１導線５１の表面には、黒化処理が施されていてもよい。また、第２導線５６は、金属材料からなる層に加えて、金属材料からなる層と基材３２の第２面３２ｂとの間に設けられた低反射層をさらに含んでいてもよい。

本実施の形態によれば、導線５１，５６のパターンを設計する工程において、孤立状態にある導線５１，５６の線分の面積が少なくとも５０ｕｍ^２以上になるよう、分断部５３，５８の配置が定められている。このため、ウェットエッチングによって第１金属層６１をパターニングして第１導線５１を形成する際に、２つの第１分断部５３の間に位置する第１導線５１の孤立状態の線分が基材３２上から除去されてしまうことを抑制することができる。同様に、ウェットエッチングによって第２金属層６６をパターニングして第２導線５６を形成する際に、２つの第２分断部５８の間に位置する第２導線５６の孤立状態の線分が基材３２上から除去されてしまうことを抑制することができる。これによって、ダミー部４２，４７における開口率が局所的に想定外に高くなってしまうことを抑制することができ、このことにより、ダミー部４２，４７のパターンが観察者に視認されてしまうことを抑制することができる。

（変形例）
ところで、第１分断部５３または第２分断部５８が形成された場所において、光は、第１導線５１または第２導線５６によって遮蔽されることなくタッチパネルセンサ３０を透過することができる。従って、第１分断部５３や第２分断部５８が無秩序に配置される場合、第１分断部５３や第２分断部５８によって占められる領域の面積の分だけ、分断部５３，５８を含まない、電極４１，４６が設けられている領域における光の透過率と、分断部５３，５８を含む、ダミー部４２，４７が設けられている領域における光の透過率との差が大きくなってしまう。特に、図５Ｂにおいて符号Ｒ１が付された点線で囲まれた領域のように、タッチパネルセンサ３０の一方の側の第１分断部５３と他方の側の第２分断部５８とが平面視で重なっている場合に、光の透過率が他の領域に比べて大きくなってしまう。

このような課題を考慮し、タッチパネルセンサ３０の一方の側から見た場合に、第１分断部５３が第２導線５６に少なくとも部分的に重なり、第２分断部５８が第１導線５１に少なくとも部分的に重なるよう、第１導線５１および第１分断部５３並びに第２導線５６および第２分断部５８を配置してもよい。
図５Ｂにおいて、符号Ｒ２が付された点線の領域においては、第１分断部５３が第２導線５６に重なるように第１分断部５３および第２導線５６が配置されている。この場合、第１分断部５３が設けられている領域において、光は、少なくとも部分的に第２導線５６によって遮蔽されることになる。これによって、第１分断部５３を設けることに起因して光の透過率が高くなることを抑制することができる。
また、符号Ｒ３が付された点線の領域においては、第２分断部５８が第１導線５１に重なるように第２分断部５８および第１導線５１が配置されている。この場合、第２分断部５８が設けられている領域において、光は、少なくとも部分的に第１導線５１によって遮蔽されることになる。これによって、第２分断部５８を設けることに起因して光の透過率が高くなることを抑制することができる。

第２の実施の形態
次に図８乃至図９Ｄを参照して、本発明の第２の実施の形態について説明する。本実施の形態において、上述の第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、第１の実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。

上述の第１の実施の形態の形態においては、第１導線５１および第２導線５６がそれぞれ規則的に配置される例を示した。具体的には、第１導線５１の複数の交点５１ａおよび第２導線５６の複数の交点５６ａがそれぞれ所定の方向に沿って周期的に並ぶよう、第１導線５１および第２導線５６が配置される例を示した。しかしながら、図８に示すように、第１導線５１は、複数の交点５１ａが不規則に並ぶように配置されていてもよい。第２導線５６についても同様である。
複数の交点５１ａ，５６ａが不規則に並ぶように導線５１，５６を配置することにより、例えば、モアレを低減するという効果が期待される。

本実施の形態においても、第１ダミー部４２において、２つの第１分断部５３の間に位置する、第１導線５１の孤立状態の線分の面積は、少なくとも５０ｕｍ^２以上になっている。このため、ウェットエッチングによって金属層６１をパターニングして第１導線５１を形成する際に、２つの第１分断部５３の間に位置する第１導線５１の孤立状態の線分が基材３２上から除去されてしまうことを抑制することができる。
図示はしないが、第２ダミー部４７においても同様に、２つの第２分断部５８の間に位置する、第２導線５６の孤立状態の線分の面積が少なくとも５０ｕｍ^２以上になっていてもよい。

〔第１導線のパターンの設計方法〕
次に、本実施の形態による第１導線５１のパターンを設計する方法について説明する。

はじめに、図６Ａに示す第１の実施の形態の場合と同様に、開口部５２の形状が菱形の形状になるように複数の第１導線５１を配置する。次に図９Ａに示すように、隣接する交点５１ａ間の距離よりも小さい距離だけ様々な方向で各交点５１ａをランダムに変位させる。その後、図９Ｂに示すように、予め定められた第１電極４１の輪郭を表す線Ｂ１に沿って、第１電極４１の第１導線５１と第１ダミー部４２の第１導線５１とを電気的に絶縁するための第１分断部５３を設ける。

次に、図９Ｃに示すように、第１ダミー部４２を構成する第１導線５１同士を電気的に絶縁するための第１分断部５３を複数設ける。この際、第１分断部５３の配置は、何らかの規則に基づいて定められてもよく、若しくは無秩序に定められてもよい。その後、図６Ｄに示す上述の第１の実施の形態の場合と同様に、孤立状態にある単独線分５１ｂの面積が少なくとも５０ｕｍ^２以上になるよう、第１分断部５３の配置を調整する。これによって、図９Ｄに示すように、第１導線５１の孤立状態の線分の面積を少なくとも５０ｕｍ^２以上にすることができる。

第３の実施の形態
次に図１０および図１１を参照して、本発明の第３の実施の形態について説明する。ここでは、ウェットエッチングによって金属層６１，６６をパターニングして導線５１，５６を作製する場合に金属層６１，６６上に形成される感光層７１，７６を露光するための露光マスク７２，７７の具体的なパターンの例について説明する。本実施の形態において、上述の第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、第１の実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。

図１０（ａ）は、第１感光層７１を露光するための第１露光マスク７２のパターンの一例を示す平面図である。ここでは、第１導線５１の交点５１ａとなる部分およびその周辺の部分に照射される露光光を生成するための第１露光マスク７２のパターンについて具体的に説明する。図１０（ａ）に示すように、第１露光マスク７２は、第１導線５１に対応するパターンで線状に延びる複数の開口部７２ｂと、線状に延びる開口部７２ｂを画定するように広がる遮光部７２ａと、を含んでいる。図１０（ａ）において、異なる方向に線状に延びる開口部７２ｂが互いに接続される部分（以下、接続部分とも称する）が符号７２ｋで表され、また線状に延びる開口部７２ｂの交点が符号７２ｃで表されている。図１０（ａ）に示す例において、第１露光マスク７２の線状に延びる開口部７２ｂは、交点７２ｃからの距離に依らず同一の幅ｓを有している。

図１０（ｂ）は、図１０（ａ）に示す第１露光マスク７２を用いて露光することにより得られた第１感光層７１をレジストとして第１金属層６１をウェットエッチングすることによって得られる第１導線５１のパターンの一例を示す平面図である。図１０（ｂ）に示すように、異なる方向に延びる第１導線５１が互いに接続される接続部分５１ｋの形状は、第１露光マスク７２の対応する接続部分７２ｋの形状とは異なっている。具体的には、第１導線５１の接続部分５１ｋは、第１露光マスク７２の接続部分７２ｋよりも広がった形状を有している。このことは、第１露光マスク７２を用いて第１感光層７１を露光する際に、第１感光層７１の解像性の限界のため、接続部分７２ｋの形状が完全には第１感光層７１に反映されず、第１露光マスク７２の接続部分７２ｋに対応する第１感光層７１の接続部分の形状が、図９（ｂ）に示す第１導線５１の接続部分５１ｋのように鈍った形状になることに起因していると考えられる。また、第１金属層６１をウェットエッチングする際に、第１露光マスク７２の接続部分７２ｋに対応する第１感光層７１の接続部分のところにまでエッチング液が十分に侵入することができないことにも起因していると考えられる。接続部分５１ｋにおける第１金属層６１のエッチングが不完全なものであるため、図１０（ｂ）に示すように、交点５１ａの近傍における第１導線５１の幅ｗ１が、交点５１ａから遠い部分における第１導線５１の幅ｗ２よりも大きくなってしまう。このことは、交点５１ａ近傍の領域における光の反射率が、交点５１ａから遠い領域における光の反射率よりも高くなり、この結果、交点５１ａが視認されやすくなる、ということを導く。すなわち、交点５１ａからの距離に応じて、光の反射率および透過率が局所的にばらついてしまうことが考えられる。

このような課題を考慮すると、図１１（ａ）に示すようなパターンで第１露光マスク７２の接続部分７２ｋが形成されることが好ましいと考えらえる。図１１（ａ）に示す例において、第１露光マスク７２の線状に延びる開口部７２ｂのうち、接続部分７２ｋに接しているまたは接続部分７２ｋを含む部分（以下、第１部分とも称する）が符号７２ｘで表されている。また、第１露光マスク７２の線状に延びる開口部７２ｂのうち、第１部分７２ｘよりも交点７２ｃから遠位に設けられ、かつ第１部分７２ｘに接続されている部分（以下、第２部分とも称する）が符号７２ｙで表されている。また、第２部分７２ｙを交点７２ｃ近傍にまで仮想的に延長した場合の線が点線で表されている。図１１（ａ）に示すように、第１露光マスク７２の線状に延びる開口部７２ｂの第１部分７２ｘは、第２部分７２ｙを延長した点線よりも交点７２ｃ側に位置するよう設けられている。すなわち、第１露光マスク７２の遮光部７２ａは、図９（ａ）に示す場合に比べて、交点７２ｃに向かって突出している。この結果、第１露光マスク７２の線状に延びる開口部７２ｂの第１部分７２ｘの幅ｓ１は、第２部分７２ｙの幅ｓ２よりも小さくなっている。

図１１（ｂ）は、図１１（ａ）に示す第１露光マスク７２を用いて露光することにより得られた第１感光層７１をレジストとして第１金属層６１をウェットエッチングすることによって得られる第１導線５１のパターンの一例を示す平面図である。上述のように、図１１（ａ）に示す例において、第１露光マスク７２の線状に延びる開口部７２ｂの第１部分７２ｘは、第２部分７２ｙを延長した点線よりも交点７２ｃ側に位置するよう設けられている。このことは、ウェットエッチングの際に、第２部分７２ｙを延長した仮想的な点線が互いに交わる部分に対応して除去された第１感光層７１の位置にまでエッチング液が侵入し易くなることを導く。このため図１１（ｂ）に示すように、交点５１ａ近傍の領域における第１導線５１の幅ｗ１が、交点５１ａから遠い領域における第１導線５１の幅ｗ２よりも大きくなってしまうことを抑制することができる。これによって、交点５１ａ近傍の領域における光の反射率が、交点５１ａから遠い領域における光の反射率よりも高くなってしまうことを抑制することができる。このことにより、交点５１ａが視認されることを抑制することができる。

なお、第１露光マスク７２の接続部分７２ｋに対応して形成される第１感光層７１の接続部分にエッチング液が侵入し易くなるようにすることができる限りにおいて、第１露光マスク７２の線状に延びる開口部７２ｂの第１部分７２ｘの具体的な形状が特に限られることはなく、様々な形状が適宜採用され得る。また図示はしないが、第２露光マスク７７の線状に延びる開口部７７ｂも、第１露光マスク７２の場合と同様の第１部分および第２部分を有していてもよい。

ところで、交点７１ａの近傍における第１感光層７１の第１部分７１ｘの形状の上述の補正は、エッチング液の流動性が第１感光層７１の形状に起因して変化することを補償するために実施されるものである。従って、第１感光層７１の接続部分７１ｋ以外にも、エッチング液の流動性に影響を及ぼし得る要素が交点７１ａの近傍に存在する場合、そのような要素を考慮した補正をさらに実施することが好ましい。例えば、線状に延びる第１感光層７１を分断する第１分断部７３と、交点７１ａとの間の距離Ｌ１（図１１（ａ）参照）が、所定値よりも小さい場合、第１分断部７３の影響で、交点７１ａ近傍におけるエッチング液の流動性が変化し、この結果、得られる第１導線５１の、交点５１ａ近傍における形状が変化することがある。このような影響が表れることを抑制するため、好ましくは、第１分断部７３と、交点７１ａとの間の距離Ｌ１が２０ｕｍ以上に設定される。言い換えると、第１導線５１のパターンを設計する際、交点５１ａと第１分断部５３との間の距離Ｌ２が１２ｕｍ以上になるよう、第１分断部５３の配置が定められる。これによって、交点５１ａ近傍における第１導線５１の形状を精度良く制御することができる。

第４の実施の形態
次に図１２乃至図１４を参照して、本発明の第４の実施の形態について説明する。ここでは、分断部５３，５８の具体的な形状の例について説明する。本実施の形態において、上述の第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、第１の実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。

第１導線５１のパターンを設計する工程において、第１分断部５３の配置を決定する方法としては、設計者が第１分断部５３を第１導線５１上に１つ１つ点状に配置していく方法や、所定の方向に沿って、例えば第１方向Ｄ１や第２方向Ｄ２に沿って所定の幅で延びる第１分断部５３を線状に描くという方法が考えられる。このうち、作業の効率性を考えると、後者のように第１分断部５３を線状に描くことが好ましい。

ところで、上述のように開口部５２が菱形の形状を有する場合、第１導線５１が延びている第３方向Ｄ３や第４方向Ｄ４は、タッチパネルセンサ３０の基準となる第１方向Ｄ１や第２方向Ｄ２に対して傾斜している。このため、第１分断部５３を線状に描く場合、図１２（ａ）に示すように、第１導線５１に対応するパターンを有する、第１露光マスク７２の線状に延びる開口部７２ｂと、第１露光マスク７２の遮光部７２ａのうち第１分断部５３に対応する分断部７２ａｇとが、９０°から大きくずれた角度で、例えば約４５°で交わることがある。言い換えると、第１露光マスク７２の開口部７２ｂが延びる方向Ｍ１と、遮光部７２ａの分断部７２ａｇを挟んで隣接する２つの線状の開口部７２ｂの間を最短距離で結ぶ方向Ｍ２とが成す角度θ１２が、９０°から大きくずれた値に、例えば約４５°になることがある。この場合、図１２（ａ）に示すように、線状の開口部７２ｂの端部に先細部分７２ｓが形成されることになる。
なお、線状に延びる第１分断部５３の方向と、第１導線５１が延びる方向との角度が、９０°から大きくずれた値になることは、第１電極４１が第１膨出部４１ａおよび第１ライン部４１ｂを含み、このため第１電極４１と第１ダミー部４２との間の第１分断部５３が、複数の方向に延びる直線状の分断部を含む場合にも生じ得る。

先細部分７２ｓを含む開口部７２ｂを有する第１露光マスク７２を用いた露光によって形成される第１感光層７１によって覆われている第１金属層６１に対しては、ウェットエッチング工程の際、様々な方向からエッチング液が侵入することになる。このため、エッチングが過剰に進行しやすく、この結果、先細状の形状を有することになる第１金属層６１は、エッチングの際に先細部分が除去され易い。図１２（ｂ）は、図１２（ａ）に示す第１感光層７１をレジストとして第１金属層６１をウェットエッチングすることによって得られる第１導線５１のパターンの一例を示す平面図である。図１２（ｂ）においては、先細部分７２ｓを含む開口部７２ｂを有する第１露光マスク７２を用いた露光によって形成される第１感光層７１によって覆われている第１金属層６１が除去された結果、第１分断部５３を介して隣接する２つの第１導線５１の間の、方向Ｍ１における間隔ｇが、すなわち方向Ｍ１における第１分断部５３の寸法が、第１感光層７１の第１分断部の寸法に比べて拡大している。また、先細部分７２ｓを含む開口部７２ｂに対応して形成される第１導線５１の先端部が丸められている。

第１分断部５３の寸法が想定よりも拡大することは、開口率や光の透過率が想定よりも局所的に高くなることを導く。すなわち、開口率や光の透過率の分布にばらつきが生じることを導く。

このような課題を考慮すると、図１３（ａ）に示すような形状で第１露光マスク７２の開口部７２ｂおよび遮光部７２ａの分断部７２ａｇが形成されることが好ましいと考えらえる。図１３（ａ）に示す例において、第１露光マスク７２の線状に延びる開口部７２ｂが延びる方向Ｍ１と、遮光部７２ａの分断部７２ａｇを挟んで隣接する２つの線状の開口部７２ｂの間を最短距離で結ぶ方向Ｍ２とが成す角度θ１２の絶対値は、３０°以下になっている。これによって、先細部分７２ｓを含む開口部７２ｂを有する第１露光マスク７２を用いた露光によって形成される第１感光層７１によって覆われている第１金属層６１が過剰にエッチングされることを抑制することができる。図１３（ｂ）は、図１３（ａ）に示す第１露光マスク７２を用いた露光によって形成される第１感光層７１をレジストとして第１金属層６１をウェットエッチングすることによって得られる第１導線５１のパターンの一例を示す平面図である。第１感光層７１の先端部における過剰なエッチングを抑制することができるので、図１３（ｂ）においては、第１導線５１のパターンが、第１露光マスク７２の線状の開口部７２ｂのパターンとほぼ同一になっている。例えば、第１導線５１が延びる方向Ｍ１と、第１分断部５３を挟んで隣接する２つの第１導線５１の線分の間を最短距離で結ぶ方向Ｍ３とが成す角度θ１３の絶対値は、３０°以下になっている。また、第１分断部５３を介して隣接する２つの第１導線５１の間の間隔ｇは、５０ｕｍ以下になっている。このため、開口率や光の透過率が想定よりも局所的に高くなることを抑制することができ、これによって、開口率や光の透過率の分布にばらつきが生じることを抑制することができる。

図示はしないが、第２露光マスク７７についても同様に、第２露光マスク７７の線状に延びる開口部７７ｂが延びる方向と、遮光部７７ａの分断部を挟んで隣接する２つの線状の開口部７７ｂの間を最短距離で結ぶ方向とが成す角度の絶対値が、３０°以下になっていてもよい。

なお、上述のように角度θ１２の絶対値が３０°以下になるように遮光部７２ａの分断部７２ａｇを形成したとしても、第１露光マスク７２を用いた露光によって形成される第１感光層７１の先端部の特に角部においては、第１金属層６１のエッチングが過剰に進行し、この結果、図１４に示すように、得られる第１導線５１の先端部が、面取りされた形状になることがある。この場合、第１分断部５３を挟んで隣接する２つの第１導線５１の線分を最短距離で結ぶ方向Ｍ３は、２つの第１導線５１の先端部の頂部５１ｐを結ぶ方向になる。図１４に示す例においても、第１導線５１が延びる方向Ｍ１と、２つの第１導線５１の先端部の頂部５１ｐの間を結ぶ方向Ｍ３とが成す角度θ１３の絶対値が、３０°以下になっており、間隔ｇが５０ｕｍ以下になっていることが好ましい。

変形例
上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を参照しながら、いくつかの変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の各実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。

（層構成の変形例）
また上述の実施の形態の形態においては、第１電極４１および第１ダミー部４２を構成する第１導線５１が、基材３２の第１面３２ａ上に設けられ、第２電極４６および第２ダミー部４７を構成する第２導線５６が、基材３２の第２面３２ｂ上に設けられる例を示した。しかしながら、タッチパネルセンサ３０の一方の側から見た場合に、第１分断部５３が第２導線５６と少なくとも部分的に重なり、第２分断部５８が第１導線５１と少なくとも部分的に重なることができる限りにおいて、タッチパネルセンサ３０の層構成が特に限られることはない。例えば図１５Ａに示すように、互いに対向する２つの基材３２Ａ，３２Ｂの対向面の一方（第１の基材３２Ａ）に第１導線５１を設け、他方（第２の基材３２Ｂ）に第２導線５６を設け、そして２つの基材３２Ａ，３２Ｂを貼り合わせてもよい。このように２つの基材３２を貼り合わせる場合であっても、第１導線５１によって、タッチパネルセンサ３０の一方の側に設けられる第１電極４１および第１ダミー部４２を構成することができ、また第２導線５６によって、タッチパネルセンサ３０の他方の側に設けられる第２電極４６および第２ダミー部４７を構成することができる。

なお図１５Ａにおいては、第１の基材３２Ａのうち第１導線５１が設けられている面と、第２の基材３２Ｂのうち第２導線５６が設けられている面とが向かい合うように２つの基材３２Ａ，３２Ｂを貼りあわせ、これによって、タッチパネルセンサ３０の一方の側に設けられる第１導線５１の間の第１分断部５３が、タッチパネルセンサ３０の他方の側に設けられる第２導線５６と少なくとも部分的に重なる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１５Ｂに示すように、第１の基材３２Ａのうち第１導線５１が設けられている面とは反対側の面と、第２の基材３２Ｂのうち第２導線５６が設けられている面とは反対側の面とが向かい合うように、２つの基材３２Ａ，３２Ｂを貼りあわせてもよい。その他にも、図１５Ｃに示すように、第１の基材３２Ａのうち第１導線５１が設けられている面とは反対側の面と、第２の基材３２Ｂのうち第２導線５６が設けられている面とが向かい合うように、２つの基材３２Ａ，３２Ｂを貼りあわせてもよい。これらの場合であっても、第１分断部５３が第２導線５６と少なくとも部分的に重なり、第２分断部５８（図示せず）が第１導線５１と少なくとも部分的に重なるよう、第１導線５１、第１分断部５３、第２導線５６および第２分断部５８を配置することにより、電極４１，４６が観察者に視認されてしまうことを抑制することができる。

（電極のパターンの変形例）
また上述の実施の形態の形態においては、電極４１，４６が膨出部４１ａ，４６ａおよびライン部４１ｂ，４６ｂを含む例を示した。すなわち、電極４１，４６のパターンがいわゆるダイヤモンドパターンである例を示した。しかしながら、電極４１，４６のパターンが特に限られることはない。例えば図１６に示すように、電極４１，４６のパターンとして、いわゆるストライプパターンが採用されてもよい。

なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。

１０ タッチ位置検出機能付き表示装置
１２ 保護カバー
１５ 表示装置
３０ タッチパネルセンサ
３２ 基材
４１ 第１電極
４１ａ 第１膨出部
４１ｂ 第１ライン部
４２ 第１ダミー部
４６ 第２電極
４６ａ 第２膨出部
４６ｂ 第２ライン部
４７ 第２ダミー部
５１ 第１導線
５１ａ 交点
５１ｂ 単独線分
５１ｃ 結合線分
５２ 開口部
５３ 第１分断部
５６ 第２導線
５６ａ 交点
５６ｂ 単独線分
５６ｃ 結合線分
５７ 開口部
５８ 第２分断部
６０ 積層体
６１ 第１金属層
６６ 第２金属層
７１ 第１感光層
７１ａ 交点
７１ｋ 接続部分
７１ｘ 第１部分
７１ｙ 第２部分
７２ 第１露光マスク
７３ 第１分断部
７６ 第２感光層
７７ 第２露光マスク
Ｄ１ 第１方向
Ｄ２ 第２方向

Claims (7)

1. タッチパネルセンサであって、
   前記タッチパネルセンサの一方の側に設けられ、第１方向に延びる複数の第１電極と、
   前記タッチパネルセンサの一方の側において前記第１電極の間に設けられた複数の第１ダミー部と、を備え、
   前記第１電極および前記第１ダミー部は、遮光性および導電性を有する第１導線を網目状に配置することによって構成されており、
   前記第１電極を構成する前記第１導線と前記第１ダミー部を構成する前記第１導線との間、および、前記第１ダミー部を構成する前記第１導線同士の間には、隣接する前記第１導線を電気的に絶縁するための複数の第１分断部が設けられており、
   前記第１ダミー部は、２つの前記第１分断部の間において一方向に延びる１つの前記第１導線の線分からなる単独線分であって、前記一方向とは異なる方向に延びる前記第１導線とは交差しておらず、且つ５０ｕｍ^２以上の面積を有する単独線分と、異なる方向に延び、互いに交差する２つの前記第１導線の線分によって構成されている結合線分であって、５０ｕｍ^２以上の面積を有する結合線分と、を有する、タッチパネルセンサ。
2. 前記複数の第１導線は、複数の第１導線が互いに交わることによって形成される複数の交点が不規則に並ぶよう配置されている、請求項１に記載のタッチパネルセンサ。
3. 前記第１導線が互いに交差する交点と、前記第１分断部との間の距離が１２ｕｍ以上になっている、請求項１または２に記載のタッチパネルセンサ。
4. 前記第１分断部を挟んで隣接する２つの第１導線の間の間隔が、１００ｕｍ以下になっている、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
5. 前記タッチパネルセンサの他方の側に設けられ、前記第１方向に交差する第２方向に沿って延びる複数の第２電極と、
   前記タッチパネルセンサの他方の側において前記第２電極の間に設けられた複数の第２ダミー部と、をさらに備え、
   前記第２電極および前記第２ダミー部は、遮光性および導電性を有する第２導線を網目状に配置することによって構成されており、
   前記第２電極を構成する前記第２導線と前記第２ダミー部を構成する前記第２導線との間、および、前記第２ダミー部を構成する前記第２導線同士の間には、隣接する前記第２導線を電気的に絶縁するための複数の第２分断部が設けられており、
   前記第２ダミー部は、２つの前記第２分断部の間において一方向に延びる１つの前記第２導線の線分からなる単独線分であって、前記一方向とは異なる方向に延びる前記第２導線とは交差しておらず、且つ５０ｕｍ^２以上の面積を有する単独線分と、異なる方向に延び、互いに交差する２つの前記第２導線の線分によって構成されている結合線分であって、５０ｕｍ^２以上の面積を有する結合線分と、を有する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
6. 前記タッチパネルセンサの一方の側から見た場合に、前記複数の第１分断部は、前記第２導線と少なくとも部分的に重なっている、請求項５に記載のタッチパネルセンサ。
7. 前記タッチパネルセンサの一方の側から見た場合に、前記複数の第２分断部は、前記第１導線と少なくとも部分的に重なっている、請求項６に記載のタッチパネルセンサ。

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